JPS61153602A - マイクロレンズの製造方法 - Google Patents
マイクロレンズの製造方法Info
- Publication number
- JPS61153602A JPS61153602A JP27385184A JP27385184A JPS61153602A JP S61153602 A JPS61153602 A JP S61153602A JP 27385184 A JP27385184 A JP 27385184A JP 27385184 A JP27385184 A JP 27385184A JP S61153602 A JPS61153602 A JP S61153602A
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- Japan
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- microlens
- acrylic resin
- coating
- lens
- resin
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、光ファイバからの光を効率よく分岐、結合す
るための、マイクロレンズの製造方法に関する。
るための、マイクロレンズの製造方法に関する。
（従来例の構成とその問題点）
近時、情報の伝送路として光ファイバが重要視され、情
報伝送量の優位性、あるいは耐電磁妨害性などの利点か
ら、光通信を初め広範囲な産業、技術分野に利用される
ようになってきており、当然、光の分岐、結合などを行
なう光回路が使用され、それは効率よく行なうものでな
ければならない。
報伝送量の優位性、あるいは耐電磁妨害性などの利点か
ら、光通信を初め広範囲な産業、技術分野に利用される
ようになってきており、当然、光の分岐、結合などを行
なう光回路が使用され、それは効率よく行なうものでな
ければならない。
一般においても光の結合はレンズを用いるが。
極めて微小径の光ファイバと組み合わせるものは、マイ
クロレンズと呼ばれ、以下に示すような方法で製造され
ていた。
クロレンズと呼ばれ、以下に示すような方法で製造され
ていた。
すなわち第１図は従来のマイクロレンズの製造方法を示
すための断面図で、ガラス基板１の上に感光性のたとえ
ばアクリル系樹脂２を塗布し、これにたとえば円形の透
光部３を設けたフォトマスク４を用いて照射光５により
露光する。この時、フォトマスク４とマイクロレンズ体
となるアクリル系樹脂２との間には、ギャップ６を設け
ていわゆるプロキイシイミティ露光を行なえば、アクリ
ル系樹脂２は透光部３のパターン形状だけでなく。
すための断面図で、ガラス基板１の上に感光性のたとえ
ばアクリル系樹脂２を塗布し、これにたとえば円形の透
光部３を設けたフォトマスク４を用いて照射光５により
露光する。この時、フォトマスク４とマイクロレンズ体
となるアクリル系樹脂２との間には、ギャップ６を設け
ていわゆるプロキイシイミティ露光を行なえば、アクリ
ル系樹脂２は透光部３のパターン形状だけでなく。
光の口重によりパターン周縁まで露光される。この回折
によ、る露光部は当然露光不足であり、従って光硬化度
が弱いため現像処理すれば第２図に断面を示すような、
周縁部が露光の度合いによって丸みを帯びた形のマイク
ロレンズ７が出来上がる。
によ、る露光部は当然露光不足であり、従って光硬化度
が弱いため現像処理すれば第２図に断面を示すような、
周縁部が露光の度合いによって丸みを帯びた形のマイク
ロレンズ７が出来上がる。
このようにして出来るマイクロレンズ７は、周縁部が露
光不足によって形成されるものであるから、硬化不足の
ため表面の荒れが極めて大きい。
光不足によって形成されるものであるから、硬化不足の
ため表面の荒れが極めて大きい。
したがって光を乱反射することになりマイクロレンズの
完全な役目を果たさないものとなる。
完全な役目を果たさないものとなる。
（発明の目的）
本発明は上述した従来のマイクロレンズの製造方法の欠
点を排除した、周縁の表面荒れのない完全なマイクロレ
ンズの製造方法の提供を目的とする。
点を排除した、周縁の表面荒れのない完全なマイクロレ
ンズの製造方法の提供を目的とする。
（発明の構成）
上記目的を達成するため本発明は、プロキイシイミティ
露光で感光性のたとえばアクリル系樹脂をマイクロレン
ズ状に形成させた後、その表面全体に上記と同じ感光性
アクリル系樹脂を塗布して光硬化させて、完全な機能の
マイクロレンズを製造するものである。
露光で感光性のたとえばアクリル系樹脂をマイクロレン
ズ状に形成させた後、その表面全体に上記と同じ感光性
アクリル系樹脂を塗布して光硬化させて、完全な機能の
マイクロレンズを製造するものである。
（実施例の説明）
以下本発明を一実施例により説明する。
まず本発明は、前述の従来例の説明と同様にプロキイシ
イミティ露光により、感光性のたとえばアクリル系樹脂
２をフォトマスク４を用いて通常に露光、現像させた、
周縁が乱反射する不完全なマイクロレンズ７を形成する
。これまでの形成法は従来と同様であり、煩雑になるか
ら詳しい説明を省略する。
イミティ露光により、感光性のたとえばアクリル系樹脂
２をフォトマスク４を用いて通常に露光、現像させた、
周縁が乱反射する不完全なマイクロレンズ７を形成する
。これまでの形成法は従来と同様であり、煩雑になるか
ら詳しい説明を省略する。
つぎに、上述の不完全なマイクロレンズ７の表面に、第
３図のように、透明な感光性のアクリル系樹脂８を薄く
、たとえば０．１μ履厚に塗布して光硬化させる。
３図のように、透明な感光性のアクリル系樹脂８を薄く
、たとえば０．１μ履厚に塗布して光硬化させる。
このようにすれば不完全なマイクロレンズ７は周縁の乱
反射部分がなくなり完全なものとなる６なお、塗布する
アクリル系樹脂８は、マイクロレンズ７を形成するに用
いたと同じの、アクリル系樹脂を用いることが好ましく
、そうすることにより屈折率に変化がないから、マイク
ロレンズ７とアクリル系樹脂８の塗布との界面での反射
、屈折がなく、したがって優れたマイクロレンズとなる
。
反射部分がなくなり完全なものとなる６なお、塗布する
アクリル系樹脂８は、マイクロレンズ７を形成するに用
いたと同じの、アクリル系樹脂を用いることが好ましく
、そうすることにより屈折率に変化がないから、マイク
ロレンズ７とアクリル系樹脂８の塗布との界面での反射
、屈折がなく、したがって優れたマイクロレンズとなる
。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明は、基板上に感光性樹脂を
塗布して、プロキイシイミティ露光により、マイクロレ
ンズのパターンを形成し、その表面を上記と同じ感光性
樹脂を塗布、硬化させるものであり、マイクロレンズ周
縁からの乱反射のない優れたマイクロレンズとなるがら
、近時の光通信分野を初めとする光フアイバ伝送路にお
ける、光結合または分岐に用いて大きく貢献する。
塗布して、プロキイシイミティ露光により、マイクロレ
ンズのパターンを形成し、その表面を上記と同じ感光性
樹脂を塗布、硬化させるものであり、マイクロレンズ周
縁からの乱反射のない優れたマイクロレンズとなるがら
、近時の光通信分野を初めとする光フアイバ伝送路にお
ける、光結合または分岐に用いて大きく貢献する。
第１図及び第２図は従来例の製造方法の工程を示す断面
図、第３図は本発明の製造方法の工程要部を示す断面図
である。 １ ・・・ガラス基板、 ２１・・・感光性のアクリル
＋Ｖ 系樹脂、 ３・・・透光部、 ４ ・・・フォトマスク
、 ６ ・・・ギャップ、 ７ ・・・マイクロレンズ
、 ８ ・・・アクリル系樹脂。 第１図 第２図 第３図
図、第３図は本発明の製造方法の工程要部を示す断面図
である。 １ ・・・ガラス基板、 ２１・・・感光性のアクリル
＋Ｖ 系樹脂、 ３・・・透光部、 ４ ・・・フォトマスク
、 ６ ・・・ギャップ、 ７ ・・・マイクロレンズ
、 ８ ・・・アクリル系樹脂。 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 基板上に感光性樹脂を塗布する工程と、この感光性樹脂
をプロキィシィミティ露光及び現像によって、マイクロ
レンズパターンに形成する工程と、及び該マイクロレン
ズパターンの表面に、前記感光性樹脂と同じ感光性樹脂
を薄く塗布して、光硬化させる工程を含むことを特徴と
するマイクロレンズの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27385184A JPS61153602A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | マイクロレンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27385184A JPS61153602A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | マイクロレンズの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61153602A true JPS61153602A (ja) | 1986-07-12 |
Family
ID=17533433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27385184A Pending JPS61153602A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | マイクロレンズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61153602A (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5161042A (en) * | 1990-06-28 | 1992-11-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color liquid crystal display device using dichroic mirrors for focusing different colors in different directions |
| US7144752B2 (en) * | 2003-06-06 | 2006-12-05 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing organic electroluminescent display device and organic electroluminescent display device, and display device equipped with organic electroluminescent display device |
| WO2008090640A1 (ja) | 2007-01-23 | 2008-07-31 | Fujifilm Corporation | オキシム化合物、感光性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶表示素子 |
| WO2008138732A1 (en) | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| JP2009157397A (ja) * | 2009-04-13 | 2009-07-16 | Sony Corp | 固体撮像素子の製造方法、固体撮像素子 |
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| WO2012045736A1 (en) | 2010-10-05 | 2012-04-12 | Basf Se | Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions |
| WO2013083505A1 (en) | 2011-12-07 | 2013-06-13 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2013167515A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2015004565A1 (en) | 2013-07-08 | 2015-01-15 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2015036910A1 (en) | 2013-09-10 | 2015-03-19 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US9051397B2 (en) | 2010-10-05 | 2015-06-09 | Basf Se | Oxime ester |
| WO2020152120A1 (en) | 2019-01-23 | 2020-07-30 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore |
| WO2021175855A1 (en) | 2020-03-04 | 2021-09-10 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
Citations (2)
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| JPS57173805A (en) * | 1981-04-20 | 1982-10-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Optical filter and its manufacture |
| JPS5986001A (ja) * | 1982-11-09 | 1984-05-18 | Showa Denko Kk | プラスチツクレンズの表面コ−テイング法 |
-
1984
- 1984-12-27 JP JP27385184A patent/JPS61153602A/ja active Pending
Patent Citations (2)
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| US9051397B2 (en) | 2010-10-05 | 2015-06-09 | Basf Se | Oxime ester |
| WO2012045736A1 (en) | 2010-10-05 | 2012-04-12 | Basf Se | Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions |
| WO2013083505A1 (en) | 2011-12-07 | 2013-06-13 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US9365515B2 (en) | 2011-12-07 | 2016-06-14 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP2963015A1 (en) | 2012-05-09 | 2016-01-06 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US11204554B2 (en) | 2012-05-09 | 2021-12-21 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP2963016A1 (en) | 2012-05-09 | 2016-01-06 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP2963014A1 (en) | 2012-05-09 | 2016-01-06 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2013167515A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US9864273B2 (en) | 2012-05-09 | 2018-01-09 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US11209734B2 (en) | 2012-05-09 | 2021-12-28 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| EP3354641A1 (en) | 2012-05-09 | 2018-08-01 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US10488756B2 (en) | 2012-05-09 | 2019-11-26 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| US11209733B2 (en) | 2012-05-09 | 2021-12-28 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
| WO2015004565A1 (en) | 2013-07-08 | 2015-01-15 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
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