JP2000228447A - Semiconductor integrated circuit design device, its wiring control method and memory medium wherein wiring control program is stored - Google Patents

Semiconductor integrated circuit design device, its wiring control method and memory medium wherein wiring control program is stored

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JP2000228447A
JP2000228447A JP11028530A JP2853099A JP2000228447A JP 2000228447 A JP2000228447 A JP 2000228447A JP 11028530 A JP11028530 A JP 11028530A JP 2853099 A JP2853099 A JP 2853099A JP 2000228447 A JP2000228447 A JP 2000228447A
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semiconductor integrated
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a design device of a semiconductor integrated circuit which carries out wiring not to exceed the total wiring capacity decided arbitrarily by calculating the total wiring capacity and carrying out wiring while recognizing it. SOLUTION: This device 10 has a three-dimensional region setting part 12 which sets a three-dimensional region for carrying out wiring for each wiring to a semiconductor integrated circuit which is a design object, a priority decision part 13 which decides the order of priority of wiring operation of each wiring arbitrarily, a total wiring capacity decision part 14 which decides the total wiring capacity for each wiring arbitrarily, a layout execution part 15 which carries out wiring operation for each set three-dimensional region according to the set priority, and a layout evaluation part 16 which evaluates wiring result whenever the layout execution part 15 completes wiring operation to one three-dimensional region and controls the total wiring capacity of each wiring not to exceed the predetermined total wiring capacity.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
設計装置に関し、特に半導体集積回路内に含まれる配線
容量を任意の値に設定可能な半導体集積回路設計装置及
びその配線制御方法並びに配線制御プログラムを格納し
た記憶媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit designing apparatus, and more particularly to a semiconductor integrated circuit designing apparatus capable of setting a wiring capacitance included in a semiconductor integrated circuit to an arbitrary value, a wiring control method thereof, and a wiring control. The present invention relates to a storage medium storing a program.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路の設計におけるトランジ
スタ配置及び配線作業は、設計対象である半導体集積回
路の設計基準に基づいて定められたトランジスタ寸法、
配線幅、コンタクトの大きさなどのレイアウトを表すデ
ータ(以下、レイアウトデータと称す)を用いて、最初
にトランジスタ回路の配置を行い、次いで当該トランジ
スタに対応する各配線作業(結線)を行う。そして、配
線作業の完了後に、各トランジスタの出力側に接続され
ている配線負荷を計算する。配線負荷の算出方法として
は、例えば特許番号第2800881号公報に開示され
るように、半導体集積回路におけるトランジスタの配置
及び配線を行う領域(以下、レイアウト領域と称す)を
3次元領域(立体)で扱うことにより、正確に算出する
ことが可能である。
2. Description of the Related Art Transistor arrangement and wiring work in the design of a semiconductor integrated circuit include transistor dimensions determined based on the design criteria of the semiconductor integrated circuit to be designed.
First, a transistor circuit is arranged using data representing a layout such as a wiring width and a contact size (hereinafter, referred to as layout data), and then each wiring operation (connection) corresponding to the transistor is performed. Then, after the completion of the wiring work, a wiring load connected to the output side of each transistor is calculated. As a method of calculating the wiring load, as disclosed in, for example, Japanese Patent No. 2800881, a region where a transistor is arranged and wired in a semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as a layout region) is a three-dimensional region (three-dimensional). By handling, it is possible to calculate accurately.

【0003】次に、算出された配線負荷に基づいて、各
トランジスタに対応する所望の動作遅延時間を満足する
配線容量であるか否かを確認する。この確認操作におい
て、所望の動作遅延時間を満足する配線容量であること
が確認された場合は、当該配置、配線作業を終了する。
Next, based on the calculated wiring load, it is confirmed whether or not the wiring capacity satisfies a desired operation delay time corresponding to each transistor. In this confirmation operation, if it is confirmed that the wiring capacity satisfies the desired operation delay time, the placement and wiring work are terminated.

【0004】一方、所望の動作遅延時間を満足する配線
容量でないことが確認された場合は、トランジスタの配
置またはトランジスタ配置後の配線から再度作業を行
う。そして、所望の動作遅延時間を満足する配線容量に
なるまで、繰り返して配置、配線作業を行うことが必要
となる。
On the other hand, if it is confirmed that the wiring capacitance does not satisfy the desired operation delay time, the operation is performed again from the arrangement of the transistors or the wiring after the transistors are arranged. Then, it is necessary to repeatedly perform the placement and wiring work until the wiring capacity satisfies the desired operation delay time.

【0005】このように、所望の動作遅延時間を満足す
る配線容量が得られない原因としては、配線容量が小さ
すぎる場合と大きすぎる場合とがある。現在の微細化が
著しいディープサブミクロン以降のプロセスにおいて
は、配線間の寄生配線容量が著しく増大している。この
ため、所望の動作遅延時間を満足する配線容量が得られ
ない場合のほとんどは、配線容量が大きすぎることによ
り発生している。
As described above, the reason why the wiring capacitance satisfying the desired operation delay time cannot be obtained is that the wiring capacitance is too small or too large. In the process of the deep submicron or smaller, which is currently remarkably miniaturized, the parasitic wiring capacitance between wirings is significantly increased. For this reason, most cases where a wiring capacitance satisfying a desired operation delay time cannot be obtained are caused by an excessively large wiring capacitance.

【0006】このような配置、配線作業の繰り返しは、
開発期間の増大を招来するため、開発期間の短縮化が要
請されている半導体集積回路、特にセルベースICを含
むASIC等において、好ましくなかった。
[0006] The repetition of such arrangement and wiring work is as follows.
This is not preferable for a semiconductor integrated circuit, which is required to be shortened in development time, particularly in an ASIC including a cell-based IC, because the development time is increased.

【0007】また、一般の半導体集積回路においても、
各トランジスタの信号配線スキュー、特にクロックドラ
イバの信号配線スキューなどが発生すると、動作遅延時
間における重大な欠陥となる。しかし、従来の半導体集
積回路におけるトランジスタの配置、配線方法では、配
置、配線作業時に当該信号配線スキューを排除すること
は非常に困難であった。
In a general semiconductor integrated circuit,
If a signal wiring skew of each transistor, particularly a signal wiring skew of a clock driver or the like occurs, it becomes a serious defect in the operation delay time. However, in the conventional method of arranging and wiring transistors in a semiconductor integrated circuit, it is very difficult to eliminate the signal wiring skew during the work of arranging and wiring.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の半導体集積回路におけるトランジスタの配置及び配線
方法は、当該方法により配置及び配線されたトランジス
タの動作タイミングが、所望の動作遅延時間を満足しな
い場合、トランジスタの配置作業または配線作業に戻
り、所望の動作遅延時間を満足する状態が得られるま
で、繰り返して作業を行うことが必要であった。そのた
め、配置、配線作業に要する時間が増大して、半導体集
積回路の開発期間または設計期間が長くなるという欠点
があった。
As described above, in the conventional method of arranging and wiring transistors in a semiconductor integrated circuit, the operation timing of transistors arranged and wired by the method does not satisfy a desired operation delay time. In this case, it is necessary to return to the operation of arranging or wiring the transistors and repeat the operation until a state satisfying the desired operation delay time is obtained. Therefore, there is a disadvantage that the time required for the arrangement and wiring work increases, and the development period or design period of the semiconductor integrated circuit becomes longer.

【0009】また、従来の配置、配線方法によって、動
作遅延時間を満足する配線容量が得られない場合、半導
体集積回路において、各トランジスタの信号遅延のスキ
ュー、特にクロックドライバの信号遅延のスキューなど
が発生すると、動作遅延時間における重大な欠陥となる
という欠点があった。
In addition, when a wiring capacity that satisfies the operation delay time cannot be obtained by the conventional arrangement and wiring method, the skew of the signal delay of each transistor in the semiconductor integrated circuit, particularly the skew of the signal delay of the clock driver, etc. If it occurs, there is a drawback that it becomes a serious defect in the operation delay time.

【0010】さらに、従来の配置、配線方法において、
再度配置、配線作業を行う際に、所望の動作遅延時間を
満足しない配線容量の配線のみを対象として、配線容量
を削減するため、他の近接の信号配線を引き離して作業
しようとしても、近年における半導体集積回路の高集積
度化により、当該信号配線以外のトランジスタ、信号配
線、電源線及び接地線等の配置関係の状態によっては、
対象となる配線の配線可能な場所を確保することができ
ないという欠点があった。
Further, in the conventional arrangement and wiring method,
When performing the re-arrangement and the wiring work again, in order to reduce the wiring capacity only for wiring having a wiring capacity that does not satisfy the desired operation delay time, even if an attempt is made to work by separating other nearby signal wirings, it is difficult in recent years. Due to the increase in the degree of integration of the semiconductor integrated circuit, depending on the state of the arrangement relationship of the transistors other than the signal wiring, the signal wiring, the power supply line, the ground line, and the like,
There is a disadvantage that a place where the target wiring can be routed cannot be secured.

【0011】本発明の目的は、上記従来の欠点を解決
し、総配線容量を算出し、且つ確認しながら配線を行う
ことにより、任意に決定された総配線容量を超えないよ
うに配線を行う半導体集積回路の設計装置及びその配線
制御方法並びに配線制御プログラムを格納した記憶媒体
を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional drawbacks, perform wiring while calculating and confirming the total wiring capacity, and perform wiring so as not to exceed an arbitrarily determined total wiring capacity. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit design device, a wiring control method thereof, and a storage medium storing a wiring control program.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する本
発明は、半導体集積回路の設計過程におけるトランジス
タの配置及び配線作業を行う半導体集積回路設計装置に
おいて、設計対象である前記半導体集積回路に対して、
各配線ごとに、該配線を行うための3次元領域を、該配
線を該3次元領域の少なくとも所定の2次元方向の中心
に位置するように設定する3次元領域設定手段と、前記
各配線の配線作業の優先順位を任意に決定する優先順位
決定手段と、前記配線ごとの総配線容量を任意に決定す
る総配線容量決定手段と、前記優先順位決定手段により
決定された優先順位に従って、前記3次元領域設定手段
により設定された3次元領域ごとに配線作業を行う配線
実行手段と、前記配線実行手段が1つの前記3次元領域
に対する配線作業を完了するたびに、該配線結果を評価
する配線評価手段とを備え、前記配線評価手段が、該配
線作業の行われた前記3次元領域に、該配線作業に係る
配線よりもさらに優先順位の高い配線がすでになされて
いるかどうか判定し、該優先順位の高い配線がある場合
に、該配線作業の行われた前記3次元領域内に存在する
全ての配線の総配線容量を計算し、算出結果に基づい
て、さらに配線作業を継続することによって、前記総配
線容量決定手段により決定された総配線容量を超えてし
まう配線があるかどうかを調べ、そのような配線がある
場合に、該配線を含む全ての3次元領域における未配線
部分を配線禁止とすることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides a semiconductor integrated circuit designing apparatus for arranging and wiring transistors in a process of designing a semiconductor integrated circuit. for,
Three-dimensional area setting means for setting, for each wiring, a three-dimensional area for performing the wiring such that the wiring is located at least at the center of the three-dimensional area in a predetermined two-dimensional direction; The priority determining means for arbitrarily determining the priority of the wiring work, the total wiring capacity determining means for arbitrarily determining the total wiring capacity for each of the wirings, and the third order according to the priority determined by the priority determining means. A wiring executing means for performing a wiring operation for each three-dimensional area set by the three-dimensional area setting means; and a wiring evaluation for evaluating the wiring result each time the wiring executing means completes a wiring operation for one of the three-dimensional areas. Means for determining whether or not wiring having a higher priority than wiring related to the wiring work has already been made in the three-dimensional area where the wiring work has been performed. When there is a wiring with a higher priority, the total wiring capacity of all the wirings existing in the three-dimensional area where the wiring work has been performed is calculated, and the wiring work is further continued based on the calculation result. In this way, it is checked whether or not there is a wiring that exceeds the total wiring capacity determined by the total wiring capacity determination means. If there is such a wiring, an unwired portion in all three-dimensional regions including the wiring is determined. Are prohibited from wiring.

【0013】請求項2の本発明の半導体集積回路設計装
置は、前記優先順位決定手段及び前記総配線容量決定手
段が、設計対象である半導体集積回路における全ての配
線に対して、または特に総配線容量が制限される特定の
配線に対して前記優先順位及び前記総配線容量を決定す
ることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit designing apparatus, the priority order determining means and the total wiring capacity determining means are provided for all wirings in the semiconductor integrated circuit to be designed, or in particular for total wirings. The priority order and the total wiring capacity are determined for a specific wiring whose capacity is limited.

【0014】上記の目的を達成する他の本発明は、半導
体集積回路の設計過程におけるトランジスタの配置及び
配線作業を行う半導体集積回路設計装置による配線制御
方法において、設計対象である前記半導体集積回路に対
して、各配線ごとに、該配線を行うための3次元領域
を、該配線を該3次元領域の少なくとも所定の2次元方
向の中心に位置するように設定するステップと、前記各
配線の配線作業の優先順位を任意に決定するステップ
と、前記配線ごとの総配線容量を任意に決定するステッ
プと、前記優先順位決定ステップにより決定された優先
順位にしたがって、前記3次元領域設定ステップにより
設定された3次元領域ごとに配線作業を行うステップ
と、前記配線実行ステップが1つの前記3次元領域に対
する配線作業を完了するたびに、該配線結果を評価する
ステップとを含み、前記配線評価ステップが、該配線作
業の行われた前記3次元領域に、該配線作業に係る配線
よりもさらに優先順位の高い配線がすでになされている
かどうか判定するステップと、該優先順位の高い配線が
ある場合に、該配線作業の行われた前記3次元領域内に
存在する全ての配線の総配線容量を計算するステップ
と、算出結果に基づいて、さらに配線作業を継続するこ
とによって前記総配線容量決定手段によって決定された
総配線容量を超えてしまう配線があるかどうかを調べる
ステップと、そのような配線がある場合に、該配線を含
む全ての3次元領域における未配線部分を配線禁止とす
るステップとを含むことを特徴とする。
Another object of the present invention to achieve the above object is to provide a wiring control method by a semiconductor integrated circuit designing apparatus for arranging and wiring transistors in a process of designing a semiconductor integrated circuit. On the other hand, for each wiring, setting a three-dimensional area for performing the wiring so that the wiring is located at least at the center of the three-dimensional area in a predetermined two-dimensional direction; The step of arbitrarily determining the priority of the work, the step of arbitrarily determining the total wiring capacitance for each wiring, and the step of setting by the three-dimensional area setting step according to the priority determined by the step of determining priority. Performing a wiring operation for each of the three-dimensional regions, and completing the wiring operation for one of the three-dimensional regions. And a step of evaluating the wiring result, wherein the wiring evaluation step is such that wiring having a higher priority than wiring related to the wiring work has already been made in the three-dimensional area where the wiring work has been performed. Judging whether or not there is a high-priority wiring, calculating a total wiring capacity of all the wirings present in the three-dimensional area where the wiring work has been performed, and Checking whether there is any wiring that exceeds the total wiring capacity determined by the total wiring capacitance determining means by continuing the wiring work. Prohibiting wiring of unwired portions in all three-dimensional regions.

【0015】請求項4の本発明の配線制御方法は、前記
優先順位決定ステップ及び前記総配線容量決定ステップ
において、設計対象である半導体集積回路における全て
の配線に対して、または特に総配線容量が制限される特
定の配線に対して前記優先順位及び前記総配線容量を決
定することを特徴とする。
In the wiring control method according to a fourth aspect of the present invention, in the priority order determining step and the total wiring capacitance determining step, the total wiring capacitance of all the wirings in the semiconductor integrated circuit to be designed, or particularly, the total wiring capacitance is determined. The priority order and the total wiring capacity are determined for a specific wiring to be restricted.

【0016】上記の目的を達成するさらに他の本発明
は、半導体集積回路の設計過程におけるトランジスタの
配置及び配線作業を行う半導体集積回路設計装置を制御
して配線制御を行う配線制御プログラムを格納した記憶
媒体において、設計対象である前記半導体集積回路に対
して、各配線ごとに、該配線を行うための3次元領域
を、該配線を該3次元領域の少なくとも所定の2次元方
向の中心に位置するように設定するステップと、前記各
配線の配線作業の優先順位を任意に決定するステップ
と、前記配線ごとの総配線容量を任意に決定するステッ
プと、前記優先順位決定ステップにより決定された優先
順位にしたがって、前記3次元領域設定ステップにより
設定された3次元領域ごとに配線作業を行うステップ
と、前記配線実行ステップが1つの前記3次元領域に対
する配線作業を完了するたびに、該配線結果を評価する
ステップとを含み、前記配線評価ステップが、該配線作
業の行われた前記3次元領域に、該配線作業に係る配線
よりもさらに優先順位の高い配線がすでになされている
かどうか判定するステップと、該優先順位の高い配線が
ある場合に、該配線作業の行われた前記3次元領域内に
存在する全ての配線の総配線容量を計算するステップ
と、算出結果に基づいて、さらに配線作業を継続するこ
とによって前記総配線容量決定手段によって決定された
総配線容量を超えてしまう配線があるかどうかを調べる
ステップと、そのような配線がある場合に、該配線を含
む全ての3次元領域における未配線部分を配線禁止とす
るステップとを含むことを特徴とする。
Still another object of the present invention to achieve the above object is to store a wiring control program for controlling a semiconductor integrated circuit designing apparatus which performs a transistor arranging and wiring operation in a semiconductor integrated circuit designing process and performs wiring control. In the storage medium, with respect to the semiconductor integrated circuit to be designed, for each wiring, a three-dimensional area for performing the wiring is positioned at least at a center of the three-dimensional area in a predetermined two-dimensional direction. Setting, the step of arbitrarily determining the priority of the wiring work of each wiring, the step of arbitrarily determining the total wiring capacity of each wiring, and the priority determined by the priority determining step Performing a wiring operation for each of the three-dimensional regions set in the three-dimensional region setting step in accordance with the order; Evaluating the wiring result each time the wiring operation for one of the three-dimensional regions is completed, wherein the wiring evaluation step includes the step of: A step of determining whether or not a wiring with a higher priority than the wiring has already been made; and, if there is a wiring with a higher priority, all the wirings existing in the three-dimensional area where the wiring work has been performed. Calculating the total wiring capacity; and, based on the calculation result, checking whether there is any wiring that exceeds the total wiring capacity determined by the total wiring capacity determining means by continuing the wiring work, When there is such a wiring, a step of prohibiting the wiring of an unwired portion in all three-dimensional areas including the wiring is included.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0018】図1は、本発明の一実施形態による半導体
集積回路設計装置の構成を示すブロック図である。図1
を参照すると、本実施形態の半導体集積回路設計装置1
0は、すでにトランジスタの配置が完了した設計対象で
ある半導体集積回路のレイアウトデータを格納した第1
のレイアウトデータ記憶部11と、設計対象である半導
体集積回路に対する配線に関する条件を決定する3次元
領域設定部12、優先順位決定部13及び総配線容量決
定部14と、決定された配線条件に基づいて配線作業を
実行するレイアウト実行部15と、レイアウト実行部1
5による配線結果を評価するレイアウト評価部16と、
配線が完了したレイアウトデータを格納する第2のレイ
アウトデータ記憶部17とを備える。なお、図1には本
実施形態における特徴的な構成のみを記載し、他の一般
的な構成については記載を省略してある。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit designing apparatus according to one embodiment of the present invention. FIG.
Referring to FIG. 1, a semiconductor integrated circuit design device 1 of the present embodiment
0 is the first stored layout data of the semiconductor integrated circuit to be designed whose transistor arrangement has already been completed.
A layout data storage unit 11, a three-dimensional area setting unit 12, a priority order determination unit 13, and a total wiring capacity determination unit 14 that determine conditions related to wiring for a semiconductor integrated circuit to be designed, based on the determined wiring conditions. And a layout executing unit 15 for executing wiring work
5, a layout evaluation unit 16 for evaluating a wiring result according to
A second layout data storage unit for storing layout data for which wiring has been completed. FIG. 1 shows only the characteristic configuration of the present embodiment, and the description of other general configurations is omitted.

【0019】本実施形態の半導体集積回路設計装置10
は、例えばパーソナルコンピュータやワークステーショ
ン、その他のコンピュータシステムにて実現され、3次
元領域設定部12、優先順位決定部13、総配線容量決
定部14、レイアウト実行部15及びレイアウト評価部
16は、コンピュータプログラムにて制御されたCPU
とRAMその他の内部メモリとで実現される。また、第
1、第2のレイアウトデータ記憶部11、17は、RA
Mその他の内部メモリや磁気ディスク装置その他の外部
記憶層t9で実現される。CPUを制御するコンピュー
タプログラムは、磁気ディスクや光ディスク、半導体メ
モリ、その他の一般的な記憶媒体に格納して提供され、
コンピュータシステムの内部メモリにロードされてCP
Uを制御することにより、各構成要素の機能を実行す
る。
The semiconductor integrated circuit designing apparatus 10 of the present embodiment
Is realized by, for example, a personal computer, a workstation, or another computer system. The three-dimensional area setting unit 12, the priority order determination unit 13, the total wiring capacity determination unit 14, the layout execution unit 15, and the layout evaluation unit 16 CPU controlled by program
And a RAM or other internal memory. The first and second layout data storage units 11 and 17 store RA
M and other internal memories, a magnetic disk drive and other external storage layers t9. A computer program for controlling the CPU is provided by being stored in a magnetic disk, an optical disk, a semiconductor memory, and other general storage media.
CP loaded into the internal memory of the computer system
By controlling U, the function of each component is executed.

【0020】第1のレイアウトデータ記憶部11には、
設計対象である半導体集積回路におけるすでにトランジ
スタの配置が完了したレイアウトデータが格納されてい
る。当該レイアウトデータの作成は、従来から行われて
いる種々の方法を用いることができる。
The first layout data storage unit 11 stores
The layout data in which the arrangement of the transistors in the semiconductor integrated circuit to be designed is already completed is stored. The layout data can be created by using various methods conventionally used.

【0021】3次元領域設定部12は、設計対象である
半導体集積回路に対して、配線を行う3次元領域を設定
する。当該3次元領域は、当該半導体集積回路における
各配線ごとに、当該配線を当該3次元領域の少なくとも
所定の2次元方向の中心に位置するように設定される。
The three-dimensional area setting unit 12 sets a three-dimensional area for wiring in a semiconductor integrated circuit to be designed. The three-dimensional area is set for each wiring in the semiconductor integrated circuit so that the wiring is located at least at the center of the three-dimensional area in a predetermined two-dimensional direction.

【0022】優先順位決定部13は、各配線の配線作業
における優先順位を決定する。すなわち、優先順位決定
部13により決定された優先順位にしたがって、順番に
配線作業が行われる。優先順位は、ユーザが任意に決定
することができる。
The priority determining unit 13 determines the priority of each wiring in the wiring work. That is, the wiring work is performed in order according to the priority determined by the priority determining unit 13. The priority can be arbitrarily determined by the user.

【0023】総配線容量決定部14は、配線ごとの総配
線容量を決定する。各配線の総配線容量は、ユーザが任
意に決定することができる。また、各配線の総配線容量
の値は、配線一本につき1つの値を設定しても良いし、
ある程度の幅(適性範囲)を持たせて複数の値を設定し
ても良い。
The total wiring capacity determination unit 14 determines the total wiring capacity for each wiring. The user can arbitrarily determine the total wiring capacitance of each wiring. Also, the value of the total wiring capacitance of each wiring may be set to one value for each wiring,
A plurality of values may be set with a certain width (suitable range).

【0024】なお、配線の優先順位及び総配線容量は、
設計対象である半導体集積回路における全ての配線に対
して決定しても良いし、特に総配線容量が制限される特
定の配線に対してのみ決定しても良い。
The wiring priority and the total wiring capacity are as follows:
The determination may be made for all the wirings in the semiconductor integrated circuit to be designed, or may be made particularly for a specific wiring whose total wiring capacitance is limited.

【0025】レイアウト実行部15は、優先順位決定部
13にて決定された優先順位にしたがって、設計対象で
ある半導体集積回路に対する配線作業を行う。配線作業
は、3次元領域設定部12により半導体集積回路上に設
定された3次元領域ごとに行う。また、レイアウト実行
部15は、まず、最も優先順位の高い配線に関して配線
作業を行う。次に、残りの配線のうち、優先順位の高い
配線から順に配線作業を行う。この際、1つの3次元領
域に対する配線作業が完了するたびに、レイアウト評価
部16による評価に移行する。
The layout execution unit 15 performs wiring work for the semiconductor integrated circuit to be designed according to the priority determined by the priority determination unit 13. The wiring work is performed for each three-dimensional area set on the semiconductor integrated circuit by the three-dimensional area setting unit 12. The layout execution unit 15 first performs a wiring operation on the wiring having the highest priority. Next, among the remaining wirings, wiring work is performed in order from the wiring having the highest priority. At this time, every time the wiring work for one three-dimensional area is completed, the process shifts to the evaluation by the layout evaluation unit 16.

【0026】レイアウト評価部16は、レイアウト実行
部15による3次元領域に対する配線作業の適否を評価
する。具体的には、まず、配線作業の行われた3次元領
域に対して、当該配線よりもさらに優先順位の高い配線
がすでになされているかどうかを判定する。当該3次元
領域内に当該配線よりも優先順位の高い配線が存在する
場合、当該3次元領域内に存在する全ての配線、すなわ
ち当該配線と当該3次元領域に既に存在していた当該配
線よりも優先順位の高い全ての配線とに関して、それぞ
れ総配線容量を計算する。そして、各配線の総配線容量
の算出結果に基づいて、さらに配線作業を継続すること
によって総配線容量決定部14にて決定された総配線容
量を超えてしまう配線があるかどうか調べる。そのよう
な配線がある場合、当該配線を含む全ての3次元領域に
おける未配線部分を配線禁止として、処理をレイアウト
実行部15に戻す。
The layout evaluation unit 16 evaluates whether the layout execution unit 15 performs wiring work on the three-dimensional area. Specifically, first, it is determined whether or not a wiring having a higher priority than the wiring has already been made in the three-dimensional area where the wiring work has been performed. When there is a wiring having a higher priority than the wiring in the three-dimensional area, all the wirings existing in the three-dimensional area, that is, the wiring and the wiring already existing in the three-dimensional area are used. The total wiring capacity is calculated for each of the wirings having the highest priority. Then, based on the calculation result of the total wiring capacity of each wiring, it is checked whether or not there is a wiring that exceeds the total wiring capacity determined by the total wiring capacity determination unit 14 by continuing the wiring work. When there is such a wiring, the non-wiring portion in all the three-dimensional areas including the wiring is prohibited from wiring, and the process returns to the layout execution unit 15.

【0027】したがって、レイアウト実行部15が、レ
イアウト評価部16による評価を経ながら半導体集積回
路における全ての配線に対する配線作業を完了した時点
で、全ての配線が、総配線容量決定部14にて決定され
た総配線容量を超えない範囲で配線されることとなる。
Therefore, when the layout execution unit 15 completes the wiring work for all the wirings in the semiconductor integrated circuit through the evaluation by the layout evaluation unit 16, all the wirings are determined by the total wiring capacitance determination unit 14. The wiring is performed within a range not exceeding the total wiring capacity.

【0028】第2のレイアウトデータ記憶部17には、
上記のようにして全ての配線が完了したレイアウトデー
タが格納される。
The second layout data storage unit 17 stores
The layout data for which all wiring has been completed as described above is stored.

【0029】次に、図2のフローチャートを参照して本
実施形態の動作を説明する。初期状態として、第1のレ
イアウトデータ記憶部11には、すでにトランジスタの
配置が完了した半導体集積回路のレイアウトデータが格
納されている。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG. As an initial state, the first layout data storage unit 11 stores the layout data of the semiconductor integrated circuit in which the transistor arrangement has already been completed.

【0030】図2を参照すると、まず、3次元領域設定
部12が配線を行う3次元領域を設定し(ステップ20
1)、優先順位決定部13が各配線の優先順位を決定し
(ステップ202)、総配線容量決定部14が配線ごと
の総配線容量を決定する(ステップ203)。以上のス
テップ201乃至ステップ203の動作は、それぞれ独
立に行うことができ、必ずしも上記の順番に限らない。
Referring to FIG. 2, first, the three-dimensional area setting unit 12 sets a three-dimensional area for wiring (step 20).
1), the priority determining unit 13 determines the priority of each wiring (Step 202), and the total wiring capacity determining unit 14 determines the total wiring capacity for each wiring (Step 203). The operations of steps 201 to 203 described above can be performed independently of each other, and are not necessarily limited to the above order.

【0031】次に、レイアウト実行部15が、第1のレ
イアウトデータ記憶部11からレイアウトデータを読込
み、優先順位決定部13にて決定された優先順位の最も
高い配線に関して、3次元領域設定部12にて決定され
た3次元領域ごとに配線作業を行う(ステップ20
4)。ただし、この時点では、もっとも優先順位の高い
当該配線しか行なわれていないので、所定の3次元領域
において、既に他の配線が行われているということがな
い。したがって、レイアウト評価部16による評価を行
なうことなく、当該配線に対する全ての配線作業が完了
する。
Next, the layout executing section 15 reads the layout data from the first layout data storage section 11 and determines the three-dimensional area setting section 12 for the wiring having the highest priority determined by the priority determining section 13. Perform wiring work for each three-dimensional area determined in (20)
4). However, at this time, since only the wiring having the highest priority has been performed, no other wiring has already been performed in the predetermined three-dimensional area. Therefore, all the wiring operations for the wiring are completed without the evaluation by the layout evaluation unit 16.

【0032】次に、レイアウト実行部15が、未だ配線
作業の完了していない全ての配線の中で最も優先順位の
高い配線に関して、1つの3次元領域分だけ配線作業を
行う(ステップ205)。そして、レイアウト評価部1
6による配線結果の評価に移行する。
Next, the layout execution unit 15 performs a wiring operation for one three-dimensional area with respect to the wiring having the highest priority among all the wirings for which the wiring operation has not been completed (step 205). Then, the layout evaluation unit 1
The process proceeds to the evaluation of the wiring result according to 6.

【0033】レイアウト評価部16は、まず、配線作業
の行われた3次元領域に対して、当該配線よりもさらに
優先順位の高い配線がすでになされているかどうかを判
定する(ステップ206)。そして、当該配線よりも優
先順位の高い配線が存在しないと判定した場合は、ステ
ップ205に戻って、レイアウト実行部15が次の3次
元領域に配線作業を行う。
First, the layout evaluation unit 16 determines whether or not a wiring having a higher priority than the wiring has already been made in the three-dimensional area where the wiring work has been performed (step 206). If it is determined that there is no wiring having a higher priority than the wiring, the flow returns to step 205, and the layout executing unit 15 performs wiring work on the next three-dimensional area.

【0034】一方、当該3次元領域内に当該配線よりも
優先順位の高い配線が存在すると判定した場合は、次
に、当該3次元領域内に存在する全ての配線、すなわち
当該配線と当該3次元領域に既に存在していた当該配線
よりも優先順位の高い全ての配線とに関して、それぞれ
総配線容量を計算する(ステップ207)。そして、各
配線の総配線容量の算出結果に基づいて、さらに配線作
業を継続することによって総配線容量決定部14にて決
定された総配線容量を超えてしまう配線があるかどうか
調べる(ステップ208)。そのような配線がない場合
は、何ら処理を行うことなくレイアウト実行部15によ
る処理に戻る。
On the other hand, if it is determined that there is a wiring having a higher priority than the wiring in the three-dimensional area, then all wirings existing in the three-dimensional area, that is, the wiring and the three-dimensional wiring are determined. The total wiring capacity is calculated for all the wirings having higher priority than the wiring already existing in the area (step 207). Then, based on the calculation result of the total wiring capacity of each wiring, it is checked whether or not there is any wiring that exceeds the total wiring capacity determined by the total wiring capacity determination unit 14 by continuing the wiring work (step 208). ). If there is no such wiring, the process returns to the layout execution unit 15 without performing any processing.

【0035】これに対し、さらに配線作業を継続するこ
とによって決定された総配線容量を超えてしまう配線が
ある場合は、当該配線を含む全ての3次元領域における
未配線部分を配線禁止とした後、レイアウト実行部15
による処理に戻る(ステップ209)。
On the other hand, if there is a wiring that exceeds the total wiring capacity determined by continuing the wiring work, the non-wiring portion in all the three-dimensional areas including the wiring is prohibited from wiring. , Layout execution unit 15
(Step 209).

【0036】次に、レイアウト実行部15は、全ての配
線に関する配線作業が完了したかどうかを調べ、未だ配
線作業の完了していない配線が存在するならば、ステッ
プ205に戻って、当該未完了の配線に関して優先順位
の高い順に、3次元領域ごとに配線作業を行う(ステッ
プ210)。
Next, the layout execution unit 15 checks whether or not the wiring work for all the wirings has been completed. If there is any wiring for which the wiring work has not been completed, the flow returns to step 205 to return to step 205 The wiring work is performed for each of the three-dimensional regions in the order of higher priority for the wiring (step 210).

【0037】全ての配線に対する配線作業が完了したな
らば、当該配線の完了したレイアウトデータを第2のレ
イアウトデータ記憶部17に格納して処理を終了する
(ステップ211)。
When the wiring work for all the wirings is completed, the layout data for which the wiring has been completed is stored in the second layout data storage unit 17 and the processing is terminated (step 211).

【0038】次に、図3、図4及び図5を参照して、本
実施形態による配線禁止情報の発生方法について(図
2、ステップ211参照)具体的に説明する。
Next, with reference to FIGS. 3, 4, and 5, a method of generating the wiring prohibition information according to the present embodiment (see step 211 in FIG. 2) will be specifically described.

【0039】図3乃至図5に示す3次元領域101は、
3次元領域設定部12により設定された3次元領域であ
る。図示のように、3次元領域101には、図3に示す
前後及び左右方向に最小配線間隔をおいて格子状に引か
れた格子線(以下配線格子と呼ぶ)が含まれている。ま
た、3次元領域101に存在しうる配線は、配線格子上
に位置づけられるものとする。図3に示す例では、3次
元領域101内には2層分の配線格子が含まれている。
The three-dimensional area 101 shown in FIGS.
It is a three-dimensional area set by the three-dimensional area setting unit 12. As illustrated, the three-dimensional area 101 includes grid lines (hereinafter referred to as wiring grids) drawn in a grid with a minimum wiring interval in the front-rear and left-right directions illustrated in FIG. Also, the wiring that can exist in the three-dimensional area 101 is assumed to be positioned on the wiring grid. In the example shown in FIG. 3, the three-dimensional area 101 includes two layers of wiring grids.

【0040】図4は、3次元領域101に含まれる配線
格子の内、図3の前後方向の配線格子に番号を付し、当
該番号を付した配線格子の内、3番の配線格子に配線W
1が配線された状態を示す図である。ここで、配線W1
を、設計対象である半導体集積回路における配線のうち
で最も優先順位の高い配線とする。
FIG. 4 shows, in the wiring grids included in the three-dimensional area 101, the wiring grids in the front-rear direction of FIG. W
FIG. 3 is a diagram showing a state where 1 is wired. Here, the wiring W1
Is the wiring with the highest priority among the wirings in the semiconductor integrated circuit to be designed.

【0041】図5は、図4の7番の配線格子に、優先順
位が2番目以降の配線W2が配線された状態を示す図で
ある。図5において、配線W1の総配線容量は、配線W
1が存在する3次元領域101に配線W1よりも優先順
位の低い配線W2が配線された事により、図4の同配線
である配線W1と比べて増加する。
FIG. 5 is a diagram showing a state in which the second and subsequent wirings W2 are wired in the seventh wiring grid in FIG. In FIG. 5, the total wiring capacitance of the wiring W1 is equal to the wiring W
Since the wiring W2 having a lower priority than the wiring W1 is laid in the three-dimensional area 101 where 1 exists, the number of wirings increases compared to the wiring W1 which is the same wiring in FIG.

【0042】ここで、さらに配線W2またはさらに他の
配線が、3次元領域101内の未配線領域に配線された
場合、総配線容量決定部14により決定された配線W1
の総配線容量を越えてしまうとする。この場合、1番、
2番、4番、5番、6番、8番、9番、10番の配線格
子及び図の左右方向の全ての配線格子を全て配線禁止に
する。これにより、3次元領域101の未配線領域を配
線禁止とすることができる。
Here, when the wiring W2 or another wiring is wired in a non-wiring area in the three-dimensional area 101, the wiring W1 determined by the total wiring capacitance determining unit 14
Is exceeded. In this case, number 1,
The second, fourth, fifth, sixth, eighth, ninth, and tenth wiring grids and all the wiring grids in the left-right direction in the drawing are all prohibited. This makes it possible to prohibit the wiring of the non-wired area of the three-dimensional area 101.

【0043】以上好ましい実施形態をあげて本発明を説
明したが、本発明は必ずしも上記実施形態に限定される
ものではない。
Although the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, the present invention is not necessarily limited to the above embodiments.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路設計装置及びその配線制御方法並びに配線制御プ
ログラムを格納した記憶媒体によれば、予め所望の配線
についてその総配線容量と配線作業の優先順位とを任意
に決定すると共に、設計対象である半導体集積回路上に
任意の3次元領域を設定し、該3次元領域ごとに優先順
位の高い順に配線作業を行い、かつ各3次元領域の配線
が完了するたびに当該配線結果に基づいて各配線の総配
線容量を評価して、必要に応じて所定の3次元領域の未
配線領域を配線禁止とすることにより、1回の配線作業
で、所望の動作遅延時間を満足する配線容量を得ること
ができるため、配置、配線作業に要する時間が減少し、
半導体集積回路の開発期間または設計期間が短縮すると
いう効果がある。
As described above, according to the semiconductor integrated circuit designing apparatus, the wiring control method, and the storage medium storing the wiring control program of the present invention, the total wiring capacity and the wiring work of the desired wiring are determined in advance. The priorities are arbitrarily determined, an arbitrary three-dimensional area is set on the semiconductor integrated circuit to be designed, wiring work is performed for each of the three-dimensional areas in descending order of priority, and Each time wiring is completed, the total wiring capacity of each wiring is evaluated based on the wiring result, and if necessary, unwiring of a predetermined three-dimensional area is prohibited. Since it is possible to obtain a wiring capacitance satisfying a desired operation delay time, the time required for the placement and wiring work is reduced,
This has the effect of shortening the development or design period of the semiconductor integrated circuit.

【0045】また、本発明によれば、所望の動作遅延時
間を満足する配線容量が得られるため、トランジスタの
信号遅延におけるスキューの発生を防止できるという効
果がある。
Further, according to the present invention, since a wiring capacitance satisfying a desired operation delay time can be obtained, there is an effect that occurrence of skew in signal delay of a transistor can be prevented.

【0046】さらにまた、本発明によれば、予め決定さ
れた総配線容量を超えるおそれのある配線については配
線禁止としながら、優先順位の高い順に配線作業を行っ
ていくため、所望の動作遅延時間を満足しない配線容量
の配線を引き離して再度配線作業を行う必要は生じな
い。したがって、対象となる配線の配線可能な場所を確
保することができないという事態が発生しない。
Further, according to the present invention, the wiring operation is performed in descending order of priority while the wiring which may exceed the predetermined total wiring capacity is prohibited, so that the desired operation delay time It is not necessary to separate the wiring of the wiring capacitance that does not satisfy the above and perform the wiring work again. Therefore, a situation in which a place where the target wiring can be routed cannot be secured does not occur.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施形態による半導体集積回路設
計装置の構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit designing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本実施形態の動作を示すフローチャートであ
る。
FIG. 2 is a flowchart showing an operation of the embodiment.

【図3】 本実施形態による配線禁止情報の発生方法を
説明する概念図であり、配線格子を含む3次元領域を示
す図。
FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating a method of generating wiring prohibition information according to the embodiment, and is a diagram illustrating a three-dimensional area including a wiring grid.

【図4】 図3の3次元領域に最も優先順位の高い配線
が行われた状態を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a state in which wiring with the highest priority is performed in the three-dimensional area of FIG. 3;

【図5】 図4の3次元領域にさらに他の配線が行われ
た状態を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing a state in which another wiring is performed in the three-dimensional area of FIG. 4;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 半導体集積回路設計装置 11 第1のレイアウトデータ記憶部 12 3次元領域設定部 13 優先順位決定部 14 総配線容量決定部 15 レイアウト実行部 16 レイアウト評価部 17 第2のレイアウトデータ記憶部 Reference Signs List 10 semiconductor integrated circuit design device 11 first layout data storage unit 12 three-dimensional area setting unit 13 priority determination unit 14 total wiring capacity determination unit 15 layout execution unit 16 layout evaluation unit 17 second layout data storage unit

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体集積回路の設計過程におけるトラ
ンジスタの配置及び配線作業を行う半導体集積回路設計
装置において、 設計対象である前記半導体集積回路に対して、各配線ご
とに、該配線を行うための3次元領域を、該配線を該3
次元領域の少なくとも所定の2次元方向の中心に位置す
るように設定する3次元領域設定手段と、 前記各配線の配線作業の優先順位を任意に決定する優先
順位決定手段と、 前記配線ごとの総配線容量を任意に決定する総配線容量
決定手段と、 前記優先順位決定手段により決定された優先順位に従っ
て、前記3次元領域設定手段により設定された3次元領
域ごとに配線作業を行う配線実行手段と、 前記配線実行手段が1つの前記3次元領域に対する配線
作業を完了するたびに、該配線結果を評価する配線評価
手段とを備え、 前記配線評価手段が、 該配線作業の行われた前記3次元領域に、該配線作業に
係る配線よりもさらに優先順位の高い配線がすでになさ
れているかどうか判定し、 該優先順位の高い配線がある場合に、該配線作業の行わ
れた前記3次元領域内に存在する全ての配線の総配線容
量を計算し、 算出結果に基づいて、さらに配線作業を継続することに
よって、前記総配線容量決定手段により決定された総配
線容量を超えてしまう配線があるかどうかを調べ、 そのような配線がある場合に、該配線を含む全ての3次
元領域における未配線部分を配線禁止とすることを特徴
とする半導体集積回路設計装置。
1. A semiconductor integrated circuit designing apparatus for arranging and wiring transistors in a process of designing a semiconductor integrated circuit, wherein the wiring is performed for each wiring with respect to the semiconductor integrated circuit to be designed. The three-dimensional area is
Three-dimensional area setting means for setting the two-dimensional area so as to be located at the center of at least a predetermined two-dimensional direction; priority determining means for arbitrarily determining the priority of wiring work of each wiring; Total wiring capacitance determining means for arbitrarily determining wiring capacitance; wiring executing means for performing wiring work for each three-dimensional area set by the three-dimensional area setting means according to the priority determined by the priority determining means; A wiring evaluation unit that evaluates a wiring result each time the wiring execution unit completes a wiring operation for one of the three-dimensional regions, wherein the wiring evaluation unit performs the wiring operation on the three-dimensional region. It is determined whether or not a wiring having a higher priority than the wiring related to the wiring work has already been made in the area, and if there is a wiring with a higher priority, the wiring work is performed. Calculating the total wiring capacity of all the wirings present in the obtained three-dimensional area, and further continuing the wiring work based on the calculation result, thereby reducing the total wiring capacity determined by the total wiring capacity determining means. A semiconductor integrated circuit design device which checks whether there is a wiring that exceeds, and if there is such a wiring, the non-wiring part in all three-dimensional regions including the wiring is prohibited from wiring.
【請求項2】 前記優先順位決定手段及び前記総配線容
量決定手段が、設計対象である半導体集積回路における
全ての配線に対して、または特に総配線容量が制限され
る特定の配線に対して前記優先順位及び前記総配線容量
を決定することを特徴とする請求項1に記載の半導体集
積回路設計装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the priority order determining means and the total wiring capacitance determining means are provided for all wirings in the semiconductor integrated circuit to be designed, or for particular wirings whose total wiring capacitance is limited. 2. The semiconductor integrated circuit designing apparatus according to claim 1, wherein the priority order and the total wiring capacity are determined.
【請求項3】 半導体集積回路の設計過程におけるトラ
ンジスタの配置及び配線作業を行う半導体集積回路設計
装置による配線制御方法において、 設計対象である前記半導体集積回路に対して、各配線ご
とに、該配線を行うための3次元領域を、該配線を該3
次元領域の少なくとも所定の2次元方向の中心に位置す
るように設定するステップと、 前記各配線の配線作業の優先順位を任意に決定するステ
ップと、 前記配線ごとの総配線容量を任意に決定するステップ
と、 前記優先順位決定ステップにより決定された優先順位に
したがって、前記3次元領域設定ステップにより設定さ
れた3次元領域ごとに配線作業を行うステップと、 前記配線実行ステップが1つの前記3次元領域に対する
配線作業を完了するたびに、該配線結果を評価するステ
ップとを含み、 前記配線評価ステップが、 該配線作業の行われた前記3次元領域に、該配線作業に
係る配線よりもさらに優先順位の高い配線がすでになさ
れているかどうか判定するステップと、 該優先順位の高い配線がある場合に、該配線作業の行わ
れた前記3次元領域内に存在する全ての配線の総配線容
量を計算するステップと、 算出結果に基づいて、さらに配線作業を継続することに
よって前記総配線容量決定手段によって決定された総配
線容量を超えてしまう配線があるかどうかを調べるステ
ップと、 そのような配線がある場合に、該配線を含む全ての3次
元領域における未配線部分を配線禁止とするステップと
を含むことを特徴とする配線制御方法。
3. A wiring control method by a semiconductor integrated circuit designing apparatus for arranging and wiring transistors in a process of designing a semiconductor integrated circuit, wherein the wiring is provided for each wiring with respect to the semiconductor integrated circuit to be designed. The three-dimensional area for performing
Setting at least the center of the two-dimensional direction in the two-dimensional area; arbitrarily determining the priority of the wiring work of each of the wirings; and arbitrarily determining the total wiring capacitance for each of the wirings Performing a wiring operation for each of the three-dimensional regions set in the three-dimensional region setting step in accordance with the priority determined in the priority determining step; Evaluating the wiring result each time a wiring operation is completed for the three-dimensional area, wherein the wiring evaluation step further places priority on the three-dimensional area where the wiring operation has been performed, over the wiring related to the wiring operation. Determining whether a high-level wiring has already been made; and, if there is the high-priority wiring, performing the wiring operation. Calculating the total wiring capacity of all the wirings present in the three-dimensional area; and further continuing the wiring work based on the calculation result to exceed the total wiring capacity determined by the total wiring capacity determining means. A step of checking whether or not there is a wiring to be connected, and, if there is such a wiring, a step of prohibiting wiring of an unwired portion in all three-dimensional regions including the wiring. Method.
【請求項4】 前記優先順位決定ステップ及び前記総配
線容量決定ステップにおいて、設計対象である半導体集
積回路における全ての配線に対して、または特に総配線
容量が制限される特定の配線に対して前記優先順位及び
前記総配線容量を決定することを特徴とする請求項3に
記載の配線制御方法。
4. The method according to claim 1, wherein, in the priority order determining step and the total wiring capacity determining step, all the wirings in the semiconductor integrated circuit to be designed, or in particular, specific wirings whose total wiring capacitance is restricted are specified. 4. The wiring control method according to claim 3, wherein the priority and the total wiring capacity are determined.
【請求項5】 半導体集積回路の設計過程におけるトラ
ンジスタの配置及び配線作業を行う半導体集積回路設計
装置を制御して配線制御を行う配線制御プログラムを格
納した記憶媒体において、 設計対象である前記半導体集積回路に対して、各配線ご
とに、該配線を行うための3次元領域を、該配線を該3
次元領域の少なくとも所定の2次元方向の中心に位置す
るように設定するステップと、 前記各配線の配線作業の優先順位を任意に決定するステ
ップと、 前記配線ごとの総配線容量を任意に決定するステップ
と、 前記優先順位決定ステップにより決定された優先順位に
したがって、前記3次元領域設定ステップにより設定さ
れた3次元領域ごとに配線作業を行うステップと、 前記配線実行ステップが1つの前記3次元領域に対する
配線作業を完了するたびに、該配線結果を評価するステ
ップとを含み、 前記配線評価ステップが、 該配線作業の行われた前記3次元領域に、該配線作業に
係る配線よりもさらに優先順位の高い配線がすでになさ
れているかどうか判定するステップと、 該優先順位の高い配線がある場合に、該配線作業の行わ
れた前記3次元領域内に存在する全ての配線の総配線容
量を計算するステップと、 算出結果に基づいて、さらに配線作業を継続することに
よって前記総配線容量決定手段によって決定された総配
線容量を超えてしまう配線があるかどうかを調べるステ
ップと、 そのような配線がある場合に、該配線を含む全ての3次
元領域における未配線部分を配線禁止とするステップと
を含むことを特徴とする配線制御プログラムを格納した
記憶媒体。
5. A storage medium storing a wiring control program for controlling a wiring by controlling a semiconductor integrated circuit designing apparatus for arranging and wiring transistors in a process of designing a semiconductor integrated circuit, wherein: In the circuit, for each wiring, a three-dimensional area for performing the wiring is defined by the three-dimensional area.
Setting at least the center of the two-dimensional direction in the two-dimensional area; arbitrarily determining the priority of the wiring work of each of the wirings; and arbitrarily determining the total wiring capacitance for each of the wirings Performing a wiring operation for each of the three-dimensional regions set in the three-dimensional region setting step in accordance with the priority determined in the priority determining step; Evaluating the wiring result each time a wiring operation is completed for the three-dimensional area, wherein the wiring evaluation step further places priority on the three-dimensional area where the wiring operation has been performed, over the wiring related to the wiring operation. Determining whether a high-level wiring has already been made; and, if there is the high-priority wiring, performing the wiring operation. Calculating the total wiring capacity of all the wirings present in the three-dimensional area; and further continuing the wiring work based on the calculation result to exceed the total wiring capacity determined by the total wiring capacity determining means. A step of checking whether or not there is a wiring to be connected, and, if there is such a wiring, a step of prohibiting wiring of an unwired portion in all three-dimensional regions including the wiring. A storage medium that stores programs.
【請求項6】 前記優先順位決定ステップ及び前記総配
線容量決定ステップにおいて、設計対象である半導体集
積回路における全ての配線に対して、または特に総配線
容量が制限される特定の配線に対して前記優先順位及び
前記総配線容量を決定することを特徴とする請求項5に
記載の配線制御プログラムを格納した記憶媒体。
6. The method according to claim 1, wherein in said priority order determining step and said total wiring capacitance determining step, said wiring is performed for all wirings in a semiconductor integrated circuit to be designed or particularly for a specific wiring whose total wiring capacitance is limited. The storage medium according to claim 5, wherein the priority order and the total wiring capacity are determined.
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