DE1639464C3

DE1639464C3 - Cathode ray tube

Info

Publication number: DE1639464C3
Application number: DE1968Y0001238
Authority: DE
Inventors: Yoshiharu Katagiri; Senri Miyaka; Akio Ohgoshi; Susumu Yoshida
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1967-01-14
Filing date: 1968-01-15
Publication date: 1973-07-05
Also published as: GB1195598A; SE353182B; NL151554B; AT310823B; FR1605134A; DE1639464B2; CH497784A; DE1639464A1; BE726682A; CH497043A; US3448316A; NL6800540A

Description

3 4 3 4

bündel so im Feld der Fokussierlinse auf deren Achse Hand der Zeichnungen beschrieben, In den Zeich"bundle as described in the field of the focusing lens on its axis hand of the drawings, In the drawing "

liegt, daß nur ein achsennaher Bereich des Linsenfeldes nungen zeigtis that only a near-axis area of the lens field shows voltages

genutzt wird, F ί g, I das optische Äquivalent einer mil dreiis used, F ί g, I the optical equivalent of a mil three

* Dadurch, daß nur ein flchsennaher Teil des Linsen- Slrahlerzcugungssyslemen versehenen Farbbild-Ka-* Due to the fact that only a part of the lens-beam generating system provided with the color image cable

feldes ausgenutzt wird, werden — wie bekannt — die 5 thodenstrahlröhre bekannter ArI,field is used - as is known - the 5 thode ray tube of the well-known ArI,

sphärischen Aberrationen und Komafehler wesent- F i g, 2 und 3 das optische Äquivalent einer ['.öhre,spherical aberrations and coma errors are essential.

'Hch verringert (Buch »Technische Elektronik« von die in der bereits bekannten Weise mit nur einem'Hch reduced (book "Technical Electronics" from those in the already known way with only one

¹M, K η öl I und J, Ei ohm ei er, 2, Band, Berlin. Strahlerzeugungssystem zur Erzeugung mehrerer ßlek- ¹ M, K η oil I and J, Ei ohm ei er, 2, volume, Berlin. Beam generation system for generating several ßlek-

1966, S, 238/2.39 und 242), Dieser Erkenntnis wurde' tronenslrahlen versehen ist,1966, S, 238 / 2.39 and 242), This knowledge was' tronenslrahlen is provided,

"bisher jedoch dadurch Rechnung getragen, daß man io F i g, 4 das optische Äquivalent einer anderen Aus-"So far, however, this has been taken into account by the fact that io F i g, 4 is the optical equivalent of a different

den Ursprung der Elektronenstrahl, also den Quell- führungsform einer bekannten Röhre mit nur einemthe origin of the electron beam, ie the source guide shape of a known tube with only one

punkt auf der Elektronenkanone, möglichst auf die Strahlcrzeugungssystem zur Erzeugung mehrerer Elek-point on the electron gun, if possible on the beam generating system for generating several elec-

Achse der Fokussierlinse legte, tronenstrahlen,Axis of the focusing lens put, electron beams,

Zweckmäßigerweise verwendet man eine Fokussicr- F i g, 5 das optische Äquivalent einer Kalhoden-It is expedient to use a focussicr- F i g, 5 the optical equivalent of a calhodic

linse, welche mehrere an· verschiedene elektrische Span- 15 strahlröhre mit einer ersten Ausfuhrungsform deslens, which has several different electrical chip tubes with a first embodiment of the

nungen angelegte Elektroden aufweist, die ein Fokus- Strahlerzeugungssystems,voltage applied electrodes, which a focus beam generating system,

sieren des Elcktroncnlinsenfeldcs erzeugen. F ί g. 6 eine der F i g, 5 entsprechende Darstellunggenerate sizing of the electronic lens field. F ί g. 6 shows a representation corresponding to FIG. 5

Wenn die von den Strahlerzeugungssyslemcn er- mit einer zweiten Ausfuhrungsform des Slrahlerzeu-If the radiation generated by the beam generation systems with a second embodiment of the beam generation

'zc-ugten Strahlbündel im wesentlichen parallel zuein- gungssystems,'zc-ugten beam essentially parallel to the inlet system,

•ander ausgestrahlt werden, so kann zwischen den 20 , F i g, 7 und 8 das optische Äquivalent von Aus-Erzeugungssystemen und der Fokussierlinse eine Hilfs- führungsformcn der Kathodenstrahlröhre nach der ^!linse angeordnet werden, die ein Schneiden der Mittel- Erfindung,• are emitted in other ways, between FIGS ^. lens are arranged, which is a cutting of the central invention,

strahlen der Bündel auf der Achse der Fokussierlinse F i g. 9 einen Längsschnitt durch eine mit dem op-radiate the bundle on the axis of the focusing lens F i g. 9 a longitudinal section through one with the op-

^!herbeiführt. Dje Hilfslinse kann beispielsweise so ge- tischen Äquivalent nach F ί g. 5 versehene Kathoden- ^! brings about. The auxiliary lens can, for example, be a geometric equivalent according to F ί g. 5 provided cathode

staltet sein, daß sie mehrere an verschiedene elektrische 25 strahlröhre,be able to connect several to different electric 25 radiant tubes,

Spannungen angelegte Elektroden bzw. Gitter auf- F i g. 10 eine Endansicht zu Fig. 9,Electrodes or grids applied to voltages are shown. 10 is an end view of FIG. 9,

weist. F i g. 11 eine vergrößerte Ansicht von Einzelheitenshows. F i g. 11 is an enlarged view of details

Eine andere zweckmäßige Weiterbildung der Er- eines ersten und zweiten Gitters des bei der Ausfindung kanr darin bestehen, daß die Strahlerzeugungs- führungsform nach F ί g. 9 verwendeten Stiahlcrzcu-•Jsysteme an einem Träger so angeordnet sind, daß ein 30 gungssystems,Another expedient further development of the invention of a first and second grating in the discovery can consist in the fact that the beam generation guide form according to F ί g. 9 Stiahlcrzcu- • J systems used are arranged on a carrier in such a way that a transmission system,

'Schneiden der Mittelstrahlen der Strahlbündel auf der F i g. 12 einen Schnitt nach der Linie 11-11 der'Cut the central rays of the bundle of rays on the Fig. 12 is a section along line 11-11 of FIG

Achse der Fokussierlinse herbeigeführt wird. F ί g. 11,Axis of the focusing lens is brought about. F ί g. 11

Wenn die Strahlbündel auf einem gemeinsamen F i g. 13 einen axialen Schnitt durch eine chroma-If the bundles of rays are on a common F i g. 13 an axial section through a chroma

*Punkt des Schirmes auftreffen sollen, so kann zwischen tronartige Farbbildröhre,* Point of the screen should hit, so can between tron-like color picture tube,

ider Fokussierlinse und dem Bildschirm eine Ablenk- 35 Fig. 14A und 14B eine Seiten- und eine End-The focusing lens and the screen have a deflection 35 Figs. 14A and 14B have a side and an end

'vorrichiung vorgesehen sein, die diejenigen Strahl- ansicht einer magnetischen Ablenkvorrichtung, die'Vorrichiung be provided that those beam view of a magnetic deflection device that

bündel, die aus der Fokussierlinse in von der optischen zum Konvergieren der Elektronenstrahlbünde! in einerbundles coming from the focusing lens in from the optical to the converging of the electron beam! in a

Aciise derselben divergierenden Richtungen austreten, Kathodenstrahlröhre nach der Erfindung verwend-Aciise the same diverging directions emerge, use cathode ray tube according to the invention

so ablenkt, daß der gewünschte Effekt auftritt. Wenn bar ist.distracts so that the desired effect occurs. When there is cash.

der Bildsch'rm durch einen lumineszierenden Schirm 40 Zum besseren Verständnis der Erfindung sind an gebildet ist und ihm eine Schattenmaske vorgelagert Hand der F i g. 1 bis 4 zunächst die Konstruktionsist, so können alle Strahlbündel mit Hilfe der Fokus- prinzipien und Merkmale von bekannten Kathodensieriinse auf dem Schirm fokussiert werden, wouei die strahlröhren mit drei Strahlerzeugungssystemen bzw. Ablenkvorrichtung a!le Strahlbündel zu einem gemein- einem Strahlerzeugungssystein zum Erzeugen von samen Punkt auf der Schattenmaske ablenkt. 45 jeweils drei Elektronenstrahlbündeln beschrieben.the screen through a luminescent screen 40 for a better understanding of the invention are on is formed and a shadow mask is placed in front of it. Hand of FIG. 1 to 4 is initially the design, so all beam bundles can be generated with the help of the focus principles and features of known cathodic lenses focused on the screen, where the beam tubes with three beam generating systems resp. Deflecting a! Le beam bundles to form a common beam generating system for generating distracts the seed point on the shadow mask. 45 each three electron beams described.

Wenn drei Strahlerzeugungssysteme zur Erzeugung Gemäß F i g. 1 sind drei voneinander unabhängige von jeweils einem Elektronenstrahl verwendet werden, Strahlerzeugungssysteme A₁, A₂ und A₃ mit drei unabso kann das eine Strahlerzeugungssystem in der op- hängigen Strahlerzeugungsquellen K₁, K₂ und K₃ zum tischen Achse der Fokussierlinse die beiden anderen Ausstrahlen von jeweils einem Elcktronenslrahl-Strahlerzeugungssysteme beiderseits des ersten in 50 bündel B₁, B₂ und B_:l angeordnet. Die drei Elektronengleichem Abstand von demselben auf einer durch die Strahlbündel werden auf einen phosphoreszierenden optische Achse hindurchgehenden geraden Linie derart Bildschirm 5 mit Hilfe von getrennten Linsensystemen angeordnet sein, daß nur die von diesen beiden anderen L₁, L₂ und L₃ fokussiert. Bei einer solchen Anordnung Strahlerzeugungssystemen ausgehenden Strahlbündel benötigen die drei unabhängigen S'.rahlerzeugungsdie Fokussierlinse auf von der Linsenachse divergie- 55 systeme A_x, A₂ und A₃, die in dem Halsteil des Röhrenrenden Bahnen verlassen. kolbens untergebracht werden müssen, verhältnis-If three beam generating systems to generate According to FIG. 1, three independent electron beams are used, beam generating systems A ₁ , A ₂ and A ₃ with three unabso the one beam generating system in the op- pendent beam generating sources K ₁ , K ₂ and K ₃ to the table axis of the focusing lens, the other two Emission of one electron beam generating system on both sides of the first in 50 bundles B ₁ , B ₂ and B _{: 1} . The three electrons equidistant from the same on a straight line passing through the beam will be arranged on a phosphorescent optical axis in such a way screen 5 with the aid of separate lens systems that only the other two L ₁ , L ₂ and L _{3 are} focused. In such an arrangement, beam bundles emanating from beam generating systems require the three independent beam generating the focusing lens on systems A _x , A ₂ and A ₃ diverging from the lens axis, which leave paths in the neck part of the tube end. piston must be accommodated, proportion-

Das zweite Gitter hinter den Kathoden kann in mäßig viel Platz und begrenzen das Ausmaß, auf dasThe second grid behind the cathodes can take in a moderate amount of space and limit the extent to which

Form einer einfachen, öffnungen enthaltenden Scheibe der Durchmesser des Halsteiles verringert werdenIn the form of a simple disk containing openings, the diameter of the neck part can be reduced

ausgebildet sein, hinter der die die Fokussierlinse bil- könnte. Auch ergeben sich bei drei Strahlerzeugungs-be formed, behind which the focusing lens could bil-. With three beam generation

denden Elektroden aufeinanderfolgend mit rohr- 60 systemen Schwierigkeiten in bezug auf die zum Kon-the electrodes successively with pipe systems 60 difficulties with regard to the contact

förmiger Gestalt und verschiedenen elektrischen vergieren der Elektronenstrahlbündel B_x, B₂ und B-, shaped shape and different electrical verieren of the electron beams B _x , B ₂ and B-,

Potentialen angeordnet sind, wobei die Scheibe an auf dem Bildschirm .S' erforderliche genaue Aus-Potentials are arranged, the disk at the exact position required on the screen .S '

ihrem Umfangsrand zur Bildung der Hilfslinse mit richtung.their peripheral edge to form the auxiliary lens with direction.

einer der Fokussierlinse zugewendeten zylindrischen Bei der Ausbildung nach F i g. 2 ist ein Strahl-Seitenwand verbunden ist, die ein gegenüber dem 65 erzeugungssystem A bekannter Art mit drei gleichelektrischen Potential der nächstfolgenden Elektrode wertigen Strahlerzeugungsquellen K„ K₂ und K₃ ver- * verschiedenes elektrisches Potential aufweist. wendet, die mit gegenseitigen Abständen d angeordnetone of the focusing lens facing cylindrical. In the embodiment according to FIG. 2, a beam side wall is connected, which has a type known from the generation system A with three equal electrical potential of the next electrode, which is equivalent to beam generation sources K _1, K 2 and K ₃ . turns, which are arranged at mutual distances d

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden an sind und drei Eiektroncnstraiiibündcl B₁, B₂ und D₃ Embodiments of the invention are shown in FIG. ₃ and three electron beam bundles B ₁ , B ₂ and D 3

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parallel zueinander ausstrahlen. Diese Elektronen- befriedigend zu erfüllen sind, so daß Röhren dieserradiate parallel to each other. These electrons are to be met satisfactorily, so that tubes of this

Strahlbündel B₁, B₂ und B₃ gehen durch die gemein- Art bisher keine praktische Anwendung gefundenBeams B ₁ , B ₂ and B ₃ go through the common type so far found no practical application

same Fokussierlinse L hindurch und . werden dusxh haben,same focusing lens L through and. will have you,

diese so abgelenkt, daß sie auf dem Bildschirm 5 Nachstehend ist nunmehr eine Kathodenstrahlröhrethis deflected so that it appears on the screen 5. The following is now a cathode ray tube

konvergieren. · 5 mit nur einem Strahlerzeugungssystem zur Erzeugungconverge. · 5 with only one beam generation system for generation

Bei einer Farb-Kathodenstrahlröhre mit einem von drei Elektronenstrahibündeln beschrieben, die Strahlerzeugungssystcm (F i g. 2) ist es erforderlich, insbesondere als Farbbildröhre anwendbar ist.
daß die drei Elektronenstrahlbündel mit einem Bei der in F i g. 5 dargestellten Ausführüngsform !Winkel Δ zwischen dem mittleren Elektronenstrahl- ist das Strahlerzeugungssystem A mit drei äquivalenten bündel B₁ und jedem seitlichen Elektronenstrahl- to Strahlerzeugungsquellen K₁, K₁ und K₃ versehen, die !bündel B₁ und B₃ derart konvergieren, daß sie sich an auf einer geraden Linie in Abständen d₀ voneinander 'einer vor dem Bildschirm 5 angeordneten Schatten- in einer Ebene angeordnet sind, die im wesentlichen maske oder Gitteranordnung kreuzen oder schneiden rechtwinklig zu'/ Achse des Strahlerzeugungssystems und jeweils auf Farbpunkten oder -streifen auftreffen, verläuft. Diese Strahlerzeugungsquellen K₁, K₂ und K₃ ;die dazu dienen, verschiedene Farblichtstrahlen zu 15 strahlen drei Elektronenstrahlbündel B₁, B₂ und B₃ erzeugen. Damit diesem Erfordernis in bezug auf den aus, die mittels einer gemeinsamen Hilfslinse L' so !Konvergenzwinkel /I hei einem einfachen Strahlerzeu- gebrochen werden, daß der Schnittpunkt der Mittelgungssystem Rechnung getragen wird, ist es wesent- strahlen der Strahlbündel B₁, B₁, B₁ auf der Achse der lieh, daß die Elektronenstrahlbündel B₁, B₂ und B₃ Fokussierlinse L liegt. Die Elektronenstrahlbündel beim Durchgang durch die Fokussierlinse L genau den ao treten dann divergierend aus der FokussiTÜnse aus. gegenseitigen Abstand d voneinander haben. Die Dk äußeren Elektronenstrahlbündel B₁ und B₃, die äußeren Elektronenstrahlbündel B₁ und B₃ gehen so zunächst von der Achse und dem auf dieser Achse durch die Fokussierlinse L hindurch, daß sie von der verlaufenden mittleren Elektronenstrahlbündel B₂ optischen Achse derselben den Abstand d haben, wo- divergieren, werden dann wieder in Richtung auf das durch die Auftreffpunkte der Strahlen auf dem Bild- 25 mittlere Elektronenstrahlbündel B₁ mittels zwei Konschirm 5 sowohl infolge des Koma als auch der sphä- vergenz-Ablenkvorrichtungen F₁ und F_x abgelenkt, rischen Aberration verzerrt weiden, ^vie es am rechten die zwischen dem Bildschirm S und der Fokussier-Rand der F i g. 2 gezeigt ist. Dabei ist die Fokussierung linse/, im Abstand 1 von dieser angeordnet ist und der I lektroncnstrahlbündei so eingestellt, daß auf dem eine solche Ablenkung der Elektronenstrahlbündel Bildschirm S eine völlige Konvergenz erreicht wird. 30 hervorrufen, daß die Elektronenstrahlbündel B₁. B₂ Hierdurch wird der jedem Elektronenstrahlbündef tind B₃ auf dem Bildschirm S zusammenlaufen und üKvmiltclte 1 okussierefiekt unvermeidbar vermindert, sich überlagern.In the case of a color cathode ray tube with one of three electron beam bundles, the beam generating system (FIG. 2) is required and can be used in particular as a color picture tube.
that the three electron beams with a case in FIG. 5 shown embodiment! Angle Δ between the central electron beam, the beam generating system A is provided with three equivalent bundles B ₁ and each lateral electron beam to beam generating sources K ₁ , K ₁ and K ₃ , the! Bundles B ₁ and B ₃ converge in such a way that they are arranged in a plane on a straight line at distances d ₀ from one another in a shadow arranged in front of the screen 5, which essentially cross or cut a mask or grid arrangement at right angles to the axis of the beam generation system and in each case on colored dots or stripes hit, runs. These beam generating sources K ₁ , K ₂ and K ₃ , which are used to emit different colored light beams, generate three electron beam bundles B ₁ , B ₂ and B _3. So that this requirement with respect to the from which by means of a common auxiliary lens L ' so! Convergence angle / I in a simple radiator is generated that the point of intersection of the averaging system is taken into account, it is essential to radiate the beam bundles B ₁ , B ₁ , B ₁ on the axis of the borrowed that the electron beams B ₁ , B ₂ and B ₃ focusing lens L lies. The electron beam when passing through the focusing lens L exactly the ao then emerge diverging from the focusing lens. have mutual distance d from each other. The Dk outer electron beams B ₁ and B ₃ , the outer electron beams B ₁ and B ₃ go first from the axis and the one on this axis through the focusing lens L so that they are the distance d from the running central electron beam B ₂ optical axis thereof have, diverge, are then deflected again in the direction of the electron beam B ₁ centered on the image by the points of incidence of the rays by means of two cone 5 both as a result of the coma and the spherical deflection devices F ₁ and F _x , Distorted aberration, as seen on the right between the screen S and the focussing edge of FIG. 2 is shown. The focusing lens is arranged at a distance 1 from this and the electron beam is set so that complete convergence is achieved on the screen S such a deflection of the electron beam. 30 cause the electron beam B ₁ . B ₂ As a result, each electron beam source B _{3 will} converge on the screen S and inevitably be reduced, superimposed on each other.

Sf dal' die Elcktronenstrahlbündel unterfokussiert und Bei dieser Ausbildung können, wie am rechten Rand Sf dal 'the electron beam is underfocused and with this training can, as on the right edge

ihre Auftreffpunkte, wie aus F i g. 2 ersichtlich, ver- der F i g. 5 gezeigt ist. sehr kleine Bildpunkte gebildettheir points of impact, as shown in FIG. 2, it can be seen from FIG. 5 is shown. very small pixels formed

ZTui'cri werden. Wenn dabei die Fokussierspannung 35 Werden, da alle drei Elektronenstrahlbündel B₁, B, ZTui'cri become. If the focusing voltage becomes 35, since all three electron beams B ₁ , B,

so eingestellt wird, daß das Elektronenstrahlbündel B₁ und B_s durch die Achse der Fokussierlinse L hindurch-is set so that the electron beam B ₁ and B _s through the axis of the focusing lens L through

atif dem Bildschirm 5 einen scharf fokussierten Bild- gehen und hierdurch verhindert wird, daß die BiId-atif the screen 5 a sharply focused image and this prevents the image

pur.ki ergibt, so werden die Büdpunk-e B₁. B₂ und B₁ punkte dutch Koma und sphärische Aberration ver- pur.ki results in the Büdpunk-e B ₁ . B ₂ and B ₁ points dutch coma and spherical aberration

ajf dem Bildschirm S gestreut, wie dies in F i g. 3 zerrt oder verwischt werden. Es wird daher ein Bildajf scattered on the screen S , as shown in FIG. 3 be dragged or blurred. It therefore becomes a picture

i.veist ist. Es müssen daher besondere Maßnahmen 4° mit hoher Auflösung erzeugt.i.veist is. Special measures must therefore be generated at 4 ° with high resolution.

fiiir.iffen werden, um die st' gestreuten Bildpunkte Bei der Ausführüngsform nach F i g 6 sind dieare refined around the scattered image points. In the embodiment according to FIG. 6, the

Zusammenzufassen b/w. üb?, einander zu lagern. Wie drei Strahlerzeugungsquellen K₁, K_% und K₁ für dieTo summarize b / w. practice to encamp each other. Like three beam generation sources K ₁ , K _% and K ₁ for the

jedi>ch aus der Darstellung in F i g. 3 rechts hervor- drei Elektronenstrahlbündel B₁, B₂ und B₃ des Strahl-Jedi> ch from the representation in FIG. 3 on the right - three electron beams B ₁ , B ₂ and B _{3 of} the beam

ceht. sind auch dann die Bildpunkte B₁ und B₃ durch erzeugungssystems an einer gekrümmten Flache an- ceht. the image points B ₁ and B ₃ are then also attached to a curved surface by the generation system.

d-is kfima noch verzerrt. 45 geordnet, deren Mittelpunkt in der Achse der Fokus-d-is kfima still distorted. 45 , whose center is in the axis of the focus

Bcirn Versuch, die einander widersprechenden Be- sierhnse L liegt. Die Strahlerzeugungsquellen habenIn an attempt to find the contradicting values L lies. The beam generating sources have

dingungen zum Fokussieren und Konvergieren der hierbei einen geradlinigen Abstand d₉₁ voneinanderconditions for focusing and converging the here a straight line distance d ₉₁ from each other

drei I lektronenstrahibundel auf dem Bildschirm 5 zu und von der Achse. Bei dieser Ausführungsform ist als three electron beam bundles on the screen 5 to and from the axis. In this embodiment, as

erfüllen, konnte daran gedacht werden, die drei Elek- Hilfslinse L' der F i g. 5 weggelassen, da die Elek-meet, it could be thought of using the three auxiliary lenses L ' of FIG. 5 omitted because the elec-

tronenstrahJbündel B₁, B₂ und B₃ gemäß F 1 g. 4 von 50 tronenstrahibündel B₁₁ B₂ und B₃ infolge der Anord-Tronenstrahbündel B ₁ , B ₂ and B ₃ according to F 1 g. 4 of 50 electron beam bundles B ₁₁ B ₂ and B ₃ as a result of the

einer einzigen Strahlenquelle K in drei verschiedenen nung der Strahlerzeugungsquellen an der gekrümmtena single radiation source K in three different voltage of the beam generating sources on the curved

V. irikeirichtungen so auszustrahlen, daß sie an der Fläche sich ohnehin auf der Achse der Fokussrer-V. to emit irike devices in such a way that they are anyway on the axis of the focus

Sielie. an der die Föküssieritnse L angeordnet ist. den linse L wie bei' der Ausführungsform riach F ί ε. 5Sielie. on which the Föküssieritnse L is arranged. The lens L as in the embodiment for F ί ε. 5

Abstand d voneinander haberi. Hierbei können zwar schneiden. Im Bereich des Strahlenweges der äußerenDistance d from each other haberi. Here you can cut. In the area of the radiation path of the outer

die beiden erläuterten Bedingungen gleichzeitig und 55 Elektronenstrahlbundel B₁ und B₃ sind im Abstand 1the two conditions explained are simultaneous and 55 electron beam bundles B ₁ and B ₃ are at a distance of 1

mit nur geringfügiger sphärischer Aberration erfüllt hinter der Fokussierlinse L zwei Konvergenz-Ablenk^with only slight spherical aberration, two convergence deflections are fulfilled behind the focusing lens L

werden. Die Bildpunkis der Seitensirahlen B₁ und B₃ vorrichtungen F₁. F₂ angeordnet, durch die die hinterwill. The image points of the Seitensirahlen B ₁ and B ₃ devices F ₁ . F ₂ arranged through which the rear

werden jedoch, wie aus Fig.4 rechts ersichtlich KU der Foküssierlinse zunächst divergierenden Elek-However, as shown in Figure 4 can be seen right KU the Foküssierlinse initially divergent electron

r.ach wie vor durch das¹ Koma verwischt* da die seit- tronenstrahibündel B₁ und B₃ wieder zu fcoriversie-r. still ^{blurred by the 1} coma * since the lateral tronet ray bundles B ₁ and B ₃ become fcoriversie again.

Jieheri Elektrorienstrahlbüsdd durch ais Fokussier- 60 renden Elektronensirahlbündefn abgelenkt werden,Jieheri electric beam busses are deflected by ais focussing electron beam bundles,

linse L an Stellen hindurchgehen, die von der äqui- die miteinander und mit dem mittleren Elektronen- lens L pass through at points which are equidistant from each other and with the mean electron

valeniefi optischen: Achse der FöküssierlinSe den Ab- strahlbünda! Äj auf dem Bildschirm S zusammsn-valeniefi optical: axis of the föküssierlinSe the radiation bunda! Aj together on the screen S

- ir.d d haben. treffen. Auch hierbei wird, wie bei der Ausführunas-- have ir.dd. meeting. Here too, as with the execution

L . ergibt sich somit daß bei Kathodenstrahlröhren forrri nach F i g. 5. ein klares Bild mit hoher AuflösungL. it thus follows that in cathode ray tubes forrri according to FIG. 5. A clear, high resolution picture

d«.· 'f-annieti Art ntit nur einem Strahlerzetigungs- 05 gebildet.d «. · 'f-annieti Art nt with only one emitter production-05 formed.

svsien zur Erzeugung von drei Elektronenstrahl- Wie bereits erwähnt, sind bei den Ausführungs-svsien for the generation of three electron beam As already mentioned, in the execution

fcünddri aie Fok»j«ierung5- und Konvergierungs- formen nach F ig. 5 und 6 die Strahlerzeusungs-fcünddri aie foc "j" atation5 and convergence forms according to Fig. 5 and 6 the emitter generation

bedsngungen für die drei Eiektronensirahibundel nicht quellen K₁, K_z und K₃ auf einer geraden Lime Tmbedsngungen for the three electron sirah bundles do not swell K ₁ , K _z and K ₃ on a straight lime Tm

Absland </₀ bzw. d_ot voneinander angeordnet. Statt dessen ist es aber auch möglich, die Strahlerzeugungsquellen an den Ecken eines gleichseitigen Dreiecks anzuordnen, wobei Konvergenz-Ablenkvorrichtungen F₁ und F₂ für jedes der drei Elektronenstrahlbündel oder nur für zwei Elektronenstrahlbündel vorgesehen werden können. Vorzugsweise werden jedoch die Strahlerzeugungsquellen, wie dargestellt, auf ciiicr geraden Linie angeordnet, weil hierbei der Abstand der Elektronenstrahlbündc! von der optischen Achse auf ein Geringstmaß verringert, die dynamische Konvergenzkorrektur erleichtert und eine unsymmetrische Konvergenz der drei Bildpunkte auf dem Bildschirm S vermieden werden kann.Absland </ ₀ or d _ot from each other. Instead, however, it is also possible to arrange the beam generating sources at the corners of an equilateral triangle, with convergence deflection devices F ₁ and F _{2 being provided} for each of the three electron beams or only for two electron beams. However, the beam generating sources are preferably arranged on a straight line, as shown, because here the distance between the electron beam bundles! reduced from the optical axis to a minimum, the dynamic convergence correction facilitates and an asymmetrical convergence of the three pixels on the screen S can be avoided.

Weiterhin ist bei den Ausführungsformen nach F i g. 5 und 6 die Ausbildung derart, daß die drei Elektronenstrahlbündel B₁, B₂ und B₃ auf dem Bildschirm S zusammenlaufen. Statt dessen können jedoch die Konvergenz-Ablenkvorrichtungen F₁ und F₂ auch weggelassen werden, so daß die drei Elektronenstrahlbündel, nachdem sie sich auf der Achse der Fokussierlinse geschnitten haben, in divergierenden Richtungen bis zu dem Bildschirm verlaufen und auf diesem an drei verschiedenen, im Abstand oder im bestimmten Abstand voneinanderliegenden Punkten auftieffen. Bei einer solchen Ausbildung, wie sie in F i g. 7 und 8 dargestellt ist, werden die drei Bildpunkte auf dem Bildschirm ebenfalls nicht durch Koma oder sphärische Aberration beeinträchtigt, so daß Verzerrungen oder verwischte Bildpunkte entsprechend den bekannten Ausführungen nach F i g. 2 bis 4 vermieden sind. Wenn die Bildpunklc im Absland voneinander auf dem Bildschirm S gebildet werden, so werden den Bildsignalen Zeitunterschiede übermittelt, die den drei Bildpunktstellen auf dem Bildschirm entsprechen und die drei Elektronenstrahlbündel so modulieren, daß zwischen den drei auf dem Bildschirm durch die drei Elektronenstrahlbündel erzeugten Bildern Übereinstimmung erreicht wird.Furthermore, in the embodiments according to FIG. 5 and 6 the design such that the three electron beams B ₁ , B ₂ and B ₃ converge on the screen S. Instead, however, the convergence deflection devices F ₁ and F _{2 can} also be omitted, so that the three electron beams, after they have intersected on the axis of the focusing lens, run in diverging directions up to the screen and on this at three different, im Deepen the distance or points that are at a certain distance from one another. With such a training as shown in FIG. 7 and 8, the three pixels on the screen are also not affected by coma or spherical aberration, so that distortions or blurred pixels according to the known embodiments according to FIG. 2 to 4 are avoided. If the image points are formed in a distance from one another on the screen S , the image signals are transmitted time differences which correspond to the three image point positions on the screen and which modulate the three electron beams so that coincidence is achieved between the three images generated on the screen by the three electron beams will.

In F i g. 9 bis 12 ist eine Ausführungsform einer Kathodenstrahlröhre mit einem dem optischen Äquivafent nach F i g. 5 entsprechenden Strahlerzcugungssyslem A dargestellt. Hierbei bildet die Kathode K die Strahlcrzeugungsquellen K₁, K₂ und Κ_Λ. Dicht hinter der Ausstrahlfläche der Kathode K ist ein erstes Stcuergitter G₁ angeordnet, das gemäß F i g. 11 und 12 drei Gitterglieder G_n, G₁₂ und G₁₃ aufweist. Diese drei Giltcrglieder sind jeweils mit Öffnungeng,,, g₁₂ und g₁₃ versehen, die auf einer geraden Linie angeordnet sind. Gegenüber dem Gitter G₁ ist ein zweites Gitter G₂ mit drei Öffnungen g_2l, g₂₂ und g_n angeordnet, die sich mit den öffnungeng,,, g_Vi und g_{3 des ersten Gitters G, decken, Das zweite Gitter kann napfförinig ausgebildet sein und eine Scheibe 1 aufweisen, in der die Öffnungen g₂₁, g₂₂ und g_2{, im Abstand voneinander auf einer Durchmesser! in ic H-II angeordnet sind und von deren Umfangsrand aus sich eine zylindrische Seitenwand 2 in axialer Richtung ·νοπ dem Gitter G₁ weg erstreckt. In dieser Richtung folgen auf dus Gitter G₂ nach hinten rohrförmigc Gitter oder Elektroden (/·;„ G₁₁ und G_r, (V ί g. 9),In Fig. 9 to 12 is an embodiment of a cathode ray tube having an optical equivalent of FIG. 5 corresponding Strahlerzcugungssyslem A shown. The cathode K forms the beam generation sources K ₁ , K ₂ and Κ _Λ . Arranged just behind the emitting surface of the cathode K is a first control grating G ₁ , which according to FIG. 11 and 12 has three grid members G _n , G ₁₂ and G ₁₃ . These three filter members are provided with openings g ₁ , g ₁₂ and g 13, which are arranged on a straight line. Opposite the grid G ₁ is a second grid G ₂ with three openings g ₂₁ , g ₂₂ and g _n , which coincide with the openings g _{,,, g Vi} and g _{{3 of} the first grid G. The second grid can be cup-shaped be designed and have a disk 1 in which the openings g ₂₁ , g ₂₂ and g _{2 {} , spaced from one another on a diameter! are arranged in ic H-II and from the peripheral edge of which a cylindrical side wall 2 extends in the axial direction · νοπ away from the grid G _1. In this direction, the grid G _{2 is followed} by tubular grids or electrodes (/ ·; " G ₁₁ and G _r , (V ί g. 9),

Die Elektrode G_n weist einen Mittclabschnitt 5 von größerem Durchmesser und zwei Endabschniltc 3, 4 von verhältnismäßig kleinem Durchmesser auf und greift mit ihrem vorderen I⁷,iidabsclinitt 3 unter Belassimg eines radialen Λbslandes von der Seitenwand 2 des napfförmigcn Gitters G._t in dieses ein. Die lilcktrodc G,_t ist mit findabscluiitlcn 6 und 7 versehen, die einen größeren Durchmesser als die Endteile 3, 4 der Elektrode G, haben, und weist einen Mittelabschnitt 8 von noch größerem Durchmesser auf. Ihre Anordnung ist dabei so, daß der hintere Endabschnitt 4 der Elektrode G₃ in den vorderen Endabschnitt 6 unter Bildung eines radialen Zwischenraumes eingreift. Die Elektrode G_x, ist mit einem Mitlclabschnitt 11 von mit dem Mittelabschnitt 5 der Elektrode 3 etwa gleichgroßem Durchmesser sowie mit Endabschnilten 9 und tO von ίο kleinerem Durchmesser als der hintere Endabschnitt 7 der Elektrode G₄ versehen und greift mit ihrem vorderen Endabschnitt 9 wiederum unter Bildung eines radialen Zwischenraumes in den Endabschnitt 7 der Elektrode G₄ ein. Die Elektroden G₃, G₄ und G_s sowie die Gitter G_x, G₂ und die Kathode K werden in der erläuterten Lage durch einen Träger 12 aus Isolierstoff zusammengehalten. Weiterhin ist um den hinteren Endabschnitt 10 der Elektrode 5 eine Gitterkammsr Gr angeordnet.The electrode G _n has a central section 5 of larger diameter and two end sections 3, 4 of relatively small diameter and engages with its front I ⁷ , iidabsclinitt 3, leaving a radial area of the side wall 2 of the cup-shaped grid G. _t in this . The lilcktrodc G, _t is provided with findabscluiitlcn 6 and 7, which have a larger diameter than the end parts 3, 4 of the electrode G, and has a central portion 8 of an even larger diameter. Their arrangement is such that the rear end section 4 of the electrode G ₃ engages in the front end section 6 with the formation of a radial gap. The electrode G _x is provided with a middle section 11 of approximately the same diameter as the middle section 5 of the electrode 3 and with end sections 9 and tO of a smaller diameter than the rear end section 7 of the electrode G ₄ and, in turn, engages below with its front end section 9 Formation of a radial gap in the end section 7 of the electrode G ₄ . The electrodes G ₃ , G ₄ and G _s as well as the grids G _x , G ₂ and the cathode K are held together in the position explained by a carrier 12 made of insulating material. Furthermore, a grid comb is arranged around the rear end section 10 of the electrode 5.

so Zum Betrieb des Elektronenstrahlsystems nach F i g. 9 werden an die Gitter G₁ und G₂ und die Elektroden G₃, G₄, G₆ Spannungen angelegt, die z. B. 0 bis 400 V an dem Gitter G₁ bzw. den dieses bildenden Gittern G_n, G₁₂, G_n, 0 bis 500 V an dem Gitter G₂, 13 bis 20 KV an den Elektroden G₃ und G₆ und 0 bis 400 V an der Elektrode G₄ betragen können, wobei die Spannung der Kathode K die Bezugsspannung ist. Die Spannungsverteilung für die Gitter und Elektroden G₁ bis G₆ sowie deren Längen und Durchmesser sind dabei im wesentlichen gleich mit denen eines indirekt geheizten Strahlerzeugungssystem3s zur Erzeugung eines Elektronenstrahlbündcls, bei dem ein erstes Giftsrglied und ein zweites Gitterglied mit je einer einzigen Öffnung angeordnet ist. Bei der angegebenen Spannungsverteilung wird zwischen dem Gitter G₂ und den; vorderen Endabschnitt 3 der Elektrode G₁, ein Linscnfeld gebildet, das der Hilfslinse U der F i g. 5 entspricht, während zugleich ein der Fokussierlinse L dsr F i g. 5 entsprechendes Linsenfcld durch die Elcktrodcn G₃, G₄ und G₅ in der axialen Mitte der Elektrode G₄ gebildet wird.For the operation of the electron beam system according to FIG. 9 voltages are applied to the grids G ₁ and G ₂ and the electrodes G ₃ , G ₄ , G ₆ , the z. B. 0 to 400 V on the grid G ₁ or the grid forming it G _n , G ₁₂ , G _n , 0 to 500 V on the grid G ₂ , 13 to 20 KV on the electrodes G ₃ and G ₆ and 0 up to 400 V at the electrode G ₄ , the voltage of the cathode K being the reference voltage. The voltage distribution for the grids and electrodes G ₁ to G ₆ as well as their lengths and diameters are essentially the same as those of an indirectly heated radiation generation system for generating an electron beam, in which a first poison element and a second grid element are arranged, each with a single opening. With the given stress distribution between the grid G ₂ and the; front end section 3 of the electrode G ₁ , a lens field is formed which corresponds to the auxiliary lens U of FIG. 5 corresponds, while at the same time one of the focusing lens L dsr F i g. 5 corresponding Linsenfcld is formed by the Elcktrodcn G ₃ , G ₄ and G ₅ in the axial center of the electrode G ₄ .

Bei einer möglichen Betriebsweise des Strahlcrzcu-In the case of a possible mode of operation of the jet

gungssystemes werden Vorspannungen von 100 V,system, bias voltages of 100 V,

OV, 300 V, 20KV, 200 V, 20 KV in dieser Reihcnfolge auf die Elektroden K bzw. G₁, G₂, G_-1, G₁ und G₅ gegeben.OV, 300 V, 20KV, 200 V, 20 KV are applied to electrodes K or G ₁ , G ₂ , G _-1 , G ₁ and G _{5 in} this order.

Damit die aus der Elektrode G₅ in divergierenden Bahnen austretenden Elektronenstrahlbündel B₁ und Β_Λ wieder zum Konvergieren gebracht werden, ist dis Strahlerz-cugungssystem nach F i g. 9 mit einer Ablenkvorrichtung /■* mit im gegenseitigen Abstund voneinander angeordneten Ablenkplatten P und P' verschen, die sich in axialer Richtung vom freien Ende dar Elektrode G₈ aus erstrecken. Die AjbnkvornVitung F weist ferner Ablenkplatten Q und Q' auf, die z. B. konvex nach außen gebogen oder gekrüm nt sind, und einander gegenüberliegend an de.i Au3e₁ii1achen der Ablenkplatten P und P' angebracht sind. Die Ablenkplatten P und P' sowie die Ablenkplatten Q und Q' sind so angeordnet, daß die EIcktronenstrahlbündel B₁, B₁ und Bj jeweils zwischen den Ablenkplatten P und Q zwischen den Ablenkplatten P und P' und zwischen den Ablenkplatten P' undß' hindurchgehen. An die Ablenkplatten P und P' wird eine Spannung angelegt, die der an die Elektrode G₉ angelegten Spannung gleich ist, während an die Ablenkplatten Q und Q' eine .Spannuni: angelegt wird, die um 203 bis 300 V niedriger ist als ,lic den Ablenkplatten P und P' zu- So that the electron beams B ₁ and Β _Λ emerging from the electrode G ₅ in diverging paths are brought to converge again, the emitter generation system according to FIG. 9 with a deflection device / ■ * with deflecting plates P and P ' which are arranged at a mutual distance from one another and which extend in the axial direction from the free end of the electrode G ₈ . The AjbnkvornVitung F also has baffles Q and Q ' , the z. B. are convexly curved outward or gekrüm nt, and are mounted opposite one another on de.i Au3e ₁ ii1achen of the baffle plates P and P '. The baffles P and P ' and the baffles Q and Q' are arranged so that the electron beams B ₁ , B ₁ and Bj pass between the baffles P and Q, between the baffles P and P ' and between the baffles P' and P ', respectively . A voltage equal to the voltage applied to electrode G _{9 is} applied to deflector plates P and P ' , while a voltage is applied to deflector plates Q and Q' which is 203 to 300 V lower than that of lic to the baffles P and P '

309 627/230309 627/230

9 109 10

geführte Spannung- Es werden daher zwischen den system A gemäß der Erfindung in senur Anwendungguided voltage- It will therefore only be used between the system A according to the invention

Ablenkplatten P und Q sowie zwischen den Ablenk- bei einer chromatronartigen Farbbildröhre gezeigt,Deflection plates P and Q as well as between the deflection in a chromatron-like color picture tube shown,

platten P' und Q' Spannungsdifferenzen erzeugt, die Das Strahlerzeugungssystem weist drei elektrisch von-plates P ' and Q' generates voltage differences that The beam generation system has three electrically

jeweils di*3 Konvcrgenz-Ablenkvorrichtung F₁ und F₁ einander getrennte Kathoden Kr, Ka und Kb auf,each di * 3 convergence deflection device F ₁ and F _{1 on} separate cathodes Kr, Ka and Kb ,

bilden und die jeweilige Ablenkung der Elektronen- S denen jeweils rote, grüne und blaue Farbsignal zu-and the respective deflection of the electrons - S to which red, green and blue color signals

strahlbündel B, und B₃ im Sinne der Fig. 5 hervor- geführt werden. Die drei Kathoden sind so angeordnet,Beam bundles B and B ₃ in the sense of FIG. 5 are brought out. The three cathodes are arranged so

rufen. daß ihre die Elektronenstrahlbündel ausstrahlendencall. that theirs emit the electron beam

Die von der Kathode K ausgehenden Elektronen- Flächen auf einer geraden Linie und in Flucht mit Strahlbündel B_x, B₁ und B₃ gehen durch die Öffnungen ebenso angeordneten öffnungen ^,λ, g_tu und g,n fgiu Siz ^und gi3 der Gitterglieder G_1x, G_n und Cr₁₃ io eines plattenförmigen Gitters G₁ liegen. Dicht hinter hindurch und werden mit drei verschiedenen Signalen dem Gitter G, ist ein napfförmiges Gitter G₁ angemoduliert, die zwischen der Kathode K und den Gitter- ordnet, dessen Scheibe dem Gitter Cf₁ zugewendet und gliedern G_n, G_u und G₁₃ zugeführt werden. Sie gehen mit drei öffnungen g₂n, g^ und g_tn versehen ist, die dann durch die in F ί g. 9 strichpunktiert angedeutete jeweils in Deckung mit den öffnungen g_tn, g_xc und g_xn Hilfslinse L' hindurch, die hauptsächlich durch das 15 liegen. Wie bei der vorher beschriebenen Ausführungs-Gitter G_t und die Elektrode G₃ gebildet wird, und form ist das Strahlerzeugungssystem mit Elektroden schneiden sich auf der Achse der ebenfalls strich- G₃, C, und G₄ versehen, die ebenfalls so angeordnet punktiert angedeuteten Fokussierlinse L, die in der sind, daß sie die strichpunktiert angedeuteten Elek-Hauptsache durch die Elektroden G₃, G₄ und G₅ ge- tronenlinsen L und L bilden.The electron surfaces emanating from the cathode K on a straight line and in alignment with the beam bundles B _x , B ₁ and B ₃ pass through the openings ^, λ, g _t u and g, n fgiu Siz ^und d gi3 der Lattice members G _1x , G _n and Cr ₁₃ io of a plate-shaped lattice G ₁ lie. Right behind it and with three different signals the grid G, a cup-shaped grid G _{1 is} modulated, which is placed between the cathode K and the grid, the disk of which _{faces the grid Cf 1} and divides G _n , G _u and G ₁₃ will. They go with three openings g ₂ n, g ^ and g _t n , which then go through the in F ί g. 9, indicated by dash-dotted lines, in each case congruent with the openings g _t n, g _x c and g _x n auxiliary lens L ' , which lie mainly through the 15. As in the previously described embodiment grid G _t and the electrode G _{3 is} formed, and form is the beam generating system with electrodes intersecting on the axis of the also dashed G ₃ , C, and G ₄ provided, which are also indicated by dotted lines Focussing lens L, which are in that they form the electron lenses L and L indicated by dash-dotted lines by the electrodes G ₃ , G ₄ and G ₅ .

bildet wird. Die Elektronenstrahlbündel B₁, B₁ und B₃ ao An die Gitter G₁ und G₁ sowie an die Elektroden G₃, verlaufen sodann nach dem Verlassen der Elektrode G₅ G_t und G₅ des Strahierzeugungssystemes A werden auf jeweils zwischen den Ablenkplatten Q und P, zwischen der Grundlage der Kathodenspannungen Spannungen den Abienkplatten P und P' uua zwischen den Ab- angelegt, die den im Zusammenhang mit F i g. 9 anlenkplalten P' und Q. Da die Ablenkplatten P und P' gegebenen Spannungen entsprechen. Die ν in den das gleiche Potential haben, wird das Elektronen- »5 Kathoden Kr, Kg und Kn ausgehenden Elektronenstrahlbündel B₁ nicht abgelenkt, während die aus der Strahlbündel B_R, Ba und Ba gehen durch die öffnungen Fokussierlinse L mit divergie-„-nden Bahnen austre- g,n. g_iG und g_sB «5es ersten Gitters G₁ und anschließend tenden Elektronenstrahlbündeln B₁ und B₃ so abge- durch die öffnungen g_tR, g₂o und g_ttt des zweiten lenkt werden, daß sie in einem Punkt adf dem Bild- Gitter«., G₂ sowie dann durch die Hilfslinse L' hindurch, schirm zusammenlaufen. 3° durch die die Elektronenstrahlbündel so abgelenktforms is. The electron beams B ₁ , B ₁ and B ₃ ao to the grids G ₁ and G ₁ as well as to the electrodes G ₃ , then after leaving the electrode G _5, G _t and G _{5 of} the radiation generating system A , each run between the deflection plates Q. and P, between the base of the cathode voltages, voltages of the Abienkplatten P and P 'uua between the Ab- applied, which in connection with F i g. 9 anlenkplalten P ' and Q. Since the deflection plates P and P' correspond to the given voltages. The ν in which have the same potential, the electron beam B ₁ emanating from the cathodes Kr, Kg and Kn is not deflected, while those from the beam bundles B _R , Ba and Ba go through the openings of the focusing lens L with divergence - "- nden orbits out , n. g _iG and g _sB «5 of the first grid G ₁ and then the electron beams B ₁ and B ₃ are deflected through the openings g _t R, g ₂ o and g _{ttt of} the second so that they are at a point adf the image Grating «., G ₂ and then through the auxiliary lens L ' , screen converge. 3 ° by which the electron beam is so deflected

Bei der Ausführungsform nach F i g. 9 bis 12 ist es «erden, daß sie sich im Linsenfeld der Fokussierlinse L In the embodiment according to FIG. 9 to 12 it is "grounded" that they are in the lens field of the focusing lens L.

erforderlich, daß die Signale den drei Giltergliedern auf deren Achse schneiden. Die Elcktronenstrahl-required that the signals intersect the three filter links on their axis. The electron beam

G₁₁. G₁₂, G₁₃ des ersten Gitters G, getrennt zugeführt bündel Bn und B_B treten aus der Fokussierung / m G ₁₁ . G ₁₂ , G _{13 of} the first grating G, separately fed bundles Bn and B _B come out of focus / m

werden, da die drei Strahlenquellen K_x. K₁ und K₂ an divergierenden Richtungen aus, werden dann a wbecause the three radiation sources K _x . K ₁ and K ₂ in diverging directions are then aw

einer einzigen Kathode K angeordnet sind Damit dies 35 durch eine Ablenkvorrichtung F konvergierend abgc-a single cathode K are arranged so that this 35 converging by a deflection device F

erreicht wird, sind die drei rechteckigen Gitterglieder lenkt, die den Konvergenz-AblenkvorrichtungcnV₁ is achieved are the three rectangular grid members that directs the convergence deflector cnV ₁

G_n. G₁₂ und G₁₃, in denen jeweils die öffnungen £_n, und F₁ nach F i g. 9 und 5 entspricht und wiederumG _n . G ₁₂ and G ₁₃ , in each of which the openings £ _n , and F ₁ according to FIG. 9 and 5 correspond and again

g_xl und g₁₃ angeordnet sind, mit von ihnen aus- aus Ablenkplatten P und P' sowie Ablenkplatten Q g _xl and g ₁₃ are arranged, with baffles P and P ' and baffles Q from them

gehenden AnsGhlußsiifien i3 zur Aufnahme der Signale und Q' besteht. Die durch diese Ablenkvorrichtungoutgoing connection seals i3 for receiving the signals and Q ' . The by this deflector

zum voneinander unabhängigen Modulieren der Elek- *o konvergierend abgelenkten Elektronenstrahlbündel B_H. for the independent modulation of the electron beams B _H , which are deflected in a converging manner.

tronenstrahlbündel versehen. Bo und Bn treffen auf einen Bildschirm 5 auf. nachdemelectron beam provided. Bo and Bn hit a screen 5. after

Damit die gegenseitige Lage der öffnungen #„. g_u sie durch eine Sirahiauswahieinrichtung wie /. B. eine Und g,₃ der Gitterglieder G₁₁. G₁₂ und G₁₃ genau fest- perforierte Elektrode oder Schattenmaske Cr hingelegt und mit Öffnungen^. g_a und g_a des zweiten durchgegangen sind, die vor dem Bildschirm Λ" angc-Gnters G₂ in einem bestimmten Abstand D (F i g. 12) 45 ordnet ist und an die eine mitlelhohc Spannung \M kon/enfrisch zur Deckung gebracht werden, sind angelegt ist. Der Bildschirm 5 ist mit Gruppen von zwischen den Gittern G₁ und G₄ gemäß Fig. 11 roten, grünen und blauen phosphorcs/i^renden Strci- und 12 zwei keramische Isolierstücke 14 angeordnet. fen Sr. S<_; und Sh versehen, die aufeinanderfolgend die jeweils eine dem Absland D entsprechende Dicke an einer Froniplatte f;> angeordnet sind. An die Abhaben. Jedes dieser Isoherstücke 14 ist auf είπτ so lenkplatten P und Q und P' und (/ der Ablenkvorganzen Hache mit einer elektrisch leitenden Deck- richtung F werden Spannungen Kf und Vq angelegt, schicht 15 versehen, die auf der enisprechenden Fläche die so gewählt werden, daß sich die drei Elcklroncn- z. B- durch Metallisieren derselben gebildet sein kann. slrahlbündel Br, Bc und Bn an der Stelle schneiden. Außerdem sind drei elektrisch leitende Schichten Af₁, an der die Schattenmaske Gr angeordnet ist. und so Ah und M₃ angeordnet, die sich jeweils über die 55 nur auf den enlsprechewden Streifen Sn, S<7 und Sn Breite der gegenüberliegenden Fläche jedes Isolier- ankommen. In diesem Fall werden die Elcktroncnstückes Verstrecken und gleichmäßigen Längsabstand strahibündel Bn, Ba und Bn, da sie an der Schaltenvoneinander haben. Die Isoliersireifen 14 sind an der maske Gp zusammenlaufen, an dem Bildschirm S Scheibe 1 des zweiten Gitters G₁ in symmetrischer Lage fokussiert.So that the mutual position of the openings # „. g _u through a Sirahia selection facility such as /. B. an and g, _{3 of} the lattice members G ₁₁ . G ₁₂ and G ₁₃ exactly firmly perforated electrode or shadow mask Cr laid down and with openings ^. g _a and g _{a of} the second have gone through, which is arranged in front of the screen Λ "angc-Gnters G ₂ at a certain distance D (Fig. 12) 45 and to which a medium-high voltage \ M con / en freshly brought to congruence are, are applied. the screen 5 is provided with groups of between grids G ₁ and G ₄ in FIG. 11 red, green and blue arranged phosphorcs / i ^ Governing Strci- and 12, two ceramic insulators 14th fen Sr. S < each of these Isoherstücke> are arranged on the abhaben 14 is on είπτ so baffles P and Q and P 'and (/ the Ablenkvorganzen Hache _with;; and Sh provided, successively each f a corresponding to the Absland D thickness at a Froniplatte.. an electrically conductive deck direction F voltages are Kf and Vq applied layer, provided 15, which are selected such on the surface enisprechenden that the three Elcklroncn- to z. B by plating the same may be formed. slrahlbündel Br, Bc and Cut Bn at the point A In addition, there are three electrically conductive layers Af ₁ on which the shadow mask Gr is arranged. and so arranged Ah and M ₃ , each of which arrives via the 55 only on the corresponding strips Sn, S <7 and Sn width of the opposite surface of each insulating. In this case, the stretching and uniform longitudinal spacing of the elongated trunks become bundles of rays Bn, Ba and Bn, since they are connected to each other. The insulating tires 14 converge on the mask Gp , focused on the screen S pane 1 of the second grid G ₁ in a symmetrical position.

zu der Linie H-II angebracht, auf der die Öffnungen 60 Zum horizontalen und vertikalen Abtasten der dreiattached to the line H-II, on which the openings 60 for horizontal and vertical scanning of the three

£ii· ^u ^un*ä Su angeordnet sind. Sie sind dabei an der Elektronenslrahlbündel gleichzeitig mit Bezug auf den£ ii · ^ u ^un * ä Su are arranged. You are doing this at the electron beam simultaneously with respect to the

Scheibe des zweiten Gitters mit ihren leitenden Schich- Bildschirm wie bei bekannten Bildröhren sind bekanntePanes of the second grid with their conductive layer screen as in known picture tubes are known

ten 13 ζ. B. durch Hartlötung befestigt. Die Gitter- horizontale und vertikale Ablenkmittcl in Form desth 13 ζ. B. fixed by brazing. The grating horizontal and vertical deflection means in the form of the

glieder G_n, G₁₁ und G₁₃ überbrücken den Abstand Bügels D angeordnet,links G _n , G ₁₁ and G _{13 are arranged to} bridge the distance between bracket D ,

zwischen den Isolierstücken 14 und sind z. B. ebenfalls 65 Wenn der Farbbildröhre nach Fig. 13 rote, grünebetween the insulating pieces 14 and are, for. B. also 65 If the color picture tube of Fig. 13 red, green

durch Hartlötung an den leitenden Schichten ΑΛ, ^Z₁ und blaue Farbbildsignale zwischen den Kathoden K_n, by brazing on the conductive layers ΑΛ, ^ Z ₁ and blue color image signals between the cathodes K _n ,

und M, der Isolierstücke befestigt. K₀ und Kh und dem Gitter C?, zugeführt werden, soand M, which fixes insulating pieces. K ₀ and Kh and the grid C ?, are supplied, so

In Fig. 13 ist als Beispiel ein Strahlerzeugungs- erfahren die drei Elektronenstrahlbündel B_R, B_G undIn FIG. 13, an example of a beam generation experience is the three electron beam bundles B _R , B _G and

11 1211 12

Bn eine Helligkeitsmodulation, wodurch auf dem Bild- durch den Magnetfluß zwischen den magnetischen schirm ein farbiges Bild erzeugt wird. Platten 17a und 176 sowie zwischen den Platten 18a, Bei den Ausführungsformen nach F i g. 9 und 13 18A, der von dem ruhenden Konvergenz-Stro.nfiuß ist die Konvergenz-Ablenkvorrichtung F elektrosta- durch die Elektromagnetc 21 und 22 hervorgerufen tischer Art. Statt dessen können aber auch magnetische 5 wird, derart abgelenkt, daß die drei Elektronenstrahl-Ablenkvorrichtungen F' verwendet werden, wie sie in bündel K₁, B₂ und B₃ in der gewünschten Weise ent-F ig. 14 A und 14 B dargestellt sind. Eine solche weder im Bildpunkt des Bildschirmes oder an der vor magnetische Ablenkvorrichtung F' weist eine magne- diesem angeordnete Schattenmaske konvergieren. Die , tische Abschirmung 16 in Form eines Rohres von durch die Elektromagneten 21 und 22 hindurch-" rechteckigem Querschnitt auf, der in axiaier Richtung io fließenden statischen Konvergenzströme können auch hinter der in F i g. 14A nicht dargestellten Elektrode durch dynamische Konvergenzströme überlagert wer- -C₅ so angeordnet ist, daß das mittlere Elektionen- den, so daß in diesem Fall eine besondere dynamische Strahlbündel B₂ nach F i g. 9 bzw. Ba nach F i g. 13 Konvergenz nicht erforderlich ist.
durch ihn hindurchgehen kann. Auf der einen (in Dadurch, daß die den Seiten 16a und 166 des Ab-F i g. 14A und 14B unteren) Seite 16a der Abschir- 15 fangschirmes 16 zugewendeten inneren Enden der mung 16 sind zwei magnetische Platten 17a und 176 magnetischen Platten Ma, Mb und 18a, 186 gemäß einander gegenüberliegend mit solchem Abstand von- F ί g. 14b konvergK¹. >ui r~"h innen abgebogen sind, einander angeordnet, daß das Elektronenstrahlbündel werden die Elektronenstrahlbunoei sehr Hl-cht anei'n- B₁ bzw. Bn zwischen ihnen hindurchgehen kann. Auf ander bzw. an der Abschirmung 16 entton^ciiihri, der anderen Seite 16b des Schirmes sind zwei magne- 20 so daß ermöglicht ist, eine Störung des Magnetfeldes tische Platten 18a und 186 in der gleichen Weise an- am Strahlenweg der Elektronenstrahlbündel B₁ und B₃ gebracht, zwischen denen das dritte Elektronenstrahl- durch den Magnetfluß v>» du iiinünef'schen Platten bündel B₃ bzw. Bn hindurchgehen kann. Die der Ab- 17a, Mb, 18c/, 186 zu der magnetischen Absuii·.η·^!ΐη» schirmung 16 zugewendeten Enden der Platten 17a, 16 wirksam zu vermeiden. Hie.Jiirch werden mrh Mb und 18a, 186 sind, wie insbesondere aus F i g. 14B 25 Verzerrungen der Bildpunkte auf dem üxidschirm verersichtlich ist, vorzugsweise so abgebogen, daß sie mieden. Wenn der Abstand zwischen den jeweils einnach der Abschirmung 16 hin konvergieren, während andei gegenüberliegenden magnetischen Platten die der Abschirmung abgewendeten äußeren Enden gleich a, die Länge des abgebogenen Teiles jeder dieser !9a und 19/» der Platten vorzugsweise jeweils vonein- Platten gleich c, der Abstand zwischen den freien ander weg nach außen abgebogen sind und entlang 30 Kanten der konvergierenden inneren Enden gleich b der inneren Wandfläche des Halsteiles des Röhren- und die kleine Rechteckseite der.Abschirmung 16 kolbens N verlaufen, der durch die strichpunktierte gleich el ist. so werden die besten Ergebnisse erzielt. Linie in F i g. 14 B angedeutet ist. Die äußeren Fnden wenn
20a und 206 der Platten 18a und 186 sind in der ,/
gleichen Weise nach außen abgebogen und bilden 35 "^!a 0,625; φ 0,325
ebenso wie die Enden 19a und 196 Magnetpole. Auf ^a
der Außenseite des Röhrenkolbens N sind Elektro- Bn a brightness modulation, whereby a colored picture is generated on the picture by the magnetic flux between the magnetic screen. Plates 17a and 176 and between the plates 18a, in the embodiments according to FIG. 9 and 13 18A, the convergence deflection device F of the static type caused by the static convergence current is generated by the electromagnets 21 and 22. Instead, magnetic 5 is deflected in such a way that the three electron beam deflection devices F ' are used as they are ent-F ig in bundles K ₁ , B ₂ and B _{3 in the desired manner.} 14 A and 14 B are shown. Such a mask neither in the image point of the screen nor on the magnetic deflection device F 'in front of it has a shadow mask arranged thereon to converge. The table shield 16 in the form of a tube with a rectangular cross-section through the electromagnets 21 and 22, the static convergence currents flowing in the axial direction can also be superimposed by dynamic convergence currents behind the electrode (not shown in FIG. 14A). -C ₅ is arranged so that the middle electrode end, so that in this case a special dynamic beam bundle B ₂ according to FIG. 9 or Ba according to FIG. 13 convergence is not required.
can go through it. On the one side (in that the sides 16a and 166 of the figures 14A and 14B lower) side 16a of the shielding screen 16 facing inner ends of the mouth 16 are two magnetic plates 17a and 176 magnetic plates Ma , Mb and 18a, 186 according to opposite to each other with such a distance of- F ί g. 14b convergence K ¹ . > ui r ~ "h are bent inwardly, each arranged such that the electron beam, the Elektronenstrahlbunoei very Hl-CHT anei'n- B ₁ and Bn can pass between them. On the other or to the shield 16 entton ^ ciiihri, the other side 16b of the screen are two magnetic plates 18a and 186 placed in the same way on the path of the electron beams B ₁ and B ₃ , between which the third electron beam is caused by the magnetic flux, so that a disturbance of the magnetic field is possible v>"youiiinünef'schen plates bundle B can pass ₃ or Bn. the waste of 17a, Mb, 18c /, 186 facing to the magnetic Absuii · · ^{.η! ΐ η"} shielding 16 ends of the plates 17, 16 As can be seen in particular from FIG Shield 16 towards conv Result, while on the opposing magnetic plates the outer ends facing away from the shield are equal to a, the length of the bent part of each of these! 9a and 19 / »of the plates are preferably each bent away from one another, plates equal to c, the distance between the free opposite ends and along 30 edges of the converging inner ends equal to b of the inner wall surface of the neck part of the tube and the small rectangular side der.Abschirmung 16 piston N run, which is equal to el by the dash-dotted line. this will give the best results. Line in FIG. 14 B is indicated. The outer finds though
20a and 206 of plates 18a and 186 are in the, /
bent outwards in the same way and form 35 " ^{! a} 0.625; φ 0.325
as do ends 19a and 196 magnetic poles. On ^a
the outside of the tubular piston N are electrical

magnctc 21 und 22 einander gegenüberliegend ange- und der Winkel zwischen den inneren abgebogenen ordnet, die jeweils mit den die Magnetkerne 25 und 26 Enden etwa 30 bis 60 beträgt. Wenn die der magneumgebenden Wicklungen 23 und 24 versehen sind. Der 40 tischen Abschirmung 16 zugewendeten inneren Enden Magnetkern 25 weist Magnetpole 25a und 25b auf. der magnetischen Platten nicht abgebogen sind, so die den Magnetpolen 19a und 196 gegenüberliegen. wird das Magnetfeld nicht gleichmäßig verteilt, weil während der Magnetkern 26 mit Magnetpolen 26a der Magnetfluß am Strahlenweg der Elektroncnstrahl- und 266 versehen ist, die den Magnetpolen 20« und bündel B₁ und ß_? unter dem Einfluß des Magnetflusses 206 gegenüberliegen. 45 von den magnetischen Platten 17«, 176 und 18«, 186 Bei der beschriebenen Anordnung gehen die drei zu der Abschirmung 16 gekrümmt wird. Die durch Elektronenstrahlbündel B₁, B₂ und Β_Λ. nachdem sie ein solches ungleichmäßiges Magnetfeld bewirkte Versich im auf der Achse der Fokussierlinse L geschnitten zerrung wird besonders groß, wenn der Abstand haben und aus der Elektrode ü,, ausgetreten sind, zwischen den benachbarten Elektronenstrahibündeln jeweils zwischen den magnetischen Platten 17a, 176, 50 verringert wird, so daß die Elektronenstrahlbündel durch die Abschirmung 16 und zwischen den gegen- dicht an die Seitenflächen des magnetischen Schirmes überliegenden magnetischen-Plätten 18 a, ISb hin- 16 herankommen. Eine solche Verzerrung kann jedoch durch. Das Elektronenstrahlbündel ß_z wird hierbei wirksam vermieden werden, wenn die magnetischen nicht abgelenkt, da er durch die Abschirmung 16 Platten in der beschriebenen Weise gebogen werden, gegenüber dem äußeren Magnetfeld abgeschirmt ist, 55 Die Elektromagnete 21 und 22 können auch durch Die Elektronenstrahlbündel B₁ und ^werden dagegen Dauermagnete ersetzt werden.magnctc 21 and 22 opposite one another and the angle between the inner bent ones, which is approximately 30 to 60 with the ends of the magnetic cores 25 and 26. When the magneto-generating windings 23 and 24 are provided. 40 schematically shield 16 facing inner ends of the magnetic core 25 has 25a and 25b on the magnetic poles. of the magnetic plates are not bent so that the magnetic poles 19a and 196 are opposite. the magnetic field is not evenly distributed because while the magnetic core 26 is provided with magnetic poles 26a, the magnetic flux is provided on the path of the electron beam and 266, which bundle the magnetic poles 20 'and B ₁ and B _? oppose under the influence of the magnetic flux 206. 45 from the magnetic plates 17 ", 176 and 18", 186 In the arrangement described, the three go to the shield 16 being curved. The electron beams B ₁ , B ₂ and Β _Λ . after such a non-uniform magnetic field caused insuran in cut on the axis of the focusing lens L distortion becomes particularly large when the distance and have ü from the electrode ,, 176, 50 are leaked between the adjacent Elektronenstrahibündeln between each of the magnetic plates 17a, reduced so that the electron beams come through the shield 16 and between the magnetic plates 18 a, 16 b, which lie opposite the side surfaces of the magnetic shield. However, such distortion can occur through. The electron beam _z ß will be here avoided effectively, when the magnetic not deflected as it can be bent by the shield 16 plates in the manner described with respect to the external magnetic field is shielded, 55 Electromagnets 21 and 22 may also by the electron beam B ₁ and ^, on the other hand, permanent magnets will be replaced.

Hierzu 2 Blatt ZeichnungenFor this purpose 2 sheets of drawings

Claims

1 2 potential of the next electrode ((/ „) ver patent claims: has a different electrical potential,

1. Cathode ray tube with one or more,

Beam generating systems for generating several 5
Electron beam, with a screen,

Against which the Elcktroncnslrahlbündcl Pie invention relates to a cathode ray tube with, as well as with all beam bundles common or several beam generating systems for seeding and generating the beam bundles on the screen the electron beam means of the beam bundles are directed at a single one, as well as with one of all the sirahl bundles between the location of the beam generation and mcinsamen and the beam bundles on the screen of a sirah selection device in a point focussing focus lens, in which the central cutting edges, characterized, emit Beam bundle at a single point that the intersection of the central beams of the beam 15 between the location of the beam generation and a bundle (B ₁ , B ₂ , B ₃ ; Bu, Ba ₁ Br) intersect in one point in the field of the beam selection device. Focussing lens (Z.) lies on its axis, so that only one such cathode ray tube is known to be used in an area of the lens field close to the axis (e.g. US Pat. No. 2,690,517) and used as a color image tube. The known color picture tubes are

2. Tube according to claim 1, characterized in that the focusing lens (L) provides several electron beam bundles which are applied to generating systems for emitting each of a different electrical voltages and which, through corresponding electrodes (C ₃ , C ₄ , C ₅ ), which modulates a focus color signal and generates an electron lens field through a grid system. that they are affected on a screen

3. Tube according to claim 1 or 2, in which the 25 is focused, which is provided with a beam arranged in front of it by the beam generating systems beam selection device such as a perforated electrode or a shadow mask emitted substantially parallel to one another. Der werden, characterized in that between the like color picture tubes, in which the three beam generating systems (K ₁ , K ₂ , K ₃ ; Ku, Kn, Kr) and generating systems are mutually aligned so the focusing lens (L) an auxiliary lens (Z. ') that the emitted electron beam is ordered, which causes a cutting of the central beams that converge on the screen, are disadvantageous insofar as a precise alignment of the beam leads to generation systems and the maintenance of this -

4. The tube according to claim 3, characterized in that the identification direction is difficult and any deviation from the fact that the auxiliary lens (L ') has several electron beams applied to them, various electrical voltages, impairment of the image quality and the resolution current or Has grid (C ₂ , C ₃ ). Property of the color image evokes. In addition, he

5. Tube according to claim 1 or 2, characterized in that the beam generating systems, tend color picture tube require a lot of effort and can (K ₁ , K ₂ , K ₃ ) on a carrier so are arranged 40 because of the The space required for this beam generation means that the mid-beams of the beam systems can only be cut with a relatively large mini-bundle (B ₁ , B _t , B ₃ ) on the axis of the focussing minimum size.

lens (L) is brought about (Figs. 6 and 8). To avoid these disadvantages of the known

6. Tube according to claim 5, with three beam color picture tubes with a plurality of beam generation systems for generating 45 men each has been proposed to use a color picture tube with a beam, characterized in that the only one radiation generation system to be used, which has a radiation generation system (Kc) in the optical either with three cathodes or with only one Ka-axis of the focusing lens (L) and the two methods generate three electron beams that pass through other beam generating systems (Kr, Kr) both - a lens-like focusing system, on the one hand at the same distance from the same 5 ° so that they converge on the screen. In the case of a construction that is proposed through the optical axis, however, only straight lines are arranged in such a way that one of the electron beam bundles is arranged on the optical axis so that only the other two beam axes of the focusing system pass through this generating systems (Kr, Kr) outgoing beam while the other two leave the focusing lens at a distance from the bundle (Bu, Br) on paths diverging from the electron beam lens axis passing through the axis. bundle the coma and spherical aberration

7. Tube according to claim 4, characterized thereby exposed. For this reason and because of the fact that the second grating (C ₂ ) is designed in the form of an associated deterioration of the simple color image containing openings (g _n , g ₂₂ and ^ ₂₃ ), color picture tubes have only one pane (1), _{behind the electrodes (C 3} , C ₄ electron beam and C ₆ ) forming the radiation generating system for emitting multiple focusing lenses (L), no widespread use was found in succession with a tubular shape.

staltung and various electrical poten- The invention is based on the object of a

Tiale are arranged, and in that the cathode ray tube of the type described above

To design disk (1) on its peripheral edge for formation 6g so that the aberrations are reduced

the auxiliary lens (U) can be closed with one of the focusing lenses and the resolution improved,

turned cylindrical side wall (2). The object is achieved according to the invention by

is bound, which is opposite to the electrical one that the intersection of the central rays of the ray