DE2118449A1 - Schicht zum Verhindern der Elektronenstreuung bei Elektronenstrahlröhren und Verfahren zum Herstellen der Schicht - Google Patents

Description

Patentanwälte

Dr.-Ing. V/illiclm Reichel
piv. v/.iiV'zng ßeicliel

6 Franlaurl a. M. 1
Parksiraße 13

6643

VICTOR COMPANY OF JAPAN, LTD., Yokohama-City, Japan

Schicht zum Verhindern der Elektronenstreuung bei Elektronenstrahlröhren und Verfahren zum Herstellen der Schicht

Die Erfindung bezieht sich auf eine Schicht zum Verhindern der Elektronenstreuung und Elektronenreflexion bei Katodenstrahlröhren, insbesondere bei Farbfernsehbildröhren, sowie auf ein Verfahren zum Herstellen der Schicht.

Bei nachbeschleunigenden Farbfernsehbildröhren werden die von Elektronenkanonen emittierten Elektronenstrahlen in einem Beschleunigungsfeld hoher Spannung beschleunigt. Die beschleunigten Elektronenstrahlen treffen mit hoher kinetischer Energie auf einer Leuchtstoff- oder Phosphorschicht auf, die durch die auftreffenden Elektronenstrahlen zum Leuchten angeregt wird. Durch die mit hoher kinetischer Energie auftreffenden Elektronenstrahlen werden eine große Anzahl von Sekundärelektronen, Reflexionselektronen und Streuelektronen erzeugt.

Die erzeugten Sekundärelektronen und Reflexionselektronen haben keine hohe kinetische Energie. Die Sekundärelektronen kann man daher entfernen, indem die Energiedifferenz zwischen den auftreffenden Elektronen und den Sekundärelektronen ausgenutzt wird, Die Streuelektronen werden hingegen in dem Nachbeschleunigungs-

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feld beschleunigt und treffen mit etwa der gleichen kinetischen Energie wie die ursprünglich auftreffenden Elektronen auf der Leuchtstoff schicht auf. Als Folge davon treten rund um die durch die auftreffenden Normalelektronen leuchtenden Stellen Halo- oder Lichthof er scheinungen auf. Dadurch wird der Kontrast und die Farbgüte der wiedergegebenen Bilder vermindert.

Um diese nachteiligen Wirkungen zu vermeiden, ist es aus der US-PS 2 878 411 bekannt, auf einem auf der Leuchtstoff schicht aufgedampften Aluminiumbelag eine einzige dünne Schicht auf-

^ zusintern, die die Elektronenstreuung verhindern soll und zu diesem Zweck aus einem Stoff mit einer kleinen Atomzahl besteht, beispielsweise aus Bor oder Kohlenstoff. Diese herkömmliche Elektronenstreuungsverhütungsschicht aus einem einzigen dünnen Überzug ist jedoch nicht in der Lage, die Elektronenstreuung hinreichend gut zu unterbinden, da die Elektronen an der Grenzfläche zwischen der Elektronenstreuungsverhütungsschicht und der Metallschicht aus Aluminium gestreut v/erden. Außerdem kann diese Schicht die an der Lochmaske emittierten Sekundärelektronen nicht hinreichend gut absorbieren. Ferner hat es sich herausgestellt, daß sich die Einzelschicht während des Ausheizens der Farbfernsehbildröhre bei der Herstellung ablöst. Dabei treten i.v.-allger.-vi.-.on Temperaturen von etv/a

ψ 430 C auf. Falls die aufgebrachte Elektronenstreuungsverhütungsschicht solchen Temperaturen nicht standhält, wird die Herstellung der Bildröhren außerordentlich erschwert.

Weiterhin hat es sich herausgestellt, daß sich die auf die Leuchtstoffschicht aufgebrachte Schichx umso leichter abschält, je dicker sie ist. Die Elektronenstreuungsverhütungsschicht muß jedoch eine gewisse Dicke oder Stärke haben, die zu der kinetischen Energie der auftreffenden Elektronen in einer gewissen Beziehung stehen muß, um die Streuung von Elektronen wirksam zu unterbinden. Bei einer Schirmspannung von 20 kV bis zu einigen 20 kV muß die Stärke einer Schicht zum Verhindern der Elektronenstreuung beispielsweise einige 1000 2 betragen. Je dicker die Verhütungsschicht ist, umso größer wer-

ftO Q^

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den die Spannungen zwischen den Stoffen, aus denen die Verhütungsschicht und die metallische Hinterlegungsschicht bestehen. Dies ist auf die unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten der beiden verwendeten Stoffe zurückzuführen. Die die Elektronenstreuung verhindernde Schicht schält sich von der Metallschicht aufgrund einer Bimetallwirkung ab, die zwischen den beiden Schichten auftritt. Die bekannte Verhütungsschicht hat daher keine große praktische Bedeutung erlangt.

Um die obigen Nachteile zu vermeiden, hat die Anmelderin eine Schicht vorgeschlagen, die in der Lage ist, die Elektronenstreuung wirkungsvoller zu unterbinden, und die sich nicht so leicht ablöst wie die bekannten Schichten. Zum Herstellen dieser Schicht wird zwischen der metallischen Schutzschicht aus Aluminium und einer Elektronenstreuungsverhütungsschicht aus Borcarbid eine Übergangsschicht ausgebildet, die aus Aluminium und aus Borcarbid besteht. Diese Verhütungsschicht hat den Vorteil, daß sie infolge der Übergangsschicht mit der metallischen Schutzschicht integral ausgebildet ist. Dadurch kann sich die Verhütungsschicht nicht so leicht wie bisher von der metallischen Schutzschicht ablösen.

Trotz der Übergangsschicht kommt es immer noch vor, daß sich die metallische Schutzschicht von der Leuchtstoffschicht löst. Dies ist insbesondere auf eine beim Erhitzen auftretende Bimetallwirkung zwischen der metallischen Schutzschicht und der Elektronenstreuungsverhütungsschicht zurückzuführen. Bekannt? lieh hat die Leuchtstoff- oder Phosphorschicht eine rauhe Oberfläche mit Erhöhungen und Vertiefungen. Y/enn das Aluminium direkt auf der Oberfläche der Leuchtstoffschicht aufgedampft wird, -würde die der Leuchtstoffschicht zugewandte Seite der dünnen Aluminiumschicht ebenfalls Unregelmäßigkeiten aufweisen. Vor dem Aufbringen der metallischen Schutzschicht auf die Leuchtstoffschicht wird daher die Leuchtstoffschicht zunächst mit einer Zwischenschicht überzogen, so daß anschließend das Aluminium auf einer ebenen Oberfläche aufgedampft werden kann. Nach dem Aufdampfen der Aluminiumschicht wird die Zwischen-

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schicht entfernt. Daher ist die Adhäsion zwischen der metallischen Schutzschicht und der Leuchtstoffschicht nicht allzu · groß. Die Metallschicht löst sich daher von der Leuchtstoffschicht leicht ab, wenn zwischen der Metallschicht und der Elektronenstreuungsverhütungsschicht die oben beschriebene Bimetallwirkung auftritt. Dies hat dazu geführt, daß die Herstellung der herkömmlichen Elektronenstrahlröhren äußerst sorgfältig vorgenommen v/erden muß, was mit erhöhten Herstellungskosten verbunden ist.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, für Elektrofe nenstrahlröhren eine Schicht zu schaffen, die die Entstehung von Streuelektronen beim Auftreffen der Elektronenstrahlen verhindert und die sich unter der Einwirkung von Wärme nicht von der Leuchtstoffschicht ablöst. Die zu schaffende Schicht soll insbesondere für nachbeschleunigende Farbfernsehbildröhren geeignet sein. '

Eine derartige Schicht ist nach der Erfindung dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht mindestens drei Schichtlagen aufweist, nämlich eine Elektrodenlage, die auf der von den Hauptelektronenstrahlen durchsetzten Leuchtstoffschicht aufgebracht ist, eine auf der Elektrodenlage aufgebrachte erste Verhütungslage aus einem die Elektronenstreuung verhindernden ersten W Stoff mit einer Atomzahl, die kleiner als die Atomzahl des Stoffes ist, aus dem die Elektrodenlage besteht, und eine auf der ersten Verhütungslage aufgebrachte zweite Verhütungslage aus einem die Elektronehstreuung verhindernden zweiten Stoff mit einer Atomzahl, die ebenfalls kleiner als die Atomzahl des Stoffes ist, aus dem die Elektrodenlage besteht, und daß die Stärken der drei Lagen in Verbindung mit den Wärmeausdehnungskoeffizienten und den Elastizitätsmodulen der drei Lagen derart gewählt sind, daß eine durch Temperaturänderungen hervorgerufene Bimetallwirkung zwischen der Elektrodenlage und der ersten Verhütungslage durch eine entsprechende Bimetallwirkung zwischen der ersten Verhütungslage und der zweiten Verhütungslage ausgeglichen wird, so daß sich die Schicht nicht in einem solchen Maße durchbiegt, daß sie sich von der Leuchtstoff schicht

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Ein Verfahren zum Herstellen einer derartigen Schicht zeichnet sich nach der Erfindung dadurch aus, daß zum Ausbilden einer Elektrodenlage ein Stoff mit einem verhältnismäßig niedrigen Schmelzpunkt auf die Leuchtstoffschicht aufgedampft wird, daß zum Ausbilden einer ersten Elektronenstreuungsverhütungslage ein Stoff mit einem höheren Schmelzpunkt und einer kleineren Atomzahl als beim Stoff, aus dem die Elektrodenlage besteht,· auf die Elektrodenlage aufgedampft wird, daß zum Ausbil-■ den einer zweiten Elektronenstreuungsverhütungslage ein Stoff mit einer kleineren Atomzahl als beim Stoff, aus dem die Elektrodenlage besteht, auf die erste Elektronenstreuungsverhütungslage aufgedampft wird, und daß die Stärken der aufgedampften Lagen in Verbindung mit den Wärmeausdehnungskoeffizienten und den Elastizitätsmodulen der Lagen derart gewählt werden, daß eine auf Temperatüränderung beruhende Bimetallwirkung zwischen der Elektrodenlage und der ersten Eiektronenstreuungsverhütungslage durch eine entsprechende Bimetallwirkung zwischen der ersten Elektronenstreuungsverhütungslage und der zweiten Elektronenstreuungsverhütungslage ausgeglichen wird, so daß sich die aus den einzelnen Lagen bestehende Schicht nicht in einem solchen Maße durchbiegt, daß sich die Elektrodenlage von der Leuchtstoffschicht löst.

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Bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung werden an Hand von Figuren beschrieben.

Die Fig. 1 zeigt einen senkrechten Schnitt durch eine nachbeschleunigende Farbfernsehbildröhre mit einer die Elektronenstreuung verhindernden Schicht nach der

Erfindung.

Die Fig. 2 zeigt einen vergrößerten senkrechten Schnitt durch einen Teil eines Bildröhrenschirms mit einer nach der Erfindung ausgebildeten Schicht, die die Elekfc tronenstreuung verhindert.

Die Fig. 3 zeigt an Hand eines Diagramms wie sich eine aufgedampfte Schicht nach der Erfindung zusammensetzt.

Die Fig. 4 ist ein senkrechter Schnitt durch eine Vorrichtung, die zum Herstellen einer nach der Erfindung ausgebildeten Schicht dient.

Die Fig. 5 zeigt perspektivisch eine Heizvorrichtung zum Verdampfen von Stoffen.

Die Fig. 6 ist ein zur Erläuterung dienendes Diagramm und

zeigt in einem Modell einzelne Lagen der aufge- h dampften Schicht nach der Erfindung.

Die Fig. 7 zeigt an Hand eines Diagramms den Zustand der in der Fig. 6 dargestellten Lagen bei hohen Temperaturen .

Die Fig. 8 zeigt an Hand eines Diagramms die Beziehung zwischen der relativen Stärke der Metallsdautzlage und der die Elektronenstreuung verhindernden Schicht und zeigt einen Bereich, in dem das Abblättern der Schicht verhindert werden kann.

Die Fig. 9 zeigt einen vergrößerten senkrechten Schnitt durch einen Teil eines Bildröhrenschirms mit einer weiteren Ausführungsform einer nach der Erfindung ausgebildeten Schutzschicht zum Verhindern der Elektronenstreuung-j Q98AA/16A9

Eine Ausführungsform einer nachbeschleunigenden Farbfernsehbildröhre mit einer nach der Erfindung ausgebildeten Schutzschicht zum Verhindern der Elektronenstreuung ist in der Fig. dargestell

t.

Die nachbeschleunigende Farbfernsehbildröhre 10 weist einen Glaskolben 11 auf und ist mit einem äußeren Ablenksystem 12 versehen. Drei auf einer Abschlußplatte 14 angeordnete Elektronenkanonen 15 sind vakuumdicht in den Röhrenhals 13 eingeschmolzen. Außer dem Hals 13 enthält der Kolben 11 einen Kolbentrichter 16 und einen Schirmträger 17. Auf der Innenfläche •des Schirmträgers 17 befinden sich eine Phosphorschicht 18 mit Dreifarbenphosphorpunkten, nämlich einem rot, grün und blau emittierenden Phosphor, und ein Überzug oder eine Schicht 19, die die Elektronenstreuung verhindert und gemäß der Erfindung mit einer Metallschubzschicht integral ausgebildet ist. Eine Loch- oder Schattenmaske 20 verläuft in einem Abstand parallel zu der Schicht 18 und dem Überzug 19. Die Löcher der Schattenmaske 20 haben einen Durchmesser, der größer als jeder einzelne Phosphorpunkt einer Phosphordreiergruppe der Phosphorschicht ist.

Gemäß der Erfindung ist eine erste Spannungsquelle E₁ an eine Metallschitzschicht und eine durchsichtige leitende Elektrode, beispielsweise aus Nesa-Glas, angeschlossen. Eine zweite Spannungsquelle E₂ von 8,8 kV ist mit einer Schattenmaske 20 und eine dritte Spannungsquelle E^ von 9,6 kV mit einer Anode 21 verbunden, die auf der Innenwand des Kolbentrichters 16 angeordnet ist. Für die drei Spannungsquellen E₁ bis E, gilt vorzugsweise die Beziehung E_?< E^<E₁, so daß bezüglich der von den Elektronenkanonen 15 emittierten Elektronenstrahlen 22 ein starkes elektrisches Nachbeschleunigungsfeld zwischen der Lochmaske 20 und der Phosphorschicht 18 herrscht. Zwischen der Lochmaske 20 und der Anode 21 befindet sich ein schwaches negativ beschleunigendes elektrisches Feld, aufgrund dessen ein großer Teil der Sekundärelektronen 23, die von der Lochmaske emittiert werden, wenn der Elektronenstrahl 22 auf der Lochmaske 20 auftrifft, von der Anode 21 absorbiert werden.

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Einige der Sekundärelektronen, die in der Umgebung der Löcher der Lochmaske 20 erzeugt werden, werden in das elektrische Nachbeschleunigungsfeld zwischen der Lochmaske 20 und der Phosphorschicht 18 gezogen. Diese Sekundärelektronen gelangen durch die Löcher in das elektrische Beschleunigungsfeld, v/erden von diesem beschleunigt und treffen auf die Phosphorschicht 18 auf. Dadurch wird der Kontrast verschlechtert. Da die Anfangsgeschwindigkeit der Sekundärelektronen, wenn sie von der Lochmaske 20 emittiert v/erden, einige 10 V beträgt, ist ihre kinetische Energie, wenn sie auf der Phosphorschicht .18 auftreffen, nahezu gleich der Energie der Nachbeschleunigungsspannung. Diese kinetische Energie ist kleiner als diejenige der Elektronenstrahlen 22, die ungehindert durch die Lochmaske 20 hindurchtreten und auf der Phosphorschicht 18 auftreffen. Wenn man die Stärke der auf der Phosphorschicht 18 aufgedampften Metallsctntzschicht und der/Schutzschicht genau auswählt, ist es möglich, daß die primären Elektronenstrahlen 22 den Leuchtschirm in einer solchen Weise erreichen, daß sie ihn gerade zum Erleuchten bringen. Die Stärke des auf der Phosphorschicht 18 aufgebrachten Überzugs, die ausreicht, um eine Verschlechterung des Kontrasts durch die Sekundärelektronen zu verhindern, beträgt für Aluminium etwa 5000 A. Dabei liegt an der Phosphorschicht eine Spannung von 20 kV und an der Lochmaske eine Spannung von 9 kV. Bei einer Spannung von 25 kV an der_ Phosphorschicht und von 11 kV an der Lochmaske benötigt man einen Überzug mit einer Stärke von etwa 8000 ft.

Die Elektronenstrahlen, die mit hoher kinetischer Energie die Lochmaske 20 passieren und auf der Phosphorschicht auftreffen, erzeugen eine große Anzahl von Sekundärelektronen und von Streuelektronen beim Auftreffen auf dem Schirm. Infolge ihrer geringen Anfangsgeschwindigkeit bringen diese Sekundärelektronen die Phosphorschicht nicht zum Leuchten. Bei den Streuelektronen handelt es sich hingegen um Elektronen, die mit nahezu der gleichen Energie wie diejenige des auftreffenden Elektronenstrahls in verschiedene Richtungen auseinanderlaufen. Unter den Streuelektronen befinden sich Elektronen 24, die unter

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einein größeren Winkel als einem kritischen V/inkel emittiert werden und aufgrund dessen in dem elektrischen Nachbeschleunigungsfeld eine gekrümmte Bahn durchlaufen und nahezu ohne Energieverlust auf der Phosphorschicht auftreffen. Dabei hängt der kritische Y/inkel von den Spannungen an der Phosphorschicht und an der Lochmaske sowie von dem Abstand zwischen der Phosphorschicht und der Lochmaske ab. Die auf der Phosphorschicht auftreffenden Streuelektronen erzeugen um den Leuchtpunkt, der von dem normalen Elektronenstrahl hervorgerufen wird, einen Lichthof. Die Folge davon ist, daß sich der Kontrast des Bildes verschlechtert und eine Farbwertverschiebung auftritt. Da die Streuelektronen 24 nahezu die gleiche Energie wie die primären Elektronenstrahlen haben, kann man die Kontrastherabsetzung und die Farbwertverschiebung nicht dadurch erreichen, daß der Überzug auf der Phosphorschicht dicker ausgebildet wird. Diese Tatsache hat die praktische Anwendung von nachbeschleunigenden Farbfernsehbildröhren behindert.

Nach der Erfindung wird daher eine Streuelektronenschutzschicht vorgesehen, in der die bereits erwähnten Sekundärelektronen in einem hinreichenden Maß absorbiert und die Erzeugung von Streuelektronen durch die primären Elektronenstrahlen verhindert wird. Gleichzeitig wird eine Elektrodenschicht, beispielsweise eine Metallßdiufczschicht geschaffen, die darüberhinaus den Vorteil hat, daß sie sich selbst bei starken Temperatur^ Schwankungen nicht von der Phosphorschicht ablöst.

Die Fig. 2 zeigt in einem vergrößerten Maßstab einen senkrechten Schnitt durch eine nach der Erfindung ausgebildete Schicht, die die Erzeugung von Streuelektronen verhindert. Zum Herstellen des erfindungsgemäßen Belags wird unter Verwendung einer noch zu beschreibenden Verdampfungsvorrichtung eine Metainschutzschicht 30 durch Verdampfen von Aluminium (Al) auf der Phosphorschicht 18 aufgebracht. Auf der Metallschutzschicht 30 wird kontinuierlich eine Ubergangsschicht 31 ausgebildet, die aus Borcarbid (B^C) und Aluminium in einem gemischten Zustand besteht. Dabei dient das Borcarbid als Material mit einer

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kleinen Atomzahl, das die Streuung der Elektronen verhindert. Der Übergangs schicht 31 folgt eine aus Borcarbid B. C -bestehende Schicht, die die Elektronenstreuung verhindert. An die erste Verhinderungsschicht 32 schließt sich eine zweite Verhinderungsschicht 33 aus Lithiumfluorid (LiF) an, das ebenfalls eine kleine Atomzahl hat. Auf diese V/eise wird ein mit der Metallschutz schicht 30 integraler Überzug 19 geschaffen, der die Elektronenstreuung verhindert. Das Material der zweiten Streuelektronenverhütungsschicht 33 wird aus einer Gruppe von Materialien ausgewählt, von denen jedes einen unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten hat, und. weist im Hinblick auf das Material der ersten Streuelektronenverhütungsschicht 32 eine kleinere Atomzahl auf. Im vorliegenden Fall handelt es sich bei dem Stoff für die zweite Schicht 33 um Lithiumfluorid und.bei dem Stoff für die erste Schicht 32 um Borcarbid. Wenn das Reflexionselektronenemissionsverhältnis der Atomzahl proportional ist, sollte die Atomzahl, die man für ein Kontrastverhältnis von 20 benötigt, kleiner als die Hälfte der. Atomzahl von Aluminium (13) sein. Weiterhin muß das verwendete Material bezüglich der Fertigung von Bildröhren gewissen Anforderungen genügen. Unter Berücksichtigung der obigen Anforderungen, haben die Erfinder Versuche mit Materialien wie B, C, LiF, LiCO, und B^C vorgenommen. Aufgrund der Versuchsergebnisse haben sich Borcarbid (B^C) und Lithiumfluorid (LiF) als am besten geeignete Stoffe erwiesen.

Wie es die Fig. 3 zeigt, v/eist die Übergangsschicht 31 einen sich stetig ändernden Dichtegradienten der Verbundstoffe auf. So ändert sich in dem gezeigten Diagramm das Zusammensetzungsverhältnis von Aluminium allmählich von 1OO?o auf 0%, wenn man von der Metallschutzschicht 30 zur Streuelektronenverhütungsschicht 32 übergeht. Das Zusammensetzungsverhältnis von Borcarbid verändert sich dabei umgekehrt von 0% auf 100%. Wenn man die Ubergangsschicht 31 in der gezeigten Weise ausbildet, wird verhindert, daß in der Borcarbidschicht 32 feine Poren auftreten. Dadurch v/ird verhindert, daß die Aluminiumschicht infolge einer Reaktion von Lithiumfluorid LiF und Aluminium Al über die Poren durchlässig wird.

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Der beschriebene Aufbau und die beschriebene Zusammensetzung des Streuelektronenverhütungsüberzugs 19 und der Metallschutzschicht 30 haben den weiteren Vorteil, daß sich die Schichten unter der Einwirkung von Wärme nicht derart stark verziehen, daß sie sich von der Phosphorschicht 18 ablösen. Der Einfachheit halber sind die Metallschutzschicht 30, die Borcarbidschicht 32 und die Lithiumfluoridschicht 33 in der Fig. 6 lediglich schematisch dargestellt. Dabei wird angenommen, daß sich die Übergangsschicht 31 auf die Metallschützschicht 30 und die Borcarbidschicht 32 verteilt. Die Dicke oder Stärke der Schichten 30, 32 und 33 wird mit t , t, und t angegeben. Die Länge der Schichten wird mit 1 und die Breite mit s bezeichnet. Es wird angenommen, daß die Schichten dynamisch stabil sind, d.h., daß die Energie bei einer gewissen Temperatur Q^ bis θρ ein Minimum ist, wobei die Schichten 30, 32 und 33 aus dem in der Fig. 6 gezeigten Zustand in einen in der Fig.7 gezeigten Zustand gebogen sind, bei dem die Schichten einen Biegungsradius R und einen Winkel 9 aufweisen, also einem Zustand, bei dem die in den Schichten gespeicherte Energie auf das Minimum verringert ist.

Als erstes soll der Biegungsradius R und dann die Bedingungen, bei denen der Biegungsradius R unendlich wird, d.h., bei denen der aufgebrachte Überzug aus den Schichten 30, 32 und 33 nicht gebogen ist, erarbeitet werden. Für die noch aufzuführenden Gleichungen gelten die folgenden Bezeichnungen:

Anfangstemperatur bei der Temperaturänderung Q₁

Endtemperatur bei der Temperaturänderung θρ

Betrag der Temperaturänderung Δθ = Q^-Q*

Wärmeausdehnungskoeffizient der Stoffe, aus denen die Schichten 30, 32 und 33

bestehen a_&, _{α b> o c}

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Die Indices a, b und c sind den Schichten 30, 32 bzw. 33 zugeordnet.

Stärke der Schichten 30, 32 und 33· · t_, t, und t_

Cl U C

Elastizitätsmodul der Stoffe der

Schichten 30, 32 und 33 E_, E^ und E_

dU C

Federkonstante der Stoffe der Schichten

30, 32 und 33 .*. K . K_K und K

el U C

Länge der aufgebrachten Schichten

bei der Temperatur θ^ 1

Länge der Schichten 30, 32 und 33 bei der Temperatur θ ρ unter der Voraussetzung, daß die Schichten voneinander getrennt, also nicht

miteinander verbunden sind 1_, 1, und 1

cL D C

Mittlere Länge der Schichten 30,32 und 33

in ihrer Mitte bei der Temperatur θρ L , L^ und L

Krümmungsradius und Biegungswinkel des gesamten Überzugs bei der Temperatur ©₂ ..".. R und Q Die mittlere Länge L , L^ und L der
Schichten 30, 32 und 33 in ihrer auf die Schichtenstärke bezogenea Mitte bei der Temperatur ©₂ kann man durch die folgenden Gleichungen ausdrücken:

t
L_a = (R₊ -f + t_b + t_c)<P (1-1)

t,
L_b = (R₊ -f + ΐ_ο)φ (1-2)

t
L_c = (R+ -£)<? (1-3)

Unter der Voraussetzung, daß die Schichten 30, 32 und 33 voneinander getrennt waren, wurden die einzelnen Schichten längen 1 , 1- und 1 bei der Temperatur Q₀ durch die folgenden Gleichungen beschrieben werden:

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Aus der Beziehung zwischen der Federkonstanten und dem Elastizitätsmodul ergeben sich die folgenden Gleichungen:

^Kc = T^{2 s E}c

^{C 1}O

Die eine Temperaturänderung von θ^ bis θρ begleitende Änderung der internen Energie der Schichten 30, 32 und 33 kann man in zwei voneinander getrennte Änderungen unterteilen, nämlich in eine Änderung infolge der Ausdehnung des aufgebrachten Überzugs und in eine Änderung infolge der Durchbiegung des Überzugs. Die Energieänderungen infolge der Ausdehnung kann man durch die folgenden Gleichungen ausdrücken:

^üb1 = ΊΓ

^Uo1 -

Die Energieänderungen infolge Durchbiegung werden durch die folgenden Gleichungen beschrieben:

<⁵"²>

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Die Gesamtänderung U der Energie erhält man, wenn man die Gleichungen (4-1), (4-2), (4-3), (5-1), (5-2) und (5-3) addiert. Es ergibt sich dabei die folgende Gleichung:

U = "^₁₊U₁₅₁₊U₀₁₊U₃₁₂₊U₁₁₂-HJ₀₂ , ... (6)

Die Bedingungen, bei denen die Gesamtänderung U der inneren Energie des aufgebrachten Überzugs hinsichtlich der Temperaturänderung ihr Minimum hat, erhält man von den folgenden Gleichungen:

K_b j (R + -| + t₀) Φ

Aus der Gleichung (8) folgt:

±2 » ο (β)

Aus der Gleichung (7) folgt:

_b j (R + -| + t₀ j |

C9)

^ν* wifr-¹ -

TS V] ^{+ K}b [(^R+ X ⁺'*c) {^(R+ "Τ ⁺ *o>* -

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-15- 2118U9

Damit U ein Minimum ist, müssen die Gleichungen (9) und (10) gleichzeitig gelten.

Aus der Gleichung (9) folgt:

Φ = 0 (11)

^Ka ί (^R+ ΊΓ ⁺ % ⁺ V> * - ^Xai ^{+ K}b { <^{R +} "T ⁺ *ο> Φ "

Man erhält also zwei Lösungen (11) und (12).

Wenn man die Gleichung (11) mit φ = 0 annimmt, folgt aus der Gleichung (10):

a ^(R+ ΊΓ ⁺ *b ⁺ V^ ^{+ K}b<^{R +} "Τ ⁺ V h ⁺

t ,
K_c (R + -f) l_cy = 0 (10a)

Da bei einem tatsächlich verfügbaren Material alle Konstanten positiv sein müssen, kann die Gleichung (10a) für ein tatsächliches Material nicht gelten. Die Gleichung (11) mit 9=0 entfällt daher. Das bedeutet, daß φ \ 0.

Hieraus folgt, daß φ der Gleichung (12) gehorchen muß:

K_ai_a + K_bi_b + k_ci_c

K_a (R+ -f + t_b + t_c)+K_b (R₊ -^ + t_c)+K_c (R₊ -f)

..(13)

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Aus der Gleichung (10)ergibt sich für φ:

y_a(4 ⁺vV^+KbV^R+-T

b ^2 c

(14)

Wenn man die Gleichung (13) der Gleichung (14) gleichsetzt, er hält man den Krümmungsradius R des aufgebrachten Überzugs, bei dem die Gesamtänderung U der internen Energie ihr Minimum hat. Zur Vereinfachung der Rechnung werden die folgenden Ausdrücke benutzt.

Q = K_a + K_b + K_c , (15-2)

^V = ^Ka ^{+ 1}Z ^⁺ % ⁺ "V * (¹⁵~³>

^w-tcv + tI V ⁺ TlV <¹^)

S= K(^ + VV⁺V ^

^T = ^K<

Aus den Gleichungen (13), (14) und (15) folgt:

P ₌ RP + V ,

RQ + S R²Q + 2RS + T + W

Aus der Gleichung (16) ergibt sich R wie folgt

- PT

PS-VQ

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Der aus der Gleichung (17) folgende Wert R ist der Radius der Krümmung der aufgebrachten Schicht, wenn die Gesamtänderung U der internen Energie des aufgebrachten Überzugs ihr Minimum hat.

Wenn man eine Bedingung sucht, bei der der Krümmungsradius R unendlich groß wird, muß man den Nenner der Gleichung (17) gleich 0 setzen. Hieraus ergibt sich die folgende Gleichung:

PS-VQ = O (18)

Wenn man in der Gleichung (18) die ursprünglichen Symbole verwendet, erhält man die folgende Beziehung:

Aus der obigen Gleichung geht die Beziehung zwischen der Dicke der einzelnen Schichten nicht klar hervor. Die Schichtstärken t_b und t werden daher durch t normiert und durch die folgenden Beziehungen dargestellt: t^/t =tv, und ^_c/^_a-^_c ι·

Die obige Gleichung kann man dann wie folgt wiedergeben:

t_b, (1+t_b,)(a_a-«_b)E_aE_b+t_b,t_c, (t_b, ¹^bW <^1+2tb·

Aus den obigen theoretischen Betrachtungen folgt, daß bei einem auf der Phosphorschicht aufgebrachten Überzug mit mehr als drei Schichten aus Materialien mit verschiedenen Wärmeausdehnungskoeffizienten der Aufbau des aufgebrachten Überzugs derart vorgenommen werden kann, daß sich der Überzug oder Belag bei Temperaturänderungen nicht durchbiegt oder' wölbt. Dies kann dadurch erreicht werden, daß man die Stärke oder Dicke jeder Schicht in Verbindung mit dem Wärmeausdehnungskoeffizienten und dem Elastizitätsmodul der verwendeten Stoffe auswählt.

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Die bei dem beschriebenen Ausführungsbeispiel verwendeten Stoffe haben die folgenden physikalischen Konstanten:

Stoff	Elastizitätsmodul E (Dyn/cm2)	j Wärmeausdehnungskoeffizient 0 I (Grad ~1)
Al	0,706 χ 1012	" 2,3 x 10~5
B4C	4,50 χ 1012	0,45 x 10~5
LiF	12 0,880 X 10 *	3,7 x 10~5

Wenn der aufgebrachte Überzug, der aus den drei Schichten 30, 32 und 33 mit den Stoffen Al, B₄C und LiF besteht, bei Temperaturänderungen nicht durchgebogen werden soll, muß die Stärke der einzelnen Schichten der Gleichung (20) genügen. Das in der Fig. 8 gezeigte Diagramm veranschaulicht die relative Stärke der drei Schichten in einem Zustand, bei dem der aufgebrachte Belag aus den drei Schichten bei Temperaturveränderungen unverändert bleibt, sich also nicht durchbiegt. Dabei wurden die in der obigen Tabelle zusammengestellten V/erte in die Gleichung (20) eingesetzt, und die Stärke der Aluminiumschicht 30 als Normalstärke gewählt, nämlich gleich 1 gesetzt.

Bei dem in der Fig. 8 dargestellten Diagramm ist die durch die

Stärke t_ der Aluminiumsdiutzschicht 30 normierte Stärke der a

Lithiumfluoridschicht 33 t . = t /t auf der Abszisse aufgetra-

CO SL

gen, während die durch die Stärke t„ der Aluminiumsdiutzschicht 30 normierte Stärke der Borcarbidschicht 32 t_fel = \/^_Ά ^{auf der} Ordinate aufgetragen ist. Die in der Fig. 8 voll eingezeichnete Kurve I deutet die Beziehung zwischen der Stärke der Lithiumfluoridschicht 33 und der Stärke der Borcarbidschicht 32 an, wobei die Stärke dieser Schichten mit der Stärke der Aluminiumschicht 30 normiert ist und für die eingezeichnete Kurve keine Durchbiegung des Überzugs bei Temperaturänderungen auftritt. Wenn daher die relativen Stärken der Schichten 30, 32 und 33 derart gewählt sind, daß sie die Beziehung der als Vollinie eingezeichneten Kurve I genügen, heben sich die Spannungen auf,

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die zwischen den einzelnen Schichten herrschen. Das bedeutet, daß die Bimetallwirkung, die zwischen den Schichten 30 und 32 auftritt, durch die Bimetallwirkung kompensiert wird, die zwischen den Schichten 32 und 33 auftritt. Der gesamte Überzug biegt sich daher nicht durch.

Infolge der Adhäsion zwischen dem aufgebrachten Überzug und der Phosphorschicht ist eine geringe Durchbiegung des aufgebrachten Überzugs nicht in der Lage, den Überzug von der Phosphorschicht zu lösen. Die in der Fig. 8 eingezeichnete schraffierte Fläche II gibt einen Bereich von relativen Stärken zwischen den Schichten 30, 32 und 33 an, in dem die Durchbiegungskraft nicht ausreicht, den aufgebrachten Überzug von der Phosphorschicht zu lösen. Die tatsächlich gewählten Stärkenverhältnisse der Schichten 30, 32 und 33 sollten daher innerhalb der schraffierten Fläche II liegen, jedoch vorzugsweise auf der Kurve I.

Die folgende Tabelle gibt bevorzugte Stärken für die einzelnen Schichten an.

"~"~~~"—--^.^^ Beispiel Stärke (S) ~~~^ —^.	1	2	3	4
Gesamtschicht	5500	5000	6500	3000
Schicht 30 (Aluminium)	1500	1200	1700	1000
Schicht 31 (Übergangsschicht	500	500	800	600
Schicht 32 (Borcarbid)	2500	2500	2500	900
Schicht 33 (Lithiumfluorid)	1000	800	1500	500

Bei dem obigen Ausführungsbeispiel besteht der aufgebrachte

Überzug aus drei Schichten, nämlich den Schichten 30, 32 und 33» also einschließlich der Aluminiumschutzschicht 30, jedoch ausschließlich der Übergangsschicht 31. Wenn die aufgebrachte Ge-

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samtschicht dicker gemacht wird, beispielsweise 1/U , kann man die Anzahl der Schichten erhöhen. So ist eine weitere nach der Erfindung ausgebildete Gesamtschicht in der Fig. 9 dargestellt. Bei diesem Ausführungsbeispiel schließt sich eine Borcarbidschicht 40 B<C mit einem kleinen Wärmeausdehnungskoeffizienten an die in der obigen Weise ausgebildeten Lithiumfluoridschicht 33 LiF an. Die Borcarbidschicht 40 ist wiederum mit einer Lithiumfluoridschicht 41 LiF mit einem größeren Wärmeausdehnungskoeffizieten überzogen. Wenn bei diesem Ausführungsbeispiel die Stärke der Schichten 30 bis 33 sowie 40 und 41 entsprechend der obigen Beziehung richtig gewählt sind, zeigt der aufgebrachte Überzug in Abhängigkeit von der Temperatur keine Durchbiegung und löst sich daher von der Phosphorschicht 18 nicht ab.

Als nächstes wird ein bevorzugtes Verfahren zum Herstellen der Elektronenstreuungverhütungsschicht, die in der Fig. 2 gezeigt ist, und eine Vorrichtung zur Ausführung des Verfahrens an Hand der Fig. 4 und 5 beschrieben. '

Über ein Lüftungsventil 61 kann man in eine Glasglocke 50 Luft einleiten, so daß die Glasglocke abgenommen werden kann, nachdem ein Druckausgleich hergestellt ist. Wie es im einzelnen aus der Fig. 5 hervorgeht, enthält eine Heizvorrichtung 53 einen Schmelztiegel 55» der von einer Elektrode 54 abgedeckt wird. Ein Katodenheizfaden 56 umgibt den Schmelztiegel 55. Gepreßtes Borcarbid (B^C, Schmelzpunkt 2450 ⁰C), das in einer Argonatmosphäre bei einer Temperatur von 1300 ⁰C gesintert wurde, wird in den Schmelztiegel 55 gegeben. Auf die Oberseite des Borcarbids 57 wird ein Stück festes Aluminium 58 (Al, Schmelzpunkt 660 ⁰C) gelegt (beispielsweise 70 mg). In einen bootförmigen Behälter 62 aus Tantal wird Lithiumfluorid (LiF, Schmelzpunkt 660 ⁰C) gegeben. Wenn der Abstand zwischen dem Tiegel 55 und dem bootförmigen Behälter 62 zu groß ist, wird die Stärke des Überzugs ungleichmäßig. Wenn hingegen der Abstand zu klein ist, wird der Schmelztiegel 55 von dem bootsförmigen Behälter 62 beschattet. Der Abstand sollte daher passend gewählt sein. Bei der vorliegenden Ausführungsform beträgt der Abstand 8 cm.

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Der· Schirmträger 17 mit einer Phosphorschicht wird von einer Stütze 51 unter der Vakuumglocke 50 getragen. Die Stütze 51 ist in einem Abstand von dem Schmelztiegel 55 und dem bootsförmigen Behälter 62 angeordnet, und zwar in einem Abstand von etwa 20 bis 30 cm.

Als nächstes wird die Vakuumglocke 50 aufgesetzt, und die Lüftungsventile 61 und 64 geschlossen. Eine Rotationspumpe 65 wird eingeschaltet, und ein Ventil 66 geöffnet. Dadurch wird die Vakuumglocke 50 vorevakuiert. Der Grad der Vorevakuierung wird von einer Geissler-Röhre 67 gemessen. Sobald das Vakuum 10 mm Hg erreicht hat, wird mittels des Ventils 66 auf eine Diffusionspumpe 68 umgeschaltet. Dazu wird ein Hauptventil 69 geöffnet. Der Grad des Vakuums in der Vakuumglocke 50 wird auf . 2 χ 10" mm Hg durch die Diffusionspumpe 68 erhöht. Dieses Vakuum wird mit einem Meßgerät 70 gemessen.

Wenn das Vakuum in der Vakuumglocke 50 einen vorgegebenen Wert erreicht hat, wird mit der Verdampfung begonnen. Der Heizfaden 56 wird an eine Spannung V₂ einer Spannungsquelle 72 gelegt, die auf 7 V eingestellt wird. Dabei soll durch einen Strommesser 75 ein Strom A₂ von 80 A fließen. Von der Heizwicklung 56 ausgehende Thermionenströme werden durch ein elektrisches Feld auf gekrümmten Bahnen abgelenkt. Das elektrische Feld wird durch die Elektrode 54 gebildet, wenn an sie eine Spannung V₁ einer Spannungsquelle 71 von 5 kV gelegt wird, wobei durch einen Strommesser 74 ein elektrischer Strom A,, von 50 mA fließt. Die abgelenkten Thermionenströme konzentrieren sich auf die Materialien 57 und 58, treffen auf diese auf und erhitzen sie.

Eine Abdeckblende 59 wird geschlossen, und die Materialien 57 und 58 für zwei bis drei Minuten vorerhitzt. Beim Vorerhitzen entweichen aus den Materialien oder Stoffen 57 und 58 Gase. Das Aluminium 58 schmilzt und ein Teil davon dringt in das Borcarbid 57 ein, um einen Ubergangsabschnitt aus diesen beiden Stoffen zu bilden. Nach dem Vorerhitzen wird die Abdeckblende 59 geöffnet, und die Spannung der Spannungsquelle 71 allmählich

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von 5 kV auf 8 kV während etwa fünf Minuten erhöht. Dabei verdampft zunächst das Aluminium 58, das den niedrigeren_%Schmelzpunkt hat, und schlägt sich auf der Phosphorschicht des Schichtträgers 17 nieder, um dort eine metallische Stützschicht 30 mit einer Stärke von 1500 £ zu bilden.

Die erwähnte Spannung von 8 kV wird für weitere fünf Minuten aufrechterhalten. Als nächstes verdampft der vermischte Teil aus den beiden Materialien, um die Übergangsschicht 31 zu bilden, die in Übereinstimmung mit dem oben beschriebenen Zusammensetzungsverhältnis Aluminium und Borcarbid gemischt enthält. Die Übergangsschicht 31 schließt sich an die Metallstützschicht 30 stetig an, und zwar mit einer Stärke von 500 2. Zwischen den Schichten 30 und 31 kann man keine definierte Grenze angeben.

Bei andauerndem Erhitzen verdampft das gesamte Aluminium. Anschließend verdampft das restliche Borcarbid 57, so daß auf der Übergangsschicht 31 die Elektronenstreuungsverhütungsschicht 32 mit einer Stärke von 2500 2 kontinuierlich ausgebildet wird, ohne daß zwischen den beiden Schichten eine definierte Grenze festzustellen ist.

Wenn die Borcarbidschicht 32 ihre vorgegebene Stärke erreicht . hat, wird der bootsförmige Behälter 62 durch einen elektrischen Strom erhitzt. Dazu wird an den Behälter eine Spannung V^ einer Spannungsquelle 73 von 2 V angelegt. Dabei fließt durch einen Strommesser 76 ein Strom A^ von 100 mA. Durch das Erhitzen verdampft das in dem Behälter 62 befindliche Lithiumfluorid 63 und bildet auf der Borcarbidschicht 32 eine Schicht mit einer Stärke von 1000 2. Eine auf Erdpotential oder einem anderen geeigneten Potential gehaltene Kollektorelektrode 60 absorbiert gestreute Thermionen und aufgeladene verdampfte Materialmoleküle .

Sobald die Lithiumfluoridschicht 33 ihre vorgegebene Stärke erreicht hat, wird die Verdampfung unterbrochen. Etwa fünf Minuten später wird das Hauptventil 69 geschlossen und das Lüftungs-

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ventil 61 geöffnet. Außenluft dringt in die Vakuumglocke 50 ein, die daraufhin abgehoben werden kann, um den Schirmträger 17 herauszunehmen. Obwohl der Schirmträger 17 nicht erhitzt wird, kann seine Temperatur infolge Strahlungserwärmung um 50 ⁰C über die Umgebungstemperatur ansteigen. Der aus der Vakuumglocke 50 herausgenommene Schirmträger 17 wird für etwa eine Stunde in der Umgebungsluft auf eine Temperatur von 425 ⁰C erhitzt, um ihn mit dem Kolbentrichter durch Fritten zu verschmelzen.

Die beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung beziehen sich auf Farbfernsehbildröhren mit Nachbeschleunigung. Die Erfindung ist jedoch auf derartige Bildröhren nicht beschränkt und gleichermaßen auf Elektronenstrahlgeräte anwendbar, bei denen die durch auftreffende Elektronenstrahlen erzeugte Elektronenstreuung auf einem Minimum gehalten werden soll, beispielsweise bei Katodenstrahlröhren. Ferner kann die Erfindung in mannigfacher Weise abgeändert werden.

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Claims (1)

1. -24- 211 8 A Λ 9

   Patentansprüche

   \1·/ Schicht zum Verhindern der Elektronenstreuung bei Elektronenstrahlröhren ,

   dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht mindestens drei Schichtlagen auf v/eist, nämlich eine auf der von den Hauptelektronenstrahlen durchsetzten Leuchtstoff schicht (18) aufgebrachte Elektrodenlage (30),eine auf der Elektrodenlage aufgebrachte erste Verhütungslage (32) aus einem die Elektronenstreuung verhindernden ersten Stoff mit einer Atomzahl, die kleiner als die Atomzahl des Stoffes ist, aus dem die Elektrodenlage besteht, und eine auf der ersten Verhütungslage aufgebrachte zweite Verhütungslage (33) aus einem die Elektronenstreuung verhindernden zweiten Stoff mit einer Atomzahl, die ebenfalls kleiner als die Atomzahl des Stoffes ist, aus dem die Elektrodenlage besteht, und daß die Stärken der drei Lagen in Verbindung mit den Wärmeausdehnungskoeffizienten und den Elastizitätsmodulen der drei Lagen derart gewählt sind, daß eine durch Temperatüränderungen hervorgerufene Bimetallwirkung zwischen der Elektrodenlage und der ersten Verhütungslage durch eine entsprechende Bimetallwirkung zwischen der ersten Verhütungslage und der zweiten Verhütungslage ausgeglichen wird, so daß sich die Schicht nicht in einem solchen Maße durchbiegt, daß sie sich von der Leuchtstoffschicht löst.

   2. Schicht nach Anspruch 1,

   dadurch gekennzeichnet, daß die Stärken t . t-, und t (t, , =t,/t . t ,=t /t ) der Elek-

   el D CDUcLCCcL

   trodenlage (30), der ersten Verhütungslage (32) und der zweiten Verhütungslage (33) die folgende Beziehung erfüllen:

   (i-2t ,+t )(a -« )E E_a = 0 , wobei cc , _a, und α_ die V/ärmeausdehnungskoeffizienten und E„, E^ und E_ die Elastizitätsmodule

   el D C

   der Elektrodenlage, der ersten Verhütungslage und der zweiten Verhütungslage sind.

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   3. Schicht nach Anspruch 1,

   dadurch gekennzeichnet, daß auf der zweiten Verhütungslage eine dritte Verhütungslage (40) aufgebracht ist, die aus dem gleichen Stoff besteht wie die erste Verhütungslage, und daß auf der dritten Verhütungslage eine vierte Verhütungslage (41) aufgebracht ist, die aus demselben Stoff besteht wie die zweite Verhütungslage.

   '4. Schicht nach Anspruch 1,
   dadurch gekennzeichnet, daß der Stoff der Elektrodenlage Aluminium (Al) ist, daß der Stoff der ersten Verhütungslage Borcarbid (B^C) ist und daß der Stoff der zweiten Verhütungslage Lithiumfluorid (LiF) ist.

   5. Schicht nach Anspruch 1,
   dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrodenlage und die erste Verhütungslage zwischen sich eine Ubergangslage (31) bilden, die aus einer Mischung aus den Stoffen dieser beiden Lagen besteht, und daß der Gradient des Stoffzusammensetzungsverhältnisses der Übergangslage derart gewählt ist, daß auf der an die Elektrodenlage angrenzenden Seite der Übergangslage der Stoff der Elektrodenlage überwiegt und daß auf der an die erste Verhütungslage angrenzenden Seite der Übergangslage der Stoff der ersten Verhütungslage überwiegt.

   6. Verfahren zum Herstellen einer Schicht zum Verhindern der Elektronenstreuung bei Elektronenstrahlröhren, dadurch gekennzeichnet, daß zum Ausbilden einer Elektrodenlage (30) ein Stoff (58) mit einem verhältnismäßig niedrigen Schmelzpunkt auf die Leuchtstoff schicht (18) aufgedampft wird, daß zum Ausbilden einer ersten Elektronenstreuungsverhütungslage (32) ein Stoff (57) mit einem höheren Schmelzpunkt und einer kleineren Atomzahl als beim Stoff, aus dem die Elektrodenlage besteht, auf die Elektrodenlage aufgedampft wird, daß zum Ausbilden einer zweiten Elektronenstreuungsverhütungslage (33) ein Stoff (63) mit einer kleineren Atomzahl als beim Stoff, aus dem die Elektrodenlage besteht, auf

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   die erste Elektronenstreuungsverhütungslage aufgedampft v/ird, lind daß die Stärken der aufgedampften Lagen in Verbindung mit den Wärmeausdehnungskoeffizienten und den Elastizitätsmodulen der Lagen derart gewählt v/erden, daß eine auf'Temperaturänderung beruhende Bimetallwirkung zwischen der Elektrodenlage und der ersten Elektronenstreuungsverhütungslage durch eine entsprechende Bimetallwirkung zwischen der ersten Elektronenstreuungsverhütungslage und der zweiten Elektronenstreuungsverhütungslage ausgeglichen wird, so daß sich die aus den einzelnen Lagen bestehende Schicht nicht in einem solchen Maße durchbiegt, daß sich die Elektrodenlage von der Leuchtstoffschicht löst.

   7. Verfahren nach Anspruch 6,
   dadurch gekennzeichnet, daß der Stoff, aus dem die Elektrodenlage gebildet wird, und der Stoff, aus dem die erste Elektronenstreuungsverhütungslage gebildet wird, gleichzeitig erhitzt v/erden und zum Ausbilden der Elektrodenlage (30)-ein Teil des die Elektrodenlage bildenden Stoffes mit dem niedrigeren Schmelzpunkt zuerst verdampft wird, daß als nächstes der die Elektrodenlage bildende Stoff und der die erste Elektronenstreuungsverhütungslage bildende Stoff gleichzeitig verdampft werden, um eine Übergangslage (31) mit einem geneigt verlaufenden Zusammensetzugnsverhältnis zu bilden, und daß anschließend zum Ausbilden der ersten Elektronenstreuungsverhütungslage (32) nur der diese Lage bildende Stoff mit dem höheren Schmelzpunkt verdampft wird, wobei zwischen den gebildeten Lagen keine definierten Grenzen entstehen.

   8. Verfahren nach Anspruch 6,
   dadurch gekennzeichnet, daß der die Elektrodenlage bildende Stoff (58) und der die erste Elektronenstreuungsverhütungslage bildende Stoff (57) aufeinandergestapelt in eine erste Heizeinrichtung (53) gegeben werden, daß der die zweite Elektronenstreuungsverhütungslage bildende Stoff (63) in eine zweite Heizvorrichtung (62) gegeben v/ird und daß zum Ausbilden der zweiten Elektronenstreuungsverhütungslage der in der zweiten Heizvorrichtung befindliche Stoff verdampft wird, nachdem die in der ersten Heizvorrichtung befindlichen Stoffe zum Bilden der Elektrodenlage und der ersten Elektronenstreuungsverhütungslage aufgedampft sind.

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