JP2000020665A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP2000020665A
JP2000020665A JP10199535A JP19953598A JP2000020665A JP 2000020665 A JP2000020665 A JP 2000020665A JP 10199535 A JP10199535 A JP 10199535A JP 19953598 A JP19953598 A JP 19953598A JP 2000020665 A JP2000020665 A JP 2000020665A
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Japan
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antenna
circuit
lsi chip
film
semiconductor device
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JP10199535A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeyoshi Watanabe
辺 重 佳 渡
Masami Nagaoka
岡 正 見 長
Atsushi Kameyama
山 敦 亀
Kunio Yoshihara
原 邦 夫 吉
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02DCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGIES [ICT], I.E. INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGIES AIMING AT THE REDUCTION OF THEIR OWN ENERGY USE
    • Y02D30/00Reducing energy consumption in communication networks
    • Y02D30/70Reducing energy consumption in communication networks in wireless communication networks

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  • Burglar Alarm Systems (AREA)
  • Near-Field Transmission Systems (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which is freely deformable, can be attached to merchandise of an arbitrary shape, is low in unit cost, does not require recovery after use and can prevent the erroneous operation of a circuit. SOLUTION: An LSI chip 12 formed into a thin film silicon and an antenna 13, which is formed of a vapor-deposited metal film and is connected to the LSI chip 12, are formed on a flexible film 11. When the antenna 13 receives electromagnetic waves, an electromotive force is generated by an electromagnetic induction, then the LSI chip 12 operates by being supplied with the force, and transmits the data held inside by way of the antenna 13. When the LSI chip 12 has not only a transmission circuit but also a reception circuit and a signal processing circuit, it is possible to receive a signal and process it by way of the antenna 13 and to transmits the signal in accordance with the result. Thus, the LSI chip 12, consisting of the film silicon and the antenna 13 consisting of the vapor deposited metal film, are formed on the flexible film 11, the device can be freely deformed and transformation is performed freely, and the film 11 can be affixed on a attached to merchandise of various shapes, and also made low in cost and reduced in power consumption.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置であっ
て、例えば物流システムにおける商品管理用のタグとし
て用いるのに好適な装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, for example, a device suitable for use as a tag for managing goods in a distribution system.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、通信技術の進歩及び物流関連ビジ
ネスの進展に伴い、無線で情報を送信する通信機能を備
えたいわゆる無線タグを商品に取り付けて、商品の販売
管理や在庫管理を行うことが以下の文献1により提案さ
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the progress of communication technology and the development of logistics-related business, a so-called wireless tag having a communication function of wirelessly transmitting information is attached to a product to perform sales management and inventory management of the product. Has been proposed by the following document 1.

【0003】文献1: 月刊セミコンダクタワールド、
1998年3月号、第22〜33頁「電子商取引へFe
RAMが99年に出陣、ファッション衣料品が携帯端末
を持つ」 図16に、従来の無線タグの外観を示す。樹脂性ケース
141に、通信機能を有する回路が集積されたLSI
(Large Scale Integrated circuit)チップ142と、
LSIチップ142に接続されたアンテナ145と、L
SIチップ142が処理した内容を表示するLCD(Li
quid Crystal Display)表示装置143と、LSIチッ
プ142に電源を供給する太陽電池144とが搭載され
ている。
Reference 1: Monthly Semiconductor World,
March 1998, pp. 22-33, “Fe to Electronic Commerce”
RAM will start in 1999, and fashion clothing will have a portable terminal. "FIG. 16 shows the appearance of a conventional wireless tag. LSI in which a circuit having a communication function is integrated in a resin case 141
(Large Scale Integrated circuit) chip 142,
An antenna 145 connected to the LSI chip 142;
LCD (Li) that displays the contents processed by SI chip 142
A display device 143 and a solar cell 144 for supplying power to the LSI chip 142 are mounted.

【0004】例えば、小売店におけるレジスタから、当
該無線タグが取り付けらている商品の分類、名称、売値
等に関する属性データを問い合わせる信号が発信され、
アンテナ145を介してLSIチップ142に受信され
る。LSIチップ142はバルクシリコン基板上に回路
が形成されており、内蔵するメモリに記憶されている商
品の属性データをLCD表示装置143に表示させ、さ
らにアンテナ145を介して属性データを示す信号をレ
ジスタへ向けて送信する。
[0004] For example, a signal is sent from a register in a retail store to inquire about attribute data relating to the classification, name, selling price and the like of a product to which the wireless tag is attached,
The data is received by the LSI chip 142 via the antenna 145. The LSI chip 142 has a circuit formed on a bulk silicon substrate, displays attribute data of a product stored in a built-in memory on an LCD display device 143, and further registers a signal indicating the attribute data via an antenna 145 in a register. Send to.

【0005】図17に、LSIチップ142に内蔵され
た回路の概略構成を示す。この回路は、RF(Radio Fr
equency )信号変復調部161と、信号/データ処理部
152とを備えている。RF信号変復調部161はアン
テナ145を介して信号を送受信するために必要な変復
調等の処理を行うもので、変調回路162、復調回路1
63、アンテナドライバ164、R/Fアンプ165を
有している。信号/データ処理部152は受信した信号
に基づいて内蔵するデータを画像表示及び送信するため
に必要な処理を行い、中央処理装置(MPU)155、
ROM/RAM部154、インタフェース(I/F)部
153、入出力(I/O)部156を有している。
FIG. 17 shows a schematic configuration of a circuit built in the LSI chip 142. This circuit uses RF (Radio Fr
equency) a signal modulation / demodulation unit 161 and a signal / data processing unit 152 are provided. The RF signal modulation / demodulation unit 161 performs processing such as modulation / demodulation necessary for transmitting / receiving a signal via the antenna 145. The modulation circuit 162 and the demodulation circuit 1
63, an antenna driver 164, and an R / F amplifier 165. The signal / data processing unit 152 performs processing necessary for displaying and transmitting built-in data based on the received signal, and a central processing unit (MPU) 155,
It has a ROM / RAM unit 154, an interface (I / F) unit 153, and an input / output (I / O) unit 156.

【0006】このように、従来の無線タグはバルクシリ
コン基板に形成されたLSIチップ142と、LSI1
42を駆動するための太陽電池144と、無線タグの処
理の状況を作業者が目視確認するためのLCD表示装置
143とを備えていた。
As described above, the conventional wireless tag includes the LSI chip 142 formed on the bulk silicon substrate and the LSI 1
A solar cell 144 for driving the LCD 42 and an LCD display 143 for an operator to visually check the processing status of the wireless tag.

【0007】しかし、この無線タグは上述したような多
くの機能を搭載するため、その大きさは8.5cm×
5.75cmというようにかなり大きかった。
However, since this wireless tag has many functions as described above, its size is 8.5 cm ×
It was quite large, 5.75 cm.

【0008】また、バルクシリコンに形成されたLSI
チップ142等を搭載するためケースとして堅い樹脂性
ケース141が用いられていた。このため、表面が平坦
でかつ比較的な大きい商品にしか無線タグを取り付ける
ことができなかった。
Also, an LSI formed on bulk silicon
A rigid resin case 141 has been used as a case for mounting the chip 142 and the like. For this reason, the wireless tag could be attached only to a relatively flat product with a relatively flat surface.

【0009】さらに、1個当たりの価格は約1000円
とかなり高く、これを取り付ける商品は約1万円以上の
ものに限られていた。さらに、高価格ゆえ販売後にはこ
の無線タグを回収しなければならないという問題もあっ
た。
Further, the price per unit is as high as about 1,000 yen, and the products to which it is attached are limited to those of about 10,000 yen or more. Furthermore, there is a problem that the wireless tag must be collected after the sale because of its high price.

【0010】上述の無線タグにおける大きく形が固定さ
れ価格が高いという問題のうち、大きさ及び価格の問題
を若干解消したものが、以下の文献2により提案され図
18に示された従来の他の無線タグである。
[0010] Among the above-mentioned problems of the large size and the high price of the wireless tag, one that slightly solves the problem of the size and the price is proposed by the following document 2 and shown in FIG. Wireless tag.

【0011】文献2: TRIGGER、1997年7
月号、第32〜33頁「1枚100円以下を実現した小
型非接触ラベル」 この無線タグは、機能を無線に絞り込むことで、表示部
と電源とを内蔵しないものとなっている。さらにコスト
を低減するため、このタグはバルクシリコン基板上に形
成した約3mm角のベアチップ172とアンテナ173
とが透明樹脂171上に直接搭載されており、さらにア
ンテナ173を小さくするため2GHz帯の周波数で送
受信が行われる。
Reference 2: TRIGGER, July 1997
Monthly Issue, pages 32 to 33, "Small Non-Contact Label Achieving 100 Yen or Less per Sheet" This wireless tag does not include a display unit and a power supply by narrowing down its functions to wireless. In order to further reduce costs, this tag consists of a bare chip 172 of about 3 mm square formed on a bulk silicon substrate and an antenna 173.
Are directly mounted on the transparent resin 171, and transmission and reception are performed at a frequency of 2 GHz band in order to further reduce the size of the antenna 173.

【0012】この無線タグによれば、6cm×1cm×
0.1mmの大きさまで小型化が可能で、かつ価格を1
個当たり100円程度まで低減することができる。
According to this wireless tag, 6 cm × 1 cm ×
Can be downsized to the size of 0.1mm and the price is 1
It can be reduced to about 100 yen per piece.

【0013】しかし、この無線タグも形が固定されてお
り、表面が平坦でかつ比較的な大きい商品にしか取り付
けることができなかった。また、依然としてタグとして
は価格が高いため、回収が必要であった。さらに、内蔵
電池を備えていないため、文献1に示された無線タグと
比較すると、回路としての機能が大幅に限定されてい
た。
However, this wireless tag is also fixed in shape, and can only be attached to a relatively flat product with a relatively flat surface. Also, since the price of the tag is still high, it was necessary to collect the tag. Furthermore, since it does not have a built-in battery, its function as a circuit is greatly limited as compared with the wireless tag shown in Document 1.

【0014】また、文献2に開示された無線タグでは、
コスト低減のためバルクシリコン基板上にディジタル信
号を処理する信号/データ処理部と、アナログ信号を処
理するRF変復調部とを混載しなければならない。この
結果、信号/データ処理部が発生するノイズがRF変復
調部に影響し、誤動作を招くおそれがあった。
In the wireless tag disclosed in Document 2,
In order to reduce costs, a signal / data processing unit for processing digital signals and an RF modulation / demodulation unit for processing analog signals must be mounted on a bulk silicon substrate. As a result, noise generated by the signal / data processing unit affects the RF modulation / demodulation unit, which may cause a malfunction.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
無線タグにはタグ自身の形状が固定されており、柔軟性
がないため取り付け可能な商品が限定され、コストが高
く回収を必要とし、さらにーチップに混載されたディジ
タル回路が発生するノイズでアナログ回路が誤動作する
という問題があった。
As described above, the conventional wireless tag has a fixed shape, and is inflexible. Therefore, the number of products that can be attached is limited. Further, there is a problem that analog circuits malfunction due to noise generated by digital circuits mixedly mounted on the chip.

【0016】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、変形自在で任意の形状の商品に取り付けが可能で、
単価が十分に低減され使用後に回収する必要がなく、回
路の誤動作を防止することが可能な半導体装置を提供す
ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is freely deformable and can be attached to a product of any shape.
It is an object of the present invention to provide a semiconductor device whose unit price is sufficiently reduced, does not need to be collected after use, and can prevent malfunction of a circuit.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
可撓性フィルムと、前記可撓性フィルム上に形成され、
電磁波を受信するアンテナと、前記可撓性フィルム上に
搭載された薄膜シリコンに形成され、前記アンテナに前
記電磁波が受信され電磁誘導により発生した電力を供給
されて動作し、内部に保持しているデータを前記アンテ
ナを介して送信する回路とを備えることを特徴としてい
る。
According to the present invention, there is provided a semiconductor device comprising:
A flexible film, formed on the flexible film,
An antenna that receives an electromagnetic wave and is formed on thin-film silicon mounted on the flexible film, receives the electromagnetic wave, supplies power generated by electromagnetic induction to the antenna, operates and holds the antenna inside And a circuit for transmitting data via the antenna.

【0018】ここで前記回路は、前記アンテナにより受
信された前記電磁波を信号として与えられて所定の処理
を行い、この処理の結果に基づいて内部に保持している
前記データを前記アンテナを介して送信するものであっ
てもよい。
Here, the circuit receives the electromagnetic wave received by the antenna as a signal, performs predetermined processing, and, based on the result of the processing, stores the data held therein via the antenna. It may be transmitted.

【0019】また前記回路は、前記データを記憶する書
き換え可能なメモリをさらに備えてもよい。
Further, the circuit may further include a rewritable memory for storing the data.

【0020】前記回路は、前記薄膜シリコンにおいてボ
ディが相互に電気的に分離されるように形成された複数
のトランジスタを有し、各々のトランジスタにおけるボ
ディ電位はゲート電位と同一になるように、他のトラン
ジスタのボディ電位とは独立して制御されるものであっ
てもよい。
The circuit has a plurality of transistors formed in the thin film silicon such that the bodies are electrically separated from each other. The other transistors are so arranged that the body potential in each transistor is equal to the gate potential. May be controlled independently of the body potential of the transistor.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明のー実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0022】本発明の第1の実施の形態による半導体装
置の外観を図1に示す。可撓性フィルム11の表面上
に、LSIチップ12とアンテナ13とが搭載されてい
る。
FIG. 1 shows the appearance of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. An LSI chip 12 and an antenna 13 are mounted on the surface of a flexible film 11.

【0023】可撓性フィルム11は、柔軟性のある樹脂
やゴム、紙等の材料から成り、平坦なシート形状を有す
るものである。例えば、フィルム11としてバーコード
用のシールを用いてもよい。
The flexible film 11 is made of a flexible material such as resin, rubber, and paper, and has a flat sheet shape. For example, a barcode seal may be used as the film 11.

【0024】LSIチップ12は、バルクシリコン基板
ではなく薄膜シリコンにLSIが形成され、大きさは例
えば約2mm角である。
The LSI chip 12 has an LSI formed not on a bulk silicon substrate but on thin film silicon, and has a size of, for example, about 2 mm square.

【0025】アンテナ13は、可撓性フィルム11の表
面上に金属膜が蒸着されて形成され、LSIチップ12
に電気的に接続されている。また、本装置では送受信の
ための信号としてGHz帯の周波数を有するものを扱う
ことで、アンテナ13の長さが例えば全長約7cmとい
うように極力短くなっている。また、アンテナ13が変
形しにくいように、矩形状の可撓性フィルム11の短辺
方向に沿って配置されている。
The antenna 13 is formed by depositing a metal film on the surface of the flexible film 11 and
Is electrically connected to Further, in the present apparatus, by using a signal having a frequency in the GHz band as a signal for transmission and reception, the length of the antenna 13 is reduced as much as possible, for example, to about 7 cm in total length. The rectangular flexible film 11 is arranged along the short side so that the antenna 13 is hardly deformed.

【0026】また、本装置は電池等の電源やLCD等の
画像表示装置を有していない。LSIチップ12は、ア
ンテナ13に電磁波が受信されて電磁誘導によって発生
した電力を供給されて動作する。
This apparatus does not have a power source such as a battery or an image display device such as an LCD. The LSI chip 12 operates by receiving an electromagnetic wave from the antenna 13 and supplying power generated by electromagnetic induction.

【0027】このように、本実施の形態による半導体装
置は可撓性フィルム11に2mm角程度のLSIチップ
12とアンテナ13とが形成されているので、装置全体
に柔軟性があり、自在に変形可能である。また、可撓性
フィルム11の裏面側に接着剤を塗布したり接着シート
を貼り付けることで、この半導体装置を多種多様なもの
に自在に貼り付けることができる。例えば、図3(a)
に示された林檎41やバナナ43のような様々な形状の
商品に、本実施の形態による半導体装置を無線タグ4
2、44として貼り付けることができる。
As described above, in the semiconductor device according to the present embodiment, since the LSI chip 12 and the antenna 13 of about 2 mm square are formed on the flexible film 11, the entire device is flexible and can be freely deformed. It is possible. Further, by applying an adhesive or attaching an adhesive sheet to the back surface side of the flexible film 11, the semiconductor device can be freely attached to various kinds of devices. For example, FIG.
The semiconductor device according to the present embodiment is attached to products of various shapes such as an apple 41 and a banana 43 shown in FIG.
2, 44 can be attached.

【0028】図2に、LSIチップ12が搭載する回路
のブロック構成を示す。この回路は、RF信号変復調部
31と、信号/データ処理部21とを備えている。RF
信号変復調部31は、アンテナ13を介して信号を送受
信するために必要な変復調等の処理を行うもので、変調
回路32、復調回路33、アンテナドライバ34、R/
Fアンプ35を有している。信号/データ処理部21は
受信した信号に基づいて内蔵するデータをアンテナ13
を介して送信するために必要な処理を行うもので、MP
U24、ROM/RAM部23、I/F部22、I/O
部25を有している。
FIG. 2 shows a block configuration of a circuit mounted on the LSI chip 12. This circuit includes an RF signal modulation / demodulation unit 31 and a signal / data processing unit 21. RF
The signal modulation / demodulation unit 31 performs processing such as modulation / demodulation necessary for transmitting / receiving a signal via the antenna 13, and includes a modulation circuit 32, a demodulation circuit 33, an antenna driver 34,
An F amplifier 35 is provided. The signal / data processing unit 21 stores the built-in data based on the
Performs the processing required for transmission via
U24, ROM / RAM unit 23, I / F unit 22, I / O
It has a part 25.

【0029】このように、本実施の形態ではアンテナ1
3を介してRF信号変復調部31により信号を受信し、
受信した信号に基づいて信号/データ処理部21におい
てROM/RAM部23に格納された属性データ等のデ
ータを、RF信号変復調部31からアンテナ13を介し
て送信する。
As described above, in the present embodiment, the antenna 1
3, a signal is received by the RF signal modulation / demodulation unit 31 via
Based on the received signal, the signal / data processing unit 21 transmits data such as attribute data stored in the ROM / RAM unit 23 from the RF signal modulation / demodulation unit 31 via the antenna 13.

【0030】しかし、このような回路構成を必ずしも備
えている必要はない。例えば、受信機能や内蔵メモリ、
MPUを備えていなくともよい。この場合には、アンテ
ナ13に電磁波が受信されて電磁誘導により起電力が発
生して回路が動作を開始し、これにより所定のデータを
自動的に送信する。この場合のデータは、内蔵メモリの
替わりにファームウェア化された状態で保持されたもの
を用いることができる。
However, it is not always necessary to provide such a circuit configuration. For example, the reception function, built-in memory,
The MPU need not be provided. In this case, the electromagnetic wave is received by the antenna 13 and an electromotive force is generated by electromagnetic induction to start the operation of the circuit, whereby predetermined data is automatically transmitted. In this case, data held in a firmware state can be used instead of the built-in memory.

【0031】次に、本実施の形態による半導体装置を製
造する方法について図4〜図9を用いて説明する。図4
に示されたように、LSIチップを形成するための薄膜
シリコンとして、シリコン基板51の表面上に埋め込み
酸化膜52が形成されたSOI(Silicon On Insulato
r)基板を用いる。これは、コスト及び消費電力の低減
化が可能であり、しかも後の工程で埋め込み酸化膜52
上に薄膜シリコン53を形成することが容易だからであ
る。ここで、例えばシリコン基板51の厚さは約500
μm、埋め込み酸化膜52は0.1〜0.4μm、薄膜
シリコン53は0.1〜1.0μmとしてもよい。
Next, a method of manufacturing the semiconductor device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG.
As shown in FIG. 1, SOI (Silicon On Insulato) in which a buried oxide film 52 is formed on a surface of a silicon substrate 51 as thin film silicon for forming an LSI chip.
r) Use a substrate. This can reduce cost and power consumption, and furthermore, the buried oxide film 52
This is because it is easy to form the thin film silicon 53 thereon. Here, for example, the thickness of the silicon substrate 51 is about 500
μm, the buried oxide film 52 may have a thickness of 0.1 to 0.4 μm, and the thin film silicon 53 may have a thickness of 0.1 to 1.0 μm.

【0032】このような基板を用いて、図5〜図9に示
されるような工程を経てLSI素子とアンテナ13とを
形成する。図5に示されたように、薄膜シリコン53の
周辺部に、例えばLOCOS法を用いて分離層54を形
成し、さらに薄膜シリコン53の内部にLSI素子とし
て例えばNチャネル型MOSトランジスタのN+ 型拡散
層55及び56を不純物の注入及び拡散により形成す
る。N+ 型拡散層55及び56が形成された薄膜シリコ
ン53の表面上に、ゲート絶縁膜を介してゲート電極5
8を形成する。また、ゲート電極58が形成されていな
い領域には、絶縁膜57を形成する。さらに、N+ 型拡
散層56とコンタクトをとった状態で、絶縁膜57上に
アルミニウム等の金属をスパッタリングにより蒸着させ
て、アンテナ接続用金属配線59を形成する。
Using such a substrate, an LSI element and an antenna 13 are formed through the steps shown in FIGS. As shown in FIG. 5, an isolation layer 54 is formed on the periphery of the thin film silicon 53 by using, for example, the LOCOS method. The diffusion layers 55 and 56 are formed by implantation and diffusion of impurities. A gate electrode 5 is formed on the surface of the thin film silicon 53 on which the N @ + -type diffusion layers 55 and 56 are formed via a gate insulating film.
8 is formed. Further, an insulating film 57 is formed in a region where the gate electrode 58 is not formed. Further, a metal such as aluminum is vapor-deposited on the insulating film 57 by sputtering in a state where the N + type diffusion layer 56 is in contact with the N + type diffusion layer 56 to form a metal wiring 59 for antenna connection.

【0033】そして、図6に示されたように、絶縁膜5
7やアンテナ接続用金属配線59が形成された基板51
の表面上に接着剤60を塗布する。これは、薄膜シリコ
ン53及び埋め込み酸化膜52と、その下のシリコン基
板51とを切り離すための準備として行う。
Then, as shown in FIG.
7 and substrate 51 on which metal wiring 59 for antenna connection is formed
The adhesive 60 is applied on the surface of. This is performed as preparation for separating the thin silicon 53 and the buried oxide film 52 from the silicon substrate 51 thereunder.

【0034】次に、図7に示されたように、接着剤60
を介在させた状態でシリコン基板51の表面上にフィル
ム61を載せる。図8に示されたように、フィルム61
が下部にくるように上下を反転させ、シリコン基板52
を研磨していくことで切り離す。
Next, as shown in FIG.
The film 61 is placed on the surface of the silicon substrate 51 in a state where the film 61 is interposed. As shown in FIG.
The silicon substrate 52 is turned upside down so that
Is separated by polishing.

【0035】このようにして得られたLSIチップ12
を、図9に示されたように上述の可撓性フィルム11の
表面上に接着剤等を用いて固定する。さらに、LSIチ
ップ12の側面に露出したアンテナ接続用金属配線59
と電気的に接続されるように、アルミニウム等の金属を
スパッタリングにより可撓性フィルム11上に蒸着させ
て、アンテナ13を形成する。
The LSI chip 12 thus obtained
Is fixed on the surface of the flexible film 11 using an adhesive or the like as shown in FIG. Furthermore, the antenna connection metal wiring 59 exposed on the side surface of the LSI chip 12
The antenna 13 is formed by vapor-depositing a metal such as aluminum on the flexible film 11 by sputtering so that the antenna 13 is electrically connected to the antenna.

【0036】ここで、本実施の形態における薄膜シリコ
ンを用いたLSIチップ12と、従来の無線タグにおけ
るバルクシリコン基板を用いたLSIチップ142とに
おける、それぞれのトランジスタの構造及びその製造工
程について比較する。
Here, the structure and the manufacturing process of each transistor in the LSI chip 12 using thin-film silicon in this embodiment and the LSI chip 142 using a bulk silicon substrate in a conventional wireless tag are compared. .

【0037】従来のバルクシリコン基板を用いたLSI
チップ142では、図10にその縦断面構造が示された
MOS型トランジスタと、図12に示された縦型バイポ
ーラトランジスタとが、いわゆるバルクBiCMOS技
術が用いられて形成されている。MOS型トランジスタ
は、バルクシリコン基板81の表面部分に、ソース、ド
レインとしての不純物拡散層82、83と、ゲート電極
84とを備えている。バイポーラトランジスタは、バル
クシリコン基板81の表面部分において、シャロートレ
ンチ04とディープトレンチ102及び103とによっ
て素子分離された状態で、ベース105、エミッタ10
6、コレクタ107が形成されている。
LSI using conventional bulk silicon substrate
In the chip 142, a MOS transistor whose vertical sectional structure is shown in FIG. 10 and a vertical bipolar transistor shown in FIG. 12 are formed by using a so-called bulk BiCMOS technology. The MOS transistor includes, on the surface of a bulk silicon substrate 81, impurity diffusion layers 82 and 83 as sources and drains, and a gate electrode 84. The bipolar transistor has a base 105 and an emitter 10 in a state where elements are separated by a shallow trench 04 and deep trenches 102 and 103 on a surface portion of a bulk silicon substrate 81.
6. The collector 107 is formed.

【0038】本実施の形態における薄膜シリコンに形成
されるMOSトランジスタは図11に示されるような構
造を有し、横型バイポーラトランジスタは図13に示さ
れるような構造を有している。MOSトランジスタは、
埋め込み酸化膜52の下面側に薄膜シリコン53が位置
し、この薄膜シリコン53にソース、ドレインとしての
N+ 型拡散層55、56が形成され、ゲート酸化膜を介
してゲート電極58が形成されている。
The MOS transistor formed on the thin film silicon in the present embodiment has a structure as shown in FIG. 11, and the lateral bipolar transistor has a structure as shown in FIG. MOS transistors
The thin film silicon 53 is located on the lower surface side of the buried oxide film 52. N + type diffusion layers 55 and 56 are formed on the thin film silicon 53 as a source and a drain, and a gate electrode 58 is formed via a gate oxide film. I have.

【0039】横型バイポーラトランジスタは、埋め込み
酸化膜52の下面側の薄膜トランジスタ53に、コレク
タとしてのN+ 型拡散層112、ベースとしてのP型拡
散層113、エミッタとしてのN+ 型拡散層114が形
成され、それぞれの拡散層112〜114上には電極1
15〜117が形成されている。
In the lateral bipolar transistor, an N + type diffusion layer 112 as a collector, a P type diffusion layer 113 as a base, and an N + type diffusion layer 114 as an emitter are formed in the thin film transistor 53 on the lower surface side of the buried oxide film 52. The electrode 1 is formed on each of the diffusion layers 112 to 114.
15 to 117 are formed.

【0040】本実施の形態ではバルクシリコンを用いず
に薄型シリコンにトランジスタを形成するため、寄生容
量が小さく高速化及び低消費電力化に寄与することがで
きる。
In this embodiment, since the transistor is formed in thin silicon without using bulk silicon, the parasitic capacitance is small, which can contribute to high speed and low power consumption.

【0041】さらに、図12より明らかなように、従来
の無線タグにおけるバルクシリコンに形成される縦型バ
イポーラトランジスタは、その構造が極めて複雑で多く
の工程を必要とし、製造コストが高いという問題があ
る。
Further, as is apparent from FIG. 12, the vertical bipolar transistor formed on bulk silicon in the conventional wireless tag has a problem that the structure is extremely complicated, requires many steps, and is expensive to manufacture. is there.

【0042】これに対し、本実施の形態において用いら
れる横型バイポーラトランジスタは、図13に示される
ように構造が簡易であり、製造工程の数も縦型バイポー
ラトランジスタより少ない。例えば、LSIのデザイン
ルールを0.25〜0.35μmとした場合、横型バイ
ポーラトランジスタは約520で縦型バイポーラトラン
ジスタは約370である。従って、本実施の形態によれ
ば工程数を約2/3まで削減することができる。工程数
が減少すると歩留まりも向上するため、LSIチップの
総合コストで考えると従来よりも約1/2〜1/4に低
減することが可能である。
On the other hand, the lateral bipolar transistor used in the present embodiment has a simple structure as shown in FIG. 13, and the number of manufacturing steps is smaller than that of the vertical bipolar transistor. For example, when the design rule of the LSI is 0.25 to 0.35 μm, the lateral bipolar transistor is about 520 and the vertical bipolar transistor is about 370. Therefore, according to the present embodiment, the number of steps can be reduced to about 2/3. When the number of steps is reduced, the yield is also improved. Therefore, the total cost of the LSI chip can be reduced to about 2〜 to よ り compared with the related art.

【0043】また、LSIチップを搭載する基板のコス
トを考えた場合、従来の装置で用いていた透明樹脂より
も本実施の形態における可撓性フィルムの方が約1/2
まで低減することができる。図18に示された従来の無
線タグを約100円とすると、本実施の形態は約30円
程度であり、約1/3まで低減することができる。よっ
て、例えば単価が100円程度の安い商品にも本実施の
形態による装置を無線タグとして用いることが可能であ
り、しかも回収が不要であるので、適用可能な市場が大
幅に拡がる。
In consideration of the cost of the substrate on which the LSI chip is mounted, the flexible film according to the present embodiment is about 1/2 of the transparent resin used in the conventional apparatus.
Can be reduced. Assuming that the conventional wireless tag shown in FIG. 18 costs about 100 yen, the present embodiment costs about 30 yen, which can be reduced to about 1/3. Therefore, the device according to the present embodiment can be used as a wireless tag even for a low-priced product with a unit price of about 100 yen, for example, and collection is not required, so that the applicable market is greatly expanded.

【0044】さらに、本実施の形態によれば従来の無線
タグよりも消費電力を低減する効果が得られる。図14
に示されたように、薄膜シリコン53に形成された各々
のトランジスタにおけるボディ122、123の間を、
埋め込み酸化膜52に接続された絶縁膜124で電気的
に分離するように構成することで、各々のボディ12
2、123の電位を独立して制御することができる。こ
れにより、各々のトランジスタ毎に、ゲート58aとボ
ディ122とを電気的に接続し、同様にゲート58bと
ボディ123とを接続して動作させることができる。
Further, according to the present embodiment, an effect of reducing power consumption as compared with the conventional wireless tag can be obtained. FIG.
As shown in the figure, the space between the bodies 122 and 123 in each transistor formed on the thin film silicon 53 is
By being configured to be electrically isolated by the insulating film 124 connected to the buried oxide film 52, each body 12
2 and 123 can be controlled independently. Thus, for each transistor, the gate 58a and the body 122 can be electrically connected, and similarly, the gate 58b and the body 123 can be connected and operated.

【0045】例えば電源電圧として0.5Vを用いた場
合、図15に示されたように、トランジスタのボディ電
圧はゲート電圧と同じ0.5Vであり、閾値電圧がほぼ
0Vになる。よって、0.5Vの低電源電圧によっても
高速に動作させることができる。また、トランジスタが
オフ状態にある場合、ボディ電位とゲート電位は共に0
Vとなり、閾値電圧が約0.2Vに上昇してオフ時のリ
ーク電流を低減することができる。従来の無線タグは電
源電圧として1.5〜3.0Vを選択しているが、本実
施の形態によれば上述したような理由により消費電力を
1〜2桁低減することが可能である。
For example, when 0.5 V is used as the power supply voltage, the body voltage of the transistor is 0.5 V, which is the same as the gate voltage, and the threshold voltage is almost 0 V, as shown in FIG. Therefore, high-speed operation can be performed even with a low power supply voltage of 0.5 V. When the transistor is off, both the body potential and the gate potential are 0.
V, and the threshold voltage increases to about 0.2 V, so that the off-state leakage current can be reduced. The conventional wireless tag selects 1.5 to 3.0 V as the power supply voltage. However, according to the present embodiment, it is possible to reduce the power consumption by one to two digits for the reasons described above.

【0046】ところで、本実施の形態ではコスト低減の
ため太陽電池等の電源を内蔵していない。このため、図
2にROM/RAM部として示されたような内部メモリ
を用いてデータを送信するように構成する場合には、不
揮発性記憶装置を用いる必要がある。例えば、より低電
源電圧で動作可能なFerro RAMを用いてもよい。こ
こでFerro RAMは、強誘電体を用いてデータの保持
を行うが、強誘電体部はトランジスタの形成後、トラン
ジスタの上部に形成される。よって、本実施の形態のよ
うにシリコン基板が最終的に削除される場合にも形成す
ることが可能である。
By the way, in this embodiment, a power source such as a solar cell is not built in for cost reduction. Therefore, when data is transmitted using an internal memory such as the ROM / RAM section shown in FIG. 2, a nonvolatile storage device must be used. For example, a Ferro RAM operable at a lower power supply voltage may be used. Here, the Ferro RAM uses a ferroelectric material to hold data. The ferroelectric portion is formed above the transistor after the transistor is formed. Therefore, it can be formed even when the silicon substrate is finally deleted as in this embodiment.

【0047】内部メモリの容量は、LSIチップ12の
面積を縮小するため64〜1Kビットというように最小
限に抑えることが望ましい。
It is desirable to minimize the capacity of the internal memory, such as 64 to 1 Kbit, in order to reduce the area of the LSI chip 12.

【0048】また、内部メモリとして随時書き換え可能
なメモリを用いることで、第三者のデータ読み出しを防
ぐ暗号システムを導入した場合のセキュリティを向上さ
せることができる。この場合のメモリとしては、上述し
たFerro RAMの他に、E2 PROMを用いることも
できる。
Further, by using a rewritable memory as the internal memory, it is possible to improve the security when a cryptographic system for preventing data reading by a third party is introduced. As a memory in this case, an E 2 PROM can be used in addition to the above-described Ferro RAM.

【0049】暗号システムとして、従来の無線タグでは
標準的なDES(Data EncryptionStandard)を用いる
場合が多かった。本実施の形態では、このようなシステ
ムを用いてもよいが、セキュリティ性をより高めるため
に、書き換え可能なメモリを用いることで定期的にRF
U部の暗号を再構成してもよい。
Conventional wireless tags often use a standard DES (Data Encryption Standard) as an encryption system. In this embodiment, such a system may be used. However, in order to further enhance security, a rewritable memory is used to periodically perform RF communication.
The encryption of the U part may be reconstructed.

【0050】従来の無線タグでは、上述したようにバル
クシリコン基板にアナログ回路とディジタル回路とを混
載していたため、ディジタル回路が発生するノイズによ
りアナログ回路が誤動作する場合があった。これに対
し、本実施の形態ではバルクシリコン基板を用いずに薄
膜シリコンを用いて回路を形成しているため、ノイズに
よる誤動作を防止することができる。
In the conventional wireless tag, since the analog circuit and the digital circuit are mixedly mounted on the bulk silicon substrate as described above, the analog circuit may malfunction due to noise generated by the digital circuit. On the other hand, in this embodiment mode, a circuit is formed using thin film silicon without using a bulk silicon substrate, so that malfunction due to noise can be prevented.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、可
撓性フィルムにアンテナ及び回路を形成しているため、
変形自在であらゆる形状の商品への貼り付けが可能であ
り、またコストが低減されるため使用後の回収が不要で
あると共に適用可能な市場が拡大され、さらにアンテナ
に受信した電磁波により回路を駆動することで消費電力
の低減が可能である。また、回路が薄膜シリコンに形成
されているため、バルクシリコン基板を用いた場合と異
なり、回路が内部で発生したノイズにより誤動作するこ
とが防止される。
As described above, according to the present invention, since the antenna and the circuit are formed on the flexible film,
It is deformable and can be attached to products of any shape, and because of its reduced cost, it does not need to be collected after use, and the applicable market is expanded.In addition, the circuit is driven by electromagnetic waves received by the antenna By doing so, power consumption can be reduced. Further, since the circuit is formed of thin film silicon, unlike the case where a bulk silicon substrate is used, the circuit is prevented from malfunctioning due to noise generated inside.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態による半導体装置の
外観を示した斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同半導体装置に含まれるLSIチップの内部構
成を示したレイアウト図。
FIG. 2 is a layout diagram showing an internal configuration of an LSI chip included in the semiconductor device.

【図3】同半導体装置を商品に貼り付けた状態を示した
説明図。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a state where the semiconductor device is attached to a product.

【図4】同半導体装置におけるLSIチップを形成する
薄膜シリコンの断面を示した縦断面図。
FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing a section of thin-film silicon forming an LSI chip in the semiconductor device.

【図5】同薄膜シリコンを用いて素子を形成する場合の
ー工程を示した縦断面図。
FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a step in the case of forming an element using the thin film silicon.

【図6】同薄膜シリコンを用いて素子を形成する場合の
図5に続くー工程を示した縦断面図。
FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing a step following FIG. 5 in the case where an element is formed using the thin film silicon.

【図7】同薄膜シリコンを用いて素子を形成する場合の
図6に続くー工程を示した縦断面図。
FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing a step following FIG. 6 in the case where an element is formed using the same thin film silicon.

【図8】同薄膜シリコンを用いて素子を形成する場合の
図7に続くー工程を示した縦断面図。
FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing a step following FIG. 7 in the case of forming an element using the thin film silicon.

【図9】図8に示されたLSIチップをフィルム上に搭
載しアンテナを形成したときの断面を示した縦断面図。
FIG. 9 is a longitudinal sectional view showing a section when the LSI chip shown in FIG. 8 is mounted on a film to form an antenna.

【図10】従来の無線タグにおいて用いられていたバル
クシリコン基板に形成されたMOSトランジスタの断面
を示した縦断面図。
FIG. 10 is a longitudinal sectional view showing a section of a MOS transistor formed on a bulk silicon substrate used in a conventional wireless tag.

【図11】本発明のー実施の形態において用いられる薄
膜シリコンに形成されたMOSトランジスタの断面を示
した縦断面図。
FIG. 11 is a longitudinal sectional view showing a section of a MOS transistor formed on thin film silicon used in an embodiment of the present invention.

【図12】従来の無線タグにおいて用いられていたバル
クシリコン基板に形成されたバイポーラトランジスタの
断面を示した縦断面図。
FIG. 12 is a longitudinal sectional view showing a cross section of a bipolar transistor formed on a bulk silicon substrate used in a conventional wireless tag.

【図13】本発明のー実施の形態において用いられる薄
膜シリコンに形成されたバイポーラトランジスタの断面
を示した縦断面図。
FIG. 13 is a longitudinal sectional view showing a section of a bipolar transistor formed on thin film silicon used in the embodiment of the present invention.

【図14】同実施の形態において用いられる薄膜シリコ
ンに形成され相互に分離された複数のMOSトランジス
タの断面を示した縦断面図。
FIG. 14 is a longitudinal sectional view showing a section of a plurality of MOS transistors formed on thin film silicon and separated from each other used in the embodiment.

【図15】図14に示されたMOSトランジスタの閾値
電圧とボディ電圧との関係を示したグラフ。
15 is a graph showing a relationship between a threshold voltage and a body voltage of the MOS transistor shown in FIG.

【図16】従来の無線タグの外観を示した斜視図。FIG. 16 is a perspective view showing the appearance of a conventional wireless tag.

【図17】同無線タグに含まれるLSIチップの内部構
成を示したレイアウト図。
FIG. 17 is a layout diagram showing an internal configuration of an LSI chip included in the wireless tag.

【図18】従来の他の無線タグの外観を示した斜視図。FIG. 18 is a perspective view showing the appearance of another conventional wireless tag.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 可撓性フィルム 12 LSIチップ 13 アンテナ 21 信号/データ処理部 22 I/F部 23 ROM/RAM部 24 MPU 25 I/O部 31 RF変復調部 32 変調回路 33 復調回路 34 アンテナドライバ 35 RFアンプ 41 林檎 43 バナナ 42、44 無線タグ 51 シリコン基板 52 埋め込み酸化膜 53 薄膜シリコン 54 分離層 55、56、112 N+ 拡散層 57、124 絶縁膜 58、58a、58b ゲート電極 59 アンテナ接続用金属配線 60 接着剤 61 フィルム 115〜117 電極 122、123 ボディ DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Flexible film 12 LSI chip 13 Antenna 21 Signal / data processing part 22 I / F part 23 ROM / RAM part 24 MPU 25 I / O part 31 RF modulation / demodulation part 32 Modulation circuit 33 Demodulation circuit 34 Antenna driver 35 RF amplifier 41 Apple 43 banana 42,44 wireless tag 51 silicon substrate 52 buried oxide film 53 thin silicon 54 separation layer 55,56,112 N + diffusion layer 57,124 insulating film 58,58a, 58b gate electrode 59 antenna connection metal wiring 60 bonding Agent 61 Film 115-117 Electrode 122, 123 Body

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 亀 山 敦 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1 株式会 社東芝研究開発センター内 (72)発明者 吉 原 邦 夫 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1 株式会 社東芝研究開発センター内 Fターム(参考) 5B035 AA00 AA05 AA11 BA03 BB09 BC00 CA01 CA23 5C084 AA03 AA08 BB04 BB21 BB31 CC34 DD07 DD87 GG01 GG52 GG74 5K012 AA05 AB05 AB18 AC08 AC10 AE13 BA03 BA07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Atsushi Kameyama 1 Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside the Toshiba R & D Center Co., Ltd. Kuko Toshiba 1 F-term in Toshiba R & D Center (reference)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】可撓性フィルムと、 前記可撓性フィルム上に形成され、電磁波を受信するア
ンテナと、 前記可撓性フィルム上に搭載された薄膜シリコンに形成
され、前記アンテナに前記電磁波が受信され電磁誘導に
より発生した電力を供給されて動作し、内部に保持して
いるデータを前記アンテナを介して送信する回路と、 を備えることを特徴とする半導体装置。
A flexible film; an antenna formed on the flexible film for receiving an electromagnetic wave; and a thin film silicon formed on the flexible film, wherein the electromagnetic wave is applied to the antenna. And a circuit that operates by being supplied with power generated by electromagnetic induction and that transmits data held therein via the antenna.
【請求項2】前記回路は、前記アンテナにより受信され
た前記電磁波を信号として与えられて所定の処理を行
い、この処理の結果に基づいて内部に保持している前記
データを前記アンテナを介して送信することを特徴とす
る請求項1記載の半導体装置。
2. The circuit receives the electromagnetic wave received by the antenna as a signal, performs predetermined processing, and, based on a result of the processing, stores the data held therein via the antenna. The semiconductor device according to claim 1, wherein the transmission is performed.
【請求項3】前記回路は、前記データを記憶する書き換
え可能なメモリをさらに備えることを特徴とする請求項
1又は2記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein said circuit further comprises a rewritable memory for storing said data.
【請求項4】前記回路は、前記薄膜シリコンにおいてボ
ディが相互に電気的に分離されるように形成された複数
のトランジスタを有し、各々のトランジスタにおけるボ
ディ電位はゲート電位と同一になるように、他のトラン
ジスタのボディ電位とは独立して制御されることを特徴
とする請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置。
4. The circuit has a plurality of transistors formed in the thin film silicon such that bodies are electrically separated from each other, and a body potential of each transistor is equal to a gate potential. 4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is controlled independently of a body potential of another transistor.
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