JPS63143704A - Semiconductive blend and semiconducting shrinkage tube comprising the same - Google Patents

Semiconductive blend and semiconducting shrinkage tube comprising the same

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JPS63143704A
JPS63143704A JP28988886A JP28988886A JPS63143704A JP S63143704 A JPS63143704 A JP S63143704A JP 28988886 A JP28988886 A JP 28988886A JP 28988886 A JP28988886 A JP 28988886A JP S63143704 A JPS63143704 A JP S63143704A
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semiconductive
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享 高橋
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、電カケープルの接続などの際に用いられる
半導電性混和物およびその混和物からなる半導電性収縮
チューブに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to a semiconductive mixture used for connecting electrical cables, and a semiconductive shrink tube made of the mixture.

「従来の技術」 電カケープル、特に高圧用電カケープルの中には、その
導線の直上ならびに絶縁被覆の外側に半導電性混和物で
被覆をしたものが提供されている。
``Prior Art'' Some electrical cables, particularly high-voltage electrical cables, are provided with a semiconductive mixture coated directly above the conductor wire and outside the insulating coating.

従来、このような目的に使用される半導電性混和物とし
ては、ゴムあるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体(E
VA)等の樹脂に導電性カーボンブラックを配合した半
導電性混和物が使用されている。また、上記ケーブルを
接続する際、この接続部に半導電性被覆を形成するには
、ケーブル接続の施工を容易にするために、加熱するこ
とにより収縮を起こすチューブ状の半導電性収縮チュー
ブが多用されている。
Traditionally, semiconducting mixtures used for this purpose include rubber or ethylene-vinyl acetate copolymer (E
Semiconductive mixtures in which conductive carbon black is blended with resins such as VA) are used. In addition, in order to form a semiconductive coating on the connection part when connecting the above cable, a semiconductive shrink tube that shrinks when heated is used to facilitate cable connection. It is widely used.

この従来の半導電性収縮チューブは、上記EVA樹脂等
に導電性カーボンブラックを配合した半導電性混和物を
チューブ状に成形したもので、ケーブルの導線接続部の
直上や絶縁被覆の外側などの所定部分にこの半導電性収
縮チューブを嵌挿し、これをバーナなどで加熱すること
によって収縮を起こさせ、目的箇所に半導電性の被覆を
形成するようになっている。
This conventional semi-conductive shrink tube is made by molding a semi-conductive mixture containing conductive carbon black into the above-mentioned EVA resin, etc., into a tube shape, and can be used directly above the conductor connection part of the cable or outside the insulation coating. This semi-conductive shrink tube is inserted into a predetermined area and heated with a burner to cause contraction, thereby forming a semi-conductive coating on the target area.

「発明が解決しようとする問題点」 ところで、電カケープル、特に高圧用型カケープルとし
ては、物理的、機械的性能が優れており信頼度が大きく
、許容M流を大きくとれるなどの優れた性能を持ったC
Vケーブル(架橋ポリエチレン電カケープル)が多用さ
れる趨勢にある。
"Problems to be Solved by the Invention" By the way, electric cables, especially high-voltage cables, have excellent physical and mechanical performance, high reliability, and a large allowable M flow. C held
There is a trend that V cables (cross-linked polyethylene electric cables) are being used more frequently.

これに対して従来の半導電性混和・物はEVA樹脂等を
ベースにしているために、上記Cvケーブルの絶縁材料
に使用されているポリエチレンとの接着性が悪く、ポリ
エチレン製絶縁体と半導電性被覆とが緊密に接着できな
いという大きな問題があった。
On the other hand, since conventional semiconductive compounds are based on EVA resin, etc., they have poor adhesion with the polyethylene used as the insulating material of the Cv cable, and the polyethylene insulators and semiconducting A major problem was that the adhesive coating could not be tightly bonded to the adhesive coating.

また、従来の半導電性混和物をチューブ状に成形した半
導電性収縮チューブは、収縮率が良好に得られず、ケー
ブル接続の際、目的箇所に対して緊密な被覆を行なうの
が錐しいという問題があった。
In addition, conventional semiconductive shrink tubes made from semiconductive mixtures that are formed into tubes do not have a good shrinkage rate, and it is difficult to cover the target area tightly when connecting cables. There was a problem.

この発明は上述の問題点を解消し、CVケーブルなどの
絶縁材料に用いられるポリエチレンとの接着性が良好に
得られると共に、チューブ状に成形したものの収縮率が
良好に得られる半導電性混和物およびこれからなる半導
電性収縮チューブを提供することを目的としている。
This invention solves the above-mentioned problems, and provides a semiconductive mixture that has good adhesion with polyethylene used in insulating materials such as CV cables, and also provides good shrinkage when molded into a tube shape. It is an object of the present invention to provide a semiconductive shrink tube made of the same.

「問題点を解決するための手段」 この発明では、エチルアクリレート含有量が10〜20
%であり、かつMFRが2以下であるエチレンーエヂル
アクリレート共重合体 60〜80重量部と、MFrt
が5以下の直鎖状低密度ポリエチレン40〜20重量部
とからなる樹脂100重量部に、導電性カーボンブラッ
クを40〜70重量部配合した。混和物を半導電性混和
物とすること、またその混和物をンート状に成形し、こ
れを架橋したのちチューブ状に成形したものを半導電性
収縮チューブとすることをその解決手段とする。
"Means for solving the problem" In this invention, the ethyl acrylate content is 10 to 20
% and an MFR of 2 or less, 60 to 80 parts by weight of an ethylene-edyl acrylate copolymer, and MFrt
40 to 70 parts by weight of conductive carbon black was blended to 100 parts by weight of a resin consisting of 40 to 20 parts by weight of linear low-density polyethylene having a polyethylene of 5 or less. The solution is to make the mixture into a semiconductive mixture, and to form the mixture into a belt shape, crosslink it, and then mold it into a tube shape to form a semiconductive shrink tube.

以下、この発明の半導電性混和物(第1発明)と、その
混和物からなる半導電性収縮チューブ(第2発明)とを
詳細に説明する。
Hereinafter, the semiconductive mixture of the present invention (first invention) and the semiconductive shrink tube made of the mixture (second invention) will be explained in detail.

第1発明の半導電性混和物に用いられるエチレン−エチ
ルアクリレート共重合体(以下、EEAと記す)は、E
EA中のエチルアクリレート含有量が10〜20%であ
り、かつM F Rが2以下のものである。エチルアク
リレート含有量が10%未満のものは、半導電性混和物
の伸びが不足し、また、エチルアクリレート含有量が2
0%を超えるらのは半導電性混和物の延伸性が悪化する
。また、EEAのMFRが2を超えるものは半導電性混
和物の伸びが不宅して延伸性が悪化する。
The ethylene-ethyl acrylate copolymer (hereinafter referred to as EEA) used in the semiconductive mixture of the first invention is E
The ethyl acrylate content in the EA is 10 to 20%, and the MFR is 2 or less. If the ethyl acrylate content is less than 10%, the elongation of the semiconductive mixture will be insufficient, and if the ethyl acrylate content is less than 2%, the elongation of the semiconductive mixture will be insufficient.
If it exceeds 0%, the drawability of the semiconductive mixture deteriorates. Furthermore, if the MFR of EEA exceeds 2, the elongation of the semiconductive mixture will be poor, resulting in poor drawability.

半導電性混和物に用いられる直鎖状低密度ポリエチレン
(以下、L −L D P Eと記す)は、MFRが5
以下のものである。MFRが5を超えるものは、半導電
性混和物の伸びが不足する。
Linear low-density polyethylene (hereinafter referred to as L-LDPE) used in the semiconductive mixture has an MFR of 5.
These are as follows. If the MFR exceeds 5, the semiconductive mixture has insufficient elongation.

」二足EEAとL−LDPEとは、EEAが60〜80
重量部、L−LDPEが40〜20重量部とを混合して
用いられる。この混合樹脂中のL−LDPEが40重量
部を超えるしのは半導電性混和物の伸びが不足すると共
に、柔軟性が悪化する。
"Biped EEA and L-LDPE have an EEA of 60 to 80.
40 to 20 parts by weight of L-LDPE are used. If the amount of L-LDPE in this mixed resin exceeds 40 parts by weight, the elongation of the semiconductive mixture will be insufficient and the flexibility will deteriorate.

また、L −L D P Eが20重量部以下のもので
は半導電性混和物の体積抵抗率が高くなってしまう。
Furthermore, if L-LDPE is less than 20 parts by weight, the volume resistivity of the semiconductive mixture will be high.

半導電性混和物に用いられろ導電性カーボンブラック(
以下、カーボンと略記する)は、アセチレンブラック、
ファーネス系ブラックなどの市販品で良く、例示すると
、デンカブラック(電気化学工業社製)、パルカンX 
C−72(キュボット社製)等が好適に使用される。こ
のカーボンは、上記EEΔとL−LDPEとの混合樹脂
100重量部に、40〜70重量部配合する。このカー
ボン配合量が40重量部未満であると半導電性混和物の
導電性が不足する。また、カーボン配合量が70重量部
を超えると半導電性混和物の伸びが不足すると共に、柔
軟性が悪化してしまう。
Conductive carbon black (used in semiconductive mixtures)
(hereinafter abbreviated as carbon) is acetylene black,
Commercially available products such as furnace black may be used; examples include Denka Black (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and Palcan X.
C-72 (manufactured by Cubot) and the like are preferably used. This carbon is blended in 40 to 70 parts by weight with 100 parts by weight of the mixed resin of EEΔ and L-LDPE. If the carbon content is less than 40 parts by weight, the conductivity of the semiconductive mixture will be insufficient. On the other hand, if the carbon content exceeds 70 parts by weight, the elongation of the semiconductive mixture will be insufficient and the flexibility will deteriorate.

この第1発明の半導電性混和物は、上記した各成分が各
々の配合率に従って配合されていれば良く、上記各成分
の他、例えば架橋剤、老化防止剤、加工助剤などの他の
成分を配合しても良い。
The semiconductive mixture of the first invention may contain the above-mentioned components according to their respective compounding ratios, and in addition to the above-mentioned components, other components such as crosslinking agents, anti-aging agents, and processing aids may be added. Ingredients may be mixed.

この第1発明の半導電性混和物は、従来の半導電性混和
物に比べ、ポリエチレンとの接着性が良く、伸びが良好
で、収縮チューブとしたときの収縮性が良いなどの点で
優れており、特にC■ケーブルなどのポリエチレンで絶
縁被覆されたケーブルの半導Ti層被覆用として優秀な
性能を発揮する。
The semiconductive mixture of the first invention is superior to conventional semiconductive mixtures in that it has good adhesion to polyethylene, good elongation, and good shrinkability when made into a shrinkable tube. In particular, it exhibits excellent performance as a semiconducting Ti layer coating for cables such as C■ cables that are insulated with polyethylene.

また、この半導電性混和物の使用目的は上記ケーブルの
半導電層被覆用に限定されず、例えばこの混和物をシー
ト状に成形し、帯電防止シートとして利用することらで
きる。
Furthermore, the purpose of use of this semiconductive mixture is not limited to coating the cable with a semiconductive layer; for example, this mixture can be formed into a sheet and used as an antistatic sheet.

次に、第2発明を図面を参照して説明する。第2発明は
、上記第1発明の半導電性混和物をシート状(或いはテ
ープ状)に成形し、これを架橋したのちチューブ状に成
形してなる半導電性収縮チューブであり、この形状はチ
ューブ状であれば良く、またチューブ状に成形する方法
についても限定されないが、次にこの第2発明の半導電
性収縮チューブを例示して、第2発明を具体的に説明す
る。
Next, the second invention will be explained with reference to the drawings. A second invention is a semiconductive shrink tube obtained by forming the semiconductive mixture of the first invention into a sheet shape (or tape shape), crosslinking this, and then forming it into a tube shape, and this shape is The second invention will be specifically explained below by exemplifying the semiconductive shrinkable tube of the second invention, although any shape may be used as long as it is in the shape of a tube, and the method for forming the tube into a tube is not limited.

第1図は第2発明の半導電性収縮チューブの一例を示す
乙のである。この図において符号lは半導電性収縮チュ
ーブ(以下、チューブと略称する)である。このチュー
ブlは、上記第1発明で説明した半導電性混和物からな
るもので、円筒状のチューブ本体2と、このチューブ本
体2の外周部にこれに一体的に設けられた係止突条3と
からなるものである。係止突条3は、チューブ本体2の
長手方向に沿って延び、その断面形状が′r字形のもの
である。また、係止突条3の中央部にはチューブ本体2
の内周面にとどく切開隙4がその長手方向に沿って形成
されている。このチューブlは、その切開隙4を開(こ
とにより割裂可能であり、これを押し拡げてケーブル、
管路、棒などの目的物の上にチューブ本体2を被覆した
うえ、係止突条3にファスナ5を止めつけて固定し、チ
ューブ本体2をバーナなとで加熱することにより、チュ
ーブ本体2が収縮し、ケーブル等の目的物を緊密に被覆
するものである。このようなチューブ1は、第2図ない
し第4図に示すようにして製造される。
FIG. 1 shows an example of the semiconductive shrink tube of the second invention. In this figure, the symbol l is a semiconductive shrink tube (hereinafter abbreviated as tube). This tube l is made of the semiconductive mixture described in the first invention, and includes a cylindrical tube body 2 and a locking protrusion integrally provided on the outer circumference of the tube body 2. It consists of 3. The locking protrusion 3 extends along the longitudinal direction of the tube body 2, and has an 'r-shaped cross section. In addition, a tube body 2 is provided at the center of the locking protrusion 3.
An incision gap 4 extending to the inner circumferential surface of the tube is formed along its longitudinal direction. This tube l can be split open by opening its incision gap 4, and by pushing this apart, the cable can be
The tube body 2 is coated on an object such as a conduit or a rod, the fastener 5 is fastened to the locking protrusion 3, and the tube body 2 is heated with a burner. The material shrinks and tightly covers objects such as cables. Such a tube 1 is manufactured as shown in FIGS. 2 to 4.

まず、押出機により第2図に示すような断面形状の長尺
のシート6を押し出す。このシート6の幅方向の両端部
は、かぎ状に折り曲げられ、係止突条3の一方となる係
止部7.7になっている。ついで、このシート6を架橋
する。架橋は、2.5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブ
チルパーオキシ)ヘキシン−3、ジクミルパーオキサイ
ド等の有機過酸化物架橋剤を添加して加熱する方法の池
に、電子線を照射して行なう方法が採用できる。この架
橋後のシート6は、その両端部の係止部7.7を把持し
、シート6の幅方向に引っ張り、幅寸法を約1.2〜2
倍程変延伸し、この延伸状態を維持したまま冷却し、第
3図に示すような延伸シート8を得る。その後、この延
伸シート8を適宜な長さに切断し、係止部7.7が外側
になるように曲げ、係止部7.7を合致させることによ
り、切開隙4が形成され、第4図に示したようなチュー
ブlとなる。
First, a long sheet 6 having a cross-sectional shape as shown in FIG. 2 is extruded using an extruder. Both ends of the sheet 6 in the width direction are bent into a hook shape to form a locking portion 7.7 which becomes one of the locking protrusions 3. This sheet 6 is then crosslinked. Crosslinking is carried out by adding an organic peroxide crosslinking agent such as 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxy)hexyne-3 or dicumyl peroxide and heating it using an electron beam. A method of irradiating with light can be adopted. After this crosslinking, the sheet 6 is gripped by the locking portions 7.7 at both ends thereof and pulled in the width direction of the sheet 6, so that the width dimension is approximately 1.2 to 2.
The stretched sheet is stretched by varying times and cooled while maintaining this stretched state to obtain a stretched sheet 8 as shown in FIG. Thereafter, this stretched sheet 8 is cut to an appropriate length, bent so that the locking portions 7.7 are on the outside, and the locking portions 7.7 are aligned to form the incision gap 4. The result is a tube l as shown in the figure.

第5図は第2発明の半導電性収縮チューブの他の例を示
すものである。この図に示されるチューブ9は、上述の
第1発明の半導電性混和物を用いて円筒状に成形したも
のである。このチューブ9は、ケーブル、管路、棒など
の目的物に嵌挿し、チューブ9をバーナなどで加熱して
収縮さ仕、ケーブル等の目的物を緊密に被覆するもので
ある。
FIG. 5 shows another example of the semiconductive shrink tube of the second invention. The tube 9 shown in this figure is formed into a cylindrical shape using the semiconductive mixture of the first invention described above. This tube 9 is inserted into an object such as a cable, conduit, or rod, and the tube 9 is heated with a burner or the like to shrink and cover the object such as the cable tightly.

このチューブ9は次のようにして製造される。This tube 9 is manufactured as follows.

まず、上述の第1発明の半導電性混和物をフィルム状に
押出成形する。ついでこのフィルムを架橋する。架橋の
方法としては、上述した架橋剤を添加して加熱ずろ方法
や、電子線を照射する方法によって行なわれる。ついで
この架橋フィルムを長手方向に延伸して延伸フィルムと
する。ついて、この延伸フィルムをテープ状に裁断し、
第6図に示すようにしてチューブ状に成形する。すなわ
ち、」二足テープIOをテーピング機11で円形芯金1
2に多重に巻きつけ、所望の厚さにする。ついで半導電
性混和物の融点以上に加熱して、テープlOを溶融一体
化した後、冷却して芯金12を取り除いてチューブ9を
得る。
First, the semiconductive mixture of the first invention described above is extruded into a film. This film is then crosslinked. The crosslinking method is carried out by adding the above-mentioned crosslinking agent and heating and irradiating it with an electron beam. This crosslinked film is then stretched in the longitudinal direction to form a stretched film. Then, cut this stretched film into a tape shape.
It is formed into a tube shape as shown in FIG. In other words, the circular core bar 1 is cut using the taping machine 11 with the bipedal tape IO.
2 and wrap it multiple times to obtain the desired thickness. Next, the semiconductive mixture is heated above the melting point to melt and integrate the tape 1O, and then cooled and the core bar 12 is removed to obtain the tube 9.

この第2発明のチューブI、9は、上述の第1発明の半
導電性混和物を用いてチューブ状に成形したので、従来
の半導電性収縮チューブでは緊密な被覆ができなかった
CVケーブルなどのポリエチレンで絶縁被覆されたケー
ブルに対して、良好な接着性を示す半導電性被覆を形成
することができる。また、チューブ1.9は収縮性が良
好に得られるので、目的箇所に対して緊密な状態で半導
電性被覆を形成することができる。
Since the tubes I and 9 of the second invention are formed into a tube shape using the semiconductive mixture of the first invention, CV cables, etc., which could not be covered tightly with conventional semiconductive shrink tubes, etc. A semiconductive coating that exhibits good adhesion can be formed on a cable insulated with polyethylene. Further, since the tube 1.9 has good shrinkability, it is possible to form a semiconductive coating tightly onto the target location.

以下にこの発明の実施例を示す。Examples of this invention are shown below.

「実施例」 この発明の実施例(3例)ならびに比較例(2例)の各
々の半導電性混和物を、第1表に示す配合量に従って製
造した。
"Example" Semiconductive mixtures of Examples (3 examples) and Comparative Examples (2 examples) of the present invention were manufactured according to the blending amounts shown in Table 1.

以下余白 第  1  表 (数値は重量部) 上記各配合成分は、EEA■が白石レクスロンEEA 
A−1150(エチルアクリレート含有量15%、MF
Ro、75)、EEA■が白石レクスロンEEA  八
−270(エチルアクリレート含有量15%、MPRl
、5)、EEA■が白石レクスロンEEA A−420
0(エチルアクリレート含有量20%、MFR5、以上
の各’E E Aはいずれも日本石浦化学辻製)、EV
Aは三井・デュポンポリケミカル社製、L −L D 
P Eが日本ユニカー社製(MFR3,8)、カーボン
かデンカカーボン(電気化学工業社製)、老化防止剤か
ツクラック300(入内新興社製)、加工助剤がステア
リン酸亜鉛を用いた。
Table 1 below (numbers are parts by weight) EEA■ is Shiraishi Rexron EEA.
A-1150 (ethyl acrylate content 15%, MF
Ro, 75), EEA■ is Shiraishi Rexron EEA 8-270 (ethyl acrylate content 15%, MPRl
, 5), EEA ■ is Shiraishi Rexron EEA A-420
0 (Ethyl acrylate content 20%, MFR5, each of the above E E A are manufactured by Nippon Ishiura Chemical Tsuji), EV
A is manufactured by Mitsui-DuPont Polychemical Co., L-L D
PE manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. (MFR 3, 8), carbon or Denka Carbon (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), anti-aging agent Tsukurak 300 (manufactured by Iriuchi Shinko Co., Ltd.), and processing aid used zinc stearate.

各半導電性混和物は、上記の各成分をバンバリーミキサ
−により加熱下に混練して製造し、これによって得られ
た各々の半導電性混和物を用いて次の各試験を行なった
Each semiconductive mixture was produced by kneading the above-mentioned components under heating in a Banbury mixer, and the following tests were conducted using each of the semiconductive mixtures obtained thereby.

これらの半導電性混和物を用いて、まず各々の伸びを、
J I S  K 7113−1981により測定した
Using these semiconducting mixtures, first calculate the elongation of each,
Measured according to JIS K 7113-1981.

次に、各々の半導電性混和物を0.5mm幅のシートに
加工し、ついで照射架橋装置を使用して架橋度がゲル分
率で約50%(カーボン成分抜きで求めたもの)となる
ように架橋した。ついで架橋済みの各々のソートを延伸
装置で延伸した。この延伸操作の際に、連続的に安定し
て延伸することができた最大延伸倍率を測定し、これを
もって延伸性とした。
Next, each semiconducting mixture is processed into a sheet with a width of 0.5 mm, and then a irradiation crosslinking device is used to achieve a crosslinking degree of approximately 50% in terms of gel fraction (calculated without carbon components). It was cross-linked like this. Each crosslinked sort was then stretched using a stretching device. During this stretching operation, the maximum stretching ratio at which continuous and stable stretching was possible was measured, and this was taken as the stretchability.

ついで、最大延伸倍率で延伸した各々のシートを用いて
収縮チューブを作成し、各々の収縮チューブを200℃
で1時間加熱し、加熱面のチューブの直径に対する収縮
後(加熱後)のチューブの直径の割合を測定し、これを
もって収縮性とした。
Next, shrink tubes were created using each sheet stretched at the maximum stretching ratio, and each shrink tube was heated at 200°C.
The tube was heated for 1 hour, and the ratio of the diameter of the tube after shrinkage (after heating) to the diameter of the tube on the heated surface was measured, and this was taken as shrinkability.

また、上記各収縮チューブをCvケーブル(6,6KV
、200mm”)のポリエチレン絶縁体上に150°C
程度に加熱して収縮させ、ついで200℃で1時間加熱
してポリエチレン絶縁体に接若さ什た。これに10mm
幅の傷を付け、収縮チューブを剥離することにより、収
縮チューブの接着性を調べた。この接着性の判断基帛は
、収縮チューブが剥離しなかったちのを良とし、収縮チ
ューブが剥離したものを不良とした。
In addition, connect each of the above shrink tubes to a Cv cable (6,6KV
, 200mm”) at 150°C on polyethylene insulation.
The material was heated to a moderate temperature to cause shrinkage, and then heated at 200° C. for 1 hour to attach it to a polyethylene insulator. 10mm to this
The adhesion of the shrink tube was examined by making a width scratch and peeling off the shrink tube. Based on this criterion for adhesion, cases where the shrink tube did not peel off were considered good, and cases where the shrink tube peeled off were judged as poor.

以上の各試験の結果を第2表に示す。The results of each of the above tests are shown in Table 2.

以下余白 第  2  表 第2表からも明らかなように、この発明の半導電性混和
物は、従来の半導電性混和物を意図して作成した比較例
へに比べ伸びが良く、また収縮チューブとしたときの収
縮性およびポリエチレンとの接着性ら優れていることが
確認された。
As is clear from Table 2, the semiconductive mixture of the present invention has better elongation than the comparative example prepared with the intention of making a conventional semiconductive mixture, and also It was confirmed that the material had excellent shrinkage properties and adhesion to polyethylene.

これに対して従来の半導電性混和物を意図して作成した
比較例Aでは収縮チューブにしたときの収縮性が悪いと
共に、ポリエチレンとの接着性力く得られなかった。
On the other hand, Comparative Example A, which was intended to be a conventional semiconductive mixture, had poor shrinkability when made into a shrinkable tube and did not have good adhesion to polyethylene.

また、比較例Bは、EEAのMFRが2以上のらのを配
合したときの例を示すものである力(、ポリエチレンと
の接骨性は良い乙のの、収縮性が十分得られず、良好な
収縮チューブは得られない。
In addition, Comparative Example B shows an example when a material with an EEA MFR of 2 or more is blended. You will not be able to obtain a suitable shrink tube.

「発明の効果J 以上説明したように、この発明の半導電性混和物および
その混和物をチューブ状に成形した半導電性収縮チュー
ブは、この混和物とポリエチレン製の絶縁体との接骨性
が良好に得られるので、従来の半導電性混和物では被覆
が難しかったポリエチレン絶縁体に対して、接骨性の良
い半導電性被覆を形成することができる。
"Effect of the Invention J As explained above, the semiconductive mixture of the present invention and the semiconductive shrink tube formed from the mixture into a tube shape have excellent bone attachment properties between the mixture and the polyethylene insulator. Since it can be obtained well, it is possible to form a semiconductive coating with good bone attachment properties on polyethylene insulators, which have been difficult to coat with conventional semiconductive mixtures.

また、この発明の半導電性収縮チューブは、収縮性が良
好なので、ケーブルの接続の際などに、被覆目的箇所に
対して容易に緊密な被覆をすることかできる。
Further, since the semiconductive shrink tube of the present invention has good shrinkability, it is possible to easily and tightly cover a target area when connecting a cable.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の半導電性収縮チューブの一例を示す
斜視図、第2図ないし第4図は第1図に示した半導電性
収縮チューブの製造工程を工程順に示す断面図、第5図
および第6図はこの発明の半導電性収縮チューブの他の
例を示す図であって、第5図は半導電性収縮チューブの
斜視図、第6図は製造工程を示す側面図である。 l、9・・・チューブ(半導電性収縮チューブ)6・・
・シート。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of the semiconductive shrink tube of the present invention, FIGS. 2 to 4 are sectional views showing the manufacturing process of the semiconductive shrink tube shown in FIG. 6 and 6 are views showing other examples of the semiconductive shrink tube of the present invention, FIG. 5 is a perspective view of the semiconductive shrink tube, and FIG. 6 is a side view showing the manufacturing process. . l, 9...Tube (semi-conductive shrink tube) 6...
・Sheet.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)エチルアクリレート含有量が10〜20%であり
、かつMFRが2以下であるエチレン−エチルアクリレ
ート共重合体60〜80重量部と、MFRが5以下の直
鎖状低密度ポリエチレン40〜20重量部とからなる樹
脂100重量部に、導電性カーボンブラックを40〜7
0重量部配合してなる半導電性混和物。
(1) 60 to 80 parts by weight of an ethylene-ethyl acrylate copolymer having an ethyl acrylate content of 10 to 20% and an MFR of 2 or less, and 40 to 20 parts by weight of a linear low-density polyethylene having an MFR of 5 or less. 40 to 7 parts by weight of conductive carbon black to 100 parts by weight of the resin.
A semiconductive mixture containing 0 parts by weight.
(2)エチルアクリレート含有量が10〜20%であり
、かつMFRが2以下であるエチレン−エチルアクリレ
ート共重合体60〜80重量部と、MFRが5以下の直
鎖状低密度ポリエチレン40〜20重量部とからなる樹
脂100重量部に、導電性カーボンブラックを40〜7
0重量部配合してなる半導電性混和物の架橋シート状物
をチューブ状に成形してなる半導電性収縮チューブ。
(2) 60 to 80 parts by weight of an ethylene-ethyl acrylate copolymer having an ethyl acrylate content of 10 to 20% and an MFR of 2 or less, and 40 to 20 parts by weight of a linear low-density polyethylene having an MFR of 5 or less. 40 to 7 parts by weight of conductive carbon black to 100 parts by weight of the resin.
A semiconductive shrink tube formed by forming a crosslinked sheet-like material of a semiconductive mixture containing 0 parts by weight into a tube shape.
JP28988886A 1986-12-05 1986-12-05 Semiconductive blend and semiconducting shrinkage tube comprising the same Granted JPS63143704A (en)

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