JP5889561B2 - 水系金属表面処理剤及び表面皮膜付き金属材料 - Google Patents
水系金属表面処理剤及び表面皮膜付き金属材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5889561B2 JP5889561B2 JP2011157014A JP2011157014A JP5889561B2 JP 5889561 B2 JP5889561 B2 JP 5889561B2 JP 2011157014 A JP2011157014 A JP 2011157014A JP 2011157014 A JP2011157014 A JP 2011157014A JP 5889561 B2 JP5889561 B2 JP 5889561B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- iii
- compound
- surface treatment
- acid
- metal surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D175/04—Polyurethanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
本発明は、金属材料とラミネートフィルム又は樹脂塗膜とが剥離することを防ぐことができる密着性及び耐薬品密着維持性に優れた表面処理皮膜を形成するための水系金属表面処理剤、及びその金属表面処理剤で処理してなる金属材料に関する。詳しくは、金属材料に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、そのラミネートフィルム等が剥離しないような高い密着性を付与することができ、さらに酸等に曝されても高い密着性を維持し得る耐薬品密着維持性に優れた６価クロムフリー表面処理皮膜を形成するための水系金属表面処理剤等に関する。
ラミネート加工は、樹脂製のフィルム（以下、「樹脂フィルム」又は「ラミネートフィルム」という。）を金属材料の表面（以下、単に「金属表面」ともいう。）に加熱圧着する加工手段であり、金属表面を保護すること又は意匠性を付与することを目的とした金属表面の被覆方法の一つであり、様々な分野で使用されている。このラミネート加工は、樹脂組成物を溶媒中に溶解又は分散させたものを金属表面に塗布乾燥することによって樹脂塗膜を形成する方法に比べ、乾燥時に発生する溶剤や二酸化炭素等の廃棄ガス又は温暖化ガスの発生量が少ない。そのため、環境保全の面において好ましく適用され、その用途は拡大し、例えば、アルミニウム薄板材、スチール薄板材、包装用アルミニウム箔又はステンレス箔等を素材とした食品用缶のボディー若しくは蓋材、食品用容器、又は、乾電池容器等に用いられている。
特に最近では、携帯電話、電子手帳、ノート型パソコン又はビデオカメラ等に用いられるモバイル用リチウムイオン２次電池の外装材及びタブリード材として、軽量でバリアー性の高いアルミニウム箔又はステンレス箔等の金属箔が好ましく用いられており、こうした金属箔の表面にラミネート加工が適用されている。また、電気自動車又はハイブリッド自動車の駆動エネルギーとしてリチウムイオン２次電池が検討されているが、その外装材としても、ラミネート加工した金属箔が検討されている。
こうしたラミネート加工に用いるラミネートフィルムは、直接金属材料に貼り合わせた後に加熱圧着する。そのため、樹脂組成物を塗布乾燥してなる一般的な樹脂塗膜に比べて原材料のムダを抑制できる、ピンホール（欠陥部）が少ない、及び加工性が優れる、等の利点がある。ラミネートフィルムの材料としては、一般に、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィンが用いられている。
金属表面に化成処理等の処理を施さないでラミネート加工を行うと、金属表面からラミネートフィルムが剥離したり、金属材料に腐食が生じたりするという問題がある。例えば、食品用容器又は包材においては、ラミネート加工した後の容器又は包材に内容物を加えた後に殺菌を目的とした加熱処理を施すが、その加熱処理時に金属表面からラミネートフィルムが剥離することがある。また、リチウムイオン２次電池の外装材等においては、その製造工程で加工度の高い加工を受ける。さらに、長期使用されると、大気中の水分が容器内に浸入し、これが電解液と反応してフッ化水素酸を生成し、これがラミネートフィルムを透過して金属表面とラミネートフィルムとの剥離を発生させるとともに、金属表面を腐食するという問題がある。
こうした問題に対し、ラミネートフィルムを金属表面にラミネート加工する際、ラミネートフィルムと金属表面との密着性及び金属表面の耐食性を向上させるために、金属表面を脱脂洗浄した後、通常、リン酸クロメート等の化成処理等が施される。しかしながら、こうした化成処理は、処理した後に余剰の処理液を除去するための洗浄工程が必要であり、その洗浄工程から排出される洗浄水の廃水処理にコストがかかる。特にリン酸クロメート等の化成処理等は６価クロムを含む処理液が用いられるので、近年の環境的配慮から敬遠される傾向にある。
例えば、特許文献１では、特定量の水溶性ジルコニウム化合物と、特定構造の水溶性又は水分散性アクリル樹脂と、水溶性又は水分散性熱硬化型架橋剤とを含有する下地処理剤が提案されている。また、特許文献２では、特定量の水溶性ジルコニウム化合物及び／又は水溶性チタン化合物と、有機ホスホン酸化合物と、タンニンとからなるノンクロム金属表面処理剤が提案されている。また、特許文献３では、アミノ化フェノール重合体と、Ｔｉ及びＺｒ等の特定の金属化合物とを含有し、ｐＨが１．５〜６．０の範囲である金属表面処理薬剤が提案されている。また、特許文献４では、アミノ化フェノール重合体と、アクリル系重合体と、金属化合物と、さらに必要に応じてリン化合物とを含有する樹脂膜が提案されている。
しかし、特許文献２〜４に記載の表面処理被膜付きのアルミニウム箔を、特にリチウムイオン２次電池のラミネート外装材に用いた場合には、前記のように、電解液中の高腐食環境下では、金属表面とラミネートフィルムとの間の高い密着維持性が満足できていない。
本発明の目的は、金属材料とラミネートフィルム又は樹脂塗膜とが剥離することを防ぐことができる密着性及び耐薬品密着維持性に優れた表面処理皮膜を形成するための水系金属表面処理剤を提供すること及びその金属表面処理剤で処理してなる金属材料を提供することにある。詳しくは、金属材料に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、そのラミネートフィルム又は樹脂塗膜が剥離しないような高い密着性を有するとともに、酸等に曝されても高い密着性を維持し得る耐薬品密着維持性に優れた６価クロムフリー表面処理皮膜を形成するための金属表面処理剤を提供すること及びその金属表面処理剤で処理してなる金属材料を提供することにある。
上記課題を解決するため本発明に係る水系金属表面処理剤は、２個以上のブロック化イソシアネート基を含有するポリイソシアネート化合物（Ａ）を含有することを特徴とする。
この発明によれば、上記したポリイソシアネート化合物（Ａ）を含有するので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は高い密着性を有するとともに、酸等に曝されても高い密着性を維持することができる。その結果、金属材料に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに酸や有機溶剤等に曝された場合であっても、そのラミネートフィルム又は樹脂塗膜が金属材料から剥離することを防ぐことができる。
本発明に係る水系金属表面処理剤において、前記イソシアネート基と反応しうる官能基を有する架橋性有機化合物（Ｂ１）及び前記イソシアネート基と反応しうる元素を有する架橋性無機化合物（Ｂ２）から選ばれる１種又は２種以上の架橋性化合物（Ｂ）を含有し、前記架橋性化合物（Ｂ）の含有量の総計が、全固形分に対して、１０質量％〜８０質量％である。
この発明によれば、さらに架橋性化合物（Ｂ）を含有するので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜はより高い密着性を有するとともに、酸等に曝されてもより高い密着性を維持することができる。
本発明に係る水系金属表面処理剤において、前記架橋性有機化合物（Ｂ１）が有する官能基が、カルボキシル基、水酸基、カルボジイミド基及びグリシジルエーテル基から選ばれる１種又は２種以上であることが好ましい。
この発明によれば、架橋性有機化合物（Ｂ１）が上記した官能基を有するので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は、より密着性が優れ、また、有機溶剤や酸に曝されても長期間にわたってより安定した密着性を維持することができる。
本発明に係る水系金属表面処理剤において、前記架橋性有機化合物（Ｂ１）が、タンニンであることが好ましい。
本発明に係る水系金属表面処理剤において、前記架橋性無機化合物（Ｂ２）が、Ｍｇ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒ（III）、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｓｒ、Ｗ、Ｃｅ、Ｍｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｈｆ、Ｓｅ、Ｓｃ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｙ、Ｎｄ及びＬａから選ばれる１種又は２種以上の元素を含むことが好ましい。
この発明によれば、架橋性無機化合物（Ｂ２）が上記した元素を含むので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は、より密着性が優れ、また、有機溶剤や酸に曝されても長期間にわたってより安定した密着性を維持することができる。
本発明に係る水系金属表面処理剤において、前記ポリイソシアネート化合物（Ａ）が、重亜硫酸塩でブロックされたウレタンプレポリマーであることが好ましい。
本発明に係る水系金属表面処理剤において、前記ポリイソシアネート化合物（Ａ）の固形分質量をＭＡとし、前記架橋性化合物（Ｂ）の固形分質量をＭＢとしたとき、前記ポリイソシアネート化合物（Ａ）の固形分質量比［ＭＡ／（ＭＡ＋ＭＢ）］が０．５以上である。
この発明によれば、ポリイソシアネート化合物（Ａ）の固形分質量比が０．５以上であるので、そうした水系金属表面処理剤で処理してなる表面処理皮膜は、ポリイソシアネート化合物（Ａ）が持つ活性なイソシアネート同士の自己架橋により、また、架橋性化合物（Ｂ）を併用する場合には、ポリイソシアネート化合物（Ａ）が持つ活性なイソシアネートと架橋性化合物が持つ官能基との架橋反応により、緻密でバリアー性に優れたものとなる。その結果、その表面処理皮膜は密着性が優れ、また、有機溶剤や酸に曝されても長期間にわたってより安定した密着性を維持することができる。
上記課題を解決するための本発明に係る金属材料は、上記本発明に係る水系金属表面処理剤を、金属材料表面に塗布して形成された表面処理皮膜を有することを特徴とする。
本発明に係る水系金属表面処理剤によれば、少なくともポリイソシアネート化合物（Ａ）を含有する水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は高い密着性を有するとともに、酸等に曝されても高い密着性を維持することができる。その結果、金属材料に樹脂フィルムをラミネートし又は樹脂塗膜を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに酸や有機溶剤等に曝された場合であっても、そのラミネートフィルム又は樹脂塗膜が金属材料から剥離することを防ぐことができる。
本発明に係る金属材料によれば、上記本発明に係る水系金属表面処理剤を塗布して形成された表面処理皮膜を有するので、その表面処理皮膜を有する金属材料にラミネート加工を施し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、さらに酸等に曝された場合であっても、金属材料の表面に形成されたラミネートフィルム又は樹脂塗膜が剥離することを防ぐことができる。
以下、本発明に係る水系金属表面処理剤及びその金属表面処理剤を金属材料の表面に塗布して形成された表面処理皮膜を有する金属材料について説明する。なお、以下の説明及び図面の形態により本発明の技術的範囲が限定されるものではない。
［水系金属表面処理剤］
本発明に係る水系金属表面処理剤は、図１に示すように、基材である金属材料１（以下、「基材金属１」という。）の表面に、ラミネートフィルム又は樹脂塗膜３の下地用の表面処理皮膜２を形成するための処理剤である。その特徴は、２個以上のブロック化イソシアネート基を含有するポリイソシアネート化合物（Ａ）を含有することにある。「含有する」とは、水系金属表面処理剤中にポリイソシアネート化合物（Ａ）以外の化合物を含んでいてもよいことを意味している。そうした化合物としては、好ましくは、架橋性有機化合物（Ｂ１）及び架橋性無機化合物（Ｂ２）から選ばれる１種又は２種以上の架橋性化合物（Ｂ）であり、さらに必要に応じて、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、防菌防ばい剤、着色剤等を含有させてもよい。これらの化合物を、本発明の趣旨及び皮膜性能を損なわない範囲で含有することができる。
本発明に係る水系金属表面処理剤は、図１に示すように、基材である金属材料１（以下、「基材金属１」という。）の表面に、ラミネートフィルム又は樹脂塗膜３の下地用の表面処理皮膜２を形成するための処理剤である。その特徴は、２個以上のブロック化イソシアネート基を含有するポリイソシアネート化合物（Ａ）を含有することにある。「含有する」とは、水系金属表面処理剤中にポリイソシアネート化合物（Ａ）以外の化合物を含んでいてもよいことを意味している。そうした化合物としては、好ましくは、架橋性有機化合物（Ｂ１）及び架橋性無機化合物（Ｂ２）から選ばれる１種又は２種以上の架橋性化合物（Ｂ）であり、さらに必要に応じて、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、防菌防ばい剤、着色剤等を含有させてもよい。これらの化合物を、本発明の趣旨及び皮膜性能を損なわない範囲で含有することができる。
以下、本発明の構成を詳しく説明する。
（ポリイソシアネート化合物（Ａ））
ポリイソシアネート化合物（Ａ）は、２個以上のブロック化イソシアネート基を含有する化合物である。「ブロック化イソシアネート基を含有するポリイソシアネート化合物」は、水系金属表面処理剤中に存在する活性なイソシアネート基をブロック剤で不活性化してなる化合物であり、且つ熱反応性を利用する水系金属表面処理剤とすることができる化合物である。こうしたポリイソシアネート化合物を含有する水系金属表面処理剤は、安定性の点からも好ましい。
ポリイソシアネート化合物（Ａ）は、２個以上のブロック化イソシアネート基を含有する化合物である。「ブロック化イソシアネート基を含有するポリイソシアネート化合物」は、水系金属表面処理剤中に存在する活性なイソシアネート基をブロック剤で不活性化してなる化合物であり、且つ熱反応性を利用する水系金属表面処理剤とすることができる化合物である。こうしたポリイソシアネート化合物を含有する水系金属表面処理剤は、安定性の点からも好ましい。
また、このポリイソシアネート化合物が「２個以上のブロック化イソシアネート基」を含有することは、水を含む水系金属表面処理剤を塗布した後に加熱乾燥して表面処理皮膜を形成する際に、（ア）ブロック化が外れて脱炭酸して生成したアミン基とイソシアネート基との反応、又は、（イ）イソシアネートと反応し得るカルボキシル基、水酸基、カルボジイミド基、グリシジルエーテル基等の官能基とイソシアネート基との架橋反応により、高分子量化して緻密な表面処理皮膜を形成することができるという効果がある。
このポリイソシアネート化合物（Ａ）を含有する水系金属表面処理剤で形成した表面処理皮膜は、極性があるために初期密着性が得られるだけでなく、電解液等の薬品に存在する物質に対して難溶解性を示すことから耐薬品密着維持性を発現することができる。
ポリイソシアネート化合物としては、従来から慣用されている芳香族、脂肪族又は脂環族の有機ポリイソシアネートを使用することができる。具体的には、ナフタレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート（水添ＭＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等の有機ポリイソシアネート、又はこれらのビュレット化物、イソシアヌレート化物、カルボジイミド変性体、又はこれらの混合物等が挙げられる。
このポリイソシアネート化合物は、１分子当たり少なくとも２個以上の水酸基を有するポリオールに、過剰のポリイソシアネートを反応させ、２個以上の末端イソシアネート基を含有するプレポリマーとした後、ブロック化剤と反応させたウレタンプレポリマーであることが好ましい。
ウレタンプレポリマーは、末端イソシアネート基の数が３個〜４個がより好ましく、３個であることが特に好ましい。末端イソシアネート基の数が３個以上のウレタンポリマーは、３次元網目構造をとり、緻密な皮膜が形成されて電解液等の薬品に対して難溶性となり、耐薬品密着維持性を向上させることができる。
前記したポリオールとしては、例えば、１，３−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等の２価アルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリトリトール、トリメチロールプロパン、モノ、ジ、又はトリエタノールアミン、ジグリセリン、ソルビトール、庶糖等の単独若しくは混合物と、エチレンオキサイド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド等のアルキレンオキシドとを付加重合したポリオール、ヒマシ油等が挙げられる。さらに、アジピン酸、無水フタル酸等の二塩基酸と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン等のグリコールやトリオールとの脱水縮合反応により得られる各種ポリエステルポリオール；ε−カプロラクタムの開環重合により得られるラクトン系ポリエステルポリオール；ポリオールのホスゲン化物、ジフェニルカーボネートによるエステル交換法で合成されるポリカーボネートジオール；その他アクリルポリオール、ポリブタジエン系ポリオール等も挙げられる。
ポリイソシアネート化合物に存在する末端イソシアネート基のＮＣＯ含有量は、通常、１〜１０質量％であることが好ましく、２〜５質量％であることがより好ましい。この範囲内とすることにより、イソシアネート基同士の反応やイソシアネート基と化合物との反応により、難溶性の緻密な表面処理皮膜を成膜できる。ＮＣＯ基の含有量が１質量％未満では、反応点が不足するため、緻密な表面処理皮膜が形成され難く、耐薬品密着維持性が得られ難くなる。ＮＣＯ基の含有量が１０質量％を超え、さらに４個を超えるイソシアネート基を有している場合には、架橋箇所が過剰になり、形成した表面処理皮膜は脆いものとなって皮膜強度が低下し、初期密着性が低下することがある。
イソシアネート基をブロック化する目的で導入するブロック化剤としては、安全性、反応性等の点から選ぶのが好ましい。ブロック化剤としては、例えば、フェノール、ブチルフェノール、クロロフェノール、フェニルフェノール等のフェノール類、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトンオキシム等のオキシム類、イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール類、重亜硫酸ソーダ等が挙げられる。これらのなかで、比較的低温で且つ短時間で解離し易いことから、重亜硫酸ソーダがブロック化剤として好ましい。
ポリイソシアネートに水溶性を付与する方法としては、重亜硫酸塩、タウリンソーダ、アルキルハライド、ジエチル硫酸、ポリエチレングリコール等をポリイソシアネート中に組み込む方法や、非イオン活性剤で乳化する方法等、一般に公知の方法が用いられる。非イオン活性剤を用いる場合は、本発明の効果を損なわない量にする必要がある。
ポリイソシアネートの末端イソシアネートとブロック化剤との割合は、ブロック化剤がポリイソシアネートの末端イソシアネート基（すなわち遊離イソシアネート基）に対して、１．０〜１．５モルとなることが好ましい。
なお、本発明に係る水系金属表面処理剤に、後述する架橋性化合物（Ｂ）をさらに含有させた場合において、上記したポリイソシアネート化合物（Ａ）の固形分質量をＭＡとし、後述する架橋性化合物（Ｂ）の固形分質量をＭＢとしたとき、ポリイソシアネート化合物（Ａ）の固形分質量比［ＭＡ／（ＭＡ＋ＭＢ）］が０．５以上であることが好ましい。ポリイソシアネート化合物（Ａ）の固形分質量比を０．５以上とすることにより、水系金属表面処理剤で処理してなる表面処理皮膜は、ポリイソシアネート化合物（Ａ）が持つ活性なイソシアネート同士の自己架橋により、また、架橋性化合物（Ｂ）を併用する場合には、ポリイソシアネート化合物（Ａ）が持つ活性なイソシアネートと架橋性化合物が持つ官能基との架橋反応により、緻密でバリアー性に優れたものとなる。その固形分質量比は、０．６以上とすることがより好ましく、０．７以上とすることが特に好ましい。ポリイソシアネート化合物（Ａ）の固形分質量比が０．５未満では、水系金属表面処理剤によって得られた表面処理皮膜が脆くなり、表面処理皮膜の強度が低下して、耐薬品密着維持性が低下することがある。
（架橋性化合物（Ｂ））
架橋性化合物（Ｂ）は、本発明に係る水系金属表面処理剤に任意に含有させることができる化合物であるが、含有させることによってより高い密着性と耐薬品密着維持性を実現できる。
架橋性化合物（Ｂ）は、本発明に係る水系金属表面処理剤に任意に含有させることができる化合物であるが、含有させることによってより高い密着性と耐薬品密着維持性を実現できる。
架橋性化合物（Ｂ）は、イソシアネート基と反応しうる官能基を有する架橋性有機化合物（Ｂ１）、及び、イソシアネート基と反応しうる元素を有する架橋性無機化合物（Ｂ２）、から選ばれる１種又は２種以上の化合物である。この「イソシアネート基」は、前記したポリイソシアネート化合物（Ａ）が有する２個以上のブロック化イソシアネート基である。「反応しうる」とは、イソシアネート基に接触して反応することができるという意味である。「有する」とは、イソシアネート基と反応しうる官能基又は元素以外に、他の官能基、元素又は結合単位を有していてもよいという意味である。
（架橋性有機化合物（Ｂ１））
架橋性有機化合物（Ｂ１）は、カルボキシル基、水酸基、カルボジイミド基及びグリシジルエーテル基から選ばれる１種又は２種以上の官能基を有している。「有し」とは、架橋性有機化合物には、これらの官能基以外に、他の官能基や結合単位を有していてもよいという意味である。
架橋性有機化合物（Ｂ１）は、カルボキシル基、水酸基、カルボジイミド基及びグリシジルエーテル基から選ばれる１種又は２種以上の官能基を有している。「有し」とは、架橋性有機化合物には、これらの官能基以外に、他の官能基や結合単位を有していてもよいという意味である。
カルボキシル基及び／又は水酸基を有する有機化合物としては、例えば、シュウ酸、マロン酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、イタコン酸、プロパンジカルボン酸、ブタンジカルボン酸、ペンタンジカルボン酸、ヘキサンジカルボン酸、ヘプタンジカルボン酸、ブタントリカルボン酸、ブタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、及びヘキサントリカルボン酸、等の多価カルボン酸；
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ポリグリコール、チオジグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の多価アルコール；
リンゴ酸、クエン酸、酒石酸、等の多価ヒドロキシカルボン酸；
ヘキサヒドロキシベンゼン、ピロガロール、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、フロログルシノール、カテコール、レソルシノール、ヒドロキノン、５−メチルピロガロール、２−メチルレソルシノール、５−メチルレソルシノール、２，５−ジメチルレソルシノール、３−メチルカテコール、４−メチルカテコール、メチルヒドロキノン、２，６−ジメチルヒドロキノン、５−メトキシレソルシノール、３−メトキシカテコール、メトキシヒドロキノン、２，５−ジヒドロキシ−１，４−ベンゾキノン、没食子酸、ピロガロール−４−カルボン酸、２−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、３，４−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，４，６−トリヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ−４−メチル安息香酸、４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル安息香酸、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、没食子酸メチル、２，４−ジヒドロキシ安息香酸メチル、２，６−ジヒドロキシ安息香酸メチル、３，４−ジヒドロキシ安息香酸メチル、３，５−ジヒドロキシ安息香酸メチル、３，４−ジヒドロキシ安息香酸エチル、４，６−ジアミノレソルシノール
二塩酸塩、４，６−ジアミノレソルシノール、２−ニトロレソルシノール、４−ニトロカテコール、メリット酸、ベンゼンペンタカルボン酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ヘミメリット酸、トリメシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４−メチルフタル酸、５−メチルイソフタル酸、２，５−ジメチルテレフタル酸、４−ヒドロキシフタル酸、５−ヒドロキシイソフタル酸、４−ニトロフタル酸、５−ニトロイソフタル酸、５−アミノイソフタル酸、４−アミノサリチル酸、４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸、Ｌ-アスコルビン酸等の環状有機化合物；
タンニン酸、ハマメタタンニン、五倍子タンニン、没食子タンニン、ミロバランのタンニン、ジビジビのタンニン、アルガロビラのタンニン、カキのタンニン、テアフラビン、テアルビジン、バロニアのタンニン、お茶のタンニン、縮合タンニン等のタンニン；等が挙げられる。これら架橋性有機化合物（Ｂ１）のうち、耐薬品密着維持性を発現させるためには、タンニン酸が好ましい。
エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ポリグリコール、チオジグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の多価アルコール；
リンゴ酸、クエン酸、酒石酸、等の多価ヒドロキシカルボン酸；
ヘキサヒドロキシベンゼン、ピロガロール、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン、フロログルシノール、カテコール、レソルシノール、ヒドロキノン、５−メチルピロガロール、２−メチルレソルシノール、５−メチルレソルシノール、２，５−ジメチルレソルシノール、３−メチルカテコール、４−メチルカテコール、メチルヒドロキノン、２，６−ジメチルヒドロキノン、５−メトキシレソルシノール、３−メトキシカテコール、メトキシヒドロキノン、２，５−ジヒドロキシ−１，４−ベンゾキノン、没食子酸、ピロガロール−４−カルボン酸、２−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、３，４−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，４，６−トリヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ−４−メチル安息香酸、４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル安息香酸、１，４−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸、没食子酸メチル、２，４−ジヒドロキシ安息香酸メチル、２，６−ジヒドロキシ安息香酸メチル、３，４−ジヒドロキシ安息香酸メチル、３，５−ジヒドロキシ安息香酸メチル、３，４−ジヒドロキシ安息香酸エチル、４，６−ジアミノレソルシノール
二塩酸塩、４，６−ジアミノレソルシノール、２−ニトロレソルシノール、４−ニトロカテコール、メリット酸、ベンゼンペンタカルボン酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ヘミメリット酸、トリメシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４−メチルフタル酸、５−メチルイソフタル酸、２，５−ジメチルテレフタル酸、４−ヒドロキシフタル酸、５−ヒドロキシイソフタル酸、４−ニトロフタル酸、５−ニトロイソフタル酸、５−アミノイソフタル酸、４−アミノサリチル酸、４−アミノ−３−ヒドロキシ安息香酸、Ｌ-アスコルビン酸等の環状有機化合物；
タンニン酸、ハマメタタンニン、五倍子タンニン、没食子タンニン、ミロバランのタンニン、ジビジビのタンニン、アルガロビラのタンニン、カキのタンニン、テアフラビン、テアルビジン、バロニアのタンニン、お茶のタンニン、縮合タンニン等のタンニン；等が挙げられる。これら架橋性有機化合物（Ｂ１）のうち、耐薬品密着維持性を発現させるためには、タンニン酸が好ましい。
カルボキシル基及び／又は水酸基は、分子量３０〜３００に１個の割合で１分子中に２個以上含まれていることが好ましい。
架橋性有機化合物（Ｂ１）の分子量は、１００００以下であることが好ましく、５０００以下であることが好ましく、３０００以下であることがより好ましい。架橋性有機化合物（Ｂ１）の分子量が１００００を超えると、その架橋性有機化合物が水系金属表面処理剤中で移動し難くなるので、表面処理皮膜が形成される際に金属表面にカルボキシル基や水酸基が配向し難くなり、金属表面との密着性が低くなることがある。さらに、架橋性有機化合物（Ｂ１）の移動のし難さは、ブロック化イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物（Ａ）との接触機会を減少させるので、未架橋部位が発生し易くなって架橋密度が低下し、その結果、表面処理皮膜の緻密さを低下させ、耐薬品密着維持性を低下させる場合がある。
カルボジイミドを有する架橋性有機化合物（Ｂ１）としては、特に限定されないが、従来公知のポリカルボジイミド化合物を挙げることができる。
ポリカルボジイミド化合物は、芳香環を有するジイソシアネート化合物の脱炭酸反応によって、又は、芳香環を有するジイソシアネート化合物と脂肪族若しくは脂環式ジイソシアネート化合物との脱炭酸反応によって得られる。こうして得られたポリカルボジイミド化合物は、５〜１５個のカルボジイミド結合を有する重合化合物であって、その両末端のイソシアネート基をポリオール系化合物若しくはポリアミンで封止して得られるノニオン性又はカチオン性ポリカルボジイミド化合物である。両末端のイソシアネート基をポリアミンで封止した場合には、さらに酸又はアルキル化剤を作用させて第二若しくは三級アミン部分を形成する窒素原子の少なくとも一部に水素原子若しくはアルキル基を結合させてカチオン化することにより、カチオン性のポリカルボジイミド化合物とすることができる。
ポリオール系化合物としては、式（１）で表されるポリ（アルキレングリコール）又はそのモノアルキルエーテルを挙げることができる。
式（１）中、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ2は炭素数２〜４のアルキレン基を表し、ｎは２〜３０の整数を表す。
ポリアミンとしては、式（２）で表されるポリアミン、又は、式（３）で表されるポリ（アルキレンジアミン）Ｎ−アルキル誘導体を挙げることができる。
式（２）中、Ｒ３〜Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ７は炭素数２〜４のアルカントリイル基を表す。
式（３）中、Ｒ８は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１０は炭素数２〜４のアルキレン基を表し、ｍは２〜３０の整数を表す。
脱炭酸反応によって得られるポリカルボジイミド化合物１分子中のカルボジイミド結合の数は、５〜１５であることが必要であり、７〜１３であることが好ましい。カルボジイミド結合数を上記範囲に保つ場合には、塗装密着性及び深絞り性等、金属表面又は上層塗料との密着性が向上するだけでなく、ポリカルボジイミド化合物の構造が柔軟になるため、加工密着性が向上する。カルボジイミド結合の数が５未満では、ポリカルボジイミド化合物自体の反応性が上昇し、硬く脆い表面処理皮膜になり易い。一方、カルボジイミド結合の数が１５を超えると、ポリカルボジイミド化合物自体の反応性が低下しすぎて架橋が不十分となるだけでなく、水分散性も低下する。
ポリカルボジイミド化合物の製造に使用するための芳香環を有するジイソシアネートとしては、前記の「ポリイソシアネート化合物（Ａ）」欄で説明した「イソシアネート化合物」で例示した化合物を用いることができる。
ポリカルボジイミド化合物の合成方法は、ジイソシアネートの脱炭酸による通常の合成方法を用いることができる。例えば、ジイソシアネートを、不活性有機溶媒中、カルボジイミド化触媒の存在下、一定の温度をかけて脱炭酸する合成方法が挙げられる。カルボジイミド化触媒としては、１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド、３−メチル−２−ホスホレン−１−オキシド、１−エチル−２−ホスホレン−１−オキシド、１−エチル−３−メチル−２−ホスホレン−１−オキシド、３−メチル−１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド、又はこれらの３−ホスホレン異性体等のホスホレンオキシドを使用することができる。また、不活性有機溶媒としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、シクロヘキサノン、アセトン等のケトン系溶媒、ヘキサン、ベンゼン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。
こうして得られたポリカルボジイミド化合物の溶液に、ポリオール系化合物又はポリアミンを添加し、反応させて、両末端のイソシアネート基を封止する。なお、ポリオール系化合物又はポリアミンとしては、上記した式（１）で表されるポリ（アルキレングリコール）若しくはそのモノアルキルエーテル、上記した式（２）で表されるポリアミン、又は上記した式（３）で表されるポリ（アルキレンジアミン）Ｎ−アルキル誘導体を好ましく用いることができる。なお、式（１）〜（３）において、Ｒ １ 、Ｒ ３ 〜Ｒ ６ 、Ｒ ８ 及びＲ ９ の定義における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が挙げられるが、メチル基、エチル基が好ましい。Ｒ ２ 及びＲ １０ としては、エチレン基、プロピレン基、ｎ−ブチレン基等が挙げられるが、エチレン基、プロピレン基が好ましい。Ｒ ７ としては、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基等が挙げられる。
式（１）で表されるポリ（アルキレングリコール）又はそのモノアルキルエーテルの具体例としては、ｎが２〜３０のポリ（エチレングリコール）又はそのモノメチル若しくはモノエチルエーテル、ｎが２〜３０のポリ（プロピレングリコール）又はそのモノメチル若しくはモノエチルエーテル等が挙げられる。式（２）で表されるポリアミンの具体例としては、３，３−ビス（ジメチルアミノ）プロピルアミン、３，３−ビス（ジエチルアミノ）プロピルアミン等が挙げられる。式（３）で表されるポリ（アルキレンジアミン）Ｎ−アルキル誘導体の具体例としては、ｍが２〜３０のポリ（エチレンジアミン）の末端アミノ基の一方がモノメチル化若しくはジメチル化されたもの又はモノエチル化若しくはジエチル化されたもの等が挙げられる。
両末端イソシアネート基の封止を式（２）又は式（３）のポリアミンを用いて行った場合には、ポリカルボジイミド化合物を含有する反応溶液に、さらに酸又はアルキル化剤を添加して、式（２）又は式（３）に由来する第二若しくは三級アミン部分を形成する窒素原子の少なくとも一部に水素原子若しくはアルキル基を結合させてカチオン化する。こうしてカチオン性のポリカルボジイミド化合物とすることができる。ここでの酸は特に限定されず、無機酸でも有機酸でもよく、例えば、硫酸、ハロゲン化水素酸（塩化水素ガス、塩酸、フッ化水素酸等）、亜リン酸、リン酸、アルキル硫酸（メチル硫酸、エチル硫酸等）、ギ酸、酢酸等が挙げられる。アルキル化剤としては、特に制限されず、例えばジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のジアルキル硫酸、又は塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、塩化ブチル等のハロゲン化アルキル等が挙げられる。
ポリカルボジイミド化合物は、通常、水溶液形態又は水分散形態で使用する。水溶液形態又は水系エマルジョン形態のカルボジイミド化合物は、カチオン化した後のポリカルボジイミド化合物に水を加え、次いで不活性有機溶媒を蒸留等で除去して得ることができる。水分散形態は、エマルジョン形態でもコロイダルディスパージョン形態でもよい。カルボジイミド化合物の水への溶解又は分散は、自己溶解性又は自己分散性のいずれに基づいて達成されていてもよく、また、カチオン性界面活性剤（例えばテトラアルキルアンモニウム塩等）及び／又はノニオン性界面活性剤（例えばポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル等）の存在により達成されていてもよい。しかし、これら界面活性剤の使用は性能に悪影響を及ぼす影響があるため、界面活性剤を使用しないか、使用するとしても使用量を抑えることが好ましい。
グリシジルエーテル基を有する架橋性有機化合物（Ｂ１）としては、特に限定されないが、従来公知の多価グリシジルエーテル化合物を用いることができる。具体的には、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールジグリシジルエーテル、ポリグリセロールトリグリシジルエーテル、ペンタエリトリトールテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
これらの各架橋性有機化合物（Ｂ１）の効果は、それぞれのもつ特性によって異なり、ポリイソシアネート化合物（Ａ）が持つ活性なイソシアネートと架橋性化合物（Ｂ）が持つ官能基との架橋反応によって、緻密でバリアー性が高まり、密着性や耐薬品密着維持性の向上に繋がる。
（架橋性無機化合物（Ｂ２））
架橋性無機化合物（Ｂ２）は、ポリイソシアネート化合物（Ａ）が有するブロック化イソシアネート基と反応しうる元素を有する無機化合物である。「有する」とは、架橋性無機化合物には、これらの元素以外に、他の元素や結合単位を有していてもよいという意味である。
架橋性無機化合物（Ｂ２）は、ポリイソシアネート化合物（Ａ）が有するブロック化イソシアネート基と反応しうる元素を有する無機化合物である。「有する」とは、架橋性無機化合物には、これらの元素以外に、他の元素や結合単位を有していてもよいという意味である。
架橋性無機化合物（Ｂ２）としては、ポリイソシアネート化合物（Ａ）が有するブロック化イソシアネート基と反応しうる元素を含む従来公知の無機物質を用いることができる。例えば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒ（III）、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｓｒ、Ｗ、Ｃｅ、Ｍｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｈｆ、Ｓｅ、Ｓｃ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｙ、Ｎｄ及びＬａから選ばれる１種又は２種以上の元素を含む無機化合物を用いることができる。中でも、Ｍｇ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｃｒ（III）、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｃｅ、Ｔｅ及びＨｆから選ばれる１種又は２種以上の元素を含む無機化合物がより好ましく、Ｃｒ（III）、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｃｅ及びＴｅから選ばれる１種又は２種以上の元素を含む無機化合物がさらに好ましい。
具体的には、Ｍｇ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒ（III）、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｓｒ、Ｗ、Ｃｅ、Ｍｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｈｆ、Ｓｅ、Ｓｃ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｙ、Ｎｄ及びＬａから選ばれる１種又は２種以上の元素を含む塩、錯化合物又は金属水和酸化物（以下、「塩等」ともいう。）を挙げることができる。
より具体的には、ビス（アセチルアセトナト）ジアクアマグネシウム（II）、アルミン酸マグネシウム、安息香酸マグネシウム、蟻酸マグネシウム、蓚酸マグネシウム、タングステン酸マグネシウム、メタニオブ酸マグネシウム、ホウ酸マグネシウム、モリブデン酸マグネシウム、ヨウ化マグネシウム、ニリン酸マグネシウム、硝酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、リン酸アンモニウムマグネシウム、リン酸水素マグネシウム、酸化マグネシウム等のマグネシウム塩等；
硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、硫酸カリウムアルミニウム、硫酸ナトリウムアルミニウム、硫酸アンモニウムアルミニウム、リン酸アルミニウム、炭酸アルミニウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、フッ化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、酢酸アルミニウム、安息香酸アルミニウム、クエン酸アルミニウム、グルコン酸アルミニウム、セレン酸アルミニウム、蓚酸アルミニウム、酒石酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、パルチミン酸アルミニウム等のアルミニウム塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクアカルシウム（II）、安息香酸カルシウム、クエン酸カルシウム、メタスズ酸カルシウム、セレン酸カルシウム、タングステン酸カルシウム、炭酸カルシウム、四ホウ酸カルシウム、モリブデン酸カルシウム、マレイン酸カルシウム、リンゴ酸カルシウム、ニリン酸カルシウム、フッ化カルシウム、ホスフィン酸カルシウム、硝酸カルシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、シュウ酸カルシウム、酢酸カルシウム等のカルシウム塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクアマンガン（II）、四酸化三マンガン、酸化マンガン（II）、酸化マンガン（III）、酸化マンガン（IV）、臭化マンガン（II）、蓚酸マンガン（II）、過マンガン酸（VII）、過マンガン酸カリウム（VII）、過マンガン酸ナトリウム（VII）、リン酸二水素マンガン（II）、硝酸マンガン（II）、硫酸マンガン（II）、硫酸マンガン（III）、硫酸マンガン（IV）、フッ化マンガン（II）、フッ化マンガン（III）、炭酸マンガン（II）、酢酸マンガン（II）、酢酸マンガン（III）、硫酸アンモニウムマンガン（II）、ヨウ化マンガン（II）、水酸化マンガン（II）等のマンガン塩等又はマンガン酸塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクアコバルト（II）、トリス（アセチルアセトナト）コバルト（III）、スルファミン酸コバルト（II）、塩化コバルト（II）、クロロペンタアンミンコバルト塩化物（III）、ヘキサアンミンコバルト塩化物（III）、ジアンミンテトラニトロコバルト（III）酸アンモニウム、硫酸コバルト（II）、硫酸アンモニウムコバルト、硝酸コバルト（II）、酸化コバルト二アルミニウム、水酸化コバルト（II）、酸化コバルト（II）、リン酸コバルト、酢酸コバルト（II）、蟻酸コバルト（II）、四酸化三コバルト、臭化コバルト（II）、蓚酸コバルト（II）、セレン酸コバルト（II）、タングステン酸コバルト（II）、ヒドロキシ炭酸第一コバルト（II）、モリブデン酸コバルト（II）、ヨウ化コバルト（II）、リン酸コバルト（II）等のコバルト塩等；
二スルファミン酸ニッケル（II）、安息香酸ニッケル（II）、硝酸ニッケル（II）、硫酸ニッケル（II）、炭酸ニッケル（II）、ニッケルアセチルアセトネート（II）、塩化ニッケル（II）、ヘキサアンミンニッケル塩化物、酸化ニッケル、水酸化ニッケル（II）、酸化ニッケル（II）、酢酸ニッケル、クエン酸ニッケル（II）、コハク酸ニッケル（II）、臭化ニッケル（II）、蓚酸ニッケル（II）、酒石酸ニッケル（II）、セレン酸ニッケル（II）、ヒドロキシ炭酸ニッケル（II）、乳酸ニッケル（II）、モリブデン酸ニッケル（II）、ヨウ化ニッケル（II）、二リン酸ニッケル（II）等のニッケル塩等；
蟻酸クロム（III）、フッ化クロム（III）、硝酸クロム（III）、硫酸クロム（III）、蓚酸クロム（III）、酢酸クロム（III）、重燐酸クロム（III）、水酸化クロム（III）、酸化クロム（III）、臭化クロム（III）、ヨウ化クロム（III）等のクロム塩等；
ビス（アセチルアセトナト）亜鉛（II）、安息香酸亜鉛（II）、ヒドロキシ塩化亜鉛（II）、蟻酸亜鉛（II）、クエン酸亜鉛（II）、臭化亜鉛（II）、蓚酸亜鉛（II）、酒石酸亜鉛（II）、メタスズ酸亜鉛（II）、セレン酸亜鉛（II）、タングステン酸亜鉛（II）、フッ化亜鉛（II）、モリブデン酸亜鉛（II）、酪酸亜鉛（II）、ニリン酸亜鉛（II）、硫酸亜鉛（II）、炭酸亜鉛（II）、塩化亜鉛（II）、ヨウ化亜鉛（II）、水酸化亜鉛（II）、酸化亜鉛（II）等の亜鉛塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクア鉄（II）、トリス（アセチルアセトナト）鉄（III）、三蓚酸鉄三カリウム、蟻酸鉄（II）、四バナジン酸鉄（III）、臭化鉄（III）、酒石酸鉄（III）、乳酸鉄（II）、フッ化鉄（II）、フッ化鉄（III）、塩化鉄（II）、塩化鉄（III）、ヨウ化鉄（II）、ヨウ化鉄（III）、硫酸鉄（II）、硫酸鉄（III）、硝酸鉄（II）、硝酸鉄（III）、酢酸鉄（II）、酢酸鉄（III）、クエン酸鉄（II）クエン酸鉄（III）、グリシン鉄（II）、グリシン鉄（III）、蓚酸鉄（II）、蓚酸鉄（III）、ピコリン酸鉄（II）、ピコリン酸鉄（III）、Ｌ−フェニルアラニン鉄（II）、Ｌ−フェニルアラニン鉄（III）、マロン酸鉄（II）、マロン酸鉄（III）、水酸化鉄（II）、水酸化鉄（III）、酸化鉄（II）、酸化鉄（III）、四酸化三鉄等の鉄塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクアストロンチウム（II）、蟻酸ストロンチウム（II）、クエン酸ストロンチウム（II）タングステン酸ストロンチウム、メタスズ酸ストロンチウム、酸化ストロンチウム（IV）、酸化ストロンチウム（II）、蓚酸ストロンチウム、メタニオブ酸ストロンチウム、モリブデン酸ストロンチウム、ヨウ化ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、硫酸ストロンチウム、炭酸ストロンチウム、酢酸ストロンチウム、塩化ストロンチウム、リン酸ストロンチウム、乳酸ストロンチウム等のストロンチウム塩等；
オキシ二蓚酸チタン二アンモニウム、オキシ二蓚酸チタン二カリウム、酸化チタン（II）、酸化チタン（III）、酸化チタン（IV）、オキシ硫酸第二チタン、塩基性リン酸チタン、臭化チタン（IV）、メタチタン酸、メタチタン酸亜鉛（II）、チタン酸アルミニウム（III）、メタチタン酸カリウム、メタチタン三コバルト（II）、チタン酸ジルコニウム、メタチタン酸ストロンチウム、メタチタン三鉄（III）、メタチタン酸銅（II）、チタン酸ナトリウム、二チタン酸ネオジム（III）、メタチタン酸バリウム、メタチタン酸ビスマス（III）、メタチタン酸マグネシウム、チタン酸マグネシウム、メタチタン酸マンガン（II）、二チタン酸ランタン（III）、メタチタン酸リチウム、ヘキサフルオロチタン（IV）酸アンモニウム、ヘキサフルオロチタン（IV）酸カリウム、ヨウ化チタン（IV）、硫酸チタン（III）、硫酸チタン（IV）、塩化チタン、硝酸チタン、硫酸チタニル、フッ化チタン（III）、フッ化チタン（IV）、ヘキサフルオロチタン酸、乳酸チタン、ペルオキソチタン酸、チタンラウレート、チタニウムアセチルアセトネート、水酸化チタン（IV）等のチタン塩等又はチタン酸塩等；
テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム（IV）、塩化酸化ジルコニウム（IV）、塩化ジルコニウム（IV）、ケイ酸ジルコニウム、酢酸酸化ジルコニウム（IV）、酸化ジルコニウム（IV）、硝酸酸化ジルコニウム（IV）、メタジルコニウム酸セシウム、メタジルコニウム酸リチウム、メタジルコニウム酸亜鉛（II）、メタジルコニウム酸アルミニウム（III）、メタジルコニウム酸カルシウム、メタジルコニウム酸コバルト（II）、メタジルコニウム酸ストロンチウム、メタジルコニウム酸銅（II）、メタジルコニウム酸ナトリウム、メタジルコニウム酸ニッケル（II）、メタジルコニウム酸バリウム、メタジルコニウム酸ビスマス（III）、メタジルコニウム酸マグネシウム、オキシ炭酸ジルコニウム、ヘキサフルオロジルコニウム（IV）酸アンモニウム、ヘキサフルオロジルコニウム（IV）酸カリウム、ヨウ化ジルコニウム、リン酸二水素酸化ジルコニウム（IV）、塩基性炭酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウムアンモニウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、硫酸ジルコニウム（IV）、硫酸ジルコニル、ヘキサフルオロジルコニウム酸、オキシリン酸ジルコニウム、ピロリン酸ジルコニウム、リン酸二水素ジルコニル、オキシ塩化ジルコニウム、フッ化ジルコニウム、酢酸ジルコニル、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム等のジルコニウム塩等；
ヘキサフルオロケイ酸、シリカ等のケイ酸塩等；
塩化タングステン（VI）、酸化タングステン酸鉄（III）、塩化タングステン（VI）、オキシ二塩化タングステン、二酸化タングステン、三酸化タングステン、メタタングステン酸、メタタングステン酸アンモニウム、メタタングステン酸ナトリウム、パラタングステン酸、パラタングステン酸アンモニウム、パラタングステン酸ナトリウム、タングステン酸亜鉛（II）、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸コバルト（II）、タングステン酸ストロンチウム、タングステン酸セシウム、タングステン酸銅（II）、タングステン酸ニッケル、タングステン酸バリウム、タングステン酸マグネシウム、タングステン酸マンガン（II）、タングステン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム等のタングステン塩等又はタングステン酸塩等；
トリス（アセチルアセトナト）セリウム（III）、塩化セリウム（III）、酸化セリウム（III）、酸化セリウム（IV）、臭化セリウム（III）、蓚酸セリウム（III）、水酸化セリウム（IV）、硫酸第二セリウムアンモニウム（IV）、硫酸第一セリウムアンモニウム（III）、炭酸セリウム（III）、硫酸セリウム、酢酸セリウム（III）、硝酸セリウム（III）、硫酸セリウム（IV）、フッ化セリウム（III）、ヨウ化セリウム（III）、リン酸セリウム（III）等のセリウム塩等；
塩化モリブデン（V）、酸化モリブデン（IV）、酸化モリブデン（VI）、モリブデン酸亜鉛（II）、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸カルシウム、モリブデン酸コバルト（II）、モリブデン酸セシウム、モリブデン酸ニッケル（II）、モリブデン酸バリウム、モリブデン酸ビスマス（III）、モリブデン酸マグネシウム、モリブデン酸リチウム、パラモリブデン酸リチウム、モリブデン酸ストロンチウム、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸、モリブデン酸アンモニウム、パラモリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸ナトリウム等のモリブデン塩等又はモリブデン酸塩等；
オキシ二塩化バナジウム、オキシ三塩化バナジウム、三塩化バナジウム、酸化バナジウム、四バナジン酸鉄（III）、臭化バナジウム（III）、オキシ蓚酸バナジウム、ヨウ化バナジウム（II）、五酸化バナジウム、メタバナジン酸、ピロバナジン酸ナトリウム、バナジン酸ナトリウム、メタバナジン酸アンモニウム、メタバナジン酸ナトリウム、メタバナジン酸カリウム、オキシ三塩化バナジウム、三酸化バナジウム、二酸化バナジウム、オキシ硫酸バナジウム、バナジウムオキシアセチルアセテート、バナジウムアセチルアセテート、リンバナドモリブデン酸等のバナジウム塩等又はバナジン酸塩等；
塩化スズ（II）、酢酸スズ（II）、蓚酸スズ（II）、酒石酸スズ（II）、酸化スズ（IV）、硝酸スズ、硫酸スズ、フッ化スズ（II）、ヨウ化スズ（II）、ヨウ化スズ（IV）、ピロリン酸スズ（II）、メタスズ酸、メタスズ酸亜鉛、メタスズ酸カルシウム、メタスズ酸ストロンチウム、メタスズ酸バリウム、メタスズ酸マグネシウム等のスズ塩又はスズ酸塩等；
安息香酸ビスマス（III）、塩化酸化ビスマス（III）、クエン酸ビスマス（III）、オキシ酢酸ビスマス（III）、酸化酒石酸ビスマス（III）、酸化ビスマス（III）、オキシ硫酸二ビスマス、臭化ビスマス（III）、酒石酸ビスマス（III）、水酸化ビスマス（III）、オキシ炭酸二ビスマス、ジルコニウム酸ビスマス（III）、オキシ硝酸ビスマス、四チタン酸ビスマス（III）、三チタン酸ビスマス（III）、フッ化ビスマス（III）、モリブデン酸ビスマス（III）、ヨウ化ビスマス（III）、硝酸ビスマス（III）、塩化ビスマス（III）、硫酸ビスマス（III）、酢酸ビスマス（III）、リン酸ビスマス（III）等のビスマス塩等；
塩化タンタル（V）、酸化タンタル（V）、臭化タンタル（V）、タンタル酸、六タンタル酸カリウム、メタタンタル酸ストロンチウム、メタタンタル酸ナトリウム、メタタンタル酸リチウム、ヨウ化タンタル（V）、タンタルオキシアセチルアセトネート、メタタンタル酸、メタタンタル酸アンモニウム、ヘプタフルオロタンタル酸カリウム等のタンタル塩等又はタンタル酸塩等；
テルル酸、メタテルル酸アンモニウム、メタテルル酸カリウム、メタテルル酸ナトリウム、ヨウ化テルル（IV）、テルル酸カリウム、テルル酸ナトリウム、亜テルル酸、亜テルル酸カリウム、亜テルル酸ナトリウム、亜テルル酸バリウム、亜テルル酸リチウム、塩化テルル（IV）、酸化テルル（IV）、臭化テルル（IV）、水酸化硝酸三酸化二テルル、亜テルル酸亜鉛等のテルル塩等又はテルル酸塩等；
トリス（アセチルアセトナト）インジウム（III）、アミド硫酸インジウム（III）、二塩化インジウム、塩化インジウム（I）、塩化インジウム（III）、酢酸インジウム（III）、臭化インジウム（III）、ヨウ化インジウム（III）、硝酸インジウム（III）、硫酸インジウム（III）、フッ化インジウム（III）、酸化インジウム（III）、水酸化インジウム（III）等のインジウム塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクアバリウム（II）、亜セレン酸バリウム、亜テルル酸バリウム、安息香酸バリウム、アルミン酸バリウム、塩化バリウム、蟻酸バリウム、クエン酸バリウム、酸化バリウム、臭化バリウム、蓚酸バリウム、酒石酸バリウム、メタジルコニウム酸バリウム、水酸化バリウム、メタスズ酸バリウム、タングステン酸バリウム、メタチタン酸バリウム、メタニオブ酸バリウム、乳酸バリウム、メタホウ酸バリウム、モリブデン酸バリウム、ヨウ化バリウム、リン酸水素バリウム、炭酸バリウム、フッ化バリウム等のバリウム塩等；
テトラキス（アセチルアセトナト）ハフニウム（IV）、塩化ハフニウム（IV）、酸化ハフニウム（IV）、ヨウ化ハフニウム（IV）、硫酸ハフニウム（IV）、硝酸ハフニウム（IV）、オキシ蓚酸ハフニウム（IV）、フルオロハフニウム酸、フルオロハフニウム酸塩、フッ化ハフニウム等のハフニウム塩等又はハフニウム酸塩等；
亜セレン酸カリウム、亜セレン酸水素カリウム、亜セレン酸三水素セシウム、亜セレン酸水素ナトリウム、亜セレン酸水素リチウム、亜セレン酸銅（II）、亜セレン酸ナトリウム、亜セレン酸バリウム、オキシ塩化セレン、塩化セレン（I）、塩化セレン（IV）、酸化セレン（IV）、セレン酸アルミニウム、セレン酸、亜セレン酸亜鉛、セレン酸カリウム、セレン酸アンモニウム、セレン酸カルシウム、セレン酸セシウム、セレン酸コバルト、セレン酸銅（II）、セレン酸ニッケル、セレン酸ナトリウム、セレン酸バリウム、セレン酸亜鉛等のセレン塩等又はセレン酸塩等；
塩化スカンジウム（III）、蟻酸スカンジウム（III）、酢酸スカンジウム（III）、硝酸スカンジウム（III）、酸化スカンジウム（III）、フッ化スカンジウム（III）、ヨウ化スカンジウム（III）、硫酸スカンジウム（III）等のスカンジウム塩等；
酸化ニオブ（II）、酸化ニオブ（V）、五（蓚酸水素）ニオブ、水酸化ニオブ（V）、ニオブオキシアセチルアセトネート、メタニオブ酸、メタニオブ酸カルシウム、メタニオブ酸ストロンチウム、メタニオブ酸バリウム、メタニオブ酸マグネシウム、メタニオブ酸リチウム、メタニオブ酸アンモニウム、メタニオブ酸ナトリウム、五塩化ニオブ等のニオブ塩等又はニオブ酸塩等；
アミド硫酸銅（II）、安息香酸銅（II）、テトラアンミン銅（II）硝酸塩、クエン酸銅（II）、酸化銅（I）、臭化銅（I）、蓚酸銅（II）、蟻酸銅（II）、酢酸銅（II）、プロピオン酸銅（II）、吉草酸銅（II）、グルコン酸銅（II）、酒石酸銅（II）、塩化銅（II）、臭化銅（II）、水酸化銅（II）、酢酸銅（II）、硝酸銅（II）、硫酸銅（II）、炭酸銅（II）、酸化銅（II）、ヒドロキシ硝酸第二銅、タングステン酸銅（II）、炭酸水酸化銅（II）、乳酸銅（II）、フッ化銅（II）、ヨウ化銅（I）等の銅塩等；
トリス（アセチルアセトナト）イットリウム（III）、塩化イットリウム（III）、蟻酸イットリウム（III）、クエン酸イットリウム（III）、酢酸イットリウム（III）、酸化イットリウム（III）、蓚酸イットリウム（III）、硝酸イットリウム（III）、炭酸イットリウム（III）、フッ化イットリウム（III）、ヨウ化イットリウム（III）、硫酸イットリウム（III）、リン酸イットリウム（III）等のイットリウム塩等；
トリス（アセチルアセトナト）ランタン（III）、塩化ランタン（III）、蟻酸ランタン（III）、酢酸ランタン（III）、酸化ランタン（III）、蓚酸ランタン（III）、硝酸ランタン（III）、炭酸ランタン（III）、フッ化ランタン（III）、二チタン酸ランタン（III）、硫酸ランタン（III）、リン酸ランタン（III）、ヨウ化ランタン（III）等のランタン塩等；
トリス（アセチルアセトナト）ネオジム（III）、塩化ネオジム（III）、蟻酸ネオジム（III）、酢酸ネオジム（III）、酸化ネオジム（III）、臭化ネオジム（III）、蓚酸ネオジム（III）、硝酸ネオジム（III）、炭酸ネオジム（III）、二チタン酸ネオジム（III）、フッ化ネオジム（III）、ヨウ化ネオジム（III）、硫酸ネオジム（III）、リン酸ネオジム（III）等のネオジウム塩等；を挙げることができる。これらの化合物は無水物であってもよいし、水和物であってもよい。また、単独で使用してもよいし、２種以上組み合わせて使用してもよい。さらに、水系金属表面処理剤溶剤中に溶解していてもよいし、分散していてもよい。
硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、硫酸カリウムアルミニウム、硫酸ナトリウムアルミニウム、硫酸アンモニウムアルミニウム、リン酸アルミニウム、炭酸アルミニウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、フッ化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、酢酸アルミニウム、安息香酸アルミニウム、クエン酸アルミニウム、グルコン酸アルミニウム、セレン酸アルミニウム、蓚酸アルミニウム、酒石酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、パルチミン酸アルミニウム等のアルミニウム塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクアカルシウム（II）、安息香酸カルシウム、クエン酸カルシウム、メタスズ酸カルシウム、セレン酸カルシウム、タングステン酸カルシウム、炭酸カルシウム、四ホウ酸カルシウム、モリブデン酸カルシウム、マレイン酸カルシウム、リンゴ酸カルシウム、ニリン酸カルシウム、フッ化カルシウム、ホスフィン酸カルシウム、硝酸カルシウム、水酸化カルシウム、酸化カルシウム、シュウ酸カルシウム、酢酸カルシウム等のカルシウム塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクアマンガン（II）、四酸化三マンガン、酸化マンガン（II）、酸化マンガン（III）、酸化マンガン（IV）、臭化マンガン（II）、蓚酸マンガン（II）、過マンガン酸（VII）、過マンガン酸カリウム（VII）、過マンガン酸ナトリウム（VII）、リン酸二水素マンガン（II）、硝酸マンガン（II）、硫酸マンガン（II）、硫酸マンガン（III）、硫酸マンガン（IV）、フッ化マンガン（II）、フッ化マンガン（III）、炭酸マンガン（II）、酢酸マンガン（II）、酢酸マンガン（III）、硫酸アンモニウムマンガン（II）、ヨウ化マンガン（II）、水酸化マンガン（II）等のマンガン塩等又はマンガン酸塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクアコバルト（II）、トリス（アセチルアセトナト）コバルト（III）、スルファミン酸コバルト（II）、塩化コバルト（II）、クロロペンタアンミンコバルト塩化物（III）、ヘキサアンミンコバルト塩化物（III）、ジアンミンテトラニトロコバルト（III）酸アンモニウム、硫酸コバルト（II）、硫酸アンモニウムコバルト、硝酸コバルト（II）、酸化コバルト二アルミニウム、水酸化コバルト（II）、酸化コバルト（II）、リン酸コバルト、酢酸コバルト（II）、蟻酸コバルト（II）、四酸化三コバルト、臭化コバルト（II）、蓚酸コバルト（II）、セレン酸コバルト（II）、タングステン酸コバルト（II）、ヒドロキシ炭酸第一コバルト（II）、モリブデン酸コバルト（II）、ヨウ化コバルト（II）、リン酸コバルト（II）等のコバルト塩等；
二スルファミン酸ニッケル（II）、安息香酸ニッケル（II）、硝酸ニッケル（II）、硫酸ニッケル（II）、炭酸ニッケル（II）、ニッケルアセチルアセトネート（II）、塩化ニッケル（II）、ヘキサアンミンニッケル塩化物、酸化ニッケル、水酸化ニッケル（II）、酸化ニッケル（II）、酢酸ニッケル、クエン酸ニッケル（II）、コハク酸ニッケル（II）、臭化ニッケル（II）、蓚酸ニッケル（II）、酒石酸ニッケル（II）、セレン酸ニッケル（II）、ヒドロキシ炭酸ニッケル（II）、乳酸ニッケル（II）、モリブデン酸ニッケル（II）、ヨウ化ニッケル（II）、二リン酸ニッケル（II）等のニッケル塩等；
蟻酸クロム（III）、フッ化クロム（III）、硝酸クロム（III）、硫酸クロム（III）、蓚酸クロム（III）、酢酸クロム（III）、重燐酸クロム（III）、水酸化クロム（III）、酸化クロム（III）、臭化クロム（III）、ヨウ化クロム（III）等のクロム塩等；
ビス（アセチルアセトナト）亜鉛（II）、安息香酸亜鉛（II）、ヒドロキシ塩化亜鉛（II）、蟻酸亜鉛（II）、クエン酸亜鉛（II）、臭化亜鉛（II）、蓚酸亜鉛（II）、酒石酸亜鉛（II）、メタスズ酸亜鉛（II）、セレン酸亜鉛（II）、タングステン酸亜鉛（II）、フッ化亜鉛（II）、モリブデン酸亜鉛（II）、酪酸亜鉛（II）、ニリン酸亜鉛（II）、硫酸亜鉛（II）、炭酸亜鉛（II）、塩化亜鉛（II）、ヨウ化亜鉛（II）、水酸化亜鉛（II）、酸化亜鉛（II）等の亜鉛塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクア鉄（II）、トリス（アセチルアセトナト）鉄（III）、三蓚酸鉄三カリウム、蟻酸鉄（II）、四バナジン酸鉄（III）、臭化鉄（III）、酒石酸鉄（III）、乳酸鉄（II）、フッ化鉄（II）、フッ化鉄（III）、塩化鉄（II）、塩化鉄（III）、ヨウ化鉄（II）、ヨウ化鉄（III）、硫酸鉄（II）、硫酸鉄（III）、硝酸鉄（II）、硝酸鉄（III）、酢酸鉄（II）、酢酸鉄（III）、クエン酸鉄（II）クエン酸鉄（III）、グリシン鉄（II）、グリシン鉄（III）、蓚酸鉄（II）、蓚酸鉄（III）、ピコリン酸鉄（II）、ピコリン酸鉄（III）、Ｌ−フェニルアラニン鉄（II）、Ｌ−フェニルアラニン鉄（III）、マロン酸鉄（II）、マロン酸鉄（III）、水酸化鉄（II）、水酸化鉄（III）、酸化鉄（II）、酸化鉄（III）、四酸化三鉄等の鉄塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクアストロンチウム（II）、蟻酸ストロンチウム（II）、クエン酸ストロンチウム（II）タングステン酸ストロンチウム、メタスズ酸ストロンチウム、酸化ストロンチウム（IV）、酸化ストロンチウム（II）、蓚酸ストロンチウム、メタニオブ酸ストロンチウム、モリブデン酸ストロンチウム、ヨウ化ストロンチウム、硝酸ストロンチウム、硫酸ストロンチウム、炭酸ストロンチウム、酢酸ストロンチウム、塩化ストロンチウム、リン酸ストロンチウム、乳酸ストロンチウム等のストロンチウム塩等；
オキシ二蓚酸チタン二アンモニウム、オキシ二蓚酸チタン二カリウム、酸化チタン（II）、酸化チタン（III）、酸化チタン（IV）、オキシ硫酸第二チタン、塩基性リン酸チタン、臭化チタン（IV）、メタチタン酸、メタチタン酸亜鉛（II）、チタン酸アルミニウム（III）、メタチタン酸カリウム、メタチタン三コバルト（II）、チタン酸ジルコニウム、メタチタン酸ストロンチウム、メタチタン三鉄（III）、メタチタン酸銅（II）、チタン酸ナトリウム、二チタン酸ネオジム（III）、メタチタン酸バリウム、メタチタン酸ビスマス（III）、メタチタン酸マグネシウム、チタン酸マグネシウム、メタチタン酸マンガン（II）、二チタン酸ランタン（III）、メタチタン酸リチウム、ヘキサフルオロチタン（IV）酸アンモニウム、ヘキサフルオロチタン（IV）酸カリウム、ヨウ化チタン（IV）、硫酸チタン（III）、硫酸チタン（IV）、塩化チタン、硝酸チタン、硫酸チタニル、フッ化チタン（III）、フッ化チタン（IV）、ヘキサフルオロチタン酸、乳酸チタン、ペルオキソチタン酸、チタンラウレート、チタニウムアセチルアセトネート、水酸化チタン（IV）等のチタン塩等又はチタン酸塩等；
テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム（IV）、塩化酸化ジルコニウム（IV）、塩化ジルコニウム（IV）、ケイ酸ジルコニウム、酢酸酸化ジルコニウム（IV）、酸化ジルコニウム（IV）、硝酸酸化ジルコニウム（IV）、メタジルコニウム酸セシウム、メタジルコニウム酸リチウム、メタジルコニウム酸亜鉛（II）、メタジルコニウム酸アルミニウム（III）、メタジルコニウム酸カルシウム、メタジルコニウム酸コバルト（II）、メタジルコニウム酸ストロンチウム、メタジルコニウム酸銅（II）、メタジルコニウム酸ナトリウム、メタジルコニウム酸ニッケル（II）、メタジルコニウム酸バリウム、メタジルコニウム酸ビスマス（III）、メタジルコニウム酸マグネシウム、オキシ炭酸ジルコニウム、ヘキサフルオロジルコニウム（IV）酸アンモニウム、ヘキサフルオロジルコニウム（IV）酸カリウム、ヨウ化ジルコニウム、リン酸二水素酸化ジルコニウム（IV）、塩基性炭酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウムアンモニウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、硫酸ジルコニウム（IV）、硫酸ジルコニル、ヘキサフルオロジルコニウム酸、オキシリン酸ジルコニウム、ピロリン酸ジルコニウム、リン酸二水素ジルコニル、オキシ塩化ジルコニウム、フッ化ジルコニウム、酢酸ジルコニル、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム等のジルコニウム塩等；
ヘキサフルオロケイ酸、シリカ等のケイ酸塩等；
塩化タングステン（VI）、酸化タングステン酸鉄（III）、塩化タングステン（VI）、オキシ二塩化タングステン、二酸化タングステン、三酸化タングステン、メタタングステン酸、メタタングステン酸アンモニウム、メタタングステン酸ナトリウム、パラタングステン酸、パラタングステン酸アンモニウム、パラタングステン酸ナトリウム、タングステン酸亜鉛（II）、タングステン酸カリウム、タングステン酸カルシウム、タングステン酸コバルト（II）、タングステン酸ストロンチウム、タングステン酸セシウム、タングステン酸銅（II）、タングステン酸ニッケル、タングステン酸バリウム、タングステン酸マグネシウム、タングステン酸マンガン（II）、タングステン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム等のタングステン塩等又はタングステン酸塩等；
トリス（アセチルアセトナト）セリウム（III）、塩化セリウム（III）、酸化セリウム（III）、酸化セリウム（IV）、臭化セリウム（III）、蓚酸セリウム（III）、水酸化セリウム（IV）、硫酸第二セリウムアンモニウム（IV）、硫酸第一セリウムアンモニウム（III）、炭酸セリウム（III）、硫酸セリウム、酢酸セリウム（III）、硝酸セリウム（III）、硫酸セリウム（IV）、フッ化セリウム（III）、ヨウ化セリウム（III）、リン酸セリウム（III）等のセリウム塩等；
塩化モリブデン（V）、酸化モリブデン（IV）、酸化モリブデン（VI）、モリブデン酸亜鉛（II）、モリブデン酸カリウム、モリブデン酸カルシウム、モリブデン酸コバルト（II）、モリブデン酸セシウム、モリブデン酸ニッケル（II）、モリブデン酸バリウム、モリブデン酸ビスマス（III）、モリブデン酸マグネシウム、モリブデン酸リチウム、パラモリブデン酸リチウム、モリブデン酸ストロンチウム、リンモリブデン酸、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、モリブデン酸、モリブデン酸アンモニウム、パラモリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸ナトリウム等のモリブデン塩等又はモリブデン酸塩等；
オキシ二塩化バナジウム、オキシ三塩化バナジウム、三塩化バナジウム、酸化バナジウム、四バナジン酸鉄（III）、臭化バナジウム（III）、オキシ蓚酸バナジウム、ヨウ化バナジウム（II）、五酸化バナジウム、メタバナジン酸、ピロバナジン酸ナトリウム、バナジン酸ナトリウム、メタバナジン酸アンモニウム、メタバナジン酸ナトリウム、メタバナジン酸カリウム、オキシ三塩化バナジウム、三酸化バナジウム、二酸化バナジウム、オキシ硫酸バナジウム、バナジウムオキシアセチルアセテート、バナジウムアセチルアセテート、リンバナドモリブデン酸等のバナジウム塩等又はバナジン酸塩等；
塩化スズ（II）、酢酸スズ（II）、蓚酸スズ（II）、酒石酸スズ（II）、酸化スズ（IV）、硝酸スズ、硫酸スズ、フッ化スズ（II）、ヨウ化スズ（II）、ヨウ化スズ（IV）、ピロリン酸スズ（II）、メタスズ酸、メタスズ酸亜鉛、メタスズ酸カルシウム、メタスズ酸ストロンチウム、メタスズ酸バリウム、メタスズ酸マグネシウム等のスズ塩又はスズ酸塩等；
安息香酸ビスマス（III）、塩化酸化ビスマス（III）、クエン酸ビスマス（III）、オキシ酢酸ビスマス（III）、酸化酒石酸ビスマス（III）、酸化ビスマス（III）、オキシ硫酸二ビスマス、臭化ビスマス（III）、酒石酸ビスマス（III）、水酸化ビスマス（III）、オキシ炭酸二ビスマス、ジルコニウム酸ビスマス（III）、オキシ硝酸ビスマス、四チタン酸ビスマス（III）、三チタン酸ビスマス（III）、フッ化ビスマス（III）、モリブデン酸ビスマス（III）、ヨウ化ビスマス（III）、硝酸ビスマス（III）、塩化ビスマス（III）、硫酸ビスマス（III）、酢酸ビスマス（III）、リン酸ビスマス（III）等のビスマス塩等；
塩化タンタル（V）、酸化タンタル（V）、臭化タンタル（V）、タンタル酸、六タンタル酸カリウム、メタタンタル酸ストロンチウム、メタタンタル酸ナトリウム、メタタンタル酸リチウム、ヨウ化タンタル（V）、タンタルオキシアセチルアセトネート、メタタンタル酸、メタタンタル酸アンモニウム、ヘプタフルオロタンタル酸カリウム等のタンタル塩等又はタンタル酸塩等；
テルル酸、メタテルル酸アンモニウム、メタテルル酸カリウム、メタテルル酸ナトリウム、ヨウ化テルル（IV）、テルル酸カリウム、テルル酸ナトリウム、亜テルル酸、亜テルル酸カリウム、亜テルル酸ナトリウム、亜テルル酸バリウム、亜テルル酸リチウム、塩化テルル（IV）、酸化テルル（IV）、臭化テルル（IV）、水酸化硝酸三酸化二テルル、亜テルル酸亜鉛等のテルル塩等又はテルル酸塩等；
トリス（アセチルアセトナト）インジウム（III）、アミド硫酸インジウム（III）、二塩化インジウム、塩化インジウム（I）、塩化インジウム（III）、酢酸インジウム（III）、臭化インジウム（III）、ヨウ化インジウム（III）、硝酸インジウム（III）、硫酸インジウム（III）、フッ化インジウム（III）、酸化インジウム（III）、水酸化インジウム（III）等のインジウム塩等；
ビス（アセチルアセトナト）ジアクアバリウム（II）、亜セレン酸バリウム、亜テルル酸バリウム、安息香酸バリウム、アルミン酸バリウム、塩化バリウム、蟻酸バリウム、クエン酸バリウム、酸化バリウム、臭化バリウム、蓚酸バリウム、酒石酸バリウム、メタジルコニウム酸バリウム、水酸化バリウム、メタスズ酸バリウム、タングステン酸バリウム、メタチタン酸バリウム、メタニオブ酸バリウム、乳酸バリウム、メタホウ酸バリウム、モリブデン酸バリウム、ヨウ化バリウム、リン酸水素バリウム、炭酸バリウム、フッ化バリウム等のバリウム塩等；
テトラキス（アセチルアセトナト）ハフニウム（IV）、塩化ハフニウム（IV）、酸化ハフニウム（IV）、ヨウ化ハフニウム（IV）、硫酸ハフニウム（IV）、硝酸ハフニウム（IV）、オキシ蓚酸ハフニウム（IV）、フルオロハフニウム酸、フルオロハフニウム酸塩、フッ化ハフニウム等のハフニウム塩等又はハフニウム酸塩等；
亜セレン酸カリウム、亜セレン酸水素カリウム、亜セレン酸三水素セシウム、亜セレン酸水素ナトリウム、亜セレン酸水素リチウム、亜セレン酸銅（II）、亜セレン酸ナトリウム、亜セレン酸バリウム、オキシ塩化セレン、塩化セレン（I）、塩化セレン（IV）、酸化セレン（IV）、セレン酸アルミニウム、セレン酸、亜セレン酸亜鉛、セレン酸カリウム、セレン酸アンモニウム、セレン酸カルシウム、セレン酸セシウム、セレン酸コバルト、セレン酸銅（II）、セレン酸ニッケル、セレン酸ナトリウム、セレン酸バリウム、セレン酸亜鉛等のセレン塩等又はセレン酸塩等；
塩化スカンジウム（III）、蟻酸スカンジウム（III）、酢酸スカンジウム（III）、硝酸スカンジウム（III）、酸化スカンジウム（III）、フッ化スカンジウム（III）、ヨウ化スカンジウム（III）、硫酸スカンジウム（III）等のスカンジウム塩等；
酸化ニオブ（II）、酸化ニオブ（V）、五（蓚酸水素）ニオブ、水酸化ニオブ（V）、ニオブオキシアセチルアセトネート、メタニオブ酸、メタニオブ酸カルシウム、メタニオブ酸ストロンチウム、メタニオブ酸バリウム、メタニオブ酸マグネシウム、メタニオブ酸リチウム、メタニオブ酸アンモニウム、メタニオブ酸ナトリウム、五塩化ニオブ等のニオブ塩等又はニオブ酸塩等；
アミド硫酸銅（II）、安息香酸銅（II）、テトラアンミン銅（II）硝酸塩、クエン酸銅（II）、酸化銅（I）、臭化銅（I）、蓚酸銅（II）、蟻酸銅（II）、酢酸銅（II）、プロピオン酸銅（II）、吉草酸銅（II）、グルコン酸銅（II）、酒石酸銅（II）、塩化銅（II）、臭化銅（II）、水酸化銅（II）、酢酸銅（II）、硝酸銅（II）、硫酸銅（II）、炭酸銅（II）、酸化銅（II）、ヒドロキシ硝酸第二銅、タングステン酸銅（II）、炭酸水酸化銅（II）、乳酸銅（II）、フッ化銅（II）、ヨウ化銅（I）等の銅塩等；
トリス（アセチルアセトナト）イットリウム（III）、塩化イットリウム（III）、蟻酸イットリウム（III）、クエン酸イットリウム（III）、酢酸イットリウム（III）、酸化イットリウム（III）、蓚酸イットリウム（III）、硝酸イットリウム（III）、炭酸イットリウム（III）、フッ化イットリウム（III）、ヨウ化イットリウム（III）、硫酸イットリウム（III）、リン酸イットリウム（III）等のイットリウム塩等；
トリス（アセチルアセトナト）ランタン（III）、塩化ランタン（III）、蟻酸ランタン（III）、酢酸ランタン（III）、酸化ランタン（III）、蓚酸ランタン（III）、硝酸ランタン（III）、炭酸ランタン（III）、フッ化ランタン（III）、二チタン酸ランタン（III）、硫酸ランタン（III）、リン酸ランタン（III）、ヨウ化ランタン（III）等のランタン塩等；
トリス（アセチルアセトナト）ネオジム（III）、塩化ネオジム（III）、蟻酸ネオジム（III）、酢酸ネオジム（III）、酸化ネオジム（III）、臭化ネオジム（III）、蓚酸ネオジム（III）、硝酸ネオジム（III）、炭酸ネオジム（III）、二チタン酸ネオジム（III）、フッ化ネオジム（III）、ヨウ化ネオジム（III）、硫酸ネオジム（III）、リン酸ネオジム（III）等のネオジウム塩等；を挙げることができる。これらの化合物は無水物であってもよいし、水和物であってもよい。また、単独で使用してもよいし、２種以上組み合わせて使用してもよい。さらに、水系金属表面処理剤溶剤中に溶解していてもよいし、分散していてもよい。
架橋性有機化合物（Ｂ１）及び架橋性無機化合物（Ｂ２）から選ばれる１種又は２種以上の架橋性化合物（Ｂ）の含有量の総計（Ｂ＝Ｂ１＋Ｂ２）は、全固形分に対して、５質量％〜９０質量％であることが好ましく、１０質量％〜８０質量％であることがより好ましく、２０質量％〜８０質量％であることが特に好ましい。架橋性化合物（Ｂ）の含有量が５質量％〜９０質量％の範囲にあると、表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性がさらに向上する。
これらの各架橋性無機化合物（Ｂ２）の効果は、それぞれのもつ特性によって異なり、金属表面の不動態化、難溶解塩の形成、表面処理皮膜の不溶化の補強等、耐薬品密着維持性の向上に繋がる。
以上、架橋性化合物（Ｂ）を構成する架橋性有機化合物（Ｂ１）と架橋性無機化合物（Ｂ２）について説明したが、架橋性有機化合物（Ｂ１）と架橋性無機化合物（Ｂ２）は、いずれか１種が架橋性化合物（Ｂ）として水系金属表面処理剤に含まれていればよく、必ずしも両方の化合物（Ａ）（Ｂ）を含む必要はない。
しかし、架橋性有機化合物（Ｂ１）と架橋性無機化合物（Ｂ２）の両方を含む場合には、両者の含有比率（質量比）は、ＭＢ１／（ＭＢ１＋ＭＢ２）で０．２〜０．８の範囲であることが好ましい。架橋性有機化合物（Ｂ１）の含有比率がこの範囲にあると、水系金属表面処理剤で得た表面処理皮膜の緻密性をより高いものにすることができ、それにより耐薬品密着維持性をさらに向上させることができる。
（溶剤）
本発明に係る水系金属表面処理剤は、金属表面に塗布する際の作業性を良くするために、必要に応じて各種の溶剤を含有することができる。
本発明に係る水系金属表面処理剤は、金属表面に塗布する際の作業性を良くするために、必要に応じて各種の溶剤を含有することができる。
溶剤としては、例えば、水；ヘキサン、ペンタン等のアルカン系溶剤；ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤；エタノール、１−ブタノール、エチルセロソルブ等のアルコール系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブトキシエチル等のエステル系溶剤；ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶剤；ジメチルスルホキシド等のスルホン系溶剤；ヘキサメチルリン酸トリアミド等のリン酸アミド系溶剤；等が挙げられる。これらの溶剤は、上記の各溶媒のうち１種類を用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。このうち、環境上、経済上有利である理由から、水が好ましい。
（その他の添加剤）
本発明に係る水系金属表面処理剤は、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、防菌防ばい剤、着色剤等を、本発明の趣旨及び皮膜性能を損なわない範囲で含有することができる。
本発明に係る水系金属表面処理剤は、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、防菌防ばい剤、着色剤等を、本発明の趣旨及び皮膜性能を損なわない範囲で含有することができる。
（水系金属表面処理剤の調製方法）
本発明に係る水系金属表面処理剤の製造方法は、特に限定されない。例えば、有機化合物（Ａ）と架橋性化合物（Ｂ）は、任意に含まれる添加剤及び任意に含まれる溶剤等と混ぜ、混合ミキサー等の攪拌機を用いて十分に混合することによって調製することができる。
本発明に係る水系金属表面処理剤の製造方法は、特に限定されない。例えば、有機化合物（Ａ）と架橋性化合物（Ｂ）は、任意に含まれる添加剤及び任意に含まれる溶剤等と混ぜ、混合ミキサー等の攪拌機を用いて十分に混合することによって調製することができる。
［金属材料］
本発明に係る金属材料１０は、図１に示すように、基材金属１と、その表面に本発明に係る水系金属表面処理剤を塗布して形成された表面処理皮膜２を有する。「塗布」とは、後述する塗布工程によって、基材金属１の表面に水系金属表面処理剤を塗ることをいう。「有する」とは、基材金属１及び表面処理皮膜２以外に他の構成を有していてもよいことを意味している。例えば、表面処理皮膜２の上にラミネート加工によって形成された樹脂フィルム３や塗布形成した樹脂塗膜３を有していてもよい。表面処理皮膜２は、上記した本発明に係る水系金属表面処理剤を基材金属１に塗布して形成されるので、密着性及び耐薬品密着維持性に優れている。
本発明に係る金属材料１０は、図１に示すように、基材金属１と、その表面に本発明に係る水系金属表面処理剤を塗布して形成された表面処理皮膜２を有する。「塗布」とは、後述する塗布工程によって、基材金属１の表面に水系金属表面処理剤を塗ることをいう。「有する」とは、基材金属１及び表面処理皮膜２以外に他の構成を有していてもよいことを意味している。例えば、表面処理皮膜２の上にラミネート加工によって形成された樹脂フィルム３や塗布形成した樹脂塗膜３を有していてもよい。表面処理皮膜２は、上記した本発明に係る水系金属表面処理剤を基材金属１に塗布して形成されるので、密着性及び耐薬品密着維持性に優れている。
金属材料１０は、そのような表面処理皮膜２を有するので、表面処理皮膜２の上に樹脂フィルム３又は樹脂塗膜３を形成した後、深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに２次電池電解液等の酸等の薬品（薬液）に曝された場合であっても、樹脂フィルム３又は樹脂塗膜３が金属材料１０から剥離することを防ぐことができる。
なお、図１では、基材金属１の一方の表面に、表面処理皮膜２と、樹脂フィルム３又は樹脂塗膜３とを形成した例を示しているが、基材金属１の両面に、すなわち他方の表面にも表面処理皮膜２を形成し、さらに樹脂フィルム３又は樹脂塗膜３を設けてもよい。
基材金属１の種類は、特に限定されず、各種のものを適用できる。例えば、食品用缶のボディー又は蓋材、食品用容器、乾電池容器、２次電池の外装材等に適用可能な金属材料を挙げることができるが、これらに限定されず、広い用途に応用可能な金属材料を用いることができる。特に、携帯電話、電子手帳、ノート型パソコン又はビデオカメラ等に用いられるモバイル用リチウムイオン２次電池の外装材、電気自動車又はハイブリッド自動車の駆動エネルギーとして用いるリチウムイオン２次電池の外装材として利用可能な金属材料を挙げることができる。これらの金属材料のうち、その表面に表面処理皮膜を形成することができ、さらに表面処理皮膜の上に樹脂フィルムをラミネート等することができ、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施すことができる金属材料を好ましく用いることができる。
そうした金属材料としては、例えば、純銅、銅合金等の銅材料、純アルミニウム、アルミニウム合金等のアルミニウム材料、普通鋼、合金鋼等の鉄材料、純ニッケル、ニッケル合金等のニッケル材料等を挙げることができる。
銅合金としては、銅を５０質量％以上含有するものが好ましく、例えば、黄銅等を用いることができる。銅合金における銅以外の合金成分としては、例えば、Ｚｎ、Ｐ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ等を挙げることができる。アルミニウム合金としては、アルミニウムを５０質量％以上含有するものが好ましく、例えば、Ａｌ−Ｍｇ系合金等を用いることができる。アルミニウム合金におけるアルミニウム以外の合金成分としては、例えば、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｔｉ等を挙げることができる。合金鋼としては、鉄を５０質量％以上含有するものが好ましく、例えば、ステンレス鋼等を用いることができる。合金鋼における鉄以外の合金成分としては、例えば、Ｃ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｐ、Ｓ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等を挙げることができる。ニッケル合金としては、ニッケルを５０質量％以上含有するものが好ましく、例えば、Ｎｉ−Ｐ合金等を用いることができる。ニッケル合金におけるニッケル以外の合金成分としては、例えば、Ａｌ、Ｃ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｐ等を挙げることができる。
基材金属１は、上記した金属材料以外の金属材料、セラミックス材料又は有機材料の表面に、上記した金属元素を含む皮膜を形成したものであってもよい。そのような金属皮膜は、例えば、めっき、蒸着、クラッド等の手法により形成することができる。また、基材金属１の形状、構造等は特に限定されず、例えば、板状又は箔状の金属材料を用いることができる。
以上説明したように、本発明に係る水系金属表面処理剤は、２個以上のブロック化イソシアネート基を含有するポリイソシアネート化合物（Ａ）を含有するので、その水系金属表面処理剤で処理して得られる表面処理皮膜は、高い密着性を有するとともに、酸等に曝されても高い密着性を維持することができる。特にイソシアネート基が３個以上になると、形成された表面処理皮膜が３次元網目構造となり、酸や有機溶媒等に対して難溶解性の皮膜となる。その結果、表面処理皮膜２が形成された基材金属１に樹脂フィルム３をラミネートし又は樹脂塗膜３を形成し、その後に深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに酸や有機溶剤等に曝された場合であっても、そのラミネートフィルム３又は樹脂塗膜３が基材金属１から剥離することを防ぐことができる。そして、電解液等の薬品に対する高密着維持性を発現することができる。
また、本発明に係る金属材料によれば、密着性及び耐薬品密着性に優れた表面処理皮膜を有する金属材料とすることができる。
［表面処理方法］
水系金属表面処理剤を用いた金属表面の処理方法は、水系金属表面処理剤を基材金属の表面に塗布する塗布工程と、塗布工程の後、水洗することなく乾燥し、表面処理皮膜を形成する乾燥工程とによって形成することができる。
水系金属表面処理剤を用いた金属表面の処理方法は、水系金属表面処理剤を基材金属の表面に塗布する塗布工程と、塗布工程の後、水洗することなく乾燥し、表面処理皮膜を形成する乾燥工程とによって形成することができる。
（塗布工程）
塗布工程は、水系金属表面処理剤を基材金属の表面に塗布する工程である。塗布する方法は、特に限定されず、例えば、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、カーテンコート、スピンコート、バーコート又はこれらを組み合わせた方法を用いることができる。水系金属表面処理剤の使用条件は、特に限定されない。例えば、塗布する際の水系金属表面処理剤及び金属材料の温度は、１０℃〜９０℃であることが好ましく、２０℃〜６０℃であることがより好ましい。温度が６０℃以下であると、無駄なエネルギーの使用を抑制することができる。また、塗布する時間及び塗布する量は、得られる表面処理皮膜の求められる膜厚に応じて適宜設定することができる。
塗布工程は、水系金属表面処理剤を基材金属の表面に塗布する工程である。塗布する方法は、特に限定されず、例えば、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、カーテンコート、スピンコート、バーコート又はこれらを組み合わせた方法を用いることができる。水系金属表面処理剤の使用条件は、特に限定されない。例えば、塗布する際の水系金属表面処理剤及び金属材料の温度は、１０℃〜９０℃であることが好ましく、２０℃〜６０℃であることがより好ましい。温度が６０℃以下であると、無駄なエネルギーの使用を抑制することができる。また、塗布する時間及び塗布する量は、得られる表面処理皮膜の求められる膜厚に応じて適宜設定することができる。
（乾燥工程）
乾燥工程は、塗布工程の後、水洗することなく乾燥し、表面処理皮膜を形成する工程である。乾燥温度は、使用する溶剤に合わせた温度とすることができる。例えば、水を溶剤として用いた場合には、５０℃〜２５０℃の範囲であることが好ましい。乾燥装置は特に限定されないが、バッチ式、連続式又は熱風循環式の乾燥炉、コンベアー式熱風乾燥炉又はＩＨヒーターを用いた電磁誘導加熱炉等を用いることができ、その風量と風速等は任意に設定することができる。
乾燥工程は、塗布工程の後、水洗することなく乾燥し、表面処理皮膜を形成する工程である。乾燥温度は、使用する溶剤に合わせた温度とすることができる。例えば、水を溶剤として用いた場合には、５０℃〜２５０℃の範囲であることが好ましい。乾燥装置は特に限定されないが、バッチ式、連続式又は熱風循環式の乾燥炉、コンベアー式熱風乾燥炉又はＩＨヒーターを用いた電磁誘導加熱炉等を用いることができ、その風量と風速等は任意に設定することができる。
こうして得られる表面処理皮膜は、その上にさらに樹脂フィルム（ラミネートフィルム）又は樹脂塗膜を形成した後、深絞り加工、しごき加工又はストレッチドロー加工等の厳しい成形加工を施した場合であっても、また、さらに酸等に曝されても、ラミネートフィルム又は樹脂塗膜からなる樹脂皮膜が剥離することを防ぐことができる。
なお、得られる表面処理皮膜の膜厚は、０．０１μｍ〜１μｍとすることが好ましく、０．０２μｍ〜０．０５μｍとすることがより好ましい。膜厚を０．０１μｍ〜１μｍの範囲とすることで、表面処理皮膜の密着性及び耐薬品密着維持性をより高めることができる。
以下、実施例及び比較例により本発明をさらに詳しく説明する。本発明は以下の実施例により限定されるものではない。なお、以下において、「部」は「質量部」のことであり、「質量％」は「重量％」と同義であり、以下では特に断らない限り単に「％」と表すこともある。［ｐｐｍ］は「ｍｇ／Ｌ」と同義である。
［ポリイソシアネート化合物（Ａ）］
用いたポリイソシアネート化合物（Ａ）を以下に示す。
用いたポリイソシアネート化合物（Ａ）を以下に示す。
（Ａａ：ポリイソシアネートＡ）
グリセリンにプロピレンオキサイドを付加し、さらに末端にエチレンオキサイドを全分子量の１５％になるように付加した分子量３０００のポリオール４８６質量部と、ジプロピレングリコール２６．１質量部とを混合したポリオール（平均分子量２８５４、平均官能基数２．４６）に、ジオクチルチンジラウレート０．０２質量部を添加し、さらにへキサメチレンジイソシアネート（ＮＣＯ／ＯＨ当量比１．８５）１３９質量部を添加し、８０℃で１時間反応を行った。これにより、ＮＣＯが４．９質量％の末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを得た。次いで、溶媒としてＤＩＮＰ（ジイソノニルフタレート）１８３質量部を添加した。この末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーに、重亜流酸ソーダをＮＣＯ基に対して１．２５当量分を添加し、６０℃で１時間反応を行い、ブロック化イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーＡを得た。
グリセリンにプロピレンオキサイドを付加し、さらに末端にエチレンオキサイドを全分子量の１５％になるように付加した分子量３０００のポリオール４８６質量部と、ジプロピレングリコール２６．１質量部とを混合したポリオール（平均分子量２８５４、平均官能基数２．４６）に、ジオクチルチンジラウレート０．０２質量部を添加し、さらにへキサメチレンジイソシアネート（ＮＣＯ／ＯＨ当量比１．８５）１３９質量部を添加し、８０℃で１時間反応を行った。これにより、ＮＣＯが４．９質量％の末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを得た。次いで、溶媒としてＤＩＮＰ（ジイソノニルフタレート）１８３質量部を添加した。この末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーに、重亜流酸ソーダをＮＣＯ基に対して１．２５当量分を添加し、６０℃で１時間反応を行い、ブロック化イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーＡを得た。
（Ａｂ：ポリイソシアネートＢ）
グリセリンにプロピレンオキサイドを付加し、さらに末端にエチレンオキサイドを全分子量の１５％になるように付加した分子量３０００のポリオール４８６質量部と、ジプロピレングリコール２６．１質量部とを混合したポリオール（平均分子量２８５４、平均官能基数２．４６）に、ジオクチルチンジラウレート０．０２質量部を添加し、さらにイソホロンジイソシアネート（ＮＣＯ／ＯＨ当量比１．８５）１８３質量部を添加し、８０℃で１時間反応を行った。これにより、ＮＣＯが４．６質量％の末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを得た。次いで、溶媒としてＤＩＮＰ（ジイソノニルフタレート）１９４質量部を添加した。この末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーに、メチルエチルケトオキシムをＮＣＯ基に対して１．２５当量添加し、６０℃で１時間反応を行い、ブロック化イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーＢを得た。
グリセリンにプロピレンオキサイドを付加し、さらに末端にエチレンオキサイドを全分子量の１５％になるように付加した分子量３０００のポリオール４８６質量部と、ジプロピレングリコール２６．１質量部とを混合したポリオール（平均分子量２８５４、平均官能基数２．４６）に、ジオクチルチンジラウレート０．０２質量部を添加し、さらにイソホロンジイソシアネート（ＮＣＯ／ＯＨ当量比１．８５）１８３質量部を添加し、８０℃で１時間反応を行った。これにより、ＮＣＯが４．６質量％の末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを得た。次いで、溶媒としてＤＩＮＰ（ジイソノニルフタレート）１９４質量部を添加した。この末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーに、メチルエチルケトオキシムをＮＣＯ基に対して１．２５当量添加し、６０℃で１時間反応を行い、ブロック化イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーＢを得た。
（Ａｃ：ポリイソシアネートＣ）
グリセリンにプロピレンオキサイドを付加し、さらに末端にエチレンオキサイドを全分子量の１５％になるように付加した分子量３０００のポリオール４８６質量部と、ジプロピレングリコール２６．１質量部とを混合したポリオール（平均分子量２８５４、平均官能基数２．４６）に、ジオクチルチンジラウレート０．０２質量部を添加し、さらにイソホロンジイソシアネート（ＮＣＯ／ＯＨ当量比１．８５）１８３質量部を添加し、８０℃で１時間反応を行った。これにより、ＮＣＯが４．６質量％の末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを得た。次いで、溶媒としてＤＩＮＰ（ジイソノニルフタレート）１９４質量部を添加した。この末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーに、メチルエチルケトオキシムをＮＣＯ基に対して１．２５当量添加し、６０℃で１時間反応を行い、ブロック化イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーＣを得た。
グリセリンにプロピレンオキサイドを付加し、さらに末端にエチレンオキサイドを全分子量の１５％になるように付加した分子量３０００のポリオール４８６質量部と、ジプロピレングリコール２６．１質量部とを混合したポリオール（平均分子量２８５４、平均官能基数２．４６）に、ジオクチルチンジラウレート０．０２質量部を添加し、さらにイソホロンジイソシアネート（ＮＣＯ／ＯＨ当量比１．８５）１８３質量部を添加し、８０℃で１時間反応を行った。これにより、ＮＣＯが４．６質量％の末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを得た。次いで、溶媒としてＤＩＮＰ（ジイソノニルフタレート）１９４質量部を添加した。この末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーに、メチルエチルケトオキシムをＮＣＯ基に対して１．２５当量添加し、６０℃で１時間反応を行い、ブロック化イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーＣを得た。
（Ａｄ：ポリイソシアネートＤ）
グリセリンにビスフェノールＡエチレンオキサイドを付加し、さらに末端にエチレンオキサイドを全分子量の１５％になるように付加した分子量３０００のポリオール４８６質量部と、ジプロピレングリコール２６．１質量部とを混合したポリオール（平均分子量２８５４、平均官能基数２．４６）に、ジオクチルチンジラウレート０．０２質量部を添加し、さらにヘキサメチレンジイソシアネート（ＮＣＯ／ＯＨ当量比１．８５）１３９質量部を添加し、８０℃で１時間反応を行った。これにより、ＮＣＯが４．９質量％の末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを得た。次いで、溶媒としてＤＩＮＰ（ジイソノニルフタレート）１８３質量部を添加した。この末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーに、重亜流酸ソーダをＮＣＯ基に対して１．２５当量分を添加し、６０℃で１時間反応を行い、ブロック化イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーＤを得た。
グリセリンにビスフェノールＡエチレンオキサイドを付加し、さらに末端にエチレンオキサイドを全分子量の１５％になるように付加した分子量３０００のポリオール４８６質量部と、ジプロピレングリコール２６．１質量部とを混合したポリオール（平均分子量２８５４、平均官能基数２．４６）に、ジオクチルチンジラウレート０．０２質量部を添加し、さらにヘキサメチレンジイソシアネート（ＮＣＯ／ＯＨ当量比１．８５）１３９質量部を添加し、８０℃で１時間反応を行った。これにより、ＮＣＯが４．９質量％の末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを得た。次いで、溶媒としてＤＩＮＰ（ジイソノニルフタレート）１８３質量部を添加した。この末端イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーに、重亜流酸ソーダをＮＣＯ基に対して１．２５当量分を添加し、６０℃で１時間反応を行い、ブロック化イソシアネート基含有ウレタンプレポリマーＤを得た。
［架橋性有機化合物（Ｂ１）］
Ｂ１ａ：１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸
Ｂ１ｂ：カルボジイミドを有する有機化合物［ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート７００質量部を、３−メチル−１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド（カルボジイミド化触媒）１４質量部の存在下、１８０℃で３２時間反応させて、両末端がイソシアネート基で縮合度１２のポリカルボジイミド化合物を得た。得られたポリカルボジイミド化合物２２４質量部に、重合度１２のポリオキシエチレンモノメチルエーテル１１５質量部を加え、１００℃で４８時間反応させて両末端のイソシアネート基を封止し、次いで、５０℃で、蒸留水５０９質量部を徐々に加えて、ポリカルボジイミド化合物水溶液を得た。］
Ｂ１ｃ：グリシジル基を有する有機化合物［グリセロールポリグリシジルエーテル（３官能、エポキシ当量１４４、粘度１７０ｍＰａ・Ｓ）を用いた。］
Ｂ１ｄ：タンニン Ｃ７６Ｈ５２Ｏ４６
Ｂ１ｅ：没食子酸 Ｃ６Ｈ２（ＯＨ）３ＣＯＯＨ
Ｂ１ａ：１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸
Ｂ１ｂ：カルボジイミドを有する有機化合物［ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート７００質量部を、３−メチル−１−フェニル−２−ホスホレン−１−オキシド（カルボジイミド化触媒）１４質量部の存在下、１８０℃で３２時間反応させて、両末端がイソシアネート基で縮合度１２のポリカルボジイミド化合物を得た。得られたポリカルボジイミド化合物２２４質量部に、重合度１２のポリオキシエチレンモノメチルエーテル１１５質量部を加え、１００℃で４８時間反応させて両末端のイソシアネート基を封止し、次いで、５０℃で、蒸留水５０９質量部を徐々に加えて、ポリカルボジイミド化合物水溶液を得た。］
Ｂ１ｃ：グリシジル基を有する有機化合物［グリセロールポリグリシジルエーテル（３官能、エポキシ当量１４４、粘度１７０ｍＰａ・Ｓ）を用いた。］
Ｂ１ｄ：タンニン Ｃ７６Ｈ５２Ｏ４６
Ｂ１ｅ：没食子酸 Ｃ６Ｈ２（ＯＨ）３ＣＯＯＨ
［架橋性無機化合物（Ｂ２）］
用いた架橋性無機化合物（Ｂ２）を以下に示す。
用いた架橋性無機化合物（Ｂ２）を以下に示す。
Ｂ２ａ：チタンフッ化水素酸（濃度４０．０質量％）
Ｂ２ｂ：ジルコニウムフッ化水素酸（濃度４０．０質量％）
Ｂ２ｃ：シリカゾル（表面電荷カチオン、粒子径１０〜２０ｎｍ、１９．０質量％、ｐＨ＝４．７）
Ｂ２ｄ：乳酸チタン（濃度４４．０質量％）
Ｂ２ｅ：非晶質ジルコニアゾル（不揮発分濃度１０．０質量％、粒子径１０〜３０ｎｍ、ｐＨ＝２．８）
Ｂ２ｆ：ケイフッ化水素酸（濃度４０．０質量％）
Ｂ２ｇ：フッ化クロム（III）（Ｃｒ濃度１．０質量％）
Ｂ２ｈ：フッ化鉄（III）（Ｆｅ濃度２．５質量％）
Ｂ２ｉ；酸化セレン（IV）
Ｂ２ｊ；酸化セリウムゾル（不揮発分濃度１５％、ｐＨ＝３．５）
Ｂ２ｋ；酢酸クロム（III）
Ｂ２ｂ：ジルコニウムフッ化水素酸（濃度４０．０質量％）
Ｂ２ｃ：シリカゾル（表面電荷カチオン、粒子径１０〜２０ｎｍ、１９．０質量％、ｐＨ＝４．７）
Ｂ２ｄ：乳酸チタン（濃度４４．０質量％）
Ｂ２ｅ：非晶質ジルコニアゾル（不揮発分濃度１０．０質量％、粒子径１０〜３０ｎｍ、ｐＨ＝２．８）
Ｂ２ｆ：ケイフッ化水素酸（濃度４０．０質量％）
Ｂ２ｇ：フッ化クロム（III）（Ｃｒ濃度１．０質量％）
Ｂ２ｈ：フッ化鉄（III）（Ｆｅ濃度２．５質量％）
Ｂ２ｉ；酸化セレン（IV）
Ｂ２ｊ；酸化セリウムゾル（不揮発分濃度１５％、ｐＨ＝３．５）
Ｂ２ｋ；酢酸クロム（III）
［水系金属表面処理剤］
有機化合物Ａａ〜Ａｄと、架橋性有機化合物Ｂ１ａ〜Ｂ１ｅ及び架橋性無機化合物Ｂ２ａ〜Ｂ２ｋから選ばれる１種又は２種以上とを所定の含有量で組み合わせ、溶剤を水として、表１に示す実施例１〜３０の水系金属表面処理剤を準備した。なお、表１における「濃度」は、水系金属表面処理剤に含まれる各化合物の不揮発分濃度（質量％）を示す。また、「Ａ濃度」は、水系金属表面処理剤中の全固形分に対する有機化合物（Ａ）の含有量（質量％）を示し、「Ｂ１＋Ｂ２濃度」は、水系金属表面処理剤中の全固形分に対する架橋性化合物（Ｂ）の含有量であって、架橋性有機化合物Ｂ１と架橋性無機化合物Ｂ２との合計含有量（質量％）を示す。
有機化合物Ａａ〜Ａｄと、架橋性有機化合物Ｂ１ａ〜Ｂ１ｅ及び架橋性無機化合物Ｂ２ａ〜Ｂ２ｋから選ばれる１種又は２種以上とを所定の含有量で組み合わせ、溶剤を水として、表１に示す実施例１〜３０の水系金属表面処理剤を準備した。なお、表１における「濃度」は、水系金属表面処理剤に含まれる各化合物の不揮発分濃度（質量％）を示す。また、「Ａ濃度」は、水系金属表面処理剤中の全固形分に対する有機化合物（Ａ）の含有量（質量％）を示し、「Ｂ１＋Ｂ２濃度」は、水系金属表面処理剤中の全固形分に対する架橋性化合物（Ｂ）の含有量であって、架橋性有機化合物Ｂ１と架橋性無機化合物Ｂ２との合計含有量（質量％）を示す。
一方、比較例１は特開２００２−２６５８２１号公報に記載の水溶性アクリル樹脂Ａ水溶液（下記参照）を金属表面処理剤とし、比較例２は特開２００３−３１３６８０号公報に記載の処理剤（下記参照）を金属表面処理剤とした。
［比較例１の金属表面処理剤；特開２００２−２６５８２１号公報］
アクリル樹脂のモノマー組成を、アクリル酸１６０質量部、アクリル酸エチル２０質量部、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル２０質量部の混合モノマー液とした。その混合モノマー液に、硫酸アンモニウム１．６質量部及びイオン交換水２３．４質量部の混合液を、それぞれ滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下を終了した後、加熱、攪拌、窒素還流を２時間継続した。加熱と窒素還流を止め、溶液を攪拌しながら３０℃まで冷却し、２００メッシュ篩で濾過して、無色透明の水溶性アクリル樹脂Ａ水溶液を得た。不揮発分濃度２０％、樹脂固形分酸価６２３、樹脂固形分水酸基価４３であることを確認した。また、水溶性フェノール樹脂として、ショーノールＢＲＬ−１５７（昭和高分子株式会社製、不揮発分濃度４３％）、ジルコニウム化合物としてジルコニウムフッ化水素酸（不揮発分濃度４０％）を用いた。
アクリル樹脂のモノマー組成を、アクリル酸１６０質量部、アクリル酸エチル２０質量部、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル２０質量部の混合モノマー液とした。その混合モノマー液に、硫酸アンモニウム１．６質量部及びイオン交換水２３．４質量部の混合液を、それぞれ滴下漏斗を用いて３時間かけて滴下した。滴下を終了した後、加熱、攪拌、窒素還流を２時間継続した。加熱と窒素還流を止め、溶液を攪拌しながら３０℃まで冷却し、２００メッシュ篩で濾過して、無色透明の水溶性アクリル樹脂Ａ水溶液を得た。不揮発分濃度２０％、樹脂固形分酸価６２３、樹脂固形分水酸基価４３であることを確認した。また、水溶性フェノール樹脂として、ショーノールＢＲＬ−１５７（昭和高分子株式会社製、不揮発分濃度４３％）、ジルコニウム化合物としてジルコニウムフッ化水素酸（不揮発分濃度４０％）を用いた。
［比較例２の金属表面処理剤；特開２００３−３１３６８０号公報］
イオン交換水９７０．２質量部を１Ｌプラスチックビーカーに入れた。常温で攪拌しながら、ジルコニウムフッ化水素酸（Ｚｒ濃度換算で１７．６％に予め調整）２．８質量部を徐々に添加した。さらに、１−ヒドロキシエチリデン−１,１−ジホスホン酸３質量部を徐々に添加した。続いて、タンニン酸（不揮発分５０％濃度に予め調整）２４質量部を徐々に添加した。攪拌しながら、処理剤のフリーフッ素濃度が１２ｐｐｍになるようにフッ化水素酸を添加した後、アンモニアを添加し、処理剤のｐＨを２．６に調整した。その後、１０分間攪拌して処理剤を得た。処理剤の成分組成については、フッ化ジルコニウム水素酸をジルコニウム換算で５００ｐｐｍ、１−ヒドロキシエチリデン−１,１−ジホスホン酸をリンとして１００ｐｐｍ、タンニン１２００ｐｐｍを含有する水溶液を得た。
イオン交換水９７０．２質量部を１Ｌプラスチックビーカーに入れた。常温で攪拌しながら、ジルコニウムフッ化水素酸（Ｚｒ濃度換算で１７．６％に予め調整）２．８質量部を徐々に添加した。さらに、１−ヒドロキシエチリデン−１,１−ジホスホン酸３質量部を徐々に添加した。続いて、タンニン酸（不揮発分５０％濃度に予め調整）２４質量部を徐々に添加した。攪拌しながら、処理剤のフリーフッ素濃度が１２ｐｐｍになるようにフッ化水素酸を添加した後、アンモニアを添加し、処理剤のｐＨを２．６に調整した。その後、１０分間攪拌して処理剤を得た。処理剤の成分組成については、フッ化ジルコニウム水素酸をジルコニウム換算で５００ｐｐｍ、１−ヒドロキシエチリデン−１,１−ジホスホン酸をリンとして１００ｐｐｍ、タンニン１２００ｐｐｍを含有する水溶液を得た。
［金属材料］
基材金属として用いた金属材料を以下に示す。
基材金属として用いた金属材料を以下に示す。
Ａｌ：Ａ１１００Ｐ、厚さ０．３ｍｍ
Ｃｕ：Ｃ１０２０Ｐ、厚さ０．３ｍｍ
Ｎｉ：純ニッケル板：（純度９９質量％以上）、厚さ０．３ｍｍ
ＳＵＳ：ＳＵＳ３０４板、厚さ０．３ｍｍ
ＮｉめっきＣｕ：電気ＮｉめっきＣｕ板（厚さ０．３ｍｍ、Ｎｉめっき厚２μｍ）
これら金属材料から、表１の「基材」欄に示す金属材料を選択し、実施例１〜３０及び比較例１〜６の基材金属として準備した。
Ｃｕ：Ｃ１０２０Ｐ、厚さ０．３ｍｍ
Ｎｉ：純ニッケル板：（純度９９質量％以上）、厚さ０．３ｍｍ
ＳＵＳ：ＳＵＳ３０４板、厚さ０．３ｍｍ
ＮｉめっきＣｕ：電気ＮｉめっきＣｕ板（厚さ０．３ｍｍ、Ｎｉめっき厚２μｍ）
これら金属材料から、表１の「基材」欄に示す金属材料を選択し、実施例１〜３０及び比較例１〜６の基材金属として準備した。
［供試材の作製］
（表面処理）
表１に示した実施例１〜３０及び比較例１〜６の基材金属をファインクリーナー３５９Ｅ（日本パーカライジング株式会社製のアルカリ脱脂剤）の３％水溶液で６５℃、１分間スプレー脱脂した後、水洗して表面を清浄した。続いて、基材金属の表面の水分を蒸発させるために、８０℃で１分間、加熱乾燥した。脱脂洗浄した基材金属の表面に、表１に示した実施例１〜３０及び比較例１，２の水系金属表面処理剤を＃３ＳＵＳマイヤーバーを用い、バーコートによってウェット量５ｍＬ／ｍ２塗布し（塗布工程）、熱風循環式乾燥炉内で１８０℃、１分間乾燥し（乾燥工程）、表面処理皮膜を有する金属材料を得た。
（表面処理）
表１に示した実施例１〜３０及び比較例１〜６の基材金属をファインクリーナー３５９Ｅ（日本パーカライジング株式会社製のアルカリ脱脂剤）の３％水溶液で６５℃、１分間スプレー脱脂した後、水洗して表面を清浄した。続いて、基材金属の表面の水分を蒸発させるために、８０℃で１分間、加熱乾燥した。脱脂洗浄した基材金属の表面に、表１に示した実施例１〜３０及び比較例１，２の水系金属表面処理剤を＃３ＳＵＳマイヤーバーを用い、バーコートによってウェット量５ｍＬ／ｍ２塗布し（塗布工程）、熱風循環式乾燥炉内で１８０℃、１分間乾燥し（乾燥工程）、表面処理皮膜を有する金属材料を得た。
比較例１では、前記したＡｌ材を用い、前処理までは実施例１〜３０と同じように行った。用いる金属表面処理剤を、＃６ＳＵＳマイヤーバーを用いてウェット量１０ｍＬ／ｍ２になるように基材金属に塗布し、８０℃で加熱乾燥した。また、比較例２では、前記したＡｌ材を用い、前処理までは実施例１〜３０と同じようにアルカリ脱脂を行った後、水洗を行い、さらに６５℃の１％希硫酸中に３秒間浸漬し、水洗した。さらに、スプレー装置を使用して、金属表面処理剤を５５℃で５秒間スプレー処理し、８０℃で３０秒間加熱乾燥した。
比較例３〜６では、表１に記載の基材金属を準備し、水系金属表面処理剤を塗布しないで、上記と同様に、脱脂、水洗の後に加熱乾燥し、表面処理皮膜を有しない金属材料を得た。
実施例１〜３０及び比較例１，２では、同種の水系金属表面処理剤を用いて表面処理した金属材料をそれぞれ２つずつ準備し、以下に示すように、表面処理皮膜の上にそれぞれ別の方法でラミネート加工を施した。また、比較例３〜６では、表面処理皮膜を設けない同種の基材金属を２つずつ準備し、以下に示すように、基材金属上にそれぞれ別の方法でラミネート加工を施した。
（ラミネート加工）
２つずつ準備した表面処理皮膜を有する金属材料の１つについて、その表面処理皮膜の上に、ヒートラミネーションによるラミネート加工を施した。他の１つの表面処理皮膜の上に、ドライラミネーションによるラミネート加工を施した。表面処理皮膜を有しない金属材料についても、２つのうち１つの片側表面にヒートラミネーションを施し、他の１つの片側表面にドライラミネーションを施した。これらのラミネート加工によって、ポリプロピレンフィルム積層金属材料を得た。
２つずつ準備した表面処理皮膜を有する金属材料の１つについて、その表面処理皮膜の上に、ヒートラミネーションによるラミネート加工を施した。他の１つの表面処理皮膜の上に、ドライラミネーションによるラミネート加工を施した。表面処理皮膜を有しない金属材料についても、２つのうち１つの片側表面にヒートラミネーションを施し、他の１つの片側表面にドライラミネーションを施した。これらのラミネート加工によって、ポリプロピレンフィルム積層金属材料を得た。
ヒートラミネーションによるラミネート加工は、次のように行った。酸変性ポリプロピレンのディスパージョン（三井化学株式会社製、「Ｒ１２０Ｋ」、不揮発分濃度２０質量％）を＃８ＳＵＳマイヤーバーを用い、バーコートによって塗布した後、熱風循環式乾燥炉内で２００℃、１分間乾燥することで接着剤層を形成した。その後、この接着剤層と、厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（東セロ株式会社製、「ＣＰＰＳ」）とを、１９０℃、２ＭＰａで１０分間熱圧着することでヒートラミネーションによるラミネート加工を行い、ポリプロピレンフィルムが積層された金属材料を得た。
ドライラミネーションによるラミネート加工は、次のように行った。ウレタン系ドライラミネート接着剤（東洋モートン株式会社製、「ＡＤ−５０３／ＣＡＴ１０」、不揮発分濃度２５質量％）を、＃８ＳＵＳマイヤーバーを用い、バーコートによって塗布した後、熱風循環式乾燥炉内で８０℃、１分間乾燥し、その後、この接着剤層と３０μｍの未延伸ポリプロピレンフィルム（二村化学工業株式会社製、「ＦＣＺＸ」）のコロナ放電処理面とを１００℃、１ＭＰａで圧着した後、４０℃で４日間養生することで、ドライラミネーションによるラミネート加工を行い、ポリプロピレンフィルムが積層された金属材料を得た。
（成形加工）
ヒートラミネーションによって得たポリプロピレンフィルム積層金属材料と、ドライラミネーションによって得たポリプロピレンフィルム積層金属材料とを、それぞれ絞りしごき加工試験で深絞り加工した。直径１６０ｍｍに打ち抜いた被覆金属板を絞り加工（１回目）し、直径１００ｍｍのカップを作製した。続いて、そのカップを直径７５ｍｍに再度絞り加工（２回目）し、さらに直径６５ｍｍに絞り加工（３回目）し、供試材である缶を作製した。なお、１回目の絞り加工、２回目の絞り加工、３回目の絞り加工におけるしごき（薄肉化分）率は、それぞれ、５％、１５％、１５％であった。
ヒートラミネーションによって得たポリプロピレンフィルム積層金属材料と、ドライラミネーションによって得たポリプロピレンフィルム積層金属材料とを、それぞれ絞りしごき加工試験で深絞り加工した。直径１６０ｍｍに打ち抜いた被覆金属板を絞り加工（１回目）し、直径１００ｍｍのカップを作製した。続いて、そのカップを直径７５ｍｍに再度絞り加工（２回目）し、さらに直径６５ｍｍに絞り加工（３回目）し、供試材である缶を作製した。なお、１回目の絞り加工、２回目の絞り加工、３回目の絞り加工におけるしごき（薄肉化分）率は、それぞれ、５％、１５％、１５％であった。
［性能評価］
（初期密着性）
深絞り加工した後の供試材について、ポリプロピレンフィルムの剥離の有無（「初期密着性」という。）を評価した。缶が作製でき、フィルムの剥離がなく初期密着性に優れるものを「３点」とし、フィルムの一部が剥離したものを「２点」とし、フィルムが全面剥離したものを「１点」とした。評価試験の結果を表２に示す。
（初期密着性）
深絞り加工した後の供試材について、ポリプロピレンフィルムの剥離の有無（「初期密着性」という。）を評価した。缶が作製でき、フィルムの剥離がなく初期密着性に優れるものを「３点」とし、フィルムの一部が剥離したものを「２点」とし、フィルムが全面剥離したものを「１点」とした。評価試験の結果を表２に示す。
（耐薬品密着維持性）
深絞り加工した後の供試材を、密閉容器中に充填されたイオン交換水を１０００ｐｐｍ添加したリチウムイオン２次電池用電解液（電解質；１Ｍ−ＬｉＰＦ６、溶媒；ＥＣ：ＤＭＣ：ＤＥＣ＝１：１：１（体積％））中に浸漬した後、６０℃の恒温槽中に７日間投入した。なお、「ＥＣ」はエチレンカーボネートのことであり、「ＤＭＣ」はジメチルカーボネートのことであり、「ＤＥＣ」はジエチルカーボネートのことである。その後、供試材を取り出し、イオン交換水中に１分間浸漬、揺動することで洗浄した後、熱風循環式乾燥炉内で、１００℃で１０分間乾燥した。フィルムの剥離がなく耐薬品密着維持性に優れるものを「３点」とし、フィルムの剥離はないものの爪で強く引っ掻くと極僅かに剥離したものを「２．５点」とし、フィルムの一部が剥離したものを「２点」とし、フィルムが全面剥離したものを「１点」とした。評点について「２．５点」以上あれば実用レベルと判定される。評価試験の結果を表２に示す。
深絞り加工した後の供試材を、密閉容器中に充填されたイオン交換水を１０００ｐｐｍ添加したリチウムイオン２次電池用電解液（電解質；１Ｍ−ＬｉＰＦ６、溶媒；ＥＣ：ＤＭＣ：ＤＥＣ＝１：１：１（体積％））中に浸漬した後、６０℃の恒温槽中に７日間投入した。なお、「ＥＣ」はエチレンカーボネートのことであり、「ＤＭＣ」はジメチルカーボネートのことであり、「ＤＥＣ」はジエチルカーボネートのことである。その後、供試材を取り出し、イオン交換水中に１分間浸漬、揺動することで洗浄した後、熱風循環式乾燥炉内で、１００℃で１０分間乾燥した。フィルムの剥離がなく耐薬品密着維持性に優れるものを「３点」とし、フィルムの剥離はないものの爪で強く引っ掻くと極僅かに剥離したものを「２．５点」とし、フィルムの一部が剥離したものを「２点」とし、フィルムが全面剥離したものを「１点」とした。評点について「２．５点」以上あれば実用レベルと判定される。評価試験の結果を表２に示す。
表２に示す結果より、実施例１〜５のように、ブロック化イソシアネート基を含有するウレタンプレポリマーを単独で含有する水系金属表面処理剤で表面処理された金属材料は、ヒートラミネーション、ドライラミネーションの何れにおいても、初期密着性及び耐薬品密着維持性は良好な結果が得られた。また、実施例６〜３０のように、架橋性有機化合物（Ｂ１）や架橋性無機化合物（Ｂ２）を併用した水系金属表面処理剤で表面処理された金属材料は、耐薬品密着維持性がさらに向上する結果が得られた。
一方、比較例１，２のように、従来の金属表面処理剤で処理された金属材料や、比較例３〜６のように、表面処理皮膜を設けない金属材料では、初期密着性及び耐薬品密着維持性のいずれにおいても満足する結果が得られなかった。
１ ステンレス鋼基材
２ 表面処理皮膜
３ ラミネート材（樹脂フィルム又は樹脂塗膜）
１０ 金属材料
２ 表面処理皮膜
３ ラミネート材（樹脂フィルム又は樹脂塗膜）
１０ 金属材料
Claims (6)
- ２個以上のブロック化イソシアネート基を含有するポリイソシアネート化合物（Ａ）と、前記イソシアネート基と反応しうる官能基を有する架橋性有機化合物（Ｂ１）及び前記イソシアネート基と反応しうる元素を有する架橋性無機化合物（Ｂ２）から選ばれる１種又は２種以上の架橋性化合物（Ｂ）と、を含有し、
前記ポリイソシアネート化合物（Ａ）の固形分質量をＭＡとし、前記架橋性化合物（Ｂ）の固形分質量をＭＢとしたとき、前記ポリイソシアネート化合物（Ａ）の固形分質量比［ＭＡ／（ＭＡ＋ＭＢ）］が０．５以上であり、
前記架橋性化合物（Ｂ）の含有量の総計が、全固形分に対して、１０質量％〜５０質量％であることを特徴とする水系金属表面処理剤。 - 前記架橋性有機化合物（Ｂ１）が有する官能基が、カルボキシル基、水酸基、カルボジイミド基及びグリシジルエーテル基から選ばれる１種又は２種以上である、請求項１に記載の水系金属表面処理剤。
- 前記架橋性有機化合物（Ｂ１）が、タンニンである、請求項２に記載の水系金属表面処理剤。
- 前記架橋性無機化合物（Ｂ２）が、Ｍｇ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒ（III）、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｓｒ、Ｗ、Ｃｅ、Ｍｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔａ、Ｔｅ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｈｆ、Ｓｅ、Ｓｃ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｙ、Ｎｄ及びＬａから選ばれる１種又は２種以上の元素を含む、請求項１に記載の水系金属表面処理剤。
- 前記ポリイソシアネート化合物（Ａ）が、重亜硫酸塩でブロックされたウレタンプレポリマーである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の水系金属表面処理剤。
- 請求項１〜５のいずれか１項に記載の水系金属表面処理剤を、金属材料表面に塗布して表面処理皮膜を形成することを特徴とする金属材料の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011157014A JP5889561B2 (ja) | 2011-07-15 | 2011-07-15 | 水系金属表面処理剤及び表面皮膜付き金属材料 |
| TW101125351A TWI558849B (zh) | 2011-07-15 | 2012-07-13 | Water metal surface treatment agent and metal film with surface coating |
| KR1020120076523A KR20130009682A (ko) | 2011-07-15 | 2012-07-13 | 수계 금속 표면 처리제 및 표면 피막 부착 금속 재료 |
| CN201210245660.7A CN102876213B (zh) | 2011-07-15 | 2012-07-16 | 水系金属表面处理剂及带表面被膜的金属材料 |
| KR1020170016956A KR101975649B1 (ko) | 2011-07-15 | 2017-02-07 | 수계 금속 표면 처리제 및 표면 피막 부착 금속 재료 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011157014A JP5889561B2 (ja) | 2011-07-15 | 2011-07-15 | 水系金属表面処理剤及び表面皮膜付き金属材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013023704A JP2013023704A (ja) | 2013-02-04 |
| JP5889561B2 true JP5889561B2 (ja) | 2016-03-22 |
Family
ID=47477745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011157014A Expired - Fee Related JP5889561B2 (ja) | 2011-07-15 | 2011-07-15 | 水系金属表面処理剤及び表面皮膜付き金属材料 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5889561B2 (ja) |
| KR (2) | KR20130009682A (ja) |
| CN (1) | CN102876213B (ja) |
| TW (1) | TWI558849B (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6703803B2 (ja) * | 2013-10-31 | 2020-06-03 | 株式会社神戸製鋼所 | 表面処理金属板および金属板複合樹脂成形品 |
| JP6526950B2 (ja) * | 2013-12-18 | 2019-06-05 | 日本パーカライジング株式会社 | 水系金属表面処理剤、金属表面処理皮膜及び金属表面処理皮膜付き金属材料 |
| CN104404493A (zh) * | 2014-10-31 | 2015-03-11 | 田琳琳 | 一种改性合金表面处理剂 |
| CN104451625A (zh) * | 2014-11-12 | 2015-03-25 | 无锡伊佩克科技有限公司 | 镀锌钢板专用耐盐雾钝化剂及其制备方法 |
| CN104498934A (zh) * | 2014-12-04 | 2015-04-08 | 常州大学 | 一种铝合金表面钴盐化学转化膜方法 |
| JP6127198B2 (ja) * | 2014-12-11 | 2017-05-10 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面処理液、表面処理金属材料の製造方法、表面処理金属材料 |
| CN104789953A (zh) * | 2015-04-08 | 2015-07-22 | 安徽豪鼎金属制品有限公司 | 一种丝胶防腐金属表面处理剂 |
| CN104861794A (zh) * | 2015-04-08 | 2015-08-26 | 安徽豪鼎金属制品有限公司 | 一种丝胶成膜金属表面处理剂 |
| JP6562782B2 (ja) * | 2015-09-04 | 2019-08-21 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面処理剤 |
| CN105441922A (zh) * | 2015-11-10 | 2016-03-30 | 铜陵市明诚铸造有限责任公司 | 对轧辊外部及内部进行处理的方法 |
| CN105344715A (zh) * | 2015-11-10 | 2016-02-24 | 铜陵市明诚铸造有限责任公司 | 轧辊辊颈表面的处理方法 |
| CN105603440A (zh) * | 2016-02-22 | 2016-05-25 | 苏州龙腾万里化工科技有限公司 | 一种铝合金板印刷机清洗剂 |
| CN105603441A (zh) * | 2016-02-22 | 2016-05-25 | 苏州龙腾万里化工科技有限公司 | 一种铝合金板材清洗剂 |
| CN105951080B (zh) * | 2016-06-27 | 2018-11-20 | 力同铝业（广东）有限公司 | 铝合金表面复合钝化剂及其制备方法 |
| CN107352946B (zh) * | 2017-07-08 | 2019-09-03 | 曹云 | 一种超热能硅晶瓷化节能涂料及其制备方法与应用 |
| CN108731885A (zh) * | 2018-05-10 | 2018-11-02 | 诸城市福日机械有限公司 | 一种后桥壳试漏浸液 |
| CN113088118A (zh) * | 2021-04-08 | 2021-07-09 | 上海兴赛尔表面材料有限公司 | 一种免水洗金属涂装前处理液及其制备方法 |
| CN113322456A (zh) * | 2021-05-28 | 2021-08-31 | 江苏润旺机械制造有限公司 | 一种钢管内壁镍基合金涂层制备生产方法 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU6625590A (en) * | 1989-10-02 | 1991-04-28 | Henkel Corporation | Composition and process for and article with improved autodeposited surface coating based on epoxy resin |
| US5538078A (en) * | 1994-04-08 | 1996-07-23 | Nippondenso Co., Ltd. | Aluminum-containing metal composite material and process for producing same |
| US6025433A (en) * | 1995-12-20 | 2000-02-15 | Basf Coatings Ag | Thermosetting paint composition |
| JPH10168157A (ja) * | 1996-10-08 | 1998-06-23 | Nippon Polyurethane Ind Co Ltd | 水分散性ブロックイソシアネート組成物、並びにこれを用いた水性塗料組成物及び水性接着剤組成物 |
| JP4033523B2 (ja) * | 1997-09-29 | 2008-01-16 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 水系ブロックポリイソシアネート組成物 |
| KR100603944B1 (ko) | 2001-02-06 | 2006-07-24 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 전지 외장용 적층체 및 2차 전지 |
| JP4805467B2 (ja) | 2001-03-15 | 2011-11-02 | 日本ペイント株式会社 | 下地処理剤 |
| JP2002363245A (ja) * | 2001-06-01 | 2002-12-18 | Toagosei Co Ltd | 硬化型水性樹脂組成物 |
| JP3998056B2 (ja) | 2002-04-23 | 2007-10-24 | 日本ペイント株式会社 | 熱可塑性ポリエステル系樹脂被覆金属板の製造方法及び熱可塑性ポリエステル系樹脂被覆金属板 |
| JP4366565B2 (ja) | 2003-03-03 | 2009-11-18 | 日本パーカライジング株式会社 | 樹脂膜被覆アルミニウム薄板 |
| DE102004060798A1 (de) * | 2004-12-17 | 2006-06-29 | Bayer Materialscience Ag | Wässrige Beschichtungen für Nahrungsmittelbehälter |
| JP3872493B1 (ja) * | 2005-08-17 | 2007-01-24 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属材料用水系表面処理剤及び表面被覆金属材料 |
| US7906002B2 (en) * | 2006-08-04 | 2011-03-15 | Kansai Paint Co., Ltd. | Method for forming surface-treating film |
| EP1889952B1 (en) * | 2006-08-08 | 2012-05-30 | Kansai Paint Co., Ltd. | Method for forming surface-treating film |
| JPWO2009008380A1 (ja) * | 2007-07-06 | 2010-09-09 | 旭硝子株式会社 | 表面処理剤、物品、および新規含フッ素エーテル化合物 |
| JP5108820B2 (ja) * | 2008-04-17 | 2012-12-26 | 日本パーカライジング株式会社 | プレコート金属材料用水系表面処理剤、表面処理金属材料及びプレコート金属材料 |
| JP5571881B2 (ja) * | 2008-06-07 | 2014-08-13 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属材料の自己析出被膜処理用表面処理液、および自己析出被膜処理方法 |
| KR101653417B1 (ko) * | 2008-07-02 | 2016-09-01 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 코팅액, 경화막 및 수지 적층체 그리고 그 경화막 및 수지 적층체의 제조 방법 |
| WO2010070728A1 (ja) * | 2008-12-16 | 2010-06-24 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属材料用表面処理剤 |
| JP5518398B2 (ja) * | 2009-08-17 | 2014-06-11 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面の自己析出被膜用後処理液及び後処理された自己析出被膜が形成された金属材料の製造方法 |
| JP2011132421A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-07 | Kansai Paint Co Ltd | 親水化処理組成物 |
| JP5577781B2 (ja) | 2010-03-24 | 2014-08-27 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 表面処理鋼板 |
-
2011
- 2011-07-15 JP JP2011157014A patent/JP5889561B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-07-13 TW TW101125351A patent/TWI558849B/zh not_active IP Right Cessation
- 2012-07-13 KR KR1020120076523A patent/KR20130009682A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-07-16 CN CN201210245660.7A patent/CN102876213B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2017
- 2017-02-07 KR KR1020170016956A patent/KR101975649B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2013023704A (ja) | 2013-02-04 |
| TW201317394A (zh) | 2013-05-01 |
| CN102876213B (zh) | 2017-04-12 |
| KR20130009682A (ko) | 2013-01-23 |
| CN102876213A (zh) | 2013-01-16 |
| KR20170018284A (ko) | 2017-02-16 |
| KR101975649B1 (ko) | 2019-05-07 |
| TWI558849B (zh) | 2016-11-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5889561B2 (ja) | 水系金属表面処理剤及び表面皮膜付き金属材料 | |
| JP5865619B2 (ja) | 水系金属表面処理剤及びその処理剤で処理してなる金属材料 | |
| KR101708155B1 (ko) | 수계 금속 표면 처리제 및 그 처리제로 처리하여 이루어지는 금속 재료 | |
| KR101668508B1 (ko) | 수계 금속 표면 처리제 및 그 처리제로 처리하여 이루어지는 금속 재료 | |
| EP1852523B1 (en) | Aqueous surface treating agent for metal material, surface treating method and surface-treated metal material | |
| TWI521095B (zh) | A metal surface treatment agent and a metal material treated with the treatment agent | |
| US7989075B2 (en) | Chrome-free composition of low temperature curing for treating a metal surface and a metal sheet using the same | |
| JP5744654B2 (ja) | 金属表面処理剤及びその処理剤で処理してなる金属材料 | |
| WO2011093282A1 (ja) | 表面処理皮膜、金属表面処理剤及び金属表面処理方法 | |
| TW201132801A (en) | Surface treatment agent for laminated metal material and method for producing laminated metal material | |
| JP2007162098A (ja) | 水系金属表面処理剤、表面処理方法及び表面処理金属材料 | |
| JP5661238B2 (ja) | 表面処理亜鉛系めっき鋼板 | |
| JP2010156020A (ja) | 表面処理鋼板 | |
| JP5498634B2 (ja) | 水系金属表面処理剤、表面処理方法及び表面処理金属材料 | |
| JP5683152B2 (ja) | 金属表面処理剤、表面処理金属材料、および金属表面処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140425 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150219 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20150331 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20150407 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150407 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150529 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151020 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151204 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160126 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160217 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5889561 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |