JP2003175683A - Original planographic printing plate - Google Patents

Original planographic printing plate

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JP2003175683A
JP2003175683A JP2001379053A JP2001379053A JP2003175683A JP 2003175683 A JP2003175683 A JP 2003175683A JP 2001379053 A JP2001379053 A JP 2001379053A JP 2001379053 A JP2001379053 A JP 2001379053A JP 2003175683 A JP2003175683 A JP 2003175683A
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JP
Japan
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group
water
hydrophilic
acid
printing plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001379053A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sumiaki Yamazaki
純明 山崎
Koichi Kawamura
浩一 川村
Satoshi Hoshi
聡 星
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original planographic printing plate which allows to obtain a number of unblotted printed matter under severe printing conditions by achieving improvement in the avoidance of blot, enables production of plates by scanning exposure based on digital signals, and has an excellent developing property on machine. <P>SOLUTION: The original planographic printing plate is provided with a hydrophilic graft on its support, and a hydrophilic layer having a bridge structure which is formed by hydrolysis and condensation polymerization of an alkoxide compound comprising elements selected from Si, Ti, Zr and Al. Also, the plate comprises water dispersible particles which enable formation of a hydrophobic region on the surface through heating of or radiant ray irradiation on the hydrophilic layer. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は新規な平版印刷版原
版に関するものであり、詳細には、デジタル信号に基づ
いてレーザ光による画像の走査露光が可能であり、感度
及び汚れ性に優れた平版印刷版原版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel lithographic printing plate precursor, and more particularly to a lithographic printing plate capable of scanning and exposing an image with a laser beam based on a digital signal and having excellent sensitivity and stain resistance. Regarding the original printing plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】平版印刷は、インキを受容する親油性領
域と、インキを受容せず湿し水を受容する撥インク領域
(親水性領域)を有する版材を利用する印刷方法であ
り、現在では広く感光性の平版印刷版原版(PS版)が
用いられている。PS版は、アルミニウム板などの支持
体の上に、感光層を設けたものが実用化され広く用いら
れている。このようなPS版は、画像露光および現像に
より非画像部の感光層を除去し、基板表面の親水性と画
像部の感光層の親油性を利用して印刷が行われている。
このような版材では、非画像部の汚れ防止のため、基板
表面には高い親水性が要求される。
2. Description of the Related Art Lithographic printing is a printing method which utilizes a plate material having an oleophilic region for receiving ink and an ink repellent region (hydrophilic region) for receiving dampening water without receiving ink. In general, a photosensitive lithographic printing plate precursor (PS plate) is used. As the PS plate, one having a photosensitive layer provided on a support such as an aluminum plate has been put into practical use and widely used. In such a PS plate, the photosensitive layer in the non-image area is removed by imagewise exposure and development, and printing is performed by utilizing the hydrophilicity of the substrate surface and the lipophilicity of the photosensitive layer in the image area.
In such a plate material, the substrate surface is required to have high hydrophilicity in order to prevent stains on the non-image area.

【0003】従来、平版印刷版に用いる親水性基板又は
親水性層としては、陽極酸化されたアルミニウム基板、
若しくはさらに親水性を上げるためにこの陽極酸化され
たアルミニウム基板をシリケート処理することが一般的
に行なわれている。さらに、これらアルミニウム支持体
を用いた親水化基板若しくは親水性層に関する研究が盛
んに行われており、例えば、特開平7−1853号公報
には、ポリビニルホスホン酸で下塗り剤で処理された基
板が、また、特開昭59−101651号公報には、感
光層の下塗り層としてスルホン酸基を有するポリマーを
使用する技術がそれぞれ記載されており、その他にも、
ポリビニル安息香酸などを下塗り剤として用いる技術も
提案されている。
Conventionally, as a hydrophilic substrate or hydrophilic layer used for a lithographic printing plate, an anodized aluminum substrate,
Alternatively, in order to further increase the hydrophilicity, it is common practice to subject the anodized aluminum substrate to a silicate treatment. Furthermore, researches on hydrophilic substrates or hydrophilic layers using these aluminum supports have been actively conducted. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 7-1853 discloses a substrate treated with polyvinylphosphonic acid as an undercoating agent. Further, JP-A-59-101651 discloses a technique of using a polymer having a sulfonic acid group as an undercoat layer of a photosensitive layer.
A technique of using polyvinyl benzoic acid or the like as an undercoating agent has also been proposed.

【0004】一方、アルミニウムの様な金属支持体を用
いずPET(ポリエチレンフタレート)、セルロースア
セテートなどのフレキシブルな支持体を用いたときの親
水性層に関しては、特開平8−292558号公報に記
載の親水性ポリマーと疎水性ポリマーとからなる膨潤親
水層、EP0709228号に記載のマイクロポーラス
な親水性架橋シリケート表面を有するPET支持体、特
開平8−272087号、同8−507727号の各公
報に記載の親水性ポリマーを含有し加水分解されたテト
ラアルキルオルソシリケートで硬化された親水性層等
の、種々の技術が提案されている。
On the other hand, the hydrophilic layer when a flexible support such as PET (polyethylene phthalate) or cellulose acetate is used without using a metal support such as aluminum is described in JP-A-8-292558. A swollen hydrophilic layer composed of a hydrophilic polymer and a hydrophobic polymer, a PET support having a microporous hydrophilic crosslinked silicate surface described in EP 0709228, and described in JP-A-8-272087 and JP-A-8-507727. Various techniques have been proposed, such as a hydrophilic layer containing the hydrophilic polymer described above and cured with a hydrolyzed tetraalkyl orthosilicate.

【0005】これらの親水性層は、従来のものより親水
性が向上し、印刷開始時には汚れの生じない印刷物が得
られる平版印刷版を与えたが、印刷を繰り返すうちに剥
離したり、親水性が経時的に低下したりする問題があ
り、より厳しい印刷条件においても、親水性層が支持体
から剥離したり、表面の親水性が低下することなく、多
数枚の汚れの生じない印刷物が得られる平版印刷版原版
が望まれていた。また、実用的な観点から、さらなる親
水性の向上も要求されるのが現状である。
These hydrophilic layers provide a lithographic printing plate which has improved hydrophilicity as compared with the conventional ones and gives a printed matter free from stains at the start of printing. Even if the printing conditions are more severe, the hydrophilic layer does not peel off from the support or the hydrophilicity of the surface does not decrease, and a number of stain-free printed products can be obtained. A planographic printing plate precursor to be used was desired. In addition, from the practical viewpoint, it is the current situation that further improvement in hydrophilicity is required.

【0006】一方、近年進展が目覚ましいコンピュータ
・トゥ・プレートシステム用刷版については、多数の研
究がなされている。その中で、一層の工程合理化と廃液
処理問題の解決を目指すものとして、露光後、現像処理
することなしに、印刷機に装着して印刷できる現像不要
の平版印刷版原版が研究され、種々の方法が提案されて
いる。処理工程をなくす方法の一つに、露光済みの印刷
用原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリンダーを回
転しながら湿し水とインキを供給することによって、印
刷用原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法
がある。すなわち、印刷用原版を露光後、そのまま印刷
機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が完了する方式
である。
[0006] On the other hand, many studies have been conducted on printing plates for computer-to-plate systems, which have made remarkable progress in recent years. Among them, in order to further rationalize the process and solve the problem of waste liquid treatment, a development-free planographic printing plate precursor that can be mounted on a printing machine and printed without being subjected to development processing after exposure has been studied and various A method has been proposed. One of the methods to eliminate the processing step is to mount the exposed printing original plate on the cylinder of the printing machine and supply the dampening water and ink while rotating the cylinder to remove the non-image area of the printing original plate. There is a method called on-press development. That is, this is a method in which the printing original plate is exposed and then mounted on a printing machine as it is, and the processing is completed in a normal printing process.

【0007】このような機上現像に適した平版印刷版原
版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光層を有し、しか
も、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した明
室取り扱い性を有することが必要とされる。現像工程を
必要としない刷版としてWO94/23954には、基
板上に架橋された親水層を設けその中にマイクロカプセ
ル化された熱溶融物質を含有した無処理刷版が記載され
ている。この刷版ではレーザーの露光領域に発生した熱
の作用によりマイクロカプセルが崩壊し、カプセル中の
親油物質が溶け出し、親水層表面が疎水化される。この
印刷版原版は現像処理を必要としないが、基板上に設け
られた親水層の親水性や耐久性が不充分であり、印刷す
るにつれて非画像部に徐々に汚れが生じてくる問題点が
あった。
Such a lithographic printing plate precursor suitable for on-press development has a photosensitive layer soluble in fountain solution and ink solvent, and is developed on a printing machine placed in a bright room. It is necessary to have a light room handling property suitable for. As a printing plate which does not require a developing step, WO94 / 23954 describes an untreated printing plate in which a crosslinked hydrophilic layer is provided on a substrate and a micro-encapsulated heat-melting substance is contained therein. In this printing plate, the microcapsules collapse due to the action of heat generated in the exposed area of the laser, the lipophilic substance in the capsules dissolves, and the surface of the hydrophilic layer becomes hydrophobic. This printing plate precursor does not require a developing treatment, but the hydrophilicity and durability of the hydrophilic layer provided on the substrate are insufficient, and there is a problem that the non-image area gradually becomes dirty as it is printed. there were.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】前記従来の諸問題を解
決すべくなされた本発明の目的は、親水性が高く、ま
た、その持続性に優れた親水性層を備えることで、特に
印刷汚れ性が改善され、厳しい印刷条件においても、汚
れが生じない印刷物が多数枚得られる平版印刷版原版を
提供することにある。本発明の更なる目的は、デジタル
信号に基づいた走査露光による製版が可能であり、且
つ、画像形成後に簡易な水現像処理操作による製版、あ
るいは、特別の現像処理を行なうことなく、そのまま印
刷機に装着し印刷すること、が可能な平版印刷版原版を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention, which has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, is to provide a hydrophilic layer having high hydrophilicity and excellent durability, and in particular, printing stains. It is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate precursor which has improved properties and is capable of obtaining a large number of printed materials which are free from stains even under severe printing conditions. A further object of the present invention is to enable plate making by scanning exposure based on a digital signal, and to perform printing as it is without performing plate making by a simple water development processing operation after image formation or performing special development processing. It is to provide a lithographic printing plate precursor that can be mounted on and printed.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の目
的を達成すべく検討した結果、特定の親水性ポリマーを
含有する有機無機複合体からなる架橋構造が形成された
親水性層中に表面疎水化領域を形成し得る化合物を含有
させることにより問題が解決することを見出し、本発明
を完成した。
Means for Solving the Problems As a result of studies to achieve the above object, the present inventors have found that a hydrophilic layer in which a crosslinked structure composed of an organic-inorganic composite containing a specific hydrophilic polymer is formed. We have found that the problem can be solved by incorporating a compound capable of forming a surface-hydrophobicized region into, and have completed the present invention.

【0010】すなわち、本発明の平版印刷版原版は、支
持体上に、親水性グラフト鎖を有し、且つ、Si、T
i、Zr、Alから選択される元素を含むアルコキシド
化合物の加水分解、縮重合により形成された架橋構造を
有する親水性層を備え、該親水性層に加熱または輻射線
の照射により表面疎水化領域を形成しうる水分散性粒子
を含有することを特徴とする。このような親水性層は、
例えば、下記一般式(IV)で表される親水性高分子化合
物を含有する親水性塗布液組成物を調製し、塗布して得
られることが好ましく、さらに、この親水性層を形成す
る際に架橋成分を添加することで、架橋構造がさらに高
密度で形成され、皮膜強度の向上に寄与する。
That is, the lithographic printing plate precursor of the present invention has a hydrophilic graft chain on a support, and has Si, T
a hydrophilic layer having a crosslinked structure formed by hydrolysis and condensation polymerization of an alkoxide compound containing an element selected from i, Zr and Al, and the surface of the hydrophilic layer is hydrophobized by heating or irradiation with radiation. And water-dispersible particles capable of forming Such a hydrophilic layer is
For example, it is preferable that a hydrophilic coating liquid composition containing a hydrophilic polymer compound represented by the following general formula (IV) is prepared and obtained by coating, and further when forming this hydrophilic layer: By adding the cross-linking component, the cross-linked structure is formed at a higher density, which contributes to the improvement of the film strength.

【0011】[0011]

【化4】 [Chemical 4]

【0012】式(IV)中、R8、R9、R10およびR
11は、それぞれ水素原子または炭素数1〜8の炭化水素
基を表し、R11は炭素数1〜40のアルコキシ基または
アシロキシ基を表し、kは0〜2の整数であり、mは0
〜3の整数であって、かつk+mは3以下であることを
表し、Xは1価の金属または水素原子を表す。Lは、単
結合又は有機連結基を表し、Y2は−NHCOR12、―
CONH2、―CON(R122、−COR12、−OH、
−CO22、または−SO32を表す。ここで、R1 2
炭素数1〜8のアルキル基を表し、M2は水素原子、ア
ルカリ金属、アルカリ土類金属又はオニウムを表し、n
は1〜8の整数を表す。
In the formula (IV), R 8 , R 9 , R 10 and R
11 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 11 represents an alkoxy group having 1 to 40 carbon atoms or an acyloxy group, k is an integer of 0 to 2, and m is 0.
Is an integer of 3 and k + m is 3 or less, and X represents a monovalent metal or hydrogen atom. L represents a single bond or an organic linking group, Y 2 is —NHCOR 12 , —
CONH 2, -CON (R 12) 2, -COR 12, -OH,
-CO 2 M 2, or an -SO 3 M 2. Wherein, R 1 2 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, M 2 represents a hydrogen atom, an alkali metal, alkaline earth metal or an onium, n
Represents an integer of 1 to 8.

【0013】また、加熱または輻射線の照射により表面
疎水化領域を形成しうる化合物である水分散性粒子とし
ては、下記一般式(I)の構造単位を有する疎水性ポリ
マーを、水と非混和性の溶剤に溶解し、その溶液を下記
一般式(II)又は(III)の構造単位を有する水溶性樹
脂及び/又は周期表2〜15族の元素から選ばれる少な
くとも1つの元素の酸化物粒子を含んだ水相に分散し、
油滴を形成した後、該油滴から溶剤を除去して得られる
ものであることが好ましい。
As the water-dispersible particles which are compounds capable of forming a surface-hydrophobicized region by heating or irradiation with radiation, a hydrophobic polymer having a structural unit represented by the following general formula (I) is immiscible with water. Water-soluble resin having a structural unit represented by the following general formula (II) or (III) and / or oxide particles of at least one element selected from elements of Groups 2 to 15 of the periodic table Dispersed in an aqueous phase containing
It is preferably obtained by forming the oil droplets and then removing the solvent from the oil droplets.

【0014】[0014]

【化5】 [Chemical 5]

【0015】(ここで、R1,R2、R3およびR4は、そ
れぞれ水素原子または炭素数1〜8の炭化水素基を表
し、R4は炭素数1〜40のアルコキシ基またはアシロ
キシ基を表し、kは0〜2の整数であり、mは0〜3の
整数であって、かつk+mは3以下であることを表し、
Xは1価の金属または水素原子を表し、Zは下記から選
ばれる基を表す。)
[0015] (wherein, R 1, R 2, R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 4 is alkoxy or acyloxy group having 1 to 40 carbon atoms , K is an integer of 0 to 2, m is an integer of 0 to 3, and k + m is 3 or less,
X represents a monovalent metal or a hydrogen atom, and Z represents a group selected from the following. )

【0016】[0016]

【化6】 [Chemical 6]

【0017】(ここで、R5は水素原子または炭素数1
〜8の炭化水素基を表し、R6は炭素数5以下のアルキ
レン基または複数の連鎖炭素原子団が互いに炭素原子も
しくは窒素原子で結合した2価の有機残基を表し、nは
0〜4の整数を表す。)
(Here, R 5 is a hydrogen atom or a carbon number 1
Represents a hydrocarbon group of 8 to 8, R 6 represents an alkylene group having 5 or less carbon atoms or a divalent organic residue in which a plurality of chain carbon atom groups are bonded to each other by a carbon atom or a nitrogen atom, and n is 0 to 4 Represents the integer. )

【0018】[0018]

【化7】 [Chemical 7]

【0019】(ここで、R1〜R4、X、Z、kおよびm
は一般式(I)と同じであり、Y1は−NHCOR7、―
CONH2、―CON(R72、−COR7、−OH、−
CO21、または−SO31を表す。ここで、R7は炭
素数1〜8のアルキル基を表し、M1は水素原子、アル
カリ金属、アルカリ土類金属又はオニウムを表し、nは
1〜8の整数を表す。)
(Where R 1 to R 4 , X, Z, k and m
Is the same as in the general formula (I), Y 1 is —NHCOR 7 , —
CONH 2, -CON (R 7) 2, -COR 7, -OH, -
CO 2 M 1, or an -SO 3 M 1. Wherein, R 7 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, M 1 is a hydrogen atom, an alkali metal, alkaline earth metal or an onium, n represents an integer of 1-8. )

【0020】本発明の作用は明確ではないが、支持体上
に、親水性グラフト鎖を有し、且つ、Si、Ti、Z
r、Alから選択される元素を含むアルコキシド化合物
の加水分解、縮重合により形成された架橋構造を有する
親水性層は、グラフト鎖の状態で導入された親水性の官
能基が表面にフリーの状態で偏在するとともに、アルコ
キシド化合物の加水分解、縮重合により、高密度の架橋
構造を有する有機無機複合体皮膜が形成されているた
め、高い親水性を有する高強度の皮膜となる。具体的に
は、下記一般式(IV)で表される親水性高分子化合物を
含有する親水性塗布液組成物を調製し、塗布して親水性
層を形成する際に、親水性高分子化合物のシランカップ
リング基同士の相互作用により、Si(OR)4により
形成された架橋構造を有するため、強固な架橋構造によ
る高耐刷性が実現でき、且つ、親水性高分子化合物の親
水性基を有する部分は、直鎖状の幹部分の他方の末端に
位置するため、運動性が高く、印刷時に供給される湿し
水の給排水速度が速くなり、高い親水性により非画像部
の汚れを効果的に抑制し、高画質の画像形成が可能とな
るものと推定される。また、親水性塗布液組成物に下記
一般式(V)で表される架橋成分を添加することで、シ
ランカップリング基と架橋成分との相互作用により、架
橋構造がさらに高密度で形成され、さらなる皮膜強度の
向上による高耐刷性が期待される。
Although the function of the present invention is not clear, Si, Ti, Z having a hydrophilic graft chain on the support,
The hydrophilic layer having a crosslinked structure formed by hydrolysis and polycondensation of an alkoxide compound containing an element selected from r and Al has a hydrophilic functional group introduced in a graft chain state on the surface. In addition, the organic-inorganic composite film having a high-density crosslinked structure is formed by the hydrolysis and polycondensation of the alkoxide compound, resulting in a high-strength film having high hydrophilicity. Specifically, when a hydrophilic coating liquid composition containing a hydrophilic polymer compound represented by the following general formula (IV) is prepared and applied to form a hydrophilic layer, the hydrophilic polymer compound is Since the silane coupling group has a crosslinked structure formed of Si (OR) 4 due to the interaction between the silane coupling groups, high printing durability due to the strong crosslinked structure can be realized, and the hydrophilic group of the hydrophilic polymer compound can be realized. Since the part having is located at the other end of the linear trunk part, it has high motility, the dampening water supply / drain rate supplied at the time of printing is high, and the high hydrophilic property prevents stains on non-image areas. It is presumed that it is possible to effectively suppress and form a high-quality image. Further, by adding a cross-linking component represented by the following general formula (V) to the hydrophilic coating liquid composition, the cross-linking structure is formed at a higher density due to the interaction between the silane coupling group and the cross-linking component, High printing durability is expected due to further improvement in film strength.

【0021】[0021]

【化8】 [Chemical 8]

【0022】式(IV)中、R8、R9、R10およびR
11は、それぞれ水素原子または炭素数1〜8の炭化水素
基を表し、R11は炭素数1〜40のアルコキシ基または
アシロキシ基を表し、kは0〜2の整数であり、mは0
〜3の整数であって、かつk+mは3以下であることを
表し、Xは1価の金属または水素原子を表す。Lは、単
結合又は有機連結基を表し、Y2は−NHCOR12、―
CONH2、―CON(R122、−COR12、−OH、
−CO22、または−SO32を表す。ここで、R1 2
炭素数1〜8のアルキル基を表し、M2は水素原子、ア
ルカリ金属、アルカリ土類金属又はオニウムを表し、n
は1〜8の整数を表す。
In the formula (IV), R 8 , R 9 , R 10 and R
11 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 11 represents an alkoxy group having 1 to 40 carbon atoms or an acyloxy group, k is an integer of 0 to 2, and m is 0.
Is an integer of 3 and k + m is 3 or less, and X represents a monovalent metal or hydrogen atom. L represents a single bond or an organic linking group, Y 2 is —NHCOR 12 , —
CONH 2, -CON (R 12) 2, -COR 12, -OH,
-CO 2 M 2, or an -SO 3 M 2. Wherein, R 1 2 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, M 2 represents a hydrogen atom, an alkali metal, alkaline earth metal or an onium, n
Represents an integer of 1 to 8.

【0023】式(V)中、R13及びR14はそれぞれ独立
にアルキル基又はアリール基を表し、XはSi、Al、
Ti又はZrを表し、mは0〜2の整数を表す。
In the formula (V), R 13 and R 14 each independently represent an alkyl group or an aryl group, and X is Si, Al,
Represents Ti or Zr, and m represents an integer of 0 to 2.

【0024】さらに、本発明では、前記親水性層中に表
面疎水化領域を形成し得る水分散性粒子を含有させるこ
とにより、親水性高分子化合物からなるマトリックス中
において、該水分散性粒子が加熱、または輻射線照射領
域において互いに融着して疎水性領域を形成し、短時間
でのレーザー光等の走査露光による画像形成が可能とな
り、画像形成層として機能する。非画像部領域は、前記
親水性層中に表面疎水化領域を形成しうる水分散性粒子
が含有されているものの、水分散性粒子が水溶性樹脂、
及び/又は周期表2〜15族の元素から選ばれる少なく
とも1つの元素の酸化物粒子により表面が親水化されて
いるため、汚れの発生要因となはり難く、高い親水性が
保持されている。このため、僅かな水分でも容易に分散
し、除去され、簡易な水現像処理操作による製版、ある
いは、現像処理を必要とせず、直接印刷機に装着して製
版するという高い機上現像性を発現することが可能とな
った。本発明における水分散性粒子は、疎水性ポリマー
の構造中に、親水性層中のアルコキシド化合物を構成す
る珪素などの原子と相互作用を形成し得る有機珪素基を
持つことから、親水性層との高い密着性が達成され、高
耐刷性を実現し得るという利点をも有するものと考えら
れる。
Furthermore, in the present invention, by incorporating water-dispersible particles capable of forming a surface-hydrophobicized region into the hydrophilic layer, the water-dispersible particles are contained in a matrix composed of a hydrophilic polymer compound. In a heating or radiation irradiation area, they are fused with each other to form a hydrophobic area, and an image can be formed by scanning exposure with a laser beam or the like in a short time, which functions as an image forming layer. The non-image part region contains water-dispersible particles capable of forming a surface-hydrophobicized region in the hydrophilic layer, but the water-dispersible particles are water-soluble resin,
And / or since the surface is made hydrophilic by oxide particles of at least one element selected from elements of Groups 2 to 15 of the periodic table, it is less likely to cause stains and high hydrophilicity is maintained. For this reason, even a small amount of water is easily dispersed and removed, and plate making by a simple water development processing operation, or high on-press developability that is directly mounted on a printing machine to make a plate without requiring development processing It became possible to do. The water-dispersible particles of the present invention have an organic silicon group capable of forming an interaction with the atoms such as silicon constituting the alkoxide compound in the hydrophilic layer in the structure of the hydrophobic polymer, and therefore, are It is considered that it also has an advantage that high adhesiveness can be achieved and high printing durability can be realized.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下に本発明の平版印刷版原版に
ついて詳細に説明する。本発明の平版印刷版原版は、支
持体上に、特定の親水性ポリマーと有機無機複合体から
なる架橋構造とを有する親水性層を有し、且つ、該親水
性層には、加熱又は輻射線の照射により表面疎水化領域
を形成しうる水分散性粒子を含有する構成を有し、親水
性層自体が画像形成機能を有する。以下、本発明の平版
印刷版原版の各構成について詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The planographic printing plate precursor of the invention is described in detail below. The lithographic printing plate precursor according to the invention has, on a support, a hydrophilic layer having a specific hydrophilic polymer and a crosslinked structure composed of an organic-inorganic composite, and the hydrophilic layer is heated or radiated. The hydrophilic layer itself has an image forming function because it has a structure containing water-dispersible particles capable of forming a surface-hydrophobicized region by irradiation with rays. Hereinafter, each constitution of the planographic printing plate precursor of the invention will be described in detail.

【0026】〔親水性層〕本発明における親水性層は、
親水性グラフト鎖を有し、且つ、Si、Ti、Zr、A
lから選択される元素を含むアルコキシド化合物の加水
分解、縮重合により形成された架橋構造を有するもので
あるが、このような架橋構造を有する親水性層は、先に
例示されたアルコキシド化合物の構造と、親水性グラフ
ト鎖を形成しうる親水性の官能基を有する化合物とを用
いて、適宜、形成することができる。アルコキシド化合
物のなかでも、反応性、入手の容易性からSiのアルコ
キシドが好ましく、具体的には、シランカップリング剤
に用いる化合物を好適に使用することができる。
[Hydrophilic layer] The hydrophilic layer in the invention is
It has a hydrophilic graft chain and contains Si, Ti, Zr, A
The alkoxide compound containing an element selected from 1 has a crosslinked structure formed by hydrolysis and polycondensation, and the hydrophilic layer having such a crosslinked structure has the structure of the alkoxide compound exemplified above. And a compound having a hydrophilic functional group capable of forming a hydrophilic graft chain, can be appropriately formed. Among the alkoxide compounds, Si alkoxides are preferable from the viewpoint of reactivity and easy availability, and specifically, the compounds used for the silane coupling agent can be preferably used.

【0027】前記したようなアルコキシド化合物の加水
分解、縮重合により形成された架橋構造を、本発明では
以下、適宜、ゾルゲル架橋構造と称する。このようなフ
リーの親水性グラフト鎖とゾルゲル架橋構造とを備える
親水性層は、好ましくは、以下に詳述される親水性ポリ
マーを含有する。以下、本発明に係る親水性層の好まし
い態様における各構成成分及び親水性層の形成方法につ
いて詳細に説明する。
The crosslinked structure formed by hydrolysis and polycondensation of the alkoxide compound as described above will be appropriately referred to as a sol-gel crosslinked structure in the present invention. The hydrophilic layer having such a free hydrophilic graft chain and the sol-gel crosslinked structure preferably contains the hydrophilic polymer described in detail below. Hereinafter, each component in the preferred embodiment of the hydrophilic layer according to the present invention and the method for forming the hydrophilic layer will be described in detail.

【0028】(一般式(IV)で表される高分子化合物)
この一般式(IV)で表される高分子化合物は、末端にシ
ランカップリング基を有する親水性ポリマーであり、以
下、適宜、特定親水性ポリマーと称する。上記一般式
(IV)において、R8、R9、R10およびR11はそれぞれ
独立に、水素原子又は炭素数1〜8の炭化水素基を表
し、mは0、1または2を表し、nは1〜8の整数を表
す。炭化水素基としては、アルキル基、アリール基など
が挙げられ、炭素数1〜8の直鎖、分岐又は環状のアル
キル基が好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基、
s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペ
ンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−
エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペン
チル基等が挙げられる。R8、R9、R10およびR11は、
効果及び入手容易性の観点から、好ましくは水素原子、
メチル基又はエチル基である。
(Polymer compound represented by general formula (IV))
The polymer compound represented by the general formula (IV) is a hydrophilic polymer having a silane coupling group at the terminal, and is hereinafter referred to as a specific hydrophilic polymer as appropriate. In the above general formula (IV), R 8 , R 9 , R 10 and R 11 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, m represents 0, 1 or 2, and n Represents an integer of 1 to 8. Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group and an aryl group, and a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable. Specifically, a methyl group, an ethyl group,
Propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, isopropyl group, isobutyl group,
s-Butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-
Examples thereof include an ethylhexyl group, a 2-methylhexyl group and a cyclopentyl group. R 8 , R 9 , R 10 and R 11 are
From the viewpoint of effect and availability, preferably a hydrogen atom,
It is a methyl group or an ethyl group.

【0029】これらの炭化水素基は更に置換基を有して
いてもよい。アルキル基が置換基を有するとき、置換ア
ルキル基は置換基とアルキレン基との結合により構成さ
れ、ここで、置換基としては、水素を除く一価の非金属
原子団が用いらる。好ましい例としては、ハロゲン原子
(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリール
ジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−
ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミ
ノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ν−ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ
基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−ア
ルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキル
スルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、
アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−ア
リールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウ
レイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−
アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド
基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−
アルキルウレイド基、
These hydrocarbon groups may further have a substituent. When the alkyl group has a substituent, the substituted alkyl group is composed of a bond between the substituent and an alkylene group, and as the substituent, a monovalent non-metal atomic group except hydrogen is used. Preferred examples are halogen atoms (-F, -Br, -Cl, -I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-
Diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, Ν-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyl Oxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group,
Acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N'-alkylureido group, N ', N'-dialkylureido group, N'-
Arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-
Alkylureido group,

【0030】N−アリールウレイド基、N’−アルキル
−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリ
ールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキ
ルウレイト基、N’,N’−ジアルキル−N−アリール
ウレイド基、N’−アリール−Ν−アルキルウレイド
基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,
N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,
N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−ア
ルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、
N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイ
ド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカ
ルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカル
ボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカル
ボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボ
ニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボ
ニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル
基、
N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureate group, N', N '-Dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-α-alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N',
N'-diaryl-N-alkylureido group, N ',
N'-diaryl-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group,
N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group,

【0031】アルコキシカルボニル基、アリーロキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイ
ル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリー
ルカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル
基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アル
キルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−
SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と
称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホ
ニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナ
モイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N
−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールス
ルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフ
ィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルフ
ァモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N
−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスル
ファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモ
イル基ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基
(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォ
ノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォ
ノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホス
フォノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モ
ノアルキルホスフォノ基(−PO3H(alkyl))
及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナト基と
称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO3H(ar
yl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスフォ
ナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO32
及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称
す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3(a
lkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ基(−O
PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノオ
キシ基(−OPO(alkyl)(aryl))、モノ
アルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H(alky
l))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフォナ
トオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノオキシ基
(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基(以
後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、モルホル
ノ基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基が挙げられる。
Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-aryl. Rucarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (-
SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonato group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N
-Arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N
- arylsulfamoyl group, N, N- diaryl sulfamoyl group, N- alkyl -N- arylsulfamoyl group phosphono group (-PO 3 H 2) and its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonato group) , dialkyl phosphono group (-PO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2) , alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphono group (-PO 3 H (alkyl))
And a conjugate base group thereof (hereinafter referred to as an alkylphosphonate group), a monoarylphosphono group (—PO 3 H (ar
yl)) and a conjugated base group (hereinafter referred to as aryl phosphonophenyl group), phosphonooxy group (-OPO 3 H 2)
And its conjugate base group (hereinafter referred to as a phosphonatoxy group), a dialkylphosphonooxy group (-OPO 3 (a
lkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (-O
PO 3 (aryl) 2), alkylaryl phosphonooxy group (-OPO (alkyl) (aryl) ), monoalkyl phosphonooxy group (-OPO 3 H (alky
l)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as aryl phosphite Hona preparative group ), A morpholino group, a cyano group, a nitro group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

【0032】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル2基、キシリル基、メシチル基、クメニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメ
チルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェ
ニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メ
チルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチル
アミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチ
ルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル
基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカ
ルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル
基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフ
ォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げるこ
とができる。また、アルケニル基の例としては、ビニル
基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル
基、2−クロロ−1−エテニル基等が挙げられ、アルキ
ニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、
1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げ
られる。アシル基(G1CO−)におけるG1としては、
水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げる
ことができる。
Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-mentioned alkyl groups, and specific examples of the aryl group include phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl 2 group, xylyl group and mesityl group. Group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group,
Acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonyl group Examples thereof include a phenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group and phosphonatophenyl group. Examples of the alkenyl group include vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group and the like, and examples of alkynyl group include ethynyl group, 1- A propynyl group,
Examples thereof include 1-butynyl group and trimethylsilylethynyl group. Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO-),
Examples thereof include hydrogen, and the above-mentioned alkyl group and aryl group.

【0033】これら置換基のうち、より好ましいものと
してはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、
アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキ
ルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイ
ルオキシ基、N−アリールカバモイルオキシ基、アシル
アミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−
ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル
基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スル
ホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキル
スルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル
基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N
−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォ
ナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォ
ノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナ
ト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナ
ト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、ア
リール基、アルケニル基が挙げられる。
Of these substituents, more preferred are halogen atoms (-F, -Br, -Cl, -I),
Alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcapamoyloxy group, acylamino group, formyl group, Acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-
Dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonato group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-aryl Sulfamoyl group, N-alkyl-N
-Arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonato group, dialkylphosphono group, diarylphosphono group, monoalkylphosphono group, alkylphosphonato group, monoarylphosphono group, arylphosphonato group, phosphonooxy group, Examples thereof include a phosphonatoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

【0034】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上
の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1か
ら12までの直鎖状、炭素原子数3から12まての分岐
状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。該置換基とアルキレン基を
組み合わせる事により得られる置換アルキル基の、好ま
しい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル
基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキ
シメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル
と、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエ
チルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチ
ルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニ
ルカルバモイルオキシエチルル基、アセチルアミノエチ
ル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オ
キシエチル基、2−オキシプロピル基、カルボキシプロ
ピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカ
ルボニルブチル基、
On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include a divalent organic residue obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples thereof include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkylene groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms. Preferred specific examples of the substituted alkyl group obtained by combining the substituent and the alkylene group include a chloromethyl group, a bromomethyl group, a 2-chloroethyl group, a trifluoromethyl group, a methoxymethyl group, a methoxyethoxyethyl group, and allyl. Oxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl and tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N- Phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxyethyl group, 2-oxypropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxy group Carbonyl butyl group,

【0035】クロロフェノキシカルボニルメチル基、カ
ルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル
基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−
(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチ
ル−N−(スルホフェニル)カルアバモイルメチル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルス
ルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォ
ノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスフォノブ
チル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノ
ブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホ
スフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリ
ルホスフォノへキシル基、トリルホスフォナトヘキシル
基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシ
ブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベン
ジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチ
ルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニ
ルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2
−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−
ブチニル基、3−ブチニル基等を挙げることができる。
Chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N-
(Methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbavamoylmethyl group,
Sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N
-Dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonathexyl group, diethylphosphonobutyl group, Diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatooxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methyl group Benzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2
-Methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-
Examples include butynyl group and 3-butynyl group.

【0036】Lは単結合又は有機連結基を表す。ここ
で、Lが有機連結基を表す場合、Lは非金属原子からな
る多価の連結基を示し、具体的には、1個から60個ま
での炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個か
ら50個までの酸素原子、1個から100個までの水素
原子、及び0個から20個までの硫黄原子から成り立つ
ものである。より具体的な連結基としては下記の構造単
位またはこれらが組合わされて構成されるものを挙げる
ことができる。
L represents a single bond or an organic linking group. Here, when L represents an organic linking group, L represents a polyvalent linking group consisting of a non-metal atom, and specifically, 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 nitrogens. It is composed of atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms. Examples of more specific linking groups include the following structural units or those formed by combining these.

【0037】[0037]

【化9】 [Chemical 9]

【0038】また、Y2は−NHCOR12、―CON
2、―CON(R122、−COR12、−OH、−CO
22、または−SO32を表す。ここで、R12は炭素数
1〜8の直鎖、分岐又は環状のアルキル基を表す。ま
た、−CON(R122のように複数のR12を有する場
合、R12同士が結合して環を形成していてもよく、ま
た、形成された環は酸素原子、硫黄原子、窒素原子など
のヘテロ原子を含むヘテロ環であってもよい。R12はさ
らに置換基を有していてもよく、ここで導入可能な置換
基としては、前記R8、R9、R10およびR11がアルキル
基の場合に導入可能な置換基として挙げたものを同様に
挙げることができる。
Y 2 is --NHCOR 12 , --CON
H 2, -CON (R 12) 2, -COR 12, -OH, -CO
2 M 2 or —SO 3 M 2 is represented. Here, R 12 represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Moreover, when it has a plurality of R 12 such as —CON (R 12 ) 2 , R 12 may combine with each other to form a ring, and the formed ring is an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom. It may be a heterocycle containing heteroatoms such as atoms. R 12 may further have a substituent, and examples of the substituent which can be introduced here are the substituents which can be introduced when R 8 , R 9 , R 10 and R 11 are alkyl groups. The same can be mentioned.

【0039】R12としては、具体的には、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、イソブ
チル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシ
ル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、
シクロペンチル基等が好適に挙げられる。また、M2
しては、水素原子;リチウム、ナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属;カルシウム、バリウム等のアルカリ土
類金属、又は、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニ
ウムなどのオニウムが挙げられる。Y2としては、具体
的には、−NHCOCH3、−CONH2、−COOH、
−SO3 -NMe4 +、モルホリノ基等が好ましい。
Specific examples of R 12 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t- Butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group,
A cyclopentyl group and the like are preferred. Examples of M 2 include a hydrogen atom; an alkali metal such as lithium, sodium and potassium; an alkaline earth metal such as calcium and barium; and an onium such as ammonium, iodonium and sulfonium. Specific examples of Y 2 include —NHCOCH 3 , —CONH 2 , —COOH,
-SO 3 - NMe 4 +, a morpholino group, etc. are preferable.

【0040】本発明に好適に用い得る特定親水性ポリマ
ーの具体例(例示化合物1〜例示化合物12)を以下に
示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples (Exemplified Compound 1 to Exemplified Compound 12) of the specific hydrophilic polymer which can be suitably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0041】[0041]

【化10】 [Chemical 10]

【0042】本発明に係る特定親水性ポリマーは、下記
一般式(iv)で表されるラジカル重合可能なモノマー
と、下記一般式(v)で表されるラジカル重合において
連鎖移動能を有するシランカップリング剤を用いてラジ
カル重合することにより合成することができる。シラン
カップリング剤(v)が連鎖移動能を有するため、ラジ
カル重合においてポリマー主鎖末端にシランカップリン
グ基が導入されたポリマーを合成することができる。
The specific hydrophilic polymer according to the present invention comprises a radically polymerizable monomer represented by the following general formula (iv) and a silane cup having a chain transfer ability in the radical polymerization represented by the following general formula (v). It can be synthesized by radical polymerization using a ring agent. Since the silane coupling agent (v) has chain transfer ability, it is possible to synthesize a polymer in which a silane coupling group is introduced at the terminal of the polymer main chain in radical polymerization.

【0043】[0043]

【化11】 [Chemical 11]

【0044】上記式(iv)及び(v)において、R8
11、L、Y2、n及びmは、上記式(IV)と同義であ
る。また、これらの化合物は、市販されおり、また容易
に合成することもできる。
In the above formulas (iv) and (v), R 8
R 11 , L, Y 2 , n and m have the same meaning as in the above formula (IV). In addition, these compounds are commercially available and can be easily synthesized.

【0045】一般式(IV)で表される親水性ポリマーを
合成するためのラジカル重合法としては、従来公知の方
法の何れをも使用することができる。具体的には、一般
的なラジカル重合法は、例えば、新高分子実験学3、高
分子の合成と反応1(高分子学会編、共立出版)、新実
験化学講座19、高分子化学(I)(日本化学会編、丸
善)、物質工学講座、高分子合成化学(東京電気大学出
版局)等に記載されており、これらを適用することがで
きる。
As the radical polymerization method for synthesizing the hydrophilic polymer represented by the general formula (IV), any conventionally known method can be used. Specifically, general radical polymerization methods include, for example, New Polymer Experiments 3, Polymer Synthesis and Reactions 1 (edited by The Polymer Society of Japan, Kyoritsu Shuppan), New Experimental Chemistry Course 19, Polymer Chemistry (I). (Edited by The Chemical Society of Japan, Maruzen), Material Engineering Course, Synthetic Polymer Chemistry (Tokyo Denki University Press), etc., and these can be applied.

【0046】(一般式(V)で表される架橋成分)ここ
で用いられる前記一般式(V)で表される架橋成分は、
その構造中に重合性の官能基を有し、架橋剤としての機
能を果たす化合物であり、前記特定親水性ポリマーと縮
重合することで、架橋構造を有する強固な皮膜を形成す
る。前記一般式(V)中、R13は水素原子、アルキル基
又はアリール基を表し、R 14はアルキル基又はアリール
基を表し、XはSi、Al、Ti又はZrを表し、mは
0〜2の整数を表す。R13及びR14がアルキル基を表す
場合の炭素数は好ましくは1から4である。アルキル基
又はアリール基は置換基を有していてもよく、導入可能
な置換基としては、ハロゲン原子、アミノ基、メルカプ
ト基などが挙げられる。なお、この化合物は低分子化合
物であり、分子量1000以下であることが好ましい。
(Crosslinking Component Represented by General Formula (V))
The crosslinking component represented by the general formula (V) used in
It has a polymerizable functional group in its structure and functions as a crosslinking agent.
It is a compound that fulfills its function and is condensed with the specific hydrophilic polymer.
Polymerizes to form a strong film with a crosslinked structure
It In the general formula (V), R13Is a hydrogen atom or an alkyl group
Or represents an aryl group, R 14Is an alkyl group or aryl
Represents a group, X represents Si, Al, Ti or Zr, and m represents
It represents an integer of 0 to 2. R13And R14Represents an alkyl group
The carbon number in this case is preferably 1 to 4. Alkyl group
Or, the aryl group may have a substituent and can be introduced.
Examples of such substituents include halogen atom, amino group, mercap
Group and the like. This compound is a low molecular compound.
It is a substance and preferably has a molecular weight of 1,000 or less.

【0047】以下に、一般式(V)で表される架橋成分
の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるもので
はない。XがSiの場合、即ち、加水分解性化合物中に
ケイ素を含むものとしては、例えば、トリメトキシシラ
ン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、テト
ラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロ
ポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリ
エトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロ
ピルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジエチルジエトキシシラン、γ−クロロプリピルトリエ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニル
トリプロポキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、
ジフェニルジエトキシシラン等を挙げることができる。
これらのうち特に好ましいものとしては、テトラメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、メチルトルイメトキ
シシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジ
フェニルジエトキシシラン等を挙げることができる。
Specific examples of the crosslinking component represented by the general formula (V) are shown below, but the invention is not limited thereto. When X is Si, that is, when the hydrolyzable compound contains silicon, examples thereof include trimethoxysilane, triethoxysilane, tripropoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and methyltrimethoxy. Silane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane,
Diethyldiethoxysilane, γ-chloroprepyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ
-Aminopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, diphenyldimethoxysilane,
Examples thereof include diphenyldiethoxysilane.
Among these, particularly preferable are tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltoluymethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and phenyltriethoxy. Examples thereof include silane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane and the like.

【0048】また、XがAlである場合、即ち、加水分
解性化合物中にアルミニウムを含むものとしては、例え
ば、トリメトキシアルミネート、トリエトキシアルミネ
ート、トリプロポキシアルミネート、テトラエトキシア
ルミネート等を挙げることができる。XがTiである場
合、即ち、チタンを含むものとしては、例えば、トリメ
トキシチタネート、テトラメトキシチタネート、トリエ
トキシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラ
プロポキシチタネート、クロロトリメトキシチタネー
ト、クロロトリエトキシチタネート、エチルトリメトキ
シチタネート、メチルトリエトキシチタネート、エチル
トリエトキシチタネート、ジエチルジエトキシチタネー
ト、フェニルトリメトキシチタネート、フェニルトリエ
トキシチタネート等を挙げることができる。XがZrで
ある場合、即ち、ジルコニウムを含むものとしては、例
えば、前記チタンを含むものとして例示した化合物に対
応するジルコネートを挙げることができる。
When X is Al, that is, when the hydrolyzable compound contains aluminum, for example, trimethoxyaluminate, triethoxyaluminate, tripropoxyaluminate, tetraethoxyaluminate, etc. Can be mentioned. When X is Ti, that is, as titanium, for example, trimethoxy titanate, tetramethoxy titanate, triethoxy titanate, tetraethoxy titanate, tetrapropoxy titanate, chlorotrimethoxy titanate, chlorotriethoxy titanate, ethyl trititanate. Examples thereof include methoxy titanate, methyl triethoxy titanate, ethyl triethoxy titanate, diethyl diethoxy titanate, phenyl trimethoxy titanate and phenyl triethoxy titanate. When X is Zr, that is, as a material containing zirconium, for example, a zirconate corresponding to the compounds exemplified as the material containing titanium can be mentioned.

【0049】(親水性層の形成)本発明においては、親
水性層は、前記特定親水性ポリマーを含む親水性塗布液
組成物を調製し、それを適切な支持体上に、塗布、乾燥
することで形成しうる。親水性塗布液組成物を調製する
にあたっては、特定親水性ポリマーの含有量は固形分換
算で、10質量%以上、50質量%未満とすることが好
ましい。含有量が50質量%以上になると膜強度が低下
する傾向があり、また、10質量%未満であると、皮膜
特性が低下し、膜にクラックが入るなどの可能性が高く
なり、いずれも好ましくない。
(Formation of Hydrophilic Layer) In the present invention, the hydrophilic layer is prepared by preparing a hydrophilic coating solution composition containing the above-mentioned specific hydrophilic polymer, coating the composition on a suitable support, and drying. It can be formed. In preparing the hydrophilic coating liquid composition, the content of the specific hydrophilic polymer is preferably 10% by mass or more and less than 50% by mass in terms of solid content. When the content is 50% by mass or more, the film strength tends to decrease, and when the content is less than 10% by mass, the film properties are deteriorated and the possibility of cracks in the film increases, and both are preferable. Absent.

【0050】また、好ましい態様である親水性塗布液組
成物の調製に架橋成分を添加する場合の添加量として
は、特定親水性ポリマー中のシランカップリング基に対
して架橋成分が5mol%以上、さらに10mol%以
上となる量であることが好ましい。架橋成分添加量の上
限は親水性ポリマーと十分架橋できる範囲内であれば特
にないが、大過剰に添加した場合、架橋に関与しない架
橋成分により、作製した親水性表面がべたつくなどの問
題を生じる可能性がある。
When the crosslinking component is added in the preparation of the hydrophilic coating liquid composition which is a preferred embodiment, the addition amount of the crosslinking component is 5 mol% or more with respect to the silane coupling group in the specific hydrophilic polymer. Further, the amount is preferably 10 mol% or more. The upper limit of the amount of the cross-linking component added is not particularly limited as long as it is sufficiently cross-linkable with the hydrophilic polymer, but when added in a large excess, the cross-linking component not involved in the cross-linking causes a problem such as stickiness of the prepared hydrophilic surface. there is a possibility.

【0051】シランカップリング基を末端に有する特定
親水性ポリマー、好ましくは、さらに架橋成分とを溶媒
に溶解し、よく攪拌することで、これらの成分が加水分
解し、重縮合することにより製造される有機無機複合体
ゾル液が本発明に係る親水性塗布液となり、これによっ
て、高い親水性と高い膜強度を有する表面親水性層が形
成される。有機無機複合体ゾル液の調製において、加水
分解及び重縮合反応を促進するために、酸性触媒または
塩基性触媒を併用することが好ましく、実用上好ましい
反応効率を得ようとする場合、触媒は必須である。
A specific hydrophilic polymer having a silane coupling group at its terminal, preferably a crosslinking component, is dissolved in a solvent and stirred well to hydrolyze these components for polycondensation. The organic-inorganic composite sol liquid according to the present invention serves as the hydrophilic coating liquid according to the present invention, whereby a surface hydrophilic layer having high hydrophilicity and high film strength is formed. In the preparation of the organic-inorganic composite sol liquid, in order to promote the hydrolysis and polycondensation reactions, it is preferable to use an acidic catalyst or a basic catalyst in combination, and a catalyst is essential in order to obtain a practically preferable reaction efficiency. Is.

【0052】触媒としては、酸、あるいは塩基性化合物
をそのまま用いるか、あるいは水またはアルコールなど
の溶媒に溶解させた状態のもの(以下、それぞれ酸性触
媒、塩基性触媒という)を用いる。溶媒に溶解させる際
の濃度については特に限定はなく、用いる酸、或いは塩
基性化合物の特性、触媒の所望の含有量などに応じて適
宜選択すればよいが、濃度が高い場合は加水分解、重縮
合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の高い塩基性
触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成する場合が
あるため、塩基性触媒を用いる場合、その濃度は水溶液
での濃度換算で1N以下であることが望ましい。
As the catalyst, an acid or a basic compound is used as it is, or a catalyst dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an acidic catalyst or a basic catalyst) is used. The concentration when dissolved in a solvent is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the properties of the acid or basic compound used, the desired content of the catalyst, etc. The condensation rate tends to increase. However, when a basic catalyst having a high concentration is used, a precipitate may be generated in the sol solution. Therefore, when the basic catalyst is used, its concentration is preferably 1N or less in terms of concentration in an aqueous solution.

【0053】酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に
限定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場
合には乾燥後に塗膜中にほとんど残留しないような元素
から構成される触媒がよい。具体的には、酸性触媒とし
ては、塩酸などのハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫
酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢
酸などのカルボン酸、そのRCOOHで表される構造式
のRを他元素または置換基によって置換した置換カルボ
ン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸などが挙げ
られ、塩基性触媒としては、アンモニア水などのアンモ
ニア性塩基、エチルアミンやアニリンなどのアミン類な
どが挙げられる。
The type of the acidic catalyst or the basic catalyst is not particularly limited, but when it is necessary to use a catalyst having a high concentration, a catalyst composed of an element that hardly remains in the coating film after drying is preferable. Specifically, the acidic catalyst is represented by hydrogen halide such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, carboxylic acid such as formic acid and acetic acid, and RCOOH thereof. Substituted carboxylic acids obtained by substituting R of the structural formula with other elements or substituents, sulfonic acids such as benzene sulfonic acid, and the like can be cited. As the basic catalyst, ammoniacal bases such as aqueous ammonia, amines such as ethylamine and aniline can be used. And so on.

【0054】親水性塗布液の調製は、シランカップリン
グ基を末端に有する親水性ポリマー、好ましくはさらに
架橋成分をエタノールなどの溶媒に溶解後、所望により
上記触媒を加え、攪拌することで実施できる。反応温度
は室温〜80℃であり、反応時間、即ち攪拌を継続する
時間は1〜72時間の範囲であることが好ましく、この
攪拌により両成分の加水分解・重縮合を進行させて、有
機無機複合体ゾル液を得ることができる。
The hydrophilic coating solution can be prepared by dissolving a hydrophilic polymer having a silane coupling group at the terminal, preferably a crosslinking component, in a solvent such as ethanol, and then adding the above catalyst if desired and stirring. . The reaction temperature is room temperature to 80 ° C., and the reaction time, that is, the time for which stirring is continued is preferably in the range of 1 to 72 hours. By this stirring, hydrolysis and polycondensation of both components are advanced, and A composite sol liquid can be obtained.

【0055】前記親水性ポリマー及び、好ましくは架橋
成分を含有する親水性塗布液組成物を調製する際に用い
る溶媒としては、これらを均一に、溶解、分散し得るも
のであれば特に制限はないが、例えば、メタノール、エ
タノール、水等の水系溶媒が好ましい。
The solvent used in preparing the hydrophilic coating liquid composition containing the hydrophilic polymer and preferably the crosslinking component is not particularly limited as long as it can dissolve and disperse these uniformly. However, for example, an aqueous solvent such as methanol, ethanol or water is preferable.

【0056】以上述べたように、本発明に係る親水性表
面を形成するための有機無機複合体ゾル液(親水性塗布
液組成物)の調製はゾルゲル法を利用している。ゾルゲ
ル法については、作花済夫「ゾル−ゲル法の科学」
(株)アグネ承風社(刊)(1988年〕、平島硯「最
新ゾル−ゲル法による機能性薄膜作成技術」総合技術セ
ンター(刊)(1992年)等の成書等に詳細に記述さ
れ、それらに記載の方法を本発明に係る親水性塗布液組
成物の調製に適用することができる。
As described above, the sol-gel method is used for the preparation of the organic-inorganic composite sol liquid (hydrophilic coating liquid composition) for forming the hydrophilic surface according to the present invention. For the sol-gel method, see Sakuhana "Sol-gel method science"
It is described in detail in publications such as Agne Jofusha (published) (1988), Shira Hirashima "Technology for functional thin film formation by the latest sol-gel method" General Technology Center (published) (1992). The methods described therein can be applied to the preparation of the hydrophilic coating liquid composition according to the present invention.

【0057】本発明に係る親水性塗布液組成物には、本
発明の効果を損なわない限りにおいて、種々の添加剤を
目的に応じて使用することができる。例えば、塗布液の
均一性を向上させるため界面活性剤を添加することがで
きる。
Various additives can be used in the hydrophilic coating liquid composition according to the present invention depending on the purpose, as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, a surfactant can be added to improve the uniformity of the coating liquid.

【0058】上記のようにして調製した親水性塗布液組
成物を支持体表面に塗布、乾燥することで親水性層を形
成することができる。親水性層の膜厚は目的により選択
できるが、一般的には乾燥後の塗布量で、0.5〜5.
0g/m2の範囲であり、好ましくは1.0〜3.0g
/m2の範囲である。塗布量が、0.5g/m2より少な
いと親水性の効果が発現しにくくなり、5.0g/m2
を超えると感度や膜強度の低下を生じる傾向があるため
いずれも好ましくない。
A hydrophilic layer can be formed by coating the hydrophilic coating liquid composition prepared as described above on the surface of a support and drying. The film thickness of the hydrophilic layer can be selected depending on the purpose, but generally, the coating amount after drying is 0.5 to 5.
The range is 0 g / m 2 , preferably 1.0 to 3.0 g
The range is / m 2 . If the coating amount is less than 0.5 g / m 2 , the hydrophilic effect is less likely to be exhibited and 5.0 g / m 2
If it exceeds, there is a tendency that the sensitivity and the film strength are deteriorated, which is not preferable.

【0059】〔水分散性粒子〕本発明において画像記録
成分として用いられる加熱または輻射線の照射により表
面疎水化領域を形成しうる水分散性粒子は、加熱または
輻射線の照射により、隣接する粒子が互いに融着して表
面疎水化領域を形成しうる疎水性ポリマー粒子であっ
て、表面が親水化されているため、高い水分散性を有す
る粒子である。 (疎水性ポリマー)本発明において画像記録成分として
用いられる疎水性ポリマーは、水と非混和性の溶剤に溶
解する疎水性ポリマーであり、一般式(I)の有機珪素
基を含有する構造単位を有するポリマーである。
[Water-Dispersible Particles] Water-dispersible particles capable of forming a surface-hydrophobicized region by heating or irradiation of radiation used as an image recording component in the present invention are adjacent particles by heating or irradiation of radiation. Are hydrophobic polymer particles that can be fused with each other to form a surface-hydrophobicized region, and have high water dispersibility because the surface is hydrophilized. (Hydrophobic Polymer) The hydrophobic polymer used as an image recording component in the present invention is a hydrophobic polymer that is soluble in a solvent immiscible with water, and has a structural unit containing an organosilicon group represented by the general formula (I). It is a polymer having.

【0060】この有機珪素基を含有するポリマーは、上
記一般式(I)の構造単位に変換しうる不飽和二重結合
性単量体を単独で重合させることにより、または、該単
量体とスチレン、アクリル系、ビニル系、オレフィン系
などの単量体とを共重合させることにより得られる。ま
た、本発明における有機珪素基含有ポリマーは、有機珪
素基を含有する構造単位がポリマー分子中にランダムに
導入されているもののほかに、重合体の分子末端に導入
されているものでもよい。
The organic silicon group-containing polymer can be obtained by polymerizing an unsaturated double bond-forming monomer which can be converted into the structural unit of the above-mentioned general formula (I) alone or with the monomer. It is obtained by copolymerizing with a monomer such as styrene, an acrylic type, a vinyl type, an olefin type. Further, the organic silicon group-containing polymer in the present invention may be one in which the structural unit containing an organic silicon group is randomly introduced into the polymer molecule, or may be one introduced at the molecular end of the polymer.

【0061】前記の一般式(I)の有機珪素基を含有す
る構造単位に変換しうる不飽和二重結合性単量体の具体
例としては、スチリルエチルトリメトキシシラン、4−
トリメトキシシリルスチレン、3−(N−スチリルメチ
ル−2−アミノエチルアミノ)プロピルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス−(β
−メトキシエトキシ)シラン、アリルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリアセトキシシラン、アリルトリアセトキ
シシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルジメ
チルメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、
ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルメチルジアセト
キシシラン、ビニルジメチルアセトキシシラン、ビニル
イソブチルジメトキシシラン、ビニルトリイソプロポキ
シシラン、ビニルトリブトキシシラン、ビニルトリヘキ
シロキシシラン、ビニルメトキシジヘキシロキシシラ
ン、ビニルジメトキシオクチロキシシラン、ビニルメト
キシジオクチロキシシラン、ビニルトリオクチロキシシ
ラン、ビニルメトキシジラウリロキシシラン、ビニルジ
メトキシラウリロキシシラン、ビニルメトキシジオレイ
ロキシシラン、ビニルジメトキシオレイロキシシラン、
3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシ
シラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリ
エトキシシラン、3−(メタ)アクリルアミド−プロピ
ルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリルアミド−
プロピルトリエトキシシラン、
Specific examples of the unsaturated double bond-forming monomer which can be converted into the structural unit containing an organosilicon group represented by the general formula (I) include styrylethyltrimethoxysilane and 4-
Trimethoxysilylstyrene, 3- (N-styrylmethyl-2-aminoethylamino) propyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltris- (β
-Methoxyethoxy) silane, allyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, allyltriacetoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, vinyldimethylmethoxysilane, vinylmethyldiethoxysilane,
Vinyldimethylethoxysilane, vinylmethyldiacetoxysilane, vinyldimethylacetoxysilane, vinylisobutyldimethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltributoxysilane, vinyltrihexyloxysilane, vinylmethoxydihexyloxysilane, vinyldimethoxyoctyloxysilane , Vinylmethoxydioctyloxysilane, vinyltrioctyloxysilane, vinylmethoxydilauryloxysilane, vinyldimethoxylauryloxysilane, vinylmethoxydioleyloxysilane, vinyldimethoxyoleyloxysilane,
3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acrylamide-propyltrimethoxysilane, 3- (meth) acrylamide-
Propyltriethoxysilane,

【0062】3−(メタ)アクリルアミド−プロピルト
リ(β−メトキシエトキシ)シラン、2−(メタ)アク
リルアミド−2−メチルプロピルトリメトキシシラン、
2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルエチルトリメ
トキシシラン、N−(2−(メタ)アクリルアミド−エ
チル)−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−(メ
タ)アクリルアミド−プロピルトリアセトキシシラン、
2−(メタ)アクリルアミド−エチルトリメトキシシラ
ン、1−(メタ)アクリルアミド−メチルトリメトキシ
シラン、3−(メタ)アクリルアミド−プロピルメチル
ジメトキシシラン、3−(メタ)アクリルアミド−プロ
ピルジメチルメトキシシラン、3−(N−メチル−(メ
タ)アクリルアミド)−プロピルトリメトキシシラン、
3−((メタ)アクリルアミド−メトキシ)−3−ハイ
ドロキシプロピルトリメトキシシラン、3−((メタ)
アクリルアミド−メトキシ)−プロピルトリメトキシシ
ラン、ジメチル−3−(メタ)アクリルアミド−プロピ
ル−3−(トリメトキシシリル)−プロピルアンモニウ
ムクロライド、ジメチル−2−(メタ)アクリルアミド
−2−メチルプロピル−3−(トリメトキシシリル)−
プロピルアンモニウムクロライドなどが挙げられる。
3- (meth) acrylamido-propyltri (β-methoxyethoxy) silane, 2- (meth) acrylamido-2-methylpropyltrimethoxysilane,
2- (meth) acrylamido-2-methylethyltrimethoxysilane, N- (2- (meth) acrylamido-ethyl) -aminopropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acrylamide-propyltriacetoxysilane,
2- (meth) acrylamide-ethyltrimethoxysilane, 1- (meth) acrylamide-methyltrimethoxysilane, 3- (meth) acrylamide-propylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acrylamide-propyldimethylmethoxysilane, 3- (N-methyl- (meth) acrylamide) -propyltrimethoxysilane,
3-((meth) acrylamide-methoxy) -3-hydroxypropyltrimethoxysilane, 3-((meth)
Acrylamide-methoxy) -propyltrimethoxysilane, dimethyl-3- (meth) acrylamido-propyl-3- (trimethoxysilyl) -propylammonium chloride, dimethyl-2- (meth) acrylamido-2-methylpropyl-3- ( Trimethoxysilyl)-
Propyl ammonium chloride and the like can be mentioned.

【0063】上記の一般式(I)の有機珪素基を含有す
る構造単位に変換しうる不飽和二重結合性単量体ととも
に本発明に係る疎水性ポリマーを構成する共重合成分と
して使用し得る単量体としては、以下の(A)〜(K)
に示す単量体(モノマー)を挙げることができる。
It can be used as a copolymerization component which constitutes the hydrophobic polymer according to the present invention together with the unsaturated double bond-forming monomer which can be converted into the structural unit containing the organosilicon group of the above general formula (I). As the monomer, the following (A) to (K)
The monomer (monomer) shown in can be mentioned.

【0064】(A)アクリル酸エステル類。この単量体
の例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ア
ミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシ
ル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリ
ル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリ
ル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸4−ヒドロキシ
ブチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノ
エチルアクリレート、o−、m−およびp−ヒドロキシ
フェニルアクリレートなどの、置換基を有してもよいア
クリル酸エステル類が挙げられる。
(A) Acrylic acid esters. Examples of this monomer include methyl acrylate, ethyl acrylate,
Propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 4-acrylic acid acrylate Examples thereof include acrylic acid esters which may have a substituent, such as hydroxybutyl, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, o-, m- and p-hydroxyphenyl acrylate.

【0065】(B)メタクリル酸エステル類。この単量
体群の例としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−
2−クロロエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチ
ル、メタクリル酸−4−ヒドロキシブチル、グリシジル
メタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、o−、m−およびp−ヒドロキシフェニルメタク
リレートなどの、置換基を有してもよいメタクリル酸エ
ステル類が挙げられる。
(B) Methacrylic acid esters. Examples of this monomer group include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate,
Amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid-
Having a substituent such as 2-chloroethyl, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl methacrylate, o-, m- and p-hydroxyphenyl methacrylate. Methacrylic acid esters may be mentioned.

【0066】(C)アクリルアミド及びメタクリルアミ
ド類。この単量体群の例としては、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−
メチロールメタクリルアミド、N−エチルアクリルアミ
ド、N−エチルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロ
ヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルメタクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジ
ルアクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N
−ニトロフェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニル
メタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリル
アミドおよびN−エチル−N−フェニルメタクリルアミ
ド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、
N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドなど
のアクリルアミドもしくはメタクリルアミドが挙げられ
る。
(C) Acrylamide and methacrylamide. Examples of this monomer group include acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-
Methylol methacrylamide, N-ethyl acrylamide, N-ethyl methacrylamide, N-hexyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-cyclohexyl methacrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-
Hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-phenyl methacrylamide, N-benzyl acrylamide, N-benzyl methacrylamide, N
-Nitrophenylacrylamide, N-nitrophenylmethacrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide and N-ethyl-N-phenylmethacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide,
Examples thereof include acrylamide or methacrylamide such as N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide.

【0067】(D)ビニルエーテル類。この単量体群の
例としては、エチルビニルエーテル、2−クロロエチル
ビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プ
ロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチ
ルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなどが挙げ
られる。
(D) Vinyl ethers. Examples of this monomer group include ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether.

【0068】(E)ビニルエステル類。この単量体群の
例としては、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテー
ト、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどが挙げられ
る。 (F)スチレン類。この単量体群の例としては、スチレ
ン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン、o−、m
−およびp−ヒドロキシスチレンなどが挙げられる。
(E) Vinyl esters. Examples of this monomer group include vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate and the like. (F) Styrenes. Examples of this monomer group include styrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, o-, and m.
And p-hydroxystyrene and the like.

【0069】(G)ビニルケトン類。この単量体群の例
としては、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、
プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどが挙
げられる。(H)オレフィン類。この単量体群の例とし
ては、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレンなどが挙げられる。 (I)N−含有単量体。この単量体群の例としては、N
−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビ
ニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
などが挙げられる。
(G) Vinyl ketones. Examples of this monomer group include methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone,
Examples include propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone. (H) Olefins. Examples of this monomer group include ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene and the like. (I) N-containing monomer. An example of this monomer group is N
-Vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like can be mentioned.

【0070】(J)不飽和スルホンアミド。この単量体
群の例としては、N−(o−アミノスルホニルフェニ
ル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスル
ホニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノ
スルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルアミ
ド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニ
ル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノス
ルホニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリルア
ミド類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレ
ート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3−
アミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートなど
のアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミノス
ルホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどが挙げ
られる。
(J) Unsaturated sulfonamide. Examples of this monomer group include N- (o-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide, N- [1- (3 -Aminosulfonyl) naphthyl] acrylamide, acrylamides such as N- (2-aminosulfonylethyl) acrylamide, N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- ( p-aminosulfonylphenyl)
Methacrylamides such as methacrylamide, N- [1- (3-aminosulfonyl) naphthyl] methacrylamide, N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide, and o-aminosulfonylphenyl acrylate, m-aminosulfonylphenyl. Acrylate, p
-Aminosulfonylphenyl acrylate, 1- (3-
Unsaturated sulfonamides such as acrylic acid esters such as aminosulfonylphenylnaphthyl) acrylate,
Examples thereof include o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate and 1- (3-aminosulfonylphenylnaphthyl) methacrylate.

【0071】(K)不飽和酸無水物。この単量体群の例
としては、無水イタコン酸、無水マレイン酸、2,3−
ジメチル無水マレイン酸、2−クロル無水マレイン酸な
どが挙げられる。
(K) Unsaturated acid anhydride. Examples of this monomer group include itaconic anhydride, maleic anhydride, and 2,3-
Examples thereof include dimethyl maleic anhydride and 2-chloromaleic anhydride.

【0072】本発明において使用される疎水性ポリマー
中の、一般式(I)の有機珪素基を含有する構造単位の
含有量は、0.01〜100モル%が好ましく、0.0
5から90モル%がさらに好ましく、とくに0.1から
80モル%が好ましい。有機珪素基を含有する構造単位
の含有量が0.01モル%より少ない場合には本発明の
効果が乏しい。
The content of the organic silicon group-containing structural unit of the general formula (I) in the hydrophobic polymer used in the present invention is preferably 0.01 to 100 mol%, 0.0
5 to 90 mol% is more preferable, and 0.1 to 80 mol% is particularly preferable. When the content of the organic silicon group-containing structural unit is less than 0.01 mol%, the effect of the present invention is poor.

【0073】これらの単量体から得られる有機高分子化
合物は、質量平均子量が500〜500,000、数平
均分子量が200〜60000であることが好ましい。
以下に本発明に用いられる疎水性ポリマーとして好まし
い有機珪素基含有ポリマーの具体例を示すが、これらに
限定されない。
The organic polymer compound obtained from these monomers preferably has a mass average molecular weight of 500 to 500,000 and a number average molecular weight of 200 to 60,000.
Specific examples of preferred organic silicon group-containing polymers as the hydrophobic polymer used in the present invention are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0074】[0074]

【化12】 [Chemical 12]

【0075】[0075]

【化13】 [Chemical 13]

【0076】(水と非混和性の溶剤)本発明において、
疎水性ポリマーの調製に使用し得る水と非混和性の溶剤
の具体例としては、クロロメタン、ジクロロメタン、酢
酸エチル、メチルエチルケトン(MEK)、トリクロロ
メタン、四塩化炭素、エチレンクロライド、トリクロロ
エタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、2−
ニトロプロパンなどが例示されるが、これらに制限され
るものではなく、疎水性ポリマーを溶解することがで
き、且つ、水と不混和性であれば、あらゆる適当な溶剤
が本発明に適用できる。例示された溶剤の中でも特に有
用なものとして、ジクロロメタンとMEKを挙げること
ができる。これらは、疎水性ポリマーの調製において、
蒸発により油層粒子から溶剤を除去し、速やかにポリマ
ー粒子を硬化させる工程に、好適に使用し得る。
(Water-Immiscible Solvent) In the present invention,
Specific examples of water-immiscible solvents that can be used to prepare the hydrophobic polymer include chloromethane, dichloromethane, ethyl acetate, methyl ethyl ketone (MEK), trichloromethane, carbon tetrachloride, ethylene chloride, trichloroethane, toluene, xylene. , Cyclohexanone, 2-
Examples thereof include, but are not limited to, nitropropane, and any suitable solvent can be applied to the present invention as long as it can dissolve a hydrophobic polymer and is immiscible with water. Among the exemplified solvents, particularly useful ones include dichloromethane and MEK. These are in the preparation of hydrophobic polymers,
It can be suitably used in the step of removing the solvent from the oil layer particles by evaporation and rapidly curing the polymer particles.

【0077】(水溶性樹脂)本発明において、前記疎水
性ポリマーは、水分散性である、即ち、表面が親水性で
あることを要するが、このような表面親水性の疎水性ポ
リマーを、前述のように水相中に油滴を分散させて調製
する際には、水相に水溶性樹脂を含有させることが好ま
しい。また、本発明においては、親水性層として、S
i、Ti,Zr、Alから選択される元素を含むアルコ
キシド化合物の加水分解、縮重合により形成された架橋
構造を有するにものを用いており、このため、親水性層
との相互作用を形成し得る水溶性樹脂を用いることがさ
らに好ましい。疎水性ポリマーの表面親水性と前記親水
性層との相互作用の形成の観点から、本発明に用いられ
る水溶性樹脂としては、一般式(II)または(III)の
構造単位を有する水溶性樹脂が好ましい。これらは、末
端、或いは、側鎖に有機珪素基を有する水溶性樹脂であ
る。なお、一般式(III)の構造単位を有する水溶性樹
脂においては、2種の構造単位のうち側鎖に有機珪素基
を有する構造単位の含有量が0.01〜20モル%程度
であることが水溶性の観点から好ましく、さらに好まし
くは1〜15モル%の範囲である。本発明に使用し得る
一般式(II)または(III)の構造単位を有する水溶性
樹脂の具体例を以下に示すが、これに限定されるもので
はない。
(Water-Soluble Resin) In the present invention, the hydrophobic polymer must be water-dispersible, that is, the surface must be hydrophilic. When oil droplets are dispersed in the aqueous phase as described above, it is preferable that the aqueous phase contains a water-soluble resin. Further, in the present invention, S is used as the hydrophilic layer.
i, Ti, Zr, and Alkoxide compounds containing an element selected from Al are used to have a cross-linking structure formed by hydrolysis and polycondensation of an alkoxide compound. For this reason, an interaction with the hydrophilic layer is formed. It is more preferable to use the water-soluble resin obtained. From the viewpoint of the surface hydrophilicity of the hydrophobic polymer and the formation of the interaction with the hydrophilic layer, the water-soluble resin used in the present invention is a water-soluble resin having a structural unit represented by the general formula (II) or (III). Is preferred. These are water-soluble resins having an organic silicon group at the terminal or the side chain. In addition, in the water-soluble resin having the structural unit represented by the general formula (III), the content of the structural unit having an organic silicon group in the side chain among the two types of structural units is about 0.01 to 20 mol%. Is preferably from the viewpoint of water solubility, and more preferably in the range of 1 to 15 mol%. Specific examples of the water-soluble resin having a structural unit represented by the general formula (II) or (III) that can be used in the present invention are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0078】[0078]

【化14】 [Chemical 14]

【0079】[0079]

【化15】 [Chemical 15]

【0080】水分散性粒子の調製に際して用いられる水
溶性樹脂の含有量は、水相成分に対して、1〜25質量
%が適当であり、好ましい範囲は2〜15質量%であ
る。
The content of the water-soluble resin used in the preparation of the water-dispersible particles is appropriately 1 to 25% by mass, preferably 2 to 15% by mass, based on the water phase component.

【0081】(触媒)本発明における水分散性粒子製造
方法においては、疎水性ポリマーに含まれる構造単位で
ある一般式(I)、或いは、親水性樹脂として水相に含
まれる一般式(II)又は一般式(III)で示される構造
単位中に存在する有機珪素基の加水分解および重縮合反
応を促進するために、酸性触媒または塩基性触媒を用い
ることができる。酸性触媒または塩基性触媒の種類は特
に限定されないが、高濃度の触媒を用いる必要がある場
合には、微粒子作製後にほとんど残留しないような元素
から構成される触媒がよい。
(Catalyst) In the method for producing water-dispersible particles according to the present invention, the general formula (I), which is a structural unit contained in the hydrophobic polymer, or the general formula (II), which is contained in the aqueous phase as the hydrophilic resin, is used. Alternatively, an acidic catalyst or a basic catalyst can be used to accelerate the hydrolysis and polycondensation reaction of the organic silicon group present in the structural unit represented by the general formula (III). The type of acidic catalyst or basic catalyst is not particularly limited, but when it is necessary to use a high-concentration catalyst, a catalyst composed of an element that hardly remains after the preparation of fine particles is preferable.

【0082】具体的には、酸性触媒としては、塩酸など
のハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過
塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸などのカルボン
酸、そのRCOOHで表される構造式のRを置換した置
換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸な
どが挙げられる。また、塩基触媒としては、アンモニア
や、エチルアミンやアニリンなどのアミン類などが挙げ
られる。触媒は、そのままか、または水もしくはアルコ
ールなどの溶媒に溶解した状態で、水相に加えられる。
加える触媒の濃度は、特に限定しないが、濃度が高い場
合は加水分解や重縮合速度が速くなる傾向がある。ただ
し、高濃度の塩基性触媒を用いると、分散溶液中で沈殿
物が生成する場合があり、油滴の分散安定性に悪影響を
与える懸念があるので、塩基性触媒の濃度は1N以下が
望ましい。
Specifically, as the acidic catalyst, hydrogen halide such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, carboxylic acid such as formic acid and acetic acid, and RCOOH thereof can be used. Examples thereof include substituted carboxylic acids in which R in the structural formula shown is substituted, sulfonic acids such as benzenesulfonic acid, and the like. Examples of the base catalyst include ammonia and amines such as ethylamine and aniline. The catalyst is added to the aqueous phase as it is or in the state of being dissolved in a solvent such as water or alcohol.
The concentration of the catalyst to be added is not particularly limited, but if the concentration is high, the hydrolysis or polycondensation rate tends to increase. However, when a high-concentration basic catalyst is used, a precipitate may be generated in the dispersion solution, which may adversely affect the dispersion stability of oil droplets. Therefore, the basic catalyst concentration is preferably 1N or less. .

【0083】(界面活性剤)本発明における水分散性粒
子の製造工程においては、油滴の分散安定性を向上させ
るために、水相に界面活性剤を添加することが好まし
い。ここで用いられる界面活性剤としては、ノニオン系
及びアニオン系界面活性剤のほか、特開平2−1953
56号公報に記載されているようなカチオン界面活性
剤、含フッ素界面活性剤、及び特開昭59−12104
4号及び特開平4−13149号公報に記載されている
両性界面活性剤を挙げることができる。
(Surfactant) In the process of producing the water-dispersible particles in the present invention, it is preferable to add a surfactant to the aqueous phase in order to improve the dispersion stability of oil droplets. Examples of the surfactant used here include nonionic and anionic surfactants, and JP-A-2-1953.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-12104.
Examples thereof include amphoteric surfactants described in JP-A No. 4 and JP-A-4-13149.

【0084】ノニオン界面活性剤の具体例としては、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエー
テル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリ
オキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンア
ルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリ
オキシプロピレンブロックコポリマー類、さらにポリオ
キシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマ
ーの端末のヒドロキシル基に炭素数5〜24の脂肪族基
がエーテル結合した複合ポリオキシアルキレンアルキル
エーテル類、同じくアルキル置換アリール基がエーテル
結合した複合ポリオキシアルキレンアルキルアリールエ
ーテル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノ
ステアレート、ソルビタントリステアレート、ソルビタ
ンモノパルミテート、ソルビタンモノオレート、ソルビ
タントリオレートなどのソルビタン脂肪酸エステル類、
ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシ
エチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチ
レンソルビタントリステアレート、ポリオキシエチレン
ソルビタントリオレートなどのポリオキシエチレンソル
ビタン脂肪酸エステル類などが挙げられる。
Specific examples of nonionic surfactants include polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene oleyl ether and other polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene nonylphenyl. Polyoxyethylene alkylaryl ethers such as ethers, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, and further polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers have terminal hydroxyl groups with an ether bond of an aliphatic group having 5 to 24 carbon atoms. Complex polyoxyalkylene alkyl ethers, also complex polyoxyalkylene alkyl aryl ethers in which an alkyl-substituted aryl group is ether-bonded, sorbi Emissions monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monooleate, sorbitan fatty acid esters such as sorbitan trioleate,
Examples include polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan tristearate, polyoxyethylene sorbitan trioleate, and other polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters. To be

【0085】アニオン系活性剤の具体例としては、アル
キルスルホン酸類、アリールスルホン酸類、脂肪族カル
ボン酸類、アルキルナフタレンスルホン酸類、アルキル
ナフタレンスルホン酸又はナフタレンスルホン酸とホル
ムアルデヒドの縮合型のもの、炭素数9〜26の脂肪族
スルホン酸類、アルキルベンゼンスルホン酸類、ラウリ
ルポリオキシエチレン硫酸、セチルポリオキシエチレン
スルホン酸、オレイルポリオキシエチレンホスホン酸な
どのポリオキシエチレン含有硫酸やポリオキシエチレン
含有燐酸などが挙げられる。
Specific examples of the anionic activator include alkyl sulfonic acids, aryl sulfonic acids, aliphatic carboxylic acids, alkyl naphthalene sulfonic acids, alkyl naphthalene sulfonic acids or condensation type of naphthalene sulfonic acid and formaldehyde, carbon number 9 To aliphatic sulfonic acids, alkylbenzene sulfonic acids, lauryl polyoxyethylene sulfuric acid, cetyl polyoxyethylene sulfonic acid, oleyl polyoxyethylene phosphonic acid, and other polyoxyethylene-containing sulfuric acid and polyoxyethylene-containing phosphoric acid.

【0086】カチオン界面活性剤の具体例としては、ラ
ウリルアミンアセテート、ラウリルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムク
ロライド、アルキルベンジルジメチルアンモニウムクロ
ライドなどが挙げられる。フッ素系界面活性剤の具体例
としては、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフ
ルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキル
トリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルベタ
イン、パーフルオロアルキルアミンキシド、パーフルオ
ロアルキルEO付加物などが挙げられる。
Specific examples of the cationic surfactant include lauryl amine acetate, lauryl trimethyl ammonium chloride, distearyl dimethyl ammonium chloride, alkylbenzyl dimethyl ammonium chloride and the like. Specific examples of the fluorine-based surfactant include perfluoroalkylcarboxylic acid salts, perfluoroalkylphosphoric acid esters, perfluoroalkyltrimethylammonium salts, perfluoroalkylbetaines, perfluoroalkylaminexides, perfluoroalkylEO adducts, and the like. Is mentioned.

【0087】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルカルボキシベタイン類、アルキルアミノカルボン酸
類、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポ
リアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カ
ルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウ
ムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型
(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等
が挙げられる。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkylcarboxybetaines, alkylaminocarboxylic acids, alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethyl. Examples thereof include imidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.).

【0088】中でも、アニオン系、ノニオン系、両性系
が好ましく、具体的には、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエー
テル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブ
ロックコポリマー類、アルキルスルホン酸類、脂肪族カ
ルボン酸類、アルキルベンゼンスルホン酸類、ポリオキ
シエチレン含有硫酸、アルキルナフタレンスルホン酸又
はナフタレンスルホン酸とホルムアルデヒドの縮合型の
もの、アルキルカルボキシベタイン類、アルキルアミノ
カルボン酸類等が挙げられる。
Among these, anionic, nonionic and amphoteric types are preferable, and specifically, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, alkyl sulfonic acids. , Aliphatic carboxylic acids, alkylbenzene sulfonic acids, polyoxyethylene-containing sulfuric acid, alkylnaphthalenesulfonic acid or a condensation type of naphthalenesulfonic acid and formaldehyde, alkylcarboxybetaines, alkylaminocarboxylic acids and the like.

【0089】上記のように、疎水性ポリマーと水溶性ポ
リマーに特定の有機珪素基を有するポリマーを用いるこ
とによって良好な水分散性粒子が得られ、有機珪素基の
熱反応性が、画像記録層を形成する樹脂、例えばゾルゲ
ル変換系の結着樹脂との組み合わせにおいては、結着樹
脂マトリックスと直接化学結合できるため、機械強度に
優れた、耐摩耗性の良好な皮膜を形成できる。この感光
層のレーザー光照射を受けて疎水性に変換した被照射領
域においても、同様に結着樹脂と化学結合したまま均一
層を形成できるので、耐摩耗性に優れた画像領域が形成
される。
As described above, good water-dispersible particles can be obtained by using a polymer having a specific organosilicon group as the hydrophobic polymer and the water-soluble polymer, and the thermal reactivity of the organosilicon group can be improved. In the case of combination with a resin that forms the resin, for example, a binder resin of a sol-gel conversion system, it is possible to form a chemical bond directly with the binder resin matrix, so that a film having excellent mechanical strength and good wear resistance can be formed. Even in the irradiated area which has been converted to hydrophobic by being irradiated with the laser beam of the photosensitive layer, a uniform layer can be formed while being chemically bonded to the binder resin, so that an image area having excellent abrasion resistance is formed. .

【0090】(酸化物または水酸化物微粒子)本発明に
おける水分散性粒子の製造に際しては、疎水性ポリマー
の表面物性を改良するために、水溶性樹脂に代えて、又
は、上記水溶性樹脂に加えて、水相に周期表2族〜15
族の元素から選ばれた少なくとも一つの元素の酸化物ま
たは水酸化物微粒子を添加することができる。これらの
微粒子は疎水性粒子の表面に吸着して、その表面親水化
及び水分散性の向上に寄与する。好適な元素の具体例と
して、マグネシウム、チタン、ジルコニウム、バナジウ
ム、クロム、亜鉛、アルミニウム、珪素、錫、鉄などを
挙げることができる。中でも好ましい元素として、珪
素、チタン、アルミニウム、錫を挙げることができる。
上記元素の酸化物微粒子または水酸化物微粒子は、酸化
物コロイドまたは水酸化物コロイドとして用いることが
でき、微粒子の粒径は、一般に約0.001〜1μm、
好ましくは5〜40nm、最も好ましくは10〜30n
mである。これらのコロイドの分散液は、日産化学工業
(株)などの市販品を購入することもできる。これらの
化合物の添加により、得られた疎水性ポリマーの表面親
水性が向上し、水に対する分散安定性が一層良好な水分
散性粒子が得られ、結果として、平版印刷版原版の記録
層成分として用いた場合の非画像部の汚れ難さが改良さ
れる。
(Oxide or hydroxide fine particles) In the production of the water-dispersible particles in the present invention, in order to improve the surface physical properties of the hydrophobic polymer, instead of the water-soluble resin, or in the above water-soluble resin, In addition, the water phase is added to the periodic table group 2 to 15
Oxide or hydroxide fine particles of at least one element selected from the group elements can be added. These fine particles are adsorbed on the surface of the hydrophobic particles and contribute to the surface hydrophilicity and the improvement of water dispersibility. Specific examples of suitable elements include magnesium, titanium, zirconium, vanadium, chromium, zinc, aluminum, silicon, tin and iron. Among them, preferable elements include silicon, titanium, aluminum and tin.
The oxide fine particles or hydroxide fine particles of the above elements can be used as an oxide colloid or hydroxide colloid, and the particle diameter of the fine particles is generally about 0.001 to 1 μm.
Preferably 5-40 nm, most preferably 10-30 n
m. For the dispersion liquid of these colloids, commercially available products such as Nissan Chemical Industries, Ltd. can be purchased. By the addition of these compounds, the surface hydrophilicity of the resulting hydrophobic polymer is improved, water-dispersible particles having better dispersion stability in water are obtained, and as a result, as a recording layer component of the lithographic printing plate precursor. When used, the stain resistance of the non-image area is improved.

【0091】上記の原料を用いた水分散性粒子の製造
は、良く知られた操作で行うことができる。すなわち、
疎水性ポリマーを水と非混和性の溶剤に溶かした油相溶
液と、水溶性樹脂及び/又は、周期表2族〜15族の元
素から選ばれた少なくとも一つの元素の酸化物または水
酸化物微粒子、さらに必要に応じて、界面活性剤、酸性
または塩基性触媒などの任意成分を含んだ水相溶液を調
製した後、両者を混合し、ホモジナイザーなどの乳化分
散機を用いて、例えば、12,000rpm程度の条件
で10〜15分間激しく攪拌混合して水相中に油滴を乳
化分散する。次いで、得られた乳化分散物を加熱攪拌し
て溶剤を蒸発させることにより、目的とする水分散性粒
子の水分散物が得られる。この水分散性粒子の水分散物
は、親水性層に配合する際に、水相に分散した状態で配
合してもよく、水相を除去した後、粒子の状態で配合し
てもよい。
The production of water-dispersible particles using the above raw materials can be carried out by a well-known operation. That is,
Oil phase solution in which a hydrophobic polymer is dissolved in a water-immiscible solvent, and water-soluble resin and / or oxide or hydroxide of at least one element selected from elements of Groups 2 to 15 of the periodic table After preparing an aqueous phase solution containing fine particles and, if necessary, an optional component such as a surfactant, an acidic or basic catalyst, the both are mixed and then, using an emulsifying disperser such as a homogenizer, for example, 12 The oil droplets are emulsified and dispersed in the aqueous phase by vigorously stirring and mixing for 10 to 15 minutes under conditions of about 1,000 rpm. Then, the obtained emulsified dispersion is heated and stirred to evaporate the solvent, whereby an intended aqueous dispersion of water-dispersible particles is obtained. The water dispersion of the water-dispersible particles may be added in the state of being dispersed in the water phase when it is added to the hydrophilic layer, or may be added in the state of particles after removing the water phase.

【0092】〔画像記録層〕本発明の平版印刷版原版
は、画像記録成分として、親水性層中に含まれる前記水
分散性粒子を用い、露光部においてこの水分散性粒子が
互いに融着して、疎水性領域を形成するものである。こ
の親水性層中には、本発明の効果を損なわない範囲にお
いて、感度の向上、記録層の物理的強度の向上、層を構
成する組成物相互の分散性の向上、塗布性の向上、印刷
適性の向上、製版作業性の便宜上などの種々の目的で、
公知の添加剤、例えば、光を吸収して発熱する光熱変換
剤、無機微粒子、親水性高分子化合物、界面活性剤、着
色剤などの化合物を添加することができる。以下これら
について説明する。
[Image-Recording Layer] The lithographic printing plate precursor according to the invention uses the water-dispersible particles contained in the hydrophilic layer as an image-recording component, and the water-dispersible particles are fused to each other in the exposed area. To form a hydrophobic region. In this hydrophilic layer, the sensitivity is improved, the physical strength of the recording layer is improved, the dispersibility of the constituents of the recording layer is improved, the coatability is improved, and the printing is performed within a range that does not impair the effects of the present invention. For various purposes such as improving suitability and convenience of plate making work,
Known additives, for example, photothermal conversion agents that absorb light and generate heat, inorganic fine particles, hydrophilic polymer compounds, surfactants, colorants, and other compounds can be added. These will be described below.

【0093】(光熱変換剤)光熱変換剤としては、金
属、金属の酸化物、窒化物もしくは硫化物、顔料及び染
料が好ましい。金属および金属化合物としては、Al、
Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、C
u、Zn、Y、Zr、Mo、Ag、Au、Pt、Pd、
Rh、In、Sn、Wからなる金属の中から選択された
金属または金属化合物の中から選択された、粒子化して
親水性層中に分散し得るものを用いることができる。な
かでも、鉄、銀、白金、金、パラジウムの金属微粒子が
好ましい。その他、TiOx(x=1.0〜2.0)、
SiOx(x=0.6〜2.0)、AlOx(x=1.
0〜2.0)、銅、銀及び錫のアジド化物などの金属ア
ジド化合物も好ましい。上記の各金属酸化物、窒化物及
び硫化物は、いずれも公知の製造方法によって得られ
る。また、チタンブラック、鉄黒、モリブデン赤、エメ
ラルドグリーン、カドミウム赤、コバルト青、紺青、ウ
ルトラマリンなどの名称で市販されているものも多い。
(Photothermal Conversion Agent) As the photothermal conversion agent, metals, metal oxides, nitrides or sulfides, pigments and dyes are preferable. As the metal and the metal compound, Al,
Si, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, C
u, Zn, Y, Zr, Mo, Ag, Au, Pt, Pd,
A metal selected from the metals selected from the group consisting of Rh, In, Sn, and W or a metal compound that can be made into particles and dispersed in the hydrophilic layer can be used. Of these, fine metal particles of iron, silver, platinum, gold, and palladium are preferable. In addition, TiOx (x = 1.0 to 2.0),
SiOx (x = 0.6 to 2.0), AlOx (x = 1.
0 to 2.0), and metal azide compounds such as copper, silver and tin azides are also preferable. Each of the above metal oxides, nitrides and sulfides can be obtained by a known manufacturing method. In addition, many are commercially available under the names such as titanium black, iron black, molybdenum red, emerald green, cadmium red, cobalt blue, navy blue, and ultramarine.

【0094】本発明において親水性層に含有される顔料
としては、上記の金属化合物及び金属のほかに、カーボ
ンブラック、黒鉛(グラファイト)、骨炭(ボーンブラ
ック)などの非金属単体粒子や各種の有機、無機顔料な
ども用いることができる。これらの顔料や各種微粒子
は、容易に水分散し得る表面親水性のものを用いること
が効果の観点から好ましい。
In the present invention, as the pigment contained in the hydrophilic layer, in addition to the above metal compounds and metals, non-metal simple particles such as carbon black, graphite (bone graphite) and bone charcoal (bone black), and various organic substances. Inorganic pigments can also be used. From the viewpoint of the effect, it is preferable to use those pigments and various fine particles that have a hydrophilic surface that can be easily dispersed in water.

【0095】また、光熱変換性の色素(染料)も用いる
ことができる。このような色素としては、画像形成に用
いられる照射光の分光波長領域に光吸収域を有し、水に
容易に溶解し得るものが好ましい。好ましい固体微粒子
状、染着性及び分子分散性の色素は、赤外線吸収剤とし
て知られているものであり、具体的には、ポリメチン色
素、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム色
素、ジインモニウム色素、フタロシアニン化合物、トリ
アリールメタン色素、金属ジチオレンから選ばれる染料
である。これらのうち更に好ましいものとしては、ポリ
メチン色素、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリ
リウム色素、ジインモニウム色素、フタロシアニン化合
物であり、その中でも合成適性の観点からポリメチン色
素、シアニン色素、フタロシアニン化合物がもっとも好
ましい。上記した色素は、水溶性基、例えば、スルホン
酸基、カルボキシル基及びホスホン酸基などを分子内に
有する水溶性染料であることが、機上現像性の観点から
好ましい。本発明において光熱変換剤として用いられる
染料(赤外線吸収剤)の具体例を以下に示すが、これら
に限定されるものではない。
Further, a photothermal conversion dye (dye) can also be used. As such a dye, those having a light absorption region in the spectral wavelength region of irradiation light used for image formation and easily soluble in water are preferable. Preferred solid fine particle, dyeing and molecular disperse dyes are those known as infrared absorbers, and specifically, polymethine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium dyes, diimmonium dyes, phthalocyanine compounds. , A triarylmethane dye, and a metal dithiolene. Of these, more preferred are polymethine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium dyes, diimmonium dyes and phthalocyanine compounds, and among them, polymethine dyes, cyanine dyes and phthalocyanine compounds are most preferred from the viewpoint of suitability for synthesis. From the viewpoint of on-press developability, it is preferable that the above-mentioned dye is a water-soluble dye having a water-soluble group such as a sulfonic acid group, a carboxyl group and a phosphonic acid group in the molecule. Specific examples of the dye (infrared absorber) used as the photothermal conversion agent in the present invention are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0096】[0096]

【化16】 [Chemical 16]

【0097】[0097]

【化17】 [Chemical 17]

【0098】親水性層中への光熱変換剤の添加は、上記
の光熱変換剤を親水性層の形成時に、塗布液中に添加し
てもよいが、水分散性粒子中に含有させて添加すること
もできる。すなわち、水分散性粒子を製造するときの油
相に添加することによって、水分散性粒子中に含有させ
ることができる。その場合には、上記の光熱変換剤でも
よいが、疎水性ポリマーと親和性の良い親油性光熱変換
剤を用いることが好ましい。そのような親油性光熱変換
剤を以下に例示するが、これに限定されるものではな
い。
The light-heat converting agent may be added to the hydrophilic layer in the coating solution when the hydrophilic layer is formed, but it may be added in the water-dispersible particles. You can also do it. That is, it can be contained in the water-dispersible particles by adding it to the oil phase at the time of producing the water-dispersible particles. In that case, the above-mentioned photothermal conversion agent may be used, but it is preferable to use a lipophilic photothermal conversion agent having a good affinity with the hydrophobic polymer. Examples of such lipophilic light-heat converting agents are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0099】[0099]

【化18】 [Chemical 18]

【0100】[0100]

【化19】 [Chemical 19]

【0101】光熱変換剤の含有量は、光熱変換剤の光吸
収により発生する熱によって水分散性粒子の近傍が熱融
着を引き起こして疎水化するのに足りる量であればよ
く、固形の構成成分の2〜50質量%の間で広く選択で
きる。2質量%以下では発熱量が不足して感度が低下
し、50質量%以上では膜強度が低下する。
The content of the photothermal conversion agent may be an amount sufficient to cause heat fusion in the vicinity of the water-dispersible particles by the heat generated by the light absorption of the photothermal conversion agent to make it hydrophobic, and the solid constitution. A wide selection can be made between 2 and 50% by weight of the components. If it is 2% by mass or less, the heat generation amount is insufficient and the sensitivity is lowered, and if it is 50% by mass or more, the film strength is lowered.

【0102】(界面活性剤)親水性層に用いられる界面
活性剤としては、水分散性粒子の製造に用いることがで
きるものと同様の界面活性剤を使用できる。記録層成分
の分散に用いる場合には、前記した界面活性剤のほか、
さらに、具体的にはパーフルオロアルキル基を有する界
面活性剤が好ましく、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エ
ステル及びリン酸エステルのいずれかを有するアニオン
型の界面活性剤、又は、脂肪族アミン、第4級アンモニ
ウム塩のようなカチオン型の界面活性剤、又はベタイン
型の両性界面活性剤、又は、ポリオキシ化合物の脂肪族
エステル、ポリアルキレンオキシド縮合型、ポリエチレ
ンイミン縮合型のようなノニオン型界面活性剤などが挙
げられる。上記界面活性剤の記録層全固形物中に占める
割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好まし
くは0.1〜5質量%である。
(Surfactant) As the surfactant used in the hydrophilic layer, the same surfactants as those which can be used in the production of water-dispersible particles can be used. When used to disperse the recording layer components, in addition to the above-mentioned surfactant,
Further, specifically, a surfactant having a perfluoroalkyl group is preferable, and an anionic surfactant having any of a carboxylic acid, a sulfonic acid, a sulfuric acid ester and a phosphoric acid ester, or an aliphatic amine, Cationic surfactants such as primary ammonium salts, or betaine amphoteric surfactants, or nonionic surfactants such as aliphatic esters of polyoxy compounds, polyalkylene oxide condensation types, and polyethyleneimine condensation types. Is mentioned. The ratio of the above surfactant in the total solid content of the recording layer is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass.

【0103】(着色剤)また、本発明における画像記録
層には、画像形成後、画像部と非画像部の区別をつきや
すくするため、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像
の着色剤として使用することができる。具体的には、オ
イルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイ
ルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルー
BOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、
オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上
オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブル
ー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチ
ルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレッ
ト、ローダミンB(CI145170B)、マラカイト
グリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI5
2015)等、および特開昭62−293247号に記
載されている染料を挙げることができる。また、フタロ
シアニン系顔料、アゾ系顔料、酸化チタンなどの顔料も
好適に用いることができる。添加量は、画像記録層の全
固形分に対し、0.01〜10質量%の割合である。
(Coloring Agent) In the image recording layer of the present invention, a dye having a large absorption in the visible light region is added to the image recording layer in order to make it easy to distinguish the image area from the non-image area after the image formation. Can be used as Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY,
Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000). , Methylene blue (CI5
2015) and the like, and dyes described in JP-A No. 62-293247. Further, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, and titanium oxide can also be preferably used. The addition amount is 0.01 to 10 mass% with respect to the total solid content of the image recording layer.

【0104】〔断熱層〕本発明の平版印刷版原版におい
ては、支持体と画像記録層の間に断熱層を設けることが
好ましい。以下に、断熱層について説明する。画像記録
層の下層として設けられている断熱層は、熱伝導率が低
く支持体への熱拡散を抑制する機能を有する層である。
また、この断熱層には、光熱変換剤を含有させることも
でき、その場合には光照射によって発熱して画像記録層
の記録感度の向上に寄与する。このような断熱層は、有
機性又は無機性の樹脂を含有する。
[Heat Insulating Layer] In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is preferable to provide a heat insulating layer between the support and the image recording layer. The heat insulating layer will be described below. The heat insulating layer provided as a lower layer of the image recording layer is a layer having a low thermal conductivity and a function of suppressing heat diffusion to the support.
Further, this heat insulating layer may contain a photothermal conversion agent, and in this case, it is heated by light irradiation to contribute to the improvement of the recording sensitivity of the image recording layer. Such a heat insulating layer contains an organic or inorganic resin.

【0105】断熱層に使用しうる有機性あるいは無機性
の樹脂は、親水性あるいは、疎水性のものから広く選択
することができる。例えば、疎水性樹脂としては、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミ
ド、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ピニリデン樹
脂、ポリビニルブチラール樹脂、ニトロセルロース、ポ
リアクリレート、ポリメタクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリウレタン、ポリスチレン、塩化ビニル樹脂−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−樹脂ビニル−マレイン
酸共重合体、塩化ビニル−アクリレート共重合体、ポリ
塩化ビニリデン、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共
重合体などが挙げられる。
The organic or inorganic resin that can be used for the heat insulating layer can be widely selected from hydrophilic and hydrophobic resins. For example, as the hydrophobic resin, polyethylene, polypropylene, polyester, polyamide, acrylic resin, vinyl chloride resin, pinylidene chloride resin, polyvinyl butyral resin, nitrocellulose, polyacrylate, polymethacrylate, polycarbonate, polyurethane, polystyrene, vinyl chloride resin- Vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-resin vinyl-maleic acid copolymer, vinyl chloride-acrylate copolymer, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, etc. Is mentioned.

【0106】この断熱層においては、疎水性樹脂は、水
性エマルジョンの形態を有するものも用いることができ
る。水性エマルジョンとは、微小な樹脂粒子と、必要に
応じて該粒子を分散安定化する保護剤とからなる粒子を
水中に分散させた疎水性ポリマー懸濁水溶液のことであ
る。用いられる水性エマルジョンの具体例としては、ビ
ニル系ポリマーラテックス(ポリアクリレート系、酢酸
ビニル系、エチレン−酢酸ビニル系など)、共役シエン
系ポリマーラテックス(メタクリル酸メチル−ブタジエ
ン系、スチレン−ブタジエン系、アグリロニトリル−プ
ブタジエン系、クロロプレン系など)及びポリウレタン
樹脂などが挙げられる。
In this heat insulating layer, the hydrophobic resin having a form of an aqueous emulsion can also be used. The aqueous emulsion is a hydrophobic polymer suspension aqueous solution in which particles comprising fine resin particles and, if necessary, a protective agent for dispersing and stabilizing the particles are dispersed in water. Specific examples of the aqueous emulsion used include vinyl-based polymer latexes (polyacrylate-based, vinyl acetate-based, ethylene-vinyl acetate-based, etc.), conjugated siene-based polymer latexes (methyl methacrylate-butadiene-based, styrene-butadiene-based, agglomerates). Ronitrile-p-butadiene type, chloroprene type, etc.) and polyurethane resin.

【0107】親水性樹脂としては、具体的には、ポリビ
ニルアルコール(PVA),カルボキシ変性PVA等の
変性PVA、澱粉及びその誘導体、カルボキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロースのようなセルロ
ース誘導体、アルギン酸アンモニウム、ポリアクリル
酸、ポリアクリル酸塩、ポリエチレンオキサイド、水溶
性ウレタン樹脂、水溶性ポリエステル樹脂、ポリヒドロ
キシエチルアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート系ポリマー、N−ビニルカルボン酸アミドポ
リマー、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、
酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチレン−マレイン
酸共重合体等の水溶性樹脂、などが挙げられる。
Specific examples of the hydrophilic resin include polyvinyl alcohol (PVA), modified PVA such as carboxy-modified PVA, starch and its derivatives, carboxymethyl cellulose, cellulose derivatives such as hydroxyethyl cellulose, ammonium alginate, and polyacrylic acid. , Polyacrylate, polyethylene oxide, water-soluble urethane resin, water-soluble polyester resin, polyhydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol diacrylate polymer, N-vinylcarboxylic acid amide polymer, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone,
Examples thereof include water-soluble resins such as vinyl acetate-crotonic acid copolymer and styrene-maleic acid copolymer.

【0108】断熱層に上記親水性樹脂を用いる場合に
は、架橋し、硬化させて用いることが膜性向上の観点か
ら好ましく、架橋剤としては、用いる親水性樹脂に適合
する公知の架橋剤を適宜使用することができる。
When the above hydrophilic resin is used for the heat insulating layer, it is preferable to use it after crosslinking and curing, from the viewpoint of improving the film property, and as the crosslinking agent, a known crosslinking agent compatible with the hydrophilic resin used It can be used as appropriate.

【0109】断熱層に用いる無機性の樹脂としては、ゾ
ルゲル変換によって形成される無機マトリックスが好ま
しい。本発明に好ましく適用できるゾルゲル変換が可能
な系は、多価元素に結合した結合基が酸素原子を介して
網目状構造を形成し、同時に多価金属は未結合の水酸基
やアルコキシ基も有していてこれらが混在した樹脂状構
造となっている高分子体であって、アルコキシ基や水酸
基が多い段階ではゾル状態であり、脱水縮合が進行する
のに伴って網目状の樹脂構造が強固となる。また、樹脂
組織の親水性度が変化する性質に加えて、水酸基の一部
が固体微粒子に結合することによって固体微粒子の表面
を修飾し、親水性度を変化させる働きをも併せ持ってい
る。ゾルゲル変換を行う水酸基やアルコキシ基を有する
化合物の多価結合元素は、アルミニウム、珪素、チタン
及びジルコニウムなどであり、これらはいずれも本発明
に用いることができる。
The inorganic resin used for the heat insulating layer is preferably an inorganic matrix formed by sol-gel conversion. The system capable of sol-gel conversion which can be preferably applied to the present invention, a bonding group bonded to a polyvalent element forms a network structure through an oxygen atom, and at the same time, the polyvalent metal also has an unbonded hydroxyl group or an alkoxy group. However, it is a polymer having a resin-like structure in which these are mixed, and is in a sol state at the stage where there are many alkoxy groups and hydroxyl groups, and the network resin structure becomes firm as the dehydration condensation proceeds. Become. In addition to the property of changing the hydrophilicity of the resin structure, it also has a function of modifying the surface of the solid fine particles by binding some of the hydroxyl groups to the solid fine particles to change the hydrophilicity. The polyvalent bonding element of the compound having a hydroxyl group or an alkoxy group that undergoes sol-gel conversion is aluminum, silicon, titanium, zirconium, or the like, and any of these can be used in the present invention.

【0110】画像記録層との接着性の観点から、断熱層
を構成する樹脂としては、とくに親水性樹脂が好まし
い。断熱層中に光熱変換剤を含有させる場合、その光熱
変換剤としては、前記した画像記録層に用いた光熱変換
剤と同じ物質を使用することができる。断熱層中に含ま
れる光熱変換剤の含有量は、固形の構成成分の2〜95
質量%の間で広く選択できる。2質量%以下では発熱量
が不足して添加の効果が顕著でなく、95質量%以上で
は膜強度が低下する。
From the viewpoint of adhesiveness to the image recording layer, a hydrophilic resin is particularly preferable as the resin constituting the heat insulating layer. When a light-heat converting agent is contained in the heat insulating layer, the same material as the light-heat converting agent used in the image recording layer can be used as the light-heat converting agent. The content of the photothermal conversion agent contained in the heat insulating layer is 2 to 95% of the solid constituent components.
Widely selectable between mass%. If it is 2 mass% or less, the calorific value is insufficient and the effect of the addition is not remarkable, and if it is 95 mass% or more, the film strength decreases.

【0111】断熱層中には、上記した樹脂及び光熱変換
剤のほかに、断熱層の物理的強度の向上、層を構成する
組成物相互の分散性の向上、塗布性の向上、画像記録層
との接着性向上などの理由で、無機微粒子、界面活性剤
など種々の目的の化合物を添加することができる。 (無機微粒子)断熱層に添加しうる無機微粒子として
は、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタ
ン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムもしくは
これらの混合物などが好適な例として挙げられ、これら
は光熱変換性でなくても皮膜の強化や表面粗面化による
界面接着性の強化などに寄与する。
In the heat insulating layer, in addition to the above-mentioned resin and photothermal conversion agent, the physical strength of the heat insulating layer is improved, the dispersibility of the constituents of the layers is improved, the coatability is improved, and the image recording layer is formed. For the purpose of, for example, improving the adhesiveness with, it is possible to add various objective compounds such as inorganic fine particles and a surfactant. (Inorganic fine particles) Examples of suitable inorganic fine particles that can be added to the heat insulating layer include silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate, and mixtures thereof. These are not photothermal convertible. Even so, it contributes to strengthening the film and strengthening the interfacial adhesion by roughening the surface.

【0112】無機微粒子の平均粒径は5nm〜10μm
のものが好ましく、より好ましくは10nm〜1μmで
ある。粒径がこの範囲内で、水分散性粒子や光熱変換剤
の金属微粒子とも結着樹脂内に安定に分散し、画像記録
層の膜強度を充分に保持し、印刷汚れを生じにくい親水
性に優れた非画像部を形成できる。このような無機微粒
子は、コロイダルシリカ分散物などの市販品として容易
に入手できる。無機微粒子の断熱層への含有量は、断熱
層の全固形分の1.0〜70質量%が好ましく、より好
ましくは5.0〜50質量%である。
The average particle size of the inorganic fine particles is 5 nm to 10 μm.
Those having a thickness of 10 nm to 1 μm are more preferable. When the particle size is within this range, the water-dispersible particles and the metal fine particles of the photothermal conversion agent are stably dispersed in the binder resin, the film strength of the image recording layer is sufficiently maintained, and the hydrophilic property is less likely to cause printing stains. An excellent non-image area can be formed. Such inorganic fine particles are easily available as a commercial product such as a colloidal silica dispersion. The content of the inorganic fine particles in the heat insulating layer is preferably 1.0 to 70 mass% of the total solid content of the heat insulating layer, and more preferably 5.0 to 50 mass%.

【0113】〔水溶性保護層〕本発明の平版印刷原版の
画像記録層表面は親水性であるので、原版が製品形態で
輸送されたり、保管されたりする際、あるいは使用前の
取り扱いの際、環境の雰囲気の影響によって疎水性化し
たり、温湿度の影響を受けたり、あるいは機械的な傷な
ど又は汚れなどの影響を受けやすい。これを防止するた
めに、本発明の平版印刷版原版には、水溶性高分子を主
成分とする水溶性表面保護層を設けることが好ましい。
水溶性保護層は、印刷の初期の段階で湿し水により溶
解、除去されるので、特に除去の工程は必要とせず、機
上現像性を低下させることもない。
[Water-Soluble Protective Layer] Since the surface of the image recording layer of the lithographic printing original plate of the invention is hydrophilic, when the original plate is transported or stored in the form of a product, or when it is handled before use, It is apt to be hydrophobic due to the influence of the environment atmosphere, to be affected by temperature and humidity, or to be susceptible to mechanical scratches or dirt. In order to prevent this, the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably provided with a water-soluble surface protective layer containing a water-soluble polymer as a main component.
Since the water-soluble protective layer is dissolved and removed by dampening water in the initial stage of printing, no particular removing step is required and the on-press developability is not deteriorated.

【0114】以下、水溶性保護層に含有される成分につ
いて説明する。水溶性保護層は水溶性高分子を含有する
が、これは、水溶性保護層の結着樹脂(層形成成分)と
して機能する。水溶性高分子としては、例えば水酸基、
カルボキシル基、塩基性窒素含有基等の親水性の官能基
を十分に有する高分子が挙げられる。
The components contained in the water-soluble protective layer will be described below. The water-soluble protective layer contains a water-soluble polymer, which functions as a binder resin (layer forming component) of the water-soluble protective layer. As the water-soluble polymer, for example, a hydroxyl group,
Polymers having sufficient hydrophilic functional groups such as carboxyl groups and basic nitrogen-containing groups are mentioned.

【0115】具体的には、ポリビニルアルコール(PV
A)、カルボキシ変性PVA等の変性PVA、アラビア
ガム、水溶性大豆多糖類、ポリアクリルアミド及びその
共重合体、アクリル酸共重合体、ビニルメチルエーテル
/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン
酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸共重合体、焙焼
デキストリン、酸素分解デキストリン、酵素分解エーテ
ル化デキストリン、澱粉及びその誘導体、カルボキシメ
チルセルローズ、カルボキシエチルセルローズ、メチル
セルローズ、ヒドロキシエチルセルローズのようなセル
ロース誘導体、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルピロリ
ドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、スチレン−マ
レイン酸共重合体、アルギン酸及びそのアルカリ金属
塩、アルカリ土類金属塩又はアンモニウム塩、ポリアク
リル酸、ポリ(エチレンオキサイド)、水溶性ウレタン
樹脂、水溶性ポリエステル樹脂、ポリヒドロキシエチル
アクリレート、ポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、N−ビニルカルボン酸アミドポリマー等
が挙げられる。なかでも、ポリビニルアルコール(PV
A)、カルボキシ変性PVA等の変性PVA、アラビア
ガム、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸、アクリル
酸共重合体、ポリビニルピロリドン、アルギン酸及びそ
のアルカリ金属塩の使用が好ましく、これらは1種のみ
を用いてもよく、目的に応じて2種以上混合使用しても
よい。水溶性保護層塗布液中の上記水溶性高分子の含有
量は、3〜25質量%が適当であり、好ましい範囲は1
0〜25質量%である。
Specifically, polyvinyl alcohol (PV
A), modified PVA such as carboxy-modified PVA, gum arabic, water-soluble soybean polysaccharide, polyacrylamide and copolymers thereof, acrylic acid copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride Such as acid copolymers, styrene / maleic anhydride copolymers, roasted dextrins, oxygen-degraded dextrins, enzyme-decomposed etherified dextrins, starch and its derivatives, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, methylcellulose, hydroxyethylcellulose. Cellulose derivatives, casein, gelatin, polyvinylpyrrolidone, vinyl acetate-crotonic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, alginic acid and its alkali metal salts, alkaline earth metal salts or ammonium salts, polyacrylic acid, poly (ethyl ether). Emissions oxide), water-soluble urethane resins, water-soluble polyester resins, polyhydroxyethyl acrylate, polyethylene glycol, polypropylene glycol, N- vinylcarboxamide polymers. Among them, polyvinyl alcohol (PV
A), modified PVA such as carboxy-modified PVA, gum arabic, polyacrylamide, polyacrylic acid, acrylic acid copolymer, polyvinylpyrrolidone, alginic acid and alkali metal salts thereof are preferably used, and these may be used alone. Well, two or more kinds may be mixed and used depending on the purpose. The content of the water-soluble polymer in the coating solution for the water-soluble protective layer is appropriately 3 to 25% by mass, and the preferable range is 1
It is 0 to 25 mass%.

【0116】水溶性保護層には、上記水溶性高分子以外
に、種々の界面活性剤を含有してもよい。使用できる界
面活性剤としては、アニオン界面活性剤又はノニオン界
面活性剤が挙げられる。用いられる界面活性剤として
は、前記した画像記録層に用いられる界面活性剤と同様
なものを用いることができる。界面活性剤は水溶性保護
層の全固形分当たり、好ましくは0.01〜1質量%で
あり、更に好ましくは0.05〜0.5質量%である。
The water-soluble protective layer may contain various surfactants in addition to the above water-soluble polymer. Examples of the surfactant that can be used include anionic surfactants and nonionic surfactants. As the surfactant used, the same surfactants as those used for the image recording layer can be used. The surfactant is preferably 0.01 to 1% by mass, more preferably 0.05 to 0.5% by mass, based on the total solid content of the water-soluble protective layer.

【0117】また、この保護層塗布液には、上記成分の
ほか、必要により湿潤剤としてグリセリン、エチレング
リコール、トリエチレングリコール等の低級多価アルコ
ールも使用することができる。これら湿潤剤の使用量は
保護層中に0.1〜5.0質量%となる量が適当であ
り、好ましい範囲は0.5〜3.0質量%となる量であ
る。さらに、保護層塗布液には、防腐剤などを添加する
ことができる。例えば安息香酸及びその誘導体、フェノ
ール、ホルマリン、デヒドロ酢酸ナトリウム等を0.0
05〜2.0質量%の範囲で添加できる。塗布液には消
泡剤を添加することもできる。好ましい消泡剤には有機
シリコーン化合物が含まれ、その添加量は0.0001
〜0.1質量%の範囲が好ましい。
In addition to the above-mentioned components, a lower polyhydric alcohol such as glycerin, ethylene glycol or triethylene glycol can be used as a wetting agent in the protective layer coating liquid, if necessary. An appropriate amount of these wetting agents is 0.1 to 5.0% by mass in the protective layer, and a preferable range is 0.5 to 3.0% by mass. Further, a preservative and the like can be added to the coating solution for protective layer. For example, benzoic acid and its derivatives, phenol, formalin, sodium dehydroacetate, etc.
It can be added in the range of 05 to 2.0 mass%. An antifoaming agent can be added to the coating liquid. A preferable defoaming agent contains an organic silicone compound, and the addition amount thereof is 0.0001.
The range of 0.1 mass% is preferable.

【0118】また、水溶性保護層には、光熱変換剤を添
加してもよい。この場合、画像記録層の光照射による熱
融着の感度がさらに高まるので、好ましい結果が得られ
る。光熱変換剤としては、断熱層に添加しうる光熱変換
剤として挙げたものを使用することができ、好ましい添
加量も同様である。
A photothermal conversion agent may be added to the water-soluble protective layer. In this case, the sensitivity of heat fusion of the image recording layer due to light irradiation is further enhanced, and a preferable result is obtained. As the light-heat converting agent, those mentioned as the light-heat converting agent that can be added to the heat insulating layer can be used, and the preferable addition amount is also the same.

【0119】〔支持体〕つぎに画像記録層を塗設する支
持体について述べる。支持体には、寸度的に安定な板状
物が用いられる。本発明に用いることができる支持体と
しては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた
紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、ステンレス鋼等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記の金属がラミネ
ート又は蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム等
が含まれる。
[Support] Next, the support on which the image recording layer is coated will be described. As the support, a dimensionally stable plate-like material is used. The support that can be used in the present invention includes paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, nickel, stainless steel, etc.), plastic Films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper or plastic film laminated or vapor-deposited with the above metals, and the like.

【0120】好ましい支持体は、ポリエステルフィル
ム、アルミニウム、又は印刷版上で腐食しにくいSUS
鋼板であり、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価
であるアルミニウム板が好ましい。好適なアルミニウム
板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分と
し、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウ
ムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィル
ムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、
珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜
鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の
異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明に
おいて特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであ
るが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困
難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その
組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素
材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本
発明で用いられる支持体の厚みはおよそ0.05mm〜
0.6mm程度、好ましくは0.1mm〜0.4mm、
特に好ましくは0.15mm〜0.3mmである。
The preferred support is polyester film, aluminum, or SUS which is resistant to corrosion on printing plates.
A steel plate is preferable, and an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable. The preferred aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a slight amount of a foreign element, and may be a plastic film in which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy are
There are silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in terms of refining technology, and thus may contain a slightly different element.
As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and publicly known aluminum plates can be appropriately used. The thickness of the support used in the present invention is approximately 0.05 mm-
About 0.6 mm, preferably 0.1 mm to 0.4 mm,
Particularly preferably, it is 0.15 mm to 0.3 mm.

【0121】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。化学的方法としては、特開昭54−
31187号公報に記載されているような鉱酸のアルミ
ニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適している。ま
た、電気化学的な粗面化法としては塩酸または硝酸など
の酸を含む電解液中で交流または直流により行う方法が
ある。また、特開昭54−63902号に開示されてい
るように混合酸を用いた電解粗面化方法も利用すること
ができる。このような粗面化方法のうち、特に特開昭5
5−137993号公報に記載されているような機械的
粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法が、感
脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。上記
の如き方法による粗面化は、アルミニウム板の表面の中
心線表面粗さ(Ra)が0.3〜1.0μmとなるよう
な範囲で施されることが好ましい。粗面化されたアルミ
ニウム板は必要に応じて水酸化カリウムや水酸化ナトリ
ウムなどの水溶液を用いてアルカリエッチング処理がさ
れ、さらに中和処理された後、所望により耐摩耗性を高
めるために陽極酸化処理が施される。
Prior to the roughening of the aluminum plate, if desired, a degreasing treatment for removing rolling oil on the surface is carried out, for example, with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically melting the surface and a method of selectively melting the surface chemically. It is performed by the method. As the mechanical method, known methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method and a buff polishing method can be used. As a chemical method, JP-A-54-
A method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in Japanese Patent No. 31187 is suitable. Further, as an electrochemical graining method, there is a method of performing alternating current or direct current in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Also, an electrolytic surface roughening method using a mixed acid as disclosed in JP-A-54-63902 can be used. Among such roughening methods, especially Japanese Patent Laid-Open No.
A surface-roughening method combining mechanical surface-roughening and electrochemical surface-roughening as described in JP-A-5-137993 is preferable because the adhesion of the oil-sensitive image to the support is strong. The surface roughening by the method as described above is preferably performed in a range such that the center line surface roughness (Ra) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm. The roughened aluminum plate is optionally subjected to alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide, etc., and further neutralized, and then anodized to enhance abrasion resistance if desired. Processing is performed.

【0122】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電
解質の使用が可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、ク
ロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電
解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。陽
極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるの
で一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1
〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜6
0A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5
分の範囲であれば適当である。形成される酸化皮膜量
は、1.0〜5.0g/m2、特に1.5〜4.0g/
2であることが好ましい。陽極酸化皮膜の量は1.0
g/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、傷が
付き易くなる。
As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes which form a porous oxide film can be used. Generally, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. To be The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte. The treatment conditions for anodic oxidation cannot be unconditionally specified because they vary depending on the electrolyte used, but generally the concentration of electrolyte is 1
~ 80 mass% solution, liquid temperature 5 ~ 70 ° C, current density 5 ~ 6
0 A / dm 2 , voltage 1 to 100 V, electrolysis time 10 seconds to 5
A range of minutes is suitable. The amount of oxide film formed is 1.0 to 5.0 g / m 2 , particularly 1.5 to 4.0 g / m 2 .
It is preferably m 2 . The amount of anodized film is 1.0
When it is less than g / m 2 , printing durability is insufficient or scratches are likely to occur.

【0123】これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英
国特許第1,412,768号公報に記載されている硫
酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
3,511,661号公報に記載されている燐酸を電解
浴として陽極酸化する方法が好ましい。
Among these anodizing treatments, a method of anodizing at a high current density in sulfuric acid described in British Patent No. 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661 are particularly mentioned. The method of anodic oxidation using phosphoric acid as an electrolytic bath described in 1) is preferable.

【0124】〔製版および印刷〕本発明の平版印刷版原
版は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッ
ド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露
光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外
線ランプ露光などが用いられるが、波長700〜120
0nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ
等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
本発明の平版印刷版原版は、レーザー出力が0.1〜3
00Wのレーザーで照射をすることができる。また、パ
ルスレーザーを用いる場合には、ピーク出力が1000
W、好ましくは2000Wのレーザーを照射するのが好
ましい。この場合の露光量は、印刷用画像で変調する前
の面露光強度が0.1〜10J/cm2の範囲であるこ
とが好ましく、0.3〜1J/cm2の範囲であること
がより好ましい。支持体が透明である場合は、支持体の
裏側から支持体を通して露光することもできる。
[Plate Making and Printing] The planographic printing plate precursor of the invention is image-formed by heat. Specifically, direct image-like recording with a thermal recording head, scanning exposure with an infrared laser, high-illuminance flash exposure with a xenon discharge lamp, infrared lamp exposure, or the like is used.
Exposure with a solid-state high-power infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser that emits 0 nm infrared is suitable.
The lithographic printing plate precursor of the invention has a laser output of 0.1 to 3.
Irradiation can be performed with a 00 W laser. When using a pulsed laser, the peak output is 1000
It is preferable to irradiate the laser with W, preferably 2000 W. The exposure amount in this case is preferably in the range of 0.1 to 10 J / cm 2 of surface exposure intensity before being modulated by the printing image, and more preferably in the range of 0.3 to 1 J / cm 2. preferable. When the support is transparent, it can also be exposed through the support from the back side of the support.

【0125】露光された領域では、親水性層中に分散さ
れた水分散性粒子が互いに融着して疎水化領域を形成す
る。この水分散性粒子は、その表面が親水性であり、好
ましい態様においては、親水性層中の珪素などのアルコ
キシド化合物中の元素と相互作用を形成する有機珪素基
を有しており、親水性層に密着してインキ受容性の領
域、即ち、画像部を形成する。また、未露光部では、水
分散性粒子は、僅かな水によっても容易に除去され、架
橋構造を有する親水性層の働きで高い親水性を有する湿
し水受容領域となり、非画像部を形成する。画像露光さ
れた本発明の平版印刷版原版は、それ以上の処理なしに
印刷機に装着し、インキと湿し水を用いて通常の手順で
印刷することができる。また、これらの平版印刷版原版
は、印刷機シリンダー上に取りつけた後に、印刷機に搭
載されたレーザーにより露光し、そのままインキと湿し
水を用いて通常の手順で印刷することもできる。本発明
の平版印刷版原版は、耐久性と親水性に優れた親水性層
を有するため、過酷な印刷条件においても、非画像部に
汚れのない優れた画質の印刷物を多数枚えることができ
る。
In the exposed area, the water-dispersible particles dispersed in the hydrophilic layer fuse with each other to form a hydrophobized area. The surface of the water-dispersible particles is hydrophilic, and in a preferred embodiment, the water-dispersible particles have an organosilicon group that forms an interaction with an element in the alkoxide compound such as silicon in the hydrophilic layer. It adheres to the layer to form an ink receptive area, i.e. an image area. Further, in the unexposed area, the water-dispersible particles are easily removed by even a small amount of water, and the hydrophilic layer having a crosslinked structure serves as a dampening water receiving area having high hydrophilicity, forming a non-image area. To do. The imagewise exposed lithographic printing plate precursor according to the invention can be mounted on a printing machine without further treatment and can be printed by a usual procedure using ink and fountain solution. Further, these lithographic printing plate precursors can be mounted on a cylinder of a printing machine and then exposed by a laser mounted on the printing machine, and can be directly printed with an ink and a fountain solution by a usual procedure. Since the lithographic printing plate precursor according to the invention has a hydrophilic layer excellent in durability and hydrophilicity, it is possible to obtain a large number of printed matters having excellent image quality without stains on non-image areas even under severe printing conditions. .

【0126】[0126]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明の範囲はこれらによって限定されるもので
はない。 〔特定親水性ポリマー(1)の合成〕500ml三口フ
ラスコにアクリルアミド50g、メルカプトプロピルト
リメトキシシラン3.4g、及びジメチルアセトアミド
220gを入れ、65℃窒素気流下、2,2−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)0.5gを加え
た。6時間撹拌しながら同温度に保った後、室温まで冷
却した。酢酸エチル2リットル中に投入し、析出した固
体を濾取し、水洗して親水性ポリマー(1)を得た。乾
燥後の質量は52.4gであった。GPC(ポリスチレ
ン標準)により質量平均分子量3000のポリマーであ
り、13C−NMR(DMSO−d6)により末端にトリ
メトキシシリル基(50.0ppm)が導入された、前
記例示化合物1の構造を有するポリマー(1)であるこ
とが確認された。
The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these. [Synthesis of Specific Hydrophilic Polymer (1)] 50 g of acrylamide, 3.4 g of mercaptopropyltrimethoxysilane and 220 g of dimethylacetamide were placed in a 500 ml three-necked flask, and 2,2-azobis (2,4-azobis (2,4-) 0.5 g of dimethylvaleronitrile) was added. After maintaining the same temperature for 6 hours with stirring, the mixture was cooled to room temperature. It was put into 2 liters of ethyl acetate, and the precipitated solid was collected by filtration and washed with water to obtain a hydrophilic polymer (1). The mass after drying was 52.4 g. Polymer having a structure of Exemplified Compound 1, which is a polymer having a mass average molecular weight of 3000 by GPC (polystyrene standard) and a trimethoxysilyl group (50.0 ppm) introduced at the end by 13 C-NMR (DMSO-d6). It was confirmed to be (1).

【0127】〔水分散性粒子1〜10の合成〕 (合成例1)油相成分として、疎水性ポリマー(本明細
書記載のPI−1)30.0g、MEK45.0g、ア
ニオン界面活性剤パイオニンA41C(竹本油脂(株)
製)0.5gの溶液を調製し、水相成分として、水溶性
樹脂(本明細書記載のWII−1)4.2g、水259.
8gの溶液を調製し、両者を混合した後、ホモジナイザ
ーにて12,000rpm、10分間激しく撹拌混合し
て、水相中に油滴を分散した乳化分散物を得た。次に、
ステンレス製ポットに乳化分散物を投入し、40℃、3
時間撹拌して溶剤成分を除去することによって、粒径
0.24μmの水分散性粒子1を得た。
[Synthesis of Water-Dispersible Particles 1 to 10] (Synthesis Example 1) As an oil phase component, 30.0 g of a hydrophobic polymer (PI-1 described in the present specification), 45.0 g of MEK, anion surfactant pioneine A41C (Takemoto Yushi Co., Ltd.)
0.5 g) was prepared, and as an aqueous phase component, 4.2 g of a water-soluble resin (WII-1 described in this specification), water 259.
8 g of a solution was prepared, and both were mixed and then vigorously stirred and mixed with a homogenizer at 12,000 rpm for 10 minutes to obtain an emulsified dispersion in which oil droplets were dispersed in the aqueous phase. next,
Put the emulsified dispersion in a stainless steel pot and keep at 40 ° C for 3
By stirring for a period of time to remove the solvent component, water-dispersible particles 1 having a particle diameter of 0.24 μm were obtained.

【0128】(合成例2)油相成分として、疎水性ポリ
マー(本明細書記載のPI−1)30.0g、MEK4
5.0g、アニオン界面活性剤パイオニンA41C(竹
本油脂(株)製)0.5gの溶液を調製し、水相成分と
して、日産化学工業(株)製スノーテックスC60g,
水259.8gの溶液を調製し、両者を混合した後、ホ
モジナイザーにて12,000rpm、10分間激しく
撹拌混合して、水相中に油滴を分散した乳化分散物を得
た。次に、ステンレス製ポットに乳化分散物を投入し、
40℃、3時間撹拌して溶剤成分を除去することによっ
て、粒径0.21μmの水分散性粒子2を得た。
(Synthesis Example 2) As an oil phase component, 30.0 g of a hydrophobic polymer (PI-1 described in this specification), MEK4
A solution of 5.0 g and 0.5 g of the anionic surfactant Pionin A41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) was prepared, and as an aqueous phase component, Snowtex C 60 g manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.,
A solution of 259.8 g of water was prepared, both were mixed, and then vigorously stirred and mixed with a homogenizer at 12,000 rpm for 10 minutes to obtain an emulsified dispersion in which oil droplets were dispersed in the aqueous phase. Next, put the emulsified dispersion in a stainless steel pot,
By stirring at 40 ° C. for 3 hours to remove the solvent component, water-dispersible particles 2 having a particle diameter of 0.21 μm were obtained.

【0129】(合成例3〜10)合成例1、2で用いた
疎水性ポリマー、水溶性樹脂、酸化物粒子、界面活性剤
を表1記載の材料にそれぞれ置き換えた以外は合成例
1、2と同様に水分散性粒子3〜10の合成を行った。
結果を表1に示す。
(Synthesis Examples 3 to 10) Synthesis Examples 1 and 2 except that the hydrophobic polymer, water-soluble resin, oxide particles and surfactant used in Synthesis Examples 1 and 2 were replaced with the materials shown in Table 1, respectively. Water-dispersible particles 3 to 10 were synthesized in the same manner as in.
The results are shown in Table 1.

【0130】[0130]

【表1】 [Table 1]

【0131】表中の略記号及び商品名は、下記の通りで
ある。 チタニアゾル:石原産業(株)製 STS−01 アルミナゾル:日産化学工業(株)製 アルミナゾル5
20 エマールNC:花王(株)製 アニオン界面活性剤
The abbreviations and product names in the table are as follows. Titania sol: Ishihara Sangyo Co., Ltd. STS-01 Alumina sol: Nissan Chemical Industry Co., Ltd. Alumina sol 5
20 Emal NC: Kao Co., Ltd. anionic surfactant

【0132】〔実施例1〕 (支持体の作製)厚さ0.30mmのアルミニウム板
(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと400メッシュのパミストン−
水懸濁液とを用いその表面を砂目立てした後、水でよく
洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウ
ム水溶液に9秒間浸漬してエッチングし、水洗後、さら
に2質量%硝酸に20秒間浸漬して水洗した。この時、
砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
次に、この板を7質量%硫酸を電解液として電流密度1
5A/dm2で、陽極酸化皮膜の厚さが2.4g/m2
なるように、直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥し
て支持体を得た。
Example 1 (Preparation of Support) A 0.30 mm thick aluminum plate (material 1050) was washed with trichlorethylene to degrease it, and then a nylon brush and 400 mesh pumice stone were used.
The surface was grained using a water suspension and washed thoroughly with water. This plate was immersed in a 25% by mass aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C for 9 seconds for etching, washed with water, and further immersed in 2% by mass nitric acid for 20 seconds and washed with water. At this time,
The amount of etching of the grained surface was about 3 g / m 2 .
Next, the current density of this plate was set to 1% by using 7 mass% sulfuric acid as an electrolyte.
In 5A / dm 2, so that the thickness of the anodic oxide film is 2.4 g / m 2, to provide a DC anodic oxide film, to obtain a washed with water and dried to support.

【0133】(親水性層の形成)以下の成分を均一に混
合し、室温で2時間撹拌して加水分解を行い、ゾル状の
親水性塗布液組成物1を得た。 (親水性塗布液組成物1) ・特定親水性ポリマー(1) 21g ・テトラメトキシシラン〔架橋成分〕 62g ・エタノール 470g ・水 470g ・硝酸水溶液(1N) 10g
(Formation of hydrophilic layer) The following components were uniformly mixed and stirred at room temperature for 2 hours for hydrolysis to obtain a sol-like hydrophilic coating liquid composition 1. (Hydrophilic coating liquid composition 1) -Specific hydrophilic polymer (1) 21 g-Tetramethoxysilane [crosslinking component] 62 g-Ethanol 470 g-Water 470 g-Nitric acid aqueous solution (1N) 10 g

【0134】その後上記親水性塗布液組成物1を用いて
下記画像形成能を有する親水性層形成用塗布液1を調製
し、上記アルミニウム支持体上に乾燥後の塗布量が3g
/m 2となるように塗布し、100℃、10間分加熱乾
燥して平版印刷版原版1を得た。 (親水性層形成用塗布液1) ・親水性塗布液組成物1 66g ・水分散性粒子1(10質量%) 400g ・赤外線吸収性染料I(下記化合物) 10g ・水 374g
Then, using the above hydrophilic coating liquid composition 1,
Preparation of hydrophilic layer-forming coating liquid 1 having the following image forming ability
The coating amount after drying on the aluminum support is 3 g.
/ M 2To 100 ° C and heat dry for 10 minutes
It was dried to obtain a lithographic printing plate precursor 1. (Coating liquid 1 for forming hydrophilic layer) ・ Hydrophilic coating composition 1 66 g ・ Water-dispersible particles 1 (10% by mass) 400 g ・ Infrared absorbing dye I (compound below) 10 g ・ Water 374g

【0135】[0135]

【化20】 [Chemical 20]

【0136】〔平版印刷版の評価〕得られた支持体上の
画像形成能を有する親水性層表面の接触角(空中水滴)
を協和界面科学(株)製、CA−Zを用いて測定したと
ころ、6.0°であり、優れた親水性を有することが確
認された。
[Evaluation of planographic printing plate] Contact angle (water droplet in the air) on the surface of the hydrophilic layer having image forming ability on the obtained support.
Was measured using CA-Z manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd., it was found to be 6.0 °, and it was confirmed to have excellent hydrophilicity.

【0137】得られた平版印刷版原版1を、水冷式40
W赤外線半導体レーザーを搭載したクレオ社製トレンド
セッター3244VFSにて外面ドラム回転数100r
pm、版面エネルギー200mJ/cm2、解像度24
00dpiの条件で露光し、露光部表面に画像領域を形
成した。この印刷版の赤外線レーザー照射領域表面の水
滴接触角は110°であり疎水性に変化し、疎水性領域
(インク受容性領域)が形成されたことを示した。露光
後、現像処理することなく、下記印刷機に装着し印刷に
用いた。印刷機としては、ハイデルベルグ社製SOR−
Mを用い、湿し水にIF201(2.5%)、IF20
2(0.75%)(富士写真フイルム(株)製)を、イ
ンキとしてGEOS−G墨(大日本インキ化学工業
(株)製)を用いた。印刷工程の初期において直ちに高
画質の印刷物が得られた。その後も連続的に印刷を継続
したところ、30,000枚印刷しても非画像部に汚れ
のない良好な印刷物が得られ、非画像部領域は優れた親
水性が維持され、また、耐刷性にも優れることが分かっ
た。
The lithographic printing plate precursor 1 thus obtained was water-cooled 40
Cleo's trend setter 3244VFS equipped with W infrared semiconductor laser, outer drum rotation speed 100r
pm, plate energy 200 mJ / cm 2 , resolution 24
Exposure was carried out under the condition of 00 dpi to form an image area on the exposed surface. The contact angle of water droplets on the surface of the infrared laser irradiation area of this printing plate was 110 °, which changed to hydrophobic, indicating that a hydrophobic area (ink-accepting area) was formed. After the exposure, it was mounted on the following printing machine and used for printing without developing. As a printing machine, Heidelberg SOR-
IF201 (2.5%), IF20 in fountain solution using M
2 (0.75%) (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and GEOS-G ink (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) were used as ink. High quality printed matter was immediately obtained at the beginning of the printing process. When printing was continued continuously after that, a good printed matter with no stain on the non-image area was obtained even after printing 30,000 sheets, and excellent hydrophilicity was maintained in the non-image area. It turned out to be excellent in sex.

【0138】〔実施例2〕 (親水性層の形成)以下の成分を均一に混合し、室温で
2時間撹拌して加水分解を行い、ゾル状の親水性塗布液
組成物2を得た。 (親水性塗布液組成物2) ・親水性ポリマー(5) 21g ・テトラメトキシシラン〔架橋成分〕 62g ・エタノール 470g ・水 470g ・硝酸水溶液(1N) 10g
Example 2 (Formation of Hydrophilic Layer) The following components were uniformly mixed and hydrolyzed by stirring at room temperature for 2 hours to obtain a sol-like hydrophilic coating liquid composition 2. (Hydrophilic coating liquid composition 2) -Hydrophilic polymer (5) 21g-Tetramethoxysilane [crosslinking component] 62g-Ethanol 470g-Water 470g-Nitric acid aqueous solution (1N) 10g

【0139】その後上記親水性塗布液組成物2を用い
て、下記画像形成能を有する親水性層形成用塗布液2を
調製し、コロナ処理されたポリエチレンテレフタレート
フィルム支持体上に、乾燥後の塗布量が3g/m2とな
るように塗布し、100℃、10分間加熱乾燥して平版
印刷版原版2を得た。 (親水性層形成用塗布液2) ・親水性塗布液組成物2 66g ・水分散性粒子2(10質量%) 400g ・赤外線吸収性染料I(実施例1記載) 10g ・水 374g
Thereafter, the hydrophilic coating liquid composition 2 was used to prepare a coating liquid 2 for forming a hydrophilic layer having the following image forming ability, and the coating after drying was performed on a corona-treated polyethylene terephthalate film support. The amount was 3 g / m 2, and the mixture was heated and dried at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a lithographic printing plate precursor 2. (Coating liquid 2 for forming hydrophilic layer) -66 g of hydrophilic coating liquid composition-400 g of water-dispersible particles 2 (10% by mass) -Infrared absorbing dye I (described in Example 1) 10 g-374 g of water

【0140】〔評価〕得られた支持体上の画像形成能を
有する親水性層表面の接触角(空中水滴)を協和界面科
学(株)製、CA−Zを用いて測定したところ、6.5
°であり、優れた親水性を有することが確認された。
[Evaluation] The contact angle (water droplets in the air) on the surface of the hydrophilic layer having image forming ability on the obtained support was measured using CA-Z manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. 5
It was confirmed to have excellent hydrophilicity.

【0141】さらに、得られた平版印刷版原版2を、水
冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載したクレオ社製
トレンドセッター3244VFSにて外面ドラム回転数
100rpm、版面エネルギー200mJ/cm2、解
像度2400dpiの条件で露光し、露光部表面に画像
領域を形成した。この印刷版の赤外線レーザー照射領域
表面の水滴接触角は102°であり疎水性に変化し、疎
水性領域(インク受容性領域)が形成されたことを示し
た。露光後、現像処理することなく下記印刷機に装着
し、印刷に用いた。印刷機としては、ハイデルベルグ社
製SOR−Mを用い、湿し水にIF201(2.5
%)、IF202(0.75%)(富士写真フイルム
(株)製)を、インキとしてGEOS−G墨(大日本イ
ンキ化学工業(株)製)を用いた。印刷工程の初期にお
いて直ちに高画質の印刷物が得られた。その後も連続的
に印刷を継続したところ、30,000枚印刷しても非
画像部に汚れのない良好な印刷物が得られ、非画像部領
域は優れた親水性が維持され、また、耐刷性にも優れる
ことが分かった。
Further, the lithographic printing plate precursor 2 thus obtained was subjected to a trend setter 3244VFS manufactured by Creo Co. equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under the conditions of an outer drum rotation speed of 100 rpm, a plate surface energy of 200 mJ / cm 2 and a resolution of 2400 dpi. It was exposed to light to form an image area on the surface of the exposed portion. The contact angle of water droplets on the surface of the infrared laser irradiation area of this printing plate was 102 °, which changed to hydrophobic, indicating that a hydrophobic area (ink-accepting area) was formed. After the exposure, it was mounted on the following printing machine without developing and used for printing. As a printing machine, SOR-M manufactured by Heidelberg was used, and IF201 (2.5
%), IF202 (0.75%) (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), and GEOS-G ink (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was used as the ink. High quality printed matter was immediately obtained at the beginning of the printing process. When printing was continued continuously after that, a good printed matter with no stain on the non-image area was obtained even after printing 30,000 sheets, and excellent hydrophilicity was maintained in the non-image area. It turned out to be excellent in sex.

【0142】〔実施例3〜10〕実施例2で用いた水分
散性粒子2の代わりに、実施例3〜10に、それぞれ前
記の水分散性粒子3〜10を対応させて用いた以外は、
実施例2と同様に印刷用原版を作成し、レーザー露光に
よる像用照射及び印刷を行い、評価した。その結果、い
ずれの実施例の平版印刷版原版も印刷原版表面の親水性
は非常に高く、照射領域表面の疎水化の度合いは十分大
きく、刷り出しの着肉性に優れ、30,000枚まで、
非画像部に汚れのない優れた印刷物が得られ、耐刷性に
も優れることが分かった。
[Examples 3 to 10] Instead of the water-dispersible particles 2 used in Example 2, the above-mentioned water-dispersible particles 3 to 10 were used in correspondence with Examples 3 to 10, respectively. ,
A printing original plate was prepared in the same manner as in Example 2, and image irradiation and printing by laser exposure were performed and evaluated. As a result, in any of the lithographic printing plate precursors, the hydrophilicity of the surface of the printing plate was very high, the degree of hydrophobicity of the surface of the irradiation region was sufficiently large, and the ink-jetting property was excellent and up to 30,000 sheets. ,
It was found that an excellent printed matter having no stain on the non-image area was obtained and the printing durability was also excellent.

【0143】[0143]

【発明の効果】本発明の平版印刷版原版は、厳しい印刷
条件においても高い親水性が維持され、耐刷性が良好で
あり、非画像部に汚れが生じない高画質の印刷物が多数
枚得られる。さらに、デジタル信号に基づいた走査露光
による製版が可能であり、且つ、簡易な水現像処理操作
による製版、あるいは、現像処理を行わずに印刷機に装
着し印刷することが可能であり、優れた機上現像性を示
す平版印刷版原版を提供することができるという効果を
奏する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The lithographic printing plate precursor according to the invention retains high hydrophilicity even under severe printing conditions, has good printing durability, and is capable of obtaining a large number of high-quality printed matters without stains on non-image areas. To be Further, it is possible to make a plate by scanning exposure based on a digital signal, and it is possible to make a plate by a simple water development processing operation, or it is possible to print on a printing machine without performing a development process. It is possible to provide a lithographic printing plate precursor exhibiting on-press developability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 星 聡 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD01 BH03 BJ03 CB54 CC20 DA36 DA40 2H096 AA06 BA01 CA03 CA05 EA04 2H114 AA04 AA23 BA01 DA03 DA04 DA08 DA38 DA54 EA01 EA03 EA04    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Satoshi Hoshi             Fuji-Sha, 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture             Shin Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD01                       BH03 BJ03 CB54 CC20 DA36                       DA40                 2H096 AA06 BA01 CA03 CA05 EA04                 2H114 AA04 AA23 BA01 DA03 DA04                       DA08 DA38 DA54 EA01 EA03                       EA04

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、親水性グラフト鎖を有し、
且つ、Si、Ti、Zr、Alから選択される元素を含
むアルコキシド化合物の加水分解、縮重合により形成さ
れた架橋構造を有する親水性層を備え、該親水性層に加
熱または輻射線の照射により表面疎水化領域を形成しう
る水分散性粒子を含有することを特徴とする平版印刷版
原版。
1. A support having a hydrophilic graft chain,
Also, a hydrophilic layer having a crosslinked structure formed by hydrolysis and polycondensation of an alkoxide compound containing an element selected from Si, Ti, Zr and Al is provided, and the hydrophilic layer is heated or irradiated with radiation. A lithographic printing plate precursor comprising water-dispersible particles capable of forming a surface-hydrophobicized region.
【請求項2】 前記水分散性粒子が、下記一般式(I)
の構造単位を有する疎水性ポリマーを、水と非混和性の
溶剤に溶解し、その溶液を下記一般式(II)又は(II
I)の構造単位を有する水溶性樹脂及び/又は周期表2
〜15族の元素から選ばれる少なくとも1つの元素の酸
化物粒子を含んだ水相に分散し、油滴を形成した後、該
油滴から溶剤を除去して得られることを特徴とする請求
項1記載の平版印刷版原版。 【化1】 (ここで、R1、R2、R3およびR4は、それぞれ水素原
子または炭素数1〜8の炭化水素基を表し、R4は炭素
数1〜40のアルコキシ基またはアシロキシ基を表し、
kは0〜2の整数であり、mは0〜3の整数であって、
かつk+mは3以下であることを表し、Xは1価の金属
または水素原子を表し、Zは下記から選ばれる基を表
す。) 【化2】 (ここで、R5は水素原子または炭素数1〜8の炭化水
素基を表し、R6は炭素数5以下のアルキレン基または
複数の連鎖炭素原子団が互いに炭素原子もしくは窒素原
子で結合した2価の有機残基を表し、nは0〜4の整数
を表す。) 【化3】 (ここで、R1〜R4、X、Z、kおよびmは一般式
(I)と同じであり、Y1は−NHCOR7、―CONH
2、―CON(R72、−COR7、−OH、−CO
21、または−SO31を表す。ここで、R7は炭素数
1〜8のアルキル基を表し、M1は水素原子、アルカリ
金属、アルカリ土類金属又はオニウムを表し、nは1〜
8の整数を表す。)
2. The water-dispersible particles have the following general formula (I):
The hydrophobic polymer having the structural unit of is dissolved in a solvent immiscible with water, and the solution is converted to the following general formula (II) or (II
Water-soluble resin having structural unit I) and / or Periodic Table 2
It is obtained by dispersing in a water phase containing oxide particles of at least one element selected from Group 15 elements to form oil droplets, and then removing the solvent from the oil droplets. The planographic printing plate precursor described in 1. [Chemical 1] (Wherein, R 1, R 2, R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, R 4 represents an alkoxy group or acyloxy group of 1 to 40 carbon atoms,
k is an integer of 0 to 2, m is an integer of 0 to 3,
And k + m represents 3 or less, X represents a monovalent metal or hydrogen atom, and Z represents a group selected from the following. ) [Chemical 2] (Here, R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and R 6 represents an alkylene group having 5 or less carbon atoms or a plurality of chain carbon atom groups bonded to each other by a carbon atom or a nitrogen atom. Represents a valent organic residue, and n represents an integer of 0 to 4.) (Here, R 1 to R 4 , X, Z, k and m are the same as those in formula (I), and Y 1 is —NHCOR 7 , —CONH.
2, -CON (R 7) 2 , -COR 7, -OH, -CO
It represents 2 M 1 or —SO 3 M 1 . Here, R 7 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, M 1 represents a hydrogen atom, an alkali metal, an alkaline earth metal or onium, and n is 1 to 1
Represents an integer of 8. )
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1707397A1 (en) 2005-03-29 2006-10-04 Fuji Photo Film Co. Ltd. Lithographic printing plate comprising support and imaging layer
US7192683B2 (en) * 2002-09-05 2007-03-20 Fuji Photo Film Co., Ltd Planographic printing plate precursor
WO2009025247A1 (en) * 2007-08-17 2009-02-26 Fujifilm Corporation Hydrophilic film-forming composition, spray composition, and hydrophilic member using the same

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