JP2011181691A - パルスレーザ、光周波数安定化レーザ、測定装置および測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】モードロックレーザのキャリア・エンベロープ・オフセット周波数を測定する測定装置であって、光パルスを発生するモードロックレーザと、モードロックレーザの発振周波数範囲を広げる帯域拡大部と、モードロックレーザの高調波成分を発生する高調波発生部と、帯域拡大部から出力される前記モードロックレーザの所定の周波数成分および所定の周波数成分の少なくとも2倍の周波数成分の相対的なタイミングを変えずに、高調波発生部に入射させる光伝達部と、モードロックレーザが高調波発生部を透過した透過成分、および高調波成分のビート信号を検出する検出部と、ビート信号に基づいて、キャリア・エンベロープ・オフセット周波数を算出する算出部と、を備えるパルスレーザを提供する。
【選択図】図1
Description
特許文献1 特開2004−340690号公報
非特許文献1 Brian R. Washburn, et al., "Phase-locked, erbium-fiber-laser-based frequency comb in the near infrared", Optics Letters, USA, February 2004, Vol. 29, No. 3, pp.250-252
非特許文献2 Holger Hundertmark, et al., "Phase-locked carrier-envelope-offset frequency at 1560nm", Optics Express, USA, March 2004, Vol. 12, No. 5, pp.770-775
非特許文献3 T. R. Schibli, et al., "Frequency metrology with a turnkey all-fiber system", Optics Letters, USA, November 2004, Vol. 29, No. 21, pp.2467-2469
非特許文献4 Hajime Inaba, et al., "Long-term measurement of optical frequencies using a simple, robust and low-noise fiber based frequency comb", Optics Express, USA, June 2006, Vol. 14, No. 12, pp.5223-5231
Claims (21)
- 光パルス出力のタイミングを制御するパルスレーザであって、
モードロックレーザと、
前記モードロックレーザの予め定められた周波数範囲の周波数成分を通過させる光バンドパスフィルタと、
前記光バンドパスフィルタが通過させた光出力を受光する光検出器と、
前記モードロックレーザの繰り返し周波数を制御する繰り返し周波数制御部と
を備え、
前記繰り返し周波数制御部が前記繰り返し周波数を制御することにより、前記モードロックレーザの光パルス出力のタイミングを制御するパルスレーザ。 - 前記繰り返し周波数制御部は、変調信号で前記繰り返し周波数を制御して位相変調光を出力させる請求項1に記載のパルスレーザ。
- 光パルス出力のタイミングを制御するパルスレーザであって、
モードロックレーザと、
前記モードロックレーザの予め定められた周波数範囲の周波数成分を通過させる光バンドパスフィルタと、
前記光バンドパスフィルタが通過させた光出力を受光する光検出器と、
前記モードロックレーザのキャリア・エンベロープ・オフセット周波数を制御するキャリア・エンベロープ・オフセット周波数制御部と、
を備え、
前記キャリア・エンベロープ・オフセット周波数制御部が前記キャリア・エンベロープ・オフセット周波数を制御することにより、前記モードロックレーザの光パルス出力のタイミングを制御するパルスレーザ。 - 前記キャリア・エンベロープ・オフセット周波数制御部は、変調信号で前記キャリア・エンベロープ・オフセット周波数を制御して位相変調光を出力させる請求項3に記載のパルスレーザ。
- 前記モードロックレーザの高調波成分を発生させる分極反転周期構造を有する非線形光学結晶を含む高調波発生部と、
前記高調波発生部からの出力を入力とする検出部と
をさらに備え、
光検出部の出力からキャリア・エンベロープ・オフセット周波数を測定する請求項1から4のいずれかに記載のパルスレーザ。 - 光パルス出力のキャリア・エンベロープ・オフセット周波数を測定するパルスレーザであって、
請求項1から5のいずれかに記載のパルスレーザと、
前記モードロックレーザの発振周波数範囲を広げる帯域拡大部と、
前記モードロックレーザの高調波成分を発生する高調波発生部と、
前記帯域拡大部から出力される前記モードロックレーザの予め定められた周波数成分および前記予め定められた周波数成分の少なくとも2倍の周波数成分の時間遅延差の相対的なタイミングを変えずに、前記高調波発生部に入射させる光伝達部と、
前記モードロックレーザが前記高調波発生部を透過した透過成分、および前記高調波成分のビート信号を検出する検出部と、
前記ビート信号に基づいて、前記キャリア・エンベロープ・オフセット周波数を算出する算出部と、
を備えるパルスレーザ。 - 光パルス出力のキャリア・エンベロープ・オフセット周波数を測定するパルスレーザであって、
光パルスを発生するモードロックレーザと、
前記モードロックレーザの発振周波数範囲を広げる帯域拡大部と、
前記モードロックレーザの高調波成分を発生する高調波発生部と、
前記帯域拡大部から出力される前記モードロックレーザの予め定められた周波数成分および前記予め定められた周波数成分の少なくとも2倍の周波数成分の時間遅延差の相対的なタイミングを変えずに、前記高調波発生部に入射させる光伝達部と、
前記モードロックレーザが前記高調波発生部を透過した透過成分、および前記高調波成分のビート信号を検出する検出部と、
前記ビート信号に基づいて、前記キャリア・エンベロープ・オフセット周波数を算出する算出部と、
を備えるパルスレーザ。 - 前記光伝達部は、前記帯域拡大部から出力された光パルスを、集光レンズにより集光して前記高調波発生部に入射させることを特徴とした請求項7に記載のパルスレーザ。
- 前記集光レンズは、前記帯域拡大部から出力された光パルスを、前記高調波発生部を介して前記検出部に集光することを特徴とした請求項8に記載のパルスレーザ。
- 前記集光レンズはさらに、前記帯域拡大部から出力された光パルスを前記高調波発生部に集光させ、
前記検出部は、前記高調波発生部から出力される光パルスを、光ファイバを介さず直接受光できることを特徴とした請求項8または9に記載のパルスレーザ。 - 前記帯域拡大部から出力される光パルスにおける、予め定められた周波数範囲の周波数成分を通過させて前記検出部に対して出力する光フィルタ部をさらに備える請求項7から10のいずれかに記載のパルスレーザ。
- 前記検出部は、前記モードロックレーザの光パルスの繰り返し周波数を前記ビート信号と共に検出する請求項7から11のいずれかに記載のパルスレーザ。
- 前記検出部が検出した前記ビート信号における、
前記キャリア・エンベロープ・オフセットに対応する第1の周波数範囲の周波数成分を通過させる第1の電気フィルタ部と、
前記光パルスの繰り返し周波数に対応する第2の周波数範囲の周波数成分を通過させる第2の電気フィルタ部とをさらに備え、
前記算出部は、前記第1の電気フィルタ部を通過させた信号に基づいて前記キャリア・エンベロープ・オフセットを算出し、前記第2の電気フィルタ部を通過させた信号に基づいて前記繰り返し周波数を算出する請求項7から12のいずれかに記載のパルスレーザ。 - 前記帯域拡大部は、入射した光パルスの周波数範囲を少なくとも1オクターブ以上拡大させる高非線形ファイバを有することを特徴とした、請求項7から13のいずれかに記載のパルスレーザ。
- 前記帯域拡大部は、入射した光パルスの周波数範囲を少なくとも1オクターブ以上拡大させるフォトニッククリスタルファイバを有することを特徴とした請求項7から13のいずれかに記載のパルスレーザ。
- 前記高調波発生部は、入射した光パルスの予め定められた周波数範囲の少なくとも2倍の周波数を発生させる非線形光学素子を有することを特徴とした請求項7から15のいずれかに記載のパルスレーザ。
- 前記高調波発生部は、LiNbO3結晶に周期的分極反転処理を施した波長変換素子であることを特徴とした請求項7から請求項15のいずれかに記載のパルスレーザ。
- 前記光伝達部と、前記高調波発生部と、前記検出部は、同一光軸上に設けられることを特徴とした請求項7から17のいずれかに記載のパルスレーザ。
- モードロックレーザのキャリア・エンベロープ・オフセット周波数を測定する測定装置であって、
前記モードロックレーザの発振周波数範囲を広げる帯域拡大部と、
前記モードロックレーザの高調波成分を発生する高調波発生部と、
前記帯域拡大部から出力される前記モードロックレーザの予め定められた周波数成分および前記予め定められた周波数成分の少なくとも2倍の周波数成分の時間遅延差の相対的なタイミングを変えずに、前記高調波発生部に入射させる光伝達部と、
前記モードロックレーザが前記高調波発生部を透過した透過成分、および前記高調波成分のビート信号を検出する検出部と、
前記ビート信号に基づいて、前記キャリア・エンベロープ・オフセット周波数を算出する算出部と、
を備える測定装置。 - モードロックレーザのキャリア・エンベロープ・オフセット周波数を測定する測定方法であって、
光パルスを発生するモードロックレーザ発生段階と、
前記モードロックレーザの発振周波数範囲を広げる帯域拡大段階と、
前記モードロックレーザの高調波成分を発生する高調波発生段階と、
前記帯域拡大段階から出力される前記モードロックレーザの予め定められた周波数成分および前記予め定められた周波数成分の少なくとも2倍の周波数成分の相対的なタイミングを変えずに、前記高調波発生段階に入射させる光伝達段階と、
前記モードロックレーザが前記高調波発生段階で透過した透過成分、および前記高調波成分のビート信号を検出する検出段階と、
前記ビート信号に基づいて、前記キャリア・エンベロープ・オフセット周波数を算出する算出段階と、
を備える測定方法。 - 光周波数安定化レーザであって、
光パルスを発生するモードロックレーザと、
前記モードロックレーザの発振周波数範囲を広げる帯域拡大部と、
前記モードロックレーザの高調波成分を発生する高調波発生部と、
前記帯域拡大部から出力される前記モードロックレーザの予め定められた周波数成分および前記予め定められた周波数成分の少なくとも2倍の周波数成分の相対的なタイミングを変えずに、前記高調波発生部に入射させる光伝達部と、
前記モードロックレーザが前記高調波発生部で透過した透過成分、および前記高調波成分のビート信号を検出する検出部と、
前記ビート信号に基づいて、キャリア・エンベロープ・オフセット周波数および繰り返し周波数を算出する算出部と、
前記繰り返し周波数を第1の基準周波数に一致させる繰り返し周波数位相同期部および/またはキャリア・エンベロープ・オフセット周波数を第2の基準周波数に一致させるキャリア・エンベロープ・オフセット周波数位相同期部と
を備える光周波数安定化レーザ。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013161760A1 (ja) * | 2012-04-27 | 2013-10-31 | ギガフォトン株式会社 | レーザシステム及び極端紫外光生成システム |
JP2014209517A (ja) * | 2013-04-16 | 2014-11-06 | 株式会社ミツトヨ | 光周波数コム発生装置および光周波数コムの周波数安定化方法 |
JP2016502685A (ja) * | 2012-12-04 | 2016-01-28 | トプティカ フォトニクス アクチエンゲゼルシャフトTOPTICA Photonics AG | 電磁放射の合成のための方法及び装置 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5910807B2 (ja) * | 2011-03-14 | 2016-04-27 | セイコーエプソン株式会社 | 原子発振器用の光学モジュールおよび原子発振器 |
JP5910808B2 (ja) * | 2011-03-14 | 2016-04-27 | セイコーエプソン株式会社 | 原子発振器用の光学モジュールおよび原子発振器 |
JP6056118B2 (ja) * | 2011-03-23 | 2017-01-11 | セイコーエプソン株式会社 | 光学モジュール及び原子発振器 |
CN104081694B (zh) * | 2012-02-07 | 2016-08-24 | 瑞典爱立信有限公司 | 光子rf发生器 |
US9246295B2 (en) * | 2013-11-25 | 2016-01-26 | The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Pulse-shaping interferometer for chirped-pulsed amplification laser |
WO2018129297A1 (en) * | 2017-01-05 | 2018-07-12 | Ipg Photonics Corporation | Optical frequency comb generator with carrier envelope offset frequency detection |
US10096968B1 (en) * | 2017-06-07 | 2018-10-09 | Raytheon Company | Optical frequency comb locking system |
CN112362173B (zh) * | 2020-11-18 | 2022-08-09 | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 | 一种基于差频双梳的激光波长测量装置及方法 |
RU2760624C1 (ru) * | 2020-12-07 | 2021-11-29 | Федеральное Государственное Бюджетное Образовательное Учреждение Высшего Образования «Новосибирский Государственный Технический Университет» | Способ получения последовательности идентичных фемтосекундных импульсов для излучения с произвольной шириной спектра |
CN113385837A (zh) * | 2021-04-16 | 2021-09-14 | 华东师范大学 | 一种子脉冲时间间隔可调的激光脉冲序列硅孔加工系统 |
CN113324666B (zh) * | 2021-05-28 | 2022-12-09 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 飞秒激光脉冲载波包络相位偏移频率探测装置及方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005294806A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-10-20 | Sun Tec Kk | 広帯域光源 |
JP2006179779A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Intelligent Cosmos Research Institute | 二重周波数安定化モード同期レーザ光源 |
JP2008251723A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Tohoku Univ | パルスレーザ光源 |
JP2009130347A (ja) * | 2007-11-23 | 2009-06-11 | Kwangju Inst Of Science & Technol | 直接ロック方法を適用したレーザーパルスの絶対位相安定化装置及び方法 |
JP2009542009A (ja) * | 2006-06-23 | 2009-11-26 | カンザス ステイト ユニバーシティ リサーチ ファウンデーション | キャリアエンベロープ位相を制御する方法および装置 |
JP2010045147A (ja) * | 2008-08-12 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | モード同期レーザ装置、パルスレーザ光源装置、及び顕微鏡装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3602724A (en) * | 1964-03-27 | 1971-08-31 | Ibm | Optical nonlinear devices |
JP2892938B2 (ja) * | 1994-06-20 | 1999-05-17 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 波長変換装置 |
US7190705B2 (en) * | 2000-05-23 | 2007-03-13 | Imra America. Inc. | Pulsed laser sources |
JP4164599B2 (ja) | 2003-05-14 | 2008-10-15 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 多色モードロックレーザを用いた光周波数測定装置及び測定方法 |
-
2010
- 2010-03-01 JP JP2010044588A patent/JP2011181691A/ja active Pending
-
2011
- 2011-01-31 US US13/018,114 patent/US20110274127A1/en not_active Abandoned
- 2011-02-28 DE DE102011000963A patent/DE102011000963A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005294806A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-10-20 | Sun Tec Kk | 広帯域光源 |
JP2006179779A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Intelligent Cosmos Research Institute | 二重周波数安定化モード同期レーザ光源 |
JP2009542009A (ja) * | 2006-06-23 | 2009-11-26 | カンザス ステイト ユニバーシティ リサーチ ファウンデーション | キャリアエンベロープ位相を制御する方法および装置 |
JP2008251723A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Tohoku Univ | パルスレーザ光源 |
JP2009130347A (ja) * | 2007-11-23 | 2009-06-11 | Kwangju Inst Of Science & Technol | 直接ロック方法を適用したレーザーパルスの絶対位相安定化装置及び方法 |
JP2010045147A (ja) * | 2008-08-12 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | モード同期レーザ装置、パルスレーザ光源装置、及び顕微鏡装置 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6014023992; David J. Jones et al: 'Carrier-Envelope Phase Control of Femtosecond Mode-Locked Lasers and Direct Optical Frequency Synthe' Science Vol.288, 2000, pp.635-639 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013161760A1 (ja) * | 2012-04-27 | 2013-10-31 | ギガフォトン株式会社 | レーザシステム及び極端紫外光生成システム |
JPWO2013161760A1 (ja) * | 2012-04-27 | 2015-12-24 | ギガフォトン株式会社 | レーザシステム及び極端紫外光生成システム |
JP2016502685A (ja) * | 2012-12-04 | 2016-01-28 | トプティカ フォトニクス アクチエンゲゼルシャフトTOPTICA Photonics AG | 電磁放射の合成のための方法及び装置 |
JP2014209517A (ja) * | 2013-04-16 | 2014-11-06 | 株式会社ミツトヨ | 光周波数コム発生装置および光周波数コムの周波数安定化方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US20110274127A1 (en) | 2011-11-10 |
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