JP2008171142A - Spot defect detection method and device - Google Patents

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裕也 市川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a spot defect detection method for highly precisely detecting spot defect without causing erroneous detection. <P>SOLUTION: This spot defect detection method includes emphasizing spot defects surrounded by luminance comparison elements S1 to S32 on the basis of the mean value of luminance differences with respect to the object pixel O of two luminance comparison pixels made a set at point symmetric positions by using a spot defect emphasizing filter. Whether or not the luminance value of the two luminance comparison elements as the set is within a predetermined luminance range on processing is decided under the first to fourth conditions for each set of luminance comparison elements, and when one luminance comparison element is within the predetermined luminance range, the difference of the luminance value within the predetermined luminance range and the luminance value of an object pixel O is calculated as an emphasis calculation value for spot defect emphasis. The luminance range on the spot defect emphasis processing is set according to the luminance range of an inspection object range different according to the type of a display and the characteristics of the spot. Thus, it is possible to prevent erroneous detection by selectively and surely emphasizing spot defects out of the luminance range. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶パネル、電気泳動ディスプレイや有機ELディスプレイ等の各種表示デバイスやその応用製品であるプロジェクタ等の製造における検査工程等の各種製品の検査工程において、シミ欠陥を精度よく自動的に検出するシミ欠陥検出方法及び装置に関する。   The present invention automatically and accurately detects a spot defect in an inspection process of various products such as an inspection process in manufacturing various display devices such as liquid crystal panels, electrophoretic displays and organic EL displays and projectors which are applied products thereof. The present invention relates to a spot defect detection method and apparatus.

各種表示パネル等の検査においてシミやムラと呼ばれる面系欠陥は、形状が不定でありコントラストも低いため、検査装置で自動検出することは困難であった。このため、検査は未だ検査員の目視で行われているのが現状であり、製造コスト削減のために検査の自動化が急務になっている。
なお、シミやムラ欠陥とは、表示画面のある領域が他の領域と輝度の差がある状態であり、ある程度の範囲で、周りに比べて明るい部分や暗い部分がある状態をいう。なお、通常、欠陥面積が比較的狭い場合をシミ欠陥、比較的大きい場合をムラ欠陥と呼ぶことが多い。但し、厳密な定義はないため、本発明では、シミ欠陥やムラ欠陥などの面系欠陥を総称してシミ欠陥と称する。
In the inspection of various display panels and the like, surface defects called spots and unevenness are difficult to detect automatically with an inspection apparatus because the shape is indefinite and the contrast is low. For this reason, the inspection is still carried out by the inspector's visual observation, and there is an urgent need to automate the inspection in order to reduce manufacturing costs.
Note that a spot or uneven defect is a state in which an area on a display screen has a difference in luminance from other areas, and in a certain range, there is a brighter or darker part than the surrounding area. Usually, a case where the defect area is relatively small is often called a spot defect, and a case where the defect area is relatively large is often called a mura defect. However, since there is no strict definition, in the present invention, surface system defects such as a spot defect and a mura defect are collectively referred to as a spot defect.

従来、シミ欠陥の検出を自動化する方法として、2次微分フィルタ・2次差分フィルタを用いて強調処理することでシミ欠陥を検出する方法が既に提案されている(例えば、特許文献1〜4参照)。   Conventionally, as a method for automating the detection of a spot defect, a method for detecting a spot defect by performing an enhancement process using a secondary differential filter / secondary difference filter has already been proposed (see, for example, Patent Documents 1 to 4). ).

特開2004−53477号公報JP 2004-53477 A 特開2003−14580号公報JP 2003-14580 A 特開2001−243473号公報JP 2001-243473 A 特開2000−111492号公報JP 2000-111492 A

上記の特許文献2〜4等では、シミを検出するための強調処理として、2次差分フィルタを用いている。
ここで、特許文献1、4の2次微分フィルタ、2次差分フィルタで考慮されているのは縦方向および横方向の成分のみであり、斜め方向の成分は考慮されていないため、処理時間は短縮できるが、シミ欠陥の検出精度を向上させることはできないという問題があった。
この点、特許文献1〜3では、縦方向および横方向だけでなく、斜め方向も考慮されているが、輝度の変化が大きい部分に反応するようにフィルタが設定されているため、エッジ部分にも反応してしまい、シミではないキズや線状の欠陥部分も同時に検出してしまう。このため、シミ欠陥の検出精度が低下するという問題があった。
また、特許文献3では、シミ欠陥の平均輝度とその外周の平均輝度値との差をとり、その輝度差をシミ検出閾値と比較して検出しているため、点状ムラの周辺部付近で、検出すべきシミ欠陥の成分とは逆方向の成分が発生し、これを誤検出する可能性がある(例えば白いシミ欠陥の場合には黒いシミ欠陥を検出)。また、同じ画面上にスジ状欠陥が存在する場合、シミ欠陥と同時にスジ状欠陥も検出する可能性があり、シミ欠陥の検出精度を上げられないという問題点がある。
さらに、特許文献4については、フィルタ計算時にフィルタ適用部分の輝度値が凸か凹かを条件式を用いて調べ、条件を充足するときにのみ2次微分の計算を行うため、シミ部分のみを検出することが可能となっている。但し、この手法では4方向全てを条件として考慮しているものの実際にはこの条件から外れるシミも存在するため、このようなシミを検出することができない。
In the above Patent Documents 2 to 4 and the like, a secondary difference filter is used as an enhancement process for detecting a spot.
Here, since the secondary differential filter and the secondary differential filter of Patent Documents 1 and 4 consider only the components in the vertical direction and the horizontal direction, and do not consider the components in the diagonal direction, the processing time is Although it can be shortened, there is a problem that the detection accuracy of the spot defect cannot be improved.
In this regard, in Patent Documents 1 to 3, not only the vertical direction and the horizontal direction but also the oblique direction is considered, but since the filter is set so as to react to a portion where the luminance change is large, Will also react and detect flaws and linear defects that are not spots. For this reason, there was a problem that the detection accuracy of the spot defect is lowered.
Further, in Patent Document 3, since the difference between the average brightness of the spot defect and the average brightness value of the outer periphery thereof is taken and the brightness difference is detected by comparison with the spot detection threshold value, the vicinity of the periphery of the spot-like unevenness is detected. A component in the direction opposite to the component of the spot defect to be detected is generated and may be erroneously detected (for example, in the case of a white spot defect, a black spot defect is detected). In addition, when a streak-like defect exists on the same screen, a streak-like defect may be detected at the same time as the spot defect, and there is a problem that the detection accuracy of the spot defect cannot be increased.
Further, in Patent Document 4, it is checked whether a luminance value of a filter application portion is convex or concave at the time of filter calculation by using a conditional expression, and a second derivative is calculated only when the condition is satisfied. It is possible to detect. However, although this method considers all four directions as conditions, there are actually spots that deviate from these conditions, so such spots cannot be detected.

本発明は、上述のような課題に鑑みてなされたものであり、シミ欠陥を誤検出しないで高精度に検出することができるシミ欠陥検出方法及び装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a spot defect detection method and apparatus that can detect spot defects with high accuracy without erroneous detection.

本発明のシミ欠陥検出方法は、撮像した画像の各画素に対してシミ欠陥強調フィルタをかけてシミ欠陥を強調するシミ欠陥強調処理工程と、前記シミ欠陥強調処理工程で得られた各画素のシミ欠陥強調値に基づいてシミ欠陥を検出するシミ欠陥検出工程とを有し、前記シミ欠陥強調処理工程は、撮像画像において選択された対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された各輝度比較画素を、前記対象画素を挟んで対称位置に配置された2つの輝度比較画素毎のセットに分け、各セットそれぞれについて、当該セットの2つの輝度比較画素の一方の輝度値を第1輝度値として、他方の輝度値を第2輝度値として、それぞれ求め、所定の検査対象領域の輝度に応じた所定輝度範囲の最小輝度が設定される最小設定値、および前記所定輝度範囲の最大輝度が設定される最大設定値それぞれと前記第1輝度値との比較結果、と、前記最小設定値および前記最大設定値それぞれと前記第2輝度値との比較結果、とに基づいて、前記第1輝度値および前記第2輝度値の両方が前記所定輝度範囲内にあるときに成立する第1条件と、前記第1輝度値が前記所定輝度範囲内で且つ前記第2輝度値が前記所定輝度範囲外であるときに成立する第2条件と、前記第1輝度値が前記所定輝度範囲外で且つ前記第2輝度値が前記所定輝度範囲内であるときに成立する第3条件とを含む複数の条件を設定し、前記第1条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第1輝度値および前記第2輝度値の平均値との差の値を強調算出値とし、前記第2条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第1輝度値との差の値を前記強調算出値とし、前記第3条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第2輝度値との差の値を前記強調算出値とし、各セットの前記強調算出値のうち、最小値を対象画素のシミ欠陥強調値とするシミ欠陥強調フィルタを用いてシミ欠陥を強調し、前記シミ欠陥検出工程は、前記各画素のシミ欠陥強調値を所定の閾値と比較してシミ欠陥候補の画素を抽出してシミ欠陥を検出することを特徴とする。   The spot defect detection method of the present invention includes a spot defect enhancement processing step for emphasizing a stain defect by applying a stain defect enhancement filter to each pixel of the captured image, and each pixel obtained in the stain defect enhancement processing step. A stain defect detecting step for detecting a stain defect based on a stain defect enhancement value, and the stain defect enhancement processing step is arranged at a predetermined distance from the target pixel selected in the captured image and around the target pixel. Each luminance comparison pixel is divided into sets of two luminance comparison pixels arranged at symmetrical positions across the target pixel, and for each set, the luminance value of one of the two luminance comparison pixels of the set is set to A minimum setting value in which a minimum luminance in a predetermined luminance range corresponding to the luminance of a predetermined inspection target area is set as the one luminance value and the other luminance value is determined as the second luminance value; Based on a comparison result between each of the maximum setting values at which the maximum luminance of the luminance range is set and the first luminance value, and a comparison result between the minimum setting value and each of the maximum setting values and the second luminance value. A first condition that is satisfied when both of the first luminance value and the second luminance value are within the predetermined luminance range, and the first luminance value is within the predetermined luminance range and the second luminance value. And a third condition that is satisfied when the first luminance value is outside the predetermined luminance range and the second luminance value is within the predetermined luminance range. When the first condition is satisfied, the difference between the luminance value of the target pixel and the average value of the first luminance value and the second luminance value is emphasized and calculated. Value, and if the second condition is satisfied, the target pixel The difference value between the luminance value and the first luminance value is set as the enhancement calculation value, and when the third condition is satisfied, the difference value between the luminance value of the target pixel and the second luminance value is set as the value. Emphasis calculation values are used to highlight a spot defect using a spot defect enhancement filter that uses a minimum value among the calculation values of each set as a defect defect enhancement value of the target pixel. The spot defect emphasis value is compared with a predetermined threshold value, and a spot defect candidate pixel is extracted to detect a spot defect.

また、本発明のシミ欠陥検出装置は、撮像した画像の各画素に対してシミ欠陥強調フィルタをかけてシミ欠陥を強調するシミ欠陥強調処理手段と、前記シミ欠陥強調処理手段で得られた各画素のシミ欠陥強調値に基づいてシミ欠陥を検出するシミ欠陥検出手段とを有し、前記シミ欠陥強調処理手段は、撮像画像において選択された対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された各輝度比較画素を、前記対象画素を挟んで対称位置に配置された2つの輝度比較画素毎のセットに分け、各セットそれぞれについて、当該セットの2つの輝度比較画素の一方の輝度値を第1輝度値として、他方の輝度値を第2輝度値として、それぞれ求め、所定の検査対象領域の輝度に応じた所定輝度範囲の最小輝度が設定される最小設定値、および前記所定輝度範囲の最大輝度が設定される最大設定値それぞれと前記第1輝度値との比較結果、と、前記最小設定値および前記最大設定値それぞれと前記第2輝度値との比較結果、とに基づいて、前記第1輝度値および前記第2輝度値の両方が前記所定輝度範囲内にあるときに成立する第1条件と、前記第1輝度値が前記所定輝度範囲内で且つ前記第2輝度値が前記所定輝度範囲外であるときに成立する第2条件と、前記第1輝度値が前記所定輝度範囲外で且つ前記第2輝度値が前記所定輝度範囲内であるときに成立する第3条件とを含む複数の条件を設定し、前記第1条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第1輝度値および前記第2輝度値の平均値との差の値を強調算出値とし、前記第2条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第1輝度値との差の値を前記強調算出値とし、前記第3条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第2輝度値との差の値を前記強調算出値とし、各セットの前記強調算出値のうち、最小値を対象画素のシミ欠陥強調値とするシミ欠陥強調フィルタを用いてシミ欠陥を強調し、前記シミ欠陥検出手段は、前記各画素のシミ欠陥強調値を所定の閾値と比較してシミ欠陥候補の画素を抽出してシミ欠陥を検出することを特徴とする。   Further, the spot defect detection apparatus of the present invention includes a spot defect enhancement processing unit that emphasizes a spot defect by applying a stain defect enhancement filter to each pixel of the captured image, and each obtained by the stain defect enhancement processing unit. Spot defect detection means for detecting a spot defect based on a spot defect enhancement value of the pixel, and the spot defect enhancement processing means is separated from the target pixel selected in the captured image by a predetermined distance and around the target pixel. The arranged luminance comparison pixels are divided into sets of two luminance comparison pixels arranged at symmetrical positions with the target pixel in between, and for each set, one luminance value of the two luminance comparison pixels of the set. Is the first luminance value and the other luminance value is the second luminance value, respectively, and a minimum setting value in which the minimum luminance of the predetermined luminance range according to the luminance of the predetermined inspection target area is set, and A comparison result between each of the maximum setting values at which the maximum luminance of the predetermined luminance range is set and the first luminance value; a comparison result between the minimum setting value and each of the maximum setting values and the second luminance value; Based on the first condition that is satisfied when both the first luminance value and the second luminance value are within the predetermined luminance range, and the first luminance value is within the predetermined luminance range and the second luminance value. A second condition that is satisfied when the luminance value is outside the predetermined luminance range, and a second condition that is satisfied when the first luminance value is outside the predetermined luminance range and the second luminance value is within the predetermined luminance range. When a plurality of conditions including three conditions are set and the first condition is satisfied, the difference value between the luminance value of the target pixel and the average value of the first luminance value and the second luminance value is calculated. If the second calculated condition is satisfied, the The difference value between the luminance value of the pixel and the first luminance value is set as the enhancement calculation value, and when the third condition is satisfied, the difference value between the luminance value of the target pixel and the second luminance value Is used to highlight a spot defect using a spot defect enhancement filter that uses a minimum value among the calculated highlight values of each set as a spot defect enhancement value of the target pixel. A spot defect is detected by comparing a spot defect enhancement value of each pixel with a predetermined threshold to extract a spot defect candidate pixel.

これらの本発明では、シミ欠陥強調処理において、対象画素から所定距離離れて、かつ、対象画素の周囲に配置された輝度比較画素の輝度値に基づいてシミ欠陥を強調するシミ欠陥強調フィルタを用いて処理しているので、例えば、輝度比較画素を対象画素に対して上下左右のみに配置した場合に比べて、面状に広がるシミを確実に検出することができる。   In the present invention, in the spot defect enhancement process, a spot defect enhancement filter that emphasizes the spot defect based on the luminance value of the luminance comparison pixel arranged at a predetermined distance from the target pixel and around the target pixel is used. Therefore, for example, it is possible to reliably detect a stain spreading in a planar shape as compared with a case where the luminance comparison pixels are arranged only in the vertical and horizontal directions with respect to the target pixel.

また、本発明のシミ欠陥強調フィルタは、前記各輝度比較画素を、前記対象画素を挟んで対称位置に配置された2つの輝度比較画素毎のセットに分け、第1条件の成立時には、対象画素の輝度値とセットの2つの輝度比較画素の輝度値の平均値との差分を各セットの強調算出値としている。
このため、例えば、前記各輝度比較画素内に周囲に比べて明るいシミ欠陥が生じている場合、前記対象画素の輝度値は、セットの2つの輝度比較画素の輝度値のいずれに対しても大きくなるから、強調算出値は大きな値になる。このシミ欠陥が各輝度比較画素で囲まれたエリア内に納まっている場合、各セットの強調算出値がすべて大きな値になる。
一方、前記対象画素およびセットとされた2つの輝度比較画素を通るスジ状欠陥が生じている場合、これらの画素の輝度値は殆ど同じになるため、当該セットにおける強調算出値は小さな値になる。また、対象画素を含む明るいシミ欠陥の一部が輝度比較画素にも達していると、そのシミ欠陥が達した輝度比較画素の輝度値が高くなり対象画素の輝度値に近づくため、このセットにおける強調算出値の値は小さくなる。
このように求められる各セットの強調算出値のうち、その値が最小になるものを選択して対象画素のシミ欠陥強調値とすれば、スジ状欠陥がある場合や、輝度比較画素の一部が欠陥に含まれている場合にはシミ欠陥強調値が小さくなり、輝度比較画素で囲まれたエリア内にシミ欠陥が納まっている場合にのみシミ欠陥強調値が大きくなる。このため、シミ欠陥強調値を所定の閾値と比較すれば、シミ欠陥のみを高精度に検出することができる。
The spot defect enhancement filter according to the present invention divides each luminance comparison pixel into a set of two luminance comparison pixels arranged at symmetrical positions with the target pixel in between, and when the first condition is satisfied, And the average value of the luminance values of the two luminance comparison pixels in the set are used as the enhancement calculation values for each set.
For this reason, for example, when a bright spot defect is generated in each of the luminance comparison pixels compared to the surroundings, the luminance value of the target pixel is larger than any of the luminance values of the two luminance comparison pixels of the set. Therefore, the calculated enhancement value is a large value. When this spot defect is contained in an area surrounded by each luminance comparison pixel, all of the enhancement calculation values of each set are large values.
On the other hand, when a streak defect passing through the target pixel and the two luminance comparison pixels set, the luminance values of these pixels are almost the same, so the enhancement calculation value in the set becomes a small value. . In addition, when a part of the bright spot defect including the target pixel reaches the brightness comparison pixel, the brightness value of the brightness comparison pixel at which the spot defect has reached becomes higher and approaches the brightness value of the target pixel. The value of the enhancement calculation value becomes small.
Of the calculated enhancement values of each set obtained in this way, the one with the smallest value is selected and used as the stain defect enhancement value of the target pixel. Is included in the defect, the spot defect enhancement value decreases, and the stain defect enhancement value increases only when the spot defect is within the area surrounded by the luminance comparison pixels. For this reason, if the spot defect emphasis value is compared with a predetermined threshold, only the spot defect can be detected with high accuracy.

ここで、対象画素と輝度比較画素との減算向きについて、周りよりも明るい白シミ欠陥を強調する際は、対象画素の輝度値から周りの輝度比較画素の輝度値を引くことで強調算出値を求めればよい。逆に、周りよりも暗い黒シミ欠陥を強調する際は、周りの輝度比較画素の輝度値から対象画素の輝度値を引くことで強調算出値を求めればよい。このように、白シミ欠陥と黒シミ欠陥とを別々に強調し、白シミ欠陥強調結果から白シミ欠陥検出用の閾値によりシミ欠陥を切り出し、黒シミ欠陥強調結果から黒シミ欠陥検出用の閾値によりシミ欠陥を切り出すことにより、シミの外縁部で白シミと黒シミとが反転するなどの不具合が生じず、シミ欠陥検出の精度をより一層向上させることができる。   Here, with respect to the subtraction direction of the target pixel and the luminance comparison pixel, when emphasizing a white spot defect that is brighter than the surrounding area, the enhancement calculation value is obtained by subtracting the luminance value of the surrounding luminance comparison pixel from the luminance value of the target pixel. Find it. On the other hand, when emphasizing a black spot defect darker than the surrounding area, the enhancement calculation value may be obtained by subtracting the luminance value of the target pixel from the luminance value of the surrounding luminance comparison pixel. In this way, white spot defects and black spot defects are emphasized separately, the spot defect is cut out from the white spot defect enhancement result by the threshold for white spot defect detection, and the threshold for black spot defect detection from the black spot defect enhancement result. By cutting out the spot defect by the above, a defect such as the white spot and the black spot being reversed at the outer edge of the spot does not occur, and the accuracy of spot defect detection can be further improved.

さらに、本発明における大きな特徴の1つとして、シミ強調処理上、検査対象領域の輝度に応じた輝度範囲(所定輝度範囲)を設定しており、各セットの2つの輝度比較画素それぞれがこの輝度範囲内であるか否かを第1条件〜第3条件で判断している。すなわち、各種ディスプレイ等の表示画像それぞれの表示特性等に応じて、所定輝度範囲を任意に設定可能であるため、広範な種類の表示画像の欠陥検査に対応できる。
なお、所定輝度範囲には、検査対象領域に対する処理上の任意の輝度範囲を設定できる。この所定輝度範囲は、最小値および最大値(最小設定値および最大設定値)により規定される。
Further, as one of the major features of the present invention, a luminance range (predetermined luminance range) corresponding to the luminance of the inspection target area is set in the spot enhancement process, and each of the two luminance comparison pixels in each set has this luminance. Whether it is within the range is determined by the first condition to the third condition. That is, since the predetermined luminance range can be arbitrarily set according to the display characteristics of each display image such as various displays, it is possible to cope with a wide variety of display image defect inspections.
Note that an arbitrary luminance range in processing for the inspection target region can be set as the predetermined luminance range. This predetermined luminance range is defined by a minimum value and a maximum value (minimum setting value and maximum setting value).

ここで、もし仮に、対象画素の輝度値を参照し、この対象画素と、セットの2つの輝度比較画素それぞれとの輝度差を求め、その輝度差と所定閾値との比較に基づいて、対象画素と2つの各輝度比較画素とが同じ領域(対象画素の位置に応じて検査対象領域の内部あるいは外部)にあるか否かの判断を通じて、当該対象画素のシミ強調算出値を導くこととする。この場合において、対象画素の輝度値が輝度比較画素の輝度値に対して想定以上に外れていた際(閾値を越える場合)には、その対象画素に存在するシミ欠陥を強調できない。
これに対して、本発明では、対象画素のシミ欠陥強調処理に際して、その対象画素の輝度値が前記の所定輝度範囲内にあるか否かを判断するのではなく、その対象画素の周りの輝度比較画素の輝度値が所定輝度範囲内にあるか否かを判断しているため、対象画素の輝度が所定輝度範囲の内部であるか外部であるかに関わらず、所定輝度範囲から外れた白シミや黒シミが存在する対象画素を確実に強調できる。
Here, if the luminance value of the target pixel is referred to, the luminance difference between the target pixel and each of the two luminance comparison pixels in the set is obtained, and the target pixel is determined based on the comparison between the luminance difference and a predetermined threshold value. And the two luminance comparison pixels are in the same region (inside or outside of the inspection target region depending on the position of the target pixel), the spot enhancement calculation value of the target pixel is derived. In this case, when the luminance value of the target pixel deviates more than expected from the luminance value of the luminance comparison pixel (when the threshold value is exceeded), the spot defect existing in the target pixel cannot be emphasized.
On the other hand, in the present invention, in the spot defect enhancement processing of the target pixel, it is not determined whether the luminance value of the target pixel is within the predetermined luminance range, but the luminance around the target pixel. Since it is determined whether the luminance value of the comparison pixel is within the predetermined luminance range, white that is out of the predetermined luminance range regardless of whether the luminance of the target pixel is inside or outside the predetermined luminance range. It is possible to reliably emphasize the target pixel in which a spot or a black spot exists.

また、第2、第3条件により、セットの2つの輝度比較画素の片方のみが所定輝度範囲内である場合は、その所定輝度範囲内にある片方の輝度比較画素と対象画素との輝度差を強調算出値として、もう片方の輝度比較画素の輝度値はシミ欠陥強調に際して加味しないので、一方の輝度比較画素が所定輝度範囲内、他方の輝度比較画素が所定輝度範囲外となった場合、対象画素にシミ欠陥が無いにも関わらず、当該対象画素に対してシミ欠陥強調処理がされることを防止できる。その一方で、実在するシミ欠陥については確実に強調して検出可能となる。
以上、第1条件〜第3条件の各条件付けと、これら条件付けにおいて対象画素ではなく輝度比較画素の輝度を参照していることによって、検査対象領域の内外にフィルタが跨っても誤検出せずに検査を完全自動化でき、かつ、検査対象領域内において所定輝度範囲から外れた顕著な輝点、シミなどを漏れなく強調して検出できる。
In addition, when only one of the two luminance comparison pixels in the set is within the predetermined luminance range according to the second and third conditions, the luminance difference between the one luminance comparison pixel and the target pixel within the predetermined luminance range is determined. Since the brightness value of the other brightness comparison pixel is not taken into account for spot defect enhancement as an enhancement calculation value, if one brightness comparison pixel is within the specified brightness range and the other brightness comparison pixel is outside the specified brightness range, the target Even though the pixel has no spot defect, it is possible to prevent the target pixel from being subjected to the spot defect enhancement process. On the other hand, the actual spot defect can be surely emphasized and detected.
As described above, each condition of the first condition to the third condition, and by referring to the brightness of the brightness comparison pixel instead of the target pixel in these conditions, even if the filter straddles the inside and outside of the inspection target area, no erroneous detection is performed. Inspection can be fully automated, and remarkable bright spots and spots that deviate from the predetermined luminance range in the inspection target area can be emphasized and detected without omission.

なお、第1条件成立時には、対象画素を挟んで対称の位置に配置された2つの輝度比較画素の輝度値における平均値を求めているので、背景のシェーディングの影響を軽減でき、シミ欠陥をより高精度に検出することができる。すなわち、背景のシェーディングの影響によって、対象画素を挟んで対称の位置に配置された2つの輝度比較画素の一方は輝度値が高くなり、他方は小さくなることが多い。従って、これらの2つの輝度比較画素の平均輝度値を求めることでシェーディングの影響を平滑化でき、その結果、強調算出値は小さな値になる。これによって、シミ欠陥をより高精度に検出することができる。   When the first condition is satisfied, the average value of the luminance values of two luminance comparison pixels arranged at symmetrical positions with respect to the target pixel is obtained, so that the influence of shading of the background can be reduced, and the spot defect is further reduced. It can be detected with high accuracy. That is, due to the influence of background shading, one of the two luminance comparison pixels arranged at symmetrical positions across the target pixel often has a high luminance value and the other becomes small. Therefore, the influence of shading can be smoothed by obtaining the average luminance value of these two luminance comparison pixels, and as a result, the enhancement calculation value becomes a small value. Thereby, a spot defect can be detected with higher accuracy.

前記検査対象領域としては、例えば、液晶パネルやDMD(ダイレクト・ミラー・デバイス)パネル、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、電気泳動ディスプレイ、フロントプロジェクタ、リアプロジェクタなどの各種画像表示装置による表示画面を撮像した画像における矩形状などの画像表示領域などを挙げることができる。
以上の本発明によれば、ディスプレイの種類などで異なる検査対象領域の輝度範囲やシミの特性などに応じて、シミ欠陥強調処理上の輝度範囲を設定することにより、この輝度範囲から外れるシミ欠陥を選択的に確実に強調できるので、誤検出が防止され、シミ欠陥検出を適切に行うことができる。
As the inspection target area, for example, a display screen by various image display devices such as a liquid crystal panel, a DMD (direct mirror device) panel, a plasma display, an organic EL display, an electrophoretic display, a front projector, and a rear projector is imaged. An image display area such as a rectangular shape in the image can be given.
According to the present invention described above, by setting the brightness range in the spot defect enhancement process according to the brightness range of the inspection target area and the characteristics of the spot that differ depending on the type of display, etc., the spot defect deviates from this brightness range. Can be selectively and reliably emphasized, so that erroneous detection can be prevented and spot defect detection can be performed appropriately.

なお、第1〜第3条件の各条件付けにおいて、第1、第2輝度値がそれぞれ、最小設定値以上でかつ最大設定値以下であるとき、所定輝度範囲内であると判断しても良いし、第1、第2輝度値がそれぞれ、最小設定値超でかつ最大設定値未満であるとき、所定輝度範囲内であると判断してもよい。要するに、これら最小設定値および最大設定値が所定輝度範囲両端の閾値となって各条件付けが行えればよい。   In each conditioning of the first to third conditions, when the first and second luminance values are not less than the minimum set value and not more than the maximum set value, it may be determined that they are within the predetermined luminance range. When the first and second luminance values are both greater than the minimum set value and less than the maximum set value, it may be determined that they are within a predetermined luminance range. In short, it is only necessary that these minimum set value and maximum set value become the threshold values at both ends of the predetermined luminance range to perform each conditioning.

本発明のシミ欠陥検出方法では、前記複数の条件に、前記第1輝度値および前記第2輝度値の両方が前記所定輝度範囲外のときに成立する第4条件を含め、前記第4条件が成立する場合には、前記対象画素と前記各輝度比較画素との輝度差が取り得る値と判別可能な所定の無効値を前記強調算出値とすることが好ましい。   In the spot defect detection method of the present invention, the fourth condition includes the fourth condition that is satisfied when both the first luminance value and the second luminance value are outside the predetermined luminance range in the plurality of conditions. In the case of being established, it is preferable that a predetermined invalid value that can be distinguished from a value that can be taken by a luminance difference between the target pixel and each luminance comparison pixel is used as the enhancement calculation value.

この発明によれば、第4条件が成立する場合には、前記第1〜第3条件のときに第1、第2輝度値に基づいて算出される強調算出値に紛れない無効値を強調算出値とするので、各セットのそれぞれにおいて算出される強調算出値のうち最小値として求めるシミ欠陥強調値に影響を及ぼさない。
ここで、検査対象領域の内部と外部とでは輝度範囲が異なることが通常であり、このため、検査対象領域内で想定される輝度範囲に応じて前記の所定輝度範囲を設定しておけば、対象画素およびセットの各輝度比較画素のそれぞれが検査対象領域外(つまり背景領域)にありかつ、対象画素と輝度比較画素との輝度差が生じている場合(つまり、背景領域で輝度変化が存在した場合)に、これを欠陥として誤検出してしまうことを防止できる。
According to the present invention, when the fourth condition is satisfied, the invalid value that is not confused with the emphasized calculated value calculated based on the first and second luminance values in the first to third conditions is emphasized. Therefore, it does not affect the spot defect emphasis value obtained as the minimum value among the emphasis calculated values calculated in each set.
Here, it is normal that the luminance range is different between the inside and the outside of the inspection target region. Therefore, if the predetermined luminance range is set according to the luminance range assumed in the inspection target region, When the target pixel and each luminance comparison pixel in the set are outside the inspection target area (that is, the background area) and there is a luminance difference between the target pixel and the luminance comparison pixel (that is, there is a luminance change in the background area) ) Can be prevented from being erroneously detected as a defect.

[1.シミ欠陥検出装置の全体構成]
図1は本発明の第1実施形態に係るシミ欠陥検出装置の構成を示すブロック図である。
図1において、1は表示パネル、2は画像投影装置であるプロジェクタであり、表示パネル1を外部からセットできるようになっている。3は表示パネル1に各種パターンを出力するパターン生成装置であるパターンジェネレータ、4はスクリーン、5はスクリーン4に投影された画像を撮影する撮像手段であるCCD(charge-coupled device)カメラであり、表示パネル1の解像度以上の解像度を有するCCDを搭載している。6はパターンジェネレータ3及びCCDカメラ5を制御し、表示パネル1のシミ欠陥を検出する画像処理手段であるコンピュータ装置、7はコンピュータ装置6に接続された表示装置である。
[1. Overall Configuration of Spot Defect Detection Device]
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a spot defect detection apparatus according to the first embodiment of the present invention.
In FIG. 1, 1 is a display panel, 2 is a projector which is an image projector, and the display panel 1 can be set from the outside. Reference numeral 3 denotes a pattern generator that is a pattern generation device that outputs various patterns to the display panel 1, reference numeral 4 denotes a screen, and reference numeral 5 denotes a CCD (charge-coupled device) camera that is an imaging unit that captures an image projected on the screen 4. A CCD having a resolution higher than that of the display panel 1 is mounted. A computer device 6 is an image processing means for controlling the pattern generator 3 and the CCD camera 5 to detect a spot defect in the display panel 1, and a display device 7 is connected to the computer device 6.

コンピュータ装置6は、画像入力手段60と、背景画像差分処理手段61と、縮小画像作成手段63と、シミ欠陥強調処理手段64と、ノイズ除去手段65と、シミ欠陥抽出処理手段66と、blob処理手段67と、欠陥ランク分類処理手段68とから構成されている。   The computer device 6 includes an image input means 60, a background image difference processing means 61, a reduced image creation means 63, a spot defect enhancement processing means 64, a noise removal means 65, a spot defect extraction processing means 66, and a blob process. It comprises means 67 and defect rank classification processing means 68.

コンピュータ装置6の画像入力手段60には、CCDカメラ5で撮像された取込画像の画像データが入力される。その取込画像は図示しない記憶手段に記憶される。従って、画像入力手段60によってCCDカメラ5を用いて検査対象を撮像する撮像工程(画像入力工程)が実施される。
なお、表示パネル1は、TFT(Thin Film Transistor)液晶パネルや、DMD(ダイレクト・ミラー・デバイス)パネルなどの各種表示デバイスであって、この表示パネルにおいて画像が表示される検査対象領域(検査対象領域)の全体を撮像するために、検査対象領域の周囲の領域も多少含んだ状態で撮像される。
Image data of the captured image captured by the CCD camera 5 is input to the image input means 60 of the computer device 6. The captured image is stored in a storage means (not shown). Accordingly, an imaging process (image input process) is performed in which the inspection target is imaged using the CCD camera 5 by the image input means 60.
The display panel 1 is various display devices such as a TFT (Thin Film Transistor) liquid crystal panel and a DMD (direct mirror device) panel, and an inspection target area (inspection target) on which an image is displayed on the display panel. In order to image the entire (region), the image is captured in a state including some regions around the inspection target region.

背景画像差分処理手段61は、入力画像と予め作成された背景画像との差を取って検査対象以外のものによって生じる欠陥状の輝度変化を除去した背景差分画像を得る背景画像差分処理工程を実施する。本実施形態では、この背景差分画像を検査画像(撮像画像)とする。   The background image difference processing means 61 carries out a background image difference processing step for obtaining a background difference image in which a difference between an input image and a background image created in advance is removed and defective luminance changes caused by things other than the inspection target are removed. To do. In this embodiment, this background difference image is used as an inspection image (captured image).

縮小画像作成手段63は、背景画像差分処理手段61により得られた検査画像から縮小画像を作成する縮小画像作成工程を実施する。例えば、縮小画像作成手段63は、検査画像(撮像画像)において比較的大きなシミ欠陥を検出するために、この検査画像を1/4サイズに縮小する処理を行う。後述するように、シミ欠陥強調処理手段64で使用するシミ欠陥強調フィルタは、それぞれ強調可能なシミの大きさがある程度決められている。このため、同一のシミ欠陥強調フィルタを利用していても、画像自体を縮小してシミ欠陥の大きさも小さくすることで、画像を縮小しない場合に比べて、相対的に大きなシミ欠陥を検出することができる。なお、小さなシミ欠陥を検出する場合には、縮小画像作成手段63による縮小画像作成工程を実施しなくてもよい。また、その他の縮小率である1/2サイズや、1/8サイズに縮小する処理を行ってもよい。   The reduced image creating means 63 performs a reduced image creating process for creating a reduced image from the inspection image obtained by the background image difference processing means 61. For example, the reduced image creating means 63 performs a process of reducing the inspection image to ¼ size in order to detect a relatively large spot defect in the inspection image (captured image). As will be described later, the size of the stain that can be emphasized is determined to some extent in the stain defect enhancement filter used in the stain defect enhancement processing means 64. For this reason, even if the same spot defect emphasis filter is used, a relatively large spot defect is detected by reducing the size of the spot defect by reducing the size of the image itself as compared with the case where the image is not reduced. be able to. Note that when a small spot defect is detected, the reduced image creating step by the reduced image creating means 63 may not be performed. In addition, a process of reducing the size to 1/2 size or 1/8 size, which is another reduction rate, may be performed.

シミ欠陥強調処理手段64は、画像に対してシミ欠陥強調フィルタ(シミ欠陥検出フィルタ)を適用してシミ欠陥を強調して検出するシミ欠陥強調処理工程を実施する。   The spot defect enhancement processing unit 64 performs a spot defect enhancement process step of enhancing and detecting a spot defect by applying a spot defect enhancement filter (stain defect detection filter) to the image.

ノイズ除去手段65は、シミ欠陥強調処理手段64で処理された結果に対してメディアンフィルタを適用してノイズを除去するノイズ除去処理工程を実施する。   The noise removing unit 65 performs a noise removing process step of removing noise by applying a median filter to the result processed by the spot defect enhancement processing unit 64.

シミ欠陥抽出処理手段66は、ノイズ除去手段65で処理された結果を所定の閾値と比較してシミ欠陥候補を抽出する。なお、シミ欠陥には、他の画素部分に対して輝度値が高い白シミ欠陥と、輝度値が低い黒シミ欠陥とがある。このため、閾値としては、白シミ欠陥閾値と、黒シミ欠陥閾値とが設定され、白シミ欠陥閾値と比較することで白シミ欠陥候補が抽出され、黒シミ欠陥閾値と比較することで黒シミ欠陥候補が抽出される。   The spot defect extraction processing unit 66 extracts a spot defect candidate by comparing the result processed by the noise removing unit 65 with a predetermined threshold. Note that the spot defect includes a white spot defect having a high luminance value with respect to other pixel portions and a black spot defect having a low luminance value. For this reason, the white spot defect threshold value and the black spot defect threshold value are set as the threshold values, and the white spot defect candidate is extracted by comparing with the white spot defect threshold value, and the black spot defect threshold value is compared with the black spot defect threshold value. A defect candidate is extracted.

blob処理手段67は、欠陥候補として抽出した領域の面積と、平均輝度を求めるblob処理工程を実施する。
欠陥ランク分類処理手段68は、blob処理手段67で求めた面積および平均輝度に基づいてシミ欠陥のランクを評価し、今回の検査対象がどの欠陥ランクに該当するかを分類する欠陥ランク分類工程を実施する。
従って、本実施形態では、シミ欠陥抽出処理手段66、blob処理手段67、欠陥ランク分類処理手段68により、シミ欠陥検出手段が構成されている。
The blob processing means 67 performs a blob processing step for obtaining the area of the region extracted as the defect candidate and the average luminance.
The defect rank classification processing unit 68 evaluates the rank of the spot defect based on the area and average brightness obtained by the blob processing unit 67, and classifies which defect rank the current inspection object corresponds to. carry out.
Therefore, in the present embodiment, the spot defect detection processing unit 66, the blob processing unit 67, and the defect rank classification processing unit 68 constitute a spot defect detection unit.

[2.シミ欠陥検出装置の動作]
次に、本実施形態によるシミ欠陥検出装置の動作について説明する。
図2は本実施形態のシミ欠陥検出装置の動作を説明するためのフローチャートである。図2に示す動作はコンピュータ装置6上で実行されるプログラムにより実現されている。
まず、プロジェクタ2に検査対象の表示パネル1をセットし、コンピュータ装置6によりパターンジェネレータ3を制御して表示パネル1上に特定の明るさのパターンを表示させ、それをプロジェクタ2によりスクリーン4に投影する。そして、スクリーン4上に投影された画像をCCDカメラ5で撮影し、その撮影データの画像をコンピュータ装置6に出力し、コンピュータ装置6によりシミ欠陥検出処理を行い、表示パネル1のシミ欠陥の検出結果を表示装置7に表示する。
[2. Operation of spot defect detection device]
Next, the operation of the spot defect detection device according to the present embodiment will be described.
FIG. 2 is a flowchart for explaining the operation of the spot defect detection apparatus of the present embodiment. The operation shown in FIG. 2 is realized by a program executed on the computer device 6.
First, the display panel 1 to be inspected is set on the projector 2, the pattern generator 3 is controlled by the computer device 6 to display a specific brightness pattern on the display panel 1, and this is projected onto the screen 4 by the projector 2. To do. Then, the image projected on the screen 4 is photographed by the CCD camera 5, the image of the photographed data is output to the computer device 6, and a spot defect detection process is performed by the computer device 6 to detect a spot defect in the display panel 1. The result is displayed on the display device 7.

ここで、コンピュータ装置6によるシミ欠陥検出の動作について図2のフローチャートに基づいて説明する。
まず、スクリーン4上に投影された画像をCCDカメラ5で撮影し、その撮影データの画像がコンピュータ装置6の画像入力手段60に取り込まれ、画像入力工程(撮像工程)が行われる(ステップS1)。このとき撮影データは、図示しないA/D変換器により、4096階調(12ビット)のデジタルデータとして、コンピュータ装置6に取り込まれる。
次に、背景画像差分処理手段61は、取り込まれた画像データの中から、照明やレンズなど液晶パネル以外のものによって生じる欠陥状の輝度変化を除去するための背景画像差分処理工程を行う(ステップS2)。
Here, the operation of spot defect detection by the computer device 6 will be described based on the flowchart of FIG.
First, an image projected on the screen 4 is photographed by the CCD camera 5, and an image of the photographed data is taken into the image input means 60 of the computer device 6, and an image input process (imaging process) is performed (step S1). . At this time, the photographing data is taken into the computer device 6 as 4096 gradation (12 bits) digital data by an A / D converter (not shown).
Next, the background image difference processing means 61 performs a background image difference processing step for removing defective luminance changes caused by things other than the liquid crystal panel such as illumination and lenses from the captured image data (step) S2).

この背景画像差分処理工程は、図3(A)に示す入力画像(投影画像)から図3(B)に示す背景画像を減算して、図3(C)に示す背景差分画像を作成する。背景画像は、表示パネル1を除いた光学系の輝度変化の画像である。投影ランプや投射レンズによる欠陥上の輝度変化は、入力画像および背景画像の両方に生じるため、入力画像から背景画像を減算すれば、背景差分画像においては、投影ランプや投射レンズなど液晶パネル以外のものによって生じる欠陥上の輝度変化成分は除去される。   In this background image difference processing step, the background image shown in FIG. 3C is created by subtracting the background image shown in FIG. 3B from the input image (projected image) shown in FIG. The background image is an image of luminance change of the optical system excluding the display panel 1. Since the luminance change on the defect due to the projection lamp and the projection lens occurs in both the input image and the background image, if the background image is subtracted from the input image, the background difference image is not a liquid crystal panel such as a projection lamp or a projection lens. The luminance change component on the defect caused by the object is removed.

次に、縮小画像作成手段63は、背景画像差分処理された検査画像を縮小する縮小画像作成工程を行う(ステップS3)。
この縮小画像作成工程は、検査画像から所定サイズ、例えば1/4サイズに縮小した画像を作成する。具体的には、1/4サイズの縮小画像を作成する場合には、検査画像の4画素の平均値を1画素とすることで1/2サイズの縮小画像を作成し、この1/2の縮小画像の4画素の平均値を1画素とすることで1/4サイズの縮小画像を作成する。
Next, the reduced image creating means 63 performs a reduced image creating process for reducing the inspection image subjected to the background image difference process (step S3).
In the reduced image creating step, an image reduced from the inspection image to a predetermined size, for example, 1/4 size is created. Specifically, in the case of creating a 1/4 size reduced image, a 1/2 size reduced image is created by setting the average value of the 4 pixels of the inspection image to 1 pixel. By reducing the average value of the four pixels of the reduced image to one pixel, a 1/4 size reduced image is created.

従って、原画像が1300×1000の130万画素とすると、1/2の縮小画像は650×500の32.5万画素、1/4の縮小画像は325×250の8万1250画素を有することになる。
このように、所定サイズの縮小画像を作成するのは、後述するシミ欠陥強調フィルタは所定の大きさのシミ欠陥を強調するように設計されており、画像サイズを縮小することで、縮小前の画像サイズのままでは後述するシミ欠陥強調フィルタで強調できない比較的大きなシミを、画像サイズを縮小することで強調できるようにするためのものである。
Therefore, if the original image is 1.3 million pixels of 1300 × 1000, the reduced image of ½ has 325,000 pixels of 650 × 500, and the reduced image of ¼ has 81,250 pixels of 325 × 250. become.
In this way, a reduced image of a predetermined size is created because a stain defect enhancement filter, which will be described later, is designed to emphasize a spot defect of a predetermined size, and by reducing the image size, This is to make it possible to emphasize a relatively large spot that cannot be emphasized by a spot defect enhancement filter, which will be described later, by reducing the image size.

次に、シミ欠陥強調処理手段64は、作成された縮小画像に対してシミ欠陥を強調するシミ欠陥強調処理工程を行う(ステップS4)。このシミ欠陥強調処理工程は、そのままでは微少なレベルの白シミ欠陥・黒シミ欠陥の検出が難しいために、画像の中のシミ欠陥のみを強調するものである。
なお、所定サイズのシミ欠陥のみを検出する場合には、作成された縮小画像に対して、1種類のシミ欠陥強調フィルタを適用すればよいが、サイズの異なるシミ欠陥も検出する場合には、検出対象となるシミ欠陥のサイズが異なる複数種類のシミ欠陥強調フィルタを適用し、所定サイズのシミ欠陥を検出すればよい。
Next, the spot defect emphasis processing means 64 performs a spot defect emphasis process step for emphasizing a spot defect on the created reduced image (step S4). This spot defect enhancement processing step emphasizes only a spot defect in an image because it is difficult to detect a minute level of white spot defect / black spot defect as it is.
In addition, when detecting only a spot defect of a predetermined size, it suffices to apply one kind of spot defect enhancement filter to the created reduced image, but when detecting a spot defect having a different size, A plurality of types of spot defect enhancement filters having different sizes of spot defects to be detected may be applied to detect a spot defect of a predetermined size.

[3.シミ欠陥強調フィルタの構成および作用]
シミ欠陥強調フィルタは、図4に示すように、縮小画像作成手段63により得られた縮小画像を走査する際に順次設定する検査領域の中心画素を対象画素Oとし、この対象画素Oの周囲に略円状に配置され、かつ対象画素Oから所定長さ離れて配置された輝度比較画素(S1〜S32)を設けている。
輝度比較画素S1〜S32は、対象画素Oを挟んで点対称位置に配置された2つを1セットとして、16個のセットに分けられており、例えば、S1とS17、S2とS18、S3とS19・・・S15とS31、S16とS32はそれぞれセットとされている。シミ欠陥強調フィルタは、各セットごとに求められる対象画素Oとの輝度差(本実施形態では、16個の値)をそれぞれ用いることにより、輝度比較画素S1〜S32で囲まれた範囲内に存在するシミを検査画像の縦、横、斜めの各方向において強調する。なお、シミ欠陥強調フィルタにより強調可能なシミのサイズは、対象画素Oから輝度比較画素S1〜S32までの距離に依存する。
[3. Structure and action of a spot defect enhancement filter]
As shown in FIG. 4, the spot defect enhancement filter sets the central pixel of the inspection area sequentially set when scanning the reduced image obtained by the reduced image creating unit 63 as the target pixel O, and around the target pixel O. Luminance comparison pixels (S1 to S32) are provided that are arranged in a substantially circular shape and are separated from the target pixel O by a predetermined length.
The luminance comparison pixels S1 to S32 are divided into 16 sets, with two arranged in a point-symmetric position with the target pixel O in between as one set. For example, S1 and S17, S2 and S18, and S3 S19... S15 and S31, and S16 and S32 are each set. The spot defect enhancement filter exists within the range surrounded by the luminance comparison pixels S1 to S32 by using the luminance difference (16 values in this embodiment) from the target pixel O obtained for each set. The spots to be emphasized are emphasized in the vertical, horizontal, and diagonal directions of the inspection image. The size of the stain that can be enhanced by the stain defect enhancement filter depends on the distance from the target pixel O to the luminance comparison pixels S1 to S32.

〔フィルタに設定されている輝度範囲〕
このようなシミ欠陥強調フィルタでは、セットの2つの輝度比較画素と対象画素Oとの輝度差に応じて対象画素Oにおけるシミ欠陥を強調するシミ強調処理に際して、処理上の輝度範囲を設定している。この輝度範囲は、最小設定値MinLevelおよび最大設定値MaxLevelによって規定されている。
ここで、MinLevelおよびMaxLevelの設定であるが、これらMinLevel、MaxLevelはそれぞれ、表示パネル1の検査対象領域における最低輝度、最高輝度という訳ではなく、検査対象領域の輝度に応じて、かつ処理に応じて任意に設定できる。例えば、表示パネル1の検査対象領域内の輝度データを予め調査して手動設定しても良いし、検査対象領域における輝度平均値(avr)と標準偏差(σ)とを求め、以下の計算式で設定しても良い。
[Brightness range set in the filter]
In such a spot defect emphasis filter, in the spot emphasis process for emphasizing a spot defect in the target pixel O according to the brightness difference between the two brightness comparison pixels in the set and the target pixel O, a processing brightness range is set. Yes. This luminance range is defined by the minimum setting value MinLevel and the maximum setting value MaxLevel.
Here, MinLevel and MaxLevel are set, but these MinLevel and MaxLevel are not the minimum luminance and the maximum luminance in the inspection target area of the display panel 1, respectively, but according to the luminance of the inspection target area and according to the processing. Can be set arbitrarily. For example, the luminance data in the inspection target area of the display panel 1 may be investigated in advance and manually set, or the luminance average value (avr) and standard deviation (σ) in the inspection target area are obtained, and the following calculation formula It may be set with.

MinLevel = avr − a × σ (式1)
MaxLevel = avr + a × σ (式2)
MinLevel = avr − a × σ (Formula 1)
MaxLevel = avr + a × σ (Formula 2)

〔条件1〜4〕
このようにして設定したMinLevelおよびMaxLevelと、輝度比較画素S1〜S32の輝度値を各セット毎に比較した際の比較結果に基づいて、第1〜第4条件としての条件1〜4(下記)を設定する。
すなわち、同じセットの2つの輝度比較画素の輝度値を第1輝度値、第2輝度値として求め、これら第1輝度値、第2輝度値のそれぞれがMinLevelおよびMaxLevelで規定される輝度範囲内にあるか否かで以下の条件1〜条件4に条件付けできる。
これらの条件1〜4は互いに排他であり、各条件に応じた以下の式3〜式6により、対象画素Oのシミ欠陥強調値を算出するための強調算出値を求める。以下に示すF1は、S1,S17のセットの強調算出値である。
[Conditions 1 to 4]
Based on the comparison result when the MinLevel and MaxLevel set in this way and the luminance values of the luminance comparison pixels S1 to S32 are compared for each set, conditions 1 to 4 as the first to fourth conditions (below) Set.
That is, the luminance values of two luminance comparison pixels in the same set are obtained as a first luminance value and a second luminance value, and each of the first luminance value and the second luminance value is within a luminance range defined by MinLevel and MaxLevel. The following conditions 1 to 4 can be conditioned depending on whether or not there is.
These conditions 1 to 4 are mutually exclusive, and an enhancement calculation value for calculating a spot defect enhancement value of the target pixel O is obtained by the following equations 3 to 6 corresponding to each condition. F1 shown below is an enhancement calculation value of the set of S1 and S17.

条件1
( MinLevel <= S1 <= MaxLevel ) ∧ ( MinLevel <= S17 <= MaxLevel )
F1 = O − ( S1 + S17 ) / 2 (式3)
条件2
( MinLevel <= S1 <= MaxLevel ) ∧ ( S17 < MinLevel ∨ S17 > MaxLevel )
F1 = O − S1 (式4)
条件3
( S1 < MinLevel ∨ S1 > MaxLevel ) ∧ ( MinLevel <= S17 <= MaxLevel )
F1 = O − S17 (式5)
条件4
( S1 < MinLevel ∨ S1 > MaxLevel ) ∧ ( S17 < MInLevel ∨ S17 > MaxLevel )
F1 = InvalidData (式6)
Condition 1
(MinLevel <= S1 <= MaxLevel) ∧ (MinLevel <= S17 <= MaxLevel)
F1 = O − (S1 + S17) / 2 (Equation 3)
Condition 2
(MinLevel <= S1 <= MaxLevel) ∧ (S17 <MinLevel ∨ S17> MaxLevel)
F1 = O − S1 (Formula 4)
Condition 3
(S1 <MinLevel ∨ S1> MaxLevel) ∧ (MinLevel <= S17 <= MaxLevel)
F1 = O − S17 (Formula 5)
Condition 4
(S1 <MinLevel ∨ S1> MaxLevel) ∧ (S17 <MInLevel ∨ S17> MaxLevel)
F1 = InvalidData (Formula 6)

すなわち、条件1は、輝度比較画素S1,S17の各輝度値(第1輝度値、第2輝度値)の両方がMinLevelおよびMaxLevelで規定される輝度範囲内にあることを示し、この場合、S1、S17の輝度値の平均値と対象画素Oの輝度値との差分をF1とする(式3)。
また、条件2および条件3は、輝度比較画素S1およびS17の片方がMinLevelおよびMaxLevelで規定される輝度範囲内、もう片方が輝度範囲外であることを示し、この場合、S1、S17の各輝度値のうち、輝度範囲内である方の輝度値と対象画素Oの輝度値との差分がF1となる。つまり、S1の輝度値が輝度範囲内である場合(条件2)は、S1と対象画素Oとの輝度差を強調算出値とし(式4)、逆に、S17の輝度値が輝度範囲内である場合(条件3)は、S17と対象画素Oとの輝度差を強調算出値とする(式5)。
なお、本実施形態では、周りよりも明るい白シミ欠陥と、周りよりも暗い黒シミ欠陥とを個別に強調して、白シミ欠陥強調画像と、黒シミ欠陥強調画像とを作成することとしており、周りよりも明るい白シミ欠陥を強調する際には、上記式3〜式5のように、対象画素Oの輝度値から周りの輝度比較画素の輝度値を引く。逆の場合の黒シミ欠陥強調の場合については後述する。
That is, Condition 1 indicates that both of the luminance values (first luminance value and second luminance value) of the luminance comparison pixels S1 and S17 are within the luminance range defined by MinLevel and MaxLevel. In this case, S1 , The difference between the average value of the luminance values in S17 and the luminance value of the target pixel O is defined as F1 (Formula 3).
Condition 2 and condition 3 indicate that one of the luminance comparison pixels S1 and S17 is within the luminance range defined by MinLevel and MaxLevel, and the other is outside the luminance range. In this case, each luminance of S1 and S17 Among the values, the difference between the luminance value within the luminance range and the luminance value of the target pixel O is F1. In other words, when the luminance value of S1 is within the luminance range (condition 2), the luminance difference between S1 and the target pixel O is used as the enhancement calculation value (Equation 4), and conversely, the luminance value of S17 is within the luminance range. In some cases (condition 3), the luminance difference between S17 and the target pixel O is set as an enhancement calculation value (Formula 5).
In this embodiment, white spot defects that are brighter than the surrounding areas and black spot defects that are darker than the surrounding areas are individually emphasized to create a white spot defect enhanced image and a black spot defect enhanced image. When emphasizing a white spot defect brighter than the surrounding area, the luminance value of the surrounding luminance comparison pixel is subtracted from the luminance value of the target pixel O as in the above Expressions 3 to 5. The reverse case of black spot defect enhancement will be described later.

そして、条件4は、輝度比較画素S1およびS17が共にMinLevelおよびMaxLevelで規定される輝度範囲外にあることを示し、この場合、F1に無効値InvalidDataを設定する(式6)。この無効値InvalidDataは、検査対象領域内で生じ得る輝度差より格段に大きい又は小さい値とされており、第1〜第3条件が成立する際のF1と判別可能となっている。このため、後述の処理においてF1が無効値InvalidDataである場合には、この無効値であるF1を対象画素Oのシミ欠陥強調処理に用いず無効とすることが可能となる。   Condition 4 indicates that both of the luminance comparison pixels S1 and S17 are outside the luminance range defined by MinLevel and MaxLevel. In this case, an invalid value InvalidData is set in F1 (Equation 6). This invalid value InvalidData is a value that is much larger or smaller than the luminance difference that can occur in the inspection target region, and can be determined as F1 when the first to third conditions are satisfied. For this reason, when F1 is an invalid value InvalidData in the process described later, it is possible to invalidate F1 which is the invalid value without using it for the spot defect enhancement process of the target pixel O.

以上の条件1〜4および式1〜式6と同様の処理をS1,S17以外の他のセットについても行うことにより、セット毎の対象画素Oとの2次差分として、16個の強調算出値F1〜F16を求める。   By performing the same processing as in the above conditions 1 to 4 and equations 1 to 6 for other sets other than S1 and S17, 16 emphasized calculation values are obtained as secondary differences from the target pixel O for each set. F1 to F16 are obtained.

シミ欠陥強調フィルタは、以上の計算を行ったあと、F1〜F16の各値の中で最小値を選択し、その値を当該対象画素Oのシミ欠陥強調値とする。
ここで、前述の図4、および図5〜図10にそれぞれ、各セットの強調算出値の取得に際して、上記条件1〜条件4が成立する場合の例をそれぞれ示す。
After performing the above calculation, the stain defect enhancement filter selects the minimum value among the values of F1 to F16, and sets the value as the stain defect enhancement value of the target pixel O.
Here, FIG. 4 and FIG. 5 to FIG. 10 respectively show examples in which the above-described conditions 1 to 4 are satisfied in acquiring the emphasis calculation value of each set.

〔条件1が成立する場合〕
条件1は、前述のように、輝度比較画素S1〜S32において、セットの2つの輝度比較画素の輝度値がいずれもMinLevelおよびMaxLevelで規定される輝度範囲内であるときに成立する。図4、図5には、全てのセットで条件1が成立する場合の例を示した。
図4に示すように、輝度比較画素S1〜S32で囲まれたエリア内に欠陥が存在しない場合、対象画素Oの輝度値と各輝度比較画素S1〜S32の輝度値とは殆ど差が無い状態になる。従って、条件1の場合の式3により、セットの2つの輝度比較画素の輝度値平均値となる上記F1〜F16は、いずれも小さな値になる。
[When Condition 1 is met]
Condition 1 is satisfied when the luminance values of the two luminance comparison pixels in the set are both within the luminance range defined by MinLevel and MaxLevel in the luminance comparison pixels S1 to S32 as described above. 4 and 5 show examples in which the condition 1 is satisfied in all sets.
As shown in FIG. 4, when there is no defect in the area surrounded by the luminance comparison pixels S1 to S32, there is almost no difference between the luminance value of the target pixel O and the luminance values of the luminance comparison pixels S1 to S32. become. Therefore, according to Expression 3 in the case of Condition 1, the above F1 to F16, which are the average luminance values of the two luminance comparison pixels in the set, are all small values.

一方、図5は、輝度比較画素S1〜S32で囲まれたエリア内に他の部分に比べて明るい白シミ欠陥70が存在し、かつ対象画素Oがその白シミ欠陥70の一部である状態を示す。図5では、対象画素Oに比べて各輝度比較画素S1〜S32の輝度値が低いため、上記F1からF16はいずれも、シミ欠陥が無い場合に比べて大きな値になる。
すなわち、図5のように輝度比較画素S1〜S32で囲まれたエリア内にシミ欠陥70が存在する場合には、上記F1からF16はいずれも比較的大きな値になる。一方、シミ欠陥が存在しない図4の場合、上記F1からF16は小さな値になる。
On the other hand, FIG. 5 shows a state in which a white spot defect 70 brighter than other parts is present in the area surrounded by the luminance comparison pixels S1 to S32 and the target pixel O is a part of the white spot defect 70. Indicates. In FIG. 5, since the luminance values of the luminance comparison pixels S1 to S32 are lower than those of the target pixel O, all of F1 to F16 are larger than those in the case where there is no spot defect.
That is, when the spot defect 70 exists in the area surrounded by the luminance comparison pixels S1 to S32 as shown in FIG. 5, the above F1 to F16 all have relatively large values. On the other hand, in the case of FIG. 4 where there is no spot defect, F1 to F16 are small values.

そして図6は、スジ状欠陥71が存在している状態を示し、例えば、セットとされた輝度比較画素S2,S18の平均輝度値は、スジ状欠陥71に含まれる対象画素Oの輝度値とほぼ同じとなるため、このS2,S18のセットに関しては、対象画素Oとの差が小さくなる。すなわち、F1〜F16の少なくともいずれかが小さな値となる。   FIG. 6 shows a state where the streak-like defect 71 exists. For example, the average brightness value of the set luminance comparison pixels S2 and S18 is the same as the brightness value of the target pixel O included in the streak-like defect 71. Since they are almost the same, the difference from the target pixel O is small with respect to the set of S2 and S18. That is, at least one of F1 to F16 has a small value.

〔条件2または条件3が成立する場合〕
以上では、各輝度比較画素S1〜S32がいずれも輝度範囲内にあり、全てのセットの強調算出値の取得に際して条件1が成立する場合について説明したが、続いて、上記条件2または条件3が成立する例を図7、図8に示す。
[When Condition 2 or Condition 3 is met]
In the above, a case has been described in which each of the luminance comparison pixels S1 to S32 is within the luminance range, and the condition 1 is satisfied when acquiring the enhancement calculation values of all the sets. Subsequently, the above condition 2 or condition 3 is satisfied. An example of this is shown in FIGS.

図7は、一部の輝度比較画素S21〜S29がパネル外側である検査対象領域の周囲領域に含まれている状態を示し、例えば、S5とS21のセットにおける一方の輝度比較画素S21の輝度値が所定輝度範囲から外れているため、これらS5,S21のセットにおける強調算出値(上記F5)を算出する際には、上記条件1〜条件4中、条件2で行う。この場合、上記式4により、所定輝度範囲内である輝度比較画素S5の輝度値と対象画素Oの輝度値との差分(O−S5)を当該セットにおける強調算出値とする。
また、図8は、同じく一部の輝度比較画素S5〜S13がパネル外側である検査対象領域の周囲領域に含まれている状態を示し、例えば、S5とS21のセットにおけるもう一方の輝度比較画素S5の輝度値が所定輝度範囲から外れているため、これらS5,S21のセットにおける強調算出値(上記F5)を算出する際には、上記条件1〜条件4中、条件3で行う。この場合、上記式5により、所定輝度範囲内である輝度比較画素S21の輝度値と対象画素Oの輝度値との差分(O−S21)を当該セットにおける強調算出値とする。
FIG. 7 shows a state in which some of the luminance comparison pixels S21 to S29 are included in the peripheral region of the inspection target region outside the panel. For example, the luminance value of one luminance comparison pixel S21 in the set of S5 and S21 Is out of the predetermined luminance range, the calculation of the emphasis calculation value (F5) in the set of S5 and S21 is performed under Condition 2 among Conditions 1 to 4 above. In this case, according to the above equation 4, the difference (O−S5) between the luminance value of the luminance comparison pixel S5 and the luminance value of the target pixel O within the predetermined luminance range is set as the enhancement calculation value in the set.
FIG. 8 also shows a state in which some of the luminance comparison pixels S5 to S13 are included in the peripheral area of the inspection target area outside the panel. For example, the other luminance comparison pixel in the set of S5 and S21. Since the brightness value of S5 is out of the predetermined brightness range, when calculating the emphasis calculation value (F5) in the set of S5 and S21, the condition 3 is performed among the conditions 1 to 4. In this case, according to the above formula 5, the difference (O−S21) between the luminance value of the luminance comparison pixel S21 and the luminance value of the target pixel O within the predetermined luminance range is set as the enhancement calculation value in the set.

ここで、図7の状態では、検査対象領域の周囲の領域に含まれ所定輝度範囲外である輝度比較画素S21〜S29を用いずに、検査対象領域内の輝度比較画素であるS1〜S20、S30、S31を用いて、対象画素Oの位置の強調算出値を求めており、また、同様に図8の状態では、検査対象領域の周囲の領域に含まれ所定輝度範囲外である輝度比較画素S5〜S13を用いずに、検査対象領域内の輝度比較画素であるS1〜S4,S14〜S32を用いて、対象画素Oの位置の強調算出値を求めている。
すなわち、強調算出値を求めるに際して、検査対象領域の周囲の領域の輝度値の影響を受けることなく強調算出値を求めることが出来るので、図7、図8の状態においても問題なくシミ欠陥を検出することが出来る。
Here, in the state of FIG. 7, the luminance comparison pixels S1 to S20 in the inspection target area are used without using the luminance comparison pixels S21 to S29 included in the surrounding area of the inspection target area and outside the predetermined luminance range. Using S30 and S31, the enhancement calculation value of the position of the target pixel O is obtained. Similarly, in the state of FIG. 8, the luminance comparison pixel included in the area around the inspection target area and outside the predetermined luminance range. The enhancement calculation value of the position of the target pixel O is obtained using S1 to S4 and S14 to S32 that are the luminance comparison pixels in the inspection target area without using S5 to S13.
That is, when calculating the enhancement calculation value, it is possible to obtain the enhancement calculation value without being affected by the luminance value of the area around the inspection target area, so that a spot defect can be detected without any problem even in the states of FIGS. I can do it.

〔条件4が成立する場合〕
そして、図9は、上記条件2または条件3、条件4が成立する例である。一部の輝度比較画素S1〜S5、S21〜S32がパネル外側である検査対象領域の周囲領域に含まれている状態を示し、例えば、S1とS17のセットでは、パネル画像領域である検査対象領域に一方の輝度比較画素S17が存在するので、これらS1,S17のセットにおける強調算出値(上記F1)を算出する際には、上記条件1〜条件4中、条件3で行う。この場合、上記式4により、所定輝度範囲内である輝度比較画素S17の輝度値と対象画素Oの輝度値との差分(O−S17)を当該セットにおける強調算出値とする。
また、同じく図9において、S6とS22のセットでは、一方の輝度比較画素S22の輝度値が所定輝度範囲から外れているため、これらS6,S22のセットにおける強調算出値(上記F6)を算出する際には、上記条件1〜条件4中、条件2で行う。この場合、上記式4により、所定輝度範囲内である輝度比較画素S6の輝度値と対象画素Oの輝度値との差分(O−S6)を当該セットにおける強調算出値とする。
さらに、同じく図9において、S5とS21のセットでは、これらの輝度比較画素の各輝度値が両方とも所定輝度範囲から外れているため、これらS5,S21のセットにおける強調算出値を算出する際には、条件4で行う。この場合、上記式6により、無効値InvalidDataを当該セットにおける強調算出値とする。
以上から、対象画素Oの位置における評価に関し、検査対象領域の周囲の領域の輝度値の影響を受けることなく強調算出値を求めることが出来るので、図9の状態においても問題なくシミ欠陥を検出することが出来る。
[When condition 4 is met]
FIG. 9 is an example in which the above condition 2 or 3 and 4 are satisfied. A state in which some of the luminance comparison pixels S1 to S5 and S21 to S32 are included in the peripheral region of the inspection target region outside the panel is shown. For example, in the set of S1 and S17, the inspection target region which is a panel image region Since one luminance comparison pixel S17 exists in the above-described conditions, the calculation of the enhancement calculation value (F1) in the set of S1 and S17 is performed under Condition 3 among Conditions 1 to 4 above. In this case, the difference (O−S17) between the luminance value of the luminance comparison pixel S17 and the luminance value of the target pixel O within the predetermined luminance range is set as the enhancement calculation value in the set according to the above formula 4.
Similarly, in FIG. 9, in the set of S6 and S22, since the luminance value of one luminance comparison pixel S22 is out of the predetermined luminance range, the enhancement calculation value (F6) in the set of S6 and S22 is calculated. In this case, it is performed under condition 2 out of the above conditions 1 to 4. In this case, the difference (O−S6) between the luminance value of the luminance comparison pixel S6 and the luminance value of the target pixel O within the predetermined luminance range is set as the enhancement calculation value in the set according to the above formula 4.
Furthermore, in FIG. 9, in the set of S5 and S21, since each luminance value of these luminance comparison pixels is out of the predetermined luminance range, when calculating the enhancement calculation value in the set of S5 and S21. Is performed under condition 4. In this case, the invalid value InvalidData is set as the enhancement calculation value in the set according to the above equation 6.
As described above, since the enhancement calculation value can be obtained without being affected by the luminance value of the area around the inspection target area with respect to the evaluation at the position of the target pixel O, the spot defect is detected without any problem even in the state of FIG. I can do it.

さらに、図10は、表示パネル1の画像表示領域の周囲の背景領域など、検査対象領域外にフィルタを適用した状態を示す。本実施形態の表示パネル1の背景領域における輝度範囲は前記のMinLevelおよびMaxLevelで規定される輝度範囲内から外れている。すなわち、各輝度比較画素S1〜S32の各輝度値はいずれもMinLevelおよびMaxLevelで規定される輝度範囲外となっており、全てのセットで条件4が成立する。
ここで、輝度比較画素S1〜S32で囲まれたフィルタ中央部に、シミ欠陥70が存在するが、これは検査対象領域外であり、条件4の判断により、無効値InvalidDataが強調算出値(上記F1など)に設定されており、この図10の状態では全セットの強調算出値がInvalidDataとなっている。このため、検査対象領域外であるシミ欠陥は検出されない。
Further, FIG. 10 shows a state in which a filter is applied outside the inspection target area such as a background area around the image display area of the display panel 1. The luminance range in the background area of the display panel 1 of the present embodiment is out of the luminance range defined by the above MinLevel and MaxLevel. That is, the luminance values of the luminance comparison pixels S1 to S32 are all outside the luminance range defined by MinLevel and MaxLevel, and Condition 4 is satisfied in all sets.
Here, a spot defect 70 is present in the center of the filter surrounded by the luminance comparison pixels S1 to S32, but this is outside the inspection target region. F1 etc.) is set, and in the state of FIG. 10, the enhancement calculation values of all sets are InvalidData. For this reason, a spot defect outside the inspection target area is not detected.

〔対象画素のシミ欠陥強調値の算出〕
上述の図5〜図10の各例において、各セットの強調算出値から算出される対象画素Oのシミ欠陥強調値は、次のようになる。
すなわち、図5のように輝度比較画素S1〜S32で囲まれたエリア内にシミ欠陥70が存在する場合には、上記F1からF16はいずれも比較的大きな値になる。一方、シミ欠陥が存在しない図4の場合や、図6のようにスジ状欠陥71が存在する場合には上記F1からF16の少なくとも1つは小さな値になるので、F1からF16までの最小値を取るシミ欠陥強調値は小さくなり、欠陥は検出されない。
また、一部の輝度比較画素が検査対象領域の周囲領域にある図7、図8の場合でも、上記条件2または条件3を用いることで、検査対象領域の周囲領域の輝度値の影響を受けることなく、対象画素Oの強調算出値を得ることが出来るので、シミ欠陥70が存在すれば上記F1からF16はいずれも比較的大きな値になる。
さらに、一部条件4が成立する図9の場合でも、強調算出値を求める際にInvalidDataを考慮の対象から外して、条件2、条件3により求められた強調算出値の中から最小値を選択すれば、シミ欠陥70が存在するか否かを検出できるので、InvalidDataを外した各強調算出値の中から最小値を各対象画素Oのシミ欠陥強調値として記憶すればよい。
以上をまとめると、前記F1からF16の値でInvalidDataとなっていない強調算出値を選択し、その中から最小値を選択すれば、対象画素Oを含み、かつ、輝度比較画素S1〜S32で囲まれたエリア内に納まるシミ欠陥70が存在するか否かを検出できるので、この最小値を各対象画素のシミ欠陥強調値として記憶すればよい。
[Calculation of spot defect enhancement value for target pixel]
In each example of FIGS. 5 to 10 described above, the spot defect enhancement value of the target pixel O calculated from the enhancement calculation value of each set is as follows.
That is, when the spot defect 70 exists in the area surrounded by the luminance comparison pixels S1 to S32 as shown in FIG. 5, the above F1 to F16 all have relatively large values. On the other hand, in the case of FIG. 4 where no spot defect exists or when the streak-like defect 71 exists as shown in FIG. 6, at least one of the above F1 to F16 becomes a small value, so the minimum value from F1 to F16 The spot defect emphasis value is reduced and no defect is detected.
Further, even in the case of FIGS. 7 and 8 where some of the luminance comparison pixels are in the peripheral region of the inspection target region, the use of Condition 2 or Condition 3 is affected by the luminance value of the peripheral region of the inspection target region. Therefore, the emphasis calculation value of the target pixel O can be obtained. Therefore, if the spot defect 70 exists, all of F1 to F16 are relatively large values.
Further, even in the case of FIG. 9 where the partial condition 4 is satisfied, the InvalidData is excluded from consideration when the calculated calculated value is selected, and the minimum value is selected from the calculated calculated values obtained under the conditions 2 and 3 Then, since it is possible to detect whether or not the spot defect 70 exists, it is only necessary to store the minimum value as the spot defect enhancement value of each target pixel O from among the respective enhancement calculation values from which InvalidData is removed.
To summarize the above, if an emphasized calculation value that is not InvalidData with the values of F1 to F16 is selected and the minimum value is selected from among them, the target pixel O is included and surrounded by the luminance comparison pixels S1 to S32. Since it is possible to detect whether or not there is a spot defect 70 that fits in the specified area, this minimum value may be stored as a spot defect enhancement value for each target pixel.

一方、図10のような場合には対象画素Oのシミ欠陥強調処理を無効にできる。すなわち、少なくとも1つのセットがInvalidDataでなければ、InvalidData以外の、InvalidDataよりも小さい値が強調算出値となるため問題ないが、図10のように全セットの強調算出値がInvalidDataであって、各セットの強調算出値における最小値もInvalidDataとなる場合には、処理中の対象画素Oに関するシミ欠陥強調処理を無効にすればよい。   On the other hand, in the case as shown in FIG. 10, the spot defect enhancement process for the target pixel O can be invalidated. That is, if at least one set is not InvalidData, a value smaller than InvalidData other than InvalidData becomes the emphasis calculation value, but there is no problem. However, as shown in FIG. 10, the emphasis calculation values of all sets are InvalidData, If the minimum value in the set enhancement calculation value is also InvalidData, the stain defect enhancement processing for the target pixel O being processed may be invalidated.

ところで、図4に示す本実施形態のシミ欠陥強調フィルタは、対象画素から上下、左右の輝度比較画素までの距離が6画素分であり、対象画素と他の輝度比較画素との間の距離もおおむね6画素分である。本実施形態のシミ欠陥強調フィルタは、輝度比較画素で囲まれた面積よりも一回り小さい面積のシミ欠陥の抽出に適している。すなわち、シミ欠陥強調フィルタは、各輝度比較画素で囲まれたエリア内の面積に比べて測定対象のシミの面積が大きいと、その輪郭部分のみが強調され、シミ部分全体を強調することができない。従って、対象画素と輝度比較画素間の距離によって検出可能なシミ欠陥のサイズが異なる。このため、以下の説明において、各シミ欠陥強調フィルタにおいて、対象画素と輝度比較画素間の距離がnのものを距離n画素フィルタと呼ぶ。例えば、図4に示すシミ欠陥強調フィルタは、距離6画素フィルタである。   Incidentally, in the spot defect enhancement filter of this embodiment shown in FIG. 4, the distance from the target pixel to the upper and lower, left and right luminance comparison pixels is six pixels, and the distance between the target pixel and the other luminance comparison pixels is also the same. Approximately 6 pixels. The spot defect enhancement filter of the present embodiment is suitable for extracting a spot defect having an area that is slightly smaller than the area surrounded by the luminance comparison pixels. That is, when the area of the measurement target stain is larger than the area within the area surrounded by each luminance comparison pixel, the stain defect enhancement filter emphasizes only the outline portion and cannot emphasize the entire stain portion. . Accordingly, the size of the spot defect that can be detected differs depending on the distance between the target pixel and the luminance comparison pixel. For this reason, in the following description, in each spot defect emphasis filter, a pixel having a distance between the target pixel and the luminance comparison pixel of n is referred to as a distance n pixel filter. For example, the spot defect enhancement filter shown in FIG. 4 is a 6-pixel distance filter.

なお、距離6画素のフィルタでは、16個のセットで2次差分処理を行っているが、この数はフィルタの距離nが変わると変わることになる。
この処理を画面全体に適用することで、シミ欠陥を強調した画像を得ることができる。但し、前述したように、対象画素と輝度比較画素との距離が1種類のフィルタだけでは、様々な欠陥サイズに対応できない。例えば、図4で示す距離6画素フィルタでは、直径11までのサイズのシミ欠陥しか検出できない。このため、本実施形態では、対象画素と輝度比較画素との距離を何段階か変えて処理を行い、様々なサイズのシミ欠陥に対応した強調画像を得るようにしている。
具体的には、距離3、距離6、距離12画素フィルタの3つのフィルタを用いて、シミ欠陥強調処理を行っている。すなわち、距離12画素フィルタを使えば、直径23のシミ欠陥まで検出可能ということになるが、フィルタに対して十分に小さい欠陥では、対象と比較している画素との距離が遠く、正確な結果が出ない。このため、距離3及び距離6画素フィルタを併用し、シミ欠陥検出精度を向上させている。
この処理で3枚のシミ強調画像を得ることができるので、最後にそれぞれの画像の同ポイントの処理結果画素の輝度比較を行い、絶対値が最大となる値をシミ欠陥強調結果とすることで、1枚のシミ強調画像として合成する。
In the filter with a distance of 6 pixels, the secondary difference processing is performed with 16 sets, but this number changes as the filter distance n changes.
By applying this process to the entire screen, it is possible to obtain an image in which a spot defect is emphasized. However, as described above, it is not possible to deal with various defect sizes with only one type of filter having a distance between the target pixel and the luminance comparison pixel. For example, the 6-distance filter shown in FIG. 4 can detect only a spot defect having a size up to 11 in diameter. For this reason, in the present embodiment, processing is performed by changing the distance between the target pixel and the luminance comparison pixel in several stages, and enhanced images corresponding to spot defects of various sizes are obtained.
Specifically, the spot defect emphasis process is performed using three filters of distance 3, distance 6, and distance 12 pixels. In other words, if a 12-pixel filter is used, it is possible to detect a spot defect having a diameter of 23. However, if the defect is sufficiently small compared to the filter, the distance from the pixel being compared with the target is long and an accurate result is obtained. Does not come out. For this reason, the distance 3 and 6 pixel filters are used in combination to improve the spot defect detection accuracy.
Since three stain-enhanced images can be obtained by this processing, the brightness of the processing result pixels at the same point in each image is finally compared, and the value having the maximum absolute value is used as the stain defect enhancement result. The image is synthesized as a single spot-enhanced image.

本実施形態では、白シミ欠陥強調画像と、黒シミ欠陥強調画像とを個別に作成しており、以上では、上記の式3〜式5における減算の向きが示すように、対象画素Oが周りよりも明るい白シミ欠陥強調画像が得られる。
ここで、本実施形態のシミ欠陥強調フィルタにおける黒シミ欠陥の強調処理に際しては、上記条件1〜4を同様に判断するとともに、各条件成立時の各式における減算向きが上記式3〜式6とは逆向きとなる下記式3´〜式6´を適用する。この式の相違だけで、黒シミ欠陥の強調処理は上述した白シミ欠陥の強調処理と同様にして行う。
In the present embodiment, the white spot defect enhanced image and the black spot defect enhanced image are individually created. As described above, as indicated by the subtraction directions in the above formulas 3 to 5, the target pixel O is surrounded. A brighter white spot defect-enhanced image can be obtained.
Here, in black spot defect enhancement processing in the spot defect enhancement filter of the present embodiment, the above conditions 1 to 4 are determined in the same manner, and the subtraction direction in each expression when each condition is satisfied is the above expressions 3 to 6. The following formulas 3 ′ to 6 ′ are applied in the opposite direction. The black spot defect enhancement process is performed in the same manner as the above-described white spot defect enhancement process only by the difference in this equation.

条件1
( MinLevel <= S1 <= MaxLevel ) ∧ ( MinLevel <= S17 <= MaxLevel )
F1 = ( S1 + S17 ) / 2 − O (式3´)
条件2
( MinLevel <= S1 <= MaxLevel ) ∧ ( S17 < MinLevel ∨ S17 > MaxLevel )
F1 = S1 − O (式4´)
条件3
( S1 < MinLevel ∨ S1 > MaxLevel ) ∧ ( MinLevel <= S17 <= MaxLevel )
F1 = S17 − O (式5´)
条件4
( S1 < MinLevel ∨ S1 > MaxLevel ) ∧ ( S17 < MInLevel ∨ S17 > MaxLevel )
F1 = InvalidData (式6´)
Condition 1
(MinLevel <= S1 <= MaxLevel) ∧ (MinLevel <= S17 <= MaxLevel)
F1 = (S1 + S17) / 2 − O (Formula 3 ′)
Condition 2
(MinLevel <= S1 <= MaxLevel) ∧ (S17 <MinLevel ∨ S17> MaxLevel)
F1 = S1 − O (Formula 4´)
Condition 3
(S1 <MinLevel ∨ S1> MaxLevel) ∧ (MinLevel <= S17 <= MaxLevel)
F1 = S17 − O (Formula 5 ′)
Condition 4
(S1 <MinLevel ∨ S1> MaxLevel) ∧ (S17 <MInLevel ∨ S17> MaxLevel)
F1 = InvalidData (Formula 6´)

[4.シミ欠陥強調処理工程における処理]
ここで、本実施形態のシミ欠陥強調処理工程S4の処理、およびそれ以降の処理を説明する。本実施形態では、1/4に縮小された画像に対して3種類のシミ欠陥強調フィルタを適用している。具体的には、距離3,6,12画素フィルタの各シミ欠陥強調フィルタを適用している。そして、距離3,6,12画素フィルタのシミ欠陥強調フィルタの適用結果を合成して合成処理結果を求めている。
ここで、距離の異なる複数のシミ欠陥強調フィルタを用いているのは、前述の通り、様々なサイズのシミ欠陥を検出するためである。すなわち、処理対象画素からの距離が6画素のシミ欠陥強調フィルタのみを用いると、検出できるシミ欠陥のサイズが限定されてしまう(約12画素サイズ近辺のシミ欠陥までしか検出できない)。
そこで、本実施形態では、画面内に存在する様々なサイズのシミ欠陥に対応するため、3画素、6画素、12画素と、3段階に距離を変えて強調処理を行うことにより、様々なサイズのシミ欠陥を強調している。
[4. Processing in the spot defect enhancement processing step]
Here, the process of the spot defect emphasis process step S4 of the present embodiment and the subsequent processes will be described. In this embodiment, three types of spot defect enhancement filters are applied to an image reduced to ¼. Specifically, each spot defect emphasis filter of distance 3, 6, 12 pixel filter is applied. Then, the result of synthesis processing is obtained by synthesizing the application result of the spot defect enhancement filter of the distance 3, 6, 12 pixel filter.
Here, the plurality of spot defect emphasis filters having different distances are used for detecting spot defects of various sizes as described above. That is, if only the stain defect enhancement filter whose distance from the processing target pixel is 6 pixels is used, the size of the stain defect that can be detected is limited (only a stain defect in the vicinity of about 12 pixel size can be detected).
Therefore, in the present embodiment, in order to deal with spot defects of various sizes existing in the screen, the enhancement processing is performed by changing the distance in three steps, that is, three pixels, six pixels, and twelve pixels. Emphasizes spot defects.

また、強調結果を合成処理しているのは、検出精度を向上させるためである。すなわち、それぞれの強調結果からシミ欠陥を抽出して個別に評価した場合、1つのシミ欠陥が3画素と6画素の強調結果に分割されて検出されることがあり、実際のシミ欠陥と強調結果が一致しない場合がある。そこで、結果を一致させるため複数の強調結果を合成することで、分離したシミ欠陥を1つに合成して検出精度を向上させている。   The reason why the enhancement results are combined is to improve detection accuracy. That is, when spot defects are extracted from each enhancement result and evaluated individually, one spot defect may be detected by being divided into enhancement results of 3 pixels and 6 pixels. May not match. Therefore, by combining a plurality of enhancement results to match the results, the separated spot defects are combined into one to improve detection accuracy.

図11に示す疑似シミ欠陥画像に対し、本実施形態のシミ欠陥強調フィルタを適用した結果を図12〜図14に示す。
図11に示す疑似シミ欠陥は、擬似的に作成した白シミ欠陥および黒シミ欠陥である。そして、図11に示す画像を1/4サイズに縮小し、その縮小画像に対して以下の各シミ欠陥強調フィルタを適用した。
The result of applying the spot defect enhancement filter of the present embodiment to the pseudo spot defect image shown in FIG. 11 is shown in FIGS.
The pseudo spot defect shown in FIG. 11 is a white spot defect and a black spot defect that are created in a pseudo manner. Then, the image shown in FIG. 11 was reduced to ¼ size, and the following spot defect enhancement filters were applied to the reduced image.

各シミ欠陥強調フィルタの構成は上述した通りであり、本実施形態では、白シミ欠陥強調と黒シミ欠陥強調とを個別に行う。ここでは、白シミ欠陥強調処理について図12〜図14に示す。
図12には、対象画素と輝度比較画素間の距離が3画素のシミ欠陥強調フィルタ(距離3画素フィルタ)を適用した場合の強調結果を示す。
図13には、対象画素と輝度比較画素間の距離が6画素のシミ欠陥強調フィルタ(距離6画素フィルタ)を適用した場合の強調結果を示す。
図14には、対象画素と輝度比較画素間の距離が12画素のシミ欠陥強調フィルタ(距離12画素フィルタ)を適用した場合の強調結果を示す。
図12〜図14に示すように、各距離のフィルタにより、それぞれのサイズに応じたシミ欠陥が最も強調される。但し、図13,図14に示すように、本実施形態のシミ欠陥強調フィルタは、各フィルタの距離に比べてシミ欠陥がある程度小さくても、そのシミ欠陥を強調することができる。
The configuration of each spot defect emphasis filter is as described above. In this embodiment, white spot defect enhancement and black spot defect enhancement are individually performed. Here, white spot defect enhancement processing is shown in FIGS.
FIG. 12 shows an enhancement result when a stain defect enhancement filter (distance 3 pixel filter) having a distance of 3 pixels between the target pixel and the luminance comparison pixel is applied.
FIG. 13 shows an enhancement result when a stain defect enhancement filter (distance 6 pixel filter) having a distance of 6 pixels between the target pixel and the luminance comparison pixel is applied.
FIG. 14 shows an enhancement result when a stain defect enhancement filter (distance 12 pixel filter) having a distance of 12 pixels between the target pixel and the luminance comparison pixel is applied.
As shown in FIGS. 12 to 14, the spot defect corresponding to each size is most emphasized by the filter of each distance. However, as shown in FIGS. 13 and 14, the spot defect emphasis filter of the present embodiment can emphasize the spot defect even if the spot defect is somewhat smaller than the distance between the filters.

図15には、図12〜図14に示す距離3,6,12画素の各フィルタの強調結果を合成した結果が示されている。また、図16には、黒シミ欠陥について、白シミ欠陥の場合と同様に距離3,6,12画素の各フィルタの強調結果を合成した結果を示した。前述したように式3〜5と式3´〜5´とは減算の向きが反対であるため、これら図15、図16における白色と黒色とは、互いに反転する。
合成処理は、各フィルタの強調結果において、同じ位置の画素のシミ欠陥強調値を比較し、それらの中で絶対値が最大となる値をその合成結果としたものである。
なお、シミ欠陥強調フィルタの距離が、シミ欠陥の大きさに比べて非常に大きい場合、輝度比較画素が他のシミ領域に位置するとそのシミ欠陥に影響されてシミを正しく検出することができない。このため、シミ欠陥強調フィルタは、検出しようとするシミ欠陥の大きさよりも僅かに大きいもの、例えば1〜3画素程度の寸法分、大きいものを用いることが好ましい。
従って、距離3,6,12画素の各フィルタの強調結果を合成するようにすれば、距離3,6,12の各サイズに対応したシミ欠陥が強調されて検出することができる。
FIG. 15 shows the result of synthesizing the enhancement results of the filters of distances 3, 6, and 12 shown in FIGS. FIG. 16 shows the result of combining the enhancement results of the filters with distances of 3, 6, and 12 pixels for the black spot defect as in the case of the white spot defect. As described above, since the subtraction directions of Formulas 3 to 5 and Formulas 3 ′ to 5 ′ are opposite to each other, the white color and the black color in FIGS.
In the synthesis process, the spot defect enhancement values of the pixels at the same position are compared in the enhancement result of each filter, and the value having the maximum absolute value among them is used as the synthesis result.
When the distance of the spot defect emphasis filter is very large compared to the size of the spot defect, if the brightness comparison pixel is located in another spot area, the spot cannot be correctly detected due to the spot defect. For this reason, it is preferable to use a stain defect enhancement filter having a size slightly larger than the size of the stain defect to be detected, for example, a size of about 1 to 3 pixels.
Therefore, if the enhancement results of the filters of the distances 3, 6, and 12 pixels are synthesized, the spot defect corresponding to each size of the distances 3, 6, and 12 can be enhanced and detected.

次に、ノイズ除去手段65は、前記シミ欠陥強調処理工程S4の結果に対して、メディアンフィルタを掛けて、ノイズにより分離している欠陥成分をつなげて平滑化し、シミ欠陥以外のノイズを除去するノイズ除去処理工程を実施する(S5)。メディアンフィルタとしては、例えば3×3の9画素の各輝度値のメディアン値(中央値)を3×3の中心に位置する対象画素の輝度値とするようなメディアンフィルタを利用すればよい。   Next, the noise removing means 65 applies a median filter to the result of the spot defect enhancement processing step S4 to connect and smooth the defect components separated by the noise, and removes noise other than the spot defect. A noise removal process is performed (S5). As the median filter, for example, a median filter may be used in which the median value (median value) of each luminance value of 9 pixels of 3 × 3 is used as the luminance value of the target pixel located at the center of 3 × 3.

次に、シミ欠陥抽出処理手段66は、前記ノイズ除去処理工程S5の結果に対して、白シミ欠陥を切り出す閾値と、黒シミ欠陥を切り出す閾値を設定し、各シミ欠陥候補の領域を切り出すシミ欠陥抽出工程を実施する(S6)。ここで、各閾値は、画像の状況に合わせて最適な値を設定すればよい。例えば、シミ欠陥強調画像(合成画像)のシミ強調値(輝度値)の平均値と、その標準偏差を求め、以下の式9、式10で閾値を設定する。
白シミ欠陥閾値 wslevel=avr+α1・σ+β1 (式9)
黒シミ欠陥閾値 bslevel=avr+α2・σ+β2 (式10)
ここで、avrは合成画像の平均値、σは合成画像の標準偏差、α1,α2,β1,β2は任意の数で検査対象となる画像の状況で適宜決定される。
Next, the spot defect extraction processing unit 66 sets a threshold value for cutting out a white spot defect and a threshold value for cutting out a black spot defect with respect to the result of the noise removal processing step S5, and sets a spot for extracting each spot defect candidate area. A defect extraction step is performed (S6). Here, each threshold value may be set to an optimum value according to the situation of the image. For example, the average value of the spot emphasis value (luminance value) and the standard deviation of the spot defect emphasis image (composite image) are obtained, and the threshold value is set by the following equations 9 and 10.
White spot defect threshold wslevel = avr + α1 · σ + β1 (Formula 9)
Black spot defect threshold bslevel = avr + α2 · σ + β2 (Formula 10)
Here, avr is an average value of the composite image, σ is a standard deviation of the composite image, α1, α2, β1, and β2 are arbitrarily determined depending on the situation of the image to be inspected.

ここで、α1を3、β1を0に設定して計算した白シミ欠陥閾値で、図15の合成画像を2値化した結果を、図17に示す。図17は白シミ欠陥閾値で切り出した白シミ欠陥候補である。図17において白く表示された領域が、切り出されたシミ欠陥候補の領域である。また、同様に、α2を3、β2を0に設定して計算した黒シミ欠陥閾値で、図16の合成画像を2値化した結果を、図18に示す。図18は黒シミ欠陥閾値で切り出した黒シミ欠陥候補である。図18において白く表示された領域が、切り出されたシミ欠陥候補の領域である。   Here, FIG. 17 shows the result of binarizing the composite image of FIG. 15 with the white spot defect threshold value calculated by setting α1 to 3 and β1 to 0. FIG. 17 shows white spot defect candidates cut out with the white spot defect threshold. The area displayed in white in FIG. 17 is the area of the spot defect candidate cut out. Similarly, FIG. 18 shows the result of binarizing the composite image of FIG. 16 with the black spot defect threshold value calculated by setting α2 to 3 and β2 to 0. FIG. 18 shows black spot defect candidates cut out with the black spot defect threshold. The area displayed in white in FIG. 18 is the area of the spot defect candidate cut out.

次に、blob処理手段67は、白シミ欠陥候補画像と、黒シミ欠陥候補画像に対し、欠陥候補として切り出した領域の面積と、平均輝度を求めるblob処理工程を実施する(S7)。
次に、欠陥ランク分類処理手段68は、算出された欠陥候補領域の面積および平均輝度により、その画像におけるシミ欠陥のランクを分類する欠陥ランク分類工程を実施する(S8)。
欠陥ランク分類処理手段68で求められた欠陥ランクは、表示装置7に表示され、検査員は検査対象の表示パネル1の欠陥ランクを容易に把握することができる。
従って、本実施形態では、ノイズ除去処理工程S5、シミ欠陥抽出工程S6、blob処理工程S7、欠陥ランク分類工程S8により、シミ欠陥検出工程が構成されている。
Next, the blob processing means 67 performs a blob processing step for obtaining the area and the average luminance of the area cut out as the defect candidate for the white spot defect candidate image and the black spot defect candidate image (S7).
Next, the defect rank classification processing unit 68 performs a defect rank classification step of classifying the rank of the spot defect in the image based on the calculated area and average luminance of the defect candidate area (S8).
The defect rank obtained by the defect rank classification processing unit 68 is displayed on the display device 7, and the inspector can easily grasp the defect rank of the display panel 1 to be inspected.
Therefore, in the present embodiment, the stain defect detection step S5, the stain defect extraction step S6, the blob processing step S7, and the defect rank classification step S8 constitute a stain defect detection step.

[5.本実施形態による効果]
本実施形態によれば、次のような効果がある。
(1)シミ欠陥強調処理手段64は、対象画素Oから所定距離離れて、かつ、対象画素Oの周囲に配置された輝度比較画素S1〜S32の輝度値に基づいてシミ欠陥を強調するシミ欠陥強調フィルタを用いているので、例えば、輝度比較画素S1〜S32を対象画素Oに対して上下左右のみに配置した場合に比べて、面状に広がるシミを確実に検出することができる。
また、シミ欠陥強調フィルタは、各輝度比較画素S1〜S32を、対象画素Oを挟んで点対称位置に配置された2つの画素毎のセットに分け、条件1成立時には、対象画素Oの輝度値と各セットの2つの輝度比較画素の平均輝度値との差の値(強調算出値)を求め、各セットの差の値のうち、最小となるものを選択してシミ欠陥強調値としている。このため、スジ状欠陥がある場合や、輝度比較画素の一部が欠陥に含まれている場合には、シミ欠陥強調値が小さくなり、輝度比較画素で囲まれたエリア内にシミ欠陥が納まっている場合のみシミ欠陥強調値が大きくなり、シミ欠陥強調値を所定の閾値と比較することで、スジ状欠陥などを排除できるので、シミ欠陥のみを高精度に検出することができる。
[5. Effects of this embodiment]
According to this embodiment, there are the following effects.
(1) The spot defect enhancement processing unit 64 emphasizes the spot defect based on the luminance values of the luminance comparison pixels S1 to S32 that are separated from the target pixel O by a predetermined distance and are arranged around the target pixel O. Since the emphasis filter is used, for example, compared to the case where the luminance comparison pixels S <b> 1 to S <b> 32 are arranged only in the vertical and horizontal directions with respect to the target pixel O, it is possible to reliably detect a spot spreading in a planar shape.
In addition, the spot defect enhancement filter divides each luminance comparison pixel S1 to S32 into a set of two pixels arranged at point-symmetric positions with the target pixel O in between, and when the condition 1 is satisfied, the luminance value of the target pixel O The difference value (enhancement calculation value) between the average luminance value of the two luminance comparison pixels of each set is obtained, and the smallest value among the difference values of each set is selected as the stain defect enhancement value. For this reason, when there is a streak-like defect or when a part of the brightness comparison pixel is included in the defect, the spot defect enhancement value becomes small and the spot defect is contained in the area surrounded by the brightness comparison pixel. The spot defect enhancement value is increased only when the defect is detected, and by comparing the stain defect enhancement value with a predetermined threshold value, it is possible to eliminate streak defects and the like, so that only the stain defect can be detected with high accuracy.

(2)そして特に、シミ強調処理上、検査対象領域内における輝度範囲(所定輝度範囲)をMinLevelおよびMaxLevelに基づいて設定しており、各セットの2つの輝度比較画素S1〜S32それぞれがこの輝度範囲内であるか否かを第1条件〜第4条件で判断している。すなわち、各種の表示パネル1の表示画像それぞれの表示特性等に応じて、所定輝度範囲を任意に設定可能であるため、広範な種類の表示画像の欠陥検査に対応できる。 (2) In particular, a luminance range (predetermined luminance range) in the inspection target region is set based on MinLevel and MaxLevel in the spot enhancement process, and each of the two luminance comparison pixels S1 to S32 in each set has this luminance. Whether or not it is within the range is determined by the first condition to the fourth condition. That is, since the predetermined luminance range can be arbitrarily set according to the display characteristics of each display image of the various display panels 1, it is possible to deal with a wide variety of display image defect inspections.

ここで、対象画素Oのシミ欠陥強調処理に際して、その対象画素Oの輝度値が前記の所定輝度範囲内にあるか否かを判断するのではなく、その対象画素Oの周りの輝度比較画素S1〜S32の輝度値が所定輝度範囲内にあるか否かを判断しているため、所定輝度範囲から外れた白シミや黒シミが存在する対象画素Oを確実に強調できる。   Here, in the spot defect enhancement processing for the target pixel O, it is not determined whether the luminance value of the target pixel O is within the predetermined luminance range, but the luminance comparison pixels S1 around the target pixel O. Since it is determined whether or not the luminance values of .about.S32 are within the predetermined luminance range, it is possible to reliably emphasize the target pixel O in which white spots and black spots outside the predetermined luminance range exist.

また、第2、第3条件により、セットの2つの輝度比較画素S1〜S32の片方のみが所定輝度範囲内である場合は、その所定輝度範囲内にある片方の輝度比較画素S1〜S32と対象画素Oとの輝度差を強調算出値として、もう片方の輝度比較画素S1〜S32の輝度値はシミ欠陥強調に際して加味しないので、一方の輝度比較画素S1〜S32が検査対象領域内、他方の輝度比較画素S1〜S32が検査対象領域外となった場合、対象画素Oにシミ欠陥が無いにも関わらず、当該対象画素Oに対してシミ欠陥強調処理がされることを防止できる。   In addition, when only one of the two luminance comparison pixels S1 to S32 in the set is within the predetermined luminance range due to the second and third conditions, the luminance comparison pixels S1 to S32 within the predetermined luminance range and the target Since the luminance value of the other luminance comparison pixels S1 to S32 is not taken into account when enhancing the spot defect using the luminance difference from the pixel O as an enhancement calculation value, one luminance comparison pixel S1 to S32 is included in the inspection target region and the other luminance. When the comparison pixels S1 to S32 are outside the inspection target region, it is possible to prevent the target pixel O from being subjected to the spot defect enhancement process even though the target pixel O has no spot defect.

(3)さらに、シミ欠陥強調における無効条件として条件4を設け、この条件4が成立する場合には、強調算出値を無効値InvalidDataとするので(式6)、強調算出値のうち最小値として求めるシミ欠陥強調値に影響を及ぼさない。 (3) Furthermore, condition 4 is provided as an invalid condition for spot defect enhancement, and when this condition 4 is satisfied, the enhancement calculation value is the invalid value InvalidData (Equation 6). Does not affect the required spot defect enhancement value.

(4)白シミ欠陥強調画像(図15)と、黒シミ欠陥強調画像(図16)とをそれぞれ作成して、これらの強調画像から白シミ欠陥、黒シミ欠陥それぞれの閾値(式9、式10)により、シミ欠陥を切り出している。このことにより、シミの外縁部で白シミと黒シミとが反転するなどの不具合が生じず、シミ欠陥検出の精度をより一層向上させることができる。 (4) A white spot defect-enhanced image (FIG. 15) and a black spot defect-enhanced image (FIG. 16) are created, and the threshold values (Equation 9 and Eq. 10), spot defects are cut out. As a result, a defect such as a white stain and a black stain being reversed at the outer edge of the stain does not occur, and the accuracy of spot defect detection can be further improved.

(5)本実施形態では、対象画素Oを挟んで点対称の位置に配置された2つの輝度比較画素の輝度値における平均値を求めているので、背景のシェーディングの影響を軽減でき、シミ欠陥をより高精度に検出することができる。すなわち、対象画素Oを挟んで点対称の位置に配置された2つの輝度比較画素の一方は、背景のシェーディングの影響によって、輝度値が高くなり、他方は小さくなることが多い。従って、これらの2つの輝度比較画素の平均輝度値を求めることでシェーディングの影響を平滑化でき、シミ欠陥をより高精度に検出することができる。 (5) In this embodiment, since the average value of the luminance values of two luminance comparison pixels arranged at point-symmetric positions with respect to the target pixel O is obtained, the influence of background shading can be reduced, and a spot defect Can be detected with higher accuracy. That is, one of the two luminance comparison pixels arranged at a point-symmetrical position across the target pixel O often has a high luminance value due to the influence of background shading, and the other is often small. Therefore, the influence of shading can be smoothed by obtaining the average luminance value of these two luminance comparison pixels, and a spot defect can be detected with higher accuracy.

(6)さらに、シミ欠陥強調フィルタは、対象画素と輝度比較画素の距離に応じて適宜設定することで、そのフィルタによって検出可能なシミ欠陥の大きさを設定できるので、検出したいサイズのシミ欠陥を容易に検出できる。
その上、各シミ欠陥のサイズに応じた複数のシミ欠陥強調フィルタを適用した場合も、それらの強調結果の合成結果のみを評価することで各サイズのシミ欠陥を容易に検出することができる。
(6) Furthermore, since the spot defect enhancement filter can be set appropriately according to the distance between the target pixel and the luminance comparison pixel, the size of the spot defect that can be detected by the filter can be set. Can be easily detected.
Moreover, even when a plurality of spot defect emphasis filters corresponding to the size of each spot defect are applied, it is possible to easily detect a spot defect of each size by evaluating only the synthesis result of the enhancement results.

(7)本実施形態では、シミ欠陥強調値は、対象画素の輝度値と、輝度比較画素の輝度平均値とで算出され、対象画素および輝度比較画素間にある画素の輝度値は利用されていない。このため、シミ欠陥が、輝度比較画素で囲まれるエリアよりも小さく、かつ対象画素を含むものであれば、シミ欠陥のサイズがある程度変化しても、従来の検査員の目視による判定と同様にシミ欠陥を検出できる。このため、フィルタの距離サイズはあまり細かく設定する必要が無く、その分、フィルタ数を少なくでき、検査時間も短縮できる。 (7) In the present embodiment, the spot defect enhancement value is calculated from the luminance value of the target pixel and the average luminance value of the luminance comparison pixel, and the luminance value of the pixel between the target pixel and the luminance comparison pixel is used. Absent. For this reason, as long as the spot defect is smaller than the area surrounded by the luminance comparison pixels and includes the target pixel, even if the spot defect size changes to some extent, it is the same as the conventional visual inspection of the inspector. Spot defects can be detected. For this reason, it is not necessary to set the filter distance size very finely, and accordingly, the number of filters can be reduced and the inspection time can be shortened.

〔本発明の変形例〕
なお、本発明は、前記実施形態に限らない。
例えば、前記実施形態では、第1条件が成立する場合には、セットの各輝度比較画素の平均輝度値と対象画素Oの輝度値との差分を当該セットの強調算出値としていたが、これに限らず、第1差分、第2差分のうち小さい方の値を当該セットの強調算出値としてもよい。このように第1、第2差分のより小さい値を強調算出値として、各セットの強調算出値の最小値(或いは絶対値の最小値)をシミ欠陥強調値とすることによっても、フィルタに囲まれたエリアに納まるシミ欠陥を問題なく強調できる。
[Modification of the present invention]
The present invention is not limited to the above embodiment.
For example, in the embodiment, when the first condition is satisfied, the difference between the average luminance value of each luminance comparison pixel in the set and the luminance value of the target pixel O is used as the enhancement calculation value of the set. Not limited to this, the smaller one of the first difference and the second difference may be used as the enhancement calculation value of the set. As described above, the smaller value of the first and second differences is used as the enhancement calculation value, and the minimum value (or the absolute minimum value) of the enhancement calculation value of each set is used as the spot defect enhancement value. Spot defects that fit in the designated area can be emphasized without problems.

前記実施形態では、様々なシミ欠陥サイズに対応するために、対象画素および輝度比較画素間の距離が異なる複数種類のシミ欠陥強調フィルタを利用していたが、縮小画像作成手段63において検査対象となる画像を複数段階に縮小し、縮小サイズが異なる各画像に対して所定のシミ欠陥強調フィルタをそれぞれ適用することで、様々なサイズのシミ欠陥を検出するようにしてもよい。
また、検出対象とするシミ欠陥のサイズによっては、画像縮小処理やフィルタサイズの変更を行わず、1種類のフィルタのみで処理を行ってもよい。
In the embodiment, in order to cope with various spot defect sizes, a plurality of kinds of spot defect enhancement filters having different distances between the target pixel and the luminance comparison pixel are used. The resulting image may be reduced in a plurality of stages, and a predetermined spot defect emphasis filter may be applied to each image having a different reduction size to detect spot defects of various sizes.
Further, depending on the size of the spot defect to be detected, the image reduction process or the filter size change may not be performed, and the process may be performed using only one type of filter.

前記実施形態では、白シミ欠陥用および黒シミ欠陥用の各閾値を設定し、白シミ欠陥および黒シミ欠陥の両方を検出できるようにしていたが、一方の欠陥のみを検出してもよい。例えば、白シミ欠陥のみを検出すればよい場合には、黒シミ欠陥用閾値との比較処理を行わずに処理してもよい。   In the above embodiment, the threshold values for white spot defect and black spot defect are set so that both the white spot defect and the black spot defect can be detected. However, only one defect may be detected. For example, when only white spot defects need to be detected, processing may be performed without performing comparison processing with the black spot defect threshold.

さらに、本発明は、シミ欠陥強調処理手段64によるシミ欠陥強調処理工程S4の前に、背景画像差分処理工程S2を行っていたが、この処理は撮影された画像の状態によっては実施しなくてもよい。同様に、縮小画像作成手段63による縮小画像作成工程S3も、検出するシミのサイズによっては実施しなくてもよい。また、ノイズ除去手段65によるノイズ除去処理工程S5も画像の状態が良ければ実施しなくてもよい。
なお、前記実施形態では、検査対象領域などを周りの領域などから切り出したり、歪んだ検査対象領域の形状を補正する処理を実施しなかったが、必要に応じてこのような処理を適宜実施しても構わない。このような処理としては、例えば、撮像画像の四隅の座標をパターンマッチング処理により検出し、この四隅の座標の位置関係が長方形になるようにアフィン変換することなどが挙げられる。
Furthermore, in the present invention, the background image difference processing step S2 is performed before the stain defect enhancement processing step S4 by the stain defect enhancement processing means 64. However, this processing may not be performed depending on the state of the photographed image. Also good. Similarly, the reduced image creating step S3 by the reduced image creating means 63 may not be performed depending on the size of the spot to be detected. Further, the noise removal processing step S5 by the noise removing means 65 may not be performed if the image state is good.
In the above embodiment, the inspection target area or the like is not cut out from the surrounding area or the like, or the process of correcting the shape of the distorted inspection target area is not performed. However, such a process is appropriately performed as necessary. It doesn't matter. As such processing, for example, the coordinates of the four corners of the captured image are detected by pattern matching processing, and affine transformation is performed so that the positional relationship of the coordinates of the four corners becomes a rectangle.

また、前記実施形態では、シミ欠陥検出工程として、ノイズ除去処理工程S5、シミ欠陥抽出処理工程S6、blob処理工程S7、欠陥ランク分類工程S8を実施していたが、他の方法・手順でシミ欠陥を検出してもよい。要するに、シミ欠陥検出工程は、シミ欠陥強調処理工程S4で強調されたシミ欠陥に基づいてそれがシミ欠陥に該当するか否かを判断できるものであればよい。   In the above embodiment, the noise removal processing step S5, the stain defect extraction processing step S6, the blob processing step S7, and the defect rank classification step S8 are performed as the stain defect detection step. A defect may be detected. In short, the spot defect detection process may be any process that can determine whether or not it corresponds to a spot defect based on the spot defect emphasized in the spot defect enhancement processing step S4.

前記実施形態では、複数のシミ欠陥強調フィルタを適用した場合には、各フィルタの結果を合成して判断していたが、各フィルタの結果毎にシミ欠陥があるか否かを別個に判断してもよい。但し、合成結果に基づいて判断したほうが、シミ欠陥を効率的に検出することができる。   In the above embodiment, when a plurality of spot defect emphasis filters are applied, the results of the filters are combined and determined. However, it is determined separately for each filter result whether there is a spot defect. May be. However, it is possible to detect a spot defect more efficiently by judging based on the synthesis result.

シミ欠陥の検出対象としては、TFT素子を用いた液晶ライトバルブに限られるものではなく、その他のダイオード素子を用いた液晶パネルやプラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ、DMD(ダイレクト・ミラー・デバイス)などの表示体部品、ならびにそれらを使用した表示装置・製品の検査に利用することができるものであり、これらに使用した場合でも本発明の範囲から除外されるものでないことはいうまでもない。
さらに、本発明は、各種表示装置の検査に限らず、例えば、印刷物、家電製品のケースや車のボディなどにシミ状の傷がある場合、これらを撮像してシミ状の欠陥がある画像が得られればそのシミを検出できるので、各種製品の表面塗装や印刷物などのシミ検査に応用することもできる。
要するに、本発明は、周囲と輝度差があるシミであれば検出できるため、輝度シミ欠陥や色シミ欠陥の検出に利用できる。
Spots for detecting spot defects are not limited to liquid crystal light valves using TFT elements, but include liquid crystal panels using other diode elements, plasma displays, organic EL displays, DMD (direct mirror device), etc. Needless to say, the present invention can be used for inspection of display body parts and display devices / products using them, and even when used for these, they are not excluded from the scope of the present invention.
Furthermore, the present invention is not limited to the inspection of various display devices. For example, when there are spot-like scratches on a printed matter, a case of a household electrical appliance, a car body, or the like, an image with a spot-like defect is picked up. If it is obtained, the stain can be detected, so that it can also be applied to stain inspection of various products such as surface coating and printed matter.
In short, the present invention can be used to detect a brightness spot defect or a color spot defect because it can detect any spot having a brightness difference from the surroundings.

本発明を実施するための最良の構成、方法などは、以上の記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示され、かつ、説明されているが、本発明の技術的思想および目的の範囲から逸脱することなく、以上述べた実施形態に対し、形状、材質、数量、その他の詳細な構成において、当業者が様々な変形を加えることができるものである。
したがって、上記に開示した形状、材質などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状、材質などの限定の一部もしくは全部の限定を外した部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
Although the best configuration, method and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, the present invention is not limited to this. That is, the invention has been illustrated and described primarily with respect to particular embodiments, but may be configured for the above-described embodiments without departing from the scope and spirit of the invention. Various modifications can be made by those skilled in the art in terms of materials, quantity, and other detailed configurations.
Therefore, the description limited to the shape, material, etc. disclosed above is an example for easy understanding of the present invention, and does not limit the present invention. The description by the name of the member which remove | excluded the limitation of one part or all of such restrictions is included in this invention.

本発明の第1実施形態による画面のシミ欠陥検出装置のブロック構成図。1 is a block configuration diagram of a screen spot defect detection device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 同シミ欠陥検出装置の動作を説明するためのフローチャート。The flowchart for demonstrating operation | movement of the said spot defect detection apparatus. 同シミ欠陥検出装置の背景画像差分処理を示す説明図。Explanatory drawing which shows the background image difference process of the same spot defect detection apparatus. シミ欠陥強調フィルタの例を示す図。The figure which shows the example of a spot defect emphasis filter. 条件1が成立する場合で、かつシミ欠陥強調フィルタで検出されるシミ欠陥の例を示す図。The figure which shows the example of the spot defect detected by the spot defect emphasis filter when the condition 1 is satisfied. シミ欠陥強調フィルタで検出されないスジ状欠陥の例を示す図。The figure which shows the example of the stripe-shaped defect which is not detected with a spot defect emphasis filter. 条件2が成立する場合で、シミ欠陥強調フィルタで検出されるシミ欠陥の例を示す図。The figure which shows the example of the spot defect detected by the spot defect emphasis filter when the condition 2 is satisfied. 条件3が成立する場合で、シミ欠陥強調フィルタで検出されるシミ欠陥の例を示す図。The figure which shows the example of the spot defect detected by the spot defect emphasis filter when the condition 3 is satisfied. 条件2、条件3または条件4が成立する場合で、シミ欠陥強調フィルタで検出されるシミ欠陥の例を示す図。The figure which shows the example of the spot defect detected by the spot defect emphasis filter when the condition 2, the condition 3 or the condition 4 is established. 条件4が成立する場合で、シミ欠陥強調フィルタで検出されないシミ状欠陥の例を示す図。The figure which shows the example of the spot-like defect which is not detected by the spot defect emphasis filter when the condition 4 is satisfied. 擬似的な白シミ欠陥および黒シミ欠陥を設けた画像を示す図。The figure which shows the image which provided the pseudo white spot defect and the black spot defect. 距離3画素フィルタを適用した結果を示す図(白シミ欠陥強調処理)。The figure which shows the result of applying a distance 3 pixel filter (white spot defect emphasis process). 距離6画素フィルタを適用した結果を示す図(白シミ欠陥強調処理)。The figure which shows the result of applying a distance 6 pixel filter (white spot defect emphasis process). 距離12画素フィルタを適用した結果を示す図(白シミ欠陥強調処理)。The figure which shows the result of applying a distance 12 pixel filter (white spot defect emphasis process). 距離3,6,12画素フィルタの適用結果を合成した状態を示す図(白シミ欠陥強調処理)。The figure which shows the state which synthesize | combined the application result of the distance 3, 6, and 12 pixel filter (white spot defect emphasis process). 距離3,6,12画素フィルタの適用結果を合成した状態を示す図(黒シミ欠陥強調処理)。The figure which shows the state which synthesize | combined the application result of the distance 3, 6, and 12 pixel filter (black spot defect emphasis process). 合成結果を白シミ欠陥閾値で切り出した白シミ結果候補を示す図。The figure which shows the white spot result candidate which cut out the synthetic | combination result with the white spot defect threshold value. 合成結果を黒シミ欠陥閾値で切り出した黒シミ結果候補を示す図。The figure which shows the black spot result candidate which cut out the synthetic | combination result with the black spot defect threshold value.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・表示パネル、2・・・プロジェクタ、3・・・パターンジェネレータ、4・・・スクリーン、5・・・CCDカメラ、6・・・コンピュータ装置、7・・・表示装置、60・・・画像入力手段、61・・・背景画像差分処理手段、63・・・縮小画像作成手段、64・・・シミ欠陥強調処理手段、65・・・ノイズ除去手段、66・・・シミ欠陥抽出処理手段、67・・・blob処理手段、68・・・欠陥ランク分類処理手段、70・・・シミ欠陥、O・・・対象画素、S1〜S32・・・輝度比較画素。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Display panel, 2 ... Projector, 3 ... Pattern generator, 4 ... Screen, 5 ... CCD camera, 6 ... Computer apparatus, 7 ... Display apparatus, 60 ... Image input means, 61 ... background image difference processing means, 63 ... reduced image creation means, 64 ... stain defect enhancement processing means, 65 ... noise removal means, 66 ... stain defect extraction processing Means, 67... Blob processing means, 68... Defect rank classification processing means, 70... Spot defect, O... Target pixel, S1 to S32.

Claims (3)

撮像した画像の各画素に対してシミ欠陥強調フィルタをかけてシミ欠陥を強調するシミ欠陥強調処理工程と、
前記シミ欠陥強調処理工程で得られた各画素のシミ欠陥強調値に基づいてシミ欠陥を検出するシミ欠陥検出工程とを有し、
前記シミ欠陥強調処理工程は、
撮像画像において選択された対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された各輝度比較画素を、前記対象画素を挟んで対称位置に配置された2つの輝度比較画素毎のセットに分け、
各セットそれぞれについて、当該セットの2つの輝度比較画素の一方の輝度値を第1輝度値として、他方の輝度値を第2輝度値として、それぞれ求め、
所定の検査対象領域の輝度に応じた所定輝度範囲の最小輝度が設定される最小設定値、および前記所定輝度範囲の最大輝度が設定される最大設定値それぞれと前記第1輝度値との比較結果、と、前記最小設定値および前記最大設定値それぞれと前記第2輝度値との比較結果、とに基づいて、
前記第1輝度値および前記第2輝度値の両方が前記所定輝度範囲内にあるときに成立する第1条件と、前記第1輝度値が前記所定輝度範囲内で且つ前記第2輝度値が前記所定輝度範囲外であるときに成立する第2条件と、前記第1輝度値が前記所定輝度範囲外で且つ前記第2輝度値が前記所定輝度範囲内であるときに成立する第3条件とを含む複数の条件を設定し、
前記第1条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第1輝度値および前記第2輝度値の平均値との差の値を強調算出値とし、
前記第2条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第1輝度値との差の値を前記強調算出値とし、
前記第3条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第2輝度値との差の値を前記強調算出値とし、
各セットの前記強調算出値のうち、最小値を対象画素のシミ欠陥強調値とするシミ欠陥強調フィルタを用いてシミ欠陥を強調し、
前記シミ欠陥検出工程は、前記各画素のシミ欠陥強調値を所定の閾値と比較してシミ欠陥候補の画素を抽出してシミ欠陥を検出することを特徴とするシミ欠陥検出方法。
A stain defect enhancement processing step of emphasizing a stain defect by applying a stain defect enhancement filter to each pixel of the captured image;
A stain defect detection step of detecting a stain defect based on a stain defect enhancement value of each pixel obtained in the stain defect enhancement processing step;
The spot defect emphasis processing step includes
Divide each luminance comparison pixel arranged at a predetermined distance from the selected target pixel in the captured image and around the target pixel into a set of two luminance comparison pixels arranged at symmetrical positions with the target pixel in between. ,
For each set, obtain one luminance value of the two luminance comparison pixels of the set as the first luminance value and the other luminance value as the second luminance value, respectively.
Comparison result between each of the first setting and the minimum setting value for setting the minimum luminance in the predetermined luminance range according to the luminance of the predetermined inspection target area and the maximum setting value for setting the maximum luminance in the predetermined luminance range. , And a comparison result between each of the minimum setting value and the maximum setting value and the second luminance value,
A first condition that is established when both the first luminance value and the second luminance value are within the predetermined luminance range; and the first luminance value is within the predetermined luminance range and the second luminance value is A second condition that is satisfied when the luminance value is outside the predetermined luminance range; and a third condition that is satisfied when the first luminance value is outside the predetermined luminance range and the second luminance value is within the predetermined luminance range. Set multiple conditions including
When the first condition is satisfied, a difference value between the luminance value of the target pixel and the average value of the first luminance value and the second luminance value is set as an enhancement calculation value,
When the second condition is satisfied, a difference value between the luminance value of the target pixel and the first luminance value is set as the enhancement calculation value,
When the third condition is satisfied, a difference value between the luminance value of the target pixel and the second luminance value is set as the enhancement calculation value,
Emphasizes a spot defect using a spot defect enhancement filter that uses the minimum value of the enhancement calculation values of each set as a spot defect enhancement value of the target pixel,
The spot defect detection step is characterized by detecting a spot defect by extracting a spot defect candidate pixel by comparing the spot defect enhancement value of each pixel with a predetermined threshold value.
請求項1に記載のシミ欠陥検出方法において、
前記複数の条件に、前記第1輝度値および前記第2輝度値の両方が前記所定輝度範囲外のときに成立する第4条件を含め、
前記第4条件が成立する場合には、前記対象画素と前記各輝度比較画素との輝度差が取り得る値と判別可能な所定の無効値を前記強調算出値とすることを特徴とするシミ欠陥検出方法。
In the spot defect detection method according to claim 1,
The plurality of conditions include a fourth condition that is established when both the first luminance value and the second luminance value are outside the predetermined luminance range,
When the fourth condition is satisfied, a predetermined invalid value that can be distinguished from a value that can be taken by a luminance difference between the target pixel and each luminance comparison pixel is used as the enhancement calculation value. Detection method.
撮像した画像の各画素に対してシミ欠陥強調フィルタをかけてシミ欠陥を強調するシミ欠陥強調処理手段と、
前記シミ欠陥強調処理手段で得られた各画素のシミ欠陥強調値に基づいてシミ欠陥を検出するシミ欠陥検出手段とを有し、
前記シミ欠陥強調処理手段は、
撮像画像において選択された対象画素から所定距離離れてかつ対象画素の周囲に配置された各輝度比較画素を、前記対象画素を挟んで対称位置に配置された2つの輝度比較画素毎のセットに分け、
各セットそれぞれについて、当該セットの2つの輝度比較画素の一方の輝度値を第1輝度値として、他方の輝度値を第2輝度値として、それぞれ求め、
所定の検査対象領域の輝度に応じた所定輝度範囲の最小輝度が設定される最小設定値、および前記所定輝度範囲の最大輝度が設定される最大設定値それぞれと前記第1輝度値との比較結果、と、前記最小設定値および前記最大設定値それぞれと前記第2輝度値との比較結果、とに基づいて、
前記第1輝度値および前記第2輝度値の両方が前記所定輝度範囲内にあるときに成立する第1条件と、前記第1輝度値が前記所定輝度範囲内で且つ前記第2輝度値が前記所定輝度範囲外であるときに成立する第2条件と、前記第1輝度値が前記所定輝度範囲外で且つ前記第2輝度値が前記所定輝度範囲内であるときに成立する第3条件とを含む複数の条件を設定し、
前記第1条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第1輝度値および前記第2輝度値の平均値との差の値を強調算出値とし、
前記第2条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第1輝度値との差の値を前記強調算出値とし、
前記第3条件が成立する場合には、前記対象画素の輝度値と前記第2輝度値との差の値を前記強調算出値とし、
各セットの前記強調算出値のうち、最小値を対象画素のシミ欠陥強調値とするシミ欠陥強調フィルタを用いてシミ欠陥を強調し、
前記シミ欠陥検出手段は、前記各画素のシミ欠陥強調値を所定の閾値と比較してシミ欠陥候補の画素を抽出してシミ欠陥を検出することを特徴とするシミ欠陥検出装置。
A stain defect enhancement processing means for emphasizing a stain defect by applying a stain defect enhancement filter to each pixel of the captured image;
Spot defect detection means for detecting a spot defect based on the spot defect enhancement value of each pixel obtained by the spot defect enhancement processing means;
The spot defect emphasis processing means is
Divide each luminance comparison pixel arranged at a predetermined distance from the selected target pixel in the captured image and around the target pixel into a set of two luminance comparison pixels arranged at symmetrical positions with the target pixel in between. ,
For each set, obtain one luminance value of the two luminance comparison pixels of the set as the first luminance value and the other luminance value as the second luminance value, respectively.
Comparison result between each of the first setting and the minimum setting value for setting the minimum luminance in the predetermined luminance range according to the luminance of the predetermined inspection target area and the maximum setting value for setting the maximum luminance in the predetermined luminance range. , And a comparison result between each of the minimum setting value and the maximum setting value and the second luminance value,
A first condition that is established when both the first luminance value and the second luminance value are within the predetermined luminance range; and the first luminance value is within the predetermined luminance range and the second luminance value is A second condition that is satisfied when the luminance value is outside the predetermined luminance range; and a third condition that is satisfied when the first luminance value is outside the predetermined luminance range and the second luminance value is within the predetermined luminance range. Set multiple conditions including
When the first condition is satisfied, a difference value between the luminance value of the target pixel and the average value of the first luminance value and the second luminance value is set as an enhancement calculation value,
When the second condition is satisfied, a difference value between the luminance value of the target pixel and the first luminance value is set as the enhancement calculation value,
When the third condition is satisfied, a difference value between the luminance value of the target pixel and the second luminance value is set as the enhancement calculation value,
Emphasizes a spot defect using a spot defect enhancement filter that uses the minimum value of the enhancement calculation values of each set as a spot defect enhancement value of the target pixel,
The spot defect detection device detects a spot defect by extracting a spot defect candidate pixel by comparing the spot defect enhancement value of each pixel with a predetermined threshold value.
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