JP5605998B2 - 光干渉断層撮像方法および装置 - Google Patents
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Description
CTと比較して断層像の取得(測定)に時間がかかるとされている。そこで、被検査物の測定範囲が大きく、横方向の分解能が高い断層像を高速で取得するための方法として、スペクトラルドメイン方式でダイナミックフォーカスをする方法が考えられる。上述したように、スペクトラルドメイン方式では、横方向の分解能を高くすると焦点深度が小さくなってしまう。したがって、測定範囲を大きくするためには、被検査物を測定光の照射方向に隣接する複数の測定領域に分けて測定する必要がある。
光源からの光を測定光と参照光とに分割し、前記測定光を被検査物に照射したときに前記被検査物から戻される戻り光と、前記参照光との干渉光の波長スペクトルに基づいて前記被検査物の断層像を取得する光干渉断層撮像方法であって、
前記被検査物における前記測定光の照射方向に隣接する複数の測定領域のそれぞれについて測定像を得るステップであって、測定領域に対応する位置に前記測定光の焦点及びコヒーレンスゲートを調整して、前記干渉光の波長スペクトルに基づいて測定像を得る処理を測定領域毎に行うステップと、
測定領域内の前記照射方向における前記コヒーレンスゲートからの距離に応じて強度が変化する強度変化に基づいて、該測定領域の測定像のコントラストを補正する処理を測定領域毎に行うステップと、
測定領域毎に、前記補正された測定像から断層像を得るステップと、
を有することを特徴とする。
光源からの光を測定光と参照光とに分割し、前記測定光を被検査物に照射したときに前記被検査物から戻される戻り光と、前記参照光との干渉光の波長スペクトルに基づいて前記被検査物の断層像を取得する光干渉断層撮像装置であって、
前記被検査物における前記測定光の照射方向に隣接する複数の測定領域のそれぞれについて測定像を得る測定像取得手段であって、測定領域に対応する位置に前記測定光の焦点及びコヒーレンスゲートを調整して、前記干渉光の波長スペクトルに基づいて測定像を得る処理を測定領域毎に行う測定像取得手段と、
測定領域内の前記照射方向における前記コヒーレンスゲートからの距離に応じて強度が変化する強度変化に基づいて、該測定領域の測定像のコントラストを補正する処理を測定領域毎に行う補正手段と、
測定領域毎に、前記補正された測定像から断層像を得る断層像取得手段と、
を有することを特徴とする。
ステップS2の工程では、コヒーレンスゲートと焦点の位置を調整し、測定領域Z(i)の測定像を取得する。なお、iの初期値は0とする。
ステップS3の工程では、測定領域Z(i)の測定像のコントラストを補正し、測定領域Z(i)の補正された測定像(補正像)を取得する。
ステップS4の工程では、補正像を解析し、信号処理を行うことによって測定領域Z(i)の実像を取得する。
ステップS5の工程では、測定領域Z(0)から測定領域Z(i)の実像を繋げる。
ステップS6の工程では、全ての測定領域に対して測定を行ったか否か(全ての測定領域に対する測定が終了したか否か)を判断する。測定されていない測定領域が存在する場
合(i<M−1の場合)には(ステップS6:No)、iに1を加算してステップS2へ戻る。全ての測定領域に対して測定を行った場合(i=M−1の場合)には(ステップS6:Yes)、ステップS7へ進む。それにより、ステップS7の工程で、所望の断層像(全ての測定領域の実像が繋ぎ合わさった像;被検査物の測定範囲が大きく、横方向の分解能が高い断層像)を取得することができる。
次に本実施形態に係る光干渉断層撮像装置の具体的な実施例について説明する。具体的には、本発明を適用した眼科用のOCT装置について説明する。
図2は、本実施例に係るOCT装置で用いられるマッハツェンダー干渉系の構成を示す図である。光源201から出射された光(出射光)はシングルモードファイバー202−1を通して、レンズ211−1に導かれる。出射光は、ビームスプリッタ203−1によって参照光205と測定光206に分割される。測定光206は、被検査物である眼207に照射された後、反射や散乱により戻り光208となって戻される。参照光と戻り光はビームスプリッタ203−2、レンズ211−2、シングルモードファイバー202−3を介して、分光器218に入射する。分光器で取得された光(戻り光と参照光の干渉光)の波長スペクトルなどのデータは、コンピューター219に入力される。なお、光源201は代表的な低コヒーレント光源であるSLD(Super Luminescent Diode)である。被検査物が眼であることを鑑みると、出射光は近赤外光(例えば中心波長840nm、帯域50nmの光)であることが好ましい。
次に、測定領域の(照射方向の)幅について図3を用いて説明する。図3において、縦軸は強度(光の強度;反射強度)を表し、横軸は被検査物内の(照射方向の)位置を表す。図3は、コヒーレンスゲート301を測定領域Z(3)とそれに隣接する測定領域Z(2)の間に配置して、測定領域Z(3)について測定を行う場合を模式的に示している。符号302は各測定領域の幅を示し、符号303は測定深度、符号304は焦点深度を示す。測定深度と焦点深度については後述する。
DOF=±λ/(2NA2) (式1)
Lmax=±N/(4ΔK) (式2)
2 × 測定領域の幅 < 焦点深度(全長) (式3)
L=t/(2ΔK) (式4)
Lmin=δ(L)=1/(2ΔK) (式5)
次に、図4を用いて、補正された測定像(補正像)から実像を得る方法(鏡像の除去方法)について説明する。図4において、縦軸は強度を表し、横軸は被検査物内の(照射方向の)位置を表す。なお、以下で説明する方法によれば、一つの測定領域に対して、最低一回の測定で鏡像を除去することができる。
H(i)=R(i) i=0 (式6−1)
H(i)=R(i)+R’(i−1) i=1〜5 (式6−2)
式6−1は、測定領域Z(0)の補正像H(0)が実像R(0)であることを表している。式6−2は、測定領域Z(i)の補正像H(i)から実像R(i−1)の鏡像R’(i−1)を減算することによって、測定領域Z(i)の実像R(i)を得ることができることを示している。
C(i)=H(i) i=0 (式7−1)
C(i)=H(i)−C’(i−1) i=1〜5 (式7−2)
鏡像C’(i−1)は実像C(i−1)から算出することができる。上述したように、第1の測定領域(測定領域Z(0))では鏡像が現れないため、本実施例では、第1の測定領域について、補正像H(0)を断層像(実像)C(0)として採用する。そして、第2〜第Xの測定領域については順番に、第Yの測定領域の補正像から(2≦Y≦X)、第Y−1の測定領域の実像の鏡像を除去することにより、第Yの実像を得る。即ち、図4の例では、i=1から5まで順番に実像C(i)を計算する。それにより、測定領域毎の実像を得ることができる。そして、得られた実像を繋ぎ合わせることによって所望の断層像を得ることができる(図4(d))。
図5を用いて、測定像のデータ(測定像データ)の解析方法について説明する。本実施例では、測定領域Z(i−1)と測定領域Z(i)の境界にコヒーレンスゲートを設置し、測定領域Z(i)について測定を行う場合について説明する。以下、測定領域Z(i)の測定像データを符号S(i,k)として表記する。iは領域の番号0〜M−1であり、kは要素の番号0〜N−1である(iとkはいずれも整数である)。Mは領域数、Nはラ
インセンサーの画素数である。なお、本実施例において、測定領域内の要素番号は0〜nであり、測定像は測定領域よりも広い範囲に対して得られるものとする。nはn<N/2を満たすものであり、測定領域の幅が500μm程度であれば(本実施例ではδ(L)=6.8μmであるため)、n=500/6.8=74画素程度となる。測定領域の幅は分割数を多くすることで小さくすることができるため、nはラインセンサーの画素数に対し小さくなる。同様に各測定領域の実像のデータ(実像データ)は符号C(i,k)として表記する。
,k)とすると、補正された測定像データ(補正像データ)H(i,k)は式8のように表される。
H(i,k)=S(i,k)/D(i,k) (式8)
C(i,k)=H(i,k) (式9)
なお、補正像データH(0,0)は断層に起因するデータではない(その要素の位置には被測定物の構造が無い)ため、補正像データH(0,0)の代わりに補正像データH(0,1)を用いてもよい。
C(i,0)=C(i−1,n) k=0 (式10−1)
C(i,k)=H(i,k)−C(i−1,n−k) 0<k≦n (式10−2)
実線と破線の重複部分の強度差が一定になるように(例えば、重複部分の強度差の分散が最小になるように)破線を横軸方向にシフトさせる。重複部分において、互いの実像のそれぞれに特定のピークがある場合には、それらのピーク位置が一致するように調整してもよい。そして、強度の調整(即ち、図6の縦軸方向の調整)は、測定領域の断層像とその隣接領域の断層像(実線と破線)の重複部分の強度差が最小になるように行われる。即ち、実線と破線の重複部分の強度差が最小になるように(例えば、重複部分の強度差の絶対値の合計が最小になるように)破線を縦軸方向にシフトさせる。なお、画像調整は測定領域の位置、または、強度のいずれかのみを調整するものであってもよい。測定領域の位置と強度の両方の調整を行う場合には、測定領域の位置を調整した後に強度を調整することが好ましい。
202 シングルモードファイバー
203 ビームスプリッタ
204 XYスキャナ
205 参照光
206 測定光
207 眼
208 戻り光
209 角膜
210 網膜
211 レンズ
212 フォーカス駆動機構
213 ミラー駆動機構
214 ミラー
215 分散補償用ガラス
216 対物レンズ
217 スキャンレンズ
218 分光器
219 コンピューター
301 コヒーレンスゲート
302 測定領域の幅
303 測定深度
304 焦点深度
Claims (21)
- 光源からの光を測定光と参照光とに分割し、前記測定光を被検査物に照射したときに前記被検査物から戻される戻り光と、前記参照光との干渉光の波長スペクトルに基づいて前記被検査物の断層像を取得する光干渉断層撮像方法であって、
前記被検査物における前記測定光の照射方向に隣接する複数の測定領域のそれぞれについて測定像を得るステップであって、測定領域に対応する位置に前記測定光の焦点及びコヒーレンスゲートを調整して、前記干渉光の波長スペクトルに基づいて測定像を得る処理を測定領域毎に行うステップと、
測定領域内の前記照射方向における前記コヒーレンスゲートからの距離に応じて強度が変化する強度変化に基づいて、該測定領域の測定像のコントラストを補正する処理を測定領域毎に行うステップと、
測定領域毎に、前記補正された測定像から断層像を得るステップと、
を有することを特徴とする光干渉断層撮像方法。 - 前記測定像のコントラストを補正するステップでは、測定領域毎に、前記強度変化による測定像のコントラストの変化が補正される
ことを特徴とする請求項1に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記測定像のコントラストを補正するステップでは、測定領域毎に異なる補正関数で測定像のコントラストが補正される
ことを特徴とする請求項1または2に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記測定像のコントラストを補正するステップでは、測定領域毎に、測定領域内の前記照射方向の位置に対する強度の変化を表す減衰関数に基づいて決定された補正関数に従って測定像のコントラストが補正される
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。 - 測定領域毎に、断層像の強度および/または測定領域の前記照射方向の位置を調整するステップ
を更に有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法
。 - 前記測定像は、その測定領域よりも広い範囲に対して得られ、
断層像の強度および/または測定領域の前記照射方向の位置を調整するステップでは、測定領域毎に、測定領域の断層像とその隣接領域の断層像との重複部分の強度の差が一定になるように、測定領域の前記照射方向の位置が調整される
ことを特徴とする請求項5に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記測定像は、その測定領域よりも広い範囲に対して得られ、
断層像の強度および/または測定領域の前記照射方向の位置を調整するステップでは、測定領域毎に、測定領域の断層像とその隣接領域の断層像との重複部分の強度の差が最小になるように、断層像の強度が調整される
ことを特徴とする請求項5または6に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記測定像を得るステップでは、前記測定像を得る際に、コヒーレンスゲートが、測定領域とその隣接領域との境界よりも隣接領域側に調整される
ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記断層像を得るステップでは、前記補正された測定像から、その測定領域に隣接する隣接領域の断層像の鏡像を除去することにより、測定領域毎の断層像が得られる
ことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記測定像を得るステップでは、第1の位置にコヒーレンスゲートを調整して第1の測定領域の第1の測定像が得られ、前記第1の位置とは異なる第2の位置にコヒーレンスゲートを調整して前記第1の測定領域に対して前記照射方向に隣接する第2の測定領域の第2の測定像が得られ、
前記測定像のコントラストを補正するステップでは、
前記第1の測定領域内の前記照射方向における強度変化に基づいて、前記第1の測定像のコントラストが補正され、
前記第2の測定領域内の前記照射方向における強度変化に基づいて、前記第2の測定像のコントラストが補正される
ことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記測定像を得るステップでは、前記被検査物の端に前記第1の測定領域が調整され、
前記断層像を得るステップでは、前記補正された第1の測定像を用いて前記補正された第2の測定像から前記補正された第1の測定像の鏡像を除去することにより、前記第2の測定領域の断層像が得られる
ことを特徴とする請求項10に記載の光干渉断層撮像方法。 - 前記被検査物は網膜である
ことを特徴とする請求項1〜11のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法。 - 請求項1〜12のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像方法の各ステップをコンピュータに実行させるプログラム。
- 光源からの光を測定光と参照光とに分割し、前記測定光を被検査物に照射したときに前記被検査物から戻される戻り光と、前記参照光との干渉光の波長スペクトルに基づいて前記被検査物の断層像を取得する光干渉断層撮像装置であって、
前記被検査物における前記測定光の照射方向に隣接する複数の測定領域のそれぞれについて測定像を得る測定像取得手段であって、測定領域に対応する位置に前記測定光の焦点
及びコヒーレンスゲートを調整して、前記干渉光の波長スペクトルに基づいて測定像を得る処理を測定領域毎に行う測定像取得手段と、
測定領域内の前記照射方向における前記コヒーレンスゲートからの距離に応じて強度が変化する強度変化に基づいて、該測定領域の測定像のコントラストを補正する処理を測定領域毎に行う補正手段と、
測定領域毎に、前記補正された測定像から断層像を得る断層像取得手段と、
を有することを特徴とする光干渉断層撮像装置。 - 前記補正手段は、測定領域毎に、前記強度変化による測定像のコントラストの変化を補正する
ことを特徴とする請求項14に記載の光干渉断層撮像装置。 - 前記補正手段は、測定領域毎に、測定領域内の前記照射方向の位置に対する強度の変化を表す減衰関数に基づいて決定された補正関数に従って測定像のコントラストを補正することを特徴とする請求項14または15に記載の光干渉断層撮像装置。
- 前記測定像取得手段は、前記測定像を得る際に、コヒーレンスゲートを、測定領域とその隣接領域との境界よりも隣接領域側に調整する
ことを特徴とする請求項14〜16のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。 - 前記断層像取得手段は、前記補正された測定像から、その測定領域に隣接する隣接領域の断層像の鏡像を除去することにより、測定領域毎の断層像を得る
ことを特徴とする請求項14〜17のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。 - 前記測定像取得手段は、第1の位置にコヒーレンスゲートを調整して第1の測定領域の第1の測定像を取得して、前記第1の位置とは異なる第2の位置にコヒーレンスゲートを調整して前記第1の測定領域に対して前記照射方向に隣接する第2の測定領域の第2の測定像を取得し、
前記補正手段は、
前記第1の測定領域内の前記照射方向における強度変化に基づいて、前記第1の測定像のコントラストを補正し、
前記第2の測定領域内の前記照射方向における強度変化に基づいて、前記第2の測定像のコントラストを補正する
ことを特徴とする請求項14〜18のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。 - 前記測定像取得手段は、前記被検査物の端に前記第1の測定領域を調整し、
前記断層像取得手段は、前記補正された第1の測定像を用いて前記補正された第2の測定像から前記補正された第1の測定像の鏡像を除去することにより、前記第2の測定領域の断層像を得る
ことを特徴とする請求項19に記載の光干渉断層撮像装置。 - 前記被検査物は網膜である
ことを特徴とする請求項14〜20のいずれか1項に記載の光干渉断層撮像装置。
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