JP2002287344A - Photopolymerizable planographic printing plate - Google Patents

Photopolymerizable planographic printing plate

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JP2002287344A
JP2002287344A JP2001090184A JP2001090184A JP2002287344A JP 2002287344 A JP2002287344 A JP 2002287344A JP 2001090184 A JP2001090184 A JP 2001090184A JP 2001090184 A JP2001090184 A JP 2001090184A JP 2002287344 A JP2002287344 A JP 2002287344A
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JP
Japan
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bis
phenyl
group
difluoro
titanium
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Application number
JP2001090184A
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Japanese (ja)
Inventor
Akinori Shibuya
明規 渋谷
Kazuto Kunida
一人 國田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photopolymerizable planographic printing plate having high sensitivity and also having good storage stability while retaining handleability in a light room. SOLUTION: The photopolymerizable planographic printing plate has a photosensitive layer containing a photopolymerization initiator, an aliphatic polymerizable compound and an aromatic polymerizable compound as two polymerizable compounds on an aluminum base. The photopolymerization initiator preferably contains >=4 aromatic rings in one molecule.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光重合性平版印刷
版に関し、詳細には、高感度で、保存安定性及び明室取
り扱い性が良好な光重合性平版印刷版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photopolymerizable lithographic printing plate, and more particularly, to a photopolymerizable lithographic printing plate having high sensitivity, good storage stability and good light room handling.

【0002】[0002]

【従来の技術】感光性の平版印刷版用原版の分野におい
て波長300nm〜1200nmの紫外光、可視光、赤
外光を放射する固体レーザ及び半導体レーザ、ガスレー
ザは高出力かつ小型のものが容易に入手できるようにな
っており、これらのレーザはコンピュータ等のデジタル
データから直接製版する際の記録光源として、非常に有
用である。これら各種レーザ光に感応する平版印刷版用
原版(以下、単に記録材料ともいう)については種々研
究されており、代表的なものとして、第一に、感光波長
760nm以上の赤外線レーザで記録可能な材料として
は米国特許第4708925号記載のポジ型記録材料、
特開平8−276558号公報に記載されている酸触媒
架橋型のネガ型記録材料等が、第二に、300nm〜7
00nmの紫外光または可視光レーザ対応型の記録材料
としては米国特許2850445号及び特公昭44−2
0189号公報に記載されているラジカル重合型のネガ
型記録材料等が多数ある。
2. Description of the Related Art In the field of photosensitive lithographic printing plate precursors, solid-state lasers, semiconductor lasers, and gas lasers that emit ultraviolet light, visible light, and infrared light having a wavelength of 300 nm to 1200 nm can be easily manufactured with high output and small size. These lasers are now available, and are very useful as recording light sources when making plates directly from digital data from a computer or the like. Various studies have been made on lithographic printing plate precursors (hereinafter, also simply referred to as recording materials) that are sensitive to these various laser beams. As a typical example, first, recording is possible with an infrared laser having a photosensitive wavelength of 760 nm or more. As the material, a positive recording material described in U.S. Pat. No. 4,708,925,
Secondly, an acid-catalyzed cross-linkable negative recording material described in JP-A-8-276558 is used in the range of 300 nm to 7 nm.
No. 2,850,445 and Japanese Patent Publication No. 44-2 are examples of recording materials compatible with ultraviolet or visible light lasers of 00 nm.
There are many radical polymerization type negative recording materials described in Japanese Patent No. 0189.

【0003】この中でもラジカル光重合系のものは高感
度であり、コンピューターから各種レーザーにより、従
来のリスフィルムを介さずに直接版上に画像様に露光す
るいわゆるダイレクト印刷版に有利である。既に上記ダ
イレクト印刷版の分野においては、488nm、532
nmといった可視光レーザー光源と光重合系平版印刷版
の組み合わせが実用化されているが、より高生産性の追
求としての描画速度向上に対応すべく、さらなる高感度
化が必要であるばかりでなく、作業性の点で暗室ではな
く黄色灯や白色灯下での取り扱い性(明室化)の要求も
高まっている。
Among them, radical photopolymerization type is highly sensitive and is advantageous for a so-called direct printing plate in which the image is exposed directly to the plate by a computer from various lasers without using a conventional lith film. In the field of the direct printing plate, 488 nm, 532
The combination of a visible light laser light source such as nm and a photopolymerizable lithographic printing plate has been put to practical use, but in addition to the need for higher sensitivity in order to respond to the increase in drawing speed in pursuit of higher productivity, In terms of workability, the demand for handling (light room) under a yellow light or white light instead of a dark room is increasing.

【0004】さらに、上記高感度化のために光重合開始
剤あるいは光重合開始系の設計開発がなされており、様
々な化合物が使用されている。しかし、このような光重
合開始剤は、感光層中での相溶性が悪く、感度や保存安
定性が低下することがあった(特に高感度化のための増
量時など)。例えば、高感度な光重合開始剤として注目
されるのが、分子内に芳香族環を4つ以上含有する光重
合開始剤である。このような分子内に芳香族環を4つ以
上含有する光重合開始剤は、芳香族環を多く含有してい
るためにエネルギー移動、電子移動といった増感作用が
向上するとともに熱的にも安定な化合物である。また、
可視光に吸収のないものが多く、これを含有する感光性
組成物は、波長300nm〜450nmの紫外−紫色レ
ーザ及び800〜1200nmの赤外レーザーといった
露光方式との組み合わせにより、明室化も可能となって
きている。
Further, in order to improve the sensitivity, a photopolymerization initiator or a photopolymerization initiation system has been designed and developed, and various compounds have been used. However, such a photopolymerization initiator has poor compatibility in the photosensitive layer, and sometimes lowers sensitivity and storage stability (especially when increasing the amount for higher sensitivity). For example, a photopolymerization initiator that attracts attention as a highly sensitive photopolymerization initiator is a photopolymerization initiator containing four or more aromatic rings in the molecule. Such a photopolymerization initiator containing four or more aromatic rings in the molecule contains a large amount of aromatic rings, so that the sensitizing effects such as energy transfer and electron transfer are improved, and the photopolymerization initiator is thermally stable. Compound. Also,
Many do not absorb visible light, and a photosensitive composition containing the same can be made brighter by combining it with an exposure method such as an ultraviolet-violet laser having a wavelength of 300 nm to 450 nm and an infrared laser having a wavelength of 800 to 1200 nm. It is becoming.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、残念ながら、
分子内に芳香族環を4つ以上を含有する光重合開始剤は
芳香族環を多く含有するため平面性の高い分子となり、
非常に結晶性及び感脂性が高いため、長期間保存すると
感光層中においてこの開始剤が結晶として析出し、感度
が低下してしまう場合があった。したがって、本発明
は、上記の問題点を克服して、高感度で、明室取り扱い
性を維持しながら保存安定性が良好な光重合性平版印刷
版を提供しようとするものである。
However, unfortunately,
A photopolymerization initiator containing four or more aromatic rings in the molecule becomes a highly planar molecule because it contains many aromatic rings,
Since the crystallinity and the oil sensitivity are extremely high, the initiator may precipitate as crystals in the photosensitive layer when stored for a long period of time, and the sensitivity may decrease. Accordingly, an object of the present invention is to provide a photopolymerizable lithographic printing plate which overcomes the above problems and has high sensitivity and good storage stability while maintaining light room handling.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、重合性化合物として脂肪族重合性化合物と芳香
族重合性化合物の2種を併用することで、どのような光
重合開始剤を使用した場合においても感光層中での相溶
性が良好であり、特に分子内に芳香族環を4つ以上を含
有する光重合開始剤においても良好な相溶性を示し、高
感度化及び明室化を保ちつつ保存安定性が向上すること
を見出した。即ち、本発明は、以下の構成を有する。 (1)アルミニウム支持体上に、光重合開始剤と重合性
化合物として脂肪族重合性化合物および芳香族重合性化
合物の2種とを含有する感光層を有することを特徴とす
る光重合性平版印刷版。 (2)前記光重合開始剤が分子内に芳香族環を4つ以上
含有する開始剤であることを特徴とする前記(1)の光
重合性組成物。
Means for Solving the Problems As a result of diligent studies by the present inventors, what kind of photopolymerization initiator is obtained by using two kinds of polymerizable compounds, an aliphatic polymerizable compound and an aromatic polymerizable compound, in combination. When the compound is used, the compatibility in the photosensitive layer is good, and in particular, the photopolymerization initiator containing four or more aromatic rings in the molecule shows good compatibility, so that high sensitivity and lightness can be obtained. It has been found that the storage stability is improved while maintaining the room. That is, the present invention has the following configuration. (1) A photopolymerizable lithographic printing method having a photosensitive layer containing, on an aluminum support, a photopolymerization initiator and two kinds of an aliphatic polymerizable compound and an aromatic polymerizable compound as a polymerizable compound. Edition. (2) The photopolymerizable composition according to (1), wherein the photopolymerization initiator is an initiator containing four or more aromatic rings in a molecule.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】[重合性化合物]本発明の光重合
性平版印刷版の感光層に含まれる重合性化合物について
説明する。本発明の光重合性平版印刷版の感光層に含ま
れる重合性化合物としては、脂肪族重合性化合物と芳香
族化合物の2種である。本発明において、脂肪族重合性
化合物の定義としては付加重合可能なエチレン性不飽和
結合を有する化合物のうち分子内に芳香族基を含まない
ものであり、芳香族重合性化合物の定義としては付加重
合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物のうち少
なくとも1つの芳香族基を分子中に有するものである。
脂肪族重合性化合物の一般例としては、例えば、不飽和
カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、上記
不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド
等があげられる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [Polymerizable compound] The polymerizable compound contained in the photosensitive layer of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention will be described. The polymerizable compound contained in the photosensitive layer of the photopolymerizable lithographic printing plate of the invention is an aliphatic polymerizable compound or an aromatic compound. In the present invention, the definition of the aliphatic polymerizable compound is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of addition polymerization that does not contain an aromatic group in the molecule, and the definition of the aromatic polymerizable compound is an addition polymerizable compound. The compound having at least one aromatic group in the molecule among compounds having a polymerizable ethylenically unsaturated bond.
General examples of the aliphatic polymerizable compound include, for example, esters of unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and aliphatic polyhydric alcohol compounds, An amide of the above unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound is exemplified.

【0008】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、へキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate Acrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetra Acrylate, SO Bi penta acrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

【0009】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、へキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート等がある。イタコン酸エステ
ルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロ
ピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオ
ールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコ
ネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペ
ンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテト
ライタコネート等がある。
Examples of the methacrylate include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Examples include dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, and sorbitol tetramethacrylate. Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, and pentaerythritol diitaconate. And sorbitol tetritaconate.

【0010】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネー卜等がある。マ
レイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレ
ート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリ
スリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等
がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあ
げることができる。また、脂肪族多価アミン化合物と不
飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例として
は、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メ
タクリルアミド、1,6−へキサメチレンビス−アクリ
ルアミド、1,6−へキサメチレンビス−メタクリルア
ミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド等が
ある。
Crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like. Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. The maleic acid ester includes ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, sorbitol tetramaleate and the like. Furthermore, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned. Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, and 1,6-hexane. Methylene bis-methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide and the like.

【0011】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加した1分子中に2個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。 CH2=C(R)COOCH2CH(R′)OH (A) (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3を示す。)
また、特開昭51−37193号に記載されているよう
なウレタンアクリレー卜類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号公報に記載されているようなポリエステルアクリレ
ート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させ
たエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートや
メタクリレートをあげることができる。さらに日本接着
協会誌vol.20、No.7、300〜308ぺージ(19
84年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。本発明におい
て、これらのモノマーはプレポリマー、すなわち2量
体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物な
らびにそれらの共重合体などの化学的形態で使用しう
る。
Another example is disclosed in Japanese Patent Publication No. 48-417.
JP-A-08-208, in which a hydroxyl-containing vinyl monomer represented by the following general formula (A) is added to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule. Vinyl urethane compounds containing the above polymerizable vinyl groups are exemplified. CH 2 CC (R) COOCH 2 CH (R ′) OH (A) (where R and R ′ represent H or CH 3 )
Also, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-A-48-64183.
No., JP-B-49-43191, JP-B-52-3049
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in Japanese Patent Publication No. 0 are mentioned. Furthermore, the Journal of the Adhesion Society of Japan vol.20, No. 7, pages 300 to 308 (19
(1984) as photocurable monomers and oligomers can also be used. In the present invention, these monomers may be used in a chemical form such as a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof.

【0012】芳香族重合性化合物の一般例としては、芳
香族ポリヒドロキシ化合物とグリシジルアクリレート或
いはグリシジルメタクリレートとの反応物が挙げられ、
ビス[p-(3-メタクリルオキシー2−ヒドロキシプロポキ
シ)フェニル]ジメチルメタン、ビス[p-(アクリルオキシ
エトキシ)フェニル]ジメチルメタン等がある。また、芳
香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエス
テルが挙げられ、例えば、ハイドロキノンジアクリレー
ト、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジア
クリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロー
ルトリアクリレート等がある。その他の芳香族モノマー
としては、フタル酸ジアリル等のアリルエステル類、キ
シリレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類も用
いることができる。また、芳香族重合性化合物の芳香族
基としては、複素環芳香族基も好適に使用できる。以下
に芳香族重合性化合物の具体例を示す。
General examples of the aromatic polymerizable compound include a reaction product of an aromatic polyhydroxy compound and glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate.
Bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethylmethane, bis [p- (acryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane and the like. Further, an ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid is exemplified, and examples thereof include hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate. As other aromatic monomers, allyl esters such as diallyl phthalate and acrylamides such as xylylenebisacrylamide can also be used. Further, as the aromatic group of the aromatic polymerizable compound, a heterocyclic aromatic group can also be suitably used. Specific examples of the aromatic polymerizable compound are shown below.

【0013】[0013]

【化1】 Embedded image

【0014】[0014]

【化2】 Embedded image

【0015】[0015]

【化3】 Embedded image

【0016】[0016]

【化4】 Embedded image

【0017】[0017]

【化5】 Embedded image

【0018】その他、特願平11−268842号明細
書記載の一般式(I)表される構造を有するα−ヘテロ
型モノマーも好適に利用できる。以下にα−ヘテロ型モ
ノマーの具体例を示す。
In addition, an α-hetero type monomer having a structure represented by the general formula (I) described in Japanese Patent Application No. 11-268842 can be suitably used. Hereinafter, specific examples of the α-hetero type monomer will be shown.

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】[0020]

【表2】 [Table 2]

【0021】[0021]

【表3】 [Table 3]

【0022】[0022]

【表4】 [Table 4]

【0023】[0023]

【表5】 [Table 5]

【0024】[0024]

【表6】 [Table 6]

【0025】[0025]

【表7】 [Table 7]

【0026】[0026]

【表8】 [Table 8]

【0027】[0027]

【表9】 [Table 9]

【0028】[0028]

【表10】 [Table 10]

【0029】[0029]

【表11】 [Table 11]

【0030】[0030]

【表12】 [Table 12]

【0031】[0031]

【表13】 [Table 13]

【0032】[0032]

【表14】 [Table 14]

【0033】[0033]

【表15】 [Table 15]

【0034】[0034]

【表16】 [Table 16]

【0035】[0035]

【化6】 Embedded image

【0036】[0036]

【化7】 Embedded image

【0037】[0037]

【化8】 Embedded image

【0038】[0038]

【化9】 Embedded image

【0039】[0039]

【化10】 Embedded image

【0040】[0040]

【化11】 Embedded image

【0041】[0041]

【化12】 Embedded image

【0042】[0042]

【化13】 Embedded image

【0043】全ての重合性基含有化合物の使用量は感光
層の全成分の重量に対して、通常1〜99.99%、好
ましくは5〜90.0%、更に好ましくは10〜70%
の量が使用される。(ここで言う%は重量%である)。
The amount of all the polymerizable group-containing compounds used is usually 1 to 99.99%, preferably 5 to 90.0%, more preferably 10 to 70%, based on the weight of all components of the photosensitive layer.
Amount is used. (The percentages here are weight percentages).

【0044】次に、本発明の光重合性平版印刷版の感光
層に含まれる光重合開始剤について説明する。本発明に
用いられる光重合開始剤は特に限定されないが、分子内
に芳香族環を4つ以上含有する光重合開始剤(以下、単
に光重合開始剤、重合開始剤または開始剤ともいう)が
好ましい。分子内に芳香族環を4つ以上含有する光重合
開始剤の好ましいものとしては、(a)芳香族ケトン
類、(b)芳香族オニウム塩化合物、(c)有機過酸化
物、(d)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、
(e)ボレート化合物、(f)メタロセン化合物、
(g)炭素ハロゲン結合を有する化合物等が挙げられ
る。
Next, the photopolymerization initiator contained in the photosensitive layer of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention will be described. Although the photopolymerization initiator used in the present invention is not particularly limited, a photopolymerization initiator containing four or more aromatic rings in a molecule (hereinafter, also simply referred to as a photopolymerization initiator, a polymerization initiator or an initiator) is preferred. preferable. Preferred photopolymerization initiators containing four or more aromatic rings in the molecule include (a) aromatic ketones, (b) aromatic onium salt compounds, (c) organic peroxides, and (d) Hexaarylbiimidazole compounds,
(E) a borate compound, (f) a metallocene compound,
(G) a compound having a carbon-halogen bond.

【0045】(a)芳香族ケトン類の好ましい例として
は、「RADIATION CURING IN POLYMERSCIENCE AND TECHN
OLOGY」J.P.FOUASSIER J.F.RABEK (1993)、p77〜117記
載のベンゾフェノン骨格或いはチオキサントン骨格を有
する化合物、例えば
Preferred examples of (a) aromatic ketones include “RADIATION CURING IN POLYMERSCIENCE AND TECHN”.
OLOGY '' JPFOUASSIER JFRABEK (1993), Compounds having a benzophenone skeleton or thioxanthone skeleton described in p77-117, for example,

【0046】[0046]

【化14】 Embedded image

【0047】等が挙げられる。より好ましい(a)芳香
族ケトン類の例としては、特公昭47−6416記載の
α−チオベンゾフェノン化合物、特公昭47−3981
号記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭47−23
664号記載のベンゾイン誘導体、特開昭57−307
04号記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭60
−26483号記載のジアルコキシベンゾフェノン、例
えば
And the like. More preferred examples of (a) aromatic ketones include α-thiobenzophenone compounds described in JP-B-47-6416 and JP-B-47-3981.
No. 47-23, JP-B-47-23
No. 664, benzoin derivatives described in JP-A-57-307.
Aroylphosphonic acid esters described in No. 04, JP-B-60
No. 26483 dialkoxybenzophenone, for example,

【0048】[0048]

【化15】 Embedded image

【0049】また、別の例である(b)芳香族オニウム
塩としては、周期律表の第V、VIおよびVII族の元素、
具体的にはN、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、
Te、またはIの芳香族オニウム塩が含まれる。このよ
うな芳香族オニウム塩の例としては、特公昭52−14
277号、特公昭52−14278号、特公昭52−1
4279号に示されている化合物等を挙げることができ
る。具体的には、
Further, as another example (b) of the aromatic onium salt, an element of Group V, VI and VII of the Periodic Table,
Specifically, N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se,
Te, or an aromatic onium salt of I is included. Examples of such aromatic onium salts include JP-B-52-14.
No. 277, JP-B-52-14278, JP-B-52-1
No. 4279, and the like. In particular,

【0050】[0050]

【化16】 Embedded image

【0051】[0051]

【化17】 Embedded image

【0052】を挙げることができる。The following can be mentioned.

【0053】本発明に使用される光重合開始剤の他の例
である(c)「有機過酸化物」としては分子中に酸素−
酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが
含まれるが、その例としては、3,3′4,4′−テト
ラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3,3′4,4′−テトラ−(p−イソプロピルクミル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等ある。
(C) Another example of the photopolymerization initiator used in the present invention, “organic peroxide” includes oxygen-
Almost all organic compounds having one or more oxygen bonds are included, such as 3,3'4,4'-tetra- (cumylperoxycarbonyl) benzophenone,
3,3'4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone.

【0054】本発明に使用される光重合開始剤の他の例
である(d)ヘキサアリールビイミダゾールとしては、
特公昭45−37377号、特公昭44−86516号
記載のロフィンダイマー類、例えば2,2′−ビス(o
−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェ
ニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)
−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾー
ル、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイ
ミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス
(o−トリフルオロフェニル)−4,4′,5,5′−
テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
Other examples of the photopolymerization initiator (d) hexaarylbiimidazole used in the present invention include:
Lophin dimers described in JP-B-45-37377 and JP-B-44-86516, for example, 2,2'-bis (o
-Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2 '-Bis (o, p-dichlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2, 2'-bis (o-nitrophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,
2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5
5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ', 5,5'-
And tetraphenylbiimidazole.

【0055】本発明における光重合開始剤の他の例であ
る(e)ボレート塩の例としては下記一般式[I] で表
わされる化合物を挙げることができる。
Examples of (e) borate salts, which are other examples of the photopolymerization initiator in the present invention, include compounds represented by the following general formula [I].

【0056】[0056]

【化18】 Embedded image

【0057】(ここで、R22、R23、R24およびR25
互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは
非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール
基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは
非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素
環基を示し、R22、R23、R24およびR25はその2個以
上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、
22、R23、R24およびR 25のうち少なくとも1つは置
換もしくは非置換のアルキル基である。Z+はアルカリ
金属カチオンまたは第4級アンモニウムカチオンを示
す)。上記R22〜R25のアルキル基としては、直鎖、分
枝、環状のものが含まれ、炭素原子数1〜18のものが
好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ス
テアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上
記のようなアルキル基に、ハロゲン原子(例えば−C
l、−Brなど)、シアノ基、ニトロ基、アリール基
(好ましくはフェニル基)、ヒドロキシ基、
(Where Rtwenty two, Rtwenty three, Rtwenty fourAnd Rtwenty fiveIs
May be the same or different from each other,
Unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aryl
Group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or
Unsubstituted alkynyl group or substituted or unsubstituted hetero
A ring group;twenty two, Rtwenty three, Rtwenty fourAnd Rtwenty fiveIs two or more
The above groups may combine to form a cyclic structure. However,
Rtwenty two, Rtwenty three, Rtwenty fourAnd R twenty fiveAt least one of the
A substituted or unsubstituted alkyl group. Z+Is alkaline
Shows metal cation or quaternary ammonium cation
). R abovetwenty two~ Rtwenty fiveExamples of the alkyl group include straight-chain,
Branched and cyclic ones, those having 1 to 18 carbon atoms
preferable. Specifically, methyl, ethyl, propyl, iso
Propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl,
Tearyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl
And sill. As the substituted alkyl group,
A halogen atom (for example, -C
l, -Br, etc.), cyano group, nitro group, aryl group
(Preferably a phenyl group), a hydroxy group,

【0058】[0058]

【化19】 Embedded image

【0059】(ここでR26、R27は独立して水素原子、
炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示
す。)、−COOR28(ここでR28は水素原子、炭素数
1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。)、−
OCOR29又は−OR30(ここでR 29、R30は炭素数1
〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。)を置換
基として有するものが含まれる。上記R22〜R25のアリ
ール基としては、フェニル基、ナフチル基などの1〜3
環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上
記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基
又は、炭素数1〜14のアルキル基を有するものが含ま
れる。上記R22〜R25のアルケニル基としては、炭素数
2〜18の直鎖、分枝、環状のものが含まれ、置換アル
ケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置
換基として挙げたものが含まれる。上記R22〜R25のア
ルキニル基としては、炭素数2〜28の直鎖又は分枝の
ものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前
記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれ
る。また、上記R22〜R25の複素環基としてはN、Sお
よびOの少なくとも1つを含む5員環以上、好ましくは
5〜7員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮
合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述の置
換アリール基の置換基として挙げたものを有していても
よい。一般式[I]で示される化合物例としては具体的
には米国特許3,567,453号、同4,343,8
91号、ヨーロッパ特許109,772号、同109,
773号に記載されている化合物および以下に示すもの
が挙げられる。
(Where R26, R27Is independently a hydrogen atom,
Represents an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms or an aryl group
You. ), -COOR28(Where R28Is hydrogen atom, carbon number
1 to 14 alkyl groups or aryl groups. ),-
OCOR29Or -OR30(Where R 29, R30Is 1 carbon
And 14 to 14 alkyl groups or aryl groups. Replace)
Those having as a group are included. R abovetwenty two~ Rtwenty fiveAnts
Examples of the phenyl group include a phenyl group and a naphthyl group.
And a substituted aryl group as described above.
The substituent of the above-mentioned substituted alkyl group is substituted for the aryl group as described above.
Or, those having an alkyl group having 1 to 14 carbon atoms are included.
It is. R abovetwenty two~ Rtwenty fiveThe alkenyl group of
2-18 linear, branched and cyclic ones,
Examples of the substituent of the kenyl group include the above-mentioned substituted alkyl group.
Those included as the substituents are included. R abovetwenty two~ Rtwenty fiveNo
As the rukinyl group, a linear or branched C2-28 carbon atom
And the substituent of the substituted alkynyl group is
The substituents of the substituted alkyl group include those mentioned above.
You. In addition, the above Rtwenty two~ Rtwenty fiveN, S and heterocyclic groups as
Or a ring having at least one of O and O, preferably
A 5- to 7-membered heterocyclic group may be mentioned.
A ring may be contained. Further, as a substituent,
Even if it has one of the substituents of the substituted aryl group
Good. Specific examples of the compound represented by the general formula [I] include
U.S. Pat. Nos. 3,567,453 and 4,343,8
No. 91, European Patent Nos. 109,772 and 109,772.
No. 773 and the compounds shown below
Is mentioned.

【0060】[0060]

【化20】 Embedded image

【0061】光重合開始剤の他の例である(f)メタロ
セン化合物の例としては、特開昭59−152396
号、特開昭61−151197号、特開昭63−414
84号、特開平2−249号、特開平2−4705号記
載のチタノセン化合物ならびに、特開平1−30445
3号、特開平1−152109号記載の鉄−アレーン錯
体を挙げることができる。
As another example of the metallocene compound (f) which is another example of the photopolymerization initiator, see JP-A-59-152396.
JP-A-61-151197, JP-A-63-414
No. 84, JP-A-2-249, JP-A-2-4705 and the titanocene compounds described in JP-A-1-30445.
No. 3 and JP-A-1-152109.

【0062】上記チタノセン化合物の具体例としては、
ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラ
フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−
イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−2,6−ジフ
ルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ
−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,
4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メ
チルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,
6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシク
ロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフ
ェニ−1−イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス
(2,6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニ
ル)チタニウム、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(メチルスルホンアミド)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチルビアロイル−
アミノ)フェニル〕チタン、
Specific examples of the titanocene compound include:
Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,
5,6-pentafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis- 2,4,6-trifluorophenyl-1-
Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-
Ti-bis-2,4-difluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,
4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5
6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophenyl-1-yl, bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3 -(Pyri-1-yl) phenyl) titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (methylsulfonamide)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butylbiaroyl-
Amino) phenyl] titanium,

【0063】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−エチルアセチルアミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−メチルアセチルアミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−エチルプロピオ
ニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−エチル
−(2,2−ジメチルブタノイル)アミノ)フェニル〕
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−
ジフルオロ−3−(N−ブチル−(2,2−ジメチルブ
タノイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−
ペンチル−(2,2−ジメチルブタノイル)アミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル)−(2,
2−ジメチルブタノイル)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−メチルブチリルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−メチルペンタノイルアミノ)フェニル〕チタ
ン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-ethylacetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-methylacetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadi Enil)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylpropionylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (2,2-dimethylbuta Noyl) amino) phenyl]
Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-
Difluoro-3- (N-butyl- (2,2-dimethylbutanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-
Pentyl- (2,2-dimethylbutanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl)-(2,
2-dimethylbutanoyl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N-methylbutyrylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-methylpentanoylamino) phenyl] titanium,

【0064】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−エチルシクロヘキシルカル
ボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−エチ
ルイソブチリルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シク
ロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−エチルアセチルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(2,2,5,5−テトラメチル−1,2,5−ア
ザジシロリジニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(オクチルスルホンアミド)フェニル〕チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−(4−トリルスルホンアミド)フェニル〕チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(4−ドデシルフェニルスルホニルアミ
ド)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-ethylcyclohexylcarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylisobutyrylamino) phenyl] titanium, bis ( Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N-ethylacetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (2,2,5,5-tetramethyl-1,2,5-azadisirolidin-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (octylsulfonamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (4-tolylsulfonamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2 6-difluoro-3- (4-dodecylphenylsulfonylamido) phenyl] titanium,

【0065】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(4−(1−ペンチルヘプチル)
フェニルスルホニルアミド)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(エチルスルホニルアミド)フェニル〕チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−((4−ブロモフェニル)−スルホニルアミド)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(2−ナフチルスルホニル
アミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(ヘキサデシルス
ルホニルアミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−メ
チル−(4−ドデシルフェニル)スルホニルアミド)フ
ェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (4- (1-pentylheptyl)
Phenylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (ethylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-((4-bromophenyl) -sulfonylamide)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-naphthylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- ( Hexadecylsulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-methyl- (4-dodecylphenyl) sulfonylamido) phenyl] titanium,

【0066】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−メチル−4−(1−ペンチ
ルヘプチル)フェニル)スルホニルアミド)〕チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−ヘキシル−(4−トリル)−スルホニル
アミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(ピロリジン−
2,5−ジオニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(3,4−ジメチル−3−ピロリジン−2,5−ジ
オニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(フタル
イミド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−イソブトキシカル
ボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(エトキシ
カルボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−((2
−クロロエトキシ)−カルボニルアミノ)フェニル〕チ
タン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-methyl-4- (1-pentylheptyl) phenyl) sulfonylamide)] titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4-tolyl) -sulfonylamido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro- 3- (pyrrolidine-
2,5-dion-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (3,4-dimethyl-3-pyrrolidin-2,5-dion-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (phthalimido) phenyl] titanium , Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-isobutoxycarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (ethoxycarbonylamino) phenyl ] Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-((2
-Chloroethoxy) -carbonylamino) phenyl] titanium,

【0067】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(フェノキシカルボニルアミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(3−フェニルチオウレイ
ド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3−ブチルチオウレ
イド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3−フェニルウ
レイド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3−ブチルウレ
イド)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N,N−ジアセ
チルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3,3−ジ
メチルウレイド)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (phenoxycarbonylamino)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-phenylthioureido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (3-butylthioureido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-phenylureido) phenyl] titanium, bis ( Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-butylureido) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N, N-diacetylamino) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3,3-dimethylureido) phenyl] titanium,

【0068】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(アセチルアミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(ブチリルアミノ)フェニル〕チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(デカノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(オクタデカノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−(イソブチリルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(2−エチルヘキサノイルアミノ)フェニル〕チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(2−メチルブタノイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(ピバロイルアミノ)フェニル〕
チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (acetylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (butyrylamino) phenyl] titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (decanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (octadecanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (isobutyrylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2 6-difluoro-
3- (2-ethylhexanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-methylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) Screw [2
6-difluoro-3- (pivaloylamino) phenyl]
Titanium,

【0069】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメチルブタノイルア
ミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(2−エチル−2
−メチルヘプタノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(シクロヘキシルカルボニルアミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(2,2−ジメチル−3−クロロプロパ
ノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3−フェ
ニルプロパノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(2−クロロメチル−2−メチル−3−クロロプロパノ
イルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (2,2-dimethylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-ethyl-2)
-Methylheptanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (cyclohexylcarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentane Dienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-phenylpropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(2-chloromethyl-2-methyl-3-chloropropanoylamino) phenyl] titanium,

【0070】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(3,4−キシロイルアミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(4−エチルベンゾイルア
ミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(2,4,6−メ
シチルカルボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N
−(3−フェニルプロピル)ベンゾイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(3−エチルヘプチル)−
2,2−ジメチルペンタノイルアミノ〕フェニルチタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−イソブチル−(4−トルイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチルベン
ゾイルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (3,4-xyloylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (4-ethylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclo Pentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,4,6-mesitylcarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(Benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N
-(3-phenylpropyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N- (3-ethylheptyl)-
2,2-dimethylpentanoylamino] phenyltitanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadi Enil)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutylbenzoylamino) phenyl] titanium,

【0071】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチルピバ
ロイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(オ
クソラニ−2−イルメチル)ベンゾイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(3−エチルヘプチル)−
2,2−ジメチルブタノイルアミノ)フェニル〕チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(N−(3−フェニルプロピル−(4−ト
ルイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−
(オクソラニ−2−イルメチル)−(4−トルイル)ア
ミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(4−トル
イルメチル)ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethylpivaloylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (oxolan-2-ylmethyl) benzoylamino) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N- (3-ethylheptyl)-
2,2-dimethylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-phenylpropyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-
(Oxolani-2-ylmethyl)-(4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (4-toluylmethyl) benzoylamino) phenyl] Titanium,

【0072】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(4−トルイルメチル)−
(4−トルイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−ブチルベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−(N−ブチル−(4−トルイル)アミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(4−トルイ
ル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(2,
4−ジメチルペンチル)−2,2−ジメチルブタノイル
アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(2,4−ジメチ
ルペンチル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)
フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N- (4-toluylmethyl)-
(4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N-butylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) ) Screw [2
6-difluoro-3- (N-hexyl- (4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2,
4-dimethylpentyl) -2,2-dimethylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,4-dimethylpentyl) -2,2-dimethyl Pentanoylamino)
Phenyl) titanium,

【0073】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−((4−トルイル)アミノ)フェ
ニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメチルペンタ
ノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(2,2−
ジメチル−3−エトキシプロパノイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(2,2−ジメチル−3−アリル
オキシプロパノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−アリルアセチルアミノ)フェニル〕チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−エチルブタノイルアミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチルベンゾイル
アミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3-((4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2,2-
Dimethyl-3-ethoxypropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (2,2-dimethyl-3-allyloxypropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-allylacetylamino) phenyl] titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (2-ethylbutanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexyl) Methylbenzoylamino) phenyl] titanium,

【0074】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチル−
(4−トルイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−(2−エチルヘキシル)ベンゾイルアミノ)フェ
ニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソプロピルベンゾ
イルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−
フェニルプロピル)−2,2−ジメチルペンタノイル)
アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシルベ
ンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−シ
クロヘキシルメチル−2,2−ジメチルペンタノイル)
アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチルベン
ゾイルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethyl-
(4-toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N- (2-ethylhexyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isopropylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) Bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-
Phenylpropyl) -2,2-dimethylpentanoyl)
Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 -(N-cyclohexylmethyl-2,2-dimethylpentanoyl)
Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butylbenzoylamino) phenyl] titanium,

【0075】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(2−エチルヘキシル)−
2,2−ジメチルペンタノイル)アミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(N−ヘキシル−2,2−ジメチルペン
タノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イ
ソプロピル−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3−フェニルプロ
ピル)ピバロイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−ブチル−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(2−メトキシエチ
ル)ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N- (2-ethylhexyl)-
2,2-dimethylpentanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl-2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (Cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isopropyl-2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3 -(N- (3-phenylpropyl) pivaloylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N-butyl-2,2-dimethylpentanoylamino)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2-methoxyethyl) benzoylamino) phenyl] titanium,

【0076】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−ベンジルベンゾイルアミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ベンジル−(4
−トルイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N
−(2−メトキシエチル)−(4−トルイル)アミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(4−メチルフェニ
ルメチル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(2−メトキシエチ
ル)−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチル−
(2−エチル−2−メチルヘプタノイル)アミノ)フェ
ニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-benzylbenzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-benzyl- (4
-Toluyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N
-(2-methoxyethyl)-(4-toluyl) amino)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (4-methylphenylmethyl) -2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadi Enyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (2-methoxyethyl) -2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethyl-
(2-ethyl-2-methylheptanoyl) amino) phenyl] titanium,

【0077】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(4−クロロベン
ゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘ
キシル−(2−エチル−2−メチルブタノイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシル
−2,2−ジメチルペンタノイル)アミノ)フェニル〕
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−
ジフルオロ−3−(N−(オクソラニ−2−イルメチ
ル)−2,2−ジメチルペンタノイル)アミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシル−(4−ク
ロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シ
クロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−シクロヘキシル−(2−クロロベンゾイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(3,3−ジメチル−
2−アゼチジノニ−1−イル)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-butyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (2-ethyl- 2-methylbutanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexyl-2,2-dimethylpentanoyl) amino) phenyl]
Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-
Difluoro-3- (N- (oxolan-2-ylmethyl) -2,2-dimethylpentanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-cyclohexyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3-
(N-cyclohexyl- (2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (3,3-dimethyl-
2-azetidinoni-1-yl) phenyl] titanium,

【0078】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−イソシアナトフェニル)チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−エチル−(4−トリルスルホニル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(4
−トリルスルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−ブチル−(4−トリルスルホニル)アミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチル−(4−
トリルスルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−ブチル−(2,2−ジメチル−3−クロロプ
ロパノイル)アミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3-isocyanatophenyl) titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (4-tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4
-Tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-butyl- (4-tolylsulfonyl) amino)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- (4-
Tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-butyl- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium,

【0079】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(3−フェニルプロパノイ
ル)−2,2−ジメチル−3−クロロプロパノイル)ア
ミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキ
シルメチル−(2,2−ジメチル−3−クロロプロパノ
イル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソ
ブチル−(2,2−ジメチル−3−クロロプロパノイ
ル)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(2−
クロロメチル−2−メチル−3−クロロプロパノイル)
アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(ブチルチオカル
ボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(フェニル
チオカルボニルアミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N- (3-phenylpropanoyl) -2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro- 3- (N-cyclohexylmethyl- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- ( 2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl- (2-
Chloromethyl-2-methyl-3-chloropropanoyl)
Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (butylthiocarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (Phenylthiocarbonylamino) phenyl] titanium,

【0080】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−イソシアナトフェニル)チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−エチル−(4−トリルスルホニル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(4
−トリルスルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−ブチル−(4−トリルスルホニル)アミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチル−(4−
トリルスルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(N−ブチル−(2,2−ジメチル−3−クロロプ
ロパノイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N
−(3−フェニルプロパノイル)−2,2−ジメチル−
3−クロロプロパノイル)アミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3-isocyanatophenyl) titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (4-tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4
-Tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-butyl- (4-tolylsulfonyl) amino)
Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl- (4-
Tolylsulfonyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (N-butyl- (2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N
-(3-phenylpropanoyl) -2,2-dimethyl-
3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium,

【0081】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルメチル−
(2,2−ジメチル−3−クロロプロパノイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソブチル−
(2,2−ジメチル−3−クロロプロパノイル)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(2−クロロメチ
ル−2−メチル−3−クロロプロパノイル)アミノ)フ
ェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(ブチルチオカルボニルア
ミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(フェニルチオカ
ルボニルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(メチルシク
ロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−
(N−ヘキシル−2,2−ジメチルブタノイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-cyclohexylmethyl-
(2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N-isobutyl-
(2,2-dimethyl-3-chloropropanoyl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-butyl- (2-chloromethyl-2-methyl-3-chloropropanoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (Butylthiocarbonylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (phenylthiocarbonylamino) phenyl] titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis [2,6 -Difluoro-3-
(N-hexyl-2,2-dimethylbutanoyl) amino) phenyl] titanium,

【0082】ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−2,2−
ジメチルペンタノイルアミノ)フェニル〕チタン、ビス
(メチルシクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフル
オロ−3−(N−エチルアセチルアミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−エチルプロピオニルアミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(トリメチルシリルペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ブチ
ル−2,2−ジメチルプロパノイルアミノ)フェニル〕
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−
ジフルオロ−3−(N−(2−メトキシエチル)−トリ
メチルシリルアミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロ
ペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N
−ブチルヘキシルジメチルシリルアミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(N−エチル−(1,1,2,−トリメ
チルプロピル)ジメチルシリルアミノ)フェニル〕チタ
ン、
Bis (methylcyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl-2,2-
Dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethylacetylamino) phenyl] titanium, bis (methylcyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N-ethylpropionylamino) phenyl] titanium, bis (trimethylsilylpentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-butyl-2,2-dimethylpropanoylamino) phenyl]
Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-
Difluoro-3- (N- (2-methoxyethyl) -trimethylsilylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N
-Butylhexyldimethylsilylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-ethyl- (1,1,2, -trimethylpropyl) dimethylsilylamino) phenyl] Titanium,

【0083】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(3−エトキシメチル−3−メチ
ル−2−アゼチオジノニ−1−イル)フェニル〕チタ
ン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(3−アリルオキシメチル−3−メチル−
2−アゼチジノニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス
(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−
3−(3−クロロメチル−3−メチル−2−アゼチジノ
ニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ベン
ジル−2,2−ジメチルプロパノイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(5,5−ジメチル−2−ピロリ
ジノニ−1−イル)フェニル〕チタン、ビス(シクロペ
ンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(6,
6−ジフェニル−2−ピペリジノニ−1−イル)フェニ
ル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (3-ethoxymethyl-3-methyl-2-azethiodinoni-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (3-allyloxy) Methyl-3-methyl-
2-azetidinoni-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-
3- (3-chloromethyl-3-methyl-2-azetidinoni-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-benzyl-2,2- Dimethylpropanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (5,5-dimethyl-2-pyrrolidinoni-1-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (6,
6-diphenyl-2-piperidinoni-1-yl) phenyl] titanium,

【0084】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(2,3−ジヒドロ−1,
2−ベンジソチアゾロ−3−オン(1,1−ジオキシ
ド)−2−イル)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ヘ
キシル−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕
チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−
ジフルオロ−3−(N−ヘキシル−(2−クロロベンゾ
イル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタ
ジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−イソ
プロピル−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(4−メチルフェニルメチ
ル)−(4−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕チ
タン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(N−(4−メチルフェニルメチル)−
(2−クロロベンゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N- (2,3-dihydro-1,
2-benzisothiazolo-3-one (1,1-dioxide) -2-yl) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-hexyl- (4-chlorobenzoyl) ) Amino) phenyl]
Titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-
Difluoro-3- (N-hexyl- (2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-isopropyl- (4-chlorobenzoyl) amino] ) Phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N- (4-methylphenylmethyl)-(4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- ( 4-methylphenylmethyl)-
(2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium,

【0085】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−ブチル−(4−クロロベン
ゾイル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペン
タジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−ベ
ンジル−2,2−ジメチルペンタノイルアミノ)フェニ
ル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(N−(2−エチルヘキシル)−
4−トリル−スルホニル)アミノ)フェニル〕チタン、
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(N−(3−オキサヘプチル)ベンゾイルアミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,6−ジオ
キサデシル)ベンゾイルアミノ)フェニル〕チタン、ビ
ス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオロ
−3−(トリフルオロメチルスルホニル)アミノ)フェ
ニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(トリフルオロアセチルア
ミノ)フェニル〕チタン、
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (N-butyl- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-benzyl-2,2-dimethyl) Pentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2
6-difluoro-3- (N- (2-ethylhexyl)-
4-tolyl-sulfonyl) amino) phenyl] titanium,
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3-oxaheptyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (N- (3,6-dioxadecyl) benzoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (trifluoromethylsulfonyl) Amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (trifluoroacetylamino) phenyl] titanium,

【0086】ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,
6−ジフルオロ−3−(2−クロロベンゾイル)アミ
ノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)
ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(4−クロロベンゾイ
ル)アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジ
エニル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,
6−ジオキサデシル)−2,2−ジメチルペンタノイル
アミノ)フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)ビス〔2,6−ジフルオロ−3−(N−(3,7−
ジメチル−7−メトキシオクチル)ベンゾイルアミノ)
フェニル〕チタン、ビス(シクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(N−シクロヘキシルベン
ゾイルアミノ)フェニル〕チタン等を挙げることができ
る。
Bis (cyclopentadienyl) bis [2,
6-difluoro-3- (2-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl)
Bis [2,6-difluoro-3- (4-chlorobenzoyl) amino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3,
6-dioxadecyl) -2,2-dimethylpentanoylamino) phenyl] titanium, bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N- (3,7-
Dimethyl-7-methoxyoctyl) benzoylamino)
Phenyl] titanium and bis (cyclopentadienyl) bis [2,6-difluoro-3- (N-cyclohexylbenzoylamino) phenyl] titanium.

【0087】光重合開始剤の一例である(g)炭素ハロ
ゲン結合を有する化合物の好ましい例としては、下記一
般式[II]から[VIII] のものを挙げることができ
る。
Preferred examples of the compound (g) having a carbon-halogen bond, which is one example of a photopolymerization initiator, include those represented by the following general formulas [II] to [VIII].

【0088】[0088]

【化21】 Embedded image

【0089】(式中、X2はハロゲン原子を表す。Y2
−C(X23、−NH2、−NHR32、−NR32、−O
32を表す。ここでR32はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表す。またR31は−
C(X23、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基又は置換アルケニル基を表す。)で
表される化合物。
(Wherein, X 2 represents a halogen atom. Y 2 represents —C (X 2 ) 3 , —NH 2 , —NHR 32 , —NR 32 , —O
Representing the R 32. Here, R 32 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group. R 31 is-
C (X 2 ) 3 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group or a substituted alkenyl group. ).

【0090】[0090]

【化22】 Embedded image

【0091】(ただし、R33は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、X3
はハロゲン原子であり、nは1〜3の整数である。)で
表される化合物。
(Where R 33 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, a substituted alkoxyl group, a nitro group or a cyano group; Three
Is a halogen atom, and n is an integer of 1 to 3. ).

【0092】[0092]

【化23】 Embedded image

【0093】(ただし、R34は、アリール基又は置換ア
リール基であり、R35
(Where R 34 is an aryl group or a substituted aryl group, and R 35 is

【0094】[0094]

【化24】 Embedded image

【0095】又はハロゲンであり、Z2は−C(=O)
−、−C(=S)−又は−SO2−であり、R36、R37
はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換ア
ルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、R
38は一般式〔IV] 中のR32と同じであり、X3はハロゲ
ン原子であり、mは1又は2である。)で表される化合
物。
Or Z 2 is —C (= O)
—, —C (= S) — or —SO 2 —, and R 36 , R 37
Is an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group or a substituted aryl group;
38 is the same as R 32 in the general formula [IV], X 3 is a halogen atom, and m is 1 or 2. ).

【0096】[0096]

【化25】 Embedded image

【0097】ただし、式中、R39は置換されていてもよ
いアリール基又は複素環式基であり、R40は炭素原子1
〜3個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケ
ニル基であり、pは1、2又は3である。
In the formula, R 39 is an optionally substituted aryl group or a heterocyclic group, and R 40 is a carbon atom having 1 carbon atom.
A trihaloalkyl or trihaloalkenyl group having up to 3; and p is 1, 2 or 3.

【0098】[0098]

【化26】 Embedded image

【0099】(ただし、Lは水素原子又は式:CO−
(R41q(C(X43rの置換基であり、Qはイオ
ウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アル
ケン−1,2−イレン基、1,2−フェニレン基又はN
−R基であり、Mは置換又は非置換のアルキレン基又は
アルケニレン基であるか、又は1,2−アリーレン基で
あり、R42はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシ
アルキル基であり、R41は炭素環式又は複素環式の2価
の芳香族基であり、X4は塩素、臭素またはヨウ素原子
であり、q=0及びr=1であるか又はq=1及びr=
1又は2である。)で表される、トリハロゲノメチル基
を有するカルボニルメチレン複素環式化合物。
(Where L is a hydrogen atom or a formula: CO—
(R 41 ) q (C (X 4 ) 3 ) a substituent of r , wherein Q is a sulfur, selenium or oxygen atom, a dialkylmethylene group, an alkene-1,2-ylene group, a 1,2-phenylene group or N
-R group, M is a substituted or unsubstituted alkylene group or alkenylene group, or a 1,2-arylene group, R 42 is an alkyl group, an aralkyl group or an alkoxyalkyl group, and R 41 is X 4 is a carbocyclic or heterocyclic divalent aromatic group, X 4 is a chlorine, bromine or iodine atom, and q = 0 and r = 1, or q = 1 and r =
1 or 2. And a carbonylmethylene heterocyclic compound having a trihalogenomethyl group.

【0100】[0100]

【化27】 Embedded image

【0101】(ただし、X5はハロゲン原子であり、t
は1〜3の整数であり、sは1〜4の整数であり、R43
は水素原子又はCH3-t5 t基であり、R44はs価の置
換されていてもよい不飽和有機基である)で表される、
4−ハロゲノ−5−(ハロゲノメチル−フェニル)−オ
キサゾール誘導体。
(Where X 5 is a halogen atom, t
Is an integer of 1 to 3, s is an integer of 1 to 4, R 43
Is a hydrogen atom or a CH 3-t X 5 t group, and R 44 is an s-valent, optionally substituted unsaturated organic group).
4-halogeno-5- (halogenomethyl-phenyl) -oxazole derivatives.

【0102】[0102]

【化28】 Embedded image

【0103】(ただし、X6はハロゲン原子であり、v
は1〜3の整数であり、uは1〜4の整数であり、R45
は水素原子又はCH3-vX6v基であり、R46はu価の置
換されていてもよい不飽和有機基である。)で表され
る、2−(ハロゲノメチル−フェニル)−4−ハロゲノ
−オキサゾール誘導体。
(Where X 6 is a halogen atom;
Is an integer of 1 to 3, u is an integer of 1 to 4, R 45
Is a hydrogen atom or a CH 3-v X6 v group, R 46 is an unsaturated organic group which may be substituted for u-valent. A) 2- (halogenomethyl-phenyl) -4-halogeno-oxazole derivative.

【0104】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物の具体例としては、例えば、独国特許333702
4号明細書記載の化合物、例えば、
Specific examples of such a compound having a carbon-halogen bond include, for example, German Patent No. 333702.
No. 4 compounds, for example,

【0105】[0105]

【化29】 Embedded image

【0106】[0106]

【化30】 Embedded image

【0107】等を挙げることができる。さらに特開昭6
2−58241号記載の化合物、例えば、
And the like. Furthermore, Japanese Unexamined Patent Publication No.
Compounds described in 2-58241, for example,

【0108】[0108]

【化31】 Embedded image

【0109】等を挙げることができる。And the like.

【0110】あるいはさらにM. P. Hutt、E. F. Elslag
erおよびL. M. Herbel著「Journalof Heterocyclic che
mistry」第7巻(No.3)、第511頁以降(1970年)に記
載されている合成方法に準じて、当業者が容易に合成す
ることができる次のような化合物群
Alternatively, MP Hutt, EF Elslag
er and LM Herbel, Journal of Heterocyclic che
The following compounds that can be easily synthesized by those skilled in the art according to the synthesis method described in “Mistry”, Vol. 7 (No. 3), pp. 511 et seq. (1970).

【0111】[0111]

【化32】 Embedded image

【0112】[0112]

【化33】 Embedded image

【0113】あるいはドイツ特許第3021590号に
記載の化合物群、
Alternatively, a group of compounds described in German Patent No. 3021590,

【0114】[0114]

【化34】 Embedded image

【0115】[0115]

【化35】 Embedded image

【0116】を挙げることができる。本発明における光
重合開始剤のさらにより好ましい例としては、上述の
(b)芳香族オニウム塩、(c)有機過酸化物、(d)
ヘキサアリールビイミダゾール、(f)メタロセン化合
物、(g)炭素ハロゲン結合を有する化合物を挙げるこ
とができ、さらに最も好ましい例としては、(d)ヘキ
サアリールビイミダゾール、(f)中のチタノセン化合
物を挙げることができる。本発明における光重合開始剤
は単独もしくは2種以上の併用によって好適に用いられ
る。
The following can be mentioned. Even more preferred examples of the photopolymerization initiator in the present invention include the above-mentioned (b) aromatic onium salt, (c) organic peroxide, and (d)
Hexaarylbiimidazole, (f) a metallocene compound, (g) a compound having a carbon-halogen bond can be mentioned, and the most preferred examples include (d) hexaarylbiimidazole, a titanocene compound in (f). be able to. The photopolymerization initiator in the present invention is suitably used alone or in combination of two or more.

【0117】本発明における組成物中の光重合開始剤の
使用量は光重合性組成物の全成分の重量に対し、0.01〜
60重量%、より好ましくは0.05〜30重量%である。な
お、本発明における光重合開始剤はその単独または後述
の増感色素の混合物をもって光重合開始系と総称するこ
とができる。
The amount of the photopolymerization initiator to be used in the composition of the present invention is from 0.01 to 0.01 based on the weight of all components of the photopolymerizable composition.
It is 60% by weight, more preferably 0.05 to 30% by weight. The photopolymerization initiator in the present invention can be referred to as a photopolymerization initiation system alone or as a mixture of sensitizing dyes described below.

【0118】本発明に用いる光重合性組成物には上記重
合開始剤の他以下のものが含まれる。 [増感色素]本発明の光重合性組成物の1成分となり得る
増感色素としては、分光増感色素、光源の光を吸収して
光重合開始剤と相互作用する染料あるいは顔料があげら
れる。 好ましい分光増感色素または染料としては多核芳香族類
(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン) キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、
エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカル
ボシアニン) メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシ
アニン) チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トル
イジンブルー) アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフ
ラビン、アクリフラビン) フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフ
タロシアニン) ポルフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリ
ン、中心金属置換ポルフィリン) クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリ
ン、中心金属置換クロロフィル) 金属錯体、例えば
The photopolymerizable composition used in the present invention contains the following in addition to the above-mentioned polymerization initiator. [Sensitizing Dye] Examples of the sensitizing dye that can be a component of the photopolymerizable composition of the present invention include a spectral sensitizing dye and a dye or pigment that absorbs light from a light source and interacts with a photopolymerization initiator. . Preferred spectral sensitizing dyes or dyes include polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene) and xanthenes (eg, fluorescein, eosin,
Erythrosine, rhodamine B, rose bengal cyanines (eg, thiacarbocyanine, oxacarbocyanine) merocyanines (eg, merocyanine, carbomerocyanine) thiazines (eg, thionin, methylene blue, toluidine blue) acridines (eg, acridine orange, Chloroflavin, acriflavin) phthalocyanines (eg, phthalocyanine, metal phthalocyanine) porphyrins (eg, tetraphenylporphyrin, central metal-substituted porphyrin) chlorophylls (eg, chlorophyll, chlorophyllin, central metal-substituted chlorophyll) metal complexes, eg,

【0119】[0119]

【化36】 Embedded image

【0120】アントラキノン類(例えば、アントラキノ
ン) スクアリウム類(例えば、スクアリウム) 等が挙げられる。より好ましい分光増感色素又は染料の
例としては特公平37−13034号記載のスチリル系
色素、例えば、
Anthraquinones (for example, anthraquinone) and squariums (for example, squarium). Examples of more preferred spectral sensitizing dyes or dyes are styryl dyes described in JP-B-37-13034, for example,

【0121】[0121]

【化37】 Embedded image

【0122】特開昭62−143044号記載の陽イオ
ン染料、例えば、
Cation dyes described in JP-A-62-143044, for example,

【0123】[0123]

【化38】 Embedded image

【0124】特公昭59−24147号記載のキノキサ
リニウム塩、例えば、
The quinoxalinium salts described in JP-B-59-24147, for example,

【0125】[0125]

【化39】 Embedded image

【0126】特開昭64−33104号記載の新メチレ
ンブルー化合物、例えば、
New methylene blue compounds described in JP-A-64-33104, for example,

【0127】[0127]

【化40】 Embedded image

【0128】特開昭64−56767号記載のアントラ
キノン類、例えば
Anthraquinones described in JP-A-64-56767, for example,

【0129】[0129]

【化41】 Embedded image

【0130】特開平2−1714号記載のベンゾキサン
テン染料。特開平2−226148号及び特開平2−2
26149号記載のアクリジン類、例えば、
Benzoxanthene dyes described in JP-A-2-1714. JP-A-2-226148 and JP-A-2-2-2
No. 26149, acridines, for example,

【0131】[0131]

【化42】 Embedded image

【0132】特公昭40−28499号記載のピリリウ
ム塩類、例えば
Pyrylium salts described in JP-B-40-28499, for example,

【0133】[0133]

【化43】 Embedded image

【0134】特公昭46−42363号記載のシアニン
類、例えば
Cyanines described in JP-B-46-43363, for example,

【0135】[0135]

【化44】 Embedded image

【0136】特開平2−63053号記載のベンゾフラ
ン色素、例えば
A benzofuran dye described in JP-A-2-63053, for example,

【0137】[0137]

【化45】 Embedded image

【0138】特開平2−85858号、特開平2−21
6154号の共役ケトン色素、例えば
JP-A-2-85858, JP-A-2-21
No. 6154 conjugated ketone dyes, for example

【0139】[0139]

【化46】 Embedded image

【0140】特開昭57−10605号記載の色素。特
公平2−30321号記載のアゾシンナミリデン誘導
体、例えば、
Dyes described in JP-A-57-10605. Azocinnamylidene derivatives described in JP-B-2-30321, for example,

【0141】[0141]

【化47】 Embedded image

【0142】特開平1−287105号記載のシアニン
系色素、例えば、
Cyanine dyes described in JP-A-1-287105, for example,

【0143】[0143]

【化48】 Embedded image

【0144】特開昭62−31844号、特開昭62−
31848号、特開昭62−143043号記載のキサ
ンテン系色素、例えば、
JP-A-62-31844, JP-A-62-31844
No. 31848, Xanthene dyes described in JP-A-62-143043, for example,

【0145】[0145]

【化49】 Embedded image

【0146】特公昭59−28325号記載のアミノス
チリルケトン、例えば
An aminostyryl ketone described in JP-B-59-28325, for example,

【0147】[0147]

【化50】 Embedded image

【0148】特公昭61−9621号記載の以下の一般
式〔1〕〜〔8〕で表されるメロシアニン色素、例え
ば、
The merocyanine dyes represented by the following formulas [1] to [8] described in JP-B-61-9621, for example,

【0149】[0149]

【化51】 Embedded image

【0150】一般式〔3〕ないし〔8〕において、X8
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、置換アリール基、アリールオキシ基、
アラルキル基又はハロゲン原子を表わす。一般式〔2〕
においてPhはフェニル基を表わす。一般式〔1〕ない
し〔8〕において、R48、R49およびR50はそれぞれア
ルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、アリール
基、置換アリール基又はアラルキル基を表わし、互いに
等しくても異なってもよい。特開平2−179643号
記載の以下の一般式
In the general formulas [3] to [8], X 8
Is a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, a substituted aryl group, an aryloxy group,
Represents an aralkyl group or a halogen atom. General formula [2]
In the above, Ph represents a phenyl group. In the general formulas [1] to [8], R 48 , R 49 and R 50 each represent an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group or an aralkyl group. Good. The following general formula described in Japanese Patent Application Laid-Open No. H2-179643

〔9〕〜〔11〕で表わされる色
素、例えば
Dyes represented by [9] to [11], for example,

【0151】[0151]

【化52】 Embedded image

【0152】A:酸素原子、イオウ原子、セレン原子、
テルル原子、アルキル又はアリール置換された窒素原子
またはジアルキル置換された炭素原子を表わす。 Y3:水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、また
は置換アルコキシカルボニル基を表わす。 R51、R52:水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、
もしくは置換基として、R53O−、
A: oxygen atom, sulfur atom, selenium atom,
Represents a tellurium atom, an alkyl or aryl substituted nitrogen atom or a dialkyl substituted carbon atom. Y 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an aralkyl group, an acyl group, or a substituted alkoxycarbonyl group. R 51 and R 52 : a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms,
Alternatively, as a substituent, R 53 O—,

【0153】[0153]

【化53】 Embedded image

【0154】−(CH2CH2O)w−R53、ハロゲン原
子(F、Cl、Br、I)を有する炭素数1〜18の置
換アルキル基。但し、R53は水素原子又は炭素数1〜1
0のアルキル基を表わし、Bは、ジアルキルアミノ基、
水酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表
わす。wは0〜4の整数、xは1〜20の整数を表わ
す。特開平2−244050号記載の以下の一般式〔1
2〕で表されるメロシアニン色素、例えば、
-(CH 2 CH 2 O) w-R 53 , a substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and having a halogen atom (F, Cl, Br, I). However, R 53 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 1.
0 represents an alkyl group, B represents a dialkylamino group,
Represents a hydroxyl group, an acyloxy group, a halogen atom, and a nitro group. w represents an integer of 0 to 4; x represents an integer of 1 to 20; The following general formula [1] described in JP-A-2-244050
2) a merocyanine dye represented by, for example,

【0155】[0155]

【化54】 Embedded image

【0156】(式中R54およびR55は各々独立して水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル
基を表わす。A2は酸素原子、イオウ原子、セレン原
子、テルル原子、アルキルないしはアリール置換された
窒素原子、またはジアルキル置換された炭素原子を表わ
す。X9は含窒素ヘテロ五員環を形成するのに必要な非
金属原子群を表わす。Y4は置換フェニル基、無置換な
いし置換された多核芳香環、または無置換ないしは置換
されたヘテロ芳香環を表わす。Z3は水素原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシ
カルボニル基を表わし、Y4と互いに結合して環を形成
していてもよい。好ましい具体例としては
(Wherein R 54 and R 55 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, a substituted aryl group or an aralkyl group. A 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom , A selenium atom, a tellurium atom, an alkyl or aryl-substituted nitrogen atom, or a dialkyl-substituted carbon atom, and X 9 represents a group of non-metallic atoms necessary for forming a nitrogen-containing 5-membered heterocyclic ring. 4 represents a substituted phenyl group, an unsubstituted or substituted polynuclear aromatic ring, or an unsubstituted or substituted heteroaromatic ring, and Z 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group,
Represents an aralkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a substituted amino group, an acyl group, or an alkoxycarbonyl group, which may be mutually bonded to Y 4 to form a ring. Preferred specific examples are

【0157】[0157]

【化55】 Embedded image

【0158】特公昭59−28326号記載の以下の一
般式〔13〕で表されるメロシアニン色素、例えば、
A merocyanine dye represented by the following general formula [13] described in JP-B-59-28326, for example,

【0159】[0159]

【化56】 Embedded image

【0160】上式において、R56およびR57はそれぞれ
水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基またはアラルキル基を表わし、それらは
互いに等しくても異ってもよい。X10はハメット(Hamm
ett)のシグマ(σ)値が−0.9から+0.5までの
範囲内の置換基を表わす。特開昭59−89303号記
載の以下の一般式〔14〕で表されるメロシアニン色
素、例えば、
In the above formula, R 56 and R 57 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group,
Represents a substituted aryl group or an aralkyl group, which may be the same or different from each other. X 10 is Hammett (Hamm
ett) represents a substituent within the range of -0.9 to +0.5. A merocyanine dye represented by the following general formula [14] described in JP-A-59-89303, for example,

【0161】[0161]

【化57】 Embedded image

【0162】(式中R58およびR59は各々独立して水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基またはアラルキル基を表わす。X11はハメッ
ト(Hammett)のシグマ(σ)値が−0.9から+0.
5までの範囲内の置換基を表わす。Y5は水素原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アラルキル基、アシル基またはアルコキシカルボニ
ル基を表わす。)好ましい具体例としては、
(Wherein R 58 and R 59 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group or an aralkyl group. X 11 represents Hammett's sigma (σ). Values from -0.9 to +0.
Represents up to 5 substituents. Y 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an aralkyl group, an acyl group or an alkoxycarbonyl group. As a preferred specific example,

【0163】[0163]

【化58】 Embedded image

【0164】特開平8−129257号記載の以下の一
般式〔15〕で表されるメロシアニン色素、例えば
A merocyanine dye represented by the following general formula [15] described in JP-A-8-129257, for example,

【0165】[0165]

【化59】 Embedded image

【0166】(式中、R60、R61、R62、R63、R68
69、R70、R71はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メル
カプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換
カルボニル基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィ
ニル基、置換スルホニル基、ホスフォノ基、置換ホスフ
ォノ基、ホスフォナト基、置換ホスフォナト基、シアノ
基、ニトロ基を表すか、もしくは、R60とR61、R61
62、R62とR63、R68とR69、R69とR70、R70とR
71が互いに結合して脂肪族又は芳香族環を形成していて
も良く、R64は水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、又は置換アリール基を表し、R65は置
換、又は無置換のアルケニルアルキル基、又は置換もし
くは無置換のアルキニルアルキル基を表し、R66、R67
はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
置換カルボニル基を表す)好ましい具体例としては
(Wherein R 60 , R 61 , R 62 , R 63 , R 68 ,
R 69 , R 70 and R 71 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group,
Substituted aryl group, hydroxyl group, substituted oxy group, mercapto group, substituted thio group, amino group, substituted amino group, substituted carbonyl group, sulfo group, sulfonato group, substituted sulfinyl group, substituted sulfonyl group, phosphono group, substituted phosphono group, phosphonato group, a substituted phosphonato group, a cyano group, or a nitro group, or, R 60 and R 61, R 61 and R 62, R 62 and R 63, R 68 and R 69, R 69 and R 70, R 70 And R
71 may combine with each other to form an aliphatic or aromatic ring, R 64 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group; R 65 represents a substituted or unsubstituted group; substituted alkenyl group, or a substituted or unsubstituted alkynyl group, R 66, R 67
Are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group,
Preferred examples of the substituted carbonyl group)

【0167】[0167]

【化60】 [Of 60]

【0168】特開平8−334897号記載の以下の一
般式〔16〕で表されるベンゾピラン系色素、例えば
Benzopyran-based dyes represented by the following general formula [16] described in JP-A-8-334897, for example,

【0169】[0169]

【化61】 Embedded image

【0170】(式中、R72〜R75は互いに独立して、水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、水酸
基、アルコキシ基又はアミノ基を表す。またR72〜R75
はそれらが各々結合できる炭素原子と共に非金属原子か
ら成る環を形成していても良い。R76は水素原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ芳香族基、シアノ基、アル
コキシ基、カルボキシ基又はアルケニル基を表す。R77
はR76で表される基または−Z−R76であり、Zはカル
ボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはアリー
レンジカルボニル基を表す。またR76及びR77は共に非
金属原子から成る環を形成しても良い。AはO原子、S
原子、NHまたは置換基を有するN原子を表す。BはO
原子、または=C(G1)(G2)の基を表す。G1、G2
は同一でも異なっていても良く、水素原子、シアノ基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、又はフルオロスルホニル基を表す。但
し、G1、G2は同時に水素原子となることはない。また
G1及びG2は炭素原子と共に非金属原子からなる環を形
成していても良い)。等を挙げることができる。
[0170] (wherein, R 72 to R 75 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group or an amino group. The R 72 to R 75
May form a ring consisting of a nonmetallic atom together with the carbon atoms to which they can each be attached. R 76 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaromatic group, a cyano group, an alkoxy group, a carboxy group or an alkenyl group. R 77
Is a group represented by R 76 or —ZR 76 , and Z represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or an arylenedicarbonyl group. R 76 and R 77 may together form a ring composed of a non-metallic atom. A is O atom, S
Represents an atom, NH or an N atom having a substituent. B is O
Represents an atom or a group of = C (G1) (G2). G1, G2
May be the same or different, and represent a hydrogen atom, a cyano group,
Represents an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an acyl group, an arylcarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or a fluorosulfonyl group. However, G1 and G2 are not simultaneously hydrogen atoms. G1 and G2 may form a ring composed of a nonmetallic atom together with the carbon atom). And the like.

【0171】その他、増感色素として特に以下の赤外線
吸収剤(染料或いは顔料)も好適に使用される。好まし
い前記染料としては、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭59−202
829号、特開昭60−78787号公報等に記載され
ているシアニン染料、英国特許434,875号明細書
記載のシアニン染料等を挙げることができる。
In addition, the following infrared absorbers (dyes or pigments) are particularly preferably used as sensitizing dyes. Preferred examples of the dye include, for example, JP-A-58-12524.
No. 6, JP-A-59-84356, JP-A-59-202
No. 829, JP-A-60-78787 and the like, and cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

【0172】また、米国特許第5,156,938号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、さら
に、米国特許第3,881,924号明細書に記載の置
換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭
57−142645号(米国特許第4,327,169
号)公報に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭
58−181051号、同58−220143号、同5
9−41363号、同59−84248号、同59−8
4249号、同59−146063号、同59−146
061号公報に記載のピリリウム系化合物、特開昭59
−216146号公報に記載のシアニン色素、米国特許
第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチ
オピリリウム塩等や、特公平5−13514号、同5−
19702号公報に記載されているピリリウム化合物も
好ましく用いられる。
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and further, the substituted sensitizer described in US Pat. No. 3,881,924 is used. Arylbenzo (thio) pyrylium salts described in JP-A-57-142645 (U.S. Pat. No. 4,327,169).
No. 5) Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, and JP-A-58-220143.
Nos. 9-41363, 59-84248 and 59-8
No. 4249, No. 59-146063, No. 59-146
No. 061, JP-A-5961
Cyanine dyes described in JP-A-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and Japanese Patent Publication Nos.
Pyrylium compounds described in 19702 are also preferably used.

【0173】また、米国特許第4,756,993号明
細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外
吸収染料、EP916513A2号明細書に記載のフタ
ロシアニン系染料も好ましい染料として挙げることがで
きる。
Also preferred are near-infrared absorbing dyes described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993 and phthalocyanine dyes described in EP 916 513 A2. It can be mentioned as.

【0174】さらに、特願平10−79912号明細書
に記載のアニオン性赤外線吸収剤も、好適に使用するこ
とができる。アニオン性赤外線吸収剤とは、実質的に赤
外線を吸収する色素の母核にカチオン構造がなく、アニ
オン構造を有するものを示す。例えば、(c1)アニオ
ン性金属錯体、(c2)アニオン性カーボンブラック、
(c3)アニオン性フタロシアニン、さらに(c4)下
記一般式(IX)で表される化合物などが挙げられる。こ
れらのアニオン性赤外線吸収剤の対カチオンは、プロト
ンを含む一価の陽イオン、あるいは多価の陽イオンであ
る。
Further, the anionic infrared absorber described in Japanese Patent Application No. 10-79912 can also be suitably used. The anionic infrared absorbing agent refers to a dye that substantially has no anionic structure in the mother nucleus of a dye that absorbs infrared light and has an anionic structure. For example, (c1) an anionic metal complex, (c2) anionic carbon black,
(C3) an anionic phthalocyanine, and (c4) a compound represented by the following general formula (IX). The counter cation of these anionic infrared absorbers is a monovalent cation containing a proton or a polyvalent cation.

【0175】[0175]

【化62】 Embedded image

【0176】ここで、(c1)アニオン性金属錯体と
は、実質的に光を吸収する錯体部の中心金属および配位
子全体でアニオンとなるものを示す。
Here, the (c1) anionic metal complex refers to an anion in which the central metal and the ligand in the complex part that substantially absorbs light become anions.

【0177】(c2)アニオン性カーボンブラックは、
置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等
のアニオン基が結合しているカーボンブラックが挙げら
れる。これらの基をカーボンブラックに導入するには、
カーボンブラック便覧第三版(カーボンブラック協会
編、1995年4月5日、カーボンブラック協会発行)
第12頁に記載されるように、所定の酸でカーボンブラ
ックを酸化する等の手段をとればよい。
(C2) The anionic carbon black is
Examples of the substituent include carbon black to which an anionic group such as a sulfonic acid, a carboxylic acid, and a phosphonic acid group is bonded. To introduce these groups into carbon black,
Carbon Black Handbook Third Edition (edited by The Carbon Black Association, April 5, 1995)
As described on page 12, means such as oxidation of carbon black with a predetermined acid may be employed.

【0178】(c3)アニオン性フタロシアニンは、フ
タロシアニン骨格に、置換基として、先に(c2)の説
明において挙げたアニオン基が結合し、全体としてアニ
オンとなっているものを示す。
(C3) Anionic phthalocyanine refers to an anionic phthalocyanine in which the anion group described in (c2) above is bonded as a substituent to the phthalocyanine skeleton to form an anion as a whole.

【0179】次に、前記(c4)一般式(IX)で表され
る化合物について、詳細に説明する。前記一般式6中、
a -はアニオン性置換基を表し、Gbは中性の置換基を
表す。Xm+は、プロトンを含む1〜m価のカチオンを表
し、mは1ないし6の整数を表す。Mは共役鎖を表し、
この共役鎖Mは置換基や環構造を有していてもよい。共
役鎖Mは、下記式で表すことができる。
Next, the compound (c4) represented by the general formula (IX) will be described in detail. In the general formula 6,
G a - represents an anionic substituent, G b represents a neutral substituent. X m + represents a cation having 1 to m valences including a proton, and m represents an integer of 1 to 6. M represents a conjugated chain,
This conjugated chain M may have a substituent or a ring structure. The conjugated chain M can be represented by the following formula.

【0180】[0180]

【化63】 Embedded image

【0181】前記式中、R1、R2,R3はそれぞれ独立
に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、
アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル
基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ
基、アミノ基を表し、これらは互いに連結して環構造を
形成していてもよい。nは、1〜8の整数を表す。
In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group,
It represents an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group, and these may be linked to each other to form a ring structure. n represents an integer of 1 to 8.

【0182】前記一般式(IX)で表されるアニオン性赤
外線吸収剤のうち、以下のA−1〜A−5のものが、好
ましく用いられる。
Of the anionic infrared absorbers represented by the general formula (IX), the following A-1 to A-5 are preferably used.

【0183】[0183]

【化64】 Embedded image

【0184】また、以下のCA−1〜CA−44に示す
カチオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
Also, cationic infrared absorbers represented by the following CA-1 to CA-44 can be preferably used.

【0185】[0185]

【化65】 Embedded image

【0186】[0186]

【化66】 Embedded image

【0187】[0187]

【化67】 Embedded image

【0188】[0188]

【化68】 Embedded image

【0189】[0189]

【化69】 Embedded image

【0190】[0190]

【化70】 Embedded image

【0191】[0191]

【化71】 Embedded image

【0192】[0192]

【化72】 Embedded image

【0193】[0193]

【化73】 Embedded image

【0194】[0194]

【化74】 Embedded image

【0195】[0195]

【化75】 [Of 75]

【0196】[0196]

【化76】 Embedded image

【0197】[0197]

【化77】 Embedded image

【0198】[0198]

【化78】 Embedded image

【0199】[0199]

【化79】 Embedded image

【0200】前記構造式中、T-は、1価の対アニオン
を表し、好ましくは、ハロゲンアニオン(F-,Cl-
Br-、I-)、ルイス酸アニオン(BF4 -、PF6 -、S
bCl6 -、ClO4 -)、アルキルスルホン酸アニオン、
アリールスルホン酸アニオンである。
In the above structural formula, T represents a monovalent counter anion, preferably a halogen anion (F , Cl ,
Br -, I -), a Lewis acid anion (BF 4 -, PF 6 - , S
bCl 6 , ClO 4 ), an alkylsulfonic acid anion,
Aryl sulfonate anion.

【0201】前記アルキルスルホン酸のアルキルとは、
炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、又は環
状のアルキル基を意味し、具体的には、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボ
ルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素
原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12
までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環
状のアルキル基がより好ましい。
The alkyl of the alkyl sulfonic acid is
A linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group , Octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl,
Isobutyl, s-butyl, t-butyl, isopentyl, neopentyl, 1-methylbutyl, isohexyl, 2-ethylhexyl, 2-methylhexyl, cyclohexyl, cyclopentyl, 2-norbornyl be able to. Among these, straight-chains having 1 to 12 carbon atoms, 3 to 12 carbon atoms.
And a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms is more preferred.

【0202】また前記アリールスルホン酸のアリールと
は、1個のベンゼン環からなるもの、2又は3個のベン
ゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽
和環が縮合環を形成したものを表し、具体例としては、
フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリ
ル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル
基、を挙げることができ、これらの中でも、フェニル
基、ナフチル基がより好ましい。
The aryl of the above-mentioned arylsulfonic acid includes one consisting of one benzene ring, two or three benzene rings forming a condensed ring, and a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring forming a condensed ring. The specific example is,
Examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenabutenyl group, and a fluorenyl group. Of these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferred.

【0203】また、以下のNA−1〜NA−12に示す
非イオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
Further, nonionic infrared absorbing agents represented by the following NA-1 to NA-12 can also be preferably used.

【0204】[0204]

【化80】 Embedded image

【0205】[0205]

【化81】 Embedded image

【0206】[0206]

【化82】 Embedded image

【0207】[0207]

【化83】 Embedded image

【0208】前記例示化合物中、特に好ましいアニオン
性赤外線吸収剤としてはA−1が、カチオン性赤外線吸
収剤としてはCA−7、CA−30、CA−40、およ
びCA−42が、非イオン性赤外線吸収剤としてはNA
−11が挙げられる。
Among the above exemplified compounds, A-1 is particularly preferable as the anionic infrared absorber, CA-7, CA-30, CA-40 and CA-42 are preferable as the cationic infrared absorber. NA as infrared absorber
-11.

【0209】他の染料としては、市販の染料及び例えば
「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)
等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタ
ロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染
料、メチン染料、ジインモニウム染料、アミニウム染
料、スクワリリウム色素、金属チオレート錯体等の染料
が挙げられる。
Other dyes include commercially available dyes and, for example, “Dye Handbook” (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970).
And the like can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, diimmonium dyes, aminium dyes, squalilium dyes, metal thiolate complexes and the like Is mentioned.

【0210】また、増感色素として、他の顔料として
は、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便
覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977
年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986
年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年
刊)に記載されている顔料が利用できる。例えば、顔料
の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素
が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレー
キ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシア
ニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリ
ノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔
料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キ
ノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニ
トロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔
料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料の
うち好ましいものはカーボンブラックである。
As other sensitizing dyes, commercially available pigments and Color Index (CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977)
Annual Publication), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986)
Pigments described in "Printing Ink Technology", CMC Publishing, 1984). For example, the types of pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like. Preferred among these pigments is carbon black.

【0211】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。前記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The surface treatment method is described in "Properties and Applications of Metal Soap" (Koshobo)
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0212】顔料の粒径は0.01μm〜10μmであ
るのが好ましく、0.05μm〜1μmであるのがさら
に好ましく、特に0.1μm〜1μmであるのが特に好
ましい。顔料の粒径が0.01μm未満のときは、分散
物の感光層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、ま
た、10μmを越えると感光層の均一性の点で好ましく
ない。
The particle size of the pigment is preferably from 0.01 μm to 10 μm, more preferably from 0.05 μm to 1 μm, particularly preferably from 0.1 μm to 1 μm. When the particle size of the pigment is less than 0.01 μm, the dispersion is not preferred in terms of stability in the coating solution for the photosensitive layer, and when it exceeds 10 μm, the uniformity of the photosensitive layer is not preferred.

【0213】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, refer to “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986).

【0214】本発明における増感色素のさらにより好ま
しい例としては、上述の特公昭61−9621号記載の
メロシアニン色素、特開平2−179643号記載のメ
ロシアニン色素、特開平2−244050号記載のメロ
シアニン色素、特公昭59−28326号記載のメロシ
アニン色素、特開昭59−89303号記載のメロシア
ニン色素、特開平8−129257号記載のメロシアニ
ン色素及び特開平8−334897号記載のベンゾピラ
ン系色素を挙げることができる。及び上述の特開平11-2
09001号記載の赤外線吸収剤を挙げることができる。本
発明における増感色素も単独もしくは2種以上の併用に
よって好適に用いられる。さらに本発明の光重合性組成
物には、感度を一層向上させる、あるいは酸素による重
合阻害を抑制する等の作用を有する公知の化合物を共増
感剤として加えても良い。
More preferred examples of the sensitizing dye in the present invention include the merocyanine dye described in JP-B-61-9621, the merocyanine dye described in JP-A-2-179463, and the merocyanine described in JP-A-2-244050. Dyes, merocyanine dyes described in JP-B-59-28326, merocyanine dyes described in JP-A-59-89303, merocyanine dyes described in JP-A-8-129257, and benzopyran-based dyes described in JP-A-8-334897 are listed. Can be. And the above-mentioned JP-A-11-2
The infrared absorber described in No. 09001 can be mentioned. The sensitizing dye in the present invention is also preferably used alone or in combination of two or more. Further, a known compound having an action of further improving sensitivity or suppressing polymerization inhibition by oxygen may be added to the photopolymerizable composition of the present invention as a cosensitizer.

【0215】この様な共増感剤の例としては、アミン
類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polymer Soc
iety」第10巻3173頁(1972)、特公昭44−
20189号、特開昭51−82102号、特開昭52
−134692号、特開昭59−138205、特開昭
60−84305号、特開昭62−18537号、特開
昭64−33104号、Research Disclosure 3382
5号記載の化合物、等が挙げられ、具体的には、トリエ
タノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチルチ
オジメチルアニリン、等が挙げられる。
Examples of such co-sensitizers include amines, for example, MR Sander et al., Journal of Polymer Soc.
Society, Vol. 10, p. 3173 (1972);
No. 20189, JP-A-51-82102, JP-A-52
-134692, JP-A-59-138205, JP-A-60-84305, JP-A-62-18537, JP-A-64-33104, Research Disclosure 3382
No. 5, and the like, and specific examples thereof include triethanolamine, ethyl p-dimethylaminobenzoate, p-formyldimethylaniline, and p-methylthiodimethylaniline.

【0216】共増感剤の別の例としてはチオールおよび
スルフィド類、例えば、特開昭53−702号、特公昭
55−500806号、特開平5−142772号記載
のチオール化合物、特開昭56−75643号のジスル
フィド化合物等があげられ、具体的には、2−メルカプ
トベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプ
ト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレ
ン等があげられる。
Other examples of the co-sensitizer include thiols and sulfides, for example, thiol compounds described in JP-A-53-702, JP-B-55-500806, and JP-A-5-142772, and JP-A-56-142772. No. 75643, specifically, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline, β-mercaptonaphthalene, and the like. Is raised.

【0217】また別の例としては、アミノ酸化合物
(例、N−フェニルグリシン等)、特公昭48−429
65号記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテ
ート等)、特公昭55−34414号記載の水素供与
体、特開平6−308727号記載のイオウ化合物
(例、トリチアン等)、特開平6−250389号記載
のリン化合物(ジエチルホスファイト等)、特願平6−
191605号記載のSi−H、Ge−H化合物等があ
げられる。
Further, other examples include amino acid compounds (eg, N-phenylglycine, etc.) and JP-B-48-429.
No. 65, organometallic compounds (eg, tributyltin acetate, etc.), hydrogen donors described in JP-B-55-34414, sulfur compounds described in JP-A-6-308727 (eg, trithiane, etc.), JP-A-6-250389. No. 6 (Diethyl phosphite, etc.)
191605, Si-H and Ge-H compounds.

【0218】また、本発明において増感色素を用いる場
合、光重合性組成物中の光重合開始剤と増感色素のモル
比は100:0〜1:99であり、より好ましくは、9
0:10〜10:90であり、最も好ましくは80:2
0〜20:80である。上記共増感剤を使用する場合に
は光重合開始剤1重量部に対して、0.01〜50重量
部使用するのが適当であり、より好ましくは0.02〜
20重量部、最も好ましくは0.05〜10重量部であ
る。
When a sensitizing dye is used in the present invention, the molar ratio of the photopolymerization initiator to the sensitizing dye in the photopolymerizable composition is from 100: 0 to 1:99, preferably from 9:99 to 1:99.
0:10 to 10:90, most preferably 80: 2
0:20:80. When the co-sensitizer is used, it is suitably used in an amount of 0.01 to 50 parts by weight, more preferably 0.02 to 50 parts by weight, based on 1 part by weight of the photopolymerization initiator.
20 parts by weight, most preferably 0.05 to 10 parts by weight.

【0219】[線状有機高分子重合体]本発明の光重合
性平版印刷版の感光層には、バインダーとしての線状有
機高分子重合体を含有させることが好ましい。このよう
な「線状有機高分子重合体」としては、光重合可能なエ
チレン性不飽和化合物と相溶性を有している線状有機高
分子重合体である限り、どれを使用しても構わない。好
ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とする水
あるいは弱アルカリ水可溶性または膨潤性である線状有
機高分子重合体が選択される。線状有機高分子重合体
は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、現像剤と
して水、弱アルカリ水或いは有機溶剤のいずれが使用さ
れるかに応じて適宜選択使用される。例えば、水可溶性
有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。この
様な線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸
基を有する付加重合体、例えば特開昭59−44615
号、特公昭54−34327号、特公昭58−1257
7号、特公昭54−25957号、特開昭54−927
23号、特開昭59−53836号、特開昭59−71
048号に記載されているもの、すなわち、メタクリル
酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エ
ステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖
にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。
この他に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付
加させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベ
ンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必
要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合
体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリ
ル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマ
ー〕共重合体が好適である。この他に水溶性線状有機高
分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキ
サイド等が有用である。また硬化皮膜の強度をあげるた
めにアルコール可溶性ポリアミドや2,2−ビス−(4
−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリ
ンのポリエーテル等も有用である。
[Linear Organic High Polymer] The photosensitive layer of the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention preferably contains a linear organic high polymer as a binder. As such a “linear organic high molecular polymer”, any linear organic high molecular polymer having compatibility with the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound may be used. Absent. Preferably, a water- or weakly alkaline water-soluble or swellable linear organic high molecular polymer that enables water development or weakly alkaline water development is selected. The linear organic polymer is appropriately selected and used depending on whether water, weakly alkaline water or an organic solvent is used as a developer as well as a film-forming agent of the composition. For example, when a water-soluble organic high molecular polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic high molecular polymer include an addition polymer having a carboxylic acid group in a side chain, for example, JP-A-59-44615.
No., JP-B-54-34327, JP-B-58-1257
7, JP-B-54-25957, JP-A-54-927
No. 23, JP-A-59-53836, JP-A-59-71
048, that is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, etc. There is. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain.
In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful. In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally And other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymers. In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble polyamide or 2,2-bis- (4
-Hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin polyether are also useful.

【0220】これらの線状有機高分子重合体は全感光層
組成中に任意な量を混和させることができる。しかし感
光層組成物の全成分の重量に対して90重量%を超える
場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与
えない。好ましくは30〜85%である。また光重合可
能なエチレン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体
は、重量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好まし
い。より好ましい範囲は3/7〜5/5である。
Any of these linear organic high molecular weight polymers can be incorporated in the entire photosensitive layer composition. However, when the amount exceeds 90% by weight based on the weight of all components of the photosensitive layer composition, a favorable result is not obtained in view of the strength of the formed image and the like. Preferably it is 30 to 85%. The weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the linear organic high molecular polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3. A more preferred range is 3/7 to 5/5.

【0221】重合禁止剤 また、本発明においては以上の基本成分の他に光重合性
感光層組成物製造中あるいは保存中において重合可能な
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重
合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加すること
が望ましい。適当な熱重合禁止剤としてはハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−ク
レゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベン
ゾキノン、4,4'−チオビス(3−メチル−6−t−
ブチルフェノール)、2,2'−メチレンビス(4−メ
チル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェ
ニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約
0.01重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に応
じて、酸素による重合阻害を防止するためにべヘン酸や
ベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加し
て、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させても
よい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.
5重量%〜約10重量%が好ましい。
Polymerization Inhibitor In the present invention, in addition to the above basic components, unnecessary thermal polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated double bond that can be polymerized during production or storage of the photopolymerizable photosensitive layer composition. It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent the polymerization. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-
Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), cerium N-nitrosophenylhydroxyamine, and the like.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably from about 0.01% to about 5% by weight based on the weight of the whole composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer in a drying process after coating. Good. The amount of the higher fatty acid derivative to be added is about 0.1% of the total composition.
5% to about 10% by weight is preferred.

【0222】着色剤等 さらに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を
添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後
の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版
性を向上させることができる。着色剤としては、多くの
染料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色
剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例として
は例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボン
ブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料お
よび顔料の添加量は全組成物の約0.5重量%〜約5重
量%が好ましい。
Colorant, etc. Further, a dye or pigment may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. This makes it possible to improve the so-called plate inspection, such as the visibility of the printing plate after plate making and the suitability for an image density measuring device. As many colorants, pigments are particularly preferable because many dyes lower the sensitivity of the photopolymerizable photosensitive layer. Specific examples include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of the dye or pigment added is preferably about 0.5% to about 5% by weight of the total composition.

【0223】その他の添加剤 さらに、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤
や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上さ
せうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑
剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフ
タレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジ
メチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェー
ト、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリ
アセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との
合計重量に対し10重量%以下添加することができる。
Other Additives In order to improve the physical properties of the cured film, known additives such as inorganic fillers, other plasticizers, and oil-sensitizing agents capable of improving the ink adhesion on the surface of the photosensitive layer are added. May be added. Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin, and the like.When a binder is used,
It can be added in an amount of 10% by weight or less based on the total weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond and the binder.

【0224】また、後述する膜強度(耐刷性)向上を目
的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するため
の、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。その
他、感光層と支持体との密着性向上や、未露光感光層の
現像除去性を高めるための添加剤、中間層を設けること
を可能である。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合
物や、ホスホン化合物、等、基板と比較的強い相互作用
を有する化合物の添加や下塗りにより、密着性が向上
し、耐刷性を高めることが可能であり、一方ポリアクリ
ル酸や、ポリスルホン酸のような親水性ポリマーの添加
や下塗りにより、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の
向上が可能となる。
Further, a UV initiator, a thermal crosslinking agent and the like can be added to enhance the effect of heating and exposure after development for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later. In addition, it is possible to provide an additive and an intermediate layer for improving the adhesion between the photosensitive layer and the support and for improving the development and removability of the unexposed photosensitive layer. For example, by adding or undercoating a compound having a relatively strong interaction with the substrate, such as a compound having a diazonium structure or a phosphone compound, the adhesion can be improved and the printing durability can be increased. Addition of an acid or a hydrophilic polymer such as polysulfonic acid or undercoating improves the developability of the non-image area and improves the stainability.

【0225】本発明の光重合性感光層組成物を支持体上
に塗布する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供さ
れる。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレン
ジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセト
ン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモ
ノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノー
ル、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシ
プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチ
ル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独ある
いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液
中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
When coating the photopolymerizable photosensitive layer composition of the present invention on a support, it is used after dissolving it in various organic solvents. As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether,
Diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide,
Examples include dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, and ethyl lactate. These solvents can be used alone or as a mixture. The appropriate concentration of the solid content in the coating solution is 2 to 50% by weight.

【0226】感光層の支持体被覆量は、主に、感光層の
感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響しうるもの
で、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が
少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多
すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる
上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくな
い。本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版と
しては、その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約
10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜
5g/m2である。
The coating amount of the photosensitive layer on the support mainly affects the sensitivity, developability of the photosensitive layer, and the strength and printing durability of the exposed film, and it is desirable to appropriately select the amount according to the application. If the coating amount is too small, the printing durability will be insufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, the exposure takes time, and the developing process requires a longer time, which is not preferable. As is the principal object lithographic printing plate for scan exposure of the present invention, the coating amount in the range of about 0.1 g / m 2 ~ about 10 g / m 2 in weight after drying is suitable. More preferably 0.5 to
It is 5 g / m 2 .

【0227】「支持体」本発明の光重合性平版印刷版を
得るには、上記感光層をアルミニウム支持体上に設け
る。アルミニウム支持体としては、従来公知の、平版印
刷版に使用されるアルミニウム支持体を限定無く使用す
ることができる。使用されるアルミニウム支持体は寸度
的に安定な板状物であることが好ましく、その表面に対
し、必要に応じ親水性の付与や、強度向上等の目的で適
切な公知の物理的、化学的処理を施しても良い。
"Support" To obtain the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention, the above-mentioned photosensitive layer is provided on an aluminum support. As the aluminum support, a conventionally known aluminum support used for a lithographic printing plate can be used without limitation. The aluminum support to be used is preferably a dimensionally stable plate-like material, and the surface thereof may be imparted with hydrophilicity, if necessary, or a known physical or chemical material suitable for the purpose of improving strength. May be applied.

【0228】好適なアルミニウム支持体は、純アルミニ
ウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素
を含む合金板であり、更にはアルミニウムがラミネート
または蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アル
ミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マン
ガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニ
ッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高
々10重量%以下である。本発明において特に好適なア
ルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋な
アルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅か
に異元素を含有するものでもよい。このように本発明に
適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるも
のではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板
を適宜に利用することができる。本発明で用いられるア
ルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、
好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.
2mm〜0.3mmである。
Suitable aluminum supports are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm,
It is preferably 0.15 mm to 0.4 mm, particularly preferably 0.1 mm to 0.4 mm.
It is 2 mm to 0.3 mm.

【0229】またアルミニウム支持体には、粗面化(砂
目立て)処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウ
ム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化
処理などの表面処理がなされていることが好ましい。ア
ルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により
行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化
学的に表面を溶解粗面化する方法および化学的に表面を
選択溶解させる方法により行われる。機械的方法として
は、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バ
フ、磨法等の公知の方法を用いることができる。また、
電気化学的な粗面化法としては塩酸、硝酸等の電解液中
で交流または直流により行う方法がある。また、特開昭
54−63902号に開示されているように両者を組み
合わせた方法も利用することができる。また、アルミニ
ウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延
油を除去するために、例えば、界面活性剤、有機溶剤ま
たはアルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。
The aluminum support is subjected to surface treatment such as surface roughening (graining), immersion in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate or the like, or anodic oxidation. Is preferred. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, a buffing method and a polishing method can be used. Also,
As an electrochemical surface roughening method, there is a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution such as hydrochloric acid or nitric acid. Further, a method combining both of them can be used as disclosed in JP-A-54-63902. Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove the rolling oil on the surface.

【0230】さらに、粗面化したのちに珪酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用
できる。特公昭47−5125号に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用さ
れる。陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶液の単
独または二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
Further, an aluminum plate which has been roughened and then immersed in an aqueous solution of sodium silicate can be preferably used. As described in JP-B-47-5125, an aluminum plate which is anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used. The anodizing treatment is performed, for example, in an electrolytic solution of an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, or boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or an aqueous solution or a non-aqueous solution of a salt thereof alone or in combination of two or more. This is performed by flowing a current using an aluminum plate as an anode.

【0231】また、米国特許第3658662号に記載
されているようなシリケート電着も有効である。さら
に、特公昭46−27481号、特開昭52−5860
2号、特開昭52−30503号に開示されているよう
な電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理お
よび珪酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である。
また、特開昭56−28893号に開示されているよう
な機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレイン、陽
極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好
適である。
Also, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is effective. Furthermore, JP-B-46-27481 and JP-A-52-5860.
No. 2, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-30503, and a surface treatment obtained by combining the support subjected to electrolytic graining with the above anodic oxidation treatment and sodium silicate treatment are also useful.
It is also preferable to sequentially perform mechanical roughening, chemical etching, electrolytic graining, anodizing treatment, and sodium silicate treatment as disclosed in JP-A-56-28893.

【0232】さらに、これらの処理を行った後に、水溶
性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染
料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。さらに
特開平7−159983号に開示されているようなラジ
カルによって付加反応を起こし得る官能基を共有結合さ
せたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。
Further, after these treatments, water-soluble resins such as polyvinylphosphonic acid, polymers and copolymers having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, and water-soluble metal salts (eg, zinc borate) ) Or those undercoated with a yellow dye, an amine salt or the like are also suitable. Furthermore, a sol-gel treated substrate having a functional group capable of causing an addition reaction by a radical covalently disclosed in JP-A-7-159983 is also preferably used.

【0233】その他好ましい例として、任意の支持体上
に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも挙げる
ことができる。このような表面層としては例えばUS3
055295号や、特開昭56−13168号記載の無
機顔料と結着剤とからなる層、特開平9−80744号
記載の親水性膨潤層、特表平8−507727号記載の
酸化チタン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾ
ルゲル膜等を挙げることができる。これらの親水化処理
は、支持体の表面を親水性とするために施される以外
に、その上に設けられる光重合性組成物の有害な反応を
防ぐため、かつ感光層の密着性の向上等のために施され
るものである。
As another preferred example, there can be mentioned a support having a water-resistant hydrophilic layer as a surface layer on an arbitrary support. As such a surface layer, for example, US3
No. 055295, a layer composed of an inorganic pigment and a binder described in JP-A-56-13168, a hydrophilic swelling layer described in JP-A-9-80744, a titanium oxide and a polyvinyl oxide described in JP-A-8-507727. A sol-gel film made of alcohol or silicic acid can be used. These hydrophilic treatments are performed not only to make the surface of the support hydrophilic, but also to prevent harmful reactions of the photopolymerizable composition provided thereon and to improve the adhesion of the photosensitive layer. Etc.

【0234】「保護層」本発明の光重合性平版印刷版に
おいては、通常露光を大気中で行うため、感光層の上
に、さらに、保護層を設けることができる。保護層は、
感光層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大
気中に存在する塩基性物質等の低分子化合物の感光層へ
の混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従っ
て、このような保護層に望まれる特性は、低分子化合物
の透過性が低いことであり、さらに、露光に用いる光の
透過は実質阻害せず、感光層との密着性に優れ、かつ、
露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。
このような、保護層に関する工夫が従来よりなされてお
り、米国特許第3,458,311号、特開昭55−4
9729号に詳しく記載されている。保護層に使用でき
る材料としては例えば、比較的、結晶性に優れた水溶性
高分子化合物を用いることがよく、具体的には、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロー
ス類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などの
ような水溶性ポリマーが知られているが、これらの内、
ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸
素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良
好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコ
ールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未
置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエス
テル、エーテル、およびアセタールで置換されていても
良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有していて
も良い。ポリビニルアルコールの具体例としては71〜
100モル%加水分解され、分子量が重量平均分子量で
300から2400の範囲のものを挙げることができ
る。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、
PVA−110、PVA−117、PVA−117H、
PVA−120、PVA−124、PVA−124H、
PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA
−203、PVA−204、PVA−205、PVA−
210、PVA−217、PVA−220、PVA−2
24、PVA−217EE、PVA−217E、PVA
−220E、PVA−224E、PVA−405、PV
A−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。
"Protective Layer" In the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention, a protective layer can be further provided on the photosensitive layer since exposure is usually performed in the air. The protective layer is
A low-molecular compound such as a basic substance present in the atmosphere, which inhibits an image forming reaction caused by exposure in the photosensitive layer, is prevented from being mixed into the photosensitive layer, thereby enabling exposure in the atmosphere. Therefore, the property desired for such a protective layer is that the low molecular compound has low permeability, and further, does not substantially inhibit the transmission of light used for exposure, has excellent adhesion to the photosensitive layer, and
Desirably, it can be easily removed in the developing step after exposure.
Such a device for the protective layer has been conventionally devised, and is disclosed in U.S. Pat.
No. 9729. As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity may be used. Water-soluble polymers such as acrylic acid are known, and among these,
The use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic characteristics such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, or an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for obtaining necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, a part may have another copolymer component. As specific examples of polyvinyl alcohol, 71 to
100 mol% is hydrolyzed, and those having a molecular weight in the range of 300 to 2400 in weight average molecular weight can be mentioned. Specifically, Kuraray's PVA-105,
PVA-110, PVA-117, PVA-117H,
PVA-120, PVA-124, PVA-124H,
PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA
-203, PVA-204, PVA-205, PVA-
210, PVA-217, PVA-220, PVA-2
24, PVA-217EE, PVA-217E, PVA
-220E, PVA-224E, PVA-405, PV
A-420, PVA-613, L-8 and the like.

【0235】保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使
用)、塗布量等は、低分子物質遮断性・現像除去性の
他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。
一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層
中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚
が厚い程低分子物質遮断性が高くなり、感度の点で有利
である。しかしながら、極端に低分子物質遮断性を高め
ると、製造時、生保存時に不要な重合反応が生じたり、
また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じた
りという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐
傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性
ポリマーからなる親水性の層を親油性の重合層に積層す
ると、接着力不足による膜剥離が発生しやすい。これに
対し、これら2層間の接着性を改良すべく種々の提案が
なされている。例えば米国特許第292501号、米国
特許第44563号には、主にポリビニルアルコールか
らなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンま
たは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重
合体などを20〜60重量%混合し、重合層の上に積層
することにより、十分な接着性が得られることが記載さ
れている。本発明における保護層に対しては、これらの
公知の技術をいずれも適用することができる。このよう
な保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,
458,311号、特開昭55−49729号に詳しく
記載されている。
The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, etc. are selected in consideration of fogging property, adhesion and scratch resistance in addition to low molecular substance blocking properties and development removability. .
Generally, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of unsubstituted vinyl alcohol units in the protective layer) and the thicker the film thickness, the higher the barrier properties of low molecular substances, which is advantageous in terms of sensitivity. . However, if the low-molecular substance blocking property is extremely increased, an unnecessary polymerization reaction occurs during production or raw storage,
Further, at the time of image exposure, there is a problem that unnecessary fogging and thickening of image lines occur. Further, the adhesion to the image area and the scratch resistance are also extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on a lipophilic polymer layer, film peeling due to insufficient adhesive strength tends to occur. On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesiveness between these two layers. For example, U.S. Pat. No. 2,925,501 and U.S. Pat. No. 44,563 disclose mixing an acrylic emulsion or a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol in an amount of 20 to 60% by weight. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by laminating on a polymer layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Regarding the method of applying such a protective layer, for example, US Pat.
458, 311 and JP-A-55-49729.

【0236】さらに保護層には他の機能を付与すること
もできる。例えば、光源としてレーザー光を使用する場
合、感光性組成物としてはその光源波長での感光性には
優れるが、他の波長では感光してほしくない場合があ
る。例えば、光源が750nm以上の赤外領域のもので
あれば、実質上明室で使用することができるが、実際に
は蛍光灯の光など短波の光でも感光する場合がある。そ
の場合には、光源の光透過性に優れ、かつ700nm未
満の波長光を効率良く吸収しうる着色剤(水溶性染料
等)の添加が好ましい。また、別の例として光源が45
0nm以下の紫外領域のものであれば、実質上セーフラ
イト下で使用することができる。しかし実際には、50
0nm以上の可視光により感光する場合がある。その場
合には、光源の光透過性に優れ、かつ500nm以上の
光を効率良く吸収しうる、着色剤(水溶性染料等)の添
加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適
性をさらに高めることができる。
Further, other functions can be imparted to the protective layer. For example, when a laser beam is used as a light source, the photosensitive composition may have excellent photosensitivity at the wavelength of the light source, but may not want to be exposed at other wavelengths. For example, if the light source is in the infrared region of 750 nm or more, the light source can be used substantially in a bright room, but in practice, it may be exposed to short-wave light such as light from a fluorescent lamp. In this case, it is preferable to add a colorant (a water-soluble dye or the like) which is excellent in light transmittance of the light source and can efficiently absorb light having a wavelength of less than 700 nm. As another example, the light source is 45
If it is in the ultraviolet region of 0 nm or less, it can be used substantially under safelight. But in fact, 50
It may be exposed to visible light of 0 nm or more. In this case, the addition of a colorant (such as a water-soluble dye), which is excellent in light transmittance of the light source and can efficiently absorb light of 500 nm or more, further enhances safe light suitability without lowering sensitivity. be able to.

【0237】本発明の光重合性平版印刷版は、通常、画
像露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、
画像を得る。これらの光重合性平版印刷版から平版印刷
版の製版に使用する際の好ましい現像液としては、特公
昭57−7427号に記載されているような現像液が挙
げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アン
モニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無
機アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノー
ルアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当で
ある。このようなアルカリ溶液の濃度が0.1〜10重
量%、好ましくは0.5〜5重量%になるように添加さ
れる。
The photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention is usually subjected to image exposure and then removing the unexposed portion of the photosensitive layer with a developing solution.
Get an image. Preferable developers for use in the preparation of lithographic printing plates from these photopolymerizable lithographic printing plates include those described in JP-B-57-7427, such as sodium silicate and silicate. Potassium, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia, etc. An aqueous solution of such an inorganic alkali agent or an organic alkali agent such as monoethanolamine or diethanolamine is suitable. The alkaline solution is added so that the concentration of the alkaline solution is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight.

【0238】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フ
ェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
3375171号および同第3615480号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭5
0−26601号、同58−54341号、特公昭56
−39464号、同56−42860号の各公報に記載
されている現像液も優れている。
In addition, such an alkaline aqueous solution includes:
If necessary, a small amount of a surfactant or an organic solvent such as benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol or 2-butoxyethanol can be contained. For example, those described in U.S. Pat. Nos. 3,375,171 and 3,615,480 can be mentioned. Further, Japanese Patent Application Laid-Open
No. 0-26601, No. 58-54341, Tokubo Sho56
The developing solutions described in JP-A-39464 and JP-A-56-42860 are also excellent.

【0239】その他、本発明の光重合性平版印刷版から
の平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露
光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱し
ても良い。このような加熱により、感光層中の画像形成
反応が促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化
といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の
向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱も
しくは、全面露光を行うことも有効である。通常現像前
の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好まし
い。温度が高すぎると、非画像部までがかぶってしまう
等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を
利用する。通常は200〜500℃の範囲である。温度
が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合
には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じ
る。本発明の光重合性平版印刷版に対する露光方法は、
公知の方法を制限なく用いることができる。光源として
はレーザが好ましく。例えば、350〜450nmの波長
の入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用す
ることができる。
In addition, as a process for making a lithographic printing plate from the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention, the entire surface may be heated before exposure, during exposure, or between exposure and development, if necessary. . By such heating, an image forming reaction in the photosensitive layer is promoted, and advantages such as improvement of sensitivity and printing durability and stabilization of sensitivity can be brought about. Further, for the purpose of improving image strength and printing durability, it is also effective to post-heat or expose the entire surface of the developed image. Usually, heating before development is preferably performed under mild conditions of 150 ° C. or less. If the temperature is too high, there arises a problem that a non-image portion is covered. Very strong conditions are used for heating after development. Usually, it is in the range of 200 to 500 ° C. If the temperature is too low, a sufficient image strengthening effect cannot be obtained. If the temperature is too high, problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area occur. The exposure method for the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention,
Known methods can be used without limitation. A laser is preferred as the light source. For example, as an available laser light source having a wavelength of 350 to 450 nm, the following can be used.

【0240】ガスレーザーとして、Arイオンレーザー
(364nm、351nm、10mW〜1W)、Krイオンレ
ーザー(356nm,351nm,10mW〜1W)、He−
Cdレーザー(441nm,325nm,1mW〜100m
W)、固体レーザーとして、Nd:YAG(YVO4)と
SHG結晶×2回の組み合わせ(355mm、5mW〜1
W)、Cr:LiSAFとSHG結晶の組み合わせ(4
30nm,10mW)、半導体レーザー系として、KNbO
3、リング共振器(430nm,30mW)、導波型波長変
換素子とAlGaAs、InGaAs半導体の組み合わ
せ(380nm〜450nm、5mW〜100mW)、導波型
波長変換素子とAlGaInP、AlGaAs半導体の
組み合わせ(300nm〜350nm、5mW〜100mW)、
AlGaInN(350nm〜450nm、5mW〜30mW) その他、パルスレーザーとしてN2レーザー(337n
m、パルス0.1〜10mJ)、XeF(351nm、パ
ルス10〜250mJ) 特にこの中でAlGaInN半導体レーザー(市販In
GaN系半導体レーザー400〜410nm、5〜30mW)が
波長特性、コストの面で好適である。
As a gas laser, an Ar ion laser (364 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), a Kr ion laser (356 nm, 351 nm, 10 mW to 1 W), He-
Cd laser (441nm, 325nm, 1mW ~ 100m
W), a combination of Nd: YAG (YVO 4 ) and SHG crystal × 2 times (355 mm, 5 mW to 1
W), Cr: Combination of LiSAF and SHG crystal (4
30nm, 10mW), KNbO as a semiconductor laser system
3. Ring resonator (430 nm, 30 mW), combination of waveguide type wavelength conversion element and AlGaAs or InGaAs semiconductor (380 nm to 450 nm, 5 mW to 100 mW), combination of waveguide type wavelength conversion element and AlGaInP, AlGaAs semiconductor (300 nm to 350nm, 5mW ~ 100mW),
AlGaInN (350 nm to 450 nm, 5 mW to 30 mW) Other pulsed laser as a N 2 laser (337N
m, pulse 0.1 to 10 mJ), XeF (351 nm, pulse 10 to 250 mJ) Among them, an AlGaInN semiconductor laser (commercially available In
A GaN-based semiconductor laser (400 to 410 nm, 5 to 30 mW) is suitable in terms of wavelength characteristics and cost.

【0241】その他、450nm〜700nmの入手可
能な光源としてはAr+レーザ−(488nm)、YAG
−SHGレーザー(532nm)、He−Neレーザー
(633nm)、He―Cdレーザー、赤色半導体レー
ザー(650〜690nm)、及び700nm〜120
0nmの入手可能な光源としては半導体レーザ(800
〜850nm)、Nd−YAGレーザ(1064nm)
が好適に利用できる。その他、超高圧、高圧、中圧、低
圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キ
セノン灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ(A
rFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザーな
ど)、放射線としては電子線、X線、イオンビーム、遠
赤外線なども利用できるが、安価な点で上述の350n
m以上のレーザー光源が特に好ましい。また、露光機構
は内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方
式等のいずれでもよい。また本発明の感光層成分は高い
水溶性のものを使用することで、中性の水や弱アルカリ
水に可溶とすることもできるが、このような構成の平版
印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光-現像といった
方式を行うこともできる。
Other available light sources of 450 nm to 700 nm include Ar + laser- (488 nm), YAG
-SHG laser (532 nm), He-Ne laser (633 nm), He-Cd laser, red semiconductor laser (650-690 nm), and 700 nm-120
A semiconductor laser (800
850 nm), Nd-YAG laser (1064 nm)
Can be suitably used. Other high-pressure, high-pressure, medium-pressure, and low-pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, and ultraviolet laser lamps (A
rF excimer laser, KrF excimer laser, etc.), and as the radiation, electron beam, X-ray, ion beam, far infrared ray, etc. can be used.
m or more laser light sources are particularly preferred. The exposure mechanism may be any of an internal drum type, an external drum type, a flat bed type, and the like. The photosensitive layer component of the present invention can be made soluble in neutral water or weakly alkaline water by using a highly water-soluble one.However, a lithographic printing plate having such a configuration can be used on a printing press. After loading, a system such as exposure-development can be performed on the machine.

【0242】[0242]

【実施例】以下、実施例によって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
The present invention is not limited to these examples.

【0243】(支持体の調製)厚さ0.3mmのアルミニ
ウム板を10重量%水酸化ナトリウムに60℃で25秒
間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後20重量%
硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交
番波形電流を用いて1重量%硝酸水溶液中で300クー
ロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
引き続いて1重量%水酸化ナトリウム水溶液中に40℃
で5秒間浸漬後30重量%の硫酸水溶液中に浸漬し、6
0℃で40秒間デスマット処理した後、20重量%硫酸
水溶液中、電流密度2A/dm2において、陽極酸化皮膜
の厚さが2.7g/m2になるように、2分間陽極酸化処理
した。その表面粗さを測定したところ、0.3μm(J
IS B0601によるRa表示)であった。
(Preparation of Support) An aluminum plate having a thickness of 0.3 mm was etched by immersion in 10% by weight of sodium hydroxide at 60 ° C. for 25 seconds, washed with running water and then washed with 20% by weight.
It was neutralized and washed with nitric acid, and then washed with water. This was subjected to electrolytic surface roughening treatment in a 1% by weight nitric acid aqueous solution using a sinusoidal alternating waveform current at an anode electricity of 300 coulomb / dm 2 .
Subsequently, the mixture was placed in a 1% by weight aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C.
Immersion in 30% by weight sulfuric acid aqueous solution
After desmutting at 0 ° C. for 40 seconds, anodizing was performed for 2 minutes in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution at a current density of 2 A / dm 2 so that the thickness of the anodic oxide film was 2.7 g / m 2 . The surface roughness was measured to be 0.3 μm (J
Ra display according to IS B0601).

【0244】このように処理された基板の裏面に下記の
ゾル−ゲル反応液をバーコーターで塗布し100℃で1
分間乾燥し、乾燥後の塗布量が70mg/m2のバックコー
ト層を設けた支持体を作成した。
The following sol-gel reaction solution was applied to the back surface of the substrate thus treated with a bar coater,
The support was then provided with a back coat layer having an applied amount of 70 mg / m 2 after drying.

【0245】 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 50重量部 水 20重量部 メタノール 15重量部 リン酸 0.05重量部Sol-gel reaction liquid Tetraethyl silicate 50 parts by weight Water 20 parts by weight Methanol 15 parts by weight Phosphoric acid 0.05 parts by weight

【0246】上記成分を混合、撹拌すると約5分で発熱
が開始した。60分間反応させた後以下に示す液を加え
ることによりバックコート塗布液を調製した。
When the above components were mixed and stirred, exotherm started in about 5 minutes. After reacting for 60 minutes, the following solution was added to prepare a back coat coating solution.

【0247】 ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂(分子量2000) 4重量部 ジメチルフタレート 5重量部 フッ素系界面活性剤(N−ブチルペルフルオロオクタン 0.7重量部 スルホンアミドエチルアクリレート/ポリオキシエチレン アクリレート共重合体:分子量2万) メタノールシリカゾル(日産化学工業(株)製、メタノール30重量%) 50重量部 メタノール 800重量部Pyrogallol formaldehyde condensation resin (molecular weight: 2000) 4 parts by weight Dimethyl phthalate 5 parts by weight Fluorinated surfactant (N-butyl perfluorooctane 0.7 parts by weight) Sulfonamide ethyl acrylate / polyoxyethylene acrylate copolymer: molecular weight 2 10,000) Methanol silica sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., methanol 30% by weight) 50 parts by weight Methanol 800 parts by weight

【0248】(感光層の調製)このように処理されたア
ルミニウム板上に下記組成の感光層形成溶液を乾燥塗布
量が1.5g/m2となるように塗布し、100℃で1
分間乾燥させ感光層を形成させた。
(Preparation of photosensitive layer) A solution for forming a photosensitive layer having the following composition was applied on the aluminum plate treated in this manner so that the dry coating amount was 1.5 g / m 2 ,
After drying for a minute, a photosensitive layer was formed.

【0249】 (感光層形成溶液) 下記表−7の光重合開始剤[X] 0.25g 下記表−7の増感色素[Y] 0.2 g 下記表−7の高分子バインダー[Z] 2.0 g 下記表−7の重合性化合物[R] 1.6 g 下記表−7の添加剤[S] 0.22g フッ素系界面活性剤 0.03g (メカ゛ファックF-177:大日本インキ化学工業(株)製) 熱重合禁止剤 0.01g N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミシアルミニウム塩 顔料分散物 2.0 g 顔料分散物の組成 Pigment Blue 15:6 15重量部 アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 10重量部 (共重合モル比83/17) シクロヘキサノン 15重量部 メトキシプロピルアセテート 20重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 40重量部 メチルエチルケトン 20 g プロピレングリコールモノメチルエーテル 20 g(Sensitive layer forming solution) 0.25 g of photopolymerization initiator [X] in Table 7 below 0.2 g of sensitizing dye [Y] in Table 7 below 0.2 g of polymer binder [Z] of Table 7 below 2.0 g Polymerizable compound [R] in Table 7 below 1.6 g Additive [S] in Table 7 below 0.22 g Fluorosurfactant 0.03 g (Mechanical Fac F-177: Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.) Thermal polymerization inhibitor 0.01 g N-nitrosophenylhydroxylamici aluminum salt Pigment dispersion 2.0 g Composition of pigment dispersion Pigment Blue 15: 6 15 parts by weight Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer Combined 10 parts by weight (copolymerization molar ratio 83/17) Cyclohexanone 15 parts by weight Methoxypropyl acetate 20 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether 40 parts by weight Methyl ethyl ketone 20 g Pro Glycol monomethyl ether 20 g

【0250】(保護層の調整)上述の感光層上にポリビ
ニルアルコール(ケン化度98モル%、重合度550)
の3重量%の水溶液を乾燥塗布重量が2g/m2となる
ように塗布し、100℃で2分間乾燥し、下記表−7の
光重合性平版印刷版(感材)を作製した。
(Adjustment of Protective Layer) Polyvinyl alcohol (degree of saponification: 98 mol%, degree of polymerization: 550) was formed on the above-mentioned photosensitive layer.
Was applied so that the dry coating weight was 2 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 2 minutes to produce a photopolymerizable lithographic printing plate (sensitive material) shown in Table 7 below.

【0251】[0251]

【表17】 [Table 17]

【0252】なお、感光層に用いる光重合開始剤
〔X〕、増感色素〔Y〕、高分子バインダー〔Z〕、重
合性化合物〔R〕、添加剤〔S〕を以下に示す。
The photopolymerization initiator [X], sensitizing dye [Y], polymer binder [Z], polymerizable compound [R], and additive [S] used in the photosensitive layer are shown below.

【0253】[0253]

【化84】 Embedded image

【0254】[0254]

【化85】 Embedded image

【0255】[0255]

【化86】 Embedded image

【0256】[0256]

【表18】 [Table 18]

【0257】(感度の評価)このように得られた感材
は、上記表−7に示す露光波長に応じたそれぞれ異なる
光源を利用し、感度評価を行った。即ち、400nmの
半導体レーザー、532nmのFD−YAGレーザー、
830nmの半導体レーザーをそれぞれ用い大気中で露
光した。露光した各感材を下記組成の現像液に25℃、
10秒間浸漬し、現像を行い、画像ができるその最小露
光量からそれぞれの露光条件での感度をmJ/cm2単位で算
出した。この数値が小さい方が高感度である。但し、光
源波長が違うと光子1つ当たりが有するエネルギー量が
異なるため、単純に考えても通常は短波になるほど上述
の露光量が少なくても感光することが可能となり、短波
の方が高感度となる。従って、下記表−8は、異なる露
光条件間での感度比較には意味がなく、あくまでも同一
露光条件での実施例と比較例での差をみるためのもので
ある。結果を下記表−8に示す。 (現像液の組成) DP−4(富士写真フイルム社製) 65.0g 水 880.0g リポミンLA(20%水溶液、ライオン(株)社製) 50.0g
(Evaluation of Sensitivity) The sensitizing materials thus obtained were subjected to sensitivity evaluation using different light sources according to the exposure wavelengths shown in Table 7 above. That is, a 400 nm semiconductor laser, a 532 nm FD-YAG laser,
Exposure was performed in the air using an 830 nm semiconductor laser. Each exposed light-sensitive material was added to a developer having the following composition at 25 ° C.
Immersion was performed for 10 seconds, development was performed, and the sensitivity under each exposure condition was calculated in mJ / cm 2 from the minimum exposure amount at which an image was formed. The smaller the value, the higher the sensitivity. However, if the wavelength of the light source is different, the amount of energy per photon is different. Therefore, even if it is simply considered, the shorter the wavelength is, the more sensitive it is to be able to sensitize even if the above exposure amount is smaller. Becomes Therefore, Table 8 below is meaningless for comparing the sensitivity under different exposure conditions, and is merely to see the difference between the example and the comparative example under the same exposure condition. The results are shown in Table 8 below. (Composition of developer) DP-4 (Fuji Photo Film Co., Ltd.) 65.0 g Water 880.0 g Lipomin LA (20% aqueous solution, manufactured by Lion Corporation) 50.0 g

【0258】(保存安定性の評価)レーザ露光前の上記
感光材料を高温条件下(60℃)に3日間放置し、その
後この保存後の感材を前記と同様にレーザ露光し記録に
必要なエネルギー量を算出し、高温保存前後のエネルギ
ー比(高温保存後のエネルギー/高温保存前のエネルギ
ー)を求めた。このエネルギー比が1.1以下であるこ
とが製造上好ましく保存安定性においても良好といえ
る。この評価結果も下記表−8に示す。 (明室安定性)上述の塗布感材を蛍光灯にOD6以上で
450nm以下をカットできるフィルターをつけた黄色
または黄橙色光に200ルクスで、30分間曝した後に
感度評価を行う。感度変化が感度比で1.0〜1.1倍
までのものを許容とする。結果を下記表−8に示す。
(Evaluation of Storage Stability) The above-mentioned photosensitive material before laser exposure was left under high-temperature conditions (60 ° C.) for 3 days, and thereafter, the photosensitive material after storage was exposed to laser in the same manner as described above to perform recording. The energy amount was calculated, and the energy ratio before and after high-temperature storage (energy after high-temperature storage / energy before high-temperature storage) was determined. It is preferable in terms of production that the energy ratio is 1.1 or less, and it can be said that storage stability is also good. The evaluation results are also shown in Table 8 below. (Brightroom Stability) The sensitivity is evaluated after exposing the above coated photographic material to a fluorescent lamp at 200 lux for 30 minutes to yellow or yellow-orange light with a filter capable of cutting OD6 or more and 450 nm or less. A change in sensitivity of 1.0 to 1.1 times in sensitivity ratio is allowed. The results are shown in Table 8 below.

【0259】[0259]

【表19】 [Table 19]

【0260】上記表−8より本発明の光重合性平版印刷
版は高感度であり、かつ保存安定性が非常に良好である
ことがわかる。また、400nm及び830nm露光系
では、さらに明室化も良好である。
From Table 8 above, it can be seen that the photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention has high sensitivity and very good storage stability. In the 400 nm and 830 nm exposure systems, the bright room is further improved.

【0261】[0261]

【発明の効果】本発明の光重合性平版印刷版は、重合性
化合物として脂肪族重合性化合物と芳香族重合性化合物
の2種を含有することにより、どのような光重合開始剤
を用いた場合においても感光層中での相溶性が良好であ
り、特に分子内に芳香族環を4つ以上含有する光重合開
始剤を用いた場合においても良好な相溶性を示し、高感
度で、保存安定性及び明室取り扱い性を良好にすること
ができる。
The photopolymerizable lithographic printing plate of the present invention contains two types of polymerizable compounds, an aliphatic polymerizable compound and an aromatic polymerizable compound. In this case, the compatibility in the photosensitive layer is good, and even when a photopolymerization initiator containing four or more aromatic rings in the molecule is used, good compatibility is exhibited. Stability and light room handling can be improved.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/038 G03F 7/038 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AB03 AC01 AC08 AD01 BC31 BC51 BC83 CA01 CA14 CA18 CA28 CA39 CA43 CA50 DA18 FA03 FA17 2H096 AA00 AA08 BA05 BA06 BA20 CA20 EA02 EA04 GA08 4J011 QA02 QA03 QA06 QA13 QA17 QA18 QA22 QA23 QA24 QA32 QA33 QA35 QA39 QA45 QA46 QB15 QB16 QB19 SA21 SA73 SA76 SA78 SA85 SA87 UA01 UA02 UA06 WA01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G03F 7/038 G03F 7/038 F term (Reference) 2H025 AA00 AA01 AB03 AC01 AC08 AD01 BC31 BC51 BC83 CA01 CA14 CA18 CA28 CA39 CA43 CA50 DA18 FA03 FA17 2H096 AA00 AA08 BA05 BA06 BA20 CA20 EA02 EA04 GA08 4J011 QA02 QA03 QA06 QA13 QA17 QA18 QA22 QA23 QA24 QA32 QA33 QA35 QA39 QA45 QA46 QB15 QB16 SA871 SABSA

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルミニウム支持体上に、光重合開始剤
と重合性化合物として脂肪族重合性化合物および芳香族
重合性化合物の2種とを含有する感光層を有することを
特徴とする光重合性平版印刷版。
1. A photopolymerizable composition comprising, on an aluminum support, a photosensitive layer containing a photopolymerization initiator and two kinds of polymerizable compounds, an aliphatic polymerizable compound and an aromatic polymerizable compound. Lithographic printing plate.
【請求項2】 前記光重合開始剤が分子内に芳香族環を
4つ以上含有する開始剤であることを特徴とする請求項
1記載の光重合性平版印刷版。
2. The photopolymerizable lithographic printing plate according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator is an initiator containing four or more aromatic rings in a molecule.
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