KR102334672B1 - Curable composition and electronic component - Google Patents

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KR102334672B1 KR1020150077780A KR20150077780A KR102334672B1 KR 102334672 B1 KR102334672 B1 KR 102334672B1 KR 1020150077780 A KR1020150077780 A KR 1020150077780A KR 20150077780 A KR20150077780 A KR 20150077780A KR 102334672 B1 KR102334672 B1 KR 102334672B1
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가즈노부 후쿠시마
마사키 사사키
가즈타카 나카다
다이사쿠 스토
겐타로 오부치
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다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
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Abstract

(과제) 종래의 문제를 갖지 않고, 저온, 저압 또한 단시간에 우수한 접착 강도를 확보할 수 있고, 부재끼리를 전기적으로 접속할 수 있는 경화성 조성물을 제공하는 것이다.
(해결 수단) 본 발명의 경화성 조성물은 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과, (B) 퍼옥사이드와, (C) 땜납 분말을 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 경화성 조성물은 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물, (B) 퍼옥사이드, (D) 유기 결합제를 포함하는 유기 성분과, (C) 도전 분말을 함유하는 조성물로서, 상기 유기 성분(용제를 포함하는 경우에는 용제를 제외함) 중의 에틸렌성 불포화 결합 당량이 260 이상인 것을 특징으로 한다.
(Project) To provide the curable composition which does not have the conventional problem, can ensure the adhesive strength excellent at low temperature, low pressure, and a short time, and can electrically connect members.
(Solution) The curable composition of the present invention is characterized in that it contains (A) a compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) a peroxide, and (C) a solder powder.
In addition, the curable composition of the present invention is a composition containing (A) an organic component including a compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) a peroxide, (D) an organic binder, and (C) a conductive powder, It is characterized in that the ethylenically unsaturated bond equivalent in the component (when a solvent is included, the solvent is excluded) is 260 or more.

Description

경화성 조성물 및 전자 부품{CURABLE COMPOSITION AND ELECTRONIC COMPONENT}Curable composition and electronic component {CURABLE COMPOSITION AND ELECTRONIC COMPONENT}

본 발명은 경화성 조성물에 관한 것으로, 특히 부재끼리를 저온, 저압 또한 단시간에 전기적으로 접속할 수 있는 도전 접착제로서 전자 부품에 이용하기에 적합한 경화성 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a curable composition, and more particularly, to a curable composition suitable for use in electronic components as a conductive adhesive capable of electrically connecting members at a low temperature, a low pressure, and in a short time.

전자 기기 또는 전자 기기의 회로 형성 기술의 분야에서는 전자 부품을 기판에 실장할 때에 땜납 분말과 플럭스를 혼련한 크림 땜납을 용융하여 도전성과 접속 강도를 얻는 방법이 이용되어 왔다. 그러나, 이와 같은 크림 땜납을 이용하여 부재끼리를 도전 접속하기 위해서는 고온에서 처리할 필요가 있기 때문에, 실장 부품을 열로부터 확실하게 보호하는 배려가 요구되고 있었다.In the field of electronic devices or circuit formation technology for electronic devices, a method has been used to obtain conductivity and connection strength by melting cream solder obtained by kneading solder powder and flux when electronic components are mounted on a substrate. However, since it is necessary to process at a high temperature in order to electrically connect members using such a cream solder, consideration for reliably protecting a mounted component from heat was calculated|required.

이에 비하여 저융점 땜납을 이용하여 저온에서의 도전 접속을 가능하게 하고, 또한 에폭시 수지를 이용하여 저융점 땜납의 접착 강도를 보강하는 도전성 접착제의 기술이 제안되어 있다(특허문헌 1). 그러나, 이 종래 기술에서는 땜납 페이스트를 단시간에 경화할 수 없다는 과제가 있었다.On the other hand, there has been proposed a technique of a conductive adhesive that enables conductive connection at a low temperature by using a low-melting-point solder and reinforces the adhesive strength of the low-melting-point solder using an epoxy resin (Patent Document 1). However, this prior art has a problem that the solder paste cannot be cured in a short time.

이에 비하여 저융점 땜납 페이스트를 단시간에 경화하는 도전성 접착제의 기술로서, 고온에서 처리하는 것이 개시되어 있다(특허문헌 2). 그러나, 이 종래 기술에서는 만족스러운 접착 강도를 얻을 수는 없었다.On the other hand, as a technique of a conductive adhesive that cures a low-melting-point solder paste in a short time, treatment at a high temperature is disclosed (Patent Document 2). However, satisfactory adhesive strength could not be obtained in this prior art.

이와 같이 땜납 페이스트 등의 도전성 접착제를 저온, 저압 또한 단시간에 접착 강도가 우수한 도전 접속을 가능하게 하는 기술은 여전히 제안되어 있지 않은 것이 실정이다.As described above, the present situation is that a technique for enabling a conductive connection excellent in adhesive strength at a low temperature and a low pressure in a short time with a conductive adhesive such as a solder paste has not yet been proposed.

일본 특허 공개 제2012-115871호Japanese Patent Laid-Open No. 2012-115871 일본 특허 공개 제2013-51353호Japanese Patent Laid-Open No. 2013-51353

본 발명의 목적은 저온, 저압 또한 단시간에 우수한 접착 강도를 확보할 수 있고, 부재끼리를 전기적으로 접속할 수 있는 도전성 접착제로서 적절하게 이용되는 경화성 조성물을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is to provide a curable composition suitably used as a conductive adhesive capable of securing excellent adhesive strength at a low temperature and a low pressure and in a short period of time, and capable of electrically connecting members.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 이하의 내용을 요지 구성으로 하는 발명을 완성하기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors came to complete the invention which makes the following content a summary structure, as a result of earnestly examining in order to solve the said subject.

즉, 본 발명의 경화성 조성물은 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과, (B) 퍼옥사이드와, (C) 도전 분말을 포함하는 것을 특징으로 한다.That is, the curable composition of the present invention comprises (A) a compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) a peroxide, and (C) an electrically conductive powder.

즉 또한, 본 발명의 경화성 조성물은 (D) 유기 결합제를 더 포함하는 것을 특징으로 하고,That is, the curable composition of the present invention further comprises (D) an organic binder,

상기 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과, (B) 퍼옥사이드와, (D) 유기 결합제를 포함하는 유기 성분(용제를 포함하는 경우에는 용제를 제외함) 중의 경화성 조성물의 에틸렌성 불포화 결합 당량이 260 이상인 것을 특징으로 한다.The ethylenically unsaturated bond of the curable composition in the organic component (excluding the solvent when a solvent is included) comprising (A) the compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) a peroxide, and (D) an organic binder It is characterized in that the equivalent weight is 260 or more.

본 발명의 경화성 조성물에 있어서, 상기 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물은 (메트)아크릴로일기 함유 화합물인 것이 바람직하다.Curable composition of this invention WHEREIN: It is preferable that the said (A) compound which has an ethylenically unsaturated bond is a (meth)acryloyl group containing compound.

본 명세서에 있어서 (메트)아크릴로일기란, 아크릴로일기, 메타크릴로일기 및 이들의 혼합물을 총칭하는 용어이며, (메트)아크릴레이트 등의 유사한 표현에 대해서도 마찬가지이다.In this specification, a (meth)acryloyl group is a term generically naming an acryloyl group, a methacryloyl group, and mixtures thereof, and the same applies to similar expressions, such as (meth)acrylate.

본 발명의 경화성 조성물에 있어서, 상기 (B) 퍼옥사이드는 액상인 것이 바람직하다. 이 액상의 (B) 퍼옥사이드는 퍼옥시케탈, 하이드로퍼옥사이드, 디알킬퍼옥사이드, 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시카르보네이트 및 퍼옥시에스테르로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인 것이 보다 바람직하다.The curable composition of the present invention WHEREIN: It is preferable that the said (B) peroxide is liquid. The liquid (B) peroxide is more preferably at least one compound selected from peroxyketal, hydroperoxide, dialkyl peroxide, diacyl peroxide, peroxycarbonate and peroxyester.

본 발명의 경화성 조성물에 있어서, 상기 (C) 도전 분말은 저융점 땜납 분말인 것이 바람직하다.In the curable composition of the present invention, the (C) conductive powder is preferably a low-melting-point solder powder.

또한, 본 발명의 경화성 조성물은 용제를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서 「용매를 이용하지 않는다」 또는 「무용매」란, 경화성 조성물이 실질적으로 용매를 포함하지 않고, 조성물의 150℃, 30분 가열에 의한 질량의 감소가 가열 전의 질량과 비교하여 3질량% 이하인 것을 말한다.Moreover, it is preferable that the curable composition of this invention does not contain a solvent. In the present invention, "no solvent is used" or "solvent free" means that the curable composition does not contain a solvent substantially, and the decrease in mass by heating at 150° C. for 30 minutes of the composition is 3 compared to the mass before heating. It means that it is less than mass %.

본원 발명의 경화성 조성물은 전자 부품의 도전 접착제로서 바람직하게 사용되고, 얻어지는 전자 부품은 부재끼리가 전기적으로 접속되어 있다.The curable composition of this invention is used suitably as a conductive adhesive of an electronic component, and members are electrically connected to the electronic component obtained.

본 발명에 따르면, 저온, 저압 또한 단시간에 우수한 접착 강도를 확보할 수 있고, 부재끼리를 전기적으로 접속할 수 있는 도전성 접착제로서 적절하게 이용되는 경화성 조성물을 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the curable composition used suitably as a conductive adhesive which can ensure the adhesive strength excellent in low temperature, low pressure and a short time and can electrically connect members can be provided.

본 발명의 경화성 조성물은 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과, (B) 퍼옥사이드와, (C) 도전 분말을 포함하는 것을 특징으로 하고 있다.The curable composition of the present invention comprises (A) a compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) a peroxide, and (C) an electrically conductive powder.

본 발명의 경화성 조성물은 (D) 유기 결합제를 더 함유하고, 상기 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물, (B) 퍼옥사이드와 (D) 유기 결합제를 포함하는 유기 성분(용제를 포함하는 경우에는 용제를 제외함) 중의 에틸렌성 불포화 결합 당량이 260 이상인 것을 특징으로 하고 있다.The curable composition of the present invention further contains (D) an organic binder, and an organic component comprising (A) a compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) a peroxide and (D) an organic binder (when a solvent is included) It is characterized in that the ethylenically unsaturated bond equivalent in the solvent is 260 or more.

본 발명에서 이용되는 (C) 도전 분말은 저융점 땜납 분말인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 저융점의 납 프리 땜납이고, 전자 부품에 있어서의 부재끼리의 전기적 접속에 기여한다.The conductive powder (C) used in the present invention is preferably a low-melting-point solder powder, more preferably a low-melting-point lead-free solder, and contributes to electrical connection between members in an electronic component.

본 발명의 경화성 조성물은 바람직하게는 (C) 도전 분말 이외의 성분에도 일절 납을 포함하지 않고, (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과 (B) 퍼옥사이드를 포함하고, 그의 경화에 의해 전술한 (C) 도전 분말에 의한 전기적 접속을 접착 강도의 면에서 보강하는 것이다. 특히, (B) 퍼옥사이드를 사용함으로써, (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물의 경화가 저온에서 단시간에 행하여진다. 또한, 이 퍼옥사이드로서 액상의 것을 이용함으로써, 페이스트의 보존 안정성도 우수하다는 본 발명 특유의 효과가 얻어지는 것을 알았다.The curable composition of the present invention preferably contains (C) no lead at all in components other than the conductive powder, (A) a compound having an ethylenically unsaturated bond, and (B) a peroxide; One (C) is to reinforce the electrical connection by the conductive powder in terms of adhesive strength. In particular, by using (B) peroxide, (A) curing of the compound having an ethylenically unsaturated bond is performed at a low temperature and in a short time. In addition, it was found that, by using a liquid peroxide as the peroxide, an effect peculiar to the present invention that the paste is also excellent in storage stability is obtained.

본 발명의 경화성 조성물에 의하면, 경화시에 발생하는 경화 수축이 억제되기 때문에 우수한 접착 강도를 얻을 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the curable composition of this invention, since cure shrinkage which generate|occur|produces at the time of hardening is suppressed, the outstanding adhesive strength can be obtained.

일반적으로 에틸렌성 불포화 결합 당량이 작을수록 그 조성물에 포함되는 에틸렌성 불포화기의 양이 많아지기 때문에, 경화 반응시의 가교점이 증가하여, 가교 밀도가 높은 경화물이 얻어진다. 또한, 반응기의 밀도가 높은, 즉 반응기 농도가 높은 쪽이 반응성이 우수하여, 저온 또한 단시간 경화에는 유리하다.In general, the smaller the ethylenically unsaturated bond equivalent, the greater the amount of ethylenically unsaturated groups contained in the composition. Therefore, the crosslinking point during the curing reaction increases and a cured product having a high crosslinking density is obtained. In addition, the higher the density of the reactor, that is, the higher the concentration of the reactor is, the better the reactivity, which is advantageous for low-temperature and short-time curing.

그러나, 발명자들은 예의 검토한 결과, 굳이 에틸렌성 불포화 결합 당량을 크게 함으로써 가교 밀도를 저하시켜, 경화 수축에 의한 접착 강도의 저하를 억제할 수 있는 것을 발견하였다. 또한, 본 발명에서는 유기 결합제와 퍼옥사이드를 도입함으로써 저온 또한 단시간에의 경화가 가능하게 되고, 또한 접착 강도가 양호해진다.However, as a result of earnest examination, the inventors discovered that the crosslinking density was reduced and the fall of the adhesive strength by cure shrinkage could be suppressed by daringly enlarging an ethylenically unsaturated bond equivalent. In addition, in the present invention, by introducing an organic binder and peroxide, curing at a low temperature and in a short time is possible, and the adhesive strength is improved.

[에틸렌성 불포화 결합 당량][Ethylenic unsaturated bond equivalent]

본 발명의 에틸렌성 불포화 결합 당량이란, 그램 당량으로 에틸렌성 불포화 결합수당 질량이다. 에틸렌성 불포화기가 (메트)아크릴로일기인 경우에는 일반적으로 (메트)아크릴 당량이라고도 불린다.The ethylenically unsaturated bond equivalent in the present invention is a mass per gram equivalent in terms of the number of ethylenically unsaturated bonds. When an ethylenically unsaturated group is a (meth)acryloyl group, it is also generally called (meth)acryl equivalent.

예를 들어 에틸렌성 불포화기가 (메트)아크릴로일기인 경우에는, (메트)아크릴로일기 1개당 유기 성분(용제를 포함하는 경우에는 용제를 제외함)의 질량이라고 정의된다.For example, when an ethylenically unsaturated group is a (meth)acryloyl group, it is defined as the mass of the organic component (a solvent is excluded when a solvent is included) per (meth)acryloyl group.

즉, 본 발명에 있어서의 경화성 조성물의 에틸렌성 불포화 결합 당량은 유기 성분((A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물 + (B) 퍼옥사이드 + (D) 유기 결합제 + 그 외 유기 성분)(용제를 포함하는 경우에는 용제를 제외함)의 질량 합계를 조성물 중의 에틸렌성 불포화 결합의 수로 나눔으로써 얻을 수 있다.That is, the ethylenically unsaturated bond equivalent of the curable composition in the present invention is an organic component ((A) compound having an ethylenically unsaturated bond + (B) peroxide + (D) organic binder + other organic components) (solvent When it contains, it can obtain by dividing the total mass of the solvent by the number of ethylenically unsaturated bonds in a composition.

이하에 본 발명의 경화성 조성물을 구성하는 성분에 대하여 설명한다.The components constituting the curable composition of the present invention will be described below.

[(A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물][(A) a compound having an ethylenically unsaturated bond]

본 발명의 경화성 조성물은 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물을 포함하는 조성물이다.The curable composition of this invention is a composition containing (A) the compound which has an ethylenically unsaturated bond.

(A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물로서는, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 것이라면 특별히 제한없이 사용할 수 있지만, (메트)아크릴로일기 함유 화합물이 바람직하다. 이하의 단량체 외에, 이들의 올리고머를 이용할 수도 있다.(A) The compound having an ethylenically unsaturated bond can be used without particular limitation as long as it has an ethylenically unsaturated bond, but a (meth)acryloyl group-containing compound is preferable. In addition to the following monomers, these oligomers can also be used.

이러한 (메트)아크릴로일기 함유 화합물로서는, 예를 들어 치환 또는 비치환된 지방족 아크릴레이트, 지환식 아크릴레이트, 방향족 아크릴레이트, 헤테로환 함유 아크릴레이트 및 이들의 에틸렌옥사이드 변성 아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 폴리올아크릴레이트, 알키드아크릴레이트, 멜라민아크릴레이트, 실리콘아크릴레이트, 폴리부타디엔아크릴레이트, 및 이들에 대응하는 메타크릴레이트류 등을 이용할 수 있다.Examples of the (meth)acryloyl group-containing compound include substituted or unsubstituted aliphatic acrylates, alicyclic acrylates, aromatic acrylates, heterocyclic acrylates and ethylene oxide-modified acrylates and epoxy acrylates; Urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, alkyd acrylate, melamine acrylate, silicone acrylate, polybutadiene acrylate, and corresponding methacrylates can be used.

보다 구체적으로는, 단관능 (메트)아크릴레이트로서는 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 부틸(메트)아크릴레이트, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 부톡시메틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트 등의 지방족 (메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 4-(메트)아크릴옥시트리시클로[5.2.1.02.6]데칸, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 지환식 (메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트 등의 방향족 (메트)아크릴레이트, 지방족 에폭시 변성 (메트)아크릴레이트 등 변성 (메트)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴옥시알킬포스페이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸인산에스테르, (메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, γ-(메트)아크릴옥시알킬트리알콕시실란 등을 들 수 있다.More specifically, as monofunctional (meth)acrylate, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, hydroxyethyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate ) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, butoxymethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, glycerol mono Aliphatic (meth)acrylates, such as (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 4-(meth)acryloxytricyclo[5.2.1.02.6]decane, isobornyl (meth)acrylate, such as Aromatics, such as alicyclic (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate Modified (meth)acrylate, such as meth)acrylate, aliphatic epoxy-modified (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloxyalkyl phosphate, 2-(meth)acryloyloxy Ethyl phosphoric acid ester, (meth)acryloyloxyethyl phthalic acid, (gamma)-(meth)acryloxyalkyl trialkoxysilane, etc. are mentioned.

또한, 다관능 (메트)아크릴레이트로서는 비스페놀-A-디(메트)아크릴레이트, 알킬렌옥사이드 변성 비스페놀-A-디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 비스(2-(메트)아크릴로일옥시에틸)인산에스테르, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 비스[4-(메트)아크릴옥시메틸]트리시클로[5.2.1.02.6]데칸, 비스[4-(메트)아크릴옥시-2-히드록시프로필옥시페닐]프로판, 이소포론디이소시아네이트 변성 우레탄(메트)아크릴레이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 변성 우레탄(메트)아크릴레이트, 올리고실록사닐디(메트)아크릴레이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 변성 우레탄(메트)아크릴레이트, 트리알릴이소시아누레이트, 비닐(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트 등을 이용할 수 있다.In addition, as polyfunctional (meth)acrylate, bisphenol-A-di(meth)acrylate, alkylene oxide-modified bisphenol-A-di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1, 6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylic Rate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, bis(2-(meth)acryloyloxyethyl)phosphate ester, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipenta Erythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, bis[4-(meth)acryloxymethyl]tricyclo[5.2.1.02.6]decane, bis[4-(meth)acryl Oxy-2-hydroxypropyloxyphenyl] propane, isophorone diisocyanate-modified urethane (meth) acrylate, hexamethylene diisocyanate-modified urethane (meth) acrylate, oligosiloxanyl di (meth) acrylate, trimethyl hexamethylene di Isocyanate-modified urethane (meth) acrylate, triallyl isocyanurate, vinyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, and the like can be used.

그 외, 본 발명의 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물로서는 이하의 화합물도 사용 가능하다.In addition, as a compound which has (A) ethylenically unsaturated bond of this invention, the following compounds can also be used.

(1) 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트를, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트를 통해 액상 폴리부타디엔의 히드록실기와 우레탄 부가 반응시킴으로써 얻어지는 액상 폴리부타디엔우레탄(메트)아크릴레이트,(1) Liquid polybutadiene urethane (meth) acrylate obtained by urethane addition reaction of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate with the hydroxyl group of liquid polybutadiene through 2,4-tolylene diisocyanate;

(2) 무수 말레산을 부가한 말레화 폴리부타디엔에 2-히드록시아크릴레이트를 에스테르화 반응시켜 얻어지는 액상 폴리부타디엔아크릴레이트,(2) liquid polybutadiene acrylate obtained by esterifying 2-hydroxyacrylate with maleic polybutadiene to which maleic anhydride is added;

(3) 폴리부타디엔의 카르복실기와 (메트)아크릴산글리시딜의 에폭시에스테르화 반응에 의해 얻어지는 액상 폴리부타디엔(메트)아크릴레이트,(3) liquid polybutadiene (meth)acrylate obtained by an epoxy esterification reaction of a carboxyl group of polybutadiene with glycidyl (meth)acrylate;

(4) 액상 폴리부타디엔에 에폭시화제를 작용시켜 얻어지는 에폭시화 폴리부타디엔과 (메트)아크릴산의 에스테르화 반응에 의해 얻어지는 액상 폴리부타디엔(메트)아크릴레이트,(4) liquid polybutadiene (meth)acrylate obtained by esterification of epoxidized polybutadiene obtained by making an epoxidizing agent act on liquid polybutadiene and (meth)acrylic acid;

(5) 히드록실기를 갖는 액상 폴리부타디엔과 (메트)아크릴산클로라이드의 탈염소 반응에 의해 얻어지는 액상 폴리부타디엔(메트)아크릴레이트, 및(5) liquid polybutadiene (meth)acrylate obtained by dechlorination reaction between liquid polybutadiene having a hydroxyl group and (meth)acrylic acid chloride, and

(6) 분자 양쪽 말단에 히드록실기를 갖는 액상 폴리부타디엔의 이중 결합을 수소 첨가한 액상 수소화 1,2폴리부타디엔글리콜을 우레탄(메트)아크릴레이트 변성한 액상 수소화 1,2폴리부타디엔(메트)아크릴레이트가 바람직하게 이용된다.(6) Liquid hydrogenated 1,2 polybutadiene (meth) acryl obtained by urethane (meth) acrylate modification of liquid hydrogenated 1,2 polybutadiene glycol obtained by hydrogenating double bonds of liquid polybutadiene having hydroxyl groups at both ends of the molecule rate is preferably used.

이들의 시판품의 예로서는 NISSO PB TE-2000, NISSO PB TEA-1000, NISSO PB TE-3000, NISSO PB TEAI-1000(이상 모두 닛폰소다가부시키가이샤 제조), MM-1000-80, MAC-1000-80(이상 모두 닛폰세키유가가쿠가부시키가이샤 제조), 폴리베크 ACR-LC(닛폰히드라진고교가부시키가이샤 제조), HYCAR VT VTR 2000×164(우베고산가부시키가이샤 제조), 퀸빔(Quinbeam)101(닛폰제온가부시키가이샤 제조), 켐링크(Chemlink)5000(사르토머(SARTOMER)사 제조), BAC-15(오사카유키가가쿠고교가부시키가이샤 제조), BAC-45(오사카유키가가쿠고교가부시키가이샤 제조), UAT-2000(교에샤가가쿠가부시키가이샤 제조), 에폴리드 PB-3600(다이셀가가쿠고교가부시키가이샤 제조), EY RESIN, BR-45UAS(라이트케미컬고교가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.Examples of these commercially available products include NISSO PB TE-2000, NISSO PB TEA-1000, NISSO PB TE-3000, NISSO PB TEAI-1000 (all of the above are manufactured by Nippon Soda Corporation), MM-1000-80, MAC-1000- 80 (all of the above are manufactured by Nippon Seki Chemical Co., Ltd.), Polyvek ACR-LC (manufactured by Nippon Hydrajin Kogyo Co., Ltd.), HYCAR VT VTR 2000 x 164 (manufactured by Ube Kosang Industries, Ltd.), Quinbeam 101 (manufactured by Nippon Zeon Corporation), Chemlink 5000 (manufactured by SARTOMER), BAC-15 (manufactured by Osaka Yuki Chemical Co., Ltd.), BAC-45 (Osaka Yuki Chemical) (manufactured by Kogyo Co., Ltd.), UAT-2000 (manufactured by Kyoe Sha Chemicals), EPOLID PB-3600 (manufactured by Daicel Chemicals, Inc.), EY RESIN, BR-45UAS (Light) Chemical High School Co., Ltd.) etc. are mentioned.

상기 중 특히 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-아크릴로일옥시에틸프탈산이 바람직하게 사용된다.Among these, in particular 2-hydroxy-3-phenoxypropylacrylate, phenoxyethylacrylate, 4-hydroxybutylacrylate, tetrahydrofurfurylacrylate, 2-hydroxyethylacrylate, 2-hydroxypropyl Acrylate and 2-acryloyloxyethyl phthalic acid are preferably used.

이들 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물은 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.These (A) compounds which have an ethylenically unsaturated bond can be used 1 type or in mixture of 2 or more types.

이상 설명한 바와 같은 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물은 조성물의 용제를 제외한 유기 성분 중의 에틸렌성 불포화 결합 당량이 260 이상이 되도록 배합한다. 바람직하게는 260 내지 1000, 보다 바람직하게는 260 내지 700, 더욱 바람직하게는 310 내지 500, 더욱 바람직하게는 330 내지 500으로 한다. 에틸렌성 불포화 결합 당량을 260 이상으로 함으로써, 경화시에 발생하는 경화 수축이 억제되고, 충분한 접착 강도를 얻을 수 있다. 또한, 에틸렌성 불포화 결합 당량을 1000 이하로 함으로써, 충분한 경화성을 얻을 수 있다.The compound having an ethylenically unsaturated bond as described above is blended so that the ethylenically unsaturated bond equivalent in the organic component excluding the solvent of the composition is 260 or more. Preferably it is 260-1000, More preferably, it is 260-700, More preferably, it is 310-500, More preferably, it is set as 330-500. By setting the ethylenically unsaturated bond equivalent to 260 or more, curing shrinkage generated during curing is suppressed, and sufficient adhesive strength can be obtained. Moreover, sufficient sclerosis|hardenability can be acquired by making an ethylenically unsaturated bond equivalent into 1000 or less.

이러한 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물에 대하여 후술하는 (B) 퍼옥사이드를 이용함으로써, 반응이 빠르게 개시되고, 신속한 경화가 가능하게 되고, 접착 강도가 양호해진다.By using the (B) peroxide mentioned later with respect to this (A) compound which has an ethylenically unsaturated bond, reaction is started quickly, rapid hardening becomes possible, and adhesive strength becomes favorable.

여기서, 이 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물의 배합량은 경화성 조성물의 총 질량에 대하여 10 내지 90질량%, 바람직하게는 20 내지 70질량%, 보다 바람직하게는 25 내지 60질량%이다.Here, the compounding quantity of this (A) compound which has an ethylenically unsaturated bond is 10-90 mass % with respect to the total mass of curable composition, Preferably it is 20-70 mass %, More preferably, it is 25-60 mass %.

(A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물의 배합량을 경화성 조성물의 총 질량에 대하여 10질량% 이상으로 함으로써, 충분한 경화성이 얻어지고, 접착 강도도 양호해진다. 또한, (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물의 배합량을 경화성 조성물의 총 질량에 대하여 90질량% 이하로 함으로써, 경화 수축이 억제되어 접착 강도도 양호해진다.(A) When the compounding quantity of the compound which has an ethylenically unsaturated bond shall be 10 mass % or more with respect to the gross mass of a curable composition, sufficient sclerosis|hardenability is acquired and adhesive strength also becomes favorable. Moreover, cure shrinkage is suppressed and adhesive strength also becomes favorable because (A) the compounding quantity of the compound which has an ethylenically unsaturated bond shall be 90 mass % or less with respect to the gross mass of a curable composition.

[(B) 퍼옥사이드][(B) Peroxide]

본 발명의 경화성 조성물에는 상기 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물의 중합 개시제로서 (B) 퍼옥사이드가 포함된다.The curable composition of the present invention contains (B) peroxide as a polymerization initiator for the compound (A) having an ethylenically unsaturated bond.

(B) 퍼옥사이드에 의해 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물의 라디칼 반응이 개시된다. 그 결과, 전자 부품에 있어서의 부재끼리의 접착력이 향상된다.(B) A radical reaction of a compound having an ethylenically unsaturated bond is initiated by the peroxide. As a result, the adhesive force of the members in an electronic component improves.

본 발명에서 이용되는 (B) 퍼옥사이드로서는 액상 및 분말의 퍼옥사이드가 포함되고, 구체예로서는 이하의 재료를 들 수 있다.The peroxide (B) used in the present invention includes liquid and powder peroxide, and specific examples include the following materials.

메틸에틸케톤퍼옥사이드, 시클로헥사논퍼옥사이드 및 아세틸아세톤퍼옥사이드 등의 케톤퍼옥사이드, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, 1,1-디(t-부틸퍼옥시)-2-메틸시클로헥산 및 1,1-디(t-부틸퍼옥시)시클로헥산 등의 퍼옥시케탈, 2,2-디(t-부틸퍼옥시)부탄, n-부틸4,4-디-(t-부틸퍼옥시)발레레이트 및 2,2-디(4,4-디-(t-부틸퍼옥시)시클로헥실)프로판 등의 퍼옥시케탈, p-멘탄히드로퍼옥사이드, 디이소프로필벤젠히드로퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸히드로퍼옥사이드, 쿠멘히드로퍼옥사이드 및 t-부틸히드로퍼옥사이드 등의 히드로퍼옥사이드, 디(2-t-부틸퍼옥시이소프로필)벤젠, 디쿠밀퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산, t-부틸쿠밀퍼옥사이드, 디-t-헥실퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드 및 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥신-3 등의 디알킬퍼옥사이드, 디이소부틸퍼옥사이드, 디(3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드, 디라우로일퍼옥사이드, 디숙신산퍼옥사이드, 디-(3-메틸벤조일)퍼옥사이드, 벤조일(3-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드 및 디-(4-메틸벤조일)퍼옥사이드 등의 디아실퍼옥사이드, 디-n-프로필퍼옥시디카르보네이트, 디이소프로필퍼옥시디카르보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카르보네이트 등의 퍼옥시디카르보네이트, 쿠밀퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시네오헵타노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-헥실퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시말레산, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, t-부틸퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실모노카르보네이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시아세테이트, t-부틸퍼옥시-3-메틸벤조에이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트 및 t-부틸퍼옥시알릴모노카르보네이트 등의 퍼옥시에스테르 및 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논.Ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide and acetylacetone peroxide, 1,1-di(t-hexylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-di( peroxyketals such as t-hexylperoxy)cyclohexane, 1,1-di(t-butylperoxy)-2-methylcyclohexane and 1,1-di(t-butylperoxy)cyclohexane; 2-di(t-butylperoxy)butane, n-butyl4,4-di-(t-butylperoxy)valerate and 2,2-di(4,4-di-(t-butylperoxy) Peroxyketals such as cyclohexyl) propane, p-mentane hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, and t-butyl hydroperoxide Hydroperoxide such as oxide, di(2-t-butylperoxyisopropyl)benzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane, t-butylcumylperoxide Dialkyl peroxides such as oxide, di-t-hexyl peroxide, di-t-butyl peroxide and 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexyne-3, diisobutyl peroxide Oxide, di (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, dilauroyl peroxide, disuccinic acid peroxide, di- (3-methylbenzoyl) peroxide, benzoyl (3-methylbenzoyl) peroxide, di Diacyl peroxides such as benzoyl peroxide and di-(4-methylbenzoyl) peroxide, di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, and di(4-t-butylcyclohexyl) Peroxydicarbonates such as peroxydicarbonate, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, and di-sec-butylperoxydicarbonate, cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3 ,3-Tetramethylbutylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneoheptanoate, t-hexylperoxypivalate , t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy) Hexane, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxymaleic acid, t- butyl peroxy -3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl silperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxy-3-methylbenzoate, t-butylperoxybenzoate and Peroxyesters, such as t-butylperoxyallyl monocarbonate, and 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone.

이러한 퍼옥사이드 중에서도 액상의 것을 이용하는 것이 바람직하다. 액상의 퍼옥사이드를 이용함으로써, 경화성 조성물의 보존 안정성도 우수하다. 여기서, 액상의 퍼옥사이드란, 실온(25℃), 대기압에 있어서 액상의 퍼옥사이드를 말한다.Among these peroxides, it is preferable to use a liquid one. By using a liquid peroxide, it is excellent also in storage stability of a curable composition. Here, the liquid peroxide means a liquid peroxide at room temperature (25°C) and atmospheric pressure.

(B) 퍼옥사이드를 사용함으로써, (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물의 경화가 저온에서 단시간에 행하여진다. 또한, (B) 퍼옥사이드로서 액상의 것을 이용함으로써, 경화성 조성물의 보존 안정성도 우수하다.(B) By using a peroxide, (A) curing of the compound having an ethylenically unsaturated bond is performed at a low temperature and in a short time. Moreover, by using a liquid thing as (B) peroxide, it is excellent also in storage stability of a curable composition.

통상, 열경화성의 조성물에서는 분체의 경화제를 배합하여 잠재성 경화제로서의 기능을 부여하고 있지만, 본 발명에서는 의외로 액상의 (B) 퍼옥사이드를 이용함으로써, 경화성 조성물의 보존 안정성이 향상되는 것을 알았다. 그 결과, 액상의 (B) 퍼옥사이드에 의하면 경화성 조성물 중에 양호하게 분산되어 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물에 대하여 양호하게 작용하여 경화를 촉진시킨다.Usually, in thermosetting compositions, a powder curing agent is blended to impart a function as a latent curing agent, but in the present invention, it was unexpectedly found that the storage stability of the curable composition was improved by using the liquid (B) peroxide. As a result, according to the liquid (B) peroxide, it is well dispersed in the curable composition and acts favorably on the compound having (A) an ethylenically unsaturated bond to accelerate curing.

액상의 (B) 퍼옥사이드로서는 예를 들어 메틸에틸케톤퍼옥사이드, 시클로헥사논퍼옥사이드 및 아세틸아세톤퍼옥사이드 등의 케톤퍼옥사이드, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, 1,1-디(t-부틸퍼옥시)-2-메틸시클로헥산 및 1,1-디(t-부틸퍼옥시)시클로헥산 등의 퍼옥시케탈, 2,2-디(t-부틸퍼옥시)부탄, n-부틸(4,4-디-(t-부틸퍼옥시)발레레이트 및 2,2-디(4,4-디-(t-부틸퍼옥시)시클로헥실)프로판 등의 퍼옥시케탈, p-멘탄히드로퍼옥사이드, 디이소프로필벤젠히드로퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸히드로퍼옥사이드, 쿠멘히드로퍼옥사이드 및 t-부틸히드로퍼옥사이드 등의 히드로퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산, t-부틸쿠밀퍼옥사이드, 디-t-헥실퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드 및 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥신-3 등의 디알킬퍼옥사이드, 디이소부틸퍼옥사이드, 디(3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드, 디-(3-메틸벤조일)퍼옥사이드 및 벤조일(3-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드 등의 디아실퍼옥사이드, 디-n-프로필퍼옥시디카르보네이트, 디이소프로필퍼옥시디카르보네이트, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카르보네이트 등의 퍼옥시디카르보네이트, 쿠밀퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시네오헵타노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-헥실퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, t-부틸퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실모노카르보네이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트, t-부틸퍼옥시아세테이트, t-부틸퍼옥시-3-메틸벤조에이트, t-부틸퍼옥시벤조에이트 및 t-부틸퍼옥시알릴모노카르보네이트 등의 퍼옥시에스테르, 및 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논을 들 수 있다.As the liquid (B) peroxide, for example, ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide and acetylacetone peroxide, 1,1-di(t-hexylperoxy)-3,3,5 -trimethylcyclohexane, 1,1-di(t-hexylperoxy)cyclohexane, 1,1-di(t-butylperoxy)-2-methylcyclohexane and 1,1-di(t-butylperoxy) ) peroxyketals such as cyclohexane, 2,2-di(t-butylperoxy)butane, n-butyl(4,4-di-(t-butylperoxy)valerate, and 2,2-di(4) Peroxyketals such as ,4-di-(t-butylperoxy)cyclohexyl)propane, p-mentane hydroperoxide, diisopropylbenzenehydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylhydroperoxide Hydroperoxides such as oxide, cumene hydroperoxide and t-butyl hydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t- Dialkyl peroxides such as hexyl peroxide, di-t-butyl peroxide and 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexyne-3, diisobutyl peroxide, di(3, 5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, di-(3-methylbenzoyl) peroxide and diacyl peroxides such as benzoyl (3-methylbenzoyl) peroxide and dibenzoyl peroxide, di-n-propyl peroxydica Peroxydicarbonate, cumylperoxyneodecanoate, such as lebonate, diisopropyl peroxydicarbonate, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, and di-sec-butylperoxydicarbonate , 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneoheptanoate, t -Hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di(2- Ethylhexanoylperoxy)hexane, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylper Oxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t- hexyl peroxy Peroxyesters such as benzoate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxy-3-methylbenzoate, t-butylperoxybenzoate and t-butylperoxyallyl monocarbonate, and 3,3 ',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone is mentioned.

이 중, 본 발명에서는 이하의 퍼옥사이드를 이용하면 특히 바람직하다.Among these, in the present invention, it is particularly preferable to use the following peroxides.

1,1-디(t-헥실퍼옥시)-3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, n-부틸-4,4-디-(t-부틸퍼옥시)발레레이트 등의 퍼옥시 케탈, 1,1,3,3-테트라메틸부틸히드로퍼옥사이드 등의 히드로퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산, t-부틸쿠밀퍼옥사이드, 디-t-헥실퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥신-3 등의 디알킬퍼옥사이드, 디아실퍼옥사이드, 퍼옥시카르보네이트 및 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-헥실퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시-3,3,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실모노카르보네이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트, t-부틸퍼옥시-3-메틸벤조에이트 및 t-부틸퍼옥시벤조에이트 등의 퍼옥시에스테르를 들 수 있다.1,1-di(t-hexylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-di(t-hexylperoxy)cyclohexane, n-butyl-4,4-di-(t -Peroxyketals such as butylperoxy)valerate, hydroperoxides such as 1,1,3,3-tetramethylbutylhydroperoxide, and 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy) ) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexyne-3, etc. Alkyl peroxide, diacyl peroxide, peroxycarbonate and 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t- Butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-3,3,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, t- and peroxyesters such as butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexylperoxybenzoate, t-butylperoxy-3-methylbenzoate and t-butylperoxybenzoate.

또한, 상기 특히 바람직한 퍼옥사이드 중, 퍼옥시에스테르를 이용함으로써 우수한 밀착성이 얻어진다. 그 중에서도 알킬퍼옥시에스테르Moreover, excellent adhesiveness is obtained by using peroxyester among the said especially preferable peroxides. Among them, alkyl peroxy esters

Figure 112015053065874-pat00001
Figure 112015053065874-pat00001

를 이용함으로써, 매우 우수한 접착 강도가 얻어진다.By using , very excellent adhesive strength is obtained.

이상 설명한 바와 같은 (B) 퍼옥사이드는 1분간 반감기 온도가 80℃ 내지 160℃, 바람직하게는 85℃ 내지 145℃, 보다 바람직하게는 90℃ 내지 135℃의 것을 이용하는 것이 바람직하다.As described above, (B) peroxide has a half-life temperature of 80°C to 160°C for 1 minute, preferably 85°C to 145°C, and more preferably 90°C to 135°C.

1분간 반감기 온도를 80℃ 이상으로 함으로써, 실온에서의 사용에 있어서 충분한 가사 시간을 확보할 수 있다. 또한, 1분간 반감기 온도를 160℃ 이하로 함으로써, 충분한 경화성을 확보할 수 있다.By setting the half-life temperature to 80°C or higher for 1 minute, a sufficient pot life can be ensured for use at room temperature. Moreover, sufficient sclerosis|hardenability can be ensured by making the half-life temperature into 160 degreeC or less for 1 minute.

(B) 퍼옥사이드는 단독으로도 사용되지만, 복수 종류를 조합하여 사용할 수도 있다.(B) Although a peroxide is used individually, it can also be used combining several types.

이러한 (B) 퍼옥사이드의 배합량은 경화성 조성물의 총 질량에 대하여 0.1 내지 10질량%, 바람직하게는 0.5 내지 5질량%, 보다 바람직하게는 1 내지 3질량%의 범위에서 적절히 선택된다.The compounding quantity of such (B) peroxide is 0.1-10 mass % with respect to the total mass of curable composition, Preferably it is 0.5-5 mass %, More preferably, it is selected suitably in the range of 1-3 mass %.

(B) 퍼옥사이드의 배합량을 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물에 대하여 0.1질량% 이상으로 함으로써, 충분한 경화성을 확보할 수 있다. 또한, 퍼옥사이드의 배합량을 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물에 대하여 10질량% 이하로 함으로써, 충분한 밀착성을 확보할 수 있다.Sufficient sclerosis|hardenability can be ensured by the compounding quantity of (B) peroxide being 0.1 mass % or more with respect to the compound which has (A) ethylenically unsaturated bond. Moreover, sufficient adhesiveness can be ensured by the compounding quantity of a peroxide being 10 mass % or less with respect to the compound which has (A) ethylenically unsaturated bond.

[(C) 도전 분말][(C) conductive powder]

본 발명의 경화성 조성물에는 (C) 도전 분말이 포함된다. 본 발명의 도전 분말이란, 체적 고유 저항이 1×106Ω·cm 이하인 물질의 분말을 의미한다.(C) Conductive powder is contained in the curable composition of this invention. The conductive powder of the present invention means a powder of a substance having a volume resistivity of 1×10 6 Ω·cm or less.

이 (C) 도전 분말에 의해 부재끼리가 전기적으로 접속된다.The members are electrically connected to each other by this (C) conductive powder.

이 (C) 도전 분말로서는 Au, Ag, Ni, Cu, Pd 및 후술하는 저융점 땜납 등의 재료로 되는 Sn, Bi, In, Sb의 금속 분말, 카본 분말 등을 들 수 있다. 이 도전 분말은 핵으로서의 유리나 세라믹, 플라스틱 등의 비도전성의 분말을 금속층으로 피복한 복합 분말, 상기 비도전성 분말과 금속 분말 또는 카본 분말을 갖는 복합 분말이어도 된다. 이 도전 분말이 상기 복합 분말 또는 열용융성의 금속 분말이면, 가열 가압에 의해 도전 분말이 변형되기 때문에 접속시에 전극과의 접촉 면적이 증가하고, 특히 높은 신뢰성이 얻어진다. 또한, 이 (C) 도전 분말로서는 은 피복 구리 분말이나, 미세한 금속 분말이 다수, 쇄상으로 연결된 형상을 갖는 금속 분말을 이용할 수도 있다.Examples of the conductive powder (C) include metal powders of Sn, Bi, In, and Sb, carbon powders, etc. made of materials such as Au, Ag, Ni, Cu, Pd and low-melting-point solder mentioned later. The conductive powder may be a composite powder in which a non-conductive powder such as glass, ceramic, or plastic as a nucleus is coated with a metal layer, or a composite powder having the non-conductive powder and a metal powder or carbon powder. If the conductive powder is the composite powder or heat-meltable metal powder, the conductive powder is deformed by heating and pressing, so that the contact area with the electrode is increased during connection, and particularly high reliability is obtained. Moreover, as this (C) electroconductive powder, a silver-coated copper powder and the metal powder which has a shape in which many fine metal powders were connected in chain|strand can also be used.

본 발명의 경화성 조성물은 (C) 도전 분말이 저융점 땜납 분말인 것이 바람직하고, 또한 납을 포함하지 않고, 또한 저융점의 땜납 분말이 보다 적합하게 이용된다.In the curable composition of the present invention (C), the conductive powder is preferably a low-melting-point solder powder, does not contain lead, and a low-melting-point solder powder is more suitably used.

여기서, 저융점의 땜납 분말이란, 융점이 200℃ 이하, 바람직하게는 170℃ 이하, 보다 바람직하게는 150℃ 이하인 땜납 분말을 의미한다.Here, the low-melting-point solder powder means a solder powder having a melting point of 200°C or lower, preferably 170°C or lower, and more preferably 150°C or lower.

또한, 납을 포함하지 않는 땜납 분말이란, JIS Z 3282(땜납-화학 성분 및 형상)에서 규정되어 있는 납 함유율 0.10질량% 이하의 땜납 분말을 의미한다.In addition, the solder powder containing no lead means the solder powder with a lead content of 0.10 mass % or less prescribed|regulated by JIS Z 3282 (Solder-chemical composition and shape).

납을 포함하지 않는 땜납 분말로서는 주석, 비스무트, 인듐, 구리, 은, 안티몬으로부터 선택되는 1종 이상의 금속으로 구성되는 저융점 땜납이 적절하게 이용된다. 특히, 비용, 취급성, 접합 강도의 밸런스의 관점에서 주석(Sn)과 비스무트(Bi)의 합금이 바람직하게 이용된다.As the lead-free solder powder, a low-melting-point solder composed of at least one metal selected from tin, bismuth, indium, copper, silver and antimony is suitably used. In particular, an alloy of tin (Sn) and bismuth (Bi) is preferably used from the viewpoint of the balance between cost, handleability and bonding strength.

이러한 땜납 분말 중의 Bi의 함유량은 15 내지 65질량%, 바람직하게는 35 내지 65질량%, 보다 바람직하게는 55 내지 60질량%의 범위에서 적절히 선택된다.The content of Bi in the solder powder is appropriately selected within the range of 15 to 65 mass%, preferably 35 to 65 mass%, and more preferably 55 to 60 mass%.

Bi의 함유량을 15질량% 이상으로 함으로써, 그의 합금은 약 160℃에서 용융을 개시한다. Bi의 함유량을 더 증가시키면 용융 개시 온도는 저하되어 가고, 20질량% 이상에서 용융 개시 온도가 139℃가 되고, 58질량%에서 공정 조성이 된다. Bi 함유량을 15 내지 65질량%의 범위로 함으로써, 저융점화 효과가 충분히 얻어지는 결과, 저온이어도 충분한 도통 접속이 얻어진다.When the content of Bi is 15% by mass or more, the alloy starts melting at about 160°C. When the content of Bi is further increased, the melting initiation temperature decreases, the melting initiation temperature becomes 139°C at 20% by mass or more, and the eutectic composition at 58% by mass or more. When the Bi content is in the range of 15 to 65% by mass, the effect of lowering the melting point can be sufficiently obtained, and therefore sufficient conduction connection can be obtained even at a low temperature.

이러한 (C) 도전 분말은 구상 입자인 것이 바람직하고, 평균 입경 D50이 0.1㎛ 내지 20㎛, 바람직하게는 3㎛ 내지 17㎛, 보다 바람직하게는 7㎛ 내지 15㎛인 것이 바람직하다. (C) 도전 분말의 평균 입경 D50을 20㎛ 이하로 함으로써, 미세한 개소이어도 충분한 도전 접속이 가능하게 된다. 또한, (C) 도전 분말의 평균 입경 D50을 0.1㎛ 이상으로 함으로써, 경화성 조성물 중에서의 도전 분말의 응집을 억제할 수 있다.It is preferable that this (C) electrically conductive powder is spherical particle|grains, It is preferable that average particle diameter D50 is 0.1 micrometer - 20 micrometers, Preferably they are 3 micrometers - 17 micrometers, More preferably, they are 7 micrometers - 15 micrometers. (C) When the average particle diameter D50 of the conductive powder is 20 µm or less, sufficient conductive connection is attained even in a fine location. Moreover, the aggregation of the electrically-conductive powder in curable composition can be suppressed by (C) the average particle diameter D50 of an electrically-conductive powder being 0.1 micrometer or more.

이상 설명한 바와 같은 (C) 도전 분말의 배합량은 경화성 조성물 중에 5 내지 60질량%, 바람직하게는 15 내지 45질량%, 보다 바람직하게는 25 내지 35질량%의 범위에서 적절히 선택된다.The compounding quantity of (C) electroconductive powder as demonstrated above is 5-60 mass % in curable composition, Preferably it is 15-45 mass %, More preferably, it is selected suitably in 25-35 mass %.

(C) 도전 분말의 배합량을 경화성 조성물 중에 5질량% 이상으로 함으로써, 충분한 도통 접속을 확보할 수 있다. 또한, (C) 도전 분말의 배합량을 경화성 조성물 중에 60질량% 이하로 함으로써, 충분한 밀착성을 확보할 수 있다.(C) Sufficient conduction|electrical_connection connection is securable by the compounding quantity of an electrically-conductive powder being 5 mass % or more in curable composition. Moreover, sufficient adhesiveness is securable by the compounding quantity of (C) electrically conductive powder being 60 mass % or less in curable composition.

[(D) 유기 결합제][(D) organic binder]

본 발명의 경화성 조성물은 (D) 유기 결합제를 갖는 화합물을 포함하는 조성물이다. 이 유기 결합제를 첨가함으로써, 열 경화시에 발생하는 응력을 완화하고, 접착 강도가 더욱 향상된다.The curable composition of the present invention is a composition comprising (D) a compound having an organic binder. By adding this organic binder, the stress generated during thermal curing is relieved, and the adhesive strength is further improved.

유기 결합제란 유기 수지 성분이고, 공지 관용의 천연 수지, 합성 수지를 이용할 수 있다.An organic binder is an organic resin component, and a well-known and usual natural resin and synthetic resin can be used.

이러한 유기 결합제로서는 셀룰로오스 및 로진 등의 천연 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리카르보네이트, 폴리염화비닐, 폴리아세트산비닐, 폴리아미드, 아크릴 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 불소 수지, 실리콘 수지, 폴리에스테르 수지, 아세탈 수지, 부티랄 수지 등의 합성 수지를 이용할 수 있다. 그 중에서도 아크릴 수지, 부티랄 수지, 포화 폴리에스테르 수지를 이용하는 것이 바람직하다.Examples of such organic binders include natural resins such as cellulose and rosin, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polycarbonate, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyamide, acrylic resin, polyethylene terephthalate, fluororesin, silicone resin, and polyester. Synthetic resins, such as resin, an acetal resin, and a butyral resin, can be used. Especially, it is preferable to use an acrylic resin, a butyral resin, and a saturated polyester resin.

부티랄 수지의 구체예로서는 세키스이가가쿠 에스렉 시리즈(세키스이가가쿠고교가부시키가이샤 제조)의 에스렉 BL-1, BL-1H, BL-2, BL-2H, BL-5, BL-10, BL-S, BL-L 등을 들 수 있다.Specific examples of the butyral resin include S-Rec BL-1, BL-1H, BL-2, BL-2H, BL-5, BL- of Sekisui Chemical S-Rec series (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.). 10, BL-S, BL-L, and the like.

포화 폴리에스테르 수지의 구체예로서는 도요보 바이런 시리즈(도요보세키가부시키가이샤 제조)의 바이런 200, 220, 240, 245, 270, 280, 290, 296, 300, 337, 500, 530, 550, 560, 600, 630, 650, BX1001, GK110, 130, 140, 150, 180, 190, 250, 330, 590, 640, 680, 780, 810, 880, 890 등을 들 수 있다. 아크릴 수지의 구체예로서는 쿠라리티 시리즈(가부시키가이샤쿠라레 제조)의 쿠라리티 LA2330 등을 들 수 있다.Specific examples of the saturated polyester resin include Byron 200, 220, 240, 245, 270, 280, 290, 296, 300, 337, 500, 530, 550, 560 of the Toyobo Byron series (manufactured by Toyobo Industries, Ltd.). , 600, 630, 650, BX1001, GK110, 130, 140, 150, 180, 190, 250, 330, 590, 640, 680, 780, 810, 880, 890. As a specific example of an acrylic resin, Kurarit LA2330 of Kurarit series (manufactured by K.K.), etc. are mentioned.

유기 결합제는 실온(25℃), 대기압에서 고형인 것을 이용하는 것이 바람직하다. 고형의 유기 결합제를 이용함으로써 경화성 조성물의 경화 후의 강도를 유지하기 쉬워진다. 유기 결합제의 Tg(유리 전이 온도)는 -20 내지 150℃, 바람직하게는 0 내지 120℃, 보다 바람직하게는 10 내지 70℃인 것이 바람직하다.It is preferable to use the organic binder which is solid at room temperature (25 degreeC) and atmospheric pressure. By using a solid organic binder, it becomes easy to maintain the intensity|strength after hardening of a curable composition. The Tg (glass transition temperature) of the organic binder is preferably -20 to 150°C, preferably 0 to 120°C, more preferably 10 to 70°C.

(D) 유기 결합제의 분자량은 1,000 내지 100,000, 바람직하게는 3,000 내지 80,000, 보다 바람직하게는 5,000 내지 60,000인 것이 바람직하다. 분자량이 1,000 이상이면 경화시에 블리드 아웃하지 않고 응력 완화할 수 있고, 100,000 이하이면 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과 용이하게 상용하여 충분한 유동성을 얻을 수 있다.(D) The molecular weight of the organic binder is preferably 1,000 to 100,000, preferably 3,000 to 80,000, more preferably 5,000 to 60,000. When the molecular weight is 1,000 or more, stress can be relieved without bleeding out during curing, and when it is 100,000 or less, it is easily compatible with the compound having an ethylenically unsaturated bond, and sufficient fluidity can be obtained.

(D) 유기 결합제의 배합량은 경화성 조성물의 총 질량에 대하여 1 내지 90질량%, 바람직하게는 3 내지 60질량%, 보다 바람직하게는 5 내지 40질량%이다.(D) The compounding quantity of an organic binder is 1-90 mass % with respect to the total mass of a curable composition, Preferably it is 3-60 mass %, More preferably, it is 5-40 mass %.

[그 외 성분][Other ingredients]

이상 설명한 바와 같은 본 발명의 경화성 조성물은 필요에 따라 공지 관용의 틱소트로피성 부여제나 소포제, 레벨링제 등의 첨가제를 배합할 수 있다.As described above, the curable composition of the present invention may contain additives such as a known and usual thixotropic imparting agent, an antifoaming agent, and a leveling agent, if necessary.

또한, 전자 기기 또는 전자 기기의 회로 등에 이용되는 구리 전극에 사용되는 경화성 조성물 또는 땜납 페이스트에는 구리의 산화막을 제거하기 위해서 일반적으로 카르복실기를 갖는 활성제가 사용된다.In addition, in order to remove the oxide film of copper, the activator which has a carboxyl group is generally used for the curable composition or solder paste used for the copper electrode used for an electronic device or a circuit of an electronic device, etc.

그러나, 액정 패널이나 터치 패널 등의 디스플레이용 부재에 이용되는 전극은, 은 등의 도전 페이스트나 알루미늄 등의 스퍼터링 등의 구리 이외의 재료에 의해 형성되기 때문에, 이러한 전극은 상기 카르복실기를 갖는 활성제에 의해 쉽게 부식된다는 것을 발명자들은 깨달았다.However, since electrodes used for display members such as liquid crystal panels and touch panels are formed of a material other than copper such as a conductive paste such as silver or sputtering such as aluminum, these electrodes are formed by the activator having a carboxyl group. The inventors realized that it corrodes easily.

그래서, 본원 발명의 경화성 조성물은 조성물 중에 카르복실기를 갖는 활성제를 포함하지 않는 것이 바람직하다.Then, it is preferable that the curable composition of this invention does not contain the activator which has a carboxyl group in a composition.

본 발명의 경화성 조성물은 전자 부품에 있어서의 부재끼리의 전기적 접속에 이용된다.The curable composition of this invention is used for the electrical connection of members in an electronic component.

예를 들어 본 발명의 경화성 조성물은 프린트 배선판 등에 있어서의 접속 부재의 전기적 접속 개소에 스크린 메쉬나 메탈 마스크에 의한 패턴 인쇄, 또는 디스펜서 등의 도포 장치에 의해 도포된다.For example, the curable composition of this invention is apply|coated to the electrical connection location of the connection member in a printed wiring board etc. by pattern printing with a screen mesh or a metal mask, or coating devices, such as a dispenser.

접속 개소에 경화성 조성물이 충분히 공급된 것을 확인한 후, 피접속 부재(부품)를 접속 부재(기판)의 접속 개소에 얹고, 소정 온도, 소정 압력에서의 열 압착을 행함으로써 경화한다. 이에 의해, 접속 부재(기판)와 피접속 부재(부품)가 전기적으로 접속된다.After confirming that the curable composition has been sufficiently supplied to the connection portion, the member (part) to be connected is placed on the connection portion of the connection member (substrate), and is cured by thermocompression at a predetermined temperature and a predetermined pressure. Thereby, the connecting member (substrate) and the to-be-connected member (component) are electrically connected.

본 발명에서는 저온, 저압 또한 단시간에의 열 압착에 의해 우수한 접착 강도가 얻어지기 때문에, 전자 부품에 손상이 미치는 일은 없다.In this invention, since the outstanding adhesive strength is obtained by thermocompression bonding at low temperature, low pressure, and a short time, damage does not affect an electronic component.

구체적으로는 열 압착 온도는 100℃ 내지 240℃, 바람직하게는 120℃ 내지 200℃, 보다 바람직하게는 140 내지 160℃로 하고, 열 압착 압력은 0.05MPa 내지 3.0MPa, 바람직하게는 0.1MPa 내지 2.0MPa, 보다 바람직하게는 0.5MPa 내지 1.5MPa로 하고, 열 압착 시간은 1초 내지 60초, 바람직하게는 1초 내지 20초, 보다 바람직하게는 1초 내지 9초로 열 압착된다. 100℃ 이상의 온도에서의 처리에 의하면, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물의 반응이 양호하게 진행되고, 240℃ 이하의 온도에서의 처리를 행함으로써, 접착 대상의 전자 부품 등이 가열에 의한 손상을 받지 않고 본래의 성능을 유지한다. 또한, 압력을 0.05MPa 이상으로 함으로써, 전자 부품 간에 충분한 접합이 형성되고, 도전성도 충분해지고, 3.0MPa 이하의 압력으로 함으로써, 전자 부품에 대한 과잉 부하의 인가에 의한 손상이 방지된다. 또한, 열 압착 시간은 단시간으로 함으로써 전자 부품에 대한 열에 의한 손상이 방지된다.Specifically, the thermocompression compression temperature is 100° C. to 240° C., preferably 120° C. to 200° C., more preferably 140 to 160° C., and the thermocompression compression pressure is 0.05 MPa to 3.0 MPa, preferably 0.1 MPa to 2.0 MPa, more preferably 0.5 MPa to 1.5 MPa, and thermocompression bonding time is 1 second to 60 seconds, preferably 1 second to 20 seconds, more preferably 1 second to 9 seconds. According to the treatment at a temperature of 100°C or higher, the reaction of the compound having an ethylenically unsaturated bond proceeds favorably, and by performing the treatment at a temperature of 240°C or lower, the electronic component to be bonded is not damaged by heating. and maintain its original performance. In addition, by setting the pressure to 0.05 MPa or more, sufficient bonding is formed between electronic components and the conductivity is also sufficient, and by setting the pressure to 3.0 MPa or less, damage due to application of an excessive load to the electronic components is prevented. In addition, by making the thermocompression bonding time short, the damage by heat to an electronic component is prevented.

이와 같이 하여 본원 발명의 경화성 조성물을 이용하면, 저온, 저압 또한 단시간에 우수한 접착 강도를 확보할 수 있고, 전자 부품에 있어서의 부재끼리를 전기적으로 접속할 수 있다.In this way, when the curable composition of this invention is used, the adhesive strength excellent in low temperature, low pressure and a short time can be ensured, and members in an electronic component can be electrically connected.

[실시예][Example]

이하, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하에 있어서 특별히 언급하지 않는 한, 「부」, 「%」는 질량 기준인 것으로 한다.Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these. In addition, unless otherwise indicated below, "part" and "%" shall be based on mass.

(실시예 1 내지 8 및 비교예 1)(Examples 1 to 8 and Comparative Example 1)

Ⅰ. 경화성 조성물의 제조I. Preparation of curable composition

표 1에 나타내는 배합 비율(질량비)로 각 성분을 배합 교반하여, 실시예 1 내지 8 및 비교예 1의 경화성 조성물을 제조하였다.Each component was mix|blended and stirred by the compounding ratio (mass ratio) shown in Table 1, and the curable composition of Examples 1-8 and Comparative Example 1 was produced.

Ⅱ. 접착 강도의 평가II. Evaluation of adhesive strength

Ⅱ-1. 시험편의 제작II-1. Preparation of test pieces

(1) 리지드 기판(구리 기판)(1) Rigid substrate (copper substrate)

상기 Ⅰ에서 제조한 실시예 1 내지 8 및 비교예 1의 경화성 조성물을 리지드 기판(기재: FR-4, 퍼트 폭: 100㎛, 피치 폭: 0.2mm, 플래시 Au 처리) 상에 메탈 마스크(마스크 두께: 80㎛, 개구: 15mm×1mm)를 개재하여 스크레이퍼에 의해 도포하였다. 이어서, 경화성 조성물을 도포한 상태의 리지드 기판에 대하여 플렉시블 기판(폭: 16mm, 기재: 폴리이미드, 퍼트 폭: 100㎛, 피치 폭: 0.2mm, 플래시 Au 처리)을 적재하였다. 이 적재시에는 리지드 기판의 퍼트와 플렉시블 기판의 퍼트의 위치를 맞추고, 양쪽의 기판의 중첩되는 면의 길이가 4mm가 되도록 하였다. 이와 같이 하여 적재한 기판끼리의 접합면에 대하여 1.5MPa, 150℃, 6초로 열 압착을 행하여, 시험편을 제작하였다.The curable compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Example 1 prepared in I above were coated on a rigid substrate (substrate: FR-4, putt width: 100 μm, pitch width: 0.2 mm, flash Au treatment) on a metal mask (mask thickness) : 80 µm, opening: 15 mm × 1 mm) was applied with a scraper. Next, a flexible substrate (width: 16 mm, base material: polyimide, pat width: 100 µm, pitch width: 0.2 mm, flash Au treatment) was loaded on the rigid substrate in the state in which the curable composition was applied. At the time of this loading, the positions of the putt of the rigid substrate and the putt of the flexible substrate were aligned, and the length of the overlapping surfaces of both substrates was 4 mm. Thus, with respect to the bonding surface of the board|substrates mounted in this way, thermocompression-bonding was performed at 1.5 MPa, 150 degreeC, and 6 second, and the test piece was produced.

(2) 은 전극 기판(2) silver electrode substrate

실시예 4의 경화성 조성물을 소다석회 유리(두께 1.1mm) 상에 은 페이스트(다이요잉키세이조가부시키가이샤 제조 ECM-100 AF6100)로 패턴 형성한 기판(은 전극 기판) 상(퍼트 폭: 100㎛, 피치 폭: 0.2mm)에 메탈 마스크(마스크 두께: 80㎛, 개구: 15mm×1mm)를 개재하여 스크레이퍼에 의해 도포하였다. 이어서, 경화성 조성물을 도포한 상태의 유리 기판에 대하여 플렉시블 기판(폭: 16mm, 기재: 폴리이미드, 퍼트 폭: 100㎛, 피치 폭: 0.2mm, 플래시 Au 처리)을 적재하였다. 이 적재시에는 리지드 기판의 퍼트와 플렉시블 기판의 퍼트의 위치를 맞추고, 양쪽의 기판의 중첩되는 면의 길이가 4mm가 되도록 하였다. 이와 같이 하여 적재한 기판끼리의 접합면에 대하여 1.5MPa, 150℃, 6초로 열 압착을 행하여, 시험편을 제작하였다.The curable composition of Example 4 was patterned on soda-lime glass (thickness 1.1 mm) with silver paste (ECM-100 AF6100 manufactured by Taiyo Ink. Co., Ltd.) on a substrate (silver electrode substrate) (pattern width: 100 µm) , pitch width: 0.2 mm) was applied with a scraper through a metal mask (mask thickness: 80 µm, opening: 15 mm × 1 mm). Next, the flexible substrate (width: 16 mm, base material: polyimide, pat width: 100 micrometers, pitch width: 0.2 mm, flash Au treatment) was loaded with respect to the glass substrate of the state to which the curable composition was apply|coated. At the time of this loading, the positions of the putt of the rigid board and the putt of the flexible board were aligned, and the length of the overlapping surfaces of the two boards was set to 4 mm. Thus, with respect to the bonding surface of the board|substrates mounted in this way, thermocompression-bonding was performed at 1.5 MPa, 150 degreeC, and 6 second, and the test piece was produced.

(3) ITO 기판(3) ITO substrate

실시예 4의 경화성 조성물을 ITO 증착 유리 기판(ITO 기반) 상(아사히가라스가부시키가이샤 제조 PD200, ITO 두께 500Å)에 메탈 마스크(마스크 두께: 80㎛, 개구: 15mm×1mm)를 개재하여 스크레이퍼에 의해 도포하였다. 이어서, 경화성 조성물을 도포한 상태의 유리 기판에 대하여 플렉시블 기판(폭: 16mm, 기재: 폴리이미드, 퍼트 폭: 100㎛, 피치 폭: 0.2mm, 플래시 Au 처리)을 적재하였다. 이 적재시에는 리지드 기판의 퍼트와 플렉시블 기판의 퍼트의 위치를 맞추고, 양쪽의 기판의 중첩되는 면의 길이가 4mm가 되도록 하였다. 이와 같이 하여 적재한 기판끼리의 접합면에 대하여 1.5MPa, 150℃, 6초로 열 압착을 행하여, 시험편을 제작하였다.The curable composition of Example 4 was placed on an ITO-deposited glass substrate (ITO-based) (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., ITO thickness 500 Å) with a metal mask (mask thickness: 80 μm, opening: 15 mm × 1 mm) interposed therebetween It was applied with a scraper. Next, the flexible substrate (width: 16 mm, base material: polyimide, pat width: 100 micrometers, pitch width: 0.2 mm, flash Au treatment) was loaded with respect to the glass substrate of the state to which the curable composition was apply|coated. At the time of this loading, the positions of the putt of the rigid board and the putt of the flexible board were aligned, and the length of the overlapping surfaces of the two boards was set to 4 mm. Thus, with respect to the bonding surface of the board|substrates mounted in this way, thermocompression-bonding was performed at 1.5 MPa, 150 degreeC, and 6 second, and the test piece was produced.

(4) 알루미늄 기판(4) aluminum substrate

실시예 4의 경화성 조성물을 알루미늄 리지드 기판(기재: FR-4, 알루미늄 두께 25㎛) 상에 메탈 마스크(마스크 두께: 80㎛, 개구: 15mm×1mm)를 개재하여 스크레이퍼에 의해 도포하였다. 이어서, 경화성 조성물을 도포한 상태의 유리 기판에 대하여 플렉시블 기판(폭: 16mm, 기재: 폴리이미드, 퍼트 폭: 100㎛, 피치 폭: 0.2mm, 플래시 Au 처리)을 적재하였다. 이 적재시에는 리지드 기판의 퍼트와 플렉시블 기판의 퍼트의 위치를 맞추고, 양쪽의 기판의 중첩되는 면의 길이가 4mm가 되도록 하였다. 이와 같이 하여 적재한 기판끼리의 접합면에 대하여 1.5MPa, 150℃, 6초로 열 압착을 행하여, 시험편을 제작하였다.The curable composition of Example 4 was applied on an aluminum rigid substrate (base: FR-4, aluminum thickness of 25 µm) with a scraper through a metal mask (mask thickness: 80 µm, opening: 15 mm×1 mm). Next, the flexible substrate (width: 16 mm, base material: polyimide, pat width: 100 micrometers, pitch width: 0.2 mm, flash Au treatment) was loaded with respect to the glass substrate of the state to which the curable composition was apply|coated. At the time of this loading, the positions of the putt of the rigid board and the putt of the flexible board were aligned, and the length of the overlapping surfaces of the two boards was set to 4 mm. Thus, with respect to the bonding surface of the board|substrates mounted in this way, thermocompression-bonding was performed at 1.5 MPa, 150 degreeC, and 6 second, and the test piece was produced.

Ⅱ-2. 접착 강도의 측정II-2. Determination of adhesive strength

제작한 시험편에 대하여 JIS K 6854-1에 준하여 플렉시블 기판을 수직 방향으로 박리하여 접착 강도를 측정하였다. 얻어진 평가 결과는 표 1에 함께 나타낸다.With respect to the produced test piece, according to JIS K 6854-1, the flexible substrate was peeled off in the vertical direction, and adhesive strength was measured. The obtained evaluation result is shown together in Table 1.

Ⅲ. 도통성의 평가Ⅲ. Assessment of continuity

상기 Ⅱ-1에서 얻어진 시험편을 이용하고, 리지드 기판의 퍼트부와 플렉시블 기판의 퍼트부의 도통을 테스터(히오키덴키가부시키가이샤 제조, 디지털 하이테스터 3256)에 의해 확인하고, 평가하였다. 그 평가 기준은 이하와 같다. 얻어진 평가 결과는 표 1에 함께 나타낸다.Using the test piece obtained in II-1 above, conduction between the put part of the rigid substrate and the put part of the flexible substrate was confirmed and evaluated by a tester (Digital High Tester 3256, manufactured by Hioki Electronics Co., Ltd.). The evaluation criteria are as follows. The obtained evaluation result is shown together in Table 1.

○: 도통이 확인되었다.○: Conduction was confirmed.

×: 도통이 확인되지 않았다.x: Conduction was not confirmed.

Ⅳ. 보존 안정성(증점률)의 평가IV. Evaluation of storage stability (thickening rate)

상기 Ⅰ에서 제조한 경화성 조성물의 점도를 E형 점도계(도키산교사 제조 콘플레이트형 점도계 TVH-33, 측정 온도 25℃)로 측정하고, 이것을 초기 점도로 하였다. 그 후, 경화성 조성물을 30℃의 항온조에 60시간 보관하고, 60시간 경과 후의 점도를 상기 E형 점도계로 마찬가지로 측정하였다.The viscosity of the curable composition prepared in the above I was measured with an E-type viscometer (corn plate type viscometer TVH-33 manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., measurement temperature 25° C.), and this was taken as the initial viscosity. Then, the curable composition was stored in a 30 degreeC thermostat for 60 hours, and the viscosity after the lapse of 60 hours was similarly measured with the said E-type viscometer.

증점률은 하기 식에 의해 산출하였다.The thickening rate was calculated by the following formula.

증점률(%)=((60시간 경과 후의 점도(dPa·s)/초기 점도(dPa·s))-1)×100Thickening rate (%) = ((Viscosity after 60 hours (dPa·s)/Initial viscosity (dPa·s))-1) × 100

얻어진 평가 결과는 표 1에 나타낸다.The obtained evaluation result is shown in Table 1.

Figure 112015053065874-pat00002
Figure 112015053065874-pat00002

표 1에 기재된 각 성분의 상세는 이하와 같다.The detail of each component described in Table 1 is as follows.

에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물 (A-1): 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트(도아고세가부시키가이샤 제조 아로닉스 M-5700, 분자량: 222, Tg: 17℃, 점도: 1.65dPa·s/25℃)Compound (A-1) having an ethylenically unsaturated bond: 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate (Aronix M-5700 manufactured by Toagosei Co., Ltd., molecular weight: 222, Tg: 17°C, viscosity: 1.65 dPa s/25℃)

에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물 (A-2): 폴리부타디엔우레탄아크릴레이트(라이트케미컬고교가부시키가이샤 제조 BR-45UAS, 분자량: Mw3000, Tg: 222℃, 점도: 375dPa·s/25℃)Compound (A-2) having an ethylenically unsaturated bond: polybutadiene urethane acrylate (BR-45UAS manufactured by Light Chemical Kogyo Co., Ltd., molecular weight: Mw3000, Tg: 222°C, viscosity: 375 dPa·s/25°C)

유기 결합제 (D-1): 폴리에스테르 수지(도요보세키사 제조 바이런 500, 분자량: Mn23000, Tg: 4℃)Organic binder (D-1): polyester resin (byron 500 manufactured by Toyobo Seki Co., Ltd., molecular weight: Mn23000, Tg: 4°C)

에폭시 수지: 비스페놀 A형 에폭시 수지(미츠비시가가쿠사 제조 828, 분자량: 370, 점도: 138dPa·s/25℃)Epoxy resin: Bisphenol A epoxy resin (Mitsubishi Chemical Co., Ltd. 828, molecular weight: 370, viscosity: 138 dPa·s/25°C)

경화제: 2-에틸-4-메틸이미다졸(시코쿠가세이고교사 제조 2E4MZ, 융점: 40℃)Hardening agent: 2-ethyl-4-methylimidazole (Shikoku Chemical Co., Ltd. 2E4MZ, melting|fusing point: 40 degreeC)

퍼옥사이드 (B-1): t-헥실퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, 성상: 액체, 1분간 반감기 온도: 155.0℃, 10시간 반감기 온도: 95.0℃)Peroxide (B-1): t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, appearance: liquid, half-life temperature for 1 minute: 155.0°C, 10 hours half-life temperature: 95.0°C)

퍼옥사이드 (B-2): 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산(니치유가부시키가이샤 제조 퍼헥사 HC, 성상: 액체, 1분간 반감기 온도: 149.2℃, 10시간 반감기 온도: 87.1℃)Peroxide (B-2): 1,1-di(t-hexylperoxy)cyclohexane (Perhexa HC manufactured by Nichi Oil Co., Ltd., Appearance: Liquid, 1 minute half-life temperature: 149.2° C., 10 hour half-life temperature: 87.1℃)

퍼옥사이드 (B-3): t-부틸퍼옥시―2-에틸헥사노에이트(니치유가부시키가이샤 제조 퍼부틸 O, 성상: 액체, 1분간 반감기 온도: 134℃, 10시간 반감기 온도: 72.1℃)Peroxide (B-3): t-butylperoxy-2-ethylhexanoate (perbutyl O manufactured by Nichi Oil Co., Ltd., appearance: liquid, half-life temperature for 1 minute: 134°C, half-life temperature for 10 hours: 72.1°C )

퍼옥사이드 (B-4): 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(니치유가부시키가이샤 제조 퍼옥타 O, 성상: 액체, 1분간 반감기 온도: 124.3℃, 10시간 반감기 온도: 65.3℃)Peroxide (B-4): 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate (Nichi Oil Co., Ltd. Perocta O, Form: Liquid, 1 minute half-life temperature: 124.3°C , 10 hours half-life temperature: 65.3°C)

퍼옥사이드 (B-5): t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(니치유가부시키가이샤 제조 퍼헥실 O, 성상: 액체, 1분간 반감기 온도: 90.1℃, 10시간 반감기 온도: 69.9℃)Peroxide (B-5): t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate (perhexyl O manufactured by Nichi Oil Co., Ltd., appearance: liquid, half-life temperature for 1 minute: 90.1 ° C., half-life temperature for 10 hours: 69.9 ° C. )

퍼옥사이드 (B-6): 디벤조일퍼옥사이드(니치유가부시키가이샤 제조 나이퍼 BW, 성상: 분체, 1분간 반감기 온도: 130℃, 10시간 반감기 온도: 73.6℃)Peroxide (B-6): dibenzoyl peroxide (Nipper BW manufactured by Nichi Oil Co., Ltd., property: powder, half-life temperature for 1 minute: 130°C, half-life temperature for 10 hours: 73.6°C)

퍼옥사이드 (B-7): 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트(니치유가부시키가이샤 제조 퍼로일 TCP, 성상: 분체, 1분간 반감기 온도: 92.1℃, 10시간 반감기 온도: 40.8℃)Peroxide (B-7): di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate (Nichi Oil Co., Ltd. peroyl TCP, properties: powder, 1 minute half-life temperature: 92.1°C, 10 hour half-life temperature : 40.8℃)

땜납 분말: 42Sn-58Bi 조성의 구상 입자(평균 입경(D50): 13.12㎛)Solder powder: spherical particles of 42Sn-58Bi composition (average particle diameter (D50): 13.12 μm)

표 1에 나타내는 결과로부터 명백해진 바와 같이, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과 퍼옥사이드를 이용함으로써 저온, 저압 또한 단시간의 도전 접착이 가능한 것이 확인되었다.As is clear from the results shown in Table 1, it was confirmed that a low temperature, low pressure and short time conductive adhesion was possible by using a compound having an ethylenically unsaturated bond and a peroxide.

또한, 액상의 퍼옥사이드를 이용함으로써, 증점률이 저하되고, 보존 안정성이 양호해지는 것이 확인되었다.In addition, it was confirmed that the thickening rate decreased and storage stability was improved by using the liquid peroxide.

(실시예 9 내지 16 및 비교예 2 내지 5)(Examples 9 to 16 and Comparative Examples 2 to 5)

Ⅰ. 경화성 조성물의 제조I. Preparation of curable composition

표 2에 나타내는 배합 비율(질량비)로 각 성분을 배합 교반하여, 실시예 9 내지 16 및 비교예 2 내지 5의 경화성 조성물을 제조하였다.Each component was mix|blended and stirred by the compounding ratio (mass ratio) shown in Table 2, and the curable composition of Examples 9-16 and Comparative Examples 2-5 was manufactured.

Ⅱ. 접착 강도의 평가II. Evaluation of adhesive strength

Ⅱ-1. 시험편의 제작II-1. Preparation of test pieces

(1) 리지드 기판(구리 기판)(1) Rigid substrate (copper substrate)

전술한 실시예 1 내지 8 및 비교예 1과 마찬가지로, 상기 Ⅰ에서 제조한 실시예 9 내지 16 및 비교예 2 내지 5의 경화성 조성물을 리지드 기판에 도포하고, 마찬가지의 조작으로 시험편을 제작하였다.In the same manner as in Examples 1 to 8 and Comparative Example 1 described above, the curable compositions of Examples 9 to 16 and Comparative Examples 2 to 5 prepared in I above were applied to a rigid substrate, and test pieces were produced in the same manner.

(2) 은 전극 기판(2) silver electrode substrate

실시예 4와 마찬가지로, 실시예 9의 경화성 조성물을 은 전극 기판에 도포하고, 마찬가지의 조작으로 시험편을 제작하였다.Similarly to Example 4, the curable composition of Example 9 was apply|coated to the silver electrode board|substrate, and the test piece was produced by similar operation.

(3) ITO 기판(3) ITO substrate

실시예 4와 마찬가지로, 실시예 9의 땜납 페이스트를 ITO 기판에 도포하고, 마찬가지의 조작으로 시험편을 제작하였다.In the same manner as in Example 4, the solder paste of Example 9 was applied to the ITO substrate, and a test piece was produced in the same manner.

(4) 알루미늄 기판(4) aluminum substrate

실시예 4와 마찬가지로, 실시예 9의 경화성 조성물을 알루미늄 리지드 기판에 도포하고, 마찬가지의 조작으로 시험편을 제작하였다.Similarly to Example 4, the curable composition of Example 9 was apply|coated to the aluminum rigid board|substrate, and the test piece was produced by similar operation.

Ⅱ-2. 접착 강도의 측정II-2. Determination of adhesive strength

제작한 시험편에 대하여 JIS K 6854-1에 준하여 플렉시블 기판을 수직 방향으로 박리하여 접착 강도를 측정하였다. 그 평가 기준은 이하와 같다. 얻어진 평가 결과는 표 2에 함께 나타낸다.With respect to the produced test piece, according to JIS K 6854-1, the flexible substrate was peeled off in the vertical direction, and adhesive strength was measured. The evaluation criteria are as follows. The obtained evaluation result is shown together in Table 2.

○: 10N/16mm 이상○: 10N/16mm or more

△: 5N/16mm 이상△: 5N/16mm or more

×: 5N/16mm 미만×: less than 5N/16mm

Ⅲ. 도통성의 평가 및 보존 안정성(증점률)의 평가에 대해서는, 실시예 1 내지 8 및 비교예 1과 마찬가지의 평가 조건, 평가 기준으로 평가하였다.Ⅲ. About the evaluation of continuity|conductivity and the evaluation of storage stability (thickening rate), the evaluation conditions and evaluation criteria similar to Examples 1-8 and Comparative Example 1 were evaluated.

평가 결과를 표 2에 나타낸다.Table 2 shows the evaluation results.

Figure 112015053065874-pat00003
Figure 112015053065874-pat00003

표 2에 기재된 각 성분의 상세는 이하와 같다.The detail of each component described in Table 2 is as follows.

(A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물: (A) a compound having an ethylenically unsaturated bond:

(A-1) 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 도아고세가부시키가이샤 제조 「아로닉스 M 5700」(A-1) 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd. "Aronix M 5700"

(A-3) 페녹시에틸아크릴레이트, 교에샤가가쿠가부시키가이샤 제조 「라이트 아크릴레이트 PO-A」(A-3) Phenoxyethyl acrylate, "light acrylate PO-A" manufactured by Kyoesha Chemical Co., Ltd.

(A-4) 4-히드록시부틸아크릴레이트, 닛폰가세이가부시키가이샤 제조 「4HBA」(A-4) 4-hydroxybutyl acrylate, "4HBA" manufactured by Nippon Chemicals Co., Ltd.

(A-5) 트리메틸올프로판 EO 변성 (n≒1)트리아크릴레이트, 도아고세가부시키가이샤 제조 「아로닉스 M-350」(A-5) Trimethylolpropane EO-modified (n≒1) triacrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd. "Aronix M-350"

(A-6) 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 도아고세가부시키가이샤 제조 「아로닉스 M-309」(A-6) Trimethylolpropane triacrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd. "Aronix M-309"

(D) 유기 결합제: (D) organic binders:

(D-2) 인 함유 폴리에스테르 수지, 도요보가부시키가이샤 제조 「바이런 337」, 분자량: Mn10000, Tg: 14℃, 성상: 고체(D-2) Phosphorus-containing polyester resin, manufactured by Toyobo Corporation "Byron 337", molecular weight: Mn10000, Tg: 14°C, appearance: solid

(D-3) 알킬아세탈화 폴리비닐알코올(OH기 약 29몰%, 아세틸기 3몰% 이하, 부티랄화도 약 71몰%), 세키스이가가쿠고교가부시키가이샤 제조 「에스렉B BL10」, 분자량: 15000, Tg: 59℃, 성상: 고체)(D-3) Alkylacetalized polyvinyl alcohol (about 29 mol% of OH groups, 3 mol% or less of acetyl groups, about 71 mol% of butyralization degree), Sekisui Chemical Co., Ltd. "Srec B BL10" ', molecular weight: 15000, Tg: 59℃, appearance: solid)

(D-4) 메타크릴산메틸(MMA)-아크릴산부틸(BA) 블록 공중합체, 가부시키가이샤쿠라레 제조 「쿠라리티 LA2330」, 분자량: 50000, 성상: 고체)(D-4) Methyl methacrylate (MMA)-butyl acrylate (BA) block copolymer, "Kurarit LA2330" manufactured by K.K., molecular weight: 50000, property: solid)

(B) 퍼옥사이드(B) peroxide

(B-4) 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 니치유가부시키가이샤 제조 「퍼옥타 O」, 1분간 반감기 온도: 124.3℃, 10시간 반감기 온도: 65.3℃, 성상: 액체)(B-4) 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, Nichiyo Oil Co., Ltd. "Perocta O", 1-minute half-life temperature: 124.3°C, 10-hour half-life temperature : 65.3℃, Appearance: Liquid)

(B-7) 디벤조일퍼옥사이드, 니치유가부시키가이샤 제조 「나이퍼 BW」, 1분간 반감기 온도: 130℃, 10시간 반감기 온도: 73.6℃, 성상: 분체)(B-7) dibenzoyl peroxide, "Niper BW" manufactured by Nichiyu Corporation, 1 minute half-life temperature: 130° C., 10-hour half-life temperature: 73.6° C., appearance: powder)

(C) 도전 분말: (C-1) 42Sn-58Bi[42Sn-58Bi 조성의 구상 입자: 평균 입경(D50), 13.12㎛], (C) conductive powder: (C-1) 42Sn-58Bi [spherical particles of 42Sn-58Bi composition: average particle diameter (D50), 13.12 μm];

(E) 틱소트로피성 부여제(E) thixotropic imparting agent

(E-1) 실리카 미립자(비표면적 170m2/g) 닛폰에어로실가부시키가이샤 제조, 「아에로질 R974」(E-1) Silica fine particles (specific surface area 170 m 2 /g) “Aerosil R974” manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.

유기 성분 중 당량(g/eq)*: 유기 성분(용제를 제외함) 중의 에틸렌성 이중 결합의 당량수Equivalent weight in organic component (g/eq)*: Number of equivalents of ethylenic double bond in organic component (excluding solvent)

표 2에 나타내는 결과로부터 명백해진 바와 같이, 에틸렌성 불포화 결합 당량이 260 이상인 본원 발명의 조성물에 의한 접착에서는 저온, 저압 또한 단시간의 도전 접착이 가능하고 우수한 접착 강도가 얻어지는 것이 확인되었다.As is clear from the results shown in Table 2, it was confirmed that, in adhesion by the composition of the present invention having an ethylenically unsaturated bond equivalent of 260 or more, conductive adhesion at a low temperature, a low pressure, and a short time was possible, and excellent adhesive strength was obtained.

또한, 액상의 퍼옥사이드를 이용함으로써, 증점률이 작고, 보존 안정성이 양호해지는 것이 확인되었다.Moreover, it was confirmed that the thickening rate was small and storage stability became favorable by using a liquid peroxide.

Claims (6)

(A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과,
(B) 퍼옥사이드와,
(C) 도전 분말과,
(D) 유기 결합제를 포함하고,
상기 (A) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물과, (B) 퍼옥사이드와, (D) 유기 결합제로 이루어지는 유기 성분(용제를 포함하는 경우에는 용제를 제외함) 중의 에틸렌성 불포화 결합 당량이 260 이상 500 이하인 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.
(A) a compound having an ethylenically unsaturated bond;
(B) a peroxide;
(C) conductive powder;
(D) an organic binder;
The ethylenically unsaturated bond equivalent in the organic component (excluding the solvent when a solvent is included) consisting of (A) the compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) peroxide, and (D) an organic binder is 260 or more Curable composition, characterized in that 500 or less.
제1항에 있어서, 상기 (B) 퍼옥사이드가 액상인 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.The curable composition according to claim 1, wherein the (B) peroxide is liquid. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (C) 도전 분말이, 융점이 200℃ 이하인 저융점 땜납 분말인 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.The curable composition according to claim 1 or 2, wherein the conductive powder (C) is a low-melting-point solder powder having a melting point of 200°C or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 전자 부품의 도전 접착제로서 사용되는 것을 특징으로 하는 경화성 조성물.The curable composition according to claim 1 or 2, which is used as a conductive adhesive for electronic components. 제1항 또는 제2항에 기재된 경화성 조성물을 이용하여 부재끼리가 전기적으로 접속되어 이루어지는 전자 부품.An electronic component in which members are electrically connected using the curable composition according to claim 1 or 2 . 삭제delete
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