JP5582446B2 - Film glass manufacturing method and manufacturing apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの基板等に使用されるフィルム状ガラスの製造方法と製造装置に関するものである。   The present invention relates to a method and an apparatus for producing a film glass used for a substrate of a flat panel display such as a liquid crystal display or an organic EL display.

省スペース化の観点から、従来普及していたCRT型ディスプレイに替わり、近年は液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ等のフラットパネルディスプレイが普及している。これらのフラットパネルディスプレイにおいては、さらなる薄型化が要請される。特に有機ELディスプレイには、折りたたみや巻き取ることによって持ち運びを容易にすると共に、平面だけでなく曲面にも使用可能とすることが求められている。   From the viewpoint of space saving, instead of the CRT type display which has been widely used in the past, flat panel displays such as a liquid crystal display, a plasma display, an organic EL display, and a field emission display have become popular in recent years. These flat panel displays are required to be thinner. In particular, organic EL displays are required to be easily carried by folding or winding, and to be usable not only on flat surfaces but also on curved surfaces.

また液晶ディスプレイや有機ELは、ガラス基板の表面上に薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)などの電気回路パターンが形成される。このため、ガラス基板は、薄膜形成工程や、薄膜のパターニング工程などの電気回路パターンの形成工程において高温雰囲気に曝される。ガラス基板が高温雰囲気に曝されると、ガラスの構造緩和が進行するため、ガラス基板の体積が収縮(以下、このガラスの収縮のことを「熱収縮」という。)することとなる。電気回路パターンの形成工程においてガラス基板に熱収縮が生じると、ガラス基板上に形成される電気回路パターンの形状寸法が、設計値からずれてしまい、所望の電気的性能を有するフラットパネルディスプレイが得難くなってしまう。   Further, in a liquid crystal display or an organic EL, an electric circuit pattern such as a thin film transistor (TFT) is formed on the surface of a glass substrate. For this reason, the glass substrate is exposed to a high temperature atmosphere in an electric circuit pattern forming process such as a thin film forming process or a thin film patterning process. When the glass substrate is exposed to a high temperature atmosphere, the structural relaxation of the glass proceeds, so that the volume of the glass substrate shrinks (hereinafter, the shrinkage of the glass is referred to as “thermal shrinkage”). If thermal shrinkage occurs in the glass substrate during the electrical circuit pattern formation process, the shape and dimensions of the electrical circuit pattern formed on the glass substrate will deviate from the design values, and a flat panel display having the desired electrical performance is obtained. It will be difficult.

このため、フラットパネルディスプレイ用のガラス基板など、電気回路パターンなどの薄膜パターンが表面に形成されるガラス基板には、熱収縮率が小さいことが望まれている。特に、低温ポリシリコン膜を有するTFTを備える高精細なディスプレイ用のガラス基板には、低温ポリシリコン膜を形成する際に、例えば450℃〜600℃という非常に高い温度雰囲気に曝されるため、熱収縮が生じやすいこと、電気回路パターンが高精細であるため、小さな熱収縮が生じた場合でも、所望する電気的性能が得難くなる傾向にあることから、熱収縮率が小さいことが強く望まれている。   For this reason, a glass substrate on which a thin film pattern such as an electric circuit pattern is formed on the surface, such as a glass substrate for a flat panel display, is desired to have a small thermal shrinkage rate. In particular, a glass substrate for a high-definition display including a TFT having a low-temperature polysilicon film is exposed to a very high temperature atmosphere of, for example, 450 ° C. to 600 ° C. when the low-temperature polysilicon film is formed. Since heat shrinkage tends to occur and the electrical circuit pattern has a high definition, even if small heat shrinkage occurs, it tends to be difficult to obtain the desired electrical performance. It is rare.

従来、フラットパネルディスプレイなどに用いられるガラス基板の成形方法としては、フロート法や、例えば特許文献1に記載のオーバーフローダウンドロー法に代表されるダウンドロー法などが知られている。   Conventionally, as a glass substrate forming method used for a flat panel display or the like, a float method, a down draw method represented by an overflow down draw method described in Patent Document 1, for example, and the like are known.

フロート法とは、溶融ガラスを溶融スズが満たされたフロートバスの上に流出させ、水平方向に引き延ばしてガラスリボンを形成した後に、フロートバスの下流側に設けられた徐冷炉においてガラスリボンを徐冷することにより、ガラス基板を成形する方法である。フロート法では、ガラスリボンの搬送方向が水平方向となるため、徐冷炉を長くすることが容易である。このため、徐冷炉におけるガラスリボンの冷却速度を十分に低くしやすい。従って、フロート法には、熱収縮率の小さなガラス基板が得やすいというメリットがある。   In the float method, molten glass is flown out onto a float bath filled with molten tin, and stretched in the horizontal direction to form a glass ribbon. Then, the glass ribbon is gradually cooled in a slow cooling furnace provided downstream of the float bath. This is a method for forming a glass substrate. In the float process, since the conveying direction of the glass ribbon is the horizontal direction, it is easy to lengthen the slow cooling furnace. For this reason, it is easy to make the cooling rate of the glass ribbon in a slow cooling furnace low enough. Therefore, the float method has an advantage that it is easy to obtain a glass substrate having a small heat shrinkage rate.

しかしながら、フロート法では、薄いガラス基板を成形することが困難であるというデメリットや、成形後に、ガラス基板の表面を研磨して、ガラス基板の表面に付着しているスズを除去しなければならないというデメリットがある。   However, with the float method, it is difficult to mold a thin glass substrate, and after molding, the surface of the glass substrate must be polished to remove tin adhering to the surface of the glass substrate. There are disadvantages.

一方、ダウンドロー法は、溶融ガラスを下方に引き伸ばして板状に形成する方法である。ダウンドロー法の一種であるオーバーフローダウンドロー法では、横断面略楔形の成形体の両側から溢れさせた溶融ガラスを下方に引き伸ばすことによりガラスリボンを成形する。オーバーフローダウンドロー法では、成形体の両側から溢れた溶融ガラスは、成形体の両側面に沿って流下し、成形体の下方において合流する。従って、オーバーフローダウンドロー法では、ガラスリボンの表面が、空気以外と接触せず、表面張力によって形成されるため、成形後に表面を研磨せずとも、表面に異物が付着しておらず、表面が平坦なガラス基板を得ることができる。また、オーバーフローダウンドロー法によれば、薄いガラス基板(フィルム状ガラス)を成形しやすいというメリットもある。   On the other hand, the downdraw method is a method in which molten glass is drawn downward to form a plate shape. In the overflow downdraw method, which is a kind of downdraw method, a glass ribbon is formed by stretching the molten glass overflowing from both sides of a substantially wedge-shaped formed body in a cross section. In the overflow down draw method, the molten glass overflowing from both sides of the molded body flows down along both side surfaces of the molded body and joins below the molded body. Therefore, in the overflow down draw method, the surface of the glass ribbon does not come into contact with anything other than air, and is formed by surface tension. A flat glass substrate can be obtained. Moreover, according to the overflow downdraw method, there is also an advantage that a thin glass substrate (film glass) can be easily formed.

特開2008−184335号公報JP 2008-184335 A 特表2004−505881号公報Japanese translation of PCT publication No. 2004-505881 特表2009−511398号公報Special table 2009-511398 gazette 特開2000−335928号公報JP 2000-335928 A

しかしながら、ダウンドロー法では、溶融ガラスが成形設備から下方に向かって流下するため、長い徐冷炉を成形体の下に配置するためには、成形設備を高所に配置しなければならない。しかしながら、実際上は、工場の天井の高さ制約などにより、成形設備を配置できる高さには制約がある。このため、ダウンドロー法では、徐冷炉の長さ寸法に制約があり、十分に長い徐冷炉を配置することが困難である場合もある。徐冷炉の長さが短い場合、ガラスリボンの冷却速度が高くなるため、熱収縮率の小さなガラス基板を成形することが困難となる。   However, in the downdraw method, since the molten glass flows downward from the molding equipment, in order to arrange a long slow cooling furnace below the molded body, the molding equipment must be arranged at a high place. However, in practice, the height at which the molding equipment can be arranged is limited due to the height of the ceiling of the factory. For this reason, in the downdraw method, the length dimension of the slow cooling furnace is limited, and it may be difficult to arrange a sufficiently long slow cooling furnace. When the length of the slow cooling furnace is short, the cooling rate of the glass ribbon becomes high, so that it becomes difficult to form a glass substrate having a small heat shrinkage rate.

このため、一般的に、ダウンドロー法を用いて熱収縮率の小さなガラス基板を製造する場合、成形後に、熱収縮率を小さくするための熱処理(オフラインアニール)が行われていた。よって、製造工程が煩雑であり、かつ製造に長い時間を要するという問題がある。従って、ダウンドロー法を用いて熱収縮率の小さなガラス基板を直接製造し得る方法が切望されている。   For this reason, in general, when a glass substrate having a low thermal shrinkage rate is manufactured using the downdraw method, a heat treatment (off-line annealing) for reducing the thermal shrinkage rate has been performed after molding. Therefore, there are problems that the manufacturing process is complicated and a long time is required for the manufacturing. Therefore, a method capable of directly manufacturing a glass substrate having a small heat shrinkage rate using the downdraw method is desired.

本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、ダウンドロー法により熱収縮率が小さなフィルム状ガラスを直接製造し得るフィルム状ガラスの製造方法と製造装置を提供することにある。   This invention is made | formed in view of this point, The objective is to provide the manufacturing method and manufacturing apparatus of a film-form glass which can manufacture the film-form glass with a small heat shrinkage | contraction rate by a downdraw method directly. is there.

本発明のフィルム状ガラスの製造方法は、ダウンドロー法により溶融ガラスをフィルム状に成形し、徐冷した後、切断するフィルム状ガラスの製造方法であって、徐冷中にフィルム状ガラスの移動方向を水平方向に方向転換させることを特徴とする。本発明における「フィルム状ガラス」とは厚さが200μm以下の薄板ガラスを意味する。また「徐冷」とは温度管理をしながら降温している状態を意味する。従って徐冷炉内にあるガラスは、本発明では「徐冷中」と解する。   The method for producing a film-like glass of the present invention is a method for producing a film-like glass which is formed by forming a molten glass into a film by a down-draw method, slowly cooled and then cut, and the moving direction of the film-like glass is changed during the slow cooling. The direction is changed in the horizontal direction. The “film-like glass” in the present invention means a thin glass having a thickness of 200 μm or less. “Slow cooling” means a state where the temperature is lowered while temperature control is being performed. Therefore, the glass in the slow cooling furnace is understood as “under slow cooling” in the present invention.

本発明においては、フィルム状ガラスの肉厚が100μm以下となるように成形することが好ましい。   In this invention, it is preferable to shape | mold so that the thickness of film-form glass may be 100 micrometers or less.

上記構成によればガラスの可撓性が極めて大きくなることから、徐冷中にフィルム状ガラスの移動方向を容易に水平方向に変更することができる。またフラットパネルの薄型化の要請に応えるフィルム状ガラスを提供することができる。   According to the said structure, since the flexibility of glass becomes very large, the moving direction of a film-form glass can be easily changed into a horizontal direction during slow cooling. Further, it is possible to provide a film-like glass that meets the demand for flat panel thinning.

本発明においては、ダウンドロー法として、オーバーフローダウンドロー法を用いることが望ましい。   In the present invention, it is desirable to use the overflow downdraw method as the downdraw method.

上記構成によれば、表面品位に優れたフィルム状ガラスを作製することが可能となる。また肉厚の小さいフィルム状ガラスを作製することが容易である。   According to the said structure, it becomes possible to produce the film-form glass excellent in surface quality. Moreover, it is easy to produce a film glass having a small thickness.

本発明においては、フィルム状ガラスを巻き取ってロールとした後に切断することが好ましい。   In this invention, it is preferable to cut | disconnect, after winding up film-form glass and using it as a roll.

上記構成によれば、熱収縮率の小さいフィルム状ガラスをロール形態で提供することができる。   According to the said structure, film-like glass with a small heat shrinkage rate can be provided with a roll form.

本発明のフィルム状ガラスの製造装置は、前記ダウンドロー成形装置でフィルム状に成形されたガラスを徐冷する徐冷炉と、徐冷炉を通過したフィルム状ガラスを所定長に切断する切断装置とを備えたフィルム状ガラスの製造装置であって、徐冷炉内でフィルム状ガラスの移動方向が垂直方向から水平方向に方向転換されることを特徴とする。   An apparatus for producing a film-like glass according to the present invention includes a slow cooling furnace for slowly cooling glass formed into a film by the downdraw molding apparatus, and a cutting device for cutting the film-like glass that has passed through the slow cooling furnace into a predetermined length. An apparatus for producing a film-like glass, wherein the moving direction of the film-like glass is changed from a vertical direction to a horizontal direction in a slow cooling furnace.

本発明においては、ダウンドロー成形装置が、オーバーフローダウンドロー成形装置であることが好ましい。   In the present invention, the downdraw molding apparatus is preferably an overflow downdraw molding apparatus.

上記構成によれば、表面品位に優れたフィルム状ガラスを作製することが可能となる。また肉厚の小さいフィルム状ガラスを作製することが容易である。   According to the said structure, it becomes possible to produce the film-form glass excellent in surface quality. Moreover, it is easy to produce a film glass having a small thickness.

本発明においては、さらに、フィルム状ガラスをロール状に巻き取る巻き取り装置を備えてなることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to further include a winding device for winding the film-like glass into a roll.

上記構成によれば、熱収縮率の小さいフィルム状ガラスをロール形態で提供することができる。   According to the said structure, film-like glass with a small heat shrinkage rate can be provided with a roll form.

本発明によれば、フィルム状ガラスの移動方向を水平方向に変更した後も引き続き徐冷を行うようにしたことから、徐冷に要する時間や距離を十分に確保することができる。従ってダウンドロー法を採用しているにもかかわらず、フィルム状ガラスの冷却速度を十分に低くすることが可能となり、熱収縮率の小さなフィルム状ガラスを作製することができる。   According to the present invention, since the slow cooling is continued after the moving direction of the film-like glass is changed to the horizontal direction, the time and distance required for the slow cooling can be sufficiently secured. Therefore, although the downdraw method is employed, the cooling rate of the film-like glass can be made sufficiently low, and a film-like glass having a small heat shrinkage rate can be produced.

図1は、本発明の製造装置の一例を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing an example of the manufacturing apparatus of the present invention. 熱収縮率の測定方法を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the measuring method of a thermal contraction rate.

本発明のフィルム状ガラスの製造方法は、ダウンドロー法によりガラスを下方に引き出してフィルム状に連続的に成形する成形工程を備えている。詳述すると、成形装置から引き出されたガラスは、冷却ローラーによって幅方向の収縮が規制されながら所定の厚みになるまで下方に延伸される。   The method for producing a film-like glass of the present invention includes a forming step of drawing the glass downward by a downdraw method and continuously forming it into a film shape. More specifically, the glass drawn out from the molding apparatus is drawn downward until it reaches a predetermined thickness while the shrinkage in the width direction is restricted by the cooling roller.

本発明においては、ダウンドロー法である限り特に限定されないが、未研磨で表面品位が良好なフィルム状ガラスを製造することができることからオーバーフローダウンドロー法を採用することが好ましい。表面品位が良好なフィルム状ガラスを製造できる理由は、フィルムの表面となるべき面が空気以外と接触せず、自由表面の状態で成形されるからである。ここで、オーバーフローダウンドロー法は、溶融ガラスを耐熱性の樋状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してフィルム状ガラスを製造する方法である。樋状構造物の構造や材質は、フィルム状ガラスの寸法や表面精度が予定する用途に求められる品位を実現できるものであれば特に限定されない。また、下方への延伸は、フィルム状ガラスに対してどのような方法で力を印加するものであってもよい。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ローラーをフィルム状ガラスに接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ローラーをフィルム状ガラスの端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。   In the present invention, it is not particularly limited as long as it is a downdraw method, but it is preferable to employ an overflow downdraw method because it can produce a glassy glass that is unpolished and has good surface quality. The reason why a film-like glass having a good surface quality can be produced is that the surface to be the surface of the film is not in contact with anything other than air and is molded in a free surface state. Here, the overflow down draw method is a film-like shape in which the molten glass overflows from both sides of the heat-resistant bowl-shaped structure, and the molten glass overflows and merges at the lower end of the bowl-shaped structure, and is stretched and formed downward. A method for producing glass. The structure and material of the bowl-shaped structure are not particularly limited as long as the quality required for the intended use of the dimensions and surface accuracy of the film-like glass can be realized. Further, the downward stretching may be performed by applying a force to the film-like glass by any method. For example, a method may be adopted in which a heat-resistant roller having a sufficiently large width is rotated and stretched in contact with the film-like glass, or a plurality of pairs of heat-resistant rollers are attached to the end face of the film-like glass. You may employ | adopt the method of making it contact only in the vicinity and extending | stretching.

オーバーフローダウンドロー法以外にも、種々の成形方法を採用することができる。例えば、ダウンドロー法(スロットダウン法、リドロー法等)等の様々な成形方法を採用することも可能である。   In addition to the overflow downdraw method, various molding methods can be employed. For example, various molding methods such as a downdraw method (slot down method, redraw method, etc.) can be employed.

ところでガラスの肉厚が薄くなるに従い、ガラス自身の持つ熱量が少なくなるため、ダウンドロー法においては板引き中にガラスが冷え易くなる、換言すれば粘度が上昇し易くなる。特に最終的な肉厚が100μm以下となるようなフィルム状ガラスを成形しようとする場合、成形設備(オーバーフローダウンドロー法の場合は成形体)から離れたガラスは表面張力によって板幅方向に縮むと同時に、急激な温度低下によって粘度が著しく上昇する。よって必要な板幅を確保したり、所望の厚みにしたりするためには、例えばオーバーフローダウンドロー法では、成形体から引き出された直後のガラスの粘度が105.0dPa・s以下、特に104.8dPa・s以下、104.6dPa・s以下、104.4dPa・s以下、104.2dPa・s以下、104.0dPa・s以下となるように、加熱、保温等の手段を講じて温度管理することが好ましい。このように温度管理することで、板幅方向に引っ張り応力を与えても破損することなく板幅を広げることが可能になる。更に、容易に下方へ延伸することが可能となる。一方、ガラスの粘性が低すぎると、フィルム状ガラスが変形しやすく、そりやうねりといった品位が悪化するため好ましくない。また延伸されるガラスの温度が高くなり、その後の冷却速度が速くなりガラスの熱収縮が大きくなってしまう恐れがあるため好ましくない。したがってガラスの粘度は103.5dPa・s以上、103.7dPa・s以上、103.8dPa・s以上、103.9dPa・s以上であることが好ましい。 By the way, as the thickness of the glass decreases, the amount of heat of the glass itself decreases, so that in the downdraw method, the glass is likely to cool during drawing, in other words, the viscosity is likely to increase. In particular, when trying to form a film-like glass having a final wall thickness of 100 μm or less, the glass away from the molding equipment (molded body in the case of the overflow down draw method) is shrunk in the plate width direction by the surface tension. At the same time, the viscosity rises remarkably due to a rapid temperature drop. Therefore, in order to secure a necessary plate width or to obtain a desired thickness, for example, in the overflow downdraw method, the viscosity of the glass immediately after being drawn from the molded body is 10 5.0 dPa · s or less, particularly 10 4.8 dPa · s or less, 10 4.6 dPa · s or less, 10 4.4 dPa · s or less, 10 4.2 dPa · s or less, heating so as to be 10 4.0 dPa · s or less, It is preferable to control the temperature by taking measures such as heat insulation. By controlling the temperature in this way, the plate width can be increased without being damaged even if a tensile stress is applied in the plate width direction. Furthermore, it becomes possible to extend downward easily. On the other hand, if the viscosity of the glass is too low, the film-like glass is likely to be deformed, and the quality such as warpage and undulation deteriorates. Moreover, since the temperature of the glass to be stretched becomes high, the subsequent cooling rate is increased, and the thermal shrinkage of the glass may be increased. Therefore, the viscosity of the glass is preferably 10 3.5 dPa · s or more, 10 3.7 dPa · s or more, 10 3.8 dPa · s or more, 10 3.9 dPa · s or more.

本発明のフィルム状ガラスの製造方法は、フィルム状ガラスを徐冷する工程を含む。徐冷中、ガラスの冷却速度が速くなると熱収縮率が大きくなるため好ましくない。その一方で冷却速度が遅くなりすぎると生産性が悪化する。あるいは製造工程における徐冷エリアが不当に長くなりすぎるため好ましくない。効率的に熱収縮率を小さくするには、ガラスの粘度1010〜1014.5dPa・s、特に1011〜1014dPa・s、さらには1012〜1014dPa・sにおける温度域の平均冷却速度を100℃/分以下、特に、80℃/分以下、50℃/分以下、30℃/分以下、20℃/分以下とすることが好ましい。また平均冷却速度は1℃/分以上、2℃/分以上、5℃/分以上、10℃/分以上であることが好ましい。なおここでいう「平均冷却速度」とは、上記したガラスの粘度域に相当する温度域を、ガラスが通過するのに要する時間で除したものである。 The method for producing a film-like glass of the present invention includes a step of gradually cooling the film-like glass. During slow cooling, an increase in the cooling rate of the glass is not preferable because the thermal shrinkage rate increases. On the other hand, if the cooling rate is too slow, the productivity deteriorates. Or since the slow cooling area in a manufacturing process becomes unduly long, it is not preferable. In order to reduce the thermal shrinkage efficiently, the viscosity of the glass is 10 10 to 10 14.5 dPa · s, particularly 10 11 to 10 14 dPa · s, more preferably 10 12 to 10 14 dPa · s. The average cooling rate is preferably 100 ° C./min or less, particularly 80 ° C./min or less, 50 ° C./min or less, 30 ° C./min or less, or 20 ° C./min or less. The average cooling rate is preferably 1 ° C./min or more, 2 ° C./min or more, 5 ° C./min or more, 10 ° C./min or more. Here, the “average cooling rate” is obtained by dividing the temperature range corresponding to the viscosity range of the glass by the time required for the glass to pass.

さらに本発明においては、徐冷中にフィルム状ガラスの移動方向を下方から水平方向に方向転換することを特徴とする。徐冷中にフィルム状ガラスを方向転換させることにより、所望の熱収縮率を達成するのに十分な時間及び距離を徐冷のために使うことができる。つまりダウンドロー法を採用する場合に特有の問題である高さの制約を受けることがない。   Furthermore, in the present invention, the moving direction of the film-like glass is changed from the lower side to the horizontal direction during the slow cooling. By turning the film glass during slow cooling, sufficient time and distance can be used for slow cooling to achieve the desired thermal shrinkage. That is, there is no height restriction, which is a particular problem when the downdraw method is adopted.

下方に移動するフィルム状ガラスを水平方向に方向転換させるには、種々の方法を採用することができる。例えば特許文献2に開示されているような、多数のローラーからなるローラーコンベアに沿わせて方向を転換する方法や、特許文献3に開示されているような、フィルムのエッジ部分のみをエアーコンベアで案内して方向転換する方法が採用できる。また特許文献4のように、自由に湾曲させることで方向転換を行ってもよい。   In order to change the direction of the film-like glass moving downward in the horizontal direction, various methods can be employed. For example, as disclosed in Patent Document 2, a method of changing the direction along a roller conveyor made up of a large number of rollers, or as disclosed in Patent Document 3, only an edge portion of a film is used with an air conveyor. A method of guiding and changing directions can be adopted. Moreover, you may change direction by making it curve freely like patent document 4. FIG.

方向転換に要するフィルム状ガラスの曲率半径は、フィルムの厚さに応じて調節すればよい。即ち、フィルムの厚さが大きいほど曲率半径を大きくする必要があり、逆に厚さが小さければ小さくすることができる。例えば厚さ100μmのフィルム状ガラスの場合、曲率半径は50mm〜200mm程度が適切である。   What is necessary is just to adjust the curvature radius of the film-form glass required for direction change according to the thickness of a film. That is, it is necessary to increase the radius of curvature as the thickness of the film increases, and conversely as the thickness decreases, the radius can be decreased. For example, in the case of a film-like glass having a thickness of 100 μm, the curvature radius is appropriately about 50 mm to 200 mm.

本発明のフィルム状ガラスの製造方法は、徐冷が完了したフィルム状ガラスを所定長に切断する工程を備えることが好ましい。ここで言う切断には、フィルム状ガラスを毎葉に切り離す場合に限られるものではない。即ち、後述のロール工程を採用する場合において、ロール交換に伴うフィルム状ガラスの切り離しのための切断を含む。なお切断は、あらかじめカッターやレーザー光でスクライブ線を入れた後、折り割りする方法、レーザー光で溶断する方法等、種々の方法が採用可能である。   The method for producing a film-like glass of the present invention preferably includes a step of cutting the film-like glass, which has been gradually cooled, into a predetermined length. The cutting referred to here is not limited to the case where the film-like glass is cut into every leaf. That is, in the case where a roll process described later is employed, cutting for cutting off the film-like glass accompanying roll replacement is included. In addition, various methods, such as a method of cutting a scribe line with a cutter or laser light in advance and then bending, or a method of fusing with laser light, can be employed for cutting.

本発明のフィルム状ガラスの製造方法は、さらにフィルム状ガラスを巻き取ってロール形態とした後に切断する工程を備えることができる。この場合、フィルム状ガラス同士が接触することによる傷の発生を防止すると共に、ロールに外圧が加わった際、それを吸収するために、合紙とともに巻き取ることが望ましい。なお巻き取り時の最小曲率半径は、例えば厚さ100μmのフィルム状ガラスの場合、200mm以下、特に150mm以下、100mm以下、70mm以下、50mm以下、特に30mm以下とすることが好ましい。曲率半径を小さくすることで梱包、搬送効率が向上する。   The manufacturing method of the film-like glass of this invention can be further equipped with the process cut | disconnected, after winding up film-like glass and making it into a roll form. In this case, it is desirable to take up with the interleaving paper in order to prevent the generation of scratches due to contact between the film-like glasses and to absorb the external pressure applied to the roll. For example, in the case of film glass having a thickness of 100 μm, the minimum radius of curvature during winding is preferably 200 mm or less, particularly 150 mm or less, 100 mm or less, 70 mm or less, 50 mm or less, particularly 30 mm or less. By reducing the radius of curvature, packing and transport efficiency can be improved.

また上記工程の他にも必要に応じて種々の工程を備えることができる。例えば徐冷完了後に、フィルム状ガラスの端部(いわゆる耳部)を切り離す端部分離工程を備えることができる。この工程では、レーザー光を照射してガラスの端部を連続的に切断分離する方法を好適に採用できる。この場合、使用するレーザーは炭酸ガスレーザーを用いてもよいし、YAGレーザー等を用いてもよい。レーザーの出力は、レーザーによって進行するクラックの進展速度と、ガラスの板引き速度を整合するよう調整することが好ましい。速度比=(レーザーによって進展するクラックの速度−板引き速度)/(板引き速度)×100は±10%以下、±5%以下、±1%以下、±0.5%以下、±0.1%以下であることが好ましい。   In addition to the above steps, various steps can be provided as necessary. For example, after completion of slow cooling, an end separation step of separating the end (so-called ear portion) of the film-like glass can be provided. In this step, a method of continuously cutting and separating the edge of the glass by irradiating a laser beam can be suitably employed. In this case, a carbon dioxide laser or a YAG laser or the like may be used as the laser to be used. It is preferable to adjust the laser output so that the progress rate of the cracks progressed by the laser matches the drawing speed of the glass. Speed ratio = (speed of crack progressed by laser−plate drawing speed) / (plate drawing speed) × 100 is ± 10% or less, ± 5% or less, ± 1% or less, ± 0.5% or less, ± 0. It is preferable that it is 1% or less.

またフィルム状ガラスの表面を研磨する研磨工程を採用することも可能である。ただしオーバーフローダウンドロー法を採用する場合には、ガラス表面が火造り面であることから極めて表面品位が高く、研磨工程は不要となる。さらに未研磨の状態で使用に供する方が、ガラスの機械的強度が高くなって好ましい。つまりガラスの理論強度は、本来非常に高い。ところが理論強度よりも遥かに低い応力でも破壊に至ることが多い。その理由は、ガラス表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥がガラスの成形後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。   It is also possible to employ a polishing step for polishing the surface of the film glass. However, when the overflow down draw method is adopted, the surface of the glass is a fire-making surface, so that the surface quality is extremely high and a polishing step is not necessary. Furthermore, it is preferable to use it in an unpolished state because the mechanical strength of the glass is increased. In other words, the theoretical strength of glass is inherently very high. However, even a stress much lower than the theoretical strength often leads to fracture. The reason is that a small defect called Griffith flow occurs on the glass surface in a process after the glass molding, for example, a polishing process.

以上の方法によって作製されるフィルム状ガラスの肉厚は特に限定されるものではないが、厚さ100μm以下、特に90μm以下、80μm以下、70μm以下、60μm以下、50μm以下、40μm以下、30μm以下、20μm以下、10μm以下であることが好ましい。フィルム状ガラスの厚みが薄くなるほどデバイスの軽量化が行える。またガラスを湾曲させた際に発生する応力値が低下するため、フィルム状ガラスの方向転換に要する曲率半径を小さくすることができる。これはフィルム状ガラスを巻き取ってロールにする場合も同様である。また端部の切り離しにレーザー切断を採用する場合、必要な出力を低下させることが可能になる。あるいは出力が一定であればより速い速度で切断を行うことができるようになる。しかし厚さが1μmよりも薄くなるとガラスの機械的強度が保てなくなる。またガラス成形時の微妙な空気の流れによって変形が起こり、それがそのまま固化してそり等の品位に悪影響を与える場合がある。したがって、強度やそりの品位の向上を目的とする場合においてはフィルムの厚さは1μm以上、5μm以上、10μm以上、30μm以上、50μm以上、60μm以上であることが好ましい。フィルム状ガラスの厚さは、ガラスの流量や板引き速度によって調整することができる。   The thickness of the film-like glass produced by the above method is not particularly limited, but the thickness is 100 μm or less, particularly 90 μm or less, 80 μm or less, 70 μm or less, 60 μm or less, 50 μm or less, 40 μm or less, 30 μm or less, It is preferably 20 μm or less and 10 μm or less. The thinner the film glass, the lighter the device. Moreover, since the stress value generated when the glass is bent is lowered, the radius of curvature required for the direction change of the film-like glass can be reduced. The same applies to the case where the film glass is wound into a roll. In addition, when laser cutting is employed for cutting off the end portion, it is possible to reduce the required output. Alternatively, if the output is constant, cutting can be performed at a higher speed. However, when the thickness is less than 1 μm, the mechanical strength of the glass cannot be maintained. Further, deformation may occur due to a subtle air flow during glass forming, which may solidify as it is and adversely affect the quality of warp and the like. Therefore, when the purpose is to improve the strength and the quality of the warp, the film thickness is preferably 1 μm or more, 5 μm or more, 10 μm or more, 30 μm or more, 50 μm or more, or 60 μm or more. The thickness of the film-like glass can be adjusted by the flow rate of glass and the drawing speed.

また得られるフィルム状ガラスの平均表面粗さRaは100Å以下であることが好ましい。特に50Å以下、10Å以下、8Å以下、4Å以下、3Å以下、2Å以下であることが望ましい。フィルム状ガラスの平均表面粗さRaが100Å以上では有機ELデバイスの表示特性が悪化する場合がある。一方Raが小さくなると、ロールからガラスを引き出す際に、ガラス−合紙、ガラス−ガラスが連続的に引き剥がされフィルム表面が帯電する恐れがある。このような帯電が起こると後の工程で帯電破壊が起こったり、雰囲気中の微粒子がフィルム状ガラス表面に吸着して問題を引き起こしたりする場合がある。このような帯電が重要視される用途・工程においては、大気圧プラズマ処理等を用いてRaを0.5Å以上、1Å以上、2Å以上、3Å以上、5Å以上、10Å以上にすることが好ましい。大気圧プラズマ処理を用いた場合の平均表面粗さは、例えば、プラズマガス(CFやO)の濃度等によって調整することができる。 Moreover, it is preferable that the average surface roughness Ra of the obtained film-like glass is 100 Å or less. In particular, it is desirable to be 50 mm or less, 10 mm or less, 8 mm or less, 4 mm or less, 3 mm or less, or 2 mm or less. If the average surface roughness Ra of the film-like glass is 100 mm or more, the display characteristics of the organic EL device may be deteriorated. On the other hand, when Ra is small, when the glass is pulled out from the roll, the glass-slip paper and the glass-glass may be continuously peeled off and the film surface may be charged. When such charging occurs, charging breakdown may occur in a later process, or fine particles in the atmosphere may be adsorbed on the surface of the film-like glass to cause a problem. In applications / processes in which such charging is regarded as important, it is preferable to set the Ra to 0.5 Å or more, 1 Å or more, 2 Å or more, 3 Å or more, 5 Å or more, 10 Å or more using atmospheric pressure plasma treatment or the like. The average surface roughness when the atmospheric pressure plasma treatment is used can be adjusted by, for example, the concentration of plasma gas (CF 4 or O 2 ).

また得られるフィルム状ガラスのうねりは1μm以下であることが好ましい。特に0.08μm以下、0.05μm以下、0.03μm以下、0.02μm以下、0.01μm以下であることが望ましい。フィルム状ガラスのうねりが大きいと有機ELデバイスの表示特性が悪化する場合がある。なおフィルム状ガラスのうねりは、攪拌スターラーの高さ、回転数や、成形体の温度等によって調整することができる。   Moreover, it is preferable that the obtained glassy glass has a swell of 1 μm or less. In particular, it is desirable to be 0.08 μm or less, 0.05 μm or less, 0.03 μm or less, 0.02 μm or less, or 0.01 μm or less. If the waviness of the film-like glass is large, the display characteristics of the organic EL device may be deteriorated. The waviness of the film-like glass can be adjusted by the height of the stirring stirrer, the number of rotations, the temperature of the molded body, and the like.

また得られるフィルム状ガラスの板幅は500mm以上であることが好ましい。有機ELディスプレイなどでは、TFTを一度に形成した後に、各パネルごとに切り出すいわゆる多面取りが行われるため、フィルム状ガラスの板幅が大きいほどパネル一枚あたりのコストを低廉化することが可能になる。フィルム状ガラスの好ましい板幅は600mm以上、800mm以上、1000mm以上、1200mm以上、1500mm以上2000mm以上である。一方で3500mmを超えると、板幅方向での厚みや表面品位を担保しがたくなるため3500mm以下3200mm以下、3000mm以下であることが好ましい。なおフィルム状ガラスの板幅は成形体の大きさ、形状、エッジローラーの位置等によって調整することができる。なおエッジローラーとは、最上段に設置されるローラーであって、成形体から流下したフィルム状ガラスを冷却しながら横方向の張力を与えることによって、フィルム幅を制御するローラーである。   Moreover, it is preferable that the plate width of the film-like glass obtained is 500 mm or more. In an organic EL display, etc., after forming TFTs at once, so-called multi-sided cutting is performed for each panel, so that the cost per panel can be reduced as the film glass width increases. Become. The preferable plate width of the film-like glass is 600 mm or more, 800 mm or more, 1000 mm or more, 1200 mm or more, 1500 mm or more and 2000 mm or more. On the other hand, when it exceeds 3500 mm, it is difficult to ensure the thickness and surface quality in the plate width direction, and therefore it is preferably 3500 mm or less, 3200 mm or less, and 3000 mm or less. The plate width of the film-like glass can be adjusted by the size, shape, edge roller position and the like of the molded body. In addition, an edge roller is a roller installed in the uppermost stage, Comprising: It is a roller which controls a film width by giving the tension | tensile_strength of a horizontal direction, cooling the film-like glass which flowed down from the molded object.

また得られるフィルム状ガラスの最大板厚と最小板厚の板厚差は20μm以下、特に10μm以下、5μm以下、2μm以下、1μm以下であることが好ましい。ダウンドロー法においてこのような肉厚偏差が、ある板幅に対して一定の箇所に発生した場合、この差が大きくなるとフィルム状ガラスを巻き取る際に一部だけわずかに曲率半径が異なる部分が生じる。巻き取り量が多くなってくるとこの板厚の差によって生じる応力によって製品が破損にいたる恐れがあるため好ましくない。なおフィルム状ガラスの最大肉厚と最小肉厚の板厚差(肉厚偏差)は徐冷炉内の温度によって調整することができる。   Further, the difference between the maximum plate thickness and the minimum plate thickness of the obtained film-like glass is preferably 20 μm or less, particularly preferably 10 μm or less, 5 μm or less, 2 μm or less, or 1 μm or less. In the downdraw method, when such a thickness deviation occurs at a certain position with respect to a certain plate width, when this difference becomes large, a part with a slightly different radius of curvature is slightly taken up when winding the film-like glass. Arise. If the amount of winding is increased, the product may be damaged by the stress caused by the difference in plate thickness, which is not preferable. In addition, the plate | board thickness difference (thickness deviation) of the maximum thickness of film-like glass and minimum thickness can be adjusted with the temperature in a slow cooling furnace.

また得られるフィルム状ガラスは、常温から10℃/分の速度で昇温し、保持時間500℃で1時間保持し、10℃/分の速度で降温したときの熱収縮率が200ppm以下、特に150ppm以下、100ppm以下、80ppm以下、60ppm以下、50ppm、45ppm、40ppm、30ppm以下、20ppm以下、10ppm以下であることが好ましい。熱収縮率が200ppm以上では、有機ELディスプレイにおいて画素を形成する熱工程において、ピッチズレ等の表示欠陥が発生する恐れがあるため好ましくない。なおフィルム状ガラスの熱収縮率は、徐冷条件(徐冷速度、徐冷時間、徐冷温度域等)を最適化することによって小さくすることができる。   Further, the obtained film-like glass is heated from normal temperature at a rate of 10 ° C./min, held for 1 hour at a holding time of 500 ° C., and has a thermal shrinkage rate of 200 ppm or less, particularly when the temperature is lowered at a rate of 10 ° C./min. It is preferable that they are 150 ppm or less, 100 ppm or less, 80 ppm or less, 60 ppm or less, 50 ppm, 45 ppm, 40 ppm, 30 ppm or less, 20 ppm or less, 10 ppm or less. A thermal shrinkage rate of 200 ppm or more is not preferable because display defects such as pitch shift may occur in the thermal process for forming pixels in the organic EL display. The thermal shrinkage of the film-like glass can be reduced by optimizing the slow cooling conditions (slow cooling rate, slow cooling time, slow cooling temperature range, etc.).

また得られるフィルム状ガラスの端面の表面粗さRaは100Å以下、特に、80Å以下、50Å以下、20Å以下、10Å以下、8Å以下、6Å以下であることが好ましい。100Å以上ではガラスが端面から破損する確率が高くなるため好ましくない。なおフィルム状ガラスの端面の表面粗さRaは、レーザー切断の場合では、レーザーの出力や切断速度によって調整することができる。   Further, the surface roughness Ra of the end face of the obtained film-like glass is preferably 100 mm or less, particularly 80 mm or less, 50 mm or less, 20 mm or less, 10 mm or less, 8 mm or less, or 6 mm or less. If it is 100 mm or more, the probability that the glass breaks from the end face increases, which is not preferable. In the case of laser cutting, the surface roughness Ra of the end surface of the film-like glass can be adjusted by the laser output and the cutting speed.

また得られるフィルム状ガラスのクラック発生率は、70%以下であることが好ましく、さらには50%以下、40%以下、30%以下、特に20%以下であることが望ましい。尚、本発明におけるクラック発生率とは次の方法によって得られた値を指す。その方法とは、湿度30%、温度25℃に保持された恒温恒湿槽内において、荷重1000gに設定したビッカース圧子をガラス表面(光学研磨面)に15秒間打ち込み、その15秒後に圧痕の4隅から発生するクラックの数をカウント(1つの圧痕につき最大4とする)する。これを20回繰り返し(即ち、圧子を20回打ち込み)、総クラック数を計数した後、総クラック発生数/80にて得られた値を求める方法である。なおフィルム状ガラスのクラック発生率はSiO,Bやアルカリ土類金属酸化物の含有量によって調整することができる。 Further, the crack occurrence rate of the obtained film-like glass is preferably 70% or less, more preferably 50% or less, 40% or less, 30% or less, and particularly preferably 20% or less. In addition, the crack generation rate in this invention points out the value obtained by the following method. In this method, a Vickers indenter set at a load of 1000 g is driven into the glass surface (optical polishing surface) for 15 seconds in a constant temperature and humidity chamber maintained at a humidity of 30% and a temperature of 25 ° C. The number of cracks generated from the corner is counted (maximum 4 per indentation). This is a method in which this is repeated 20 times (that is, the indenter is driven 20 times), the total number of cracks is counted, and then the value obtained by the total number of cracks / 80 is obtained. Incidentally cracking of the film-like glass can be adjusted by the content of SiO 2, B 2 O 3 and an alkaline earth metal oxide.

得られるフィルム状ガラスを構成するガラスは、オーバーフローダウンドロー法を採用して成形した場合に、成形中にガラスが失透しないように、ガラスの液相温度が1200℃以下、1150℃以下、1130℃以下、1110℃以下、1090℃以下、特に1070℃以下であることが好ましく、液相温度における粘度が105.0dPa・s以上、105.6dPa・s以上、105.8dPa・s以上、特に106.0dPa・s以上であることが望ましい。 When the glass constituting the obtained film-like glass is molded by adopting the overflow down draw method, the liquidus temperature of the glass is 1200 ° C. or lower, 1150 ° C. or lower, 1130 so that the glass is not devitrified during molding. The viscosity at the liquidus temperature is preferably 10 5.0 dPa · s or more, 10 5.6 dPa · s or more, 10 5.8 dPa. It is desirable that it is s or more, particularly 10 6.0 dPa · s or more.

またフィルム状ガラスを構成するガラスは、ヤング率が65GPa以上、67GPa以上、68GPa以上、69GPa以上、最適には70GPa以上であることが望ましい。   The glass constituting the film-like glass preferably has a Young's modulus of 65 GPa or more, 67 GPa or more, 68 GPa or more, 69 GPa or more, and most preferably 70 GPa or more.

またフィルム状ガラスを構成するガラスは、デバイスの軽量化をはかるために、その密度はできるだけ低いほうが望ましく、具体的には2.7g/cm以下、2.6g/cm以下、2.5g/cm以下、特に2.4g/cm以下であることが望ましい。 Further, the glass constituting the film-like glass preferably has a density as low as possible in order to reduce the weight of the device. Specifically, it is 2.7 g / cm 3 or less, 2.6 g / cm 3 or less, 2.5 g. / Cm 3 or less, and particularly preferably 2.4 g / cm 3 or less.

またフィルム状ガラスを構成するガラスは、フィルム状ガラス上に形成される種々の膜の熱膨張係数と整合するよう30〜380℃の温度範囲における熱膨張係数が25〜100×10−7/℃、30〜90×10−7/℃、30〜60×10−7/℃、30〜45×10−7/℃、30〜40×10−7/℃であることが望ましい。 The glass constituting the film-like glass has a coefficient of thermal expansion of 25 to 100 × 10 −7 / ° C. in a temperature range of 30 to 380 ° C. so as to match the coefficient of thermal expansion of various films formed on the film-like glass. 30 to 90 × 10 −7 / ° C., 30 to 60 × 10 −7 / ° C., 30 to 45 × 10 −7 / ° C., and 30 to 40 × 10 −7 / ° C.

またフィルム状ガラスを構成するガラスは、ガラスの耐熱性の指標である歪点が600℃以上、特に630℃以上であることが望ましい。   The glass constituting the film-like glass preferably has a strain point, which is an index of heat resistance of the glass, of 600 ° C. or higher, particularly 630 ° C. or higher.

上記した種々の特性を満たすガラスは、例えば質量百分率で、SiO 40〜80%、Al 0〜20%、B 0〜17%、MgO 0〜10%、CaO 0〜15%、SrO 0〜15%、BaO 0〜30%の組成範囲内で作製可能である。このように組成範囲を決定した理由を以下に述べる。 Glass satisfying various properties described above, for example, by mass percentage, SiO 2 40~80%, Al 2 O 3 0~20%, B 2 O 3 0~17%, 0~10% MgO, CaO 0~15 %, SrO 0-15% and BaO 0-30%. The reason for determining the composition range in this way will be described below.

SiOの含有量は40〜80%である。SiOの含有量が多くなると、ガラスの溶融、成形が難しくなったりするので、75%以下、好ましくは64%以下、62%以下、特に61%以下であることが望ましい。一方、含有量が少なくなると、ガラス網目構造を形成しにくくなりガラス化が困難になるとともにクラックの発生率が高くなったり耐酸性が悪化したりするので、50%以上、好ましくは55%以上、特に57%以上であることが望ましい。 The content of SiO 2 is 40 to 80%. When the content of SiO 2 increases, it becomes difficult to melt and mold the glass. Therefore, it is desirably 75% or less, preferably 64% or less, 62% or less, and particularly 61% or less. On the other hand, if the content is reduced, it becomes difficult to form a glass network structure and vitrification becomes difficult and the rate of occurrence of cracks increases or the acid resistance deteriorates, so 50% or more, preferably 55% or more, In particular, it is desirably 57% or more.

Alの含有量は0〜20%である。Alの含有量が多くなると、ガラスに失透結晶が析出しやすくなり、液相粘度が低下したりするので、20%以下、好ましくは18%以下、17.5%以下、特に17%以下であることが望ましい。Alの含有量が少なくなると、ガラスの歪点が低下したり、ヤング率が低下したりするため3%以上、好ましくは5%以上、8.5%以上、10%以上、12%以上、13%以上、13.5%以上、14%以上、特に14.5%以上であることが望ましい。 The content of Al 2 O 3 is 0 to 20%. When the content of Al 2 O 3 is increased, devitrified crystals are likely to precipitate on the glass and the liquid phase viscosity is lowered. Therefore, it is 20% or less, preferably 18% or less, 17.5% or less, particularly 17 % Or less is desirable. When the content of Al 2 O 3 decreases, the strain point of the glass decreases or the Young's modulus decreases, so that it is 3% or more, preferably 5% or more, 8.5% or more, 10% or more, 12%. As mentioned above, it is desirable that they are 13% or more, 13.5% or more, 14% or more, especially 14.5% or more.

は0〜17%である。Bの含有量が高くなると、歪点が低下したり、ヤング率が低くなったり、耐酸性が悪化するため、17%以下、好ましくは15%以下、13%以下、12%以下、11%以下、特に10.4%以下であることが望ましい。またBの含有量が低くなると、高温粘度が高くなり溶融性が悪化したり、クラック発生率が高くなったり、液相温度が高くなったり、密度が高くなったりするため、2%以上、好ましくは3%以上、4%以上、5%以上、7%以上、8.5%以上、8.8%以上、特に9%以上であることが望ましい。 B 2 O 3 is 0-17%. When the content of B 2 O 3 increases, the strain point decreases, the Young's modulus decreases, and the acid resistance deteriorates. Therefore, it is 17% or less, preferably 15% or less, 13% or less, 12% or less, It is desirable that it is 11% or less, particularly 10.4% or less. Further, when the content of B 2 O 3 is decreased, the high temperature viscosity is increased and the meltability is deteriorated, the crack generation rate is increased, the liquidus temperature is increased, and the density is increased. Above, preferably 3% or more, 4% or more, 5% or more, 7% or more, 8.5% or more, 8.8% or more, particularly 9% or more.

MgOはガラスのヤング率や歪点を向上させ、高温粘度を低下させる成分であり、クラック発生率を低減させる効果はある。しかし多量に含有すると液相温度が上昇し、耐失透性が低下したり耐BHF性が悪化したりするため10%以下、5%以下、3%以下、2%以下、1.5%以下、1%以下、0.5%以下とすることが望ましい。   MgO is a component that improves the Young's modulus and strain point of the glass and lowers the high-temperature viscosity, and has the effect of reducing the crack generation rate. However, if it is contained in a large amount, the liquidus temperature rises and the devitrification resistance decreases or the BHF resistance deteriorates, so 10% or less, 5% or less, 3% or less, 2% or less, 1.5% or less It is desirable to set it to 1% or less and 0.5% or less.

CaOの含有量は0〜15%である。CaOの含有量が高くなると密度や熱膨張係数が高くなったりするため、15%以下、好ましくは12%以下、10%以下、9%以下、8.5%以下であることが望ましい。一方、CaOの含有量が少なくなると溶融性が悪化したり、ヤング率が低くなったりするため、好ましくは2%以上、3%以上、5%以上、6%以上、7%以上、特に7.5%以上含有させることが望ましい。   The content of CaO is 0 to 15%. When the content of CaO is increased, the density and the thermal expansion coefficient are increased. Therefore, the content is desirably 15% or less, preferably 12% or less, 10% or less, 9% or less, or 8.5% or less. On the other hand, when the content of CaO decreases, the meltability deteriorates and the Young's modulus decreases. Therefore, it is preferably 2% or more, 3% or more, 5% or more, 6% or more, 7% or more, particularly 7. It is desirable to contain 5% or more.

SrOの含有量は0〜15%である。SrOの含有量が高くなると密度や熱膨張係数が高くなるため、15%以下、好ましくは12%以下、10%以下、6%以下、5%以下、特に6.5%以下であることが望ましい。一方SrOの含有量が少なくなると溶融性や耐薬品性が悪化するため、好ましくは0.5%以上、1%以上、2%以上、3%以上、特に3.5%以上含有することが望ましい。   The content of SrO is 0 to 15%. When the SrO content is increased, the density and the coefficient of thermal expansion are increased. Therefore, it is desirably 15% or less, preferably 12% or less, 10% or less, 6% or less, 5% or less, particularly 6.5% or less. . On the other hand, if the content of SrO decreases, the meltability and chemical resistance deteriorate, so it is preferable to contain 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, particularly 3.5% or more. .

BaOの含有量は0〜30%である。BaOの含有量が高くなると密度や熱膨張係数が高くなるため、30%以下、好ましくは25%以下、20%以下、15%以下、10%以下、5%以下、2%以下、1%以下、特に0.5%以下であることが望ましい。   The content of BaO is 0 to 30%. Since the density and thermal expansion coefficient increase as the BaO content increases, it is 30% or less, preferably 25% or less, 20% or less, 15% or less, 10% or less, 5% or less, 2% or less, 1% or less. In particular, it is desirable that it is 0.5% or less.

MgO、CaO、SrO、BaOの各成分は混合して含有させると、ガラスの液相温度を著しく下げ、ガラス中に結晶異物を生じさせ難くすることにより、ガラスの溶融性、成形性を改善する効果がある。しかしながら、これらの合量が少ないと融剤としての働きが充分ではなく溶融性が悪化するため、5%以上、8%以上、9%以上、11%以上、特に13%以上含有することが望ましい。一方、MgO、CaO、SrO、BaOの各成分の合量が多くなると、密度が上昇し、ガラスの軽量化が図れなくなる上、クラック発生率が高くなる傾向にあるため、合量で30%以下、20%以下、18%以下、特に15%以下であることが望ましい。また特にフィルムの低密度化をはかりたい場合には合量の下限を5%以上、8%以上とし、またその上限を13%以下、11%以下、10%以下とすることが望ましい。   When each component of MgO, CaO, SrO, and BaO is mixed and contained, the liquidus temperature of the glass is remarkably lowered, and it is difficult to generate crystal foreign matters in the glass, thereby improving the meltability and formability of the glass. effective. However, if the total amount of these is small, the function as a flux is not sufficient and the meltability is deteriorated. Therefore, it is desirable to contain 5% or more, 8% or more, 9% or more, 11% or more, particularly 13% or more. . On the other hand, when the total amount of each component of MgO, CaO, SrO, BaO increases, the density increases, the weight of the glass cannot be reduced, and the crack generation rate tends to increase, so the total amount is 30% or less. 20% or less, 18% or less, particularly 15% or less is desirable. In particular, when it is desired to reduce the density of the film, the lower limit of the total amount is preferably 5% or more and 8% or more, and the upper limit is preferably 13% or less, 11% or less, and 10% or less.

ZnOは、溶融性を改善し、ヤング率を高める成分であるが、多量に含有するとガラスが失透しやすくなり、歪点も低下する上、密度が上昇するため好ましくない。従って、その含有量は15%以下、10%以下、5%以下、3%以下、1%以下、特に0.5%以下であることが好ましい。   ZnO is a component that improves the meltability and increases the Young's modulus. However, if it is contained in a large amount, it tends to devitrify the glass, lowering the strain point and increasing the density, which is not preferable. Accordingly, the content is preferably 15% or less, 10% or less, 5% or less, 3% or less, 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less.

ZrOは、ヤング率を向上させる成分であるが、5%より多くなると、液相温度が上昇し、ジルコンの失透異物が出易くなるため好ましくない。ZrOの好ましい範囲は3%以下、より好ましくは1%以下、更に好ましくは0.5%以下、最も好ましくは0.1%以下である。 ZrO 2 is a component that improves the Young's modulus, but if it exceeds 5%, the liquidus temperature rises, and zircon devitrified foreign matter tends to be generated, which is not preferable. The preferable range of ZrO 2 is 3% or less, more preferably 1% or less, still more preferably 0.5% or less, and most preferably 0.1% or less.

また、上記成分以外にも、本発明では、Y、Nb、Laを5%程度まで含有することができる。これらの成分は歪点、ヤング率等を高める働きがあるが、多く含有すると密度が増大してしまうので好ましくない。 In addition to the above components, Y 2 O 3 , Nb 2 O 3 , and La 2 O 3 can be contained up to about 5% in the present invention. These components have a function of increasing the strain point, Young's modulus, etc., but if they are contained in a large amount, the density increases, which is not preferable.

更に上記ガラスには、清澄剤としてAs、Sb、CeO、SnO、F、Cl、SOの群から選択された一種または二種以上を0〜3%使用することができる。ただし、As、SbおよびF、特にAsおよびSbは、環境的観点から、その使用を極力控えるべきであり、各々の含有量を0.1%未満に制限すべきである。したがって、好ましい清澄剤は、SnO、SOおよびClである。SnOの含有量は0〜1%、0.01〜0.5%、特に0.05〜0.4%が好ましい。またSnO+Cl+SOは0.001〜1%、0.01〜0.5%、0.01〜0.3%である。 Furthermore, in the above glass, 0 to 3% of one or two or more selected from the group of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , SnO 2 , F, Cl, SO 3 is used as a fining agent. Can do. However, As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and F, especially As 2 O 3 and Sb 2 O 3 should be refrained from use as much as possible from an environmental point of view, and each content is less than 0.1%. Should be limited to Accordingly, preferred fining agents are SnO 2 , SO 3 and Cl. The SnO 2 content is preferably 0 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly preferably 0.05 to 0.4%. The SnO 2 + Cl + SO 3 0.001 to% 0.01-0.5%, which is 0.01 to 0.3%.

以下、実施例に基づいて本発明を説明する。図1は本発明の製造装置の一例である。図中、1はオーバーフローダウンドロー成形装置、2は熱処理炉、3はローラー、4は端部分離装置、5は切断装置、6は巻き取り装置、Gはフィルム状ガラスを示している。   Hereinafter, the present invention will be described based on examples. FIG. 1 shows an example of the manufacturing apparatus of the present invention. In the figure, 1 is an overflow downdraw molding device, 2 is a heat treatment furnace, 3 is a roller, 4 is an end separation device, 5 is a cutting device, 6 is a winding device, and G is a film glass.

オーバーフローダウンドロー成形装置1は、頂部に溝を有する断面楔状の成形体を備えている。溶融ガラスを成形体頂部の溝に供給し、その両側から溶融ガラスを溢れさせて成形体の両側面を流下させ、成形体下端で流下したガラスを合流させつつ引き出すことにより、溶融ガラスをフィルム状ガラスGに成形する。   The overflow downdraw molding apparatus 1 includes a molded body having a wedge-shaped cross section having a groove at the top. Supply molten glass to the groove at the top of the molded body, overflow the molten glass from both sides to flow down both sides of the molded body, and draw out the molten glass in a film form by drawing out the glass flowing down at the lower end of the molded body Molded into glass G.

熱処理炉2の内部には、オーバーフローダウンドロー成形装置1の成形体と、フィルム状ガラスGを案内するローラー3が設置されており、フィルム状ガラスGが移動する経路を取り囲むようにして略L字型、即ち上下方向及び水平方向に伸びている。また熱処理炉2は、細分化されたエリア毎に厳密に温度管理可能な構造となっており、成形体下方では徐冷炉として機能する。このためオーバーフローダウンドロー装置1から連続的に下方に引き出されたフィルム状ガラスGは、熱処理炉2の内部をローラー3で案内されながら下方へ延伸され、やがてその移動方向を下方から水平方向に変更されつつ、所定のスケジュールに従って徐冷(温度管理)される。   Inside the heat treatment furnace 2, a molded body of the overflow downdraw molding apparatus 1 and a roller 3 for guiding the film-like glass G are installed, and substantially L-shaped so as to surround a path along which the film-like glass G moves. It extends in the mold, i.e. in the vertical and horizontal directions. The heat treatment furnace 2 has a structure capable of strictly controlling the temperature for each subdivided area, and functions as a slow cooling furnace below the compact. For this reason, the film-like glass G drawn continuously downward from the overflow downdraw apparatus 1 is drawn downward while being guided by the roller 3 inside the heat treatment furnace 2, and eventually its moving direction is changed from below to the horizontal direction. While being done, it is gradually cooled (temperature control) according to a predetermined schedule.

端部分離装置4は、板引き方向と平行にレーザーを照射し、フィルム端部(耳部)を切り離すためのレーザー溶断設備を備えている。また切断装置5はフィルム状ガラスGの移動方向と直交する方向にスクライブ線を形成可能なスクライブ機構と、形成されたスクライブ線でフィルムを折り割る折り割り機構を備えている。徐冷炉2を抜けたフィルム状ガラスGは、端部分離装置4にてフィルムの端部を切り離され、さらに所定長毎に切断装置5にて切断される。   The edge part separation apparatus 4 is equipped with the laser fusing equipment for irradiating a laser in parallel with the drawing direction and cutting off the film edge part (ear part). The cutting device 5 includes a scribe mechanism that can form a scribe line in a direction orthogonal to the moving direction of the film-like glass G, and a folding mechanism that folds the film with the formed scribe line. The film-like glass G that has passed through the slow cooling furnace 2 is cut off at the end portion of the film by the end portion separation device 4 and further cut by the cutting device 5 every predetermined length.

巻き取り装置6は、巻心にフィルム状ガラスを巻き取る巻き取り機構と、所定量の巻き取りが完了するとロールを交換するロール交換機構とを備えている。フィルム状ガラスGが巻き取り装置にて予定量巻き取られると、切断装置5にてフィルム状ガラスGが切断され、ロールが切り離される。さらに巻き取りが完了したロールを系外に搬出し、新たな巻心が用意され、フィルム状ガラスの巻き取りが再開される。   The winding device 6 includes a winding mechanism that winds the film-like glass around the winding core, and a roll exchange mechanism that replaces the roll when a predetermined amount of winding is completed. When the film-like glass G is wound up by the winding device by a predetermined amount, the film-like glass G is cut by the cutting device 5 and the roll is cut off. Furthermore, the roll which has been wound up is taken out of the system, a new winding core is prepared, and winding of the film-like glass is resumed.

上記装置を用いた本発明の実施例を説明する。   An embodiment of the present invention using the above apparatus will be described.

まず、表1の組成となるようにガラス原料を調合し、図示せぬガラス溶融炉に供給して1500〜1600℃で溶融した。次いで、溶融ガラスをオーバーフローダウンドロー成形装置1に供給し、下方に引き出してフィルム状ガラスGに成形した。成形に当たっては、最終的なフィルム幅が1500mm、フィルム厚が50μmとなるようにガラス供給量や板引き速度を調節した。次いでフィルム状ガラスGを熱処理炉2内で上方から下方に向かって案内し、やがて水平方向へと方向転換させた後、熱処理炉2外へと案内した。なお本実施例においては、ガラスの粘度が1012〜1014dPa・sに相当する温度となる領域でのガラスの冷却速度が20℃/分となるように、板引き速度及び熱処理炉2内の温度調節を行った。続いて熱処理炉2から出てきたフィルム状ガラスGに対し、端部分離装置4でフィルム端部を切り離した後、巻き取り装置6にてロール状に巻き取った。さらにロールが満巻きされた時点で、切断装置5によりフィルム状ガラスを切断した。 First, a glass raw material was prepared so as to have the composition shown in Table 1, and supplied to a glass melting furnace (not shown) and melted at 1500 to 1600 ° C. Next, the molten glass was supplied to the overflow downdraw molding apparatus 1 and drawn downward to form a film-like glass G. In the molding, the glass supply amount and the drawing speed were adjusted so that the final film width was 1500 mm and the film thickness was 50 μm. Next, the film-like glass G was guided from the upper side to the lower side in the heat treatment furnace 2, and after changing the direction in the horizontal direction, it was guided to the outside of the heat treatment furnace 2. In this embodiment, the drawing speed and the heat treatment furnace 2 are set so that the cooling rate of the glass is 20 ° C./min in a region where the viscosity of the glass is a temperature corresponding to 10 12 to 10 14 dPa · s. The temperature was adjusted. Subsequently, the film-shaped glass G that came out of the heat treatment furnace 2 was cut off by the edge separator 4 and then wound into a roll by the winder 6. Further, when the roll was fully wound, the film-like glass was cut by the cutting device 5.

このようにして得られたロールからフィルム状ガラスを引き出して所定のサイズに切り出し、熱収縮量、表面粗さ、うねり、端面の表面粗さ、板厚差を評価した。   The film-like glass was drawn out from the roll thus obtained and cut into a predetermined size, and the amount of heat shrinkage, surface roughness, waviness, end surface roughness, and plate thickness difference were evaluated.

なお熱収縮は次のようにして測定した。まずガラスフィルム(厚み50μm)から、160mm×30mmの試料を切り出し、短冊状の試験片を数枚用意した。この短冊状試験片の端から20mm〜40mm付近に#1000の耐水研磨紙をガラスに押し当てることで、それぞれマーキングを行い(図2(a))、マーキングと直交方向に折り割った。折り割った試験辺の一方を、それぞれ500℃で1時間熱処理を行った。熱処理後の試料は金属板の上に乗せ急冷を行った。熱処理を行っていない試料と熱処理後の試料とを並べて(図2(b))マーキングの位置ズレ量(△L、△L)をレーザー顕微鏡によって観察した。それぞれの温度における熱収縮率を数1に基づいて算出した。 The thermal shrinkage was measured as follows. First, a 160 mm × 30 mm sample was cut out from a glass film (thickness 50 μm), and several strip-shaped test pieces were prepared. Marking was performed by pressing a # 1000 water-resistant abrasive paper against the glass in the vicinity of 20 mm to 40 mm from the end of the strip-shaped test piece (FIG. 2A), and the sheet was folded in a direction orthogonal to the marking. One of the folded test sides was heat-treated at 500 ° C. for 1 hour. The sample after the heat treatment was placed on a metal plate and rapidly cooled. A sample that had not been heat-treated and a sample that had been heat-treated were arranged side by side (FIG. 2B), and the amount of marking displacement (ΔL 1 , ΔL 2 ) was observed with a laser microscope. The thermal contraction rate at each temperature was calculated based on Equation 1.

平均表面粗さ(Ra)はJIS B0601:2001に準拠した方法で測定した値である。   The average surface roughness (Ra) is a value measured by a method based on JIS B0601: 2001.

端面の表面粗さ(Ra)は板の厚み方向・それと垂直方向についてJIS B0601:2001に準拠した方法で測定を行い平均値を用いた
うねりは、触針式の表面形状測定装置を用いて、JIS B−0610に記載のWCA(ろ波中心線うねり)を測定した値であり、この測定は、SEMI STD D15−1296「FPDガラス基板の表面うねりの測定方法」に準拠した方法で測定し、測定時のカットオフは0.8〜8mm、ガラス基板の引き出し方向に対して垂直な方向に300mmの長さで測定した値である。
The surface roughness (Ra) of the end face is measured by a method according to JIS B0601: 2001 in the thickness direction of the plate and the direction perpendicular thereto, and the undulation using the average value is performed using a stylus type surface shape measuring device. It is a value obtained by measuring WCA (filtered center line waviness) described in JIS B-0610, and this measurement is performed by a method based on SEMI STD D15-1296 “Measurement method of surface waviness of FPD glass substrate”. The cut-off at the time of measurement is 0.8 to 8 mm, and is a value measured with a length of 300 mm in a direction perpendicular to the drawing direction of the glass substrate.

板厚差は、レーザー式厚み測定装置を用いて、フィルム状ガラスの任意の一辺に板厚方向からレーザーを走査することにより、ガラス基板の最大板厚と最小板厚を測定した上で、最大板厚の値から最小板厚の値を減じた値である。   The difference in plate thickness is determined by measuring the maximum and minimum plate thicknesses of the glass substrate by scanning the laser from one side of the film-like glass from the plate thickness direction using a laser-type thickness measuring device. This is a value obtained by subtracting the minimum thickness value from the thickness value.

また各種材料特性を評価するために次の方法で評価用試料を用意した。まず表の組成となるように調製したガラス原料を白金坩堝にて1600℃で24時間溶融した。続いて溶融ガラスをカーボン台上に流し出し、徐冷した後、所定の大きさ、形状に加工して、以下の評価に供した。   In addition, in order to evaluate various material properties, samples for evaluation were prepared by the following method. First, a glass raw material prepared to have the composition shown in the table was melted at 1600 ° C. for 24 hours in a platinum crucible. Subsequently, the molten glass was poured out on a carbon table, slowly cooled, processed into a predetermined size and shape, and subjected to the following evaluation.

密度は、周知のアルキメデス法によって測定した。   The density was measured by the well-known Archimedes method.

歪点は、ASTM C336−71の方法に基づいて測定した。この値が高いほど、ガラスの耐熱性が高くなる。   The strain point was measured based on the method of ASTM C336-71. The higher this value, the higher the heat resistance of the glass.

軟化点は ASTM C338−93の方法に基づいて測定を行った。   The softening point was measured based on the method of ASTM C338-93.

粘度104.0、103.0、102.5dPa・sにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した。この温度が低いほど、溶融性に優れていることになる。 Viscosity 10 4.0, 10 3.0, temperature at 10 2.5 dPa · s were measured by a platinum ball pulling method. The lower this temperature, the better the meltability.

液相温度の測定は、ガラスを粉砕し、標準篩30メッシュ(500μm)を通過し、50メッシュ(300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶の析出する温度を測定したものである。液相粘度は液相温度における各ガラスの粘度を示す。液相粘度が高く、液相温度が低いほど、耐失透性に優れ、成形性に優れている。   The liquid phase temperature is measured by crushing the glass, passing through a standard sieve 30 mesh (500 μm), putting the glass powder remaining on 50 mesh (300 μm) into a platinum boat, holding it in a temperature gradient furnace for 24 hours, The temperature at which precipitation occurs is measured. The liquid phase viscosity indicates the viscosity of each glass at the liquid phase temperature. The higher the liquidus viscosity and the lower the liquidus temperature, the better the devitrification resistance and the moldability.

熱膨張係数は、ディラトメーターを用いて、30〜380℃における平均熱膨張係数を測定したものである。熱膨張係数測定用の試料として、ガラス板を白金ボートに入れて1400℃〜1450℃で30分リメルトし、端面にR加工を施したφ5mm×20mmの円柱状の試料を得た。同円柱状の試料は+5℃/minで750℃まで昇温し、同温度で30分保持した後、570℃まで−3℃/minで降温し、570℃からは−10℃/minで室温まで冷却し、熱膨張係数を測定した。   The thermal expansion coefficient is obtained by measuring an average thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. using a dilatometer. As a sample for measuring the thermal expansion coefficient, a glass plate was put in a platinum boat and remelted at 1400 ° C. to 1450 ° C. for 30 minutes to obtain a cylindrical sample of φ5 mm × 20 mm having an R-processed end face. The cylindrical sample was heated to 750 ° C. at + 5 ° C./min, held at the same temperature for 30 minutes, then cooled to 570 ° C. at −3 ° C./min, and from 570 ° C. to −10 ° C./min at room temperature. And the coefficient of thermal expansion was measured.

ガラス転移温度は熱膨張曲線からJIS R3103−3の方法に基づいて測定した。   The glass transition temperature was measured from the thermal expansion curve based on the method of JIS R3103-3.

ヤング率は、共振法により測定した
クラック発生率は、湿度30%、温度25℃に保持された恒温恒湿槽内において、荷重1000gに設定したビッカース圧子をガラス表面(光学研磨面)に15秒間打ち込み、その15秒後に圧痕の4隅から発生するクラックの数をカウント(1つの圧痕につき最大4とする)する。20回圧子を打ち込み、総クラック発生数/80×100として評価した。
The Young's modulus was measured by the resonance method. The crack occurrence rate was 15 seconds for a Vickers indenter set at a load of 1000 g on the glass surface (optical polished surface) in a constant temperature and humidity chamber maintained at 30% humidity and 25 ° C. The number of cracks generated from the four corners of the indentation is counted 15 seconds later (maximum of 4 per indentation). The indenter was driven 20 times, and the total number of cracks generated / 80 × 100 was evaluated.

耐BHF性と耐HCl性については、次の方法で評価した。まず各ガラス試料の両面を光学研磨した後、一部をマスキングしてから所定の濃度に調合した薬液中で、定めた温度で定めた時間浸漬した。薬液処理後、マスクをはずし、マスク部分と浸食部分の段差を表面粗さ計で測定し、その値を浸食量とした。また各ガラス試料の両面を光学研磨した後、所定の濃度に調合した薬液中で、定めた温度で定めた時間浸漬してから、ガラス表面を目視で観察し、ガラス表面が白濁したり、荒れたり、クラックが入っているものを×、全く変化の無いものを○とした。   The BHF resistance and HCl resistance were evaluated by the following methods. First, after both surfaces of each glass sample were optically polished, they were immersed for a predetermined time at a predetermined temperature in a chemical liquid prepared to a predetermined concentration after partly masking. After the chemical treatment, the mask was removed, the step between the mask portion and the erosion portion was measured with a surface roughness meter, and the value was taken as the erosion amount. In addition, after optically polishing both surfaces of each glass sample, after immersing in a chemical solution prepared to a predetermined concentration for a predetermined time at a predetermined temperature, the glass surface is visually observed, and the glass surface becomes cloudy or rough Or those with cracks were marked with ×, and those without any change were marked with ○.

薬液及び処理条件は、耐BHF性の浸食量は、130BHF溶液(NHHF:4.6質量%,NHF:36質量%)を用いて20℃、30分間の処理条件で測定した。外観評価は、63BHF溶液(HF:6質量%,NHF:30質量%)を用いて、20℃、30分間の処理条件で行った。また耐HCl性の浸食量は、10質量%塩酸水溶液を用いて80℃、24時間の処理条件で測定した。外観評価は、10質量%塩酸水溶液を用いて80℃、3時間の処理条件で行った。 The chemical solution and the treatment conditions were measured for the BHF-resistant erosion amount using a 130 BHF solution (NH 4 HF: 4.6% by mass, NH 4 F: 36% by mass) at 20 ° C. for 30 minutes. Appearance evaluation was performed using a 63BHF solution (HF: 6% by mass, NH 4 F: 30% by mass) under treatment conditions at 20 ° C. for 30 minutes. Further, the erosion resistance of HCl resistance was measured using a 10% by mass hydrochloric acid aqueous solution at 80 ° C. for 24 hours. Appearance evaluation was performed under a treatment condition of 80 ° C. for 3 hours using a 10 mass% hydrochloric acid aqueous solution.

表1から明らかなように、本発明の方法により作製したフィルム状ガラスは、熱収縮率が小さく、ヤング率、液相粘度、歪点が高い。更にクラック発生率、密度、高温粘度が低く、ディスプレイ用ガラスフィルムとして好適であった。   As is apparent from Table 1, the film-like glass produced by the method of the present invention has a low heat shrinkage ratio and a high Young's modulus, liquid phase viscosity, and strain point. Furthermore, the crack generation rate, density, and high temperature viscosity were low, and it was suitable as a glass film for display.

本発明の方法により作製したフィルム状ガラスは、液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ用基板として好適である。また太陽電池、半導体等のデバイスに使用されるガラス基板、有機EL照明のカバーガラス等その他の用途にも使用することができる。   The film-like glass produced by the method of the present invention is suitable as a substrate for flat panel displays such as liquid crystal displays and organic EL displays. Moreover, it can be used also for other uses, such as a glass substrate used for devices, such as a solar cell and a semiconductor, and a cover glass of organic EL lighting.

1 オーバーフローダウンドロー成形装置
2 熱処理炉
3 ローラー
4 端部分離装置
5 切断装置
6 巻き取り装置
G フィルム状ガラス
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Overflow down draw molding apparatus 2 Heat processing furnace 3 Roller 4 End part separation apparatus 5 Cutting apparatus 6 Winding apparatus G Film-like glass

Claims (7)

ダウンドロー法により溶融ガラスをフィルム状に成形し、徐冷した後、切断するフィルム状ガラスの製造方法であって、徐冷中にフィルム状ガラスの移動方向を水平方向に方向転換させることを特徴とするフィルム状ガラスの製造方法。   A method for producing a film-like glass, which is formed by forming a molten glass into a film by a downdraw method, slowly cooled, and then cut, characterized in that the moving direction of the film-like glass is changed to a horizontal direction during the slow cooling. A method for producing film-like glass. フィルム状ガラスの厚みが100μμm以下となるように成形することを特徴とする請求項1に記載のフィルム状ガラスの製造方法。   The method for producing a film-like glass according to claim 1, wherein the film-like glass is molded so that the thickness is 100 μm or less. ダウンドロー法として、オーバーフローダウンドロー法を用いることを特徴とする請求項1又は2に記載のフィルム状ガラスの製造方法。   The method for producing a film-like glass according to claim 1 or 2, wherein an overflow downdraw method is used as the downdraw method. フィルム状ガラスを巻き取ってロールとした後に切断することを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のフィルム状ガラスの製造方法。   The method for producing a film-like glass according to any one of claims 1 to 3, wherein the film-like glass is wound up after being wound to form a roll. ダウンドロー成形装置と、前記ダウンドロー成形装置でフィルム状に成形されたガラスを徐冷する徐冷炉と、徐冷炉を通過したフィルム状ガラスを所定長に切断する切断装置とを備えたフィルム状ガラスの製造装置であって、徐冷炉内でフィルム状ガラスの移動方向が垂直方向から水平方向に方向転換されることを特徴とするフィルム状ガラスの製造装置。   Production of film-like glass comprising a down-draw molding device, a slow cooling furnace for gradually cooling the glass formed into a film shape by the down-draw molding device, and a cutting device for cutting the film-like glass that has passed through the slow cooling furnace into a predetermined length An apparatus for producing a film-like glass, wherein the moving direction of the film-like glass is changed from a vertical direction to a horizontal direction in an annealing furnace. ダウンドロー成形装置が、オーバーフローダウンドロー成形装置であることを特徴とする請求項に記載のフィルム状ガラスの製造装置。 6. The apparatus for producing film-like glass according to claim 5 , wherein the downdraw molding apparatus is an overflow downdraw molding apparatus. さらに、フィルム状ガラスをロール状に巻き取る巻き取り装置を備えてなることを特徴とする請求項5又は6に記載のフィルム状ガラスの製造装置。 Furthermore, the manufacturing apparatus of the film-form glass of Claim 5 or 6 provided with the winding-up apparatus which winds up film-form glass in roll shape.
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