JPWO2006018925A1 - Semiconductor integrated device and IC card and portable information terminal using the same - Google Patents

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大西 忠志
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孝徳 山添
孝徳 山添
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良樹 川尻
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    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • G11C16/3436Arrangements for verifying correct programming or erasure

Abstract

不揮発性メモリの更新中に発生した不十分な消去、書込を検出することが可能な信頼性の高い半導体集積装置並びにそれを用いたICカード及び携帯情報端末が提供される。複数のブロックに分割されて成るメモリセル群1001を持つ不揮発性メモリ904が備えられ、ブロックのデータ列1010にフラグ1011が付加され、データ列が消去、書込、又は消去・書込される毎にフラグも消去、書込、又は消去・書込される。設定した2種類の定電流がフラグのメモリセルに与えられ、そのときにメモリセルが呈する電圧を用いてフラグ判定部1007が消去、書込、又は消去・書込の正常、異常を判定する。異常が検出されたデータに対しては、再度消去、書込、又は消去・書込が行なわれ、正常なデータが得られる。Provided are a highly reliable semiconductor integrated device capable of detecting insufficient erasure and writing generated during updating of a nonvolatile memory, and an IC card and a portable information terminal using the same. A non-volatile memory 904 having a memory cell group 1001 divided into a plurality of blocks is provided, and a flag 1011 is added to the data string 1010 of the block, and each time a data string is erased, written, or erased / written. The flag is also erased, written, or erased / written. Two types of set constant currents are applied to the flag memory cell, and the flag determination unit 1007 determines whether the erasure, writing, or normality / abnormality of erasing / writing is performed using the voltage exhibited by the memory cell. The data in which the abnormality is detected is erased, written, or erased / written again, and normal data is obtained.

Description

本発明は、RFID(Radio Frequency IDentification)や非接触IC(Integrated Circuit)カード等に用いられるLSI(Large Scale Integrated circuit)に適用して好適な半導体集積装置に係り、特に不揮発性メモリを有する半導体集積装置並びにそれを用いたICカード及び携帯情報端末に関する。   The present invention relates to a semiconductor integrated device suitable for application to an LSI (Large Scale Integrated circuit) used for an RFID (Radio Frequency IDentification), a non-contact IC (Integrated Circuit) card, etc., and more particularly to a semiconductor integrated device having a nonvolatile memory. The present invention relates to an apparatus, an IC card using the same, and a portable information terminal.

近年、半導体集積回路技術の進展と共に、IC或いはLSIの小片をアンテナと一緒にカードに搭載して構成されるRFID(移動体識別装置)や非接触ICカードが急速に市場を拡大しつつある。RFIDや非接触ICカードは、リーダライタや質問器と無線でデータの授受を行なうが自身では電源を持たず、アンテナ経由で電力の供給を受ける。リーダライタの通信領域の外では電源断となるので、データの記録に通常、不揮発性メモリが用いられる。   In recent years, with the progress of semiconductor integrated circuit technology, RFID (mobile identification device) and non-contact IC cards configured by mounting IC or LSI pieces on a card together with an antenna are rapidly expanding the market. An RFID or a non-contact IC card exchanges data wirelessly with a reader / writer or an interrogator, but does not have a power supply by itself and receives power supply via an antenna. Since the power is cut off outside the communication area of the reader / writer, a nonvolatile memory is usually used for data recording.

上記のような電源事情から、不揮発性メモリの書換処理の途中で電源がチップの動作条件以下に低下したり、途絶えたりすることがあり得、記憶すべきデータの一部が消失する等の不都合が起こる場合がある。   Due to the power supply situation as described above, the power supply may drop below the operating conditions of the chip during the rewriting process of the nonvolatile memory, or may be interrupted, and inconvenience such as loss of some data to be stored May happen.

電源断等によるデータの消失を防止するために、一つの意味のあるデータの集合に対して、一つの有効/無効を表す情報(フラグ)を添付しておき、この有効/無効を表す情報によって、対応する上記意味のあるデータの集合の有効/無効を判定するようにした不揮発性メモリの例が特許文献1に開示されている。   In order to prevent data loss due to power interruption or the like, information (flag) indicating one validity / invalidity is attached to one meaningful data set, and the information representing the validity / invalidity is attached. Patent Document 1 discloses an example of a non-volatile memory that determines validity / invalidity of a corresponding set of meaningful data.

また、ブロック単位で分割されており、更にそのブロックがユニット単位に分割され、ブロックで消去し、ユニット単位で書込を行なう不揮発性メモリにおいて、ユニット毎に処理状態を示す情報を付加する例が特許文献2に開示されている。この例では、データ更新中の障害により更新処理が中断したときの処理内容を記憶しておくので、復帰した場合に上記処理内容を示す情報を参照することによって、中断した更新処理が続行される。   In addition, there is an example in which information indicating a processing state is added to each unit in a non-volatile memory that is divided in units of blocks, further divided into units, erased in units of blocks, and written in units of units. It is disclosed in Patent Document 2. In this example, since the processing content when the update processing is interrupted due to a failure during data update is stored, the interrupted update processing is continued by referring to the information indicating the processing content when returning. .

また、特許文献3では、書込み消去中のフラッシュメモリが電源遮断においてメモリセルがデプリート状態になり、読み出し不良にらない為に、電源遮断直後にメモリセル閾値電圧を高く設定するための書き戻し処理をする半導体記憶装置の例が開示されている。   Further, in Patent Document 3, a write-back process for setting the memory cell threshold voltage to a high value immediately after power-off is performed in order to prevent a memory cell from being in a depleted state when the flash memory being written / erased is turned off and causing a read failure. An example of a semiconductor memory device is disclosed.

また、特許文献4では、メモリカードで電源端子とは別に、電源遮断を検知する端子を設けて、カードが引き抜かれるのを事前に検知し、完全に電源遮断される前に自らで終了処理を行なう半導体処理装置の例が開示されている。   Further, in Patent Document 4, a memory card is provided with a terminal for detecting power interruption separately from the power terminal, and it is detected in advance that the card is pulled out, and the termination process is performed by itself before the power is completely shut off. An example of a semiconductor processing apparatus to perform is disclosed.

更に、特許文献3,4には、電源発生を記憶する電源遮断フラグ或いは処理が途中で終わっているブロックであることを表す識別フラグを設けることが記載されている。   Further, Patent Documents 3 and 4 describe that a power cut-off flag for storing the generation of power or an identification flag indicating that the block is in the middle of processing are provided.

特開2001−249855号公報JP 2001-249855 A 特開2002−318733号公報JP 2002-318733 A 特開2004−118908号公報JP 2004-118908 A 特開2004−295724号公報JP 2004-295724 A

初めに、非接触ICカードを例に、外部から電源が供給される装置の課題を説明する。図14に非接触ICカードの一構成例を示す。一般的に、非接触ICカードは、非接触ICカード用LSI900にアンテナコイル909を接続した構成となっている。非接触ICカード用LSI900は、LSI全体を制御・処理するCPU(Central Processing Unit)901を中心に、プログラムや静的なパラメータを記憶しておくROM(Read Only Memory)902、動的なワークエリアとして使用されるRAM(Random Access Memory)903、情報の記憶・保持に使用される不揮発性メモリ910、暗号処理の高速化を目的とする暗号コプロセッサ905、耐タンパ性(改竄防止能力)の向上やチップ誤動作を防止するセキュリティ回路906、チップ全体に電源を供給する電源回路907、非接触による通信や電力受信を実現するRF(Radio Frequency)インタフェース908等で構成されている。   First, the problem of a device to which power is supplied from the outside will be described using a non-contact IC card as an example. FIG. 14 shows a configuration example of a non-contact IC card. Generally, a non-contact IC card has a configuration in which an antenna coil 909 is connected to a non-contact IC card LSI 900. A non-contact IC card LSI 900 includes a CPU (Central Processing Unit) 901 for controlling and processing the entire LSI, a ROM (Read Only Memory) 902 for storing programs and static parameters, a dynamic work area. RAM (Random Access Memory) 903 used as storage, non-volatile memory 910 used for information storage / retention, cryptographic coprocessor 905 for speeding up cryptographic processing, tamper resistance (tamper resistance) improvement And a security circuit 906 that prevents malfunction of the chip, a power supply circuit 907 that supplies power to the entire chip, an RF (Radio Frequency) interface 908 that realizes non-contact communication and power reception, and the like.

また、非接触ICカードに一次電池や二次電池等の電源を実装することができないため、通常、非接触ICカードの電源は、アンテナコイル909で受信したキャリア信号を整流することによって生成される。なお、リーダライタ(図示せず)からのキャリア信号にデータが搭載され、更に非接触ICカードはこのキャリア信号を変調してリーダライタにデータを送信する。   In addition, since a power source such as a primary battery or a secondary battery cannot be mounted on the non-contact IC card, the power source of the non-contact IC card is usually generated by rectifying the carrier signal received by the antenna coil 909. . Data is mounted on a carrier signal from a reader / writer (not shown), and the non-contact IC card modulates this carrier signal and transmits the data to the reader / writer.

このことを図を用いて説明する。図15Aにおいて、リーダライタ(R/W)2から放射された電磁波による磁束3が非接触ICカード4を通過する。このとき非接触ICカード4のアンテナ909における磁界強度は、図15Bに示すように、リーダライタ2からの距離に従って低下する。この電界強度の電磁波を受信して得られる整流後の電源電圧は、図15Cに示すように距離に従って低下する。LSI900が正常に動作する最低の電圧以上の電源電圧が得られる距離で通信が可能となる。この範囲が図15Cで通信領域として示される。電磁波によって送信される信号は図16のように、キャリア信号5(周波数は例えば13.56MHz)からなり、データが送信される期間6でキャリア信号5が例えばASK(Amplitude Shift Keying)変調を受け、キャリア信号5にデータによる包絡線7が形成される。   This will be described with reference to the drawings. In FIG. 15A, the magnetic flux 3 due to the electromagnetic wave radiated from the reader / writer (R / W) 2 passes through the non-contact IC card 4. At this time, the magnetic field intensity at the antenna 909 of the non-contact IC card 4 decreases according to the distance from the reader / writer 2 as shown in FIG. 15B. The rectified power supply voltage obtained by receiving the electromagnetic wave having the electric field strength decreases with distance as shown in FIG. 15C. Communication is possible at a distance where a power supply voltage equal to or higher than the lowest voltage at which the LSI 900 operates normally can be obtained. This range is shown as a communication area in FIG. 15C. As shown in FIG. 16, the signal transmitted by the electromagnetic wave consists of a carrier signal 5 (frequency is 13.56 MHz, for example), and the carrier signal 5 is subjected to, for example, ASK (Amplitude Shift Keying) modulation in the period 6 during which data is transmitted. An envelope 7 made of data is formed on the carrier signal 5.

このように、非接触ICカードは、リーダライタの通信領域の外に位置する場合には、電力が不足或いは無い状態となる。従って、情報を記憶しておくために、記憶するための電力が不要な不揮発性メモリを搭載することが必須条件となる。   As described above, when the non-contact IC card is located outside the communication area of the reader / writer, the power is insufficient or absent. Therefore, in order to store information, it is essential to install a nonvolatile memory that does not require power for storage.

こういった非接触ICカード等、不揮発性メモリを搭載している装置の場合、不揮発性メモリの書換処理(消去処理、書込処理、及び一旦消去してから書込を行なう消去・書込処理を含む)の途中で、電源電圧がチップの動作条件以下に低下したり、途絶えたりすることが問題となる。   In the case of a device equipped with a non-volatile memory, such as a non-contact IC card, a non-volatile memory rewriting process (an erasing process, a writing process, and an erasing / writing process in which data is erased once and then written) In the middle of the process, the power supply voltage drops below the operating condition of the chip or stops.

特に、非接触ICカードが交通用乗車券やイベント用チケットとして使用された場合、非接触ICカードは、人が手に持って操作することになり、システムとしてLSIチップの状態を管理することができなくなり、特許文献3、4にあるような電源遮断を事前に検知し、完全に電源遮断される前に処理することはできない。その様子を図17に示す。リーダライタ2の電磁波放射によって通信領域8が形成されている。非接触ICカード4が人手の操作で軌跡9のように動くとき、通信領域8に突入するA点から通信領域8を離れるB点の間で通信可能であるが、人手の操作が早い場合、この間に未だ不揮発性メモリの書換が終了しないことが起こり得る。そのため、上記のような問題への対応が必須となる。   In particular, when a non-contact IC card is used as a traffic ticket or an event ticket, the non-contact IC card is operated by being held by a person, and the system can manage the state of the LSI chip. It is impossible to detect the power shutdown as in Patent Documents 3 and 4 in advance, and it is not possible to process before the power is completely shut down. This is shown in FIG. A communication area 8 is formed by electromagnetic radiation of the reader / writer 2. When the non-contact IC card 4 moves like a locus 9 by manual operation, communication is possible between the point A that enters the communication area 8 and the point B that leaves the communication area 8, but when the manual operation is fast, During this time, rewriting of the nonvolatile memory may not be completed yet. Therefore, it is essential to deal with the above problems.

対応策の一つとして、誤り検出符合や誤り検出・訂正符号の導入が考えられる。しかし、EEPROM等の不揮発性メモリの書換処理は、数ミリ秒の時間を必要とするため、経時変化等も考えると、上記の誤り検出符合や誤り検出・訂正符号が期待通りに効果を発揮しないことが起こり得る。   As one of countermeasures, introduction of error detection codes and error detection / correction codes can be considered. However, since rewriting processing of a nonvolatile memory such as EEPROM requires several milliseconds, the above error detection code and error detection / correction code do not exhibit the effect as expected in consideration of changes over time. Can happen.

別の対応策として、記憶する情報を2面バッファ化する方法が考えられる。この方法は、2面バッファの選択情報を示すフラグを追加しておき、選択情報を示すフラグの内容によって、2つのバッファに記憶された情報から、有効な情報を選択すると共に、無効と判断したバッファを新しい情報を書き換える方式である。この方法は、選択情報を示すフラグさえ正確であれば、目的とする情報を更新中に、電源の中断が発生しても、必ず更新前の情報に戻せる特長を持つ。特許文献1、2の不揮発性メモリは、このような2面バッファを採用した記憶装置の例である。しかし、選択情報を示すフラグを更新中に電源の中断が発生して、選択情報を示すフラグが不定状態に陥った場合が問題となる。   As another countermeasure, a method of buffering information to be stored in two planes can be considered. In this method, a flag indicating the selection information of the two-surface buffer is added, and valid information is selected from the information stored in the two buffers according to the content of the flag indicating the selection information, and it is determined to be invalid. This is a method for rewriting new information in the buffer. This method has a feature that even if the flag indicating the selection information is accurate, it can always return to the information before the update even if the power supply is interrupted while the target information is being updated. The nonvolatile memories of Patent Documents 1 and 2 are examples of a storage device that employs such a two-surface buffer. However, there is a problem when the power supply is interrupted while the flag indicating the selection information is updated, and the flag indicating the selection information falls into an indefinite state.

ここで、より詳細な説明として、不揮発性メモリの動作について、具体的に説明する。   Here, the operation of the nonvolatile memory will be specifically described as a more detailed description.

図18A、18B、18Cに不揮発性メモリの1つであるMONOS(Metal Oxide Nitride Oxide Semiconductor)メモリセルを使用して構成したEEPROM(Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory)の動作例を示す。メモリセルは、MOS(Metal Oxide Semiconductor)スイッチT1とMONOSメモリT2とから成る。   18A, 18B, and 18C show an example of operation of an EEPROM (Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory) configured using a MONOS (Metal Oxide Nitride Oxide Semiconductor) memory cell which is one of nonvolatile memories. The memory cell includes a MOS (Metal Oxide Semiconductor) switch T1 and a MONOS memory T2.

図18Aに示す消去時において、選択されたメモリセル1では、MOSスイッチT1のゲートCgに1.5Vが、MONOSメモリT2のゲートMgに−8.5Vが、ソース線Sに1.5Vがそれぞれ印加され、ドレイン線DがH−Z(電位を加えないオープン状態)に設定され、Well(ウェル)が1.5Vに設定される。この状態で、メモリT2の窒化膜即ちメモリセル1の窒化膜(図の平行斜線部分)にホールが注入され、メモリT2の閾値電圧(以下「Vt」という)即ちメモリセル1の閾値電圧が0V未満になる。この消去状態が通常、情報“1”として記憶される。   At the time of erasing shown in FIG. 18A, in the selected memory cell 1, 1.5V is applied to the gate Cg of the MOS switch T1, −8.5V is applied to the gate Mg of the MONOS memory T2, and 1.5V is applied to the source line S. The drain line D is set to HZ (open state in which no potential is applied), and the well (well) is set to 1.5V. In this state, holes are injected into the nitride film of the memory T2, that is, the nitride film of the memory cell 1 (parallel hatched portion in the figure), and the threshold voltage of the memory T2 (hereinafter referred to as “Vt”), that is, the threshold voltage of the memory cell 1 is 0V. Less than. This erased state is normally stored as information “1”.

図18Bに示す書込時には、メモリセル1では、スイッチT1のゲートCgに1.5Vが、メモリT2のゲートMgに1.5Vが、ソース線Sに−10.5Vがそれぞれ印加され、ドレイン線DがH−Z(電位を加えないオープン状態)に設定され、ウェルWellが−10.5Vに設定される。この状態で、メモリセル1の窒化膜に電子が注入され、メモリセルのVtが0V以上になる。この書込状態が通常、情報“0”として記憶される。なお、書込を行なうとき、一旦消去してから書込を行なう場合があり、これを消去・書込ということとする。   At the time of writing shown in FIG. 18B, in the memory cell 1, 1.5V is applied to the gate Cg of the switch T1, 1.5V is applied to the gate Mg of the memory T2, and −10.5V is applied to the source line S. D is set to HZ (open state in which no potential is applied), and the well Well is set to -10.5V. In this state, electrons are injected into the nitride film of the memory cell 1, and the Vt of the memory cell becomes 0V or more. This writing state is normally stored as information “0”. When writing, there is a case where writing is performed after erasing once, and this is called erasing / writing.

図18Cに示す読出時に、メモリセル1では、メモリT2のゲートMgが0Vに設定され、スイッチT1のゲートCgに1.5Vが、ドレイン線Dに1.0Vがそれぞれ印加され、ソース線S及びウェルWellが0Vに設定される。   At the time of reading shown in FIG. 18C, in the memory cell 1, the gate Mg of the memory T2 is set to 0V, 1.5V is applied to the gate Cg of the switch T1, and 1.0V is applied to the drain line D. Well Well is set to 0V.

消去、書込時のメモリセルのVtの様子を図19に示す。読出時、図19で示されるように、メモリセルが消去状態の場合には、メモリセル電流(以下「Ids」という)が流れドレイン線Dの電圧が低下する。メモリセルが書込時状態のときには、Idsが流れず、ドレイン線Dの電圧は低下しないこととなる。このIdsによるドレイン線D電圧の低下を検出することにより、読出情報の“1”、“0”が判定される。   A state of Vt of the memory cell at the time of erasing and writing is shown in FIG. At the time of reading, as shown in FIG. 19, when the memory cell is in the erased state, a memory cell current (hereinafter referred to as “Ids”) flows and the voltage of the drain line D decreases. When the memory cell is in a writing state, Ids does not flow, and the voltage of the drain line D does not decrease. By detecting the decrease in the drain line D voltage due to this Ids, “1” and “0” of the read information are determined.

ところで、不揮発性メモリは、書換回数及び使用年数に対してVtに劣化が生じる性質がある。図20にその様子を示した。即ち、劣化により、保存時間と共に消去状態にあるメモリセルのVtがマイナス電圧から0Vに移動し、書込状態にあるメモリセルのVtがプラス電圧から0V方向へ移動することとなる。   By the way, the non-volatile memory has the property that Vt deteriorates with respect to the number of rewrites and the years of use. FIG. 20 shows the situation. That is, due to the deterioration, the Vt of the memory cell in the erased state moves from the negative voltage to 0V along with the storage time, and the Vt of the memory cell in the written state moves from the positive voltage in the 0V direction.

通常、消去状態をこれ以上遅い速度では読み出してはならないとする読出最大動作速度(fmax)を定義する場合、書換回数及び使用年数による消去状態のVtの劣化によるIdsの減少を考慮して読出最大動作速度が定義される。例えば10年間を保証する場合、図20の例をとると、消去状態にあるIdsが10年後に10μAとなって読出最大動作速度が10MHzとなることを示している。当然のことながら、消去直後のIdsは数十μAで数十MHzの読出動作が可能である。   Normally, when defining the maximum read operation speed (fmax) in which the erased state should not be read at a slower speed, the maximum read is considered in consideration of the decrease in Ids due to the deterioration of Vt in the erased state due to the number of rewrites and years of use. The operating speed is defined. For example, when guaranteeing 10 years, the example of FIG. 20 shows that the Ids in the erased state becomes 10 μA after 10 years and the maximum read operation speed becomes 10 MHz. As a matter of course, Ids immediately after erasure can be read out at several tens of μA and several tens of MHz.

また、書込状態をこれ以上速い速度では読み出してはならないとする読出最低動作速度(fmin)も同様に定義される。図20の例で10年間を保証する場合、書込状態にあるIdsが10年後に1μAとなって、読出最低動作速度が1MHzとなることを示している。当然のことながら、書込直後のIdsは1μA以下で1MHz以下で読出が可能である。   Similarly, the minimum read operation speed (fmin) that the write state should not be read at a higher speed is defined as well. When guaranteeing 10 years in the example of FIG. 20, the Ids in the write state becomes 1 μA after 10 years, and the minimum read operation speed is 1 MHz. As a matter of course, the Ids immediately after writing can be read at 1 μA or less and 1 MHz or less.

ここで、消去、書込が不十分であった場合(消去、書込の電圧が不足の場合、又は消去、書込の時間が不足の場合)のVtを図21に示した。図21から分かるように、保存時間と共に不十分な消去のメモリセルのVtは、正常な消去のメモリセルのVtよりも高い電圧になり、また不十分な書込のメモリセルのVtは、正常な書込のメモリセルのVtよりも低い電圧になる。なお、以下では、メモリセルが正常な消去となっている場合を消去処理完了状態、メモリセルが正常な書込となっている場合を書込処理完了状態ということとする。   Here, FIG. 21 shows Vt when erasing and writing are insufficient (when the voltage for erasing and writing is insufficient, or when the time for erasing and writing is insufficient). As can be seen from FIG. 21, the Vt of the insufficiently erased memory cell becomes higher than the Vt of the normally erased memory cell with the storage time, and the Vt of the insufficiently written memory cell is normal. The voltage is lower than Vt of the memory cell for which data is written. In the following description, a case where the memory cell is normally erased is referred to as an erasing process completion state, and a case where the memory cell is normally written is referred to as a writing process completion state.

不十分な(即ち、異常な)消去又は書込の場合、消去状態の読出動作速度が遅くなり、設定した読出最大動作速度ではデータが読み取れないこととなる。また、書込状態の読出動作速度が早くなり、設定した読出最低動作速度ではデータが読み取れないこととなる。データが読み取れなくなる時期は、消去、書込の不十分の程度により、消去、書込直後である場合や、或いは数日後、数年後である場合がある。   In the case of insufficient (that is, abnormal) erasing or writing, the read operation speed in the erased state becomes slow, and data cannot be read at the set maximum read operation speed. In addition, the read operation speed in the writing state is increased, and data cannot be read at the set minimum read operation speed. Depending on the degree of inadequate erasure and writing, the time when data cannot be read may be immediately after erasing or writing, or after several days or years.

上述のように、特に非接触ICカードやRFIDの例であるRFタグのように、リーダライタ又はリーダと呼ばれる電磁波送受信機から送信される電磁波を整流して、非接触ICカード又はRFタグ内LSIの電源を生成する場合に、この不十分な消去、書込が発生する可能性がある。   As described above, a non-contact IC card or an LSI in an RF tag is rectified by electromagnetic waves transmitted from an electromagnetic wave transmitter / receiver called a reader / writer or a reader, such as an RF tag as an example of a non-contact IC card or RFID. In the case of generating the power source of this, this insufficient erasure and writing may occur.

この場合、リーダライタ又はリーダと非接触ICカード又はRFタグとの距離によって、非接触ICカード又はRFタグ内のLSI電源が変動したり、急激に電源が無くなったりすることが発生し、EEPROMの消去、書込の電圧が変動し、或いは消去、書込中に電源断となることにより、不十分な消去、書込が発生することが避けられない。   In this case, depending on the distance between the reader / writer or reader and the non-contact IC card or RF tag, the LSI power supply in the non-contact IC card or RF tag may fluctuate or suddenly disappear, and the EEPROM power Insufficient erasure and writing are unavoidable due to fluctuations in erasing and writing voltages, or power interruption during erasing and writing.

本発明の目的は、不揮発性メモリの書換中に発生した不十分な消去、書込を検出することが可能な信頼性の高い半導体集積装置並びにそれを用いたICカード及び携帯情報端末を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a highly reliable semiconductor integrated device capable of detecting insufficient erasure and writing generated during rewriting of a nonvolatile memory, and an IC card and a portable information terminal using the same. There is.

上記目的を達成するための本発明の半導体集積装置は、不揮発性メモリを含む半導体集積装置であって、上記不揮発性メモリは、複数のブロックに分割されて成るメモリセル群と、複数のブロックの各々に備えられた、消去処理、書込処理、又は消去・書込処理による書換処理によって情報が記憶される第1の領域と、上記複数のブロックの各々に備えられた、書換処理の状態を示す信号が上記書換処理によって記憶される第2の領域と、第2の領域から読み出された信号を入力してブロックにおける書換処理の状態の正常、異常を判定する判定回路とを具備しており、上記信号が少なくとも1ビットから成ることを特徴とする。   In order to achieve the above object, a semiconductor integrated device of the present invention is a semiconductor integrated device including a nonvolatile memory. The nonvolatile memory includes a memory cell group divided into a plurality of blocks, and a plurality of blocks. The first area in each of which the information is stored by the erase process, the write process, or the rewrite process by the erase / write process, and the state of the rewrite process provided in each of the plurality of blocks A second area in which a signal to be stored is stored by the rewrite process, and a determination circuit that inputs a signal read from the second area and determines whether the rewrite process in the block is normal or abnormal The signal is composed of at least one bit.

書換処理の状態を示す信号はフラグとなるものであり、本来記憶する情報に書換処理の状態を示すフラグが添付されることにより、電源の中断などによって発生する情報の正常/異常を明確にすることが可能になる。それにより、例えば、情報の再度の書換が行なわれ、半導体集積装置の信頼性が高められる。   The signal indicating the status of the rewriting process is a flag, and the normal / abnormal information generated by interruption of the power supply or the like is clarified by attaching the flag indicating the status of the rewriting process to the originally stored information. It becomes possible. Thereby, for example, information is rewritten again, and the reliability of the semiconductor integrated device is improved.

本発明によれば、不揮発性メモリの更新中に発生した不十分な消去、書込を検出することが可能になるので、不揮発性メモリを搭載する半導体集積装置の信頼性を向上させることが期待される。   According to the present invention, it is possible to detect insufficient erasure and writing that occurred during the update of the nonvolatile memory, so that it is expected to improve the reliability of the semiconductor integrated device equipped with the nonvolatile memory. Is done.

以下、本発明に係る半導体集積装置並びにそれを用いたICカード及び携帯情報端末を図面に示した実施形態を参照して更に詳細に説明する。なお、本実施形態を説明するための全図において、同一部材又は同種類の部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明を省略する。   Hereinafter, a semiconductor integrated device according to the present invention, an IC card using the same, and a portable information terminal will be described in more detail with reference to embodiments shown in the drawings. Note that in all the drawings for explaining the present embodiment, the same members or the same kinds of members are denoted by the same reference numerals, and the repeated description thereof is omitted.

本実施形態の半導体集積装置は不揮発性メモリを搭載しており、不揮発性メモリは複数のブロックに分割されている。   The semiconductor integrated device of this embodiment is equipped with a nonvolatile memory, and the nonvolatile memory is divided into a plurality of blocks.

ブロック毎に、情報(データ:Data)を記憶する第1の領域(データ領域)とブロックの書換処理の状態を示す信号(フラグ:Flag)を記憶する第2の領域(フラグ領域)が含まれ、消去処理、書込処理又は消去・書込処理、即ち書換処理がブロック単位で実施される。ブロック(Block)とは、不揮発性メモリに対して、消去、書き込み、消去/書き込みを行なう単位のことであり、ページ(Page)と呼ばれることもある。また、ブロック内のデータは、ユニット単位で読み出される。ユニット(Unit)とは、データを読出し、参照する最小単位であり、バイトやワードが割り当てられる。ブロックとユニットが同じ単位になることもある。   Each block includes a first area (data area) for storing information (data) and a second area (flag area) for storing a signal (flag: Flag) indicating the state of block rewrite processing. The erasing process, the writing process, or the erasing / writing process, that is, the rewriting process is performed in units of blocks. A block is a unit for erasing, writing, and erasing / writing to a nonvolatile memory, and is sometimes called a page. The data in the block is read out in units. A unit (Unit) is a minimum unit for reading and referring to data, and bytes and words are allocated. Blocks and units may be the same unit.

また、本願明細書において、不十分な(異常な)書込、消去という場合には、メモリセルに電子が十分に注入されていない、または、ホールが十分に注入されていないこと、すなわち、閾値電圧が所定値以上でないこと、または、閾値電圧が所定値以下でないことを意味するものとする。   Further, in the present specification, in the case of insufficient (abnormal) writing and erasing, electrons are not sufficiently injected into the memory cell or holes are not sufficiently injected. It means that the voltage is not higher than a predetermined value or the threshold voltage is not lower than a predetermined value.

データ領域に記憶されるデータが複数ビットからなり、フラグ領域に記憶されるフラグが1ビットである、ブロックのデータフォーマットの例を図1に示す。フラグ(a)がデータ列の後に配置される。電源中断などによって不十分な消去又は書込が発生した場合、1ビットフラグのメモリセルのVtは、同じブロックのデータ列のメモリセルと共に、図21に示したように、正常な消去のVtと正常な書込のVtの間の電圧になる。   FIG. 1 shows an example of a block data format in which data stored in the data area is composed of a plurality of bits and a flag stored in the flag area is 1 bit. Flag (a) is placed after the data string. When insufficient erasure or writing occurs due to power interruption or the like, Vt of the memory cell of the 1-bit flag is Vt of normal erasure as shown in FIG. It becomes a voltage between Vt of normal writing.

ここで、読出最大動作速度を10MHzとしてそのときの消去Ids=10μAであり、読出最低動作速度を1MHzとしてそのときの書込Ids=1μAであるとすると、正常に消去されているフラグを含むメモリセルのIdsは、10μA以上となり、正常に書込が行なわれているフラグを含むメモリセルのIdsは、1μA以下となる。   Here, assuming that the maximum read operation speed is 10 MHz and the erase Ids at that time is 10 μA, and the minimum read operation speed is 1 MHz and the write Ids at that time is 1 μA, a memory including a normally erased flag is included. The Ids of the cell is 10 μA or more, and the Ids of the memory cell including the flag that is normally written is 1 μA or less.

即ち、フラグのメモリセルは、正常に消去又は書込が行なわれていれば、消去に対してIds≧10μA、書込に対して1μA≧Idsとなる。読出最大動作速度及び読出最低動作速度でこのフラグのビットを読み出すことによって、書換データ列が正常に消去又は書込されたことを判定することができる。   That is, if the memory cell of the flag is normally erased or written, Ids ≧ 10 μA for erasure and 1 μA ≧ Ids for writing. By reading the bit of this flag at the maximum read operation speed and the minimum read operation speed, it can be determined that the rewrite data string has been normally erased or written.

図2にフラグビットを読み出して消去又は書込の正常/異常の判定を行なう回路の構成例を示す。回路は、2個のMOSトランジスタT3、T4によるカレントミラー回路と、NMOSスイッチT1とMONOSメモリT2によるフラグビットメモリセルと、判定回路2とからなる。カレントミラー回路は10μAと1μAを切り換えて出力し、その出力がメモリセルのドレイン線DLに接続される。判定回路2は、ラッチ回路(Latch)3、4、排他的否定論理和回路(EXNOR)5及びインバータ6から成り、ドレイン線DLの電圧を入力し、取込み信号Tim1、Tim2によって判定動作を行なう。   FIG. 2 shows a configuration example of a circuit that reads flag bits to determine whether erase or write is normal / abnormal. The circuit includes a current mirror circuit composed of two MOS transistors T3 and T4, a flag bit memory cell composed of an NMOS switch T1 and a MONOS memory T2, and a determination circuit 2. The current mirror circuit switches between 10 μA and 1 μA for output, and the output is connected to the drain line DL of the memory cell. The determination circuit 2 includes latch circuits (Latch) 3 and 4, an exclusive NOR circuit (EXNOR) 5 and an inverter 6. The determination circuit 2 inputs the voltage of the drain line DL and performs a determination operation based on the capture signals Tim 1 and Tim 2.

図2の回路を用いて行なうフラグビットの読出、判定の方法を以下に示す。まず、10μAの定電流をフラグビットメモリセルのドレイン線DLに供給し、メモリセルをオンさせると、正常な消去がされているとIds≧10μAになるのでフラグビットメモリセルのドレイン線DLは、0Vになり、インバータ6の出力はVddとなると同時に取込み信号Tim1が入力され、ラッチ回路3のQ1出力がVddにラッチされる。   A method for reading and determining flag bits using the circuit of FIG. 2 will be described below. First, when a constant current of 10 μA is supplied to the drain line DL of the flag bit memory cell and the memory cell is turned on, Ids ≧ 10 μA when normal erasing is performed, so the drain line DL of the flag bit memory cell is At the same time, the output of the inverter 6 becomes Vdd, and at the same time the take-in signal Tim1 is input, and the Q1 output of the latch circuit 3 is latched to Vdd.

不十分な消去又は書込、或いは正常な書込だった場合は、Ids<10μAとなるので、フラグビットメモリセルのドレイン線DLは、電源電圧Vddとなり、インバータ6の出力は0Vとなると同時に取込み信号Tim1が入力され、ラッチ回路3のQ1出力が0Vにラッチされる。   In the case of insufficient erasing or writing, or normal writing, Ids <10 μA, so that the drain line DL of the flag bit memory cell becomes the power supply voltage Vdd and the output of the inverter 6 becomes 0 V at the same time. The signal Tim1 is input, and the Q1 output of the latch circuit 3 is latched at 0V.

次に、1μAの定電流をフラグビットメモリセルのドレイン線DLに供給し、メモリセルをオンさせると、正常な書込がされているとIds≦1μAになるのでフラグビットメモリセルのドレイン線DLは、電源電圧Vddになり、インバータ6の出力は0Vとなると同時に取込み信号Tim2が入力され、ラッチ回路4のQ2出力が0Vにラッチされる。   Next, when a constant current of 1 μA is supplied to the drain line DL of the flag bit memory cell and the memory cell is turned on, Ids ≦ 1 μA when normal writing is performed, so the drain line DL of the flag bit memory cell Becomes the power supply voltage Vdd, the output of the inverter 6 becomes 0V, and at the same time the take-in signal Tim2 is inputted, and the Q2 output of the latch circuit 4 is latched at 0V.

不十分な書込又は消去、或いは正常な消去だった場合は、Ids>1μAとなりフラグビットメモリセルのドレイン線DLは、0Vとなり、インバータ6の出力はVddとなると同時に取込み信号Tim2が入力され、ラッチ回路4のQ2出力がVddにラッチされる。   In the case of insufficient writing or erasing or normal erasing, Ids> 1 μA, the drain line DL of the flag bit memory cell becomes 0 V, the output of the inverter 6 becomes Vdd, and at the same time, the capture signal Tim2 is input, The Q2 output of the latch circuit 4 is latched to Vdd.

なお、以上においてカレントミラー回路による定電流源が用いられるのは、様々なIdsに対してドレイン線DLの電圧が電源電圧Vdd又は0Vのいずれかしか取り得ないようにし、判定が確実に行なわれるようにするためである。   In the above, the constant current source by the current mirror circuit is used so that the voltage of the drain line DL can take only one of the power supply voltage Vdd and 0V with respect to various Ids so that the determination can be made reliably. It is to make it.

ここで、フラグビットが正常な消去がされた場合、1回目の10μA判定ではフラグビットメモリセルのドレイン線DLは0V、ラッチ回路3のQ1出力はVddとなり、2回目の1μA判定においてもフラグビットメモリセルのドレイン線DLは0V、ラッチ回路4のQ2出力はVddとなり、判定回路2の出力である排他的否定論理和回路5のフラグ読出し判定出力は、論理出力“1”(Vdd)となる。   Here, when the flag bit is normally erased, the drain line DL of the flag bit memory cell becomes 0V in the first 10 μA determination, and the Q1 output of the latch circuit 3 becomes Vdd, and the flag bit also in the second 1 μA determination. The drain line DL of the memory cell is 0 V, the Q2 output of the latch circuit 4 is Vdd, and the flag read determination output of the exclusive NOR circuit 5 that is the output of the determination circuit 2 is the logical output “1” (Vdd). .

また、フラグビットが正常な書込がされた場合、1回目の10μA判定ではフラグビットメモリセルのドレイン線DLはVdd、ラッチ回路3のQ1出力は0Vとなり、2回目の1μA判定においてもフラグビットメモリセルのドレイン線DLはVdd、ラッチ回路4のQ2出力は0Vとなり、排他的否定論理和回路5のフラグ読出し判定出力は、論理出力“1”(Vdd)となる。   When the flag bit is normally written, the drain bit DL of the flag bit memory cell is Vdd in the first 10 μA determination, and the Q1 output of the latch circuit 3 is 0 V. The flag bit is also in the second 1 μA determination. The drain line DL of the memory cell is Vdd, the Q2 output of the latch circuit 4 is 0 V, and the flag read determination output of the exclusive NOR circuit 5 is the logic output “1” (Vdd).

次に不十分な消去の場合は、メモリセル電流は1μA<Ids<10μAとなり、1回目の10μA判定ではフラグビットメモリセルのドレイン線DLはVdd、ラッチ回路3のQ1出力は0Vとなり、2回目の1μA判定においてはフラグビットメモリセルのドレイン線DLは0V、ラッチ回路4のQ2出力はVddとなり、排他的否定論理和回路5のフラグ読出し判定出力は、論理出力“0”(0V)となる。   Next, in the case of insufficient erasure, the memory cell current is 1 μA <Ids <10 μA, and in the first 10 μA determination, the drain line DL of the flag bit memory cell is Vdd, and the Q1 output of the latch circuit 3 is 0 V. In the 1 μA determination, the drain line DL of the flag bit memory cell is 0 V, the Q2 output of the latch circuit 4 is Vdd, and the flag read determination output of the exclusive NOR circuit 5 is the logic output “0” (0 V). .

また、不十分な書込の場合においても、メモリセル電流は1μA<Ids<10μAとなり、1回目の10μA判定ではフラグビットメモリセルのドレイン線DLはVdd、ラッチ回路3のQ1出力は0Vとなり、2回目の1μA判定においてはフラグビットメモリセルのドレイン線DLは0V、ラッチ回路4のQ2出力はVddとなり、排他的否定論理和回路5のフラグ読出し判定出力は、論理出力“0”(0V)となる。   Even in the case of insufficient writing, the memory cell current is 1 μA <Ids <10 μA, and in the first 10 μA determination, the drain line DL of the flag bit memory cell is Vdd, and the Q1 output of the latch circuit 3 is 0 V. In the second 1 μA determination, the drain line DL of the flag bit memory cell is 0 V, the Q2 output of the latch circuit 4 is Vdd, and the flag read determination output of the exclusive NOR circuit 5 is the logical output “0” (0 V). It becomes.

即ち、正常な消去又は書込がなされた場合においては、1回目と2回目のフラグビット読出においてデータ反転せず、排他的否定論理和回路5のフラグ読出し判定出力は、論理出力“1”(Vdd)となり、不十分な(即ち、異常な)消去又は書込の場合は、1回目と2回目のフラグビット読出でデータ反転し、排他的否定論理和回路5のフラグ読出し判定出力は、論理出力“0”(0V)となる。   That is, when normal erasing or writing is performed, data inversion is not performed in the first and second flag bit reading, and the flag reading determination output of the exclusive NOR circuit 5 is the logic output “1” ( Vdd), and in the case of insufficient (that is, abnormal) erasing or writing, the data is inverted by the first and second flag bit reading, and the flag reading determination output of the exclusive NOR circuit 5 is logical The output becomes “0” (0 V).

このフラグビット2回読出のデータを検知して書換データ列が正常か異常かを判定することができる。以上のように、本実施形態のフラグ領域は、従来の電源遮断フラグや識別フラグのような特定の情報を記憶するための領域ではなく、ブロックの消去時には消去の状態、ブロックの書込時には書込の状態にしておき、即ち書換処理の状態を信号として記憶しておき、異なる電流による2回読出で正常、不正常を判定するための領域となっている。ここで、1回目のフラグビットの読出を10μA判定とし、2回目の読出を1μA判定としたが、逆に1回目のフラグビットの読出を1μA判定とし、2回目の読出を10μA判定としてもよい。   It is possible to determine whether the rewritten data string is normal or abnormal by detecting the data read twice from the flag bit. As described above, the flag area of the present embodiment is not an area for storing specific information such as the conventional power-off flag and identification flag, but is erased when a block is erased and written when a block is written. In other words, the state of rewriting processing is stored as a signal, and this is an area for determining whether normal or abnormal by reading twice with different currents. Here, the first flag bit read is determined to be 10 μA and the second read is determined to be 1 μA. Conversely, the first flag bit read may be determined to be 1 μA, and the second read may be determined to be 10 μA. .

また、10μA、1μAの判定としたが、この値はEEPROM仕様又はシステム仕様によって変わるもので、10μA、1μAに限定されるものではない。   Further, although the determination is 10 μA and 1 μA, this value varies depending on the EEPROM specification or the system specification, and is not limited to 10 μA or 1 μA.

また、フラグビットは1ビットに限定されるものではなく、複数ビットにして、それぞれ消去又は書込が不十分かを検出する方法を採用することが可能である。2ビットにした場合のデータフォーマットを図3に示した。   Further, the flag bit is not limited to 1 bit, and it is possible to adopt a method of detecting whether erasing or writing is insufficient by using a plurality of bits. The data format in the case of 2 bits is shown in FIG.

図3に示されるフラグa、bは、データと共に消去又は書込されることとなり、消去だけされる場合を考えるとフラグa、bは同時に消去されることとなり、書込だけを考えると、フラグa、bは同時に書込されることとなる。   The flags a and b shown in FIG. 3 are erased or written together with the data. The flags a and b are erased at the same time when considering only the case of erasing. a and b are written simultaneously.

これだけでみるとフラグを2ビットにする意味はないが、消去→書込(消去・書込)の書換が行なわれる場合、データと共に消去された後に書込が行なわれる。通常、データは消去されると全てのビットが情報“1”となり、その後書込され、書込データにより、そのビットが情報“1”(消去状態)のままであったり、“0”(書込状態)に変わったりすることとなる。   From this point of view, it is meaningless to set the flag to 2 bits, but when erasure → write (erase / write) is performed, writing is performed after erasing together with data. Normally, when data is erased, all bits become information “1” and then written, and depending on the write data, the bits remain information “1” (erased state) or “0” (write It will be changed to the state.

ここで、書込されるが情報“1”(消去状態)のままになることを書込インヒビットと言い、バイアス条件は図18Bの書込を参照すると、スイッチT1のゲートCgに1.5Vを印加、メモリT2のゲートMgに1.5Vを印加、ソース線Sに1.5V、ドレイン線DをH−Z(電位を加えないオープン状態)、ウェルWellを−10.5Vに設定することで、メモリセルにチャネルを作り、電子の注入を防ぐことで消去状態を保つことになる。   Here, writing but information “1” (erased state) is referred to as a write inhibit, and referring to the writing in FIG. 18B, the bias condition is 1.5 V at the gate Cg of the switch T1. By applying 1.5V to the gate Mg of the memory T2, setting the source line S to 1.5V, the drain line D to HZ (open state without applying potential), and the well Well to -10.5V. Then, a channel is formed in the memory cell, and the erased state is maintained by preventing the injection of electrons.

前述した図3のデータフォーマット中のフラグa、bは、書換のときには消去された後に書込がされるが、フラグaは書込インヒビットすることとし、書換終了後に情報は“1”となり、フラグbは書込することとし、書換終了後に情報は“0”となる。   The above-described flags a and b in the data format of FIG. 3 are written after being erased at the time of rewriting, but the flag a is to be written-in inhibit, and the information becomes “1” after the rewriting is completed. b is to be written, and the information becomes “0” after rewriting is completed.

ここで、不十分な消去の後で、正常な書込がされたことを想定すると、フラグaのメモリ電流は、1μA<Ids<10μAとなり、前述したフラグビットの2回読出をするとデータ反転する。しかし、フラグbのメモリ電流は、Ids<1μAとなり2回読出でデータ反転せず正常であることがわかる。このことにより、消去が不十分で書込は正常に行なわれたことがわかり、現状の消去状態である情報“1”が正確に書かれていないことが分かる。   Here, assuming that normal writing is performed after insufficient erasure, the memory current of the flag a becomes 1 μA <Ids <10 μA, and the data is inverted when the flag bit is read twice. . However, the memory current of the flag b is Ids <1 μA, and it can be seen that the data is not inverted by reading twice and is normal. As a result, it can be seen that the erasure was insufficient and the writing was performed normally, and that the information “1”, which is the current erased state, was not written correctly.

次に、消去だけされる場合を考えるとフラグa、bは同時に消去されることとなり、書込だけされる場合を考えると、フラグa、bは同時に書込されることとなる。従って、消去又は書込後の状態はフラグa、bで変わりがない。   Next, when considering only the case of erasing, the flags a and b are simultaneously erased. When considering only the case of writing, the flags a and b are simultaneously written. Therefore, the state after erasing or writing is not changed by the flags a and b.

しかし、連続書込みされる場合は、メモリセルの閾値電圧が上がり過ぎてしまい、次に消去を行なうと、メモリセルの閾値電圧が所定の閾値電圧まで、下がらないことがある。この対策の為に、書込みする前に必ず消去を行うことをする場合もあり、この時には消去→書込みと同じく2ビットのフラグは有効である。   However, in the case of continuous writing, the threshold voltage of the memory cell increases too much, and when erasing is performed next, the threshold voltage of the memory cell may not decrease to a predetermined threshold voltage. For this measure, there is a case where erasure is always performed before writing, and at this time, the 2-bit flag is valid as in the case of erasure → writing.

すなわち、連続動作(消去→書込み、書込み→消去→書込み等)で書込みを行なう場合においては、2ビットフラグの状態でどこの段階で書込みが失敗したかを推定することが可能である。   In other words, when writing is performed in a continuous operation (erase → write, write → erase → write, etc.), it is possible to estimate at which stage writing failed in the state of the 2-bit flag.

図4に、本実施形態の半導体集積装置における不揮発性メモリの一例を示す。不揮発性メモリ904は、メモリセル群1001、制御部1002、昇圧部1003、バッファ及びブロック選択部1004、フラグ生成部1005、データ入力バッファ1006、フラグ判定部1007、データ出力バッファ1008を含んで構成される。なお、不揮発性メモリがEEPROMである場合は、メモリセル群1001がブロック単位に分割されている。各ブロックは、データ領域1010とフラグ領域1011で構成される。ここで言うデータ領域1010は、バイト単位(=8ビット)であり1〜nバイトである。nは整数を示す。   FIG. 4 shows an example of a nonvolatile memory in the semiconductor integrated device of this embodiment. The nonvolatile memory 904 includes a memory cell group 1001, a control unit 1002, a boost unit 1003, a buffer and block selection unit 1004, a flag generation unit 1005, a data input buffer 1006, a flag determination unit 1007, and a data output buffer 1008. The When the nonvolatile memory is an EEPROM, the memory cell group 1001 is divided into blocks. Each block includes a data area 1010 and a flag area 1011. The data area 1010 here is in byte units (= 8 bits) and is 1 to n bytes. n represents an integer.

対象となるブロックを書き換える場合には、一度対象となるブロックを消去処理することによって、消去状態にしなければならない。消去状態にあるブロックは、書込処理を実行することが可能となる。ここでは、通常一連の動作として処理される消去処理と書込処理の組み合わせを既に述べたように消去・書込処理と表す。   When the target block is rewritten, the target block must be erased by erasing the target block once. A block in the erased state can execute a writing process. Here, the combination of the erasing process and the writing process that are normally processed as a series of operations is represented as the erasing / writing process as described above.

まず、対象となるブロックにおいて情報を更新する場合について説明する。目的の情報がデータ入力を通じて、一旦データ入力バッファ1006に蓄えられる。対象となるブロックは、アドレス入力を通じてバッファ及びブロック選択部1004に入力されたブロック指定情報によって選択される。ブロック指定情報はバッファ及びブロック選択部1004によってデコードされ、アサートされたブロック選択信号が出力される。このアサートされたブロック選択信号によってブロックが有効となる。   First, a case where information is updated in a target block will be described. The target information is temporarily stored in the data input buffer 1006 through the data input. The target block is selected by block designation information input to the buffer and block selection unit 1004 through address input. The block designation information is decoded by the buffer and block selection unit 1004, and the asserted block selection signal is output. This asserted block selection signal enables the block.

選択されたブロックに対する処理内容は、制御入力によって決定される。消去・書込処理が指定された場合、第一段階として消去処理が行なわれる。このとき、フラグ領域1011には、フラグ生成部1005で生成された消去処理を示す信号(フラグ)が記憶される。例えば、不揮発性メモリの消去状態が論理値“1”となる場合には、論理値“1”を示す信号がフラグ生成部1005で生成される。第二段階として、データ入力バッファ1006に蓄えられている情報がデータ領域1010に書き込まれる。このとき、フラグ領域1011には、フラグ生成部1005で生成された書込処理を示す信号が記憶される。このときには、消去時のフラグの内容とは排他的な信号として、論理値“0”を示す信号がフラグ生成部1005で生成される。上記第一段階の消去処理及び第二段階の書込処理において、対象ブロックのデータとフラグは、同時に処理される。   The processing content for the selected block is determined by the control input. When the erasing / writing process is designated, the erasing process is performed as the first stage. At this time, a signal (flag) indicating the erasure process generated by the flag generation unit 1005 is stored in the flag area 1011. For example, when the erased state of the nonvolatile memory has a logical value “1”, a signal indicating the logical value “1” is generated by the flag generation unit 1005. As a second stage, information stored in the data input buffer 1006 is written into the data area 1010. At this time, the flag area 1011 stores a signal indicating the writing process generated by the flag generation unit 1005. At this time, a signal indicating a logical value “0” is generated by the flag generation unit 1005 as a signal exclusive of the contents of the flag at the time of erasure. In the first stage erase process and second stage write process, the data and flag of the target block are processed simultaneously.

また、不揮発性メモリの各ブロックのフラグ領域は、(1)データ領域に正常にデータが書込みがされた場合、(2)データ領域データが異常に消去または書込された場合、(3)データ領域のデータが正常に消去された場合、の3状態をそのメモリセルのホール注入量、すなわち、閾値電圧に記憶するものであると言える。また、異なる2つの電流値の電流をメモリセルのドレイン線DLに流すことにより、この3状態は識別される。   The flag area of each block of the non-volatile memory includes (1) when data is normally written in the data area, (2) when data area data is abnormally erased or written, and (3) data When the data in the area is normally erased, it can be said that the three states are stored in the hole injection amount of the memory cell, that is, the threshold voltage. Further, these three states are identified by flowing currents having two different current values to the drain line DL of the memory cell.

このフラグ領域のフラグは、電源電圧の変動によって発生するデータ領域のデータの異常な消去、書込を判定するものであるため、フラグを書き込むタイミングはデータと同時またはその直後が望ましい。また、この場合の同時とは、同一のクロック信号に従って動作させるという意味であり、信号の遅延程度のずれを許容するという意味である。   Since the flag in the flag area is used to determine abnormal erasure and writing of data in the data area caused by fluctuations in the power supply voltage, the timing for writing the flag is preferably the same as or immediately after the data. In this case, “simultaneous” means that the operation is performed according to the same clock signal, and that a deviation of a signal delay is allowed.

消去処理、書込処理及び消去・書込処理には、12V程度の高い電圧をメモリセルに与える必要があり、昇圧部1003は、この高い電圧を発生して、メモリセルに供給する。また、フラグ領域1011は、データ領域1010が有効になる条件よりも厳しい条件で、書換及び判定が行なわれなければならない。   In the erasing process, the writing process, and the erasing / writing process, it is necessary to apply a high voltage of about 12 V to the memory cell, and the booster 1003 generates this high voltage and supplies it to the memory cell. The flag area 1011 must be rewritten and determined under conditions that are stricter than the conditions under which the data area 1010 becomes valid.

これら、一連の処理は、全て制御部1002が制御する。そのため、昇圧部1005を含めて、動作用クロック信号が必要とるため、クロック入力より動作用クロック信号が入力される。消去処理、書込処理、消去・書込処理では、処理開始から処理終了までの間、制御部1002から動作中を示す信号が出力される。この動作中を示す信号は、目的に応じて、出力形態が異なってもよい。たとえば、レベル信号を応用して、動作中には、それ以外の異なるレベルを出力してもよいし、処理終了時にパルス信号を出力してもよい。必要なければ出力しなくてもよい。   All of these series of processes are controlled by the control unit 1002. Therefore, since an operation clock signal including the booster 1005 is required, the operation clock signal is input from the clock input. In the erasing process, the writing process, and the erasing / writing process, a signal indicating the operation is output from the control unit 1002 from the start of the process to the end of the process. The signal indicating that this operation is in progress may vary in output form depending on the purpose. For example, a level signal may be applied to output another different level during operation, or a pulse signal may be output at the end of processing. If it is not necessary, it may not be output.

また、選択されたブロックに対する処理として、消去処理又は書込処理が独立して指定される場合がある。処理内容として、単独で消去処理が指定され、対象となるブロックの情報を消去する場合には、上記第一段階の消去処理と同じ処理が行なわれる。消去処理だけを行なう場合には、目的の情報をデータ入力バッファ1006に蓄える必要はない。この場合、フラグは論理値“1”が設定される。   In some cases, an erasing process or a writing process is independently designated as a process for a selected block. When the erasing process is designated alone as the processing contents and the information of the target block is erased, the same process as the first stage erasing process is performed. When only the erasing process is performed, it is not necessary to store the target information in the data input buffer 1006. In this case, the flag is set to the logical value “1”.

通常、消去状態のブロックに情報を書き込む場合には、消去処理は不要である。選択されたブロックに対する処理として、単独で書込処理が指定された場合、上記第二段階の書込処理と同じ処理が行なわれる。目的の情報をデータ入力バッファ1006に蓄える必要がある。この場合、フラグは論理値“0”が設定される。   Usually, when information is written in an erased block, the erasing process is unnecessary. When the writing process is designated alone as the process for the selected block, the same process as the second-stage writing process is performed. It is necessary to store target information in the data input buffer 1006. In this case, the flag is set to a logical value “0”.

次に、対象となるブロックの情報を読み出す場合について説明する。対象となるブロックは、アドレス入力を通じてバッファ及びブロック選択部1004に入力されたブロック指定情報によって選択される。ブロック指定情報はバッファ及びブロック選択部1004によってデコードされ、アサートされたブロック選択信号が出力される。このアサートされたブロック選択信号によってブロックが有効となる。選択されたブロックからの出力データは、一旦データ出力バッファ1008に保持された後、順次読み出される。   Next, a case where information on a target block is read will be described. The target block is selected by block designation information input to the buffer and block selection unit 1004 through address input. The block designation information is decoded by the buffer and block selection unit 1004, and the asserted block selection signal is output. This asserted block selection signal enables the block. Output data from the selected block is once held in the data output buffer 1008 and then sequentially read.

このとき対象となるブロックのフラグも読み出され、その状態が図2の判定回路2に相当するフラグ判定部1007において判定され、出力される。判定結果として、消去処理完了状態(論理値“1”)、書込処理完了状態(論理値“0”)、それ以外の状態(論理値“1”でもなく論理値“0”でもない値)を明確に表す必要がある。もし、論理値“1”でもなく論理値“0”でもない値を示す状態が出力された場合、その読出より先に行なわれた消去処理又は書込処理が完了していないことを示すことになる。通常は、読出では、消去処理及び書込処理とは異なり、12V程度の高い電圧をメモリセルに与える必要がない。従って、昇圧部1003も動作しない。一連の処理は、すべて制御部1002が制御する。対象となるブロックの状態が消去完了状態又は書込完了状態の場合にのみ、ブロックに記憶されている情報が有効となる。   At this time, the flag of the target block is also read out, and its state is determined and output by the flag determination unit 1007 corresponding to the determination circuit 2 in FIG. As a result of the determination, the erasure process complete state (logical value “1”), the write process complete state (logical value “0”), and other states (values that are neither logical value “1” nor logical value “0”) Must be clearly expressed. If a state indicating a value that is neither a logical value “1” nor a logical value “0” is output, it indicates that the erasing process or the writing process performed prior to the reading is not completed. Become. Normally, in reading, unlike the erasing process and the writing process, it is not necessary to apply a high voltage of about 12 V to the memory cell. Therefore, the booster 1003 does not operate. The control unit 1002 controls all the series of processes. The information stored in the block is valid only when the target block is in the erase complete state or the write complete state.

次に、非接触ICカード等で、急に通信領域内からはずれて、ICカード内LSIの電源が瞬断した場合に起こる、EEPROM等の不揮発性メモリの不十分な消去・書込の検出フローを図5Aに示した。   Next, detection flow of insufficient erasing / writing of non-volatile memory such as EEPROM that occurs when the power supply of LSI in IC card is cut off suddenly by non-contact IC card etc. Is shown in FIG. 5A.

通常、EEPROMは、あるデータ列に対して、ECC(Error Checking and Correcting)領域を持ち、データの破壊を検出又は修正している。この他に、本発明であるフラグビットを追加することにより、データの破壊と共に、不十分な消去・書込を検出することができる。図5Aに示す検出フローは、このようにデータ列にECCを備え、更にフラグビットが追加される場合を対象としている。図5BにEEPROMに記憶されるデータフォーマットの一例を示した。各ブロック(Block)は、データ(Data)、ECC、フラグ(Flag)から成る。例えば、ブロックX(Block X)は、データX(Data X)、ECC X、フラグX(Flag X)から成る。このデータフォーマット内の Flag A、…、Flag X、Flag Y、…、Flag αが図4のフラグ生成部1005で生成される信号が配置される領域を表し、Data A、…、Data X、Data Y、…、Data α及び ECC A、…、ECC X、ECC Y、…、ECC αが図4のデータ入力バッファ1006から出力される情報が配置される領域を表す。   Usually, an EEPROM has an ECC (Error Checking and Correcting) area for a certain data string, and detects or corrects data corruption. In addition, by adding the flag bit according to the present invention, it is possible to detect insufficient erasing / writing as well as data destruction. The detection flow shown in FIG. 5A is intended for the case where ECC is added to the data string and flag bits are added. FIG. 5B shows an example of a data format stored in the EEPROM. Each block (Block) includes data (Data), ECC, and a flag (Flag). For example, the block X (Block X) includes data X (Data X), ECC X, and a flag X (Flag X). Flag A,..., Flag X, Flag Y,..., Flag α in this data format represents an area where the signal generated by the flag generation unit 1005 in FIG. 4 is arranged, and Data A,..., Data X, Data Y,..., Data α and ECC A,..., ECC X, ECC Y,..., ECC α represent areas where information output from the data input buffer 1006 in FIG.

EEPROMが消去・書込実行(E・W実行)中(S101)に、電源が断されて、その後に再度パワーオン(S102)されると、EEPROMデータ列の読出が開始される(S103)。ここでは、あるデータ列をブロックXとして以下フローを説明する。   When the EEPROM is being erased / written (E / W is being executed) (S101), when the power is turned off and then powered on again (S102), reading of the EEPROM data string is started (S103). Here, the flow will be described below with a certain data string as the block X.

ブロックXのデータX (Data X) とECC X (ECC X)を読み出し(S104)、ブロックXのデータが正常であるかどうかをECCを用いて判別する(S105)。   Data X (Data X) and ECC X (ECC X) of block X are read (S104), and it is determined using ECC whether or not the data of block X is normal (S105).

データが破壊されていると判定した場合は、データ消失として上位処理装置等に通知する。又は、読出速度を1/2等に下げて、再度ECCの読出を行ない(S106)、判別する(S111)。ここで、再度読み出しするのは、データ(料金、プライバシー等)消失による多大な被害がICカード使用者、発行者にかかることも考えられる為、できる限りデータの復活をしようと試みる必要がある。また、読出速度を下げて、データ及びECCを読み出す意味は、不十分な消去が行なわれている可能性があるからであり、読み出し速度を遅くすることでデータが正常に読める可能性があるからである。すなわち、不十分な消去が行なわれると前述したように、メモリセルのIdsが小さくなり、読出速度が遅くなっている可能性があるからである。なお、ステップS111で読出速度を下げてもデータが破壊されていると判定した場合は、データ消失として上位処理装置等に通知する。   If it is determined that the data has been destroyed, it is notified to the host processing device or the like as data loss. Alternatively, the ECC is read again by reducing the reading speed to 1/2 or the like (S106), and the determination is made (S111). Here, it is necessary to try to restore the data as much as possible because it is possible that IC card users and issuers suffer a great deal of damage due to the loss of data (charges, privacy, etc.). The meaning of reading data and ECC by lowering the reading speed is that there is a possibility that insufficient erasure is performed, and there is a possibility that data can be read normally by reducing the reading speed. It is. That is, if insufficient erasure is performed, as described above, the Ids of the memory cell may become small and the reading speed may be slow. If it is determined in step S111 that the data is destroyed even if the reading speed is reduced, the host processor is notified of the data loss.

ステップS105又はS111でデータがOKと判定された場合、フラグビットの読出を行ない、正常な消去・書込かを確認する(S107)。   If it is determined in step S105 or S111 that the data is OK, the flag bit is read to check whether the data is normally erased or written (S107).

不十分な消去・書込と判定されてNGとなった場合、読み出したブロックXデータとECCを消去・書込データとしてブロックXエリアのデータ及びECCにセットする(S108)。次に、消去・書込を実行し(S109)、正常な消去・書込を行なう。正常な消
去・書込が行なわれたことを確認する為に、ステップS104に戻ってそれ以降を実行する。
If it is determined that the erase / write is insufficient and the result is NG, the read block X data and ECC are set in the data and ECC of the block X area as erase / write data (S108). Next, erase / write is executed (S109), and normal erase / write is performed. In order to confirm that normal erasure / writing has been performed, the process returns to step S104 and the subsequent steps are executed.

ここで、書換回数又は使用年数がオーバーし、メモリセルの劣化により正常な消去・書込が行なわれない場合も考えられるので、ステップS107→S108→S109→S104の再試行回数については、予め設定しておくことが望ましい。また、再試行回数を超えた場合には、そのブロックは使用できないことが認識される。   Here, since the number of times of rewriting or the number of years of use may be exceeded and normal erasing / writing may not be performed due to deterioration of the memory cell, the number of retries in steps S107 → S108 → S109 → S104 is set in advance. It is desirable to keep it. If the retry count is exceeded, it is recognized that the block cannot be used.

S107で正常な消去・書込と判定された場合は、次のブロックの読出を行なう(S110)。   If it is determined in S107 that normal erasure / writing is performed, the next block is read (S110).

図5Aでは、EEPROMの消去・書込中の電源断後、パワーオンしたときのEEPROM読出データの正当性についての確認フローであったが、通常の消去・書込実行時においても、フラグビットの読出で正常に消去・書込が行なわれたかを確認することが可能である。以下にそのような確認のフローを図6において説明する。   In FIG. 5A, the flow for confirming the validity of the EEPROM read data when the power is turned on after the power supply is cut off during the erasing / writing of the EEPROM is shown. It is possible to confirm whether erasing / writing has been normally performed by reading. The flow of such confirmation will be described below with reference to FIG.

あるデータ列(ここではブロックX)の消去・書込が実行される(T101)。消去・書込みはData X、ECC X、Flag Xが同時に消去・書込みされる。消去・書込終了後、ブロックXに同時に消去・書込されるフラグビット(ここではフラグX)を読み出す(T102)。フラグビットを読み出してOKであれば次のブロックの消去・書込を実行する(T103)。フラグビットを読み出してNGであれば再度ブロックXの消去・書込を実行する。このフラグビットを読み出してチェックする時に、ECCを同時に読み出してチェックしてもよい。   A certain data string (here, block X) is erased / written (T101). In the erasing / writing, Data X, ECC X, and Flag X are simultaneously erased / written. After erasing / writing is completed, a flag bit (here, flag X) that is simultaneously erased / written in the block X is read (T102). If the flag bit is read and OK, the next block is erased / written (T103). If the flag bit is read and NG, the block X is erased / written again. When this flag bit is read and checked, ECC may be read and checked simultaneously.

このようにして正常な消去・書込を行なうことが可能である。但し、書換回数又は使用年数がオーバーし、メモリセルの劣化により正常な消去・書込が行なわれない場合も考えられるので、同一ブロックの消去・書込再試行回数においては、予め設定しておくことが望ましい。また、再試行回数を超えた場合には、そのブロックは使用できないことが認識される。   In this way, normal erasing / writing can be performed. However, since the number of times of rewriting or the number of years of use may be exceeded and normal erasing / writing may not be performed due to deterioration of the memory cell, the number of erasing / writing retries for the same block is set in advance. It is desirable. If the retry count is exceeded, it is recognized that the block cannot be used.

以上は、本発明の中心技術である不揮発性メモリ(EEPROM)の不十分な消去・書込状態を検出する方法について説明した。   The method for detecting an insufficient erase / write state of the nonvolatile memory (EEPROM), which is the central technology of the present invention, has been described above.

次に、上記の技術を応用した本実施形態の半導体集積装置について説明する。図7に本実施形態の半導体集積装置を実装した非接触ICカードの一構成例を示す。非接触ICカードは、本実施形態の半導体集積装置である非接触ICカード用LSI900にアンテナコイル909を接続した構成となっている。非接触ICカード用LSI900は、LSI全体を制御・処理するCPU901を中心に、プログラムや静的なパラメータを記憶しておくROM902、動的なワークエリアとして使用されるRAM903、情報の記憶・保持に使用される不揮発性メモリ904、暗号処理の高速化を目的とする暗号コプロセッサ905、耐タンパ性の向上やチップ誤動作を防止するセキュリティ回路906、チップ全体に電源を供給する電源回路907、非接触による通信や電力受信を実現するRFインタフェース908を含んで構成されている。このような構成のLSI900が同一半導体基板に形成されて、1チップを成す。そして、不揮発性メモリ904に図1〜図6及び後述する図8〜図10に示す本発明の不揮発性メモリを搭載することにより、非接触ICカードの信頼性を向上することが可能となる。   Next, the semiconductor integrated device of this embodiment to which the above technique is applied will be described. FIG. 7 shows a configuration example of a non-contact IC card on which the semiconductor integrated device of this embodiment is mounted. The non-contact IC card has a configuration in which an antenna coil 909 is connected to the non-contact IC card LSI 900 which is the semiconductor integrated device of the present embodiment. The non-contact IC card LSI 900 is centered on a CPU 901 that controls and processes the entire LSI, a ROM 902 that stores programs and static parameters, a RAM 903 that is used as a dynamic work area, and information storage and retention. Non-volatile memory 904 used, cryptographic coprocessor 905 for speeding up cryptographic processing, security circuit 906 for improving tamper resistance and preventing chip malfunction, power supply circuit 907 for supplying power to the entire chip, non-contact It includes an RF interface 908 that realizes communication and power reception. The LSI 900 having such a configuration is formed on the same semiconductor substrate to form one chip. Then, by mounting the nonvolatile memory of the present invention shown in FIGS. 1 to 6 and FIGS. 8 to 10 described later on the nonvolatile memory 904, it is possible to improve the reliability of the non-contact IC card.

前記した図4において本発明の不揮発性メモリの構成を示したが、この構成におけるメモリセル群1001に以下に示す幾つかのブロック構成を採用することができる。   Although the configuration of the nonvolatile memory of the present invention is shown in FIG. 4 described above, several block configurations described below can be adopted for the memory cell group 1001 in this configuration.

図8は、本発明による不揮発性メモリのメモリセル群1001のブロック1100の構成の一例を示している。メモリセル群1001は、M個のブロック1100(0)〜1100(m-1)に分割されており、ブロック単位で処理される。ブロック1100は、データ領域1010に記憶されたデータ1101とフラグ領域1011に記憶された書換処理の状態を表すフラグ1102を有している。フラグ1102を設けたことにより、データの信頼性向上が可能となる。   FIG. 8 shows an example of the configuration of the block 1100 of the memory cell group 1001 of the nonvolatile memory according to the present invention. The memory cell group 1001 is divided into M blocks 1100 (0) to 1100 (m−1) and processed in units of blocks. The block 1100 has data 1101 stored in the data area 1010 and a flag 1102 indicating the state of the rewrite process stored in the flag area 1011. By providing the flag 1102, the reliability of data can be improved.

図9は、本発明による不揮発性メモリのメモリセル群1001の他のブロック1200の構成を示している。この例は、メモリセル自体の故障や入力/出力バッファの故障等、電源中断以外の障害等による誤りを検出して、更に信頼性を高めるものである。ブロック1200は、データ領域1010に記憶されたデータ1101と、同じくデータ領域1010に記憶された、データ1101の誤り検出を行なうための誤り検出コード1201と、フラグ領域1011に記憶された書換処理の状態を表すフラグ1102を有している。誤り検出コード1201には、データ1101及び誤り検出コード1201自身の誤りを検出することができる符号が割り当てられる。当然、ブロック1200が書込完了状態のときに、目的とする効果が発揮される。完全ではないが、書込未完了状態の検出も可能である。   FIG. 9 shows a configuration of another block 1200 of the memory cell group 1001 of the nonvolatile memory according to the present invention. In this example, an error due to a failure other than power interruption, such as a failure of the memory cell itself or a failure of the input / output buffer, is detected to further improve the reliability. Block 1200 includes data 1101 stored in data area 1010, error detection code 1201 for error detection of data 1101 also stored in data area 1010, and status of rewrite processing stored in flag area 1011 It has the flag 1102 showing. The error detection code 1201 is assigned a code that can detect errors in the data 1101 and the error detection code 1201 itself. Naturally, when the block 1200 is in the write completion state, the intended effect is exhibited. Although not complete, it is also possible to detect a write incomplete state.

図10は、本発明による不揮発性メモリのメモリセル群1001の更に他のブロック1300の構成を示している。この例は、メモリセル自体の故障や入力/出力バッファの故障等、電源中断以外の障害等による誤りを検出し、対応可能な範囲の誤りを自分自身で訂正することによって、更に信頼性を高めるものである。ブロック1300は、データ領域1010に記憶されたデータ1101と、同じくデータ領域1010に記憶された、データ1101の誤り検出・訂正を行なうための誤り検出・訂正コード1301と、フラグ領域1011に記憶された書換処理の状態を表すフラグ1102を有している。誤り検出・訂正コード1301には、データ1101及び誤り検出・訂正コード1301自身の誤りを検出し訂正することができる符号が割り当てられる。当然、ブロック1200が書込完了状態のときに、目的とする効果が発揮される。完全ではないが、書込未完了状態の検出・検出も可能である。   FIG. 10 shows a configuration of still another block 1300 of the memory cell group 1001 of the nonvolatile memory according to the present invention. This example further improves reliability by detecting errors due to failures other than power interruption, such as failure of the memory cell itself or failure of the input / output buffer, and correcting the error within the applicable range by itself. Is. Block 1300 is data 1101 stored in data area 1010, error detection / correction code 1301 for error detection / correction of data 1101 that is also stored in data area 1010, and flag area 1011. It has a flag 1102 indicating the state of the rewriting process. The error detection / correction code 1301 is assigned a code that can detect and correct errors in the data 1101 and the error detection / correction code 1301 itself. Naturally, when the block 1200 is in the write completion state, the intended effect is exhibited. Although not complete, it is possible to detect and detect an incomplete writing state.

図11は、本発明による不揮発性メモリのメモリセル群1001の更に他のブロック1400の構成を示している。この場合、ブロック1400のデータ領域1010に記憶されたデータ1101がユニット単位に分割されており、消去処理及び書込処理及び消去・書込処理は、ブロック単位で行なわれ、読出がユニット単位で行なわれる。特に図示しないが、このような構成は、図9のブロック1200にも適応することができる。この場合、誤り検出コード1201もユニット単位に分割される。更に、図10のブロック1300にも適応可能である。この場合、誤り検出・訂正コード1301もユニット単位に分割される。   FIG. 11 shows a configuration of still another block 1400 of the memory cell group 1001 of the nonvolatile memory according to the present invention. In this case, the data 1101 stored in the data area 1010 of the block 1400 is divided into units, and the erasing process, the writing process, and the erasing / writing process are performed in units of blocks, and the reading is performed in units of units. It is. Although not specifically shown, such a configuration can also be applied to block 1200 of FIG. In this case, the error detection code 1201 is also divided into units. Further, it can be applied to the block 1300 of FIG. In this case, the error detection / correction code 1301 is also divided into units.

以上に説明したように、図7に示す非接触ICカードに実装する半導体集積装置(非接触ICカード用LSI)に図1〜図6及び図8〜図10を用いて説明した本発明の不揮発性メモリを搭載することにより、非接触ICカードの信頼性が大きく向上することが期待される。また、本発明の不揮発性メモリの応用は非接触ICカードにとどまらず、例えば接触/非接触兼用ICカードに対しても可能であり、同様の効果を得ることができる。   As described above, the non-volatile memory according to the present invention described with reference to FIGS. 1 to 6 and FIGS. 8 to 10 is applied to the semiconductor integrated device (non-contact IC card LSI) mounted on the non-contact IC card shown in FIG. It is expected that the reliability of the non-contact IC card will be greatly improved by installing the memory. Further, the application of the nonvolatile memory of the present invention is not limited to a non-contact IC card, but can be applied to, for example, a contact / non-contact IC card, and the same effect can be obtained.

図12に接触/非接触ICカードのブロック構成の一例を示す。本構成は、図7に示す非接触ICカードに接触インタフェースを備えたものとなっており、接触/非接触ICカード用LSI1700にアンテナコイル1709が接続されている。接触/非接触ICカード用LSI1700は、LSI全体を制御・処理するCPU1701を中心に、プログラムや静的なパラメータを記憶しておくROM1702、動的なワークエリアとして使用されるRAM1703、情報の記憶・保持に使用される不揮発性メモリ1704、暗号処理の高速化を目的とする暗号コプロセッサ1705、耐タンパ性の向上やチップ誤動作を防止するセキュリティ回路1706、チップ全体に電源を供給する電源回路1707、非接触による通信や電力受診を実現するRFインタフェース1708、接触による通信と電力供給を実現する接触インタフェース1710及び接触端子1711を含んで構成されている。   FIG. 12 shows an example of a block configuration of a contact / non-contact IC card. In this configuration, the non-contact IC card shown in FIG. 7 is provided with a contact interface, and an antenna coil 1709 is connected to a contact / non-contact IC card LSI 1700. The contact / non-contact IC card LSI 1700 has a CPU 1701 for controlling and processing the entire LSI, a ROM 1702 for storing programs and static parameters, a RAM 1703 used as a dynamic work area, and an information storage / Non-volatile memory 1704 used for holding, cryptographic coprocessor 1705 for speeding up cryptographic processing, security circuit 1706 for improving tamper resistance and preventing chip malfunction, power supply circuit 1707 for supplying power to the entire chip, An RF interface 1708 that realizes non-contact communication and power consultation, a contact interface 1710 that realizes communication and power supply by contact, and a contact terminal 1711 are included.

不揮発性メモリ1704に、本発明による不揮発性メモリが採用される。非接触ICカードと同様に、ICカードに一次電池や二時電池等の電源手段を実装することができないため、通常、接触/非接触兼用ICカードの電源は、非接触動作時には、非接触ICカード用リーダライタから受信するキャリア信号から情報と共に抽出され、接触動作時には、ICカード用リーダライタ(図示せず)から直接供給される。非接触動作時、カードが、非接触ICカード用リーダライタの通信領域の外に位置する場合や、接触ICカード用リーダライタからの電力供給が切断された場合に、電力が無い状態となってしまう。従って、情報を記憶しておくために、記憶するための電力が不要な不揮発性メモリを搭載することが必須条件となる。   The nonvolatile memory 1704 employs a nonvolatile memory according to the present invention. As with non-contact IC cards, power supply means such as a primary battery or a two-time battery cannot be mounted on an IC card, so the power source of a contact / non-contact IC card is usually a non-contact IC during non-contact operation. It is extracted together with information from the carrier signal received from the card reader / writer, and is supplied directly from an IC card reader / writer (not shown) during the contact operation. During non-contact operation, there is no power when the card is located outside the communication area of the non-contact IC card reader / writer or when the power supply from the contact IC card reader / writer is cut off. End up. Therefore, in order to store information, it is essential to install a nonvolatile memory that does not require power for storage.

更に、本発明は、上記非接触ICカードや接触/非接触兼用ICカードを搭載した携帯電話機などの携帯情報端末に適用することができ、同様の効果を得ることができる。   Furthermore, the present invention can be applied to a portable information terminal such as a cellular phone equipped with the non-contact IC card or the contact / non-contact IC card, and similar effects can be obtained.

図13に、接触/非接触兼用ICカードを搭載した携帯電話機のブロック構成の一例を示す。携帯電話機1600は、電波の送信/受信を行なうアンテナ1601、無線通信処理を行なうRF部1602、通信信号の変調/復調を行なう変復調部1603、情報の符号化/復号化を行なうコーデック部1604、マイクロホン1605、スピーカ1606、各種パラメータや情報等を記憶しておく不揮発性メモリ1607、電力を供給するバッテリ1608、各種操作を指示するキー操作部1609、表示を行なう表示部1610及びICカードインタフェース1611を含んで構成される。そして、接触/非接触兼用ICカード1700がICカードインタフェース1611を介して接続される。また、RF部1602、変復調部1603及びコーデック部1604によってアンテナ1601を介して外部と通信を行なうための通信回路1612が構成される。   FIG. 13 shows an example of a block configuration of a mobile phone equipped with a contact / non-contact IC card. A cellular phone 1600 includes an antenna 1601 for transmitting / receiving radio waves, an RF unit 1602 for performing wireless communication processing, a modem unit 1603 for modulating / demodulating communication signals, a codec unit 1604 for encoding / decoding information, and a microphone 1605, speaker 1606, nonvolatile memory 1607 for storing various parameters and information, battery 1608 for supplying power, key operation unit 1609 for instructing various operations, display unit 1610 for performing display, and IC card interface 1611 Consists of. A contact / non-contact IC card 1700 is connected via an IC card interface 1611. In addition, the RF unit 1602, the modem unit 1603, and the codec unit 1604 constitute a communication circuit 1612 for communicating with the outside through the antenna 1601.

ICカード1700は、通常、非接触動作時には、携帯電話機とは独立に外部の非接触ICカード用のリーダライタからのコマンドに従って動作する。また、接触動作時は、携帯電話機からのコマンドに従って動作する。例えば、電子乗車券を例にとると、発行処理が携帯電話機経由の接触動作で行なわれ、乗車券使用が非接触動作で行なわれる。この場合にも、発行処理中に携帯電話機のバッテリ切れが起きた場合や、乗車券使用時にICカードが外部の非接触ICカード用リーダライタの通信領域の外に急に移動してしまった場合に、処理中に上記電力が無い状態が発生する。この例においても、本発明の不揮発性メモリを採用することにより、搭載されている接触/非接触兼用ICカード1700の信頼性を向上することができ、更にこれを搭載する携帯電話機1600の信頼性を向上することができる。   The IC card 1700 normally operates in accordance with a command from an external non-contact IC card reader / writer independently of the mobile phone during the non-contact operation. Further, during the contact operation, it operates according to a command from the mobile phone. For example, taking an electronic ticket as an example, the issuing process is performed by a contact operation via a mobile phone, and the use of the ticket is performed by a non-contact operation. Also in this case, when the battery of the mobile phone has run out during the issuance process, or when the IC card suddenly moves outside the communication area of the external non-contact IC card reader / writer when using the ticket In addition, a state in which there is no power occurs during processing. Also in this example, by using the nonvolatile memory of the present invention, the reliability of the mounted contact / non-contact IC card 1700 can be improved, and further the reliability of the mobile phone 1600 mounted with the same. Can be improved.

なお、上記したように携帯電話機1600本体にも不揮発性メモリ1607が実装されている。この不揮発性メモリ1607に本発明の不揮発性メモリを採用すれば、バッテリ切れ等で発生する電力の切断等に対して、携帯電話機1600の信頼性を向上することが可能となる。   As described above, the nonvolatile memory 1607 is also mounted on the mobile phone 1600 main body. If the nonvolatile memory of the present invention is adopted as the nonvolatile memory 1607, it becomes possible to improve the reliability of the cellular phone 1600 with respect to the power cut or the like generated when the battery runs out.

本発明の実施形態におけるデータフォーマットを説明するための図。The figure for demonstrating the data format in embodiment of this invention. 本発明に係る半導体集積回路の実施形態を説明するための回路図。1 is a circuit diagram for explaining an embodiment of a semiconductor integrated circuit according to the present invention. 本発明の実施形態における別のデータフォーマットを説明するための図。The figure for demonstrating another data format in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における不揮発性メモリの一例を説明するための構成図。The block diagram for demonstrating an example of the non-volatile memory in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における不十分な消去・書込の検出を説明するためのフローチャート。5 is a flowchart for explaining detection of insufficient erasure / writing in the embodiment of the present invention. 図5Aに示したフローチャートに従って検出を行なう場合のデータフォーマットを説明するための図。The figure for demonstrating the data format in the case of performing detection according to the flowchart shown to FIG. 5A. 本発明の実施形態においてフラグビットを使用して行なう消去・書込を説明するためのフローチャート。6 is a flowchart for explaining erasing / writing performed using flag bits in the embodiment of the present invention. 本発明の半導体集積装置を実装した非接触兼用ICカードの例を説明するための構成図。The block diagram for demonstrating the example of the non-contact combined use IC card which mounted the semiconductor integrated device of this invention. 本発明の実施形態における不揮発性メモリのメモリセルのブロック例を説明するための構成図。The block diagram for demonstrating the block example of the memory cell of the non-volatile memory in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における不揮発性メモリのメモリセルの他のブロック例を説明するための構成図。The block diagram for demonstrating the other block example of the memory cell of the non-volatile memory in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における不揮発性メモリのメモリセルの更に他のブロック例を説明するための構成図。The block diagram for demonstrating the further another block example of the memory cell of the non-volatile memory in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における不揮発性メモリのメモリセルの更に他のブロック例を説明するための構成図。The block diagram for demonstrating the further another block example of the memory cell of the non-volatile memory in embodiment of this invention. 本発明の半導体集積装置を実装した接触/非接触兼用ICカードの例を説明するための構成図。The block diagram for demonstrating the example of the contact / non-contact IC card which mounted the semiconductor integrated device of this invention. 本発明の半導体集積装置を実装した接触/非接触兼用ICカードが接続される携帯電話機の例を説明するための構成図。The block diagram for demonstrating the example of the mobile telephone to which the contact / non-contact IC card which mounted the semiconductor integrated device of this invention is connected. 不揮発性メモリを搭載した非接触ICカードの例を説明するための構成図。The block diagram for demonstrating the example of the non-contact IC card carrying a non-volatile memory. リーダライタから非接触ICカードへ放射される電磁波を示す図。The figure which shows the electromagnetic waves radiated | emitted from a reader / writer to a non-contact IC card. 非接触ICカードにおける電磁波の磁界強度を示す曲線図。The curve figure which shows the magnetic field intensity of the electromagnetic wave in a non-contact IC card. 非接触ICカードが使用可能な通信領域を説明するための図。The figure for demonstrating the communication area | region which can use a non-contact IC card. リーダライタから放射される電磁波によるキャリア信号の例を示す図。The figure which shows the example of the carrier signal by the electromagnetic waves radiated | emitted from a reader / writer. 非接触ICカードが通信領域を横切って移動する状況を説明するための図。The figure for demonstrating the condition where a non-contact IC card moves across a communication area. MONOS型EEPROMの消去時における動作バイアスの例を示す図。The figure which shows the example of the operation bias at the time of erasure | elimination of a MONOS type EEPROM. MONOS型EEPROMの書込時における動作バイアスの例を示す図。The figure which shows the example of the operation bias at the time of the writing of a MONOS type EEPROM. MONOS型EEPROMの読出時における動作バイアスの例を示す図。The figure which shows the example of the operation bias at the time of reading of a MONOS type EEPROM. MONOSメモリセルの閾値電圧Vtと読出電流Idsの関係を示す曲線図。The curve diagram which shows the relationship between the threshold voltage Vt of a MONOS memory cell, and read-out electric current Ids. メモリセルの使用年数におけるVt劣化を示す図。The figure which shows Vt degradation in the years of use of a memory cell. 不十分な消去・書込が起こったときのメモリセルVtを説明するための図。The figure for demonstrating the memory cell Vt when inadequate erasing and writing have occurred.

符号の説明Explanation of symbols

1…選択されたメモリセル、2…判定回路、3,4…ラッチ回路、5…排他的否定論理和回路、6…インバータ、900…非接触ICカード用LSI、901…CPU、902…ROM、903…RAM、904,1704…不揮発性メモリ、905…暗号コプロセッサ、906…セキュリティ回路、907…電源回路、908…RFインタフェース、909…アンテナコイル、1001…メモリセル群、1002…制御部、1003…昇圧部、1004…バッファ及びブロック選択部、1005…フラグ生成部、1006…データ入力バッファ、1007…フラグ判定部、1008…データ出力バッファ、1100…ブロック、1010…データ領域、1011…フラグ領域、1600…携帯電話機、1700…接触/非接触兼用ICカード用LSI。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Selected memory cell, 2 ... Determination circuit, 3, 4 ... Latch circuit, 5 ... Exclusive OR circuit, 6 ... Inverter, 900 ... LSI for non-contact IC card, 901 ... CPU, 902 ... ROM, 903 ... RAM, 904, 1704 ... nonvolatile memory, 905 ... cryptographic coprocessor, 906 ... security circuit, 907 ... power supply circuit, 908 ... RF interface, 909 ... antenna coil, 1001 ... memory cell group, 1002 ... control unit, 1003 ... Booster, 1004 ... Buffer and block selector, 1005 ... Flag generator, 1006 ... Data input buffer, 1007 ... Flag determiner, 1008 ... Data output buffer, 1100 ... Block, 1010 ... Data area, 1011 ... Flag area, 1600: Mobile phone, 1700: Contact / non-contact IC card LSI.

Claims (13)

不揮発性メモリを含む半導体集積装置において、
上記不揮発性メモリは、
複数のブロックに分割されて成るメモリセル群と、
上記複数のブロックの各々に備えられた、消去処理、書込処理、又は消去・書込処理による書換処理によって情報が記憶される第1の領域と、
上記複数のブロックの各々に備えられた、上記書換処理の状態が信号として上記書換処理によって記憶される第2の領域と、
上記第2の領域から読み出された上記信号を入力してブロックにおける上記書換処理の状態の正常、異常を判定する判定回路とを具備して成り、
上記信号が少なくとも1ビットから成ることを特徴とする半導体集積装置。
In a semiconductor integrated device including a nonvolatile memory,
The non-volatile memory is
A group of memory cells divided into a plurality of blocks;
A first area in each of the plurality of blocks, in which information is stored by erasure processing, writing processing, or rewriting processing by erasing / writing processing;
A second area provided in each of the plurality of blocks, in which the state of the rewrite process is stored as a signal by the rewrite process;
A determination circuit that inputs the signal read from the second area and determines whether the rewrite processing in the block is normal or abnormal.
A semiconductor integrated device, wherein the signal comprises at least one bit.
上記判定回路の判定結果が異常の場合に、上記第1及び第2の領域への上記書換処理が再度行なわれることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積装置。   2. The semiconductor integrated device according to claim 1, wherein when the determination result of the determination circuit is abnormal, the rewriting process to the first and second regions is performed again. 上記判定回路によって判定される上記信号は、上記第1の領域に記憶された上記情報よりも厳しい読出条件で読み出されることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積装置。   2. The semiconductor integrated device according to claim 1, wherein the signal determined by the determination circuit is read under a stricter reading condition than the information stored in the first area. 上記第2の領域に記憶された上記信号が示す消去処理完了状態と書込処理完了状態とが互いに排他的であることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積装置。   2. The semiconductor integrated device according to claim 1, wherein the erase process completion state and the write process completion state indicated by the signal stored in the second area are mutually exclusive. 上記第1の領域に記憶される情報に誤り検出情報が含まれることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積装置。   2. The semiconductor integrated device according to claim 1, wherein error detection information is included in the information stored in the first area. 上記第1の領域に記憶される情報に誤り検出・誤り訂正情報が含まれることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積装置。   2. The semiconductor integrated device according to claim 1, wherein the information stored in the first area includes error detection / error correction information. 上記第1の領域がユニット単位に分割されており、書換処理がブロック単位で行なわれ、読出がユニット単位で行なわれることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積装置。   2. The semiconductor integrated device according to claim 1, wherein the first area is divided into unit units, rewriting processing is performed in block units, and reading is performed in unit units. 上記信号が2ビットから成り、消去・書込処理が行なわれる場合、一方のビットが消去処理完了状態となり、他方のビットが書込処理完了状態となって互いに排他的であることを特徴とする請求項1に記載の半導体集積装置。   When the above-mentioned signal is composed of 2 bits and an erasing / writing process is performed, one bit is in an erasing process completion state and the other bit is in a writing process completion state, which are mutually exclusive. The semiconductor integrated device according to claim 1. 上記信号が記憶された上記第2の領域であるメモリセルに、読出最大動作速度による第1の電流及び読出最低動作速度による第2の電流のうちのいずれか一方の電流を流し、続いて他方の電流を流し、
上記判定回路は、上記第1及び第2の電流によって上記メモリセルが呈する2種類の電圧を用いて正常、異常を判定を行なう請求項1に記載の半導体集積装置。
One of the first current at the maximum read operation speed and the second current at the minimum read operation speed is supplied to the memory cell that is the second area in which the signal is stored, and then the other Current of
2. The semiconductor integrated device according to claim 1, wherein the determination circuit determines normality / abnormality using two kinds of voltages exhibited by the memory cell by the first and second currents.
アンテナと、
不揮発性メモリを少なくとも有する、上記アンテナに接続された半導体集積装置を具備して成り、
上記不揮発性メモリは、
複数のブロックに分割されて成るメモリセル群と、
上記複数のブロックの各々に備えられた、消去処理、書込処理、又は消去・書込処理による書換処理によって情報が記憶される第1の領域と、
上記複数のブロックの各々に備えられた、上記書換処理の状態が信号として上記書換処理によって記憶される第2の領域と、
上記第2の領域から読み出された上記信号を入力してブロックにおける上記書換処理の状態の正常、異常を判定する判定回路とを具備して成り、
上記信号が少なくとも1ビットから成ることを特徴とするICカード。
An antenna,
Comprising a semiconductor integrated device connected to the antenna having at least a nonvolatile memory;
The non-volatile memory is
A group of memory cells divided into a plurality of blocks;
A first area in each of the plurality of blocks, in which information is stored by erasure processing, writing processing, or rewriting processing by erasing / writing processing;
A second area provided in each of the plurality of blocks, in which the state of the rewrite process is stored as a signal by the rewrite process;
A determination circuit that inputs the signal read from the second area and determines whether the rewrite processing in the block is normal or abnormal.
An IC card, wherein the signal comprises at least one bit.
上記半導体集積装置の電源電圧が、上記アンテナで受信した電磁波を整流して得られるように構成された非接触型であることを特徴とする請求項10に記載のICカード。   11. The IC card according to claim 10, wherein the power supply voltage of the semiconductor integrated device is a non-contact type configured to be obtained by rectifying electromagnetic waves received by the antenna. 外部から電源供給を受けるための端子が更に備えられた接触/非接触型であることを特徴とする請求項11に記載のICカード。   12. The IC card according to claim 11, wherein the IC card is of a contact / non-contact type further provided with a terminal for receiving power supply from outside. 第1のアンテナと、
上記第1のアンテナを介して外部と通信を行なうための通信回路と、
上記通信回路に接続されるICカードインタフェースと、
上記ICカードインタフェースを介して接続されるICカードとを具備して成り、
上記ICカードは、
第2のアンテナと、
不揮発性メモリを少なくとも有する、上記第2のアンテナに接続される半導体集積装置と、
上記ICカードインタフェースと接続をするための電源端子及びデータ端子とを具備して成り、
上記不揮発性メモリは、
複数のブロックに分割されて成るメモリセル群と、
上記複数のブロックの各々に備えられた、消去処理、書込処理、又は消去・書込処理による書換処理によって情報が記憶される第1の領域と、
上記複数のブロックの各々に備えられた、上記書換処理の状態が信号として上記書換処理によって記憶される第2の領域と、
上記第2の領域から読み出された上記信号を入力してブロックにおける上記書換処理の状態の正常、異常を判定する判定回路とを具備し、かつ、上記信号が少なくとも1ビットから成り、
上記ICカードは、上記半導体集積装置の電源電圧が上記アンテナで受信した電磁波を整流して得られるように構成されると共に、上記電源端子を介して電源供給を受けるように構成される接触/非接触型であることを特徴とする携帯情報端末。
A first antenna;
A communication circuit for communicating with the outside via the first antenna;
An IC card interface connected to the communication circuit;
Comprising an IC card connected via the IC card interface,
The IC card
A second antenna;
A semiconductor integrated device connected to the second antenna and having at least a nonvolatile memory;
Comprising a power supply terminal and a data terminal for connection with the IC card interface,
The non-volatile memory is
A group of memory cells divided into a plurality of blocks;
A first area in each of the plurality of blocks, in which information is stored by erasure processing, writing processing, or rewriting processing by erasing / writing processing;
A second area provided in each of the plurality of blocks, in which the state of the rewrite process is stored as a signal by the rewrite process;
A determination circuit that inputs the signal read from the second area and determines whether the rewrite processing state in the block is normal or abnormal, and the signal includes at least one bit;
The IC card is configured such that a power supply voltage of the semiconductor integrated device is obtained by rectifying an electromagnetic wave received by the antenna, and is configured to receive power supply via the power supply terminal. A portable information terminal which is a contact type.
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