JPH10339740A - Probe device - Google Patents

Probe device

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Publication number
JPH10339740A
JPH10339740A JP15137797A JP15137797A JPH10339740A JP H10339740 A JPH10339740 A JP H10339740A JP 15137797 A JP15137797 A JP 15137797A JP 15137797 A JP15137797 A JP 15137797A JP H10339740 A JPH10339740 A JP H10339740A
Authority
JP
Japan
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wiring
substrate
board
pattern
power supply
Prior art date
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Pending
Application number
JP15137797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshinori Ishii
利昇 石井
Naoki Kato
直樹 加藤
Hideaki Yoshida
秀昭 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP15137797A priority Critical patent/JPH10339740A/en
Publication of JPH10339740A publication Critical patent/JPH10339740A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe device which can make a printed circuit board common in spite of a change in the pattern wiring design of contact probe corresponding to the electrode arrangement or the like of object to be measured. SOLUTION: Pattern wiring 3 of contact probe 16 is composed of wiring 3E for power source, wiring 3G for ground and wiring 3S for signal transmission at least and substrate side pattern wiring 31 of substrate 30 for wiring is composed of wiring 31E for substrate side power source, wiring 31G for substrate side ground and wiring 31S for substrate side signal transmission at least. Then, the wiring 31E for substrate side power source is provided on this substrate 30 for wiring so as to be extended in a direction crossing the pattern wiring 3 of contact probe 16, the wiring 31G for substrate side ground is provided almost parallelly with the wiring 31E for substrate side power source, and the wiring 3S for substrate side signal transmission is provided along with the arranging direction of the pattern wiring 3 of contact probe 16.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プローブピンやソ
ケットピン等として用いられ、プローブカードやテスト
用ソケット等に組み込まれて半導体ICチップや液晶デ
バイス等の各端子に接触して電気的なテストを行うプロ
ーブ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used as a probe pin, a socket pin, or the like, and is incorporated in a probe card, a test socket, or the like, and contacts each terminal of a semiconductor IC chip, a liquid crystal device, or the like to perform an electrical test. The present invention relates to a probe device for performing the above.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ICチップやLSIチップ等の
半導体チップ又はLCD(液晶表示体)の各端子に接触
させて電気的なテストを行うために、コンタクトピンが
用いられている。近年、ICチップ等の高集積化および
微細化に伴って電極であるコンタクトパッドが狭ピッチ
化されるとともに、コンタクトピンの多ピン狭ピッチ化
が要望されている。しかしながら、コンタクトピンとし
て用いられていたタングステン針のコンタクトプローブ
では、タングステン針の径の限界から多ピン狭ピッチへ
の対応が困難になっていた。
2. Description of the Related Art In general, a contact pin is used to conduct an electrical test by contacting a semiconductor chip such as an IC chip or an LSI chip or each terminal of an LCD (liquid crystal display). In recent years, as the integration and miniaturization of IC chips and the like have increased, the pitch of contact pads, which are electrodes, has been reduced, and the pitch of contact pins has been required to be narrower. However, with a tungsten needle contact probe used as a contact pin, it has been difficult to cope with a multi-pin narrow pitch due to the limitation of the diameter of the tungsten needle.

【0003】これに対して、例えば、特公平7−820
27号公報に、複数のパターン配線が樹脂フィルム上に
形成されこれらのパターン配線の各先端部が前記樹脂フ
ィルムから突出状態に配されてコンタクトピンとされる
技術が提案されている。この技術例では、複数のパター
ン配線の先端部をコンタクトピンとすることによって、
多ピン狭ピッチ化を図るとともに、複雑な多数の部品を
不要とするものである。
On the other hand, for example, Japanese Patent Publication No. 7-820
Japanese Patent Publication No. 27 proposes a technique in which a plurality of pattern wirings are formed on a resin film, and the tips of these pattern wirings are arranged so as to protrude from the resin film and serve as contact pins. In this technology example, by using the tip of a plurality of pattern wiring as a contact pin,
This aims to reduce the pitch of the pins and to eliminate the need for a large number of complicated components.

【0004】従来のコンタクトプローブ1は、図16に
示すように、ポリイミド樹脂フィルム2の片面にNi
(ニッケル)またはNi合金で形成されるパターン配線
3を張り付けた構造となっており、前記樹脂フィルム2
の端部から前記パターン配線3の先端部が突出してコン
タクトピン3aとされている。なお、符号4は、後述す
る位置合わせ穴である。
As shown in FIG. 16, a conventional contact probe 1 has a Ni
(Nickel) or Ni alloy, and has a structure in which a pattern wiring 3 is attached.
The tip of the pattern wiring 3 protrudes from the end of the pattern wiring 3 to form a contact pin 3a. Reference numeral 4 denotes an alignment hole described later.

【0005】また、例えば、特開平6−324081号
公報に、パターン配線の先端部をコンタクトピンとした
上記コンタクトプローブ(当該公報におけるフレキシブ
ル基板)を用いたプローブ装置(プローブカード)が提
案されている。このプローブ装置では、ICチップ等と
テスターとの間のピンピッチの相違等に対する整合が採
られ、多ピン狭ピッチのICチップ等のプローブテスト
に好適である。
[0005] For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-324081 proposes a probe device (probe card) using the above-mentioned contact probe (flexible substrate in the publication) having a contact pin at the tip of a pattern wiring. In this probe device, matching is applied to a difference in pin pitch between an IC chip or the like and a tester, and the probe device is suitable for a probe test of an IC chip or the like having a narrow pin pitch.

【0006】次に、図17から図21を参照して、上記
従来のコンタクトプローブ1をメカニカルパーツ10に
組み込んで、上記従来のプローブ装置11にする構成に
ついて説明する。
Next, a configuration of the above-mentioned conventional probe device 11 by incorporating the above-mentioned conventional contact probe 1 into a mechanical part 10 will be described with reference to FIGS.

【0007】図17は、前記コンタクトプローブ1をI
Cプローブとして所定形状に切り出したものを示す図で
あり、図18は、図17のC−C線断面図である。図1
7および図18に示すように、コンタクトプローブ1の
樹脂フィルム2には、コンタクトプローブ1を固定する
ための孔9が設けられ、また、パターン配線3から得ら
れた信号をプリント基板15(図19参照)に伝えるた
めの窓19が設けられている。
FIG. 17 shows that the contact probe 1 is
FIG. 18 is a diagram illustrating a C probe cut out into a predetermined shape, and FIG. 18 is a cross-sectional view taken along line CC of FIG. 17. FIG.
As shown in FIG. 7 and FIG. 18, the resin film 2 of the contact probe 1 is provided with a hole 9 for fixing the contact probe 1, and a signal obtained from the pattern wiring 3 is transferred to a printed board 15 (FIG. 19). Window 19 is provided for communication to the user.

【0008】前記メカニカルパーツ10は、マウンティ
ングベース12と、トップクランプ13と、ボトムクラ
ンプ14とからなっている。まず、プリント基板15の
上にトップクランプ13を取付け、次に、コンタクトプ
ローブ1を取り付けたマウンティングベース12をトッ
プクランプ13にボルト穴17aにボルト17を螺合さ
せて取り付ける(図20参照)。そして、ボトムクラン
プ14でコンタクトプローブ1を押さえ込むことによ
り、パターン配線3を一定の傾斜状態に保ち、該パター
ン配線3をICチップに押しつける。
The mechanical part 10 includes a mounting base 12, a top clamp 13, and a bottom clamp 14. First, the top clamp 13 is mounted on the printed circuit board 15, and then the mounting base 12 to which the contact probe 1 is mounted is mounted on the top clamp 13 by screwing a bolt 17 into a bolt hole 17a (see FIG. 20). Then, by holding down the contact probe 1 with the bottom clamp 14, the pattern wiring 3 is maintained in a constant inclined state, and the pattern wiring 3 is pressed against the IC chip.

【0009】図20は、組立終了後のプローブ装置11
を示している。図21は、図20のE−E線断面図であ
る。図21に示すように、パターン配線3の先端は、マ
ウンティングベース12によりICチップIに接触して
いる。前記マウンティングベース12には、コンタクト
プローブ1の位置を調整するための位置決めピン18が
設けられており、この位置決めピン18をコンタクトプ
ローブ1の前記位置合わせ穴4に挿入することにより、
パターン配線3とICチップIとを正確に位置合わせす
ることができるようになっている。
FIG. 20 shows the probe device 11 after the assembly is completed.
Is shown. FIG. 21 is a sectional view taken along line EE of FIG. As shown in FIG. 21, the tip of the pattern wiring 3 is in contact with the IC chip I by the mounting base 12. The mounting base 12 is provided with a positioning pin 18 for adjusting the position of the contact probe 1. By inserting the positioning pin 18 into the positioning hole 4 of the contact probe 1,
The pattern wiring 3 and the IC chip I can be accurately positioned.

【0010】コンタクトプローブ1に設けられた窓19
の部分のパターン配線3に、ボトムクランプ14の弾性
体20を押しつけて、前記窓部19のパターン配線3を
プリント基板15の電極21に接触させ、パターン配線
3から得られた信号をプリント基板15の電極21を通
して外部に伝えることができるようになっている。
A window 19 provided in the contact probe 1
The elastic body 20 of the bottom clamp 14 is pressed against the pattern wiring 3 of the portion of FIG. 4 to bring the pattern wiring 3 of the window 19 into contact with the electrode 21 of the printed circuit board 15, and the signal obtained from the pattern wiring 3 is printed. Through the electrodes 21.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のコンタクトプローブ1およびこれを用いたプローブ
装置11には、以下のような課題が残されている。図1
7に示すように、前記パターン配線3には、信号伝送用
配線3Sの他、電源供給用配線3Eおよび接地用配線3
Gの三種類がある。したがって、前記窓部19のパター
ン配線3を接触させるプリント基板15の電極21の配
置については、前記三種類のパターン配線3の配置に応
じて設計される必要があった。すなわち、各種パターン
配線3S,3E,3Gは、樹脂フィルム2の平面上に並
列的に形成され、窓部19において露出した各種パター
ン配線3S,3E,3Gが、ボトムクランプ14で押圧
されてプリント基板15の電極21に接触するようにさ
れていることから、プリント基板15の電極21のパッ
ド配置は、三種類のパターン配線3S,3E,3Gの配
置に拘束され、自由度がなかった。よって、ICチップ
Iの電極配置に応じて、コンタクトプローブ1のパター
ン配線3のデザインを変更するときには、同時に、プリ
ント基板15の電極21のパッド配置をも変更せざるを
得ず、コストが嵩むという問題があった。
However, the above-mentioned conventional contact probe 1 and the probe device 11 using the same have the following problems. FIG.
As shown in FIG. 7, the pattern wiring 3 includes a power supply wiring 3E and a ground wiring 3 in addition to the signal transmission wiring 3S.
There are three types of G. Therefore, the layout of the electrodes 21 of the printed circuit board 15 that makes the pattern wiring 3 of the window portion 19 contact must be designed in accordance with the layout of the three types of pattern wiring 3. That is, the various pattern wirings 3S, 3E, and 3G are formed in parallel on the plane of the resin film 2, and the various pattern wirings 3S, 3E, and 3G exposed at the window 19 are pressed by the bottom clamp 14 and printed. Since the electrodes 21 are in contact with the fifteen electrodes 21, the pad arrangement of the electrodes 21 of the printed circuit board 15 is restricted by the arrangement of the three types of pattern wirings 3S, 3E, and 3G, and there is no degree of freedom. Therefore, when the design of the pattern wiring 3 of the contact probe 1 is changed in accordance with the electrode arrangement of the IC chip I, the pad arrangement of the electrodes 21 of the printed circuit board 15 must be changed at the same time, which increases costs. There was a problem.

【0012】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
ので、測定対象物の電極配置等に応じた、コンタクトプ
ローブのパターン配線のデザインの変更に関わらず、プ
リント基板を共通化させることのできるプローブ装置を
提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and is intended to provide a common printed circuit board regardless of a change in the design of the pattern wiring of a contact probe in accordance with the arrangement of electrodes of an object to be measured. It is an object of the present invention to provide a probe device that can perform the above.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために以下の構成を採用した。すなわち、請求項
1記載のプローブ装置では、複数のパターン配線がフィ
ルム面上に形成されこれらのパターン配線の各先端が前
記フィルムの先端部から突出状態に配されてコンタクト
ピンとされるコンタクトプローブと、このコンタクトプ
ローブの前記パターン配線の途中または後端側に接触状
態にそれぞれ接続される複数の基板側パターン配線を有
する配線用基板とを備えたプローブ装置であって、前記
コンタクトプローブのパターン配線は、少なくとも電源
用配線と接地用配線と信号伝送用配線とから構成され、
前記配線用基板の基板側パターン配線は、少なくとも前
記電源用配線と接続される基板側電源用配線と、前記接
地用配線と接続される基板側接地用配線と、前記信号伝
送用配線と接続される基板側信号伝送用配線とから構成
され、前記基板側電源用配線は、前記配線用基板におい
て、前記コンタクトプローブのパターン配線に交差する
方向に延在するように設けられ、前記基板側接地用配線
は、前記配線用基板において、前記基板側電源用配線と
略平行に設けられ、前記基板側信号伝送用配線は、前記
配線用基板において、前記コンタクトプローブのパター
ン配線の配列方向に沿って設けられている技術が採用さ
れる。
The present invention has the following features to attain the object mentioned above. That is, in the probe device according to claim 1, a plurality of pattern wirings are formed on the film surface, and each tip of these pattern wirings is arranged in a protruding state from the leading end of the film to be a contact pin, and A wiring board having a plurality of board-side pattern wirings connected to the middle or rear end side of the pattern wiring of the contact probe in a contact state, respectively, wherein the pattern wiring of the contact probe is It is composed of at least a power supply wiring, a grounding wiring, and a signal transmission wiring,
The board-side pattern wiring of the wiring board is connected to at least the board-side power supply wiring connected to the power supply wiring, the board-side grounding wiring connected to the grounding wiring, and the signal transmission wiring. And the substrate-side power supply wiring is provided on the wiring substrate so as to extend in a direction intersecting with the pattern wiring of the contact probe, and the substrate-side grounding is provided. The wiring is provided substantially in parallel with the substrate-side power supply wiring on the wiring substrate, and the substrate-side signal transmission wiring is provided along the arrangement direction of the pattern wiring of the contact probe on the wiring substrate. Technology is adopted.

【0014】このプローブ装置では、前記配線用基板に
おいて、前記基板側電源用配線は、前記コンタクトプロ
ーブのパターン配線に交差する方向に延在するように設
けられ、前記基板側接地用配線は、前記基板側電源用配
線と略平行に設けられ、前記基板側信号伝送用配線は、
前記コンタクトプローブのパターン配線の配列方向に沿
って設けられているため、パターン配線の全ての配線
は、フィルム面上のいずれの位置に形成されていようと
も、基板側パターン配線の三種類のいずれに対しても接
続可能となっている。したがって、測定対象物の電極配
置等に応じて、コンタクトプローブの各種パターン配線
のデザインを変更するときであっても、配線用基板の電
極(基板側パターン配線)の配置を変更する必要がな
い。これにより、配線用基板を共通化することができ
る。
In this probe device, in the wiring board, the substrate-side power supply wiring is provided so as to extend in a direction intersecting the pattern wiring of the contact probe, and the substrate-side grounding wiring is provided in the wiring board. Provided substantially parallel to the board-side power supply wiring, the board-side signal transmission wiring,
Since the contact probes are provided along the arrangement direction of the pattern wiring, all the wirings of the pattern wiring may be formed at any of the three positions of the substrate-side pattern wiring, regardless of where they are formed on the film surface. The connection is also possible. Therefore, it is not necessary to change the arrangement of the electrodes (board-side pattern wiring) of the wiring substrate even when the design of various pattern wirings of the contact probe is changed according to the electrode arrangement of the measurement object. Thereby, the wiring substrate can be shared.

【0015】請求項2記載のプローブ装置では、請求項
1記載のプローブ装置において、前記コンタクトプロー
ブのパターン配線は、前記フィルムの後端部から突出状
態に配されて前記基板側パターン配線に接続される接続
部とされ、前記パターン配線の前記電源用配線、前記接
地用配線および前記信号伝送用配線は、それぞれの前記
接続部が、前記基板側電源用配線、基板側接地用配線お
よび基板側信号伝送用配線の位置まで到達可能なよう
に、前記配線用基板における前記基板側電源用配線、前
記基板側接地用配線および前記基板側信号伝送用配線の
それぞれの位置に応じて、前記フィルムの後端部からの
突出量がそれぞれ設定され、前記基板側電源用配線、前
記基板側接地用配線および前記基板側信号伝送用配線の
少なくとも一部には、それぞれ接続されるべき、前記コ
ンタクトプローブの前記電源用配線、前記接地用配線お
よび前記信号伝送用配線以外との接触を阻止する絶縁マ
スクが施されている技術が採用される。
According to a second aspect of the present invention, in the probe device according to the first aspect, the pattern wiring of the contact probe is arranged so as to protrude from a rear end of the film and is connected to the substrate-side pattern wiring. The power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring of the pattern wiring are respectively connected to the board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board-side signal. According to the respective positions of the board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board-side signal transmission wiring in the wiring board so that the wiring can reach the position of the transmission wiring, The amounts of protrusion from the ends are set, and at least a part of the board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board-side signal transmission wiring To be connected respectively, wherein the power line of the contact probe, techniques insulating mask is applied to prevent contact with other than the ground wiring and the signal transmission wiring is adopted.

【0016】このプローブ装置では、コンタクトプロー
ブのパターン配線は、その種類毎にフィルム後端部から
の突出量が変えられて、コンタクトプローブが配線用基
板に組み込まれてプローブ装置を構成したときに、それ
ぞれのパターン配線が接続されるべき各種基板側パター
ン配線に到達可能な長さに設定されており、かつ、各種
基板側パターン配線には、接続されるべき各種パターン
配線以外との接触を阻止する絶縁マスクが施されている
ため、ショートが防止されて両者間の適当な接続を確保
することができる。この場合、コンタクトプローブのパ
ターン配線のデザインが変更されたときには、そのデザ
イン変更の際に、その種類に応じて各種パターン配線の
長さを変えるとともに、各種基板側パターン配線に施す
絶縁マスクの位置を変えるだけでよいので、基板側パタ
ーン配線のデザイン変更までは要求されず、その意味で
配線用基板を共通化させることができる。ここで、絶縁
マスクの具体例としては、例えば、剥離可能な接着剤
や、ポリイミドテープ、レジスト等が挙げられる。
In this probe device, the amount of protrusion of the pattern wiring of the contact probe from the rear end of the film is changed for each type, and when the contact probe is incorporated in the wiring substrate to constitute the probe device, Each pattern wiring is set to a length that can reach the various pattern wirings on the substrate side to be connected, and the various pattern wirings on the substrate side are prevented from contacting other than the various pattern wirings to be connected. Since the insulating mask is provided, a short circuit is prevented and an appropriate connection between the two can be secured. In this case, when the design of the contact probe pattern wiring is changed, at the time of the design change, the lengths of the various pattern wirings are changed according to the type, and the positions of the insulating masks applied to the various board-side pattern wirings are changed. Since it is only necessary to change the wiring pattern, there is no need to change the design of the substrate-side pattern wiring, and in that sense, the wiring substrate can be shared. Here, specific examples of the insulating mask include a peelable adhesive, a polyimide tape, a resist, and the like.

【0017】請求項3記載のプローブ装置では、請求項
1記載のプローブ装置において、前記コンタクトプロー
ブのパターン配線は、前記フィルムの後端部から突出状
態に配されて前記基板側パターン配線に接続される接続
部とされ、前記パターン配線の前記電源用配線、前記接
地用配線および前記信号伝送用配線は、それぞれの前記
接続部が、前記基板側電源用配線、基板側接地用配線お
よび基板側信号伝送用配線の位置まで到達可能なよう
に、前記配線用基板における前記基板側電源用配線、前
記基板側接地用配線および前記基板側信号伝送用配線の
それぞれの位置に応じて、前記フィルムの後端部からの
突出量が設定され、前記コンタクトプローブのパターン
配線の各接続部または前記各基板側パターン配線の少な
くともいずれか一方には、前記各接続部が、それぞれ接
続されるべき前記基板側パターン配線とのみ接触するよ
うにバンプが形成されている技術が採用される。
According to a third aspect of the present invention, in the probe device of the first aspect, the pattern wiring of the contact probe is arranged so as to protrude from a rear end of the film and is connected to the substrate-side pattern wiring. The power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring of the pattern wiring are respectively connected to the board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board-side signal. According to the respective positions of the board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board-side signal transmission wiring in the wiring board so that the wiring can reach the position of the transmission wiring, An amount of protrusion from an end is set, and at least one of each connection portion of the pattern wiring of the contact probe or each of the substrate-side pattern wirings , The respective connecting portions, techniques bump into contact only with each connected thereto to the substrate-side pattern wiring is formed is employed.

【0018】このプローブ装置では、コンタクトプロー
ブのパターン配線の各接続部または各基板側パターン配
線にバンプを形成し、該バンプの箇所で接触状態にさせ
るため、バンプが形成されていない箇所での非接触状態
を得ることができる。したがって、コンタクトプローブ
の各接続部を、それぞれが接続されるべき基板側パター
ン配線とのみ接続させることが可能となる。
In this probe device, a bump is formed on each connection portion of the pattern wiring of the contact probe or on each substrate-side pattern wiring, and the bumps are brought into contact with each other. A contact state can be obtained. Therefore, it is possible to connect each connection portion of the contact probe only to the board-side pattern wiring to which each connection is to be made.

【0019】請求項4記載のプローブ装置では、請求項
1記載のプローブ装置において、前記コンタクトプロー
ブの前記電源用配線、前記接地用配線および前記信号伝
送用配線は、それぞれ接続されるべき前記基板側電源用
配線、前記基板側接地用配線および前記基板側信号伝送
用配線とのみ接触するようにワイヤボンディングで接続
されている技術が採用される。
According to a fourth aspect of the present invention, in the probe device according to the first aspect, the power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring of the contact probe are respectively connected to the substrate side. A technique is employed in which the power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board-side signal transmission wiring are connected only by wire bonding so as to be in contact with each other.

【0020】このプローブ装置では、コンタクトプロー
ブの各種パターン配線と各種基板側配線パターン配線と
はワイヤボンディングで接続され、そのワイヤは、接続
されるべき基板側パターン配線以外の配線の上方に配さ
れて、その配線とは非接触状態とすることができる。こ
のことから、コンタクトプローブの電源用配線、接地用
配線および信号伝送用配線を、それぞれ接続されるべき
基板側電源用配線、基板側接地用配線および基板側信号
伝送用配線とのみ接触させることができる。
In this probe device, various pattern wirings of the contact probe and various substrate-side wiring pattern wirings are connected by wire bonding, and the wires are arranged above wirings other than the substrate-side pattern wirings to be connected. , Can be in a non-contact state with the wiring. For this reason, the power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring of the contact probe can be brought into contact only with the substrate-side power supply wiring, the substrate-side grounding wiring, and the substrate-side signal transmission wiring to be connected, respectively. it can.

【0021】請求項5記載のプローブ装置では、請求項
1記載のプローブ装置において、前記コンタクトプロー
ブは、前記フィルムに形成された開口部から露出するパ
ターン配線が前記基板側パターン配線に対する接続部と
され、前記接続部を構成するフィルムの開口部は、前記
電源用配線、前記接地用配線および前記信号伝送用配線
が、それぞれ接続されるべき、前記基板側電源用配線、
前記基板側接地用配線および前記基板側信号伝送用配線
とのみ接触する位置に形成されている技術が採用され
る。
According to a fifth aspect of the present invention, in the probe device of the first aspect, the contact probe is such that a pattern wiring exposed from an opening formed in the film is a connection part to the substrate-side pattern wiring. The opening of the film constituting the connection portion, the power supply wiring, the grounding wiring and the signal transmission wiring, respectively, the substrate side power supply wiring, to be connected,
A technique formed at a position that is in contact with only the board-side ground wiring and the board-side signal transmission wiring is employed.

【0022】このプローブ装置では、コンタクトプロー
ブのパターン配線のデザイン変更の際に、フィルムに形
成する開口部の位置を変更するだけでよく、配線用基板
には、一切、手を加える必要がない。この場合、フィル
ムに対する開口部の形成に関しては、一旦、開口部の無
いコンタクトプローブを形成した後に、レーザー等の微
細な加工が可能な手段を用いて適当な位置のフィルムを
焼き切ることにより、事後的に開口部を形成してもよ
い。
In this probe device, when changing the design of the pattern wiring of the contact probe, it is only necessary to change the position of the opening formed in the film, and it is not necessary to make any changes to the wiring substrate. In this case, with respect to the formation of the opening in the film, after forming a contact probe having no opening once, the film at an appropriate position is burned off using a means capable of fine processing such as a laser, so that it can be post-processed. An opening may be formed in the opening.

【0023】請求項6記載のプローブ装置では、請求項
1記載のプローブ装置において、前記コンタクトプロー
ブは、その前記フィルムにおける前記パターン配線が形
成された面が、前記配線用基板における前記基板側パタ
ーン配線が形成された面と対向して配設され、前記コン
タクトプローブのパターン配線は、前記フィルムの後端
部から突出することなく前記フィルム面内に前記基板側
パターン配線に接続される接続部が設けられ、前記パタ
ーン配線の前記電源用配線、前記接地用配線および前記
信号伝送用配線は、それぞれの前記接続部が、前記基板
側電源用配線、基板側接地用配線および基板側信号伝送
用配線の各位置まで到達可能なように、前記配線用基板
における前記基板側電源用配線、前記基板側接地用配線
および前記基板側信号伝送用配線のそれぞれの位置に応
じて、長さがそれぞれ設定され、前記基板側電源用配
線、前記基板側接地用配線および前記基板用信号伝送用
配線の少なくとも一部には、それぞれ接続されるべき、
前記コンタクトプローブの前記電源用配線、前記接地用
配線および前記信号伝送用配線以外との接触を阻止する
絶縁マスクが施されている技術が採用される。
In the probe device according to a sixth aspect of the present invention, in the probe device according to the first aspect, the surface of the contact probe on which the pattern wiring is formed is the same as the substrate-side pattern wiring in the wiring substrate. The pattern wiring of the contact probe is provided in the film surface without protruding from a rear end of the film, and a connection portion connected to the substrate-side pattern wiring is provided without protruding from a rear end of the film. The power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring of the pattern wiring are each configured such that the connection portion is formed of the substrate-side power supply wiring, the substrate-side grounding wiring, and the substrate-side signal transmission wiring. The substrate-side power supply wiring, the substrate-side grounding wiring, and the substrate-side wiring in the wiring substrate so as to reach each position. In accordance with the respective positions of the signal transmission wires, the lengths are respectively set, and the board-side power supply wires, the board-side grounding wires, and at least a portion of the board signal transmission wires are connected to each other. Should,
A technique is employed in which an insulating mask for preventing contact of the contact probe with other than the power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring is applied.

【0024】このプローブ装置では、コンタクトプロー
ブのパターン配線をフィルムの後端部から突出させるこ
とがなく、パターン配線全長がフィルムで保護されるた
め、突出させる場合と比べて取扱いが容易である。
In this probe device, since the pattern wiring of the contact probe does not protrude from the rear end of the film and the entire length of the pattern wiring is protected by the film, the handling is easier than in the case of protruding.

【0025】請求項7記載のプローブ装置では、請求項
1から6のいずれかに記載のプローブ装置において、前
記コンタクトプローブのフィルムには、金属フィルムが
直接張り付けられて設けられている技術が採用される。
According to a seventh aspect of the present invention, in the probe device according to any one of the first to sixth aspects, a technique is employed in which a metal film is directly attached to a film of the contact probe. You.

【0026】このプローブ装置では、前記フィルムが、
例えば水分を吸収して伸張し易い樹脂フィルム等であっ
ても、該フィルムには、金属フィルムが直接張り付けら
れて設けられているため、該金属フィルムにより前記フ
ィルムの伸びが抑制される。さらに、該金属フィルム
は、グラウンドとして用いることができ、それにより、
コンタクトプローブの先端近くまでインピーダンスマッ
チングをとる設計が可能となり、高周波域でのテストを
行う場合にも反射雑音による悪影響を防ぐことができ
る。
In this probe device, the film is:
For example, even if it is a resin film or the like which easily absorbs moisture and stretches, since the metal film is directly attached to the film, the metal film suppresses the elongation of the film. Further, the metal film can be used as a ground, whereby
It becomes possible to design impedance matching up to the vicinity of the tip of the contact probe, and it is possible to prevent adverse effects due to reflected noise even when performing a test in a high frequency range.

【0027】すなわち、プローバーと呼ばれるテスター
からの伝送線路の途中で基板配線側とコンタクトピンと
の間の特性インピーダンスが合わないと反射雑音が生
じ、その場合、特性インピーダンスの異なる伝送線路が
長ければ長いほど反射雑音が大きいという問題がある。
反射雑音は信号歪となり、高周波になると誤動作の原因
になり易い。本コンタクトプローブでは、前記金属フィ
ルムをグラウンドとして用いることによりコンタクトピ
ン先の近くまで基板配線側と特性インピーダンスを合わ
せることがてき、反射雑音による誤動作を抑えることが
できる。。
That is, if the characteristic impedance between the substrate wiring side and the contact pin does not match in the middle of a transmission line from a tester called a prober, reflected noise occurs. In this case, the longer the transmission lines having different characteristic impedances, the longer the transmission noise. There is a problem that reflection noise is large.
Reflected noise causes signal distortion, and tends to cause malfunction at higher frequencies. In the present contact probe, by using the metal film as the ground, the characteristic impedance can be matched to the substrate wiring side up to the vicinity of the contact pin tip, and malfunction due to reflected noise can be suppressed. .

【0028】請求項8記載のプローブ装置では、請求項
7記載のプローブ装置において、前記金属フィルムに
は、第二のフィルムが直接張り付けられて設けられてい
る技術が採用される。
[0028] In the probe device according to the eighth aspect, in the probe device according to the seventh aspect, a technique is employed in which a second film is directly attached to the metal film.

【0029】このプローブ装置では、前記金属フィルム
に第二のフィルムが直接張り付けられて設けられている
ため、配線用基板が金属フィルムの上方に配される場合
には、配線用基板の基板側パターン配線や他の配線が金
属フィルムと直接接触しないのでショートを防ぐことが
できる。また、フィルムの上に金属フィルムが張り付け
られて設けられているだけでは、金属フィルムが露出し
ているため、大気中で酸化が進行してしまうが、本発明
では、第二のフィルムが金属フィルムを被覆してその酸
化を防止する。
In this probe device, since the second film is directly attached to the metal film, when the wiring substrate is disposed above the metal film, the wiring pattern on the substrate side of the wiring substrate is formed. Since the wiring and other wiring do not directly contact the metal film, a short circuit can be prevented. In addition, if the metal film is merely attached on the film and the metal film is exposed, the oxidation proceeds in the air because the metal film is exposed. To prevent its oxidation.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るプローブ装置
の第1実施形態を図1から図7を参照しながら説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a first embodiment of a probe device according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0031】本実施形態のプローブ装置において、前記
従来例と主として異なるのは、コンタクトプローブとプ
リント基板の構成である。したがって、以下、コンタク
トプローブとプリント基板について詳説し、従来と同様
の構成についての詳細な説明は省略する。
The main difference between the probe apparatus of the present embodiment and the conventional example is the configuration of the contact probe and the printed circuit board. Therefore, the contact probe and the printed circuit board will be described in detail below, and the detailed description of the same configuration as that of the related art will be omitted.

【0032】図1に示すように、本実施形態のコンタク
トプローブ16は、ポリイミド樹脂フィルム2(フィル
ム)の片面に金属で形成されるパターン配線3を張り付
けた構造となっており、前記樹脂フィルム2の先端部か
ら前記パターン配線3の先端が突出してコンタクトピン
3aとされている。本実施形態においては、前記従来例
と異なり、パターン配線3が、樹脂フィルム2の後端部
2bから突出状態に配されて、後述するプリント基板
(配線用基板)30に接続される接続ピン(接続部)3
bとされている。
As shown in FIG. 1, the contact probe 16 of this embodiment has a structure in which a pattern wiring 3 made of metal is attached to one surface of a polyimide resin film 2 (film). The distal end of the pattern wiring 3 protrudes from the distal end of the pattern wiring 3 to form a contact pin 3a. In the present embodiment, unlike the conventional example, the pattern wiring 3 is arranged so as to protrude from the rear end 2b of the resin film 2 and is connected to a printed board (wiring board) 30 described later. Connection part) 3
b.

【0033】パターン配線3は、電源用配線3Eと、接
地用配線3Gと、信号伝送用配線3Sの三種類で構成さ
れ、信号伝送用配線3Sの接続ピン3Sbが最も長く形
成され、次いで接地用配線3Gの接続ピン3Gbが長
く、電源用配線3Eの接続ピン3Ebが最も短く形成さ
れている。
The pattern wiring 3 is composed of three types of power supply wiring 3E, grounding wiring 3G, and signal transmission wiring 3S. The connection pin 3Sb of the signal transmission wiring 3S is formed the longest, and then the ground wiring 3S is formed. The connection pin 3Gb of the wiring 3G is long, and the connection pin 3Eb of the power supply wiring 3E is shortest.

【0034】次に、図2を参照して、前記コンタクトプ
ローブ16の作製工程について工程順に説明する。 〔ベースメタル層形成工程(第1の金属層形成工程)〕
まず、図2の(a)に示すように、ステンレス製の支持
金属板5の上に、Cu(銅)メッキによりベースメタル
層(第1の金属層)6を形成する。
Next, with reference to FIG. 2, the steps of manufacturing the contact probe 16 will be described in the order of steps. [Base metal layer forming step (first metal layer forming step)]
First, as shown in FIG. 2A, a base metal layer (first metal layer) 6 is formed on a supporting metal plate 5 made of stainless steel by Cu (copper) plating.

【0035】〔パターン形成工程〕このベースメタル層
6の上にフォトレジスト層7を形成した後、図2の
(b)に示すように、写真製版技術により、フォトレジ
スト層7に所定のパターンのフォトマスク8を施して露
光し、図2の(c)に示すように、フォトレジスト層7
を現像して前記パターン配線3となる部分を除去して残
存するフォトレジスト層(マスク)7に開口部7aを形
成する。
[Pattern Forming Step] After a photoresist layer 7 is formed on the base metal layer 6, as shown in FIG. 2B, a predetermined pattern is formed on the photoresist layer 7 by photolithography. A photomask 8 is applied and exposed, and as shown in FIG.
Is developed to remove the portion to be the pattern wiring 3 and form an opening 7a in the remaining photoresist layer (mask) 7.

【0036】なお、本実施形態においては、フォトレジ
スト層7をネガ型フォトレジストによって形成している
が、ポジ型フォトレジストを採用して所望の開口部7a
を形成しても構わない。また、本実施形態においては、
前記フォトレジスト層7が、「マスク」に相当する。但
し、「マスク」とは、本実施形態のフォトレジスト層7
のように、フォトマスク8を用いた露光・現像工程を経
て開口部7aが形成されるものに限定されるわけではな
い。例えば、メッキ処理される箇所に予め孔が形成され
た(すなわち、予め、図2の(c)の符号7で示す状態
に形成されている)フィルム等でもよい。本願発明にお
いて、このようなフィルム等を「マスク」として用いる
場合には、本実施形態におけるパターン形成工程は不要
である。
In the present embodiment, the photoresist layer 7 is formed of a negative photoresist, but a desired opening 7a is formed by employing a positive photoresist.
May be formed. In the present embodiment,
The photoresist layer 7 corresponds to a “mask”. However, the “mask” refers to the photoresist layer 7 of the present embodiment.
However, the present invention is not limited to the method in which the opening 7a is formed through the exposure and development steps using the photomask 8 as described above. For example, a film or the like in which a hole is formed in advance in a portion to be plated (that is, a film formed in advance in a state indicated by reference numeral 7 in FIG. 2C) may be used. In the present invention, when such a film or the like is used as a “mask”, the pattern forming step in the present embodiment is unnecessary.

【0037】〔メッキ処理工程〕そして、図2の(d)
に示すように、前記開口部7aに前記パターン配線3と
なるNiまたはNi合金層Nを電解メッキ処理により形
成した後、図2の(e)に示すように、フォトレジスト
層7を除去する。
[Plating Step] Then, FIG.
As shown in FIG. 2, after the Ni or Ni alloy layer N serving as the pattern wiring 3 is formed in the opening 7a by electrolytic plating, the photoresist layer 7 is removed as shown in FIG.

【0038】〔フィルム被着工程〕次に、図2の(f)
に示すように、前記NiまたはNi合金層の上であっ
て、図1に示した前記パターン配線3の先端部、すなわ
ち、コンタクトピン3aとなる部分およびパターン配線
3の後端部、すなわち、接続ピン3bとなる部分以外
に、前記樹脂フィルム2を接着剤2aにより接着する。
この樹脂フィルム2は、ポリイミド樹脂PIに金属フィ
ルム(銅箔)500が一体に設けられた二層テープであ
る。このフィルム被着工程の前までに、二層テープのう
ちの金属フィルム500に、写真製版技術を用いた銅エ
ッチングを施して、グラウンド面を形成しておき、この
フィルム被着工程では、二層テープのうちのポリイミド
樹脂PIを接着剤2aを介して前記NiまたはNi合金
層に被着させる。なお、金属フィルム500は、銅箔に
加えて、Ni、Ni合金等でもよい。
[Film Adhering Step] Next, FIG.
As shown in FIG. 1, on the Ni or Ni alloy layer, the front end of the pattern wiring 3 shown in FIG. 1, that is, the portion that becomes the contact pin 3a and the rear end of the pattern wiring 3, that is, the connection The resin film 2 is bonded to the portion other than the portion serving as the pin 3b with the adhesive 2a.
This resin film 2 is a two-layer tape in which a metal film (copper foil) 500 is integrally provided on a polyimide resin PI. Before this film attaching step, the metal film 500 of the two-layer tape is subjected to copper etching using a photoengraving technique to form a ground plane. The polyimide resin PI of the tape is adhered to the Ni or Ni alloy layer via the adhesive 2a. The metal film 500 may be made of Ni, Ni alloy or the like in addition to the copper foil.

【0039】〔分離工程〕そして、図2の(g)に示す
ように、樹脂フィルム2とパターン配線3とベースメタ
ル層6とからなる部分を、支持金属板5から分離させた
後、Cuエッチを経て、樹脂フィルム2にパターン配線
3のみを接着させた状態とする。
[Separation Step] Then, as shown in FIG. 2 (g), after the portion consisting of the resin film 2, the pattern wiring 3 and the base metal layer 6 is separated from the supporting metal plate 5, Cu etching is performed. After that, only the pattern wiring 3 is adhered to the resin film 2.

【0040】〔金コーティング工程〕そして、露出状態
のパターン配線3に、図2の(h)に示すように、Au
メッキを施し、表面にAu層AUを形成する。このと
き、樹脂フィルム2から突出状態とされた前記コンタク
トピン3aでは、全周に亙る表面全体にAu層AUが形
成される。
[Gold Coating Step] Then, as shown in FIG.
Plating is applied to form an Au layer AU on the surface. At this time, the Au layer AU is formed on the entire surface of the contact pins 3a protruding from the resin film 2 over the entire circumference.

【0041】以上の工程により、図1に示すような、樹
脂フィルム2にパターン配線3を接着させたコンタクト
プローブ16が作製される。
Through the above steps, a contact probe 16 in which the pattern wiring 3 is adhered to the resin film 2 as shown in FIG. 1 is manufactured.

【0042】次に、前記コンタクトプローブ16を接続
させるプリント基板30の構成について図3および図4
を参照して説明する。
Next, the structure of the printed circuit board 30 to which the contact probe 16 is connected will be described with reference to FIGS.
This will be described with reference to FIG.

【0043】図3は、本実施形態のプローブ装置を示す
断面図であり、前記従来例における図21に相当する図
である。図3においては、図21において符号14で示
したボトムクランプを省略している。図4は、図3の矢
印X方向(下方)から視たプリント基板30を示す図で
ある(コンタクトプローブ16やマウンティングベース
12は不図示)。
FIG. 3 is a sectional view showing the probe device of the present embodiment, and is a diagram corresponding to FIG. 21 in the conventional example. 3, the bottom clamp indicated by reference numeral 14 in FIG. 21 is omitted. FIG. 4 is a diagram showing the printed circuit board 30 as viewed from the direction of the arrow X (downward) in FIG. 3 (the contact probe 16 and the mounting base 12 are not shown).

【0044】図4に示すように、プリント基板30は、
コンタクトプローブ16のパターン配線3と接触状態に
それぞれ接続される複数の基板側パターン配線31を備
えている。基板側パターン配線31は、前記電源用配線
3Eと接続される基板側電源用配線31Eと、前記接地
用配線3Gと接続される基板側接地用配線31Gと、前
記信号伝送用配線3Sと接続される基板側信号伝送用配
線(パッド)31Sとから構成されている。
As shown in FIG. 4, the printed circuit board 30
A plurality of substrate-side pattern wirings 31 connected to the pattern wiring 3 of the contact probe 16 in a contact state are provided. The board-side pattern wiring 31 is connected to the board-side power supply wiring 31E connected to the power supply wiring 3E, the board-side grounding wiring 31G connected to the grounding wiring 3G, and the signal transmission wiring 3S. And a substrate-side signal transmission wiring (pad) 31S.

【0045】プリント基板30は、前記従来例と同様
に、円板状に形成され、その中央部に、前記マウンティ
ングベース12を配設可能な正方形状の孔部36が形成
されている。前記基板側電源用配線31Eは、プリント
基板30において、孔部36の外側に正方形の枠(リン
グ)状に設けられ、前記基板側接地用配線31Gは、さ
らにその外側に正方形の枠状に設けられている。前記基
板側信号伝送用パッド31Sは、前記基板側接地用配線
31Gの外側に、その枠に沿って複数配列されている。
The printed circuit board 30 is formed in a disk shape as in the above-mentioned conventional example, and has a square hole 36 at the center thereof in which the mounting base 12 can be disposed. The board-side power supply wiring 31E is provided in a square frame (ring) shape outside the hole 36 in the printed circuit board 30, and the board-side grounding wiring 31G is further provided in a square frame shape outside thereof. Have been. The plurality of board-side signal transmission pads 31S are arranged outside the board-side grounding wiring 31G along the frame thereof.

【0046】図5は、各種接続ピン3bと各種基板側パ
ターン配線31との接続状態を拡大して示す図である。
前記パターン配線3の電源用配線3E、接地用配線3G
および信号伝送用配線3Sは、それぞれの接続部3E
b、3Gb、3Sbが、基板側電源用配線31E、基板
側接地用配線31G、基板側信号伝送用パッド31Sの
各位置まで到達可能なように、それらの各位置に応じ
て、前記樹脂フィルム2の後端部2bからの突出量がそ
れぞれ設定されている。すなわち、前記孔部36の縁部
から最も遠い基板側信号伝送用パッド31Sに接続され
る信号伝送用配線3Sが最も長く形成され、次いで、接
地用配線3G、電源用配線3Eの順となっている。
FIG. 5 is an enlarged view showing a connection state between various connection pins 3b and various substrate-side pattern wirings 31. As shown in FIG.
The power supply wiring 3E and the grounding wiring 3G of the pattern wiring 3
And the signal transmission wiring 3S are connected to the respective connection portions 3E.
b, 3Gb, and 3Sb so that the resin film 2 can reach the respective positions of the substrate-side power supply wiring 31E, the substrate-side grounding wiring 31G, and the substrate-side signal transmission pad 31S. The amount of protrusion from the rear end 2b is set. That is, the signal transmission wiring 3S connected to the board-side signal transmission pad 31S farthest from the edge of the hole 36 is formed the longest, and then the ground wiring 3G and the power supply wiring 3E are formed in this order. I have.

【0047】プリント基板30において、基板側電源用
配線31E、基板側接地用配線31Gの一部には、剥離
可能な接着剤からなる絶縁マスク33が施されている。
絶縁マスク33は、プリント基板30上において、接地
用配線3Gが配置される箇所においては、基板側電源用
配線31E上に施されて、接地用配線3Gと基板側電源
用配線31Eが短絡しないようにされている。同様に、
信号伝送用配線3Sが配置される箇所においては、基板
側電源用配線31Eおよび基板側接地用配線31G上に
絶縁マスク33が施されて、信号伝送用配線3Sと基板
側電源用配線31Eおよび基板側接地用配線31Gが短
絡しないようになっている。
In the printed circuit board 30, an insulating mask 33 made of a releasable adhesive is applied to a part of the substrate-side power supply wiring 31E and a part of the substrate-side grounding wiring 31G.
The insulating mask 33 is provided on the substrate-side power supply line 31E at the place where the grounding line 3G is disposed on the printed circuit board 30, so that the grounding line 3G and the substrate-side power supply line 31E are not short-circuited. Has been. Similarly,
At the position where the signal transmission wiring 3S is arranged, an insulating mask 33 is applied on the substrate-side power supply wiring 31E and the substrate-side grounding wiring 31G, and the signal transmission wiring 3S and the substrate-side power supply wiring 31E and the substrate The side ground wire 31G is not short-circuited.

【0048】図4および図5に示すように、このプロー
ブ装置では、前記プリント基板30において、前記基板
側電源用配線31Eは、前記コンタクトプローブ16の
パターン配線3に直交する方向に延在するように設けら
れ、前記基板側接地用配線31Gは、前記基板側電源用
配線31Eと略平行に設けられ、前記基板側信号伝送用
パッド31Sは、前記コンタクトプローブ16のパター
ン配線3の配列方向に沿って複数設けられている。した
がって、パターン配線3の全ての種類の配線3E、3
G、3Sは、樹脂フィルム2面上のいずれの位置に形成
されていようとも、すなわち、そのデザインに関わら
ず、基板側パターン配線31の三種類31E、31G、
31Sのいずれに対しても接続可能となっている。
As shown in FIGS. 4 and 5, in the probe device, in the printed circuit board 30, the board-side power supply wiring 31 E extends in a direction perpendicular to the pattern wiring 3 of the contact probe 16. The board-side grounding wire 31G is provided substantially in parallel with the board-side power supply wire 31E, and the board-side signal transmission pad 31S is provided along the direction in which the pattern wires 3 of the contact probe 16 are arranged. Are provided. Therefore, all types of wirings 3E, 3E,
G, 3S may be formed at any position on the surface of the resin film 2, that is, regardless of the design, three types 31E, 31G,
It is possible to connect to any of the 31S.

【0049】したがって、半導体チップI(図21参
照)等の電極配置等に応じて、コンタクトプローブ16
の各種パターン配線3E、3G、3Sのデザインを変更
するときであっても、プリント基板30の基板側パター
ン配線31の配置を変更する必要がない。これにより、
プリント基板30を共通化することができる。
Therefore, depending on the electrode arrangement of the semiconductor chip I (see FIG. 21) and the like, the contact probe 16
It is not necessary to change the arrangement of the board-side pattern wiring 31 of the printed circuit board 30 even when changing the design of the various pattern wirings 3E, 3G, and 3S. This allows
The printed circuit board 30 can be shared.

【0050】すなわち、本実施形態では、コンタクトプ
ローブ16のパターン配線3は、その種類3S,3E,
3G毎に樹脂フィルム2の後端部2bからの突出量が変
えられて、コンタクトプローブ16がプリント基板30
に組み込まれてプローブ装置を構成したときに、それぞ
れのパターン配線3E、3G、3Sが接続されるべき各
種基板側パターン配線31E、31G、31Sに到達可
能な長さに設定されており、かつ、各種基板側パターン
配線31E、31G、31Sには、接続されるべき各種
パターン配線3E、3G、3S以外との接触を阻止する
絶縁マスク33が施されているため、ショートが防止さ
れて両者間の適当な接続を確保することができるように
なっている。
That is, in the present embodiment, the pattern wiring 3 of the contact probe 16 has the type 3S, 3E,
The amount of protrusion from the rear end 2b of the resin film 2 is changed every 3G, and the contact probe 16
When the probe device is configured by being incorporated in the device, the length of each of the pattern wirings 3E, 3G, and 3S is set so as to reach the various substrate-side pattern wirings 31E, 31G, and 31S to be connected, and Since the various substrate-side pattern wirings 31E, 31G, and 31S are provided with an insulating mask 33 for preventing contact with other than the various pattern wirings 3E, 3G, and 3S to be connected, a short circuit is prevented and the wiring between them is prevented. An appropriate connection can be secured.

【0051】この場合、コンタクトプローブ16のパタ
ーン配線3のデザインが変更されたときには、そのデザ
イン変更の際に、その種類に応じて各種パターン配線3
E、3G、3Sの長さ(突出量)を変えるとともに、各
種基板側パターン配線31E、31G、31Sに施す絶
縁マスク33の位置(形状)を変えるだけでよいので、
基板側パターン配線31E、31G、31Sのデザイン
変更までは要求されず、その意味でプリント基板30を
共通化させることができる。なお、本実施形態において
は、前記プリント基板30において、前記基板側電源用
配線31Eは、前記コンタクトプローブ16のパターン
配線3に直交する方向に延在するように設けたが、本発
明では、直交、すなわち、直角に交差していなくてもよ
い。すなわち、各種パターン配線3のデザイン(形成位
置)に関わらず、各パターン配線3と基板側電源用配線
31Eとが接続可能なように、パターン配線3の延在方
向に対して、基板側電源用配線31Eが交差する向きで
あれば足りる。
In this case, when the design of the pattern wiring 3 of the contact probe 16 is changed, when the design is changed, the various pattern wirings 3 are changed according to the type.
It is only necessary to change the lengths (projection amounts) of E, 3G, and 3S and to change the position (shape) of the insulating mask 33 applied to the various substrate-side pattern wirings 31E, 31G, and 31S.
It is not required to change the design of the board-side pattern wirings 31E, 31G, and 31S, and the printed board 30 can be shared in that sense. In the present embodiment, in the printed circuit board 30, the board-side power supply wiring 31E is provided so as to extend in a direction orthogonal to the pattern wiring 3 of the contact probe 16, but in the present invention, the wiring That is, they need not intersect at right angles. That is, irrespective of the design (formation position) of the various pattern wirings 3, the board-side power supply is extended in the extending direction of the pattern wirings 3 so that each pattern wiring 3 can be connected to the substrate-side power supply wiring 31 </ b> E. The direction in which the wires 31E cross is sufficient.

【0052】また、図6に示すように、コンタクトプロ
ーブ16において、金属フィルム500は、コンタクト
ピン3aの近傍まで設けられ、コンタクトピン3aは、
金属フィルム500の先端部からの突出量Lが5mm以
下とされている。この金属フィルム500は、グラウン
ドとして用いることができ、それにより、プローブ装置
の先端近くまでインピーダンスマッチングをとる設計が
可能となり、高周波域でのテストを行う場合にも反射雑
音による悪影響を防ぐことができる。
As shown in FIG. 6, in the contact probe 16, the metal film 500 is provided up to the vicinity of the contact pin 3a.
The protrusion amount L from the tip of the metal film 500 is set to 5 mm or less. The metal film 500 can be used as a ground, thereby enabling impedance matching to be performed near the tip of the probe device, and preventing adverse effects due to reflected noise even when performing a test in a high frequency range. .

【0053】また、樹脂フィルム2(ポリイミド樹脂P
I)に張り付けられた金属フィルム500には、さらに
以下の利点がある。すなわち、金属フィルム500が無
い場合、樹脂フィルム2は、ポリイミド樹脂からなって
いるため、水分を吸収して伸びが生じ、図7に示すよう
に、コンタクトピン3a,3a間の間隔tが変化するこ
とがあった。そのため、コンタクトピン3aが電極パッ
ドの所定位置に接触することができず、正確な電気テス
トを行うことができないという問題があった。本実施形
態では、樹脂フィルム2に金属フィルム500を張り付
けて設けることにより、湿度が変化しても前記間隔tの
変化を少なくし、コンタクトピン3aを電極パッドの所
定位置に確実に接触させるようになっている。
The resin film 2 (polyimide resin P)
The metal film 500 attached to I) has the following advantages. That is, when there is no metal film 500, since the resin film 2 is made of a polyimide resin, it absorbs moisture and elongates, and as shown in FIG. 7, the interval t between the contact pins 3a, 3a changes. There was something. Therefore, there is a problem that the contact pin 3a cannot contact a predetermined position of the electrode pad, and an accurate electrical test cannot be performed. In the present embodiment, the metal film 500 is adhered to the resin film 2 so that the change in the interval t is reduced even when the humidity changes, so that the contact pin 3a can be reliably brought into contact with a predetermined position of the electrode pad. Has become.

【0054】なお、この金属フィルム500には、第二
の樹脂フィルムを直接張り付けて設けてもよい。これに
より、プローブ装置としてコンタクトプローブ16を組
み込む際の締付けに対して緩衝材となるという効果が得
られる。
It should be noted that a second resin film may be directly attached to the metal film 500. Accordingly, an effect is obtained that the contact probe 16 serves as a cushioning material against tightening when the contact probe 16 is incorporated as a probe device.

【0055】次に、図8を参照して第2の実施形態につ
いて説明する。
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG.

【0056】本実施形態において、第1の実施形態と異
なる点は、プリント基板30の基板側パターン配線31
に絶縁マスク33を施す代わりに、コンタクトプローブ
16の各接続ピン3Eb、3Gb、3Sbの先端部にバ
ンプBを形成した点である。
The present embodiment differs from the first embodiment in that the board-side pattern wiring 31 of the printed circuit board 30 is provided.
Is that bumps B are formed at the end portions of the connection pins 3Eb, 3Gb, and 3Sb of the contact probe 16 instead of applying the insulating mask 33 to the contact probe 16.

【0057】すなわち、第1の実施形態においては、各
接続ピン3bと各基板側パターン配線31との間で接続
されるべき同士以外が接触しないように、基板側パター
ン配線31の接続されるべきでない箇所に絶縁マスク3
3を施したものであるが、本実施形態では、逆に、各接
続ピン3bの接続されるべき箇所にバンプBを形成し、
各接続ピン3bにおけるバンプBの形成されていない箇
所での接触を回避させようとしたものである。
That is, in the first embodiment, the board-side pattern wiring 31 should be connected so that only the connection pins 3b and the board-side pattern wiring 31 other than those to be connected do not contact each other. Insulation mask 3 in places that are not
However, in this embodiment, on the contrary, bumps B are formed at locations where the connection pins 3b are to be connected,
This is intended to avoid contact between the connection pins 3b where no bump B is formed.

【0058】本実施形態においては、プリント基板30
の構成では、絶縁マスク33が無い点と、各接続ピン3
bの構成では、バンプBが形成されている点のみが、第
1の実施形態と異なるため、それ以外の構成についての
説明は省略する。
In this embodiment, the printed circuit board 30
In the configuration of FIG. 2, the point that there is no insulating mask 33 and the connection pins 3
The configuration b is different from the first embodiment only in that the bump B is formed, and therefore, the description of the other configurations is omitted.

【0059】なお、本実施形態においては、各接続ピン
3bの先端部にバンプBを形成したが、それに代えて、
各基板側パターン配線31の接続されるべき箇所にバン
プを形成しても同様の効果が得られる。
In this embodiment, the bump B is formed at the tip of each connection pin 3b.
Similar effects can be obtained even if bumps are formed at locations where the respective substrate-side pattern wirings 31 are to be connected.

【0060】本実施形態のプローブ装置では、コンタク
トプローブ16のパターン配線3の各接続部3bまたは
各基板側パターン配線31にバンプBを形成し、該バン
プBの箇所で、各基板側パターン配線31または各接続
ピン3bとを接触状態にさせるため、バンプBが形成さ
れていない箇所での非接触状態を得ることができる。し
たがって、コンタクトプローブ16の各接続部3bを、
それぞれが接続されるべき基板側パターン配線31との
み接続させることが可能となる。
In the probe device of the present embodiment, bumps B are formed on the connection portions 3b of the pattern wiring 3 of the contact probe 16 or on the substrate-side pattern wiring 31, and at the positions of the bumps B, the substrate-side pattern wiring 31 is formed. Alternatively, since the connection pins 3b are brought into contact with each other, it is possible to obtain a non-contact state where the bumps B are not formed. Therefore, each connecting portion 3b of the contact probe 16 is
It is possible to connect only to the substrate side pattern wiring 31 to which each is to be connected.

【0061】次に、図9を参照して、第3の実施形態に
ついて説明する。
Next, a third embodiment will be described with reference to FIG.

【0062】本実施形態では、第1の実施形態における
絶縁マスク33や、第2の実施形態におけるバンプBに
代えて、ワイヤボンディングにより接続したことを特徴
としている。
The present embodiment is characterized in that connection is made by wire bonding instead of the insulating mask 33 in the first embodiment and the bump B in the second embodiment.

【0063】本実施形態では、上記第1,第2の実施形
態のように、各接続ピン3bの樹脂フィルム2の後端部
2bからの突出量を、接続されるべき各基板側パターン
配線31の位置に応じて、それぞれ変える必要がなく、
各接続ピン3bの長さは一定でよい。この場合、各接続
ピン3bの長さは、コンタクトプローブ16に最も近い
基板側電源用配線31Eの位置よりも手前となるように
設定する。
In this embodiment, as in the first and second embodiments, the amount of protrusion of each connection pin 3b from the rear end 2b of the resin film 2 is determined by the amount of each substrate-side pattern wiring 31 to be connected. There is no need to change each according to the position of
The length of each connection pin 3b may be constant. In this case, the length of each connection pin 3b is set to be shorter than the position of the board-side power supply wiring 31E closest to the contact probe 16.

【0064】このプローブ装置では、コンタクトプロー
ブ16の各種接続部3Sb,3Eb,3Gbと各種基板
側配線パターン配線31E、31G、31Sとはワイヤ
ボンディングで接続され、そのワイヤWは、接続される
べき基板側パターン配線31E、31G以外の配線の上
方に配されて、該配線31E、31Gとは非接触状態と
することができる。このことから、コンタクトプローブ
16の電源用配線3E、接地用配線3Gおよび信号伝送
用配線3Sを、それぞれ接続されるべき基板側電源用配
線31E、基板側接地用配線31Gおよび基板側信号伝
送用配線31Sとのみ接触させることができる。
In this probe device, the various connecting portions 3Sb, 3Eb, 3Gb of the contact probe 16 and the various substrate-side wiring pattern wirings 31E, 31G, 31S are connected by wire bonding, and the wire W is connected to the substrate to be connected. It is arranged above the wiring other than the side pattern wirings 31E and 31G, and can be brought into a non-contact state with the wirings 31E and 31G. Accordingly, the power supply wiring 3E, the grounding wiring 3G, and the signal transmission wiring 3S of the contact probe 16 are connected to the substrate-side power supply wiring 31E, the substrate-side grounding wiring 31G, and the substrate-side signal transmission wiring, respectively. It can be brought into contact only with 31S.

【0065】次に、図10を参照して、第4の実施形態
について説明する。
Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIG.

【0066】本実施形態では、上記第1から3の実施形
態と異なり、接続ピン3bとしてパターン配線3を樹脂
フィルム2の後端部2bから突出させる必要がない。そ
れに代えて、本実施形態では、前記樹脂フィルム2に開
口部Kを形成し、その開口部Kから各パターン配線3
E、3G、3Sの一部を露出させて、各基板側パターン
配線31E、31G、31Sに対する接続部としてい
る。
In this embodiment, unlike the first to third embodiments, there is no need to project the pattern wiring 3 from the rear end 2b of the resin film 2 as the connection pin 3b. Instead, in the present embodiment, an opening K is formed in the resin film 2, and each pattern wiring 3 is formed through the opening K.
E, 3G, and 3S are partially exposed to form connection portions for the substrate-side pattern wirings 31E, 31G, and 31S.

【0067】上記の構成にしたことに伴い、第1から第
3の実施形態では、プリント基板30において、各基板
側パターン配線31の形成位置は、コンタクトプローブ
16の樹脂フィルム2の後端部2bよりも外側とされて
いた(図5参照)が、本実施形態では、図示はしない
が、樹脂フィルム2に重なる位置とされている。そし
て、前記接続部を構成する樹脂フィルム2の開口部K
は、前記電源用配線3E、接地用配線3Gおよび信号伝
送用配線3Sが、それぞれ接続されるべき、前記基板側
電源用配線、基板側接地用配線および基板側信号伝送用
パッドとのみ接触する位置に形成されている。
According to the above configuration, in the first to third embodiments, the formation position of each board-side pattern wiring 31 on the printed board 30 is the rear end 2 b of the resin film 2 of the contact probe 16. Although not shown in the figure (see FIG. 5), in the present embodiment, although not shown, it is a position overlapping the resin film 2. The opening K of the resin film 2 constituting the connection portion
Is a position where the power supply wiring 3E, the grounding wiring 3G, and the signal transmission wiring 3S are to be connected, respectively, and only contact the substrate-side power supply wiring, the substrate-side grounding wiring, and the substrate-side signal transmission pad. Is formed.

【0068】このプローブ装置では、コンタクトプロー
ブ16のパターン配線3のデザイン変更の際に、樹脂フ
ィルム2に形成する開口部Kの位置を変更するだけでよ
く、プリント基板には、一切、手を加える必要がない。
この場合、樹脂フィルム2に対する開口部の形成に際し
ては、一旦、開口部の無い樹脂フィルム2を用いてコン
タクトプローブ16を形成した後に、レーザー等の微細
な加工が可能な手段を用いて適当な位置の樹脂フィルム
2を焼き切ることにより、事後的に開口部Kを形成して
もよい。
In this probe device, when the design of the pattern wiring 3 of the contact probe 16 is changed, it is only necessary to change the position of the opening K formed in the resin film 2, and no modification is made to the printed circuit board. No need.
In this case, when forming the opening for the resin film 2, the contact probe 16 is formed once using the resin film 2 having no opening, and then the contact probe 16 is formed at an appropriate position using a means capable of fine processing such as laser. The opening K may be formed ex post facto by burning off the resin film 2.

【0069】次に、図11から図15を参照して、第5
の実施形態について説明する。
Next, referring to FIG. 11 to FIG.
An embodiment will be described.

【0070】本実施形態のコンタクトプローブ16は、
図3、図19乃至図21に示した上記第1から第4の実
施形態におけるメカニカルパーツとは異なる構成のパー
ツに組み込まれて使用される。
The contact probe 16 of the present embodiment is
The mechanical parts are different from the mechanical parts in the first to fourth embodiments shown in FIGS.

【0071】すなわち、本実施形態のメカニカルパーツ
は、図11から図13に示すように、コンタクトプロー
ブ16のコンタクトピン3aに近い部分を受ける傾斜面
23aを前方に有する一方、後方にプリント基板24へ
の水平な取付面23bを有するステンレス製の支持体2
3と、この支持体23の前記傾斜面23a上に絶縁シー
ト29を介して重ねられたコンタクトプローブ16をボ
ルト25によって支持体23に取り付ける第1のクラン
パ26と、コンタクトプローブ16の後方側をボルト2
7によって支持体23に取り付ける第2のクランパ28
等からなっている。第2のクランパ28には、Oリング
28aが配設され、コンタクトプローブ16の樹脂フィ
ルム2を押圧してパターン配線3をプリント基板24上
の基板側パターン配線31に確実に接触させるようにな
っている。
That is, as shown in FIGS. 11 to 13, the mechanical part of the present embodiment has an inclined surface 23a for receiving a portion near the contact pin 3a of the contact probe 16 at the front, and the printed circuit board 24 at the rear. Support 2 having horizontal mounting surface 23b
3, a first clamper 26 for attaching the contact probe 16 superimposed on the inclined surface 23a of the support 23 via an insulating sheet 29 to the support 23 by bolts 25, and a bolt on the rear side of the contact probe 16 2
Second clamper 28 attached to support 23 by 7
And so on. The second clamper 28 is provided with an O-ring 28a, which presses the resin film 2 of the contact probe 16 to securely contact the pattern wiring 3 with the board-side pattern wiring 31 on the printed board 24. I have.

【0072】図14は、前記プリント基板24を示して
おり、その上面には、前記第1から第4の実施形態と同
様の基板側パターン配線31が設けられている。すなわ
ち、基板側電源用配線31Eが正方形の枠(リング)状
に設けられ、基板側接地用配線31Gが、さらにその外
側に正方形の枠状に設けられている。そして、基板側信
号伝送用パッド31Sは、基板側接地用配線31Gの外
側に、その枠に沿って複数配列されている。
FIG. 14 shows the printed circuit board 24, on the upper surface of which a substrate-side pattern wiring 31 similar to that of the first to fourth embodiments is provided. That is, the board-side power supply wiring 31E is provided in a square frame (ring) shape, and the board-side grounding wiring 31G is further provided outside in a square frame shape. The plurality of board-side signal transmission pads 31S are arranged outside the board-side ground wire 31G along the frame.

【0073】本実施形態においては、図11に示すよう
に、プリント基板24の基板側パターン配線31と、コ
ンタクトプローブ16のパターン配線3とが対向してい
るために、第1から第3の実施形態のようにパターン配
線3を樹脂フィルム2の後端部2bから突出させる必要
がない。すなわち、図15は、コンタクトプローブ16
の樹脂フィルム2の一部を破断した図であるが、同図に
示すように、各種パターン配線3E、3G、3Sは、樹
脂フィルム2の後端部2bから突出することなく、該樹
脂フィルム2上でそれぞれ長さが変えられて設けられ、
それぞれの接続部3Eb、3Gb、3Sbが、基板側電
源用配線31E、基板側接地用配線31G、基板側信号
伝送用パッド31Sの各位置まで到達可能なように、そ
れらの各位置に応じて、長さが設定されている。
In the present embodiment, as shown in FIG. 11, the substrate side pattern wiring 31 of the printed circuit board 24 and the pattern wiring 3 of the contact probe 16 are opposed to each other. It is not necessary to project the pattern wiring 3 from the rear end 2b of the resin film 2 unlike the embodiment. That is, FIG.
3 is a view in which a part of the resin film 2 is cut away, and as shown in the figure, various pattern wirings 3E, 3G, 3S do not protrude from the rear end 2b of the resin film 2, and The length of each is changed above and provided,
In accordance with the respective positions, the connection portions 3Eb, 3Gb, and 3Sb can reach the respective positions of the board-side power supply wiring 31E, the board-side grounding wiring 31G, and the board-side signal transmission pad 31S. Length is set.

【0074】ここで、プリント基板24において、基板
側電源用配線31E、基板側接地用配線31Gの所定箇
所に剥離可能な絶縁マスク33が施されて、接続される
べき箇所以外での短絡が防止されるようになっている点
は、上記第1の実施形態と同様である。
Here, in the printed circuit board 24, a peelable insulating mask 33 is applied to predetermined portions of the substrate-side power supply wiring 31E and the substrate-side grounding wiring 31G to prevent a short circuit at a portion other than a portion to be connected. This is the same as in the first embodiment.

【0075】本実施形態においては、各種パターン配線
3E、3G、3Sを樹脂フィルム2の後端部2bから突
出させる必要がなく、樹脂フィルム2で保護されるた
め、突出させる場合と比べて取扱いが容易である。
In the present embodiment, it is not necessary to project the various pattern wirings 3E, 3G, and 3S from the rear end 2b of the resin film 2, and the pattern wirings 3E, 3G, and 3S are protected by the resin film 2. Easy.

【0076】なお、上記の実施の形態においては、コン
タクトプローブ1をICチップ測定用のプローブカード
であるプローブ装置に適用したが、他の測定治具等に採
用しても構わない。例えば、LCD測定用のプローブカ
ードや、ICチップを内側に保持して保護し、ICチッ
プのバーンインテスト用装置等に搭載されるICチップ
テスト用ソケット等に適用してもよいのは勿論である。
In the above embodiment, the contact probe 1 is applied to a probe device which is a probe card for measuring an IC chip. However, the contact probe 1 may be applied to another measuring jig or the like. For example, the present invention may be applied to a probe card for LCD measurement or an IC chip test socket mounted on an IC chip burn-in test device or the like for holding and protecting the IC chip inside. .

【0077】[0077]

【発明の効果】請求項1記載のプローブ装置によれば、
前記配線用基板において、前記基板側電源用配線は、前
記コンタクトプローブのパターン配線に交差する方向に
延在するように設けられ、前記基板側接地用配線は、前
記基板側電源用配線と略平行に設けられ、前記基板側信
号伝送用配線は、前記コンタクトプローブのパターン配
線の配列方向に沿って設けられているため、パターン配
線の全ての配線は、フィルム面上のいずれの位置に形成
されていようとも、基板側パターン配線の三種類のいず
れに対しても接続可能となっている。したがって、測定
対象物の電極配置等に応じて、コンタクトプローブの各
種パターン配線のデザインを変更するときであっても、
配線用基板の電極(基板側パターン配線)の配置を変更
する必要がない。これにより、配線用基板を共通化する
ことができ、コストを低廉にすることができる。
According to the probe device of the first aspect,
In the wiring substrate, the substrate-side power supply line is provided so as to extend in a direction crossing the pattern wiring of the contact probe, and the substrate-side grounding line is substantially parallel to the substrate-side power supply line. The substrate-side signal transmission wiring is provided along the direction in which the pattern wiring of the contact probe is arranged, so that all the wirings of the pattern wiring are formed at any positions on the film surface. In any case, it can be connected to any of the three types of substrate-side pattern wiring. Therefore, even when changing the design of various pattern wiring of the contact probe according to the electrode arrangement of the measurement object,
There is no need to change the arrangement of the electrodes (board-side pattern wiring) on the wiring board. As a result, the wiring substrate can be shared, and the cost can be reduced.

【0078】請求項2記載のプローブ装置によれば、コ
ンタクトプローブのパターン配線は、その種類毎にフィ
ルム後端部からの突出量が変えられて、コンタクトプロ
ーブが配線用基板に組み込まれてプローブ装置を構成し
たときに、それぞれのパターン配線が接続されるべき各
種基板側パターン配線に到達可能な長さに設定されてお
り、かつ、各種基板側パターン配線には、接続されるべ
き各種パターン配線以外との接触を阻止する絶縁マスク
が施されているため、ショートが防止されて両者間の適
当な接続を確保することができる。この場合、コンタク
トプローブのパターン配線のデザインが変更されたとき
には、そのデザイン変更の際に、その種類に応じて各種
パターン配線の長さを変えるとともに、各種基板側パタ
ーン配線に施す絶縁マスクの位置を変えるだけでよいの
で、基板側パターン配線のデザイン変更までは要求され
ず、その意味で配線用基板を共通化させることができ
る。
According to the probe device of the second aspect, the amount of protrusion of the pattern wiring of the contact probe from the rear end of the film is changed for each type, and the contact probe is incorporated into the wiring substrate and the probe device is mounted. When each is configured, each of the pattern wirings is set to a length that can reach the various substrate-side pattern wirings to be connected, and the various substrate-side pattern wirings have a length other than the various pattern wirings to be connected. Since an insulating mask for preventing contact with the semiconductor device is provided, a short circuit is prevented and an appropriate connection between the two can be ensured. In this case, when the design of the contact probe pattern wiring is changed, at the time of the design change, the lengths of the various pattern wirings are changed according to the type, and the positions of the insulating masks applied to the various board-side pattern wirings are changed. Since it is only necessary to change the wiring pattern, there is no need to change the design of the substrate-side pattern wiring, and in that sense, the wiring substrate can be shared.

【0079】請求項3記載のプローブ装置によれば、コ
ンタクトプローブのパターン配線の各接続部または各基
板側パターン配線にバンプを形成し、該バンプの箇所で
接触状態にさせるため、バンプが形成されていない箇所
での非接触状態を得ることができる。したがって、コン
タクトプローブの各接続部を、それぞれが接続されるべ
き基板側パターン配線とのみ接続させることが可能とな
る。
According to the third aspect of the present invention, a bump is formed at each connection portion of the pattern wiring of the contact probe or at each substrate side pattern wiring, and the bump is formed to be in a contact state at the bump. It is possible to obtain a non-contact state at a part that is not in contact. Therefore, it is possible to connect each connection portion of the contact probe only to the board-side pattern wiring to which each connection is to be made.

【0080】請求項4記載のプローブ装置によれば、コ
ンタクトプローブの各種パターン配線と各種基板側配線
パターン配線とはワイヤボンディングで接続され、その
ワイヤは、接続されるべき基板側パターン配線以外の配
線の上方に配されて、その配線とは非接触状態とするこ
とができる。このことから、コンタクトプローブの電源
用配線、接地用配線および信号伝送用配線を、それぞれ
接続されるべき基板側電源用配線、基板側接地用配線お
よび基板側信号伝送用配線とのみ接触させることができ
る。
According to the probe device of the fourth aspect, the various pattern wirings of the contact probe and the various substrate-side wiring pattern wirings are connected by wire bonding, and the wires are wires other than the substrate-side pattern wirings to be connected. , And can be in a non-contact state with the wiring. For this reason, the power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring of the contact probe can be brought into contact only with the substrate-side power supply wiring, the substrate-side grounding wiring, and the substrate-side signal transmission wiring to be connected, respectively. it can.

【0081】請求項5記載のプローブ装置によれば、前
記コンタクトプローブは、前記フィルムに形成された開
口部から露出するパターン配線が前記基板側パターン配
線に対する接続部とされ、前記接続部を構成するフィル
ムの開口部は、前記電源用配線、前記接地用配線および
前記信号伝送用配線が、それぞれ接続されるべき、前記
基板側電源用配線、前記基板側接地用配線および前記基
板側信号伝送用配線とのみ接触する位置に形成されてい
るため、コンタクトプローブのパターン配線のデザイン
変更の際に、フィルムに形成する開口部の位置を変更す
るだけでよく、配線用基板には、一切、手を加える必要
がないという効果が得られる。
According to the probe device of the fifth aspect, in the contact probe, the pattern wiring exposed from the opening formed in the film is a connection part to the substrate-side pattern wiring, and constitutes the connection part. The opening of the film is provided with the substrate-side power supply line, the substrate-side grounding line, and the substrate-side signal transmission line to which the power supply line, the grounding line, and the signal transmission line are to be connected respectively. Since it is formed only at the position where it contacts only the wiring, it is only necessary to change the position of the opening formed in the film when changing the design of the pattern wiring of the contact probe. The effect that there is no need is obtained.

【0082】請求項6記載のプローブ装置によれば、前
記コンタクトプローブのパターン配線は、前記フィルム
の後端部から突出することなく前記フィルム面内に前記
基板側パターン配線に接続される接続部が設けられ、前
記パターン配線の前記電源用配線、前記接地用配線およ
び前記信号伝送用配線は、それぞれの前記接続部が、前
記基板側電源用配線、基板側接地用配線および基板側信
号伝送用配線の各位置まで到達可能なように、前記配線
用基板における前記基板側電源用配線、前記基板側接地
用配線および前記基板側信号伝送用配線のそれぞれの位
置に応じて、長さがそれぞれ設定されているため、コン
タクトプローブのパターン配線が全長に亘ってフィルム
により保護され、突出させる場合と比べて取扱いが容易
である。
According to the probe device of the sixth aspect, the pattern wiring of the contact probe may be formed in the film surface without protruding from the rear end of the film, by a connecting portion connected to the substrate-side pattern wiring. The power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring of the pattern wiring are provided such that the connection portions are respectively the substrate-side power supply wiring, the substrate-side grounding wiring, and the substrate-side signal transmission wiring. The length is set according to the respective positions of the board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board-side signal transmission wiring in the wiring board so as to reach the respective positions. Therefore, the pattern wiring of the contact probe is protected by the film over the entire length, and handling is easier than in the case where the pattern wiring is projected.

【0083】請求項7記載のプローブ装置によれば、前
記フィルムが、例えば水分を吸収して伸張し易い樹脂フ
ィルム等であっても、該フィルムには、金属フィルムが
直接張り付けられて設けられているため、該金属フィル
ムにより前記フィルムの伸びが抑制される。さらに、該
金属フィルムは、グラウンドとして用いることができ、
それにより、コンタクトプローブの先端近くまでインピ
ーダンスマッチングをとる設計が可能となり、高周波域
でのテストを行う場合にも反射雑音による悪影響を防ぐ
ことができる。
According to the probe device of the present invention, even if the film is, for example, a resin film which easily expands by absorbing moisture, a metal film is provided directly on the film. Therefore, the elongation of the film is suppressed by the metal film. Further, the metal film can be used as a ground,
This makes it possible to design impedance matching up to the vicinity of the tip of the contact probe, thereby preventing adverse effects due to reflected noise even when performing a test in a high frequency range.

【0084】請求項8記載のプローブ装置によれば、前
記金属フィルムに第二のフィルムが直接張り付けられて
設けられているため、配線用基板が金属フィルムの上方
に配される場合には、配線用基板の基板側パターン配線
や他の配線が金属フィルムと直接接触しないのでショー
トを防ぐことができる。また、フィルムの上に金属フィ
ルムが張り付けられて設けられているだけでは、金属フ
ィルムが露出しているため、大気中で酸化が進行してし
まうが、本発明では、第二のフィルムが金属フィルムを
被覆してその酸化を防止する。
According to the probe device of the eighth aspect, since the second film is provided directly on the metal film, when the wiring board is disposed above the metal film, the wiring is Since the pattern wiring on the substrate side of the application substrate and other wiring do not directly contact the metal film, a short circuit can be prevented. In addition, if the metal film is merely attached on the film and the metal film is exposed, the oxidation proceeds in the air because the metal film is exposed. To prevent its oxidation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係るプローブ装置の第1実施形態を
構成するコンタクトプローブを示す背面図である。
FIG. 1 is a rear view showing a contact probe constituting a first embodiment of a probe device according to the present invention.

【図2】 本発明に係るプローブ装置の第1実施形態を
構成するコンタクトプローブにおける製造方法を工程順
に示す要部断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part showing a method of manufacturing the contact probe constituting the first embodiment of the probe device according to the present invention in the order of steps.

【図3】 本発明に係るプローブ装置の第1実施形態に
おいて、ボトムクランプを省略した断面図である。
FIG. 3 is a sectional view of the first embodiment of the probe device according to the present invention, from which a bottom clamp is omitted.

【図4】 本発明に係るプローブ装置の第1実施形態を
構成するプリント基板を示す背面図である。
FIG. 4 is a rear view showing a printed circuit board that constitutes the first embodiment of the probe device according to the present invention.

【図5】 本発明に係るプローブ装置の第1の実施形態
におけるコンタクトプローブとプリント基板の接続状態
を拡大して示す背面図である。
FIG. 5 is an enlarged rear view showing a connection state between a contact probe and a printed circuit board in the first embodiment of the probe device according to the present invention.

【図6】 図1のC−C線断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line CC of FIG. 1;

【図7】 本発明に係るプローブ装置の第1の実施形態
におけるコンタクトプローブの金属フィルムを説明する
ための正面図である。
FIG. 7 is a front view for explaining a metal film of a contact probe in the first embodiment of the probe device according to the present invention.

【図8】 本発明に係るプローブ装置の第2の実施形態
におけるコンタクトプローブとプリント基板の接続状態
を拡大して示す背面から視た斜視図である。
FIG. 8 is an enlarged perspective view from the back showing a connection state between a contact probe and a printed circuit board in a second embodiment of the probe device according to the present invention.

【図9】 本発明に係るプローブ装置の第3の実施形態
におけるコンタクトプローブとプリント基板の接続状態
を拡大して示す背面から視た斜視図である。
FIG. 9 is an enlarged perspective view showing a connection state between a contact probe and a printed board in a third embodiment of the probe device according to the present invention, as viewed from the back.

【図10】 本発明に係るプローブ装置の第4実施形態
を構成するコンタクトプローブを示す背面図である。
FIG. 10 is a rear view showing a contact probe constituting a fourth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図11】 本発明に係るプローブ装置の第5実施形態
を示す側面図である。
FIG. 11 is a side view showing a fifth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図12】 本発明に係るプローブ装置の第5実施形態
の中心部を拡大して示す斜視図である。
FIG. 12 is an enlarged perspective view showing a central portion of a fifth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図13】 本発明に係るプローブ装置の第5実施形態
を示す分解斜視図である。
FIG. 13 is an exploded perspective view showing a fifth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図14】 本発明に係るプローブ装置の第5実施形態
を構成するプリント基板を示す平面図である。
FIG. 14 is a plan view showing a printed circuit board that constitutes a fifth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図15】 本発明に係るプローブ装置の第5の実施形
態におけるコンタクトプローブとプリント基板の接続状
態を拡大して示す平面図である。
FIG. 15 is an enlarged plan view showing a connection state between a contact probe and a printed circuit board in a fifth embodiment of the probe device according to the present invention.

【図16】 従来のコンタクトプローブを示す要部拡大
斜視図である。
FIG. 16 is an enlarged perspective view of a main part showing a conventional contact probe.

【図17】 従来のコンタクトプローブを示す背面図で
ある。
FIG. 17 is a rear view showing a conventional contact probe.

【図18】 図17のC−C線断面図である。18 is a sectional view taken along line CC of FIG. 17;

【図19】 従来のプローブ装置の一例を示す分解斜視
図である。
FIG. 19 is an exploded perspective view showing an example of a conventional probe device.

【図20】 従来のプローブ装置の一例を示す要部斜視
図である。
FIG. 20 is a perspective view of an essential part showing an example of a conventional probe device.

【図21】 図20のE−E線断面図である。FIG. 21 is a sectional view taken along line EE of FIG. 20;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 フィルム(樹脂フィルム) 2b 後端部 3 パターン配線 3a コンタクトピン 3b 接続部(接続ピン) 3E 電源用配線 3G 接地用配線 3S 信号伝送用配線 16 コンタクトプローブ 30 配線用基板(プリント基板) 31 基板側パターン配線 31E 基板側電源用配線 31G 基板側接地用配線 31S 基板側信号伝送用配線(パッド) 33 絶縁マスク 500 金属フィルム B バンプ K 開口部 W ワイヤ Reference Signs List 2 film (resin film) 2b rear end 3 pattern wiring 3a contact pin 3b connection part (connection pin) 3E power supply wiring 3G grounding wiring 3S signal transmission wiring 16 contact probe 30 wiring substrate (printed substrate) 31 substrate side Pattern wiring 31E Substrate-side power supply wiring 31G Substrate-side grounding wiring 31S Substrate-side signal transmission wiring (pad) 33 Insulation mask 500 Metal film B Bump K Opening W Wire

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のパターン配線がフィルム面上に形
成されこれらのパターン配線の各先端が前記フィルムの
先端部から突出状態に配されてコンタクトピンとされる
コンタクトプローブと、 このコンタクトプローブの前記パターン配線の途中また
は後端側に接触状態にそれぞれ接続される複数の基板側
パターン配線を有する配線用基板とを備えたプローブ装
置であって、 前記コンタクトプローブのパターン配線は、少なくとも
電源用配線と接地用配線と信号伝送用配線とから構成さ
れ、 前記配線用基板の基板側パターン配線は、少なくとも前
記電源用配線と接続される基板側電源用配線と、前記接
地用配線と接続される基板側接地用配線と、前記信号伝
送用配線と接続される基板側信号伝送用配線とから構成
され、 前記基板側電源用配線は、前記配線用基板において、前
記コンタクトプローブのパターン配線に交差する方向に
延在するように設けられ、 前記基板側接地用配線は、前記配線用基板において、前
記基板側電源用配線と略平行に設けられ、 前記基板側信号伝送用配線は、前記配線用基板におい
て、前記コンタクトプローブのパターン配線の配列方向
に沿って設けられていることを特徴とするプローブ装
置。
1. A contact probe, wherein a plurality of pattern wirings are formed on a film surface, and the tips of the pattern wirings are arranged so as to protrude from the leading end of the film to be contact pins, and the pattern of the contact probe is provided. A probe device comprising: a wiring substrate having a plurality of substrate-side pattern wirings connected to the middle or rear end of the wiring in a contact state, wherein the pattern wiring of the contact probe is at least a power supply wiring and a ground. And a signal transmission line, wherein the substrate side pattern wiring of the wiring substrate is at least a substrate side power supply line connected to the power supply line, and a substrate side ground connected to the grounding line. And a board-side signal transmission wire connected to the signal transmission wire, wherein the board-side power supply wire is provided. The wiring substrate is provided so as to extend in a direction intersecting the pattern wiring of the contact probe. The substrate-side grounding wiring is substantially parallel to the substrate-side power supply wiring in the wiring substrate. The probe device, wherein the board-side signal transmission wiring is provided on the wiring board along an arrangement direction of the pattern wiring of the contact probe.
【請求項2】 請求項1記載のプローブ装置において、 前記コンタクトプローブのパターン配線は、前記フィル
ムの後端部から突出状態に配されて前記基板側パターン
配線に接続される接続部とされ、 前記パターン配線の前記電源用配線、前記接地用配線お
よび前記信号伝送用配線は、それぞれの前記接続部が、
前記基板側電源用配線、基板側接地用配線および基板側
信号伝送用配線の各位置まで到達可能なように、前記配
線用基板における前記基板側電源用配線、前記基板側接
地用配線および前記基板側信号伝送用配線のそれぞれの
位置に応じて、前記フィルムの後端部からの突出量がそ
れぞれ設定され、 前記基板側電源用配線、前記基板側接地用配線および前
記基板用信号伝送用配線の少なくとも一部には、それぞ
れ接続されるべき、前記コンタクトプローブの前記電源
用配線、前記接地用配線および前記信号伝送用配線以外
との接触を阻止する絶縁マスクが施されていることを特
徴とするプローブ装置。
2. The probe device according to claim 1, wherein the pattern wiring of the contact probe is a connecting portion that is arranged to protrude from a rear end of the film and is connected to the substrate-side pattern wiring. The power supply wiring of the pattern wiring, the grounding wiring and the signal transmission wiring, the respective connection portion,
The board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board in the wiring board so as to reach respective positions of the board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board-side signal transmission wiring. The amount of protrusion from the rear end of the film is set in accordance with the position of each of the side signal transmission wires, and the board side power supply wire, the board side grounding wire, and the board signal transmission wire At least a part thereof is provided with an insulating mask for preventing contact of the contact probe with other than the power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring to be connected to each other. Probe device.
【請求項3】 請求項1記載のプローブ装置において、 前記コンタクトプローブのパターン配線は、前記フィル
ムの後端部から突出状態に配されて前記基板側パターン
配線に接続される接続部とされ、 前記パターン配線の前記電源用配線、前記接地用配線お
よび前記信号伝送用配線は、それぞれの前記接続部が、
前記基板側電源用配線、基板側接地用配線および基板側
信号伝送用配線の各位置まで到達可能なように、前記配
線用基板における前記基板側電源用配線、前記基板側接
地用配線および前記基板側信号伝送用配線のそれぞれの
位置に応じて、前記フィルムの後端部からの突出量が設
定され、 前記コンタクトプローブのパターン配線の各接続部また
は前記各基板側パターン配線の少なくともいずれか一方
には、前記各接続部が、それぞれ接続されるべき前記各
基板側パターン配線とのみ接触するようにバンプが形成
されていることを特徴とするプローブ装置。
3. The probe device according to claim 1, wherein the pattern wiring of the contact probe is a connecting portion that is arranged to protrude from a rear end of the film and is connected to the substrate-side pattern wiring. The power supply wiring of the pattern wiring, the grounding wiring and the signal transmission wiring, the respective connection portion,
The board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board in the wiring board so as to reach respective positions of the board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board-side signal transmission wiring. The amount of protrusion from the rear end of the film is set in accordance with the position of each of the side signal transmission wirings, and at least one of the connection portions of the contact probe pattern wiring or the substrate side pattern wiring. The probe device according to claim 1, wherein a bump is formed so that each of the connection portions is in contact only with each of the substrate-side pattern wirings to be connected.
【請求項4】 請求項1記載のプローブ装置において、 前記コンタクトプローブの前記電源用配線、前記接地用
配線および前記信号伝送用配線は、それぞれ接続される
べき前記基板側電源用配線、前記基板側接地用配線およ
び前記基板側信号伝送用配線とのみ接触するようにワイ
ヤボンディングで接続されていることを特徴とするプロ
ーブ装置。
4. The probe device according to claim 1, wherein the power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring of the contact probe are respectively connected to the substrate-side power supply wiring and the substrate-side wiring. A probe device, wherein the probe device is connected by wire bonding so as to be in contact only with the ground wiring and the substrate-side signal transmission wiring.
【請求項5】 請求項1記載のプローブ装置において、 前記コンタクトプローブは、前記フィルムに形成された
開口部から露出するパターン配線が前記基板側パターン
配線に対する接続部とされ、 前記接続部を構成するフィルムの開口部は、前記電源用
配線、前記接地用配線および前記信号伝送用配線が、そ
れぞれ接続されるべき、前記基板側電源用配線、前記基
板側接地用配線および前記基板側信号伝送用配線とのみ
接触する位置に形成されていることを特徴とするプロー
ブ装置。
5. The probe device according to claim 1, wherein in the contact probe, a pattern wiring exposed from an opening formed in the film is a connection part to the substrate-side pattern wiring, and constitutes the connection part. The opening of the film is provided with the substrate-side power supply line, the substrate-side grounding line, and the substrate-side signal transmission line to which the power supply line, the grounding line, and the signal transmission line are to be connected respectively. A probe device formed at a position where the probe device only contacts the probe device.
【請求項6】 請求項1記載のプローブ装置において、 前記コンタクトプローブは、その前記フィルムにおける
前記パターン配線が形成された面が、前記配線用基板に
おける前記基板側パターン配線が形成された面と対向し
て配設され、 前記コンタクトプローブのパターン配線は、前記フィル
ムの後端部から突出することなく前記フィルム面内に前
記基板側パターン配線に接続される接続部が設けられ、 前記パターン配線の前記電源用配線、前記接地用配線お
よび前記信号伝送用配線は、それぞれの前記接続部が、
前記基板側電源用配線、基板側接地用配線および基板側
信号伝送用配線の各位置まで到達可能なように、前記配
線用基板における前記基板側電源用配線、前記基板側接
地用配線および前記基板側信号伝送用配線のそれぞれの
位置に応じて、長さがそれぞれ設定され、 前記基板側電源用配線、前記基板側接地用配線および前
記基板用信号伝送用配線の少なくとも一部には、それぞ
れ接続されるべき、前記コンタクトプローブの前記電源
用配線、前記接地用配線および前記信号伝送用配線以外
との接触を阻止する絶縁マスクが施されていることを特
徴とするプローブ装置。
6. The probe device according to claim 1, wherein in the contact probe, a surface of the film on which the pattern wiring is formed faces a surface of the wiring substrate on which the substrate-side pattern wiring is formed. The pattern wiring of the contact probe is provided with a connection portion connected to the substrate-side pattern wiring in the film surface without protruding from a rear end of the film, The power supply wiring, the grounding wiring and the signal transmission wiring, the connection portion,
The board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board in the wiring board so as to reach respective positions of the board-side power supply wiring, the board-side grounding wiring, and the board-side signal transmission wiring. The lengths are respectively set according to the respective positions of the side signal transmission lines, and are respectively connected to at least a part of the substrate side power line, the substrate side grounding line, and the substrate signal transmission line. A probe device, wherein an insulating mask for preventing contact of the contact probe with other than the power supply wiring, the grounding wiring, and the signal transmission wiring is applied.
【請求項7】 請求項1から6のいずれかに記載のプロ
ーブ装置において、 前記コンタクトプローブのフィルムには、金属フィルム
が直接張り付けられて設けられていることを特徴とする
プローブ装置。
7. The probe device according to claim 1, wherein a metal film is directly attached to the contact probe film.
【請求項8】 請求項7記載のプローブ装置において、 前記金属フィルムには、第二のフィルムが直接張り付け
られて設けられていることを特徴とするプローブ装置。
8. The probe device according to claim 7, wherein a second film is provided directly on the metal film.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004309441A (en) * 2003-02-18 2004-11-04 Yamaha Corp Probe head, its assembling method, and probe card
US6998857B2 (en) 2001-09-20 2006-02-14 Yamaha Corporation Probe unit and its manufacture
JP2020085695A (en) * 2018-11-27 2020-06-04 日本メクトロン株式会社 Probe device, electricity inspection device, and method for inspecting electricity

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