JP3121200B2 - Method of manufacturing image display device - Google Patents

Method of manufacturing image display device

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JP3121200B2
JP3121200B2 JP06090793A JP9079394A JP3121200B2 JP 3121200 B2 JP3121200 B2 JP 3121200B2 JP 06090793 A JP06090793 A JP 06090793A JP 9079394 A JP9079394 A JP 9079394A JP 3121200 B2 JP3121200 B2 JP 3121200B2
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exhaust pipe
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rear plate
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は平面型の画像表示装置の
製造方法に関し、特に、表面伝導型電子放出素子を用い
た平面型の画像表示装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a flat type image display device, and more particularly to a method of manufacturing a flat type image display device using a surface conduction electron-emitting device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、画像形成を行なう蛍光表示管、プ
ラズマディスプレイ、電界放出型のスピントタイプの電
子線発生装置を用いた表示装置、古典的な従来の表面伝
導形電子放出素子を用いた表示装置など、蛍光体を励起
し発光表示させる画像表示装置は、平面でかつ明るく見
やすいなどの利点を有しており、産業上、積極的に応用
され、かつ、期待されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a fluorescent display tube for forming an image, a plasma display, a display device using a field emission type Spindt type electron beam generator, and a display using a classical conventional surface conduction electron-emitting device. 2. Description of the Related Art An image display device such as a device that excites a phosphor and emits light for display has advantages such as being flat, bright and easy to see, and is actively applied and expected in industry.

【0003】例として、図5に従来の蛍光表示管、図6
に従来のプラズマディスプレイ、図6を示す。
As an example, FIG. 5 shows a conventional fluorescent display tube, and FIG.
FIG. 6 shows a conventional plasma display, and FIG.

【0004】図5に示す蛍光表示管は、リアプレート5
21とフェースプレート528とが対向配置されるもの
で、リアプレート521上には、絶縁膜534、電極5
22,523、蛍光体524、表示部525が設けら
れ、フェースプレート628のリアプレート521側と
なる面には透明導電膜529が設けられ、また、リアプ
レート521とフェースプレート528との間には、グ
リッド526とフィラメント527が設けられている。
The fluorescent display tube shown in FIG.
21 and a face plate 528 are arranged to face each other, and an insulating film 534 and an electrode 5 are provided on the rear plate 521.
22, 523, a phosphor 524, and a display portion 525 are provided. A transparent conductive film 529 is provided on a surface of the face plate 628 on the side of the rear plate 521, and a space between the rear plate 521 and the face plate 528 is provided. , A grid 526 and a filament 527 are provided.

【0005】図6に示すプラズマディスプレイは、リア
プレート621とフェースプレート628とが対向配置
される。リアプレート621には、フェースプレート6
28側に向けて、電極623、絶縁膜634および電極
622が順に設けられ、フェースプレート628にはリ
アプレート621側に向けて透明導電膜629と蛍光体
624とが順に設けられている。
In the plasma display shown in FIG. 6, a rear plate 621 and a face plate 628 are arranged to face each other. The rear plate 621 has a face plate 6
An electrode 623, an insulating film 634, and an electrode 622 are provided in order toward the 28 side, and a transparent conductive film 629 and a phosphor 624 are provided in order on the face plate 628 toward the rear plate 621 side.

【0006】図5および図6にそれぞれ示した蛍光表示
管、プラズマディスプレイにおいて、リアプレート52
1,621とフェースプレート528,628は、枠部
材533,633と封着材532,632により一体的
に封着されている。図5に示した蛍光表示管において
は、外部信号を伝達するためのリード530が封着材5
31を通って電極522に接続している。
In the fluorescent display tube and the plasma display shown in FIGS. 5 and 6, respectively, a rear plate 52 is provided.
1, 621 and the face plates 528, 628 are integrally sealed by frame members 533, 633 and sealing materials 532, 632. In the fluorescent display tube shown in FIG. 5, a lead 530 for transmitting an external signal is provided with a sealing material 5.
31 and connected to the electrode 522.

【0007】製造方法としては、図5に示す蛍光表示
管、図6に示すプラズマディスプレイのリアプレート5
21,621に電極522,523,622,623、
絶縁膜534,634を形成する。図5に示す蛍光表示
管においては、制御電極となるグリッド526、フィラ
メント527等を形成する。次に、フェースプレート5
28,628に透明導電膜529,629、蛍光体52
4,624等を形成し、枠部材533,633に排気管
531,631を形成し、リアプレート521,621
と枠部材533,633とフェースプレート528,6
28とを封着材532,632を介して積層し、加圧し
ながら加熱焼成を行うことによって、リアプレート52
1,621、フェースプレート528,628、枠部材
533,633および封着材532,632により気密
封着された外囲器を形成する。
As a manufacturing method, a fluorescent display tube shown in FIG. 5 and a rear plate 5 of a plasma display shown in FIG.
21, 621, electrodes 522, 523, 622, 623,
The insulating films 534 and 634 are formed. In the fluorescent display tube shown in FIG. 5, a grid 526 serving as a control electrode, a filament 527, and the like are formed. Next, face plate 5
28, 628, transparent conductive films 529, 629, phosphor 52
4,624 and the like, and exhaust pipes 531 and 631 are formed in the frame members 533 and 633, and the rear plates 521 and 621 are formed.
And frame members 533, 633 and face plates 528, 6
28 are laminated via sealing materials 532 and 632, and heated and fired while applying pressure, whereby the rear plate 52
1, 621, face plates 528, 628, frame members 533, 633 and sealing materials 532, 632 form an envelope hermetically sealed.

【0008】続いて、上記のようにして形成された外囲
器を封止する。図7は封止時に行われる加熱工程時の状
態を示す図である。
Subsequently, the envelope formed as described above is sealed. FIG. 7 is a diagram showing a state in a heating step performed at the time of sealing.

【0009】図7に示すように、加熱装置735上に上
記のごとく作製された外囲器である画像表示装置736
を配置し、加熱装置735により画像表示装置736を
ベークしつつ排気管731より内部を真空排気し、所望
の真空度、雰囲気を形成したうえで、排気管731をさ
らに加熱し、融解させて封止し、画像表示装置を製造す
る。
As shown in FIG. 7, an image display device 736, which is an envelope manufactured as described above, is provided on a heating device 735.
Is evacuated from the exhaust pipe 731 while the image display device 736 is baked by the heating device 735 to form a desired degree of vacuum and atmosphere, and the exhaust pipe 731 is further heated, melted and sealed. Then, the image display device is manufactured.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来例の蛍光表示管、プラズマディスプレイなどの画
像表示装置の製造方法では、画像表示装置の内部を真空
排気する際の画像表示装置のベーク時に、排気管を画像
表示装置とともにベークする方法である。排気管はベー
ク後、封止のためにさらに融解温度まで加熱される。こ
のため、排気管が充分ベークされない状態で内部を真空
排気して所望の雰囲気を形成し、排気管を封止すること
があり、このような場合には、製造される画像表示装置
には以下のような問題点が生じる。
However, in the above-mentioned conventional method of manufacturing an image display device such as a fluorescent display tube or a plasma display, when the image display device is baked when the inside of the image display device is evacuated, This is a method of baking the exhaust pipe together with the image display device. After baking, the exhaust pipe is further heated to the melting temperature for sealing. For this reason, the interior of the exhaust pipe may be evacuated to a desired atmosphere by evacuating the exhaust pipe in a state where the exhaust pipe is not sufficiently baked, and the exhaust pipe may be sealed. The following problems occur.

【0011】(1)排気管からのアウトガスにより、画
像表示装置内部の真空度が低下することから、リアプレ
ートとフェースプレートとの間に印加された高電圧の耐
圧が低下し、内部で放電等が発生し装置が劣化、破壊さ
れる。また、特にリアプレートとフェースプレートとの
間の距離を小さくした極めて薄い平面型の画像表示装置
や、高電圧を印加して高輝度な発光部を形成することが
要求される平面型の画像表示装置において、このような
問題が顕著である。
(1) Since the degree of vacuum inside the image display device is reduced due to outgas from the exhaust pipe, the withstand voltage of the high voltage applied between the rear plate and the face plate is reduced, and discharge and the like are caused inside. Occurs, and the device is deteriorated and destroyed. In addition, an extremely thin planar image display device in which the distance between the rear plate and the face plate is reduced, and a planar image display device that requires a high voltage to form a high-luminance light-emitting portion. Such a problem is remarkable in the device.

【0012】(2)排気管からのアウトガスにより、画
像表示装置内部の雰囲気が変化することから、装置の駆
動開始電圧が変化し、耐久性が劣化する。
(2) Since the atmosphere inside the image display device changes due to the outgas from the exhaust pipe, the driving start voltage of the device changes and the durability deteriorates.

【0013】以上の問題点があるために画像表示装置を
駆動、動作させると、経過時間とともに表示画像の品位
が低下するばかりか、異常放電等が発生し、最悪の場合
には画像表示装置が故障してしまうという問題点があ
る。
Due to the above problems, when the image display device is driven and operated, not only does the quality of the displayed image deteriorate with the lapse of time, but also abnormal discharge and the like occur. There is a problem of failure.

【0014】本発明は上述したような従来の技術が有す
る問題点に鑑みてなされたものであって、真空排気時の
アウトガスを充分なものとし、画像表示装置の画質を向
上することができ、長寿命とすることのできる画像表示
装置の製造方法を実現することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has been made capable of improving the image quality of an image display device by making sufficient outgassing during evacuation. It is an object of the present invention to realize a method of manufacturing an image display device having a long life.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の画像表示装置の
製造方法は、外部と挿通する排気管を具備し、内部には
画像表示部材が配設された外囲器を、前記排気管を介し
て真空排気しながらベークする第1の工程と、前記第1
の工程により真空排気された後に、内部の空間を真空維
持するために前記排気管を封止する第2の工程とを有す
る画像表示装置の製造方法において、前記第1の工程に
おける排気管のベーク温度が、外囲器のベーク温度より
も高く、かつ、排気管の軟化点以下であり、前記第2の
工程では前記第1の工程で加熱された排気管を加熱して
封止することを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing an image display device, comprising: an exhaust pipe inserted into the outside; an envelope in which an image display member is provided; A first step of baking while evacuating through the first step;
And a second step of sealing the exhaust pipe in order to maintain the internal space in a vacuum after the vacuum exhaust is performed in the step of: baking the exhaust pipe in the first step. The temperature is higher than the baking temperature of the envelope
And the temperature is lower than the softening point of the exhaust pipe. In the second step, the exhaust pipe heated in the first step is heated and sealed.

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【作用】本発明においては、第1の工程で真空排気しな
がら行われるベークが、外囲器のみならず排気管に対し
てもなされ、このときのベーク温度が外囲器に対するベ
ーク温度より高くされるので、排気管を封止するときの
アウトガスにより、画像表示装置内部の真空度が低下す
ることおよび雰囲気が変化することはない。
In the present invention, the baking performed while evacuating in the first step is performed not only for the envelope but also for the exhaust pipe, and the baking temperature at this time is higher than the baking temperature for the envelope. Therefore, the degree of vacuum inside the image display device does not decrease and the atmosphere does not change due to outgas when the exhaust pipe is sealed.

【0018】排気管の温度は排気管の軟化点以上とする
と、排気管に変形が生じ、その後の封止作業の妨げとな
るが、軟化点近傍であり、かつ、軟化点以下とすること
によりアウトガスの発生を最も少なくすることができる
とともに封止作業の容易性を損なうことの防止を図るこ
とができる。
If the temperature of the exhaust pipe is higher than the softening point of the exhaust pipe, the exhaust pipe is deformed and hinders the subsequent sealing work. However, when the temperature of the exhaust pipe is close to the softening point and lower than the softening point, Outgassing can be minimized, and the easiness of the sealing operation can be prevented from being impaired.

【0019】[0019]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0020】図1は本発明の製造方法により作製される
画像表示装置の構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of an image display device manufactured by the manufacturing method of the present invention.

【0021】図1において、106は透明導電膜10
7、蛍光体108およびメタルバック109が形成され
たフェースプレート、101は、素子電極104と、該
素子電極104の間に設けられた微粒子膜105からな
る電子線発生装置が複数形成された絶縁性基体からなる
リアプレートであり、フェースプレート106とともに
画像表示部材を構成する。リアプレート101は制御用
の電極102および絶縁層103を介して上記の複数の
電子線発生装置を搭載している。111は外囲器を形成
するための枠部材であり、封着材112を介してフェー
スプレート106およびリアプレート101と溶着され
て外囲器を形成する。また、110は真空排気するため
の排気管であり、枠部材111を通って外囲器内に挿通
している。
In FIG. 1, reference numeral 106 denotes the transparent conductive film 10.
7, a face plate 101 on which a phosphor 108 and a metal back 109 are formed, and an insulating plate 101 on which a plurality of electron beam generators each including an element electrode 104 and a fine particle film 105 provided between the element electrodes 104 are formed. It is a rear plate composed of a base, and forms an image display member together with the face plate 106. The rear plate 101 has the above-described plurality of electron beam generators mounted thereon via a control electrode 102 and an insulating layer 103. Reference numeral 111 denotes a frame member for forming an envelope, which is welded to the face plate 106 and the rear plate 101 via a sealing material 112 to form an envelope. Reference numeral 110 denotes an exhaust pipe for evacuating, which is inserted through the frame member 111 into the envelope.

【0022】本発明の画像表示装置の製造方法における
枠部材111、リアプレート101、フェースプレート
106は、絶縁性を有するものであればどのような材料
で形成されていても構わないが、これらの熱膨張係数が
ほぼ同一となるように材料を選択することが好ましい。
また、特に、その材料の具体例を挙げるならば、青板、
石英などのガラス基体、Al23などのセラミックス基
体などである。
The frame member 111, the rear plate 101, and the face plate 106 in the method of manufacturing an image display device of the present invention may be made of any material having an insulating property. It is preferable to select materials so that the thermal expansion coefficients are substantially the same.
In particular, if specific examples of the material are given, a blue plate,
Examples include a glass substrate such as quartz and a ceramic substrate such as Al 2 O 3 .

【0023】また、封着材112はリアプレート101
とフェースプレート106が枠部材111を介して気密
封着できる材料であれば、どのような材料で構成されて
いても構わない。中でも特に、その材料の具体例を挙げ
るならば、非結晶性の低融点フリットガラス、結晶性の
低融点フリットガラスなどがあり、それらを有機溶剤と
混合したり、ニトロセルロースなどのバインダと、その
バインダを溶解させる有機溶剤とを混合させてペースト
状に調合し、少なくとも封着材112の塗布作業温度で
は粘着性があるものを用いる。敢えて言うまでもない
が、塗布方法に合わせて調合した封着材を用いる。
The sealing material 112 is used for the rear plate 101.
Any material may be used as long as the material and the face plate 106 can be hermetically sealed via the frame member 111. Among them, particularly, specific examples of the material include amorphous low-melting point frit glass, crystalline low-melting point frit glass, and the like, and mixing them with an organic solvent, a binder such as nitrocellulose, and the like. An organic solvent that dissolves the binder is mixed to prepare a paste, and a paste that is tacky at least at the application temperature of the sealing material 112 is used. Needless to say, a sealing material prepared according to the application method is used.

【0024】また、封着材112の塗布方法は、印刷
法、スプレー法、ディスペンサー法など、どのような方
法でもよく、所望の封着材を所望の量だけ塗布形成でき
ればよい。
The method of applying the sealing material 112 may be any method such as a printing method, a spray method, a dispenser method, or the like, as long as a desired amount of the sealing material can be applied and formed.

【0025】次に、図示するように、電子線発生装置が
形成されたリアプレート101上に封着材112を形成
し、その上方に枠部材111を配置し、さらに枠部材1
11の上方に封着材112を形成し、さらにその上方に
フェースプレート106を配置して、封着材112に用
いた低融点フリットガラスが溶融する温度、例えば、約
350℃〜650℃の範囲内の温度で加熱して溶着させ
る。また、必要に応じてフェースプレート106もしく
はリアプレート101側から加圧する。この後、図2ま
たは図3に示す加熱装置を用いて加熱する。
Next, as shown in the figure, a sealing material 112 is formed on the rear plate 101 on which the electron beam generator is formed, and a frame member 111 is disposed above the sealing material 112.
A sealing material 112 is formed above the sealing material 11, and a face plate 106 is further disposed above the sealing material 112, and a temperature at which the low melting point frit glass used for the sealing material 112 melts, for example, in a range of about 350 ° C. to 650 ° C. It is heated at the internal temperature to be welded. Further, if necessary, pressure is applied from the face plate 106 or the rear plate 101 side. Thereafter, heating is performed using the heating device shown in FIG. 2 or FIG.

【0026】次に、本実施例における加熱工程について
図2および図3を参照して説明する。
Next, the heating step in this embodiment will be described with reference to FIGS.

【0027】図2および図3において、214は図1に
示すように構成された表示装置、213は加熱装置、2
15は排気管加熱装置を示す。
In FIGS. 2 and 3, reference numeral 214 denotes a display device configured as shown in FIG.
Reference numeral 15 denotes an exhaust pipe heating device.

【0028】加熱工程時には、リアプレート101とフ
ェースプレート106と枠部材111から形成された表
示装置214を、図2および図3に示したように加熱装
置213により加熱し、排気管210(図1中の排気管
110)より表示装置214の内部を排気し、所望の真
空に排気する。
In the heating step, the display device 214 formed by the rear plate 101, the face plate 106 and the frame member 111 is heated by the heating device 213 as shown in FIGS. The inside of the display device 214 is evacuated from the inside exhaust pipe 110) and evacuated to a desired vacuum.

【0029】加熱方法は、表示装置214と排気管21
0の加熱温度が同程度であれば、ベーク炉、赤外線ヒー
タ、ホットプレート等所望の温度に加熱できればどの様
な装置、方法でもよい。
The heating method includes a display device 214 and an exhaust pipe 21.
As long as the heating temperature of 0 is almost the same, any apparatus or method may be used as long as it can be heated to a desired temperature, such as a baking furnace, an infrared heater, and a hot plate.

【0030】また、表示装置214より排気管210を
高い温度で加熱するには、図3に示す排気管加熱装置3
15を用い、所望の温度に加熱する。
In order to heat the exhaust pipe 210 at a higher temperature than the display device 214, the exhaust pipe heating device 3 shown in FIG.
Using 15 heat to the desired temperature.

【0031】排気管加熱装置315としては、巻線ヒー
タ、リボンヒータ、誘導加熱等を用いることができる
が、所望の温度なで加熱することができるものであれば
どの様な装置、方法でもよい。
As the exhaust pipe heating device 315, a winding heater, a ribbon heater, induction heating, or the like can be used, but any device or method may be used as long as it can heat at a desired temperature. .

【0032】また、表示装置214、排気管210の加
熱温度は、排気管210の封止時のアウトガス、封止後
の表示装置214の内部からのアウトガスによる真空
度、雰囲気の変化の小さい範囲の温度で加熱すればよ
く、例えば約120℃〜排気管の軟化点以下の範囲内の
温度で加熱させる。排気管の軟化点近傍とすることによ
り、この後、行われる排気管を融解させて封止させる際
のアウトガスを少なくすることができる。
The heating temperature of the display device 214 and the exhaust pipe 210 is in a range where the exhaust gas at the time of sealing the exhaust pipe 210, the degree of vacuum caused by the outgas from the inside of the display device 214 after the sealing, and the change in atmosphere are small. The heating may be performed at a temperature, for example, at a temperature within a range from about 120 ° C. to the softening point of the exhaust pipe or lower. By setting the temperature near the softening point of the exhaust pipe, it is possible to reduce outgas when the exhaust pipe is melted and sealed later.

【0033】排気管の温度は排気管の軟化点以上とする
と、排気管に変形が生じ、その後の封止作業の妨げとな
るが、上述した、軟化点近傍であって、軟化点以下の温
度とすることによりアウトガスの発生を最も少なくする
ことができるとともに封止作業の容易性を損なうことの
防止を図ることができる。
If the temperature of the exhaust pipe is higher than the softening point of the exhaust pipe, the exhaust pipe is deformed and hinders the subsequent sealing operation. By doing so, the generation of outgas can be minimized, and the easiness of the sealing operation can be prevented from being impaired.

【0034】次に、充分に加熱、排気された排気管21
0を加熱、融解させ、封止し、画像表示装置を製造す
る。
Next, the exhaust pipe 21 which has been sufficiently heated and exhausted is used.
0 is heated, melted and sealed to produce an image display device.

【0035】以上のように、本発明の製造方法によれ
ば、排気管210の封止時のアウトガスの少ない画像表
示装置の真空封止が行なわれる。
As described above, according to the manufacturing method of the present invention, the vacuum sealing of the image display device with less outgas when the exhaust pipe 210 is sealed is performed.

【0036】なお、図1に示したリアプレート101上
に形成される電子線発生装置には、フィラメント状の熱
電子源を用いた蛍光表示管、放電を用いたプラズマディ
スプレイさらにはバルク型と薄膜型に分類される冷陰極
素子などがある。
The electron beam generator formed on the rear plate 101 shown in FIG. 1 includes a fluorescent display tube using a filament-like thermoelectron source, a plasma display using discharge, and a bulk type thin film. There is a cold cathode device classified into a type.

【0037】例えばバルク型の例としては、FE[W.
P.Dyke & W.W.Dolan,”Field
emission”,Advance in Ele
ctron Physics,8,89(1956)]
や、AvalancheタイプやNEAタイプの半導体
[J.A.Burton,”Electron emi
ssion from silicon”,Phys.
Rev.,108,1342(1957)]あるいはM
gO[”Tung−sol confirmscold
cathode tube”,Electronic
s News(26,Jan.1959)]、他に、ホ
トカソード等が知られている。
For example, as an example of a bulk type, FE [W.
P. Dyke & W. W. Dolan, "Field
Emission ", Advance in Ele
ctron Physics, 8, 89 (1956)]
And Avalanche type and NEA type semiconductors [J. A. Burton, "Electron Emi
session from silicon ", Phys.
Rev .. , 108, 1342 (1957)] or M
gO ["Tung-sol confirmsmould"
cathode tube ", Electronicic
s News (26, Jan. 1959)], and a photocathode and the like are known.

【0038】一方、薄膜型の例としては、MIM[C.
A.Mead,”The tunnel−emissi
on amplifier”,J.Appl.Phy
s.,32,646(1961)]やスピントタイプ
[C.A.Spindt,”Physical pro
perties of thin−film fiel
demission cathodes with m
olybdenum cones”,J.Appl.P
hys.,47,5248(1976)]あるいは表面
伝導形電子放出素子[M.I.Elinson,Rad
io Eng.Electron Phys.,10,
(1965)]などがある。
On the other hand, as an example of a thin film type, MIM [C.
A. Mead, "The tunnel-emissi
on amplifier ", J. Appl. Phys.
s. , 32, 646 (1961)] and Spindt type [C. A. Spindt, "Physical pro
parties of thin-film field
demission cathodes with m
olybdenum cones ", J. Appl. P
hys. , 47, 5248 (1976)] or a surface conduction electron-emitting device [M. I. Elinson, Rad
io Eng. Electron Phys. , 10,
(1965)].

【0039】表面伝導形電子放出素子は、基板上に形成
された小面積の薄膜に、膜内に平行に電流を流すことに
より、電子放出が生じる現象を利用するものである。
The surface conduction electron-emitting device utilizes a phenomenon in which electrons are emitted by passing a current through a small-area thin film formed on a substrate in parallel.

【0040】この表面伝導形電子放出素子としては、前
記エリンソンなどにより開発されたSnO2(Sb)薄
膜を用いたもの、Au薄膜によるもの[G.Dittm
er:”Thin Solid Films”,9,3
17(1972)]、ITO薄膜によるもの[M.Ha
rtwell and C.G.Fonstad:”I
EEE Trans.ED Conf.”,519(1
975)]、カーボン薄膜によるもの[荒木久ら:真
空、第26巻、第1号、22頁(1983)]などが報
告されている。
As the surface conduction electron-emitting device, a device using a SnO 2 (Sb) thin film developed by Elinson and others, a device using an Au thin film [G. Dittm
er: “Thin Solid Films”, 9, 3
17 (1972)], using an ITO thin film [M. Ha
rtwell and C.I. G. FIG. Fonstad: "I
EEE Trans. ED Conf. ", 519 (1
975)], and those using a carbon thin film [Hisashi Araki et al .: Vacuum, Vol. 26, No. 1, p. 22 (1983)] and the like have been reported.

【0041】また特開平1−200532号公報および
特開平2−56822号公報においては、電極間に微粒
子膜を配置し、これに通電処理を施すことによって電子
放出部を設ける表面伝導型電子放出素子が示されてい
る。これらどのような電子発生装置を用いても構わな
い。
In Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-200532 and 2-56822, a surface conduction electron-emitting device in which a fine particle film is arranged between electrodes and an electron-emitting portion is formed by applying a current to the fine-particle film. It is shown. Any of these electron generating devices may be used.

【0042】次に、本発明による製造工程について図1
〜図3を参照してより具体的に説明する。
Next, the manufacturing process according to the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described more specifically with reference to FIGS.

【0043】(参考例1) 図1および図2に示した画像表示装置を以下の通りに作
製した。
Reference Example 1 The image display device shown in FIGS. 1 and 2 was produced as follows.

【0044】リアプレート101として青板ガラスを用
い、有機溶剤により充分に洗浄した後、真空蒸着技術、
フォトリソグラフィー技術により、制御用の電極10
2、絶縁層103を形成した。続いて、図4(a),
(b)の上面図および正面図に示すように、Niからな
る素子電極104を形成した。この時、素子電極間隔L
1は3μmとし、素子電極の幅W1を500μm、その厚
さdを1000Åとした。
After using a blue plate glass as the rear plate 101 and sufficiently washing it with an organic solvent, a vacuum evaporation technique,
The control electrode 10 is formed by photolithography technology.
2. An insulating layer 103 was formed. Subsequently, FIG.
As shown in the top view and the front view of (b), an element electrode 104 made of Ni was formed. At this time, the element electrode interval L
1 was 3 μm, the width W 1 of the device electrode was 500 μm, and its thickness d was 1000 °.

【0045】(2)次に、所定の部分に有機パラジウム
(奥野製薬(株)製、ccp−4230)含有溶液を塗
布した後、300℃で10分間の加熱処理をして、酸化
パラジウム(PdO)微粒子(平均粒径:70Å)から
なる微粒子膜105を形成した。その幅(素子の幅)W
を300μmとし、素子電極のほぼ中央部に配置した。
また、膜厚は100Å、シート抵抗値は5×104Ω/
□であった。
(2) Next, a solution containing an organic palladium (ccp-4230, manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) was applied to a predetermined portion, followed by a heat treatment at 300 ° C. for 10 minutes to obtain palladium oxide (PdO). 3.) A fine particle film 105 composed of fine particles (average particle size: 70 °) was formed. Its width (element width) W
Was set to 300 μm, and it was arranged almost at the center of the device electrode.
The film thickness was 100 ° and the sheet resistance was 5 × 10 4 Ω /
It was □.

【0046】なお、ここで述べる微粒子膜とは、複数の
微粒子が集合した膜であり、その微細構造として、微粒
子が個々に分散配置した状態のみならず、微粒子が互い
に隣接あるいは重なり合った状態(島状も含む)の膜を
指し、その粒径とは前記状態で粒子形状が認識可能な状
態についての径を言う。
The fine particle film described here is a film in which a plurality of fine particles are gathered, and has a fine structure not only in a state in which the fine particles are individually dispersed and arranged, but also in a state in which the fine particles are adjacent to each other or overlap each other (an island). The particle size refers to the diameter in a state where the particle shape can be recognized in the above state.

【0047】(3)次に、枠部材111として青板ガラ
スを用い、所定の位置に排気孔を形成し、青板ガラスか
らなる排気管110を融着し形成した。
(3) Next, a soda lime glass was used as the frame member 111, an exhaust hole was formed at a predetermined position, and an exhaust pipe 110 made of a soda lime glass was fused and formed.

【0048】(4)次に、枠部材111のリアプレート
106、フェースプレート101とそれぞれ接する面
に、ディスペンサーを用い、低融点ガラス(日本電気硝
子(株)製、LS−3081)とエチルセルロースとを
溶剤に溶かして得られた溶液を塗布形成した。
(4) Next, a low-melting glass (LS-3081, manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) and ethyl cellulose are applied to the surfaces of the frame member 111, which are in contact with the rear plate 106 and the face plate 101, respectively, using a dispenser. A solution obtained by dissolving in a solvent was applied and formed.

【0049】(5)次に、電子線発生装置が形成された
リアプレート101と枠部材111とフェースプレート
106を所定の位置に配置・積層し、上方から1kgの
おもりによって加圧し、大気中で封着熱処理温度410
℃、封着熱処理時間60minの条件下で焼成し、画像
表示装置を形成した。
(5) Next, the rear plate 101 on which the electron beam generator is formed, the frame member 111, and the face plate 106 are arranged and laminated at predetermined positions, and pressurized with a 1 kg weight from above, and Sealing heat treatment temperature 410
The resultant was fired under the conditions of ° C and a sealing heat treatment time of 60 minutes to form an image display device.

【0050】(6)次に、排気管110から1×10-6
torr程度まで真空排気し、素子電極104の間に電
圧を印加し、微粒子膜105を通電処理(フォーミング
処理)することにより、電子放出部401(図4参照)
を作製した。
(6) Next, 1 × 10 −6 from the exhaust pipe 110.
By evacuating to about torr, applying a voltage between the element electrodes 104 and applying a current to the fine particle film 105 (forming process), the electron emission portion 401 (see FIG. 4)
Was prepared.

【0051】さらに、本発明に用いた表面伝導形電子放
出素子を詳述するならば、電子放出材料を含む微粒子膜
105としては、粒径が十数Åから数μmの導電性微粒
子の膜あるいはこれら導電性微粒子が分散されたカーボ
ン薄膜などが挙げられる。中でも特に、その材料の具体
例を挙げるならば、Pd、Ag、Au、Ti、In、C
u、Cr、Fe、Zn、Sn、Ta、W、Pbなどの金
属;PdO、SnO2、In23、PbO、Sb23
どの酸化物導電体;HfB2、ZrB2、LaB 6、Ce
6、YB4、GdB4などの硼化物;TiC、ZnC、
HfC、TaC、SiC、WCなどの炭化物;TiN、
ZrN、HfNなどの窒化物;Si、Geなどの半導
体;カーボン;AgMg;NiCu;PbSnなどであ
る。そしてこれらの膜は、真空蒸着法、スパッタ法、化
学的気相堆積法、分散塗布法、ディッピング法、スピナ
ー法などによって形成される。
Further, the surface conduction type electron discharge used in the present invention is used.
In detail, the fine particle film containing the electron emission material
105 is a conductive fine particle having a particle size of more than ten
Particles or a carbohydrate in which these conductive fine particles are dispersed
Thin film. In particular, the specifics of the material
For example, Pd, Ag, Au, Ti, In, C
gold such as u, Cr, Fe, Zn, Sn, Ta, W, Pb
Genus; PdO, SnOTwo, InTwoOThree, PbO, SbTwoOThreeWhat
Which oxide conductor; HfBTwo, ZrBTwo, LaB 6, Ce
B6, YBFour, GdBFourBorides such as TiC, ZnC,
Carbides such as HfC, TaC, SiC, WC; TiN;
Nitrides such as ZrN and HfN; semiconductors such as Si and Ge
Body; carbon; AgMg; NiCu; PbSn, etc.
You. These films are formed by vacuum evaporation, sputtering,
Vapor deposition, dispersion coating, dipping, spinner
It is formed by a method or the like.

【0052】さらに、制御用の電極102の構造として
は、本実施例で作製したように、電子線発生部の裏面に
形成し制御する構造の他に、電子線発生部の上方に電子
通過孔を有した制御電極を配置する構造や、単純マトリ
ックス構造などがある。
Further, as a structure of the control electrode 102, in addition to a structure formed and controlled on the back surface of the electron beam generating portion as described in this embodiment, an electron passage hole is provided above the electron beam generating portion. And a simple matrix structure.

【0053】(7)次に、図2に示すように、上述のご
とく作製した表示装置214を、加熱装置213にベー
ク炉を用い、表示装置214と排気管210とを熱処理
温度200℃、熱処理時間10hrの条件で、排気管2
10より真空排気しつつ加熱処理し、排気管210を加
熱、融解させ、封止し、画像表示装置を形成した。
(7) Next, as shown in FIG. 2, the display device 214 manufactured as described above was heated using a baking furnace as the heating device 213, and the display device 214 and the exhaust pipe 210 were heated at a heat treatment temperature of 200 ° C. Exhaust pipe 2 under the condition of time 10 hr
Heat treatment was carried out while evacuating from 10, and the exhaust pipe 210 was heated, melted and sealed to form an image display device.

【0054】上記のように作製した画像表示装置は、装
置214と排気管210を同一温度で熱処理し、アウト
ガスされているため、この後行われる排気管210の封
止時のアウトガスを低減することができ、表示装置21
4内部の真空度を低下させることなく画像表示装置を形
成することができた。
In the image display device manufactured as described above, since the device 214 and the exhaust pipe 210 are heat-treated at the same temperature and outgassing is performed, it is necessary to reduce outgassing when the exhaust pipe 210 is sealed later. Display device 21
4 An image display device could be formed without lowering the degree of vacuum inside.

【0055】また、この画像表示装置を駆動、動作させ
たところ、リアプレート101とフェースプレート10
6に印加した高電圧の放電がなく、また、耐久性に優れ
た画像表示装置を得ることができた。
When this image display device was driven and operated, the rear plate 101 and the face plate 10
No high-voltage discharge was applied to Sample No. 6, and an image display device excellent in durability was obtained.

【0056】(実施例) 次に、表示装置214より排気管210を高い温度で加
熱する場合について図3を参照して説明する。
Embodiment 1 Next, a case where the exhaust pipe 210 is heated at a higher temperature than the display device 214 will be described with reference to FIG.

【0057】本実施例の場合、加熱装置213にホット
プレートを用い、排気管210を排気管加熱装置215
により加熱処理する製造方法とした以外は参考例1と同
様に表示装置214を作製した。また、排気管加熱装置
215には巻線ヒータを用いた。
In the case of this embodiment, a hot plate is used for the heating device 213, and the exhaust pipe 210 is connected to the exhaust pipe heating device 215.
A display device 214 was manufactured in the same manner as in Reference Example 1 except that the manufacturing method was such that a heat treatment was performed. Further, a winding heater was used for the exhaust pipe heating device 215.

【0058】本実施例では、表示装置214の加熱処理
温度を160℃、排気管10の加熱処理温度を300
℃、加熱処理時間8hrの条件で行った。
In this embodiment, the heat treatment temperature of the display device 214 is 160 ° C., and the heat treatment temperature of the exhaust pipe 10 is 300 ° C.
C. and a heat treatment time of 8 hours.

【0059】その結果、表示装置214の加熱処理温度
参考例1より低いにもかかわらず、参考例1と同様の
効果が確認された。
[0059] As a result, the heat treatment temperature of the display device 214 despite lower than Reference Example 1, the same effect as in Reference Example 1 was confirmed.

【0060】(参考例2) 本実施例では、表示装置をフィラメントを用いた蛍光表
示管とした。また、加熱処理温度350℃、処理時間1
hrとした以外は参考例1と同様に装置を作製した(不
図示)。
Reference Example 2 In this example, the display device was a fluorescent display tube using a filament. In addition, a heat treatment temperature of 350 ° C. and a treatment time of 1
An apparatus was manufactured in the same manner as in Reference Example 1 except that the time was changed to hr (not shown).

【0061】その結果、リアプレート上に形成された電
子線発生装置および、加熱処理温度、処理時間の相違に
もかかわらず、参考例1と同様の効果が確認できた。
As a result, the same effect as in Reference Example 1 was confirmed despite the difference in the electron beam generator formed on the rear plate and the heat treatment temperature and treatment time.

【0062】(実施例) 本実施例では、表示装置をプラズマ発生装置を用いた構
造とした。また、装置の加熱処理温度300℃、排気管
の加熱処理温度400℃、処理時間2hrとした以外は
実施例と同様に装置を作製した(不図示)。
Embodiment 2 In this embodiment, the display device has a structure using a plasma generator. Further, an apparatus was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the heat treatment temperature of the apparatus was 300 ° C., the heat treatment temperature of the exhaust pipe was 400 ° C., and the treatment time was 2 hours (not shown).

【0063】その結果、リアプレートに形成された電子
線発生装置および、加熱処理温度、処理時間の相違にも
かかわらず、実施例と同様の効果が確認できた。
As a result, the same effect as in Example 1 could be confirmed despite the difference in the electron beam generator formed on the rear plate, the heat treatment temperature and the treatment time.

【0064】(参考例3) 本参考例では、装置および排気管を加熱処理した後に素
子電極に電圧を印加し、微粒子膜を通電処理(フォーミ
ング処理)して電子放出部を形成した以外は、参考例1
と同様に装置を作製した(不図示)。
REFERENCE EXAMPLE 3 In this reference example, except that the device and the exhaust pipe were subjected to a heat treatment, a voltage was applied to the element electrodes, and the fine particle film was subjected to a conduction treatment (forming treatment) to form an electron-emitting portion. Reference Example 1
A device was produced in the same manner as described above (not shown).

【0065】その結果、加熱処理と通電処理の製造工程
の相違にもかかわらず、参考例1と同様の効果が確認で
きた。
As a result, the same effect as in Reference Example 1 could be confirmed despite the difference in the manufacturing process between the heat treatment and the energization treatment.

【0066】(実施例) 本実施例では、装置および排気管を加熱処理し、排気管
を封止した後に素子電極に電圧を印加し、微粒子膜を通
電処理(フォーミング処理)して電子放出部を形成した
以外は、実施例と同様に装置を作製した(不図示)。
(Embodiment 3 ) In this embodiment, the device and the exhaust pipe are subjected to heat treatment, the exhaust pipe is sealed, a voltage is applied to the element electrode, and the fine particle film is subjected to an energizing treatment (forming treatment) to emit electrons. An apparatus was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a portion was formed (not shown).

【0067】その結果、加熱処理と通電処理の製造方法
の相違にもかかわらず、実施例と同様の効果が確認で
きた。
As a result, the same effect as in Example 1 was confirmed despite the difference in the manufacturing method between the heat treatment and the current application.

【0068】(実施例) 本実施例では、排気管加熱装置215にリボンヒータを
用いた以外は実施例と同様に装置を作製した(不図
示)。
Example 4 In this example, an apparatus was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a ribbon heater was used for the exhaust pipe heating device 215 (not shown).

【0069】その結果、排気管加熱装置215の相違に
もかかわらず、実施例と同様の効果が確認できた。
As a result, the same effect as in Example 1 could be confirmed despite the difference in the exhaust pipe heating device 215.

【0070】(実施例) 本実施例では、排気管加熱装置215に高周波誘導加熱
装置を用いた以外は実施例と同様に装置を作製した
(不図示)。なお、本実施例では、排気管210全体を
加熱できるように高周波誘導加熱装置の周波数を設定し
た。
Example 5 In this example, a device was produced in the same manner as in Example 1 except that a high-frequency induction heating device was used as the exhaust pipe heating device 215 (not shown). In this embodiment, the frequency of the high-frequency induction heating device is set so that the entire exhaust pipe 210 can be heated.

【0071】その結果、排気管加熱装置215の相違に
もかかわらず、実施例と同様の効果が確認できた。
As a result, the same effect as in Example 1 was confirmed despite the difference in the exhaust pipe heating device 215.

【0072】なお、本実施例の場合には、設定する周波
数を調整することにより、特定のガス分子のみを加熱す
ることが可能となる。このため、排気管210を封止す
る際にアウトガスされるガスの種類を選択することがで
き、排気管や封着材等の構成部材の材質に応じたきめ細
かな封止作業を行うことができる効果がある。
In the present embodiment, it is possible to heat only specific gas molecules by adjusting the set frequency. Therefore, it is possible to select the type of gas to be outgased when sealing the exhaust pipe 210, and it is possible to perform a fine sealing operation according to the materials of the constituent members such as the exhaust pipe and the sealing material. effective.

【0073】[0073]

【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、以下に記載するような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.

【0074】排気管のベーク温度を装置のベーク温度と
同じかそれ以上で加熱処理した後、排気管を封止する工
程により画像表示装置を作製するため、 (1)装置内部の真空度、雰囲気を低下せずに封止でき
る。 (2)高電圧の放電等による装置の劣化が低減し、歩留
りが向上する。 (3)装置の駆動電圧の変化、耐久性の劣化が低減し、
装置の品質安定性が向上し長寿命となる、等の効果があ
る。
After the baking temperature of the exhaust pipe is equal to or higher than the baking temperature of the apparatus, the image display apparatus is manufactured by the step of sealing the exhaust pipe. (1) The degree of vacuum and atmosphere inside the apparatus Can be sealed without reduction. (2) Deterioration of the device due to high-voltage discharge and the like is reduced, and the yield is improved. (3) The change of the driving voltage of the device and the deterioration of the durability are reduced,
This has the effect of improving the quality stability of the device and extending the life.

【0075】さらに、アウトガスの発生を最も少なくす
ることができるとともに封止作業の容易性を損なうこと
の防止を図ることができるため、上記各効果を一層向上
したものとすることができる効果がある。
Further , since the generation of outgas can be minimized and the easiness of the sealing operation can be prevented from being impaired, each of the above effects can be further improved. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製造方法によって作製される画像表示
装置の1例の模式的断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of an image display device manufactured by a manufacturing method of the present invention.

【図2】本発明の製造方法の1例を示す模式的断面図で
ある。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing one example of the manufacturing method of the present invention.

【図3】本発明の製造方法の他の例を示す模式的断面図
である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing another example of the manufacturing method of the present invention.

【図4】(a),(b)のそれぞれは、本発明にて製造
される電子線発生装置の上面図および正面図である。
FIGS. 4A and 4B are a top view and a front view, respectively, of an electron beam generator manufactured by the present invention.

【図5】従来法によって製造される画像表示装置の1例
の模式的部分断面図である。
FIG. 5 is a schematic partial sectional view of an example of an image display device manufactured by a conventional method.

【図6】従来法によって製造される画像表示装置の他の
1例の模式的部分断面図である。
FIG. 6 is a schematic partial sectional view of another example of an image display device manufactured by a conventional method.

【図7】従来の製造方法の1例を示す模式的断面図であ
る。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing one example of a conventional manufacturing method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 リアプレート 102 電極 103 絶縁層 104 素子電極 105 微粒子膜 106 フェースプレート 107 透明導電膜 108 蛍光体 109 メタルバック 110 排気管 111 枠部材 112 封着材 210 排気管 213 加熱装置 214 表示装置 315 排気管加熱装置 401 電子放出部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Rear plate 102 Electrode 103 Insulating layer 104 Element electrode 105 Fine particle film 106 Face plate 107 Transparent conductive film 108 Phosphor 109 Metal back 110 Exhaust pipe 111 Frame member 112 Sealing material 210 Exhaust pipe 213 Heating device 214 Display device 315 Exhaust pipe heating Device 401 electron emission unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01J 9/40 B01J 9/39 B01J 31/12 B01J 31/15 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) B01J 9/40 B01J 9/39 B01J 31/12 B01J 31/15

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 外部と挿通する排気管を具備し、内部に
は画像表示部材が配設された外囲器を、前記排気管を介
して真空排気しながらベークする第1の工程と、 前記第1の工程により真空排気された後に、内部の空間
を真空維持するために前記排気管を封止する第2の工程
とを有する画像表示装置の製造方法において、 前記第1の工程における排気管のベーク温度が、外囲器
のベーク温度よりも高く、かつ、排気管の軟化点以下で
あり、 前記第2の工程では前記第1の工程で加熱された排気管
を加熱して封止することを特徴とする画像表示装置の製
造方法。
A first step of baking an envelope provided with an image display member therein while evacuating the envelope via the exhaust pipe, the method comprising: A second step of sealing the exhaust pipe in order to maintain the internal space in a vacuum after the first exhaustion is performed in the first step. Is higher than the baking temperature of the envelope and equal to or lower than the softening point of the exhaust pipe. In the second step, the exhaust pipe heated in the first step is heated and sealed. A method for manufacturing an image display device, comprising:
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