DE3643629A1 - Verfahren zur stabilisierung der wellenlaenge eines halbleiterlasers und halbleiterlaser-wellenlaengenstabilisators - Google Patents
Verfahren zur stabilisierung der wellenlaenge eines halbleiterlasers und halbleiterlaser-wellenlaengenstabilisatorsInfo
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Description
Die Erfindung betrifft einen Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator
zur Stabilisierung der Wellenlänge eines
Halbleiterlasers, indem diese mit der Absorptionslinie
von Atomen und Molekülen in Einklang gebracht wird.
Zum besseren Verständnis des Ausgangspunktes der Erfindung
wird bereits an dieser Stelle auf die Zeichnungen
Bezug genommen.
Fig. 1 zeigt ein Blockschaltbild eines herkömmlichen
Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisators. Modulationssignale
mit einer Frequenz fm werden überlappt mit einem
elektrischen Strom von einem Halbleiterlaser LD, wodurch
die Oszillationswellenlänge des Laserausgangs moduliert
wird. Mittels eines Lichtstrahlverteilers BS wird ein
Lichtstrahl abgespalten, der auf eine Absorptionszelle CL
auftrifft, in der eine Norm- bzw. Vergleichssubstanz eingeschlossen
ist, die eine Absorption bei einer gegebenen
Wellenlänge bewirkt. Ein anderer, von dem Lichtstrahlverteiler
BS abgespaltener Lichtstrahl wird an einem Spiegel M
reflektiert und wird dann zum Ausgangslicht. Das von
der Absorptionszelle CL austretende Licht wird durch
einen Fotodetektor PD in elektrische Signale umgewandelt
und die so umgewandelten Signale werden dann synchron
bei einer Frequenz fm mittels eines Lock-in-Verstärkers
bzw. Einfang- oder Phaseneinrastverstärkers LA gleichgerichtet.
Es ist möglich, durch Steuerung des elektrischen
Stroms des Halbleiterlasers LD die Wellenlänge
des Halbleiterlasers auf die Absorptionslinie der in
der Absorptionszelle vorhandenen Atome einrasten zu
lassen, so daß die Ausgangssignale des Lock-in-Verstärkers
LA durch eine Steuereinrichtung CT auf einen bestimmten
Wert gebracht werden.
Beim bekannten Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator
rastet jedoch eine Mittenfrequenz des Ausgangslichts
des Halbleiterlasers auf die Absorptionslinie der Vergleichssubstanz
ein, wodurch der Mittenfrequenz Stabilität
verliehen wird. Die Frequenz unterliegt jedoch
beständig Fluktuationen mit der Modulationsfrequenz fm,
was insofern zu einem Fehler führt, daß der Augenblickswert
der Oszillationsfrequenz unstabil ist.
Demgegenüber besteht die Hauptaufgabe der Erfindung
darin, die bekannten Probleme zu vermeiden und einen
Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator zu beschaffen,
bei dem auch der Augenblickswert der Oszillationsfrequenz
stabil ist.
Dies wird dadurch erreicht, daß das vom Halbleiterlaser
emittierte modulationsfreie Licht auf eine Absorptionszelle
auftrifft, Frequenzmodulationssignale in Amplitudenmodulationssignale
des Ausgangslichts mittels einer
Modulationseinrichtung unter Verwendung der Absorptionseigenschaften
der Absorptionszelle umgewandelt werden,
das von der Absorptionszelle durchgelassene Licht mittels
eines Lock-in-Verstärkers synchron gleichgerichtet
wird, der elektrische Strom des Halbleiterlasers so gesteuert
wird, daß das Ausgangssignal des Lock-in-Verstärkers
einen bestimmten Wert erhält und die Wellenlänge
des Ausgangslichts auf die Absorptionslinie einer
Vergleichssubstanz eingerastet wird, wodurch die Oszillationsfrequenz
auch hinsichtlich des Augenblickswerts
stabil gemacht wird.
Weitere Aufgaben und Vorteile der Erfindung sind in
der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Weitere
vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung sind in
den Ansprüchen 1 bis 22 beschrieben.
Ausführungsformen der Erfindung werden anhand der Zeichnungen
näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 ein Blockschaltbild eines herkömmlichen Halbleiterlaser-
Wellenlängenstabilisators;
Fig. 2 ein Blockschaltbild einer ersten Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 3 eine Ansicht einer Infinitesimalstruktur eines
Energieniveaus eines Cs-Atoms;
Fig. 4 eine Ansicht zur Darstellung der durch die Cs-
Atome verursachten Absorption;
Fig. 5 eine erläuternde Ansicht zur Darstellung der
Betriebsweise der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung;
Fig. 6 ein zweites charakteristisches Kurvendiagramm
zur Darstellung der Betriebsweise der in Fig. 2 dargestellten
Vorrichtung;
Fig. 7 ein Blockschaltbild zur Darstellung eines wesentlichen
Teils einer zweiten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 8 ein Blockschaltbild zur Darstellung eines wesentlichen
Teils eines optischen Systems einer dritten Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 9 ein Blockschaltbild einer vierten Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 10 eine Darstellung der Ausgangssignale eines
Lock-in-Verstärkers der in Fig. 9 dargestellten Vorrichtung;
Fig. 11 ein Blockschaltbild zur Darstellung eines wesentlichen
Teils einer fünften Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 12 ein Blockschaltbild zur Darstellung eines wesentlichen
Teils einer sechsten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 13 ein Blockschaltbild zur Darstellung des wesentlichen
Teils einer siebten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 14 eine Schnittansicht zur Darstellung eines wesentlichen
Teils einer achten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 15 eine Darstellung zur Erläuterung der Betriebsweise
der in Fig. 14 dargestellten Vorrichtung;
Fig. 16 ein Blockschaltbild eines Beispiels, bei dem
eine unterkritische (evanescent) Absorption des Lichts
einer neunten Ausführungsform der Erfindung verwendet
wird;
Fig. 17 eine Ansicht zur Erläuterung der Betriebsweise
der in Fig. 16 dargestellten Vorrichtung;
Fig. 18 ein Blockschaltbild eines wesentlichen Teils
einer zehnten Ausführungsform der Erfindung, bei der
ein Teil der in Fig. 16 dargestellten Vorrichtung etwas
modifiziert ist;
Fig. 19 ein Blockschaltbild einer elften Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 20 eine Ansicht zur Erläuterung der Betriebsweise
der in Fig. 19 dargestellten Vorrichtung;
Fig. 21 ein Blockschaltbild eines wesentlichen Teils einer
zwölften Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 22 ein Blockschaltbild einer dreizehnten Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 23 ein Blockschaltbild eines wesentlichen Teils
einer vierzehnten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 24 ein Blockschaltbild eines wesentlichen Teils
einer fünfzehnten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 25 ein Blockschaltbild einer sechzehnten Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 26, 27 Ansichten zur Darstellung des Ausgangssignals
des Lock-in-Verstärkers der in Fig. 25 dargestellten
Vorrichtung;
Fig. 28 ein Blockschaltbild einer siebzehnten Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 29 ein Blockschaltbild einer achzehnten Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 30 ein Blockschaltbild eines wesentlichen Teils einer
neunzehnten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 31 bis 33 Ansichten zur Darstellung eines Aspekts
der Zeeman-Trennung des Energieniveaus des Cs-Atoms;
Fig. 34 ein Blockschaltbild zur Darstellung einer zwanzigsten
Ausführungsform der Erfindung, bei der der
Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator in der Schaltung
integriert ist;
Fig. 35 eine Tabelle zur Darstellung einer konkreten
Methode zur Verwirklichung einzelner Komponenten der
in Fig. 34 dargestellten Vorrichtung;
Fig. 36, 37 perspektivische Ansichten zur Darstellung
des wesentlichen Teils eines weiteren konkreten Beispiels
nach Fig. 34;
Fig. 38 bis 40 Teilschnittansichten des in Fig. 34 dargestellten
Beispiels;
Fig. 41 eine Draufsicht auf den Aufbau einer einundzwanzigsten
Ausführungsform der Erfindung, wobei die
in Fig. 34 dargestellte Vorrichtung noch engere Spektren
aufweist;
Fig. 42, 43 Ansichten zur Darstellung des wesentlichen
Teils eines weiteren konkreten Beispiels der in Fig. 41
dargestellten Vorrichtung;
Fig. 44 ein Blockschaltbild einer zweiundzwanzigsten
Ausführungsform der Erfindung und
Fig. 45 eine Darstellung zur Erläuterung der Betriebsweise
der in Fig. 44 dargestellten Vorrichtung.
Fig. 2 zeigt das Blockschaltbild einer Ausführungsform
eines erfindungsgemäßen Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisators.
Mit dem Bezugszeichen LD 1 ist ein Halbleiterlaser
gekennzeichnet. Mit dem Bezugszeichen PE 1
ist ein Peltier-Element zum Abkühlen oder Aufheizen des
Halbleiterlasers LD 1 gekennzeichnet. Mit CT 1 ist eine
Temperatursteuereinrichtung zur Steuerung der Temperatur
des Halbleiterlasers LD 1 auf einen bestimmten
Wert zur Steuerung des Peltier-Elements gekennzeichnet.
Mit TB 1 ist ein Konstanttemperaturofen zur Verminderung
der Temperaturfluktuationen gekennzeichnet,
in dem der oben beschriebene Halbleiterlaser LD 1 und
das Peltier-Element PE 1 untergebracht sind. Mit BS 1
ist ein Lichtstrahlverteiler zur zweiseitig gerichteten
Aufteilung des vom Halbleiterlaser emittierten
Ausgangslichts gekennzeichnet. UM 1 steht für eine bekannte
opto-akustische bzw. akusto-optische Ablenkvorrichtung (AOD), auf
die ein vom Lichtstrahlverteiler austretender Lichtstrahl
auftrifft. Diese opto-akustische Ablenkvorrichtung
stellt eine Modulationseinrichtung dar. Mit
CL 1 ist eine Absorptionszelle gekennzeichnet, auf die das
Beugungslicht von der opto-akustischen Ablenkvorrichtung
UM 1 auftrifft. Die Absorptionszelle CL 1 schließt eine
Vergleichs- bzw. Normsubstanz (im nachfolgenden wird
Cs impliziert) ein, die das Licht bei einer bestimmten
Wellenlänge absorbiert. Mpt PD 1 ist ein Fotodetektor
gekennzeichnet, auf den das von der Absorptionszelle
CL 1 durchgelassene Licht auftrifft. Mit dem Bezugszeichen
A 1 ist ein Verstärker gekennzeichnet, dem
die elektrischen Ausgangssignale des Fotodetektors
PD 1 eingegeben werden. Mit LA 1 ist ein Lock-in-Verstärker,
dem die elektrischen Ausgangssignale des
Verstärkers A 1 eingegeben werden, und mit CT 2 ein
PID-Regler gekennzeichnet, der eine Regelschaltung
des elektrischen Stroms darstellt, dem die Ausgangssignale
des Lock-in-Verstärkers LA 1 eingegeben werden
und der den elektrischen Strom des Halbleiterlasers
LD 1 regelt. Mit dem Bezugszeichen SW 1 ist ein Schalter,
dessen eines Ende mit der opto-akustischen Ablenkvorrichtung
UM 1 verbunden ist, und mit SG 1 ein
Signalgenerator gekennzeichnet, der die Ausgangssignale
so aussendet, daß der Schalter SW 1 mit der Frequenz fm
(beispielsweise 2 kHz) ein- und ausgeschaltet wird.
Mit dem Bezugszeichen SG 2 ist ein zweiter Signalgenerator
gekennzeichnet, mit dem das andere Ende des
Schalters SW 1 verbunden ist. Dieser zweite Signalgenerator
SG 2 hat eine Frequenz f D (beispielsweise 80 MHz).
Die Betriebsweise des oben beschriebenen Halbleiterlaser-
Wellenlängenstabilisators wird im nachfolgenden
beschrieben. Die Temperatur des Halbleiterlasers LD 1
wird mittels des Peltier-Elements PE 1 auf einen festen
Wert geregelt, indem durch die Regelschaltung CT 1 Temperaturdetektorsignale
in den Konstanttemperaturofen
TB 1 eingegeben werden. Das Ausgangslicht des Halbleiterlasers
LD 1 wird mittels des Lichtstrahlverteilers
BS 1 zweiseitig aufgespalten. Das reflektierte Licht
wird das Ausgangslicht zur Umgebung hin und das durchgelassene
Licht wird zum Einfall auf die opto-akustische
Ablenkvorrichtung UM 1 gebracht. Da die opto-akustische
Ablenkvorrichtung UM 1 bei eingeschaltetem
Schalter SW 1 durch die Ausgangssignale des Signalgenerators
SG 2 mit der Frequenz f D gesteuert wird, wird
die Mehrheit des einfallenden Lichts bei einer Frequenz
γ 0 abgelenkt und dann einer Frequenz-(Doppler)-Verschiebung
unterzogen. Das Licht mit einer Frequenz γ 0 + f D ,
das als Primär-Beugungslicht definiert wird, trifft
auf die Absorptionszelle CL 1 auf. Wenn der Schalter SW 1
ausgeschaltet ist, trifft das Licht mit der Frequenz
γ 0, das als Null-Dimensions-Beugungslicht definiert
wird, auf die Absorptionszelle CL 1. Der Schalter SW 1
wird mit einer Taktfrequenz fm gesteuert, die durch
den Signalgenerator SG 1 geliefert wird. Damit wird das
auf die Absorptionszelle CL 1 auftreffende Licht einer
Frequenzmodulation mit der Modulationsfrequenz fm und
dem Modulationsgrad bzw. der Modulationstiefe f D unterzogen.
Fig. 3 zeigt die Energieniveaus der Cs-Atome. Wenn Licht
mit einer Wellenlänge von 852,112 nm auf die Cs-Atome
auftrifft, so werden Ladungsträger von 6S1/2 auf 6P3/2
angeregt und das Licht verliert seine Energie, wodurch
Absorption stattfindet. In diesem Fall bestehen die
Niveaus 6S1/2 bzw. 6P3/2 aus 2 bzw. 4 Teilen von Infinitesimalstrukturen.
Genau genommen tritt daher die Absorption
bezüglich des Lichts mit sechs Arten von Wellenlängen
(oder Frequenzen) zwischen diesen Energieniveaus
auf. Da jedoch die Absorptionsspektrumsbreite mehrere
100 MHz wegen der Doppler-Verbreiterung aufweist,
kann üblicherweise keine Infinitesimalstruktur mit dem
Niveau von 6P3/2 beobachtet werden. Wie in Fig. 4 dargestellt
ist, wird beobachtet, daß zwei Arten von Absorptionen
(a) und (b) auf einer Absorptionsspektrallinie
vorhanden sind. Die in Fig. 4 dargestellten Absorptionssignale
(a) betreffen die von F 4 (vgl. Fig. 4)
ausgesendeten Signale, während die Absorptionssignale
(b) die von F 3 (vgl. Fig. 3) ausgesendeten Signale betreffen.
Wenn das von der opto-akustischen Ablenkvorrichtung
UM 1 modulierte Licht auf die Absorptionszelle CL 1 auftrifft,
wie es in der die Betriebsweise darstellenden
Ansicht nach Fig. 5 dargestellt ist, scheint das durch
die durchgelassene Lichtmenge gegebene Ausgangssignal
allein an der Stelle der Absorptionssignale (beispielsweise
(a) nach Fig. 4) moduliert zu sein. Wenn dieses
Signal mittels des Fotodetektors PD 1 in ein elektrisches
Signal umgewandelt und das so umgewandelte Signal
dann bei einer Frequenz fm im Lock-in-Verstärker LA 1
mittels des Verstärkers A 1 synchron gleichgerichtet
wird, so wird eine Primär-Differentialwellenform erhalten,
die in dem die Frequenzcharakteristik darstellenden
Kurvendiagramm nach Fig. 6 dargestellt ist.
Wenn die Ausgänge des Lock-in-Verstärkers LA 1 auf die
Mitte der oben erwähnten Primär-Differentialwellenform
einrasten bzw. eingeregelt werden, so hat das Ausgangslicht
des Halbleiterlasers eine stabile Frequenz
von γ s -f D /2.
Da die Oszillationsfrequenz des Lasers nicht moduliert
wird, ist die Lichtquelle des so aufgebauten Halbleiterlaser-
Wellenlängenstabilisators mit einer hohen Stabilität
auch bezüglich des Augenblickswerts ausgestattet.
Selbst wenn der Beugungswirkungsgrad der opto-akustischen
Ablenkvorrichtung UM 1 verändert wird, nimmt eine
optische Komponente (Null-Dimensions-Beugungslicht),
die nicht zur Modulation beiträgt, in der Größe zu, während
die Signalintensität nur abnimmt und es wird kein
Einfluß auf die Mittenwellenlänge ausgeübt.
Es ist hier anzumerken, daß die Modulationsfrequenz
fm als Bezugsfrequenz des Lock-in-Verstärkers LA 1 in
der oben beschriebenen Ausführungsform verwendet wurde.
Es können jedoch auch ungeradzahlige Vielfache dieser
Frequenz verwendet werden.
Anstelle von Cs kann als Vergleichssubstanz in der Absorptionszelle
GL 1 auch beispielsweise Rb, NH3 oder H2O
verwendet werden.
Bei der oben beschriebenen Ausführungsform wird eine
opto-akustische Ablenkvorrichtung als Modulationseinrichtung
verwendet. Die Anmeldung ist jedoch nicht auf
diese Einrichtung beschränkt. So kann beispielsweise
auch ein Phasenmodulator verwendet werden, bei dem ein
opto-elektronisches Element verwendet wird. Dieses umfaßt
beispielsweise einen Longitudinal-Modulator, einen
Lateral-Modulator und einen Wanderwellen-Modulator
(Amnon Yarif: Fundamentals of Optical Electronics, veröffentlicht
by Maruzen Books, P 247-P 253).
Bei der oben beschriebenen Ausführungsform wird der
elektrische Strom des Halbleiterlasers durch die Ausgangssignale
der Regelungseinrichtung geregelt. Die
Erfindung ist jedoch hierauf nicht begrenzt. So kann
beispielsweise auch die Temperatur des Halbleiterlasers
geregelt werden.
Fig. 7 zeigt ein Blockschaltbild eines wesentlichen
Teils einer zweiten Ausführungsform der Erfindung.
Diese Ausführungsform ist gegenüber der Vorrichtung
nach Fig. 2 dahingehend unterschiedlich, daß ein FM-
Modulator FM 1 durch einen Sinuswellengenerator SG 20
(beispielsweise mit einer Modulationsfrequenz fm = 2 kHz)
geregelt wird, wodurch die opto-akustische Ablenkvorrichtung
UM 1 durch Sinuswellen moduliert wird.
Fig. 8 zeigt ein Blockschaltbild eines wesentlichen
Teils eines optischen Systems einer dritten Ausführungsform
der Erfindung. Gegenüber der in Fig. 2 dargestellten
Vorrichtung bestehen folgende Unterschiede. Mit
dem Bezugszeichen HM 1 ist ein Halbspiegel gekennzeichnet,
der das Ausgangslicht des Halbleiterlasers
LD 1 zweiseitig aufteilt und das reflektierte Licht
von einer Richtung auf die opto-akustische Ablenkvorrichtung
UM 1 auftreffen läßt. Mit dem Bezugszeichen
M 1 ist ein Spiegel gekennzeichnet, auf dem das durch
den Halbspiegel HM 1 hindurchtretende Licht reflektiert
wird, wobei das reflektierte Licht von einer anderen
Richtung auf die opto-akustische Ablenkvorrichtung
UM 1 auftrifft. Wenn der Schalter SW 1 ausgeschaltet
ist, durchläuft das vom Halbspiegel HM 1 reflektierte
Licht die opto-akustische Ablenkvorrichtung UM 1 und
trifft dann auch die Absorptionszelle CL 1 mit der Frequenz
q 0 auf. Wenn der Schalter SW 1 eingeschaltet ist,
wird das vom Spiegel M 1 reflektierte Licht durch die
opto-akustische Ablenkvorrichtung UM 1 abgelenkt bzw.
gebeugt und trifft dann auf die Absorptionszelle CL 1
mit der Frequenz γ 0 + f D auf.
Der so aufgebaute Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator
hat den Vorteil, daß der Lichtweg innerhalb
der Absorptionszelle unbeweglich ist. Wenn jedoch
ein Phasenmodulator verwendet wird, der ein opto-elektrisches
Element als Modulationseinrichtung verwendet,
so tritt diese Notwendigkeit nicht auf, da die Richtung
des Ausgangslichts unveränderlich ist.
Bei der in Fig. 9 dargestellten vierten Ausführungsform
der Erfindung trifft ein Teil der Strahlen bzw.
des Strahlenflusses des aus der opto-akustischen Ablenkeinrichtung
UM 1 austretenden Lichts - als Pumplicht -
auf die Absorptionszelle auf, während der andere Teil
der schmalen Strahlen bzw. des schmalen Strahlenflusses
des austretenden Lichts - als Probenlicht - von
der entgegengesetzten Richtung auf die Absorptionszelle
auftrifft, wodurch gesättigte Absorptionssignale
erhalten werden. Mittels der Sättigungs-Absorptionsspektroskopie
(T. Yabuzaki, A. Hori, M. Kitano und
T. Ogawa: Frequency Stabilization of Diode Lasers
Using Doppler-Free Atomic Spectra, Proc. Ict. Conf.
Laser's 83) verschwindet die Doppler-Verbreiterung.
Damit ist es möglich, die Infinitesimalstruktur zu
unterschieden, die oben in Zusammenhang mit Fig. 3
erläutert wurde. Da die auf der Infinitesimalstruktur
basierenden Ausgangssignale des Lock-in-Verstärkers,
wie sie in Fig. 10 dargestellt sind, erhalten
werden, ist es möglich, einen noch stabileren Halbleiterlaser-
Wellenlängenstabilisator durch Einrasten
auf irgendeine der Frequenzen davon zu erreichen, beispielsweise
auf γ 1 nach Fig. 10. Der in Fig. 9 gestrichelt
dargestellte Teil ist von dem in Fig. 2
verschieden. So sind insbesondere Lichtstrahlverteiler
BS 5 bis BS 9. Lichtaufnahmeelemente PD 11 und
PD 2 sowie ein Differenzverstärker DA 1 vorgesehen und
der Ausgang des Differenzverstärkers DA 1 ist mit dem
Lock-in-Verstärker LA 1 verbunden. In diesem Fall ist
es tatsächlich günstig, den Aufbau nach Fig. 8 anzunehmen,
damit die Richtung des Ausgangslichts der opto-
akustischen Ablenkvorrichtung UM 1 sich überhaupt nicht
ändert.
Fig. 11 zeigt ein Blockschaltbild eines wesentlichen
Teils einer fünften Ausführungsform der Erfindung, die
sich teilweise von der in Fig. 2 dargestellten Ausführungsform
unterscheidet. In Fig. 11 ist nur der die
Absorptionszelle CL 1 umgebende Teil dargestellt. Mit
den Bezugszeichen 1 und 2 sind Reflektionsteile und
mit dem Bezugszeichen 3 ein Lichtweg für das Ausgangslicht
der opto-akustischen Ablenkvorrichtung UM 1 gekennzeichnet,
wobei dieses Licht das Nulldimensions-
Beugungslicht und das Primär-Beugungslicht subsumiert.
Das Ausgangslicht der opto-akustischen Ablenkvorrichtung
UM 1 durchläuft die Absorptionzelle CL 1 und wird
dann am Reflektionsteil 2 reflektiert. Das so reflektierte
Licht tritt noch einmal durch die Absorptionszelle
CL 1 hindurch und wird in ähnlicher Weise am Reflektionsteil 1
reflektiert. Nach dem Hindurchtreten
durch die Absorptionszelle CL 1 trifft das Ausgangslicht
auf den Fotodetektor PD 1 auf. Da das Licht die
Absorptionszelle CL 1 dreimal durchläuft, bleibt das
Maß der Absorption gleich, wenn die Länge der Absorptionszelle
um den Faktor 3 vermindert wird.
Fig. 12 ist ein ähnliches Blockschaltbild wie Fig. 11
und zeigt den wesentlichen Teil einer sechsten Ausführungsform
der Erfindung. Bei dieser Ausführungsform
werden die Breite der Absorptionszelle CL 1 und der
Reflektionsteile 1 und 2 in der Absicht verbreitert,
um mehrere Male Reflektionen des Lichts zu bewirken.
Das von der opto-akustischen Ablenkvorrichtung UM 1
emittierte Ausgangslicht wird auf den Reflektionsteilen 1
bzw. 2 reflektiert und trifft dann auf den
Fotodetektor PD 1 auf. Das heißt, das Ausgangslicht
durchläuft die Absorptionszelle fünfmal und es ist
möglich, die Länge der Absorptionszelle proportional
dazu zu vermindern. Es ist möglich, die Zahl der Durchgänge
des Lichts durch die Absorptionszelle CL 1 durch
Einstellen der Breiten der Absorptionszelle CL 1 als
auch der Reflektionsteile 1 und 2 sowie eines
Winkels, mit dem das Ausgangslicht auf die Absorptionszelle
CL 1 auftrifft, beliebig einzustellen.
Fig. 13 zeigt ein Blockschaltbild - ähnlich dem nach
Fig. 12 - eines wesentlichen Teils einer siebten Ausführungsform
der Erfindung. Bei dieser Ausführungsform
sind die Reflektionsteile 1 und 2 nicht individuell
vorgesehen. Stattdessen ist als Reflektionsteil ein
metallischer Dünnfilm 4 durch Aufdampftechnik oder andere
ähnliche Verfahren auf der Absorptionszelle CL 1
ausgebildet. Mit dieser Ausführungsform ist es möglich,
die Vorrichtung hinsichtlich der Größe noch weiter zu
vermindern.
Bei den in Fig. 11 bis 13 dargestellten Ausführungsformen,
bei denen die Größe der Absorptionszelle gleich
ist wie bei der herkömmlichen Vorrichtung, kann die
Länge des Lichtwegs gegenüber der herkömmlichen Vorrichtung
erhöht werden. Dies hat zur Folge, daß der
Absorptionsgrad zunimmt und die Stabilität der Wellenlänge
des Ausgangslichts verbessert wird.
Fig. 14 zeigt eine Schnittansicht eines wesentlichen
Teils einer achten Ausführungsform der Erfindung, wobei
diese Schnittansicht entlang der durch die Zentralachse
der Absorptionszelle CL 1 in der in Fig. 2 dargestellten
Vorrichtung verläuft. Mit dem Bezugszeichen 5
ist ein Gefäß der Absorptionszelle, mit dem Bezugszeichen 6
die Ebene des einfallenden Lichts, mit dem Bezugszeichen 7
die Ebene des austretenden Lichts, mit
dem Bezugszeichen 8 eine abgedichtete Öffnung und mit
dem Bezugszeichen 9 die Zentralachse der Absorptionszelle
CL 1 gekennzeichnet. Sowohl die Einfallsebene 6
als auch die Austrittsebene 7 sind um den Winkel R
gegenüber der Ebene senkrecht zur Zentralachse 9 geneigt.
Fig. 15 zeigt einen Aspekt der Multireflektion des
Lichts auf der Einfallsebene 6. Mit dem Bezugszeichen
10 ist ein Strahlungsfluß des einfallenden Lichts, mit
dem Bezugszeichen 11 ein weiterer Strahlungsfluß des
einfallenden Lichts innerhalb des Gefäßes 5 der Absorptionszelle,
mit dem Bezugszeichen 12 ein Strahlungsfluß
des durchgelassenen Lichts, mit dem Bezugszeichen 13
ein Strahlungsfluß des mehrfach reflektierten Lichts
innerhalb des Gefäßes 5 und mit 14 ein weiterer Strahlungsfluß
des mehrfach reflektierten Lichts gekennzeichnet,
der aus dem Gefäß 5 austritt. Da die Einfallsebene 6
nicht parallel zu der, zur Zentralachse des
Gefäßes 5 senkrechten Ebene verläuft, werden die mehrfach
reflektierten Lichtstrahlenflüsse 13 und 14 des
einfallenden Lichtstrahls 10, der parallel zur Zentralachse
einfällt, in einer zur Richtung des einfallenden
Lichtflusses 10 verschiedenen Richtung reflektiert.
Aus diesem Grund interferrieren der einfallende Lichtstrahl
11 und der mehrfach reflektierte Lichtstrahl 13
überhaupt nicht miteinander und der einfallende Lichtstrahl
10, der durchgelassene Lichtstrahl 14 interferrieren in
ähnlicher Weise ebenfalls nicht miteinander. Damit wird
keine Störung infolge Interferenz verursacht und die
Intensität des durchgelassenen Lichts fluktuiert nicht
mit der Frequenz, wodurch Stabilität erreicht wird. Das
oben für die Einfallsebene 6 Gesagte gilt in ähnlicher
Weise für die Austrittsebene 7. Der schräge Winkel R
ändert sich entsprechend der Dicke des Gefäßes 5, des
Strahlungsdurchmessers des einfallenden Lichts oder dergleichen,
jedoch sind zwei bis drei Grad in einem normalen
Fall ausreichend. Bei der beschriebenen Ausführungsform
weist das Gefäß 5 einen kreisförmigen Zylinder auf.
Es kann jedoch auch eine andere Gestalt aufweisen, auch
eine winklige Gestalt. Kurz gesagt sind die Einfallsebene
und die Austrittsebene flach und es ist lediglich
erforderlich, daß sie einander gegenüber angeordnet
sind. Die Einfalls- und Austrittsebenen 6 und 7
des Gefäßes 5 können aus lichtdurchlässigem Material
bestehen und andere Teile können lichtundurchlässig
sein. Darüber hinaus müssen nicht beide Seiten des Gefäßes 5,
also die Innen- und Außenseite, notwendigerweise
Neigungen der Einfalls- und Austrittsebenen 6
bzw. 7 aufweisen. Es ist ausreichend, wenn eine davon
geneigt ist.
Fig. 16 zeigt ein Blockschaltbild einer neunten Ausführungsform
der Erfindung, bei der eine unterkritische
Absorption des Lichts verwendet wird. Dabei sind die
gegenüber der in Fig. 2 dargestellten Ausführungsform
gleichen Bauteile mit den gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet
und es wird deren Beschreibung der Einfachheit
halber weggelassen. Mit FB 1 ist eine einwellige
optische Faser gekennzeichnet, in die das Ausgangslicht
des Halbleiterlasers LD 1 einfällt, und mit CP 1 ist ein
Faserkoppler gekennzeichnet, dem das Ausgangslicht der
optischen Faser FB 1 eingegeben wird. Mit FB 2 ist eine
weitere einwellige optische Faser gekennzeichnet, in
die ein Strahlungsfluß des Ausgangslichts des Faserkopplers
CP 1 einfällt. Mit FB 3 ist eine weitere einwellige
optische Faser gekennzeichnet, in die ein weiterer
Strahlungsfluß des Ausgangslichtes des Faserkopplers
CP 1 eingeleitet wird. Mit dem Bezugszeichen UM 11
ist eine opto-akustische Ablenkvorrichtung mit Wellenleiterdurchgang
gekennzeichnet, der das Ausgangslicht
der optischen Faser FB 3 eingegeben wird. Mit dem Bezugszeichen
FB 4 ist eine weitere einwellige optische Faser
gekennzeichnet, in die das Ausgangslicht der opto-akustischen
Ablenkvorrichtung UM 11 eingeleitet wird und
die das Licht an den Fotodetektor PD 1 emittiert. Mit
dem Bezugszeichen CL 1 ist eine Absorptionszelle gekennzeichnet,
durch die die optische Faser FB 4 hindurchläuft.
Diese Absorptionszelle weist eine Vergleichssubstanz
(im nachfolgenden wird Cs angenommen) auf,
die das Licht bei einer gegebenen Wellenlänge absorbiert.
Mit dem Bezugszeichen a ist ein Kernabschnitt
gekennzeichnet, der dadurch gebildet wird, daß ein
Überzugsteil der optischen Faser FB 4 entfernt wird.
Die Betriebsweise eines derartigen Halbleiterlaser-
Wellenlängenstabilisators wird im nachfolgenden beschrieben.
Das Ausgangslicht des bezüglich der Temperatur
geregelten Halbleiterlasers LD 1 wandert über
die optische Faser FB 1 und wird dann mittels des Faserkopplers
CP 1 in zwei Richtungen aufgeteilt. Ein
Flußstrahl des so abgezweigten Ausgangslichts emittiert
über die optische Faser FB 2 nach außen. Der andere
Strahlungsfluß des Ausgangslichts trifft über die optische
Faser FB 3 auf die opto-akustische Ablenkvorrichtung
UM 11 des Wellenleiterdurchgangstyps auf. Das
duch die opto-akustische Ablenkvorrichtung U 11 modulierte
Licht wandert durch die optische Faser FB 4
und durchläuft dann die Absorptionszelle CL 11. Innerhalb
der Absorptionszelle CL 11 wird, wie es in Fig. 17
dargestellt ist, eine unterkritische Welle in einem
Teil erzeugt, in dem das sich fortpflanzende Licht
aus dem Kernbereich der optischen Faser FB 4 austritt.
Ein elektrisches Feld in diesem Bereich wirkt gegenseitig
auf das Umgebungsgas Cs, wodurch die Absorption
bei der bestimmten Wellenlänge stattfindet. Wenn daher
das Ausgangssignal der optischen Faser FB 4 mittels des
Fotodetektors PD 1 festgestellt wird, so werden Absorptionssignale
geliefert. Durch Rückführung des Ausgangssignals
zum Lock-in-Verhältnis LA 1 und dergleichen
zurück zum Halbleiterlaser LD 1 kann - wie bei der herkömmlichen
Vorrichtung - die Oszillationsfrequenz des
Halbleiterlasers in einem Bereich in der Nähe der Absorptionsmitte
geregelt werden.
Bei dieser Ausführungsform des erfindungsgemäßen Halbleiterlaser-
Wellenlängenstabilisators ergeben sich die
gleichen Vorteile wie bei der Ausführungsform nach
Fig. 2. Zusätzlich dazu besteht das gesamte optische
System aus optischen Fasern und es ist daher kein Positionierungsvorgang
erforderlich, wodurch die Einstellung
vereinfacht und eine Miniaturisierung der
Vorrichtung erreicht wird.
Bei der oben beschriebenen Ausführungsform wird eine
einwellige Faser als optische Faser FB 4 verwendet,
die durch die Absorptionszelle CL 11 hindurchtritt.
Es ist jedoch anzumerken, daß auch eine Multimode-
Faser verwendbar ist.
Fig. 18 zeigt ein Blockschaltbild des wesentlichen Teils
einer zehnten Ausführungsform der Erfindung, bei der
das in Fig. 16 dargestellte Teil 100 hinsichtlich der
Form verändert ist und bei der ein Sättigungsabsorptionsverfahren
verwendet wird. Mit dem Bezugszeichen
FB 5 ist eine einwellige optische Faser zur Fortpflanzung
des Ausgangslichts der opto-akustischen Ablenkvorrichtung
UM 11 gekennzeichnet. Mit CP 2 ist ein Faserkoppler
gekennzeichnet, dessen eines Ende mit der optischen
Faser FB 5 verbunden ist. Mit dem Bezugszeichen
FB 6 ist eine weitere einwellige optische Faser gekennzeichnet,
die mit dem anderen Ende des Faserkopplers
CP 2 verbunden ist. Mit dem Bezugszeichen b ist ein Kernteil
gekennzeichnet, der dadurch gebildet wird, daß ein
Überzugteil der optischen Faser FB 6 innerhalb der Absorptionszelle
CL 2 entfernt wird. Mit dem Bezugszeichen 15
ist die mit einem Halbspiegel überzogene Endfläche der
optischen Faser FB 6 gekennzeichnet. Mit PD 21 ist ein
erster Fotodetektor zum Feststellen des von der Endfläche
15 übertragenen Lichts gekennzeichnet. Mit PD 11
ist ein zweiter Fotodetektor zum Feststellen des reflektierten
Lichts von der Endfläche 15 der optischen
Faser FB 6 mittels des Faserkopplers CP 2 gekennzeichnet.
Mit A 11 ist ein Differenzverstärker gekennzeichnet, dem
die Ausgangssignale der Fotodetektoren PD 21 und PD 11
zugeführt und dessen Ausgang mit dem Lock-in-Verstärker
LA 1 verbunden ist.
Bei der in Fig. 18 dargestellten Ausführungsform fällt
das Ausgangslicht der opto-elektronischen Ablenkvorrichtung
UM 11 über die optische Faser FB 5 auf den Faserkoppler
CP 2 und wandert durch die optische Faser FB 6. Danach
werden außerhalb des Kernbereichs b unterkritische Wellen
erzeugt, die - als Pumplicht - die Lichtabsorption
der Vergleichssubstanz (beispielsweise Cs) in der Nähe
des Kernbereichs sättigen. Der größere Teil (beispielsweise
90%) des durch die optische Faser FB 6 wandernden
Lichts trifft über die Endfläche 15 auf den Fotodetektor
PD 21 auf. Andererseits wird der Rest (beispielsweise
10%) des Lichts an der Endfläche 15 reflektiert
und wandert durch die optische Faser FB 6 in entgegengesetzter
Richtung, wobei seine unterkritischen Wellen,
die als Probenlicht definiert sind und mit dem oben erwähnten
Pumplicht überlappen, die Absorption mit sich
bringen. Dieses Probenlicht wird über den Faserkoppler
CP 2 und eine optische Faser FB 7 zum Fotodetektor PD 11
geleitet. Da die Ausgangssignale der Fotodetektoren PD 21
und PD 11 vom Differenzverstärker A 11 voneinander subtrahiert
werden, werden die von der Doppler-Verbreiterung
resultierenden Absorptionssignale gelöscht bzw.
unterdrückt, so daß Sättigungsabsorptionssignale mit
einem scharfen Absorptionsspektrum an den Lock-in-Verstärker
ausgegeben werden. Aufgrund der Rückkopplungsschleife
ist es ebenso wie in Fig. 16 möglich, die
Oszillationsfrequenz des Halbleiterlasers LD 1 mit hoher
Stabilität mittels der Spitzen des Sättigungsabsorptionsspektrums
zu steuern.
Bei der oben beschriebenen Ausführungsform ist die
Endfläche 15 mit einem Halbspiegel beschichtet. Die
Erfindung ist jedoch nicht hierauf beschränkt. So kann
beispielsweise der Halbspiegel auch zwischen den optischen
Fasern FB 6 angeordnet werden.
Fig. 19 zeigt ein Blockschaltbild einer elften Ausführungsform
des erfindungsgemäßen Halbleiterlaser-Wellenlängenlängenstabilisators.
Im nachfolgenden werden nur
einige Punkte erwähnt, die sich gegenüber der Ausführungsform
nach Fig. 2 unterscheiden. Mit dem Bezugszeichen
16 ist ein Verstärker mit veränderlicher Verstärkung
gekennzeichnet, dem die Ausgangssignale des
Verstärkers A 1 eingegeben und dessen Ausgangssignale
dem Lock-in-Verstärker LA 1 eingegeben werden. Mit dem
Bezugszeichen 17 ist ein Vergleicher mit einer invertierenden
Eingangsklemme gekennzeichnet, der das Ausgangssignal
des Verstärkers A 1 zugeführt wird. Mit dem
Bezugszeichen 18 ist eine Einstellspannungsquelle gekennzeichnet,
die zwischen der nicht invertierenden
Eingangsklemme des Vergleichers 17 und dem gemeinsamen
elektrischen Potentialpunkt geschaltet ist. Die
Verstärkung des Verstärkers 16 wird durch den Vergleicher
17 geregelt.
Bei einem derartigen Aufbau ergibt sich eine Resonanzabsorption
der Absorptionszelle CL 1, wie sie in Fig. 20
dargestellt ist. Wenn die Frequenz des Ausgangslichts
der opto-akustischen Ablenkvorrichtung UM 1 auf einen
Punkt P positioniert wird, so steigt der Betrag des
durchgelassenen Lichts an. Der Ausgang des Verstärkers
A 1 wird stark in negativer Richtung gelenkt. Der Ausgang
des Vergleicher 17 nimmt hohen Pegel an und die
Verstärkung des veränderlichen Verstärkers 16 vermindert
sich. Damit verschiebt sich ein sich bewegender Punkt
langsam vom Punkt P zum Boden der Resonanzabsorption,
das heißt in Richtung der Frequenz γ s . Gleichzeitig
nimmt die Menge des durchgelassenen Lichts ab, während
das Ausgangssignal des Verstärkers A 1 allmählich zunimmt.
An einem Punkt Q ist das Ausgangssignal des
Verstärkers A 1 größer als die Einstellspannungsquelle
18, kommt der Ausgang des Komparators 17 auf niedrigen
Pegel und wird die Verstärkung des veränderlichen Verstärkers
16 erhöht, wodurch das Ausgangssignal des
Halbleiterlasers LD 1 an einem Punkt R mit hoher Stabilität
gehalten wird.
Fig. 21 zeigt ein Blockschaltbild eines wesentlichen
Teils einer zwölften Ausführungsform der Erfindung, bei
der mehrere Komparatoren in der Vorrichtung nach Fig. 19
verwendet werden. Dabei ist der Mechanismus zur Veränderung
der Verstärkung des veränderlichen Verstärkers 16 mehrfach
vorgesehen. Mit den Bezugszeichen 171, 172 und 173
sind Komparatoren gekennzeichnet. Der Ausgang des Verstärkers
A 1 ist mit jeder der Inversionseingangsklemmen
der Komparatoren verbunden, deren Ausgänge den Ausgang
des veränderlichen Verstärkers 16 regeln. Mit den Bezugszeichen
181, 182 und 183 sind Einstellspannungsquellen
gekennzeichnet, die jeweils mit den nicht invertierenden
Eingangsklemmen der Komparatoren 171, 172
bzw. 173 verbunden sind. Obwohl hier nicht dargestellt,
ist der Ausgang des Fotodetektors PD 1 mit dem Verstärker
A 1 verbunden und der Ausgang des veränderlichen
Verstärkers 16 ist mit dem Eingang des Lock-in-Verstärkers
LA 1 verbunden. Bei einem derartigen Aufbau nehmen
die Komparatoren 171, 172 und 173 individuelle niedrige
Pegel bei den Punkten S, T und Q nach Fig. 20 an und
die Verstärkung des veränderlichen Verstärkers 16 nimmt
allmählich zu. Mit diesem Schritt ist es möglich, stabil
an den Punkt R mit hoher Geschwindigkeit zusammenzulaufen
und es ist hier anzumerken, daß die Verstärkung
des Verstärkers 16 fortlaufend bzw. konsekutiv geregelt
werden kann.
Fig. 22 zeigt ein Blockschaltbild einer dreizehnten Ausführungsform
der Erfindung, bei der eine Sekundär-Differentialkurvenform
des Verstärkers A 1 als Eingangsignal
des Komparators der Vorrichtung nach Fig. 19
verwendet wird. Die gegenüber Fig. 19 verschiedenen
Punkte werden im nachfolgenden näher erläutert. Der
Signalgenerator SG 1 führt bezüglich des Signalgenerators
SG 2 eine Frequenzmodulation mit Sinus- oder
Chopper-Wellen durch. Die Ausgangssignale des Verstärkers
A 1 werden dem Lock-in-Verstärker LA 2 und dem
veränderlichen Verstärker 16 zugeführt. Der Lock-in-
Verstärker LA 2 wird mittels des Signalgenerators SG 1
beaufschlagt, der Ausgangssignale mit einer Frequenz
von 2 fm erzeugt, die doppelt so groß ist, wie die Modulationsfrequenz
des Signalgenerators SG 2, wodurch
das Ausgangssignal synchron gleichgerichtet wird. Auf
diese Weise kann das Sekundärdifferential des Verstärkers
A 1 erhalten werden. Die Ausgangssignale des
Lock-in-Verstärkers LA 2 werden dem invertierenden Eingang
des Komparators 17 zugeführt, dessen Ausgang den
veränderlichen Verstärker 16 steuert. Der Ausgang des
veränderlichen Verstärkers 16 ist mit dem Eingang des
Lock-in-Verstärkers LA 1 verbunden. Mit dem Bezugszeichen
18 ist die Einstellspannungsquelle gekennzeichnet,
die mit dem nicht invertierenden Eingang des
Komparators 17 verbunden ist.
Entsprechend den Ausführungsformen 19, 21 und 22 besteht
für den Fall, daß das Ausgangslicht des Halbleiterlasers
weit vom voreingestellten Wert abweicht,
keine Möglichkeit, den voreingestellten Wert zu überspringen,
und es ist daher möglich, das Ausgangslicht
des Halbleiterlasers mit hoher Stabilität auf dem voreingestellten
Wert zu halten. Aufgrund dieses Vorteils
ist es selbst dann, wenn das Ausgangslicht des Halbleiterlasers
stark vom voreingestellten Wert abweicht,
möglich, auf den voreingestellten Wert zu konvergieren
und gleichzeitig wird der Effekt erreicht, daß
die Wellenlänge sehr stabil bleibt.
In den in Fig. 19, 21 und 22 dargestellten Ausführungsformen
ist der veränderliche Verstärker 16 hinter
dem Verstärker A 1 angeordnet. Es ist jedoch auch möglich,
den Verstärker 16 hinter dem Lock-in-Verstärker
A 1 und dem PID-Regler CT 2 anzuordnen. Es kann allmählich
jeder Platz innerhalb der Rückkopplungsschleife gewählt
werden.
Fig. 23 zeigt ein Blockschaltbild eines wesentlichen
Teils einer vierzehnten Ausführungsform der Erfindung,
bei der die Temperatur der Absorptionszelle CL 1 auf
einen festen Wert in der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung
eingeregelt wird. Mit dem Bezugszeichen 19
ist ein von einem adiabatischen Material umgebener
Konstanttemperaturofen gekennzeichnet, in dessen Innerem
die Absorptionszelle CL 1 angeordnet ist und der
außerdem mit einem Durchgangspfad für das Ausgangslicht
der opto-akustischen Ablenkungsvorrichtung UM 1
versehen ist. Mit dem Bezugszeichen 20 ist ein Temperaturmeßelement
gekennzeichnet, das innerhalb des
Konstanttemperaturofens 19 angeordnet ist, wobei der
Ausgang dieses Temperaturmeßelements 20 mit dem Eingang
einer Temperatureinstellvorrichtung 21 verbunden
ist. Die Ausgänge der Temperatureinstellvorrichtung 21
sind mit den Eingängen eines Heizelements 22 verbunden.
Damit besteht die Temperaturregelungseinrichtung aus
einem Konstanttemperaturofen 19, dem Temperaturmeßelement
20, der Temperatureinstellvorrichtung 21 und dem
Heizelement 22. Die Temperatur innerhalb des Konstanttemperaturofens
19 wird durch das Temperaturmeßelement
20 gemessen und das Heizelement 22 wird so durch die
Temperatureinstellvorrichtung 21 gesteuert, daß die
Temperatur innerhalb des Konstanttemperaturofens 19
unveränderlich gehalten wird. Die Temperatur wird auf
einen solchen Wert eingestellt, daß die Absorptionsmenge
entsprechend den Abmessungen der Absorptionszelle
groß ist und das Sekundärdifferential bzw. das
Differential zweiter Ordnung ein Maximum wird. Wenn
die Vergleichssubstanz Cs ist, so ist die Absorptionsmenge
bei einer Temperatur von weniger als 20°C klein
und es besteht der geeignetste Wert des Sekundärdifferentials
der Absorptionsmenge in der Nähe von 40°C.
Entsprechend der oben beschriebenen Konfiguration wird
die Temperatur der Absorptionszelle selbst dann konstant
gehalten, wenn die Umgebungstemperatur sich ändert.
Damit ergibt sich keine Veränderung sowohl in
der Absorptionsmenge als auch in der Menge des Sekundärdifferentials,
so daß die Stabilität der Wellenlänge des Ausgangslichts bei Fluktuationen
in der Umgebungstemperatur überhaupt nicht beeinträchtigt wird.
Darüber hinaus können die Temperaturen, bei denen die
Absorptionsmengen der Absorptionszellen sich erhöhen
sollen, unabhängig von der Umgebungstemperatur ausgewählt
werden, und es ist daher möglich, eine vergleichsweise
große Absorptionsmenge selbst bei einer
kleinen Absorptionszelle zu erhalten, wodurch die Miniaturisierung
der Vorrichtung erreicht wird. Darüber
hinaus ist die erfindungsgemäße Vorrichtung innerhalb
eines weiten Bereichs der Umgebungstemperaturen verwendbar.
Bei der oben beschriebenen Ausführungsform wird allein
ein Heizelement zur Steuerung der Temperatur verwendet.
Es ist jedoch auch möglich, zusätzlich eine Kühleinrichtung
für den Fall zu verwenden, daß die zu steuernde
Temperatur sich der Umgebungstemperatur nähert. Darüber
hinaus kann aber auch eine Einrichtung ähnlich der
eines Peltier-Elements anstelle des Heizelements 22
verwendet werden, das zum Aufheizen und Abkühlen geeignet
ist.
Das Temperaturmeßelement 20 und die Temperatureinstelleinrichtung
21 können weggelassen werden, indem ein
PTC-Thermistor oder ein Posistor, dessen Widerstandswert
im Verhältnis zur ansteigenden Temperatur zunimmt,
anstelle des Heizelements 22 verwendet werden.
Fig. 24 zeigt ein Blockschaltbild eines wesentlichen
Teils einer fünfzehnten Ausführungsform der Erfindung,
bei der die Absorptionszelle nicht nur den Einflüssen
der Umgebungstemperatur, sondern auch einem Außenmagnetfeld
in der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung ausgesetzt
ist. Mit dem Bezugszeichen 23 ist eine Weichmagnetplatte,
wie etwa Permalloy oder dergleichen gekennzeichnet.
Mit dem Bezugszeichen 24 ist ein adiabatisches
Material gekennzeichnet, das so angeordnet
ist, daß es die Absorptionszelle CL 1 sicher für den
Durchgang des Ausgangslichts der opto-akustischen Ablenkeinrichtung
UM 1 umgibt. Mit dem Bezugszeichen 201
ist ein Temperaturmeßelement zum Messen einer Temperatur
um das Absorptionselement CL 1 herum gekennzeichnet.
Der Ausgang des Temperaturmeßelements 201 wird
dem Eingang einer Temperatureinstelleinrichtung 211
zugeführt. Ein Heizelement 221 wird durch die Ausgänge
der Temperatureinstelleinrichtung 211 beaufschlagt.
Die Temperatur des Luftraums, der von der Weichmagnetplatte
23 und dem adiabatischen Material umschlossen
ist, wird mittels des Temperaturmeßelements 201, der
Temperatureinstelleinrichtung 211 und des Heizelements
221 so gesteuert, daß sie unveränderlich ist.
Beim oben beschriebenen Aufbau wird der Ausgang bezüglich
der Veränderungen in der Umgebungstemperatur stabil
und der Magnetschirm wird mittels der Weichmagnetplatte
verwirklicht. Damit ergibt sich keine Möglichkeit,
bei der das Absorptionsspektrum eine Zeeman-Aufteilung
aufgrund des Außenmagnetfelds zur Folge hat
und die Frequenz des Ausgangslichts dadurch verändert
wird. Auch die Kurvenform wird nicht verzerrt und Einflüsse
des Magnetismus werden nicht ausgeübt. Da es
nicht erforderlich ist, daß die gesamte Vorrichtung
in einem Magnetschirmgehäuse angeordnet ist, ist es
möglich, die Vorrichtung hinsichtlich der Größe klein
zu halten.
Bei der in Fig. 24 dargestellten Ausführungsform ist
die Anordnung so, daß zwei Schalen aus Weichmagnetplatten
23 und eine Schale aus adiabatischem Material
24 vorgesehen werden. Jedoch ist auch eine Schale aus
der Weichmagnetplatte 23 zur Vorsorge zulässig und
eine Vielzahl von gleichen Platten 23 können übereinander
angeordnet werden. Wenn in diesem Fall die dünnen
Weichmagnetplatten 23 und die adiabatischen Schichten
24 alternativ laminiert werden, so kann der Magnetschirmeffekt
verbessert werden.
Wenn sich die Umgebungstemperatur nicht zu sehr ändert,
so kann das Heizelement 221 weggelassen werden.
Fig. 25 zeigt ein Blockschaltbild einer sechzehnten Ausführungsform
der Erfindung, bei der die zu den Ausgängen
der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung gehörenden Wellenlängen
mehrfach eingesetzt sind. Der Aufbau ist so,
daß der Strahlungsfluß des Ausgangslichts der Halbleiterlaser
LD 1 und LD 2 durch die Lichtstrahlverteiler
BS 1 und BS 2 aufgeteilt wird und ein Teil davon als Lichtausgänge
verwendet wird. Der Rest des so aufgeteilten
Lichtflusses wird in die entsprechenden opto-akustischen
Ablenkvorrichtungen UM 1 bzw. UM 2 eingeleitet. Die Ausgänge
der opto-akustischen Ablenkvorrichtungen UM 1 und
UM 2 werden unter Verwendung der Lichtstrahlverteiler
BS 3 und BS 4 miteinander kombiniert und dann in die Absorptionszelle
CL 1 eingeführt. In der Absorptionszelle
CL 1 ist eine Substanz enthalten, die die Laserstrahlen
mit mehrfachen Wellenlängen absorbiert, wobei die Substanz
beispielsweise Cäsium (Cs), Rubidium (Rb), Ammonium
(NH3) oder Wasser (H2O) betrifft. Das heißt eine
Vielzahl von Absorptionsspektren werden in dem Licht
geschaffen, das die Absorptionszelle CL 1 durchläuft.
Die die Absorptionszelle CL 1 durchlaufenden Laserstrahlen
werden vom lichtempfangenden Element PD 1 in elektrische
Signale entsprechend der empfangenen Lichtleistung
umgewandelt. Die so umgewandelten elektrischen
Signale werden den Lock-in-Verstärkern LA 11 und
LA 12 eingegeben und auch den Steuerschaltungen CT 21
und CT 22 für den elektrischen Strom hinzugefügt. Die
Ausgänge der Steuerschaltungen CT 21 und CT 22 für den
elektrischen Strom werden den Halbleiterfasern LD 1 und
LD 2 zugeführt. Da der anzulegende elektrische Strom
durch die Signale vorgeschrieben wird, die von den
entsprechenden Steuerschaltungen CT 21 und CT 22 für
den elektrischen Strom anliegen, werden die Oszillationsfrequenzen
der Halbleiterlaser LD 1 und LD 2 durch
diese Werte des elektrischen Stroms bestimmt. Ein Oszillator
SG 2 (die Frequenz f D ist beispielsweise 80 MHz)
ist über die Schalter SW 1 bzw. SW 2 mit den oben genannten
opto-akustischen Ablenkvorrichtungen UM 1 bzw. UM 2
verbunden. Die Ausgänge der Oszillatoren SG 11 bzw. SG 12
(beispielsweise fm 1 = 2 kHz bzw. fm 2 = 2,5 kHz) sind
mit den Schaltern SW 1 bzw. SW 2 verbunden. Damit wird
die Oszillationswellenlänge des durch die opto-akustischen
UM 1 bzw. UM 2 hindurchgetretenen Lichts mit
der Frequenz fm 1 bzw. fm 2 moduliert. Die Ausgänge der
Oszillatoren SG 11 bzw. SG 12 sind mit den Lock-in-Verstärkern
LA 11 bzw. LA 12 verbunden und werden dann mit
der Frequenz fm 1 bzw. fm 2 synchron gleichgerichtet. Eine
Steuereinrichtung besteht aus der Steuerschaltung CT 21
bzw. CT 22 für den elektrischen Strom und dem Lock-in-
Verstärker LA 11 bzw. LA 12.
Die Betriebweise des oben beschriebenen Halbleiterlaser-
Wellenlängenstabilisators wird nachfolgend beschrieben.
Beim nachfolgenden Beispiel wird Cäsium (Cs) als Absorptionssubstanz
in der Absorptionszelle CL 1 verwendet.
Das Ausgangslicht des Halbleiterlasers LD 1 wird durch
den Lichtstrahlverteiler BS 1 zweiseitig aufgespalten.
Das Reflektionslicht wird zu dem nach außen emittierenden
Ausgangslicht, während das durchgelassene Licht auf die
opto-akustische Ablenkvorrichtung UM 1 auftrifft. Wie im
Falle der in Fig. 2 beschriebenen Vorrichtung wird das
Ausgangslicht des Halbleiterlasers LD 1 mit der Frequenz
q 1 mittels der opto-akustischen Ablenkvorrichtung UM 1
einer Frequenzmodulation unterzogen, wobei die Modulationsfrequenz
fm 1 und der Modulationsgrad f D ist. Danach
trifft das so modulierte Ausgangslicht auf die Absorptionszelle
CL 1 auf. In ähnlicher Weise wird das Ausgangslicht
mit der Frequenz q 2, das vom Halbleiterlaser LD 2
emittiert wird, mittels der opto-akustischen Ablenkvorrichtung
UM 2 einer Frequenzmodulation unterzogen,
wobei die Modulationsfrequenz fm 2 und der Modulationsgrad
f D sind. Danach trifft das Ausgangslicht auf die
Absorptionszelle CL 1.
Wenn das Licht mit den Frequenzen γ 1 und γ 2 durch die
in der Absorptionszelle CL 1 vorhandenen Cs-Atome hindurchtritt,
so ergeben sich bezüglich der Menge des
durchgelassenen Lichts die in Fig. 4 dargestellten
Absorptionssignale, die den Veränderungen von γ 1 bzw.
γ 2 entsprechen. Folglich nehmen die Ausgangswellenformen
der Lock-in-Verstärker LA 11 bzw. LA 12 die in den
Fig. 26 bzw. 27 dargestellten Kurven an, wobei die
von dem lichtempfangenden Element PD 1 ausgesendeten
Signale (Fig. 4) differenziert werden.
Wenn Licht mit der Frequenz γ 1 mit der Modulationsfrequenz
fm 1 und Licht mit der Frequenz γ 2 in ähnlicher
Weise mit der Modulationsfrequenz fm 2 moduliert
werden, und wenn die Lock-in-Verstärker LA 11 bzw. LA 12
synchron mit der Modulationsfrequenz fm 1 bzw. fm 2 (dabei
werden fm 1 bzw. fm 2 so eingestellt, daß die Formel
k · fm 1 ≠≠ n · fm 2 (k, n sind dabei ganze Zahlen) gilt) synchron
gleichgerichtet werden, so ist der Einfluß des
Lichts mit der Frequenz γ 1 im Ausgang des Lock-in-
Verstärkers LA 11 nicht vorhanden und in ähnlicher Weise
tritt der Einfluß des Lichts mit der Frequenz γ 2 im
Ausgang des Lock-in-Verstärkers LA 12 nicht auf. Somit
nehmen die Ausgänge der Lock-in-Verstärker LA 11 bzw.
LA 12 individuell die in den Fig. 26 (Ausgang des
Lock-in-Verstärkers LA 11) bzw. 27 (Ausgang des Lock-
in-Verstärkers LA 12) dargestellten Kurvenformen an.
Wenn die Oszillationsfrequenzen der Halbleiterlaser
LD 1 bzw. LD 2 durch die Steuerschaltungen CT 21 bzw. CT 22
für den elektrischen Strom so gesteuert werden, daß
der Ausgang des Lock-in-Verstärkers LA 11 auf dem Punkt A
nach Fig. 26 und der Ausgang des Lock-in-Verstärkers
LA 12 auf dem Punkt B nach Fig. 27 liegt, so sind die
von den Ausgängen abgenommenen Laserstrahlen dadurch
gekennzeichnet, daß ihre Wellenlänge etwa bei 852,112 nm
liegt, wobei zwei Lichtflüsse mit zwei Wellenlängen erhalten
werden, die voneinander um 9,2 GHz unterschiedlich
sind.
In dem so gestalteten Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator
ist es bei einem einfachen Aufbau unter Verwendung
einer Absorptionszelle möglich, die Laserstrahlen
mit einer Vielzahl von stabilen Wellenlängen auszugeben.
Es wird nun ein Fall beschrieben, bei dem Rb anstelle
von Cs verwendet wird. Wie im Falle von Cs hat das
Basisniveau eine Infinitesimalstruktur mit F = 1 bzw.
F = 2. Die Frequenz, bei der die Absorption von F = 1
bewirkt wird, sei γ 1 und die Frequenz, bei der die
Absorption von F = 2 bewirkt wird, sei γ 2. Damit gilt
Δγ = γ 1-γ 2
was definiert ist als eine Differenz zwischen γ 1 und γ 2,
wobei Δγ = 6,8 GHz im Falle von 87Rb und Δγ ≈ 3 GHz
im Falle von 85Rb ist. Unter Verwendung von D1-
Strahlen (eine Anregung vom Niveau 5S1/2 auf das Niveau
5P3/2 impliziert 794,7 nm) von Rb und D2 Strahlen (eine
Anregung von einem Niveau 5S1/2 auf ein Niveau 5P1/2
impliziert 780,0 nm) von Rb, gilt die Gleichung
Δλ = 14,7 nm. Beim Hindurchtreten durch Cs und Rb ergibt
sich der Ausdruck
Δλ = 852,1-780 (oder 794,7) = 72,1 (oder 57,4) nm.
Darüber hinaus können auch Molekularabsorptionsstrahlen
von H2O und NH3 oder dergleichen verwendet werden.
Die Zahl der Halbleiterlaser ist nicht auf zwei beschränkt.
Wenn die Laser zahlenmäßig zunehmen, so können
sie hinsichtlich des Typs durch Kombination mit den
oben beschriebenen Frequenzen diversifiziert werden. In
einem solchen Fall müssen die opto-akustische Ablenkvorrichtung,
der Lock-in-Verstärker, der Oszillator
und die Steuerschaltung für den elektrischen Strom entsprechend
hinzugefügt werden.
Bei Verwendung des in Fig. 28 dargestellten Aufbaus, der
die siebzehnte Ausführungsform der Erfindung darstellt,
ist es, da die Doppler-Verbreiterung aufgrund der oben
erwähnten Sättigungsabsorptionsspektroskopie verschwindet,
möglich, die im Zusammenhang mit Fig. 3 beschriebene
Infinitesimalstruktur zu unterscheiden. Folglich
wird das Ausgangssignal des Lock-in-Verstärkers erhalten,
das auf der in Fig. 10 dargestellten Infinitesimalstruktur
basiert, so daß Δγ weiter vermindert
werden kann, in Abhängigkeit von der Stellung, an der
die Einrastung erfolgen soll. Der gestrichelt dargestellte
Teil in Fig. 28 ist von Fig. 25 verschieden.
Es handelt sich dabei um Lichtstrahlverteiler BS 5 bis
BS 9, Lichtaufnahmeelemente PD 11 bzw. PD 2 und einen
Differenzverstärker DA 1. Die Ausgänge dieses Differenzverstärkers
DA 1 werden den Lock-in-Verstärkern
LA 11 bzw. LA 12 zugeführt.
Die höhere Harmonische der Frequenz fm 1 oder dergleichen
kann als Frequenz eines Signals verwendet werden, das
dem in Fig. 25 dargestellten Lock-in-Verstärkers zugeführt
wird. Wenn in diesem Fall eine Dreifach-Harmonische
verwendet wird, so ergibt sich der Effekt, bei
dem die Vorspannungskomponenten der in den Fig. 26
bzw. 27 dargestellten Lock-in-Verstärker verschwinden.
Wenn ein Polarisationslichtstrahlverteiler anstelle
des Lichtstrahlverteilers in Fig. 25 verwendet wird,
so erhalten die Laserausgangsstrahlen orthogonale polarisierte
Kurvenformen.
Fig. 29 zeigt ein Blockschaltbild einer achzehnten
Ausführungsform der Erfindung, bei der die Laserausgangswellenlänge
so verändert wird, daß sie dem Eingangssignal
entspricht. Eine Spule CI 1, die von Fig. 2
verschieden ist, stellt eine Magneteinrichtung dar.
Diese Spule CI 1 weist zwei Enden auf, denen ein wellenlängenvariables
Eingangssignal Sin zugeführt wird, wobei
die Spule CI 1 um die Absorptionszelle CL 1 gewickelt
ist. Wie im Falle der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung
wird das Ausgangslicht des Halbleiterlasers durch eine
stabile Frequenz von q s -f D/2 gesteuert. Bei Anlegung
des wellenlängenvariablen Eingangssignals Sin an
beide Enden der Spulen CI 1 fließt der elektrische Strom
durch die Spule CI 1, wodurch ein Magnetfeld erzeugt wird,
dessen Größe dem Signal Sin entspricht. Aufgrund dieses
Magnetfelds bewirkt das Absorptionsspektrum der Vergleichssubstanz
innerhalb der Absorptionszelle CL 1 die
Zeeman-Trennung, wodurch die Absorptionswellenlänge verändert
wird. Entsprechend den Änderungen der Absorptionswellenlänge
ändert sich die Ausgangswellenlänge
des Halbleiterlasers LD 1, der mit dem Absorptionsstrahl
eingerastet ist. Es ist deshalb möglich, die Wellenlänge
des vom Lichtstrahlverteiler BS 1 ausgegebenen Laserausgangslichts
mittels des wellenlängenveränderlichen
Eingangssignals Sin zu verändern.
Die so gebildete wellenlängenvariable Laserlichtquelle
hat den besonderen Vorteil, daß die Wellenlänge variabel
gemacht wird, während ein stabiler Zustand (stabil auch
für den Augenblickswert) beibehalten wird, in dem das
Halbleiterlaser-Ausgangslicht mit dem Absorptionssignal
der Vergleichssubstanz einrastet.
Bei der oben beschriebenen Ausführungsform wird eine
Spule als Magneteinrichtung verwendet. Die Erfindung
ist jedoch nicht hierauf beschränkt. So kann beispielsweise
die relative Position dadurch verändert werden,
daß ein Permanentmagnet in der Nähe der Absorptionszelle
CL 1 oder entfernt davon angeordnet ist, und ein
entsprechendes Eingangssignal Sin anliegt.
Fig. 30 zeigt ein Blockschaltbild eines wesentlichen
Teils einer neunzehnten Ausführungsform der Erfindung,
bei der der Teil A (vgl. Fig. 29) so angeordnet ist,
daß eine Sättigungsabsorption anstelle einer Linearabsorption
wie in Fig. 29 bewirkt wird. Das von der opto-
akustischen Ablenkvorrichtung UM 1 modulierte Licht trifft
- als Pumplicht - über den Lichtstrahlverteiler BS 10
auf die Absorptionszelle CL 1 und das durch die Absorptionszelle
CL 1 hindurchgetretene Licht wird dann an einem
Spiegel M 2 reflektiert und kehrt auf den vorhergehenden
Lichtweg zurück. Das so zurückgekehrte, als
Probenlicht dienende Licht trifft noch einmal auf die
Absorptionszelle CL 1 auf. Das übertragene Licht reflektiert
am Lichtstrahlverteiler BS 10, wodurch das
Sättigungsabsorptionssignal mittels des Fotodetektors
PD 12 festgestellt wird. Die anderen Vorgänge sind die
gleichen wie bei der in Fig. 29 dargestellten Vorrichtung.
Wenn das wellenlängenvariable Eingangssignal Sin an beide
Enden der Spule CL 11 - wie im Falle der in Fig. 29 dargestellten
Vorrichtung - angelegt wird, bewirkt das
Absorptionsspektrum der Vergleichssubstanz innerhalb
der Absorptionszelle CL 1 die Zeeman-Trennung, wodurch
die Sättigungsabsorptionslänge sich ändert. In den Fig. 31
bis 33 (m F ist der Name des Energieniveaus, an dem
die Zeeman-Trennung durch Magnetmodulation durchgeführt
wird) sind Aspekte der Zeeman-Trennung der entsprechenden
Energieniveaus von Cs dargestellt. Fig. 31 zeigt
ein Diagramm mit einer Kennlinie der Zeeman-Trennung
beim Anregungsniveau 62P3/2 von Cs. Fig. 32 zeigt ein
Diagramm einer Kennlinie der Zeeman-Trennung bei einem
Niveau einer Infinitesimalstruktur von F = 4, bei der
der Basiszustand von Cs = 62S1/2 ist. Fig. 33 zeigt ein
Diagramm einer Kennlinie der Zeeman-Trennung bei einem
Niveau einer Infinitesimalstruktur von F = 3, bei der
der Grundzustand von Cs bei 62S1/2 liegt. Wenn beispielsweise
die Frequenz des Halbleiterlasers LD 1 auf
das Absorptionsspektrum eingeregelt wird, das bei einer
Verschiebung von F = 3 von 62S1/2 auf F = 2 bei 62P3/2
erhalten wird, verschiebt sich das Absorptionsspektrum
zum Zeitpunkt des Anlegens des Magnetfelds an die Absorptionszelle
CL 1 zu niedrigeren Frequenzen hin. Dies
hat zur Folge, daß die Oszillationsfrequenz des Halbleiterlasers
LD 1 gleichzeitig zu den unteren Frequenzen
hin verschoben wird.
Bei der so aufgebauten Vorrichtung ist außer den Merkmalen,
die in der in Fig. 29 dargestellten Vorrichtung
inhärent sind, ein zusätzliches Merkmal darin zu sehen,
daß die Veränderungen in der Sättigungsabsorptionsfrequenz
bezüglich Änderungen in der Größe des Magnetfelds
groß sind und damit die Empfindlichkeit zunimmt. Dies
bedeutet, daß, da die Breite des Absorptionsspektrums
in der in Fig. 29 im Vergleich zu der nach Fig. 30
groß ist, die Ausgangsfrequenz nur auf den Mittelwert
der Energieniveaus (beispielsweise F = 3 bis 5 nach
Fig. 31) der Infinitesimalstruktur eingeregelt werden
kann. Folglich wird die Empfindlichkeit kleiner als
bei der in Fig. 30 dargestellten Ausführungsform.
Fig. 34 zeigt ein Blockschaltbild einer zwanzigsten Ausführungsform
der Erfindung, bei der die Schaltungen des
Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisators integriert
sind, was im nachfolgenden als IC-Formation bezeichnet
wird. Mit dem Bezugszeichen 30 ist ein Substrat eines
Foto-ICs bestehend aus beispielsweise GaAs oder dergleichen
gekennzeichnet. Bauteile, die auf diesem Substrat
ausgebildet sind, werden nachfolgend beschrieben. LD 10
stellt einen Halbleiterlaser dar. Mit dem Bezugszeichen
31 ist ein Lichtwellenleiterweg gekennzeichnet, auf den
das Ausgangslicht des Halbleiterlasers fällt. Mit UM 10
ist ein opto-akustisches Ablenkteil (Ultraschallablenkteil)
gekennzeichnet, auf dem das vom Lichtwellenleiterweg
31 austretende Licht auftrifft. Mit dem Bezugszeichen
32 ist ein weiterer Lichtwellenleiterweg gekennzeichnet,
in den das Ausgangslicht des opto-akustischen
Ablenkteils UM 10 eingeleitet wird. CL 10 stellt ein Absorptionsteil
dar, das eine Vergleichssubstanz (es handelt
sich hier um Cs) enthalten ist, die Licht mit einer
bestimmten Wellenlänge absorbieren kann. Das vom Lichtwellenleiterweg
32 austretende Licht trifft auf dieses
Absorptionsteil CL 10 auf. Mit PD 10 ist ein Lichtaufnahmeteil
gekennzeichnet, auf das das vom Absorptionsteil
CL 10 austretende Licht auftrifft. Mit dem Bezugszeichen
33 ist ein Steuerteil zur Eingabe der elektrischen Ausgangssignale
des Lichtaufnahmeteils PD 10 gekennzeichnet.
Im Steuerteil 33 stellt LA 10 eine Lock-in-Verstärkerschaltung,
deren Eingang mit dem Ausgang des Lichtaufnahmeteils
PD 10 verbunden ist, und CT 20 eine Steuerschaltung
für den elektrischen Strom dar, die eine PID-
Reglerschaltung aufweist, deren Eingang mit dem Ausgang
der Lock-in-Verstärkerschaltung LA 10 und deren Ausgang
mit dem Injektionseingang für den elektrischen Strom des
oben erwähnten Halbleiterlasers LD 10 verbunden ist. SG 10
stellt eine Signalgeneratorschaltung (Oszillationsschaltung)
mit einer Frequenz fm (beispielsweise 2 kHz) dar.
Der eine Ausgang der Signalgeneratorschaltung SG 10
dient als Bezugssignaleingang der oben beschriebenen
Lock-in-Verstärkerschaltung LA 10. Mit SG 20 ist eine
zweite Signalgeneratorschaltung (Oszillationsschaltung)
mit einer Frequenz f D (beispielsweise 80 MHz) gekennzeichnet,
deren Ausgang mit dem oben erwähnten opto-
akustischen Ablenkteil UM 10 verbunden und die durch die
Ausgänge der ersten Signalgeneratorschaltung SG 10 moduliert
wird.
Die Betriebsweise der so aufgebauten Vorrichtung ist
gleich wie die des Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisators
nach Fig. 2.
Der so aufgebaute Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator
weist das Merkmal auf, daß eine Integration in einen
Chip möglich und damit die Vorrichtung hinsichtlich der
Größe vermindert werden kann, wodurch die Massenproduktion
ermöglicht und die Einstellung leicht gemacht wird.
Fig. 35 zeigt eine Tabelle einer konkreten Methode zur
Verwirklichung der entsprechenden Komponenten der in
Fig. 34 dargestellten Vorrichtung. Beispielsweise besteht
eine Steuerschaltung für den elektrischen Strom aus einem
monolithischen Aufbau in Falle eines Silikonsubstrats.
In anderen Fällen gehört sie zu einem Hybridaufbau.
Zur besseren Beschreibung werden im nachfolgenden konkrete
Erklärungen gemacht.
Fig. 36 zeigt eine perspektivische Ansicht eines wesentlichen
Teils eines konkreten Beispiels, bei dem der
Halbleiterlaser LD 10 mit einem Foto-IC-Substrat 30 auf
der Basis eines monolithischen Aufbaus verwirklicht
ist. Fig. 38 zeigt eine Schnittansicht eines weiteren
Beispiels. In Fig. 37 wird die auf dem Foto-IC-Substrat
30 ausgebildete Endfläche des Wellenleiterwegs 31 direkt
mit dem Ausgangslicht des Halbleiterlasers LD 10 bestrahlt.
In Fig. 38 ist das Ausgangslicht des Halbleiterlasers
LD 10 so angeordnet, daß es über ein Prisma
PR in den Wellenleiterweg 31 eingeführt wird.
Fig. 39 stellt eine Schnittansicht eines konkreten Beispiels
dar, bei dem - in der Vorrichtung nach Fig. 34 -
eine Ausnehmung durch Ätzen oder ähnliche Verfahren in
der Oberfläche des Foto-IC-Substrats 30 ausgebildet ist.
Ein Glasfilm 34 ist durch Glasbeschichtung oder thermische
Oxydation auf dem Substrat 30 ausgebildet, eine
Vergleichssubstanz befindet sich in der Ausnehmung und
die Ausnehmung ist mit einer Glasplatte 35 mittels einer
Schmelzverbindung (fusion bonding) bedeckt, so daß die
Vergleichssubstanz im Absorptionsteil CL 10 eingeschlossen
ist.
Fig. 40 zeigt eine Schnittansicht eines weiteren konkreten
Beispiels des Absorptionsteils CL 10 bezüglich
der in Fig. 34 dargestellten Vorrichtung. Dabei wird
ein Wellenleiterweg 32 auf dem Substrat 30 ausgebildet,
das aus GaAs oder LiNbO3 oder dergleichen besteht. Mittels
unterkritischer Effekte ist die Vergleichssubstanz,
die von der auf dem Wellenleiterweg 32 angeordneten Bedeckung
36 eingeschlossen ist, so angeordnet, daß das
durch den Wellenleiterweg 32 hindurchtretende Ausgangslicht
des Halbleiterlasers absorbiert wird. Dieses Beispiel
ist insofern vorteilhaft, daß gegenüber der in
Fig. 39 dargestellten Vorrichtung die Herstellung erleichtert
wird.
Es ist hier anzumerken, daß das Fotodetektorteil bei
allen oben beschriebenen Beispielen in den monolithischen
Aufbau oder den Hybridaufbau eingebracht werden
kann.
Fig. 41 zeigt eine Draufsicht auf den Aufbau der einundzwanzigsten
Ausführungsform der Erfindung, wobei
das Spektrum im Vergleich zu der in Fig. 34 dargestellten
Vorrichtung kleiner gemacht wurde. Auf dem Foto-
IC-Substrat 30 sind zusätzlich vorgesehen: ein Lichtverzweigungsteil
OB 1 zur Abzweiung eines Teils des
Lichtflusses des Ausgangslichts des Halbleiterlasers
LD 10, ein Lichtresonanzteil FP 1, das aus einem Fabry-
Perot-Etalon besteht, das das mittels des Lichtverzweigungsteils
OB 1 abgezweigte Ausgangslicht verarbeitet,
ein zweites Fotodetektorteil PD 3, auf dem das Ausgangslicht
des Lichtresonanzteils FP 1 auftrefft, und ein
Breitbandbereich-Verstärkungsteil A 2 zur Verstärkung
der elektrischen Ausgangssignale des Fotodetektorteils
PD 3 und Rückführung der so verstärkten Ausgangssignale
zum elektrischen Injektionsstrom bzw. Speisestrom des
Halbleiterlasers LD 10. Bei diesem Beispiel ist das Breitband-
Verstärkungsteil A 2 (dies ist in Fig. 41 der Einfachheit
halber nur grob dargestellt) im Steuerteil 330
vorgesehen. Eine Resonanzkurve - eine von der Mittenfrequenz
abweichende Stelle - des Lichtresonanzteils FP 1
wird mit einer Oszillationswellenlänge des Halbleiterlasers
DL 10 in Übereinstimmung gebracht. Im Ausgangslicht
des Halbleiterlasers LD 10 enthaltende Phasenstörungen
werden durch den Fotodetektor PD 3 nach deren Umwandlung
in amplitudenmodulierte Signale festgestellt
und die elektrischen Ausgangssignale davon werden über
den Breitbandbereichverstärker A 2 mit einem Bandbereich
breiter als die Breite des Spektrums des Halbleiterlaserstrahls
negativ zum Speisestrom (Injektionsstrom)
des Halbleiterlasers LD 10 zurückgeführt, wodurch die
Phasenstörungen des Halbleiterlasers LD 10 so begrenzt
werden, daß das Spektrum noch enger wird (M. Ohtsu und
S. Kotajima; IEEE Journal of Quantum Electronics Vol.
QE-21, No. 12 December, 1985).
Fig. 42(A) und 42(B) zeigen perspektivische Ansichten
eines wesentlichen Teils eines konkreten Beispiels des
Fabry-Perot-Resonators FP 1, der auf einem Foto-IC-Substrat
300 in der in Fig. 1 dargestellten Vorrichtung
vorgesehen ist. Fig. 42(C) zeigt eine Draufsicht auf
diesen wesentlichen Teil. In Fig. 42(A) ist eine Öffnung
70 in einem Teil eines Wellenleiterwegs 61 ausgebildet,
der auf dem Substrat 300 vorgesehen ist. Zwei
Flächen 81, die teilweise die Öffnung 70 bilden und einander
gegenüber angeordnet sind, sind mit Reflexionsschichten
bedeckt, wodurch ein Resonator gebildet wird.
In Fig. 42(B) sind zwei als Wellenleiterwege dienende
Stege 62 so im Abstand zueinander angeordnet, daß sie
in Reihe auf dem Substrat 300 plaziert sind. Die Endflächen
82 dieser Stege 62 sind einander gegenüber angeordnet
und sind mit Reflexionsschichten bedeckt, die
Resonatoren darstellen. In Fig. 42(C) ist ein Material
mit einem hohen Brechungsindex in einen Teil des auf
dem Substrat 300 ausgebildeten Wellenleiterwegs 63 dotiert,
wodurch ein Resonanzteil 83 gebildet wird.
Fig. 43 zeigt eine perspektivische Ansicht eines Aufbaus
eines konkreten Beispiels des wesentlichen Teils einer
Vorrichtung zur Einstellung der Resonanzfrequenz des
Lichtresonanzteils FP 1 in der in Fig. 42(C) dargestellten
Vorrichtung. In Fig. 43 sind auf beiden Seiten des
auf dem Substrat 300 ausgebildeten Resonanzteils 83
Elektroden 90 vorgesehen, wobei die effektive Länge
des Resonanzteils 83 durch Änderung des Brechungsindexes
des Resonanzteils 83 mittels des zwischen den oben beschriebenen
Elektroden 90 anliegenden elektrischen Stromes
verändert wird. Als weiteres Mittel zur Einstellung
der Resonanzfrequenz gibt es ein Verfahren, bei dem ein
Dünnfilmwiderstand für ein Heizelement in enger Nachbarschaft
zum Lichtresonanzteil auf dem Substrat ausgebildet
ist und bei dem die Länge des Resonators mittels
thermischer Expansion verändert wird. Zusätzlich dazu
wird ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem eine ferroelektrische
Substanz, also ein Material mit hohem Brechungsindex,
dotiert und der Brechungsindex mittels eines
anliegenden elektrischen Felds im gleichen Aufbau
wie in Fig. 43 verändert wird.
Im Falle der Steuerung der Temperatur des Halbleiterlasers
LD 10 und des Lichtresonanzteils FP 10 auf einen
voreingestellten Weg werden die Dünnfilmwiderstände
entsprechend als Heizelemente verwendet. In diesem Fall
ist es wünschenswert, daß die Heizelemente so weit voneinander
entfernt wie möglich angeordnet sind, so daß
sie sich gegenseitig nicht stören.
Bei den in den Fig. 34 bis 43 dargestellten Ausführungsformen
wird die Linearabsorptionsmethode zur Stabilisierung
der Laserwellenlänge verwendet. Alternativ
dazu ist es jedoch auch möglich, die Vorrichtung unter
Verwendung der Sättigungsabsorptionsmethode in die IC-
Formation einzubringen.
Fig. 44 zeigt ein Blockschaltbild eines Aufbaus einer
zweiundzwanzigsten Ausführungsform der Erfindung, bei
der die Absorptionswellenlänge der Vergleichssubstanz
mittels des Magnetfelds moduliert wird. Im nachfolgenden
werden die Punkte beschrieben, die gegenüber
der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung unterschiedlich
sind. CI 1 stellt eine um die Absorptionszelle CL 1
gewickelte Spule dar, also eine ein Magnetfeld erzeugende
Einrichtung. Der Ausgang des vom Lichtstrahlverteiler
BS 1 durchgelassenen Lichts trifft auf die Absorptionszelle
CL 1. Die Ausgänge des Signalgenerators
SG 1, der dazu da ist, daß ein elektrischer Strom fließt,
der durch die oben erwähnte Spule CI 1 mit der Frequenz
fm (beispielsweise 2 kHz) moduliert wird, dienen als
Bezugssignale für den Lock-in-Verstärker LA 1. Bei Anlegen
der Ausgänge des Signalgenerators SG 1 an die
beiden Enden der Spulen CI 1 beginnt ein durch die Spule
CI 1 modulierter elektrischer Strom zu fließen, wodurch
ein Magnetfeld erzeugt wird, dessen Intensität mit der
Frequenz fm variiert. Entsprechend den Änderungen dieses
Magnetfelds ändert sich die Absorptionswellenlänge der
Vergleichssubstanz innerhalb der Absorptionszelle CL 1
durch die Zeeman-Trennung. Als Ergebnis treffen Laserstrahlen
auf die Absorptionszelle CL 1, wobei am Ausgang
Signale anliegen, wenn die Menge des durchgelassenen
Lichts nur an der Stelle des Absorptionssignals moduliert
ist, wie es erläuternd in Fig. 45 dargestellt ist.
Es wird hier angenommen, daß das Magnetfeld in einem
Bereich von 0 bis zu einem bestimmten Wert bei der Frequenz
fm moduliert wird. γ s ist die Absorptionsfrequenz,
wenn der elektrische Ausgangsstrom 0 ist, das heißt, das
Magnetfeld 0 ist. F D ist der Grad, mit dem sich die Absorptionsfrequenz
mit der Zeit des Anlegens des Magnetfelds
ändert. Dieses Signal wird mittels des Fotodetektors
PD 1 in ein elektrisches Signal umgewandelt und wird
dann mit der Frequenz fm im Lock-in-Verstärker LA 1 über
den Verstärker A 1 synchron gleichgerichtet, wodurch eine
Primär-Differentialkurvenform erhalten wird, wie sie in
der Kennlinie nach Fig. 6 dargestellt ist. Wie im Falle
der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung liefert der
Ausgang des Halbleiterlasers eine stabile Frequenz von
γ s -f D /2, wenn der Ausgang des Lock-in-Verstärkers LA 1
mit der Mitte der oben beschriebenen Primär-Differentialkurvenform
einrastet bzw. auf diese eingeregelt
wird. Entsprechend dem oben beschriebenen Halbleiterlaser-
Wellenlängenstabilisator wird keine opto-akustische
Ablenkeinrichtung verwendet und es ist daher auch
möglich, nicht modulierte Ausgangssignale zu erhalten,
die eine Kennlinie von hoher Stabilität auch für Augenblickswerte
in einer kompakten Vorrichtung zeigen, die
mit niedrigen Kosten hergestellt werden kann. Da keine
opto-akustische Ablenkeinrichtung verwendet wird, ergeben
sich Vorteile insofern, als sich nur eine geringe
Wärmemenge entwickelt und die verbrauchte Leistung vermindert
werden kann.
Darüber hinaus ist es praktikabel, die Sättigungsabsorption
anstelle der Linearabsorption durch Anwendung des
in Fig. 30 dargestellten Aufbaus auf den Teil B nach
Fig. 44 anzuwenden. Die Vorrichtung mit einem derartigen
Aufbau führt - außer den Merkmalen der in Fig. 44
dargestellten Vorrichtung - zu dem Vorteil, daß das Sättigungsabsorptionsspektrum
selbst in einem schwachen
Modulationsmagnetfeld verändert werden kann, da die Änderungen
in der Sättigungsabsorptionsfrequenz bezüglich
der Änderungen in der Größe des Magnetfelds groß sind,
das heißt die Empfindlichkeit der Änderungen des Magnetfelds
ist groß.
Aus der obigen Beschreibung ist ersichtlich, daß es mit
der Erfindung möglich ist, mit einem einfachen Aufbau
einen Halbleiterlaser zu verwirklichen, bei dem die Oszillationsfrequenz
bezüglich des Augenblickswerts hochstabil
ist.
Claims (22)
1. Verfahren zur Stabilisierung der Wellenlänge eines
Halbleiterlasers durch Steuerung bzw. Einrasten der
Wellenlänge auf eine Absorptionslinie einer Vergleichs-
bzw. Normsubstanz,
dadurch gekennzeichnet,
daß das vom Halbleiterlaser emittierte modulationsfreie Licht auf eine Absorptionszelle auftrifft,
daß das von der Absorptionszelle durchgelassene Licht auf der Basis eines von einer Modulationseinrichtung erzeugten Frequenzmodulationssignals aufgrund der Absorptionseigenschaften der Absorptionszelle amplitudenmoduliert wird,
daß das von der Absorptionszelle durchgelassene Licht mittels eines Fotodetektors in elektrische Signale umgewandelt wird und
daß eine Steuervorrichtung auf diesen Signalen basierende Signale vom Halbleiterlaser zuführt, durch die die Oszillationswellenlänge des Halbleiterlasers gesteuert wird.
daß das vom Halbleiterlaser emittierte modulationsfreie Licht auf eine Absorptionszelle auftrifft,
daß das von der Absorptionszelle durchgelassene Licht auf der Basis eines von einer Modulationseinrichtung erzeugten Frequenzmodulationssignals aufgrund der Absorptionseigenschaften der Absorptionszelle amplitudenmoduliert wird,
daß das von der Absorptionszelle durchgelassene Licht mittels eines Fotodetektors in elektrische Signale umgewandelt wird und
daß eine Steuervorrichtung auf diesen Signalen basierende Signale vom Halbleiterlaser zuführt, durch die die Oszillationswellenlänge des Halbleiterlasers gesteuert wird.
2. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator zur Stabilisierung
der Wellenlänge eines Halbleiterlasers durch
Steuerung bzw. Einrasten der Wellenlänge auf eine
Absorptionsspektrallinie einer Vergleichs- bzw. Normsubstanz,
dadurch gekennzeichnet,
daß sie aufweist:
eine Modulationseinrichtung (UM 1), auf die ein Teil des Ausgangslichts des Halbleiterlasers (LD 1) auftrifft und die diesen Teile einer Frequenzmodulation unterzieht,
eine Absorptionszelle (CL 1) mit einer Vergleichssubstanz, durch die das von der Modulationseinrichtung (UM 1) einfallende Licht einer Absorption unterzogen wird,
ein Fotodetektor (PD 1) zur Umwandlung des durchgelassenen Lichts in elektrische Signale und
eine Steuereinrichtung (SG 1, SG 2, SW 1) zur Steuerung der Oszillationswellenlänge des Halbleiterlasers, wobei auf den elektrischen Ausgangssignalen des Fotodetektors PD 1 basierende Signale eingegeben werden.
eine Modulationseinrichtung (UM 1), auf die ein Teil des Ausgangslichts des Halbleiterlasers (LD 1) auftrifft und die diesen Teile einer Frequenzmodulation unterzieht,
eine Absorptionszelle (CL 1) mit einer Vergleichssubstanz, durch die das von der Modulationseinrichtung (UM 1) einfallende Licht einer Absorption unterzogen wird,
ein Fotodetektor (PD 1) zur Umwandlung des durchgelassenen Lichts in elektrische Signale und
eine Steuereinrichtung (SG 1, SG 2, SW 1) zur Steuerung der Oszillationswellenlänge des Halbleiterlasers, wobei auf den elektrischen Ausgangssignalen des Fotodetektors PD 1 basierende Signale eingegeben werden.
3. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß er aufweist:
einen Lock-in-Verstärker (LA 1), dem elektrische Signale entsprechend den elektrischen Ausgangssignalen des Fotodetektors (PD 1) eingegeben werden und der eine synchrone Gleichrichtung bei einer Modulationsfrequenz der Modulationseinrichtung (SG 1, SG 2, SW 1) oder bei einer Frequenz mit einem ungeradzahligen Vielfachen davon durchführt, und
eine Steuerschaltung zur Steuerung des elektrischen Stroms oder der Temperatur des Halbleiterlasers derart, daß das Ausgangssignal des Lock-in-Verstärkers (LA 1) einen bestimmten Wert annimmt.
einen Lock-in-Verstärker (LA 1), dem elektrische Signale entsprechend den elektrischen Ausgangssignalen des Fotodetektors (PD 1) eingegeben werden und der eine synchrone Gleichrichtung bei einer Modulationsfrequenz der Modulationseinrichtung (SG 1, SG 2, SW 1) oder bei einer Frequenz mit einem ungeradzahligen Vielfachen davon durchführt, und
eine Steuerschaltung zur Steuerung des elektrischen Stroms oder der Temperatur des Halbleiterlasers derart, daß das Ausgangssignal des Lock-in-Verstärkers (LA 1) einen bestimmten Wert annimmt.
4. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem der
Ansprüche 2 oder 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine opto-akustische Ablenkvorrichtung als Modulationseinrichtung
verwendet wird.
5. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 2 oder 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein Phasenmodulator mit einem opto-elektrischen Element
als Modulationseinrichtung verwendet wird.
6. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 2 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß Rb oder Cs als Vergleichs- oder Normsubstanz verwendet
werden.
7. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 2 bis 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein Reflexionsteil zur Reflexion des die Absorptionszelle
durchlaufenden Lichts vorgesehen ist, mittels
dem das Licht noch einmal zum Einfall auf die
Absorptionszelle gebracht wird.
8. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 2 bis 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß mindestens ein Teil der Absorptionszelle aus einem
Gefäß aus lichtdurchlässigem Material besteht, wobei
die Oberfläche des Gefässes, auf die das Licht einfällt,
und die Oberfläche, von der das Licht austritt,
in einem vorbestimmten Winkel zu einer Ebene senkrecht
zur Zentralachse des Gefässes geneigt sind.
9. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 2 bis 8,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein Teil des Ausgangslichts des Halbleiterlasers
zum Einfall auf eine optische Faser gebracht wird,
die die Vergleichssubstanz innerhalb der Absorptionszelle
durchläuft und daß unterkritische Teile des
durch die optische Faser wandernden Lichts verwendet
werden.
10. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 2 bis 9,
dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen dem Fotodetektor und dem Halbleiterlaser
ein veränderlicher Verstärker angeordnet ist, der durch
Signale bezüglich der Ausgangssignale des Fotodetektors
gesteuert wird.
11. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 2 bis 10,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Temperatursteuereinrichtung zur Steuerung der
Temperatur der Absorptionszelle auf einen vorbestimmten
Wert vorgesehen ist.
12. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 2 bis 11,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Absorptionszelle mindestens mit einer Folie bzw.
Blatt einer Schicht aus magnetischem Material und einer
Folie bzw. Blatt einer adiabatischen Schicht überzogen
ist.
13. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 2 bis 12,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Vorrichtung zum Anlegen eines Magnetfelds mit
einer Größe entsprechend einem Eingangssignal der Absorptionszelle
vorgesehen ist und daß der Laserstrahl,
dessen Wellenlänge sich entsprechend dem Eingangssignal
ändert, ausgegeben wird.
14. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator zur Stabilisierung
der Wellenlänge eines Halbleiterlasers durch
Steuerung bzw. Einrasten der Wellenlänge auf eine Absorptionsspektrallinie
einer Vergleichs- bzw. Normsubstanz,
dadurch gekennzeichnet,
daß sie aufweist:
eine Vielzahl von Modulationseinrichtungen, auf die Teile der Strahlungsflüsse des Ausgangslichtes einer Vielzahl von Halbleiterlasern auftreffen und die diese Teile einer Frequenzmodulation mit verschiedenen Modulationsfrequenzen unterziehen,
eine Absorptionszelle mit einer Vergleichssubstanz, durch die das von einer Vielzahl von Modulationseinrichtungen einfallende Ausgangslicht einer Absorption bei einer Vielzahl von bestimmten Wellenlängen unterzogen wird,
ein Fotodetektor zum Umwandeln des von der Absorptionszelle durchgelassenen Lichts in elektrische Signale und
eine Steuereinrichtung zur Steuerung der Oszillationswellenlänge des Halbleiterlasers durch Eingabe von Signalen, die auf den elektrischen Ausgangssignalen des Fotodetektors basieren.
eine Vielzahl von Modulationseinrichtungen, auf die Teile der Strahlungsflüsse des Ausgangslichtes einer Vielzahl von Halbleiterlasern auftreffen und die diese Teile einer Frequenzmodulation mit verschiedenen Modulationsfrequenzen unterziehen,
eine Absorptionszelle mit einer Vergleichssubstanz, durch die das von einer Vielzahl von Modulationseinrichtungen einfallende Ausgangslicht einer Absorption bei einer Vielzahl von bestimmten Wellenlängen unterzogen wird,
ein Fotodetektor zum Umwandeln des von der Absorptionszelle durchgelassenen Lichts in elektrische Signale und
eine Steuereinrichtung zur Steuerung der Oszillationswellenlänge des Halbleiterlasers durch Eingabe von Signalen, die auf den elektrischen Ausgangssignalen des Fotodetektors basieren.
15. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator zur Stabilisierung
der Wellenlänge eines Halbleiterlasers durch
Steuerung bzw. Einrasten der Wellenlänge auf eine Absorptionsspektrallinie
einer Vergleichs- bzw. Normsubstanz,
dadurch gekennzeichnet,
daß auf einem gleichen Substrat angeordnet sind:
eine Modulationseinrichtung, auf die über einen Lichtwellenleiterweg das Ausgangslicht des Halbleiterlasers auftrifft und die das Ausgangslicht des Halbleiterlasers extern moduliert,
ein Absorptionsteil mit einer Vergleichssubstanz, die eine Absorption bei einer bestimmten Wellenlänge bewirkt, wobei das Ausgangslicht der Modulationseinrichtung über einen Lichtwellenleiterweg auf das Absorptionsteil auftrifft,
ein Fotodetektorteil zum Umwandeln des vom Absorptionsteil durchgelassenen Lichts in elektrische Signale und eine Steuereinrichtung zum Steuern des elektrischen Stroms oder der Temperatur des Halbleiterlasers derart, daß sie den elektrischen Signalen bezüglich der elektrischen Ausgangssignale des Fotodetektorteils entsprechen.
eine Modulationseinrichtung, auf die über einen Lichtwellenleiterweg das Ausgangslicht des Halbleiterlasers auftrifft und die das Ausgangslicht des Halbleiterlasers extern moduliert,
ein Absorptionsteil mit einer Vergleichssubstanz, die eine Absorption bei einer bestimmten Wellenlänge bewirkt, wobei das Ausgangslicht der Modulationseinrichtung über einen Lichtwellenleiterweg auf das Absorptionsteil auftrifft,
ein Fotodetektorteil zum Umwandeln des vom Absorptionsteil durchgelassenen Lichts in elektrische Signale und eine Steuereinrichtung zum Steuern des elektrischen Stroms oder der Temperatur des Halbleiterlasers derart, daß sie den elektrischen Signalen bezüglich der elektrischen Ausgangssignale des Fotodetektorteils entsprechen.
16. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Absorptionsteil von einem Glasfilm gebildet
wird, der auf einer in der Oberfläche des Substrats
gebildeten Ausnehmung durch Glasbeschichtung oder Oxydation
aufgebracht ist, und daß das Absorptionsteil
die Vergleichssubstanz mittels einer Glasplatte einschließt.
17. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Absorptionsteil einen auf einem Glassubstrat
vorgesehenen Wellenleiterweg aufweist und das auf dem
Ausgangslicht des Halbleiterlasers basierende Licht
infolge der unterkritischen Wirkungen von der im Wellenleiterweg
angeordneten Vergleichssubstanz absorbiert
wird.
18. Halbleiter-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 15 bis 17,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Steuereinrichtung einen Lock-in-Verstärker aufweist,
der eine synchrone Gleichrichtung bei einer Frequenz
relativ zur Modulationsfrequenz der Modulationseinrichtung
bewirkt.
19. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 15 bis 18,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine opto-akustische Ablenkvorrichtung als Modulationseinrichtung
verwendet wird.
20. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 15 bis 18,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein Phasenmodulator mit einem opto-elektrischen
Element als Modulationseinrichtung verwendet wird.
21. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator nach einem
der Ansprüche 15 bis 20,
dadurch gekennzeichnet,
daß auf dem Substrat vorgesehen sind:
ein Lichtverzweigungsteil zum Abzweigen eines Teils des Ausgangslichts des Halbleiterlasers,
ein Lichtresonanzteil, auf das das vom Lichtverzweigungsteil abgezweigte Ausgangslicht einfällt,
ein zweites Fotodetektorteil, auf das das Ausgangslicht des Lichtresonanzteils auftrifft, und
ein Breitband-Verstärkungsteil zum Verstärken des elektrischen Ausgangssignals des Fotodetektorteils und Rückführen des elektrischen Ausgangssignals zum Injektions- bzw. Speisestrom des Halbleiterlasers.
ein Lichtverzweigungsteil zum Abzweigen eines Teils des Ausgangslichts des Halbleiterlasers,
ein Lichtresonanzteil, auf das das vom Lichtverzweigungsteil abgezweigte Ausgangslicht einfällt,
ein zweites Fotodetektorteil, auf das das Ausgangslicht des Lichtresonanzteils auftrifft, und
ein Breitband-Verstärkungsteil zum Verstärken des elektrischen Ausgangssignals des Fotodetektorteils und Rückführen des elektrischen Ausgangssignals zum Injektions- bzw. Speisestrom des Halbleiterlasers.
22. Halbleiterlaser-Wellenlängenstabilisator zur Stabilisierung
der Wellenlänge eines Halbleiterlasers durch
Steuerung bzw. Einrasten der Wellenlänge auf eine Absorptionsspektrallinie
einer Vergleichs- bzw. Normsubstanz,
dadurch gekennzeichnet,
daß sie aufweist:
eine Absorptionszelle mit einer Vergleichssubstanz, die bei einer bestimmten Wellenlänge eine Absorption des Lichts bezüglich des Ausgangslichts des Halbleiterlasers bewirkt,
eine Einrichtung zum Anlegen eines Magnetfeldes an die Absorptionszelle,
eine Modulationseinrichtung zur Veränderung der Intensität des Magnetfelds von der Magnetfeldeinrichtung bei einer bestimmten Frequenz und
einen Fotodetektor zum Umwandeln des von der Absorptionszelle durchgelassenen Lichts in elektrische Signale, wobei der elektrische Strom oder die Temperatur des Halbleiterlasers durch Signale gesteuert werden, die sich auf elektrische Ausgangssignale des Fotodetektors beziehen.
eine Absorptionszelle mit einer Vergleichssubstanz, die bei einer bestimmten Wellenlänge eine Absorption des Lichts bezüglich des Ausgangslichts des Halbleiterlasers bewirkt,
eine Einrichtung zum Anlegen eines Magnetfeldes an die Absorptionszelle,
eine Modulationseinrichtung zur Veränderung der Intensität des Magnetfelds von der Magnetfeldeinrichtung bei einer bestimmten Frequenz und
einen Fotodetektor zum Umwandeln des von der Absorptionszelle durchgelassenen Lichts in elektrische Signale, wobei der elektrische Strom oder die Temperatur des Halbleiterlasers durch Signale gesteuert werden, die sich auf elektrische Ausgangssignale des Fotodetektors beziehen.
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60294342A JPS62154683A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | レ−ザ発生装置 |
JP61011894A JPS62171174A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | 半導体レ−ザ波長安定化装置 |
JP9617086U JPS633172U (de) | 1986-06-24 | 1986-06-24 | |
JP9819486U JPS635661U (de) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | |
JP61149777A JPS637687A (ja) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | 半導体レ−ザ波長安定化装置 |
JP9761186U JPH0331089Y2 (de) | 1986-06-27 | 1986-06-27 | |
JP61199364A JPS6355991A (ja) | 1986-08-26 | 1986-08-26 | 半導体レ−ザ波長安定化装置 |
JP61221668A JPS6377180A (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 | 半導体レ−ザ波長安定化装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3643629A1 true DE3643629A1 (de) | 1987-07-02 |
DE3643629C2 DE3643629C2 (de) | 1995-11-23 |
Family
ID=27571708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3643629A Expired - Fee Related DE3643629C2 (de) | 1985-12-26 | 1986-12-19 | Vorrichtung zur Stabilisierung der Wellenlänge eines Halbleiterlasers |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4833681A (de) |
DE (1) | DE3643629C2 (de) |
GB (1) | GB2187592B (de) |
Families Citing this family (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63317936A (ja) * | 1987-06-19 | 1988-12-26 | Mitsubishi Electric Corp | 光学的波長多重記録再生装置 |
US5276696A (en) * | 1988-12-28 | 1994-01-04 | United Technologies Corporation | Laser Doppler frequency control |
US5025448A (en) * | 1989-05-12 | 1991-06-18 | Nippon Telegraph & Telephone Corporation | Method and apparatus for stabilizing frequency of semiconductor laser |
US4926429A (en) * | 1989-07-13 | 1990-05-15 | At&T Bell Laboratories | Lightwave communication system having sources independently synchronized to an absolute frequency standard |
GB8923555D0 (en) * | 1989-10-19 | 1989-12-06 | Secr Defence | Bragg cell analyser |
US5150372A (en) * | 1991-09-13 | 1992-09-22 | Hughes Aircraft Company | Frequency sweeping phase-locked-loop synthesizer power supply for CO2 waveguide laser |
GB9308519D0 (en) * | 1993-04-24 | 1993-06-09 | Renishaw Transducer Syst | Frequency stabilised laser diode |
US5661746A (en) * | 1995-10-17 | 1997-08-26 | Universal Laser Syatems, Inc. | Free-space gas slab laser |
US5780843A (en) * | 1996-07-16 | 1998-07-14 | Universite Laval | Absolute optical frequency calibrator for a variable frequency optical source |
US5881087A (en) * | 1997-04-30 | 1999-03-09 | Universal Laser Systems, Inc. | Gas laser tube design |
US5867517A (en) * | 1997-04-30 | 1999-02-02 | Universal Laser Systems, Inc. | Integrated gas laser RF feed and fill apparatus and method |
US5901167A (en) * | 1997-04-30 | 1999-05-04 | Universal Laser Systems, Inc. | Air cooled gas laser |
US5994679A (en) * | 1997-12-19 | 1999-11-30 | Lucent Technologies Inc. | Thermal housing for optical circuits |
US6181719B1 (en) | 1998-11-24 | 2001-01-30 | Universal Laser Systems, Inc. | Gas laser RF power source apparatus and method |
US6192169B1 (en) | 1999-05-28 | 2001-02-20 | Lucent Technologies Inc. | Enclosure for optical integrated circuit |
JP2001036189A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-02-09 | Topcon Corp | レーザー発振周波数安定化装置 |
US6407846B1 (en) | 2001-03-16 | 2002-06-18 | All Optical Networks, Inc. | Photonic wavelength shifting method |
US20020131100A1 (en) * | 2001-03-16 | 2002-09-19 | Myers Michael H. | Method for photonic wavelength error detection |
US7642484B2 (en) * | 2001-06-13 | 2010-01-05 | Orbotech Ltd | Multiple beam micro-machining system and method |
FR2826191A1 (fr) * | 2001-06-18 | 2002-12-20 | Univ Lille Sciences Tech | Source laser stabilisee en frequence et adaptee pour etre utilisee comme etalon de frequence en particulier dans le domaine des telecommunications |
US6731423B1 (en) * | 2001-08-15 | 2004-05-04 | Neumann Information Systems Inc | Optical amplifier and method |
US6865345B2 (en) * | 2001-08-28 | 2005-03-08 | Agilent Technologies, Inc. | Frequency translating devices and frequency translating measurement systems that utilize light-activated resistors |
US7521651B2 (en) | 2003-09-12 | 2009-04-21 | Orbotech Ltd | Multiple beam micro-machining system and method |
WO2006060870A1 (en) * | 2004-12-08 | 2006-06-15 | The Australian National University | Method and apparatus for controlling frequency of a laser |
US8050301B2 (en) * | 2010-02-09 | 2011-11-01 | The Aerospace Corporation | Systems and methods for stabilizing laser frequency based on an isoclinic point in the absorption spectrum of a gas |
US8873061B1 (en) | 2013-09-05 | 2014-10-28 | The Aerospace Corporation | Systems and methods for measuring a physical parameter of a substance based on an isoclinic point in the absorption spectrum of another substance |
EP3080663B1 (de) | 2013-12-10 | 2018-03-21 | Dolby Laboratories Licensing Corp. | Akustooptischer strahlsteuerungsmodulator für ein projektionssystem |
CN103713390B (zh) * | 2013-12-26 | 2016-03-09 | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 | 一种多波长激光合束选通调试系统及方法 |
FR3019691B1 (fr) * | 2014-04-03 | 2017-08-11 | Onera (Office Nat D'etudes Et De Rech Aerospatiales) | Systeme laser asservi en longueur d'onde |
CN104078831B (zh) * | 2014-07-01 | 2017-11-10 | 哈尔滨工业大学 | 基于热稳频和声光移频的双纵模激光器互锁方法和装置 |
CN104359491B (zh) * | 2014-11-02 | 2017-05-10 | 中国航天科工集团第二研究院七〇六所 | 光源的筛选测试装置 |
CN105136431A (zh) * | 2015-08-24 | 2015-12-09 | 西安电子科技大学 | 基于声光调制的光学器件透反射率的测量系统 |
CN106052751B (zh) * | 2016-05-13 | 2019-10-25 | 中国科学院物理研究所 | 一种基于瞬态光栅的频率分辨光学开关激光测量装置 |
CN106025786B (zh) * | 2016-07-29 | 2019-01-25 | 北京邮电大学 | 一种光电振荡器及其稳频方法 |
US10243325B2 (en) | 2017-02-02 | 2019-03-26 | QuSpin, Inc. | Method for stabilizing atomic devices |
CN110244798A (zh) * | 2019-06-13 | 2019-09-17 | 天津优视眼科技术有限公司 | 一种激光指示装置的自适应温控系统 |
KR102254828B1 (ko) * | 2019-11-26 | 2021-05-24 | 한국표준과학연구원 | 증기셀을 이용한 분광 장치에서의 신호 증대 방법 및 이를 이용한 분광 장치 |
CN112213266B (zh) * | 2020-09-29 | 2021-05-14 | 湖北鑫英泰系统技术股份有限公司 | 一种具有激光器调温功能的激光监控装置 |
CN112729544B (zh) * | 2020-12-18 | 2023-03-14 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种扫描吸收光谱的激光波长锁定系统与方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3593189A (en) * | 1969-02-27 | 1971-07-13 | Gen Telephone & Elect | Frequency stabilization system |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3560871A (en) * | 1964-02-27 | 1971-02-02 | Honeywell Inc | Field responsive absorber for q-spoiling a laser |
FR1604564A (de) * | 1968-09-30 | 1971-12-06 | ||
US3742382A (en) * | 1972-04-03 | 1973-06-26 | Bell Telephone Labor Inc | Apparatus for stabilizing a laser to a gas absorption line |
US3921099A (en) * | 1974-09-16 | 1975-11-18 | Hughes Aircraft Co | Frequency stabilized laser |
US4486885A (en) * | 1981-05-13 | 1984-12-04 | Exxon Research & Engineering Co. | Generation of short amplified pulses of light using an absorbing medium |
-
1986
- 1986-11-20 GB GB8627744A patent/GB2187592B/en not_active Expired
- 1986-12-03 US US06/937,359 patent/US4833681A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-12-19 DE DE3643629A patent/DE3643629C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3593189A (en) * | 1969-02-27 | 1971-07-13 | Gen Telephone & Elect | Frequency stabilization system |
Non-Patent Citations (5)
Title |
---|
BEESLEY, M.J.: GB-B.: Lasers and their Applications London 1971, S. 84-88 * |
OKOSHI, T., KIKUCHI, K.: Heterodyne-Type Optical Fiber Communications. In: US-Z.: J. Opt. Commun., Vol. 2, Nr. 3, 1981, S. 82-88 * |
OKUMURA, K., OHI, M.: Frequency Stabilization Under Very Small Modulation and Its Stability Estimation of a PbSuTe Diode Laser In: US-Z.: IEEE Journal of Quantum Electronics, Vol. QE-21, Nr. 8, 1985, S. 1229-1234 * |
OKUMURA, K., OHI, M.: Unmodulated-Type Frequency Stabilization of a PbSuTe Diode Laser. In: JP-Z.: Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 23, Nr. 12, 1984, S. 1589-1593 * |
YABUZAKI, T. u.a.: Frequency-Locking of a GaAlAs Laser to a Doppler-Free Spectrum of the Cs-D2 line. In: JP-Z.: Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 20, Nr. 6, 1981, S. L451-L454 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB8627744D0 (en) | 1986-12-17 |
GB2187592A (en) | 1987-09-09 |
DE3643629C2 (de) | 1995-11-23 |
US4833681A (en) | 1989-05-23 |
GB2187592B (en) | 1989-10-18 |
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