JPH05335243A - Liquid bubbling apparatus - Google Patents

Liquid bubbling apparatus

Info

Publication number
JPH05335243A
JPH05335243A JP14267392A JP14267392A JPH05335243A JP H05335243 A JPH05335243 A JP H05335243A JP 14267392 A JP14267392 A JP 14267392A JP 14267392 A JP14267392 A JP 14267392A JP H05335243 A JPH05335243 A JP H05335243A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bubbler
raw material
liquid
gas
bubbling
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14267392A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuyuki Endo
康行 遠藤
Kenji Yasumura
賢二 安村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP14267392A priority Critical patent/JPH05335243A/en
Publication of JPH05335243A publication Critical patent/JPH05335243A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To stably supply material gas when liquid organic metal or liquid material of metal mercury, etc., is vaporized by bubbling and supplied in a vapor growth. CONSTITUTION:A horizontal plate 5 made of a porous material is provided in a bubbler 1 in which liquid material 2 is charged, bubbles of gas for bubbling are divided into small bubbles, and supplied into the material 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体基板上に膜を
気相成長させるのに用いる液体バブリング装置に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid bubbling apparatus used for vapor phase growth of a film on a semiconductor substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、例えば刊行物、「半導体エピタ
キシー技術」河東田隆著,産業図書刊に示された従来の
液体バブリング装置を示している。図において、バブラ
ー1には、例えば液体有機金属又は金属水銀等の液体原
料2が収容されている。バブラー1内の液体原料2中に
は、バブリング用ガス導入管3が挿入されている。バブ
ラー1の側面上部には、蒸気化した原料ガスを導出する
ための原料ガス導出管4が接続されている。
2. Description of the Related Art FIG. 7 shows a conventional liquid bubbling apparatus shown in, for example, a publication, "Semiconductor Epitaxy Technology", written by Takashi Kawatoda, Sangyo Tosho. In the figure, a bubbler 1 contains a liquid raw material 2 such as liquid organic metal or metallic mercury. A bubbling gas introduction pipe 3 is inserted into the liquid raw material 2 in the bubbler 1. A raw material gas outlet pipe 4 for leading out the vaporized raw material gas is connected to the upper portion of the side surface of the bubbler 1.

【0003】従来の液体バブリング装置は上記のように
構成され、水素等のバブリング用ガス(キャリアガス)
をバブリング用ガス導入管3よりバブラー1に導入し、
バブラー1中の液体原料2の中に設けたバブリング用ガ
ス導入管3の先端より気泡として供給する。液体原料2
は気泡中に蒸気化され、飽和蒸気圧に達した後、原料ガ
ス導出管4より導出され反応炉内に供給される。バブラ
ー1は、通常恒温槽中に浸して一定温度に保たれてお
り、気泡中の原料ガスのモル濃度は、恒温槽の温度を調
節して原料の飽和蒸気圧を変化させることにより調節可
能である。
A conventional liquid bubbling apparatus is constructed as described above, and a bubbling gas (carrier gas) such as hydrogen is used.
Is introduced into the bubbler 1 through the bubbling gas introduction pipe 3,
It is supplied as bubbles from the tip of a bubbling gas introduction pipe 3 provided in the liquid raw material 2 in the bubbler 1. Liquid raw material 2
Is vaporized into bubbles, reaches a saturated vapor pressure, and is then discharged from the source gas discharge pipe 4 and supplied into the reaction furnace. The bubbler 1 is usually immersed in a constant temperature bath and kept at a constant temperature, and the molar concentration of the raw material gas in the bubbles can be adjusted by adjusting the temperature of the constant temperature bath to change the saturated vapor pressure of the raw material. is there.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の液
体バブリング装置では、液体原料2として比重の大きい
液体を用いると、液体原料2中への気泡の供給が断続的
になるために蒸気化原料ガスの反応炉への供給が不安定
になり、得られる結晶の組成、膜厚が不均一になるとい
う問題点があった。また、液体原料2が消費され液面が
降下すると、液体原料2の気泡中への蒸気化が不十分と
なり、原料が気泡中で飽和蒸気圧に達する前に反応炉に
供給されてしまい、原料ガスのモル濃度を正確に把握す
ることが困難であるという問題点があった。さらに、飽
和蒸気圧の高い液体原料2を使用すると、気泡中への蒸
気化が不十分のまま原料ガスが反応炉に供給されるとい
う問題点があった。
In the conventional liquid bubbling apparatus as described above, when a liquid having a large specific gravity is used as the liquid raw material 2, bubbles are intermittently supplied to the liquid raw material 2 so that vaporization occurs. There is a problem that the supply of the raw material gas to the reaction furnace becomes unstable, and the composition and film thickness of the obtained crystal become uneven. Further, when the liquid raw material 2 is consumed and the liquid level drops, the vaporization of the liquid raw material 2 into the bubbles becomes insufficient, and the raw material is supplied to the reaction furnace before reaching the saturated vapor pressure in the bubbles. There is a problem that it is difficult to accurately grasp the molar concentration of gas. Further, when the liquid raw material 2 having a high saturated vapor pressure is used, there is a problem that the raw material gas is supplied to the reaction furnace with insufficient vaporization into bubbles.

【0005】この発明は、上記のような問題点を解決す
ることを課題としてなされたものであり、原料ガスの反
応炉内への供給の安定化を図ることができ、さらに、限
られたバブラーの空間内で液体原料の蒸気化の効率を高
めることができる液体バブリング装置を得ることを目的
とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and can stabilize the supply of the raw material gas into the reaction furnace, and further has a limited bubbler. An object of the present invention is to obtain a liquid bubbling device capable of increasing the efficiency of vaporization of a liquid raw material in the space.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る液
体バブリング装置は、バブラー内部を上下方向の複数の
部屋に分割してガスの気泡を小さく分割するような水平
板を、バブラー内に設けたものである。
In the liquid bubbling apparatus according to the invention of claim 1, a horizontal plate which divides the inside of the bubbler into a plurality of vertical chambers to divide gas bubbles into small chambers is provided in the bubbler. It is provided.

【0007】請求項2の発明に係る液体バブリング装置
は、液体原料の液面を一定に保つための液面調整容器
を、液体原料を充填させた部屋の何れかの部屋に導管に
よって接続したものである。
In the liquid bubbling apparatus according to the second aspect of the present invention, a liquid level adjusting container for keeping the liquid surface of the liquid raw material constant is connected by a conduit to any one of the chambers filled with the liquid raw material. Is.

【0008】請求項3の発明に係る液体バブリング装置
は、バブラー内を垂直板により横方向の複数の室に分割
し、分割された上流側の室の上部と下流側の室の下部と
の間を連通管により連通し、バブラーを多段重ね構造に
したものである。
In the liquid bubbling apparatus according to the third aspect of the present invention, the inside of the bubbler is divided into a plurality of lateral chambers by a vertical plate, and the upper chamber of the upstream chamber and the lower chamber of the downstream chamber are divided. Is connected by a communication pipe, and the bubbler has a multi-layered structure.

【0009】[0009]

【作用】この発明においては、バブラー内に設けた水平
板によってバブリング用ガスの気泡は分割され小さくな
る。従って、原料ガスの圧力変動が小さくなる。また、
気泡を小さく分割することによって、バブラー中で気泡
が液体原料に接する全表面積の気泡の全体積に対する比
率が大きくなり、液体原料が気泡中に蒸気化する効率が
向上する。さらに、バブラー内の液体原料の液面を一定
に保つことにより、気泡が液体原料と作用する行程が一
定となる。
In the present invention, the bubbles of the bubbling gas are divided and reduced by the horizontal plate provided in the bubbler. Therefore, the pressure fluctuation of the source gas is reduced. Also,
By dividing the bubbles into small parts, the ratio of the total surface area of the bubbles contacting the liquid raw material in the bubbler to the total volume of the bubbles is increased, and the efficiency of vaporizing the liquid raw material into the bubbles is improved. Further, by keeping the liquid surface of the liquid raw material in the bubbler constant, the process in which the bubbles act on the liquid raw material becomes constant.

【0010】[0010]

【実施例】【Example】

実施例1.図1はこの発明の一実施例による液体バブリ
ング装置を示した断面図である。符号1,2,3,4は
上記従来装置と同様のものである。図において、バブラ
ー1内には、気体のみを選択的に通すような多孔質材料
を用いた水平板5が設けられている。この水平板5によ
って、バブラー1の内部は上下2部屋に分割されてい
る。
Example 1. FIG. 1 is a sectional view showing a liquid bubbling device according to an embodiment of the present invention. Reference numerals 1, 2, 3 and 4 are the same as those of the conventional device. In the figure, in a bubbler 1, a horizontal plate 5 made of a porous material that allows only gas to pass selectively is provided. The horizontal plate 5 divides the inside of the bubbler 1 into upper and lower two chambers.

【0011】上記のように構成された液体バブリング装
置においては、液体原料2とバブリング用ガス導入管3
との間に多孔質材料を用いた水平板5(仕切板)を設け
ることにより、バブリング用ガスが非常に小さい気泡に
分割された後、液体原料2中に供給される。従って、原
料ガスの連続した安定供給が可能となり、また気泡の全
体積に対する全表面積(気泡が液体原料2に接する面
積)の比率が大きくなるため、液体原料2が気泡中に蒸
気化する効率も高くなる。これらの結果、反応炉への原
料ガスの供給を安定化することができ、得られる結晶の
組成,膜厚を均一化することができる。
In the liquid bubbling apparatus constructed as described above, the liquid raw material 2 and the bubbling gas introduction pipe 3 are provided.
By providing a horizontal plate 5 (partition plate) made of a porous material between and, the bubbling gas is divided into very small bubbles and then supplied into the liquid raw material 2. Therefore, continuous and stable supply of the raw material gas is possible, and the ratio of the total surface area (the area where the bubbles are in contact with the liquid raw material 2) to the total volume of the bubbles is large, so that the efficiency of vaporizing the liquid raw material 2 into the bubbles is also increased. Get higher As a result, the supply of the raw material gas to the reaction furnace can be stabilized, and the composition and film thickness of the obtained crystal can be made uniform.

【0012】実施例2.上記実施例1では多孔質材料を
用いた水平板5をバブラー1内の液体原料2とバブリン
グ用ガス導入管3との間に1枚設けたが、この実施例2
は、実施例1に加え、図2に示すように、液体原料2上
部と原料ガス導出管4との間に多孔質材料を用いた上部
水平板6を設けたものである。上部水平板6を挟んだ上
部と下部とは小穴で連通されており、この小穴から気泡
が上部に抜け出さないように小穴周辺は防護板7で囲ま
れている。
Example 2. In Example 1 described above, one horizontal plate 5 made of a porous material was provided between the liquid raw material 2 in the bubbler 1 and the gas introduction pipe 3 for bubbling.
In addition to the first embodiment, as shown in FIG. 2, an upper horizontal plate 6 made of a porous material is provided between the upper part of the liquid raw material 2 and the raw material gas outlet pipe 4. The upper part and the lower part sandwiching the upper horizontal plate 6 are communicated with each other through a small hole, and the periphery of the small hole is surrounded by a protective plate 7 so that air bubbles do not escape to the upper part from this small hole.

【0013】水平板5で小さく分割された気泡は、液面
に上っていくと気泡どうしが結合する効果、および気泡
にかかる圧力が減少し気泡が膨張する効果によって、次
第に大きくなっていく。しかし、この実施例2では、上
部水平板6を設けたことによって、大きくなった気泡は
再分割される。従って、原料ガスの圧力変動が小さくな
り、原料ガスの安定供給が可能になる。
The bubbles divided into small pieces by the horizontal plate 5 gradually become larger due to the effect that the bubbles are combined with each other as they rise to the liquid surface and the effect that the pressure applied to the bubbles is reduced and the bubbles expand. However, in the second embodiment, since the upper horizontal plate 6 is provided, the bubbles that have grown are redivided. Therefore, the pressure fluctuation of the raw material gas becomes small and the stable supply of the raw material gas becomes possible.

【0014】実施例3.図3は気泡を分割する水平板
(仕切板)として、気泡の大きさと比較して十分小さい
多数の小穴を設けたじゃま板8を用いたもので、このよ
うなじゃま板8をバブラー1内の液体原料2中に設ける
ことにより、気泡は十分に小さく分割され、実施例1と
同様の効果が期待される。
Example 3. FIG. 3 shows a baffle plate 8 provided with a large number of small holes which are sufficiently smaller than the size of bubbles as a horizontal plate (partition plate) for dividing bubbles. By providing in the liquid raw material 2, the bubbles are divided into sufficiently small parts, and the same effect as that of the first embodiment is expected.

【0015】実施例4.この実施例4は、上記実施例1
に加え、図4に示すように、多孔質材料を用いた上蓋
9、水平板5と上蓋9とに挟まれた部屋に導管で接続さ
れた液面調整容器10、および液面調整容器10上部に
設置され、液面調整容器10に導管で接続された液体原
料溜め11を設けたものである。バブラー1内は、上蓋
9によってバブリング用ガス導入管3側と原料ガス導出
管4側とに隙間なく区分されており、水平板5と上蓋9
に挟まれたバブラー1内は液面調整容器10、液体原料
溜め11とともに液体原料2で充填されている。液体原
料溜め11の底部は、上蓋9の下部より高い位置に設置
する。
Example 4. The fourth embodiment is the same as the first embodiment.
In addition, as shown in FIG. 4, an upper lid 9 made of a porous material, a liquid level adjusting container 10 connected by a conduit to a room sandwiched between the horizontal plate 5 and the upper lid 9, and an upper part of the liquid level adjusting container 10 And a liquid raw material reservoir 11 connected to the liquid level adjusting container 10 by a conduit. The bubbler 1 is divided into a bubbling gas introduction pipe 3 side and a source gas discharge pipe 4 side by an upper lid 9 without any gap, and the horizontal plate 5 and the upper lid 9 are separated.
The inside of the bubbler 1 sandwiched between the liquid level adjusting container 10 and the liquid source reservoir 11 is filled with the liquid source 2. The bottom of the liquid raw material reservoir 11 is installed at a position higher than the lower portion of the upper lid 9.

【0016】このような構成により、バブリングを長時
間行うとバブラー1内の液体原料2が消費されるが、液
体原料溜め11に液体原料2がある限り常に補給され、
バブラー1内の液体原料2の液面高さは常に一定に保た
れる。従って気泡が液体原料2中を通る行程が常に一定
となり、時間の経過に拘わらず安定した原料ガスの供給
が可能となる。
With such a structure, the liquid raw material 2 in the bubbler 1 is consumed when bubbling is performed for a long time, but as long as the liquid raw material 2 is in the liquid raw material reservoir 11, it is constantly replenished,
The liquid level of the liquid raw material 2 in the bubbler 1 is always kept constant. Therefore, the process in which the bubbles pass through the liquid raw material 2 is always constant, and the stable supply of the raw material gas is possible regardless of the passage of time.

【0017】実施例5.この実施例5は、上記実施例1
に加え、図5に示すように、液面調整容器10、液体原
料溜め11および液面調整容器10内の液体原料の液面
に浮かぶ液面調整フロート12を設けたものである。液
面調整フロート12の材質としては比重が液体原料2と
比較して十分小さいものを選び、液面調整フロート12
に浮力がかかるようにする。
Embodiment 5. The fifth embodiment is the same as the first embodiment.
In addition to this, as shown in FIG. 5, a liquid level adjusting container 10, a liquid raw material reservoir 11, and a liquid level adjusting float 12 floating on the liquid surface of the liquid raw material in the liquid level adjusting container 10 are provided. As the material of the liquid level adjusting float 12, a material having a specific gravity sufficiently smaller than that of the liquid raw material 2 is selected, and the liquid level adjusting float 12 is selected.
Make sure that buoyancy is applied to.

【0018】また、液面調整容器10中には空間を残さ
ず液体原料2を充填し、液面調整容器10と液体原料溜
め11を結ぶ導管の内径は液面調整フロート12の径と
比較して十分小さくする。これにより、液面調整フロー
ト12は浮力により液面調整容器10の上部に押し付け
られ、液面調整容器10と液体原料溜め11とは弱く遮
断される。さらに、バブラー1内の液面高さは、液面調
整容器10内の液面調整フロート12の下端の位置より
高くなるよう設定しているが、バブラー1内の液体原料
の液面高さと液体原料溜め11の液面高さの差がhで液
面調整フロート12にかかる力がつりあっているとす
る。
Further, the liquid level adjusting container 10 is filled with the liquid raw material 2 without leaving a space, and the inner diameter of the conduit connecting the liquid level adjusting container 10 and the liquid raw material reservoir 11 is compared with the diameter of the liquid level adjusting float 12. And make it small enough. As a result, the liquid level adjusting float 12 is pressed against the upper part of the liquid level adjusting container 10 by buoyancy, and the liquid level adjusting container 10 and the liquid raw material reservoir 11 are weakly shut off from each other. Further, although the liquid level height in the bubbler 1 is set higher than the position of the lower end of the liquid level adjusting float 12 in the liquid level adjusting container 10, the liquid level height of the liquid raw material in the bubbler 1 and the liquid level It is assumed that the difference in the liquid level height of the raw material reservoir 11 is h and the forces applied to the liquid level adjusting float 12 are balanced.

【0019】いま、バブリングを長時間おこなったとす
ると、バブラー1内の液体原料2が消費され、バブラー
1内の液面が降下する。すると、バブラー1内液面高さ
と液体原料溜め11の液面高さの差が大きくなり、液面
調整フロート12にかかる鉛直下向きの力が大きくなっ
て液面調整フロート12は降下する。すると液体原料溜
め11から液面調整容器10に液体原料2が流れ込み、
液面高さの差が再びhとなって安定する。
If bubbling is performed for a long time, the liquid raw material 2 in the bubbler 1 is consumed and the liquid level in the bubbler 1 drops. Then, the difference between the liquid level inside the bubbler 1 and the liquid level of the liquid raw material reservoir 11 becomes large, and the vertically downward force applied to the liquid level adjusting float 12 becomes large, and the liquid level adjusting float 12 descends. Then, the liquid raw material 2 flows from the liquid raw material reservoir 11 into the liquid level adjusting container 10,
The difference in liquid level height becomes h again and stabilizes.

【0020】このとき、バブラー1内の液面高さは、液
体原料2が消費され液体原料総量が減少したことにより
やや下降するが、液体原料溜め11の水平断面積を十分
大きくすると液体原料溜め11の液面の変化は非常に小
さくなるため、バブラー1内の液面高さの変化も非常に
小さくなる。従って、気泡が液体原料2中を通る行程は
時間の経過にかかわらずほぼ一定で、さらに安定した原
料ガスの供給が可能となる。
At this time, the liquid level in the bubbler 1 is slightly lowered due to the consumption of the liquid raw material 2 and a decrease in the total amount of the liquid raw material. However, if the horizontal cross-sectional area of the liquid raw material reservoir 11 is made large enough, Since the change in the liquid level of 11 is very small, the change in the liquid level in the bubbler 1 is also very small. Therefore, the process in which the bubbles pass through the liquid raw material 2 is substantially constant regardless of the passage of time, and it becomes possible to supply the raw material gas more stably.

【0021】また、従来の液体バブリング装置では、長
期間使用するうちにバブラー1の内壁が原料ガスの吸着
によって曇るため、外部からの正確な液面の把握が困難
で、消費分の液体原料2を供給しバブラー1内の液面高
さを一定にすることが困難であった。しかし、この構造
の液体バブリング装置では、バブラー1内の液面高さを
液体原料溜め11の液面高さで調整できるため、液体原
料溜め11の液面高さが一定になるよう液体原料2の供
給に留意することにより、バブラー1内の液面高さを常
時一定にすることが可能である。
Further, in the conventional liquid bubbling apparatus, since the inner wall of the bubbler 1 becomes cloudy due to the adsorption of the raw material gas during long-term use, it is difficult to accurately grasp the liquid level from the outside, and the consumed liquid raw material 2 It was difficult to supply the liquid to make the liquid level inside the bubbler 1 constant. However, in the liquid bubbling device having this structure, since the liquid surface height in the bubbler 1 can be adjusted by the liquid surface height of the liquid raw material reservoir 11, the liquid raw material 2 is adjusted so that the liquid surface height of the liquid raw material reservoir 11 becomes constant. It is possible to keep the liquid level inside the bubbler 1 constant by paying attention to the supply of the liquid.

【0022】実施例6.図6に示す液体バブリング装置
は、バブラー1内を垂直板13によって横方向の第1室
14と第2室15の2つの小室に分割したもので、第1
室14からの導出管16と第2室15への導入管17と
は接続されている。また、導出管16および導入管17
により連通管18が構成されている。
Embodiment 6. The liquid bubbling apparatus shown in FIG. 6 is one in which the inside of the bubbler 1 is divided by a vertical plate 13 into two lateral chambers, a first chamber 14 and a second chamber 15.
The outlet pipe 16 from the chamber 14 and the inlet pipe 17 to the second chamber 15 are connected. In addition, the outlet pipe 16 and the inlet pipe 17
The communication pipe 18 is constituted by.

【0023】このような構成により、バブリング用ガス
導入管3より供給されたバブリング用ガスは、実施例1
と同様に多孔質材料を用いた水平板5によって小さな気
泡に分割された後、液体原料2中に供給され、原料ガス
として導出管16より出る。この原料ガスは、第1室1
4からの導出管16とつながった第2室15への導入管
17より再びバブラー1内(第2室15)に供給され
る。このガスは、上記の過程を再び経た後、原料ガス供
給導出管4より反応炉に供給される。
With such a structure, the bubbling gas supplied from the bubbling gas introducing pipe 3 is the same as that in the first embodiment.
Similarly to the above, after being divided into small bubbles by the horizontal plate 5 using a porous material, they are supplied into the liquid raw material 2 and exit from the outlet pipe 16 as a raw material gas. This source gas is used in the first chamber 1
It is supplied again into the bubbler 1 (second chamber 15) from the introduction pipe 17 to the second chamber 15 connected to the outlet pipe 16 from 4. After passing through the above process again, this gas is supplied to the reaction furnace through the raw material gas supply and discharge pipe 4.

【0024】また、水平板5上部と垂直板13下部との
間に隙間を設け、さらに実施例4に記述した上蓋9、液
面調整容器10、液体原料溜め11を設けることによ
り、各室14,15の液面高さは常に一定に保たれる。
なお、各室の液面高さを一定に保つ方法としては、実施
例5に記述した方法でもよいことは言うまでもない。
Further, a space is provided between the upper portion of the horizontal plate 5 and the lower portion of the vertical plate 13, and the upper lid 9, the liquid level adjusting container 10 and the liquid raw material reservoir 11 described in the fourth embodiment are provided, whereby each chamber 14 is provided. , 15 is always kept constant.
Needless to say, the method described in Example 5 may be used as a method for keeping the liquid level in each chamber constant.

【0025】このようにバブリングの過程を2段設ける
ことによって、バブリング用ガスの液体原料中を透過す
る行程が2倍になり、限られたバブラー1内の空間で液
体原料2の蒸気化の効率を高めることが可能になる。
By providing the bubbling process in two stages in this way, the process of passing the bubbling gas through the liquid raw material is doubled, and the vaporization efficiency of the liquid raw material 2 in the limited space in the bubbler 1 is increased. Can be increased.

【0026】なお、この実施例6ではバブラー1内を2
室に分割したが、垂直板を複数枚設けて小室の数を増や
し、バブリングの過程をさらに多段設けることによりこ
の効果は一層大きくなる。また、水平板及び垂直板は、
それぞれバブラー内を上下方向及び横方向に分割できれ
ばよく、完全な水平又は垂直に配置しなくてもよい。
In the sixth embodiment, the bubbler 1 has 2
Although it is divided into chambers, this effect is further enhanced by providing a plurality of vertical plates to increase the number of small chambers and providing more bubbling steps. Also, the horizontal and vertical plates are
It suffices if the inside of the bubbler can be divided vertically and horizontally, and it is not necessary to arrange the bubblers completely horizontally or vertically.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明の
液体バブリング装置は、バブラー内部を上下方向の複数
の部屋に分割してガスの気泡を小さく分割するような水
平板を、バブラー内に設けたので、原料ガスの連続した
安定供給が可能となり、また液体原料の蒸気化の効率が
高くなり、この結果反応炉への原料ガスの供給を安定化
することができ、結晶の組成,膜厚を均一化することが
できるなどの効果を奏する。
As described above, in the liquid bubbling apparatus according to the first aspect of the present invention, the horizontal plate that divides the inside of the bubbler into a plurality of vertical chambers to divide the gas bubbles into small chambers is provided in the bubbler. Since it is provided in the above, it is possible to continuously and stably supply the raw material gas, and the efficiency of vaporizing the liquid raw material is increased. As a result, the supply of the raw material gas to the reaction furnace can be stabilized, and the composition of the crystal, There is an effect that the film thickness can be made uniform.

【0028】また、請求項2の発明の液体バブリング装
置は、液体原料の液面を一定に保つための液面調整容器
を、液体原料を充填させた部屋の何れかの部屋に導管に
よって接続したので、上記請求項1の発明の効果に加え
て、液体原料の消費量に拘わらずバブリングの過程を常
に一定にすることができ、原料ガスの供給をさらに安定
化することができるという効果を奏する。
Further, in the liquid bubbling apparatus of the second aspect of the invention, the liquid level adjusting container for keeping the liquid surface of the liquid raw material constant is connected to any one of the chambers filled with the liquid raw material by a conduit. Therefore, in addition to the effect of the invention of claim 1, the bubbling process can always be made constant regardless of the consumption amount of the liquid raw material, and the supply of the raw material gas can be further stabilized. ..

【0029】さらに、請求項3の発明の液体バブリング
装置は、バブラー内を垂直板により横方向の複数の室に
分割し、分割された上流側の室の上部と下流側の室の下
部との間を連通管により連通し、バブラーを多段重ね構
造にしたので、上記請求項1の発明の効果に加えて、液
体原料の気泡中への蒸気化の効率をさらに向上させるこ
とができるという効果を奏する。
Further, in the liquid bubbling apparatus of the third aspect of the present invention, the inside of the bubbler is divided by a vertical plate into a plurality of lateral chambers, and the upper chamber of the upstream side and the lower chamber of the divided chamber are divided. Since the bubblers are connected to each other by a communication pipe and the bubbler has a multi-layered structure, in addition to the effect of the invention of claim 1, the effect of further improving the efficiency of vaporization of the liquid raw material into the bubbles can be obtained. Play.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】請求項1の発明の一実施例による液体バブリン
グ装置を示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a liquid bubbling device according to an embodiment of the invention of claim 1. FIG.

【図2】請求項1の発明の他の実施例による液体バブリ
ング装置を示す構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram showing a liquid bubbling device according to another embodiment of the invention of claim 1.

【図3】請求項1の発明のさらに他の実施例による液体
バブリング装置を示す構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram showing a liquid bubbling device according to still another embodiment of the invention of claim 1.

【図4】請求項2の発明の一実施例による液体バブリン
グ装置を示す構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram showing a liquid bubbling device according to an embodiment of the invention of claim 2.

【図5】請求項2の発明の他の実施例による液体バブリ
ング装置を示す構成図である。
FIG. 5 is a configuration diagram showing a liquid bubbling device according to another embodiment of the invention of claim 2.

【図6】請求項2および請求項3の発明の一実施例によ
る液体バブリング装置を示す構成図である。
FIG. 6 is a configuration diagram showing a liquid bubbling device according to an embodiment of the inventions of claims 2 and 3.

【図7】従来の液体バブリング装置の一例を示す構成図
である。
FIG. 7 is a configuration diagram showing an example of a conventional liquid bubbling device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 バブラー 2 液体原料 3 バブリング用ガス導入管 4 原料ガス導出管 5 水平板 6 上部水平板 8 じゃま板(水平板) 10 液面調整容器 13 垂直板 14 第1室 15 第2室 18 連通管 1 Bubbler 2 Liquid Raw Material 3 Bubbling Gas Inlet Pipe 4 Raw Material Gas Outlet Pipe 5 Horizontal Flat Plate 6 Upper Horizontal Plate 8 Baffle Plate (Horizontal Plate) 10 Liquid Level Adjusting Container 13 Vertical Plate 14 First Chamber 15 Second Chamber 18 Communication Pipe

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液体原料を収容するバブラーと、このバ
ブラーに接続され、上記液体原料中にバブリング用ガス
を導入するバブリング用ガス導入管と、上記バブラーに
接続され、上記バブラー内から原料ガスを導出する原料
ガス導出管と、上記バブラー内を上下方向の複数の部屋
に分割するように設けられ、上記バブリング用ガス導入
管からの気泡を小さく分割するための多数の小穴を有す
る水平板とを備えていることを特徴とする液体バブリン
グ装置。
1. A bubbler for containing a liquid raw material, a bubbler gas introduction pipe connected to the bubbler for introducing a bubbling gas into the liquid raw material, and a bubbler connected to the bubbler for feeding the raw material gas from the inside of the bubbler. A raw material gas outlet pipe to be led out, and a horizontal plate provided so as to divide the inside of the bubbler into a plurality of chambers in the vertical direction, and a horizontal plate having a large number of small holes for dividing bubbles from the bubbling gas inlet pipe into small chambers. A liquid bubbling device characterized by being provided.
【請求項2】 液体原料を収容するバブラーと、このバ
ブラーに接続され、上記液体原料中にバブリング用ガス
を導入するバブリング用ガス導入管と、上記バブラーに
接続され、上記バブラー内から原料ガスを導出する原料
ガス導出管と、上記バブラー内を上下方向の複数の部屋
に分割するように設けられ、上記バブリング用ガス導入
管からの気泡を小さく分割するための多数の小穴を有す
る水平板と、上記液体原料を充填させた部屋の何れかの
部屋に導管によって接続され、上記液体原料の液面を一
定に保つための液面調整容器とを備えていることを特徴
とする液体バブリング装置。
2. A bubbler containing a liquid raw material, a bubbler gas introducing pipe connected to the bubbler for introducing a bubbling gas into the liquid raw material, and a bubbler connected to the bubbler to feed the raw material gas from the inside of the bubbler. A raw material gas outlet pipe to be led out, a horizontal plate provided so as to divide the inside of the bubbler into a plurality of chambers in the vertical direction, and a horizontal plate having a large number of small holes for dividing the bubbles from the bubbling gas inlet pipe into small chambers, A liquid bubbling device, comprising: a liquid level adjusting container which is connected to any one of the chambers filled with the liquid raw material by a conduit and keeps the liquid surface of the liquid raw material constant.
【請求項3】 液体原料を収容するバブラーと、このバ
ブラーに接続され、上記液体原料中にバブリング用ガス
を導入するバブリング用ガス導入管と、上記バブラーに
接続され、上記バブラー内から原料ガスを導出する原料
ガス導出管と、上記バブラー内を上下方向の複数の部屋
に分割するように設けられ、上記バブリング用ガス導入
管からの気泡を小さく分割するための多数の小穴を有す
る水平板と、上記バブラー内を横方向の複数の室に分割
するように設けられた垂直板と、この垂直板により分割
された上流側の室の上部と下流側の室の下部との間を連
通する連通管とを備えていることを特徴とする液体バブ
リング装置。
3. A bubbler containing a liquid raw material, a bubbler gas introduction pipe connected to the bubbler for introducing a bubbling gas into the liquid raw material, and a bubbler connected to the bubbler for feeding the raw material gas from the inside of the bubbler. A raw material gas outlet pipe to be led out, a horizontal plate provided so as to divide the inside of the bubbler into a plurality of chambers in the vertical direction, and a horizontal plate having a large number of small holes for dividing bubbles from the bubbling gas inlet pipe into small chambers, A vertical plate provided so as to divide the inside of the bubbler into a plurality of lateral chambers, and a communication pipe communicating between an upper part of the upstream chamber and a lower part of the downstream chamber divided by the vertical plate. A liquid bubbling device comprising:
JP14267392A 1992-06-03 1992-06-03 Liquid bubbling apparatus Pending JPH05335243A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14267392A JPH05335243A (en) 1992-06-03 1992-06-03 Liquid bubbling apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14267392A JPH05335243A (en) 1992-06-03 1992-06-03 Liquid bubbling apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05335243A true JPH05335243A (en) 1993-12-17

Family

ID=15320850

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14267392A Pending JPH05335243A (en) 1992-06-03 1992-06-03 Liquid bubbling apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05335243A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008150709A (en) * 2006-12-15 2008-07-03 Air Products & Chemicals Inc Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel
WO2013002567A2 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 (주)그랜드텍 Bubbler for compound vaporization using carrier gas
JP2015007286A (en) * 2009-03-11 2015-01-15 レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード Bubbling supply system for stable precursor supply
JP2016208026A (en) * 2015-04-18 2016-12-08 エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated Vessel and method for delivery of precursor materials
WO2022059507A1 (en) * 2020-09-15 2022-03-24 東京エレクトロン株式会社 Raw material supply device and raw material supply method

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008150709A (en) * 2006-12-15 2008-07-03 Air Products & Chemicals Inc Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel
US8708320B2 (en) 2006-12-15 2014-04-29 Air Products And Chemicals, Inc. Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel
US9435027B2 (en) 2006-12-15 2016-09-06 Air Products And Chemicals, Inc. Splashguard and inlet diffuser for high vacuum, high flow bubbler vessel
JP2015007286A (en) * 2009-03-11 2015-01-15 レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード Bubbling supply system for stable precursor supply
WO2013002567A2 (en) * 2011-06-30 2013-01-03 (주)그랜드텍 Bubbler for compound vaporization using carrier gas
WO2013002567A3 (en) * 2011-06-30 2013-04-11 (주)그랜드텍 Bubbler for compound vaporization using carrier gas
JP2016208026A (en) * 2015-04-18 2016-12-08 エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated Vessel and method for delivery of precursor materials
US10443128B2 (en) 2015-04-18 2019-10-15 Versum Materials Us, Llc Vessel and method for delivery of precursor materials
WO2022059507A1 (en) * 2020-09-15 2022-03-24 東京エレクトロン株式会社 Raw material supply device and raw material supply method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2384652C2 (en) Bubbler for constant delivery of vapour of solid chemical
JP5726831B2 (en) Apparatus and method for chemical vapor deposition
JP2002083777A (en) Bubbler
EP2418300B1 (en) Delivery device and method of use thereof
JP2001115263A (en) Bubbler having two frits
JPH05335243A (en) Liquid bubbling apparatus
US20050249873A1 (en) Apparatuses and methods for producing chemically reactive vapors used in manufacturing microelectronic devices
KR20050008456A (en) Method and container for filling solid organometallic compound
US4616596A (en) Electroless plating apparatus
JP4571787B2 (en) Filling container for solid organometallic compound and filling method thereof
RU2439215C2 (en) Reservoir of source for vpe-reactor
KR101219438B1 (en) Canister for producing semiconductor
JP3909022B2 (en) Filling container for solid organometallic compounds
KR101003304B1 (en) Canister for a semiconductor manufacturing process
JPH06196414A (en) Gas supplying device for vapor growth
JPH04243535A (en) Material supply device
KR200419924Y1 (en) Substrate processing equipment
KR200419811Y1 (en) Substrate processing apparatus
JPS61183195A (en) Vessel for liquid starting material
JP2011044630A (en) Diffusion device
JPH02302025A (en) Vapor epitaxial growth apparatus
JPH0717333U (en) Vaporizer for volatile raw materials
JPS62295416A (en) Manufacture of semiconductor integrated circuit