JP2009049310A - 半導体レーザ、バイオイメージングシステム、顕微鏡、光ディスク装置、光ピックアップ、加工装置および内視鏡 - Google Patents
半導体レーザ、バイオイメージングシステム、顕微鏡、光ディスク装置、光ピックアップ、加工装置および内視鏡 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】半導体レーザは互いに対向する第1の端面51aおよび第2の端面51bの間に少なくとも一つのレーザストライプ52を有する一つのレーザチップ51を有する。レーザチップ51は、第1の端面51a側および第2の端面51b側にそれぞれモード同期レーザ部54およびこのモード同期レーザ部54から発生する光を増幅する半導体光増幅器部55を有する。第1の端面51aの法線とモード同期レーザ部54のレーザストライプ52とのなす角度は0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と半導体光増幅器部55のレーザストライプ52とのなす角度は1°より大きく90°未満である。
【選択図】図6
Description
なお、2光子吸収を利用して光記録を行う方法が報告されている(例えば、非特許文献7参照。)。
そこで、この発明が解決しようとする課題は、小型で高出力の超短パルス光源を低コストで容易に実現することができる半導体レーザを提供することである。
この発明が解決しようとする他の課題は、上記の優れた半導体レーザを光源に用いたバイオイメージングシステム、顕微鏡、光ピックアップ、光ディスク装置、加工装置および内視鏡を提供することである。
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である
ことを特徴とする半導体レーザである。
光源に半導体レーザを用いたバイオイメージングシステムにおいて、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とするものである。
光源に半導体レーザを用いた顕微鏡において、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とするものである。
光源に半導体レーザを用いた光ディスク装置において、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とするものである。
光源に半導体レーザを用いた光ピックアップにおいて、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とするものである。
光源に半導体レーザを用いた加工装置において、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とするものである。
光源に半導体レーザを用いた内視鏡において、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とするものである。
レーザチップはレーザ構造を形成する半導体層(例えば、n側クラッド層、活性層、p側クラッド層、コンタクト層など)を有する。このレーザ構造を形成する半導体層の材料は、特に限定されず、この半導体レーザから取り出そうとする光の波長などに応じて適宜選択されるが、具体的には、GaAs系半導体、GaInP系半導体、GaN系半導体などのIII−V族化合物半導体のほか、ZnSeなどのII−VI族化合物半導体などを用いることができる。レーザストライプの構造は、特に限定されないが、リッジ部の両側をSiO2 膜などの絶縁膜で挟んだリッジストライプや、リッジ部の両側を半導体で埋め込んだ埋め込みリッジストライプなどであってよい。
第8の発明は、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれ利得スイッチ部およびこの利得スイッチ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記利得スイッチ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である
ことを特徴とする半導体レーザである。
第8の発明による半導体レーザにおいて、利得スイッチ部は、第1の発明による半導体レーザにおけるモード同期レーザ部に対応するものであり、第1の発明における可飽和吸収領域がなく、利得領域のみ設けたものであり、典型的には、第1の端面と光結合用のグレーティング構造との間に形成される。この利得スイッチ部には、典型的には、直流電流に加えて高周波電流を注入し、高周波重畳を行う。この場合、この利得スイッチ部がパルス光の光源となる。
この第8の発明による半導体レーザも、第1の発明による半導体レーザと同様に、バイオイメージングシステム、顕微鏡、光ディスク装置、光ピックアップ、加工装置、内視鏡などの光源に用いて好適なものである。
まず、以下の実施形態による半導体レーザの基礎となる、本発明者らの研究により得られた新規な全半導体レーザ超短パルス光源について説明する。
図1はこの超短パルス光源の構成を示す。この超短パルス光源は、モード同期半導体レーザ1と二段に配置された半導体光増幅器2、3とを有する。モード同期半導体レーザ1は、二分割半導体レーザチップ11と、外部共振器を形成するために用いられる外部ミラー12と、所望の波長範囲で波長選択を行うための帯域フィルター13と、二分割半導体レーザチップ11の前後に設けられたレンズ14、15とにより構成されている。ここでは、モード同期半導体レーザ1が外部共振器型である場合について説明するが、内部共振器型であってもよい。二分割半導体レーザチップ11は、利得領域11aと可飽和吸収領域11bとからなり、利得領域11a側の端面に反射防止射(残留反射率<10-3)が設けられている。この二分割半導体レーザチップ11のレーザストライプ11cは互いに平行な一対の端面11d、11eの法線に対して0°以上1°以下の角度の方向に形成されている。このモード同期半導体レーザ1の最適なモード同期は、二分割半導体レーザチップ11の利得領域11aに注入する直流電流と可飽和吸収領域11bに印加する逆バイアス電圧とを適切に選択することにより達成することができる。半導体光増幅器2のレーザストライプ2aは、互いに平行な一対の端面2b、2cの法線に対して1°より大きく90°未満の角度傾斜した方向に形成されている。半導体光増幅器3のレーザストライプ3aは、その中心線が互いに平行な一対の端面3b、3cの法線に対して1°より大きく90°未満の角度傾斜した方向に形成され、かつ幅が端面3cに向かって徐々に広がったテーパー形状を有する。レーザストライプ3aをテーパー形状としたのは、半導体光増幅器3の飽和平均パワーを増加させるためである。ただし、このレーザストライプ3aはテーパー形状とせず、一定の幅に形成してもよい。半導体光増幅器2の端面2b、2cおよび半導体光増幅器3の端面3b、3cには、これらの半導体光増幅器2、3のレーザ発振を抑制し、より高い利得を得るために反射防止膜(残留反射率<10-3)が設けられている。これらの半導体光増幅器2、3にはそれぞれ直流電流が注入される。
二分割半導体レーザチップ11としては、AlGaAs多重量子井戸構造を有し、利得領域11aの長さが400μm、可飽和吸収領域11bの長さが40μmであるものを用いる。外部ミラー12の反射率は0.75、帯域フィルター8、13は780〜800nmの範囲で波長選択を行うものである。モード同期半導体レーザ1の外部共振器長は300mmでこれは500MHzのパルス繰り返しレートに対応する。半導体光増幅器2、3の長さはそれぞれ3mm、半導体光増幅器2のレーザストライプ2aと端面2b、2cの法線とのなす角度は6°、半導体光増幅器3のレーザストライプ3aの中心線と端面3b、3cの法線とのなす角度は6°、端面3bにおけるレーザストライプ3aの幅は7μm、端面3cにおけるレーザストライプ3aの幅は85μmである。
図6および図7はこの発明の第1の実施形態による半導体レーザを示し、図6は平面図、図7は図6のX−X線(レーザストライプの中心線)に沿っての断面図である。
図6および図7に示すように、この半導体レーザにおいては、長方形の一つのレーザチップ51の互いに対向する平行な一対の端面51a、51bの間にレーザストライプ52を有する。レーザチップ51はレーザ構造を形成する半導体層53を有し、レーザストライプ52はこの半導体層53の最上部に形成されている。このレーザチップ51は端面51a側にモード同期レーザ部54、端面51b側に半導体光増幅器部55を有する。モード同期レーザ部54は利得領域56および可飽和吸収領域57を有する。これらの利得領域56、可飽和吸収領域57および半導体光増幅器部55上にはそれぞれ電極58、59、60が設けられている。電極58、59の間の領域および電極59、60の間の領域はそれぞれ電流非注入領域(電極分離領域)61、62である。レーザチップ51の裏面には電極63が設けられている。レーザチップ51の端面51aの外側にこの端面51aに平行に外部ミラー64が設けられている。利得領域56および可飽和吸収領域57と外部ミラー64とにより外部共振器型のモード同期レーザ部54が構成されている。外部ミラー64はレーザチップ51と別部品として設けてもよいし、レーザチップ51上のレーザ構造を形成する半導体層53に活性層よりも深い位置に達する溝をレーザチップ51の幅方向に設け、この溝の一方の側面を端面51aとし、他方の側面を外部ミラー64として用いてもよい。この場合、端面51aの法線と利得領域56および可飽和吸収領域57におけるレーザストライプ52とのなす角度は0°であるの対し、この法線と半導体光増幅器部55におけるレーザストライプ52とのなす角度θは1°以上90°未満、好適には1°以上30°以下、より好適には1°以上10°以下である。半導体光増幅器部55側の端面51bには反射防止膜(例えば、残留反射率1%以下)が設けられており、端面51bでの光の反射を防止することができるようになっている。外部ミラー64と対向する利得領域56側の端面51aにも同様に、反射防止膜(例えば、残留反射率1%以下)が設けられており、端面51aでの光の反射を防止することができるようになっている。
利得領域56の長さ(電極58の長さ):440μm
可飽和吸収領域57の長さ(電極59の長さ):40μm
半導体光増幅器部55の長さ(電極60の長さ):3mm
電流非注入領域61の長さ(電極58、59間の間隔):20μm
電流非注入領域62の長さ(電極59、60間の間隔):5μm
レーザチップ51の幅(短辺の長さ):500μm
レーザストライプ52の幅:3μm(一般的には、例えば1μmから10μm程度)
半導体光増幅器部55におけるレーザストライプ52の傾斜角度θ:6°
外部共振器長(外部ミラー64の端面51a側の面と端面51bとの間の距離):30cm(一般的には、例えば0.5〜100cm)
外部ミラー64の反射率は例えば90%である。端面51aに形成される反射防止膜の残留反射率は例えば0.1%で、この反射防止膜としては例えばTiO2 /SiO2 膜の二層膜が用いられる。
モード同期レーザ部54の断面構造の一例について説明する。図8は図6のY−Y線に沿っての断面図であり、利得領域56の断面図である。図8に示すように、この例では、導電性の半導体基板66上にレーザ構造を形成する半導体層53が設けられている。半導体層53は、半導体基板66上に設けられた半導体層53a、この半導体層53a上に設けられた半導体層53bからなるレーザストライプ52およびこのレーザストライプ52の両側に埋め込まれた半導体層53cからなる。レーザストライプ52を形成する半導体層53b上には電極58が設けられている。
利得領域56には、電極58、63間に順方向電圧を印加して直流電流を印加し、必要に応じてこれに加えて高周波電圧を印加して高周波電流(高周波重畳を行う場合)を注入する。可飽和吸収領域57には、電極59、63間に逆バイアス電圧あるいは0Vを印加する。半導体光増幅器部55には、電極60、63間に順方向電圧を印加して直流電流を注入する。これにより、モード同期レーザ部54における外部ミラー64からグレーティング構造65までの光路では、モード同期による超短パルス光が発生する。グレーティング構造65から伝播するこの超短パルス光は高い光結合効率で半導体光増幅器部55に導入され、この半導体光増幅器部55で増幅される。この結果、端面51bから高出力の超短パルス光が得られる。
図9はこの半導体レーザを示す。図9に示すように、この半導体レーザにおいては、半導体光増幅器部55におけるレーザストライプ52が、端面51bに向かって幅が直線的に増加したテーパー形状となっている。端面51aの法線と半導体光増幅器部55におけるレーザストライプ52の中心線とのなす角度θは1°以上90°未満、好適には1°以上30°以下、より好適には1°以上10°以下、例えば6°である。レーザストライプ52をテーパー形状としたのは、半導体光増幅器55の飽和平均パワーを増加させるためである。半導体光増幅器部55の可飽和吸収領域57側の端部におけるレーザストライプ52の幅は例えば3μm、端面51bにおけるレーザストライプ52の幅は例えば70μmである。
この半導体レーザの上記以外のことは第1の実施形態による半導体レーザと同様であるので、説明を省略する。
この第2の実施形態によっても、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
図10にこの半導体レーザを示す。図10に示すように、この半導体レーザにおいては外部ミラー64が設けられていない。すなわち、モード同期レーザ部54は外部ミラーを用いない内部共振器型である。この場合、端面51aには、少なくとも1%以上、好適には30%以上99.8%以下、例えば90%の反射率となるように反射膜(端面コート)が設けられている。
この半導体レーザの上記以外のことは第1の実施形態による半導体レーザと同様であるので、説明を省略する。
この第3の実施形態によっても、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
第1の実施形態による半導体レーザにおいては、グレーティング構造65はレーザストライプ52の下部に設けられているのに対し、この第4の実施形態による半導体レーザにおいては、このグレーティング構造65はレーザストライプ52の両脇に設けられる。すなわち、図11に示すように、この半導体レーザにおいては、レーザストライプ52の両脇に周期Λおよび深さの凹凸が設けられており、これによってグレーティング構造65が形成されている。この凹凸の周期Λおよび深さの一例を挙げると、Λ=117nm、深さ=200nmである。このレーザストライプ52の両脇の凹凸は、レーザストライプ52を形成した後、凹部となるべき部分が開口したレジストパターンを電子線露光技術などにより形成し、このレジストパターンをマスクとして反応性イオンエッチング(RIE)などによりエッチングすることにより形成することができる。
この半導体レーザの上記以外のことは第1の実施形態による半導体レーザと同様であるので、説明を省略する。
この第4の実施形態によっても、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
例えば、上述の実施形態において挙げた数値、構造、形状、基板、プロセスなどはあくまでも例に過ぎず、必要に応じて、これらと異なる数値、構造、形状、基板、プロセスなどを用いてもよい。
また、必要に応じて、上述の第1〜第4の実施形態のうちの二以上を組み合わせてもよい。
Claims (23)
- 互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である
ことを特徴とする半導体レーザ。 - 上記モード同期レーザ部は利得領域と可飽和吸収領域とを有することを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。
- 上記第1の端面側に上記利得領域を有し、上記利得領域と上記半導体光増幅器部との間に上記可飽和吸収領域を有することを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ。
- 上記利得領域と上記可飽和吸収領域と上記半導体光増幅器部とが互いに独立に駆動可能に構成されていることを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ。
- 上記利得領域と上記可飽和吸収領域と上記半導体光増幅器部との上に互いに分離してそれぞれ電極を有することを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ。
- 上記利得領域に直流電流を注入し、上記可飽和吸収領域に逆バイアス電圧を印加し、あるいは、上記可飽和吸収領域をアースへショートし、上記半導体光増幅器部に直流電流を注入することにより動作させることを特徴とする請求項2記載の半導体レーザ。
- 上記モード同期レーザ部の中に光結合用のグレーティング構造を有することを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。
- 上記モード同期レーザ部の上記半導体光増幅器部側の部分に光結合用のグレーティング構造を有することを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。
- 上記グレーティング構造がレーザ構造を形成する半導体層内に形成されていることを特徴とする請求項7または8記載の半導体レーザ。
- 上記グレーティング構造が上記レーザストライプに形成されていることを特徴とする請求項7または8記載の半導体レーザ。
- 上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプが上記第2の端面に向かって幅が徐々に広がったテーパー形状を有することを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。
- 上記第1の端面の外側に外部ミラーを有することを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。
- 上記第2の端面の反射率が上記第1の端面の反射率より低いことを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。
- 上記第2の端面の反射率が上記外部ミラーの反射率より低いことを特徴とする請求項12記載の半導体レーザ。
- 上記第2の端面の反射率が1%以下であることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。
- 上記半導体光増幅器部に電気的な変調信号を印加し、ゲート機能を持たせることを特徴とする請求項1記載の半導体レーザ。
- 光源に半導体レーザを用いたバイオイメージングシステムにおいて、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とするバイオイメージングシステム。 - 光源に半導体レーザを用いた顕微鏡において、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とする顕微鏡。 - 光源に半導体レーザを用いた光ディスク装置において、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とする光ディスク装置。 - 光源に半導体レーザを用いた光ピックアップにおいて、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とする光ピックアップ。 - 光源に半導体レーザを用いた加工装置において、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とする加工装置。 - 光源に半導体レーザを用いた内視鏡において、
上記半導体レーザが、
互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれモード同期レーザ部およびこのモード同期レーザ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記モード同期レーザ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である半導体レーザである
ことを特徴とする内視鏡。 - 互いに対向する第1の端面および第2の端面の間に少なくとも一つのレーザストライプを有する一つのレーザチップを有し、
上記レーザチップは、上記第1の端面側および上記第2の端面側にそれぞれ利得スイッチ部およびこの利得スイッチ部から発生する光を増幅する半導体光増幅器部を有し、
上記第1の端面の法線と上記利得スイッチ部の上記レーザストライプとのなす角度が0°以上1°以下であり、かつ、上記法線と上記半導体光増幅器部の上記レーザストライプとのなす角度が1°より大きく90°未満である
ことを特徴とする半導体レーザ。
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