JPH1116961A - Metallic material having bent part, molding thereof, contact probe using above metallic material and manufacture thereof - Google Patents

Metallic material having bent part, molding thereof, contact probe using above metallic material and manufacture thereof

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JPH1116961A
JPH1116961A JP17254597A JP17254597A JPH1116961A JP H1116961 A JPH1116961 A JP H1116961A JP 17254597 A JP17254597 A JP 17254597A JP 17254597 A JP17254597 A JP 17254597A JP H1116961 A JPH1116961 A JP H1116961A
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JP
Japan
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metal layer
metal
layer
forming
metal body
Prior art date
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Application number
JP17254597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Nakamura
忠司 中村
Hideaki Yoshida
秀昭 吉田
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to mold a metallic material having a bent part provided with a high accuracy and a high durability by a method wherein a second metal layer is selectively formed by plating on a first metal layer having a slant surface to mold the bent part, which is formed into a non-plastic deformed part, at a prescribed position on the surface of the first metal later and thereafter, the second metal layer is made to separate from the first metal layer to form the metallic material. SOLUTION: In the production method of this contact probe, a wedge member Q is inserted between a base metal layer 6 and a support metal plate 5 in a wedge insertion process, whereby the layer 6 is made to bend at a prescribed position W1 on the surface of the layer 6 at a prescribed angle θ. Moreover, after a plating treatment process and a mask removal process are conducted, an Ni alloy layer N is made to separate from the layer 6 by a separation process. Owing to this, even though a bent part BE is a non-plastic deformed part and the residual stress of the part BE is little, a contact pin 3a having a high-accuracy bent position, which is specified by the previously set form of the member Q, and the bent part BE of the prescribed angle is obtained. Thereby, the durability of the part BE can be raised.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、屈曲部を有する金
属体およびその成形方法と前記金属体を用いたコンタク
トプローブおよびその製造方法に関するものであって、
詳しくは、プローブピンやソケットピン等として用いら
れ、プローブカードやテスト用ソケット等に組み込まれ
て半導体ICチップや液晶デバイス等の各端子に接触し
て電気的なテストを行うコンタクトプローブおよびその
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal body having a bent portion, a method of forming the same, a contact probe using the metal body, and a method of manufacturing the same.
Specifically, a contact probe which is used as a probe pin or a socket pin, is incorporated in a probe card or a test socket, and contacts each terminal of a semiconductor IC chip, a liquid crystal device, or the like to perform an electrical test, and a method of manufacturing the same. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ICチップやLSIチップ等の
半導体チップ又はLCD(液晶表示体)の各端子に接触
させて電気的なテストを行うために、コンタクトピンが
用いられている。近年、ICチップ等の高集積化および
微細化に伴って電極であるコンタクトパッドが狭ピッチ
化されるとともに、コンタクトピンの多ピン狭ピッチ化
が要望されている。しかしながら、コンタクトピンとし
て用いられていたタングステン針のコンタクトプローブ
では、タングステン針の径の限界から多ピン狭ピッチへ
の対応が困難になっていた。
2. Description of the Related Art In general, a contact pin is used to conduct an electrical test by contacting a semiconductor chip such as an IC chip or an LSI chip or each terminal of an LCD (liquid crystal display). In recent years, as the integration and miniaturization of IC chips and the like have increased, the pitch of contact pads, which are electrodes, has been reduced, and the pitch of contact pins has been required to be narrower. However, with a tungsten needle contact probe used as a contact pin, it has been difficult to cope with a multi-pin narrow pitch due to the limitation of the diameter of the tungsten needle.

【0003】これに対して、例えば、特公平7−820
27号公報に、複数のパターン配線が樹脂フィルム上に
形成されこれらのパターン配線の各先端が前記樹脂フィ
ルムから突出状態に配されてコンタクトピンとされるコ
ンタクトプローブの技術が提案されている。この技術例
では、複数のパターン配線の先端部をコンタクトピンと
することによって、多ピン狭ピッチ化を図るとともに、
複雑な多数の部品を不要とするものである。
On the other hand, for example, Japanese Patent Publication No. 7-820
No. 27 proposes a contact probe technique in which a plurality of pattern wirings are formed on a resin film, and the ends of these pattern wirings are arranged so as to protrude from the resin film and serve as contact pins. In this technical example, the tip of each of the plurality of pattern wirings is used as a contact pin, thereby achieving a narrow pitch with a large number of pins.
This eliminates the need for many complicated components.

【0004】ところで、Al(アルミニウム)合金等で
形成されるICチップ等の各端子(パッド)は、その表
面が空気中で酸化して、薄いアルミニウムの表面酸化膜
で覆われた状態となっている。したがって、パッドの電
気的テストを行うには、アルミニウムの表面酸化膜を取
り除き、内部のアルミニウムを露出させて、導電性を確
保する必要がある。
The surface of each terminal (pad) of an IC chip or the like formed of an Al (aluminum) alloy or the like is oxidized in the air and is covered with a thin aluminum surface oxide film. I have. Therefore, in order to conduct an electrical test of the pad, it is necessary to remove the surface oxide film of aluminum and expose the aluminum inside to ensure conductivity.

【0005】そこで、上記コンタクトプローブにおいて
は、コンタクトピンをパッドの表面に接触させつつ、オ
ーバードライブをかけることにより、コンタクトピンの
先端でパッド表面のアルミニウムの表面酸化膜を擦り取
り、内部のアルミニウムを露出させるようにしている。
上述した作業は、スクラブ(scrub)と呼ばれ、電気的テ
ストを確実に行う上で重要とされる。
Therefore, in the above-mentioned contact probe, the surface oxide film of aluminum on the pad surface is scraped off by the tip of the contact pin by applying overdrive while the contact pin is in contact with the surface of the pad, thereby removing the aluminum inside. They are exposed.
The above-described operation is called scrub, and is important for reliably performing an electrical test.

【0006】上記コンタクトピンにおいて、スクラブ時
にパッドの下地が傷つくのを防止するためには、コンタ
クトピンのパッドに対する接触角を十分な大きさまで確
保することが必要とされる。その理由は、接触角が小さ
いと、表面のアルミニウムの排斥量が著しく大きくな
り、パッド下地にまで影響を及ぼすという理由からであ
る。
In the above contact pins, it is necessary to secure a sufficient contact angle of the contact pins with the pads in order to prevent the base of the pads from being damaged during scrubbing. The reason for this is that if the contact angle is small, the amount of aluminum rejected on the surface becomes extremely large, which affects the pad base.

【0007】この対策として、図9に示すように、コン
タクトピン600の途中位置Vにて折曲させたコンタク
トプローブ601が提案されている。このコンタクトプ
ローブ601では、コンタクトピン600の先端部と基
端部とで測定対象物(パッド)に対する角度を変えるこ
とができ、コンタクトピン600の基端部のパッドに対
する角度、すなわち、フィルム602のパッドに対する
角度を大きくすることなく、コンタクトピン600の先
端部とパッドの角度(接触角)を大きくすることが可能
となる。すなわち、このコンタクトプローブ601で
は、スクラブ距離が過度に大きくなることがなく、か
つ、プローブ装置の高さを大きくすることなく、スクラ
ブ時にパッドの下地が傷つくことを防止することができ
るという利点がある。
As a countermeasure, as shown in FIG. 9, a contact probe 601 which is bent at an intermediate position V of a contact pin 600 has been proposed. In the contact probe 601, the angle of the contact pin 600 with respect to the object to be measured (pad) can be changed between the distal end portion and the proximal end portion, and the angle of the contact pin 600 with respect to the pad at the proximal end portion, that is, the pad of the film 602. It is possible to increase the angle (contact angle) between the tip of the contact pin 600 and the pad without increasing the angle with respect to. That is, the contact probe 601 has an advantage that the base of the pad can be prevented from being damaged during the scrub without increasing the scrub distance excessively and without increasing the height of the probe device. .

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記折曲されたコンタ
クトピン600を有するコンタクトプローブ601で
は、精密金型によってコンタクトピン600を折曲させ
るが、複数のコンタクトピン600を所定角度(高さ)
および長さで高精度に折曲させることが困難であり、折
曲工程後に生じたコンタクトピン600の長さ(高さ)
の不揃いを、サンドペーパー等による研磨工程によって
揃えて均一化を図らなければならなかった。また、この
ように折曲されたコンタクトピン600の折曲部分であ
る途中位置Vでは、折曲による塑性変形が生じて残留応
力が残ってしまい耐久性が低下してしまう問題がある。
さらに、折曲によって途中位置Vに亀裂や破断等が生じ
るおそれもあった。
In the contact probe 601 having the bent contact pins 600, the contact pins 600 are bent by a precision mold, but the contact pins 600 are bent at a predetermined angle (height).
And the length (height) of the contact pin 600 generated after the bending process is difficult to bend with high precision.
Must be made uniform by a polishing process using sandpaper or the like to achieve uniformity. In addition, at the intermediate position V, which is the bent portion of the contact pin 600 bent in this way, there is a problem that plastic deformation due to the bending occurs, residual stress remains, and durability decreases.
Further, the bending may cause a crack or break at the intermediate position V.

【0009】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
ので、高精度かつ高耐久性を備えた屈曲部を有する金属
体およびその成形方法と前記金属体を用いたコンタクト
プローブおよびその製造方法を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has a highly accurate and highly durable metal body having a bent portion, a method of forming the same, a contact probe using the metal body, and a method of manufacturing the same. The purpose is to provide.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために以下の構成を採用した。すなわち、請求項
1記載の屈曲部を有する金属体では、所定角度の屈曲部
を有する金属体であって、表面の所定位置から前記所定
角度に傾斜した傾斜面を有する第1の金属層上に、第2
の金属層を選択的にメッキ形成して前記所定位置に非塑
性変形部となる前記屈曲部を成形した後、第2の金属層
を分離させて形成した技術が採用される。
The present invention has the following features to attain the object mentioned above. That is, in the metal body having a bent portion according to claim 1, the metal body has a bent portion at a predetermined angle, and is provided on a first metal layer having a slope inclined from the predetermined position on the surface to the predetermined angle. , Second
The metal layer is selectively plated to form the bent portion serving as the non-plastically deformed portion at the predetermined position, and then the second metal layer is separated and formed.

【0011】この屈曲部を有する金属体では、前記所定
角度に傾斜した傾斜面を有する第1の金属層上に、第2
の金属層を選択的にメッキ形成して屈曲部を成形した
後、第2の金属層を分離させて形成したので、屈曲部が
折曲によって形成されたものではなく、非塑性変形部と
なることから残留応力が残らない。
In the metal body having the bent portion, the second metal is provided on the first metal layer having the inclined surface inclined at the predetermined angle.
Since the bent portion is formed by selectively forming a metal layer by plating and forming the bent portion, the bent portion is not formed by bending but becomes a non-plastically deformed portion. Therefore, no residual stress remains.

【0012】請求項2記載の屈曲部を有する金属体の成
形方法では、所定角度の屈曲部を有する金属体の成形方
法において、基板層の上に前記金属体の材質に被着また
は結合する材質の第1の金属層を形成する第1の金属層
形成工程と、前記第1の金属層の上に前記金属体に供さ
れる部分以外にマスクを施すパターン形成工程と、該パ
ターン形成工程後に、前記第1の金属層を前記基板層か
ら所定位置まで剥離させ、第1の金属層と基板層との間
に楔部材を挿入して第1の金属層を前記所定位置で前記
所定角度に屈曲させる楔挿入工程と、該楔挿入工程後
に、前記第1の金属層の上のマスクされていない部分
に、前記金属体に供される第2の金属層をメッキ処理に
より形成し、前記所定位置に前記屈曲部を成形するメッ
キ処理工程と、前記マスクを除去するマスク除去工程
と、前記楔部材を取り外した後、前記第1の金属層を前
記基板層からすべて剥離させ、さらに第1の金属層を選
択的に除去し、前記第2の金属層を分離させて前記金属
体とする金属体分離工程とを備える技術が採用される。
According to a second aspect of the present invention, in the method of forming a metal body having a bent portion having a predetermined angle, a material adhered to or bonded to the material of the metal body on a substrate layer. A first metal layer forming step of forming a first metal layer, a pattern forming step of masking a portion of the first metal layer other than a portion provided for the metal body, and after the pattern forming step, Separating the first metal layer from the substrate layer to a predetermined position, inserting a wedge member between the first metal layer and the substrate layer, and setting the first metal layer at the predetermined angle at the predetermined position. Forming a second metal layer to be provided to the metal body by plating on an unmasked portion on the first metal layer after the wedge inserting step of bending, A plating step of forming the bent portion at a position; Removing the mask, removing the wedge member, removing all of the first metal layer from the substrate layer, further selectively removing the first metal layer, and removing the second metal layer. And a metal body separation step of separating the layers to form the metal body.

【0013】この屈曲部を有する金属体の成形方法で
は、前記楔挿入工程で第1の金属層と基板層との間に楔
部材を挿入することにより、第1の金属層を所定位置で
所定角度に屈曲させ、さらに前記メッキ処理工程および
前記マスク除去工程を行った後、前記金属体分離工程に
よって第2の金属層を分離させて前記金属体とするの
で、塑性変形が無く残留応力が少ないとともに、予め設
定された楔部材の形状によって特定される高精度な屈曲
位置および角度の屈曲部を有する金属体が製造される。
In the method for molding a metal body having a bent portion, a wedge member is inserted between the first metal layer and the substrate layer in the wedge inserting step, so that the first metal layer is positioned at a predetermined position. After bending to an angle, and further performing the plating step and the mask removing step, the second metal layer is separated into the metal body by the metal body separation step, so that there is no plastic deformation and there is little residual stress. At the same time, a metal body having a highly accurate bent position and an angled bent portion specified by a preset wedge member shape is manufactured.

【0014】請求項3記載の屈曲部を有する金属体の成
形方法では、所定角度の屈曲部を有する金属体の成形方
法において、第1の基板層の上に前記金属体の材質に被
着または結合する材質の第1の金属層を形成する第1の
金属層形成工程と、前記第1の金属層の上に前記金属体
に供される部分以外にマスクを施すパターン形成工程
と、該パターン形成工程後に、前記第1の金属層を前記
第1の基板層からすべて剥離させ、表面に所定位置から
前記所定角度に傾斜した傾斜面を有する第2の基板層上
に第1の金属層を貼設し、該第1の金属層を前記所定位
置で前記所定角度に屈曲させる貼設工程と、該貼設工程
後に、前記第1の金属層の上のマスクされていない部分
に、前記金属体に供される第2の金属層をメッキ処理に
より形成し、前記所定位置に前記屈曲部を成形するメッ
キ処理工程と、前記マスクを除去するマスク除去工程
と、再び前記第1の金属層を前記第2の基板層からすべ
て剥離させ、さらに第1の金属層を選択的に除去し、前
記第2の金属層を分離させて前記金属体とする金属体分
離工程とを備える技術が採用される。
According to a third aspect of the present invention, in the method of forming a metal body having a bent portion having a predetermined angle, the metal body is adhered to the material of the metal body on the first substrate layer. A first metal layer forming step of forming a first metal layer of a material to be bonded; a pattern forming step of masking a portion of the first metal layer other than a portion provided for the metal body; After the forming step, the first metal layer is completely peeled off from the first substrate layer, and the first metal layer is formed on a second substrate layer having a surface inclined at a predetermined angle from a predetermined position on the surface. Attaching the first metal layer at the predetermined position and bending the first metal layer at the predetermined angle; and, after the attaching step, the metal on the unmasked portion on the first metal layer. Forming a second metal layer to be provided to the body by plating; A plating step of forming the bent portion at a position, a mask removing step of removing the mask, and removing all of the first metal layer from the second substrate layer again, and further selecting the first metal layer And removing the second metal layer to separate the second metal layer into the metal body.

【0015】この屈曲部を有する金属体の成形方法で
は、前記貼設工程によって第1の金属層を第1の基板層
からすべて剥離させ、表面に所定位置から所定角度に傾
斜した傾斜面を有する第2の基板層上に第1の金属層を
貼設し、該第1の金属層を前記所定位置で前記所定角度
に屈曲させ、さらに前記メッキ処理工程および前記マス
ク除去工程を行った後、前記金属体分離工程によって第
2の金属層を分離させて前記金属体とするので、塑性変
形が無く残留応力が少ないとともに、予め設定された第
2の基板層表面(傾斜面)の形状によって特定される高
精度な屈曲位置および角度の屈曲部を有する金属体が製
造される。
In the method for forming a metal body having a bent portion, the first metal layer is completely peeled off from the first substrate layer by the attaching step, and the surface has an inclined surface inclined at a predetermined angle from a predetermined position. After pasting a first metal layer on the second substrate layer, bending the first metal layer at the predetermined position at the predetermined angle, and further performing the plating step and the mask removing step, Since the second metal layer is separated into the metal body in the metal body separation step, the metal body is free from plastic deformation, has little residual stress, and is specified by a predetermined shape of the second substrate layer surface (inclined surface). A metal body having a highly accurate bent position and a bent portion at an angle is manufactured.

【0016】請求項4記載のコンタクトプローブでは、
複数のパターン配線がフィルム上に形成されこれらのパ
ターン配線の各先端が前記フィルムから突出状態に配さ
れてコンタクトピンとされるコンタクトプローブであっ
て、請求項1記載の屈曲部を有する金属体を前記パター
ン配線とし、前記屈曲部が前記コンタクトピンの途中位
置に配された技術が採用される。
According to the contact probe of the fourth aspect,
A contact probe in which a plurality of pattern wirings are formed on a film, and each tip of these pattern wirings is arranged in a protruding state from the film to be a contact pin, and the metal body having a bent portion according to claim 1 is provided. A technology in which the bent portion is arranged in the middle of the contact pin as a pattern wiring is employed.

【0017】このコンタクトプローブでは、請求項1記
載の屈曲部を有する金属体をパターン配線とし、屈曲部
がコンタクトピンの途中位置に配されているので、塑性
変形が無く残留応力が少ないとともに、正確な屈曲位置
および角度で屈曲したコンタクトピンを有することがで
きる。
In this contact probe, the metal body having the bent portion according to the first aspect is used as a pattern wiring, and the bent portion is disposed at an intermediate position of the contact pin. It is possible to have contact pins bent at various bending positions and angles.

【0018】請求項5記載のコンタクトプローブの製造
方法では、フィルム上に複数のパターン配線を形成しこ
れらのパターン配線の各先端を前記フィルムから突出状
態に配してコンタクトピンとするコンタクトプローブの
製造方法であって、請求項2または3記載の屈曲部を有
する金属体の成形方法によって前記金属体である前記パ
ターン配線を形成し、前記屈曲部を前記コンタクトピン
の途中位置に配する配線形成工程を備え、前記配線形成
工程は、前記マスク除去工程の後に、前記第2の金属層
の上に前記コンタクトピンに供される部分以外をカバー
する前記フィルムを被着するフィルム被着工程を備えて
いる技術が採用される。
In the method of manufacturing a contact probe according to the present invention, a plurality of pattern wirings are formed on a film, and the tips of the pattern wirings are arranged so as to protrude from the film to form contact pins. A wiring forming step of forming the pattern wiring which is the metal body by the method of forming a metal body having a bent portion according to claim 2 or 3, and arranging the bent portion at an intermediate position of the contact pin. The wiring forming step includes, after the mask removing step, a film applying step of applying the film covering the portion other than the portion provided for the contact pin on the second metal layer. Technology is adopted.

【0019】このコンタクトプローブの製造方法では、
請求項2または3記載の屈曲部を有する金属体の成形方
法によって前記金属体であるパターン配線を形成し、前
記屈曲部をコンタクトピンの途中位置に配する配線形成
工程を備えているので、塑性変形が無く残留応力が少な
いとともに、予め設定された前記楔部材または前記第2
の基板層表面(傾斜面)の形状によって特定される屈曲
位置および角度で高精度に屈曲したコンタクトピンを得
ることができる。
In this method of manufacturing a contact probe,
The method according to claim 2 or 3, further comprising a wiring forming step of forming a pattern wiring which is the metal body by the method of forming a metal body having a bent portion and arranging the bent portion at a position halfway through a contact pin. There is no deformation and little residual stress, and the wedge member or the second
The contact pin bent with high accuracy at the bending position and angle specified by the shape of the substrate layer surface (inclined surface) can be obtained.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るコンタクトプ
ローブの一実施形態を図1および図2を参照しながら説
明する。これらの図にあって、符号1はコンタクトプロ
ーブ、2は樹脂フィルム、3はパターン配線(金属体)
を示している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of a contact probe according to the present invention will be described below with reference to FIGS. In these figures, reference numeral 1 denotes a contact probe, 2 denotes a resin film, 3 denotes a pattern wiring (metal body).
Is shown.

【0021】本実施形態のコンタクトプローブ1は、図
1および図2に示すように、ポリイミド樹脂フィルム2
の片面に金属で形成されるパターン配線3を有する構造
となっており、前記樹脂フィルム2の中央開口部Kに、
前記樹脂フィルム2の端部(すなわち、中央開口部Kの
各辺)から前記パターン配線3の先端部が突出してコン
タクトピン(金属体)3aとされている。また、パター
ン配線3の後端部には、テスター側のコンタクトピンが
接触される接触端子3bが形成されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, a contact probe 1 of this embodiment
And has a pattern wiring 3 formed of metal on one surface of the resin film 2.
The tip of the pattern wiring 3 protrudes from an end of the resin film 2 (that is, each side of the central opening K) to be a contact pin (metal body) 3a. At the rear end of the pattern wiring 3, a contact terminal 3b to be contacted with a contact pin on the tester side is formed.

【0022】前記パターン配線3は、Ni合金で形成さ
れ、また前記コンタクトピン3aには、表面にAuが皮
膜されて構成されている。前記コンタクトピン3aは、
図2に示すように、その先端から所定長さの途中位置V
にて屈曲されている。
The pattern wiring 3 is formed of a Ni alloy, and the contact pins 3a are formed by coating Au on the surface. The contact pin 3a
As shown in FIG. 2, an intermediate position V of a predetermined length from the tip end
It is bent at.

【0023】次に、図3および図4を参照して、前記コ
ンタクトプローブ1の製造方法ついて工程順に説明す
る。
Next, a method for manufacturing the contact probe 1 will be described in the order of steps with reference to FIGS.

【0024】〔ベースメタル層形成工程(第1の金属層
形成工程)〕まず、図3の(a)に示すように、ステン
レス製の支持金属板(第1の基板層)5の上に、Cu
(銅)メッキによりベースメタル層(第1の金属層)6
を形成する。
[Base Metal Layer Forming Step (First Metal Layer Forming Step)] First, as shown in FIG. 3A, a stainless steel supporting metal plate (first substrate layer) 5 Cu
Base metal layer (first metal layer) 6 by (copper) plating
To form

【0025】〔パターン形成工程〕このベースメタル層
6の上にフォトレジスト層7を形成した後、図3の
(b)に示すように、写真製版技術により、フォトレジ
スト層7に所定のパターンのフォトマスク8を施して露
光し、図3の(c)に示すように、フォトレジスト層7
を現像して前記パターン配線3となる部分を除去して残
存するフォトレジスト層(マスク)7に開口部7aを形
成する。
[Pattern Forming Step] After a photoresist layer 7 is formed on the base metal layer 6, as shown in FIG. 3B, a predetermined pattern is formed on the photoresist layer 7 by photolithography. A photomask 8 is applied and exposed, and as shown in FIG.
Is developed to remove the portion to be the pattern wiring 3 and form an opening 7a in the remaining photoresist layer (mask) 7.

【0026】なお、本実施形態においては、フォトレジ
スト層7をネガ型フォトレジストによって形成している
が、ポジ型フォトレジストを採用して所望の開口部7a
を形成しても構わない。また、本実施形態においては、
前記フォトレジスト層7が、本願請求項にいう「マス
ク」に相当する。但し、本願請求項の「マスク」とは、
本実施形態のフォトレジスト層7のように、フォトマス
ク8を用いた露光・現像工程を経て開口部7aが形成さ
れるものに限定されるわけではない。例えば、メッキ処
理される箇所に予め孔が形成された(すなわち、予め、
図3の(c)の符号7で示す状態に形成されている)フ
ィルム等でもよい。本願発明において、このようなフィ
ルム等を「マスク」として用いる場合には、本実施形態
における露光・現像工程は不要である。
In the present embodiment, the photoresist layer 7 is formed of a negative type photoresist, but the desired opening 7a is formed by employing a positive type photoresist.
May be formed. In the present embodiment,
The photoresist layer 7 corresponds to a “mask” in the present invention. However, the “mask” in the claims of the present application is:
Like the photoresist layer 7 of the present embodiment, the present invention is not limited to the one in which the opening 7a is formed through the exposure and development steps using the photomask 8. For example, a hole is formed in advance in a portion to be plated (that is, in advance,
A film or the like (formed in a state indicated by reference numeral 7 in FIG. 3C) may be used. In the present invention, when such a film or the like is used as a “mask”, the exposure and development steps in the present embodiment are unnecessary.

【0027】〔楔挿入工程〕パターン形成工程後、コン
タクトピン3aに供される部分において、ベースメタル
層6を、図4の(a)に示すように、支持金属板5から
所定位置W1まで剥離させ、図4の(b)に示すよう
に、ベースメタル層6と支持金属板5との間に楔部材Q
を挿入する。該楔部材Qは、その先端が所定角度θに予
め設定されている。したがって、この状態でベースメタ
ル層6を所定位置W1で所定角度θにおいて屈曲させる
ことができる。
[Wedge Inserting Step] After the pattern forming step, the base metal layer 6 is peeled off from the supporting metal plate 5 to a predetermined position W1 as shown in FIG. Then, as shown in FIG. 4B, the wedge member Q is placed between the base metal layer 6 and the supporting metal plate 5.
Insert The wedge member Q has its tip set to a predetermined angle θ in advance. Therefore, in this state, the base metal layer 6 can be bent at the predetermined angle W at the predetermined position W1.

【0028】〔メッキ処理工程〕そして、図3の(d)
に示すように、前記開口部7aに前記パターン配線3と
なるNi合金層(第2の金属層)Nを電解メッキ処理に
より形成する。このとき、図4の(c)に示すように、
所定位置W1に所定角度θで屈曲する屈曲部BEが成形
される。
[Plating Step] Then, FIG.
As shown in FIG. 5, a Ni alloy layer (second metal layer) N to be the pattern wiring 3 is formed in the opening 7a by electrolytic plating. At this time, as shown in FIG.
A bent portion BE bent at a predetermined angle θ is formed at a predetermined position W1.

【0029】〔マスク除去工程〕上記メッキ処理の後、
図3の(e)に示すように、フォトレジスト層7を除去
する。
[Mask removal process] After the above plating process,
As shown in FIG. 3E, the photoresist layer 7 is removed.

【0030】〔フィルム被着工程〕次に、図3の(f)
に示すように、前記Ni合金層Nの上であって、図に示
した前記パターン配線3の先端部、すなわちコンタクト
ピン3aとなる部分以外に、前記樹脂フィルム2を接着
剤2aにより接着する。この樹脂フィルム2は、ポリイ
ミド樹脂PIに金属フィルム(銅箔)500が一体に設
けられた二層テープである。このフィルム被着工程の前
までに、写真製版技術を用いた二層テープのうちの金属
フィルム500に、Cuエッチングを施して、グラウン
ドパターンを形成しておき、このフィルム被着工程で
は、二層テープのうちのポリイミド樹脂PIを接着剤2
aを介して前記Ni合金層Nに被着させる。なお、金属
フィルム500は、銅箔に加えて、Ni、Ni合金等で
もよい。
[Film Adhering Step] Next, FIG.
As shown in FIG. 2, the resin film 2 is adhered to the Ni alloy layer N with an adhesive 2a other than the tip of the pattern wiring 3 shown in FIG. This resin film 2 is a two-layer tape in which a metal film (copper foil) 500 is integrally provided on a polyimide resin PI. Before this film attaching step, the metal film 500 of the two-layer tape using the photoengraving technique is subjected to Cu etching to form a ground pattern, and in this film attaching step, Adhesive 2 of polyimide resin PI of tape
A is applied to the Ni alloy layer N through a. The metal film 500 may be made of Ni, Ni alloy or the like in addition to the copper foil.

【0031】〔分離工程(金属体分離工程)〕そして、
図4の(d)に示すように、楔部材Qを取り外した後、
図3の(g)に示すように、樹脂フィルム2とパターン
配線3(コンタクトピン3a)とベースメタル層6とか
らなる部分を、支持金属板5から完全に剥離させ分離さ
せる。さらに、この後、Cuエッチングを経て支持金属
板5を選択的に除去し、樹脂フィルム2にパターン配線
3のみを接着させた状態とする。この状態で、図4の
(e)に示すように、途中位置Vにおいて所定角度θで
屈曲した屈曲部BEを有するコンタクトピン3aが形成
される。すなわち、以上の各工程は、パターン配線3お
よびコンタクトピン3aを形成するコンタクトプローブ
1の配線形成工程を構成する。
[Separation step (metal body separation step)]
As shown in FIG. 4D, after removing the wedge member Q,
As shown in FIG. 3 (g), a portion composed of the resin film 2, the pattern wiring 3 (contact pin 3a) and the base metal layer 6 is completely separated from the supporting metal plate 5 and separated. Further, thereafter, the supporting metal plate 5 is selectively removed through Cu etching, and only the pattern wiring 3 is adhered to the resin film 2. In this state, as shown in FIG. 4E, a contact pin 3a having a bent portion BE bent at a predetermined angle θ at an intermediate position V is formed. That is, the above-described steps constitute a wiring forming step of the contact probe 1 for forming the pattern wiring 3 and the contact pins 3a.

【0032】〔金コーティング工程〕そして、露出状態
のパターン配線3に、図3の(h)に示すように、Au
メッキを施し、表面にAu層AUを形成する。このと
き、樹脂フィルム2から突出状態とされた前記コンタク
トピン3aでは、全周に亙る表面全体にAu層AUが形
成される。
[Gold coating step] Then, as shown in FIG.
Plating is applied to form an Au layer AU on the surface. At this time, the Au layer AU is formed on the entire surface of the contact pins 3a protruding from the resin film 2 over the entire circumference.

【0033】以上の工程により、図1および図2に示す
ような、樹脂フィルム2にパターン配線3を接着させた
コンタクトプローブ1が作製される。
Through the above steps, the contact probe 1 in which the pattern wiring 3 is adhered to the resin film 2 as shown in FIGS. 1 and 2 is manufactured.

【0034】このコンタクトプローブ1の製造方法で
は、楔挿入工程でベースメタル層6と支持金属板5との
間に楔部材Qを挿入することにより、ベースメタル層6
を所定位置W1で所定角度θに屈曲させ、さらにメッキ
処理工程およびマスク除去工程を行った後、分離工程に
よってNi合金層Nを分離させるので、非塑性変形部で
あり残留応力が少ないとともに、予め設定された楔部材
Qの形状によって特定される高精度な屈曲位置および角
度の屈曲部BEを有するコンタクトピン3aが得られ
る。
In the method of manufacturing the contact probe 1, the wedge member Q is inserted between the base metal layer 6 and the supporting metal plate 5 in the wedge insertion step, so that the base metal layer 6
Is bent at a predetermined angle θ at a predetermined position W1, and after performing a plating step and a mask removing step, the Ni alloy layer N is separated by a separating step. The contact pin 3a having the highly accurate bent position and angled bent portion BE specified by the set shape of the wedge member Q is obtained.

【0035】次に、本発明に係るコンタクトプローブ1
の他の製造方法について、図5を参照して工程順に説明
する。
Next, the contact probe 1 according to the present invention
Another manufacturing method will be described in the order of steps with reference to FIG.

【0036】まず、前述した製造方法と同様に、〔ベー
スメタル層形成工程(第1の金属層形成工程)〕を行う
とともに、〔パターン形成工程〕を行う。
First, a [base metal layer forming step (first metal layer forming step)] and a [pattern forming step] are performed in the same manner as in the above-described manufacturing method.

【0037】〔貼設工程〕パターン形成工程後、ベース
メタル層6を、図5の(a)に示すように、支持金属板
5からすべて剥離させ、図5の(b)に示すように、表
面に所定位置W2から所定角度θだけ傾斜した傾斜面G
1を有する傾斜基板部材(第2の基板層)Gの上に剥離
されたベースメタル層6を貼設する。したがって、この
状態でベースメタル層6を所定角度θで所定位置W2に
おいて屈曲させることができる。
[Attaching Step] After the pattern forming step, the base metal layer 6 is completely peeled off from the supporting metal plate 5 as shown in FIG. 5A, and as shown in FIG. An inclined surface G inclined by a predetermined angle θ from a predetermined position W2 on the surface
The peeled base metal layer 6 is attached on the inclined substrate member (second substrate layer) G having the number 1. Accordingly, in this state, the base metal layer 6 can be bent at the predetermined angle θ at the predetermined position W2.

【0038】〔メッキ処理工程〕そして、前述した製造
方法と同様に、前記開口部7aに前記パターン配線3
(コンタクトピン3a)となるNi合金層(第2の金属
層)Nを電解メッキ処理により形成する。このとき、図
5の(c)に示すように、所定位置W2に所定角度θで
屈曲する屈曲部BEが成形される。
[Plating Process] Then, similarly to the above-described manufacturing method, the pattern wiring 3 is formed in the opening 7a.
A Ni alloy layer (second metal layer) N to be (contact pin 3a) is formed by electrolytic plating. At this time, as shown in FIG. 5C, a bent portion BE bent at a predetermined angle θ is formed at a predetermined position W2.

【0039】この後、前述した製造方法と同様に、〔マ
スク除去工程〕および〔フィルム被着工程〕を行う。
Thereafter, a [mask removing step] and a [film applying step] are performed in the same manner as in the above-described manufacturing method.

【0040】〔分離工程(金属体分離工程)〕そして、
図5の(d)に示すように、樹脂フィルム2とパターン
配線3とベースメタル層6とを傾斜基板部材Gから全て
剥離させ、さらに、図5の(e)に示すように、Cuエ
ッチングを経て支持金属板5を選択的に除去し、樹脂フ
ィルム2にパターン配線3(コンタクトピン3a)のみ
を接着させた状態とする。この状態で、途中位置Vにお
いて所定角度θで屈曲した屈曲部BEを有するコンタク
トピン3aが形成される。
[Separation step (metal body separation step)]
As shown in FIG. 5D, the resin film 2, the pattern wiring 3, and the base metal layer 6 are all peeled off from the inclined substrate member G. Further, as shown in FIG. After that, the supporting metal plate 5 is selectively removed, and only the pattern wiring 3 (contact pin 3 a) is adhered to the resin film 2. In this state, a contact pin 3a having a bent portion BE bent at a predetermined angle θ at an intermediate position V is formed.

【0041】この後、前述した製造方法と同様に、金コ
ーティング工程を経て、樹脂フィルム2にパターン配線
3を接着させたコンタクトプローブ1が作製される。
Thereafter, in the same manner as in the above-described manufacturing method, the contact probe 1 in which the pattern wiring 3 is adhered to the resin film 2 through the gold coating step is manufactured.

【0042】このコンタクトプローブ1の製造方法で
は、貼設工程でベースメタル層6を支持金属板5からす
べて剥離させ、表面に所定位置W2から所定角度θに傾
斜した傾斜面G1を有する傾斜基板部材G上にベースメ
タル層6を貼設し、ベースメタル層6を所定位置W2で
所定角度θに屈曲させ、さらに前記メッキ処理工程およ
び前記マスク除去工程を行った後、前記分離工程によっ
てNi合金層Nを分離させてコンタクトピン3aとする
ので、前述した製造方法と同様に、塑性変形が無く残留
応力が少ないとともに、予め設定された傾斜基板部材G
の表面(傾斜面G1)の形状によって特定される高精度
な屈曲位置および角度の屈曲部BEを有するコンタクト
ピン3aが製造される。
In the method of manufacturing the contact probe 1, in the attaching step, the base metal layer 6 is completely peeled off from the supporting metal plate 5, and the inclined substrate member having the inclined surface G1 inclined from the predetermined position W2 by a predetermined angle θ on the surface. G, a base metal layer 6 is attached, the base metal layer 6 is bent at a predetermined position W2 at a predetermined angle θ, and the plating process and the mask removing process are performed. Since N is separated into the contact pins 3a, similar to the above-described manufacturing method, there is no plastic deformation and little residual stress, and the preset inclined substrate member G
The contact pin 3a having the highly accurate bent position and angled bent portion BE specified by the shape of the surface (inclined surface G1) is manufactured.

【0043】次に、前記コンタクトプローブ1を、バー
ンインテスト等に用いるプローブ装置、いわゆるチップ
キャリアに適用した場合の一例を、図6から図8を参照
して説明する。これらの図において、符号10はプロー
ブ装置、11はフレーム本体、12は位置決め板、13
は上板、14はクランパ、15は下板を示している。な
お、本発明に係るコンタクトプローブは、全体が柔軟で
曲げやすいためプローブ装置に組み込む際にフレキシブ
ル基板として機能する。
Next, an example in which the contact probe 1 is applied to a probe device used for a burn-in test or the like, that is, a so-called chip carrier, will be described with reference to FIGS. In these figures, reference numeral 10 denotes a probe device, 11 denotes a frame body, 12 denotes a positioning plate, 13
Denotes an upper plate, 14 denotes a clamper, and 15 denotes a lower plate. Note that the contact probe according to the present invention functions as a flexible substrate when incorporated in a probe device because the contact probe as a whole is flexible and easily bent.

【0044】プローブ装置10は、図6および図7に示
すように、フレーム本体11と、フレーム本体の内側に
固定され中央に開口部が形成された位置決め板12と、
コンタクトプローブ1と、該コンタクトプローブ1を上
から押さえて支持する上板(支持部材)13と、該上板
13を上から付勢してフレーム本体11に固定するクラ
ンパ14とを備えている。また、フレーム本体11の下
部には、ICチップIを載置して保持する下板15がボ
ルト15aによって取り付けられている。
As shown in FIGS. 6 and 7, the probe device 10 includes a frame main body 11, a positioning plate 12 fixed inside the frame main body and having an opening formed in the center.
The contact probe 1 includes an upper plate (supporting member) 13 for holding the contact probe 1 from above and supporting the same, and a clamper 14 for urging the upper plate 13 from above and fixing the upper plate 13 to the frame body 11. Further, a lower plate 15 for mounting and holding the IC chip I is attached to a lower portion of the frame main body 11 by a bolt 15a.

【0045】コンタクトプローブ1の中央開口部Kおよ
びコンタクトピン3aは、ICチップIの形状およびI
CチップI上のコンタクトパッドの配置に対応して形成
され、中央開口部Kからコンタクトピン3aとICチッ
プIのコンタクトパッドとの接触状態を監視できるよう
になっている。なお、前記中央開口部Kの隅部に切込み
を形成して、組み込み時に容易にコンタクトプローブ1
が変形できるようにしても構わない。
The center opening K and the contact pins 3a of the contact probe 1 are formed in the shape and the shape of the IC chip I.
It is formed corresponding to the arrangement of the contact pads on the C chip I, and the contact state between the contact pins 3a and the contact pads of the IC chip I can be monitored from the central opening K. Notches are formed in the corners of the central opening K so that the contact probe 1 can be easily assembled.
Can be deformed.

【0046】また、コンタクトプローブ1の接触端子3
bは、コンタクトピン3aのピッチに比べて広く設定さ
れ、狭ピッチであるICチップIのコンタクトパッドと
該コンタクトパッドに比べて広いピッチのテスター側コ
ンタクトピンとの整合が容易に取れるようになってい
る。
The contact terminal 3 of the contact probe 1
b is set wider than the pitch of the contact pins 3a so that the contact pads of the IC chip I having a narrower pitch and the tester side contact pins having a wider pitch than the contact pads can be easily matched. .

【0047】なお、ICチップIの4辺全てにはコンタ
クトパッドが形成されておらず、一部の辺に配されてい
る場合には、少なくとも前記一部の辺に対応する中央開
口部Kの辺にのみコンタクトピン3aを設ければよい
が、ICチップIを安定して保持するためには、対向す
る2辺にコンタクトピン3aを形成してICチップIの
対向する両辺を押さえることが好ましい。
If the contact pads are not formed on all four sides of the IC chip I but are arranged on some of the sides, at least the central opening K corresponding to the part of the sides is formed. It is sufficient to provide the contact pins 3a only on the sides, but in order to stably hold the IC chip I, it is preferable to form the contact pins 3a on two opposing sides and press both opposing sides of the IC chip I. .

【0048】上記プローブ装置10にICチップIを取
り付ける手順について説明する。 〔仮組立工程〕まず、位置決め板12をフレーム本体1
1の取付部上に載置し、この上にコンタクトプローブ1
を中央開口部Kとフレーム本体11の開口部とを合わせ
て配置する。そして、中央開口部K上に同様に開口部を
合わせて上板13を載置し、その上からフレーム本体1
1にクランパ14を係止させる。該クランパ14は、中
央に屈曲部を有する一種の板バネであるため、上記係止
状態で上板13を押さえて固定する機能を有する。
A procedure for attaching the IC chip I to the probe device 10 will be described. [Temporary Assembly Step] First, the positioning plate 12 is
And the contact probe 1
Are arranged so that the central opening K and the opening of the frame body 11 are aligned. Then, the upper plate 13 is placed on the central opening K with the openings similarly aligned, and the frame main body 1 is placed on the upper plate 13 from above.
1 is engaged with the clamper 14. Since the clamper 14 is a kind of leaf spring having a bent portion in the center, the clamper 14 has a function of pressing and fixing the upper plate 13 in the locked state.

【0049】上記組立状態では、中央に開口が設けら
れ、この部分にICチップIが取り付けられるので、取
り付けられたICチップIが開口上方から観察可能とさ
れている。また、上板13とクランパ14とは平面上略
長方形に形成され、図7に示すように、コンタクトプロ
ーブ1の接触端子3bが、それぞれの長辺側から外側に
出るように組立られる。
In the above assembled state, an opening is provided at the center and the IC chip I is attached to this portion, so that the attached IC chip I can be observed from above the opening. The upper plate 13 and the clamper 14 are formed in a substantially rectangular shape on a plane, and as shown in FIG. 7, are assembled so that the contact terminals 3b of the contact probe 1 protrude outward from the long sides.

【0050】上板13の下面は、開口近傍が所定の傾斜
角で傾斜状態とされ、図8に示すように、コンタクトプ
ローブ1のコンタクトピン3aを所定角度で下向きに傾
斜させる。ICチップIは、配線側を上向きにして下板
15上に載置され、この状態で下板15がフレーム本体
11に下方から仮止め状態とされる。このとき、コンタ
クトプローブ1のコンタクトピン3a先端と下板15上
面との距離がICチップIの厚さより所定量小さく設定
されているので、ICチップIはコンタクトピン3aと
下板15とによって挟持される。
On the lower surface of the upper plate 13, the vicinity of the opening is inclined at a predetermined inclination angle, and as shown in FIG. 8, the contact pins 3a of the contact probe 1 are inclined downward at a predetermined angle. The IC chip I is placed on the lower plate 15 with the wiring side facing upward. In this state, the lower plate 15 is temporarily fixed to the frame main body 11 from below. At this time, since the distance between the tip of the contact pin 3a of the contact probe 1 and the upper surface of the lower plate 15 is set smaller than the thickness of the IC chip I by a predetermined amount, the IC chip I is sandwiched between the contact pin 3a and the lower plate 15. You.

【0051】〔位置合わせ工程〕さらに、開口上方から
コンタクトピン3aの先端に対するICチップIのコン
タクトパッドの位置を観察しながら、位置決め板12を
動かしたりICチップIを針状治具等で動かすことによ
って調整し、対応するコンタクトピン3a先端とコンタ
クトパッドとが一致し接触するように微調整設定する。
[Positioning Step] Further, while observing the position of the contact pad of the IC chip I with respect to the tip of the contact pin 3a from above the opening, the positioning plate 12 is moved or the IC chip I is moved by a needle jig or the like. And fine adjustment is set so that the corresponding tip of the contact pin 3a and the contact pad coincide with each other and come into contact with each other.

【0052】なお、ICチップIのダイシング精度が高
く、その外形とコンタクトパッドの位置が相対的に安定
しているときには、位置決め板12とコンタクトプロー
ブ1との位置関係を予め調整しておいてから固定的に組
み立てておくことにより、上記微調整をせずにコンタク
トピン3aとコンタクトパッドとを一致させることが可
能となる。これによって、ICチップIの位置合わせ工
程が不要となり、ICチップIの取り付け作業が効率的
にかつ容易に行うことができる。
When the dicing accuracy of the IC chip I is high and the external shape and the position of the contact pad are relatively stable, the positional relationship between the positioning plate 12 and the contact probe 1 must be adjusted in advance. By fixedly assembling, it is possible to match the contact pin 3a with the contact pad without performing the fine adjustment. Thus, the step of aligning the IC chip I becomes unnecessary, and the work of mounting the IC chip I can be performed efficiently and easily.

【0053】〔本固定工程〕前記位置合わせ工程後、フ
レーム本体11に下板15を本格的に固定する。このと
き、傾斜状態のコンタクトピン3aに、いわゆるオーバ
ードライブがかかり、所定の押圧力でコンタクトピン3
a先端とコンタクトパッドとが接触して確実に電気的に
結合される。この状態は、ICチップIが、いわゆるマ
ルチチップモジュール等に実装された状態に酷似してお
り、ほぼ実装状態とされたICチップIの動作状態を高
信頼性をもってテストすることができる。
[Fixing Step] After the positioning step, the lower plate 15 is fixed to the frame body 11 in full scale. At this time, so-called overdrive is applied to the contact pin 3a in the inclined state, and the contact pin 3a is pressed with a predetermined pressing force.
a The tip and the contact pad are in contact with each other to be reliably electrically connected. This state is very similar to the state where the IC chip I is mounted on a so-called multi-chip module or the like, and the operation state of the IC chip I almost mounted can be tested with high reliability.

【0054】このプローブ装置10は、約1インチ角
(約2.5cm角)の小さなチップキャリアであり、ダ
イナミックバーンインテスト等の高温加熱を伴う信頼性
試験に好適なものである。
This probe device 10 is a small chip carrier of about 1 inch square (about 2.5 cm square), and is suitable for a reliability test involving high-temperature heating such as a dynamic burn-in test.

【0055】なお、コンタクトプローブ1をチップキャ
リアであるプローブ装置10に適用したが、他の測定用
治具、例えばコンタクトプローブ1をIC用プローブと
してメカニカルパーツに組み込んだプローブカードやコ
ンタクトプローブ1をLCD用プローブの所定形状に切
り出してLCD用プローブ装置に採用しても構わない。
この場合、組み込まれる各プローブ装置に対応して、コ
ンタクトプローブの形状、配線、コンタクトピンのピッ
チや配置、折曲の角度等が設定される。
Although the contact probe 1 is applied to the probe device 10 as a chip carrier, other measuring jigs, for example, a probe card in which the contact probe 1 is incorporated into a mechanical part as an IC probe or a contact probe 1 is used as an LCD. The probe for the LCD may be cut into a predetermined shape and used for the LCD probe device.
In this case, the shape of the contact probe, the wiring, the pitch and arrangement of the contact pins, the angle of bending, and the like are set in accordance with each of the probe devices to be incorporated.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明によれば、以下の効果を奏する。 (1)請求項1記載の屈曲部を有する金属体によれば、
前記所定角度に傾斜した傾斜面を有する第1の金属層上
に、第2の金属層を選択的にメッキ形成して屈曲部を成
形した後、第2の金属層を分離させて形成したので、屈
曲部が折曲によって形成されたものではなく、非塑性変
形部となることから残留応力が残らず耐久性を向上させ
ることができる。
According to the present invention, the following effects can be obtained. (1) According to the metal body having the bent portion according to claim 1,
The second metal layer was selectively formed by plating on the first metal layer having the inclined surface inclined at the predetermined angle to form a bent portion, and then the second metal layer was separated and formed. In addition, since the bent portion is not formed by bending, but becomes a non-plastically deformed portion, there is no residual stress, and durability can be improved.

【0057】(2)請求項2記載の屈曲部を有する金属
体の成形方法によれば、楔挿入工程で第1の金属層と基
板層との間に楔部材を挿入することにより、第1の金属
層を所定位置で所定角度に屈曲させ、さらにメッキ処理
工程およびマスク除去工程を行った後、金属体分離工程
によって第2の金属層を分離させて金属体とするので、
塑性変形が無く残留応力が少ないとともに、予め設定さ
れた楔部材の形状によって特定される高精度な屈曲位置
および角度の屈曲部を有する金属体を製造することがで
きる。
(2) According to the method for forming a metal body having a bent portion according to the second aspect, the first wedge member is inserted between the first metal layer and the substrate layer in the wedge insertion step. After bending the metal layer at a predetermined position at a predetermined angle, and further performing a plating step and a mask removing step, the second metal layer is separated into a metal body by a metal body separating step.
It is possible to manufacture a metal body that has no plastic deformation, has little residual stress, and has a highly accurate bent position and a bent portion specified by the shape of the wedge member set in advance.

【0058】(3)請求項3記載の屈曲部を有する金属
体の成形方法によれば、貼設工程によって第1の金属層
を第1の基板層からすべて剥離させ、表面に所定位置か
ら所定角度に傾斜した傾斜面を有する第2の基板層上に
第1の金属層を貼設し、該第1の金属層を前記所定位置
で前記所定角度に屈曲させ、さらにメッキ処理工程およ
びマスク除去工程を行った後、金属体分離工程によって
第2の金属層を分離させて前記金属体とするので、塑性
変形が無く残留応力が少ないとともに、予め設定された
第2の基板層表面(傾斜面)の形状によって特定される
高精度な屈曲位置および角度の屈曲部を有する金属体を
製造することができる。
(3) According to the method for forming a metal body having a bent portion according to the third aspect, the first metal layer is completely peeled off from the first substrate layer in the attaching step, and the surface is fixed to a predetermined position from a predetermined position. Attaching a first metal layer on a second substrate layer having an inclined surface inclined at an angle, bending the first metal layer at the predetermined position at the predetermined angle, further performing a plating process and removing a mask; After performing the step, the second metal layer is separated into the metal body by the metal body separation step, so that the metal body is free from plastic deformation, the residual stress is small, and the predetermined second substrate layer surface (inclined surface) A metal body having a highly accurate bent position and a bent portion at an angle specified by the shape of ()) can be manufactured.

【0059】(4)請求項4記載のコンタクトプローブ
によれば、請求項1記載の屈曲部を有する金属体をパタ
ーン配線とし、屈曲部がコンタクトピンの途中位置に配
されているので、塑性変形が無く残留応力が少ないとと
もに、正確な屈曲位置および角度で屈曲したコンタクト
ピンを有することができる。
(4) According to the contact probe of the fourth aspect, the metal body having the bent portion according to the first aspect is used as a pattern wiring, and the bent portion is disposed at an intermediate position of the contact pin. In addition to having no residual stress, the contact pin can be bent at an accurate bending position and angle.

【0060】(5)請求項5記載のコンタクトプローブ
の製造方法によれば、請求項2または3記載の屈曲部を
有する金属体の成形方法によって前記金属体であるパタ
ーン配線を形成し、前記屈曲部をコンタクトピンの途中
位置に配する配線形成工程を備えているので、塑性変形
が無く残留応力が少ないとともに、予め設定された前記
楔部材または前記第2の基板層表面(傾斜面)の形状に
よって特定される屈曲位置および角度で高精度に屈曲し
たコンタクトピンを得ることができる。したがって、折
曲工程および研磨工程を用いずに、各コンタクトピンの
高さや長さを容易に均一化することができ、塑性変形し
ていない屈曲部を有することによって高耐久性のコンタ
クトプローブを製造することができる。
(5) According to the method for manufacturing a contact probe according to the fifth aspect, the pattern wiring which is the metal body is formed by the method for forming a metal body having a bent portion according to the second or third aspect, and the bending is performed. Since there is provided a wiring forming step of arranging the portion at an intermediate position of the contact pin, there is no plastic deformation and little residual stress, and the predetermined shape of the wedge member or the surface of the second substrate layer (inclined surface) The contact pin bent with high accuracy at the bending position and angle specified by the above can be obtained. Therefore, the height and length of each contact pin can be easily made uniform without using a bending process and a polishing process, and a highly durable contact probe is manufactured by having a bent portion that is not plastically deformed. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態を示す拡大模式図である。
FIG. 1 is an enlarged schematic view illustrating an embodiment of a contact probe according to the present invention.

【図2】 図1のA−A線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【図3】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態における製造方法を工程順に示す要部断面図である。
FIG. 3 is a fragmentary cross-sectional view showing a manufacturing method in an embodiment of the contact probe according to the present invention in the order of steps.

【図4】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態における製造方法を工程順に示すコンタクトピン部分
の要部断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of a main part of a contact pin, showing a manufacturing method in an embodiment of the contact probe according to the present invention in the order of steps.

【図5】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態における他の製造方法を工程順に示すコンタクトピン
部分の要部断面図である。
FIG. 5 is a fragmentary cross-sectional view of a contact pin portion showing another manufacturing method in an embodiment of the contact probe according to the present invention in the order of steps;

【図6】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態を用いたプローブ装置(チップキャリア)の分解斜視
図である。
FIG. 6 is an exploded perspective view of a probe device (chip carrier) using an embodiment of the contact probe according to the present invention.

【図7】 本発明に係るコンタクトプローブの一実施形
態を用いたプローブ装置(チップキャリア)の外観斜視
図である。
FIG. 7 is an external perspective view of a probe device (chip carrier) using one embodiment of the contact probe according to the present invention.

【図8】 図7の要部が拡大されたB−B線断面図であ
る。
8 is an enlarged cross-sectional view taken along line BB of a main part of FIG. 7;

【図9】 本発明に係るコンタクトプローブの従来例を
示す要部を拡大した断面図である。
FIG. 9 is an enlarged sectional view of a main part showing a conventional example of a contact probe according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 コンタクトプローブ 2 樹脂フィルム 3 パターン配線 3a コンタクトピン(金属体) 5 支持金属板(基板層) 6 ベースメタル層(第1の金属層) 7 フォトレジスト層 10 プローブ装置 13 上板 500 金属フィルム AU Au層 BE 屈曲部 G 傾斜基板部材(第2の基板層) G1 傾斜面 I ICチップ(測定対象物) N Ni合金層(第2の金属層) PI ポリイミド樹脂 Q 楔部材 V 途中位置 W1,W2 所定位置 θ 所定角度 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Contact probe 2 Resin film 3 Pattern wiring 3a Contact pin (metal body) 5 Supporting metal plate (substrate layer) 6 Base metal layer (first metal layer) 7 Photoresist layer 10 Probe device 13 Upper plate 500 Metal film AU Au Layer BE bent portion G Inclined substrate member (second substrate layer) G1 Inclined surface I IC chip (measurement target) N Ni alloy layer (second metal layer) PI Polyimide resin Q Wedge member V Midway position W1, W2 Position θ Predetermined angle

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定角度の屈曲部を有する金属体であっ
て、 表面の所定位置から前記所定角度に傾斜した傾斜面を有
する第1の金属層上に、第2の金属層を選択的にメッキ
形成して前記所定位置に非塑性変形部となる前記屈曲部
を成形した後、第2の金属層を分離させて形成したこと
を特徴とする屈曲部を有する金属体。
1. A metal body having a bent portion having a predetermined angle, wherein a second metal layer is selectively formed on a first metal layer having an inclined surface inclined at a predetermined angle from a predetermined position on a surface. A metal body having a bent portion, wherein the second metal layer is formed by separating the second metal layer after forming the bent portion to be a non-plastically deformed portion at the predetermined position by plating.
【請求項2】 所定角度の屈曲部を有する金属体の成形
方法において、 基板層の上に前記金属体の材質に被着または結合する材
質の第1の金属層を形成する第1の金属層形成工程と、 前記第1の金属層の上に前記金属体に供される部分以外
にマスクを施すパターン形成工程と、 該パターン形成工程後に、前記第1の金属層を前記基板
層から所定位置まで剥離させ、第1の金属層と基板層と
の間に楔部材を挿入して第1の金属層を前記所定位置で
前記所定角度に屈曲させる楔挿入工程と、 該楔挿入工程後に、前記第1の金属層の上のマスクされ
ていない部分に、前記金属体に供される第2の金属層を
メッキ処理により形成し、前記所定位置に前記屈曲部を
成形するメッキ処理工程と、 前記マスクを除去するマスク除去工程と、 前記楔部材を取り外した後、前記第1の金属層を前記基
板層からすべて剥離させ、さらに第1の金属層を選択的
に除去し、前記第2の金属層を分離させて前記金属体と
する金属体分離工程とを備えることを特徴とする屈曲部
を有する金属体の成形方法。
2. A method of forming a metal body having a bent portion at a predetermined angle, comprising: forming a first metal layer of a material to be adhered to or bonded to a material of the metal body on a substrate layer; A forming step, a pattern forming step of applying a mask on the first metal layer other than a portion provided for the metal body, and after the pattern forming step, the first metal layer is positioned at a predetermined position from the substrate layer. And a wedge member is inserted between the first metal layer and the substrate layer to bend the first metal layer at the predetermined position at the predetermined angle, and after the wedge insertion step, A plating step of forming a second metal layer to be provided for the metal body by plating on an unmasked portion on the first metal layer, and forming the bent portion at the predetermined position; A mask removing step of removing the mask; And removing the first metal layer from the substrate layer, selectively removing the first metal layer, and separating the second metal layer to form the metal body as the metal body. A method for forming a metal body having a bent portion, comprising a separating step.
【請求項3】 所定角度の屈曲部を有する金属体の成形
方法において、 第1の基板層の上に前記金属体の材質に被着または結合
する材質の第1の金属層を形成する第1の金属層形成工
程と、 前記第1の金属層の上に前記金属体に供される部分以外
にマスクを施すパターン形成工程と、 該パターン形成工程後に、前記第1の金属層を前記第1
の基板層からすべて剥離させ、表面に所定位置から前記
所定角度に傾斜した傾斜面を有する第2の基板層上に第
1の金属層を貼設し、該第1の金属層を前記所定位置で
前記所定角度に屈曲させる貼設工程と、 該貼設工程後に、前記第1の金属層の上のマスクされて
いない部分に、前記金属体に供される第2の金属層をメ
ッキ処理により形成し、前記所定位置に前記屈曲部を成
形するメッキ処理工程と、 前記マスクを除去するマスク除去工程と、 再び前記第1の金属層を前記第2の基板層からすべて剥
離させ、さらに第1の金属層を選択的に除去し、前記第
2の金属層を分離させて前記金属体とする金属体分離工
程とを備えることを特徴とする金属体の成形方法。
3. A method for forming a metal body having a bent portion at a predetermined angle, wherein a first metal layer of a material to be attached to or bonded to a material of the metal body is formed on a first substrate layer. A metal layer forming step, a pattern forming step of applying a mask on the first metal layer other than a portion provided for the metal body, and after the pattern forming step, the first metal layer
And a first metal layer is stuck on a second substrate layer having a surface inclined at a predetermined angle from a predetermined position on the surface, and the first metal layer is placed at the predetermined position. A bonding step of bending at a predetermined angle, and after the bonding step, a second metal layer provided for the metal body is plated on an unmasked portion on the first metal layer by plating. A plating step of forming and forming the bent portion at the predetermined position; a mask removing step of removing the mask; and removing all of the first metal layer from the second substrate layer again. A metal body separating step of selectively removing said metal layer and separating said second metal layer into said metal body.
【請求項4】 複数のパターン配線がフィルム上に形成
されこれらのパターン配線の各先端が前記フィルムから
突出状態に配されてコンタクトピンとされるコンタクト
プローブであって、 請求項1記載の屈曲部を有する金属体を前記パターン配
線とし、前記屈曲部が前記コンタクトピンの途中位置に
配されたことを特徴とするコンタクトプローブ。
4. A contact probe in which a plurality of pattern wirings are formed on a film, and each tip of the pattern wirings is arranged so as to protrude from the film to serve as a contact pin. A contact probe, wherein a metal body is used as the pattern wiring, and the bent portion is disposed at an intermediate position of the contact pin.
【請求項5】 フィルム上に複数のパターン配線を形成
しこれらのパターン配線の各先端を前記フィルムから突
出状態に配してコンタクトピンとするコンタクトプロー
ブの製造方法であって、 請求項2または3記載の屈曲部を有する金属体の成形方
法によって前記金属体である前記パターン配線を形成
し、前記屈曲部を前記コンタクトピンの途中位置に配す
る配線形成工程を備え、 前記配線形成工程は、前記マスク除去工程の後に、前記
第2の金属層の上に前記コンタクトピンに供される部分
以外をカバーする前記フィルムを被着するフィルム被着
工程を備えていることを特徴とするコンタクトプローブ
の製造方法。
5. A method for manufacturing a contact probe, wherein a plurality of pattern wirings are formed on a film, and the tips of the pattern wirings are arranged so as to protrude from the film to form contact pins. Forming a pattern wiring that is the metal body by a method of forming a metal body having a bent portion, and arranging the bent portion at an intermediate position of the contact pin. A method for manufacturing a contact probe, comprising: after the removing step, a film applying step of applying the film covering the portion other than a portion provided for the contact pin on the second metal layer. .
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG80101A1 (en) * 1999-06-28 2001-04-17 Advantest Corp Method of producing a contact structure
CN100420948C (en) * 2005-08-19 2008-09-24 南茂科技股份有限公司 Banks of elastic probe, and fabricating method
KR101396944B1 (en) * 2013-06-26 2014-05-19 엘지디스플레이 주식회사 Folding device for flexible printed circuit board of touch type display device and folding method using the same
KR20230080506A (en) * 2016-08-22 2023-06-07 케이엘에이 코포레이션 Resistivity probe having movable needle bodies

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