JP2016035044A - Conductive adhesive and electronic component - Google Patents

Conductive adhesive and electronic component Download PDF

Info

Publication number
JP2016035044A
JP2016035044A JP2015112861A JP2015112861A JP2016035044A JP 2016035044 A JP2016035044 A JP 2016035044A JP 2015112861 A JP2015112861 A JP 2015112861A JP 2015112861 A JP2015112861 A JP 2015112861A JP 2016035044 A JP2016035044 A JP 2016035044A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
peroxide
meth
conductive adhesive
acrylate
conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015112861A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
福島 和信
Kazunobu Fukushima
和信 福島
佐々木 正樹
Masaki Sasaki
正樹 佐々木
和貴 仲田
Kazuki Nakada
和貴 仲田
健太郎 大渕
Kentaro Obuchi
健太郎 大渕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyo Holdings Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Ink Mfg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Taiyo Ink Mfg Co Ltd
Priority to JP2015112861A priority Critical patent/JP2016035044A/en
Publication of JP2016035044A publication Critical patent/JP2016035044A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive adhesive that solves conventional problems to ensure a desired adhesive strength at a low temperature, a low pressure and in a short time and to enable electrical connection between members.SOLUTION: The conductive adhesive according to the present invention comprises (A) a compound having an ethylenic unsaturated bond, (B) a peroxide, and (C) a conductive powder.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、導電性接着剤に関し、特に部材同士を低温、低圧かつ短時間で電気的に接続し得る電子部品に用いて好適な導電性接着剤に関する。   The present invention relates to a conductive adhesive, and more particularly to a conductive adhesive suitable for use in an electronic component that can electrically connect members at a low temperature, a low pressure, and in a short time.

電子機器もしくは電子機器の回路形成技術の分野では、電子部品を基板に実装する際に、導電粉末とフラックスを混練したクリームはんだを溶融して導電性と接続強度を得る方法が用いられてきた。しかし、このようなクリームはんだを用いて部材同士を導電接続するためには高温で処理する必要があるため、実装部品の熱による損傷が問題となっていた。   In the field of electronic equipment or circuit formation technology of electronic equipment, a method of obtaining electrical conductivity and connection strength by melting cream solder kneaded with conductive powder and flux has been used when electronic components are mounted on a substrate. However, in order to conductively connect the members using such cream solder, it is necessary to perform the treatment at a high temperature, so that damage to the mounted component due to heat has been a problem.

これに対し、低融点はんだを用いて低温での導電接続を可能とし、また、エポキシ樹脂を用いて低融点はんだの接着強度を補強する技術が提案されている(特許文献1)。   On the other hand, a technique has been proposed in which conductive connection at a low temperature is possible using a low melting point solder and the adhesive strength of the low melting point solder is reinforced using an epoxy resin (Patent Document 1).

しかしながら、この従来技術では、導電性接着剤を短時間で硬化できないという課題があった。   However, this conventional technique has a problem that the conductive adhesive cannot be cured in a short time.

これに対し従来、低融点導電性接着剤を短時間で硬化する技術として、高温で処理することが開示されている(特許文献2)。   On the other hand, processing at high temperature is disclosed as a technique for curing a low-melting-point conductive adhesive in a short time (Patent Document 2).

しかしながら、この従来技術では、満足な接着強度を得るには至っていない。   However, this conventional technique has not yet achieved satisfactory adhesive strength.

このように、導電性接着剤を低温、低圧かつ短時間で接着強度に優れた導電接続を可能にする技術は依然として提案されていないのが実情である。   As described above, there is still no proposal for a technique that enables conductive connection with a conductive adhesive having excellent adhesive strength at low temperature, low pressure and in a short time.

特開2012−115871JP2012-115881A 特開2013−51353JP2013-51353A

本発明の目的は、低温、低圧かつ短時間で所望の接着強度を確保でき、部材同士を電気的に接続し得る導電性接着剤を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a conductive adhesive that can secure desired adhesive strength at low temperature, low pressure and in a short time and can electrically connect members to each other.

本発明者等は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の内容を要旨構成とする発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have completed the invention having the following contents.

すなわち、本発明の導電性接着剤は、(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、(B)パーオキサイドと、(C)導電粉末と、を含むことを特徴とする。   That is, the conductive adhesive of the present invention is characterized by containing (A) a compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) peroxide, and (C) conductive powder.

このような本発明の導電性接着剤において、前記(B)パーオキサイドは液状であることが好ましい。この液状の(B)液状のパーオキサイドは、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシカーボネート、およびパーオキシエステルから選択される1種類以上の化合物であることが好ましい。   In such a conductive adhesive of the present invention, the (B) peroxide is preferably liquid. The liquid (B) liquid peroxide is preferably one or more compounds selected from peroxyketals, hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, peroxycarbonates, and peroxyesters. .

本発明の導電性接着剤において、前記(C)導電粉末は、低融点導電粉末であることが好ましい。   In the conductive adhesive of the present invention, the (C) conductive powder is preferably a low melting point conductive powder.

本発明の導電性接着剤は、さらにバインダーを含むことが好ましい。   The conductive adhesive of the present invention preferably further contains a binder.

本発明の導電性接着剤は、溶剤を含まないことが好ましい。   The conductive adhesive of the present invention preferably contains no solvent.

本発明の導電性接着剤において、前記(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物は、(メタ)アクリロイル基含有モノマーであることが好ましい。   In the conductive adhesive of the present invention, the (A) compound having an ethylenically unsaturated bond is preferably a (meth) acryloyl group-containing monomer.

本発明の導電性接着剤は、電子部品の導電接着用に好ましく使用され、得られる電子部品は、部材同士が電気的に接続されている。   The conductive adhesive of the present invention is preferably used for conductive bonding of electronic components, and the obtained electronic components are electrically connected to each other.

本発明によれば、低温、低圧かつ短時間で所望の接着強度を確保でき、部材同士を電気的に接続し得る導電性接着剤を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the desired adhesive strength can be ensured in low temperature, a low pressure, and for a short time, and the conductive adhesive which can electrically connect members can be provided.

本発明の導電性接着剤は、(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、(B)パーオキサイドと、(C)導電粉末と、を含むことを特徴としている。   The conductive adhesive of the present invention includes (A) a compound having an ethylenically unsaturated bond, (B) peroxide, and (C) conductive powder.

本発明で用いられる(C)導電粉末は、低融点導電粉末であることが好ましく、より好ましくは低融点の鉛フリーはんだであり、電子部品における部材同士の電気的接続に寄与する。   The conductive powder (C) used in the present invention is preferably a low-melting-point conductive powder, more preferably a low-melting-point lead-free solder, which contributes to electrical connection between members in an electronic component.

本発明の導電性接着剤は、好ましくは(C)導電粉末以外の成分にも一切鉛を含まず、(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物と(B)パーオキサイドを含み、その硬化により、上述の(C)導電粉末による電気的接続を、接着強度の面で補強するものである。特に、(B)パーオキサイドを使用することにより、(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物の硬化が低温にて短時間で行われる。また、このパーオキサイドとして液状のものを用いたことにより、ペーストの保存安定性にも優れるという本発明特有の効果が得られることがわかった。   The conductive adhesive of the present invention preferably contains no lead in components other than (C) the conductive powder, and contains (A) a compound having an ethylenically unsaturated bond and (B) peroxide, The electrical connection by the above-mentioned (C) conductive powder is reinforced in terms of adhesive strength. In particular, by using (B) peroxide, (A) the compound having an ethylenically unsaturated bond is cured at a low temperature in a short time. It was also found that the use of a liquid peroxide as the peroxide provided an effect specific to the present invention that was excellent in the storage stability of the paste.

以下に、本発明の導電性接着剤を構成する成分について説明する。   Below, the component which comprises the conductive adhesive of this invention is demonstrated.

[(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物]
本発明の導電性接着剤は、(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む組成物である。
[(A) Compound having ethylenically unsaturated bond]
The conductive adhesive of the present invention is a composition containing (A) a compound having an ethylenically unsaturated bond.

(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するものであれば特に制限なく用いることができるが、例えば、(メタ)アクリロイル基含有化合物が挙げられる。以下のモノマーの他、それらのオリゴマーを用いることもできる。   (A) The compound having an ethylenically unsaturated bond can be used without particular limitation as long as it has an ethylenically unsaturated bond, and examples thereof include (meth) acryloyl group-containing compounds. In addition to the following monomers, those oligomers can also be used.

ラジカル重合するエチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられ、例えば、置換又は非置換の脂肪族アクリレート、脂環族アクリレート、芳香族アクリレート及びこれらのエチレンオキサイド変性アクリレート等のモノマーや、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、アルキッドアクリレート、メラミンアクリレート、シリコーンアクリレート、ポリブタジエンアクリレート等のオリゴマー、並びにこれらに対応するメタクリレート類などを用いることができる。   Examples include compounds having an ethylenically unsaturated bond that undergoes radical polymerization. For example, monomers such as substituted or unsubstituted aliphatic acrylates, alicyclic acrylates, aromatic acrylates, and these ethylene oxide-modified acrylates, epoxy acrylates, urethanes Oligomers such as acrylates, polyester acrylates, polyether acrylates, polyol acrylates, alkyd acrylates, melamine acrylates, silicone acrylates, polybutadiene acrylates, and corresponding methacrylates can be used.

より具体的には、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ブトキシメチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、4−(メタ)アクリロキシトリシクロ[5.2.1.02.6 ]デカン、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、4−(メタ)アクリロキシアルキルアシッドホスフェート、γ−(メタ)アクリロキシアルキルトリアルコキシシランなどの単官能(メタ)アクリレート類;アクリロイルモルホリン、N−ビニルピロリドン、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−ビニルカルバゾール、スチレン、酢酸ビニル、アクリロニトリル、トリアルコキシビニルシランなどの単官能モノマー類;ビスフェノール−A−ジ(メタ)アクリレート、アルキレンオキサイド変性ビスフェノール−A−ジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオ−ルジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ビス[4−(メタ)アクリロキシメチル]トリシクロ[5.2.1.02.6 ]デカン、ビス[4−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシフェニル]プロパン、イソホロンジイソシアネート変性ウレタンジ(メタ)アクリレート、ヘキサメチレンジイソシアネート変性ウレタンジ(メタ)アクリレート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート変性ウレタン(メタ)アクリレート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート変性ウレタン(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、脂肪族エポキシ変性(メタ)アクリレート、オリゴシロキサニルジ(メタ)アクリレートなどの多官能(メタ)アクリレート類;トリアリルイソシアヌレート、ビニル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレートなどの多官能モノマー類などが挙げられ、これらの(メタ)アクリレート系エチレン性不飽和結合を有する化合物を単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。   More specifically, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, butoxymethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) Acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, 4- (meth) acryloxytricyclo [5.2.1.02.6] decane, isobornyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, phenoxy Ethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, Monofunctional (meth) acrylates such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 4- (meth) acryloxyalkyl acid phosphate, γ- (meth) acryloxyalkyltrialkoxysilane; acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, N, Monofunctional monomers such as N-dimethylacrylamide, N-vinylcarbazole, styrene, vinyl acetate, acrylonitrile, trialkoxyvinylsilane; bisphenol-A-di (meth) acrylate, alkylene oxide modified bisphenol-A-di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate Triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) ) Acrylate, bis [4- (meth) acryloxymethyl] tricyclo [5.2.1.02.6] decane, bis [4- (meth) acryloxy-2-hydroxypropyloxyphenyl] propane, isophorone diisocyanate modified urethane di (Meth) acrylate, hexamethylene diisocyanate modified urethane di (meth) acrylate, trimethylhexamethylene diisocyanate modified urethane (meth) acrylate, trimethylhexa Tylene diisocyanate modified urethane (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, aliphatic epoxy modified (meth) acrylate, oligosiloxanyl di (meth) acrylate, etc. Polyfunctional (meth) acrylates; polyfunctional monomers such as triallyl isocyanurate, vinyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, etc., and compounds having these (meth) acrylate-based ethylenically unsaturated bonds Can be used alone or in admixture of two or more.

このほか、本発明の(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、以下の化合物も使用可能である。   In addition, the following compounds can also be used as the compound (A) having an ethylenically unsaturated bond of the present invention.

(1)2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを、2,4−トリレンジイソシアネートを介して液状ポリブタジエンのヒドロキシル基とウレタン付加反応させることにより得られる液状ポリブタジエンウレタン(メタ)アクリレート、
(2)無水マレイン酸を付加したマレイン化ポリブタジエンに、2−ヒドロキシアクリレートをエステル化反応させて得られる液状ポリブタジエンアクリレート、
(3)ポリブタジエンのカルボキシル基と、(メタ)アクリル酸グリシジルとのエポキシエステル化反応により得られる液状ポリブタジエン(メタ)アクリレート、
(4)液状ポリブタジエンにエポキシ化剤を作用させて得られるエポキシ化ポリブタジエンと、(メタ)アクリル酸とのエステル化反応により得られる液状ポリブタジエン(メタ)アクリレート、
(5)ヒドロキシル基を有する液状ポリブタジエンと、(メタ)アクリル酸クロリドとの脱塩素反応によって得られる液状ポリブタジエン(メタ)アクリレート、及び
(6)分子両末端にヒドロキシル基を有する液状ポリブタジエンの不飽和二重結合を水素添加した液状水素化1,2ポリブタジエングリコールを、ウレタン(メタ)アクリレート変性した液状水素化1,2ポリブタジエン(メタ)アクリレートが好ましく用いられる。
(1) Liquid polybutadiene urethane (meth) acrylate obtained by subjecting 2-hydroxyethyl (meth) acrylate to a urethane addition reaction with a hydroxyl group of liquid polybutadiene via 2,4-tolylene diisocyanate,
(2) Liquid polybutadiene acrylate obtained by esterifying 2-hydroxyacrylate with maleated polybutadiene to which maleic anhydride has been added,
(3) Liquid polybutadiene (meth) acrylate obtained by an epoxy esterification reaction between a carboxyl group of polybutadiene and glycidyl (meth) acrylate,
(4) Liquid polybutadiene (meth) acrylate obtained by esterification reaction of epoxidized polybutadiene obtained by allowing an epoxidizing agent to act on liquid polybutadiene and (meth) acrylic acid,
(5) Liquid polybutadiene (meth) acrylate obtained by dechlorination reaction of liquid polybutadiene having hydroxyl groups and (meth) acrylic acid chloride, and (6) Unsaturation of liquid polybutadiene having hydroxyl groups at both molecular ends. Liquid hydrogenated 1,2 polybutadiene (meth) acrylate obtained by modifying liquid hydrogenated 1,2 polybutadiene glycol hydrogenated with a heavy bond with urethane (meth) acrylate is preferably used.

これらの市販品の例としては、NISSO PB TE−2000、NISSO PB TEA−1000、NISSO PB TE−3000、NISSO PB TEAI−1000(以上いずれも日本曹達社製)、MM−1000−80、MAC−1000−80(以上いずれも日本石油化学社製)、ポリベックACR−LC(日本ヒドラジン工業社製)、HYCAR VT VTR 2000×164(宇部興産社製)、Quinbeam101(日本ゼオン社製)、Chemlink5000(SARTOMER社製)、BAC−15(大阪有機化学工業社製)、BAC−45(大阪有機化学工業社製)、UAT−2000(共栄社化学社製)、エポリード PB−3600(ダイセル化学社製)、EY RESIN、 BR−45UAS(ライトケミカル工業社製)などが挙げられる。   Examples of these commercially available products include NISSO PB TE-2000, NISSO PB TEA-1000, NISSO PB TE-3000, NISSO PB TEAI-1000 (all of which are manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), MM-1000-80, MAC- 1000-80 (all manufactured by Nippon Petrochemical Co., Ltd.), Polybeck ACR-LC (manufactured by Nippon Hydrazine Kogyo Co., Ltd.), HYCAR VT VTR 2000 × 164 (manufactured by Ube Industries), Quinbeam101 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), Chemlink 5000 (SARTOMER BAC-15 (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), BAC-45 (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), UAT-2000 (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Epolide PB-3600 (Daicel Chemical Co., Ltd.) RESIN, BR-45UAS (Light Chemi Cal Kogyo Co., Ltd.).

上記のうち、特に、2-ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ポリブタジエンジオールのIPDI(イソシアン酸イソホロン)変性ウレタンアクリレート(BR−45UAS)が好ましく、さらに2-ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレートが好ましく使用される。   Of these, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and polybutadienediol IPDI (isophorone isocyanate) modified urethane acrylate (BR-45UAS) are particularly preferable. -Hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate is preferably used.

これら(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物は、1種または2種以上混合して使用することができる。   These (A) compounds having an ethylenically unsaturated bond can be used alone or in combination.

このような(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物に対して後述の(B)パーオキサイドを用いることにより、反応が速やかに開始され、迅速な硬化が可能となり、接着強度が良好となる。   By using the (B) peroxide described later on such a compound having (A) an ethylenically unsaturated bond, the reaction is quickly started, rapid curing is possible, and the adhesive strength is improved.

ここで、この(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物の配合量は、導電性接着剤の総質量に対して30〜90質量%、好ましくは40〜85質量%、より好ましくは50〜80質量%であることが好ましい。   Here, the compounding quantity of this (A) compound which has an ethylenically unsaturated bond is 30-90 mass% with respect to the total mass of a conductive adhesive, Preferably it is 40-85 mass%, More preferably, it is 50-80. It is preferable that it is mass%.

(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物の配合量を、導電性接着剤の総質量に対して30質量%以上とすることにより、ペーストの流動性が増大し、取り扱いが容易となり、接着強度も良好とされる。また、(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物の配合量を、導電性接着剤の総質量に対して90質量%以下とすることにより、ペースト中のはんだ量が十分に確保されて、はんだ付けにおいて元来必要な金属接合が確実化される。   (A) By making the compounding quantity of the compound which has an ethylenically unsaturated bond into 30 mass% or more with respect to the total mass of a conductive adhesive, the fluidity | liquidity of a paste increases, handling becomes easy and adhesive strength. Is also considered good. In addition, by setting the blending amount of the compound having (A) the ethylenically unsaturated bond to 90% by mass or less with respect to the total mass of the conductive adhesive, the amount of solder in the paste is sufficiently secured, and the solder As a result, it is possible to ensure the metal connection that is originally necessary for the attachment.

[(B)パーオキサイド]
本発明の導電性接着剤には、上記(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物の重合開始剤として、(B)パーオキサイドが含まれる。
[(B) Peroxide]
The conductive adhesive of the present invention contains (B) peroxide as a polymerization initiator for the compound (A) having an ethylenically unsaturated bond.

このパーオキサイドにより、エチレン性不飽和結合を有する化合物のラジカル反応が開始される。この結果、電子部品における部材同士の接着力が向上する。   The peroxide initiates a radical reaction of the compound having an ethylenically unsaturated bond. As a result, the adhesive force between members in the electronic component is improved.

本発明で用いられる(B)パーオキサイドとしては液状及び粉末のパーオキサイドが含まれ、具体例としては、以下の材料を挙げることができる。   The (B) peroxide used in the present invention includes liquid and powdered peroxides, and specific examples thereof include the following materials.

メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、およびアセチルアセトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド、 1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、および1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン等のパーオキシケタール、
2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン、n−ブチル4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)バレレート、および2,2−ジ(4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキシル)プロパン等のパーオキシケタール、
p−メンタンヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、およびt−ブチルヒドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド、
ジ(2−t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、および2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3等のジアルキルパーオキサイド、
ジイソブチルパーオキサイド、ジ(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、ジコハク酸パーオキサイド、ジ−(3−メチルベンゾイル)パーオキサイド、ベンゾイル(3−メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、およびジ−(4−メチルベンゾイル)パーオキサイド等のジアシ
ルパーオキサイド、
ジ−n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート等のパーオキシジカーボネート、
クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパ−オキシネオデカノエート、t−ブチルパ−オキシネオヘプタノエート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t-ブチルパーオキシマレイン酸、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシ−3−メチルベンゾエート、およびt−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル、および
t-ブチルパーオキシアリルモノカーボネート、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン。
Ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, and acetylacetone peroxide, 1,1-di (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-di (t-hexylperoxide) Peroxyketals such as oxy) cyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, and 1,1-di (t-butylperoxy) cyclohexane,
2,2-di (t-butylperoxy) butane, n-butyl 4,4-di- (t-butylperoxy) valerate, and 2,2-di (4,4-di- (t-butylperoxy) Peroxyketals such as oxy) cyclohexyl) propane,
hydroperoxides such as p-menthane hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, and t-butyl hydroperoxide,
Di (2-t-butylperoxyisopropyl) benzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-hexyl Dialkyl peroxides such as peroxide, di-t-butyl peroxide, and 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3;
Diisobutyl peroxide, di (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, dilauroyl peroxide, disuccinic acid peroxide, di- (3-methylbenzoyl) peroxide, benzoyl (3-methylbenzoyl) peroxide, Diacyl peroxides such as dibenzoyl peroxide and di- (4-methylbenzoyl) peroxide;
Di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butyl peroxydicarbonate Peroxydicarbonate, etc.
Cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylper Oxyneoheptanoate, t-hexyl peroxypivalate, t-butyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2 , 5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxymaleic acid, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, -Butyl peroxylaurate, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) ) Peroxyesters such as hexane, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxy-3-methylbenzoate, and t-butylperoxybenzoate, and t-butylperoxyallyl monocarbonate, 3,3 ′, 4 , 4′-Tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone.

このような(B)パーオキサイドのなかでも、液状のものを用いることが好ましい。液状のパーオキサイドを用いることにより、ペーストの保存安定性にも優れるという本発明特有の効果が得られる。ここで、液状のパーオキサイドとは、室温(25℃)、大気圧において液状のパーオキサイドをいう。   Among such (B) peroxides, it is preferable to use a liquid one. By using liquid peroxide, an effect peculiar to the present invention that the storage stability of the paste is excellent can be obtained. Here, the liquid peroxide means a liquid peroxide at room temperature (25 ° C.) and atmospheric pressure.

通常、熱硬化性の組成物では、粉体の硬化剤を配合し、潜在性硬化剤としての機能を付与しているが、本発明では意外にも、液状のパーオキサイドを用いることにより、導電性接着剤の保存安定性が向上することがわかった。その結果、液状のパーオキサイドによれば、導電性接着剤中に良好に分散して、(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物に対して良好に作用し硬化を促進する。   Usually, in a thermosetting composition, a powder curing agent is blended to give a function as a latent curing agent. However, in the present invention, by using a liquid peroxide, it is It was found that the storage stability of the adhesive was improved. As a result, according to the liquid peroxide, it is well dispersed in the conductive adhesive, and (A) works well on the compound having an ethylenically unsaturated bond to promote curing.

液状のパーオキサイドとしては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、およびアセチルアセトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド、
1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、および1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン等のパーオキシケタール、
2,2−ジ(t−ブチルパーオキシ)ブタン、n−ブチル4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)バレレート、および2,2−ジ(4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキシル)プロパン等のパーオキシケタール、
p−メンタンヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、およびt−ブチルヒドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド、
2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、および2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3等のジアルキルパーオキサイド、
ジイソブチルパーオキサイド、ジ(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキサイド、ジ−(3−メチルベンゾイル)パーオキサイド、およびベンゾイル(3−メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド、
ジ−n-プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート等のパーオキシジカーボネート、
クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパ−オキシネオデカノエート、t−ブチルパ−オキシネオヘプタノエート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシ−3−メチルベンゾエート、およびt−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステル、およびt-ブチルパーオキシアリルモノカーボネート、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンを挙げることができる。
Examples of liquid peroxides include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, and acetylacetone peroxide,
1,1-di (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) -2 -Peroxyketals such as methylcyclohexane and 1,1-di (t-butylperoxy) cyclohexane,
2,2-di (t-butylperoxy) butane, n-butyl 4,4-di- (t-butylperoxy) valerate, and 2,2-di (4,4-di- (t-butylperoxy) Peroxyketals such as oxy) cyclohexyl) propane,
hydroperoxides such as p-menthane hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, and t-butyl hydroperoxide,
2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, di-t-butyl peroxide, and 2,5-dimethyl- Dialkyl peroxides such as 2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3;
Diacyl peroxides such as diisobutyl peroxide, di (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, di- (3-methylbenzoyl) peroxide, benzoyl (3-methylbenzoyl) peroxide, and dibenzoyl peroxide ,
Peroxydicarbonates such as di-n-propylperoxydicarbonate, diisopropylperoxydicarbonate, di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate,
Cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylper Oxyneoheptanoate, t-hexyl peroxypivalate, t-butyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2 , 5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, t-butyl peroxyacetate, t-butylperoxy-3-methylbenzoate, and t-butyl Mention may be made of peroxyesters such as peroxybenzoate, and t-butylperoxyallyl monocarbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone.

このうち、本願発明では、以下のパーオキサイドを用いると特に好ましい。   Among these, in the present invention, it is particularly preferable to use the following peroxides.

1,1-ジ(t−ヘキシルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、n−ブチル−4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)バレレート等のパーオキシケタール、
1,1,3,3-テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド、
2,5-ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ヘキシルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)3−ヘキシン等のジアルキルパーオキサイド、
ジアシルパーオキサイド、
パーオキシカーボネート、および
1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t-ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、t-ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ−3−メチルベンゾエート、及びt−ブチルパーオキシベンゾエート等のパーオキシエステルが挙げられる。
また、上記の特に好ましいパーオキサイドのうち、パーオキシエステルを用いることにより優れた密着性が得られる。なかでもアルキルパーオキシエステル

Figure 2016035044
を用いることにより、極めて優れた接着強度が得られる。 1,1-di (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane, n-butyl-4,4-di- (t-butyl) Peroxy) peroxyketals such as valerate,
Hydroperoxides such as 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide,
2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide, di-t-hexyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2 , 5-di (t-butylperoxy) 3-hexyne and other dialkyl peroxides,
Diacyl peroxide,
Peroxycarbonate, and 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate Ate, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-3,3,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t- Peroxyesters such as hexyl peroxybenzoate, t-butyl peroxy-3-methylbenzoate, and t-butyl peroxybenzoate.
Moreover, the outstanding adhesiveness is obtained by using peroxyester among said especially preferable peroxides. Among them, alkyl peroxyesters
Figure 2016035044
By using, extremely excellent adhesive strength can be obtained.

以上説明したような(B)パーオキサイドは、1分間半減期温度が80℃〜160℃、好ましくは85℃〜145℃、より好ましくは90℃〜135℃のものを用いることが好ましい。   The (B) peroxide as described above preferably has a one-minute half-life temperature of 80 ° C. to 160 ° C., preferably 85 ° C. to 145 ° C., more preferably 90 ° C. to 135 ° C.

1分間半減期温度を80℃以上とすることにより、室温での使用において十分な可使時間を確保することができる。また、1分間半減期温度を160℃以下とすることにより、十分な硬化性を確保することができる。   By setting the half-life temperature for 1 minute to 80 ° C. or more, a sufficient pot life can be secured for use at room temperature. Moreover, sufficient sclerosis | hardenability is securable by making 1 minute half life temperature into 160 degrees C or less.

(B)パーオキサイドは、単独でも使用されるが、複数種類を組み合わせて使用することもできる。   (B) Although peroxide is used independently, it can also be used in combination of multiple types.

このような(B)パーオキサイドの配合量は、(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物に対して0.1〜10質量%、好ましくは1〜7質量%、より好ましくは3〜5質量%の範囲で適宜選択される。   The compounding quantity of such (B) peroxide is 0.1-10 mass% with respect to the compound which has (A) ethylenically unsaturated bond, Preferably it is 1-7 mass%, More preferably, it is 3-5 mass % Is appropriately selected.

(B)パーオキサイドの配合量を(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物に対して0.1質量%以上とすることにより、十分な硬化性を確保することができる。また、パーオキサイドの配合量を(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物に対して10質量%以下とすることにより、十分な密着性を確保することができる。   (B) By making the compounding quantity of a peroxide into 0.1 mass% or more with respect to the compound which has an ethylenically unsaturated bond (A), sufficient sclerosis | hardenability can be ensured. Moreover, sufficient adhesiveness is securable by making the compounding quantity of a peroxide into 10 mass% or less with respect to the compound which has an (A) ethylenically unsaturated bond.

[(C)導電粉末]
本発明の導電性接着剤には、(C)導電粉末が含まれる。
この導電粉末により、部材同士が電気的に接続される。
この導電粉末としては、Au、Ag、Ni、Cu、Pd、および後述の低融点はんだ等の材料とされるSn、Bi、In、Sbの金属粉末、カーボン粉末などが挙げられる。この導電粉末は、核としてのガラスやセラミック、プラスチックなどの非導電性の粉末を金属層で被覆した複合粉末、前記非導電性粉末と金属粉末またはカーボン粉末とを有する複合粉末であってもよい。この導電粉末が、上記複合粉末または熱溶融性の金属粉末であると、加熱加圧により導電粉末が変形するため、接続時に電極との接触面積が増加し、特に高い信頼性が得られる。なお、この導電粉末としては、銀被覆銅粉末や、微細な金属粉末が多数、鎖状に繋がった形状を有する金属粉末を用いることもできる。
本発明の導電粉末では、低融点導電粉末であることが好ましく、また鉛を含まず、かつ低融点の導電粉末がより好適に用いられる。
[(C) Conductive powder]
The conductive adhesive of the present invention includes (C) conductive powder.
Members are electrically connected by this conductive powder.
Examples of the conductive powder include Au, Ag, Ni, Cu, Pd, and metal powder of Sn, Bi, In, and Sb, carbon powder, and the like, which are materials such as low melting point solder described later. The conductive powder may be a composite powder in which a non-conductive powder such as glass, ceramic, or plastic as a core is coated with a metal layer, or a composite powder having the non-conductive powder and a metal powder or carbon powder. . When the conductive powder is the composite powder or the heat-meltable metal powder, the conductive powder is deformed by heating and pressurization, so that the contact area with the electrode is increased at the time of connection, and particularly high reliability is obtained. As the conductive powder, silver-coated copper powder or metal powder having a shape in which a large number of fine metal powders are connected in a chain shape can also be used.
In the conductive powder of the present invention, a low melting point conductive powder is preferable, and a lead-free conductive powder having a low melting point is more preferably used.

ここで、低融点の導電粉末とは、融点が200℃以下、好ましくは170℃以下、より好ましくは150℃以下の導電粉末を意味する。   Here, the low melting point conductive powder means a conductive powder having a melting point of 200 ° C. or lower, preferably 170 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower.

また、鉛を含まない導電粉末とは、JIS Z 3282(はんだ−化学成分及び形状)で規定されている、鉛含有率0.10質量%以下の導電粉末を意味する。   Moreover, the electroconductive powder which does not contain lead means the electroconductive powder of 0.10 mass% or less of lead content prescribed | regulated by JISZ 3282 (solder-chemical component and shape).

このような(C)導電粉末としては、錫、ビスマス、インジウム、銅、銀、アンチモンから選択される1種類以上の金属から構成される低融点はんだが好適に用いられる。特に、コスト、取り扱い性、接合強度のバランスの観点から、錫(Sn)とビスマス(Bi)との合金が好ましく用いられる。   As such a conductive powder (C), a low melting point solder composed of one or more metals selected from tin, bismuth, indium, copper, silver, and antimony is preferably used. In particular, an alloy of tin (Sn) and bismuth (Bi) is preferably used from the viewpoint of balance of cost, handleability, and bonding strength.

このような(C)導電粉末中のBiの含有量は、15〜65質量%、好ましくは35〜65質量%、より好ましくは55〜60質量%の範囲で適宜選択される。   The content of Bi in the conductive powder (C) is appropriately selected in the range of 15 to 65% by mass, preferably 35 to 65% by mass, and more preferably 55 to 60% by mass.

Biの含有量を15質量%以上とすることにより、その合金は約160℃で溶融を開始する。さらにBiの含有量を増加させると溶融開始温度は低下していき、20質量%以上で溶融開始温度が139℃となり、58質量%で共晶組成となる。Bi含有量を15〜65質量%の範囲とすることにより、低融点化効果が十分に得られる結果、低温であっても十分な導通接続が得られる。   By setting the Bi content to 15% by mass or more, the alloy starts to melt at about 160 ° C. When the Bi content is further increased, the melting start temperature decreases, and when it is 20% by mass or more, the melting start temperature becomes 139 ° C., and at 58% by mass, the eutectic composition is obtained. By setting the Bi content in the range of 15 to 65% by mass, the effect of lowering the melting point is sufficiently obtained, and as a result, sufficient conductive connection is obtained even at a low temperature.

このような(C)導電粉末は、球状粒子であることが好ましく、平均粒径D50が0.1μm〜20μm、好ましくは3μm〜17μm、より好ましくは7μm〜15μmであることが好ましい。導電粉末の平均粒径D50を20μm以下とすることにより、微細な箇所であっても十分な導電接続が可能となる。また、導電粉末の平均粒径D50を0.1μm以上とすることにより、導電性接着剤中での導電粉末の凝集を抑制することができる。   Such (C) conductive powder is preferably spherical particles, and the average particle diameter D50 is preferably 0.1 μm to 20 μm, preferably 3 μm to 17 μm, more preferably 7 μm to 15 μm. By setting the average particle diameter D50 of the conductive powder to 20 μm or less, sufficient conductive connection can be achieved even at a fine location. Moreover, aggregation of the conductive powder in the conductive adhesive can be suppressed by setting the average particle diameter D50 of the conductive powder to 0.1 μm or more.

以上説明したような(C)導電粉末の配合量は、導電性接着剤中に5〜60質量%、好ましくは15〜45質量%、より好ましくは、25〜35質量%の範囲で適宜選択される。   The blending amount of the conductive powder as described above (C) is appropriately selected in the range of 5 to 60% by mass, preferably 15 to 45% by mass, more preferably 25 to 35% by mass in the conductive adhesive. The

(C)導電粉末の配合量を導電性接着剤中に5質量%以上とすることにより、十分な導通接続を確保することができる。また、(C)導電粉末の配合量を導電性接着剤中に60質量%以下とすることにより、十分な密着性を確保することができる。   (C) Sufficient conduction | electrical_connection connection can be ensured by the compounding quantity of electroconductive powder being 5 mass% or more in a conductive adhesive. Moreover, sufficient adhesiveness is securable by making the compounding quantity of (C) conductive powder into 60 mass% or less in a conductive adhesive.

[バインダー]
本発明の導電性接着剤は、バインダーを含むことが好ましい。このバインダーを添加することにより、導電性接着剤中での導電粉末の分散状態が良好となり、接着強度がさらに向上する。
[binder]
The conductive adhesive of the present invention preferably contains a binder. By adding this binder, the dispersion state of the conductive powder in the conductive adhesive is improved, and the adhesive strength is further improved.

このようなバインダーとしては、公知慣用の熱可塑性樹脂などを用いることができ、なかでも飽和ポリエステル樹脂を用いることが好ましい。   As such a binder, a known and commonly used thermoplastic resin can be used, and among them, a saturated polyester resin is preferably used.

飽和ポリエステル樹脂の具体例としては、東洋紡バイロンシリーズ(東洋紡績(株)製)のバイロン200、220、240、245、270、280、290、296、300、500、530、550、560、600、630、650、BX1001、GK110、130、140、150、180、190、250、330、590、640、680、780、810、880、890等が挙げられる。   Specific examples of the saturated polyester resin include Byron 200, 220, 240, 245, 270, 280, 290, 296, 300, 500, 530, 550, 560, 600 of Toyobo Byron series (manufactured by Toyobo Co., Ltd.), 630, 650, BX1001, GK110, 130, 140, 150, 180, 190, 250, 330, 590, 640, 680, 780, 810, 880, 890, and the like.

このようなバインダーの分子量(Mn)は、1,000〜100,000、好ましくは3,000〜50,000、より好ましくは6,000〜30,000の範囲とする。この範囲とすることにより、導電性接着剤の保存安定性に支障をきたすことなく、さらに良好な接着強度を得ることができる。   The molecular weight (Mn) of such a binder is in the range of 1,000 to 100,000, preferably 3,000 to 50,000, more preferably 6,000 to 30,000. By setting it as this range, further favorable adhesive strength can be obtained without affecting the storage stability of the conductive adhesive.

[その他成分]
以上説明したような本発明の導電性接着剤は、必要に応じて、公知慣用のチクソトロピー性付与剤や消泡剤、レベリング剤などの添加剤を配合することができる。
[Other ingredients]
The conductive adhesive of the present invention as described above can be blended with additives such as known and commonly used thixotropic agents, antifoaming agents, and leveling agents as necessary.

また、電子機器もしくは電子機器の回路等に用いられる銅電極に使用される硬化性組成物またははんだペーストには銅の酸化膜を除去するために一般にカルボキシル基を有する活性剤が使用される。 In addition, an activator having a carboxyl group is generally used for a curable composition or a solder paste used for a copper electrode used in an electronic device or a circuit of the electronic device in order to remove a copper oxide film.

しかしながら、液晶パネルやタッチパネル等のディスプレイ用部材に用いられる電極は、銀などの導電ペーストやアルミなどのスパッタリングなどの銅以外の材料によって形成されるため、かかる電極は、前記カルボキシル基を有する活性剤により容易に腐食されることに、発明者らは気付いた。 However, since an electrode used for a display member such as a liquid crystal panel or a touch panel is formed of a material other than copper such as a conductive paste such as silver or sputtering such as aluminum, such an electrode is an activator having the carboxyl group. The inventors have realized that they are more easily corroded.

そこで、本願発明の硬化性組成物は、組成物中に、カルボキシル基を有する活性剤を含まないことが好ましい。   Therefore, it is preferable that the curable composition of the present invention does not contain an activator having a carboxyl group in the composition.

本発明の導電性接着剤は、電子部品における部材同士の電気的接続に用いられる。   The conductive adhesive of the present invention is used for electrical connection between members in an electronic component.

例えば、本発明の導電性接着剤は、プリント配線板等における接続部材の電気的接続箇所にスクリーンメッシュやメタルマスクによるパターン印刷、あるいはディスペンサーなどの塗布装置にて塗布される。   For example, the conductive adhesive of the present invention is applied to an electrical connection location of a connection member in a printed wiring board or the like by pattern printing using a screen mesh or a metal mask, or a coating device such as a dispenser.

接続箇所に導電性接着剤が十分に供給されたことを確認した後、被接続部材(部品)を接続部材(基板)の接続箇所に載せ、所定温度、所定圧力での熱圧着を行うことにより硬化する。これにより、接続部材(基板)と被接続部材(部品)とが電気的に接続される。   After confirming that the conductive adhesive has been sufficiently supplied to the connection location, place the member to be connected (component) on the connection location of the connection member (substrate) and perform thermocompression bonding at a predetermined temperature and pressure. Harden. Thereby, a connection member (board | substrate) and a to-be-connected member (component) are electrically connected.

本発明では、低温、低圧かつ短時間での熱圧着により優れた接着強度が得られるため、電子部品に損傷が与えられることはない。   In the present invention, excellent adhesive strength can be obtained by thermocompression bonding at a low temperature, a low pressure and in a short time, so that the electronic component is not damaged.

具体的には、熱圧着温度は100℃〜240℃、好ましくは120℃〜200℃、より好ましくは140〜160℃とし、熱圧着圧力は0.05MPa〜3.0MPa、好ましくは0.1MPa〜2.0MPa、より好ましくは0.5MPa〜1.5MPaとし、熱圧着時間は1秒〜60秒、好ましくは1秒〜20秒、より好ましくは1秒〜9秒で熱圧着される。100℃以上の温度での処理によると、はんだの溶融およびエチレン性不飽和結合を有する化合物の反応が良好に進行し、240℃以下の温度での処理を行うことにより、接着対象の電子部品等が加熱による損傷を受けずに本来の性能を保持する。また、圧力を0.05MPa以上とすることにより、電子部品間に十分なはんだ接合が形成され、導電性も十分となり、3.0MPa以下の圧力とすることにより、電子部品への過剰な負荷の印加による損傷が回避される。また、熱圧着時間は、短時間とすることで電子部品への熱による損傷が回避される。   Specifically, the thermocompression bonding temperature is 100 ° C. to 240 ° C., preferably 120 ° C. to 200 ° C., more preferably 140 to 160 ° C., and the thermocompression bonding pressure is 0.05 MPa to 3.0 MPa, preferably 0.1 MPa to The pressure is set to 2.0 MPa, more preferably 0.5 MPa to 1.5 MPa, and the thermocompression bonding time is 1 second to 60 seconds, preferably 1 second to 20 seconds, more preferably 1 second to 9 seconds. According to the treatment at a temperature of 100 ° C. or higher, the melting of the solder and the reaction of the compound having an ethylenically unsaturated bond proceed well, and by performing the treatment at a temperature of 240 ° C. or lower, the electronic component to be bonded, etc. Retains its original performance without being damaged by heating. Also, by setting the pressure to 0.05 MPa or more, sufficient solder joints are formed between the electronic components, and the conductivity is sufficient, and by setting the pressure to 3.0 MPa or less, an excessive load is applied to the electronic components. Damage due to application is avoided. In addition, by making the thermocompression bonding time short, damage to the electronic component due to heat can be avoided.

このようにして本発明の導電性接着剤を用いれば、低温、低圧かつ短時間で所望の接着強度を確保でき、電子部品における部材同士を電気的に接続することができる。   Thus, if the conductive adhesive of this invention is used, desired adhesive strength can be ensured in low temperature, a low pressure, and a short time, and the members in an electronic component can be electrically connected.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、以下において特に断りのない限り、「部」、「%」は質量基準であるものとする。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto. In the following description, “part” and “%” are based on mass unless otherwise specified.

(実施例1〜8、および比較例1)
I.導電性接着剤の調製
表1に示す配合割合(質量比)にて各成分を配合撹拌し、実施例1〜8、および比較例1の導電性接着剤を調製した。
(Examples 1-8 and Comparative Example 1)
I. Preparation of conductive adhesive Each component was blended and stirred at a blending ratio (mass ratio) shown in Table 1, and conductive adhesives of Examples 1 to 8 and Comparative Example 1 were prepared.

II.接着強度の評価
II−1.試験片の作製
(1)リジッド基板(銅基板)
前記Iにて調製した実施例1〜8および比較例1の導電性接着剤を、リジット基板(基材:FR−4、パット幅:100μm、ピッチ幅:0.2mm、フラッシュAu処理)上に、メタルマスク(マスク厚:80μm、開口:15mm×1mm)を介してスクレイパーにより塗布した。次に、導電性接着剤を塗布した状態のリジッド基板に対し、フレキシブル基板(幅:16mm、基材:ポリイミド、パット幅:100μm、ピッチ幅:0.2mm、フラッシュAu処理)を載置した。この載置に際しては、リジット基板のパットとフレキシブル基板のパットの位置を合わせ、双方の基板の重なり合う面の長さが4mmとなるようにした。このようにして載置した基板同士の接合面に対し、1.5MPa、150℃、6秒で熱圧着を行い、試験片を作製した。
(2)銀電極基板
実施例4の導電性接着剤を、ソーダライムガラス(厚さ1.1mm)上に銀ペースト(太陽インキ製造株式会社製 ECM-100 AF6100)でパターン形成した基板(銀電極基板)上(パット幅:100μm、ピッチ幅:0.2mm)に、メタルマスク(マスク厚:80μm、開口:15mm×1mm)を介してスクレイパーにより塗布した。次に、導電性接着剤を塗布した状態のガラス基板に対し、フレキシブル基板(幅:16mm、基材:ポリイミド、パット幅:100μm、ピッチ幅:0.2mm、フラッシュAu処理)を載置した。この載置に際しては、リジット基板のパットとフレキシブル基板のパットの位置を合わせ、双方の基板の重なり合う面の長さが4mmとなるようにした。このようにして載置した基板同士の接合面に対し、1.5MPa、150℃、6秒で熱圧着を行い、試験片を作製した。
(3)ITO基板
実施例4の導電性接着剤をITO蒸着ガラス基板(ITO基盤)上(旭硝子株式会社製PD200、ITO厚500Å)に、メタルマスク(マスク厚:80μm、開口:15mm×1mm)を介してスクレイパーにより塗布した。次に、導電性接着剤を塗布した状態のガラス基板に対し、フレキシブル基板(幅:16mm、基材:ポリイミド、パット幅:100μm、ピッチ幅:0.2mm、フラッシュAu処理)を載置した。この載置に際しては、リジット基板のパットとフレキシブル基板のパットの位置を合わせ、双方の基板の重なり合う面の長さが4mmとなるようにした。このようにして載置した基板同士の接合面に対し、1.5MPa、150℃、6秒で熱圧着を行い、試験片を作製した。
(4)アルミ基板
実施例4の導電性接着剤をアルミリジット基板(基材:FR-4、アルミ厚25μm)上に、メタルマスク(マスク厚:80μm、開口:15mm×1mm)を介してスクレイパーにより塗布した。次に、導電性接着剤を塗布した状態のガラス基板に対し、フレキシブル基板(幅:16mm、基材:ポリイミド、パット幅:100μm、ピッチ幅:0.2mm、フラッシュAu処理)を載置した。この載置に際しては、リジット基板のパットとフレキシブル基板のパットの位置を合わせ、双方の基板の重なり合う面の長さが4mmとなるようにした。このようにして載置した基板同士の接合面に対し、1.5MPa、150℃、6秒で熱圧着を行い、試験片を作製した。
II. Evaluation of adhesive strength II-1. Preparation of test piece (1) Rigid substrate (copper substrate)
The conductive adhesives of Examples 1 to 8 and Comparative Example 1 prepared in I above were placed on a rigid substrate (base material: FR-4, pad width: 100 μm, pitch width: 0.2 mm, flash Au treatment). It was applied by a scraper through a metal mask (mask thickness: 80 μm, opening: 15 mm × 1 mm). Next, a flexible substrate (width: 16 mm, base material: polyimide, pad width: 100 μm, pitch width: 0.2 mm, flash Au treatment) was placed on the rigid substrate in a state where a conductive adhesive was applied. In this mounting, the position of the pad of the rigid substrate and the pad of the flexible substrate were aligned so that the length of the overlapping surface of both substrates was 4 mm. The bonded surfaces of the substrates placed in this manner were subjected to thermocompression bonding at 1.5 MPa and 150 ° C. for 6 seconds to prepare test pieces.
(2) Silver electrode substrate Substrate (silver electrode) obtained by patterning the conductive adhesive of Example 4 with soda lime glass (thickness 1.1 mm) with silver paste (ECM-100 AF6100 manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) The substrate was coated with a scraper through a metal mask (mask thickness: 80 μm, opening: 15 mm × 1 mm) (pad width: 100 μm, pitch width: 0.2 mm). Next, a flexible substrate (width: 16 mm, base material: polyimide, pad width: 100 μm, pitch width: 0.2 mm, flash Au treatment) was placed on the glass substrate coated with the conductive adhesive. In this mounting, the position of the pad of the rigid substrate and the pad of the flexible substrate were aligned so that the length of the overlapping surface of both substrates was 4 mm. The bonded surfaces of the substrates placed in this manner were subjected to thermocompression bonding at 1.5 MPa and 150 ° C. for 6 seconds to prepare test pieces.
(3) ITO substrate The conductive adhesive of Example 4 was placed on an ITO-deposited glass substrate (ITO base) (PD200 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., ITO thickness 500 mm) with a metal mask (mask thickness: 80 μm, opening: 15 mm × 1 mm). Was applied by a scraper. Next, a flexible substrate (width: 16 mm, base material: polyimide, pad width: 100 μm, pitch width: 0.2 mm, flash Au treatment) was placed on the glass substrate coated with the conductive adhesive. In this mounting, the position of the pad of the rigid substrate and the pad of the flexible substrate were aligned so that the length of the overlapping surface of both substrates was 4 mm. The bonded surfaces of the substrates placed in this manner were subjected to thermocompression bonding at 1.5 MPa and 150 ° C. for 6 seconds to prepare test pieces.
(4) Aluminum substrate
The conductive adhesive of Example 4 was applied on an aluminum rigid substrate (base material: FR-4, aluminum thickness 25 μm) with a scraper through a metal mask (mask thickness: 80 μm, opening: 15 mm × 1 mm). Next, a flexible substrate (width: 16 mm, base material: polyimide, pad width: 100 μm, pitch width: 0.2 mm, flash Au treatment) was placed on the glass substrate coated with the conductive adhesive. In this mounting, the position of the pad of the rigid substrate and the pad of the flexible substrate were aligned so that the length of the overlapping surface of both substrates was 4 mm. The bonded surfaces of the substrates placed in this manner were subjected to thermocompression bonding at 1.5 MPa and 150 ° C. for 6 seconds to prepare test pieces.

II−2.接着強度の測定
作製した試験片について、JIS K 6854−1に準じてフレキシブル基板を垂直方向にピールして接着強度を測定した。得られた評価結果は表1に併せて示す。
II-2. Measurement of Adhesive Strength For the prepared test piece, the flexible substrate was peeled in the vertical direction according to JIS K 6854-1, and the adhesive strength was measured. The obtained evaluation results are also shown in Table 1.

III.導通性の評価
上記II−1で得られた試験片を用い、リジット基板のパット部とフレキシブル基板のパット部の導通をテスター(日置電機株式会社製、デジタルハイテスター3256)により確認し、評価した。その評価基準は以下のとおりである。得られた評価結果は表1に併せて示す。
III. Evaluation of conductivity Using the test piece obtained in II-1 above, the conduction between the pad portion of the rigid substrate and the pad portion of the flexible substrate was confirmed by a tester (manufactured by Hioki Electric Co., Ltd., Digital High Tester 3256). evaluated. The evaluation criteria are as follows. The obtained evaluation results are also shown in Table 1.

〇:導通が確認された。
×:導通が確認されなかった。
○: Continuity was confirmed.
X: Conductivity was not confirmed.

IV.保存安定性(増粘率)の評価
上記Iにて調製した導電性接着剤の粘度をE型粘度計(東機産業社製コーンプレート型粘度計TVH−33、測定温度25℃)で測定し、これを初期粘度とした。その後、導電性接着剤を30℃の恒温槽に60時間保管し、60時間経過後の粘度を、上記E型粘度計で同様に測定した。
IV. Evaluation of storage stability (thickening rate) The viscosity of the conductive adhesive prepared in I above was measured with an E-type viscometer (Cone plate viscometer TVH-33 manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., measuring temperature 25 ° C.). This was taken as the initial viscosity. Thereafter, the conductive adhesive was stored in a thermostat at 30 ° C. for 60 hours, and the viscosity after 60 hours was measured in the same manner using the E-type viscometer.

増粘率は、下記式により算出した。
増粘率(%)=((60時間経過後の粘度(dPa・s)/初期粘度(dPa・s))−1)×100
得られた評価結果は表1に併せて示す。なお、ゲル化して粘度測定不能となった導電性接着剤については、表1中、「ゲル化」と記載した。
The thickening rate was calculated by the following formula.
Thickening rate (%) = ((viscosity after 60 hours (dPa · s) / initial viscosity (dPa · s)) − 1) × 100
The obtained evaluation results are also shown in Table 1. In addition, about the electroconductive adhesive which became gelled and became unable to measure viscosity, it described as "gelation" in Table 1.

Figure 2016035044
Figure 2016035044

表1に記載の各成分の詳細は以下の通りである。   The detail of each component described in Table 1 is as follows.

エチレン性不飽和結合を有する化合物(A−1): 2-ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート(東亞合成株式会社製アロニックス
M-5700、分子量:222、Tg:17℃、粘度:1.65dPa・s/25℃)
エチレン性不飽和結合を有する化合物(A−2): ポリブタジエンウレタンアクリレート(ライトケミカル工業株式会社製BR−45UAS、分子量:Mw3000、粘度:375dPa・s/25℃)
バインダー:ポリエステル樹脂(東洋紡績社製バイロン500、分子量:Mn23000、Tg:4℃)
エポキシ樹脂:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製828、分子量:370、粘度:138dPa・s/25℃)
硬化剤:2−エチル−4−メチルイミダゾール(四国化成工業社製2E4MZ、融点:40℃) パーオキサイド(B−1):t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート(性状:液体、1分間半減期温度:155.0℃、10時間半減期温度:95.0℃)
パーオキサイド(B−2):1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン(日油株式会社製パーヘキサHC、性状:液体、1分間半減期温度:149.2℃、10時間半減期温度:87.1℃)
パーオキサイド(B−3):t-ブチルパーオキシー2-エチルヘキサノエート(日油株式会社製パーブチルO、性状:液体、1分間半減期温度:134℃、10時間半減期温度:72.1℃)
パーオキサイド(B−4):1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(日油株式会社製パーオクタO、性状:液体、1分間半減期温度:124.3℃、10時間半減期温度:65.3℃)
パーオキサイド(B−5):t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート(日油株式会社製パーヘキシルO、性状:液体、1分間半減期温度:90.1℃、10時間半減期温度:69.9℃)
パーオキサイド(B−6):ジベンゾイルパーオキサイド(日油株式会社製ナイパーBW、性状:粉体、1分間半減期温度:130℃、10時間半減期温度:73.6℃)
パーオキサイド(B−7):ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート(日油株式会社製パーロイルTCP、性状:粉体、1分間半減期温度:92.1℃、10時間半減期温度:40.8℃)
導電粉末:42Sn-58Bi組成の球状粒子(平均粒径(D50):13.12μm)
Compound having ethylenically unsaturated bond (A-1): 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate (Aronix manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
M-5700, molecular weight: 222, Tg: 17 ° C., viscosity: 1.65 dPa · s / 25 ° C.)
Compound (A-2) having an ethylenically unsaturated bond: Polybutadiene urethane acrylate (BR-45UAS manufactured by Light Chemical Industries, Ltd., molecular weight: Mw 3000, viscosity: 375 dPa · s / 25 ° C.)
Binder: Polyester resin (byron 500 manufactured by Toyobo Co., Ltd., molecular weight: Mn 23000, Tg: 4 ° C.)
Epoxy resin: bisphenol A type epoxy resin (828, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, molecular weight: 370, viscosity: 138 dPa · s / 25 ° C.)
Curing agent: 2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ, Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., melting point: 40 ° C.) Peroxide (B-1): t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate (property: liquid, 1 minute half-life temperature) : 155.0 ° C, 10 hour half-life temperature: 95.0 ° C)
Peroxide (B-2): 1,1-di (t-hexylperoxy) cyclohexane (Perhexa HC manufactured by NOF Corporation, property: liquid, 1 minute half-life temperature: 149.2 ° C., 10 hour half-life temperature : 87.1 ° C)
Peroxide (B-3): t-Butylperoxy-2-ethylhexanoate (NOF Corporation Perbutyl O, property: liquid, 1 minute half-life temperature: 134 ° C., 10 hour half-life temperature: 72.1 ℃)
Peroxide (B-4): 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate (Perocta O manufactured by NOF Corporation, property: liquid, half-life temperature for 12 minutes: 124.3 ℃, 10 hours half-life temperature: 65.3 ℃)
Peroxide (B-5): t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate (Perhexyl O manufactured by NOF Corporation, property: liquid, 1 minute half-life temperature: 90.1 ° C., 10 hour half-life temperature: 69.9 ° C)
Peroxide (B-6): Dibenzoyl peroxide (Nippa Nipper BW, properties: powder, 1 minute half-life temperature: 130 ° C., 10-hour half-life temperature: 73.6 ° C.)
Peroxide (B-7): Di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate (Perroyl TCP manufactured by NOF Corporation, properties: powder, 1 minute half-life temperature: 92.1 ° C., 10 hour half-life (Temperature: 40.8 ° C)
Conductive powder: spherical particles of 42Sn-58Bi composition (average particle diameter (D50): 13.12 μm)

表1に示す結果から明らかなように、エチレン性不飽和結合を有する化合物とパーオキサイドを用いることにより低温、低圧かつ短時間の導電接着が可能なことが確認された。   As is clear from the results shown in Table 1, it was confirmed that low temperature, low pressure, and short-time conductive bonding was possible by using a compound having an ethylenically unsaturated bond and peroxide.

また、液状のパーオキサイドを用いることにより、増粘率が低下し、保存安定性が良好となることが確認された。   It was also confirmed that the use of liquid peroxide reduces the viscosity increase rate and improves the storage stability.

Claims (5)

(A)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、
(B)パーオキサイドと、
(C)導電粉末導電粉末と、を含むことを特徴とする導電性接着剤。
(A) a compound having an ethylenically unsaturated bond;
(B) peroxide,
(C) Conductive powder Conductive adhesive comprising conductive powder.
前記(B)パーオキサイドが液状であることを特徴とする請求項1に記載の導電性接着剤。   The conductive adhesive according to claim 1, wherein the (B) peroxide is liquid. 前記(C)導電粉末が、低融点導電粉末であることを特徴とする請求項1または2に記載の導電性接着剤。   The conductive adhesive according to claim 1, wherein the conductive powder (C) is a low melting point conductive powder. 電子部品の導電接着用に使用されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性接着剤。   The conductive adhesive according to claim 1, wherein the conductive adhesive is used for conductive bonding of electronic parts. 請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性接着剤を用いて部材同士が電気的に接続されてなる電子部品。   The electronic component by which members are electrically connected using the conductive adhesive of any one of Claims 1-4.
JP2015112861A 2014-06-03 2015-06-03 Conductive adhesive and electronic component Pending JP2016035044A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015112861A JP2016035044A (en) 2014-06-03 2015-06-03 Conductive adhesive and electronic component

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014115315 2014-06-03
JP2014115315 2014-06-03
JP2014162882 2014-08-08
JP2014162882 2014-08-08
JP2015112861A JP2016035044A (en) 2014-06-03 2015-06-03 Conductive adhesive and electronic component

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016035044A true JP2016035044A (en) 2016-03-17

Family

ID=55523110

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015112861A Pending JP2016035044A (en) 2014-06-03 2015-06-03 Conductive adhesive and electronic component

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2016035044A (en)

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001164210A (en) * 1999-12-13 2001-06-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd Anisotropic conductive film and electronic equipment using the same
JP2002164389A (en) * 2000-11-29 2002-06-07 Hitachi Chem Co Ltd Film-like adhesive for connecting circuit, connecting structure of circuit terminal, and method for connecting the same
JP2003105308A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd Anisotropic electroconductive adhesive
WO2005111168A1 (en) * 2004-05-19 2005-11-24 Bridgestone Corporation Adhesive agent composition and adhesive film for electronic component
WO2009041445A1 (en) * 2007-09-25 2009-04-02 Three Bond Co., Ltd. Anaerobically curable composition
JP2009277652A (en) * 2008-04-17 2009-11-26 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connection material and connection structure for circuit member
JP2009299011A (en) * 2008-06-16 2009-12-24 Fujikura Kasei Co Ltd Adhesive composition and anisotropically electroconductive adhesive containing the same
JP2010226140A (en) * 2010-06-15 2010-10-07 Sony Chemical & Information Device Corp Method of manufacturing connection structure
JP2012186161A (en) * 2011-02-17 2012-09-27 Sekisui Chem Co Ltd Anisotropic conductive material, connection structure, and method for manufacturing connection structure
WO2012141299A1 (en) * 2011-04-15 2012-10-18 電気化学工業株式会社 Curable composition
JP2013124330A (en) * 2011-12-15 2013-06-24 Dexerials Corp Conductive adhesive and connecting method for electronic part
JP2013125598A (en) * 2011-12-13 2013-06-24 Sumitomo Electric Ind Ltd Film-like anisotropic conductive adhesive
JP2014084395A (en) * 2012-10-23 2014-05-12 Hitachi Chemical Co Ltd Electroconductive adhesive composition, electroconductive adhesive-fitted metal conductor wire, connection body, solar cell module, and method for manufacturing the same

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001164210A (en) * 1999-12-13 2001-06-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd Anisotropic conductive film and electronic equipment using the same
JP2002164389A (en) * 2000-11-29 2002-06-07 Hitachi Chem Co Ltd Film-like adhesive for connecting circuit, connecting structure of circuit terminal, and method for connecting the same
JP2003105308A (en) * 2001-09-28 2003-04-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd Anisotropic electroconductive adhesive
WO2005111168A1 (en) * 2004-05-19 2005-11-24 Bridgestone Corporation Adhesive agent composition and adhesive film for electronic component
WO2009041445A1 (en) * 2007-09-25 2009-04-02 Three Bond Co., Ltd. Anaerobically curable composition
JP2009277652A (en) * 2008-04-17 2009-11-26 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connection material and connection structure for circuit member
JP2009299011A (en) * 2008-06-16 2009-12-24 Fujikura Kasei Co Ltd Adhesive composition and anisotropically electroconductive adhesive containing the same
JP2010226140A (en) * 2010-06-15 2010-10-07 Sony Chemical & Information Device Corp Method of manufacturing connection structure
JP2012186161A (en) * 2011-02-17 2012-09-27 Sekisui Chem Co Ltd Anisotropic conductive material, connection structure, and method for manufacturing connection structure
WO2012141299A1 (en) * 2011-04-15 2012-10-18 電気化学工業株式会社 Curable composition
JP2013125598A (en) * 2011-12-13 2013-06-24 Sumitomo Electric Ind Ltd Film-like anisotropic conductive adhesive
JP2013124330A (en) * 2011-12-15 2013-06-24 Dexerials Corp Conductive adhesive and connecting method for electronic part
US20140318709A1 (en) * 2011-12-15 2014-10-30 Dexerials Corporation Electrically conductive adhesive agent, and method for connecting electronic component
JP2014084395A (en) * 2012-10-23 2014-05-12 Hitachi Chemical Co Ltd Electroconductive adhesive composition, electroconductive adhesive-fitted metal conductor wire, connection body, solar cell module, and method for manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI669374B (en) Curable composition and electronic components
JP5152191B2 (en) Circuit connection material, connection structure and manufacturing method thereof
EP1608699A2 (en) Thermally conductive adhesive composition and process for device attachment
KR20140148333A (en) Anisotropic conductive paste and printed wiring board using the same
JP2017101131A (en) Conductive adhesive, cured product and electronic component
JP6710120B2 (en) Conductive adhesive, electronic component, and method for manufacturing electronic component
JP2020164744A (en) Conductive adhesive and syringe
JP2017145382A (en) Conductive adhesive and method for producing the same, cured product and electronic component
JP4380328B2 (en) Circuit connection material, film-like circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
JP2018168336A (en) Conductive adhesive, cured product, electronic component and method for manufacturing electronic component
JP2018060788A (en) Conductive adhesive, cured product and electronic component
JP4794704B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure, and circuit terminal connection method
KR102564310B1 (en) Conductive adhesive, cured product, electronic component and method for producing electronic component
JP2011204898A (en) Adhesive composition, and connection structure for circuit member
KR20170038691A (en) Conductive adhesive and method for production thereof, cured product, and electronic component
JP2016035044A (en) Conductive adhesive and electronic component
JP2017069543A (en) Connection structure and electronic component
JP4831086B2 (en) Rubber-modified phenoxy resin, resin composition using the same, adhesive for circuit member connection, and circuit connection structure
JP2016148012A (en) Curable composition and electronic component
KR20190058614A (en) Connection structure, circuit connecting member and adhesive composition
WO2013154203A1 (en) Circuit connection material, connection structure, and fabrication method for same
JP2017066393A (en) Electrically conductive adhesive and electronic component
JP2023154283A (en) Adhesive composition, adhesive film for circuit connection, circuit connection structure and method for manufacturing the same
JP2022062383A (en) Adhesive film for circuit connection, circuit connection structure, and manufacturing method thereof
TW201720887A (en) Conductive adhesive and its production method, cured product, and electronic parts providing a conductive adhesive capable of maintaining excellent conductivity and improving adhesion with members

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180426

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190402

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20191105