JPS5829894Y2 - electron gun structure - Google Patents
electron gun structureInfo
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- JPS5829894Y2 JPS5829894Y2 JP1978122356U JP12235678U JPS5829894Y2 JP S5829894 Y2 JPS5829894 Y2 JP S5829894Y2 JP 1978122356 U JP1978122356 U JP 1978122356U JP 12235678 U JP12235678 U JP 12235678U JP S5829894 Y2 JPS5829894 Y2 JP S5829894Y2
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- electron gun
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- grid
- insulating support
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は電子銃構体、特に陰極線管内部に高電圧を抵抗
分割方式によりフォーカス電圧を供給する抵抗素子に関
するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electron gun assembly, particularly to a resistive element that supplies a focus voltage to the interior of a cathode ray tube by using a resistance division method to supply a high voltage.
従来より、電子銃構体の一部を形成するフォーカス電極
にフォーカス電圧を供給する抵抗素子は、電子銃電極支
持用の絶縁支持体の上面に例えばAg−Pd 、Ru0
2に結合剤、ガラスフリットを加えた高抵抗材料を帯状
に塗布したりあるいは抵抗回路のパターンを当ててその
上方から高抵抗材料を印刷するなどの方法により形成し
ていた。Conventionally, a resistive element that supplies a focus voltage to a focus electrode forming a part of an electron gun structure is made of, for example, Ag-Pd, Ru0, on the upper surface of an insulating support for supporting the electron gun electrode.
It was formed by applying a high-resistance material containing a binder and glass frit to 2 in the form of a belt, or by applying a resistor circuit pattern and printing the high-resistance material from above.
このため、抵抗素子の長さにバラツキを生じ、所望の抵
抗値が得られなかったり、また抵抗材料を絶縁支持体の
上面に塗布するため、抵抗回路の途中で隣接する高抵抗
材料の電位差が大きくなる曲折部において放電を起すな
どの欠点を有していた。For this reason, the length of the resistance element may vary, making it impossible to obtain the desired resistance value, and because the resistance material is coated on the top surface of the insulating support, the potential difference between adjacent high-resistance materials may occur in the middle of the resistance circuit. It had the disadvantage of causing electric discharge at the bending portion which becomes larger.
したがって本考案の目的は、絶縁支持体の上面に抵抗回
路パターンの溝を設けてこの溝の中に高抵抗材料を流し
込み充填させることによって、抵抗長を一定とするとと
もに隣接する高抵抗材料の電位差が大きくなる曲折部で
の放電を防止させたものである。Therefore, the purpose of the present invention is to provide a groove with a resistor circuit pattern on the top surface of an insulating support, and fill the groove with a high-resistance material, thereby making the resistance length constant and the potential difference between adjacent high-resistance materials. This prevents electrical discharge at the bending portion where the amount of energy increases.
以下図面を用いて本考案による電子銃構体について詳細
に説明する。The electron gun assembly according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第1図は本考案による電子銃構体、特にカラーブラウン
管内に収納されたインライン型3ビーム一体構造の電子
銃構体の一例を示す要部構成図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the main parts of an electron gun assembly according to the present invention, particularly an example of an in-line three-beam integrated electron gun assembly housed in a color cathode ray tube.
同図において、1はカラーブラウン管のネック部、2は
ネック部1の内壁から図示しないファンネル部内壁に延
在する内部導電膜、3は内部導電膜2に供給された高電
圧を電子銃に導入するコンタクタ−14はネック部1端
面に貫通配置されて電子銃に電源を供給するステムリー
ド、5は電子銃の各電極のカソード、6は第1グリツド
、7は第2グリツド、8はフォーカス電極である第3グ
リツド、9は第4グリツド、10はシールドカップであ
る。In the figure, 1 is the neck of a color cathode ray tube, 2 is an internal conductive film extending from the inner wall of the neck part 1 to the inner wall of the funnel part (not shown), and 3 is a high voltage supplied to the internal conductive film 2, which is introduced into the electron gun. A contactor 14 is disposed through the end face of the neck portion 1 to supply power to the electron gun, a stem lead 5 is a cathode of each electrode of the electron gun, 6 is a first grid, 7 is a second grid, and 8 is a focus electrode. is the third grid, 9 is the fourth grid, and 10 is the shield cup.
また、11はマルチフオームガラスよりなる絶縁支持体
であり、この絶縁支持体11は、上記カソード5.第1
グリツド6、第2グリツド7、第3グリッド8.第4グ
リツド9およびシールドカップ10から構成される電子
銃電極群を同一軸上に強固に保持固定させている。Further, 11 is an insulating support made of multiform glass, and this insulating support 11 is connected to the cathode 5. 1st
grid 6, second grid 7, third grid 8. The electron gun electrode group consisting of the fourth grid 9 and the shield cup 10 is firmly held and fixed on the same axis.
また、この絶縁支持体11の外面側、つまり上記電極群
固定部の背面側には第2図に示すように長手方向に沿っ
てジグザグ状に凹溝12が形成されている。Further, on the outer surface side of the insulating support 11, that is, on the back side of the electrode group fixing part, a groove 12 is formed in a zigzag shape along the longitudinal direction, as shown in FIG.
そして、この凹溝12内には第3図に示すように高抵抗
材料13を流し込み、充填させて抵抗値の異なる高抵抗
素子14A、14Bが形成されている。As shown in FIG. 3, a high-resistance material 13 is poured and filled into the groove 12 to form high-resistance elements 14A and 14B having different resistance values.
(第1図参照)。この場合、この凹溝12の長さは、高
抵抗材料13の単位長当りの抵抗値およびフォーカス電
極に印加する所望のフォーカス電圧を与えるための高抵
抗分割比から決定する。(See Figure 1). In this case, the length of the groove 12 is determined from the resistance value per unit length of the high resistance material 13 and the high resistance division ratio for providing a desired focus voltage to be applied to the focus electrode.
また、この高抵抗素子14A、14Bの中間点14Cは
、フォーカス電圧を取り出すタップ点であり、この中間
点14 Cはフォーカス電極である第3グリツド8に導
線15を介して接続され、また高抵抗素子14A側の端
子14 aは導体15を介してシールドカップ10に接
続され、また高抵抗素子14B側の端子14bは導体1
5を介してステムリード4に接続され、このステムリー
ド4は可変抵抗素子16に接続され、その他端側はアー
ス接抄されている。Further, a midpoint 14C between the high resistance elements 14A and 14B is a tap point from which the focus voltage is taken out, and this midpoint 14C is connected to the third grid 8, which is a focus electrode, via a conductor 15, and the high resistance The terminal 14a on the element 14A side is connected to the shield cup 10 via the conductor 15, and the terminal 14b on the high resistance element 14B side is connected to the conductor 1
5 to a stem lead 4, which is connected to a variable resistance element 16, and the other end thereof is grounded.
このように構成された電子銃構体においては、図示しな
いカラーブラウン管アノードに供給された約25KVの
高電圧が内部導電膜2に印加され、シールドカップ10
に取り付けられたコンタクタ−3を介して第4グリツド
9に供給される。In the electron gun assembly configured in this way, a high voltage of about 25 KV supplied to the anode of a color cathode ray tube (not shown) is applied to the internal conductive film 2, and the shield cup 10
The fourth grid 9 is supplied via a contactor 3 attached to the fourth grid 9.
つまり高抵抗素子14A、14Bの端子14aには約2
5KVの高電圧が印加されることになる。In other words, the terminal 14a of the high resistance elements 14A and 14B has approximately 2
A high voltage of 5KV will be applied.
そして、絶縁支持体11に設けた高抵抗素子14A、1
4Bおよび外部に設けた可変抵抗素子16を抵抗分割比
により高抵抗素子14A、14Bの中間点14 Cに第
4グリツド9に印加された約25KVの高電圧の約20
%のフォーカス電圧が印加するように可変抵抗素子16
を可変して設定することによって電子ビームを螢光面上
に最良に集束させることができる。Then, high resistance elements 14A, 1 provided on the insulating support 11
4B and the externally provided variable resistance element 16 are connected to the intermediate point 14C between the high resistance elements 14A and 14B using a resistance division ratio of about 20% of the high voltage of about 25KV applied to the fourth grid 9.
% focus voltage is applied to the variable resistance element 16.
By setting variably, the electron beam can be optimally focused on the fluorescent surface.
例えば、高抵抗素子14Aの抵抗値を90MQ、他方の
高抵抗素子14Bの抵抗値を20MΩとし、外部可変抵
抗値を0〜15MJ7に設定すると、フォーカス電圧取
り出し用中間点14 Cには約4〜7KVのフォーカス
電圧を取り出すことができる。For example, if the resistance value of the high-resistance element 14A is 90MQ, the resistance value of the other high-resistance element 14B is 20MΩ, and the external variable resistance value is set to 0 to 15MJ7, the intermediate point 14C for focus voltage extraction has a resistance of about 4 to A focus voltage of 7KV can be extracted.
なお、上記実施例において、電子銃構体はパイポテンシ
ャル形電子銃を用いた場合について説明したが、本考案
はこれに限定されることなく、一般の陰極線管のパイポ
テンシャル形電子銃、ユニポテンシャル形電子銃、多段
集束形電子銃にも採用できる。In the above embodiments, the case where the electron gun assembly uses a pi-potential type electron gun is explained, but the present invention is not limited to this, and can be applied to a pi-potential type electron gun of a general cathode ray tube, a unipotential type electron gun, etc. It can also be used in electron guns and multi-stage focusing electron guns.
以上説明したように本考案による電子銃構体によれば、
絶縁支持体の予め定まった溝の中に高抵抗材料を充填す
るのみで抵抗値が定まり、量産上極めて大きな効果が得
られる。As explained above, according to the electron gun assembly according to the present invention,
The resistance value is determined simply by filling the predetermined grooves of the insulating support with a high-resistance material, which is extremely effective in terms of mass production.
また、溝の中に高抵抗材料を充填するため、隣接する部
分が絶縁支持体であるマルチフオームガラスで分離され
るため、抵抗パターンの迂曲線部等の電位差の大なる部
分の放電を防止することができるなどの優れた効果が得
られる。In addition, since the grooves are filled with high-resistance material, adjacent parts are separated by multiform glass, which is an insulating support, which prevents discharge in parts with large potential differences, such as roundabout curves of the resistance pattern. You can get excellent effects such as:
第1図は本考案による電子銃構体の一例を示す要部構成
図、第2図および第3図は本考案による電子銃構体の絶
縁支持体の一例を示す要部斜視図および要部断面図であ
る。
1・・・・・・ネック部、2・・・・・・内部導電膜、
3・・・・・・コンタクタ−14・・・・・・ステムリ
ード、5・・・・・・カソード、6・・・・・・第1グ
リツド、7・・・・・・第2グリツド、8・・・・・・
第3グリツド(フォーカス電極)、9・・・・・・第4
グリツド、10・・・・・・シールドカップ、11・・
・・・・絶縁支持体、12・・・・・・凹溝、13・・
・・・・高抵抗材料、14A、14B・・・・・・高抵
抗素子、14a、14b・・・・・・端子、14 C・
・・・・・中間点、15・・・・・・導体、16・・・
・・・可変抵抗素子。FIG. 1 is a configuration diagram of a main part showing an example of an electron gun structure according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 are a perspective view and a sectional view of a main part showing an example of an insulating support of an electron gun structure according to the present invention. It is. 1... Neck part, 2... Internal conductive film,
3... Contactor-14... Stem lead, 5... Cathode, 6... First grid, 7... Second grid, 8...
3rd grid (focus electrode), 9...4th
Grits, 10...Shield Cup, 11...
... Insulating support, 12 ... Concave groove, 13 ...
...High resistance material, 14A, 14B...High resistance element, 14a, 14b...Terminal, 14 C.
...Middle point, 15...Conductor, 16...
...Variable resistance element.
Claims (1)
子銃構体において、前記絶縁支持体の表面に溝を設け、
該溝の中に高抵抗材料を充填して高抵抗素子を形成し、
該高抵抗素子の一部から前記フォーカス電極にフォーカ
ス電圧を供給するようにしたことを特徴とする電子銃構
体。In an electron gun assembly including an insulating support for holding and fixing a plurality of electrode groups, a groove is provided on the surface of the insulating support,
filling the groove with a high-resistance material to form a high-resistance element;
An electron gun assembly characterized in that a focus voltage is supplied to the focus electrode from a part of the high resistance element.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1978122356U JPS5829894Y2 (en) | 1978-09-05 | 1978-09-05 | electron gun structure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1978122356U JPS5829894Y2 (en) | 1978-09-05 | 1978-09-05 | electron gun structure |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5538484U JPS5538484U (en) | 1980-03-12 |
JPS5829894Y2 true JPS5829894Y2 (en) | 1983-06-30 |
Family
ID=29080395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1978122356U Expired JPS5829894Y2 (en) | 1978-09-05 | 1978-09-05 | electron gun structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5829894Y2 (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5514627A (en) * | 1978-07-15 | 1980-02-01 | Sony Corp | Voltage dividing resistor for electron gun structure |
-
1978
- 1978-09-05 JP JP1978122356U patent/JPS5829894Y2/en not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5514627A (en) * | 1978-07-15 | 1980-02-01 | Sony Corp | Voltage dividing resistor for electron gun structure |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5538484U (en) | 1980-03-12 |
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