JP2006192059A

JP2006192059A - 断層測定装置

Info

Publication number: JP2006192059A
Application number: JP2005006228A
Authority: JP
Inventors: Toshikazu Tanaka; 俊積田中
Original assignee: Fujinon Corp
Current assignee: Fujinon Corp
Priority date: 2005-01-13
Filing date: 2005-01-13
Publication date: 2006-07-27

Abstract

【課題】低可干渉光束の出射端面から被検領域までの距離が変化するような場合でも、リアルタイムで被検領域の光断層情報を得ることが可能な断層測定装置を得る。
【解決手段】断層測定装置は、内挿型の測定プローブ１０の先端部にそれぞれ配設された、低可干渉光束の照射部１３と超音波を送受信する圧電振動子１４とを備えている。そして、圧電振動子１４から送受信される超音波に基づき、位置検出部４４において照射部１３の出射端面から被検体６０の内周面６１までの距離が求められ、この距離の変化に応じて、経路長調整機構２４において第２光束の経路長が調整されるように構成されている。
【選択図】図１

Description

本発明は、可干渉距離の短い低コヒーレンス光を利用する光コヒーレンストモグラフィ（Optical Coherence Tomography：ＯＣＴ）と称される手法を適用して、医療または工業等の分野において被検体の断層測定を行なう際に用いられる断層測定装置に関し、特に、超音波を利用する超音波パルス反射法と称される手法をＯＣＴの手法と組み合わせて断層測定を行なうように構成された断層測定装置に関する。

従来、医療用や工業用等の被検体を撮像する分野、特に電子内視鏡の分野において、ＯＣＴを利用した断層測定（以下、「光断層測定」と称することがある）技術の研究開発が進められている（下記特許文献１、下記非特許文献１参照）。

この光断層測定の原理は以下の通りである。すなわち、スペクトル幅の広い低可干渉光束を第１光束と第２光束とに２分し、第１光束を被検体に照射する。被検体が生体等の高吸収・高多重散乱物体である場合、被検体に照射された第１光束は、被検体の内部に侵入し、主に屈折率分布が不連続となる各断層境界部において後方散乱光を生じさせる。各断層境界部で生じた各々の後方散乱光は、僅かにコヒーレンス性を有しており、照射経路を逆進した後、第２光束と合波されて光検出器に導かれる。

被検体の各断層境界部で生じた後方散乱光は、被検体の深さ方向の各発生位置に対応する（時間的、空間的な）光遅延量を伴って光検出器に到達するが、そのコヒーレンス時間の短さから、第２光束との光遅延量が略等しい（第２光束との光路長差が数μｍ程度の）光波（波束）だけが第２光束と干渉して、光検出器により干渉信号として検出され得る。そこで、第２光束の光遅延量を可変とする機構（以下「光遅延機構」と称する）を用いて、第２光束の光遅延量を時間的に微小変化させることにより、被検体の深さ方向の各位置からの後方散乱光による各干渉信号を時系列的に得、これら各干渉信号の強度分布に基づき被検体の断層画像を形成する。なお、光遅延機構としては、第２光束の辿る経路上に配置された反射ミラー（参照ミラー）を光軸方向に往復移動させるものが一般的に知られているが、近年では、第２光束の光遅延量をより高速に変化させるための各種の光遅延機構が提案されている（下記特許文献２、下記非特許文献２参照）。

一方、超音波パルス反射法は、超音波プローブに高周波パルスを一定周期で印加して発生させた超音波パルスを生体等に放射し、その内部で反射された超音波パルスのエコーを検出することにより、生体等の断層測定を行なう方法であり、従来、特に医療分野において、超音波パルス反射法を利用した断層測定（以下、「超音波断層測定」と称することがある）技術の研究開発が種々なされている（下記特許文献３参照）。

また、光断層測定では、一般に高い分解能が得られるが、使用する低可干渉光束の深達度（被検体内部へ侵入し反射され得る最大の深度）が短い（被検体が生体の場合、２〜３ｍｍ程度）のに対し、超音波断層測定では、使用する超音波の周波数帯域を適宜選択することにより、分解能は低くなるが深達度を大きく（周波数２．５ＭＨｚの場合、深達度は１０ｃｍ程度、周波数２０ＭＨｚの場合、深達度は２〜３ｃｍ程度）し得るという特性を有している。
このような特性の違いを利用して、生体の表層部については光断層測定を行ない、生体の深部については超音波断層測定を行なうようにした装置の提案もなされている（下記特許文献４参照）。

特公平６−３５９４６号公報特開２００３−３２９５７７号公報特許第３３４７２０５号公報特開平１１−５６７５２号公報光学３２巻４号（２００３）：佐藤学、丹野直弘著 Andrew M. Rollins, et. al, "In vivo video rateoptical coherence tomography",OPTICS EXPRESS, Vol.3, No.614, 219-229, 14 September, 1998．

上述したように光断層測定では、被検体の各断層境界部から反射された第１光束の光遅延量が、合波される第２光束の光遅延量と略等しい場合のみ干渉信号として検出され得るようになっている。第１光束の光遅延量は、第１光束の出射端面から被検領域までの距離に依存するので、この距離が変化する場合にはその変化に応じて、第２光束が辿る経路の長さを調整する必要がある。

従来、このような第２光束の経路長の調整は、その都度オペレータにより手作業的に行なわれているのが実情である。このような経路長の調整に時間がかかるため光断層測定では、第１光束の出射端面から被検領域までの距離が変化するような場合、リアルタイムで被検体の断層情報を得ることが難しく、特に、被検体を走査しながらリアルタイムで断層画像を得るような測定方法を適用することが難しいという問題がある。

本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、光断層測定により被検体の断層情報を得る断層測定装置であって、第１光束の出射端面から被検領域までの距離が変化するような場合でも、リアルタイムで被検領域の断層情報を得ることが可能な断層測定装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため本発明では、超音波を用いて被検体の位置情報を求め、この位置情報に基づき、第２光束の経路長の調整を行なうようにしている。

すなわち、本発明に係る断層測定装置は、低可干渉光束を第１光束と第２光束とに２分し、該第１光束を被検体に照射するとともに、該被検体から反射された該第１光束を前記第２光束と合波して光検出器に入射せしめ、合波された該第１光束および該第２光束の各々の光路長が互いに略一致している場合に前記光検出器において検出される干渉信号に基づき、前記被検体の断層情報を得る光断層測定手段と、超音波を前記被検体に送信するとともに、該被検体から反射された超音波を受信して、該被検体の位置情報を得る超音波測定手段と、前記超音波測定手段により得られた前記位置情報に基づき、前記第２光束が辿る経路の長さを調整して、前記光断層測定手段の測定可能範囲内に前記被検体の被検領域が含まれるようになす測定距離調整手段と、を備えてなることを特徴とする。

ここで、「測定可能範囲」とは、分波されてから合波されるまでの第２光束の光路長（光遅延機構により光路長を変化させる場合、その変化の増減分を加算した長さ）に依存するものであり、第１光束がこの測定可能範囲から反射されたものである場合には、それを第２光束と合波することにより干渉信号を得ることが可能となる範囲を意味する。

本発明において、超音波および第１光束を所定方向に走査しながら出力する測定プローブを備えるようにすることができる。その場合、前記測定距離調整手段は、第１光束による走査の期間中、測定可能範囲に被検領域が常に含まれるように、前記経路の長さ調整を所定のタイミングで行なうように構成されていることが好ましい。

また、時系列的に得られた干渉信号に基づき、被検体の断層画像を得る画像生成手段を備えたり、時系列的に受信された超音波に基づき、被検体の超音波断層画像を得る超音波画像生成手段を備えたりすることができる。

本発明の断層測定装置によれば、被検体に超音波を送受信する超音波測定手段により得られた被検体の位置情報に基づき、光断層測定手段の測定可能範囲内に被検体の被検領域が含まれるように、測定距離調整手段により第２光束の経路長を調整するように構成されているので、第１光束の出射端面から被検体の被検領域までの距離に応じて、第２光束の経路長を極めて短時間で調整することが可能となる。

したがって、第１光束の出射端面から被検領域までの距離が変化するような場合でも、リアルタイムで被検体の断層情報を得ることが可能となり、また、被検体を走査しながらリアルタイムで断層画像を得ることも可能となる。

以下、本発明の実施形態に係る断層測定装置について図面を参照しつつ説明する。図１は本発明の一実施形態に係る断層測定装置を示す概念図である。

〈装置構成〉
図１に示すように本実施形態に係る断層測定装置は、医療用の内視鏡に適用されたものであって、内挿型の測定プローブ１０と、いわゆるアンバランス型のマイケルソン干渉光学系を構成する干渉導光部２０と、光断層測定部３０と、超音波断層測定部４０と、制御部５０とに区分される。

これらのうち測定プローブ１０は、図１に示すように、回転ジョイント１１を介して軸線回りに（図中矢線方向に）回転可能に構成された回転シャフト１２と、この回転シャフト１２の先端部にそれぞれ設けられた照射部１３および圧電振動子１４とを、図示せぬ外筒（シース）内に備えており、気管支や食道等の筒状の被検体６０内に挿通されるように構成されている。また、回転シャフト１２はモータ１５により回転駆動されるように構成されており、このモータ１５の回転速度等は上記制御部５０により制御されるようになっている。

上記照射部１３は、回転シャフト１２内に挿通された光ファイバ１６により導光された光束を収束する対物レンズと、この対物レンズからの光束を直角に反射するプリズムとからなり、回転シャフト１２と共に回転しながら、測定用の低可干渉光束を被検体６０の内周面６１に沿って照射するように構成されている。また、上記圧電振動子１４は、照射部１３と一体的に回転しながら、低可干渉光束の照射方向と平行な方向に測定用の超音波（超音波パルス）を送信するとともに、被検体６０から反射された超音波を受信するように構成されている。

また、上記干渉導光部２０は、近赤外域に広いスペクトル幅（広波長帯域）を有する低可干渉光束を出射する、例えばＳＬＤ（Super-luminescent diode）やＡＳＥ (Amplified Spontaneous Emission)等の低可干渉光源２１と、導光路としての４つの光ファイバ２２Ａ〜２２Ｄと、該光ファイバ２２Ａ〜２２Ｄで導光される光束を分波および合波する２×２カプラ２３と、参照光（後述の第２光束）の辿る経路の長さを調整する経路長調整機構２４と、被検体情報を検波する光検出器２８とを備えている。

この経路長調整機構２４は、コリメータレンズ２５と参照ミラー２６とモータ２７とを備えており、参照ミラー２６は、その反射面がコリメータレンズの光軸Ｌに対して垂直となるように配置されるとともに、図示せぬリニアガイド機構により光軸Ｌ方向に沿って経路長調整範囲Ａ内を移動可能に構成されている。また、この経路長調整機構２４は、光遅延機構としても機能するように構成されている。すなわち、上記参照ミラー２６は、上記被検体６０の深さ方向の走査を行なうために走査用シフト範囲Ｂ内を高速で往復移動できるようにも構成されている。この参照ミラー２６は、リニアガイド機構を介してモータ２７により駆動されるように構成されており、このモータ２７の回転速度等は上記制御部５０により制御されるようになっている。

また、上記光断層測定部３０は、上記光検出器２８からの干渉信号に対して増幅、フィルタリング等の処理を行なう干渉信号処理部３１と、処理された信号に基づき光断層画像を生成する画像生成手段としての画像生成部３２と、生成された光断層画像を表示する画像表示部３３とを備えている。

また、上記超音波断層測定部４０は、送受信部４１と、超音波画像生成手段としての超音波画像生成部４２と、画像表示部４３と、位置検出部４４とを備えてなる。送受信部４１は、上記圧電振動子４１に電気的な高周波パルスを所定の周期で印加して該圧電振動子４１から超音波を放射せしめるとともに、圧電振動子４１が受信し電気信号に変換された反射超音波を増幅、検波して所定の反射信号を得るように構成されている。超音波画像生成部４２は、得られた反射信号に基づき超音波断層画像を生成するように構成されており、画像表示部４３は、生成された超音波画像を表示するように構成されている。また、位置検出部４４は、送受信部４１からの反射信号に基づき、超音波を送信してから受信されるまでの時間を求めて、上記被検体６０の位置情報（本実施形態では、上記圧電振動子４１から上記被検体６０の表面までの距離情報）を得るように構成されている。

また、上記制御部５０は、位置検出部４４より得られた位置情報に基づき上記モータ２７を制御して、上記参照ミラー２６の基準位置（参照ミラー２６による上記走査用シフト範囲Ｂ内の往復移動を開始する位置）を変えるとともに、上記モータ１５を制御して上記回転シャフト１２を回転せしめるように構成されている。

なお、本実施形態では、測定プローブ１０と干渉導光部２０と光断層測定部３０とにより、本発明の光断層測定手段が構成されており、測定プローブ１０と超音波断層測定部４０とにより、本発明の超音波測定手段が構成されている。また、経路長調整機構２４と制御部５０とにより、本発明の測定距離調整手段が構成されている。

〈装置の作用〉
以下、本実施形態に係る断層測定装置の全体的な作用を説明する。本実施形態装置では、低可干渉光束を用いた光断層測定と超音波を用いた超音波断層測定とが同時並行的に実施される。

光断層測定では、低可干渉光源２１から出射された低可干渉光束が図示されない集光レンズにより光ファイバ２２Ａの入射端面に集光され、この光ファイバ２２Ａにより２×２カプラ２３に伝送される。伝送された低可干渉光束は、この２×２カプラ２１において第１光束と第２光束とに２分され、第１光束は光ファイバ２２Ｂにより測定プローブ１０に伝送され、第２光束は光ファイバ２２Ｃにより経路長調整機構２４に伝送される。

測定プローブ１０に伝送された第１光束は、測定用の光束として、回転する照射部１３より被検体６０の内周面に沿って集光照射される。被検体６０に照射された第１光束は、被検体６０の内部に侵入し、主に屈折率分布が不連続となる各断層境界部において後方散乱光を生じさせる。被検体６０の深さ方向の各断層境界部で生じた各々の後方散乱光は、僅かにコヒーレンス性を有しており、各々が深さ方向に応じた光遅延量を伴いながら照射経路を逆に進み２×２カプラ２３に伝送される。

また、経路長調整機構２４に伝送された第２光束は、コリメータレンズ２５により平行光束に変換されて参照ミラー２６に照射される。参照ミラー２６に照射された第２光束は、反射面において入射方向とは逆向きに反射されて経路を逆に進み、コリメータレンズ２５、光ファイバ２２Ｃを介して２×２カプラ２３に伝送される。

２×２カプラ２３にそれぞれ伝送された第１光束および第２光束は、２×２カプラ２３において互いに合波されるが、合波された両光束はコヒーレンス長が極めて短いものであるため、各々の光遅延量が略等しい場合のみ干渉する。したがって、第２光束の光遅延量（光路長）を経路長調整機構２４において逐次変化させることにより、被検体６０の深さ方向の各位置の干渉波情報（断層情報）が時系列的に得られることになる。

２×２カプラ２３で合波された光は、光ファイバ２２Ｄを介して光検出器２８に到達し、光検出器２８により光電変換されて干渉信号が得られる。この干渉信号は、干渉信号処理部３１に入力されて所定の信号処理が施された後に画像生成部３２に入力され、画像生成部３２において、被検体６０の深さ方向および周方向の２次元断層映像が生成されて、画像表示部３３において表示される。

一方、超音波断層測定では、送受信部４１より圧電振動子１４に高周波パルスが所定周期で印加され、照射部１３と共に回転する圧電振動子４１から超音波が被検体６０に向けて送信される。送信された超音波は、被検体６０の内周面６１や、被検体６０の内部において音響インピーダンスの差がある各断層境界部で一部反射され、反射された超音波は圧電振動子１４により受信され電気信号に変換された後、送受信部４１に入力される。入力された電気信号は、送受信部４１において所定の反射信号に変換されて超音波画像生成部４２に入力され、超音波画像生成部４２において、被検体６０の深さ方向および周方向の２次元断層映像が生成されて、画像表示部４３において表示される。

ところで、上述した光断層測定では、被検体６０の各断層境界部から反射された第１光束の光遅延量が、合波される第２光束の光遅延量と略等しい場合のみ干渉信号として検出され得るようになっている。第１光束の光遅延量は、２×２カプラ２３から光ファイバ２２Ｂを介して照射部１３の出射端面に至る往復経路長と、照射部１３の出射端面から被検領域内の各反射位置までの往復距離に依存しており、第２光束の光遅延量は、２×２カプラ２３から光ファイバ２２Ｃ、コリメータレンズ２５を介して参照ミラー２６（の反射面）に至る往復経路長に依存している。したがって、被検領域の深さ方向全域に亘る断層情報を得るためには、参照ミラー２６の光軸Ｌ方向の走査範囲において、参照ミラー２６が最もコリメータレンズ２５に近づいたときの第２光束の光路長が、被検領域の最も浅い位置（例えば内周面６１）から反射された第１光束の光路長以下であり、かつ参照ミラー２６が最もコリメータレンズ２５から遠のいたときの第２光束の光路長が、被検領域の最も深い位置（例えば使用する低可干渉光束の深達度に等しい位置）から反射された第１光束の光路長以上である必要があり、照射部１３の出射端面から被検領域までの距離が、この参照ミラー２６の走査範囲を超えて変化する場合にはその変化に応じて、参照ミラー２６の上記基準位置を変化させて第２光束が辿る経路の長さを調整する必要がある。

本実施形態に係る断層測定装置は、超音波を用いて被検体６０の内周面６１までの距離を検出し、第２光束の経路長を自動調整するようにした点に特徴を有するものであり、以下、この経路長の調整について詳細に説明する。

〈第２光束の経路長調整〉
図２は第２光束の経路長調整の一例を概念的に示す図である。この図２は、低可干渉光束および超音波を用いて円筒状の被検体６０を図中時計回りの方向にラジアル走査する際に、ラジアル走査の回転中心Ｄが被検体６０の中心Ｃから偏倚しているために、ラジアル走査の回転に従い回転中心Ｄから被検体６０までの距離が変化する場合を示している。

また、図２に示す例では、ラジアル走査の期間中、低可干渉光束による測定可能範囲Ｗ（図中斜線を付した部分）に、被検領域Ｓ（内周面６１と２点鎖線で示す円とで挟まれた円環状の部分）が常に含まれるように、ラジアル走査の回転中心Ｄから被検体６０までの距離の変化に応じて測定可能範囲Ｗの位置がシフトするように、第２光束の経路長調整を所定のタイミングで行なうようにしている。なお、図２は、被検体６０の内径が２０ｍｍで、ラジアル走査の回転中心Ｄが被検体６０の中心Ｃから５ｍｍ偏倚しており、また被検領域Ｓの深さ方向の幅（径方向の長さ）が２ｍｍで、測定可能範囲Ｗの深さ方向の幅が５ｍｍである場合に略対応している。また、測定可能範囲Ｗの深さ方向の幅は、図１に示す参照ミラー２６の上記走査用シフト範囲Ｂの距離に略対応している。

第２光束の経路長調整は以下のように行なわれる。すなわち、図１に示す測定プローブ１０を、回転シャフト１２が回転しない状態で被検体６０内に挿入し、任意の位置で停止して超音波を被検体６０に送信する。送信された超音波が被検体６０の内周面で反射されて受信されるまでの経過時間に基づき、圧電振動子１４の超音波放射面から内周面６１までの距離（照射部１３の出射面から内周面６１までの距離と同じ）を位置検出部４４において求め、その距離情報を制御部５０に入力する。

制御部５０は、入力された距離情報に基づきモータ２７を制御して、参照ミラー２６の位置を変えることにより第２光束の経路長を変化させ、図２に示す測定開始位置における被検領域Ｓが測定可能範囲Ｗ内に含まれるように初期設定を行なう。この初期設定の後、第１光束を被検体６０に照射するとともに、図１に示す回転シャフト１２を回転させて、低可干渉光束および超音波のラジアル走査による光断層測定および超音波断層測定を開始する（参照ミラー２６の走査も同時に開始される）。

この測定の期間中、所定の周期（例えば、ラジアル走査１周の期間に、７２０ラインの画像信号を得る場合、１ライン毎、あるいは数ライン間隔）で位置検出部１４による距離検出が行なわれ、図２に示すように測定可能範囲Ｗが被検領域Ｓを常に含むように、制御部５０により参照ミラー２６の位置がシフトされる（例えば、測定可能範囲Ｗの境界と被検領域Ｓの境界とがどの距離まで接近したらシフトを行なうかの閾値を設定しておき、両境界の距離がこの閾値を超えて接近した時点でシフトを行なう）。図２に示す例では、測定開始位置から角度θ_１走査した時点で１回目のシフトが行なわれ、以降、角度θ_２，θ_３，θ_４，θ_５と走査が進む毎に２回目〜５回目までのシフトが行なわれる。

なお、被検体６０と測定プローブ１０との位置関係が、概略的に図２に示すような状態となることが予見し得るような場合には、角度θ_１〜θ_５のいずれよりも小なる所定角度（シフトを一旦行なった後は、ラジアル走査の範囲がこの所定角度内を超えない限りは、被検領域Ｓが測定可能範囲Ｗに含まれていることが確実な角度）を予め設定しておき、シフトを一旦行なった後は、設定された所定角度内の走査期間中は位置検出部１４による距離検出を行なわず、所定角度を超えた時点で位置検出部１４による距離検出を所定周期で行なうようにすることも可能である。

以上説明したように、本実施形態の断層測定装置によれば、被検体６０に超音波を送受信することにより得られた被検体６０の位置情報に基づき、ラジアル走査の期間中常に、測定可能範囲Ｗ内に被検体６０の被検領域Ｓが含まれるように、第２光束の経路長を調整するように構成されているので、第１光束の出射端面から被検領域Ｓまでの距離が変化するような場合でも、被検体６０をラジアル走査しながらリアルタイムで光断層画像を得ることが可能となる。

また、超音波断層測定による超音波画像も同時に得られるので、被検体６０の表層部分については高解像度の光断層画像に基づいた測定、診断を行ない、光断層測定を行なうことができない、被検体６０のより深い部分については超音波画像に基づいた測定、診断を行なうことも可能である。

＜態様の変更＞
以上、本発明に係る断層測定装置の一実施形態を説明したが、本発明はかかる実施形態に限定されるものではなく、種々に実施の態様を変更することが可能である。

例えば、上記実施形態においては、経路長調整機構２４が光遅延機構としても機能するように構成されているが、光遅延機構を経路長調整機構とは別に設けるようにしてもよい。その場合の光遅延機構としては、前掲の特許文献２や非特許文献２に記載されたものを用いることが可能である。

また、上記実施形態においては、測定プローブ１０がラジアル走査を行なうように構成されているが、走査の態様としてはラジアル走査以外にも、リニア走査やセクタ走査、アーク走査やコンパウンド走査、あるいはラジアル走査とリニア走査とを複合して行なうものなど、種々の走査の態様を採ることが可能である。

また、図１に示す装置においては、アンバランス型のマイケルソン干渉光学系を用いているが、これに替えて、バランス型のマイケルソン干渉光学系を用いてもよいし、図１に示すマイケルソンタイプに替えて、マッハツェンダタイプ等の他の干渉光学系を用いるようにしてもよい。

また、被検体としては人体に限られず、光が内部に侵入して、内部の各位置から反射光が得られるその他の種々の組織とすることができる。

本発明の一実施形態に係る断層測定装置の構成を概略的に示す図第２光束の経路長調整の一例を概念的に示す図

符号の説明

１０測定プローブ
１１回転ジョイント
１２回転シャフト
１３照射部
１４圧電振動子
１５，２７モータ
１６，２２Ａ〜２２Ｄ光ファイバ
２０干渉導光部
２１低可干渉光源
２３２×２カプラ
２４経路長調整機構
２５コリメータレンズ
２６参照ミラー
２８光検出器
３０光断層測定部
３１干渉信号処理部
３２画像生成部
３３，４３画像表示部
４０超音波断層測定部
４１送受信部
４２超音波画像生成部
４４位置検出部
５０制御部
６０被検体
６１（被検体の）内周面
Ａ経路長調整範囲
Ｂ走査用シフト範囲
Ｃ（被検体の）中心
Ｄ（ラジアル走査の）回転中心
Ｓ被検領域
Ｗ測定可能範囲

Claims

低可干渉光束を第１光束と第２光束とに２分し、該第１光束を被検体に照射するとともに、該被検体から反射された該第１光束を前記第２光束と合波して光検出器に入射せしめ、合波された該第１光束および該第２光束の各々の光路長が互いに略一致している場合に前記光検出器において検出される干渉信号に基づき、前記被検体の断層情報を得る光断層測定手段と、
超音波を前記被検体に送信するとともに、該被検体から反射された超音波を受信して、該被検体の位置情報を得る超音波測定手段と、
前記超音波測定手段により得られた前記位置情報に基づき、前記第２光束が辿る経路の長さを調整して、前記光断層測定手段の測定可能範囲内に前記被検体の被検領域が含まれるようになす測定距離調整手段と、を備えてなることを特徴とする断層測定装置。
前記被検領域の各深さ位置の断層情報が得られるように、前記第２光束の光遅延量を時間的に変化させる光遅延機構を備えていることを特徴とする請求項１記載の断層測定装置。
前記超音波および前記第１光束を所定方向に走査しながら出力する測定プローブを備えていることを特徴とする請求項１または２記載の断層測定装置。
前記測定距離調整手段は、前記第１光束による前記走査の期間中、前記測定可能範囲に前記被検領域が常に含まれるように、前記経路の長さ調整を所定のタイミングで行なうように構成されていることを特徴とする請求項３記載の断層測定装置。
時系列的に得られた前記干渉信号に基づき、前記被検体の断層画像を得る画像生成手段を備えていることを特徴とする請求項１〜４までのうちいずれか１項記載の断層測定装置。
時系列的に受信された前記超音波に基づき、前記被検体の超音波断層画像を得る超音波画像生成手段を備えていることを特徴とする請求項１〜５までのうちいずれか１項記載の断層測定装置。