WO2025219293A1 - Verfahren zum korrigieren eines reflektiven optischen elements für streifenden einfall und verfahren zum korrigieren eines optischen systems - Google Patents

Verfahren zum korrigieren eines reflektiven optischen elements für streifenden einfall und verfahren zum korrigieren eines optischen systems

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WO2025219293A1
WO2025219293A1 PCT/EP2025/060156 EP2025060156W WO2025219293A1 WO 2025219293 A1 WO2025219293 A1 WO 2025219293A1 EP 2025060156 W EP2025060156 W EP 2025060156W WO 2025219293 A1 WO2025219293 A1 WO 2025219293A1
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WO
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optical element
reflective optical
layer
reflective
grazing incidence
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PCT/EP2025/060156
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Thomas Schicketanz
Robert Mueller
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Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
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Publication date
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0891—Ultraviolet [UV] mirrors

Definitions

  • the present invention relates to methods for correcting a reflective optical element for grazing incidence of radiation at an operating wavelength from the EUV wavelength range, comprising a reflection layer on a substrate, and to a method for correcting an optical system having at least one reflective optical element for grazing incidence of radiation at an operating wavelength from the EUV wavelength range, comprising a reflection layer on a substrate.
  • EUV lithography devices In EUV lithography devices, reflective optical elements for the extreme ultraviolet (EUV) wavelength range (e.g., wavelengths between approximately 5 nm and 20 nm) are used for the lithography of semiconductor components, such as photomasks or mirrors based on multilayer systems for quasi-normal incidence or mirrors with a metallic surface for grazing incidence.
  • EUV extreme ultraviolet
  • Reflective optical elements for grazing radiation are based on the effect of total internal reflection.
  • a reflective layer is typically applied to a substrate, preferably containing one or more transition metals. Ruthenium, molybdenum, niobium, and palladium have proven particularly effective.
  • Reflective optical elements for grazing incidence exhibit a highly angle-dependent reflectivity. Since the angles of incidence across the surface of a reflective optical element for grazing incidence are generally not constant in an optical system, such as an illumination system or a projection system of an EUV lithography device, the reflectivity is inhomogeneous across the surface, which can lead to imaging errors, particularly telecentricity errors in EUV lithography devices due to a tilting effect in the optical pupil in the scanning direction.
  • the problem is solved by a method for correcting a reflective optical element for grazing incidence of radiation at an operating wavelength from the EUV wavelength range, comprising a reflective layer on a substrate, in which the reflective layer is doped.
  • a method for correcting a reflective optical element for grazing incidence of radiation at an operating wavelength from the EUV wavelength range comprising a reflective layer on a substrate, in which the reflective layer is doped.
  • the complex refractive index at the operating wavelength is influenced with regard to both the refractive index and the absorption, and thus the reflectivity.
  • the doping can be carried out selectively, over one or more partial areas, or over the entire reflective layer.
  • the respective reflective optical element can be corrected in a particularly targeted manner with regard to an optical property of an optical system by selectively or partially doping the surface of the reflective layer.
  • the reflective layer is preferably doped by ion bombardment.
  • process parameters can be adjusted and controlled very precisely, and spatially resolved work can be carried out, allowing the change in reflection by doping to be influenced very precisely, even across a large area.
  • the reflective layer is advantageously doped with nitrogen or metal atoms.
  • Reflective layers of reflective optical elements for grazing incidence in the EUV wavelength range preferably contain one or more transition metals. Doping such a reflective layer in particular allows for targeted and precise control of reflectivity. Furthermore, nitrogen and metals are particularly easy to ionize, allowing doping to be carried out by ion bombardment.
  • the object is achieved by a method for correcting a reflective optical element for grazing incidence of radiation of an operating wavelength from the EUV wavelength range with a reflection layer on a substrate, in which the structure of the reflection layer is changed.
  • the root-mean-squared roughness is important, especially in the nanometer range. If the roughness increases in this range, more scattered radiation is generated upon irradiation and the reflectivity decreases. If the structure of the reflective layer is changed only locally, the reflectivity of the reflective optical element can be influenced locally.
  • the reflective layer is heated or energy is otherwise introduced into the reflective layer. If the reflective layer contains crystallites, these typically grow upon energy input. This can lead to roughening and thus reduced reflectivity due to changes in grain size. With more complex heat treatments, the structure of the reflective layer can also become more amorphous and typically exhibit slightly less roughness, which can lead to less scattered radiation and thus higher reflectivity.
  • the surface of the reflective layer is smoothed. Where the reflective layer surface is smoothed, less scattered radiation occurs, thus increasing reflectivity. Smoothing is preferably carried out using ion- or plasma-assisted methods, or by atomic layer smoothing.
  • the problem is solved by a method for correcting a reflective optical element for grazing incidence of radiation of an operating wavelength from the EUV wavelength range, comprising a reflective layer on a substrate, wherein the reflective optical element has a metastable layer, wherein the metastable layer is converted into a more stable state.
  • metastable layers which can be converted into a more stable state, particularly through the introduction of energy, such as through irradiation or heat treatment.
  • a metastable layer can be a porous layer with additional material in its pores, which, for example, becomes volatile upon heating and escapes from the porous layer.
  • a metastable layer can be a layer with a columnar or porous structure, which can be densified locally through the introduction of energy, which can also change the complex refractive index.
  • the metastable layer is formed as a mixed material system, and the materials of the metastable layer are mixed, separated, or undergo a phase transition.
  • the complex refractive index can be precisely influenced, even at individual points or on partial surfaces. Due to the different material distribution in the metastable and more stable states, the complex refractive index of the reflective optical element changes, and thus also its reflectivity. Depending on the materials of the mixed material system, a volume change may also occur during the transition to a more stable state, which can also contribute to the change in the complex refractive index.
  • the object is achieved by a method for correcting a reflective optical element for grazing incidence of radiation of an operating wavelength from the EUV wavelength range, comprising a reflective layer on a substrate, in which a coating is applied to the reflective layer, wherein two layers of the same material with different coating parameters are applied.
  • the coating can be single-layer or multi-layer.
  • a protective coating system or a multilayer system is applied as the coating.
  • the additional coating comprises one or more materials that are inert, particularly those that act as oxidation or reduction protection or as hydrogen barriers, the lifetime of the reflective optical element after its correction can be significantly increased.
  • the coating comprises alternating layers of at least two different materials with different real parts of the refractive index at a wavelength in the extreme ultraviolet wavelength range.
  • the object is achieved by a method for correcting an optical system with at least one reflective optical element for grazing incidence of radiation of an operating wavelength from the EUV wavelength range with a reflection layer on a substrate, wherein an actual value of an optical property of the optical system is determined and compared with a target value of this optical property and, if the actual value deviates from the target value, a specification of the at least one reflective optical element is defined such that, with appropriate correction of the reflective optical element, the optical system achieves this target value of the optical property, wherein the at least one reflective optical element is corrected according to one of the previously explained methods such that it achieves the target value and/or the at least one reflective optical element is replaced with another reflective optical element of the defined specification.
  • This approach makes it possible to correct an optical system that exhibits a change in an optical property, particularly after a certain period of use caused by degradation of one or more optical elements, and thus avoid having to provide a new optical system with the desired optical property.
  • Particular flexibility can be achieved by providing it either by correcting a reflective optical element for grazing incidence of radiation at an operating wavelength from the EUV wavelength range as described above, or by manufacturing a suitable reflective optical element of this type, or by stocking suitable reflective optical elements for grazing incidence, so that by replacing a reflective optical element for grazing incidence in the optical system, the system can be corrected such that the optical property again corresponds to a predetermined specification.
  • optical element(s) can be selected, in particular reflective optical elements for grazing incidence, whose correction or modification can lead to a sufficient approximation to the target value of the optical property in question of the optical system with the least effort.
  • the replacement element can either be manufactured after the new specification for the respective reflective optical element for grazing EUV incidence has been determined, or various potential replacement elements can be manufactured in advance. To this end, existing reflective optical elements for grazing incidence can be corrected as described above. Likewise, a replacement or replacement element can be manufactured in advance to specifically adjust a specific reflectivity, possibly even spatially resolved.
  • the at least one reflective optical element is replaced by another reflective optical element of the specified specification, it is preferably replaced by another reflective optical element which has a different substrate roughness than the at least one reflective element and/or which has an additional layer of a specific roughness between the substrate and the reflective layer in order to specifically set a specific reflectivity, possibly also spatially resolved.
  • the at least one reflective optical element for grazing incidence is one that has a reflective layer that has a reflectivity less than the maximum reflectivity within a tolerance range with a minimum and a maximum reflectivity at the operating wavelength. This makes it possible, particularly when correcting a reflective optical element for grazing incidence, to both improve and deteriorate its reflectivity, thus allowing for more flexible influence on the optical property of the optical system to be improved.
  • the optical system is corrected to achieve a desired telecentricity value.
  • a telecentricity error in the scanning direction of the lithography device is undesirable. This can be caused, among other things, by inhomogeneous reflectivity across the reflection surface of the at least one reflective optical element for grazing incidence, which can lead to a tilting effect in the optical pupil of the optical system of an EUV lithography device in the scanning direction. Other causes can be defects or lifetime problems in other optical elements of the optical system.
  • the telecentricity value can be corrected by replacing or correcting the at least one reflective optical element.
  • Other imaging errors that can be corrected as described include wavefront errors, image field curvatures and distortions, uniformity errors, etc.
  • FIG. 1 schematically shows the sequence of a first embodiment of a correction of an optical system, including the correction of a reflective optical element for grazing EUV incidence and
  • FIG. 1 schematically shows the sequence of a second embodiment of a correction of an optical system, including the replacement of a reflective optical element for grazing EUV incidence.
  • optical systems for use in an EUV lithography device can have at least one reflective optical element for grazing incidence of radiation of an operating wavelength from the EUV wavelength range, wherein this reflective optical element has a reflection layer on a substrate. Due to defective optical elements or due to changes to optical elements over the operating period, both of which can manifest themselves, for example, in changed reflectivities, changes in optical properties such as telecentricity can occur.
  • a first step 101 the actual value of an optical property of the optical system is first determined and, in a further step 103, compared with a target value of this optical property.
  • a new specification is defined for the at least one reflective optical element for grazing EUV incidence (step 105), so that after a correction of this element, the actual value of the optical property again corresponds to the target value within the tolerance.
  • new specifications can be defined, in particular for reflective optical elements that did not causally contribute to the deviation of the actual value from the target value of a specific optical property of the optical system.
  • a new specification can also be defined for more than one of these reflective optical elements in order to correct or replace the reflective optical elements accordingly (see below).
  • the correction of the at least one reflective optical element for grazing incidence can be carried out in various ways (step 107: doping the reflection layer, changing the structure of the reflection layer, coating the reflection layer or converting a possibly present metastable layer into a more stable state), which can also be combined with each other.
  • the reflective layer on the substrate can be doped, for example, to influence the reflectivity with regard to telecentricity by modifying the complex refractive index accordingly, so that the new specification is met and the actual value matches the target value again.
  • the reflective layer is doped by ion bombardment, which can also be used to dope the reflective layer in a targeted and precise manner, for example, with nitrogen or metal atoms, even with spatial resolution.
  • the structure of the reflective layer can be modified.
  • a change in the layer structure usually also changes the roughness of the reflective layer. If the square roughness increases in spatial domain in the range of approximately 1 nm to 100 nm, more scattered radiation is generated upon irradiation and the reflectivity decreases. If the structure of the reflective layer is only changed locally, the reflectivity of the reflective optical element can be influenced there.
  • the reflective layer can be heated or energy can be introduced into it in some other way. Existing crystallites can then grow, which can lead to a change in grain size and roughening, thus reducing reflectivity. With more complex heat treatments, the structure of the reflective layer can also become more amorphous and typically exhibit slightly less roughness, which can lead to less scattered radiation and thus higher reflectivity.
  • the structure of the reflective layer can also be modified primarily in the surface area by smoothing the surface. Where the reflective layer surface is smoothed, less scattered radiation occurs, thus increasing reflectivity. Smoothing is preferably performed using ion or plasma-assisted processes or atomic layer smoothing to precisely and precisely influence the reflectivity of the reflective optical element, even with spatial resolution.
  • a metastable layer can be provided from the outset in the reflective optical element for grazing incidence, and this metastable layer can be converted into a more stable state.
  • metastable layers which can be converted into a more stable state, in particular by the introduction of energy, such as through irradiation or heat treatment.
  • a porous layer can be provided as the metastable layer, which has additional material in its pores that, for example, becomes volatile upon heating and escapes from the porous layer.
  • a layer with a columnar or porous structure can be provided as the metastable layer, which can also be locally densified by the introduction of energy, which can also change the complex refractive index.
  • the metastable layer is formed as a mixed material system, and the materials of the metastable layer are mixed or separated, or undergo a phase transition.
  • the complex refractive index can be precisely influenced, even at individual points or on partial areas. Due to the different material distribution in the metastable and more stable states, the complex refractive index of the reflective optical element changes, and thus also its reflectivity.
  • a volume change may also occur during the transition to a more stable state, which can also contribute to the change in the complex refractive index.
  • a sequence of alternating ruthenium and silicon layers can be applied as a metastable layer.
  • activation energy is introduced into this multilayer film, for example by irradiation with electrons or ions or with a laser, a stable ruthenium-silicon compound is formed locally at the site of irradiation, which leads locally to a change in volume and an associated change in the complex refractive index at the working wavelength and thus to a change in reflectivity.
  • a coating is applied to the reflective layer to correct the at least one reflective optical element for grazing incidence of radiation of an operating wavelength from the EUV wavelength range.
  • the coating can be single-layer or multi-layer.
  • the reflectivity of a reflective optical element for grazing incidence of EUV radiation can be very precisely influenced and subsequently corrected.
  • two layers of the same material can be applied with different coating parameters, so that they have different roughnesses per se and/or after a smoothing process. If, in addition, these two layers are applied with a complementary thickness gradient, an overall layer with a homogeneous thickness but inhomogeneous roughness across the surface of the reflective layer can be obtained.
  • the coating can also be applied as a protective coating system or a multilayer system. If the additional coating contains one or more materials that are inert, particularly those that act as oxidation or reduction protection or as hydrogen barriers, the lifetime of the reflective optical element after its correction can be significantly increased. At the same time, the coating should also provide the highest possible transmission for radiation at the operating wavelength. For operating wavelengths in the EUV wavelength range, a two-layer coating consisting of a layer of carbon on the reflective layer and a ruthenium layer on top, or a single-layer coating of zirconium oxide, have proven effective.
  • the coating comprises alternating layers of at least two different materials with different real parts of the refractive index at a wavelength in the extreme ultraviolet wavelength range.
  • Multilayer systems have the advantage that they can be optimized for high reflectivity specifically for narrow operating wavelength ranges, so that the reflectivity of a reflective optical element can also be precisely corrected in this way.
  • multilayer systems consisting of alternating layers of molybdenum and ruthenium or of alternating ruthenium layers, each applied with different coating parameters, can be produced from the gas phase using any deposition process.
  • the coating parameters can be influenced, for example, by different energies of the particles impacting the substrate or different stoichiometries of the material to be coated, which is provided, for example, as a so-called sputtering target during coating by sputtering. Due to the different coating parameters, the multilayer systems have different densities and thus also different refractive indices.
  • a second exemplary embodiment for the correction of an optical system with at least one reflective optical element for grazing incidence of radiation of an operating wavelength from the EUV wavelength range, for example for use in an EUV lithography device is shown schematically in Figure 2, wherein steps 201, 203, 205 correspond to steps 101, 103, 105 from Figure 1.
  • the at least one reflective optical element for grazing EUV incidence is exchanged for another reflective optical element for grazing incidence of the specified specification (step 207) in order to meet the target value, for example with regard to telecentricity.
  • the replacement element can either be manufactured after the new specification for the respective reflective optical element for grazing EUV incidence has been determined, or various potential replacement elements can be manufactured in advance. To this end, existing reflective optical elements for grazing incidence can be corrected as described above. Likewise, a replacement or replacement element can be manufactured in advance to specifically adjust a specific reflectivity, possibly with spatial resolution.
  • the at least one reflective optical element for grazing incidence is replaced with another reflective optical element of the specified specification, which has a different substrate roughness than the at least one reflective element and/or which has an additional layer of a specific roughness between the substrate and the reflective layer in order to specifically adjust a specific reflectivity, possibly also spatially resolved.
  • another reflective optical element of the specified specification which has a different substrate roughness than the at least one reflective element and/or which has an additional layer of a specific roughness between the substrate and the reflective layer in order to specifically adjust a specific reflectivity, possibly also spatially resolved.
  • the at least one reflective optical element for grazing incidence is preferably one that has a reflection layer that has a reflectivity less than the maximum reflectivity within a tolerance range with a minimum and a maximum reflectivity at the operating wavelength.
  • the at least one reflective optical element for grazing incidence it is possible to both improve and worsen its reflectivity in order to more flexibly influence the optical property of the optical system to be improved, such as telecentricity.
  • one or more reflective optical elements for grazing incidence are kept ready for replacement, it can also be advantageous to provide examples with a less than optimal reflection layer, which can be modified to achieve better or worse reflectivity through an additional correction step, such as explained in connection with step 107 of Figure 1.

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Abstract

Es wird ein Verfahren zum Korrigieren eines optischen Systems mit mindestens einem reflektiven optischen Element für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat vorgeschlagen, wobei ein Ist-Wert einer optischen Eigenschaft des optischen Systems ermittelt wird und mit einem Soll-Wert dieser optischen Eigenschaft verglichen wird und bei Abweichen des Ist-Werts vom Soll-Wert eine Spezifikation des mindestens einen reflektiven optischen Elements derart festgelegt wird, dass bei entsprechender Korrektur des reflektiven optischen Elements das optische System diesen Soll-Wert der optischen Eigenschaft erreicht, wobei das mindestens eine reflektive optische Element derart korrigiert wird, dass es den Sollwert erreicht und/oder das mindestens eine reflektive optische Element gegen ein weiteres reflektives optisches Element für streifenden Einfall der festgelegten Spezifikation ausgetauscht wird.

Description

Verfahren zum Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall und Verfahren zum Korrigieren eines optischen Systems
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Verfahren zum Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat sowie auf ein Verfahren zum Korrigieren eines optischen Systems mit mindestens einem reflektiven optischen Element für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat. Die vorliegende Anmeldung nimmt die Priorität der deutschen Patentanmeldung 10 2024 203 437.1 vom 15. April 2025 in Anspruch, auf die vollumfänglich Bezug genommen wird.
In EUV-Lithographievorrichtungen werden zur Lithographie von Halbleiterbauelementen reflektive optische Elemente für den extremen ultravioletten (EUV-)Wellenlängenbereich (z.B. Wellenlängen zwischen ca. 5 nm und 20 nm) wie u.a. etwa Photomasken oder Spiegel auf der Basis von Viellagensystemen für quasi-normalen Einfall oder Spiegel mit metallischer Oberfläche für streifenden Einfall eingesetzt.
Reflektive optische Elemente für streifenden Strahlungseinfall basieren auf dem Effekt der Totalreflexion. Um im EUV-Wellenlängenbereich eine hohe Reflektivität zu erreichen, wird üblicherweise auf einem Substrat eine Reflexionsschicht vorgesehen, die bevorzugt ein oder mehrere Übergangsmetalle aufweist. Besonders bewährt haben sich insbesondere Ruthenium, Molybdän, Niob und Palladium.
Reflektive optische Elemente für streifenden Strahlungseinfall weisen eine stark winkelabhängige Reflektivität auf. Da in einem optischen System, beispielsweise einem Beleuchtungssystem oder einem Projektionssystem einer EUV-Lithographievorrichtung, die Einfallswinkel über die Fläche eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall in der Regel nicht konstant sind, ist die Reflektivität über die Fläche inhomogen, was zu Abbildungsfehlern führen kann, bei EUV-Lithographievorrichtungen insbesondere zu Telezentriefehlern aufgrund eines Kippeffekts in der optischen Pupille in Scan-Richtung.
Üblicherweise wird versucht, Telezentriefehler in optischen Systemen durch Kompensation des Kippeffekts zu korrigieren. Verschiedene Ansätze werden in der DE 10 2012 202 675 A1 beschrieben. Insbesondere werden verschiedene reflektive optische Elemente, insbesondere für streifenden Einfall, gegeneinander kompensiert. Dies setzt allerdings voraus, dass bei den Reflexionsschichten sehr kleine Toleranzen eingehalten werden. Außerdem kann es passieren, dass durch die Strahlenbelastung im Betrieb mit der Zeit ein reflektives optisches Element irgendwann nicht mehr innerhalb der verlangten Toleranz liegt.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Möglichkeit aufzuzeigen, reflektive optische Elemente für den streifenden Einfall bzw. ein optisches System mit einem solchen Element zu korrigieren.
In einem ersten Aspekt wird die Aufgabe gelöst durch ein Verfahren zum Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat, bei dem die Reflexionsschicht dotiert wird. Durch das nachträgliche Einbauen von Fremdatomen in die Reflexionsschicht wird der komplexe Brechungsindex bei der Arbeitswellenlänge sowohl in Hinblick auf die Brechzahl als auch auf die Absorption beeinflusst und damit die Reflektivität. Die Dotierung kann punktuell, über eine oder mehrere Teilflächen oder die gesamte Reflexionsschicht durchgeführt werden. Insbesondere bei großflächigeren reflektiven optischen Elementen kann durch punktuelle oder teilweise Dotierung der Fläche der Reflexionsschicht besonders zielgerichtet das jeweilige reflektive optische Element in Hinblick auf eine optische Eigenschaft eines optischen System korrigiert werden.
Bevorzugt wird die Reflexionsschicht durch Ionenbeschuss dotiert. Beim Beschuss von Schichten mit Ionen können Prozessparameter sehr genau eingestellt und gesteuert werden und kann ortsaufgelöst gearbeitet werden, so dass die Reflexionsänderung durch Dotierung auch in der Fläche sehr präzise beeinflusst werden kann.
Vorteilhafterweise wird die Reflexionsschicht mit Stickstoff- oder Metallatomen dotiert. Reflexionsschichten von reflektiven optischen Elementen für streifenden Einfall im EUV-Wellenlängenbereich weisen bevorzugt ein oder mehrere Übergangsmetalle auf. Durch die Dotierung insbesondere einer solchen Reflexionsschicht lässt sich die Reflektivität gezielt und präzise beeinflussen. Außerdem lassen sich Stickstoff und Metalle besonders gut ionisieren, um die Dotierung durch Ionenbeschuss vorzunehmen.
In einem zweiten Aspekt wird die Aufgabe gelöst durch ein Verfahren zum Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat, bei dem die Struktur der Reflexionsschicht verändert wird.
Wenn man die Struktur der Reflexionsschicht verändert, ändert sich in der Regel auch die Rauheit der Reflexionsschicht. Bei reflektiven optischen Elementen für streifenden Einfall von EUV-Strahlung ist die quadratischen Rauheit (rms(root-mean-squared) roughness) von Bedeutung, insbesondere in der Größenordnung von Nanometern. Erhöht sich in diesem Größenordnungsbereich die Rauheit, wird bei Bestrahlung mehr Streustrahlung generiert und sinkt die Reflektivität. Wird die Struktur der Reflexionsschicht nur lokal verändert, kann lokal auf die Reflektivität des reflektiven optischen Elements Einfluss genommen werden.
Bevorzugt wird die Reflexionsschicht erwärmt oder anderweitig Energie in die Reflexionsschicht eingebracht. Weist die Reflexionsschicht Kristallite auf, wachsen diese typischerweise bei Energieeintrag. Dies kann durch Änderung der Korngrößen zu einer Aufrauung und damit reduzierter Reflektivität führen. Bei komplexeren Wärmebehandlungen kann die Struktur der Reflexionsschicht auch amorpher werden und typischerweise eine etwas geringere Rauheit aufweisen, was zu weniger Streustrahlung und damit höherer Reflektivität führen kann.
Vorteilhafterweise wird die Oberfläche der Reflexionsschicht geglättet. Dort, wo die Reflexionsschichtoberfläche geglättet wird, tritt weniger Streustrahlung auf und steigt damit die Reflektivität. Bevorzugt wird das Glätten ionen- oder plasmagestützt oder mittels Atomlagenglättung durchgeführt.
In einem dritten Aspekt wird die Aufgabe gelöst durch ein Verfahren zum Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat, bei dem das reflektive optische Element eine metastabile Schicht aufweist, wobei die metastabile Schicht in einen stabileren Zustand überführt wird. Indem eine metastabile Schicht in einen stabileren Zustand überführt wird, kann sich der komplexe Brechungsindex verändern und somit nachträglich Einfluss auf die Reflektivität des optischen Elements mit dieser Schicht genommen werden.
Es gibt verschiedenste Arten von metastabilen Schichten, die insbesondere durch Energieeintrag wie etwa durch Bestrahlung oder Wärmebehandlung in einen stabileren Zustand überführt werden können. Beispielsweise kann als metastabile Schicht eine poröse Schicht vorgesehen sein, die weiteres Material in ihren Poren aufweist, das z.B. bei Erwärmung flüchtig wird und aus der porösen Schicht austritt. Ebenso kann als metastabile Schicht eine Schicht mit kolumnarer oder poröser Struktur vorgesehen sein, die durch Energieeintrag auch nur lokal verdichtet werden kann, wodurch sich ebenfalls der komplexe Brechungsindex verändern lässt.
In bevorzugten Ausführungsformen ist die metastabile Schicht als Materialmischsystem ausgebildet und werden die Materialien der metastabilen Schicht durchmischt oder separiert oder einem Phasenübergang unterzogen. Durch gezielte Bestrahlung kann präzise der komplexe Brechungsindex auch nur an einzelnen Punkten oder auf Teilflächen beeinflusst werden. Durch die im metastabilen und im stabileren Zustand unterschiedliche Materialverteilung ändert sich der komplexe Brechungsindex des reflektiven optischen Elements und damit auch dessen Reflektivität. Je nach Materialien des Materialmischsystems kann bei dem Übergang in einen stabileren Zustand auch eine Volumenänderung stattfinden, die zusätzlich zur Änderung des komplexen Brechungsindex beitragen kann.
In einem vierten Aspekt wird die Aufgabe gelöst durch ein Verfahren zum Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat, bei dem auf die Reflexionsschicht eine Beschichtung aufgebracht wird, wobei zwei Schichten desselben Materials mit unterschiedlichen Beschichtungsparametern aufgebracht werden. Die Beschichtung kann ein- oder mehrlagig sein. Über gezielte lokale oder vollständige Beschichtung der Reflexionsschicht mit einem oder mehreren Materialien und konstanten oder variierenden Beschichtungs- bzw. Lagendicken kann sehr präzise nachträglich auf die Reflektivität eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von EUV-Strahlung Einfluss genommen und diese korrigiert werden, insbesondere durch eine bestimmte Rauheitsverteilung über die Fläche der Reflexionsschicht. Indem zwei Schichten desselben Materials mit unterschiedlichen Beschichtungsparametern aufgebracht werden, weisen sie per se und/oder nach einem Glättprozess eine unterschiedliche Rauheit auf. Wenn man außerdem die zwei Schichten mit einem komplementären Dickenverlauf aufbringt, kann man eine Gesamtschicht mit homogener Dicke, aber inhomogener Rauheit über die Oberfläche der Reflexionsschicht erhalten.
Vorzugsweise wird als Beschichtung ein Schutzschichtsystem oder ein Viellagensystem aufgebracht. Wenn die zusätzliche Beschichtung ein oder mehrere Materialien aufweist, die inert sind, insbesondere als Oxidations- oder Reduktionsschutz wirken oder auch als Wasserstoffbarrieren, kann signifikant die Lebensdauer des reflektiven optischen Elements nach seiner Korrektur erhöht werden. Bei einer Beschichtung als Viellagensystem, weist die Beschichtung Lagen aus mindestens zwei verschiedenen Materialien mit unterschiedlichem Realteil des Brechungsindex bei einer Wellenlänge im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich auf, die abwechselnd angeordnet sind.
In einem fünften Aspekt wird die Aufgabe gelöst durch ein Verfahren zum Korrigieren eines optischen Systems mit mindestens einem reflektiven optischen Element für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat, wobei ein Ist-Wert einer optischen Eigenschaft des optischen Systems ermittelt wird und mit einem Soll-Wert dieser optischen Eigenschaft verglichen wird und bei Abweichen des Ist-Werts vom Soll-Wert eine Spezifikation des mindestens einen reflektiven optischen Elements derart festgelegt wird, dass bei entsprechender Korrektur des reflektiven optischen Elements das optische System diesen Soll-Wert der optischen Eigenschaft erreicht, wobei das mindestens eine reflektive optische Element gemäß einem der zuvor erläuterten Verfahren derart korrigiert wird, dass es den Sollwert erreicht und/oder das mindestens eine reflektive optische Element gegen ein weiteres reflektives optisches Element der festgelegten Spezifikation ausgetauscht wird.
Dieser Ansatz erlaubt es, ein optisches System, das eine insbesondere nach einer gewissen Einsatzzeit durch Degradation eines oder mehrere optischer Elemente verursachte Veränderung einer optischen Eigenschaft aufweist, zu korrigieren und damit zu vermeiden, ein neues optisches System mit der gewünschten optischen Eigenschaft bereitstellen zu müssen. Eine besondere Flexibilität kann dadurch erreicht werden, dass das Bereitstellen entweder durch ein zuvor beschriebenes Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfalls von Strahlung einer Arbeitswellenlängen aus dem EUV-Wellenlängenbereich geschehen kann oder das Herstellen eines geeigneten solchen reflektiven optischen Elements oder der Bevorratung von geeigneten reflektiven optischen Elementen für streifenden Einfall, so dass durch Austausch eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall des optischen System dieses dahingehend korrigiert werden kann, dass die optische Eigenschaft wieder einer vorgegebenen Spezifikation entspricht.
Es sei darauf hingewiesen, dass bei optischen Systemen, die mehr als ein reflektives optisches Element für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich aufweisen, auch mehr als ein solches optisches Element korrigiert und/oder ausgetauscht werden kann, wenn es erforderlich sein sollte, damit die jeweilige optische Eigenschaft wieder der zu erfüllenden Spezifikation entspricht. Insbesondere kann auf diese Weise ein optisches System korrigiert werden, bei dem der Soll-Wert einer optischen Eigenschaft aufgrund der Degradation oder einem Fehler von mehr als einem optischen Element bzw. einem oder mehreren anderen optischen Elementen als das mindestens eine reflektive optische Element für streifenden Einfall nicht erreicht wird. Vorteilhafterweise kann das- oder diejenigen optischen Elemente, insbesondere reflektive optische Element für streifenden Einfall ausgewählt werden, dessen oder deren Korrektur bzw. Veränderung mit geringstem Aufwand zu einer hinreichenden Annäherung an den Soll-Wert der in Frage stehenden optischen Eigenschaft des optischen Systems führen kann.
Das Austauschelement kann entweder hergestellt werden, nachdem die neue Spezifikation für das jeweilige reflektive optische Element für streifenden EUV-Einfall festgelegt wurde, oder können schon im Voraus verschiedene potentielle Austauschelemente hergestellt werden. Dazu können existierende reflektive optische Elemente für streifenden Einfall in zuvor beschriebener Weise korrigiert werden. Ebenso kann ein Austausch- bzw. Ersatzelement vorab hergestellt werden, um gezielt eine bestimmte Reflektivät einzustellen, ggf. auch ortsaufgelöst.
Für den Fall, dass das mindestens eine reflektive optische Element gegen ein weiteres reflektives optisches Element der festgelegten Spezifikation ausgetauscht wird, wird es bevorzugt gegen ein weiteres reflektives optisches Element getauscht, das eine andere Substratrauheit als das mindestens eine reflektive Element aufweist und/oder das zwischen dem Substrat und der Reflexionsschicht eine zusätzliche Schicht bestimmter Rauheit aufweist, um gezielt eine bestimmte Reflektivät einzustellen, ggf. auch ortsaufgelöst.
In bevorzugten Ausführungsformen wird als mindestens ein reflektives optisches Element für streifenden Einfall eines verwendet, das eine Reflexionsschicht aufweist, die innerhalb eines Toleranzbereichs mit einer minimalen und einer maximalen Reflektivität bei der Arbeitswellenlänge eine Reflektivität kleiner als die maximale Reflektivität aufweist. Auf diese Weise kann man insbesondere beim Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall ermöglichen, dessen Reflektivität sowohl zu verbessern als auch zu verschlechtern, um so flexibler auf die zu verbessernde optische Eigenschaft des optischen Systems Einfluss nehmen zu können.
Vorteilhafterweise wird das optische System dahingehend korrigiert, dass ein Soll-Wert der Telezentrie erreicht wird. Insbesondere bei der EUV-Lithographie von Halbleiterbauelementen ist ein Telezentriefehler in Scan-Richtung der Lithographievorrichtung unerwünscht. Dieser kann u.a. durch eine inhomogene Reflektivität über die Reflexionsfläche des mindestens einen reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall verursacht werden, was zu einem Kippeffekt in der optischen Pupille des optischen Systems einer EUV-Lithographievorrichtung in Scan-Richtung führen kann. Andere Ursachen können Fehler oder Lebensdauerprobleme auch an weiteren optischen Elementen des optischen System sein. Durch Austausch oder Korrektur des mindestens einen reflektiven optischen Elements kann der Telezentriewert korrigiert werden. Weitere Abbildungsfehler, die wie beschrieben korrigiert werden können, sind etwa Wellenfrontfehler, Bildfeldkrümmungen und -verzeichnungen, Uniformitätsfehler etc..
Die vorliegende Erfindung soll unter Bezugnahme auf bevorzugte Ausführungsbeispiele näher erläutert werden. Dazu zeigen
schematisch den Ablauf eines ersten Ausführungsbeispiels einer Korrektur eines optischen System, inklusive der Korrektur eines reflektiven optischen Elements für streifenden EUV-Einfall und
schematisch den Ablauf eines zweiten Ausführungsbeispiels einer Korrektur eines optischen System, inklusive des Austauschs eines reflektiven optischen Elements für streifenden EUV-Einfall.
Insbesondere optische Systeme zum Einsatz in einer EUV-Lithographievorrichtung können mindestens ein reflektives optisches Element für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich aufweisen, wobei dieses reflektive optische Element eine Reflexionsschicht auf einem Substrat aufweist. Aufgrund von fehlerhaften optischen Elementen oder wegen Veränderungen an optischen Elementen über die Betriebsdauer, die sich beide z.B. in veränderten Reflektivitäten äußern können, kann es zu Veränderungen bei optischen Eigenschaften wie etwa der Telezentrie kommen. In einem ersten Schritt 101 wird zunächst der Ist-Wert einer optischen Eigenschaft des optischen Systems ermittelt und in einem weiteren Schritt 103 mit einem Soll-Wert dieser optischen Eigenschaft verglichen. Diese Schritte können wiederholt werden, solange der Ist-Wert im Rahmen einer vorgegebenen Toleranz mit dem Soll-Wert übereinstimmt. Korrekturbedarf besteht nur, wenn dies nicht mehr der Fall ist.
Wenn aber der Ist-Wert über die Toleranzgrenze hinaus vom Soll-Wert abweicht, so wird eine neue Spezifikation für das mindestens eine reflektive optische Element für streifenden EUV-Einfall festgelegt (Schritt 105), so dass nach einer Korrektur dieses Elements der Ist-Wert der optischen Eigenschaft wieder im Rahmen der Toleranz mit dem Soll-Wert übereinstimmt. In Varianten können insbesondere für reflektive optische Elemente neue Spezifikationen festgelegt werden, die nicht ursächlich zum Abweichen des Ist-Werts vom Soll-Wert einer bestimmten optischen Eigenschaft des optischen Systems beigetragen haben. Bei optischen Systemen, die mehr als ein reflektives optisches Element für streifenden Einfall aufweisen, kann auch für mehr als eines dieser reflektiven optischen Elemente eine neue Spezifikation festgelegt werden, um die reflektiven optischen Elemente entsprechend zu korrigieren bzw. auszutauschen (s.u.).
Die Korrektur des mindestens einen reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall kann auf verschiedene Weisen durchgeführt werden (Schritt 107: Dotierung der Reflexionsschicht, Veränderung der Struktur der Reflexionsschicht, Beschichten der Reflexionsschicht oder Überführen einer ggf. vorhandenen metastabilen Schicht in einen stabileren Zustand), die auch miteinander kombiniert werden können.
So kann in einer ersten Variante die Reflexionsschicht auf dem Substrat dotiert werden, um beispielsweise in Hinblick auf die Telezentrie über den entsprechend geänderten komplexen Brechungsindex die Reflektivität dahingehend zu beeinflussen, dass die neue Spezifikation erfüllt wird und der Ist-Wert wieder mit dem Soll-Wert übereinstimmt. Vorteilhafterweise wird die Reflexionsschicht durch Ionenbeschuss dotiert werden, um ggf. auch ortsaufgelöst gezielt und präzise die Reflexionsschicht zu dotieren, beispielsweise mit Stickstoff- oder Metallatomen.
In einer zweiten Variante kann die Struktur der Reflexionsschicht verändert werden. Mit einer Änderung der Schichtstruktur ändert sich in der Regel auch die Rauheit der Reflexionsschicht. Erhöht sich die quadratische Rauheit im Ortsraum in der Größenordnung von ca. 1 nm bis 100 nm, wird bei Bestrahlung mehr Streustrahlung generiert und sinkt die Reflektivität. Wird die Struktur der Reflexionsschicht nur lokal verändert, kann dort auf die Reflektivität des reflektiven optischen Elements Einfluss genommen werden.
Um die Struktur der Reflexionsschicht zu ändern, kann sie erwärmt oder anderweitig Energie in die Reflexionsschicht eingebracht werden. Bereits vorhandene Kristallite können dadurch wachsen, was zu einer Änderung der Korngrößen und einer Aufrauhung und damit zu reduzierter Reflektivität führen kann. Bei komplexeren Wärmebehandlungen kann die Struktur der Reflexionsschicht auch amorpher werden und typischerweise eine etwas geringere Rauheit aufweisen, was zu weniger Streustrahlung und damit höherer Reflektivität führen kann.
Man kann die Struktur der Reflexionsschicht auch überwiegend im Oberflächenbereich verändern, indem man die Oberfläche der Reflexionsschicht glättet. Dort, wo die Reflexionsschichtoberfläche geglättet wird, tritt weniger Streustrahlung auf und steigt damit die Reflektivität. Bevorzugt wird das Glätten ionen- oder plasmagestützt oder mittels Atomlagenglättung durchgeführt, um auch ortsaufgelöst gezielt und präzise die Reflektivität des reflektiven optischen Elements zu beeinflussen.
In einer dritten Variante kann von vornherein beim reflektiven optischen Element für streifenden Einfall eine metastabile Schicht vorgesehen werden und diese metastabile Schicht in einen stabileren Zustand überführt werden. Es gibt verschiedenste Arten von metastabilen Schichten, die insbesondere durch Energieeintrag wie etwa durch Bestrahlung oder Wärmebehandlung in einen stabileren Zustand überführt werden können. Beispielsweise kann als metastabile Schicht eine poröse Schicht vorgesehen sein, die weiteres Material in ihren Poren aufweist, das z.B. bei Erwärmung flüchtig wird und aus der porösen Schicht austritt. Ebenso kann als metastabile Schicht eine Schicht mit kolumnarer oder poröser Struktur vorgesehen sein, die durch Energieeintrag auch nur lokal verdichtet werden kann, wodurch sich ebenfalls der komplexe Brechungsindex verändern lässt.
In bevorzugten Ausführungsformen ist die metastabile Schicht als Materialmischsystem ausgebildet und werden die Materialien der metastabilen Schicht durchmischt oder separiert oder einem Phasenübergang unterzogen. Durch gezielte Bestrahlung kann präzise der komplexe Brechungsindex auch nur an einzelnen Punkten oder auf Teilflächen beeinflusst werden. Durch die im metastabilen und im stabileren Zustand unterschiedliche Materialverteilung ändert sich der komplexe Brechungsindex des reflektiven optischen Elements und damit auch dessen Reflektivität. Je nach Materialien des Materialmischsystem kann bei dem Übergang in einen stabileren Zustand auch eine Volumenänderung stattfinden, die zusätzlich zur Änderung des komplexen Brechungsindex beitragen kann. Zum Bespiel kann als metastabile Schicht eine Abfolge von sich abwechselnden Ruthenium- und Siliziumlagen aufgebracht sein. Wird in diese mehrlagige Schicht Aktivierungsenergie beispielsweise durch Bestrahlung mit Elektronen oder Ionen oder mit einem Laser eingebracht, entsteht lokal am Ort der Bestrahlung eine stabile Ruthenium-Silizium-Verbindung, was lokal zu einer Volumenänderung und einer damit verbundenen Änderung des komplexen Brechungsindex bei der Arbeitswellenlänge führt und damit zu einer Änderung der Reflektivität.
In einer vierten Variante wird zur Korrektur des mindestens einen reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich auf die Reflexionsschicht eine Beschichtung aufgebracht. Die Beschichtung kann ein- oder mehrlagig sein. Über gezielte lokale oder vollständige Beschichtung der Reflexionsschicht mit einem oder mehreren Materialien und konstanten oder variierenden Beschichtungs- bzw. Lagendicken kann sehr präzise nachträglich auf die Reflektivität eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von EUV-Strahlung Einfluss genommen und diese nachträglich korrigiert werden. Beispielsweise können zwei Schichten desselben Materials mit unterschiedlichen Beschichtungsparametern aufgebracht werden, so dass sie per se und/oder nach einem Glättprozess eine unterschiedliche Rauheit aufweisen. Wenn man außerdem diese zwei Schichten mit einem komplementären Dickenverlauf aufbringt, kann man eine Gesamtschicht mit homogener Dicke, aber inhomogener Rauheit über die Oberfläche der Reflexionsschicht erhalten.
Die Beschichtung kann auch als Schutzschichtsystem oder Viellagensystem aufgebracht werden. Wenn die zusätzliche Beschichtung ein oder mehrere Materialien aufweist, die inert sind, insbesondere als Oxidations- oder Reduktionsschutz wirken oder auch als Wasserstoffbarrieren, kann signifikant die Lebensdauer des reflektiven optischen Elements nach seiner Korrektur erhöht werden. Gleichzeitig sollte die Beschichtung auch eine möglichst hohe Transmission für Strahlung bei der Arbeitswellenlänge aufweisen. Für eine Arbeitswellenlänge im EUV-Wellenlängenbereich haben sich u.a. eine zweilagige Beschichtung aus einer Lage Kohlenstoff auf der Reflexionsschicht und darauf einer Rutheniumlage oder eine einlagige Beschichtung aus Zirkoniumoxid bewährt.
Bei einer Beschichtung als Viellagensystem weist die Beschichtung Lagen aus mindestens zwei verschiedenen Materialien mit unterschiedlichem Realteil des Brechungsindex bei einer Wellenlänge im extrem ultravioletten Wellenlängenbereich auf, die abwechselnd angeordnet sind. Viellagensysteme haben den Vorteil, dass sie speziell für enge Arbeitswellenlängenbereiche auf eine hohe Reflektivität optimiert werden können, so dass auch auf diese Weise präzise die Reflektivität eines reflektiven optischen Elements korrigiert werden kann. Für Arbeitswellenlängen im EUV-Wellenlängenbereich können beispielsweise Viellagensysteme aus alternierend angeordneten Lagen aus Molybdän und Ruthenium oder aus alternierend angeordneten Rutheniumlagen, die mit jeweils unterschiedlichen Beschichtungsparametern aufgebracht wurden, durch beliebige Abscheidungsverfahren aus der Gasphase hergestellt werden. Es kann beispielsweise durch unterschiedliche Energien der auf dem Substrat auftreffenden Teilchen oder unterschiedliche Stöchiometrien des zu beschichtenden Materials, das zum Beispiel beim Beschichten durch Sputtern als sogenanntes Sputtertarget zur Verfügung gestellt wird, auf die Beschichtungsparameter Einfluss genommen werden. Durch die unterschiedlichen Beschichtungsparameter weisen die Viellagensysteme unterschiedliche Dichten und damit auch unterschiedliche Brechungsindizes auf.
Ein zweites Ausführungsbeispiel für die Korrektur eines optischen Systems mit mindestens einem reflektiven optischen Element für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich, etwa zum Einsatz in einer EUV-Lithographievorrichtung, ist in Figur 2 schematisch dargestellt, wobei die Schritte 201, 203, 205 mit den Schritten 101, 103, 105 aus Figur 1 übereinstimmen. Zur Korrektur des optischen Systems wird im in Figur 2 dargestellten Beispiel das mindestens eine reflektive optische Element für streifenden EUV-Einfall gegen ein weiteres reflektives optisches Element für streifenden Einfall der festgelegten Spezifikation ausgetauscht (Schritt 207), um den Soll-Wert beispielsweise in Bezug auf die Telezentrie zu erfüllen.
Das Austauschelement kann entweder hergestellt werden, nachdem die neue Spezifikation für das jeweilige reflektive optische Element für streifenden EUV-Einfall festgelegt wurde, oder es können schon im Voraus verschiedene potentielle Austauschelemente hergestellt werden. Dazu können existierende reflektive optische Elemente für streifenden Einfall in zuvor beschriebener Weise korrigiert werden. Ebenso kann ein Austausch- bzw. Ersatzelement vorab hergestellt werden, um gezielt eine bestimmte Reflektivität einzustellen, ggf. auch ortsaufgelöst.
Vorzugsweise wird das mindestens eine reflektive optische Element für streifenden Einfall gegen ein weiteres reflektives optisches Element der festgelegten Spezifikation ausgetauscht, das eine andere Substratrauheit als das mindestens eine reflektive Element aufweist und/oder das zwischen dem Substrat und der Reflexionsschicht eine zusätzliche Schicht bestimmter Rauheit aufweist, um gezielt eine bestimmte Reflektivität einzustellen, ggf. auch ortsaufgelöst. Damit kann gewährleistet werden, dass der Ist-Wert beispielsweise der Telezentrie wieder mit dem Soll-Wert übereinstimmt.
Der hier anhand von zwei Beispielen in Verbindung mit den Figuren 1 und 2 illustrierte Ansatz erlaubt es, an einem optischen System, die insbesondere nach einer gewissen Einsatzzeit durch Degradation eines oder mehrerer optischer Elemente verursachte Veränderung einer optischen Eigenschaft zu korrigieren und damit zu vermeiden, ein neues optisches System mit der gewünschten optischen Eigenschaft bereitstellen zu müssen. Bei optischen Systemen, die mehr als ein reflektives optisches Element für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich aufweisen, kann ggf. auch mehr als ein solches optisches Element korrigiert und/oder ausgetauscht werden. Dies kann insbesondere dann von Vorteil sein, wenn die Abweichung vom Soll-Wert der optischen Eigenschaft auf der Degradation oder einem Fehler von mehr als einem optischen Element des optischen Systems bzw. nicht nur des mindestens einen reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall beruht.
Insbesondere für Verfahren zur Korrektur eines optischen Systems, bei dem das mindestens eine reflektive optische Element für streifenden Einfall korrigiert wird, wird als das mindestens eine reflektive optische Element für streifenden Einfall bevorzugt eines verwendet, das eine Reflexionsschicht aufweist, die innerhalb eines Toleranzbereichs mit einer minimalen und einer maximalen Reflektivität bei der Arbeitswellenlänge eine Reflektivität kleiner als die maximale Reflektivität aufweist. Auf diese Weise kann man insbesondere beim Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall ermöglichen, dessen Reflektivität sowohl zu verbessern als auch zu verschlechtern, um so flexibler auf die zu verbessernde optische Eigenschaft des optischen Systems, etwa die Telezentrie Einfluss nehmen zu können. Wenn ein oder mehrere reflektive optische Elemente für streifenden Einfall zum Austausch bereitgehalten werden, kann es ebenfalls von Vorteil sein, Exemplare mit nicht bestmöglicher Reflexionsschicht zur Verfügung zu stellen, die durch einen zusätzlichen Korrekturschritt, wie etwa in Zusammenhang mit Schritt 107 aus Figur 1 erläutert hin zu besserer oder schlechterer Reflektivität verändert werden können.

Claims (13)

  1. Verfahren zum Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat, dadurch gekennzeichnet, dass die Reflexionsschicht dotiert wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reflexionsschicht durch Ionenbeschuss dotiert wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Reflexionsschicht mit Stickstoff- oder Metallatomen dotiert wird.
  4. Verfahren zum Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat, dadurch gekennzeichnet, dass die Struktur der Reflexionsschicht verändert wird.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Reflexionsschicht erwärmt wird.
  6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberfläche der Reflexionsschicht geglättet wird.
  7. Verfahren zum Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat, wobei das reflektive optische Element eine metastabile Schicht aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die metastabile Schicht in einen stabileren Zustand überführt wird.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, wobei die metastabile Schicht als Materialmischsystem ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass Materialien der metastabilen Schicht durchmischt oder separiert werden oder einem Phasenübergang unterzogen werden.
  9. Verfahren zum Korrigieren eines reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat, bei dem auf die Reflexionsschicht eine Beschichtung aufgebracht wird, dadurch gekennzeichnet, dass zwei Schichten desselben Materials mit unterschiedlichen Beschichtungsparametern aufgebracht werden.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass als Beschichtung ein Schutzschichtsystem oder ein Viellagensystem aufgebracht wird.
  11. Verfahren zum Korrigieren eines optischen Systems mit mindestens einem reflektiven optischen Element für streifenden Einfall von Strahlung einer Arbeitswellenlänge aus dem EUV-Wellenlängenbereich mit einer Reflexionsschicht auf einem Substrat, wobei ein Ist-Wert einer optischen Eigenschaft des optischen Systems ermittelt wird und mit einem Soll-Wert dieser optischen Eigenschaft verglichen wird und bei Abweichung des Ist-Werts vom Soll-Wert eine Spezifikation des mindestens einen reflektiven optischen Elements für streifenden Einfall derart festgelegt wird, dass bei entsprechender Korrektur des reflektiven optischen Elements das optische System diesen Soll-Wert der optischen Eigenschaft erreicht, wobei das mindestens eine reflektive optische Element gemäß einem der Ansprüche 1 bis 11 derart korrigiert wird, dass es den Sollwert erreicht und/oder das mindestens eine reflektive optische Element gegen ein weiteres reflektives optisches Element für streifenden Einfall der festgelegten Spezifikation ausgetauscht wird.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, wobei das mindestens eine reflektive optische Element gegen ein weiteres reflektives optisches Element für streifenden Einfall der festgelegten Spezifikation ausgetauscht wird und dadurch gekennzeichnet, dass das mindestens eine reflektive optische Element gegen ein weiteres reflektives optisches Element getauscht wird, das eine andere Substratrauheit als das mindestens eine reflektive Element aufweist und/oder das zwischen dem Substrat und der Reflexionsschicht eine zusätzliche Schicht bestimmter Rauheit aufweist.
  13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass als mindestens ein reflektives optisches Element für streifenden Einfall eines verwendet wird, das eine Reflexionsschicht aufweist, die innerhalb eines Toleranzbereichs mit einer minimalen und einer maximalen Reflektivität bei der Arbeitswellenlänge eine Reflektivität kleiner als die maximale Reflektivität aufweist.
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