JPH05341318A - Active matrix type liquid crystal display element - Google Patents

Active matrix type liquid crystal display element

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JPH05341318A
JPH05341318A JP15182492A JP15182492A JPH05341318A JP H05341318 A JPH05341318 A JP H05341318A JP 15182492 A JP15182492 A JP 15182492A JP 15182492 A JP15182492 A JP 15182492A JP H05341318 A JPH05341318 A JP H05341318A
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JP
Japan
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electrode
liquid crystal
active matrix
display
pixel
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JP15182492A
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Japanese (ja)
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Yumiko Yamada
ゆみ子 山田
Masahito Shoji
雅人 庄子
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH05341318A publication Critical patent/JPH05341318A/en
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    • G02F1/134354Subdivided pixels, e.g. for grey scale or redundancy the sub-pixels being capacitively coupled

Abstract

PURPOSE:To provide the active matrix type liquid crystal display element of high display quality by making the controllability of a gradation display superior and improving the visual angle characteristics. CONSTITUTION:This element is equipped with plural drain lines 1 and plural signal lines 3, switching elements such as field effect type TFTs 5 which are arranged at their intersection parts, a 1st pixel electrode 7 and a 2nd pixel electrode 9 which are pixel electrodes connected to the signal lines 3 through the field effect type TFTs 5 and have 1st and 2nd display areas, different in applied electric field intensity, arranged, pixel by pixel, counter electrodes which are arranged opposite the pixel electrodes 7 and 9, liquid crystal layers 13 sandwiched between the pixel electrodes 7 and 9 and counter electrodes 11, and two capacitance elements 15 and 17 which are connected to the 2nd pixel electrode 9 in the 2nd display area in series and set nearly equal in electrostatic capacity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、アクティブマトリクス
型液晶表示素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、高解像度の表示が可能なディスプ
レイデバイスとして、アクティブマトリクス型液晶表示
素子が注目されている。そのなかでも特に電界効果型ト
ランジスタ(FET)をスイッチング素子として備えた
アクティブマトリクス型液晶表示素子は階調表示に適し
ており、テレビ等への応用が進められている。
2. Description of the Related Art In recent years, an active matrix type liquid crystal display element has been attracting attention as a display device capable of high resolution display. Among them, the active matrix type liquid crystal display element provided with a field effect transistor (FET) as a switching element is particularly suitable for gradation display and is being applied to televisions and the like.

【0003】液晶表示素子の動作モードとしては、TN
型、DS型、GH型、DAP型、熱書込み型等がある
が、アクティブマトリクス型液晶表示素子には一般にT
N型が用いられる。
The operation mode of the liquid crystal display element is TN.
Type, DS type, GH type, DAP type, thermal writing type, etc.
N type is used.

【0004】アクティブマトリクス型液晶表示素子の1
画素の等価回路を図10に示す。アドレス線801と信
号線803との交差部近傍に、電界効果型の薄膜トラン
ジスタ(以下、TFTと略称)805が配置され、TF
T805のゲート807はアドレス線801に、ドレイ
ン809は信号線803に、またソース811は画素電
極813接続されている。そして、画素電極813と対
向電極815との間に液晶層817が挟持されている。
また、液晶層817と接する画素電極813および対向
電極815の表面には液晶分子を配向させるための配向
層等(図示省略)が形成されている。
One of active matrix type liquid crystal display elements
An equivalent circuit of the pixel is shown in FIG. A field effect thin film transistor (hereinafter abbreviated as TFT) 805 is arranged near the intersection of the address line 801 and the signal line 803, and TF
The gate 807 of T805 is connected to the address line 801, the drain 809 is connected to the signal line 803, and the source 811 is connected to the pixel electrode 813. A liquid crystal layer 817 is sandwiched between the pixel electrode 813 and the counter electrode 815.
Further, an alignment layer or the like (not shown) for aligning liquid crystal molecules is formed on the surfaces of the pixel electrode 813 and the counter electrode 815 which are in contact with the liquid crystal layer 817.

【0005】ところでTN型液晶表示素子のノーマリホ
ワイトモード(白背景に黒表示を行なうモード)におけ
る液晶印加電圧と透過率の関係(V−T特性)は、図1
1に一例を示すように、透過率が変化し始める電圧(し
きい値電圧Vthと称する)と、透過率の変化がほぼ終了
する電圧(飽和電圧Vsat と称する)との間に、例えば
1〜2V程度の差がある。そしてFETをスイッチング素
子として用いたアクティブマトリクス型液晶表示素子で
は、このVthとVsat の間にいくつかの電圧レベルを設
けることにより、階調表示を行なっている。
By the way, the relationship (VT characteristic) between the liquid crystal applied voltage and the transmittance in the normally white mode (mode for displaying black on a white background) of the TN type liquid crystal display device is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, for example, between the voltage at which the transmittance starts to change (referred to as threshold voltage Vth) and the voltage at which the change in transmittance almost ends (referred to as saturation voltage Vsat), for example,
There is a difference of about 1 to 2V. In the active matrix type liquid crystal display element using the FET as a switching element, gradation display is performed by providing some voltage levels between Vth and Vsat.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
VthとVsat の差は 1〜2V程度とあまり大きくないた
め、階調数を増やすに従って印加電圧レベル間の差が小
さくなり、印加電圧の制御が困難になるという問題があ
る。すなわち、アクティブマトリクス型液晶表示素子に
おいて、例えば64階調表示を行うとき、駆動用ICの出
力のわずかなバラツキにより、画面全体に帯状の濃淡の
ムラが生じることがある。これは階調間の電圧の差より
も駆動用ICの出力電圧のバラツキの方がはるかに大き
く、このバラツキが階調間の電圧の差による階調の濃淡
差よりも顕著な濃淡差として視認されるため、著しく表
示品位が損なわれてしまうという問題がある。
However, since the above-mentioned difference between Vth and Vsat is not so large as about 1 to 2 V, the difference between the applied voltage levels becomes smaller as the number of gray scales increases, and the applied voltage can be controlled. There is a problem that it becomes difficult. That is, in the active matrix type liquid crystal display device, for example, when 64-gradation display is performed, a band-shaped unevenness of light and shade may occur on the entire screen due to a slight variation in the output of the driving IC. This is because the variation in the output voltage of the driving IC is much larger than the difference in the voltage between the gray levels, and this variation is visually recognized as a more distinct gray level difference than the gray level difference due to the voltage difference between the gray levels. Therefore, there is a problem that the display quality is significantly impaired.

【0007】また、このような方法で階調表示を行なう
と、TN型液晶表示素子の動作原理上、視角を変えたと
きの透過率の変化が大きいため、その結果として視野角
が狭くなるという問題もある。
Further, when gradation display is performed by such a method, due to the operating principle of the TN type liquid crystal display element, there is a large change in transmittance when the viewing angle is changed, and as a result, the viewing angle is narrowed. There are also problems.

【0008】また、TN形以外の動作モード、例えばG
H型やDAP型等の動作原理による液晶表示素子におい
ても、同様に表現する総階調数が多いほど印加電圧の制
御が困難となる。
In addition, an operation mode other than the TN type, for example, G
Even in a liquid crystal display element based on the operating principle such as H type or DAP type, it becomes more difficult to control the applied voltage as the total number of gray scales to be expressed increases.

【0009】このような問題の解消を企図した技術とし
て、 1画素内で液晶層に印加される電界強度が互いに異
なる表示領域を設ける技術が、例えば特開平2-12号公
報、特開平2-310534号公報、特開平3-122621号公報等に
より知られている。
As a technique intended to solve such a problem, a technique of providing display regions in which the electric field strengths applied to the liquid crystal layer are different from each other in one pixel is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 2-12 and 2- It is known from Japanese Patent No. 310534, Japanese Patent Laid-Open No. 3-122621, and the like.

【0010】これらの技術を要約すると、 1つの画素内
の画素電極と対向電極との間に同一の電圧を印加したと
きに液晶層に印加される電界強度が互いに異なるような
2つ以上の領域を設けるというものである。そして液晶
表示素子全体に比べて個々の画素が十分に小さければ、
個々の画素 1個の電極間印加電圧に対する透過率特性
(V−T特性)は、観察者にとっては前記の 2つ以上の
領域の透過率特性の総和であるように映る。その結果、
VthとVsat の差が実質的に拡大されたことになり、多
階調表示をより容易に実現するというものである。ま
た、階調表示を行ったときの視野角の狭さも軽減しよう
とするものである。
To summarize these techniques, when the same voltage is applied between the pixel electrode and the counter electrode in one pixel, the electric field strengths applied to the liquid crystal layer are different from each other.
It is to provide two or more areas. And if each pixel is sufficiently small compared to the entire liquid crystal display element,
The transmittance characteristic (VT characteristic) with respect to the voltage applied between the electrodes of each individual pixel appears to the observer as the sum of the transmittance characteristics of the two or more regions. as a result,
This means that the difference between Vth and Vsat is substantially enlarged, and multi-gradation display can be realized more easily. Further, it is intended to reduce the narrow viewing angle when gradation display is performed.

【0011】このような特開平2-12号等の技術において
は、各表示領域は並列に接続されており、容量素子の静
電容量を各表示領域で異ならせることにより各液晶層に
加わる電界強度を異ならせている。
In such a technique as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 12-12, the display areas are connected in parallel, and the electric field applied to each liquid crystal layer is changed by making the capacitance of the capacitive element different in each display area. The strength is different.

【0012】しかしながら、容量素子と液晶層は直列に
接続されており、この容量素子に加わる電圧を異なる値
に設定して液晶層に加わる電圧を変化させることは容易
ではない。例えばその電圧を大きくして液晶層に加わる
電圧を減らすには、容量素子の容量を小さくしなければ
ならない。そのためには容量素子の比誘電率εを大き
く、面積Sを小さく、厚さtを大きくしなければならな
いが、用いる誘電体はプロセス上の要因からそのスペッ
クを制限され、また、容量素子の面積を小さくすれば短
絡の可能性があり、厚さについても液晶素子の基板間の
厚みに制限されるため、それほど大きくはできない。こ
のように、上述のような既知の技術においても、実際に
は各表示領域の電界強度制御が容易ではなく各々の表示
領域の電界強度の差をそれほど大きくすることができな
いために、表示品位や視角特性の向上が容易ではないと
いう問題がある。
However, since the capacitive element and the liquid crystal layer are connected in series, it is not easy to change the voltage applied to the liquid crystal layer by setting the voltage applied to the capacitive element to different values. For example, in order to increase the voltage and reduce the voltage applied to the liquid crystal layer, the capacitance of the capacitive element must be reduced. For that purpose, the relative permittivity ε of the capacitive element must be large, the area S must be small, and the thickness t must be large, but the specifications of the dielectric used are limited due to process factors, and the area of the capacitive element is limited. If is smaller, there is a possibility of short circuit, and since the thickness is limited to the thickness between the substrates of the liquid crystal element, it cannot be so large. As described above, even in the known technique as described above, it is actually difficult to control the electric field strength of each display area and the difference in the electric field strength of each display area cannot be increased so much. There is a problem that it is not easy to improve the viewing angle characteristics.

【0013】本発明はこのような問題点を解決するため
に成されたもので、階調表示の制御性を優れたものと
し、また視角特性を向上させて、表示品位の高いアクテ
ィブマトリクス型液晶表示素子を実現することを目的と
している。
The present invention has been made in order to solve such a problem, and has an excellent controllability of gradation display and an improved viewing angle characteristic, and an active matrix type liquid crystal of high display quality. The purpose is to realize a display device.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明のアクティブマト
リクス型液晶表示素子は、複数のアドレス線と複数の信
号線とからなるマトリクス配線と、前記マトリクス配線
の交差部分に配設されたスイッチング素子と、前記スイ
ッチング素子を介して前記信号線に接続された第1の表
示領域の電極および前記第1の表示領域の電極とは印加
される電界強度が異なる第2の表示領域の電極とを有す
る画素電極と、前記画素電極に対向する対向電極と、前
記画素電極と前記対向電極とによって挟持された液晶層
と、前記第1の表示領域の電極に対応する液晶層に比べ
て 2つ以上多く前記第2の表示領域の電極に対応する液
晶層に直列に接続された容量素子とを具備して、前記容
量素子に蓄積される電荷を略等しくしたことを特徴とし
ている。
An active matrix type liquid crystal display device of the present invention comprises a matrix wiring composed of a plurality of address lines and a plurality of signal lines, and a switching element arranged at an intersection of the matrix wirings. A pixel having an electrode in the first display area connected to the signal line via the switching element and an electrode in the second display area having a different electric field strength applied from the electrode in the first display area An electrode, a counter electrode facing the pixel electrode, a liquid crystal layer sandwiched by the pixel electrode and the counter electrode, and two or more more than the liquid crystal layer corresponding to the electrode of the first display region. And a capacitance element connected in series to the liquid crystal layer corresponding to the electrode of the second display region, so that the charges accumulated in the capacitance element are made substantially equal.

【0015】なお、前記の容量素子の静電容量の大きさ
については、液晶材料の物性、特に誘電率および液晶層
の厚さを考慮して設計する必要がある。すなわち、容量
素子と液晶層とは直列回路を形成しているため、画素電
極と対向電極間への印加電圧は、容量素子と液晶層に分
配される。また、分配の比率はそれぞれのインピーダン
スによって決まるから、予め液晶層のインピーダンスを
計算してから、容量素子の静電容量を決めておく必要が
ある。
It is necessary to design the magnitude of the capacitance of the capacitance element in consideration of the physical properties of the liquid crystal material, particularly the dielectric constant and the thickness of the liquid crystal layer. That is, since the capacitive element and the liquid crystal layer form a series circuit, the voltage applied between the pixel electrode and the counter electrode is distributed to the capacitive element and the liquid crystal layer. Further, since the distribution ratio is determined by each impedance, it is necessary to calculate the impedance of the liquid crystal layer in advance and then determine the capacitance of the capacitive element.

【0016】また、前記の 2つ以上の容量素子は直列に
接続されていればよく、同じ容量であっても異なる容量
でもどちらでもよい。
The two or more capacitance elements may be connected in series and may have the same capacitance or different capacitances.

【0017】また、前記の画素電極は必ずしも第1の表
示領域と第2の表示領域との 2領域のみに分割されるも
のとは限定しない。例えばその他に第2の表示領域に隣
接して第3の表示領域を配設し、この第3の表示領域
に、第2の表示領域と比べてさらに 2個以上多く直列に
接続される容量素子を配設してもよい。
Further, the pixel electrode is not necessarily limited to one which is divided into only two regions, the first display region and the second display region. For example, in addition to this, a third display area is arranged adjacent to the second display area, and more than two capacitive elements are connected in series to the third display area as compared with the second display area. May be provided.

【0018】また、液晶層のインピーダンスは液晶自体
が誘電率異方性を有しているため、印加される電圧によ
って変化する必要がある。
The impedance of the liquid crystal layer needs to change depending on the applied voltage because the liquid crystal itself has a dielectric anisotropy.

【0019】[0019]

【作用】本発明のアクティブマトリクス型液晶表示素子
においては、第2の表示領域に対応する液晶セルに対し
て、第1の表示領域のに対応する液晶セルに比べて 2つ
以上多く容量素子を直列に接続することにより、第1の
表示領域の液晶セルに印加される電界強度と第2の表示
領域の液晶セルに印加される電界強度との差が大きくな
るようにしている。
In the active matrix type liquid crystal display element of the present invention, the liquid crystal cell corresponding to the second display area is provided with two or more capacitive elements as compared with the liquid crystal cell corresponding to the first display area. By connecting in series, the difference between the electric field intensity applied to the liquid crystal cell of the first display region and the electric field intensity applied to the liquid crystal cell of the second display region is increased.

【0020】すなわち、前述した既知の技術では、前記
の容量素子に用いる誘電体はプロセス上の要因から制限
され、またその面積を小さくすれば短絡の可能性があ
り、その厚さも液晶素子の基板間の厚みに制限されるた
めそれほど大きくできないなどの制約が多く、容量素子
の静電容量の制御が容易ではない。これに対し本発明に
よれば、容量素子を 2つ以上直列に接続しているため同
じ容量の素子を例えば 2層に積層して配設すれば 2倍の
電位差を得ることができるので、前記のような 2つの異
なる領域に対応する液晶セル間での電界強度の差を大き
くすることができる。その結果、階調表示の制御性を優
れたものとし、また視角特性を向上させて、表示品位の
高いアクティブマトリクス型液晶表示素子を実現する。
That is, in the above-mentioned known technique, the dielectric used for the capacitive element is limited due to process factors, and if the area is reduced, there is a possibility of short-circuiting, and the thickness is also the substrate of the liquid crystal element. There are many restrictions such as not being able to increase that much because it is limited by the thickness between them, and it is not easy to control the capacitance of the capacitive element. On the other hand, according to the present invention, since two or more capacitive elements are connected in series, it is possible to obtain a double potential difference by arranging elements having the same capacitance in, for example, two layers. It is possible to increase the difference in electric field strength between the liquid crystal cells corresponding to two different regions such as. As a result, the controllability of gradation display is improved, the viewing angle characteristics are improved, and an active matrix type liquid crystal display element with high display quality is realized.

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明のアクティブマトリクス型液晶
表示素子の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the active matrix type liquid crystal display device of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0022】(実施例1)本発明のアクティブマトリク
ス型液晶表示素子は、図1に示すような等価回路で表わ
すことができる。すなわち、複数のアドレス線1と複数
の信号線3とからなるマトリクス配線と、このマトリク
ス配線の交差部分に配置されるスイッチング素子、例え
ば電界効果型のTFT5と、この電界効果型のTFT5
を介して前記の信号線3に接続される画素電極であっ
て、印加される電界強度が互いに異なる第1の表示領域
および第2の表示領域を各画素ごとに形成する第1の画
素電極7および第2の画素電極9と、前記の画素電極
7、9に対向する対向電極11と、前記の画素電極7、
9と前記の対向電極11とによって挟持される液晶層1
3と、前記の第2の表示領域の第2の画素電極9に直列
に接続される 2つの容量素子15、17とを具備してい
る。
(Embodiment 1) The active matrix type liquid crystal display device of the present invention can be represented by an equivalent circuit as shown in FIG. That is, a matrix wiring including a plurality of address lines 1 and a plurality of signal lines 3 and a switching element, for example, a field effect type TFT 5 arranged at an intersection of the matrix wiring, and the field effect type TFT 5 are provided.
A pixel electrode connected to the signal line 3 via the first pixel electrode 7 forming a first display region and a second display region in which applied electric field strengths are different from each other for each pixel. And a second pixel electrode 9, a counter electrode 11 facing the pixel electrodes 7, 9 and the pixel electrode 7,
9 and the counter electrode 11 sandwich the liquid crystal layer 1
3 and two capacitive elements 15 and 17 connected in series to the second pixel electrode 9 in the second display area.

【0023】第1の表示領域の液晶セル19は、第1の
画素電極7と液晶層13と対向電極11とによってその
主要部が構成され、また前記の第2の表示領域の液晶セ
ル21は第2の画素電極9と液晶層13と対向電極11
とによってその主要部が構成される。図1に示すよう
に、第1の表示領域の液晶セル19には容量素子は接続
されていない容量素子15、17が、一方の第2の表示
領域の液晶セル21に直列に接続されている。
The liquid crystal cell 19 in the first display area is mainly composed of the first pixel electrode 7, the liquid crystal layer 13 and the counter electrode 11, and the liquid crystal cell 21 in the second display area is Second pixel electrode 9, liquid crystal layer 13, and counter electrode 11
Its main part is composed of and. As shown in FIG. 1, the capacitive elements 15 and 17, which are not connected to the liquid crystal cell 19 in the first display area, are connected in series to the liquid crystal cell 21 in one of the second display areas. ..

【0024】このように容量素子15、17を直列に接
続して、その分圧による電位差を大きくすることによ
り、第1の表示領域の液晶セル19に印加される電圧に
起因する電界強度と第2の表示領域の液晶セル21に印
加される電圧に起因する電界強度との差を大きく取る。
その結果、階調表示の制御性を優れたものとし、また視
角特性を向上させている。
By thus connecting the capacitors 15 and 17 in series and increasing the potential difference due to the voltage division, the electric field strength and the first electric field strength caused by the voltage applied to the liquid crystal cell 19 in the first display region are A large difference from the electric field strength due to the voltage applied to the liquid crystal cell 21 in the second display area is taken.
As a result, the controllability of gradation display is improved and the viewing angle characteristics are improved.

【0025】図2は第1の実施例のアクティブマトリク
ス型液晶表示素子の平面的構成を示す平面図、図3はそ
のA−A′における断面図である。
FIG. 2 is a plan view showing the planar structure of the active matrix type liquid crystal display element of the first embodiment, and FIG. 3 is a sectional view taken along line AA '.

【0026】第1の実施例のアクティブマトリクス型液
晶表示素子は、アレイ基板301と、対向基板303
と、これらの基板間に挟持される液晶層13とからその
主要部が構成される。
The active matrix type liquid crystal display device of the first embodiment comprises an array substrate 301 and a counter substrate 303.
And the liquid crystal layer 13 sandwiched between these substrates constitutes a main part thereof.

【0027】アレイ基板301においては、図3に示す
ように、ガラス基板305上に所定の間隔で金属からな
るアドレス線1が形成され、その表面は絶縁膜で覆われ
ている。さらにその上にアドレス線1と交差するように
所定の間隔で金属からなる信号線3が形成され、その交
差部ごとにTFT5およびITOからなる第1の画素電
極7が形成されている。TFT5は、金属からなるゲー
ト電極307、ドレイン電極309、ソース電極311
と、例えばアモルファスシリコンからなる半導体膜31
3および低抵抗半導体315、317により構成されて
いる。ゲート電極307はアドレス線1に、ドレイン電
極309が信号線3に、ソース電極311が第1の画素
電極7にそれぞれ接続されている。エッチングストッパ
ー層319、パッシベーション膜321はいずれもSi
x からなる。ゲート電極307上にはSiOx 膜32
3とSiNx 膜325がゲート絶縁膜として積層されて
いる。また、このSiOx 膜323とSiNx 膜325
は第2の画素電極9上にも積層されている。第1の画素
電極7はSiNx 膜325とSiOx 膜323を介し
て、すなわち容量素子15と容量素子17とを介して、
ITOからなる第2の画素電極9に接続される。
In the array substrate 301, as shown in FIG. 3, address lines 1 made of metal are formed on a glass substrate 305 at predetermined intervals, and the surface thereof is covered with an insulating film. Further, a signal line 3 made of metal is formed at a predetermined interval so as to intersect with the address line 1, and a TFT 5 and a first pixel electrode 7 made of ITO are formed at each intersection. The TFT 5 includes a metal gate electrode 307, a drain electrode 309, and a source electrode 311.
And a semiconductor film 31 made of, for example, amorphous silicon
3 and low resistance semiconductors 315 and 317. The gate electrode 307 is connected to the address line 1, the drain electrode 309 is connected to the signal line 3, and the source electrode 311 is connected to the first pixel electrode 7. The etching stopper layer 319 and the passivation film 321 are both made of Si.
It consists of N x . The SiO x film 32 is formed on the gate electrode 307.
3 and the SiN x film 325 are laminated as a gate insulating film. Further, the SiO x film 323 and the SiN x film 325 are formed.
Are also stacked on the second pixel electrode 9. The first pixel electrode 7 interposes the SiN x film 325 and the SiO x film 323, that is, the capacitive element 15 and the capacitive element 17,
It is connected to the second pixel electrode 9 made of ITO.

【0028】このように本実施例のアクティブマトリッ
クス型液晶表示素子のおいては、容量素子15は第1の
画素電極7の端部を一方の電極としSiOx 膜323お
よびSiNx 膜325を誘電体とし第1の画素電極直下
に位置する第2の画素電極9の端部を他方の電極として
構成され、また容量素子17は第1の画素電極直下に位
置する第2の画素電極9の端部を一方の電極としSiO
x 膜323およびSiNx 膜325を誘電体としSiN
x 膜325の液晶層と接する面を他方の電極として構成
されている。そして第2の画素電極9を容量素子15の
電極とするとともに容量素子17の電極としても共用す
ることにより、この第2の画素電極9において容量素子
15と容量素子17とを直列に接続している。容量素子
15および容量素子17は、このような構造にすれば製
造工程を非常に簡易なものとすることができる。
As described above, in the active matrix type liquid crystal display element of this embodiment, the capacitive element 15 uses the end portion of the first pixel electrode 7 as one electrode and the SiO x film 323 and the SiN x film 325 as dielectrics. The end portion of the second pixel electrode 9 located immediately below the first pixel electrode as a body is configured as the other electrode, and the capacitive element 17 is an end of the second pixel electrode 9 located immediately below the first pixel electrode. Part as one electrode
Using the x film 323 and the SiN x film 325 as a dielectric, SiN
The surface of the x film 325 in contact with the liquid crystal layer is configured as the other electrode. By using the second pixel electrode 9 as the electrode of the capacitive element 15 and also as the electrode of the capacitive element 17, the capacitive element 15 and the capacitive element 17 are connected in series in the second pixel electrode 9. There is. With such a structure, the capacitor 15 and the capacitor 17 can have a very simple manufacturing process.

【0029】本実施例では、SiOx 膜323とSiN
x 膜325はピンホールによる短絡を回避するため積層
体としているが、どちらか一方を 1層構造としてもよ
い。
In this embodiment, the SiO x film 323 and SiN are used.
The x film 325 is a laminated body in order to avoid a short circuit due to a pinhole, but either one may have a single layer structure.

【0030】そしてアレイ基板305全面はポリイミド
からなる配向膜327で覆われている。
The entire surface of the array substrate 305 is covered with an alignment film 327 made of polyimide.

【0031】一方、対向基板303においては、ガラス
基板329上には画素としての表示に係らない部分を覆
うような形にCr等の金属からなる格子状の遮光膜33
1が形成され、その上にカラーフィルタ333、ITO
からなる対向電極11が形成されており、その上にはポ
リイミドからなる配向膜335が形成されている。
On the other hand, in the counter substrate 303, the lattice-shaped light-shielding film 33 made of a metal such as Cr is formed on the glass substrate 329 so as to cover a portion not related to display as a pixel.
1 is formed, and the color filter 333 and the ITO are formed on it.
Is formed on the counter electrode 11, and an alignment film 335 made of polyimide is formed thereon.

【0032】さらに、アレイ基板301と対向基板30
3との間には、TN型液晶からなる液晶層13が挟持さ
れており、その厚さは約 5μmである。液晶分子は配向
膜327、335の作用によりプレチルトが与えられて
基板にほぼ平行に配向し、配向膜327、335の間で
液晶分子の方向が90度ねじれたTN型液晶表示素子の構
成となっている。またアレイ基板301、対向基板30
3の各々に偏光板337、339が形成されている。
Furthermore, the array substrate 301 and the counter substrate 30
A liquid crystal layer 13 made of TN type liquid crystal is sandwiched between them and the thickness thereof is about 5 μm. The liquid crystal molecules are pre-tilted by the action of the alignment films 327 and 335 and are aligned substantially parallel to the substrate, and the orientation of the liquid crystal molecules is twisted by 90 degrees between the alignment films 327 and 335 to form a TN liquid crystal display element. ing. In addition, the array substrate 301 and the counter substrate 30
Polarizing plates 337 and 339 are formed on each of the three.

【0033】容量素子15は、第1の画素電極7とSi
x 膜323およびSiNx 膜325と第2の画素電極
9により構成され、容量素子17は、第2の画素電極9
とSiOx 膜323およびSiNx 膜325により構成
される。本実施例では、第1の画素電極7が第2の画素
電極9の主面上に重なるように構成されているが、第2
の画素電極9の側面との間でのみ容量素子15が形成さ
れるようにしてもよい。また、ゲート絶縁膜と容量素子
の誘電膜とを必ずしも同一材料の膜としなくともよい。
The capacitive element 15 includes the first pixel electrode 7 and Si.
The capacitive element 17 includes the O x film 323, the SiN x film 325, and the second pixel electrode 9, and the second pixel electrode 9
And a SiO x film 323 and a SiN x film 325. In the present embodiment, the first pixel electrode 7 is configured so as to overlap the main surface of the second pixel electrode 9, but
The capacitive element 15 may be formed only between the pixel electrode 9 and the side surface of the pixel electrode 9. Further, the gate insulating film and the dielectric film of the capacitive element do not necessarily have to be made of the same material.

【0034】次に、この第1の本実施例のアクティブマ
トリクス型液晶表示素子の製造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the active matrix type liquid crystal display device of the first embodiment will be described.

【0035】厚さ 1.1mmの無アルカリガラス基板上に
Mo−Ta膜を 300nmスパッタで成膜し、フォトリソ
グラフィにより図2に示すような形にゲート電極30
7、蓄積容量線201、アドレス線1を形成した。さら
に 100nmのITOをスパッタ成膜した後、フォトリソ
グラフィによりパターンニングして第2の画素電極9を
形成した。
A Mo-Ta film was formed on a 1.1 mm-thick non-alkali glass substrate by sputtering to a thickness of 300 nm, and the gate electrode 30 was formed into a shape as shown in FIG. 2 by photolithography.
7, the storage capacitor line 201, and the address line 1 were formed. Further, a 100 nm ITO film was formed by sputtering, and then patterned by photolithography to form the second pixel electrode 9.

【0036】次に厚さ 360nmのSiOx 、厚さ40nm
のSiNx 、厚さ70nmのa-Si、厚さ 200nmのSi
x を、CVD法により成膜しフォトリソグラフィによ
り所定のパターンに形成して、絶縁膜323、325、
半導体膜313、エッチングストッパ層319を得た。
30nmの膜厚のn+ a−SiをCVDで成膜し、フォト
リソグラフィによりパターンニングして低抵抗半導体膜
315、317を形成した。
Next, SiO x with a thickness of 360 nm and a thickness of 40 nm
SiN x , 70 nm thick a-Si, 200 nm thick Si
N x is formed by a CVD method and formed into a predetermined pattern by photolithography, and insulating films 323, 325,
A semiconductor film 313 and an etching stopper layer 319 were obtained.
N + a-Si having a film thickness of 30 nm was formed by CVD and patterned by photolithography to form low resistance semiconductor films 315 and 317.

【0037】次に、 100nmの膜厚のITOをスパッタ
で成膜し、フォトリソグラフィにより図2に示すような
パターンに形成して第1の画素電極7を得た。さらに、
Mo、Alをそれぞれスパッタで成膜しフォトリソグラ
フィによりパターンニングして、ソース電極311およ
びドレイン電極309を得た。
Next, a 100 nm-thick ITO film was formed by sputtering and formed into a pattern as shown in FIG. 2 by photolithography to obtain a first pixel electrode 7. further,
Mo and Al were deposited by sputtering and patterned by photolithography to obtain a source electrode 311 and a drain electrode 309.

【0038】そして 200nmの膜厚のSiNx をCVD
法により成膜し、パッシベーション膜321とした。そ
の上を覆うように 100nmのポリイミド薄膜を成膜した
後、その表面にラビング配向処理を行なって配向膜32
7を形成した。
Then, CVD of SiN x having a film thickness of 200 nm is performed.
Then, a passivation film 321 was formed. After forming a 100 nm polyimide thin film so as to cover it, a rubbing alignment treatment is performed on the surface of the polyimide thin film to form an alignment film 32.
Formed 7.

【0039】このようにして、信号線3、アドレス線1
をマトリクス状に形成し、その各交差部に画素を形成し
て、縦 100画素×横 100画素の合計 10000画素を有する
アレイ基板301を作製した。
In this way, the signal line 3 and the address line 1
Were formed in a matrix, and pixels were formed at each of the intersections to produce an array substrate 301 having 100 pixels in vertical × 100 pixels in total, 10,000 pixels in total.

【0040】一方、対向基板303は、ガラス基板32
9上に膜厚 300nmのCrをスパッタとフォトリソグラ
フィにより形成し遮光膜331とし、さらにその上に画
素ごとに所定のR、G、Bが形成されたカラーフィルタ
333を形成した。そして膜厚 100nmのITOをスパ
ッタ成膜し対向電極11を得た。その上を全体的に覆う
ようにポリイミド薄膜 100nmを成膜した後、表面にラ
ビング配向処理を施して配向膜335を形成した。
On the other hand, the counter substrate 303 is the glass substrate 32.
A light-shielding film 331 was formed by depositing Cr with a film thickness of 300 nm on the substrate 9 by sputtering and photolithography, and a color filter 333 having predetermined R, G, and B formed for each pixel was formed on the light-shielding film 331. Then, a 100 nm-thick ITO film was formed by sputtering to obtain the counter electrode 11. A polyimide thin film having a thickness of 100 nm was formed so as to entirely cover the film, and then the surface was subjected to rubbing alignment treatment to form an alignment film 335.

【0041】この対向基板303の配向膜335の周辺
に沿って、エポキシ系接着剤(図示省略)を注入口(図
示省略)以外の部分に印刷し、また対向基板303の表
示画面の部分には粒径 5μmのミクロパール(積水ファ
インケミカル社製)を間隙材(図示省略)として散布し
た。
Along the periphery of the alignment film 335 of the counter substrate 303, an epoxy adhesive (not shown) is printed on a portion other than the injection port (not shown), and on the display screen portion of the counter substrate 303. Micropearls (manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) having a particle size of 5 μm were dispersed as a gap material (not shown).

【0042】そして配向膜327、335が対向してそ
れぞれのラビング方向のなす角が90度となるように基板
301、303を組み合わせ、加熱して前記の接着剤を
硬化させ、基板301、303を貼り合わせた。
The substrates 301 and 303 are combined so that the orientation films 327 and 335 face each other and the angle formed by the rubbing directions is 90 degrees, and the substrates 301 and 303 are heated to cure the adhesives. Pasted together

【0043】次に、通常の方法により注入口から液晶組
成物としてZLI−1565(E.メルク社製)にS811 を
0.1wt %添加したものを注入した後、注入口を紫外線硬
化樹脂で封止した。
Then, S811 was applied as a liquid crystal composition to ZLI-1565 (manufactured by E. Merck) from the injection port by a conventional method.
After the injection of 0.1 wt% added, the injection port was sealed with an ultraviolet curable resin.

【0044】さらにこの後、アレイ基板301と対向基
板303に偏光板337、339を貼設し、アレイ基板
301表面のショートリング(図示省略)を切り離して
アクティブマトリクス型液晶表示素子を完成した。
After this, polarizing plates 337 and 339 were attached to the array substrate 301 and the counter substrate 303, and the short ring (not shown) on the surface of the array substrate 301 was cut off to complete the active matrix type liquid crystal display element.

【0045】このようにして作製されたアクティブマト
リクス型液晶表示素子に対して64階調の表示を行なわせ
たところ、各階調ともほぼ設定値どおりの透過率が得ら
れ、またその表示画像を目視にて検証したところ、その
表示品位は良好であることが確認された。また、視角方
向を変えた時の透過率変化も小さく、視野角特性も高い
ことが確認された。このような本発明に係るアクティブ
マトリクス型液晶表示素子のV−T特性の視角方向によ
る変化を測定した結果を図4に示す。
When an active matrix type liquid crystal display device manufactured in this manner was displayed with 64 gradations, the transmittance was almost equal to the set value for each gradation and the displayed image was visually observed. As a result, it was confirmed that the display quality was good. It was also confirmed that the change in transmittance when the viewing angle direction was changed was small and the viewing angle characteristics were high. FIG. 4 shows the result of measuring the change in the VT characteristic of the active matrix type liquid crystal display device according to the present invention depending on the viewing angle direction.

【0046】図4からも明確なように、図4(a)の曲
線に見られる従来の液晶表示素子の視野角特性と比較し
て、本発明に係るアクティブマトリクス型液晶表示素子
のV−T特性は、図4(b)の曲線に見られるように視
角による透過率の変化が飛躍的に少なく抑えられてい
る。
As is clear from FIG. 4, the VT of the active matrix type liquid crystal display device according to the present invention is compared with the viewing angle characteristic of the conventional liquid crystal display device shown in the curve of FIG. As for the characteristics, as seen from the curve in FIG. 4B, the change in transmittance depending on the viewing angle is significantly suppressed.

【0047】(実施例2)次に、第2の実施例のアクテ
ィブマトリクス型液晶表示素子を図5、図6を参照して
説明する。図5は第2の実施例のアクティブマトリクス
型液晶表示素子の平面的な構成を示す図、図6はそのB
−B′断面図である。
(Embodiment 2) Next, an active matrix type liquid crystal display device of a second embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a diagram showing a planar structure of an active matrix type liquid crystal display device of the second embodiment, and FIG.
It is a -B 'sectional view.

【0048】この第2の実施例のアクティブマトリクス
型液晶表示素子においては、第1の容量素子215、第
2の容量素子217以外は実施例1と同様であるので、
容量素子215、217の部分を中心として以下に述べ
る。なお、第1の実施例と同様の部分は第1の実施例と
同一の符号で示している。
The active matrix type liquid crystal display element of the second embodiment is the same as that of the first embodiment except for the first capacitance element 215 and the second capacitance element 217.
The capacitor elements 215 and 217 will be mainly described below. The same parts as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals as those in the first embodiment.

【0049】Mo−Ta等の金属からなる金属層601
がガラス基板305直上に配設されている。この金属層
601上にSiOx 層323とSiNx 層325が形成
されている。さらに、ITOからなる第1の画素電極5
07と第2の画素電極509が所定の距離を隔ててそれ
ぞれ金属層601上に一部重なるように形成されてい
る。すなわち、第1の画素電極507と誘電膜としての
SiOx 層323、325と金属層601とにより構成
される容量素子515と、金属層601とSiOx 層3
23と第2の画素電極509とにより構成される容量素
子517とが金属層601により直列に接続され、かつ
第1の画素電極507と第2の画素電極509とが並列
に接続されていることになる。
Metal layer 601 made of metal such as Mo-Ta
Are disposed directly on the glass substrate 305. A SiO x layer 323 and a SiN x layer 325 are formed on the metal layer 601. Further, the first pixel electrode 5 made of ITO
07 and the second pixel electrode 509 are formed at a predetermined distance so as to partially overlap with each other on the metal layer 601. That is, the capacitive element 515 composed of the first pixel electrode 507, the SiO x layers 323 and 325 as the dielectric film, and the metal layer 601, the metal layer 601, and the SiO x layer 3.
23 and the capacitive element 517 composed of the second pixel electrode 509 are connected in series by the metal layer 601, and the first pixel electrode 507 and the second pixel electrode 509 are connected in parallel. become.

【0050】このような構成の第2の実施例のアクティ
ブマトリクス型液晶表示素子も、第1の実施例と同様に
表示画像の品位が良好であることが確認された。また視
角方向を変えた時の透過率変化も小さく視野角特性も高
いことが確認された。
It has been confirmed that the active matrix type liquid crystal display element of the second embodiment having such a structure has a good display image quality as in the first embodiment. It was also confirmed that the change in transmittance when changing the viewing angle direction was small and the viewing angle characteristics were high.

【0051】なお、本実施例の金属層601は、ITO
のような透明導電膜であってもよく、SiOx 層やSi
x 層に代えてその他の材質、例えば金属の陽極酸化膜
などで構成してもよい。
The metal layer 601 of this embodiment is made of ITO.
Transparent conductive film such as SiO x layer or Si
Instead of the N x layer, other materials such as a metal anodic oxide film may be used.

【0052】(実施例3)図7は、前述の第2の実施例
のアクティブマトリクス型液晶表示素子をさらに変更し
た第3の実施例のアクティブマトリクス型液晶表示素子
の構成を示すもので、その特徴は、第2の実施例の素子
において、第1の画素電極707および第2の画素電極
709が金属層601の側面にそれぞれ接して各々容量
素子715および717が形成されている点であり、そ
の他の構成は上述の第2の実施例の素子と同様のものと
している。このような構成の第3の実施例のアクティブ
マトリクス型液晶表示素子においても、第1および第2
の実施例と同様に表示画像の品位が良好であることが確
認された。また視角方向を変えた時の透過率変化も小さ
く視野角特性も高いことが確認された。
(Embodiment 3) FIG. 7 shows a structure of an active matrix type liquid crystal display element of a third embodiment which is a modification of the active matrix type liquid crystal display element of the second embodiment. The feature is that in the element of the second embodiment, the first pixel electrode 707 and the second pixel electrode 709 are respectively in contact with the side surfaces of the metal layer 601, and the capacitive elements 715 and 717 are formed, respectively. The other structure is the same as that of the element of the second embodiment described above. Also in the active matrix type liquid crystal display element of the third embodiment having such a configuration, the first and second
It was confirmed that the quality of the display image was good as in the example of. It was also confirmed that the change in transmittance when changing the viewing angle direction was small and the viewing angle characteristics were high.

【0053】以上に説明した第1乃至第3の実施例にお
いては、容量素子15および容量素子17(または容量
素子215および容量素子217など)の誘電体とし
て、同じ材質で同じ膜厚のものを用いている。したがっ
て、容量素子15および容量素子17の合成容量は以下
のようになる。
In the first to third embodiments described above, the dielectrics of the capacitive element 15 and the capacitive element 17 (or the capacitive element 215 and the capacitive element 217, etc.) are made of the same material and have the same film thickness. I am using. Therefore, the combined capacitance of the capacitive element 15 and the capacitive element 17 is as follows.

【0054】すなわち、容量素子15、容量素子17、
およびその合成容量を、それぞれC2 、C3 、Cとし、
SiOx 膜323とSiNx 膜325の合計の膜厚を
d、前記の容量の合計誘電率をεとし、容量素子15、
17の容量に係る面積、SiOx 膜323の面積、Si
x 膜325の面積をそれぞれS2 、S3 、Sとする
と、 C=( 1/C2 + 1/C3 -1=C2 3 /(C
2 +C3 )=(εS2 /d・εS3 /d)/{(εS2
/d)+(εS3 /d)}={ε2 2 (S−S2)/
d}/(εS/d)=ε/d(S2 −S2 2 /S)とな
る。
That is, the capacitive element 15, the capacitive element 17,
And their combined capacities are C 2 , C 3 , and C, respectively,
When the total film thickness of the SiO x film 323 and the SiN x film 325 is d and the total dielectric constant of the capacitance is ε, the capacitive element 15,
17, area related to capacitance, area of SiO x film 323, Si
When the areas of the N x film 325 are S 2 , S 3 , and S, respectively, C = (1 / C 2 + 1 / C 3 ) −1 = C 2 C 3 / (C
2 + C 3 ) = (εS 2 / d · εS 3 / d) / {(εS 2
/ D) + (εS 3 / d)} = {ε 2 S 2 (S−S 2 ) /
d} / (εS / d) = ε / d (S 2 −S 2 2 / S).

【0055】上式から明らかなように、合成容量Cは、
容量素子15(および容量素子17など)の面積をコン
トロールすることにより決定することができる。
As is clear from the above equation, the combined capacitance C is
It can be determined by controlling the area of the capacitive element 15 (and the capacitive element 17, etc.).

【0056】また、このように 2つの容量素子の誘電体
として同じ材質で同じ膜厚のものを用いることによっ
て、製造工程を簡易なものとすることができる。
Further, by using the same material and the same film thickness as the dielectrics of the two capacitive elements, the manufacturing process can be simplified.

【0057】なお、上述の画素電極は、必ずしも第1の
領域と第2の領域のように 2つの領域だけにはその分割
の仕方を限定しない。例えば、第1の領域と第2の領域
と第3の領域のように 3つの領域に分割して、これらの
領域ごとにそれぞれ第1の領域よりも 2個以上異なる個
数で、例えば図8、9に示すように、 0個、 2個、 3個
の容量素子を上述のような構造に直列に接続されるよう
に配設してもよい。
The above-mentioned pixel electrode does not necessarily have to be divided into two regions like the first region and the second region. For example, the first region, the second region, and the third region are divided into three regions, and each of these regions is different from the first region by two or more, for example, as shown in FIG. As shown in FIG. 9, 0, 2, and 3 capacitive elements may be arranged so as to be connected in series in the above-described structure.

【0058】また、上述の第1乃至第3の実施例におい
ては、第2の領域に接続される容量素子の数を 2個と
し、第1の領域に接続される容量素子の数に比べて 2つ
多くしているが、これには限定しない。例えば第1の領
域に接続される容量素子の数を1個とし、第2の領域に
接続される容量素子の数を 4個として、その個数の差を
3個とするなどしてもよい。このとき、直列に接続され
る容量素子の個数の差が大きほど、印加電圧の差も大き
くなることは明らかであり、本発明の技術が用いられる
場合に応じてその印加電圧の差を調節すべく容量素子の
個数の差を決定すればよい。
In addition, in the above-described first to third embodiments, the number of capacitive elements connected to the second region is two, and compared with the number of capacitive elements connected to the first region. There are two, but not limited to this. For example, assuming that the number of capacitive elements connected to the first region is one and the number of capacitive elements connected to the second region is four, the difference in the number is
It may be three or so. At this time, it is clear that the larger the difference in the number of capacitive elements connected in series, the larger the difference in applied voltage. Therefore, the difference in applied voltage is adjusted depending on the case where the technique of the present invention is used. Therefore, it suffices to determine the difference in the number of capacitive elements.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上の詳細な説明で明示したように、本
発明によれば、階調表示の制御性に優れ視野角が広く、
表示品位の高いアクティブマトリクス型液晶表示素子を
実現することができる。
As clearly shown in the above detailed description, according to the present invention, the controllability of gradation display is excellent and the viewing angle is wide,
It is possible to realize an active matrix type liquid crystal display element having high display quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のアクティブマトリクス型液晶表示素子
の1画素の等価回路を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing an equivalent circuit of one pixel of an active matrix type liquid crystal display element of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例のアクティブマトリクス
型液晶表示素子の平面的構成を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing a planar configuration of an active matrix type liquid crystal display device of Example 1 of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施例のアクティブマトリクス
型液晶表示素子の断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view of an active matrix type liquid crystal display element of the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施例のアクティブマトリクス
型液晶表示素子の印加電圧−透過率特性およびその視野
角特性を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing an applied voltage-transmittance characteristic and a viewing angle characteristic of the active matrix type liquid crystal display element of the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施例のアクティブマトリクス
型液晶表示素子の平面的構成を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing a planar configuration of an active matrix type liquid crystal display element according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施例のアクティブマトリクス
型液晶表示素子の断面図。
FIG. 6 is a sectional view of an active matrix type liquid crystal display element of a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3の実施例のアクティブマトリクス
型液晶表示素子の断面図。
FIG. 7 is a cross-sectional view of an active matrix type liquid crystal display device of Example 3 of the present invention.

【図8】本発明の第1の実施例のアクティブマトリクス
型液晶表示素子において、さらに第3の領域を設けた場
合を示す断面図。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a case where a third region is further provided in the active matrix liquid crystal display element of the first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第1の実施例のアクティブマトリクス
型液晶表示素子において、さらに第3の領域を設けた場
合の1画素の等価回路を示す図。
FIG. 9 is a diagram showing an equivalent circuit of one pixel when a third region is further provided in the active matrix type liquid crystal display element of the first embodiment of the present invention.

【図10】従来のアクティブマトリクス型液晶表示素子
の1画素の等価回路を示す図。
FIG. 10 is a diagram showing an equivalent circuit of one pixel of a conventional active matrix type liquid crystal display element.

【図11】従来のアクティブマトリクス型液晶表示素子
の印加電圧−透過率特性を示す図。
FIG. 11 is a diagram showing applied voltage-transmittance characteristics of a conventional active matrix type liquid crystal display element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…アドレス線、3…信号線、5…TFT、7…第1の
画素電極、9…第2の画素電極、11…対向電極、13
…液晶層、15、17…容量素子、19…第1の表示領
域の液晶セル、21…第2の表示領域の液晶セル
1 ... Address line, 3 ... Signal line, 5 ... TFT, 7 ... First pixel electrode, 9 ... Second pixel electrode, 11 ... Counter electrode, 13
... Liquid crystal layer, 15, 17 ... Capacitive element, 19 ... Liquid crystal cell in first display area, 21 ... Liquid crystal cell in second display area

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のアドレス線と複数の信号線とから
なるマトリクス配線と、 前記マトリクス配線の交差部分に配設されたスイッチン
グ素子と、 前記スイッチング素子を介して前記信号線に接続された
第1の表示領域の電極および前記第1の表示領域の電極
とは印加される電界強度が異なる第2の表示領域の電極
とを有する画素電極と、 前記画素電極に対向する対向電極と、 前記画素電極と前記対向電極とによって挟持された液晶
層と、 前記第1の表示領域の電極に対応する液晶層に比べて 2
つ以上多く前記第2の表示領域の電極に対応する液晶層
に直列に接続された容量素子とを具備して、前記容量素
子に蓄積される電荷を略等しくしたアクティブマトリク
ス型液晶表示素子。
1. A matrix wiring comprising a plurality of address lines and a plurality of signal lines, a switching element arranged at an intersection of the matrix wiring, and a first wiring connected to the signal line via the switching element. A pixel electrode having an electrode in a first display region and an electrode in a second display region having a different applied electric field strength from the electrode in the first display region; a counter electrode facing the pixel electrode; Compared to a liquid crystal layer sandwiched between an electrode and the counter electrode, the liquid crystal layer corresponding to the electrode in the first display region is 2
An active matrix type liquid crystal display device comprising a plurality of capacitive elements connected in series to the liquid crystal layer corresponding to the electrodes of the second display area, and making the charges accumulated in the capacitive elements substantially equal.
【請求項2】 前記第1の表示領域の電極の一端を一方
の電極とし誘電体を介して前記第2の表示領域の電極の
一端を他方の電極として構成された第1の容量素子と、 前記第2の表示領域の電極の他端を一方の電極とし誘電
体を介して前記液晶層に直列に接続されて電界を印加す
る第2の容量素子とを具備することを特徴とする請求項
1記載のアクティブマトリクス型液晶表示素子。
2. A first capacitance element, wherein one end of the electrode of the first display area is used as one electrode and one end of the electrode of the second display area is used as the other electrode via a dielectric. 7. A second capacitance element, which is connected in series to the liquid crystal layer via a dielectric and uses the other end of the electrode of the second display region as one electrode to apply an electric field. 1. The active matrix liquid crystal display element according to 1.
【請求項3】 前記第1の表示領域の電極の一端を一方
の電極とし誘電体を介して前記第1の表示領域の電極と
は別に設けられた容量用電極の一端を他方の電極として
構成された第1の容量素子と、 前記容量用電極の他端を一方の電極とし誘電体を介して
前記第2の表示領域の電極の他端を他方の電極として構
成され前記第1の容量素子に直列に接続された第2の容
量素子とを具備することを特徴とする請求項1記載のア
クティブマトリクス型液晶表示素子。
3. One end of the electrode of the first display area is used as one electrode, and one end of a capacitance electrode provided separately from the electrode of the first display area via a dielectric is used as the other electrode. And the other end of the electrode for the second display region via the dielectric and the other end of the electrode for capacitance as the other electrode, and the other end of the electrode for the second display region as the other electrode. The active matrix type liquid crystal display element according to claim 1, further comprising a second capacitor element connected in series with the second capacitor element.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4865639A (en) * 1987-07-07 1989-09-12 Asahi Glass Company, Ltd. Glass sheet bending mold
US7656465B2 (en) 2001-09-07 2010-02-02 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display and method of manufacturing the same
JP2012208293A (en) * 2011-03-29 2012-10-25 Seiko Epson Corp Liquid crystal device and electronic equipment

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