JP3482939B2 - 圧電/電歪膜型素子 - Google Patents
圧電/電歪膜型素子Info
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Description
子に係り、中でも流体特性や音圧、微小重量、加速度等
のセンシングのために、例えばマイクロホンや粘度セン
サに用いられる圧電/電歪膜型振動子に関する。 【0002】 【従来の技術】圧電/電歪膜型素子は、従来よりアクチ
ュエータや各種センサとして用いられている。センサと
して用いられる圧電/電歪膜型素子は、例えば特開平8
−201265号公報に開示されるように、流体の密
度、濃度、粘度等の特性測定に利用される。測定可能な
流体としては、液体及び気体を意味し、水、アルコー
ル、油等単一の成分からなる液体のみならず、これらの
液体に可溶または不溶な媒質を溶解または混合あるいは
懸濁せしめた液体、スラリー、ペーストが含まれる。こ
のような振動子にあっては、圧電体振動子の振幅と振動
子に接触する流体の粘性抵抗に相関があることを利用し
センサとして用いるものである。振動子の振動のような
機械系での振動形態は、電気系での等価回路に置き換え
ることができ、流体中で圧電/電歪膜型振動子を振動さ
せ、この振動子が流体の粘性に基づいて機械的抵抗を受
けることにより振動子を構成する圧電体の等価回路の電
気的定数が変化するのを検出し、流体の粘度、密度、濃
度等の特性を測定するセンサである。電気的定数として
は、損失係数、位相、抵抗、リアクタンス、コンダクタ
ンス、サセプタンス、インダクタンス及びキャパシタン
ス等が挙げることができ、特に等価回路の共振周波数近
傍で極大又は極小変化点を1つもつ損失係数または位相
が指標として好ましく用いられる。これにより流体の粘
度のみならず、密度、濃度をも測定することができ、例
えば、硫酸水溶液中の硫酸濃度を測定することができ
る。なお、振動形態の変化を検出する指標として電気的
定数以外に、測定精度、耐久性の観点から特に問題が無
ければ共振周波数の変化を利用することができることは
言うまでもない。 【0003】かかる圧電/電歪膜型振動子にあっては、
特開平5−267742号公報に開示されるように、図
2のように厚肉部2を周縁部に持つ薄肉ダイヤフラム部
3を有するセラミックスからなる基板1に積層した下部
電極4とは独立した位置に、補助電極8を形成し、その
補助電極8の一部が前記圧電/電歪膜5の下側に入り込
ませて形成されている。また、上部電極6は、補助電極
8及び圧電/電歪膜5の面上において連続して形成し、
上部電極6の接続の信頼性を向上している。なお、図2
にあっては、被測定流体は空洞部10に存在し、貫通孔
9により導入される。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】このような振動におけ
る電気特性を検知することによりセンシングを行うセン
サ用素子にあっては、電気的定数がばらつかないことが
望ましいのに対し、従来の流体特性、音圧や微小重量、
加速度等のセンシングに用いられる圧電/電歪膜型素子
の構造においては、初期の電気的定数が素子個体間でば
らついたり、経時変化が生じたりする場合があり、その
ような場合には、微調整の手間をかける必要があった。 【0005】 【課題を解決するための手段】そこで、研究の結果、従
来のセンサ用圧電/電歪膜型素子においては、図2に示
すように、下部電極4の補助電極8側がダイヤフラムの
形状に沿って形成され、一方、補助電極8の形成位置が
薄肉ダイヤフラム部3ではなく厚肉部2にあるため、薄
肉ダイヤフラム部3上で圧電/電歪膜5とダイヤフラム
が直接接触する領域が存在し、化学的反応等により不完
全結合部7が薄肉ダイヤフラム3上と厚肉部2に跨り形
成される。振動における電気的定数の検知を利用したセ
ンサ素子にあっては、かかる不完全結合部7における不
完全結合状態のばらつきや経時変化が、振動形態の変化
ひいては電気的定数の変化を起こす主原因の一つである
ことを見出した。すなわち、本発明は、厚肉部を周縁部
に持つ薄肉ダイヤフラム部を有するセラミックスからな
る基板に、下部電極及び補助電極と、圧電/電歪膜と、
上部電極を順次積層させたセンサ用圧電/電歪膜型素子
において、下部電極を、前記基板の一方の端部から他方
の端部の薄肉ダイヤフラム部を超える所定の位置までの
長さで形成し、前記下部電極とは独立した位置であって
上記厚肉部に、前記補助電極を形成するとともに、前記
下部電極と前記補助電極に跨る形で圧電/電歪膜を形成
したことを特徴とする圧電/電歪膜型素子である。これ
により、圧電膜/電歪膜と基板との不完全結合部が薄肉
ダイヤフラム部上に無くなり、振動形態のばらつきを大
幅に少なくすることが可能となる。 【0006】 【発明の実施の形態】図1には、本発明のセンサ用圧電
/電歪膜型振動子の実施形態が示されている。かかる圧
電/電歪膜型振動子は、薄肉のダイヤフラム部3と厚肉
部2からなるセラミック基板1の上に、下部電極4と、
圧電/電歪膜5及び上部電極6が、通常の膜形成法によ
って順次積層されてなる一体構造となって形成されてい
る。下部電極4の補助電極側の一端は、薄肉ダイヤフラ
ム部3を越えた所定の位置までの長さをもって形成され
ている。下部電極4と同一面上の、これとは独立した位
置に、圧電/電歪膜5の下側に入り込むような位置に補
助電極8が形成されている。圧電/電歪膜5は下部電極
4と補助電極8に跨るように形成され、上部電極6は圧
電/電歪膜8と補助電極8に跨って、補助電極8に導通
せしめるよう形成されている。圧電/電歪膜5と基板1
の間隙に不可逆的に形成される不完全結合部7は、基板
1の厚肉部2上に存在する。 【0007】セラミック基板1の材質としては、耐熱
性、化学的安定性、絶縁性を有する材質が好ましい。こ
れは、後述するように下部電極4、圧電/電歪膜5、上
部電極6のいずれかを接着剤を用いずに熱処理により接
合することがあること、センサ素子としての圧電/電歪
膜型振動子が液体の特性をセンシングする場合、その液
体が導電性であったり、腐食性があったりする場合があ
るためである。かかる観点から使用できるセラミックス
としては、安定化された酸化ジルコニウム、酸化アルミ
ニウム、酸化マグネシウム、ムライト、窒化アルミニウ
ム、窒化珪素及びガラス等を例示できる。これらの内安
定化された酸化ジルコニウムはダイヤフラム部を薄く形
成した場合にも機械的強度を高く保てること、靭性に優
れることなどから、好適に使用することができる。セラ
ミック基板1の薄肉ダイヤフラム部2の厚さとしては、
圧電/電歪膜の振動を妨げないために、一般に50μm
以下、好ましくは30μm以下、さらに好ましくは15
μm以下とされる。また、ダイヤフラム部の形状として
は、長方形、正方形、三角形、楕円形、真円形等いかな
る形も取りうるが、励起される共振モードを単純化させ
る必要のあるセンサ素子の応用のためには、長方形や真
円形が必要に応じて選択される。 【0008】このようなセラミック基板1の表面上に、
下部電極4が形成されている。かかる下部電極4は、セ
ラミック基板の一方の端部から他方の端部の薄肉のダイ
ヤフラム部を超える所定の位置までの長さで、圧電/電
歪膜5が形成されるべき部分より僅かに小さい大きさで
形成されている。一方、セラミック基板1の表面上には
下部電極4とは反対側の端部から、下部電極4に向かっ
て、補助電極8が形成されている。この補助電極8は、
その先端部が下部電極4の先端部に対して所定距離を隔
てて位置するように、また、圧電/電歪膜が形成される
べき部分に至るまでの長さを持って形成されている。補
助電極8は本発明にあっては、薄肉ダイヤフラム部3上
に形成されることはない。補助電極4の一方の端部は、
リード用端子として用いられる。 【0009】下部電極4及び補助電極8は、異なる材質
でも、同一の材質でもよく、セラミック基板1と圧電/
電歪膜5とのいずれとも接合性のよい導電性材料が用い
られる。具体的には、白金、パラジウム、ロジウム、
銀、あるいはこれらの合金を主成分とする電極材料が好
適に用いられ、特に、圧電/電歪膜を形成する際に高熱
処理が行われる場合には、白金、及びこれを主成分とす
る合金が好適に用いられる。下部電極4と補助電極8の
形成には、公知の各種の膜形成手法が用いられる。具体
的には、イオンビーム、スパッタリング、真空蒸着、CV
D、イオンプレーティング、メッキ等の薄膜形成手法
や、スクリーン印刷、スプレー、ディッピング等の厚膜
形成手法が適宜選択されるが、その中でも特に、スパッ
タリング法及びスクリーン印刷法が好適に選択される。 【0010】このように形成された下部電極4及び補助
電極8に跨るようにして、両端を接続した圧電/電歪膜
5が形成されている。圧電材料としては、圧電/電歪効
果を示す材料であればいずれの材料でもよく、このよう
な材料として、ジルコン酸鉛、チタン酸鉛、チタン酸ジ
ルコン酸鉛(PZT)等の鉛系セラミック圧電/電歪材料
や、チタン酸バリウム及びこれを主成分とするチタバリ
系セラミック強誘電体や、ポリ弗化ビニリデン(PVDF)
に代表される高分子圧電体、あるいは(Bi0.5Na0.5)Ti
O3に代表されるBi系セラミック圧電体を挙げることがで
きる。もちろん、圧電/電歪特性を改善した、これらの
混合物や、固溶体及び、これらに添加物を添加せしめた
ものが用いられうることは言うまでもない。PZT系圧電
体は、圧電特性が高く、高感度検出が可能なセンサの材
料として好適に用いられる。また、下部電極及び補助電
極に、白金及びこれらを主成分とする合金を用いる場合
には、これらとの接合性がより高い、(Bi0.5Na0.5)Ti
O3及びこれを主成分とする材料、BaTiO3及びこれを主成
分とする材料が、より好適に用いられる。このような圧
電/電歪膜材料は、圧電/電歪膜5として、下部電極4
と補助電極8と同様に公知の各種膜形成法により形成さ
れる。中でも、低コストの観点からスクリーン印刷が好
適に用いられる。これにより形成された圧電/電歪膜5
は必要に応じて熱処理され、下部電極4及び補助電極8
と一体化される。本発明にあっては、白金等の材料を下
部電極4及び補助電極8に用いる場合、圧電/電歪膜5
と各電極との接合性を強固にして、素子の特性ばらつ
き、信頼性を高くする必要があるため、圧電/電歪膜5
に(Bi0.5Na0.5)TiO3及びこれを主成分とする材料、Ba
TiO3及びこれを主成分とする材料を用いて、900℃から1
400℃好ましくは1000℃から1300℃の温度が好適に採用
される。PZT系材料を用いた場合にも同様である。この
際、高温時に圧電/電歪膜5が不安定にならないよう
に、圧電/電歪材料の蒸発源とともに雰囲気制御を行い
ながら熱処理することが好ましい。 【0011】さらに、このようにして形成された圧電/
電歪膜5の上に、上部電極6が、圧電/電歪膜5から補
助電極8にまで跨って連続的に形成されている。この上
部電極6の材質としては、圧電/電歪膜5との接合性の
高い導電性材料が用いられ、下部電極4及び補助電極8
と同様の膜形成法により形成される。さらに、上部電極
6は、膜形成後必要に応じて熱処理され、圧電/電歪膜
5及び補助電極8と接合され、一体構造とされる。この
ような熱処理がかならずしも必要でないことは下部電極
4と同様である。 【0012】なお、下部電極4、圧電/電歪膜5、上部
電極6が熱処理により接合される場合には、それぞれを
形成の都度熱処理してもよいし、それぞれを順次膜形成
後、同時に熱処理してもよい。熱処理する際、良好な接
合性や構成元素の拡散による変質を抑制するために、熱
処理温度が適切に選ばれるのは言うまでもない。また、
図1では空洞部10に貫通孔9を形成しているが、流体
に接触する空洞部10以下の構造はどのような構造でも
良く限定しない。 【0013】 【発明の効果】請求項1記載に係る圧電/電歪膜型振動
子にあっては、不完全結合部が薄肉ダイヤフラム上に存
在しない構造であるため、振動のばらつきや経時的変化
が無く、振動における電気的定数の検知により流体特性
や液体/気体を判別する素子、あるいは音圧や微小重
量、加速度等の測定素子として好適な振動子が得られる
こととなる。また、下部電極の薄肉ダイヤフラム上での
対称性が可及的に高くなるため、振動形態がばらつくこ
と無く安定した振動特性が得られる効果が得られる。
形態を示す説明図である。 【図2】従来のセンサ用圧電/電歪膜型振動子の実施形
態を示す説明図である。 【符号の説明】 1・・基板、2・・厚肉部、3・・ダイヤフラム部、4
・・下部電極、5・・圧電/電歪膜、6・・上部電極、
7・・不完全結合部、8・・補助電極、9・・貫通孔、
10・・空洞部。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 厚肉部を周縁部に持つ薄肉ダイヤフラム
部を有するセラミックスからなる基板に、下部電極及び
補助電極と、圧電/電歪膜と、上部電極を順次積層させ
たセンサ用圧電/電歪膜型素子であって、 下部電極を、前記基板の一方の端部から他方の端部の薄
肉ダイヤフラム部を超える所定の位置までの長さで形成
し、前記下部電極とは独立した位置であって上記厚肉部
に、前記補助電極を形成するとともに、前記下部電極と
前記補助電極に跨る形で圧電/電歪膜を形成したことを
特徴とする圧電/電歪膜型素子。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000136198A JP3482939B2 (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | 圧電/電歪膜型素子 |
US09/850,424 US6448623B2 (en) | 2000-05-09 | 2001-05-07 | Piezoelectric/electrostrictive film type device |
DE60120040T DE60120040T2 (de) | 2000-05-09 | 2001-05-08 | Piezoelektrisches/elektrostriktives schichtartiges Bauelement |
EP01304137A EP1154497B1 (en) | 2000-05-09 | 2001-05-08 | Piezoelectric/electrostrictive film type device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000136198A JP3482939B2 (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | 圧電/電歪膜型素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001318041A JP2001318041A (ja) | 2001-11-16 |
JP3482939B2 true JP3482939B2 (ja) | 2004-01-06 |
Family
ID=18644178
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000136198A Expired - Fee Related JP3482939B2 (ja) | 2000-05-09 | 2000-05-09 | 圧電/電歪膜型素子 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6448623B2 (ja) |
EP (1) | EP1154497B1 (ja) |
JP (1) | JP3482939B2 (ja) |
DE (1) | DE60120040T2 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3728623B2 (ja) * | 2001-03-02 | 2005-12-21 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪膜型素子 |
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AU2005235068A1 (en) * | 2004-04-19 | 2005-11-03 | Seiko Epson Corporation | Liquid container with liquid sensor |
ATE480405T1 (de) * | 2004-07-01 | 2010-09-15 | Seiko Epson Corp | Flüssigkeitssensor und diesen enthaltender flüssigkeitsbehälter |
US7322667B2 (en) * | 2004-07-14 | 2008-01-29 | Seiko Epson Corporation | Liquid detecting method and liquid detecting system |
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US8189851B2 (en) | 2009-03-06 | 2012-05-29 | Emo Labs, Inc. | Optically clear diaphragm for an acoustic transducer and method for making same |
US9226078B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-12-29 | Emo Labs, Inc. | Acoustic transducers |
USD741835S1 (en) | 2013-12-27 | 2015-10-27 | Emo Labs, Inc. | Speaker |
USD733678S1 (en) | 2013-12-27 | 2015-07-07 | Emo Labs, Inc. | Audio speaker |
USD748072S1 (en) | 2014-03-14 | 2016-01-26 | Emo Labs, Inc. | Sound bar audio speaker |
EP3396341A1 (en) * | 2017-04-24 | 2018-10-31 | Nokia Technologies Oy | Strain sensor comprising a viscous piezoresistive element |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS60189307A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-26 | Toshiba Corp | 圧電薄膜共振器およびその製造方法 |
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-
2000
- 2000-05-09 JP JP2000136198A patent/JP3482939B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-07 US US09/850,424 patent/US6448623B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-08 EP EP01304137A patent/EP1154497B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-08 DE DE60120040T patent/DE60120040T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20010052627A1 (en) | 2001-12-20 |
DE60120040D1 (de) | 2006-07-06 |
EP1154497A2 (en) | 2001-11-14 |
EP1154497A3 (en) | 2004-06-23 |
EP1154497B1 (en) | 2006-05-31 |
JP2001318041A (ja) | 2001-11-16 |
DE60120040T2 (de) | 2006-12-14 |
US6448623B2 (en) | 2002-09-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071017 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081017 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081017 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091017 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101017 Year of fee payment: 7 |
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