JPH10189238A - Optical element and manufacture thereof - Google Patents
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Classifications
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/842—Containers
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電界発光素子（例
えば、電界発光素子の樹脂封止時に不活性ガスで内部を
置換して封止する電界発光素子）に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electroluminescent device (for example, an electroluminescent device in which the inside of an electroluminescent device is sealed with an inert gas when the resin is sealed).
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、マルチメディア指向の商品を初め
として、人間と機械とのインターフェースの重要性が高
まってきている。人間がより快適に効率良く機械操作す
るためには、操作される機械からの情報を誤りなく、簡
潔に、瞬時に、十分な量で取り出す必要があり、そのた
めに、ディスプレイを初めとする様々な表示素子につい
て研究が行われている。2. Description of the Related Art In recent years, the importance of interfaces between humans and machines, such as multimedia-oriented products, has been increasing. In order for humans to operate the machine more comfortably and efficiently, it is necessary to extract information from the operated machine in a simple, instant, and sufficient amount without errors. Research has been conducted on display elements.
【０００３】中でも、軽量で高効率のフラットパネルデ
ィスプレイは、例えばコンピュータやテレビジョンの画
面表示用として期待されている。一方、ブラウン管は輝
度が高く、色再現性が良いため、現在ディスプレイとし
て最も多く使われているが、嵩高く、重く、また消費電
力も高いということも今後解決すべき問題である。[0003] Above all, a lightweight and highly efficient flat panel display is expected to be used, for example, for screen display of a computer or a television. On the other hand, cathode ray tubes are currently used most often as displays because of their high brightness and good color reproducibility. However, they are bulky, heavy, and have high power consumption, which are problems to be solved in the future.
【０００４】フラットパネルディスプレイとしては、ア
クティブマトリックス駆動の液晶ディスプレイが既に商
品化されている。しかしながら、視野角が狭く、また、
自発光でないため周囲が暗い環境下ではバックライトの
消費電力が大きいことや、今後実用化が期待されている
ところの、高精細度で高速のビデオ信号に対しては十分
な応答性能を有していない等の問題点もある。更に、大
画面サイズのディスプレイを製造するにはコストが高い
等の課題もある。As a flat panel display, an active matrix driven liquid crystal display has already been commercialized. However, the viewing angle is narrow and
Since it is not self-luminous, it has high backlight power consumption in a dark environment and has sufficient response performance to high-definition, high-speed video signals, which are expected to be put to practical use in the future. There are also problems such as not being done. Further, there are also problems such as high cost for manufacturing a display having a large screen size.
【０００５】これに対する代替として、発光ダイオード
が可能性があるが、やはり製造コストが高く、また１つ
の基板上に発光ダイオードのマトリックスを製造するこ
とが難しい等の問題があり、ブラウン管に代わる低価格
のディスプレイの候補としては、実用化までの課題が大
きい。As an alternative to this, a light emitting diode may be used. However, the manufacturing cost is high, and it is difficult to manufacture a matrix of light emitting diodes on one substrate. As a display candidate for, there is a large problem until practical application.
【０００６】上記の諸課題を解決できる可能性のあるフ
ラットパネルディスプレイの候補としては、最近有機発
光材料が注目されている。これは、有機発光材料を用い
ることにより、自発光で、応答速度が高速であり、これ
により視野角依存性の無いフラットパネルディスプレイ
の実現が期待されている。As a candidate for a flat panel display that can solve the above-mentioned problems, organic light-emitting materials have recently been receiving attention. This is expected to realize a flat panel display which is self-luminous and has a high response speed by using an organic light emitting material, and has no viewing angle dependence.
【０００７】図３１は、有機発光材料を用いた従来の電
界発光素子（以下、有機ＥＬ（エレクトロルミネセン
ス）素子と称することがある。）１０の一例を示す。こ
の有機ＥＬ素子１０は、透明基板（例えばガラス基板）
６上に、ＩＴＯ（Indium tin oxide）透明電極５、ホー
ル輸送層４、発光層３、電子輸送層２、陰極（例えばア
ルミニウム電極）１を例えば真空蒸着法で順次製膜した
ダブルヘテロ型である。FIG. 31 shows an example of a conventional electroluminescent device (hereinafter, sometimes referred to as an organic EL (electroluminescence) device) 10 using an organic light emitting material. The organic EL element 10 is a transparent substrate (for example, a glass substrate)
6 is a double hetero type in which an ITO (Indium tin oxide) transparent electrode 5, a hole transport layer 4, a light emitting layer 3, an electron transport layer 2, and a cathode (for example, an aluminum electrode) 1 are sequentially formed by, for example, a vacuum deposition method. .
【０００８】そして、陽極である透明電極５と陰極（以
下、金属電極と称することがある。）１との間に直流電
圧７を選択的に印加することによって、透明電極５から
注入されたキャリアとしてのホールがホール輸送層４を
経て、また陰極１から注入された電子が電子輸送層２を
経て移動し、電子−ホールの再結合が生じ、ここから所
定波長の発光８が生じ、透明基板６の側から観察でき
る。Then, a DC voltage 7 is selectively applied between the transparent electrode 5 as an anode and the cathode (hereinafter, sometimes referred to as a metal electrode) 1 so that carriers injected from the transparent electrode 5 are applied. As a result, holes injected through the hole transport layer 4 and electrons injected from the cathode 1 move through the electron transport layer 2 to cause recombination of electrons and holes. 6 can be observed.
【０００９】発光層３には、例えばアントラセン、ナフ
タリン、フェナントレン、ピレン、クリセン、ペリレ
ン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、
ユーロピウム錯体等の発光物質を使用してよい。これ
は、電子輸送層２に含有させることができる。The light emitting layer 3 includes, for example, anthracene, naphthalene, phenanthrene, pyrene, chrysene, perylene, butadiene, coumarin, acridine, stilbene,
A luminescent material such as a europium complex may be used. This can be contained in the electron transport layer 2.
【００１０】図３２は、有機発光材料を用いた別の従来
例を示すものであり、発光層３を省略し、電子輸送層２
に上記の如き発光物質を含有させ、電子輸送層２とホー
ル輸送層４との界面から所定波長の発光１８が生じるよ
うに構成したシングルヘテロ型の有機ＥＬ素子２０を示
すものである。FIG. 32 shows another conventional example using an organic light emitting material, in which the light emitting layer 3 is omitted and the electron transport layer 2 is formed.
1 shows a single-hetero organic EL device 20 which contains the above-mentioned luminescent substance and emits light 18 having a predetermined wavelength from the interface between the electron transport layer 2 and the hole transport layer 4.
【００１１】図３３は、上記の有機ＥＬ素子の具体例を
示す。即ち、各有機層（ホール輸送層４、発光層３又は
電子輸送層２）の積層体を陰極１と陽極５との間に配す
るが、これらの電極をマトリックス状に交差させてスト
ライプ状に設け、輝度信号回路４０、シフトレジスタ内
蔵の制御回路４１によって時系列に信号電圧を印加し、
多数の交差位置（画素）にてそれぞれ発光させるように
構成している。FIG. 33 shows a specific example of the above-mentioned organic EL device. That is, a laminated body of each organic layer (the hole transport layer 4, the light emitting layer 3, or the electron transport layer 2) is disposed between the cathode 1 and the anode 5, and these electrodes are crossed in a matrix to form a stripe. A signal voltage is applied in time series by a luminance signal circuit 40 and a control circuit 41 with a built-in shift register;
It is configured to emit light at many intersection positions (pixels).
【００１２】従って、このような構成により、ディスプ
レイとしては勿論、画像再生装置としても使用可能とな
る。なお、上記のストライプパターンをＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の各色毎に配し、フルカラー又はマル
チカラー用として構成することができる。Therefore, with such a configuration, it can be used not only as a display but also as an image reproducing apparatus. Note that the above stripe pattern is represented by R (red), G
(Green) and B (blue) are arranged for each color, and can be configured for full color or multi-color.
【００１３】こうした有機ＥＬ素子を用いた、複数の画
素からなる表示デバイスにおいて、発光する有機薄膜層
２、３、４は一般に、透明電極５と金属電極１との間に
挟まれており、透明電極５側で発光する。In a display device including a plurality of pixels using such an organic EL element, the light emitting organic thin film layers 2, 3, and 4 are generally sandwiched between the transparent electrode 5 and the metal electrode 1, and Light is emitted on the electrode 5 side.
【００１４】上記のように、有機発光素子の構成は、透
光性の正極と金属からなる陰極との間に発光材料を含む
有機薄膜を形成したものである。As described above, the structure of the organic light emitting element is such that an organic thin film containing a light emitting material is formed between a translucent positive electrode and a metal cathode.
【００１５】このような有機ＥＬ素子としては、C. W.
TangとS. A. VanSlyke等はAppliedPhysics Letters 第
５１巻１２号 ９１３〜９１５頁（１９８７年）掲載の
研究報告において、有機薄膜を正孔輸送材料からなる薄
膜と電子輸送材料からなる薄膜との２層構造として、各
々の電極から有機膜中に注入されたホールと電子が再結
合することにより発光するいわゆるシングルヘテロ型の
素子構造を開発した。As such an organic EL element, CW
Tang and SA VanSlyke et al. Reported in a research report published in Applied Physics Letters Vol. 51, No. 12, pp. 913-915 (1987) that an organic thin film had a two-layer structure of a thin film made of a hole transport material and a thin film made of an electron transport material. A so-called single-hetero device structure has been developed which emits light by recombination of holes and electrons injected into the organic film from each electrode.
【００１６】このシングルヘテロ型の有機ＥＬ素子は、
正孔輸送材料又は電子輸送材料のいずれかが発光材料を
兼ねており、発光は発光材料の基底状態と励起状態のエ
ネルギーギャップに対応した波長帯で起きる。このよう
な２層構造とすることにより、大幅な駆動電圧の低減、
発光効率の改善が行われた。This single hetero organic EL device
Either the hole transporting material or the electron transporting material also serves as the light emitting material, and light emission occurs in a wavelength band corresponding to the energy gap between the ground state and the excited state of the light emitting material. With such a two-layer structure, a drastic reduction in driving voltage can be achieved.
Luminous efficiency was improved.
【００１７】その後、C. Adachi 、S. Tokito 、T. Tsu
tsui、S.Saito 等のJapanese Journal of Applied Phys
ics 第２７巻２号 Ｌ２６９〜Ｌ２７１頁（１９８８
年）掲載の研究報告に記載されているような、正孔輸送
材料、発光材料、電子輸送材料の３層からなるいわゆる
ダブルヘテロ構造の有機ＥＬ素子が開発された。Then, C. Adachi, S. Tokito, T. Tsu
Japanese Journal of Applied Phys such as tsui and S. Saito
ics Vol. 27, No. 2, pp. L269-L271 (1988
A so-called double-hetero structure organic EL device composed of three layers of a hole transport material, a light-emitting material, and an electron transport material, as described in a research report published in the year, has been developed.
【００１８】更に、C. W. Tang、S. A. VanSlyke、C.
H. Chen等のJournal of Applied Physics 第６５巻９
号 ３６１０〜３６１６頁（１９８９年）掲載の研究報
告に記載されている、電子輸送材料中に発光材料を含ま
せた素子構造等が開発されている。Further, CW Tang, SA VanSlyke, C.
H. Chen et al., Journal of Applied Physics, Vol. 65, No. 9
No. 3610-3616 (1989), a device structure in which a light emitting material is included in an electron transport material has been developed.
【００１９】これらの研究により、低電圧で、高輝度の
発光の可能性が実証され、近年、有機ＥＬ素子の研究開
発が非常に活発に行われている。しかしながら、実用化
のためには、有機ＥＬ素子の封止技術等、解決すべき多
くの課題を抱えているのが現状である。These studies have demonstrated the possibility of emitting light of high luminance at a low voltage, and in recent years, research and development of organic EL devices have been very active. However, for practical use, there are currently many problems to be solved, such as an organic EL element sealing technique.
【００２０】図３４は、シングルヘテロ型有機ＥＬ素子
の封止構造を示す概略断面図である。図示の如く、基板
６上に形成されたＩＴＯ透明電極５、ホール輸送層４、
電子輸送層２及び金属電極１の積層体が紫外線硬化樹脂
膜９で封止されているが、この封止は一般に大気中で行
われる。FIG. 34 is a schematic sectional view showing a sealing structure of a single hetero type organic EL device. As shown, an ITO transparent electrode 5 formed on a substrate 6, a hole transport layer 4,
The laminate of the electron transport layer 2 and the metal electrode 1 is sealed with an ultraviolet curable resin film 9, and this sealing is generally performed in the atmosphere.
【００２１】このような有機ＥＬ素子は、陰極としてリ
チウム、マグネシウム、カルシウム等の活性な金属を使
用するため、封止の際に空気を巻き込み易く、このため
金属電極が酸化して整流作用が低下し、有機ＥＬ素子と
しての性能に重大な支障をきたすことがある。従って、
長期に亘り素子が安定な動作を行うためには、空気中の
水分、酸素を完全に遮断する必要があり、このような素
子の封止技術は実用上の大きな課題となっている。In such an organic EL device, since an active metal such as lithium, magnesium and calcium is used as a cathode, air is easily entrained at the time of sealing, so that the metal electrode is oxidized and the rectifying action is reduced. However, the performance of the organic EL element may be seriously hindered. Therefore,
In order for the element to operate stably for a long period of time, it is necessary to completely block moisture and oxygen in the air, and the sealing technology of such an element has been a major practical problem.
【００２２】[0022]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の如き
事情に鑑みてなされたものであって、金属電極の酸化を
防止するため効果的に封止され、かつ動作安定性の優れ
た光学的素子及びその製造方法を提供することを目的と
するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and has been made in consideration of the above circumstances. It is an object of the present invention to provide a dynamic element and a method for manufacturing the same.
【００２３】[0023]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を解決するため鋭意検討を重ねた結果、金属電極と共に
封入される空気を排除し、金属電極と空気との接触を絶
って金属電極の酸化を防止する効果的な方法を見出し、
本発明に到達したものである。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor has eliminated the air enclosed with the metal electrode and cut off the contact between the metal electrode and the air to remove the metal. Finding effective ways to prevent electrode oxidation,
The present invention has been reached.
【００２４】即ち、本発明は、基体上に配した電極上
に、発光領域を含む積層体が設けられている光学的素子
において、前記積層体を被覆して封入した封止材が前記
基体上に固定され、前記封止材と前記基体との間の空間
に不活性ガスが充填されていることを特徴とする光学的
素子に係るものである。That is, the present invention is directed to an optical element in which a laminate including a light emitting region is provided on an electrode disposed on a substrate, wherein a sealing material covering and sealing the laminate is provided on the substrate. , And a space between the sealing material and the base is filled with an inert gas.
【００２５】また、本発明は、基体上に配した電極上に
発光領域を含む積層体が設けられている光学的素子を製
造するに際し、前記基体上に前記電極を形成し、この電
極上に前記積層体を形成し、この積層体を被覆して封入
する封止材を前記基体上に固定し、前記封止材と前記基
体との間の空間に不活性ガスを充填する、光学的素子の
製造方法に係るものである。Further, according to the present invention, when manufacturing an optical element in which a laminate including a light emitting region is provided on an electrode provided on a base, the electrode is formed on the base, and the electrode is formed on the electrode. An optical element for forming the laminate, fixing a sealing material for covering and enclosing the laminate on the substrate, and filling a space between the sealing material and the substrate with an inert gas; It relates to a manufacturing method of
【００２６】これにより、封止材と基体との間の空間に
充填される不活性ガスにより、この空間の空気が排出さ
れるため積層体が空気に触れることがない。従って、積
層体に形成される上部電極の酸化が防止され、動作安定
性に優れた光学的素子とその製造方法を提供することが
できる。Thus, the air in this space is discharged by the inert gas filled in the space between the sealing material and the base, so that the laminate does not come into contact with air. Therefore, the oxidation of the upper electrode formed in the laminate is prevented, and an optical element having excellent operation stability and a method for manufacturing the same can be provided.
【００２７】[0027]
【発明の実施の形態】本発明の光学的素子及びその製造
方法において、不活性ガスとして窒素又は希ガスが１気
圧以上の圧力で充填されていることが望ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the optical element and the method of manufacturing the same according to the present invention, it is desirable that nitrogen or a rare gas is filled as an inert gas at a pressure of 1 atm or more.
【００２８】そして、上記の素子は、前記積層体に活性
導電層が設けられ、前記封止材が、前記活性導電層上の
板状部と、この板状部をその周縁において前記基体に気
密に固定した接着部とによって構成されていることが望
ましい。In the above-mentioned element, an active conductive layer is provided on the laminate, and the sealing material is hermetically sealed with the plate-shaped portion on the active conductive layer and the base at the periphery thereof. It is desirable to be constituted by an adhesive portion fixed to the base member.
【００２９】この場合、前記活性導電層が上部電極とし
て形成されており、前記板状部が絶縁材からなっている
ことが望ましい。In this case, it is preferable that the active conductive layer is formed as an upper electrode, and the plate portion is made of an insulating material.
【００３０】また、上記の素子は、前記封止材がケーシ
ング状のカバーによって構成され、このカバーの縁が前
記基体に気密に固定されていてもよく、この場合、前記
封止材が導電性カバーからなっていることが望ましい。In the above element, the sealing material may be constituted by a casing-like cover, and the edge of the cover may be air-tightly fixed to the base. In this case, the sealing material is made of a conductive material. It is desirable to have a cover.
【００３１】また、上記の素子は、前記封止材にガス置
換用の貫通孔が設けられ、この貫通孔を介して前記不活
性ガスが充填されることが望ましい。In the above element, it is desirable that a through hole for gas replacement is provided in the sealing material, and the inert gas is filled through the through hole.
【００３２】更に、前記基体に対する前記封止材の接着
及び前記貫通孔の閉塞に紫外線硬化樹脂が用いられてい
ることが望ましい。Further, it is preferable that an ultraviolet curable resin is used for bonding the sealing material to the base and closing the through hole.
【００３３】そして、上記の素子は、前記基体上に複数
の前記電極が下部電極として所定パターンにそれぞれ形
成され、これらの下部電極のそれぞれの各一部分が島状
に露出するように絶縁材が被着され、これらの露出部分
上に前記積層体が設けられ、更にこの積層体上に上部電
極が形成されていることが望ましい。In the above element, the plurality of electrodes are formed on the substrate as lower electrodes in a predetermined pattern, and the insulating material is coated so that each of the lower electrodes is partially exposed in an island shape. Preferably, the laminate is provided on these exposed portions, and an upper electrode is further formed on the laminate.
【００３４】この場合、前記積層体が複数の前記露出部
分にそれぞれ設けられ、これらの積層体に前記上部電極
が個々に形成されていることが望ましい。In this case, it is preferable that the laminate is provided on each of the plurality of exposed portions, and the upper electrodes are individually formed on these laminates.
【００３５】また、前記積層体が複数の前記露出部分に
共通に設けられ、この積層体に前記上部電極が共通に形
成されていてもよい。Further, the laminate may be provided commonly to the plurality of exposed portions, and the upper electrode may be commonly formed on the laminate.
【００３６】そして、上記の素子は、複数の前記電極が
前記下部電極と前記上部電極に接続された配線とを含
み、これらの下部電極及び配線の各端部が外部接続端子
部となるように前記封止材が前記基体上に固定されてい
ることが望ましい。In the above device, the plurality of electrodes include the lower electrode and a wiring connected to the upper electrode, and each end of the lower electrode and the wiring serves as an external connection terminal. Desirably, the sealing material is fixed on the base.
【００３７】このように構成する上記の素子は、光学的
に透明な前記基体上に、下部電極としての陽極、有機ホ
ール輸送層、有機発光層及び／又は有機電子輸送層、及
び上部電極としての陰極が順次積層されていることが望
ましい。The above-structured device is provided on the optically transparent substrate with an anode as an lower electrode, an organic hole transporting layer, an organic light emitting layer and / or an organic electron transporting layer, and an upper electrode as an upper electrode. It is desirable that the cathodes are sequentially stacked.
【００３８】これにより、有機電界発光素子として好適
に構成され、好適なカラーディスプレイ用の有機電界発
光素子として構成することができる。Thus, the organic electroluminescent device is suitably configured as an organic electroluminescent device, and can be configured as a suitable organic electroluminescent device for a color display.
【００３９】[0039]
【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、
本発明が以下の実施例に限定されるものでないことは勿
論である。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
It goes without saying that the present invention is not limited to the following embodiments.
【００４０】図１は本発明の第１の実施例を示す平面図
であり、図２は第３の実施例を示す平面図であるが、い
ずれも本発明の基本構成を模式的に示した概略図であ
る。即ち、本発明は、図１のような構成を基本とする第
１の実施例及び第２の実施例と、図２のような構成を基
本とする第３の実施例及び第４の実施例とを有してい
る。FIG. 1 is a plan view showing a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing a third embodiment, both of which schematically show the basic structure of the present invention. It is a schematic diagram. That is, the present invention provides a first embodiment and a second embodiment based on the configuration as shown in FIG. 1, and a third embodiment and a fourth embodiment based on the configuration as shown in FIG. And
【００４１】これらの構成の詳細については後述する
が、いずれも共通する製造工程の後に、図１に示す第１
の実施例は有機層が画素単位で形成され、カソードも個
別配線になっており、図２に示す第３の実施例は有機層
が各画素共通に形成され、カソードも共通配線とされて
いる。そして、図１及び図２の場合も積層体の封止が後
述する２通りの封止方法により形成される。The details of these structures will be described later, but after the common manufacturing steps, the first structure shown in FIG.
In this embodiment, the organic layer is formed for each pixel, and the cathode is also an individual wiring. In the third embodiment shown in FIG. 2, the organic layer is formed in common for each pixel, and the cathode is also used for the common wiring. . Also, in the case of FIG. 1 and FIG. 2 as well, the sealing of the laminated body is formed by the following two sealing methods.
【００４２】即ち、図１及び図２共に、所定パターンに
形成したＩＴＯ透明電極２５上にＳｉＯ2 からなる絶縁
膜２７を設け、この絶縁膜２７からＩＴＯ透明電極２５
を島状に露出させ、この露出部２５ａ上に有機層及びカ
ソード電極が形成されている。That is, in both FIGS. 1 and 2, an insulating film 27 made of SiO 2 is provided on the ITO transparent electrode 25 formed in a predetermined pattern.
Are exposed in an island shape, and an organic layer and a cathode electrode are formed on the exposed portion 25a.
【００４３】そして、図１の場合は、図示の如く、それ
ぞれのＩＴＯ透明電極２５の露出部２５ａからそれぞれ
の隣接するＩＴＯ透明配線２５Ａにカソード電極２１が
個々に設けられ、有機ＥＬ素子２０Ａが形成されてい
る。図２の場合は、それぞれのＩＴＯ透明電極２５の露
出部２５ａとそれぞれの隣接するＩＴＯ透明配線２５Ａ
とが共通のカソード電極２１Ａにより接続され、有機Ｅ
Ｌ素子２０Ｂが形成されている。In the case of FIG. 1, as shown, the cathode electrodes 21 are individually provided from the exposed portions 25a of the respective ITO transparent electrodes 25 to the respective adjacent ITO transparent wirings 25A to form the organic EL element 20A. Have been. In the case of FIG. 2, the exposed portion 25a of each ITO transparent electrode 25 and each adjacent ITO transparent wiring 25A
Are connected by a common cathode electrode 21A, and the organic E
An L element 20B is formed.
【００４４】そして、いずれの場合も、露出部２５ａを
有するＩＴＯ透明電極２５が陽極となり、これに隣接す
るＩＴＯ透明配線２５Ａに陰極２１又は２１Ａが接続さ
れ、陽極と陰極との間に各信号電源Ｖ1 、Ｖ2 、Ｖ3 、
Ｖ4 がそれぞれ接続され、駆動される。In each case, the ITO transparent electrode 25 having the exposed portion 25a serves as an anode, and the cathode 21 or 21A is connected to the ITO transparent wiring 25A adjacent to the ITO transparent electrode 25. Each signal power supply is connected between the anode and the cathode. V 1 , V 2 , V 3 ,
V 4 are respectively connected and driven.
【００４５】図３は、上記した本実施例の基本的な構造
の理解を容易にするために、図１及び図２に示した有機
ＥＬ素子の一製造工程段階における共通する構造を示し
た斜視図である。即ち、基板２６上に所定パターンのＩ
ＴＯ透明電極２５及びＩＴＯ透明配線２５Ａを形成し、
このうち、ＩＴＯ透明電極２５の一部をＳｉＯ2 絶縁膜
２７で被覆してその一部に開口２７ａを設け、被膜され
たＩＴＯ透明電極２５の一部を露出させるものであり、
これが共通する構造となっている。FIG. 3 is a perspective view showing a common structure in one manufacturing process of the organic EL device shown in FIGS. 1 and 2 in order to facilitate understanding of the basic structure of the present embodiment. FIG. That is, a predetermined pattern of I
Forming the TO transparent electrode 25 and the ITO transparent wiring 25A,
Among these, a part of the ITO transparent electrode 25 is covered with the SiO 2 insulating film 27 and an opening 27a is provided in the part to expose a part of the coated ITO transparent electrode 25.
This has a common structure.
【００４６】図３において、ＩＴＯ透明電極２５の露出
部２５ａ上の仮想線で示す有機層２２、２４は、上記し
た図１の場合の個別の有機層を示しているが、図２の場
合はこの有機層が共通に形成される。In FIG. 3, the organic layers 22, 24 indicated by virtual lines on the exposed portions 25a of the ITO transparent electrodes 25 are the individual organic layers in the case of FIG. 1 described above, but in the case of FIG. This organic layer is commonly formed.
【００４７】本実施例の有機ＥＬ素子は、例えば図４に
示す真空蒸着装置１１を用いて後述する製造工程の下で
作製される。図４はその真空蒸着装置１１の概略断面図
である。The organic EL device of this embodiment is manufactured, for example, by using a vacuum evaporation apparatus 11 shown in FIG. FIG. 4 is a schematic sectional view of the vacuum evaporation apparatus 11.
【００４８】この装置１１の内部には、アーム１２の下
に固定された一対の支持手段１３が設けられ、この双方
の固定手段１３、１３の間には、透明ガラス基板２６を
下向きにし、マスク１５（３２、３５、３６）をセット
できるステージ機構（図示省略）が設けられている。そ
して、ガラス基板２６及びマスク１５の下方には、支軸
１４ａに支持されたシャッター１４が配置され、その下
方に所定個数の各種蒸着源１８を配置する。各蒸着源
は、電源１９による抵抗加熱方式で加熱される。この加
熱には、必要に応じてＥＢ（電子線）加熱方式等も使用
される。A pair of support means 13 fixed below the arm 12 are provided inside the apparatus 11, and the transparent glass substrate 26 faces downward between the two fixing means 13, 13, and a mask is provided. A stage mechanism (not shown) that can set 15 (32, 35, 36) is provided. The shutter 14 supported by the support shaft 14a is disposed below the glass substrate 26 and the mask 15, and a predetermined number of various vapor deposition sources 18 are disposed below the shutter 14. Each deposition source is heated by a power supply 19 in a resistance heating manner. For this heating, an EB (electron beam) heating method or the like is used as necessary.
【００４９】上記の装置において、マスク１５（３２、
３５、３６）は画素用等であり、シャッター１４は蒸着
材料用である。そして、シャッター１４は支軸１４ａを
中心に回動し、蒸着材料の昇華温度に合わせて、材料の
蒸気流を遮断するためのものである。In the above apparatus, the mask 15 (32,
35 and 36) are for pixels and the like, and the shutter 14 is for a vapor deposition material. The shutter 14 rotates around the support shaft 14a to shut off the vapor flow of the material in accordance with the sublimation temperature of the vapor deposition material.
【００５０】本実施例として示す各図は前述したよう
に、本発明の基本構造の理解を容易にするために示した
ものである。従って、実際には、例えば次に示すような
有機ＥＬ素子の作製に適用するものであり、本実施例に
示す各図は、次に示す有機ＥＬ素子の画素の４個を表す
ものでもあり、若しくは次に示す有機ＥＬ素子を例えば
４個単位で本実施例の如く形成するものであってもよ
い。As described above, the drawings shown in the present embodiment are shown for easy understanding of the basic structure of the present invention. Therefore, in practice, for example, the present invention is applied to the production of an organic EL element as shown below, and each drawing shown in this embodiment also represents four pixels of the organic EL element shown below. Alternatively, the following organic EL elements may be formed in units of four, for example, as in this embodiment.
【００５１】図５は、上記の真空蒸着装置により作製す
る有機ＥＬ素子２０の具体例を示す平面図である。即
ち、サイズＬが３０ｍｍ×３０ｍｍのガラス基板２６上
に、サイズが２ｍｍ×２ｍｍのＩＴＯ透明電極５を上記
した真空蒸着装置により所定の厚さで蒸着後に、全面に
ＳｉＯ2 絶縁膜３０を蒸着し、これを所定の画素パター
ンにエッチングして多数の開口３１を形成し、ここに透
明電極２５をそれぞれ露出させる。従って、ＳｉＯ2 に
よって形成した２ｍｍ×２ｍｍの発光領域（画素）ＰＸ
に対し蒸着マスク１５（３２、３５、３６）を用いて各
有機層２４、２２及び金属電極２１を順次形成する。FIG. 5 is a plan view showing a specific example of the organic EL element 20 manufactured by the above-described vacuum deposition apparatus. That is, after depositing the ITO transparent electrode 5 having a size of 2 mm × 2 mm with a predetermined thickness on the glass substrate 26 having a size L of 30 mm × 30 mm by the above-described vacuum deposition apparatus, an SiO 2 insulating film 30 is deposited on the entire surface. This is etched into a predetermined pixel pattern to form a number of openings 31, where the transparent electrodes 25 are respectively exposed. Therefore, a 2 mm × 2 mm light emitting area (pixel) PX formed of SiO 2
The organic layers 24 and 22 and the metal electrode 21 are sequentially formed using the evaporation mask 15 (32, 35, and 36).
【００５２】上記した図４の真空蒸着装置１１において
は、図５のような多数の画素を有するもの以外に、サイ
ズの大きい画素を単独に形成することもできる。In the above-described vacuum vapor deposition apparatus 11 shown in FIG. 4, a pixel having a large size can be formed alone in addition to the one having a large number of pixels as shown in FIG.
【００５３】以下、各実施例をその製造工程に合わせて
その構造等を詳細に説明する。Hereinafter, the structure and the like of each embodiment will be described in detail according to the manufacturing process.
【００５４】このような電界発光素子の作製方法は、例
えば、C. W. TangとS. A. VanSlyke等のApplied Physic
s Letters 第５１巻１２号 ９１３〜９１５頁（１９８
７年）掲載の研究報告、C. Adachi 、S. Tokito 、T. T
sutsui、S. Saito等のJapanese Journal of Applied Ph
ysics 第２７巻２号 Ｌ２６９〜Ｌ２７１頁（１９８８
年）掲載の研究報告、C. W. Tang、S. A. VanSlyke、C.
H. Chen等のJournalof Applied Physics 第６５巻９
号 ３６１０〜３６１６頁（１９８９年）、C.Adachi、
T. Tsutsui、S. Saito等のApplied Physics Letters 第
５６巻９号 ７９９〜８０１頁（１９９０年）の研究報
告等に記載されている公知の技術を用いることができ
る。A method for manufacturing such an electroluminescent device is described in, for example, Applied Physic by CW Tang and SA VanSlyke.
s Letters Vol. 51, No. 12, pp. 913-915 (198
7) Published research report, C. Adachi, S. Tokito, T.T.
sutsui, S. Saito, etc.Japanese Journal of Applied Ph
ysics Vol. 27, No. 2, L269-L271 (1988
Research Report, CW Tang, SA VanSlyke, C.
H. Chen et al., Journal of Applied Physics, Vol. 65, No. 9
No. 3610-3616 (1989), C. Adachi,
Known techniques described in the research report of Applied Physics Letters, Vol. 56, No. 9, pp. 799 to 801 (1990) by T. Tsutsui, S. Saito et al. Can be used.
【００５５】図６〜図１９は第１の実施例による有機Ｅ
Ｌ素子の製造工程を示すものであり、上記した図１のＡ
−Ａ線断面に対応する断面図（後述する第２の実施例も
同様である。）を示している。FIGS. 6 to 19 show the organic E according to the first embodiment.
FIG. 4 shows a manufacturing process of the L element,
A cross-sectional view corresponding to a cross-section taken along the line A (the same applies to a second embodiment described later).
【００５６】まず、図６に示すガラス基板２６は、大き
さが５０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さが２ｍｍに形成されてお
り、図７に示すように、基板２６上の全面にスパッタリ
ングによりアノード電極となるＩＴＯ薄膜２５’を形成
する。First, the glass substrate 26 shown in FIG. 6 is formed to have a size of 50 mm × 50 mm and a thickness of 2 mm. As shown in FIG. An ITO thin film 25 'is formed.
【００５７】基板２６の材料としては、ガラスの他にプ
ラスチック及び他の適宜の材料を用いることができる。
そして、アノード電極としては、ＩＴＯの他にＳｎＯ2
等が使用できる。また、透明電極とこの上に設ける有機
層の間に電荷物注入効率を改善するために有機物若しく
は有機金属化合物からなる薄膜を挟持させてもよい。後
述する他の実施例も同様である。As the material of the substrate 26, plastic and other appropriate materials can be used in addition to glass.
The anode electrode is made of SnO 2 in addition to ITO.
Etc. can be used. Further, a thin film made of an organic substance or an organometallic compound may be interposed between the transparent electrode and the organic layer provided thereon to improve the charge injection efficiency. The same applies to other embodiments described later.
【００５８】次いで、図８に示すように、ＩＴＯ膜２
５’上にマスク３１をかけて露光し、マスク開口３１ａ
の下部以外を除去し、図９に示すように所定パターンの
ＩＴＯ透明電極２５及びＩＴＯ透明配線２５Ａ（幅Ｗ＝
５ｍｍ、長さＬ＝１５ｍｍ）を形成する。図９（ａ）
は、（ｂ）に示す平面図のａ−ａ線断面図である。Next, as shown in FIG.
Exposure is performed by applying a mask 31 on 5 ′, and a mask opening 31a is formed.
Are removed, and as shown in FIG. 9, the ITO transparent electrode 25 and the ITO transparent wiring 25A (width W =
5 mm, length L = 15 mm). FIG. 9 (a)
FIG. 3 is a sectional view taken along line aa of the plan view shown in FIG.
【００５９】次いで、図１０に示すように、ＩＴＯ透明
電極２５及びＩＴＯ透明配線２５Ａが形成された基板２
６上の全面にＳｉＯ2 絶縁膜２７’を被膜し、この上に
所定のマスク（図示省略）をかけてフォトエッチング加
工して不要部分のＳｉＯ2 膜２７’を除去して所定パタ
ーンの絶縁膜２７を形成し、更にこのＳｉＯ2 膜２７
に、３ｍｍ×３ｍｍの方形の開口２７ａを形成してＩＴ
Ｏ透明電極２５の一部分を島状に露出させる。Next, as shown in FIG. 10, the substrate 2 on which the ITO transparent electrode 25 and the ITO transparent wiring 25A are formed is formed.
6, an SiO 2 insulating film 27 ′ is coated on the entire surface, and a predetermined mask (not shown) is applied thereon and photoetching is performed to remove unnecessary portions of the SiO 2 film 27 ′ to form an insulating film having a predetermined pattern. 27, and the SiO 2 film 27
A 3 mm × 3 mm square opening 27 a is formed in the IT
A part of the O transparent electrode 25 is exposed in an island shape.
【００６０】図１１は、上記のように形成したＩＴＯ透
明電極２５の露出部２５ａを示す図であり、（ａ）は、
（ｂ）に示す平面図のａ−ａ線断面図である。FIG. 11 is a view showing an exposed portion 25a of the ITO transparent electrode 25 formed as described above.
It is the sectional view on the aa line of the top view shown in (b).
【００６１】次いで、図１２に示すように、上記の電極
露出部２５ａの位置に符号し、５ｍｍ×５ｍｍの開口１
５ａを有するマスク１５を用い、このマスクを図４の真
空蒸着装置１１に取付けてホール輸送層２４を蒸着し
た。図１２（ａ）は、（ｂ）に示す平面図のａ−ａ線断
面図である。Next, as shown in FIG. 12, a 5 mm × 5 mm opening 1 is provided at the position of the electrode exposed portion 25a.
Using a mask 15 having 5a, the mask was attached to the vacuum evaporation apparatus 11 of FIG. FIG. 12A is a sectional view taken along line aa of the plan view shown in FIG.
【００６２】このホール輸送層２４としては、Ｎ，Ｎ’
−diphenyl−Ｎ，Ｎ’−bis(３−methylphenyl）１，
１’−biphenyl−４，４’−dianine(以下、単にＴＰＤ
と称する。）を、＜１０-6Ｔｏｒｒの真空下で、抵抗加
熱法により０．２〜０．４ｎｍ／ｓの蒸発速度で５０ｎ
ｍの厚さに蒸着した。As the hole transport layer 24, N, N '
-Diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) 1,
1'-biphenyl-4,4'-dianine (hereinafter simply referred to as TPD
Called. ) At a vapor rate of 0.2 to 0.4 nm / s by a resistance heating method under a vacuum of <10 −6 Torr for 50 n.
m in thickness.
【００６３】ホール輸送層に使用する材料としては、上
記のＴＰＤ以外に例えば芳香族アミン類、ピラゾリン類
等の公知の種々の材料を使用できる。また、ホール輸送
層は単層であってもよいし、電荷輸送性能を上げるため
に積層した構造としてもよい。後述する他の実施例も同
様である。As the material used for the hole transport layer, various known materials such as aromatic amines and pyrazolines can be used in addition to the above-mentioned TPD. Further, the hole transport layer may be a single layer, or may have a laminated structure for improving charge transport performance. The same applies to other embodiments described later.
【００６４】次いで、同じマスク１５を用いて図１３に
示すように、ホール輸送層２４上に電子輸送と発光を兼
ねるtris−（８−hydroxyquinoline）aluminum（以下、
単にＡｌｑ3 と称する。）を０．２〜０．４ｎｍ／ｓの
蒸発速度で５０ｎｍの厚さに真空蒸着して電子輸送層２
２を形成した。Then, using the same mask 15, as shown in FIG. 13, a tris- (8-hydroxyquinoline) aluminum (hereinafter, referred to as "electron transport" and "light emitting") is formed on the hole transport layer 24.
Simply referred to as Alq 3. ) Was vacuum-deposited to a thickness of 50 nm at an evaporation rate of 0.2 to 0.4 nm / s to form an electron transport layer 2.
2 was formed.
【００６５】この電子輸送層２２に用いる材料として
は、アルミニウムや亜鉛の金属錯体化合物、芳香族炭素
化合物、オキサジアゾール系化合物等が使用できる。後
述する他の実施例も同様である。As a material used for the electron transport layer 22, a metal complex compound of aluminum or zinc, an aromatic carbon compound, an oxadiazole compound, or the like can be used. The same applies to other embodiments described later.
【００６６】上記の如く、発光性の有る材料で電子輸送
層２２を形成してもよく、ホール輸送層２４と電子輸送
層２２との間に発光層だけの単独層を形成することもで
きる。また、電子輸送材料からなる薄膜と発光材料を電
子輸送材料中に含ませた薄膜との積層構造、或いは電子
輸送材料からなる薄膜と発光材料だけからなる薄膜の積
層構造が使用できる。後述する他の実施例も同様であ
る。As described above, the electron transport layer 22 may be formed of a material having a light emitting property, or a single layer of only the light emitting layer may be formed between the hole transport layer 24 and the electron transport layer 22. Further, a stacked structure of a thin film made of an electron transport material and a thin film in which a light-emitting material is included in an electron transport material, or a stacked structure of a thin film made of an electron transport material and a thin film made of only a light-emitting material can be used. The same applies to other embodiments described later.
【００６７】また、使用目的に合わせてテリレン誘導体
をホール輸送層、発光層若しくは電子輸送層に使用でき
る。更にホール輸送層、発光層、電子輸送層以外に、発
光効率を改善する目的で、ホールまたは電子の輸送を制
御するための薄膜をその層構成に含ませることもでき
る。後述する他の実施例も同様である。Further, a terrylene derivative can be used in the hole transport layer, the light emitting layer or the electron transport layer according to the purpose of use. Further, in addition to the hole transporting layer, the light emitting layer, and the electron transporting layer, a thin film for controlling the transport of holes or electrons may be included in the layer structure for the purpose of improving the luminous efficiency. The same applies to other embodiments described later.
【００６８】次に、図１４に示すように、開口３２ａを
有するマスク３２に取り替えて真空蒸着装置１１により
有機層２２、２４上にカソード電極２１を形成した。こ
の図の（ａ）は、（ｂ）に示す平面図のａ−ａ線断面図
である。Next, as shown in FIG. 14, the cathode electrode 21 was formed on the organic layers 22 and 24 by the vacuum evaporation apparatus 11 by replacing the mask 32 with the opening 32a. (A) of this figure is a sectional view taken along line aa of the plan view shown in (b).
【００６９】この蒸着に際しては、蒸着マスク３２を装
置１１内の真空下で交換して、図示の如く４個の有機層
のそれぞれを覆い、かつ、その外側に配置したＩＴＯ透
明配線２５Ａと電気的に接続するように金属電極２１を
抵抗加熱により蒸着した。陰極２１の金属としては例え
ばＭｇ−Ａｇ（３０：１）合金を用い、膜厚は２００ｎ
ｍに形成した。At the time of this vapor deposition, the vapor deposition mask 32 is exchanged under a vacuum in the apparatus 11 so as to cover each of the four organic layers as shown in FIG. The metal electrode 21 was vapor-deposited by resistance heating so as to be connected to. As the metal of the cathode 21, for example, an Mg—Ag (30: 1) alloy is used, and the film thickness is 200 n.
m.
【００７０】そして更に、封止工程が完了する迄の金属
電極２１の劣化を防止するために、図１５に示すよう
に、同じマスク３２を用いてこの金属電極２１上にアル
ミニウムを約２００ｎｍの膜厚で真空蒸着して保護膜２
１Ａを形成した。Further, in order to prevent the metal electrode 21 from deteriorating until the sealing step is completed, as shown in FIG. Protective film 2 by vacuum evaporation with thickness
1A was formed.
【００７１】陰極２１の電極材料としては、Ｌｉ、Ｍ
ｇ、Ｃａ等の活性な金属とＡｇ、Ａｌ、Ｉｎ等の金属と
の合金或いは積層した構造が使用できる。また、陰極の
厚さを調節することにより、用途にあった光透過率を得
ることができ、透過型の有機電界発光素子も作製でき
る。この場合には、金属陰極の上に電気的接続を安定に
保つために透明電極を形成してもよい。後述する他の実
施例も同様である。As the electrode material of the cathode 21, Li, M
An alloy or a laminated structure of an active metal such as g and Ca and a metal such as Ag, Al and In can be used. Further, by adjusting the thickness of the cathode, a light transmittance suitable for the intended use can be obtained, and a transmission type organic electroluminescent device can be manufactured. In this case, a transparent electrode may be formed on the metal cathode to keep the electrical connection stable. The same applies to other embodiments described later.
【００７２】次いで、図１６に示すように、上記した積
層体の封止のためには、ＩＴＯ透明電極２５及び透明配
線２５Ａ全体にわたり、幅Ｗ1 が２５ｍｍ×長さＬ1 が
３５ｍｍのサイズで厚さが２ｍｍのガラス板２８を使用
し、このガラス板２８には直径３ｍｍの貫通孔２８ａ、
２８ｂを２個設けた。この図の（ａ）は、（ｂ）に示す
平面図のａ−ａ線断面図である。Next, as shown in FIG. 16, in order to seal the above-mentioned laminate, the width W 1 is 25 mm × the length L 1 is 35 mm over the entirety of the ITO transparent electrode 25 and the transparent wiring 25A. A glass plate 28 having a thickness of 2 mm is used, and the glass plate 28 has a through hole 28 a having a diameter of 3 mm.
Two 28b were provided. (A) of this figure is a sectional view taken along line aa of the plan view shown in (b).
【００７３】次いで、図１７に示すように、ガラス板２
８の縁に紫外線硬化樹脂２９を施し、このガラス板２８
と基板２６とを発光部全体を囲み紫外線硬化樹脂２９を
用いて窒素雰囲気で接着した。この図の（ａ）は、
（ｂ）に示す平面図のａ−ａ線断面図てある。Next, as shown in FIG.
8 is coated with an ultraviolet curable resin 29, and the glass plate 28
And the substrate 26 were adhered in a nitrogen atmosphere using an ultraviolet curable resin 29 so as to surround the entire light emitting portion. (A) of FIG.
It is the sectional view on the aa line of the top view shown in (b).
【００７４】次いで、図１８に示すように、上記の如く
形成した封止構造の一方の貫通孔２８ａから、窒素ガス
Ｇを５分間注入した後、２つの貫通孔２８ａ、２８ｂを
紫外線硬化樹脂で封じて有機ＥＬ素子２０Ａを作製し
た。このように一方の貫通孔２８ａからの窒素ガスＧの
注入により、封止構造内の空気は他方の貫通孔２８ｂか
ら排出され、金属電極２１の酸化要因は完全に除去され
る。Next, as shown in FIG. 18, after nitrogen gas G is injected for 5 minutes from one through hole 28a of the sealing structure formed as described above, the two through holes 28a and 28b are filled with an ultraviolet curable resin. This was sealed to produce an organic EL device 20A. Thus, by injecting the nitrogen gas G from one through hole 28a, the air in the sealing structure is exhausted from the other through hole 28b, and the oxidation factor of the metal electrode 21 is completely removed.
【００７５】図１９は、前記した図１のＢ−Ｂ線断面に
対応する図１８の XIX−XIX 線断面図である。FIG. 19 is a sectional view taken along the line XIX-XIX of FIG. 18 corresponding to the section taken along the line BB of FIG.
【００７６】上記のような構造をなす封止容器の材質
は、気密性が保たれれば、ガラス、金属セラミックス等
の適宜の材料を使用することができる。そして、その形
状も気密性が保てれば、適宜の形状であってよい。封止
容器に設けるガス置換用の開口２８ａ、２８ｂの数は少
なくとも１つ以上あればよく、その大きさや位置に制限
はない。As the material of the sealed container having the above structure, an appropriate material such as glass or metal ceramics can be used as long as airtightness is maintained. The shape may be an appropriate shape as long as airtightness can be maintained. The number of gas replacement openings 28a and 28b provided in the sealed container may be at least one, and there is no limitation on the size or position.
【００７７】また、使用する紫外線硬化樹脂２９は気密
性が保たれればよく、適宜の材料が使用できる。そし
て、作業能率を向上させるために紫外線硬化樹脂に増粘
剤やフィラーを含ませてもよい。The ultraviolet curable resin 29 to be used only needs to maintain airtightness, and an appropriate material can be used. Then, a thickener or a filler may be included in the ultraviolet curable resin in order to improve work efficiency.
【００７８】また、容器内を置換するのに用いるガスは
窒素以外に、アルゴン、ネオン、キセノン、クリプトン
等の化学的に不活性なガスが使用でき、ガスの圧力は１
気圧以上あればよい。更に、ガス置換に加えて、モレキ
ュラーシープやシリカゲル等の乾燥剤、活性金属等の酸
素吸収材を密封容器中に併用すれば、一層効果を高める
ことができる。上記を含むこのような他の材料等の応用
は後述する他の実施例も同様である。The gas used to replace the inside of the container may be a chemically inert gas such as argon, neon, xenon, krypton or the like, in addition to nitrogen.
It suffices if it is at least atmospheric pressure. Further, in addition to gas replacement, if a desiccant such as molecular sheep or silica gel and an oxygen absorbing material such as an active metal are used in a sealed container, the effect can be further enhanced. The application of such other materials including the above is the same in other embodiments described later.
【００７９】上記のように、窒素ガスＧを注入した有機
ＥＬ素子２０Ａと、これと同様に作製し、紫外線効果樹
脂２９で接着して封止後に窒素ガスＧを注入しなかった
有機ＥＬ素子とで動作安定性を評価した。As described above, the organic EL element 20A into which the nitrogen gas G was injected and the organic EL element which was similarly manufactured, bonded with the ultraviolet ray effect resin 29 and sealed, and into which the nitrogen gas G was not injected. The operation stability was evaluated.
【００８０】その結果、初期には両方の有機ＥＬ素子に
おいて、１０Ｖの電圧で、電流密度２０ｍＡのときに約
５００ｃｄ／ｍ2 の輝度が得られた。発光色は緑色であ
った。そして、更に通電を続けると、窒素ガスを使用し
なかった有機ＥＬ素子は５００時間後に輝度が初期の５
０％以下となった。一方、窒素ガスを使用した方は１０
００時間後も７０％の輝度を保ち、本発明の効果が確か
められた。As a result, initially, in both organic EL devices, a luminance of about 500 cd / m 2 was obtained at a voltage of 10 V and a current density of 20 mA. The emission color was green. When the energization is further continued, the luminance of the organic EL element not using nitrogen gas becomes the initial luminance after 500 hours.
0% or less. On the other hand, 10
The brightness of 70% was maintained even after 00 hours, confirming the effect of the present invention.
【００８１】本実施例によれば、従来の封止におけるよ
うに、封止に伴い空気を抱き込んで封止してしまうこと
がない。しかも、封止容器と封止される積層体との間に
空間が形成され、この空間に不活性ガスを注入して内部
の空気を排出後に、注入した不活性ガスを封入して注入
口を封止するので、内部に封入された金属電極２１や保
護膜２１Ａの酸化要因が無くなる。According to the present embodiment, unlike the conventional sealing, there is no possibility that air is trapped and sealed during the sealing. In addition, a space is formed between the sealing container and the laminated body to be sealed, and after injecting an inert gas into the space and discharging the air inside, the injected inert gas is sealed and the inlet is filled. Since the sealing is performed, oxidation factors of the metal electrode 21 and the protective film 21A sealed therein are eliminated.
【００８２】従って、有機ＥＬ素子の輝度保持時間を伸
ばすことが可能になり、有機ＥＬ素子の動作安定性を向
上させることができる。そして、これは後述する他の実
施例についても共通する効果である。Accordingly, the luminance holding time of the organic EL element can be extended, and the operation stability of the organic EL element can be improved. This is an effect common to other embodiments described later.
【００８３】図２０〜図２４は、第２の実施例による有
機ＥＬ素子の製造工程を示すものであり、上記した第１
の実施例と共通の製造工程以後（第１の実施例における
図１６以後）の工程を示している。FIGS. 20 to 24 show the steps of manufacturing the organic EL device according to the second embodiment.
16 shows the steps after the manufacturing process common to the second embodiment (FIG. 16 and subsequent figures in the first embodiment).
【００８４】本実施例が上記した第１の実施例と異なる
点は、図２０に示すように、封止にアルミニウム製容器
３３を使用していることである。この図において（ａ）
は、（ｂ）に示す平面図のａ−ａ線断面図である。This embodiment differs from the first embodiment in that an aluminum container 33 is used for sealing as shown in FIG. In this figure, (a)
FIG. 3 is a sectional view taken along line aa of the plan view shown in FIG.
【００８５】この封止容器３３は図２０に示す如く、外
寸法：幅Ｗ2 が２５ｍｍ×長さＬ2が３８ｍｍで厚さ５
ｍｍのアルミニウム製で、内寸法：幅ｗが２０ｍｍ×長
さｌが３０ｍｍで高さｈが３ｍｍの凹部を形成したもの
である。そして、外部と凹部とを通じるように直径４ｍ
ｍの貫通孔３３ａ、３３ｂを設けた。As shown in FIG. 20, this sealed container 33 has external dimensions: a width W 2 of 25 mm × a length L 2 of 38 mm and a thickness of 5 mm.
It is made of aluminum with a width of 20 mm and a length l of 30 mm and a height h of 3 mm. And 4m in diameter to pass through the outside and the recess
m through holes 33a and 33b were provided.
【００８６】そして、図２１に示すように、この容器３
３を基板２６上に形成した積層体の上に被覆させてか
ら、図２２に示すように、容器３３の内部周縁部の全面
にシリカゲルをエポキシ樹脂３４ａで接着した。Then, as shown in FIG.
3 was coated on the laminate formed on the substrate 26, and then, as shown in FIG. 22, silica gel was adhered to the entire inner peripheral portion of the container 33 with an epoxy resin 34a.
【００８７】次いで、図２３に示すように、この容器３
３の内周縁の接着後、真空乾燥器内で加熱を行い十分に
ガス出しを行った後、窒素雰囲気下で容器３３の外周縁
に紫外線硬化樹脂３４ｂを施し、基板２６に密着させ、
基板２６側から紫外線を照射して容器３３を基板２６に
接着した。Next, as shown in FIG.
After adhering the inner peripheral edge of No. 3, heating was performed in a vacuum dryer to sufficiently release gas, and then an ultraviolet curable resin 34b was applied to the outer peripheral edge of the container 33 under a nitrogen atmosphere, and was brought into close contact with the substrate 26.
The container 33 was bonded to the substrate 26 by irradiating ultraviolet rays from the substrate 26 side.
【００８８】次いで、図２３に示すように、一方の貫通
孔３３ａを介して、容器３３内に窒素ガスＧを１０分間
通じた後、貫通孔３３ａ、３３ｂを紫外線硬化樹脂で封
じて有機ＥＬ素子２０Ａ’を作製した。Next, as shown in FIG. 23, nitrogen gas G is passed into the container 33 through one through hole 33a for 10 minutes, and then the through holes 33a and 33b are sealed with an ultraviolet curable resin to form an organic EL device. 20A ′ was prepared.
【００８９】図２４は、前記した図１のＢ−Ｂ線断面に
対応する図２３のXXIV−XXIV線断面図である。FIG. 24 is a sectional view taken along the line XXIV-XXIV in FIG. 23 corresponding to the section taken along the line BB in FIG.
【００９０】上記のように窒素ガスＧを注入した有機Ｅ
Ｌ素子２０Ａ’と、これと同様に作製し紫外線硬化樹脂
３４ｂ及びエポキシ樹脂３４ａで接着して封止後に窒素
ガスＧを注入しなかった有機ＥＬ素子とで実施例１と同
様に動作安定性を評価した。The organic E into which the nitrogen gas G was injected as described above
The operation stability of the L element 20A ′ and the organic EL element manufactured in the same manner and bonded with the ultraviolet curable resin 34b and the epoxy resin 34a and not injected with the nitrogen gas G after sealing, as in the first embodiment. evaluated.
【００９１】その結果、初期には両方の有機ＥＬ素子に
おいて、１０Ｖの電圧で、電流密度２０ｍＡのときに約
５００ｃｄ／ｍ2 の輝度が得られた。発光色は緑色であ
った。そして、更に通電を続けると、窒素ガスを使用し
なかった有機ＥＬ素子は５４０時間後に輝度が初期の５
０％以下となった。前記した第１の実施例のシリカゲル
を用いなかった場合と比較して動作時間が伸びたのは、
シリカゲルを用いた効果が現れたと考えられる。一方、
窒素ガスを使用した方では１０００時間後も７５％の輝
度を保ち、本発明の効果が確かめられた。As a result, in the initial stage, in both organic EL elements, a luminance of about 500 cd / m 2 was obtained at a voltage of 10 V and a current density of 20 mA. The emission color was green. When the energization is further continued, the luminance of the organic EL element not using nitrogen gas becomes the initial luminance after 540 hours.
0% or less. The reason why the operation time was increased as compared with the case where the silica gel of the first embodiment was not used was that
It is considered that the effect of using silica gel appeared. on the other hand,
In the case of using nitrogen gas, the brightness of 75% was maintained after 1000 hours, confirming the effect of the present invention.
【００９２】図２５〜図２９は、第３の実施例による有
機ＥＬ素子の製造工程を示すものであり、上記した図２
のＡ’−Ａ’線断面に対応する断面図（後述する第４の
実施例も同様）を示し、上記した第１の実施例と共通の
製造工程以後（第１の実施例における図１２以後）の工
程を示している。FIGS. 25 to 29 show the steps of manufacturing the organic EL device according to the third embodiment.
FIG. 12 is a cross-sectional view corresponding to a cross section taken along the line A′-A ′ (the same applies to a fourth embodiment to be described later), showing the same manufacturing process as the above-described first embodiment (after FIG. 12 in the first embodiment) ).
【００９３】本実施例は、前述したように図２に示した
有機ＥＬ素子であり、有機層及び陰極の配線が共通に設
けられている。即ち、一部分の製造工程が上記した第１
の実施例と同様の製造工程を経て作製され、これにより
形成されたＩＴＯ透明電極２５の露出部２５ａ上に、第
１の実施例とは異なる本実施例の構造を形成している。This embodiment is the organic EL device shown in FIG. 2 as described above, and the organic layer and the cathode wiring are provided in common. In other words, a part of the manufacturing process
The structure of this embodiment, which is different from that of the first embodiment, is formed on the exposed portion 25a of the ITO transparent electrode 25 formed by the same manufacturing process as that of the first embodiment.
【００９４】図２５は、本実施例のホール輸送層２４Ａ
の形成を示すものであり、前記した図４の真空蒸着装置
１１により、広幅な開口３５ａを有するマスク３５を用
い、第１の実施例と同様のＴＰＤを同様の条件で蒸着し
てホール輸送層２４Ａを形成した。しかし本実施例の場
合は、図示の如く、４つのＩＴＯ電極の露出部２５ａに
対して共通のホール輸送層２４Ａが形成されている。こ
の図において、（ａ）は、（ｂ）に示す平面図のａ−ａ
線断面図である。FIG. 25 shows the hole transport layer 24A of this embodiment.
The TPD similar to that of the first embodiment is deposited under the same conditions by using the mask 35 having the wide opening 35a by the vacuum deposition apparatus 11 of FIG. 24A was formed. However, in the case of this embodiment, as shown, a common hole transport layer 24A is formed for the exposed portions 25a of the four ITO electrodes. In this figure, (a) is aa of the plan view shown in (b).
It is a line sectional view.
【００９５】次いで、図２６に示すように、同じマスク
３５を用い、上記の如く形成したホール輸送層２４Ａ上
に、第１の実施例と同様のＡｌｑ3 を同様の条件で蒸着
し、発光層を兼ねる電子輸送層２２Ａを形成した。Next, as shown in FIG. 26, using the same mask 35, Alq 3 similar to that of the first embodiment is deposited on the hole transporting layer 24A formed as described above under the same conditions. The electron transporting layer 22A also serving as a second electrode was formed.
【００９６】次いで、図２７に示すように、更に広幅の
開口３６ａを有するマスク３６に替えて、第１の実施例
と同様の条件下で上記した有機層２２Ａ、２４Ａを覆
い、かつ、その外側に配したＩＴＯ透明配線２５Ａと電
気的に接続するように、第１の実施例と同様のＭｇ−Ａ
ｇ（３０：１）合金を蒸着して陰極２３を形成した。こ
の図の（ａ）は、（ｂ）に示す平面図のａ−ａ線断面図
である。Next, as shown in FIG. 27, the above-mentioned organic layers 22A and 24A are covered under the same conditions as in the first embodiment instead of the mask 36 having a wider opening 36a. Mg-A similar to that of the first embodiment so as to be electrically connected to the ITO transparent wiring 25A
The cathode 23 was formed by depositing a g (30: 1) alloy. (A) of this figure is a sectional view taken along line aa of the plan view shown in (b).
【００９７】次いで、図２８に示すように、上記と同じ
マスク３６を用い、第１の実施例と同様に金属電極２３
の劣化防止のために、この金属電極２３上に第１の実施
例と同様にアルミニウムを蒸着して保護膜２３Ａを形成
した。Next, as shown in FIG. 28, using the same mask 36 as described above, the metal electrode 23 is formed in the same manner as in the first embodiment.
In order to prevent the deterioration of the metal electrode 23, aluminum was deposited on the metal electrode 23 in the same manner as in the first embodiment to form a protective film 23A.
【００９８】次いで、図２９に示すように、上記した積
層体を封止するために、第１の実施例と同様のガラス板
２８で覆い、同様の条件下で紫外線硬化樹脂２９を用い
て基板２６を接着した。Next, as shown in FIG. 29, in order to seal the above-mentioned laminate, it is covered with a glass plate 28 similar to that of the first embodiment, and a substrate is formed using an ultraviolet curable resin 29 under the same conditions. 26 were adhered.
【００９９】そして、上記の如くに形成した封止容器の
中に、第１の実施例と同様に窒素ガスＧを注入した後、
貫通孔２８ａ、２８ｂを紫外線硬化樹脂で封じて有機Ｅ
Ｌ素子２０Ｂを作製した。図２９において、（ａ）は、
（ｃ）に示す平面図のａ−ａ線断面図、（ｂ）は同じく
（ｃ）のｂ−ｂ線断面図である。Then, after injecting nitrogen gas G into the sealed container formed as described above in the same manner as in the first embodiment,
The through-holes 28a and 28b are sealed with an ultraviolet curable resin and
L element 20B was produced. In FIG. 29, (a)
(C) is a sectional view taken along line aa of the plan view, and (b) is a sectional view taken along line bb of (c).
【０１００】上記のように作製し窒素ガスＧを注入した
有機ＥＬ素子と、同様に作製し窒素ガスＧを注入しない
有機ＥＬ素子とにより、前記した第１の実施例と同様に
素子の動作安定性を評価した。その結果、本実施例にお
いても第１の実施例の場合とほぼ同様の効果が得られ
た。The operation stability of the organic EL element manufactured as described above and the organic EL element manufactured in the same manner as in the first embodiment and the organic EL element manufactured in the same manner and not injected with the nitrogen gas G are similar to those of the first embodiment. The sex was evaluated. As a result, almost the same effect as that of the first embodiment was obtained in this embodiment.
【０１０１】図３０は、第４の実施例による有機ＥＬ素
子の製造工程を示すものであり、上記した第３の実施例
における封止容器に代えて、前記した第２の実施例の場
合と同様の封止容器を用い、有機ＥＬ素子２０Ｂ’を作
製したものである。FIG. 30 shows a process of manufacturing an organic EL device according to the fourth embodiment. The process of the second embodiment is replaced with the sealing container of the third embodiment. An organic EL element 20B 'was produced using a similar sealing container.
【０１０２】即ち、金属電極２３及び保護膜２３Ａが形
成された上に、前記した第２の実施例と同様のアルミニ
ウム製容器３３を被覆させ、同様に基板２６に接する容
器３３の内周縁を接着後、同様の条件で外周縁を接着し
て窒素ガスＧを注入して貫通孔３３ａ、３３ｂを封じた
ものである。That is, after the metal electrode 23 and the protective film 23A are formed, an aluminum container 33 similar to that of the second embodiment is covered, and the inner peripheral edge of the container 33 in contact with the substrate 26 is similarly bonded. Thereafter, the outer peripheral edge is adhered under the same conditions, and nitrogen gas G is injected to seal the through holes 33a and 33b.
【０１０３】図３０において、（ａ）は、（ｃ）に示す
平面図のａ−ａ線断面図、（ｂ）は同じく（ｃ）のｂ−
ｂ線断面図である。30A is a sectional view taken along line aa of the plan view shown in FIG. 30C, and FIG.
It is a sectional view taken on line b.
【０１０４】そして、上記のように作製し窒素ガスＧを
注入した有機ＥＬ素子と、同様に作製し窒素ガスＧを注
入しない有機ＥＬ素子とにより、前記した第２の実施例
と同様に素子の動作安定性を評価した。その結果、本実
施例においても第２の実施例の場合とほぼ同様の効果が
得られた。The organic EL device manufactured as described above and injected with nitrogen gas G, and the organic EL device manufactured similarly and without injection of nitrogen gas G were used in the same manner as in the second embodiment. The operation stability was evaluated. As a result, in this embodiment, substantially the same effects as those in the second embodiment were obtained.
【０１０５】以上、本発明の実施例を説明したが、上述
した実施例は本発明の技術的思想に基づいて種々に変形
することができる。Although the embodiments of the present invention have been described above, the above-described embodiments can be variously modified based on the technical idea of the present invention.
【０１０６】例えば、積層体の封止構造は、上述した実
施例以外の適宜な構造にすることができ、陽極、有機層
及び陰極の形状や材料等も適宜に変更することができ
る。また、不活性ガスの注入方法についても変えること
ができる。For example, the sealing structure of the laminate can be any appropriate structure other than the above-described embodiment, and the shapes and materials of the anode, the organic layer, and the cathode can be appropriately changed. Further, the method of injecting the inert gas can be changed.
【０１０７】また、上記の実施例による有機ＥＬ素子の
ＩＴＯ透明電極５、ホール輸送層４、電子輸送層２、金
属電極１は、それぞれが複数層からなる積層構造であっ
てもよい。Further, the ITO transparent electrode 5, the hole transport layer 4, the electron transport layer 2, and the metal electrode 1 of the organic EL device according to the above embodiment may have a laminated structure including a plurality of layers.
【０１０８】また、上記実施例における各有機層は、蒸
着以外にも、昇華又は気化を伴う他の成膜方法でも形成
可能である。In addition, each organic layer in the above embodiment can be formed by other film formation methods involving sublimation or vaporization other than vapor deposition.
【０１０９】また、アノード電極、電子輸送層、ホール
輸送層、カソード電極等の材料は上記に限るものではな
く、例えばホール輸送層であるならば、ベンジジン誘導
体、スチリルアミン誘導体、トリフェニルメタン誘導
体、ヒドラゾン誘導体等のホール輸送性有機物質を用い
てもよい。同様に、電子輸送層には、ペリレン誘導体、
ビススチリル誘導体、ピラジン誘導体等の電子輸送性有
機物質を用いてもよい。The materials for the anode electrode, electron transport layer, hole transport layer, cathode electrode and the like are not limited to those described above. For example, if the material is a hole transport layer, benzidine derivatives, styrylamine derivatives, triphenylmethane derivatives, A hole transporting organic substance such as a hydrazone derivative may be used. Similarly, a perylene derivative,
An electron transporting organic substance such as a bisstyryl derivative or a pyrazine derivative may be used.
【０１１０】また、カソード電極材料については、効率
良く電子を注入するために、電極材料の真空準位からの
仕事関数の小さい金属を用いるのが好ましく、アルミニ
ウム−リチウム合金以外にも、例えば、アルミニウム、
インジウム、マグネシウム、銀、カルシウム、バリウ
ム、リチウム等の低仕事関数金属を単体で、または他の
金属との合金として安定性を高めて使用してもよい。For the cathode electrode material, in order to inject electrons efficiently, it is preferable to use a metal having a small work function from the vacuum level of the electrode material. ,
A low work function metal such as indium, magnesium, silver, calcium, barium, and lithium may be used alone or as an alloy with another metal with increased stability.
【０１１１】また、アノード電極側から有機電界発光を
取り出すため、アノード電極には透明電極であるＩＴＯ
を用いたが、効率良くホールを注入するために、アノー
ド電極材料の真空準位からの仕事関数が大きいもの、例
えば金、二酸化スズ−アンチモン混合物、酸化亜鉛−ア
ルミニウム混合物の電極を用いてもよい。Further, in order to take out the organic electroluminescence from the anode electrode side, the anode electrode is made of ITO, which is a transparent electrode.
In order to efficiently inject holes, an electrode having a large work function from the vacuum level of the anode electrode material, for example, an electrode of gold, tin dioxide-antimony mixture, zinc oxide-aluminum mixture may be used. .
【０１１２】なお、モノカラー用の有機ＥＬ素子は勿
論、発光材料を選択することによって、Ｒ、Ｇ、Ｂの三
色を発光するフルカラー用、又はマルチカラー用の有機
ＥＬ素子を作製することができる。その他、本発明はデ
ィスプレイ用としてだけでなく、光源用としても使用可
能な有機ＥＬ素子に適用できると共に、他の光学的用途
にも適用することができる。By selecting a light-emitting material as well as a mono-color organic EL element, a full-color or multi-color organic EL element emitting three colors of R, G, and B can be manufactured. it can. In addition, the present invention can be applied not only to an organic EL element that can be used not only for a display but also for a light source, and can also be applied to other optical uses.
【０１１３】[0113]
【発明の作用効果】本発明は、上述した如く、積層体を
被覆して封入した封止材が基体上に固定され、前記封止
材と前記基体との間の空間に不活性ガスが充填されてい
るので、不活性ガスが充填される前にこの空間に存在し
ていた空気が不活性ガスの充填と共に排除される。According to the present invention, as described above, the sealing material covering and enclosing the laminate is fixed on the base, and the space between the sealing material and the base is filled with an inert gas. Therefore, the air existing in this space before the inert gas is filled is removed together with the inert gas.
【０１１４】従って、積層体に金属が含まれている場合
には、この金属の酸化が防止できるため、例えば有機Ｅ
Ｌ素子の封止にこれを適用すれば、金属電極の劣化が防
止され動作安定性を維持することができる。Therefore, when a metal is contained in the laminate, the oxidation of the metal can be prevented, and for example, the organic E
If this is applied to the sealing of the L element, the deterioration of the metal electrode can be prevented and the operation stability can be maintained.
【図１】本発明の第１の実施例による有機ＥＬ素子を示
す概略平面図である。FIG. 1 is a schematic plan view showing an organic EL device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】同、第３の実施例による有機ＥＬ素子を示す概
略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view showing an organic EL device according to a third embodiment.
【図３】同、製造工程の一工程段階を示す概略斜視図で
ある。FIG. 3 is a schematic perspective view showing one process step of the manufacturing process.
【図４】同、実施例に使用した真空蒸着装置の概略断面
図である。FIG. 4 is a schematic sectional view of a vacuum deposition apparatus used in the example.
【図５】同、真空蒸着装置により作製した有機ＥＬ素子
の具体例を示した平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a specific example of the organic EL element manufactured by the vacuum evaporation apparatus.
【図６】同、第１の実施例による有機ＥＬ素子の製造工
程における一工程段階を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing one step in a manufacturing process of the organic EL device according to the first embodiment.
【図７】同、他の一工程段階を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing another process step;
【図８】同、他の一工程段階を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing another process step of the embodiment.
【図９】同、他の一工程段階を示し、（ａ）は断面図、
（ｂ）は平面図である。FIG. 9 shows another one of the process steps, in which FIG.
(B) is a plan view.
【図１０】同、他の一工程段階を示し、（ａ）は断面
図、（ｂ）は平面図である。FIGS. 10A and 10B show another process step, wherein FIG. 10A is a cross-sectional view and FIG. 10B is a plan view.
【図１１】同、他の一工程段階を示し、（ａ）は断面
図、（ｂ）は平面図である。11A and 11B show another process step, wherein FIG. 11A is a cross-sectional view and FIG. 11B is a plan view.
【図１２】同、他の一工程段階を示し、（ａ）は断面
図、（ｂ）は平面図である。FIGS. 12A and 12B show another process step, wherein FIG. 12A is a cross-sectional view and FIG. 12B is a plan view.
【図１３】同、他の一工程段階を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing the same other process step.
【図１４】同、他の一工程段階を示し、（ａ）は断面
図、（ｂ）は平面図である。14A and 14B show another process step, wherein FIG. 14A is a cross-sectional view and FIG. 14B is a plan view.
【図１５】同、他の一工程段階を示す断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing another process step;
【図１６】同、他の一工程段階を示し、（ａ）は断面
図、（ｂ）は平面図である。16A and 16B show another process step, wherein FIG. 16A is a cross-sectional view and FIG. 16B is a plan view.
【図１７】同、他の一工程段階を示し、（ａ）は断面
図、（ｂ）は平面図である。17A and 17B show another process step, in which FIG. 17A is a cross-sectional view and FIG. 17B is a plan view.
【図１８】同、更に他の一工程段階を示す断面図であ
る。FIG. 18 is a cross-sectional view showing still another process step.
【図１９】図１８の XIX−XIX 線断面図である。19 is a sectional view taken along line XIX-XIX in FIG.
【図２０】同、第２の実施例による有機ＥＬ素子の封止
容器を示し、（ａ）は断面図、（ｂ）は平面図である。FIG. 20 shows a sealed container of an organic EL device according to a second embodiment, wherein (a) is a sectional view and (b) is a plan view.
【図２１】同、製造工程における一工程段階を示す断面
図である。FIG. 21 is a cross-sectional view showing one process step in the manufacturing process.
【図２２】同、他の一工程段階を示し、（ａ）は断面
図、（ｂ）は平面図である。FIGS. 22A and 22B show another process step, wherein FIG. 22A is a cross-sectional view and FIG.
【図２３】同、更に他の一工程段階を示す断面図であ
る。FIG. 23 is a sectional view showing still another process step;
【図２４】図２３のXXIV−XXIV線断面図である。24 is a sectional view taken along line XXIV-XXIV of FIG.
【図２５】同、第３の実施例による有機ＥＬ素子の製造
工程における一工程段階を示し、（ａ）は断面図、
（ｂ）は平面図である。FIG. 25 shows one process step in the manufacturing process of the organic EL device according to the third embodiment, in which FIG.
(B) is a plan view.
【図２６】同、他の一工程段階を示す断面図である。FIG. 26 is a cross-sectional view showing another process step;
【図２７】同、他の一工程段階を示し、（ａ）は断面
図、（ｂ）は平面図である。FIGS. 27A and 27B show another process step, in which FIG. 27A is a cross-sectional view and FIG. 27B is a plan view.
【図２８】同、他の一工程段階を示す断面図である。FIG. 28 is a cross-sectional view showing another process step;
【図２９】同、更に他の一工程段階を示し、（ａ）は
（ｃ）のａ−ａ線断面図、（ｂ）は（ｃ）のｂ−ｂ線断
面図、（ｃ）は平面図である。29A and 29B show still another process step, wherein FIG. 29A is a cross-sectional view taken along line aa of FIG. 29C, FIG. 29B is a cross-sectional view taken along line bb of FIG. FIG.
【図３０】同、第４の実施例による有機ＥＬ素子の製造
工程における一工程段階を示し、（ａ）は（ｃ）のａ−
ａ線断面図、（ｂ）は（ｃ）のｂ−ｂ線断面図、（ｃ）
は平面図である。FIG. 30 shows one process step in the manufacturing process of an organic EL device according to the fourth embodiment.
A sectional view taken along line a, (b) is a sectional view taken along line bb of (c), (c)
Is a plan view.
【図３１】従来の有機ＥＬ素子の一例を示す概略断面図
である。FIG. 31 is a schematic sectional view showing an example of a conventional organic EL element.
【図３２】同、他の有機ＥＬ素子の一例を示す概略断面
図である。FIG. 32 is a schematic sectional view showing an example of another organic EL element.
【図３３】同、有機ＥＬ素子の具体例を示す概略斜視図
である。FIG. 33 is a schematic perspective view showing a specific example of the organic EL element.
【図３４】同、他の有機ＥＬ素子の封止状態を示す概略
断面図である。FIG. 34 is a schematic sectional view showing a sealed state of another organic EL element.
１１…真空蒸着装置、１２…アーム、１３…固定手段、
１４…シャッター、１４ａ…支軸、１５、３１、３２、
３５、３６…マスク、１５ａ、３１ａ、３２ａ、３５
ａ、３６ａ…開口、１８…蒸着源、１９…電源、２０、
２０Ａ、２０Ａ’、２０Ｂ、２０Ｂ’…有機ＥＬ素子、
２１、２３…金属電極（陰極）、２１Ａ、２３Ａ…保護
膜、２２、２２Ａ…電子輸送層、２４、２４Ａ…ホール
輸送層、２５…ＩＴＯ透明電極、２５’…ＩＴＯ薄膜、
２５Ａ…ＩＴＯ透明配線、２５ａ…露出部、２６…基
板、２７、２７’、３０…絶縁膜、２７ａ…開口部、２
８…封止用ガラス、２８ａ、２８ｂ、３３ａ、３３ｂ…
貫通孔、２９…紫外線硬化樹脂、３３…封止用カバー、
３４ａ、３４ｂ…封止材、Ｇ…不活性ガス、Ｗ、Ｗ1 、
Ｗ2 、ｗ…幅、Ｌ、Ｌ1 、Ｌ2 、ｌ…長さ11: vacuum deposition apparatus, 12: arm, 13: fixing means,
14 shutter, 14a spindle, 15, 31, 32,
35, 36 ... mask, 15a, 31a, 32a, 35
a, 36a: opening, 18: evaporation source, 19: power supply, 20,
20A, 20A ', 20B, 20B' ... organic EL element,
21, 23: metal electrode (cathode), 21A, 23A: protective film, 22, 22A: electron transport layer, 24, 24A: hole transport layer, 25: ITO transparent electrode, 25 ': ITO thin film,
25A: ITO transparent wiring, 25a: exposed portion, 26: substrate, 27, 27 ', 30: insulating film, 27a: opening, 2
8. Glass for sealing, 28a, 28b, 33a, 33b ...
Through hole, 29: UV curable resin, 33: Sealing cover,
34a, 34b: sealing material, G: inert gas, W, W 1 ,
W 2, w ... width, L, L 1, L 2 , l ... length
Claims (34)
む積層体が設けられている光学的素子において、前記積
層体を被覆して封入した封止材が前記基体上に固定さ
れ、前記封止材と前記基体との間の空間に不活性ガスが
充填されていることを特徴とする光学的素子。1. An optical element in which a laminate including a light emitting region is provided on an electrode provided on a base, a sealing material covering and sealing the laminate is fixed on the base. An optical element, wherein a space between the sealing material and the base is filled with an inert gas.
圧以上の圧力で充填されている、請求項１に記載した光
学的素子。2. The optical element according to claim 1, wherein nitrogen or a rare gas is filled as an inert gas at a pressure of 1 atm or more.
前記封止材が、前記活性導電層上の板状部と、この板状
部をその周縁において前記基体に気密に固定した接着部
とによって構成されている、請求項１に記載した光学的
素子。3. The laminate has an active conductive layer,
2. The optical element according to claim 1, wherein the sealing material is constituted by a plate-shaped portion on the active conductive layer, and an adhesive portion in which the plate-shaped portion is hermetically fixed to the base at a periphery thereof. 3. .
項３に記載した光学的素子。4. The optical element according to claim 3, wherein said active conductive layer is an upper electrode.
求項３に記載した光学的素子。5. The optical element according to claim 3, wherein the plate portion is made of an insulating material.
前記封止材がケーシング状のカバーによって構成され、
このカバーの縁が前記基体に気密に固定されている、請
求項１に記載した光学的素子。6. The laminate has an active conductive layer,
The sealing material is constituted by a casing-like cover,
2. The optical element according to claim 1, wherein an edge of the cover is hermetically fixed to the base.
項６に記載した光学的素子。7. The optical device according to claim 6, wherein the active conductive layer is an upper electrode.
る、請求項６に記載した光学的素子。8. The optical element according to claim 6, wherein said sealing material is made of a conductive cover.
られ、この貫通孔を介して前記不活性ガスが充填され
る、請求項１に記載した光学的素子。9. The optical element according to claim 1, wherein a through hole for gas replacement is provided in the sealing material, and the inert gas is filled through the through hole.
び前記貫通孔の閉塞に紫外線硬化樹脂が用いられてい
る、請求項９に記載した光学的素子。10. The optical element according to claim 9, wherein an ultraviolet curable resin is used for bonding the sealing material to the base and closing the through hole.
極として所定パターンにそれぞれ形成され、これらの下
部電極のそれぞれの各一部分が島状に露出するように絶
縁材が被着され、これらの露出部分上に前記積層体が設
けられ、更にこの積層体上に上部電極が形成されてい
る、請求項１に記載した光学的素子。11. A plurality of said electrodes are respectively formed in a predetermined pattern on said base as lower electrodes, and an insulating material is applied so that a part of each of said lower electrodes is exposed in an island shape. The optical element according to claim 1, wherein the laminate is provided on an exposed portion, and an upper electrode is further formed on the laminate.
れぞれ設けられ、これらの積層体に前記上部電極が個々
に形成されている、請求項１１に記載した光学的素子。12. The optical element according to claim 11, wherein the laminate is provided on each of the plurality of exposed portions, and the upper electrode is individually formed on the laminate.
通に設けられ、この積層体に前記上部電極が共通に形成
されている、請求項１１に記載した光学的素子。13. The optical element according to claim 11, wherein the stacked body is provided in common for a plurality of the exposed portions, and the upper electrode is formed in common for the stacked body.
上部電極に接続された配線とを含み、これらの下部電極
及び配線の各端部が外部接続端子部となるように前記封
止材が前記基体上に固定されている、請求項１１に記載
した光学的素子。14. The plurality of electrodes include the lower electrode and a wiring connected to the upper electrode, and the sealing material is formed such that each end of the lower electrode and the wiring becomes an external connection terminal. The optical element according to claim 11, wherein the optical element is fixed on the base.
極としての陽極、有機ホール輸送層、有機発光層及び／
又は有機電子輸送層、及び上部電極としての陰極が順次
積層されている、請求項１に記載した光学的素子。15. An optical system comprising: an anode as a lower electrode, an organic hole transport layer, an organic light emitting layer, and / or
The optical element according to claim 1, wherein an organic electron transport layer and a cathode as an upper electrode are sequentially laminated.
る、請求項１５に記載した光学的素子。16. The optical device according to claim 15, wherein the optical device is configured as an organic electroluminescent device.
素子として構成されている、請求項１６に記載した光学
的素子。17. The optical device according to claim 16, wherein the optical device is configured as an organic electroluminescent device for a color display.
む積層体が設けられている光学的素子を製造するに際
し、前記基体上に前記電極を形成し、この電極上に前記
積層体を形成し、この積層体を被覆して封入する封止材
を前記基体上に固定し、前記封止材と前記基体との間の
空間に不活性ガスを充填する、光学的素子の製造方法。18. When manufacturing an optical element in which a laminate including a light emitting region is provided on an electrode provided on a base, the electrode is formed on the base, and the laminate is formed on the electrode. A method for manufacturing an optical element, comprising: forming a sealing material for covering and enclosing the laminated body, sealing the sealing material on the base, and filling a space between the sealing material and the base with an inert gas.
気圧以上の圧力で充填する、請求項１８に記載した製造
方法。19. An inert gas comprising nitrogen or a rare gas.
19. The method according to claim 18, wherein the filling is performed at a pressure higher than the atmospheric pressure.
封止材を前記活性導電層上の板状部とこの板状部をその
周縁において前記基体に気密に固定した接着部とによっ
て構成する、請求項１８に記載した製造方法。20. An active conductive layer is provided on the laminate, and the sealing material is constituted by a plate-shaped portion on the active conductive layer and an adhesive portion having the plate-shaped portion hermetically fixed to the base at a peripheral edge thereof. The method according to claim 18, wherein
る、請求項２０に記載した製造方法。21. The method according to claim 20, wherein the active conductive layer is provided as an upper electrode.
項２０に記載した製造方法。22. The method according to claim 20, wherein the plate portion is formed of an insulating material.
封止材をケーシング状のカバーによって構成し、このカ
バーの縁を前記基体に気密に固定させる、請求項１８に
記載した製造方法。23. The manufacturing method according to claim 18, wherein an active conductive layer is provided on the laminate, the sealing material is constituted by a casing-like cover, and an edge of the cover is hermetically fixed to the base.
る、請求項２３に記載した製造方法。24. The method according to claim 23, wherein the active conductive layer is provided as an upper electrode.
る、請求項２３に記載した製造方法。25. The manufacturing method according to claim 23, wherein the sealing material is formed by a conductive cover.
け、この貫通孔を介して前記不活性ガスを充填させる、
請求項１８に記載した製造方法。26. A gas-replacement through-hole is provided in the sealing material, and the inert gas is filled through the through-hole.
The method according to claim 18.
び前記貫通孔の閉塞に紫外線硬化樹脂を用いる、請求項
２６に記載した製造方法。27. The manufacturing method according to claim 26, wherein an ultraviolet curable resin is used for bonding the sealing material to the base and closing the through hole.
極として所定パターンにそれぞれ形成し、これらの下部
電極のそれぞれの各一部分が島状に露出するように絶縁
材を被着し、これらの露出部分上に前記積層体を設け、
更にこの積層体上に上部電極を形成する、請求項１８に
記載した製造方法。28. A plurality of said electrodes are formed on said substrate as lower electrodes in a predetermined pattern, and an insulating material is applied so that a part of each of said lower electrodes is exposed in an island shape. Providing the laminate on the exposed portion,
19. The method according to claim 18, further comprising forming an upper electrode on the laminate.
れぞれ設け、これらの積層体に前記上部電極を個々に形
成する、請求項２８に記載した製造方法。29. The manufacturing method according to claim 28, wherein the laminate is provided on each of the plurality of exposed portions, and the upper electrodes are individually formed on these laminates.
通に設け、この積層体に前記上部電極を共通に形成す
る、請求項２８に記載した製造方法。30. The manufacturing method according to claim 28, wherein the laminated body is provided commonly to the plurality of exposed portions, and the upper electrode is commonly formed on the laminated body.
れた配線とを含む複数の前記電極を設け、これらの下部
電極及び配線の各端部が外部接続端子部となるように前
記封止材を前記基体上に固定する、請求項２８に記載し
た製造方法。31. A plurality of said electrodes including said lower electrode and a wiring connected to said upper electrode, and said sealing material such that each end of said lower electrode and said wiring becomes an external connection terminal part. 29. The method according to claim 28, wherein is fixed on the base.
極としての陽極、有機ホール輸送層、有機発光層及び／
又は有機電子輸送層、及び上部電極としての陰極を順次
積層する、請求項１８に記載した製造方法。32. An anode serving as a lower electrode, an organic hole transport layer, an organic light emitting layer, and / or
19. The method according to claim 18, wherein an organic electron transport layer and a cathode as an upper electrode are sequentially laminated.
求項３２に記載した製造方法。33. The method according to claim 32, wherein the method is configured as an organic electroluminescent device.
素子として構成する、請求項３３に記載した製造方法。34. The method according to claim 33, wherein the method is configured as an organic electroluminescent device for a color display.
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| JP8350715A JPH10189238A (en) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | Optical element and manufacture thereof |
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| JP8350715A JPH10189238A (en) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | Optical element and manufacture thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10189238A true JPH10189238A (en) | 1998-07-21 |
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ID=18412368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8350715A Pending JPH10189238A (en) | 1996-12-27 | 1996-12-27 | Optical element and manufacture thereof |
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