JP2007033197A - Method and program for identifying generation source of electromagnetic wave interference signal - Google Patents

Method and program for identifying generation source of electromagnetic wave interference signal Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To identify the generation source of electromagnetic wave interference signal relatively easily in a short time. <P>SOLUTION: The generation source of electromagnetic wave interference signal is identified by collating the characteristics of electromagnetic wave interference signal measured in distance field or a signal corresponding to it with the characteristics of the electromagnetic wave interference signal of the generation signal of each interference signal measured in the vicinity field. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明はデジタル回路を有する電子機器の電磁波妨害信号の発生源を特定するのに適用して好適な電磁波妨害信号の発生源特定方法及びその電磁波妨害信号の発生源特定処理を実行するプログラムに関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave interference signal generation source method suitable for specifying an electromagnetic wave interference signal generation source of an electronic apparatus having a digital circuit, and a program for executing the electromagnetic wave interference signal generation source specifying process.

デジタル回路を有する多くの電子機器において、CPU、バス及び外部メモリ等を駆動するためのクロック発振回路等から放射される電磁波は、他の電子機器等の機能を妨害する電磁波妨害信号(EMI:Electro-magnetic Interference)の原因となり得ることから、米国規格協会(ANSI:American National Standards Institute)および国際無線障害特別委員会(The International special committee on Radio Interference:CISPR)等の公的機関によりEMI関連工業規格が策定され、政府機関である例えば米国連邦通信委員会(FCC:Federal communications Commission)等によりそのEMIレベルが規制されている。このため、一般に、電子機器等から放射される電磁波妨害信号の尖頭値(PK:Peak)または準尖頭値(QP:Quasi Peak)がFCCルール、CISPR22規格等に規定された放射レベルの限界値(リミット)を満たすか否かの規格適合判定を実施している。   In many electronic devices having digital circuits, an electromagnetic wave radiated from a clock oscillation circuit or the like for driving a CPU, a bus, an external memory, or the like is an electromagnetic wave interference signal (EMI: Electron) that disturbs the functions of other electronic devices or the like. EMI related industrial standards by public organizations such as the American National Standards Institute (ANSI) and the International Special Committee on Radio Interference (CISPR). The EMI level is regulated by government agencies such as the Federal Communications Commission (FCC). For this reason, generally, the peak value (PK: Peak) or quasi-peak value (QP: Quasi Peak) of the electromagnetic interference signal radiated from electronic devices etc. is the limit of the radiation level specified in FCC rules, CISPR22 standard, etc. Standard conformance judgment is performed to determine whether or not the value (limit) is satisfied.

電子機器等が規格のリミットを満たせなかった場合、商品設計者によりEMI対策検討および規格適合判定が繰り返し実施される。このEMI対策検討は、一般的に、商品設計者の勘と経験に頼ることが多い。さらに、近年のデジタル電子機器のテクノロジーは多様化されているため、複数のクロック信号もしくはそれに同期するデジタル伝送信号等の基本波や高調波が複雑に重畳する傾向にあり、電磁波妨害信号の発生源や伝達経路の特定が困難となっている。   When an electronic device or the like fails to meet the standard limit, the product designer repeatedly performs EMI countermeasure examination and standard conformance determination. This EMI countermeasure study generally depends on the intuition and experience of the product designer. Furthermore, since the technology of digital electronic devices in recent years has been diversified, there is a tendency for fundamental waves and harmonics such as multiple clock signals or digital transmission signals synchronized therewith to be complicatedly superimposed, and the sources of electromagnetic interference signals It is difficult to specify the transmission path.

ゆえに、電磁波妨害信号の最適な対策手段の選定が困難となり、過剰なEMI対策による商品コストの高騰を招いたり、EMI対策検討時間の増加による商品設計者への負担増大を招く傾向にある。   Therefore, it becomes difficult to select an optimal countermeasure means for electromagnetic interference signals, which tends to cause a rise in product cost due to excessive EMI countermeasures and an increase in burden on product designers due to an increase in EMI countermeasure examination time.

特許文献1には、従来の電磁波放射測定方法の例についての記載がある。
特開2001−343409号公報
Patent Document 1 has a description of an example of a conventional electromagnetic radiation measurement method.
JP 2001-343409 A

上述した従来の電磁波放射測定方法での問題点を低減する方法として、既に複数の特許出願があるが、今までに提案されている方法では、以下に示す問題があった。   As a method for reducing the problems in the conventional electromagnetic radiation measurement method described above, there are already a plurality of patent applications, but the methods proposed so far have the following problems.

問題点1)
従来の電磁波妨害信号の発生源や、その伝達経路の特定処理では、電磁波妨害信号の変調率が非常に低い場合、すなわち搬送波と側波帯の信号レベル比が大きい場合(例えば、40dB以上)、側波帯のレベルがEMI測定機器の最低感度以下となるために側波帯(変調周波数)の抽出を行えず、EMI発生源や伝達経路の特定を行えない。図12は、側波帯のレベルがEMI測定機器の最低感度以下の波形例(この例では0dBが最低感度)であり、この例では搬送波以外の信号成分は、全て0dB以下となっている。
Problem 1)
In the conventional process of generating the electromagnetic wave interference signal and its transmission path, when the modulation rate of the electromagnetic wave interference signal is very low, that is, when the signal level ratio between the carrier wave and the sideband is large (for example, 40 dB or more), Since the sideband level is lower than the minimum sensitivity of the EMI measuring device, the sideband (modulation frequency) cannot be extracted, and the EMI generation source and the transmission path cannot be specified. FIG. 12 shows a waveform example in which the level of the sideband is equal to or lower than the lowest sensitivity of the EMI measuring device (in this example, 0 dB is the lowest sensitivity). In this example, all signal components other than the carrier wave are equal to or lower than 0 dB.

問題点2)
側波帯のレベルがEMI測定機器の最適感度以下(例えば、S/Nが30dB以下)となる場合、側波帯には測定誤差を含むことになる。一方、搬送波に含まれる誤差はわずかであり、これらの数値から変調率の抽出が的確に行えず、EMI発生源や伝達経路の特定を確度が低下する。図16は、側波帯のレベルがEMI測定機器の最適感度以下の波形例であり、搬送波と側波帯の信号が、0dBを越えているが、側波帯のレベルは0dB近傍の低いレベルになっている。
Problem 2)
When the sideband level is less than or equal to the optimum sensitivity of the EMI measuring device (for example, S / N is 30 dB or less), the sideband includes a measurement error. On the other hand, the error contained in the carrier wave is small, and the modulation rate cannot be accurately extracted from these values, and the accuracy of specifying the EMI generation source and the transmission path is lowered. FIG. 16 is an example of a waveform in which the sideband level is less than the optimum sensitivity of the EMI measuring device. The carrier and sideband signals exceed 0 dB, but the sideband level is a low level in the vicinity of 0 dB. It has become.

問題点3)
側波帯のレベルが変動している場合、変調率および変調周波数を的確に抽出するためには、測定機器のスイープ時間を遅く、あるいはスイープの回数を多くし、側波帯のレベルが的確に取得されるまで時間を要する。
Problem 3)
If the sideband level is fluctuating, in order to accurately extract the modulation rate and modulation frequency, slow down the sweep time of the measuring instrument or increase the number of sweeps, so that the sideband level is accurately It takes time to get it.

本発明はこれらの点に鑑み、側波帯のレベルが低い場合でも良好に電磁波妨害信号の発生源特定や伝達経路の特定が行えるようにすることを目的とする。   In view of these points, it is an object of the present invention to satisfactorily specify the source of an electromagnetic interference signal and the transmission path even when the sideband level is low.

本発明は、遠方界又は近傍界で測定した電磁波妨害信号の所定周波数範囲の信号を復調し、復調した所定周波数範囲の信号のオーディオ周波数帯に相当する周波数帯の信号を抽出し、抽出した周波数帯の信号を周波数解析して変調周波数を算出して、電磁波妨害信号の発生源又はその伝達経路を特定するようにしたものである。   The present invention demodulates a signal in a predetermined frequency range of an electromagnetic interference signal measured in the far field or near field, extracts a signal in a frequency band corresponding to the audio frequency band of the demodulated signal in the predetermined frequency range, and extracts the extracted frequency By analyzing the frequency of the band signal and calculating the modulation frequency, the source of the electromagnetic interference signal or its transmission path is specified.

かかる処理を行うことで、複数の変調周波数の抽出時間の短縮化、検出精度の向上など図ることができる。   By performing such processing, it is possible to shorten the extraction time of a plurality of modulation frequencies and improve detection accuracy.

本発明によれば、複数の変調周波数の抽出時間を短縮化することができ、電磁波妨害信号の発生源又はその伝達経路を良好に特定することができる。また、EMI測定機器の最低感度レベル(スペクトラムアナライザの場合、ノイズフロア)近傍、あるいは、それ以下における変調周波数の抽出を実現する。抽出された変調周波数はコンピュータ等に記録して、EMI特徴照合時に用いるプロファイル情報とすることができる。   According to the present invention, the extraction time of a plurality of modulation frequencies can be shortened, and the generation source of the electromagnetic wave interference signal or its transmission path can be well identified. Also, modulation frequency extraction near or below the lowest sensitivity level (noise floor in the case of a spectrum analyzer) of the EMI measuring device is realized. The extracted modulation frequency can be recorded in a computer or the like and used as profile information used at the time of EMI feature matching.

ここで、遠方界のEMI特徴プロファイル情報と近傍界におけるEMI特徴抽出・照合を行う場合、近傍界のEMI特徴抽出・照合を優先して行って、EMI発生源および伝達経路の絞込みを行うことで、EMI発生源および伝達経路特定のトータル照合時間の短縮を実現することができる。   Here, when performing far-field EMI feature profile information and near-field EMI feature extraction / collation, priority is given to near-field EMI feature extraction / collation to narrow down the EMI generation source and transmission path. Thus, the total verification time for specifying the EMI generation source and the transmission path can be shortened.

また、EMI測定機器の特性として公開されている測定誤差特性、あるいは任意手法により求められたEMI測定機器のS/Nと測定誤差の関係を用い、測定機器の最適感度以下で観測される信号レベルの補正を行って搬送波と側波帯のレベル比を算出することで、EMI測定機器の最適感度以下で観測される電磁波妨害信号の変調率算出確度向上を実現することができる。   Also, the signal level observed below the optimum sensitivity of the measuring instrument using the measurement error characteristics disclosed as the characteristics of the EMI measuring instrument or the relationship between the S / N of the EMI measuring instrument and the measurement error obtained by an arbitrary method. By performing the above correction and calculating the level ratio of the carrier wave and the sideband, it is possible to improve the accuracy of calculating the modulation factor of the electromagnetic interference signal observed below the optimum sensitivity of the EMI measuring device.

以下、添付図面を参照して本発明の一実施の形態を説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1は、電波暗室での電磁界測定システム構成例であり、図2は、そのシステムを使用して、遠方界におけるEMI特徴抽出を行うシステム全体の構成例である。図2に示すように、電波暗室10で用いられるスペクトラムアナライザやEMIレシーバ等のEMI測定機器11及び同軸リレースイッチマトリクス12と、図1に示したターンテーブル5及びアンテナ7用のアンテナポジショナ等の駆動装置を、測定機器接続の標準規格である汎用計測インターフェースバス(GPIB:General Purpose Interface Bus)等でコントロールする電磁界自動測定システム構成としてある。即ち、測定システム構成としては、図1に示すように、電波暗室で構成されたリファレンスグランドプレーン6内に、ターンテーブル5を設け、そのターンテーブル5上に非金属製の台4を設置して、その台4の上に被試験機器(EUT)1及び周辺機器2,3を配置して、ターンテーブル5で回転させながら測定を行う。受信アンテナ7については、アンテナマスト8に取付けられて、例えば1mから4mの範囲でアンテナ高さを可変できる構成としてある。   FIG. 1 is a configuration example of an electromagnetic field measurement system in an anechoic chamber, and FIG. 2 is a configuration example of an entire system that performs EMI feature extraction in the far field using the system. As shown in FIG. 2, the EMI measuring device 11 and the coaxial relay switch matrix 12 such as a spectrum analyzer and an EMI receiver used in the anechoic chamber 10 and driving the antenna positioner for the turntable 5 and the antenna 7 shown in FIG. It is configured as an electromagnetic field automatic measurement system configuration in which the apparatus is controlled by a general purpose interface bus (GPIB) or the like which is a standard for measuring equipment connection. That is, as a measurement system configuration, as shown in FIG. 1, a turntable 5 is provided in a reference ground plane 6 composed of an anechoic chamber, and a non-metallic base 4 is installed on the turntable 5. Then, the device under test (EUT) 1 and the peripheral devices 2 and 3 are arranged on the table 4, and measurement is performed while rotating on the turntable 5. The receiving antenna 7 is attached to the antenna mast 8 so that the antenna height can be varied within a range of 1 m to 4 m, for example.

そして、図2に示すように、受信アンテナ7で受信した信号は、EMI測定機器であるスペクトラムアナライザ11で測定されて、測定室20側に設置されたコンピュータ装置22に測定信号を供給する。ここで本例においては、コンピュータ装置22として、オーディオ信号の入力処理を行うサウンドボード22aを接続し、スペクトラムアナライザ11の出力(AF OUT)を、このサウンドボード22aのアナログオーディオ信号入力端子(AF IN)に供給する。サウンドボード22aに入力されたアナログ信号は、オーディオ周波数(AF)帯のアナログ信号をデジタル信号に変換する処理が行われる。コンピュータ装置22内では、デジタル化された信号の周波数成分について、高速フーリエ変換処理などを行って解析して、側波帯を抽出する。このコンピュータ装置22内での処理は、これらの処理機能を持つEMI評価用ソフトウェアが実装され、そのソフトウェアの実行で行われる。なお、ここでのオーディオ周波数帯とは、例えば0Hz〜20kHzなどのいわゆる可聴帯域に相当する周波数帯である。   As shown in FIG. 2, the signal received by the receiving antenna 7 is measured by the spectrum analyzer 11 which is an EMI measuring device, and the measurement signal is supplied to the computer device 22 installed on the measurement room 20 side. Here, in this example, a sound board 22a that performs audio signal input processing is connected as the computer device 22, and the output (AF OUT) of the spectrum analyzer 11 is connected to the analog audio signal input terminal (AF IN) of the sound board 22a. ). The analog signal input to the sound board 22a is subjected to processing for converting an analog signal in the audio frequency (AF) band into a digital signal. In the computer device 22, the frequency components of the digitized signal are analyzed by performing a fast Fourier transform process or the like, and sidebands are extracted. The processing in the computer device 22 is performed by executing EMI evaluation software having these processing functions. Here, the audio frequency band is a frequency band corresponding to a so-called audible band such as 0 Hz to 20 kHz.

スペクトラムアナライザ11や同軸リレースイッチマトリクス12のGPIB端子は、電波暗室10側のGPIBエクステンダ13及び測定室20側のGPIBエクステンダ21を介してコンピュータ装置22のGPIBボード22bと接続してある。図2の例では、両GPIBエクステンダ13,21間は、光ファイバケーブルで接続してあり、それぞれのGPIBエクステンダ13,21と機器の間はGPIBケーブルで接続してある。   The GPIB terminals of the spectrum analyzer 11 and the coaxial relay switch matrix 12 are connected to the GPIB board 22b of the computer device 22 via the GPIB extender 13 on the anechoic chamber 10 side and the GPIB extender 21 on the measurement chamber 20 side. In the example of FIG. 2, the GPIB extenders 13 and 21 are connected by optical fiber cables, and the GPIB extenders 13 and 21 and the devices are connected by GPIB cables.

また、コンピュータ装置22のGPIBボード22cには、ターンテーブルコントローラ23、アンテナポジションコントローラ24、信号発生器25、EMIレシーバ26などの機器が接続してある。遠方界におけるEMI検出に使用されるアンテナとしては、一般にダイポール、バイコニカル、ログペリオディックアンテナ等が用いられる。   In addition, devices such as a turntable controller 23, an antenna position controller 24, a signal generator 25, and an EMI receiver 26 are connected to the GPIB board 22c of the computer device 22. As an antenna used for EMI detection in the far field, a dipole, biconical, logperiodic antenna, or the like is generally used.

図3は、近傍界EMI特徴抽出・照合におけるシステム構成例である。スペクトラムアナライザやEMIレシーバ等のEMI測定機器11と、これらをGPIB等でコントロールする電磁界自動測定システムとしてある。EMI測定機器11には、被試験機器(EUT)1の近傍に設置された磁界プローブとしての電磁界センサ11aが接続してある。図3ではGPIB等でコントロールする構成の詳細については省略してある。   FIG. 3 is a system configuration example in the near-field EMI feature extraction / collation. An EMI measuring device 11 such as a spectrum analyzer or an EMI receiver, and an automatic electromagnetic field measuring system for controlling them with GPIB or the like. The EMI measuring device 11 is connected to an electromagnetic field sensor 11a as a magnetic field probe installed in the vicinity of the device under test (EUT) 1. In FIG. 3, the details of the configuration controlled by GPIB or the like are omitted.

ここで、EMI測定機器11が出力するオーディオ周波数(AF)帯のアナログ信号を、コンピュータ装置22のサウンドボード22aのオーディオ信号入力(AFIN)に供給して、このサウンドボード22aでデジタル信号に変換して、コンピュータ装置22に取り込ませる。取り込まれたデジタル化された信号は、その信号の周波数成分を解析機能して、側波帯を抽出および照合する機能を持つEMI評価用ソフトウェアによって処理される。   Here, the analog signal of the audio frequency (AF) band output from the EMI measuring device 11 is supplied to the audio signal input (AFIN) of the sound board 22a of the computer device 22, and converted into a digital signal by the sound board 22a. Then, the computer device 22 is made to take in. The captured digitized signal is processed by EMI evaluation software having a function of analyzing and analyzing a frequency component of the signal and extracting and collating sidebands.

次に、本実施の形態の処理について説明する前に、以下の説明で使用される語句の定義を示しておく。図4は、これらの語句を示した波形である。
・fc: 搬送波の周波数
・fs: 側波帯の周波数。fc±fdにおける周波数
・fd: 変調周波数。|fc-fs|で算出される周波数の差
・Lc: 搬送波のレベル
・Ls: 側波帯のレベル
・Lm: 変調率。|Lc-Ls|で算出されるレベル差
・fAF: 周波数解析機能で算出される変調周波数(fd=fAFである)
・抽出EMI特徴−1:抽出されたEMIの特徴がfcとfAF(=0も含む)であるプロファイル情報
・抽出EMI特徴−2:抽出されたEMIの特徴がfcとfAFとLsであるプロファイル情報
Next, before describing the processing of the present embodiment, the definitions of terms used in the following description are given. FIG. 4 is a waveform showing these words.
Fc: carrier frequency fs: sideband frequency Frequency at fc ± fd, fd: modulation frequency. Frequency difference calculated by | fc−fs | Lc: carrier level Ls: sideband level Lm: modulation rate. Level difference calculated by | Lc−Ls | f AF : Modulation frequency calculated by the frequency analysis function (fd = f AF )
Extracted EMI feature-1: Profile information where the extracted EMI features are fc and fAF (including 0) Extracted EMI feature-2: The extracted EMI features are fc, fAF and Ls Profile information

また、変調周波数fAFの抽出条件について説明する。
検出信号の復調機能付スペクトラムアナライザを用いて変調周波数fAFを抽出する場合の初期条件設定例を示す。
・中心周波数:後述する図5のステップ4で微調された周波数。
・周波数スパン:ゼロスパンに設定
・RBW(Resolution bandwidth):スペクトラムアナライザにおけるオーディオ周波数(AF)出力の最大周波数+α
例えば、AF=20kHzの場合、RBW=100kHzである。
・VBW(Video bandwidth): 通常、自動(Auto)にしておく。
・SWT(Sweep Time): 通常、自動(Auto)にしておく。
・DEMOD(AF Demodulators): AMまたはFMの復調を行う
変調周波数fAFのEMI特徴抽出・照合時においては、変調周波数fAF抽出時の設定と同一条件とする。
Further, the extraction condition of the modulation frequency f AF will be described.
It shows the initial condition setting example for extracting a modulation frequency f AF using a spectrum analyzer with the demodulation function of the detection signal.
Center frequency: The frequency finely adjusted in step 4 of FIG.
・ Frequency span: Set to zero span ・ RBW (Resolution bandwidth): Maximum frequency of audio frequency (AF) output in spectrum analyzer + α
For example, when AF = 20 kHz, RBW = 100 kHz.
-VBW (Video bandwidth): Normally, automatic (Auto) is set.
-SWT (Sweep Time): Usually, it is set to automatic (Auto).
DEMOD (AF Demodulators): At the time of EMI feature extraction / collation of the modulation frequency f AF that performs demodulation of AM or FM, the same conditions as the setting at the time of modulation frequency f AF extraction are set.

また、復調機能付スペクトラムアナライザを用いて変調率Lmを抽出する場合の初期条件設定例を示す。
・中心周波数:後述する図5のステップ4で微調された周波数を用いる
・周波数スパン:後述する図6のステップ11で算出された変調周波数fAFの2倍以上とする。例えば、fAF=10kHzの場合、周波数スパン=30kHzである。
・RBW:後述する図6のステップ11で算出された変調周波数fAFの1/2以下とする。例えば、fAF=10kHzの場合、RBW=1kHzとする。
・VBW:通常、自動(Auto)にしておく。
・SWT:通常、自動(Auto)にしておく。
変調率LmのEMI特徴抽出・照合時においては、変調率Lm抽出時の設定と同一条件とする。
In addition, an initial condition setting example in the case of extracting the modulation factor Lm using a spectrum analyzer with a demodulation function is shown.
· The center frequency: later steps 4 fine adjustment has been used frequency and frequency span of FIG. 5: a least twice the modulation frequency f AF calculated in step 11 of FIG. 6 to be described later. For example, when f AF = 10 kHz, the frequency span is 30 kHz.
RBW: Set to 1/2 or less of the modulation frequency f AF calculated in step 11 of FIG. 6 described later. For example, when f AF = 10 kHz, RBW = 1 kHz.
VBW: Normally set to automatic (Auto).
SWT: Usually set to automatic (Auto).
At the time of EMI feature extraction / collation of the modulation factor Lm, the same conditions as the setting at the time of modulation factor Lm extraction are set.

次に、本例のEMI特徴抽出法について、フローチャートを参照して説明する。本例の場合には、例えば図15に示すような側波帯のS/Nが十分な場合だけでなく、従来問題であった図16や図12に示すような側波帯のレベルがEMI測定機器の最低感度(ノイズフロア)近傍あるいはそれ以下においても、また変調率が数%以下であった場合において、変調周波数fAFを短時間に的確に抽出できる点を特徴とする。 Next, the EMI feature extraction method of this example will be described with reference to a flowchart. In the case of this example, not only when the S / N of the sideband as shown in FIG. 15 is sufficient, for example, the level of the sideband as shown in FIG. It is characterized in that the modulation frequency f AF can be accurately extracted in a short time near or below the lowest sensitivity (noise floor) of the measuring device and when the modulation rate is several percent or less.

以下に、EMI測定機器にスペクトラムアナライザを用いた場合を例に、EMI特徴抽出手順を説明する。まず、図5のフローチャートを参照して電磁界測定処理について説明すると、スペクトラムアナライザの最大値ホールド機能を利用して周波数別に最大値を取得する(ステップS1)。そして、規格リミット(所定マージン)を満たすか否か判断され(ステップS2)、規格リミット(所定マージン)を満たす場合には測定を終了し、規格リミット(所定マージン)を満たさない場合には規格リミットを満たさない周波数を全て抽出し(ステップS3)、周波数別に最大放射周波数の特定を行い(ステップS4)、周波数放射方向の特定を行い(ステップS5)、周波数別にQP値を取得する(ステップS6)。このときには、EMIレシーバのQuasi Peak検波モードが使用される。そして、周波数別にリミットが判定される(ステップS7)。そして、EMIの特徴を抽出したい周波数(例えば、規格リミットに対する所定のマージンが不足した周波数)を選択した後に(ステップS8)、EMIの特徴抽出を、図6のフローチャートに従って行う。   In the following, an EMI feature extraction procedure will be described using a spectrum analyzer as an example of an EMI measuring device. First, the electromagnetic field measurement process will be described with reference to the flowchart of FIG. 5. The maximum value is acquired for each frequency by using the maximum value hold function of the spectrum analyzer (step S1). Then, it is determined whether or not the standard limit (predetermined margin) is satisfied (step S2). If the standard limit (predetermined margin) is satisfied, the measurement is terminated. If the standard limit (predetermined margin) is not satisfied, the standard limit is determined. All the frequencies that do not satisfy the above are extracted (step S3), the maximum radiation frequency is identified for each frequency (step S4), the frequency radiation direction is identified (step S5), and the QP value is obtained for each frequency (step S6). . At this time, the Quasi Peak detection mode of the EMI receiver is used. Then, a limit is determined for each frequency (step S7). Then, after selecting a frequency (for example, a frequency at which a predetermined margin with respect to the standard limit is insufficient) from which the feature of EMI is desired to be extracted (step S8), EMI feature extraction is performed according to the flowchart of FIG.

次に、EMIの特徴抽出を行う図6のフローチャートに示した処理について説明する。まず、スペクトラムアナライザの設定を、項目4に記述した変調周波数fAF抽出条件とする(ステップS9)。そして、ステップS10及びステップS11において、スペクトラムアナライザの復調機能により復調されたAF信号出力を、サウンドボードへ入力する。ここで信号のデジタル化をしてからコンピュータへ取り込み、周波数解析機能(例えば、オーディオ周波数帯の高速フーリエ変換機能)を用いて周波数変換し、変調周波数fAFを抽出する。図13は、変調周波数fAFの抽出結果例を示した図である。この図13の例では、変調周波数8kHzで変調率1%のAM変調波の変調周波数抽出結果例である。変調周波数fAFは、複数存在する場合がある。 Next, the processing shown in the flowchart of FIG. 6 for performing EMI feature extraction will be described. First, the setting of the spectrum analyzer is set as the modulation frequency f AF extraction condition described in item 4 (step S9). In step S10 and step S11, the AF signal output demodulated by the demodulation function of the spectrum analyzer is input to the sound board. Here, the signal is digitized and then taken into a computer, and frequency conversion is performed using a frequency analysis function (for example, a fast Fourier transform function in an audio frequency band) to extract a modulation frequency fAF . FIG. 13 is a diagram showing an example of extraction results of the modulation frequency f AF . The example of FIG. 13 is an example of the modulation frequency extraction result of an AM modulation wave with a modulation frequency of 8 kHz and a modulation rate of 1%. There may be a plurality of modulation frequencies f AF .

次に、ステップS12において、変調周波数fAFが抽出されたか否か判断する。ここで、図13に示すような変調周波数fAFが抽出された場合はステップS13へ進み、例えば図14に示すように変調周波数fAFが抽出されなかった場合には、ステップS20へ進む。 Next, in step S12, it is determined whether or not the modulation frequency f AF has been extracted. If the modulation frequency f AF as shown in FIG. 13 is extracted, the process proceeds to step S13. If the modulation frequency f AF is not extracted as shown in FIG. 14, for example, the process proceeds to step S20.

ステップS13では、上述した変調率Lm抽出条件を設定する。そして、ステップS14で、Lm抽出用データの取得を行う。ここでは、例えば、以下のいずれかで行う。
1)スペクトラムアナライザのMaxHold機能を活用する。
2)スペクトラムアナライザのAverage機能(平均波形)を活用する。
3)スペクトラムアナライザのClear/Write機能を活用し、スイープ毎のスペクトラムデータをコンピュータに取り込み、最大波形または平均波形を算出する。
In step S13, the above-described modulation factor Lm extraction condition is set. In step S14, Lm extraction data is acquired. Here, for example, one of the following is performed.
1) Utilize the MaxHold function of the spectrum analyzer.
2) Utilize the average function of the spectrum analyzer.
3) Utilizing the Clear / Write function of the spectrum analyzer, the spectrum data for each sweep is taken into the computer and the maximum waveform or average waveform is calculated.

次に、ステップS15として、ステップS14で得られた波形における最大値の周波数を搬送波周波数fcとし、ステップS11で算出された変調周波数fAF(=fd)を用いて側波帯の周波数fs(=fc±fAF)を算出する。次に、算出されたfc、fsにおけるレベルLc、Lsを抽出する。そして、ステップS16で、ステップS15で抽出された搬送波及び側波帯のレベルLc、Lsを用いて、変調率Lm(=Lc-Ls)を算出する。 Next, in step S15, the frequency of the maximum value and the carrier frequency fc in the resulting waveform in step S14, the modulation frequency f AF (= fd) using sideband frequency fs calculated in step S11 (= fc ± f AF ) is calculated. Next, the levels Lc and Ls at the calculated fc and fs are extracted. In step S16, the modulation factor Lm (= Lc−Ls) is calculated using the carrier wave and sideband levels Lc and Ls extracted in step S15.

側波帯のレベルLsのS/Nが十分でない場合(通常、30dB以下)、側波帯のレベルLsは図16に示すように測定誤差を含む。そのため、EMI特徴照合時の一致率を悪化させてしまう。ゆえに、ステップS17で、側波帯のレベルLsとノイズフロアの差を算出し、しきい値AdB(例えば、測定誤差が1dB以下となるA=15dB)以上となる側波帯の周波数fsを抽出する。そして、ステップS17で側波帯の周波数fsが抽出された場合はステップS19へ進み、側波帯の周波数fsが抽出されなかった場合はステップS20へ進む(ステップS18)。   When the S / N of the sideband level Ls is not sufficient (usually 30 dB or less), the sideband level Ls includes a measurement error as shown in FIG. Therefore, the coincidence rate at the time of EMI feature matching is deteriorated. Therefore, in step S17, the difference between the sideband level Ls and the noise floor is calculated, and the sideband frequency fs that is equal to or higher than the threshold value AdB (for example, A = 15 dB when the measurement error is 1 dB or less) is extracted. To do. If the sideband frequency fs is extracted in step S17, the process proceeds to step S19. If the sideband frequency fs is not extracted, the process proceeds to step S20 (step S18).

ステップS19では、搬送波周波数fc、変調周波数fAF、変調率Lmを抽出し、EMI特徴−2としてコンピュータ装置内に保存し、EMI特徴照合時のプロファイル情報とする。 In step S19, the carrier frequency fc, the modulation frequency f AF , and the modulation factor Lm are extracted and stored in the computer device as EMI feature-2, which is used as profile information at the time of EMI feature matching.

また、ステップS20では、搬送波周波数fc、変調周波数fAFを抽出EMI特徴−1としてコンピュータ装置内に保存し、EMI特徴照合時のプロファイル情報とする。 In step S20, the carrier frequency fc, and stored in a computer device a modulation frequency f AF as extraction EMI features -1, and profile information when EMI feature matching.

なお、ここまでの処理では、データ処理計算時間短縮のため、図6のステップS13〜ステップS17において、周波数解析機能により算出された変調周波数fAFを活用して変調率Lmを抽出しているが、既に知られた別の処理で変調率Lmを抽出しても良い。 In the process up to this point, for data processing computation time reduction, in step S13~ step S17 in FIG. 6, are extracted modulation factor Lm by utilizing a modulation frequency f AF calculated by the frequency analysis function Alternatively, the modulation factor Lm may be extracted by another known process.

次に、EMI測定機器にスペクトラムアナライザを用いた場合を例に、EMI特徴抽出・照合手順を説明する。   Next, an EMI feature extraction / collation procedure will be described using a spectrum analyzer as an example of an EMI measuring device.

遠方界で観測されたEMIの発生源や伝達経路の特定を行うため、上述した図6のフローチャートのEMI特徴抽出法で抽出された特徴と、近傍界におけるEMIの特徴を図7、図8、図9、図10に示すフローチャートに従って、照合を実施し、一致率を算出する。EMI特徴照合の一致率算出は、照合終了フラグが成立するまで、繰返しでリアルタイムに行われる。   In order to identify the source and transmission path of EMI observed in the far field, the features extracted by the EMI feature extraction method of the flowchart of FIG. 6 and the EMI features in the near field are shown in FIGS. In accordance with the flowcharts shown in FIG. 9 and FIG. 10, collation is performed, and the coincidence rate is calculated. The coincidence rate calculation of the EMI feature matching is repeatedly performed in real time until the matching end flag is established.

まず、図7のフローチャートについて説明すると、ステップS21で、図6のフローチャートのEMI特徴抽出法で抽出を行った周波数fcをスペクトラムアナライザに設定する。そして、次に、ステップS21で設定された周波数のEMIの特徴が、抽出EMI特徴−1の場合はステップS23へ進み、抽出EMI特徴−2の場合はステップS24へ進む(ステップS22)。そして、ステップS23では、図8に示すEMI特徴照合法をコールする。ステップS24では、図9に示すEMI特徴照合法をコールする。   First, the flowchart of FIG. 7 will be described. In step S21, the frequency fc extracted by the EMI feature extraction method of the flowchart of FIG. 6 is set in the spectrum analyzer. Then, if the EMI feature of the frequency set in step S21 is the extracted EMI feature-1, the process proceeds to step S23, and if it is the extracted EMI feature-2, the process proceeds to step S24 (step S22). In step S23, the EMI feature matching method shown in FIG. 8 is called. In step S24, the EMI feature matching method shown in FIG. 9 is called.

次に図8に示すEMI特徴照合法のフローチャートについて説明すると、ステップS25において、図7のステップS21で設定された周波数のEMI特徴抽出法で用いられた変調周波数fAF抽出条件をスペクトラムアナライザに設定する。 Next, the flowchart of the EMI feature matching method shown in FIG. 8 will be described. In step S25, the modulation frequency f AF extraction condition used in the EMI feature extraction method of the frequency set in step S21 of FIG. To do.

そして、照合途中において、照合終了フラグが成立した場合(例えば、照合終了ボタンをクリック)、照合を終了する。照合終了フラグが成立していない場合、ステップS27を実行する(ステップS26)。   Then, when the collation end flag is established during the collation (for example, when the collation end button is clicked), the collation is terminated. If the verification end flag is not established, step S27 is executed (step S26).

ステップS27では、スペクトラムアナライザの復調機能により復調されたAF信号出力を、サウンドボードへ入力する。ここで信号のデジタル化をしてからコンピュータへ取り込み、周波数解析機能(例えば、AF周波数帯FFT機能)を用いて周波数変換し、変調周波数fAFを抽出する(ステップS28)(図13参照)。変調周波数fAFは、複数存在する場合がある。 In step S27, the AF signal output demodulated by the demodulation function of the spectrum analyzer is input to the sound board. Here, the signal is digitized and then taken into a computer, and frequency conversion is performed using a frequency analysis function (for example, AF frequency band FFT function) to extract the modulation frequency f AF (step S28) (see FIG. 13). There may be a plurality of modulation frequencies f AF .

そして、ステップS28で算出された変調周波数fAFと抽出EMI特徴−1の変調周波数fAFから一致率を算出し(ステップS29,S30)、その変調周波数fAFの一致率をコンピュータディスプレイに出力する(ステップS31)。そして、ステップS26へ戻る。変調周波数fAFの一致率の算出方法は任意であるが、例えば、2波の変調周波数fAFのうち、1波が一致する場合は50%、2波共に一致する場合は100%とする。 Then, to calculate the matching rate from the modulation frequency f AF of the calculated modulation frequency f AF and extracted EMI characterized -1 in step S28 (step S29, S30), outputs a coincidence rate of the modulation frequency f AF in a computer display (Step S31). Then, the process returns to step S26. The method for calculating the coincidence rate of the modulation frequency f AF is arbitrary. For example, of two modulation frequencies f AF , 50% is set when one wave matches, and 100% when both waves match.

次に、図9に示すフローチャートについて説明すると、ステップS32で、変調周波数fAFの抽出条件を設定する。ここでのスペクトラムアナライザの設定は、図7のステップS21で設定されたEMI特徴抽出法で用いられた変調周波数fAF抽出条件と同一にする。 Next, the flowchart shown in FIG. 9 will be described. In step S32, extraction conditions for the modulation frequency f AF are set. The spectrum analyzer setting here is the same as the modulation frequency f AF extraction condition used in the EMI feature extraction method set in step S21 of FIG.

次に、照合途中において、照合終了フラグが成立した場合(例えば、照合終了ボタンをクリック)、照合を終了する。照合終了フラグが成立していない場合、ステップS34へ進む(ステップS33)。ステップS34及びステップS35では、スペクトラムアナライザの復調機能により復調されたAF信号出力を、サウンドボードへ入力する。ここで信号のデジタル化をしてからコンピュータへ取り込み、周波数解析機能(例えば、AF周波数帯FFT機能)を用いて周波数変換し、変調周波数fAFを抽出する(図13参照)。変調周波数fAFは、複数存在する場合がある。 Next, in the middle of collation, when the collation end flag is established (for example, by clicking the collation end button), collation is terminated. If the collation end flag is not established, the process proceeds to step S34 (step S33). In steps S34 and S35, the AF signal output demodulated by the demodulation function of the spectrum analyzer is input to the sound board. Here, the signal is digitized and then taken into a computer, and frequency conversion is performed using a frequency analysis function (for example, an AF frequency band FFT function) to extract a modulation frequency f AF (see FIG. 13). The modulation frequency f AF may be more present.

ステップS36、ステップS37、ステップS38としては、ステップS35で算出されたfAFと抽出EMI特徴−2の変調周波数fAFから一致率を算出し、その変調周波数fAFの一致率をコンピュータディスプレイに出力する。変調周波数fAFの一致率の算出方法任意であるが、例えば、照合時の変調周波数fAFの一致する数の割合がある。 Step S36, step S37, as the step S38, the calculated percent identity from the modulation frequency f AF extraction and fAF calculated in step S35 EMI features -2 outputs a coincidence rate of the modulation frequency f AF in a computer display . The method for calculating the coincidence rate of the modulation frequency f AF is arbitrary. For example, there is a ratio of the number of coincidence of the modulation frequency f AF at the time of collation.

その後、ステップS39として、ステップS37で算出された一致率がしきい値A%以上(例えば、A=75)の場合はステップS40へ進み、一致率が閾値A%未満である場合はステップS33へ戻る。   Thereafter, as step S39, if the coincidence rate calculated in step S37 is equal to or greater than the threshold value A% (for example, A = 75), the process proceeds to step S40, and if the coincidence rate is less than the threshold value A%, the process proceeds to step S33. Return.

ステップS40では、発生源および伝達経路の一致確度を向上するため、変調率Lmによる照合を実施する場合はステップS41へ進み、実施しない場合はステップS33へ戻る。変調率Lmによる照合の実行/不実行の選択は、事前に設定しておいても良い。   In step S40, in order to improve the coincidence accuracy between the generation source and the transmission path, the process proceeds to step S41 when collation by the modulation factor Lm is performed, and returns to step S33 when not performed. Selection of execution / non-execution of collation based on the modulation factor Lm may be set in advance.

ステップS41では、スペクトラムアナライザの設定を、図7のステップ21で設定された周波数のEMI特徴抽出法で用いられた変調率Lm抽出条件と同一とする。その後、ステップS42で変調率Lm抽出用データの取得を行う。変調率Lm抽出用データの取得は、例えば、以下のいずれかで行う。
1)スペクトラムアナライザのMaxHold機能を活用する。
2)スペクトラムアナライザのAverage機能を活用する。
3)スペクトラムアナライザのClear/Write機能を活用し、スイープ毎のスペクトラムデータをコンピュータに取り込み、最大波形または平均波形を算出する。
In step S41, the setting of the spectrum analyzer is set to be the same as the modulation factor Lm extraction condition used in the frequency EMI feature extraction method set in step 21 of FIG. Thereafter, the modulation factor Lm extraction data is acquired in step S42. Acquisition of the modulation factor Lm extraction data is performed, for example, in any of the following.
1) Utilize the MaxHold function of the spectrum analyzer.
2) Utilize the Average function of the spectrum analyzer.
3) Utilizing the Clear / Write function of the spectrum analyzer, the spectrum data for each sweep is taken into the computer and the maximum waveform or average waveform is calculated.

そして、ステップS43として、ステップS42で得られた波形における最大値を搬送波の周波数fcとし、ステップS35で算出された変調周波数fAF(=fd)を用いてfs(=fc±fAF)を算出する。次に、Lcと算出された側波帯の周波数fsにおけるレベルLsを抽出する。そして、ステップS44として、ステップS43で抽出されたレベルLc、Lsを用いて、変調率Lm(=Lc-Ls)を算出する。 Then, in step S43, the frequency fc of the carrier wave the maximum value in the waveform obtained in step S42, calculates the fs (= fc ± fAF) using the modulation frequency f AF calculated in step S35 (= fd) . Next, Lc and the level Ls at the calculated sideband frequency fs are extracted. In step S44, the modulation factor Lm (= Lc−Ls) is calculated using the levels Lc and Ls extracted in step S43.

ここで、図6のステップS17において、閾値Aを15dB以下に設定した場合、図11に示す測定誤差を含むため、一致率の悪化が生じる。この抑制のため、測定誤差補正の有無をあらかじめ設定しておき、測定誤差補正を実施する場合はステップ46へ進み、実施しない場合はステップS47へ進む(ステップS45)。   Here, in step S17 of FIG. 6, when the threshold A is set to 15 dB or less, since the measurement error shown in FIG. 11 is included, the matching rate deteriorates. In order to suppress this, the presence / absence of measurement error correction is set in advance. If measurement error correction is to be performed, the process proceeds to step 46; otherwise, the process proceeds to step S47 (step S45).

ステップS46では、図10のフローチャートに示す測定誤差補正法をコールする。その後、ステップS47及びステップS48として、ステップS43で算出された変調周波数fAFと抽出EMI特徴−2の変調率Lmを用いて一致率を算出し、それをコンピュータディスプレイに出力する。そして、ステップS32へ戻る。変調率Lmの一致率の算出方法は任意で、例えば、抽出EMI特徴―2の変調率Lmと照合時の変調率Lmの差分に重み付けをし、その重み付け結果に応じた割合を算出する方法がある。 In step S46, the measurement error correction method shown in the flowchart of FIG. 10 is called. Thereafter, as step S47 and step S48, the coincidence rate is calculated using the modulation frequency f AF calculated in step S43 and the modulation rate Lm of the extracted EMI feature-2, and is output to the computer display. Then, the process returns to step S32. The method for calculating the coincidence rate of the modulation rate Lm is arbitrary. For example, there is a method of weighting the difference between the modulation rate Lm of the extracted EMI feature-2 and the modulation rate Lm at the time of collation and calculating a ratio according to the weighting result. is there.

次に、図10のフローチャートに示す測定誤差補正法について説明する。この処理は、EMI特徴抽出・照合時の側波帯のレベルLsについてのみならず、あらかじめ取得された抽出EMI特徴−2の側波帯のレベルLsについても実施する。   Next, the measurement error correction method shown in the flowchart of FIG. 10 will be described. This processing is performed not only for the sideband level Ls at the time of EMI feature extraction / collation, but also for the sideband level Ls of the extracted EMI feature-2 acquired in advance.

まず、ステップS49で、(側波帯のレベル)−(ノイズフロアのレベル)を算出する。次に、ステップS50で、図11に示すようなS/Nと測定誤差の関係を用いて、ステップS49で算出された値における測定誤差を求める。さらに、側波帯のレベルは測定誤差分高い値となっているため、ステップS51で、変調率Lmを測定誤差分補正(差し引く)する。   First, in step S49, (sideband level) − (noise floor level) is calculated. Next, in step S50, the measurement error in the value calculated in step S49 is obtained using the relationship between S / N and measurement error as shown in FIG. Further, since the level of the sideband is high by the measurement error, the modulation factor Lm is corrected (subtracted) by the measurement error in step S51.

なお、ここまでの説明では、データ処理計算時間短縮のため、ステップS41〜ステップS44およびステップS46において、周波数解析機能により算出された変調周波数fAFを活用して変調率Lmを抽出し、変調率Lmの一致率を算出しているが、既に知られた別の処理を適用して、変調周波数fdと変調率Lmの一致率を算出しても良い。 In the description so far, in order to shorten the data processing calculation time, in step S41 to step S44 and step S46, the modulation rate Lm is extracted by using the modulation frequency f AF calculated by the frequency analysis function, and the modulation rate is calculated. Although the matching rate of Lm is calculated, another matching process may be applied to calculate the matching rate between the modulation frequency fd and the modulation rate Lm.

ここまで説明した本実施の形態の処理を行うことで、以下のような効果を有する。
・EMI発生源および伝達経路特定時間短縮
周波数解析機能を用いて変調周波数を算出してEMI特徴を抽出・照合することにより、その時間を大幅に短縮できる。例えば、
・側波帯レベルの最大値取得に必要な観測時間を10s
・スイープタイムを200ms
・変調周波数を抽出する周波数の数を2
・クロック発振源の数を5
・1ヶ所あたりの観測ポイント数4
とすると、変調周波数の抽出時間は
従来は、10s×4×5=200s必要であったのが、本実施の形態では、200ms×4×5=4sとなり、抽出時間を1/50に短縮できる。
By performing the processing of the present embodiment described so far, the following effects are obtained.
-EMI source and transmission path identification time reduction By using the frequency analysis function to calculate the modulation frequency and extract and collate EMI characteristics, the time can be greatly reduced. For example,
・ The observation time required to obtain the maximum value of the sideband level is 10 s.
・ Sweep time is 200ms
・ The number of frequencies to extract the modulation frequency is 2
・ The number of clock oscillation sources is 5
・ 4 observation points per site
Then, the extraction time of the modulation frequency has conventionally required 10 s × 4 × 5 = 200 s, but in the present embodiment, it becomes 200 ms × 4 × 5 = 4 s, and the extraction time can be reduced to 1/50. .

・照合確度の向上
従来手法では認知できない変調率数%程度のEMIや、側波帯のレベルがEMI測定機器の最低感度(スペクトラムアナライザの場合はノイズフロア)近傍あるいはそれよりわずかに下回るEMIの変調周波数を抽出して照合を実現できる。また、最適感度以下の側波帯について測定誤差補正法を用いることで変調率算出角度を向上できる。以上2つの方法の組み合わせにより、より多くのEMIの特徴照合の確度を向上させることができる。
・ Improvement of verification accuracy EMI modulation with a modulation rate of several percent that cannot be recognized by conventional methods, or modulation of EMI near or slightly below the minimum sensitivity (noise floor in the case of a spectrum analyzer) of the sideband level Verification can be realized by extracting the frequency. Also, the modulation factor calculation angle can be improved by using the measurement error correction method for the sidebands below the optimum sensitivity. The combination of the above two methods can improve the accuracy of more EMI feature matching.

・設計者の負担軽減
商品設計者の評価スキルに依存することなく、EMI発生源の特定や伝達経路の特定を短時間かつ的確に行える。設計者はEMI対策案の考案に集中することができる。
・ Reduced designer's burden The EMI generation source and the transmission route can be specified in a short time and accurately without depending on the evaluation skill of the product designer. Designers can concentrate on devising EMI countermeasures.

なお、ここまで説明した実施の形態では、1台のEMI測定機器を使用して測定した例について説明したが、例えば図17に示すように、電磁界センサ11a(Magnetic -Probeなど)から抽出されたEMIを、分波器31を介して2台のEMI測定機器11,32に同時に入力させる構成としてもよい。一方のEMI測定機器11で復調したアナログオーディオ帯域信号(AF信号)は、コンピュータ装置22のサウンドボード22aに入力させて、アナログ/デジタル変換してFFT等による周波数解析を行い、変調周波数fAFの抽出・照合を実施、もう一方のEMI測定機器32の出力についてもコンピュータ装置22に入力させて、別の処理で変調率Lmの抽出・照合を同時に行う。このようにしたことにより、より高速にEMI特徴の抽出・照合を行うことができる。 In the embodiment described so far, an example in which measurement is performed using one EMI measuring device has been described. However, for example, as illustrated in FIG. 17, the signal is extracted from an electromagnetic field sensor 11 a (Magnetic-Probe or the like). The EMI may be simultaneously input to the two EMI measuring devices 11 and 32 via the duplexer 31. The analog audio band signal (AF signal) demodulated by one of the EMI measuring devices 11 is input to the sound board 22a of the computer device 22, analog / digital converted, and subjected to frequency analysis by FFT or the like, and the modulation frequency f AF is obtained. Extraction / collation is performed, and the output of the other EMI measuring device 32 is also input to the computer device 22 to simultaneously extract and collate the modulation factor Lm in another process. By doing in this way, EMI feature extraction / collation can be performed at higher speed.

また、EMI測定機器として、オーディオ復調機能を持たないEMI測定機器を用いる場合、例えば図18に示すように、EMI測定機器11が出力する中間周波数(IF)を、ラジオ放送受信機であるAM/FM受信機33に入力してオーディオ周波数を復調処理させる。これをコンピュータ装置22のサウンドボード22a等によりデジタル化してコンピュータ装置22へ取り込み、周波数解析機能(例えば、AF周波数帯FFT機能)を用いて変調周波数fAFを抽出する。この変調周波数fAFを用いて抽出・照合を実施することで、上述した例と同様に検出できる。 Further, when an EMI measuring device having no audio demodulation function is used as the EMI measuring device, for example, as shown in FIG. 18, the intermediate frequency (IF) output from the EMI measuring device 11 is changed to an AM / that is a radio broadcast receiver. Input to the FM receiver 33 to demodulate the audio frequency. This is digitized by the sound board 22a or the like of the computer device 22 and taken into the computer device 22, and the modulation frequency f AF is extracted using a frequency analysis function (for example, AF frequency band FFT function). By performing extraction / collation using this modulation frequency f AF , detection can be performed in the same manner as in the above-described example.

本発明の一実施の形態が適用される測定システム例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the example of a measurement system with which one embodiment of this invention is applied. 本発明の一実施の形態が適用されるEMI特徴抽出システム例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the example of the EMI feature extraction system to which one embodiment of this invention is applied. 本発明の一実施の形態が適用されるEMI特徴抽出・照合システム例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the example of an EMI feature extraction and collation system with which one embodiment of this invention is applied. EMI特徴データの定義を説明するための波形図である。It is a wave form diagram for demonstrating the definition of EMI characteristic data. 本発明の一実施の形態による電磁界測定例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the example of an electromagnetic field measurement by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態によるEMI特徴抽出例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the example of EMI feature extraction by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態によるEMI特徴照合手順の例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the example of the EMI feature matching procedure by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態によるEMI特徴照合例(例1)を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the example (Example 1) of EMI feature matching by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態によるEMI特徴照合例(例2)を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the example (Example 2) of EMI feature matching by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態による測定誤差補正例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the example of a measurement error correction by one embodiment of this invention. S/Nと測定誤差の関係例を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the example of a relationship between S / N and a measurement error. 変調波形例を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the example of a modulation waveform. 変調波形抽出結果例を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the example of a modulation waveform extraction result. 非変調波形抽出結果例を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the example of an unmodulated waveform extraction result. 側波帯のS/Nが10dB以上の例を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the example whose S / N of a sideband is 10 dB or more. 側波帯のS/Nが5dB以下の例を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows the example whose S / N of a sideband is 5 dB or less. 本発明の他の実施の形態によるEMI特徴抽出システム例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the example of the EMI feature extraction system by other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態によるEMI測定システム例を示す構成図である。It is a block diagram which shows the example of the EMI measurement system by other embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…被試験機器(EUT)、2,3…周辺機器、4…非金属製の台、5…ターンテーブル、6…リファレンスグランドプレーン、7…受信アンテナ、8…アンテナマスト、10…電波暗室、11…EMI測定機器(スペクトルアナライザ)、11a…電磁界センサ、12…同軸リレースイッチ、13…GPIBエクステンダ、20…測定室、21…GPIBエクステンダ、22…コンピュータ装置、22a…サウンドボード、22b,22c…GPIBボード、23…ターンテーブルコントローラ、24…アンテナポジションコントローラ、25…信号発生器、26…EMIレシーバ、31…分波器、32…EMI測定機器、33…AM/AM受信機   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Device under test (EUT), 2, 3 ... Peripheral device, 4 ... Non metal stand, 5 ... Turntable, 6 ... Reference ground plane, 7 ... Receiving antenna, 8 ... Antenna mast, 10 ... Anechoic chamber, DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... EMI measuring apparatus (spectrum analyzer), 11a ... Electromagnetic field sensor, 12 ... Coaxial relay switch, 13 ... GPIB extender, 20 ... Measurement room, 21 ... GPIB extender, 22 ... Computer apparatus, 22a ... Sound board, 22b, 22c ... GPIB board, 23 ... Turntable controller, 24 ... Antenna position controller, 25 ... Signal generator, 26 ... EMI receiver, 31 ... Demultiplexer, 32 ... EMI measuring instrument, 33 ... AM / AM receiver

Claims (4)

遠方界又は近傍界で測定した電磁波妨害信号の所定周波数範囲の信号を復調し、
復調した前記所定周波数範囲の信号のオーディオ周波数帯に相当する周波数帯の信号を抽出し、
前記抽出した周波数帯の信号を周波数解析して変調周波数を算出して、電磁波妨害信号の発生源又はその伝達経路を特定することを特徴とする
電磁波妨害信号の発生源特定方法。
Demodulate the signal of the predetermined frequency range of the electromagnetic interference signal measured in the far field or near field,
Extracting a signal in a frequency band corresponding to the audio frequency band of the demodulated signal in the predetermined frequency range;
A method for identifying an electromagnetic wave interference signal source, wherein the extracted frequency band signal is subjected to frequency analysis to calculate a modulation frequency, and an electromagnetic wave interference signal source or a transmission path thereof is specified.
請求項1記載の電磁波妨害信号の発生源特定方法において、
遠方界の電磁波妨害信号の特徴プロファイル情報と、近傍界における電磁波妨害信号の特徴抽出及び照合を行う場合、近傍界の電磁波妨害信号の特徴抽出及び照合を優先して行い、電磁波妨害信号の発生源および伝達経路の絞込みを行うことを特徴とする
電磁波妨害信号の発生源特定方法。
In the electromagnetic wave interference signal generation source identifying method according to claim 1,
When extracting and collating feature profile information of electromagnetic interference signals in the far field and electromagnetic interference signals in the near field, the feature extraction and verification of the electromagnetic interference signals in the near field is prioritized and the source of the electromagnetic interference signal And a method of identifying the source of the electromagnetic interference signal, characterized by narrowing down the transmission path.
請求項1記載の電磁波妨害信号の発生源特定方法において、
電磁波妨害信号の測定機器の測定誤差特性を用いて、測定機器の最低感度近傍で観測される信号レベルの補正を行って搬送波と側波帯のレベル比を算出することを特徴とする
電磁波妨害信号の発生源特定方法。
In the electromagnetic wave interference signal generation source identifying method according to claim 1,
Using the measurement error characteristics of the measurement device of the electromagnetic interference signal, the signal level observed near the lowest sensitivity of the measurement device is corrected to calculate the level ratio between the carrier wave and the sideband. Source identification method.
演算処理装置に実装させることで、電磁波妨害信号の発生源特定処理を行うプログラムにおいて、
遠方界又は近傍界で測定した電磁波妨害信号の所定周波数範囲の信号を復調する復調処理と、
復調した前記所定周波数範囲の信号のオーディオ周波数帯に相当する周波数帯の信号を抽出する抽出処理と、
前記抽出した周波数帯の信号を周波数解析して変調周波数を算出して、電磁波妨害信号の発生源又はその伝達経路を特定する特定処理とを行うことを特徴とする
プログラム。
In the program that performs the processing to identify the source of the electromagnetic interference signal by implementing it in the arithmetic processing unit,
Demodulation processing for demodulating a signal in a predetermined frequency range of the electromagnetic interference signal measured in the far field or near field;
An extraction process for extracting a signal in a frequency band corresponding to an audio frequency band of the demodulated signal in the predetermined frequency range;
A program for performing a specific process of calculating a modulation frequency by analyzing a frequency of the extracted signal in a frequency band and specifying a generation source of an electromagnetic interference signal or a transmission path thereof.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008224306A (en) * 2007-03-09 2008-09-25 Nippon Telegraph & Telephone East Corp Spectrum analysis system
WO2011119191A2 (en) * 2009-11-30 2011-09-29 On Target Enterprises, Inc. Simultaneous radio detection and bearing system
US10215794B2 (en) 2013-02-12 2019-02-26 Mitsubishi Electric Corporation Partial discharge sensor evaluation method and partial discharge sensor evaluation device apparatus
JP6505348B1 (en) * 2018-04-20 2019-04-24 株式会社東陽テクニカ Radiation disturbance measurement method and radiation disturbance measurement system
JP2020204561A (en) * 2019-06-18 2020-12-24 株式会社日立製作所 Method for specifying noise source and information processing system

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61288532A (en) * 1985-06-14 1986-12-18 Nec Corp Method of detecting disturbing radio wave
JPS62111666U (en) * 1985-12-28 1987-07-16
JPS62183007A (en) * 1986-02-05 1987-08-11 Advantest Corp Fm transmission characteristic measuring instrument
JPS63293477A (en) * 1987-05-27 1988-11-30 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Measuring instrument for television interference wave
JPH04148875A (en) * 1990-10-12 1992-05-21 Anritsu Corp Waveform analyzer
JPH0735792A (en) * 1993-05-20 1995-02-07 Hitachi Ltd Noise analysis system, waveform analyzer, and frequency analyzer
JPH09261112A (en) * 1996-03-25 1997-10-03 Kokusai Electric Co Ltd Ssb carrier automatic tuning method and ssb receiver
JPH1054855A (en) * 1996-08-09 1998-02-24 Advantest Corp Spectrum analyzer
JPH1164405A (en) * 1997-08-20 1999-03-05 Advantest Corp Modulation analysis device and spectrum analyzer
JPH11211799A (en) * 1998-01-22 1999-08-06 Nec Corp Device and method for detecting faulty parts for printed circuit board
JP2000304784A (en) * 1999-04-23 2000-11-02 Advantest Corp Spectrum analyzer
JP2003066079A (en) * 2001-08-30 2003-03-05 Ricoh Co Ltd Measuring device of electromagnetic disturbance wave
JP2005189045A (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Sony Corp System and method for measuring electromagnetic field, and program for making computer perform the method

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61288532A (en) * 1985-06-14 1986-12-18 Nec Corp Method of detecting disturbing radio wave
JPS62111666U (en) * 1985-12-28 1987-07-16
JPS62183007A (en) * 1986-02-05 1987-08-11 Advantest Corp Fm transmission characteristic measuring instrument
JPS63293477A (en) * 1987-05-27 1988-11-30 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Measuring instrument for television interference wave
JPH04148875A (en) * 1990-10-12 1992-05-21 Anritsu Corp Waveform analyzer
JPH0735792A (en) * 1993-05-20 1995-02-07 Hitachi Ltd Noise analysis system, waveform analyzer, and frequency analyzer
JPH09261112A (en) * 1996-03-25 1997-10-03 Kokusai Electric Co Ltd Ssb carrier automatic tuning method and ssb receiver
JPH1054855A (en) * 1996-08-09 1998-02-24 Advantest Corp Spectrum analyzer
JPH1164405A (en) * 1997-08-20 1999-03-05 Advantest Corp Modulation analysis device and spectrum analyzer
JPH11211799A (en) * 1998-01-22 1999-08-06 Nec Corp Device and method for detecting faulty parts for printed circuit board
JP2000304784A (en) * 1999-04-23 2000-11-02 Advantest Corp Spectrum analyzer
JP2003066079A (en) * 2001-08-30 2003-03-05 Ricoh Co Ltd Measuring device of electromagnetic disturbance wave
JP2005189045A (en) * 2003-12-25 2005-07-14 Sony Corp System and method for measuring electromagnetic field, and program for making computer perform the method

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008224306A (en) * 2007-03-09 2008-09-25 Nippon Telegraph & Telephone East Corp Spectrum analysis system
WO2011119191A2 (en) * 2009-11-30 2011-09-29 On Target Enterprises, Inc. Simultaneous radio detection and bearing system
WO2011119191A3 (en) * 2009-11-30 2011-12-08 On Target Enterprises, Inc. Simultaneous radio detection and bearing system
US10215794B2 (en) 2013-02-12 2019-02-26 Mitsubishi Electric Corporation Partial discharge sensor evaluation method and partial discharge sensor evaluation device apparatus
JP6505348B1 (en) * 2018-04-20 2019-04-24 株式会社東陽テクニカ Radiation disturbance measurement method and radiation disturbance measurement system
WO2019202732A1 (en) * 2018-04-20 2019-10-24 株式会社東陽テクニカ Radiation interference wave measurement method and radiation interference wave measurement system
US11175327B2 (en) 2018-04-20 2021-11-16 Toyo Corporation Radiated emission measurement method and radiated emission measurement system
JP2020204561A (en) * 2019-06-18 2020-12-24 株式会社日立製作所 Method for specifying noise source and information processing system
WO2020255527A1 (en) * 2019-06-18 2020-12-24 株式会社日立製作所 Noise source identification method and information processing system
JP7252070B2 (en) 2019-06-18 2023-04-04 株式会社日立製作所 NOISE SOURCE IDENTIFICATION METHOD AND INFORMATION PROCESSING SYSTEM

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