WO2025138784A1 - 显示基板、显示面板以及显示装置 - Google Patents

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WO2025138784A1
WO2025138784A1 PCT/CN2024/108812 CN2024108812W WO2025138784A1 WO 2025138784 A1 WO2025138784 A1 WO 2025138784A1 CN 2024108812 W CN2024108812 W CN 2024108812W WO 2025138784 A1 WO2025138784 A1 WO 2025138784A1
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sub
pixel
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pixels
light
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French (fr)
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赵二瑾
张跳梅
王红丽
樊聪
石博
张波
于子阳
宋江
蒋志亮
董向丹
胡明
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BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Beijing BOE Technology Development Co Ltd
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BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Beijing BOE Technology Development Co Ltd
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    • H10W99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass

Definitions

  • Organic light-emitting diode (OLED) display devices are popular among users due to their advantages such as rich colors, fast response time, and foldability.
  • An organic light-emitting display device with a tandem structure increases the life and brightness of the light-emitting device and reduces power consumption by adding at least one light-emitting layer and a charge generation layer to the organic light-emitting device, thereby meeting the user's requirements for power consumption and service life of the display device.
  • Embodiments of the present disclosure provide a display substrate, a display panel, and a display device.
  • At least one embodiment of the present disclosure provides a display substrate, including a base substrate, a plurality of sub-pixels, a pixel defining layer and at least one first defining structure, wherein the plurality of sub-pixels are located on the base substrate, the sub-pixels include a light-emitting functional layer, and the light-emitting functional layer includes a plurality of film layers;
  • the pixel defining layer includes a plurality of openings and a pixel defining portion surrounding the plurality of openings, the plurality of openings include a plurality of first openings and a plurality of second openings, the first openings are configured to define a light-emitting area of the sub-pixels, at least a portion of at least one layer of the light-emitting functional layer located in the first openings is a continuous portion, and at least a portion located in the second openings is isolated;
  • the first defining structure includes a first portion overlapping with the pixel defining portion and a second portion exposed by the second opening
  • both the first distance and the second distance are not less than 2 micrometers.
  • a portion of the surface of the supporting structure that is away from the base substrate is farther away from the base substrate than the pixel defining portion, and a cross-section of the supporting structure cut by a plane parallel to the base substrate is circular, elliptical or polygonal.
  • the first portion of the first defining structure covers the pixel defining portion, and at least a portion of the side surface of the first portion of the first defining structure away from its second portion has a slope angle with a first surface of the first portion close to the base substrate, and an angle between at least a portion of the side surface and a portion of the first surface close to the second portion is less than 90 degrees.
  • a first limiting structure and a second opening are arranged between any two adjacent sub-pixels among the first sub-pixel, the second sub-pixel and the third sub-pixel, the distances between the light-emitting areas of adjacent sub-pixels and the second opening located between the adjacent sub-pixels are not equal, and the second portion of the first limiting structure is located between the first portion thereof and the light-emitting area of the sub-pixel among the adjacent sub-pixels that is adjacent to the second opening.
  • the plurality of sub-pixels include a plurality of first sub-pixels, a plurality of second sub-pixels and a plurality of third sub-pixels, and the plurality of sub-pixels are arranged as a plurality of first sub-pixel groups and a plurality of second sub-pixel groups alternately arranged along a first arrangement direction, the first sub-pixel group includes the first sub-pixels and the second sub-pixels alternately arranged along a second arrangement direction, the second sub-pixel group includes the third sub-pixels arranged along the second arrangement direction, and the first arrangement direction intersects with the second arrangement direction; the first sub-pixel group and the second sub-pixel group are staggered in the second arrangement direction, and each first sub-pixel in at least part of the first sub-pixels is surrounded by eight sub-pixels, and the eight sub-pixels include the second sub-pixels and the third sub-pixels alternately arranged.
  • a display substrate is provided according to at least one embodiment of the present disclosure, and the display substrate includes: a first area, a second area and a third area, the first area is configured for display, at least part of the multiple sub-pixels are located in the first area; the first area is located on at least one side of the second area; the third area is located between the first area and the second area, wherein the display substrate includes at least one second limiting structure located in the third area, the orthographic projection of the second limiting structure on the base substrate is annular and surrounds the second area, the material of the second limiting structure is the same as the material of the first limiting structure, and at least one film layer in the light-emitting functional layer is separated by an edge portion of the second limiting structure that does not overlap with the pixel limiting portion.
  • the plurality of openings in the pixel defining layer include a third opening, the third opening is located in the third region, and is configured to
  • the at least one second defining structure is configured to expose at least a portion of the second defining structure, wherein the at least one second defining structure includes at least one of a first sub-defining structure and a second sub-defining structure, the first sub-defining structure is completely exposed by the third opening, the second sub-defining structure includes a third portion overlapping with the pixel defining portion and a fourth portion exposed by the third opening, and the fourth portion of the second sub-defining structure is configured to isolate the at least one layer of the light-emitting functional layer.
  • the display substrate further includes a third defining structure, the third defining structure is located in the third region, and the third defining structure is located between the second defining structure and the second region, the pixel defining portion is located on a side of the third defining structure away from the second region, and the third defining structure is configured to isolate at least one film layer of the light-emitting functional layer.
  • a surface edge of at least one of the first defining structure, the second defining structure and the third defining structure away from the base substrate protrudes relative to a surface edge close to the base substrate.
  • the first portion of the first limiting structure is covered by the pixel limiting portion, the area of the light-emitting area of the third sub-pixel is smaller than the area of the light-emitting area of the second sub-pixel, and the distance between the second opening located between the second sub-pixel and the third sub-pixel and the light-emitting area of the third sub-pixel is not less than the distance between the second opening and the light-emitting area of the second sub-pixel.
  • the maximum size of a cross-section of the first limiting structure located between the adjacent sub-pixels cut by a plane is a first size
  • the maximum size of a cross-section of the first part of the first limiting structure cut by the plane is a second size
  • the second size is not less than 1/2 of the first size
  • the plane is parallel to the arrangement direction of the adjacent sub-pixels
  • the plane is perpendicular to the base substrate.
  • the length of the second opening in the extension direction thereof is not equal to the length of the first limiting structure in the extension direction thereof.
  • the length of the second opening in its extension direction is equal to the length of the first limiting structure in its extension direction, and the first distance is not equal to the second distance.
  • the display substrate provided by the second opening is The maximum dimension of the cross section cut by the plane in the arrangement direction of the adjacent sub-pixels is no greater than 10 micrometers.
  • the length of the second opening in the extension direction thereof is no more than 50 micrometers.
  • the distance between the first limiting structure and the first electrode of the sub-pixel is no more than 15 micrometers.
  • Another embodiment of the present disclosure provides a display panel, comprising any of the above-mentioned display substrates.
  • Yet another embodiment of the present disclosure provides a display device, comprising any of the above-mentioned display substrates.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of a partial planar structure of a display substrate provided in at least one embodiment of the present disclosure.
  • FIG2 is a schematic diagram of a partial cross-sectional structure taken along line AA’ shown in FIG1 .
  • FIG3 is a schematic diagram of the partial cross-sectional structure taken along line BB’ shown in FIG1 .
  • FIG. 5 is a schematic diagram of a partial planar structure of another display substrate provided by at least one embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 8 is a plan view of yet another display substrate provided by at least one embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 9 is a partial cross-sectional schematic diagram taken along line W1 - W1 ′ shown in FIG. 8 .
  • FIG. 10 is a partial cross-sectional schematic diagram of yet another display substrate provided by at least one embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 11 is a partial cross-sectional schematic diagram of yet another display substrate provided by at least one embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 12 is a schematic diagram of a partial planar structure provided according to an example of an embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 15 is a schematic diagram of a partial planar structure of a display substrate provided according to another example of an embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 31 is a schematic block diagram of a display device according to another embodiment of the present disclosure.
  • the features such as “parallel”, “vertical” and “same” used in the embodiments of the present disclosure include the features such as “parallel”, “vertical”, “same” in the strict sense, and “approximately parallel”, “approximately vertical”, “approximately the same” and other situations containing certain errors, taking into account the measurement and the errors related to the measurement of a specific amount (for example, the limitations of the measurement system), indicating the acceptable deviation range for a specific value determined by ordinary technicians in the field. For example, “approximately” can be expressed within one or more standard deviations, or within 10% or 5% of the value.
  • the component can be one or more, or can be understood as at least one. "At least one" refers to one or more, and “multiple” refers to at least two.
  • Tandem technology is to stack the light-emitting layers of sub-pixels in series, and set a whole charge generation layer between the stacked light-emitting layers, such as a P-type doped charge generation layer P-CGL and an N-type doped charge generation layer N-CGL.
  • a display substrate without a Tandem device the two light-emitting layers in the Tandem device are connected in series, so that dual light-emitting devices can be connected in series. Under the same light-emitting intensity, the light-emitting current of the light-emitting device is greatly reduced, the life of the organic light-emitting element is increased, and the power consumption is reduced.
  • the inventors of the present application found that: since the two light-emitting layers in the Tandem device are connected in series, higher requirements are placed on materials and evaporation, etc.; and, the electrical conductivity of the charge generation layer in the Tandem device is relatively large, and the charge generation layer of two adjacent sub-pixels is a continuous film layer, and there is a phenomenon of lateral charge migration, which easily causes crosstalk between adjacent sub-pixels, resulting in color deviation of the display substrate.
  • a support structure for supporting a mask is provided in the display substrate (usually located between adjacent sub-pixels)
  • the morphology of the pixel defining portion has a greater impact on the support structure.
  • the pixel defining portion may include a pixel opening and a defined opening for forming an isolation structure, etc.
  • the slope angle, thickness and other factors of the pixel defining portion at each opening may affect the morphology of the adjacent support structure, for example, the support structure may be tilted, the thickness may be uneven, etc., thereby destroying the support effect.
  • At least one embodiment of the present disclosure provides a display substrate, including: a base substrate, a plurality of sub-pixels, a pixel defining layer, at least one first defining structure and at least one supporting structure, wherein the plurality of sub-pixels are located on the base substrate, each sub-pixel includes a light-emitting functional layer, and the light-emitting functional layer includes a plurality of film layers;
  • the pixel defining layer includes a plurality of openings and a pixel defining portion surrounding the plurality of openings, the plurality of openings include a plurality of first openings and a plurality of second openings, the first openings are configured to define a light-emitting area of the sub-pixels, at least a portion of at least one layer of the light-emitting functional layer located in the first openings is a continuous portion, and at least a portion located in the second openings is isolated;
  • the first defining structure includes a first portion overlapping with the pixel defining portion and a second
  • the hole injection layer, the hole transport layer, the electron transport layer, the electron injection layer, the charge generation layer 133, and the second electrode 120 are all common film layers of multiple sub-pixels 10, which can be called common layers.
  • the thickness of each film layer shown in FIG2 is only for the purpose of clearly illustrating each film layer, and does not represent the actual size.
  • the second opening 220 of the pixel defining layer 200 is located between adjacent sub-pixels 10 , for example, the orthographic projection area of the second opening 220 on the base substrate 01 is smaller than the orthographic projection area of the first opening 210 on the base substrate 01 .
  • the orthographic projection of the support structure 400 on the substrate 01 is aligned with the first limit.
  • the minimum distance between the orthographic projections of the fixed structure 300 on the substrate 01 is the first distance L1
  • the minimum distance between the orthographic projection of the support structure 400 on the substrate 01 and the orthographic projection of the second opening 220 on the substrate 01 is the second distance L2.
  • Both the first distance L1 and the second distance L2 are greater than 0 microns and less than 10 microns.
  • the support structure 400 may be located between two adjacent first openings 210 and between two adjacent second openings 220.
  • a plurality of second openings 210 may surround the support structure 400.
  • the first distance L1 greater than 0 ⁇ m and less than 10 ⁇ m
  • a portion of the pixel defining portion 230 may be located between the support structure 400 and the first defining structure 300, and the thickness uniformity of the pixel defining portion 230 may be maintained in the portion.
  • the influence of the second opening 220 on the morphology of the pixel defining portion 230 may be reduced, for example, the thickness of the pixel defining portion 230 may be uniform, and the surface of the portion of the pixel defining portion 230 that overlaps with the support structure 400 and is away from the base substrate 01 may have good flatness, thereby facilitating the stable arrangement of the support structure 400 and reducing the risk of tilting or position displacement of the support structure 400.
  • the first part of the first limiting structure overlaps with the pixel limiting part, and the second part can isolate at least one film layer in the light-emitting functional layer, so as to ensure the electrode flatness of the sub-pixel and a good light output effect while reducing the risk of crosstalk between adjacent sub-pixels;
  • the pixel limiting part and the supporting structure can both have good morphology, which is conducive to the supporting structure having a good mask supporting effect, and has a lower impact on the process and production capacity.
  • both the first distance L1 and the second distance L2 are not less than 2 microns.
  • Both the first distance L1 and the second distance L2 may be not less than 3 microns, 4 microns, 5 microns, 7 microns or 9 microns, or may be any other value between 2 microns and 10 microns, which are not listed here.
  • Such a setting can effectively reduce the influence of the second opening 220 and the first limiting structure 300 on the morphology of the pixel defining portion 230, which is conducive to the stable setting of the support structure 400 and reduces the risk of tilting or position displacement of the support structure 400.
  • the straight-line distance between any two points on the edge of the cross section of the support structure 400 cut by a plane parallel to the substrate 01 is not greater than 20 microns.
  • the straight-line distance is the length of the straight line segment between the two points on the edge of the cross section of the support structure 400. degrees.
  • the support structure 400 may be cylindrical, and the shapes of the multiple cross sections of the support structure 400 cut by multiple planes parallel to the substrate 01 may be different.
  • the cross section of the support structure 400 cut by a plane parallel to the substrate 01 is circular, so that the maximum value of the straight-line distance between any two points on the edge of the above cross section of the support structure 400 is the diameter of the circle.
  • the maximum value of the straight-line distance between any two points on the edge of the above cross section of the support structure 400 is equal to the size of the major axis of the ellipse.
  • the embodiments of the present disclosure do not limit the shape of the above cross section corresponding to the support structure 400, for example, it may also be a polygon or other shapes.
  • the straight-line distance between any two points on the edge of the above-mentioned cross section of the support structure 400 can be as large as possible, for example, it can be 10 to 20 microns, 15 to 18 microns or 18 to 19 microns, and the embodiments of the present disclosure are not limited to this.
  • the support structure 400 may be made of positive photoresist.
  • positive photoresist refers to a photoresist in which the portion exposed to light undergoes degradation reaction and can be dissolved by a developer, and the pattern of the remaining non-exposed portion is consistent with the pattern of the mask.
  • the plurality of sub-pixels 10 in the display substrate include a plurality of first sub-pixels 101, a plurality of second sub-pixels 102, and a plurality of third sub-pixels 103.
  • the plurality of sub-pixels 10 are arranged as a plurality of first sub-pixel groups 0010 and a plurality of second sub-pixel groups 0020 alternately arranged along a first arrangement direction X.
  • the first sub-pixel group 0010 includes first sub-pixels 101 and second sub-pixels 102 alternately arranged along a second arrangement direction Y.
  • the second sub-pixel group 0020 includes third sub-pixels 103 arranged along the second arrangement direction Y.
  • the emission colors of the first sub-pixel 101, the second sub-pixel 102, and the third sub-pixel 103 are different.
  • the first sub-pixel 101 may be a red sub-pixel emitting red light
  • the second sub-pixel 102 may be a blue sub-pixel emitting blue light
  • the third sub-pixel 103 may be a green sub-pixel emitting green light, but the embodiments of the present disclosure are not limited thereto, and the emission colors of the first sub-pixel 101, the second sub-pixel 102, and the third sub-pixel 103 may be interchangeable.
  • the third sub-pixel 103 is further away from the second opening 220 located between the second sub-pixel 102 and the third sub-pixel 103 than the second sub-pixel 102 adjacent thereto.
  • the distance between the second opening 220 located between the second sub-pixel 102 and the third sub-pixel 103 and the light-emitting region of the third sub-pixel 103 is not less than the distance between the second opening 220 and the light-emitting region of the second sub-pixel 102.
  • the thickness of the pixel defining portion 230 between the first opening 210 corresponding to the second sub-pixel 102 and the adjacent second opening 220 may be smaller, so that the pixel defining portion 230 cannot form a good slope angle at the first opening 210 according to the design requirements, thereby affecting the light emitting effect of the third sub-pixel 103.
  • U1 not less than U2
  • the light emitting area of the first sub-pixel 101 is larger than that of the third sub-pixel 103.
  • the area of the light-emitting area is such that the distance between the second opening 220 located between the first sub-pixel 101 and the third sub-pixel 103 and the light-emitting area of the first sub-pixel 101 is not greater than the distance between the second opening 220 and the light-emitting area of the third sub-pixel 103, thereby facilitating that the portion of the pixel defining portion 230 located between the first opening 210 corresponding to the third sub-pixel 103 and the second opening 220 located between the third sub-pixel 103 and the first sub-pixel 101 has a good morphology, for example, being able to maintain a sufficient thickness and form a good slope angle, so as to improve the light-emitting effect of the third sub-pixel 103.
  • the portion of the light-emitting functional layer 130 located on the second portion 320 of the first limiting structure 300 includes a flat portion, so that the light-emitting functional layer 130 can make a smooth transition on the second portion 320, thereby reducing the impact on the flatness of the portion of the light-emitting functional layer 130 located in the first opening 210, thereby ensuring a good light-emitting effect.
  • the orthographic projection of the first limiting structure 300 on the substrate 01 is approximately a first strip 3101, and the first portion 310 of the first limiting structure 300 is substantially a first strip 3101 on the substrate 01.
  • the orthographic projection on the plate 01 is roughly the second strip 3102.
  • the second strip 3102 is a part of the first strip 3101.
  • the maximum width of the second strip 3102 is not greater than 1/2 of the maximum width of the first strip 3101.
  • the maximum width of the second strip 3102 is M1
  • the maximum width of the first strip 3101 is M1+M2.
  • the second sub-pixel 102 in the first arrangement direction X, is provided with a second opening 220 on both sides opposite to each other in the first arrangement direction X, and the second opening 220 located between the first sub-pixel 101 and the second sub-pixel 102 is closer to the light-emitting area 010 of the second sub-pixel 102, and farther from the light-emitting area 010 of the first sub-pixel 101.
  • the first portion 310 of the first limiting structure 300 covers the pixel defining portion 230, and at least a portion of the side surface 311 of the first portion 310 of the first limiting structure 300 away from the second portion 320 thereof has a slope angle ⁇ with the first surface 312 of the first portion 310 close to the substrate 01, and the angle between at least a portion of the side surface 311 and a portion of the first surface 312 close to the second portion 320 is less than 90 degrees, for example, it can be 50 to 70 degrees, 60 to 80 degrees, 70 to 85 degrees or other angles less than 90 degrees, which are not listed here one by one, so that the slope angle ⁇ is a "positive slope angle".
  • the side surface 311 of the first portion 310 is inclined toward the direction close to the second portion 320, and the slope angle ⁇ is the above-mentioned "positive slope angle".
  • the maximum dimension of a cross section of a first limiting structure 300 located between the adjacent sub-pixels 10 cut by a plane is a first dimension N1+N2
  • the maximum dimension of a cross section of a first portion 310 of the first limiting structure 300 cut by the plane is a second dimension N1
  • the second dimension N1 is not less than 1/2 of the first dimension N1+N2, and is not greater than 10 microns
  • the above-mentioned plane is parallel to the arrangement direction (for example, direction Q) of the adjacent sub-pixels 10, and the plane is perpendicular to the substrate 01.
  • the orthographic projection of the first limiting structure 300 on the base substrate 01 is approximately a first strip
  • the orthographic projection of the first portion 310 of the first limiting structure 300 on the base substrate 01 is approximately a second strip
  • the maximum width of the first strip is N1+N2
  • the maximum width of the second strip is N1
  • N1 is not less than 1/2 of N1+N2, and not greater than 10 microns.
  • N1 is not less than N2.
  • Such a configuration is conducive to enhancing the adhesion between the first portion of the first limiting structure and the pixel limiting portion, and is conducive to the first portion having good thickness uniformity, and is conducive to the second portion having a strong isolation ability for the light-emitting functional layer.
  • FIG. 8 is a plan view of yet another display substrate provided by at least one embodiment of the present disclosure
  • FIG. 9 is a partial cross-sectional schematic view taken along line W1 - W1 ′ shown in FIG. 8 .
  • the second area A2 can be located at the top middle position of the substrate.
  • the third area A3 is located between the first area A1 and the second area A2, for example, the third area A3 can be used as a transition zone.
  • the structures of the substrate described in the above embodiments (for example, the first limiting structure) are all located in the first area A1.
  • the pixel defining portion 230 is not provided in the third area A3, and at least part of the light-emitting functional layer 130 is provided on the side of the second limiting structure 500 away from the base substrate 01 and is separated by the second limiting structure 500.
  • the edge of the second limiting structure 500 close to the first area A1 and the edge close to the second area A2 are both configured to separate at least one layer of the light-emitting functional layer 130, so that the risk of crosstalk can be further reduced.
  • the difference between the display substrate shown in FIG. 11 and the display substrate shown in FIG. 10 is that the pixel defining portion 230 in the third area A3 is different, and the rest of the structures are the same.
  • the pixel defining portion 230 in the third area A3 is different, and the rest of the structures are the same.
  • the edge of the surface of at least one of the first limiting structure 300, the second limiting structure 500 and the third limiting structure 600 away from the substrate substrate 01 is protruding relative to the edge of the surface close to the substrate substrate 01.
  • at least a portion of the surface of at least one of the first limiting structure 300, the second limiting structure 500 and the third limiting structure 600 away from the substrate substrate 01 is parallel to the substrate substrate, and the edge of the surface exceeds the edge of the surface of at least one of the first limiting structure 300, the second limiting structure 500 and the third limiting structure 600 close to the substrate substrate 01.
  • such a setting can facilitate the formation of an "undercut" structure, which is conducive to isolating at least one layer of the light-emitting functional layer 130.
  • the shape of the cross section of at least one of the first limiting structure 300, the second limiting structure 500 and the third limiting structure 600 cut along the plane parallel to the arrangement direction of two adjacent sub-pixels 10 of different colors (the third sub-pixel 103 and the second sub-pixel 102 shown in FIG11) and perpendicular to the substrate substrate 01 is a trapezoid.
  • the first limiting structure 300, the second limiting structure 500, and the third limiting structure 600 can be made of the same material, for example, negative photoresist, which is not limited in the embodiments of the present disclosure.
  • the first limiting structure 300, the second limiting structure 500, and the third limiting structure 600 can be made by the same process, which is conducive to simplifying the process.
  • the structures of the first limiting structure 300, the second limiting structure 500, and the third limiting structure 600 can be different, for example, the sizes of the first limiting structure 300, the second limiting structure 500, and the third limiting structure 600 in the direction Z can be different, which is not limited in the embodiments of the present disclosure.
  • the display panel may also include a display substrate (for example, a display substrate on which the package is mounted)
  • the display panel may further include a color filter, for example, the color filter may be located on a side of the EES away from the display substrate, but is not limited thereto.
  • the color intensity of the light may be enhanced by providing the color filter.
  • the display panel may further include other film layers, which are not limited in the embodiments of the present disclosure.
  • Another embodiment of the present disclosure provides a display device, which includes any of the above display substrates. Therefore, the technical effects of the above display substrates can also be embodied in the display device, which will not be described in detail here.
  • the display device further includes a cover plate located on the light emitting side of the display substrate.
  • the display device may be a display device such as an organic light emitting diode display device, as well as any product or component with a display function, such as a television, digital camera, mobile phone, watch, tablet computer, laptop computer, navigator, etc., which includes the display device, but the present embodiment is not limited thereto.
  • a display device such as an organic light emitting diode display device
  • any product or component with a display function such as a television, digital camera, mobile phone, watch, tablet computer, laptop computer, navigator, etc., which includes the display device, but the present embodiment is not limited thereto.
  • the Tandem device uses a stacked light-emitting layer, which puts forward higher requirements on materials and evaporation; on the other hand, the conductivity of the charge generation layer in the Tandem device is relatively large.
  • the charge generation layer is a whole-surface film layer
  • the charge generation layer of two adjacent sub-pixels is a continuous film layer, and there is a lateral charge migration phenomenon, which causes the display substrate to shift in low grayscale monochrome chromaticity, such as easily causing crosstalk between adjacent sub-pixels, resulting in color deviation of the display substrate.
  • the charge generation layer easily causes crosstalk between sub-pixels of different colors at low brightness, thereby causing low grayscale color deviation.
  • the embodiments of the present disclosure provide a display substrate and a display device.
  • the display substrate includes a base substrate, a plurality of sub-pixels located on the base substrate, a pixel defining pattern, and a defining structure.
  • Each sub-pixel in at least some of the sub-pixels includes a light-emitting functional layer, and the light-emitting functional layer includes a plurality of film layers;
  • the pixel defining pattern includes a plurality of openings and a pixel defining portion surrounding the plurality of openings, and at least a portion of at least one layer of the light-emitting functional layer is blocked in at least one opening;
  • the defining structure is located between the pixel defining portion and the base substrate.
  • the defining structure is located at least between two adjacent sub-pixels of different colors, and the defining structure includes a A first portion covered by a pixel defining portion and a second portion exposed by an opening, the second portion of the defining structure being configured to isolate at least one layer of a light-emitting functional layer; the material of the defining structure comprises an organic material, and the orthographic projection of an edge of a side of the second portion of the defining structure away from a side of the substrate falls within the orthographic projection of the opening on the substrate.
  • the first light-emitting layer 131 and the second light-emitting layer 132 may be light-emitting layers that emit the same color of light.
  • the first light-emitting layer 131 in the sub-pixel 10 that emits light of different colors emits light of different colors.
  • the second light-emitting layer 132 in the sub-pixel 10 that emits light of different colors emits light of different colors.
  • the embodiments of the present disclosure are not limited thereto.
  • the first light-emitting layer 131 and the second light-emitting layer 132 may be light-emitting layers that emit light of different colors.
  • the lengths of the first bottom edge 301 and the second bottom edge 302 are both no greater than 10 micrometers.
  • the lengths of the first bottom edge 301 and the second bottom edge 302 are both greater than 1 micrometer.
  • the lengths of the first bottom edge 301 and the second bottom edge 302 are both greater than 2 microns.
  • the length of the first bottom edge 301 is greater than 5 microns.
  • the length of the second bottom edge 302 is less than 8 microns.
  • the lengths of the first bottom edge 301 and the second bottom edge 302 are both greater than 3 microns.
  • the first bottom edge 301 and the second bottom edge 302 can be any value between greater than 0 and less than 10 microns, which will not be listed one by one here.
  • the surface of the second part 320 of the defining structure 300 that is away from the substrate substrate 01 protrudes relative to the surface of the side close to the substrate substrate 01, and the protruding size is not greater than 5 microns.
  • the surface of the second part 320 of the defining structure 300 that is away from the substrate substrate 01 is the upper surface
  • the surface of the second part 320 of the defining structure 300 that is close to the substrate substrate 01 is the lower surface.
  • the size of the protrusion of the edge of the upper surface relative to the edge of the lower surface can be 1 micron, or 2 microns, or 3 microns, or 4 microns.
  • the size of the protrusion of the edge of the upper surface relative to the edge of the lower surface can be any value between greater than 0 and less than 5 microns, which will not be listed one by one here.
  • the distance between the orthographic projection of the edge of the first surface and the orthographic projection of the edge of the second surface is not greater than 4 microns, or not greater than 3 microns, or not greater than 2 microns, etc.
  • the distance between the orthographic projection of the edge of the first surface and the orthographic projection of the edge of the second surface can be any value between greater than 0 and less than 5 microns, which will not be listed one by one here.
  • the thickness of the defining structure 300 is greater than 1 micron.
  • the thickness of the defining structure 300 may be 1.5 to 2 microns.
  • the thickness of the defining structure 300 is not greater than 4.5 microns.
  • the thickness of the defining structure 300 is not greater than 4 microns.
  • the thickness of the defining structure 300 is not greater than 3.5 microns.
  • the thickness of the defining structure 300 is not greater than 3 microns.
  • the thickness of the defining structure 300 is not greater than 2.5 microns.
  • the thickness of the defining structure 300 provided in the embodiment of the present disclosure may be greater than 100 microns. Any value between 0 and less than 5 microns is not listed here one by one.
  • the thickness of the defining structure 300 is greater than the thickness of the first electrode 110, and the thickness of at least a portion of the pixel defining portion 230 that does not overlap the defining structure 300 in a direction perpendicular to the base substrate 01 is greater than the thickness of the defining structure 300.
  • the distance between the surface of the side away from the substrate substrate 01 at the overlapping position of the pixel defining portion 230 and the limiting structure 300 and the substrate substrate 01 is H1
  • the distance between the surface of the side away from the substrate substrate 01 at the non-overlapping position of the pixel defining portion 230 and the limiting structure 300 and the substrate substrate 01 is H2 or H3, and both H2 and H3 are smaller than H1.
  • the difference between H1 and H2 is not greater than 5 microns.
  • the difference between H1 and H3 is not greater than 5 microns.
  • the thickness of the overlapping position of the pixel defining portion 230 and the defining structure 300 can be 2-3 microns, such as 2.5-2.8 microns, such as 2.735 microns.
  • the thickness of the pixel defining portion 230 can be 1.1-1.5 microns, such as 1.217 microns, and the thickness of the defining structure 300 can be 1.3-1.7 microns, such as 1.518 microns.
  • the orthographic projection of the defining structure 300 on the base substrate 01 does not overlap with the orthographic projection of the first opening 210 on the base substrate 01, and the second opening 220 exposes the second portion 320 of the defining structure 300.
  • the defining structure 300 is only exposed by the second opening 220 of the pixel defining pattern 200, and the second portion 320 of the defining structure 300 exposed by the second opening 220 cuts off at least one layer of the light-emitting functional layer 130, such as the charge generation layer, or the charge generation layer and all film layers on the side facing the base substrate 01, such as all film layers in the light-emitting functional layer 130.
  • the second electrode 120 is cut off at the edge of the defining structure 300 exposed by the second opening 220.
  • the portion of the defining structure 300 not covered by the pixel defining portion 230, such as the second portion 320, has a size in the extension direction of the AA’ line on the side of the surface away from the base substrate 01 that is not greater than 10 microns.
  • the distance between the limiting structure 300 and the first electrode 110 closest to it refers to the distance between the bottom edge of the limiting structure 300 close to the substrate 01 and the first electrode 110.
  • the distance between the first electrode 110 and the limiting structure 300 needs to be considered to ensure that the limiting structure 300 does not affect the light output effect of the sub-pixel 10.
  • the insulating layer 03 may be a flat layer.
  • the distance between the defining structure 300 and the first electrode 110 is greater than 1 micron.
  • the distance between the defining structure 300 and the first electrode 110 is not greater than 9 microns.
  • the distance between the defining structure 300 and the first electrode 110 may be 2 to 8 microns.
  • the distance between the defining structure 300 and the first electrode 110 may be any value greater than 0 and less than 10 microns, which will not be listed one by one here.
  • the first electrode 110 when the limiting structure 300 is spaced apart from the first electrode 110 , the first electrode 110 may be patterned first and then the limiting structure 300 may be patterned to prevent the flatness of the first electrode 110 from being affected; or the limiting structure 300 may be patterned first and then the first electrode 110 may be patterned to ensure the contour of the first opening 210 of the pixel limiting pattern 200 .
  • the portion of the defining structure 300 located between two adjacent sub-pixels 10 of different colors includes at least one sub-definition structure 330.
  • the defining structure 300 includes a plurality of sub-definition structures 330, and at least one sub-definition structure 330 is disposed between two adjacent sub-pixels 10 of different colors.
  • the display substrate shown in FIG12 schematically shows that one sub-definition structure 330 is disposed between two adjacent sub-pixels 10 of different colors.
  • two adjacent sub-pixels 10 of different colors include a first color sub-pixel 101 and a second color sub-pixel 102 .
  • the first color sub-pixel 101 includes a red sub-pixel or a green sub-pixel
  • the second color sub-pixel 102 includes a blue sub-pixel.
  • FIG12 schematically shows that the first color sub-pixel 101 is a green sub-pixel
  • the second color sub-pixel 102 is a blue sub-pixel.
  • the plurality of sub-pixels 10 further include a third color sub-pixel 103
  • the third color sub-pixel 103 is a red sub-pixel.
  • the disclosed embodiments are not limited thereto, and the colors of the first color sub-pixel 101, the second color sub-pixel 102, and the third color sub-pixel 103 can be interchanged.
  • the area of the light-emitting region 010 of a blue sub-pixel is larger than the area of the light-emitting region 010 of a red sub-pixel, and the area of the light-emitting region 010 of a red sub-pixel is larger than the area of the light-emitting region 010 of a green sub-pixel.
  • a strip-shaped sub-defining structure 330 is disposed between the first color sub-pixel 101 and the third color sub-pixel 103.
  • the shape of the light-emitting area 010 of the first color sub-pixel 101 is a quadrilateral, such as including two long sides parallel to each other and two short sides parallel to each other, and the two long sides and the two short sides are sequentially connected end to end.
  • the strip-shaped sub-defining structure 330 is located on one side of the long side of the light-emitting area 010 of the first color sub-pixel 101, such as the strip-shaped sub-defining structure 330 is disposed parallel to the long side of the light-emitting area 010 of the first color sub-pixel 101.
  • the long side of the second strip-shaped opening 220 is parallel to the side of the first opening 210 that is closest to it.
  • the first opening 210 that is closest to the long side of the second strip-shaped opening 220 is the first opening 210 that exposes the first electrode 110 of the first color sub-pixel 101 or the second color sub-pixel 102
  • the long side of the second strip-shaped opening 220 is parallel to the side of the first opening 210.
  • the sides of the light-emitting regions 010 of the first color sub-pixel 101 and the second color sub-pixel 102 adjacent thereto are arranged in parallel, and the long side of the second opening 220 located between the adjacently arranged first color sub-pixel 101 and the second color sub-pixel 102 is parallel to the sides of the light-emitting regions 010 of the two color sub-pixels.
  • the orthographic projection of the strip sub-defining structure 330 located between the first color sub-pixel 101 and the second color sub-pixel 102 on the substrate substrate 01 overlaps with the orthographic projection of the first electrode 110 of at least one of the first color sub-pixel 101 and the second color sub-pixel 102 on the substrate substrate 01.
  • the number of second openings 220 for exposing the annular sub-defining structure 330 surrounding the same third color sub-pixel 103 is four, each second opening 220 is in the shape of a long strip, and the long sides of the four second openings 220 are respectively parallel to the four sides of the quadrilateral light-emitting area 010 of the third color sub-pixel 103.
  • the four second openings 220 surrounding the third color sub-pixel 103 are The length of the long side is greater than the side length of the light emitting area 010 of the third color sub-pixel 103.
  • the four second openings 220 surrounding the third color sub-pixel 103 are all located between the third color sub-pixel 103 and the first color sub-pixel 101.
  • FIG. 14 is a partial enlarged view of the display substrate shown in FIG. 12 .
  • the distances between the four sides of the light-emitting area 010 of the third color sub-pixel 103 and the edge of the annular sub-defining structure 330 exposed by the second opening 220 are respectively a, b, c, and d, such as the value ranges of a, b, c, and d include: 0 ⁇ a ⁇ 20 ⁇ m, 0 ⁇ b ⁇ 20 ⁇ m, 0 ⁇ c ⁇ 20 ⁇ m, and 0 ⁇ d ⁇ 20 ⁇ m.
  • a, b, c, and d can be equal, or at least one can be different from the other three.
  • the distances between the above-mentioned annular sub-defining structure 330 and the light-emitting areas 010 of the four first color sub-pixels 101 surrounding it are respectively a', b', c', and d', such as the value ranges of a', b', c', and d' include: 0 ⁇ a' ⁇ 20 ⁇ m, 0 ⁇ b' ⁇ 20 ⁇ m, 0 ⁇ c' ⁇ 20 ⁇ m, and 0 ⁇ d' ⁇ 20 ⁇ m.
  • the first color sub-pixel 101 is provided with a long strip-shaped sub-defining structure 330 only on one side of the long side of its light-emitting area 010, and the distances between the long side of the light-emitting area 010 of the first color sub-pixel 101 and the two long strip-shaped sub-defining structures 330 adjacent thereto are e and f, respectively, and the value ranges of e and f include: 0 ⁇ e ⁇ 20 ⁇ m, 0 ⁇ f ⁇ 20 ⁇ m.
  • e and f may be equal or unequal.
  • the second opening 220 can be a groove located between the sub-pixels 10 in the pixel defining pattern 200.
  • the width of the defining structure 300 needs to consider the width of the second opening 220, and the width of the second opening 220 needs to consider the distance between the light-emitting areas 010 of adjacent sub-pixels 10.
  • the width of the second opening 220 is g, and the value range of g includes: 0 ⁇ g ⁇ 20 ⁇ m.
  • the widths of the second openings 220 at different positions can be equal.
  • the width of the sub-defining structure 330 can be h, and the value range of h includes: 0 ⁇ h ⁇ 5 ⁇ m.
  • the overlapping width of the second opening 220 and the sub-defining structure 330 needs to consider the partition effect of the material of the light-emitting functional layer 130, such as the overlapping width is between 0 and h.
  • At least one sub-definition structure 330 includes a sub-definition structure 330, and an edge of a first portion 310 of the sub-definition structure 330 is closer to an edge of the light-emitting region 010 of the first color sub-pixel 101.
  • a sub-definition structure 330 is disposed between the first color sub-pixel 101 and the second color sub-pixel 102, and a distance between the sub-definition structure 330 and the light-emitting region 010 of the first color sub-pixel 101 is smaller than a distance between the sub-definition structure 330 and the light-emitting region 010 of the second color sub-pixel 102.
  • a sub-definition structure 330 is provided, and the sub-definition structure 330 is closer to the third color sub-pixel 103 .
  • the edge of the second portion 320 of the limiting structure 300 plays the role of separating the light-emitting functional layer 130.
  • the edge is set closer to the red sub-pixel, which can maximize the separation effect of the red sub-pixel, but is not limited to this.
  • the edge can also be set closer to the green sub-pixel.
  • FIG. 12 schematically shows that the edge of the limiting structure 300 that plays the role of separating the light-emitting functional layer 130 is located between the blue sub-pixel and the green sub-pixel, which is closer to the green sub-pixel, but is not limited to this.
  • the edge can also be closer to the blue sub-pixel.
  • the annular sub-defining structure 330 surrounding the red sub-pixel can also be set to have a strip-shaped sub-defining structure 330 located on both sides of the green sub-pixel.
  • the strip-shaped sub-defining structure 330 located on both sides of the green sub-pixel can also be set as a sub-defining structure 330 with an annular shape.
  • the second opening 220 cannot be set as a closed annular structure surrounding any one of the light-emitting areas 010.
  • the number of the second openings 220 surrounding any one of the light-emitting areas 010 can be multiple, and they are arranged at intervals.
  • the size of the second opening 220 is related to the process.
  • two sub-definition structures 330 closest to the same sub-pixel 10 are disposed on both sides opposite to each other, and one of the two sub-definition structures 330 is a structure that is rotationally symmetrical with respect to the center of the light-emitting area 010 of the same sub-pixel 10.
  • the two sub-definition structures 330 on both sides of the long side of the light-emitting area 010 of the first color sub-pixel 101 can be symmetrically distributed with respect to the center line of the light-emitting area 010 extending along the extension direction of the long side thereof, so as to improve the symmetry of the pixel defining portion 230.
  • one of the two sub-definition structures 330 rotates 180 degrees around the center of the light-emitting area 010 and then overlaps with the other sub-definition structure 330.
  • the above symmetrical design can make the partition effect in a specific direction more symmetrical, and on the other hand, when the above symmetrically arranged sub-definition structures play the role of supporting the mask, it is beneficial to improve the uniformity of the support force of the evaporation mask.
  • the edge of the defining structure 300 is closer to the edge of the second opening 220.
  • the first portion 310 of the defining structure 300 is closer to the light emitting area 010 of the first color sub-pixel 101, such as the green sub-pixel, for example, the first portion 310 of the defining structure 300 is closer to the light emitting area 010 of the first color sub-pixel 101 than the second portion 320 of the defining structure 300.
  • the edge of the defining structure 300 is closer to the light emitting area 010 of the third color sub-pixel 103, such as the red sub-pixel, than the edge of the second opening 220, for example, the first portion 310 of the defining structure 300 is closer to the light emitting area 010 of the third color sub-pixel 103 than the second portion 320 of the defining structure 300.
  • the edge of the defining structure 300 is farther away from the second color sub-pixel 102, such as the light-emitting area 010 of the blue sub-pixel, than the edge of the second opening 220, such as the second portion 320 of the defining structure 300 is closer to the light-emitting area 010 of the second color sub-pixel 102 than the first portion 310 of the defining structure 300.
  • the data writing voltages of sub-pixels of different colors are different, resulting in low grayscale caused by the current leakage of the red sub-pixel in the blue and green sub-pixels when the image is displayed at a low grayscale.
  • the red sub-pixel crosstalks to the blue sub-pixel or the green sub-pixel. Therefore, the display substrate provided in this example can increase the channel ratio of the second electrode around the light-emitting area of the blue sub-pixel by setting the limiting structure farther away from the blue sub-pixel, improve the continuity of the second electrode, prevent the cross-voltage from increasing, and improve display uniformity.
  • Fig. 15 is a schematic diagram of a partial planar structure of a display substrate provided according to another example of an embodiment of the present disclosure.
  • the display substrate shown in Fig. 15 is different from the display substrate shown in Fig. 12 in that the relative positional relationship between the limiting structure 300, the second opening 220 and the light emitting areas 010 of the sub-pixels 10 of different colors is different.
  • the edge of the second opening 220 is closer to the light-emitting region 010 of the first color sub-pixel 101 than the edge of the defining structure 300, such as the second portion 320 of the defining structure 300 is closer to the light-emitting region 010 of the first color sub-pixel 101 than the first portion 310.
  • the edge of the second opening 220 is closer to the light-emitting region 010 of the third color sub-pixel 103 than the edge of the defining structure 300, such as the second portion 320 of the defining structure 300 is closer to the light-emitting region 010 of the third color sub-pixel 103 than the first portion 310.
  • the limiting structure 300 between the first color sub-pixel 101 and the third color sub-pixel 103 is closer to the light-emitting area 010 of the third color sub-pixel 103 so as to maximize the isolation effect of at least one layer of the light-emitting functional layer 130 of the third color sub-pixel 103 and achieve the purpose of preventing crosstalk.
  • the display substrate shown in FIG. 15 may have the same features as the other structures in the display substrate shown in FIG. 12, and will not be described in detail here.
  • the shape of the defined structure in the display substrate shown in FIG. 15 may be the same as the shape of the defined structure in the display substrate shown in FIG. 12, the shape of the second opening shown in FIG. 15 may be the same as the shape of the second opening in the display substrate shown in FIG. 12, and the shape and distribution of each light-emitting area shown in FIG. 15 may be the same as the shape and distribution of each light-emitting area in the display substrate shown in FIG. 12.
  • the difference between the display substrate shown in FIG. 16 and the display substrate shown in FIG. 12 to FIG. 14 is that the limiting structure 300 is only provided on one side of the sub-pixel 10 of the same color.
  • the limiting structure 300 may include a plurality of sub-limiting structures 330, and the plurality of sub-limiting structures 330 may be uniformly provided, or may be provided at a specific position of the display area.
  • the disclosed embodiment does not limit the position of the limiting structure, and may be provided according to product requirements.
  • the position of the limiting structure 300 is different from the position of the limiting structure 300 in the display substrate shown in FIG12 to FIG14
  • other structures in the display substrate shown in FIG16 may have the same features as the corresponding structures in the display substrate shown in FIG12 to FIG14, and will not be described in detail here.
  • the cross section of the limiting structure 300 in the display substrate shown in FIG16 may have the same features as the cross section of the limiting structure 300 in the display substrate shown in FIG12 to FIG14, and will not be described in detail here.
  • the dimension of the first electrode 110 covered by the limiting structure 300 is no greater than 5 microns.
  • the dimension of the first electrode 110 covered by the limiting structure 300 is no greater than 5 microns.
  • the dimension of the first electrode 110 covered by the limiting structure 300 is greater than 0.
  • the dimension of the first electrode 110 covered by the limiting structure 300 can be 1 micron, or 2 microns. Or 3 microns, etc.
  • the dimension of the first electrode 110 covered by the limiting structure 300 can be any value greater than 0 and less than 5 microns, which will not be enumerated here one by one.
  • one of the two sub-definition structures 330 is exposed by the first opening 210 while covering the edge of the first electrode 110, and the other of the two sub-definition structures 330 is exposed by the second opening 220, which is not only conducive to further improving the isolation effect of the light-emitting functional layer 130 and further reducing crosstalk, but also can reduce the risk of the edge of the first electrode 110 being exposed and corroded.
  • FIG. 19 is a schematic diagram of a partial planar structure of a display substrate provided according to another example of an embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 20 is a schematic diagram of a partial cross-sectional structure cut along the CC' line shown in FIG. 19. 12 is different in that the width of the defining structure 300 and the positional relationship between the defining structure 300 and the first electrode 110 are different.
  • the display substrate shown in FIG20 is different from the display substrate shown in FIG17 in that the opening 201 exposing the defining structure 300 is different.
  • the second portion 320 of the defining structure 300 is exposed only by the second opening 220 , but not by the first opening 210 .
  • the position of the limiting structure 300 is different from the positional relationship between the limiting structure 300 and the first electrode 110 in the display substrate shown in FIG12 to FIG14
  • other structures in the display substrate shown in FIG19 and FIG20 may have the same features as the corresponding structures in the display substrate shown in FIG12 to FIG14, and will not be described in detail here.
  • the cross section of the limiting structure 300 in the display substrate shown in FIG19 and FIG20 may have the same features as the cross section of the limiting structure 300 in the display substrate shown in FIG12 to FIG14, and will not be described in detail here.
  • FIG21 is a schematic diagram of a partial cross-sectional structure of a display substrate provided according to another example of an embodiment of the present disclosure.
  • the display substrate shown in FIG21 is different from the display substrate shown in FIG20 in terms of the positional relationship between the limiting structure 300 and the first opening 210 .
  • the sub-definition structure 330 includes two second portions 320 and a first portion 310 located between the two second portions 320.
  • the two second portions 320 are exposed by the first opening 210 and the second opening 220, respectively.
  • the area of the orthographic projection on the bottom substrate 01 is not greater than the area of the orthographic projection of the second portion 320 exposed by the second opening 220 on the base substrate 01 .
  • the positional relationship of the defining structure 300, the pixel defining pattern 200, and the first electrode 110 is different from the positional relationship of the defining structure 300, the pixel defining pattern 200, and the first electrode 110 in the display substrate shown in FIGS. 12 to 14, other structures in the display substrate shown in FIG21 may have the same features as the corresponding structures in the display substrate shown in FIGS. 12 to 14, and will not be described in detail here.
  • the cross section of the defining structure 300 in the display substrate shown in FIG21 may have the same features as the cross section of the defining structure 300 in the display substrate shown in FIGS. 12 to 14, and will not be described in detail here.
  • FIG22 is a schematic diagram of a partial planar structure of a display substrate provided according to another example of an embodiment of the present disclosure.
  • FIG23 is a schematic diagram of a partial cross-sectional structure cut along line DD' shown in FIG22.
  • the difference between the display substrate shown in FIG22 and the display substrate shown in FIG12 is that the shape of the limiting structure 300 surrounding the first color sub-pixel 101 is different, and the positional relationship between the limiting structure 300 surrounding the first color sub-pixel 101 and the second opening 220 is different.
  • one sub-definition structure 330 is provided between the adjacent first color sub-pixel 101 and the second color sub-pixel 102, and two sub-definition structures 330 are provided between the adjacent first color sub-pixel 101 and the third color sub-pixel 103.
  • the crosstalk between the first color sub-pixel 101 and the third color sub-pixel 103 which are prone to crosstalk, can be reduced while increasing the size of the communication channel of the second electrode 120 around the second color sub-pixel 102, thereby improving the continuity of the second electrode 120.
  • the embodiments of the present disclosure are not limited thereto, and two sub-definition structures 330 can also be provided between the first color sub-pixel 101 and the second color sub-pixel 102.
  • At least one sub-definition structure 330 between two adjacent sub-pixels includes two sub-definition structures 330 spaced apart, and the edges of the two sub-definition structures 330 facing each other are exposed by the same second opening 220, further improving the partition effect of the light-emitting functional layer 130 of the two adjacent sub-pixels 10.
  • the two second portions 320 in the two sub-definition structures 330 are close to each other.
  • the two sub-definition structures 330 are respectively two annular sub-definition structures 330 surrounding the light-emitting regions 010 of two adjacent sub-pixels of different colors.
  • the light-emitting regions 010 of the first color sub-pixel 101 and the light-emitting regions 010 of the third color sub-pixel 103 are respectively Surrounded by two annular sub-defining structures 330, the edges of the two annular sub-defining structures 330 close to each other are exposed by the same second opening 220.
  • the uniformity of the height of the pixel defining portion around the light-emitting areas of the two adjacent sub-pixels is improved.
  • Figure 22 schematically shows that the light-emitting area 010 of the first color sub-pixel 101 and the light-emitting area 010 of the third color sub-pixel 103 are both surrounded by the annular sub-defining structure 330, but is not limited to this.
  • the light-emitting area 010 of the first color sub-pixel 101 and the light-emitting area 010 of the second color sub-pixel 102 are both surrounded by the annular sub-defining structure 330, such as the light-emitting area 010 of the second color sub-pixel 102 and the light-emitting area 010 of the third color sub-pixel 103 are both surrounded by the annular sub-defining structure 330, such as the light-emitting area 010 of the first color sub-pixel 101, the light-emitting area 010 of the second color sub-pixel 102 and the light-emitting area 010 of the third color sub-pixel 103 are all surrounded by the annular sub-defining structure 330.
  • the shape of the limiting structure 300 surrounding the first color sub-pixel 101 is different, and the positional relationship between the limiting structure 300 surrounding the first color sub-pixel 101 and the second opening 220 is different from the shape of the limiting structure 300 surrounding the first color sub-pixel 101 in the display substrate shown in FIG12 to FIG14, and the positional relationship between the limiting structure 300 surrounding the first color sub-pixel 101 and the second opening 220
  • other structures in the display substrate shown in FIG22 and FIG23 may have the same features as the corresponding structures in the display substrate shown in FIG12 to FIG14, and will not be repeated here.
  • the cross section of the limiting structure 300 in the display substrate shown in FIG21 may have the same features as the cross section of the limiting structure 300 in the display substrate shown in FIG12 to FIG14, and will not be repeated here.
  • the display substrate shown in FIG. 24 and FIG. 25 is different from the display substrate shown in FIG. 12 to FIG. 14 in that the shape and position of the limiting structure 300 and the second opening 220 are different.
  • a spacer 400 is provided.
  • the display substrate further includes a spacer 400 located on a side of the pixel defining portion 230 away from the base substrate 01 , and the material of the defining structure 300 is different from the material of the spacer 400.
  • the spacer 400 PS
  • FMM Mask fine metal mask
  • the thickness of the spacer 400 is not greater than 5 microns, and the thickness of the pixel defining portion 230 is not greater than 5 microns.
  • the thickness of the spacer 400 is not greater than 4 microns, and the thickness of the pixel defining portion 230 is not greater than 4 microns.
  • the thickness of the pixel defining portion 230 is greater than 1 micron.
  • the thickness of the spacer 400 is greater than 1 micron.
  • the thickness of the overlapping portion of the pixel defining portion 230 and the limiting structure 300 may be less than the thickness of the limiting structure 300.
  • the thickness of the overlapping portion of the pixel defining portion 230 and the limiting structure 300 may be 1.1 to 1.3 microns, and the thickness of the limiting structure 300 may be 1.4 to 1.6 microns.
  • the defining structure 300 includes a plurality of defining portions 340 and a connecting portion 350 that connects at least a portion of the plurality of defining portions 340 , wherein the defining portions 340 overlap with the second opening 220 in a direction perpendicular to the base substrate 01 , and the orthographic projection of the connecting portion 350 on the base substrate 01 completely falls within the orthographic projection of the pixel defining portion 230 on the base substrate 01 ; the spacer 400 The orthographic projection on the base substrate 01 completely falls within the orthographic projection of the connecting portion 350 on the base substrate 01 .
  • the defining portion 340 is located between the adjacent first color sub-pixel 101 and the second color sub-pixel 102, or between the adjacent first color sub-pixel 101 and the third color sub-pixel 103, and the second portion 320 of the defining portion 340 is exposed by the second opening 220.
  • the connecting portion 350 may be located between four defining portions 340 and connect the four defining portions 340.
  • the defining portion 340 and the connecting portion 350 may be an integrated structure.
  • the sum of the heights of the stacked defining structures 300, the pixel defining portions 230, and the spacers 400 is no greater than 10 micrometers.
  • the sum of the heights of the stacked defining structures 300, the pixel defining portions 230, and the spacers 400 is no greater than 9 micrometers, or no greater than 7 micrometers, or no greater than 5 micrometers, etc.
  • a size of the connection portion 350 overlapping the spacer 400 in the Y direction is greater than a size of the connection portion 350 not overlapping the spacer 400 in the Y direction.
  • the defining structure 300 composed of four defining portions 340 and one connecting portion 350 may be a special-shaped defining structure 300.
  • the defining structure 300 surrounding the first color sub-pixel 101 may include two special-shaped defining structures 300 disposed at intervals, and the defining structure 300 surrounding the third color sub-pixel 103 may include two special-shaped defining structures 300 disposed at intervals.
  • the special-shaped defining structure 300 is bent toward the light-emitting area 010 of the first color sub-pixel 101.
  • the special-shaped defining structure 300 is bent toward the light-emitting area 010 of the third color sub-pixel 103.
  • the first electrode 110 of each sub-pixel includes a main electrode 111 and a connecting electrode 112, and the main electrode 111 is similar in shape to the light-emitting area 010 of the sub-pixel 10; the positive projection of the connecting electrode 112 of at least one sub-pixel on the base substrate 01 does not overlap with the positive projection of the limiting structure 300 and the opening 201 on the base substrate 01.
  • the main electrode 111 overlaps with the first opening 210 of the pixel defining pattern 200, and the connecting electrode 112 does not overlap with the first opening 210 of the pixel defining pattern 200.
  • the connecting electrode 112 is configured to be electrically connected to the light emitting control transistor in the pixel circuit.
  • a light shielding portion 113 is also included to shield certain structures in the pixel circuit from light.
  • the orthographic projections of the connecting electrodes 112 of at least some of the sub-pixels 10 on the substrate substrate 01 do not overlap with the orthographic projections of the limiting structure 300 and the opening 201 on the substrate substrate 01.
  • the orthographic projections of the connecting electrodes 112 of each sub-pixel 10 on the substrate substrate 01 do not overlap with the orthographic projections of the limiting structure 300 and the opening 201 on the substrate substrate 01.
  • the orthographic projections of the connecting electrodes 112 of at least one sub-pixel 10 on the substrate substrate 01 overlap with the orthographic projections of at least one of the limiting structure 300 and the opening 201 on the substrate substrate 01.
  • FIG. 24 and FIG. 25 schematically show that one sub-definition structure 330 is disposed between two adjacent sub-pixels 10, but it is not limited thereto, and two sub-definition structures 330 may also be disposed between two adjacent sub-pixels 10.
  • FIG. 24 and FIG. 25 schematically show that the definition structure 300 is spaced apart from the first electrode 110, but it is not limited thereto, and the definition structure 300 may also cover the edge of the first electrode 110.
  • FIG. 24 and FIG. 25 schematically show that the definition structure 300 is exposed by the second opening 220, but it is not limited thereto, and the definition structure 300 may also be exposed by the first opening 210.
  • the material of the defining structure 300 includes an organic material, and the edge of the surface of the second portion 320 of the defining structure 300 that is away from the base substrate 01 protrudes relative to the edge of the surface of the side close to the base substrate 01.
  • the angle between the side surface of the second portion 320 of the defining structure 300 and the plane where the surface of the side of the defining structure 300 that is close to the base substrate 01 is located is greater than 20 degrees and less than 90 degrees.
  • the thickness of the second portion 320 of the defining structure 300 is greater than the thickness of the pixel defining portion 230.
  • the thickness of the second portion 320 of the defining structure 300 at each position is greater than the thickness of the pixel defining portion 230.
  • the thickness of the first portion 310 of the defining structure 300 is less than the thickness of the pixel defining portion 230.
  • the dimension of the defining structure 300 covering the pixel defining portion 230 is no greater than 20 microns.
  • the dimension of the defining structure 300 covering the pixel defining portion 230 is no greater than 15 microns, or no greater than 14 microns, or no greater than 13 microns, or no greater than 10 microns, etc.
  • Fig. 31 is a schematic block diagram of a display device according to another embodiment of the present disclosure. Another embodiment of the present disclosure provides a display device, the display device comprising any one of the above-mentioned display substrates.
  • the display device further includes a cover plate located on the light emitting side of the display substrate.
  • the display device may be a display device such as an organic light emitting diode display device, as well as any product or component with a display function, such as a television, digital camera, mobile phone, watch, tablet computer, laptop computer, navigator, etc., which includes the display device, but the present embodiment is not limited thereto.
  • a display device such as an organic light emitting diode display device
  • any product or component with a display function such as a television, digital camera, mobile phone, watch, tablet computer, laptop computer, navigator, etc., which includes the display device, but the present embodiment is not limited thereto.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

一种显示基板、显示面板以及显示装置。显示基板包括子像素、像素限定层、第一限定结构以及支撑结构，像素限定层包括多个开口以及像素限定部，多个开口包括多个第一开口和多个第二开口，第一限定结构包括与像素限定部交叠的第一部分以及被第二开口暴露的第二部分，第一限定结构的第二部分被配置为隔断发光功能层的至少一层；支撑结构在衬底基板上的正投影与第一限定结构在衬底基板上的正投影之间的最小距离为第一距离，与第二开口在衬底基板上的正投影之间的最小距离为第二距离，第一距离和第二距离均大于0微米、且小于10微米，满足对发光功能层进行隔断以降低串扰的同时，使得支撑结构具有良好的形貌，并提供可靠的支撑力。

Description

显示基板、显示面板以及显示装置
本申请要求于2023年12月29日递交的专利申请第PCT/CN2023/143095号的优先权，在此出于所有目标全文引用上述专利申请公开的内容以作为本申请的一部分。
技术领域
本公开涉及一种显示基板、显示面板以及显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示装置因其具有色彩丰富、响应时间快、可折叠等优点，深受用户青睐。一种具有串联式(Tandem)结构的有机发光显示装置，通过在有机发光器件中增加至少一层发光层以及电荷产生层而提高了发光器件的寿命和亮度，且降低了功耗，从而满足用户对显示装置的功耗以及使用寿命的需求。
发明内容
本公开实施例提供一种显示基板、显示面板以及显示装置。
本公开的至少一个实施例提供一种显示基板，包括衬底基板、多个子像素、像素限定层以及至少一个第一限定结构，多个子像素位于所述衬底基板上，所述子像素包括发光功能层，所述发光功能层包括多个膜层；所述像素限定层包括多个开口以及围绕所述多个开口的像素限定部，所述多个开口包括多个第一开口和多个第二开口，所述第一开口被配置为限定所述子像素的发光区，所述发光功能层中的至少一层位于所述第一开口中的至少部分为连续的部分，且位于所述第二开口中的至少部分被隔断；所述第一限定结构包括与所述像素限定部交叠的第一部分以及被所述第二开口暴露的第二部分，所述第一限定结构的第二部分被配置为隔断所述发光功能层的所述至少一层；其中，所述显示基板还包括至少一个支撑结构，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影与所述第一限定结构在所述衬底基板上的正投影之间的 最小距离为第一距离，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影与所述第二开口在所述衬底基板上的正投影之间的最小距离为第二距离，所述第一距离和所述第二距离均大于0微米、且小于10微米。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第一距离和所述第二距离均不小于2微米。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述支撑结构的被平行于所述衬底基板的一平面所截的截面的边缘上的任意两点之间的直线距离不大于20微米。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述支撑结构的远离所述衬底基板的至少部分表面比所述像素限定部更远离所述衬底基板，所述支撑结构被平行于所述衬底基板的一平面所截的截面为圆形、椭圆形或多边形。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述支撑结构的尺寸不大于10微米。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第一限定结构的所述第一部分覆盖在所述像素限定部上，所述第一限定结构的所述第一部分的远离其第二部分的侧面的至少部分与所述第一部分的靠近所述衬底基板的第一表面之间具有坡度角，且所述侧面的所述至少部分与所述第一表面的靠近所述第二部分的部分之间的角度小于90度。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，在相邻子像素的排列方向上，位于该相邻子像素之间的所述第一限定结构被一平面所截的截面的最大尺寸为第一尺寸，且该第一限定结构的所述第一部分被所述平面所截的截面的最大尺寸为第二尺寸，所述第二尺寸不小于所述第一尺寸的1/2，且不大于10微米，所述平面平行于所述相邻子像素的所述排列方向，且所述平面垂直于所述衬底基板。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述多个子像素包括多个第一子像素、多个第二子像素以及多个第三子像素，所述第一子像素、所述第二子像素以及所述第三子像素构成重复单元，所述重复单元中的所述第一子像素与所述第二子像素在第一排列方向上依次排列，所述第一子像素与所述第二子像素在第二排列方向上位于所述第三子像素的一侧，所述 第一排列方向与所述第二排列方向相交。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第一子像素、所述第二子像素以及所述第三子像素中任意两个相邻子像素之间设置有一个所述第一限定结构以及一个所述第二开口，相邻子像素的发光区与位于相邻子像素之间的所述第二开口的距离不相等，所述第一限定结构的所述第二部分位于其第一部分与所述相邻子像素中与所述第二开口邻近的所述子像素的发光区之间。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第一限定结构的靠近所述子像素的第一开口的边缘的长度小于所述第二开口的靠近所述子像素的第一开口的边缘的长度，所述第二开口在其延伸方向上的两端位于与其交叠的所述第一限定结构的两端的两侧。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述多个子像素包括多个第一子像素、多个第二子像素以及多个第三子像素，所述多个子像素排列为沿第一排列方向交替设置的多个第一子像素组和多个第二子像素组，所述第一子像素组包括沿第二排列方向交替设置的所述第一子像素和所述第二子像素，所述第二子像素组包括沿所述第二排列方向排列的所述第三子像素，所述第一排列方向与所述第二排列方向相交；所述第一子像素组与所述第二子像素组在所述第二排列方向上错开分布，且至少部分第一子像素中的各第一子像素被八个子像素包围，所述八个子像素包括交替设置的所述第二子像素以及所述第三子像素。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述显示基板包括：第一区域、第二区域以及第三区域，第一区域被配置为进行显示，所述多个子像素中的至少部分子像位于所述第一区域；所述第一区域位于所述第二区域的至少一侧；第三区域位于所述第一区域与所述第二区域之间，其中，所述显示基板包括位于第三区域中的至少一个第二限定结构，所述第二限定结构在所述衬底基板上的正投影呈环形，并围绕所述第二区域，所述第二限定结构的材料与所述第一限定结构的材料相同，所述发光功能层中的至少一层膜层被所述第二限定结构的未与所述像素限定部交叠的边缘部分隔断。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述像素限定层中的所述多个开口包括第三开口，所述第三开口位于所述第三区域，并被配 置为暴露所述第二限定结构的至少部分，其中，所述至少一个第二限定结构包括第一子限定结构和第二子限定结构中的至少之一，所述第一子限定结构被所述第三开口完全暴露，所述第二子限定结构包括与所述像素限定部交叠的第三部分以及被所述第三开口暴露的第四部分，所述第二子限定结构的所述第四部分被配置为隔断所述发光功能层的所述至少一层。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述显示基板还包括第三限定结构，所述第三限定结构位于所述第三区域，且所述第三限定结构位于所述第二限定结构与所述第二区域之间，所述像素限定部位于所述第三限定结构的远离所述第二区域的一侧，所述第三限定结构被配置为隔断所述发光功能层的至少一层膜层。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第一限定结构、所述第二限定结构以及第三限定结构中的至少之一的远离所述衬底基板的表面边缘相对于靠近所述衬底基板的表面边缘凸出。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第一限定结构的所述第一部分被所述像素限定部覆盖，所述第三子像素的发光区的面积小于所述第二子像素的发光区的面积，位于所述第二子像素与所述第三子像素之间的所述第二开口与所述第三子像素的所述发光区之间的距离不小于与所述第二子像素的所述发光区之间的距离。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，在相邻子像素的排列方向上，位于该相邻子像素之间的所述第一限定结构被一平面所截的截面的最大尺寸为第一尺寸，且该第一限定结构的所述第一部分被所述平面所截的截面的最大尺寸为第二尺寸，所述第二尺寸不小于所述第一尺寸的1/2，所述平面平行于所述相邻子像素的所述排列方向，且所述平面垂直于所述衬底基板。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第二开口在其延伸方向上的长度与所述第一限定结构在其延伸方向上的长度不相等。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第二开口在其延伸方向上的长度与所述第一限定结构在其延伸方向上的长度相等，所述第一距离与所述第二距离不相等。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第二开口被 所述平面所截的截面在所述相邻子像素的排列方向上的最大尺寸不大于10微米。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第二开口在其延伸方向上的长度不大于50微米。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第一限定结构与所述子像素的所述第一电极之间的距离不大于15微米。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述第一限定结构的靠近所述子像素的所述发光区的边缘的长度不大于50微米。
例如，根据本公开的至少一个实施例提供的显示基板，所述多个子像素排列为多个子像素行和多个子像素列，在平行于所述衬底基板的方向上，位于相邻两个所述子像素行之间的相邻第一限定结构之间的距离不大于40微米，位于相邻两个所述子像素列之间的相邻第一限定结构之间的距离不大于40微米。
本公开另一实施例提供一种显示面板，包括上述任一显示基板。
本公开又一实施例提供一种显示装置，包括上述任一显示基板。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。
图1为本公开至少一个实施例的提供的显示基板的局部平面结构示意图。
图2为沿图1所示的AA’线所截的局部截面结构示意图。
图3为沿图1所示的BB’线所截的局部截面结构示意图。
图4A为图1所示出的显示基板中的多个第一电极以及多个第一限定结构的局部平面示意图。
图4B为本公开的至少一个实施例提供的另一种第一限定结构以及支撑结构的示意图。
图5为本公开至少一个实施例的提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图。
图6为沿图1所示的CC’线所截的局部截面结构示意图。
图7为本公开至少一个实施例提供的又一种显示基板的局部截面结构示意图。
图8为本公开至少一个实施例提供的又一种显示基板的平面图。
图9为沿图8所示的W1-W1'线所截的局部截面示意图。
图10为本公开的至少一个实施例提供的又一种显示基板的局部截面示意图。
图11为本公开的至少一个实施例提供的又一种显示基板的局部截面示意图。
图12为根据本公开实施例的一示例提供的局部平面结构示意图。
图13为沿图12所示AA’线所截的局部截面结构示意图。
图14为图12所示显示基板的局部放大图。
图15为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部平面结构示意图。
图16为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部截面结构示意图。
图17和图18为根据本公开实施例的不同示例提供的显示基板的局部截面结构示意图。
图19为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部平面结构示意图。
图20为沿图19所示CC’线所截的局部截面结构示意图。
图21为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部截面结构示意图。
图22为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部平面结构示意图。
图23为沿图22所示DD’线所截的局部截面结构示意图。
图24和图25为根据本公开实施例的不同示例提供的显示基板的局部平面结构示意图。
图26为沿图24所示EE’线所截的局部截面结构示意图。
图27为沿图25所示FF’线所截的局部截面结构示意图。
图28为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部平面结构 示意图。
图29为图28所示显示基板的局部放大图。
图30为根据本公开另一实施例提供的显示基板的局部截面结构示意图。
图31为根据本公开另一实施例提供的显示装置的示意性框图。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。本公开实施例中使用的“平行”、“垂直”以及“相同”等特征均包括严格意义的“平行”、“垂直”、“相同”等特征，以及“大致平行”、“大致垂直”、“大致相同”等包含一定误差的情况，考虑到测量和与特定量的测量相关的误差(例如，测量系统的限制)，表示在本领域的普通技术人员所确定的对于特定值的可接受的偏差范围内。例如，“大致”能够表示在一个或多个标准偏差内，或者在所述值的10％或者5％内。在本公开实施例的下文中没有特别指出一个成分的数量时，意味着该成分可以是一个也可以是多个，或可理解为至少一个。“至少一个”指一个或多个，“多个”指至少两个。
Tandem技术是将子像素的发光层进行叠层串联设置，且在层叠设置的发光层之间设置整层电荷产生层，如P型掺杂的电荷产生层P-CGL以及N型掺杂的电荷产生层N-CGL。相对于没有设置Tandem器件的显示基板，Tandem器件中的两层发光层串联，从而可以实现双发光器件串联，在相同发光强度下，极大地降低了发光器件的发光电流，提升了有机发光元件的寿命、降低了功耗。
在研究中，本申请的发明人发现：由于Tandem器件中的两层发光层串联，对材料及蒸镀等提出了较高的要求；并且，Tandem器件中的电荷产生层的导电率较大，相邻两个子像素的电荷产生层是连续膜层，存在电荷横向迁移现象，容易使得相邻子像素之间产生串扰，导致显示基板出现色偏。此外，当显示基板中设置有用于支撑掩膜的支撑结构(通常位于相邻子像素之间)时，像素限定部的形貌对于支撑结构的影响较大。例如，像素限定部可以包括像素开口以及用于形成隔离结构的限定开口等，像素限定部在各个开口处的坡度角、厚度等因素会影响邻近的支撑结构的形貌，例如可能导致支撑结构发生倾斜、厚度不均等，从而对支撑效果产生破坏。
本公开的至少一个实施例提供一种显示基板，包括：衬底基板、多个子像素、像素限定层、至少一个第一限定结构以及至少一个支撑结构，多个子像素位于衬底基板上，各子像素包括发光功能层，发光功能层包括多个膜层；像素限定层包括多个开口以及围绕多个开口的像素限定部，多个开口包括多个第一开口和多个第二开口，第一开口被配置为限定子像素的发光区，发光功能层中的至少一层位于第一开口中的至少部分为连续的部分，且位于第二开口中的至少部分被隔断；第一限定结构包括与像素限定部交叠的第一部分以及被第二开口暴露的第二部分，第一限定结构的第二部分被配置为隔断发光功能层的至少一层；支撑结构在衬底基板上的正投影与第一限定结构在衬底基板上的正投影之间的最小距离为第一距离，支撑结构在衬底基板上的正投影与第二开口在衬底基板上的正投影之间的最小距离为第二距离，第一距离和第二距离均大于0微米、且小于10微米。
本公开提供的显示基板中，一方面，第一限定结构的第一部分与像素限定部交叠，第二部分可以对发光功能层中的至少一层膜层进行隔断，从而在保证子像素的电极平坦性以及良好的出光效果的同时，能够降低相邻子像素发生串扰的风险；另一方面，通过使得支撑结构与第一限定结构之间的第一距离、以及支撑结构与第二开口之间的第二距离保持在上述范围之内，可以使得像素限定部与支撑结构均具有良好的形貌，有利于使得支撑结构具有良好的掩膜支撑效果，对工艺以及产能的影响较低。
下面结合附图对本公开实施例提供的显示基板、显示面板以及显示装置进行描述。
图1为本公开至少一个实施例的提供的显示基板的局部平面结构示意图；图2为沿图1所示的AA’线所截的局部截面结构示意图；图3为沿图1所示的BB’线所截的局部截面结构示意图；图4A为图1所示出的显示基板中的多个第一电极以及多个第一限定结构的局部平面示意图。
如图1所示，显示基板包括衬底基板01、以及位于衬底基板01上的多个子像素10、像素限定层200以及至少一个第一限定结构300。至少部分子像素10包括发光功能层130，且发光功能层130包括多个膜层。例如，上述至少部分子像素10位于显示基板的用于显示图像的区域(例如，下述实施例中的第一区域)，显示基板还包括围绕显示区域的周边区域。
例如，如图2所示，子像素10还包括沿垂直于衬底基板01的方向(如图2所示的方向Z)位于发光功能层130两侧的第一电极110和第二电极120，第一电极110位于发光功能层130与衬底基板01之间。例如，发光功能层130可以包括用于发光的发光层以及电荷产生层133，电荷产生层133具有较强的导电性，可以使得发光功能层130具有寿命长、功耗低以及可实现高亮度的优点。例如，发光功能层130可以为有机发光元件中的膜层。例如，发光功能层130可以包括层叠设置的第一发光层(EML)131、电荷产生层(CGL)133以及第二发光层(EML)132，电荷产生层133位于第一发光层131与第二发光层132之间。需要说明的是，图2所示的发光功能层130还可以包括其他膜层，如空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)以及电子注入层(EIL)等，本公开的实施例对此不作限定。例如，空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层、电荷产生层133以及第二电极120均为多个子像素10的共用膜层，可以称为共通层。此外，图2所示出的各个膜层的厚度仅为了清楚地示意各膜层，不代表实际尺寸。
例如，如图2所示，子像素10可以包括串联式(tandem)发光元件，如Tandem OLED，但本公开的实施例不限于此。
例如，如图2所示，第一电极110面向衬底基板01的一侧还设置有其他结构02，如包括与子像素10的第一电极110电连接的像素电路、信号线以及各绝缘层等，例如，可以包括钝化层、缓冲层、栅极绝缘层、层间绝缘层等。
如图1和图2所示，像素限定层200包括多个开口201以及围绕多个开 口201的像素限定部230。像素限定层200中的多个开口201包括多个第一开口210和多个第二开口220，第一开口210被配置为限定子像素10的发光区010，发光功能层130中的至少一层位于第一开口210中的至少部分为连续的部分，且位于第二开口220中的至少部分被隔断。
例如，如图1和图2所示，第一开口210可以为像素开口，以限定子像素10的发光区010，位于发光功能层130两侧的第一电极110和第二电极120能够驱动第一开口210中的发光功能层130进行发光。上述发光区010可以指子像素10的有效发光的区域，发光区010的形状指二维形状，例如，发光区010的形状可以与第一电极110的被第一开口210暴露的部分在衬底基板01上的正投影的形状相同。
例如，如图1和图2所示，像素限定层200的第二开口220位于相邻子像素10之间，例如，第二开口220在衬底基板01上的正投影面积小于第一开口210在衬底基板01上的正投影面积。
如图1和图2所示，第一限定结构300位于相邻子像素10之间，且包括与像素限定部230交叠的第一部分310以及被第二开口220暴露的第二部分320，第一限定结构300的第二部分320被配置为隔断发光功能层130的至少一层。
例如，如图1和图2所示，第一限定结构300位于像素限定部230与衬底基板01之间，且位于相邻两个不同颜色的子像素10之间。例如，第一限定结构300的远离衬底基板01的至少部分表面比第一电极110的远离衬底基板01的表面更远离衬底基板01。例如，第一限定结构300的第一部分310被像素限定部230覆盖，第一部分310在衬底基板01上的正投影完全落入像素限定部230在衬底基板01上的正投影中，第一部分310在衬底基板01上的正投影面积小于像素限定部230在衬底基板01上的正投影面积。第二部分320位于第二开口220中，且发光功能层130的至少一层在第二部分320的远离第一部分310的边缘处被隔断。例如，发光功能层130的电荷产生层133被隔断。例如，发光功能层130的全部膜层均被隔断。例如，发光功能层130的被隔断的部分膜层位于第二部分320的远离第一部分310的侧壁上。
如图1和图3所示，支撑结构400在衬底基板01上的正投影与第一限 定结构300在衬底基板01上的正投影之间的最小距离为第一距离L1，支撑结构400在衬底基板01上的正投影与第二开口220在衬底基板01上的正投影之间的最小距离为第二距离L2，第一距离L1和第二距离L2均大于0微米、且小于10微米。
例如，如图1和图3所示，支撑结构400可以位于相邻的两个第一开口210之间，并位于相邻的两个第二开口220之间。例如，多个第二开口210可以围绕支撑结构400。通过使得上述第一距离L1大于0微米、且小于10微米，可以使得像素限定部230的一部分位于支撑结构400与第一限定结构300之间，并使得该部分像素限定部230保持良好的厚度均一性。例如，通过使得上述第二距离L2大于0微米、且小于10微米，可以减小第二开口220对像素限定部230的形貌的影响，例如可以使得像素限定部230的厚度均一，使得像素限定部230的与支撑结构400交叠的部分的远离衬底基板01的表面具有良好的平坦性，从而，有利于支撑结构400的稳定设置，减小支撑结构400发生倾斜或者位置偏移等风险。
本公开提供的显示基板中，一方面，第一限定结构的第一部分与像素限定部交叠，第二部分可以对发光功能层中的至少一层膜层进行隔断，从而在保证子像素的电极平坦性以及良好的出光效果的同时，能够降低相邻子像素发生串扰的风险；另一方面，通过使得支撑结构与第一限定结构之间的第一距离、以及支撑结构与第二开口之间的第二距离保持在上述范围之内，可以使得像素限定部与支撑结构均具有良好的形貌，有利于使得支撑结构具有良好的掩膜支撑效果，对工艺以及产能的影响较低。
例如，如图1和图3所示，第一距离L1和第二距离L2均不小于2微米。第一距离L1和第二距离L2可以均不小于3微米、4微米、5微米、7微米或9微米，或者可以为2微米与10微米之间的其他的任意值，在此不进行一一列举。如此设置，可以有效地减小第二开口220以及第一限定结构300对像素限定部230的形貌的影响，有利于支撑结构400的稳定设置，减小支撑结构400发生倾斜或者位置偏移等风险。
例如，如图1和图3所示，支撑结构400的被平行于衬底基板01的一平面所截的截面的边缘上的任意两点之间的直线距离不大于20微米。例如，上述直线距离为支撑结构400的上述截面的边缘上的两点之间的直线段的长 度。例如，支撑结构400可以为柱形，支撑结构400被平行于衬底基板01的多个平面所截的多个截面的形状可以不相同。例如，如图1所示，支撑结构400被平行于衬底基板01的一平面所截的截面为圆形，从而支撑结构400的上述截面的边缘上的任意两点之间的直线距离的最大值为该圆的直径。例如，当支撑结构400被平行于衬底基板01的平面所截的截面为椭圆形时，支撑结构400的上述截面的边缘上的任意两点之间的直线距离的最大值等于该椭圆的长轴的尺寸。本公开的实施例对支撑结构400对应的上述截面的形状不作限定，例如还可以为多边形或其他形状。
例如，如图1和图3所示，为了使得支撑结构400对掩膜具有较强的支撑力，可以使得支撑结构400的上述截面的边缘上的任意两点之间的直线距离尽量大一些，例如可以为10～20微米、15～18微米或者18～19微米，本公开的实施例对此不作限定。
例如，如图3所示，在方向Z上，支撑结构400的尺寸不大于10微米。例如，为了使得支撑结构400对掩膜具有较强的支撑力，可以使得支撑结构400在方向Z上的尺寸尽量大一些，例如可以为5～10微米、6～8微米或者8～10微米，本公开的实施例对此不作限定。
例如，如图3所示，支撑结构400可以采用正性光刻胶，例如，正性光刻胶指受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解，留下的非曝光部分的图形与掩膜板的图案一致。
例如，如图1所示，显示基板中的多个子像素10包括多个第一子像素101、多个第二子像素102以及多个第三子像素103，多个子像素10排列为沿第一排列方向X交替设置的多个第一子像素组0010和多个第二子像素组0020，第一子像素组0010包括沿第二排列方向Y交替设置的第一子像素101和第二子像素102，第二子像素组0020包括沿第二排列方向Y排列的第三子像素103。例如，第一子像素101、第二子像素102以及第三子像素103的发光颜色各不相同。例如，第一子像素101可以为发出红光的红色子像素，第二子像素102可以为发出蓝光的蓝色子像素，第三子像素103可以为发出绿光的绿色子像素，但本公开的实施例不限于此，第一子像素101、第二子像素102以及第三子像素103的发光颜色可以互换。
例如，如图1所示，第一子像素组0010与第二子像素组0020在第二排 列方向Y上错开分布，且至少部分第一子像素101中的各第一子像素101被八个子像素10包围，八个子像素10包括交替设置的第三子像素103以及第二子像素102。第一排列方向X与第二排列方向Y相交，且第一排列方向X和第二排列方向Y均垂直于衬底基板。
例如，如图1所示，第一子像素101的发光区010的面积以及第三子像素103的发光区010的面积均小于第二子像素102的发光区010的面积，且第三子像素103的发光区010的面积小于第一子像素101的发光区010的面积。例如，第二子像素102与第三子像素103之间设置有一个第二开口220以及一个第一限定结构300(例如，图1中的虚线框P所圈的第二开口220以及第一限定结构300)。第三子像素103比与其相邻的第二子像素102更远离位于二者之间的第二开口220。例如，位于第二子像素102与第三子像素103之间的第二开口220与第三子像素103的发光区之间的距离不小于与第二子像素102的发光区之间的距离。例如，第三子像素103对应的第一开口210与位于第三子像素103与第二子像素102之间的第二开口220的距离为U1，第二子像素102对应的第一开口210与位于第三子像素103与第二子像素102之间的第二开口220的距离为U2，则U1不小于U2。
例如，如图1所示，以虚线框P中的第二开口220为例，第二开口220呈长条形，在其长度方向上，第二开口220的长度与第三子像素103的第一电极110(请参见图1)的边缘的尺寸基本相同，且大于第三子像素103的发光区010的尺寸，从而在第三子像素103对应的第一开口210附近设置第二开口220，可能对像素限定部230的形貌影响较大。例如，可能使得第二子像素102对应的第一开口210与其邻近的第二开口220之间的像素限定部230的厚度较小，从而导致该部分像素限定部230无法按照设计需求在第一开口210处形成良好的坡度角，进而影响第三子像素103的出光效果。
因此，通过使得上述U1不小于U2，可以使得第三子像素对应的第一开口与位于第三子像素与第二子像素之间的第二开口之间具有足够的空间，以利于设置像素限定部，使得环绕第三子像素的发光区的像素限定部具有良好的形貌，例如能够保持足够的厚度，并形成良好的坡度角，以利于改善第三子像素的出光效果。
例如，如图1所示，第一子像素101的发光区的面积大于第三子像素103 的发光区的面积，位于第一子像素101与第三子像素103之间的第二开口220与第一子像素101的发光区之间的距离不大于该第二开口220与第三子像素103的发光区之间的距离，从而有利于使得像素限定部230的位于第三子像素103对应的第一开口210与位于第三子像素103与第一子像素101之间的第二开口220之间的部分具有良好的形貌，例如能够保持足够的厚度，并形成良好的坡度角，以利于改善第三子像素103的出光效果。
例如，如图2所示，发光功能层130的位于第一限定结构300的第二部分320上的部分包括平坦的部分，从而可以使得发光功能层130能够在第二部分320上进行平缓地过渡，由此可以减小对发光功能层130的位于第一开口210中的部分的平坦性的影响，从而保证良好的出光效果。
例如，如图2所示，在第三子像素103与第二子像素102的彼此面对的方向上，第一限定结构300的第一部分310的最大宽度M1为不大于5微米，如3～5微米。例如，第一部分310的最大宽度M1可以大于第二部分320的最大宽度M2，从而有利于提供足够大的覆盖空间，进而利于形成良好的出光角度。例如，第二部分320的最大宽度M2可以为1～10微米，如5～8微米，但不限于此。例如，M1≥M2，从而有利于保证PDL对第一限定结构300的第一部分310的覆盖面积。
如此设置，有利于使得发光功能层的位于第二部分上的部分具有良好的平坦性，减小发光功能层的被隔断的部分对于发光功能层的位于第一开口中(以及位于第一开口的边缘)的部分的形貌的影响。
例如，如图1-2、以及图4A所示，在相邻子像素10(例如，图2所示出的第三子像素103以及第二子像素102)的排列方向(例如，图2所示出的方向Q)上，位于该相邻子像素10之间的第一限定结构300被一平面所截的截面的最大尺寸为第一尺寸M1+M2，且该第一限定结构300的第一部分310被该平面所截的截面的最大尺寸为第二尺寸M1，第二尺寸M1不小于第一尺寸M1+M2的1/2，上述平面平行于相邻子像素10的排列方向(例如，方向Q)，且该平面垂直于衬底基板01。例如，在本公开的实施例中，相邻子像素10的排列方向平行于衬底基板01。
例如，如图1-2、以及图4A所示，第一限定结构300在衬底基板01上的正投影大致为第一条形3101，第一限定结构300的第一部分310在衬底基 板01上的正投影大致为第二条形3102。例如，第二条形3102为第一条形3101的一部分。例如，第二条形3102的最大宽度不大于第一条形3101的最大宽度的1/2。例如，如图2所示，第二条形3102的最大宽度为M1，第一条形3101的最大宽度为M1+M2，如此设置，有利于使得第一限定结构300的第二部分320具有足够的暴露面积，以具有良好的隔断能力。
例如，如图2所示，第一限定结构300与子像素10(如第三子像素103)的发光区010的最小距离M3为不大于15微米，以利于使得像素限定部230在第一开口210处保持良好的坡度角μ，以使得子像素10具有良好的出光效果。例如，像素限定部230的在第一开口210处的坡度角μ可以为20度～80度，如，本公开的实施例对此不作限定。
例如，如图1所示，第二开口220在其延伸方向上的长度与第一限定结构300在其延伸方向上的长度不相等。例如，第二开口220可以沿着邻近的子像素10的发光区010的边缘延伸，第一限定结构300可以沿着邻近的子像素10的发光区010的边缘延伸。例如，第二开口220在衬底基板01上的正投影大致为第三条形3103，第一条形3101的长度与第三条形3103的长度不相等。例如，第一条形3101的长度小于第三条形3103的长度。例如，第三条形3103沿其长度方向上的两端均相对于第一条形3101凸出，从而有利于使得第一条形3101的与第三条形3103交叠的部分的长度等于第三条形3103的长度，有利于使得第一限定结构300的用于进行隔断的第二部分320具有均匀的尺寸。例如，第一条形3101的长度大于第三条形3103的长度，从而有利于使得第一条形3102的与第三条形3103交叠的部分的长度等于第三条形3103的长度，有利于使得第一限定结构300的用于进行隔断的第二部分320具有均匀的尺寸。
图4B为本公开的至少一个实施例提供的另一种第一限定结构以及支撑结构的示意图。
在本公开的一些实施例中，参考图4B，第二开口220在其延伸方向上的长度可以与第一限定结构300在其延伸方向上的长度相等，例如，第一条形3101的长度与第三条形3103的长度相等，第一距离L1与第二距离L2不相等。第一限定结构300的第一部分310在衬底基板上的正投影呈“L”形，第一限定结构300的第二部分320在衬底基板上的正投影为条形的阴影区域， 第二开口220在衬底基板01上的正投影为第三条形3103。在第三条形3103的长度方向上，第一限定结构300与第二开口220彼此错开分布，第一限定结构300的第一部分310的远离支撑结构400的端部位于第二开口220的远离支撑结构400的一侧。如此设置，有利于控制第一限定结构300的用于进行隔断的第二部分320在长度方向上的尺寸，使得第二部分320的长度保持在设计范围内，以具有良好的尺寸均一性。
例如，如图1所示，第一限定结构300的靠近子像素10的发光区010的边缘的长度不大于50微米。例如，第一限定结构300在衬底基板上的正投影为上述第一条形3101，第一条形3101的长度不大于50微米，例如可以为20～30微米、30～40微米、35～50微米或者为不大于50微米的其他数值，在此不进行一一列举，从而在使得第一限定结构300的第二部分320具有足够的隔断能力的同时，减小对于像素限定部230的形貌的影响。
例如，如图1和图2所示，在相邻子像素10(例如，图2所示出的第三子像素103以及第二子像素102)的排列方向(例如，图2所示出的方向Q)上，第二开口220被一平面所截的截面在方向Q上的最大尺寸不大于10微米。例如，第三条形3103的最大宽度不大于10微米，例如可以为5～8微米、6～9微米或7～10微米，且第三条形3103的最大宽度大于第二部分320的最大宽度M2(请参见图2)，从而能够对第一限定结构300的第二部分320进行暴露，使得第二部分320具有良好的隔断能力。
例如，如图1所示，第二开口220在其延伸方向上的长度不大于50微米。例如，第三条形3103的长度不大于50微米，例如可以为20～30微米、30～40微米、35～50微米或者为不大于50微米的其他数值，在此不进行一一列举，从而在使得第一限定结构300的第二部分320具有足够的隔断能力的同时，可以尽量减小对于像素限定部230的形貌的影响。
例如，如图2所示，第一限定结构300与子像素10(例如，第三子像素103)的第一电极110之间的距离不大于15微米，例如可以为5～10微米、7～12微米、8～13微米或者为不大于15微米的其他数值，在此不进行一一列举，如此设置，有利于使得像素限定部230在第一开口210处具有良好的坡度角μ的同时，缩短发光功能层130从第一开口210到达第二开口220的延伸路径，有利于简化制作工艺。
例如，如图1所示，多个子像素10排列为多个子像素行R1和多个子像素列R2。例如，多个子像素行R1的排布方向为第二排列方向Y沿着顺时针旋转45度的方向，多个子像素列R2的排布方向为第一排列方向X沿着顺时针旋转45度的方向。例如，相邻两个子像素行R1之间设置有多个第一限定结构300，且相邻的第一限定结构300之间的距离不大于40微米，例如可以为5～10微米、15～25微米、30～40微米或者为不大于40微米的其他数值，在此不进行一一列举。例如，相邻两个子像素列R2之间设置有多个第一限定结构300，且相邻的第一限定结构300之间的距离不大于40微米，例如可以为5～10微米、15～25微米、30～40微米或者为不大于40微米的其他数值，在此不进行一一列举。如此设置，有利于使得相邻的第一限定结构300之间保持良好的间距，使得像素限定部230中的多个第二开口220彼此间隔、且均匀地分布，有利于使得像素限定部230的各部分保持良好的形貌，例如可以使得像素限定部230的厚度均一、在各第一开口210和第二开口220处具有良好的坡度角。
图5为本公开至少一个实施例的提供的另一种显示基板的局部平面结构示意图；图6为沿图1所示的CC’线所截的局部截面结构示意图。
例如，图5所示出的显示基板与图1所示出的显示基板中的多个子像素的排列方式不相同。如图5所示，多个子像素10包括多个第一子像素101、多个第二子像素102以及多个第三子像素103，且第一子像素101、第二子像素102以及第三子像素103构成重复单元。为了示意清楚，图5中仅示出了一个重复单元，本公开的实施例对于重复单元的数量不作限定。图5所示的显示基板中的衬底基板、像素限定部以及发光元件等结构可以与图1所示的显示基板中的衬底基板、像素限定部以及发光元件等结构具有相同的特征，在此不再赘述。
例如，如图5所示，各重复单元中的第一子像素101与第二子像素102在第一排列方向X上依次排列，第一子像素101与第二子像素102在第二排列方向Y上位于第三子像素103的一侧，第一排列方向X与第二排列方向Y相交。例如，第一子像素101和第二子像素102之一可以为发出红光的红色子像素，另一个可以为发出绿光的绿色子像素，第三子像素103可以为发出蓝光的蓝色子像素。例如，第一子像素101、第二子像素102以及第三子 像素103的发光颜色可以互换。例如，第一子像素101的发光区的面积小于第二子像素102的发光区的面积，第二子像素102的发光区的面积小于第三子像素103的发光区的面积。当然，本公开实施例不限于此，各子像素的发光区的面积可以根据产品需求进行设置。
例如，如图5所示，第一子像素101、第二子像素102以及第三子像素103中任意两个相邻子像素10之间设置有一个第一限定结构300以及一个第二开口220。例如，第一子像素101、第二子像素102以及第三子像素103中任意一个的彼此相对的两侧均设置有一个第一限定结构300以及一个第二开口220。
例如，如图5和图6所示，相邻子像素10的发光区010与位于相邻子像素10(例如，第一子像素101和第二子像素102)之间的第二开口220的距离不相等。例如，第二开口220与位于其两侧的相邻的两个子像素10的发光区010的距离不相等。例如，各子像素10的发光区010在衬底基板上的正投影可以为四边形，但不限于此。例如，各子像素10的彼此相对的两侧均设置有与该子像素10的发光区010距离较近的第二开口220，该子像素10的另外两个彼此相对的两侧的可以不设置第二开口220。
例如，如图5和图6所示，第一限定结构300的第二部分320位于该第一限定结构300的第一部分310与相邻子像素10中与第二开口220邻近的子像素10的发光区010之间。例如，如图5所示，相邻的第一子像素101和第二子像素102中与二者之间的第二开口220邻近的子像素10为第二子像素102，第一限定结构300的第二部分320位于第一限定结构300的第一部分310与第二子像素102的发光区010之间。
例如，如图5和图6所示，在第一排列方向X上，第二子像素102的在第一排列方向X上彼此相对的两侧均设置有第二开口220，且该两个第二开口220中位于第一子像素101与第二子像素102之间的第二开口220更靠近第二子像素102的发光区010，而与第一子像素101的发光区010距离较远。通过在各子像素10的彼此相对的两侧分别设置与该子像素10的发光区010距离较近的第二开口220，可以使得第二开口220具有良好的对称性，有利于使得像素限定部230在第一开口210处具有良好的坡度角的同时，缩短发光功能层130从第一开口210到达第二开口220的延伸路径，有利于增强隔 断效果，并简化制作工艺。
例如，如图5和图6所示，第一限定结构300的第二部分320位于其第一部分310与第二开口220与邻近的子像素10的发光区010之间。上述第二开口220邻近的子像素10是指与第二开口220距离最近的子像素10。例如，可以根据第二开口220与多个子像素10的第一电极110的距离来判断是否为邻近的子像素10。例如，对于任一子像素10的彼此相对的两侧所设置的第二开口220之一，如靠近第二子像素10的发光区010且位于第一子像素101与第二子像素102之间的第二开口220，与该第二开口220交叠的第一限定结构300的第二部分320位于第一限定结构300的第一部分310与第二子像素102之间，也即，第一限定结构300的用于进行隔断的第二部分320比第一限定结构300的第一部分310更靠近该第二子像素102。如此设置，有利于使得第一限定结构300的第二部分320对发光功能层130的至少一层进行隔断的同时，减小对像素限定部230的形貌的影响，例如，可以使得像素限定部230的位于第二开口220与第一子像素101之间的部分具有良好的形貌，减小对第一子像素101的出光角度的影响。
例如，如图5所示，第一限定结构300的靠近子像素10的第一开口210的边缘的长度小于第二开口220的靠近该子像素10的第一开口210的边缘的长度，第二开口220在其延伸方向上的两端凸出于与其交叠的第一限定结构300的两端。例如，第一限定结构300在衬底基板上的正投影为第一条形，第一限定结构300的靠近子像素10的第一开口210的边缘的长度为第一条形的长度。例如，第二开口220在衬底基板上的正投影为第三条形，第二开口220的靠近该子像素10的第一开口210的边缘为第三条形的长度。第一条形与第三条形交叠，且在第三条形的长度方向上，第三条形的两端均凸出于第一条形。如此设置，有利于使得第一限定结构300的用于进行隔断的第二部分320的尺寸(例如，长度)具有良好的均一性，以利于控制第一限定结构300的隔断能力。
图7为本公开至少一个实施例提供的又一种显示基板的局部截面结构示意图。
例如，图7所示出的显示基板的第一限定结构300与像素限定部230的结构不同，其余结构均可以参见上述实施例中关于图2的相关描述。
例如，如图7所示，显示基板包括衬底基板01、位于衬底基板01上的多个子像素10以及像素限定层200。至少部分子像素10中的每个子像素10包括发光功能层130，发光功能层130包括多个膜层。子像素10还包括沿垂直于衬底基板01的方向位于发光功能层130两侧的第一电极110和第二电极120，第一电极110位于发光功能层130与衬底基板01之间。发光功能层130可以包括用于发光的发光层以及电荷产生层133。像素限定层200包括多个第一开口210和多个第二开口220，多个第一开口210被配置为限定至少部分子像素10的发光区010，发光功能层130中至少一层位于第一开口210中的至少部分为连续的部分，且位于至少一个第二开口220中的至少部分隔断。参考图2，发光功能层130中的膜层位于第一开口210中的部分为连续的部分，且位于第二开口220中的部分被隔断。
例如，如图7所示，第一限定结构300位于相邻子像素10之间，且包括与像素限定部230交叠的第一部分310以及被第二开口220暴露的第二部分320，第一限定结构300的第二部分320被配置为隔断发光功能层130的至少一层。例如，在垂直于衬底基板01的方向上(即，在方向Z上)，第一限定结构300的第一部分310的平均尺寸小于第二部分320的平均尺寸。第一限定结构300的第一部分310覆盖在像素限定部230上，且第一限定结构300的第一部分310的远离其第二部分320的侧面311的至少部分与第一部分310的靠近衬底基板01的第一表面312之间具有坡度角β，且该侧面311的至少部分与第一表面312的靠近第二部分320的部分之间的角度小于90度，例如可以为50～70度、60～80度、70～85度或小于90度的其他角度，在此不进行一一列举，从而使得坡度角β为“正向坡度角”。例如，第一部分310的侧面311朝向靠近第二部分320的方向倾斜，并使得坡度角β为上述“正向坡度角”。
如此设置，一方面，有利于增强第一限定结构的第一部分与像素限定部之间的附着能力，利于使得第一部分的厚度不至于过小，并具有良好的厚度均一性；另一方面，有利于使得位于第二开口中的第二部分具有良好的形貌，使得第二部分的远离第一部分的侧面(即，图7所示出的侧面322)在衬底基板上的正投影落入第二部分的远离衬底基板的表面在衬底基板上的正投影中，也即，使得第二部分的远离第一部分的侧面的倾斜方向与第一部分的 远离第二部分的侧面的倾斜方向相同，以使得第二部分的边缘(例如，角部)具有良好的隔断能力。
例如，如图7所示，在相邻子像素10(例如，图7所示出的第一子像素101以及第二子像素102)的排列方向(例如，图7所示出的方向Q)上，位于该相邻子像素10之间的第一限定结构300被一平面所截的截面的最大尺寸为第一尺寸N1+N2，且该第一限定结构300的第一部分310被该平面所截的截面的最大尺寸为第二尺寸N1，第二尺寸N1不小于第一尺寸N1+N2的1/2，且不大于10微米，上述平面平行于相邻子像素10的排列方向(例如，方向Q)，且该平面垂直于衬底基板01。
例如，如图7所示，第一限定结构300在衬底基板01上的正投影为大致为第一条形，第一限定结构300的第一部分310在衬底基板01上的正投影大致为第二条形，第一条形的最大宽度为N1+N2，第二条形的最大宽度为N1，且N1不小于N1+N2的1/2，且不大于10微米。例如，N1不小于N2。
如此设置，有利于增强第一限定结构的第一部分与像素限定部的附着能力，并利于第一部分具有良好的厚度均一性，以及利于第二部分对发光功能层具有较强的隔断能力。
图8为本公开至少一个实施例提供的又一种显示基板的平面图；图9为沿图8所示的W1-W1'线所截的局部截面示意图。
例如，如图8所示，显示基板包括第一区域A1、第二区域A2以及第三区域A3。第一区域A1被配置为进行显示，多个子像素10中的至少部分子像位于第一区域A1。例如，第二区域A2的至少部分被配置为透过光，例如，感光传感器、指纹传感器或其他器件可以设置于第二区域A2。第一区域A1位于第二区域A2的至少一侧。在一些实施例中，第一区域A1围绕第二区域A2，即第二区域A2可以被第一区域A1包围。例如，第二区域A2也可以设置在其他位置处，具体可根据需要而定。例如，第二区域A2可以位于衬底基板的顶部正中间位置处。第三区域A3位于第一区域A1与第二区域A2之间，例如，第三区域A3可以作为过渡区。例如，上述实施例中所描述的衬底基板的结构(例如，第一限定结构)均位于第一区域A1。
例如，如图8和图9所示，显示基板包括位于第三区域A3中的至少一个第二限定结构500，第二限定结构500在衬底基板01上的正投影呈环形， 并围绕第二区域A2。第二限定结构500被配置为隔断发光功能层130中的至少一层。例如，第二限定结构500(以及后续实施例中的第三限定结构600)可以增大第二电极的电阻，减小电化学腐蚀对第二区域A2的影响，降低产品由于受到水、氧气等侵蚀而出现黑斑不良等现象的风险。例如，第二限定结构500在衬底基板01上的正投影为封闭的环形，或者非封闭的环形。例如，第二限定结构500的数量可以为多个，例如可以为1～5，例如可以为2～4、3～5以及1～2中的至少之一，本公开的实施例对此不作限定。
例如，如图8和图9所示，第二限定结构500的材料与第一限定结构300的材料相同，例如，第一限定结构300和第二限定结构500均可以采用负性光刻胶，负性光刻胶是指受光照部分产生交链反应而成为不溶物，非曝光部分被显影液溶解，形成的图形与掩膜板的图案互补。发光功能层130中的至少一层膜层被第二限定结构500的未与像素限定部230交叠的边缘部分隔断。例如，在第三区域A3中未设置像素限定部230，发光功能层130的至少部分设置在第二限定结构500的远离衬底基板01的一侧，且被第二限定结构500隔断。例如，第二限定结构500的靠近第一区域A1的边缘以及靠近第二区域A2的边缘均被配置为对发光功能层130的至少一层进行隔断，从而可以进一步减小发生串扰的风险。
图10为本公开的至少一个实施例提供的另一种显示基板的局部截面示意图。
例如，图10所示出的显示基板与图9所示出的显示基板的区别在于第三区域A3中还设置有像素限定部230，其余结构均相同，具体可以参见上述实施例的相关说明，在此不作赘述。
例如，如图10所示，像素限定层200中的多个开口201包括第三开口2300，第三开口2300位于第三区域A3，并被配置为暴露第二限定结构500的至少部分。例如，显示基板包括至少一个第二限定结构500，且至少一个第二限定结构500包括第一子限定结构510，第一子限定结构510被第三开口2300完全暴露，从而，第一子限定结构510的靠近第一区域A1的边缘以及靠近第二区域A2的边缘均能够对发光功能层130中的至少一层进行隔断，由此以减小发生串扰的风险。此外，由于部分像素限定部230位于第三区域A3中，从而可以使得像素限定部230的位于第一区域A1中的部分与位于第 三区域A3中的部分进行过渡，有利于保证子像素的电极平坦性，并使得出光效果良好。
图11为本公开的至少一个实施例提供的又一种显示基板的局部截面示意图。
例如，图11所示出的显示基板与图10所示出的显示基板的区别在于第三区域A3中的像素限定部230不同，其余结构均相同，具体可以参见上述实施例的相关说明，在此不作赘述。
例如，如图11所示，像素限定层200中的多个开口201包括第三开口2300，第三开口2300位于第三区域A3，显示基板包括至少一个第二限定结构500，且至少一个第二限定结构500包括第二子限定结构520。第二子限定结构520包括与像素限定部230交叠的第三部分330以及被第三开口2300暴露的第四部分340，第二子限定结构520的第四部分340被配置为隔断发光功能层130的至少一层。
例如，如图11所示，像素限定部230的部分可以位于第三区域A3的靠近第一区域A1的部分区域中，第二子限定结构520的第三部分330被像素限定部230的该部分覆盖，从而有利于保证第一区域A1中的子像素10的电极平坦性，以具有良好的出光效果。例如，第二子限定结构520的第四部分340的远离第三部分330的边缘被配置为对发光功能层130中的至少一层进行隔断，从而有利于降低发生串扰的概率。例如，当第三区域A3中仅设置有一个第二子限定结构520时，像素限定部230未设置在第二子限定结构520的第三部分330的远离第一区域A1的一侧，从而有利于简化制作工艺。
例如，在一些实施例中，参考图11，显示基板包括至少一个第二限定结构500，且至少一个第二限定结构500包括至少一个第一子限定结构510以及至少一个第二子限定结构520。例如，第一子限定结构510比第二子限定结构520更靠近第二区域A2。例如，第二子限定结构520的数量可以为一个，从而有利于通过覆盖在第二子限定结构520的第三部分330上的部分像素限定部230来使得第一区域A1中的子像素10的电极具有平坦性，以具有良好的出光效果。例如，第二子限定结构520的第四部分540以及至少一个第一子限定结构510均被第三开口2300暴露，从而在通过第二子限定结构520的第四部分340以及第一子限定结构510共同对发光功能层130中的至 少一层进行隔断，以有效降低发生串扰的风险，并简化制作工艺。
例如，如图11所示，显示基板还可以包括第三限定结构600，第三限定结构600位于第三区域A3，且第三限定结构600位于第二限定结构500与第二区域A2之间，像素限定部230位于第三限定结构600的远离第二区域A2的一侧，第三限定结构600被配置为隔断发光功能层130的至少一层膜层。例如，第三限定结构600比第二限定结构500更靠近衬底基板01。例如，第三限定结构600的结构可以与上述实施例中所描述的第一子限定结构510类似，其可以对发光功能层130的至少一层膜层进一步隔断，以进一步降低串扰的风险。
例如，如图11所示，第一限定结构300、第二限定结构500以及第三限定结构600中的至少之一的远离衬底基板01的表面边缘相对于靠近衬底基板01的表面边缘凸出。例如，第一限定结构300、第二限定结构500以及第三限定结构600中的至少之一的远离衬底基板01的表面的至少部分平行于衬底基板，且该表面的边缘超出上述第一限定结构300、第二限定结构500以及第三限定结构600中的至少之一的靠近衬底基板01的表面的边缘。例如，如此设置可以利于形成“底切”结构，有利于对发光功能层130中的至少一层进行隔断。例如，第一限定结构300、第二限定结构500以及第三限定结构600中的至少之一被沿平行于相邻两个不同颜色子像素10(如图11所示出的第三子像素103与第二子像素102)的排列方向且垂直于衬底基板01的平面所截的截面的形状为梯形。例如，第一限定结构300、第二限定结构500以及第三限定结构600可以采用相同材料，例如可以均采用负性光刻胶，本公开的实施例对此不作限定。例如，第一限定结构300、第二限定结构500以及第三限定结构600可以通过同一工艺进行制作，从而有利于使得工艺过程得到简化。在一些实施例中，第一限定结构300、第二限定结构500以及第三限定结构600的结构可以不相同，例如，第一限定结构300、第二限定结构500以及第三限定结构600在方向Z上的尺寸可以不相同，本公开的实施例对此不作限定。
本公开另一实施例提供一种显示面板，该显示面板包括上述任一种显示基板。由此，上述显示基板的技术效果也可以在该显示面板上体现，这里不再赘述。例如，该显示面板还可以包括位于显示基板上(例如，位于其封装 层上)的增强效果结构(Enhance Efficiency Structure,EES)，以用于增强出光效率。例如，显示面板还可以包括彩膜，例如，彩膜可以位于EES的远离显示基板的一侧，但不限于此，通过设置彩膜可以强化光线的色彩强度。例如，显示面板还可以设置其他膜层，本公开的实施例对此不作限定。
本公开又一实施例提供一种显示装置，该显示装置包括上述任一种显示基板。由此，上述显示基板的技术效果也可以在该显示装置上体现，这里不再赘述。
例如，该显示装置还包括位于显示基板出光侧的盖板。
例如，该显示装置可以为有机发光二极管显示装置等显示器件以及包括该显示装置的电视、数码相机、手机、手表、平板电脑、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或者部件，本实施例不限于此。
Tandem技术是将子像素的发光层进行叠层串联设置，且在层叠设置的发光层之间设置整层电荷产生层，如P型掺杂的电荷产生层P-CGL以及N型掺杂的电荷产生层N-CGL。相对于没有设置Tandem器件的显示基板，Tandem器件使用N/P-CGL作为异质结，将两层发光层串联，该技术实现了双发光器件串联，在相同发光强度下，极大地降低了发光器件的发光电流，提升了有机发光元件的寿命、降低了功耗。
在研究中，本申请的发明人发现：一方面，Tandem器件采用了叠层设置的发光层，对材料及蒸镀等提出了较高的要求；另一方面，Tandem器件中的电荷产生层的导电率较大，如在电荷产生层为整面膜层时，相邻两个子像素的电荷产生层是连续膜层，存在电荷横向迁移现象，导致显示基板在低灰阶单色色度偏移，如容易使得相邻子像素之间产生串扰，导致显示基板出现色偏，如电荷产生层容易导致低亮度下不同颜色子像素之间发生串扰，进而导致低灰阶色偏。
本公开实施例提供一种显示基板以及显示装置。该显示基板包括衬底基板、位于衬底基板上的多个子像素、像素限定图案以及限定结构。至少部分子像素中的每个子像素包括发光功能层，发光功能层包括多个膜层；像素限定图案包括多个开口以及围绕多个开口的像素限定部，发光功能层中至少一层的至少部分在至少一个开口中被隔断；限定结构位于像素限定部与衬底基板之间。限定结构至少位于相邻两个不同颜色子像素之间，限定结构包括被 像素限定部覆盖的第一部分以及被开口暴露的第二部分，限定结构的第二部分被配置为隔断发光功能层的至少一层；限定结构的材料包括有机材料，限定结构的第二部分的侧面远离衬底基板一侧的边缘在衬底基板上的正投影落入开口在衬底基板上的正投影内。
本公开提供的采用有机材料的限定结构的第一部分被像素限定部覆盖，且第二部分在被至少一个开口暴露的同时，将第二部分的侧面远离衬底基板一侧的边缘在衬底基板上的正投影落入开口在所述衬底基板上的正投影内，不仅可以对不同颜色子像素之间的发光功能层的至少一层进行隔断以降低串扰，还可以保证子像素的电极平坦性以及正常出光效果的同时，将限定结构对工艺和产能的影响降到最低。
下面结合附图对本公开实施例提供的显示基板以及显示装置进行描述。
图12为根据本公开实施例的一示例提供的局部平面结构示意图。图13为沿图12所示AA’线所截的局部截面结构示意图。
如图12和图13所示，显示基板包括衬底基板01、位于衬底基板01上的多个子像素10、像素限定图案200以及限定结构300。至少部分子像素10中的每个子像素10包括发光功能层130，发光功能层130包括多个膜层。例如，上述至少部分子像素10位于显示基板的显示区域，即用于显示图像的区域，显示基板还包括围绕显示区域的周边区域。
例如，如图13所示，子像素10还包括沿垂直于衬底基板01的方向(如垂直于图12所示XY面的方向)位于发光功能层130两侧的第一电极110和第二电极120，第一电极110位于发光功能层130与衬底基板01之间。
例如，如图13所示，发光功能层130可以包括用于发光的发光层以及电荷产生层133。例如，发光功能层130可以为有机发光元件中的膜层。例如，发光功能层130可以包括层叠设置的第一发光层(EML)131、电荷产生层(CGL)133以及第二发光层(EML)132，电荷产生层133位于第一发光层131与第二发光层132之间。图13所示发光功能层130包括的多个膜层的厚度仅为了清楚地示意各膜层，不代表实际尺寸。
例如，如图13所示，电荷产生层133具有较强的导电性，可以使得发光功能层130具有寿命长、功耗低以及可实现高亮度的优点。例如，同一子像素10可以包括串联式(tandem)发光元件，如Tandem OLED。当然，本公 开实施例不限于此，各子像素10的发光功能层130也可以仅包括一层发光层。
例如，如图13所示，同一个子像素10中，第一发光层131和第二发光层132可以为发射相同颜色光的发光层。例如，发不同颜色光的子像素10中的第一发光层131发射不同颜色光。例如，发不同颜色光的子像素10中的第二发光层132发射不同颜色光。当然，本公开实施例不限于此，例如，同一个子像素10中，第一发光层131和第二发光层132可以为发射不同颜色光的发光层，通过在同一子像素10中设置发射不同颜色光的发光层可以使得子像素10包括的多层发光层发射的光混合为白光，可以通过设置彩膜层来调节每个子像素10出射光的颜色。
例如，各子像素10中，发光功能层130还可以包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)。
例如，空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层、电荷产生层133以及第二电极120均为多个子像素10的共用膜层，可以称为共通层。
例如，如图13所示，第二发光层132可以位于第一发光层131与第二电极120之间，空穴注入层可以位于第一电极110与第一发光层131之间。例如，电荷产生层133与第一发光层131之间还可以设置电子传输层。例如，第二发光层132与电荷产生层133之间可以设置空穴传输层。例如，第二发光层132与第二电极120之间可以设置电子传输层和电子注入层。
例如，电荷产生层133可以包括N型电荷产生层和P型电荷产生层。
例如，电子传输层的材料可以包括芳族杂环化合物，例如苯并咪唑衍生物、咪唑并吡啶衍生物、苯并咪唑并菲啶衍生物等咪唑衍生物；嘧啶衍生物、三嗪衍生物等嗪衍生物；喹啉衍生物、异喹啉衍生物、菲咯啉衍生物等包含含氮六元环结构的化合物(也包括在杂环上具有氧化膦系的取代基的化合物)等。
例如，电荷产生层133的材料可以是含有磷氧基团的材料，也可以是含有三嗪的材料。
例如，电荷产生层133的材料电子迁移率与电子传输层电子迁移率之比为10-2～102。
例如，第一电极110可以为阳极，第二电极120可以为阴极。例如，阴 极可由高导电性和低功函数的材料形成，例如，阴极可采用金属材料制成。例如，阳极可由具有高功函数的透明导电材料形成。
例如，图13示意性地示出不同子像素10的发光层之间设置有间隔。例如，电荷产生层133在衬底基板01上的正投影的面积大于任一发光层在衬底基板01上的正投影的面积。
例如，如图13所示，第一电极110面向衬底基板01的一侧还设置有其他结构02，如包括与子像素10的第一电极110电连接的像素电路、信号线以及各绝缘层等，如可以包括钝化层、缓冲层、栅极绝缘层、层间绝缘层等。
如图12和图13所示，像素限定图案200包括多个开口201以及围绕多个开口201的像素限定部230，发光功能层130中至少一层的至少部分在至少一个开口201中被隔断。
在一些示例中，如图12和图13所示，多个开口201包括多个第一开口210和多个第二开口220，多个第一开口210被配置为限定至少部分子像素10的发光区010，发光功能层130中至少一层位于第一开口210中的至少部分为连续的部分，且位于至少一个第二开口220中的至少部分隔断。图12和图13示意性的示出发光功能层130中的膜层位于第一开口210中的部分为连续的部分，且位于第二开口220中的部分被隔断。
例如，如图12和图13所示，一个子像素10对应至少一个第一开口210，子像素10的发光功能层130的至少部分位于子像素10对应的第一开口210中，且第一开口210被配置为暴露第一电极110。图12仅示出子像素的发光区010和第一电极110，没有示出第二电极120，第二电极120至少在第二开口220以外位置处可以为连续设置的膜层。
例如，如图13所示，当发光功能层130形成在像素限定图案200的第一开口210中时，位于发光功能层130两侧的第一电极110和第二电极120能够驱动第一开口210中的发光功能层130进行发光。例如，像素限定图案200的第一开口210用于限定子像素10的发光区010。上述发光区010可以指子像素10的有效发光的区域，发光区010的形状指二维形状，例如发光区010的形状可以与像素限定图案200的第一开口210的形状相同。
例如，如图13所示，像素限定部230的材料可以包括聚酰亚胺、亚克力或聚对苯二甲酸乙二醇酯等。
如图12和图13所示，限定结构300至少位于相邻两个不同颜色子像素10之间，限定结构300包括被像素限定部230覆盖的第一部分310以及被开口201暴露的第二部分320，限定结构300的第二部分320被配置为隔断发光功能层130的至少一层。
在一些示例中，如图12和图13所示，限定结构300位于像素限定部230与衬底基板01之间，限定结构300至少位于相邻两个不同颜色子像素10之间，限定结构300包括被像素限定部230覆盖的第一部分310以及被第一开口210和第二开口220至少之一暴露的第二部分320，限定结构300的第二部分320被配置为隔断发光功能层130的至少一层，如隔断发光功能层130中的电荷产生层，如隔断发光功能层中的全部膜层。
例如，如图12和图13所示，限定结构300的第一部分310在衬底基板01上的正投影与像素限定部230在衬底基板01上的正投影交叠，限定结构300的第二部分320在衬底基板01上的正投影与像素限定部230在衬底基板01上的正投影不交叠。例如，限定结构300包括两侧边缘，一侧边缘为第一部分310的边缘，另一侧边缘为第二部分320的边缘，第一部分310的边缘被像素限定部230包覆，第二部分320的边缘被第一开口210和第二开口220至少之一暴露。
图12和图13示意性地示出限定结构300的第二部分320被像素限定图案200的第二开口220暴露。例如，如图13所示，在平行于衬底基板01的方向，限定结构300被第二开口220暴露的边缘与像素限定部230之间具有一定间隔，该间隔中包括发光功能层130中被隔断的膜层。
如图13所示，限定结构300的材料包括有机材料，限定结构300的第二部320分的侧面远离衬底基板01一侧的边缘在衬底基板01上的正投影落入开口201在衬底基板01上的正投影内。
例如，如图13所示，限定结构300的第二部分320的侧面与限定结构300靠近衬底基板01一侧表面所在平面的夹角α大于20度且小于90度。上述限定结构300的侧面与平面之间的夹角指锐角。
本公开提供的采用有机材料的限定结构的第一部分被像素限定部覆盖，第二部分在被第一开口和第二开口至少之一暴露的同时，将限定结构的第二部分的侧面远离衬底基板一侧的边缘在衬底基板上的正投影落入开口在衬 底基板上的正投影内，不仅可以对不同颜色子像素之间的发光功能层的至少一层进行隔断以降低串扰，还可以保证子像素的电极平坦性以及正常出光效果的同时，将限定结构对工艺和产能的影响降到最低。
相对于采用无机材料的限定结构在显示基板的制造工艺中对产能产生的较大影响，本公开提供的采用有机材料的限定结构可以形成在子像素的第一电极之后，或者在限定结构与子像素的第一电极无交叠的情况下，限定结构在第一电极形成之前形成，均不会影响第一电极的平坦性，对工艺和产能的影响降到最低。例如，像素限定图案在形成第一电极以及限定结构后图案化形成。
例如，如图13所示，限定结构300的第二部分320的侧面与限定结构300远离衬底基板01一侧表面所在平面之间的夹角α大于20度且小于90度。例如，限定结构300的第二部分320的侧面与限定结构300远离衬底基板01一侧表面连接位置可以为圆角，两个表面延伸平面的夹角可以为α。
例如，如图13所示，夹角α可以为30～70度。例如，夹角α可以为30～60度。例如，夹角α可以为25～45度。例如，夹角α可以为35～60度。例如，夹角α可以为45～80度。例如，夹角α可以为65～80度。例如，夹角α可以为71～75度。
例如，如图12和图13所示，限定结构300的材料可以为有机胶。
在一些示例中，如图12和图13所示，限定结构300被沿平行于相邻两个不同颜色子像素10的排列方向且垂直于衬底基板01的平面所截的截面的形状为梯形。例如，上述平面可以为平行于AA’线且垂直于XY面的平面。例如，上述平面可以为垂直于限定结构300的延伸方向的平面。
在一些示例中，如图12和图13所示，梯形远离衬底基板01一侧的第一底边301的长度大于梯形靠近衬底基板01一侧的第二底边302的长度；第一底边301与梯形的腰之间的夹角大于20度且小于90度，第一底边301和第二底边302的长度均不大于10微米。
通过将限定结构设置为具有梯形截面的结构，有利于对发光功能层的至少一层进行隔断，防止相邻两个不同颜色子像素之间的串扰。
例如，如图13所示，第一底边301和第二底边302的长度均不大于10微米。例如，第一底边301和第二底边302的长度均大于1微米。例如，第 一底边301和第二底边302的长度均大于2微米。例如，第一底边301的长度大于5微米。例如，第二底边302的长度小于8微米。例如，第一底边301和第二底边302的长度均大于3微米。本公开实施例中第一底边301和第二底边302可以为大于0且小于10微米之间的任意数值，在此不再一一例举。
在一些示例中，如图13所示，限定结构300的厚度不大于5微米，限定结构300的第二部分320中远离衬底基板01一侧表面的边缘相对于靠近衬底基板01一侧表面的边缘突出，且突出的尺寸不大于5微米。
例如，如图13所示，沿AA’线的延伸方向上，限定结构300的第二部分320中远离衬底基板01一侧表面相对于靠近衬底基板01一侧表面突出，且突出的尺寸不大于5微米。例如，以限定结构300的第二部分320中远离衬底基板01一侧表面为上表面，限定结构300的第二部分320中靠近衬底基板01一侧表面为下表面，上表面的边缘相对于下表面的边缘突出的尺寸可以为1微米，或者2微米，或者3微米，或者4微米，本公开实施例中上表面的边缘相对于下表面的边缘突出的尺寸可以为大于0且小于5微米之间的任意数值，在此不再一一例举。
在一些示例中，如图13所示，限定结构300的第二部分320的侧面与限定结构300靠近衬底基板01一侧的第一表面(如截面的第一底边301所在表面)所在平面之间的夹角大于20度且小于90度；第一表面在衬底基板01上的正投影落入第二部分320的远离衬底基板01一侧的第二表面(如截面的第二底边302所在表面)在衬底基板01上的正投影内，且第一表面的边缘的正投影与所述第二表面的边缘的正投影之间的距离不大于5微米。例如，第一表面的边缘的正投影与所述第二表面的边缘的正投影之间的距离不大于4微米，或者不大于3微米，或者不大于2微米等，第一表面的边缘的正投影与所述第二表面的边缘的正投影之间的距离可以为大于0且小于5微米之间的任意数值，在此不再一一例举。
例如，如图13所示，限定结构300的厚度大于1微米。例如，限定结构300的厚度可以为1.5～2微米。例如，限定结构300的厚度不大于4.5微米。例如，限定结构300的厚度不大于4微米。例如，限定结构300的厚度不大于3.5微米。例如，限定结构300的厚度不大于3微米。例如，限定结构300的厚度不大于2.5微米。本公开实施例提供的限定结构300的厚度可以为大 于0且小于5微米中的任意数值，在此不再一一例举。
在一些示例中，如图13所示，限定结构300的厚度大于第一电极110的厚度，且像素限定部230在垂直于衬底基板01的方向上与限定结构300不交叠的位置中的至少部分的厚度大于限定结构300的厚度。通过对限定结构300、第一电极110以及像素限定部230的厚度大小关系的设置，可以在不影响子像素正常发光状态的同时，隔断相邻不同颜色子像素的发光功能层130的至少一层以降低串扰。
例如，如图13所示，像素限定部230与限定结构300交叠位置处远离衬底基板01一侧表面与衬底基板01之间的距离为H1，像素限定部230与限定结构300不交叠位置处远离衬底基板01一侧表面与衬底基板01之间的距离为H2或H3，H2和H3均小于H1。例如，H1与H2之差不大于5微米。例如，H1与H3之差不大于5微米。
例如，如图13所示，像素限定部230与限定结构300交叠位置的厚度可以为2～3微米，如2.5～2.8微米，如2.735微米。例如，像素限定部230的厚度可以为1.1～1.5微米，如1.217微米，限定结构300的厚度可以为1.3～1.7微米，如1.518微米。
在一些示例中，如图12和图13所示，限定结构300在衬底基板01上的正投影与第一开口210在衬底基板01上的正投影没有交叠，且第二开口220暴露限定结构300的第二部分320。例如，限定结构300仅被像素限定图案200的第二开口220暴露，且限定结构300中被第二开口220暴露的第二部分320对发光功能层130的至少一层，如电荷产生层，或者电荷产生层及其面向衬底基板01一侧的所有膜层，如发光功能层130中的所有膜层进行隔断。例如，第二电极120在第二开口220暴露的限定结构300的边缘处被隔断。
例如，如图13所示，限定结构300未被像素限定部230覆盖的部分，如第二部分320的远离衬底基板01一侧表面在AA’线延伸方向上的尺寸不大于10微米。
在一些示例中，如图12和图13所示，第一电极110与衬底基板01之间还设置有绝缘层03，第一电极110和限定结构300均与绝缘层03接触，限定结构300与第一电极110间隔设置，限定结构300和与其距离最近的第 一电极110之间的距离不大于10微米。上述与限定结构300距离最近的第一电极110指位于第一开口210与第二开口220之间的像素限定部230同时覆盖的限定结构300和第一电极110。上述限定结构300和与其距离最近的第一电极110之间的距离指限定结构300靠近衬底基板01一侧底边与第一电极110之间的距离。在限定结构300与第一电极110间隔设置的同时，需要考虑第一电极110与限定结构300之间的距离以保证限定结构300不会造成对子像素10的出光效果的影响等问题。
例如，如图13所示绝缘层03可以为平坦层。
例如，如图13所示，限定结构300与第一电极110之间的距离大于1微米。例如，限定结构300与第一电极110之间的距离不大于9微米。例如，限定结构300与第一电极110之间的距离可以为2～8微米。本公开实施例中限定结构300与第一电极110之间的距离可以为大于0且小于10微米之间的任意数值，在此不再一一例举。
例如，如图13所示，在限定结构300与第一电极110间隔设置时，可以先图案化形成第一电极110后，再图案化形成限定结构300以防止对第一电极110的平坦度造成影响；也可以先图案化形成限定结构300后，再图案化形成第一电极110，以保证像素限定图案200的第一开口210的轮廓。
在一些示例中，如图12和图13所示，限定结构300位于相邻两个不同颜色子像素10之间的部分包括至少一个子限定结构330。例如，限定结构300包括多个子限定结构330，相邻两个不同颜色子像素10之间设置有至少一个子限定结构330。图12所示显示基板示意性地示出相邻两个不同颜色子像素10之间设置一个子限定结构330。
在一些示例中，如图12所示，相邻两个不同颜色子像素10包括第一颜色子像素101和第二颜色子像素102。
在一些示例中，如图12所示，第一颜色子像素101包括红色子像素或者绿色子像素，第二颜色子像素102包括蓝色子像素。例如，图12示意性地示出第一颜色子像素101为绿色子像素，第二颜色子像素102为蓝色子像素。例如，多个子像素10还包括第三颜色子像素103，第三颜色子像素103为红色子像素。本公开实施例不限于此，第一颜色子像素101、第二颜色子像素102以及第三颜色子像素103的颜色可以互换。
例如，如图12所示，一个蓝色子像素的发光区010的面积大于一个红色子像素的发光区010的面积，一个红色子像素的发光区010的面积大于一个绿色子像素的发光区010的面积。
例如，如图12所示，子像素10包括沿Y方向依次交替排列的第一像素组和第二像素组，第一像素组和第二像素组在X方向错开分布，第一像素组包括沿X方向交替设置的红色子像素和蓝色子像素，第二像素组包括沿X方向排列的绿色子像素。例如，一个红色子像素被四个绿色子像素包围，一个蓝色子像素被四个绿色子像素包围。
在一些示例中，如图12所示，至少一个子限定结构330包括围绕至少一个子像素10的发光区010的环形子限定结构330。例如，同一种颜色子像素10的发光区010被环形子限定结构330围绕，以提高发光区010周围像素限定部230的高度的均一性。
例如，如图12所示，第三颜色子像素103的发光区010被环形子限定结构330围绕，如红色子像素的发光区010被环形子限定结构330围绕。当然本公开实施例不限于此，如绿色子像素的发光区010被环形子限定结构330围绕。
例如，如图12所示，环形子限定结构330在衬底基板01上的正投影与第三颜色子像素103的第一电极110在衬底基板01上的正投影交叠。例如，环形子限定结构330位于第一颜色子像素101与第三颜色子像素103之间，且环形子限定结构330在衬底基板01上的正投影与第一颜色子像素101的第一电极110在衬底基板01上的正投影交叠。
例如，如图12所示，第一颜色子像素101与第三颜色子像素103之间设置有条形子限定结构330。例如，第一颜色子像素101的发光区010的形状为四边形，如包括两条彼此平行的长边以及两条彼此平行的短边，两条长边以及两条短边依次首尾连接。例如，条形子限定结构330位于第一颜色子像素101的发光区010的长边一侧，如条形子限定结构330与第一颜色子像素101的发光区010的长边平行设置。
例如，如图12所示，沿所述第一颜色子像素101的发光区010的长边的延伸方向，条形子限定结构330的长度大于长边的长度，以为较好隔断第一颜色子像素101和第二颜色子像素102之间的发光功能层130的至少一层 提供可能。
在一些示例中，如图12所示，至少一个第二开口220的形状为长条形，至少一个第二开口220位于相邻两个不同颜色子像素10之间，且长条形的长边垂直于相邻两个不同颜色子像素10的排列方向。例如，各第二开口220的形状均为长条形。
例如，如图12所示，具有长条形的形状的第二开口220平行于条形子限定结构330，且第二开口220的长度不大于条形子限定结构330的长度，由此，第二开口220的长度决定用于隔断发光功能层的至少一层的尺寸，由此决定相邻两个不同颜色子像素10之间的串扰程度。
例如，如图12所述，位于第一颜色子像素101的发光区010的长边两侧的第二开口220的长度与其暴露的条形子限定结构330的长度相同。此时。需要管控像素限定图案中第二开口和限定结构在不同位置的均一性，以保证对发光功能层的至少一层进行隔断的隔断效果的均一性。
在一些示例中，如图12所示，长条形第二开口220的长边平行于与其距离最近的第一开口210的边。例如，与长条形第二开口220的长边距离最近的第一开口210为暴露第一颜色子像素101或第二颜色子像素102的第一电极110的第一开口210，长条形第二开口220的长边平行于该第一开口210的边。例如，第一颜色子像素101和与其相邻的第二颜色子像素102的发光区010的彼此靠近的边平行设置，位于相邻设置的第一颜色子像素101和第二颜色子像素102之间的第二开口220的长边平行于两种颜色子像素的发光区010的边。
例如，如图12所示，位于第一颜色子像素101和第二颜色子像素102之间的条形子限定结构330在衬底基板01上的正投影与第一颜色子像素101和第二颜色子像素102至少之一的第一电极110在衬底基板01上的正投影交叠。
例如，如图12所示，用于暴露围绕同一个第三颜色子像素103的环形子限定结构330的第二开口220的数量为四个，每个第二开口220的形状为长条形，且四个第二开口220的长边分别平行于第三颜色子像素103的四边形发光区010的四条边。
例如，如图12所示，围绕第三颜色子像素103的四个第二开口220的 长边的长度均大于第三颜色子像素103的发光区010的边长。例如，围绕第三颜色子像素103的四个第二开口220均位于第三颜色子像素103与第一颜色子像素101之间。
图14为图12所示显示基板的局部放大图。
例如，如图12和图14所示，第三颜色子像素103的发光区010的四条边到环形子限定结构330被第二开口220暴露的边缘之间的距离分别为a、b、c、d，如a、b、c、d的取值范围包括：0≤a≤20μm，0≤b≤20μm，0≤c≤20μm，0≤d≤20μm。例如，a、b、c、d可以均相等，也可以至少一个与其他三个不等。例如，上述环形子限定结构330与围绕其的四个第一颜色子像素101的发光区010之间的距离分别为a’、b’、c’、d’，如a’、b’、c’、d’的取值范围包括：0≤a’≤20μm，0≤b’≤20μm，0≤c’≤20μm，0≤d’≤20μm。例如，a’、b’、c’、d’可以均相等，也可以至少一个与其他三个不等，如a’＝c’≠b’＝d’，或者a’≠b’≠c’≠d’。例如，第一颜色子像素101仅在其发光区010的长边一侧设置有长条形的子限定结构330，第一颜色子像素101的发光区010的长边和分别与其紧邻的两个长条形的子限定结构330之间的距离分别为e和f，如e和f的取值范围包括：0≤e≤20μm，0≤f≤20μm。例如，e和f可以相等，也可以不等。例如，第二开口220可以为像素限定图案200中位于子像素10之间的槽，限定结构300的宽度需要考虑第二开口220的宽度，而第二开口220的宽度要考虑相邻子像素10的发光区010之间的距离，第二开口220的宽度为g，g的取值范围包括：0≤g≤20μm。例如，不同位置处的第二开口220的宽度可以相等。例如，子限定结构330的宽度可以为h，h的取值范围包括：0≤h≤5μm。例如，第二开口220与子限定结构330交叠宽度需要考虑发光功能层130的材料的隔断效果，如交叠宽度在0～h之间。
在一些示例中，如图12所示，至少一个子限定结构330包括一个子限定结构330，子限定结构330的第一部分310的边缘更靠近第一颜色子像素101的发光区010的边缘。例如，第一颜色子像素101和第二颜色子像素102之间设置一个子限定结构330，该子限定结构330与第一颜色子像素101的发光区010之间的距离小于该子限定结构330与第二颜色子像素102的发光区010之间的距离。
例如，如图12所示，第一颜色子像素101和第三颜色子像素103之间 设置一个子限定结构330，该子限定结构330更靠近第三颜色子像素103。
例如，如图12所示，限定结构300仅第二部分320的边缘起到隔断发光功能层130的作用，将该边缘设置为更靠近红色子像素，可以实现对红色子像素的隔断效果最大化，但不限于此，该边缘也可以设置为更靠近绿色子像素。例如，图12示意性地示出限定结构300起到隔断发光功能层130作用的边缘位于蓝色子像素和绿色子像素之间的部分更靠近绿色子像素，但不限于此，该边缘也可以更靠近蓝色子像素。例如，围绕红色子像素的环形子限定结构330也可以设置成具有位于绿色子像素两侧的条形子限定结构330的形状。例如，位于绿色子像素两侧的条状子限定结构330也可以设置为具有环形形状的子限定结构330。例如，第二开口220不能设置为围绕任何一个发光区010的闭合环状结构，如围绕任一发光区010的第二开口220的数量可以为多个，且间隔排布，第二开口220的大小与工艺相关。
在一些示例中，如图12所示，同一个子像素10的彼此相对的两侧均设置有与其距离最近的两个子限定结构330，且两个子限定结构330之一为另一个相对于同一个子像素10的发光区010的中心旋转对称的结构。例如，第一颜色子像素101的发光区010的长边两侧的两个子限定结构330可以相对于该发光区010的沿其长边的延伸方向延伸的中心线呈对称分布，以提高像素限定部230的对称性。例如，上述两个子限定结构330之一围绕该发光区010的中心旋转180度后与另一个子限定结构330重合。一方面，上述对称设计可以使得特定方向上的隔断效果比较对称，另一方面，上述对称设置的子限定结构起到支撑掩模板作用时，有利于提高蒸镀掩模板的支撑受力均匀性。
例如，图13仅示意出了位于第一颜色子像素101一侧的限定结构300，如第一颜色子像素101的两侧均设置有限定结构300。例如，位于同一子像素10两侧的子限定结构330均为一侧边缘被像素限定部230包覆，另一个边缘被第二开口220暴露。例如，位于同一子像素10两侧的限定结构300可以相对于该子像素10的发光区010的中心线对称分布。例如，位于同一子像素10两侧的第二开口220可以相对于子像素10的发光区010的中心对称分布。
例如，如图12所示，限定结构300的边缘比第二开口220的边缘更靠 近第一颜色子像素101，如绿色子像素的发光区010，如限定结构300的第一部分310比限定结构300的第二部分320更靠近第一颜色子像素101的发光区010。例如，限定结构300的边缘比第二开口220的边缘更靠近第三颜色子像素103，如红色子像素的发光区010，如限定结构300的第一部分310比限定结构300的第二部分320更靠近第三颜色子像素103的发光区010。
例如，如图12所示，限定结构300的边缘比第二开口220的边缘更远离第二颜色子像素102，如蓝色子像素的发光区010，如限定结构300的第二部分320比限定结构300的第一部分310更靠近第二颜色子像素102的发光区010。
不同颜色子像素的数据写入电压具有差异，导致低灰阶显示画面时，蓝色子像素和绿色子像素易受红色子像素的电流漏电引起低灰阶，如红色子像素串扰到蓝色子像素或者绿色子像素，由此，本示例提供的显示基板通过将限定结构设置为更远离蓝色子像素，可以提高蓝色子像素发光区四周的第二电极的通道占比，提高第二电极的连续性，防止跨压增加，提高显示均一性。
图15为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部平面结构示意图。图15所示显示基板与图12所示显示基板的不同之处在于限定结构300、第二开口220以及不同颜色子像素10的发光区010之间的相对位置关系不同。
例如，如图15所示，第二开口220的边缘比限定结构300的边缘更靠近第一颜色子像素101的发光区010，如限定结构300的第二部分320比第一部分310更靠近第一颜色子像素101的发光区010。例如，第二开口220的边缘比限定结构300的边缘更靠近第三颜色子像素103的发光区010，如限定结构300的第二部分320比第一部分310更靠近第三颜色子像素103的发光区010。
例如，如图15所示，位于第一颜色子像素101与第三颜色子像素103之间的限定结构300更靠近第三颜色子像素103的发光区010，以实现对第三颜色子像素103的发光功能层130的至少一层的隔断效果最大化，达到防止串扰的目的。
图15所示显示基板中除限定结构、第二开口以及发光区的位置关系不同于图12所示限定结构、第二开口以及发光区的位置关系外，图15所示显 示基板中的其他结构可以与图12所示显示基板中的其他结构具有相同的特征，在此不再赘述。图15所示显示基板中限定结构的形状可以与图12所示显示基板中限定结构的形状相同，图15所示第二开口的形状可以与图12所示显示基板中第二开口的形状相同，图15所示各发光区的形状以及分布可以与图12所示显示基板中各发光区的形状以及分布相同。
图16为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部截面结构示意图。图16可以为沿显示基板中的BB’线所截的局部截面结构示意图。
图16所示显示基板与图12至图14所示显示基板的区别在于同一颜色子像素10仅一侧设置了限定结构300。
例如，如图16所示，限定结构300仅位于像素限定图案200的第一开口210的一侧，且仅限定结构300位置处设置有第二开口220。例如，限定结构300可以位于特定颜色子像素10的一侧，如红色子像素、绿色子像素或者蓝色子像素的一侧。例如，限定结构300可以位于两种特定颜色子像素10之间，如绿色子像素和蓝色子像素之间，或者绿色子像素和红色子像素之间。例如，限定结构300可以对应于三种颜色子像素10设置。例如，限定结构300可以包括多个子限定结构330，多个子限定结构330可以均匀设置，也可以在显示区的特定位置处设置。本公开实施例对限定结构的位置不作限定，可以根据产品需要进行设置。
图16所示示例中的显示基板中除限定结构300的位置与图12至图14所示显示基板中限定结构300的位置不同外，图16所示显示基板中其他结构可以与图12至图14所示显示基板中相应结构具有相同的特征，在此不再赘述。例如，图16所示显示基板中限定结构300的截面可以与图12至图14所示显示基板中限定结构300的截面具有相同的特征，在此不再赘述。
图17和图18为根据本公开实施例的不同示例提供的显示基板的局部截面结构示意图。图17和图18可以为沿显示基板中的BB’线所截的局部截面结构示意图。
图17所示显示基板与图12至图14所示显示基板的区别在于限定结构300与像素限定图案200的相对位置关系不同，以及限定结构300与第一电极110的相对位置关系不同。
在一些示例中，如图17所示，限定结构300覆盖第一电极110的边缘。 通过将限定结构300覆盖第一电极110的边缘，有利于防止在像素限定部230边缘过薄，无法覆盖第一电极110导致第一电极110的边缘裸露，产生显示不良。
在一些示例中，如图17所示，沿相邻两个不同颜色子像素10的排列方向上，限定结构300覆盖第一电极110的尺寸不大于5微米。例如，沿图中所示BB’线的延伸方向，限定结构300覆盖第一电极110的尺寸不大于5微米。例如，沿BB’线的延伸方向，限定结构300覆盖第一电极110的尺寸大于0。例如，例如，沿图中所示BB’线的延伸方向，限定结构300覆盖第一电极110的尺寸可以为1微米、或者2微米。或者3微米等。限定结构300覆盖第一电极110的尺寸可以为大于0且小于5微米中的任一数值，在此不再一一穷举。
例如，如图17所示，限定结构300覆盖的第一电极110的尺寸可以为在垂直于限定结构300的延伸方向上的尺寸。
在一些示例中，如图17所示，限定结构300的第二部分320至少被第一开口210暴露。例如，限定结构300的第二部分320在衬底基板01上的正投影的面积小于限定结构300的第一部分310在衬底基板01上的正投影的面积。例如，限定结构300仅覆盖同一个第一电极110的部分边缘以使得至少部分膜层在第一开口210中的至少部分为连续结构。限定结构300被第一开口210暴露的部分和第一开口210共同限定子像素10的发光区010。
例如，如图17所示，显示基板中像素限定图案200包括的开口201均为第一开口210，第一开口210的部分位置处发光功能层130连续设置，部分位置处的发光功能层130的至少一层断开。例如，如图17所示显示基板可以不包括图12所示示例中的第二开口220。
图17示意性地示出第一电极110在BB’线延伸方向的两侧均设置有覆盖第一电极110的边缘的限定结构300，但不限于此，还可以将第一电极110设置为第一电极110的一侧边缘被限定结构300覆盖，第一电极110的另一侧边缘被像素限定部230覆盖。
例如，如图17所示，沿垂直于衬底基板01的方向，限定结构300的第一部分310与第一电极110没有交叠，限定结构300的第二部分320与第一电极110交叠。
例如，如图17所示，可以在一种颜色子像素10的第一电极110边缘被限定结构300覆盖，在其他颜色子像素10的第一电极110的边缘被像素限定部230覆盖。例如，相邻两个不同颜色子像素10中，仅一个子像素10的第一电极110被限定结构300覆盖，另一个子像素10的第一电极110被像素限定部230覆盖。
当然，本公开实施例不限于此，还可以将图12至图15所示限定结构300结合到图17所示限定结构300中，如部分位置处的第一电极110的边缘被限定结构300覆盖，部分位置处的第一电极110与限定结构300间隔设置。
图17所示示例中的显示基板中除限定结构300的位置以及像素限定图案200与图12至图14所示显示基板中限定结构300的位置以及像素限定图案200不同外，图17所示显示基板中其他结构可以与图12至图14所示显示基板中相应结构具有相同的特征，在此不再赘述。例如，图17所示显示基板中限定结构300的截面可以与图12至图14所示显示基板中限定结构300的截面具有相同的特征，在此不再赘述。
图18所示显示基板中相邻两个子像素之间可以设置两个子限定结构330，两个子限定结构330之一覆盖第一电极110的边缘且被第一开口210暴露，类似于图17所示覆盖第一电极110的边缘且被第一开口210暴露的子限定结构330。
在一些示例中，如图18所示，位于相邻两个子像素之间的至少一个子限定结构330包括间隔设置的两个子限定结构330，两个子限定结构330之一的第二部分320被第一开口210暴露，两个子限定结构330中的另一个的第二部分320被第二开口220暴露。通过在相邻两个子像素之间设置两个子限定结构330，两个子限定结构330之一被第一开口210暴露的同时覆盖第一电极110的边缘，两个子限定结构330的另一个被第二开口220暴露，不仅有利于进一步提高发光功能层130的隔断效果，进一步降低串扰，还可以降低第一电极110的边缘被裸露导致被腐蚀的风险。当然，本公开实施例不限于此，例如两个子限定结构330之一可以仅覆盖第一电极110的边缘而没有被第一开口210暴露，两个子限定结构330的另一个被第二开口220暴露。
图19为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部平面结构示意图。图20为沿图19所示CC’线所截的局部截面结构示意图。图19所 示显示基板与图12所示显示基板的不同之处在于限定结构300的宽度以及限定结构300与第一电极110的位置关系不同。图20所示显示基板与图17所示显示基板的不同之处在于暴露限定结构300的开口201不同。
例如，如图19和图20所示，限定结构300覆盖第一电极110的边缘，且限定结构300覆盖第一电极110的边缘的部分为限定结构300的第一部分310。例如，第一电极110包括为被第一开口210暴露的部分、被像素限定部230覆盖的部分以及被限定结构300覆盖的部分。通过将限定结构300覆盖第一电极110的边缘，有利于防止在像素限定部230边缘过薄，无法覆盖第一电极110导致第一电极110的边缘裸露，产生显示不良。
例如，如图19和图20所示，限定结构300的第二部分320仅被第二开口220暴露，而没有被第一开口210暴露。
图19和图20所示示例中的显示基板中除限定结构300的位置与图12至图14所示显示基板中限定结构300与第一电极110的位置关系不同外，图19和图20所示显示基板中其他结构可以与图12至图14所示显示基板中相应结构具有相同的特征，在此不再赘述。例如，图19和图20所示显示基板中限定结构300的截面可以与图12至图14所示显示基板中限定结构300的截面具有相同的特征，在此不再赘述。
图21为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部截面结构示意图。图21所示显示基板与图20所示显示基板的不同之处在于限定结构300与第一开口210的位置关系。
在一些示例中，如图21所示，位于两个子像素10之间的至少一个子限定结构330包括一个子限定结构330，该子限定结构330的一侧边缘被第一开口210暴露，一个子限定结构330的另一侧边缘被第二开口220暴露。通过将子限定结构330的两侧边缘分别被第一开口210和第二开口220暴露的同时，子限定结构330覆盖第一电极110的边缘，不仅有利于进一步提高发光功能层130的隔断效果，进一步降低串扰，还可以降低第一电极110的边缘被裸露导致被腐蚀的风险。
例如，如图21所示，子限定结构330包括两个第二部分320以及位于两个第二部分320之间的第一部分310，两个第二部分320分别被第一开口210和第二开口220暴露。例如，被第一开口210暴露的第二部分320在衬 底基板01上的正投影的面积不大于被第二开口220暴露的第二部分320在衬底基板01上的正投影的面积。
图21所示示例中的显示基板中除限定结构300、像素限定图案200以及第一电极110的位置关系不同于图12至图14所示显示基板中限定结构300、像素限定图案200以及第一电极110的位置关系外，图21所示显示基板中其他结构可以与图12至图14所示显示基板中相应结构具有相同的特征，在此不再赘述。例如，图21所示显示基板中限定结构300的截面可以与图12至图14所示显示基板中限定结构300的截面具有相同的特征，在此不再赘述。
图22为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部平面结构示意图。图23为沿图22所示DD’线所截的局部截面结构示意图。图22所示显示基板与图12所示显示基板的区别在于围绕第一颜色子像素101的限定结构300的形状不同，且围绕第一颜色子像素101的限定结构300与第二开口220的位置关系不同。
例如，如图22和图23所示，相邻设置的第一颜色子像素101和第二颜色子像素102之间设置有一个子限定结构330，相邻设置的第一颜色子像素101和第三颜色子像素103之间设置有两个子限定结构330。通过对不同颜色子像素之间设置的子限定结构330的数量不同，可以在降低容易发生串扰的第一颜色子像素101与第三颜色子像素103之间的串扰的同时，增大第二颜色子像素102周围第二电极120连通通道的尺寸，提高第二电极120的连续性。当然，本公开实施例不限于此，第一颜色子像素101与第二颜色子像素102之间也可以设置两个子限定结构330。
在一些示例中，如图22和图23所示，位于相邻两个子像素之间的至少一个子限定结构330包括间隔设置的两个子限定结构330，两个子限定结构330的彼此相对的边缘均被同一个第二开口220暴露，进一步提高相邻两个子像素10的发光功能层130的隔断效果。例如，两个子限定结构330中的两个第二部分320彼此靠近。
在一些示例中，如图22和图23所示，两个子限定结构330分别为围绕相邻两个不同颜色子像素的发光区010的两个环形子限定结构330。例如，第一颜色子像素101的发光区010和第三颜色子像素103的发光区010分别 被两个环形子限定结构330围绕，两个环形子限定结构330彼此靠近的边缘被同一个第二开口220暴露。例如，暴露每个环形子限定结构330的第二开口220的数量为多个，该多个第二开口220彼此间隔设置。
通过将相邻两个子像素的发光区均设置为被环形子限定结构围绕，以提高相邻两个子像素的发光区周围像素限定部的高度的均一性。
图22示意性地示出第一颜色子像素101的发光区010和第三颜色子像素103的发光区010均被环形子限定结构330围绕，但不限于此，如第一颜色子像素101的发光区010和第二颜色子像素102的发光区010均被环形子限定结构330围绕，如第二颜色子像素102的发光区010和第三颜色子像素103的发光区010均被环形子限定结构330围绕，如第一颜色子像素101的发光区010、第二颜色子像素102的发光区010以及第三颜色子像素103的发光区010均被环形子限定结构330围绕。
图22和图23所示示例中的显示基板中除围绕第一颜色子像素101的限定结构300的形状不同，且围绕第一颜色子像素101的限定结构300与第二开口220的位置关系不同于图12至图14所示显示基板中围绕第一颜色子像素101的限定结构300的形状不同，且围绕第一颜色子像素101的限定结构300与第二开口220的位置关系外，图22和图23所示显示基板中其他结构可以与图12至图14所示显示基板中相应结构具有相同的特征，在此不再赘述。例如，图21所示显示基板中限定结构300的截面可以与图12至图14所示显示基板中限定结构300的截面具有相同的特征，在此不再赘述。
需要说明的是，图12至图22所示示例中的显示基板中示意性地示出限定结构以及第二开口存在与子像素的第一电极交叠的情况，但该示意图并不限制限定结构以及第二开口与第一电极的交叠关系，如图12至图22所示示例中的显示基板中的限定结构和第二开口的至少之一还可以不与任何第一电极交叠。
图24和图25为根据本公开实施例的不同示例提供的显示基板的局部平面结构示意图。图26为沿图24所示EE’线所截的局部截面结构示意图。图27为沿图25所示FF’线所截的局部截面结构示意图。
图24和图25所示显示基板与图12至图14所示显示基板的不同之处在于限定结构300和第二开口220的形状以及位置不同。图24和图25还示出 了隔垫物400。
在一些示例中，如图24至图27所示，显示基板还包括位于像素限定部230远离衬底基板01一侧的隔垫物400，限定结构300的材料与隔垫物400的材料不同。例如，隔垫物400(PS)被配置为在制作发光层时支撑精细金属掩模(FMM Mask)。
例如，如图24至图27所示，限定结构300的材料可以包括负性光刻胶，隔垫物400的材料可以包括正性光刻胶。例如，正性光刻胶指受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解，留下的非曝光部分的图形与掩膜板的图案一致。负性光刻胶指受光照部分产生交链反应而成为不溶物，非曝光部分被显影液溶解，形成的图形与掩膜板的图案互补。
在一些示例中，如图24至图27所示，隔垫物400的厚度不大于5微米，且像素限定部230的厚度不大于5微米。例如，隔垫物400的厚度不大于4微米，像素限定部230的厚度不大于4微米。例如，像素限定部230的厚度大于1微米。例如，隔垫物400的厚度大于1微米。例如，沿垂直于衬底基板01的方向，像素限定部230与限定结构300交叠部分的厚度可以小于限定结构300的厚度。例如，沿垂直于衬底基板01的方向，像素限定部230与限定结构300交叠部分的厚度可以为1.1～1.3微米，限定结构300的厚度可以为1.4～1.6微米。
例如，如图24和图26所示，在垂直于衬底基板01的方向上，隔垫物400与限定结构300没有交叠。例如，隔垫物400的厚度可以大于限定结构300的厚度，以实现隔垫物400对掩模板的支撑。
在一些示例中，如图25和图27所示，隔垫物400在衬底基板01上的正投影与限定结构300在衬底基板01上的正投影有交叠。例如，隔垫物400在衬底基板01上的正投影完全落入限定结构300在衬底基板01上的正投影内。由此，隔垫物400和限定结构300组成的结构用于支撑掩模板，有利于提高支撑效果。
在一些示例中，如图25和图27所示，限定结构300包括多个限定部340以及连接多个限定部340的至少部分的连接部350，沿垂直于衬底基板01的方向，限定部340与第二开口220交叠，且连接部350在衬底基板01上的正投影完全落入像素限定部230在衬底基板01上的正投影内；隔垫物400 在衬底基板01上的正投影完全落入连接部350在衬底基板01上的正投影内。
例如，如图25所示，限定部340位于相邻第一颜色子像素101与第二颜色子像素102之间，或者位于相邻第一颜色子像素101与第三颜色子像素103之间，且限定部340的第二部分320被第二开口220暴露。例如，连接部350可以位于四个限定部340之间并将四个限定部340连接起来。例如，限定部340与连接部350可以为一体化设置的结构。通过将限定结构设置为包括彼此联通的限定部和连接部，既可以增大限定结构的密度，以增大线宽均一性，还有利于提高限定结构的对称性。
例如，如图25和图27所示，层叠设置的限定结构300、像素限定部230以及隔垫物400的高度之和不大于10微米。例如，层叠设置的限定结构300、像素限定部230以及隔垫物400的高度和不大于9微米，或者不大于7微米，或者不大于5微米等。
例如，如图25所示，在垂直于衬底基板01的方向上，与隔垫物400交叠的连接部350在Y方向上的尺寸大于与隔垫物400不交叠的连接部350在Y方向上的尺寸。
例如，如图25所示，由四个限定部340和一个连接部350组成的限定结构300可以为异形限定结构300，围绕第一颜色子像素101的限定结构300可以包括两个间隔设置的异形限定结构300，围绕第三颜色子像素103的限定结构300可以包括两个间隔设置的异形限定结构300。例如，异形限定结构300朝向第一颜色子像素101的发光区010弯曲。例如，异形限定结构300朝向第三颜色子像素103的发光区010弯曲。
在一些示例中，如图24和图25所示，各子像素的第一电极110包括主体电极111和连接电极112，主体电极111与子像素10的发光区010的形状相似；至少一个子像素的连接电极112在衬底基板01上的正投影与限定结构300以及开口201在衬底基板01上的正投影均没有交叠。
例如，如图24和图25所示，在垂直于衬底基板01的方向，主体电极111与像素限定图案200的第一开口210交叠，连接电极112与像素限定图案200的第一开口210没有交叠。例如，连接电极112被配置为与像素电路中的发光控制晶体管电连接。例如，第三颜色子像素103的第一电极110除 了主体电极111和连接电极112以外，还包括遮光部113以对像素电路中的某些结构遮光。
例如，如图24和图25所示，至少部分子像素10的连接电极112在衬底基板01上的正投影与限定结构300以及开口201在衬底基板01上的正投影均没有交叠。例如，各子像素10的连接电极112在衬底基板01上的正投影与限定结构300以及开口201在衬底基板01上的正投影均没有交叠。例如，至少一个子像素10的连接电极112在衬底基板01上的正投影与限定结构300以及开口201的至少之一在衬底基板01上的正投影有交叠。例如，至少一个子像素10的连接电极112在衬底基板01上的正投影与限定结构300以及开口201在衬底基板01上的正投影的至少之一有交叠，且交叠尺寸不超过1微米。
例如，如图24和图25所示，连接电极112被配置为通过位于其与发光控制晶体管之间的绝缘层中的过孔与发光控制晶体管电连接，沿垂直于衬底基板的方向，限定结构300和开口201与至少一个子像素10中的该过孔均没有交叠。例如，沿垂直于衬底基板的方向，限定结构300和开口201与各子像素10中的该过孔均没有交叠。
图24和图25所示示例中的显示基板中除限定结构300和第二开口220的形状以及位置不同于图12至图14所示显示基板中限定结构300和第二开口220的形状以及位置外，图24和图25所示显示基板中其他结构可以与图12至图14所示显示基板中相应结构具有相同的特征，在此不再赘述。例如，图21所示显示基板中限定结构300的截面可以与图12至图14所示显示基板中限定结构300的截面具有相同的特征，在此不再赘述。
例如，图24和图25示意性地示出相邻两个子像素10之间设置有一个子限定结构330，但不限于此，相邻两个子像素10之间还可以设置两个子限定结构330。例如，图24和图25示意性地示出限定结构300与第一电极110间隔设置，但不限于此，限定结构300也可以覆盖第一电极110的边缘。例如，图24和图25示意性地示出限定结构300被第二开口220暴露，但不限于此，限定结构300也可以为第一开口210暴露。
例如，如图24所示，至少一个子限定结构330的长度为L11，与该子限定结构330交叠的第二开口220的长度为L12，L11大于L12，由此通过第 二开口的尺寸限定子像素的发光功能层被隔断的程度。例如，至少一个子限定结构330的长度为L10，与该子限定结构330交叠的第二开口220的长度为L20，L10基本等于L20，由此，需要管控像素限定图案和限定结构在显示基板上不同位置的均一性，以保证发光功能层被隔断效果的均一性。上述子限定结构330的长度可以为子限定结构330的沿其延伸方向上的最大尺寸，上述第二开口220的长度可以为第二开口220沿子限定结构330的延伸方向上的最大尺寸。
需要说明的是，图12至图27所示截面图仅是示意性的，如像素限定部远离衬底基板一侧表面在部分位置处可以具有平坦表面，在部分位置处可以为弧形表面，各截面图中限定结构的宽度、高度以及边角等特征、像素限定部的宽度、高度以及边角等特征仅是示意性的，不代表具体尺寸关系以及具体形貌特征。
图28为根据本公开实施例的另一示例提供的显示基板的局部平面结构示意图。图29为图28所示显示基板的局部放大图。图28和图29所示显示基板与图24所示显示基板的不同之处在于限定结构300和与其交叠的第二开口220的长度关系。图28和图29所示显示基板除限定结构和与其交叠的第二开口的长度关系外的其他结构可以与图24所示显示基板中相应结构具有相同的特征，在此不再赘述。
例如，如图28和图29所示，沿子限定结构300的延伸方向，至少一个子限定结构330的长度为L1，与该子限定结构330交叠的第二开口220的长度为L2，L1小于L2，由此保证子限定结构的一侧边缘完全被裸露，该子限定结构的长度决定发光功能层被隔断的程度。
图30为根据本公开另一实施例提供的显示基板的局部截面结构示意图。
参考图13以及图30，显示基板包括衬底基板01、位于衬底基板01上的多个子像素10以及像素限定图案200。至少部分子像素10中的每个子像素10包括发光功能层130，发光功能层130包括多个膜层。子像素10还包括沿垂直于衬底基板01的方向(如垂直于图12所示XY面的方向)位于发光功能层130两侧的第一电极110和第二电极120，第一电极110位于发光功能层130与衬底基板01之间。发光功能层130可以包括用于发光的发光层以及电荷产生层133。像素限定图案200包括多个第一开口210和多个第 二开口220，多个第一开口210被配置为限定至少部分子像素10的发光区010，发光功能层130中至少一层位于第一开口210中的至少部分为连续的部分，且位于至少一个第二开口220中的至少部分隔断。图12和图13示意性的示出发光功能层130中的膜层位于第一开口210中的部分为连续的部分，且位于第二开口220中的部分被隔断。一个子像素10对应至少一个第一开口210，子像素10的发光功能层130的至少部分位于子像素10对应的第一开口210中，且第一开口210被配置为暴露第一电极110。
如图30所示，显示基板还包括位于衬底基板01上的限定结构300，限定结构300至少位于相邻两个不同颜色子像素10之间，限定结构300包括覆盖像素限定部230的远离衬底基板01一侧表面的第一部分310以及位于第二开口220中的第二部分320，限定结构300的第二部分320被配置为隔断发光功能层的所述至少一层。例如，限定结构300的第一部分310位于像素限定部230远离衬底基板01的一侧，且沿垂直于衬底基板01的方向上，限定结构300的第一部分312与像素限定部230交叠。例如，垂直于衬底基板01的方向上，限定结构300的第二部分320的至少部分与像素限定部230没有交叠。例如，限定结构300的第二部分320的至少部分覆盖像素限定部230的侧边。例如，沿垂直于衬底基板01的方向，限定结构300的第二部分320与像素限定部230远离衬底基板01一侧表面没有交叠。
如图30所示，限定结构300的材料包括有机材料，限定结构300的第二部分320中远离衬底基板01一侧表面边缘相对于靠近衬底基板01一侧表面边缘突出。例如，限定结构300的第二部分320的侧面与限定结构300靠近衬底基板01一侧表面所在平面的夹角大于20度且小于90度。
本公开提供的采用有机材料的限定结构的第一部分覆盖像素限定部，第二部分落入第二开口的同时，将限定结构的第二部分中远离衬底基板一侧表面边缘设置为相对于靠近衬底基板一侧表面边缘突出，不仅可以对不同颜色子像素之间的发光功能层的至少一层进行隔断以降低串扰，还可以保证子像素的电极平坦性以及正常出光效果的同时，将限定结构对工艺和产能的影响降到最低。
在一些示例中，如图30所示，限定结构300的第一部分310中靠近衬底基板01一侧表面边缘相对于远离衬底基板01一侧表面边缘突出，且限定 结构300的第一部分310的厚度小于限定结构300的第二部分320的至少部分位置处的厚度。例如，限定结构300的第一部分310的厚度小于限定结构300的第二部分320中没有与像素限定部230交叠的部分的厚度。例如，限定结构300的第一部分310的厚度小于限定结构200的第二部分320中与像素限定部230交叠的部分的厚度。
例如，如图30所示，限定结构300的第二部分320的厚度大于像素限定部230的厚度。例如，限定结构300的第二部分320的各位置处的厚度均大于像素限定部230的厚度。例如，限定结构300的第一部分310的厚度小于像素限定部230的厚度。
例如，如图30所示，限定结构300覆盖像素限定部230的尺寸不大于20微米。例如，限定结构300覆盖像素限定部230的尺寸不大于15微米，或者不大于14微米，或者不大于13微米，或者不大于10微米等。
图30所示显示基板中除限定结构与像素限定部在垂直于衬底基板上的位置关系不同外，其他结构，如子像素、第一开口以及第二开口的形状、限定结构与第二开口的尺寸关系等结构可以与图12至图29所示显示基板中相应的结构具有相同的特征，在此不再赘述。
图31为根据本公开另一实施例提供的显示装置的示意性框图。本公开另一实施例提供一种显示装置，该显示装置包括上述任一种显示基板。
例如，该显示装置还包括位于显示基板出光侧的盖板。
例如，该显示装置可以为有机发光二极管显示装置等显示器件以及包括该显示装置的电视、数码相机、手机、手表、平板电脑、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或者部件，本实施例不限于此。
有以下几点需要说明：
(1)本公开的实施例附图中，只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(2)在不冲突的情况下，本公开的同一实施例及不同实施例中的特征可以相互组合。
以上所述仅是本公开的示范性实施方式，而非用于限制本公开的保护范围，本公开的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims (26)

  1. 一种显示基板，包括：
    衬底基板；
    多个子像素，位于所述衬底基板上，所述子像素包括发光功能层，所述发光功能层包括多个膜层；
    像素限定层，所述像素限定层包括多个开口以及围绕所述多个开口的像素限定部，所述多个开口包括多个第一开口和多个第二开口，所述第一开口被配置为限定所述子像素的发光区，所述发光功能层中的至少一层位于所述第一开口中的至少部分为连续的部分，且位于所述第二开口中的至少部分被隔断；
    至少一个第一限定结构，所述第一限定结构包括与所述像素限定部交叠的第一部分以及被所述第二开口暴露的第二部分，所述第一限定结构的第二部分被配置为隔断所述发光功能层的所述至少一层；
    其中，所述显示基板还包括至少一个支撑结构，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影与所述第一限定结构在所述衬底基板上的正投影之间的最小距离为第一距离，所述支撑结构在所述衬底基板上的正投影与所述第二开口在所述衬底基板上的正投影之间的最小距离为第二距离，所述第一距离和所述第二距离均大于0微米、且小于10微米。
  2. 根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述第一距离和所述第二距离均不小于2微米。
  3. 根据权利要求1或2所述的显示基板，其中，所述支撑结构的被平行于所述衬底基板的一平面所截的截面的边缘上的任意两点之间的直线距离不大于20微米。
  4. 根据权利要求1-3任一项所述的显示基板，其中，所述支撑结构的远离所述衬底基板的至少部分表面比所述像素限定部更远离所述衬底基板，所述支撑结构被平行于所述衬底基板的一平面所截的截面为圆形、椭圆形或多边形。
  5. 根据权利要求1-4任一项所述的显示基板，其中，在垂直于所述衬底基板的方向上，所述支撑结构的尺寸不大于10微米。
  6. 根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述第一限定结构的所述第一部分覆盖在所述像素限定部上，
    所述第一限定结构的所述第一部分的远离其第二部分的侧面的至少部分与所述第一部分的靠近所述衬底基板的第一表面之间具有坡度角，且所述侧面的所述至少部分与所述第一表面的靠近所述第二部分的部分之间的角度小于90度。
  7. 根据权利要求6所述的显示基板，其中，在相邻子像素的排列方向上，位于该相邻子像素之间的所述第一限定结构被一平面所截的截面的最大尺寸为第一尺寸，且该第一限定结构的所述第一部分被所述平面所截的截面的最大尺寸为第二尺寸，所述第二尺寸不小于所述第一尺寸的1/2，且不大于10微米，所述平面平行于所述相邻子像素的所述排列方向，且所述平面垂直于所述衬底基板。
  8. 根据权利要求1-7任一项所述的显示基板，其中，所述多个子像素包括多个第一子像素、多个第二子像素以及多个第三子像素，所述第一子像素、所述第二子像素以及所述第三子像素构成重复单元，
    所述重复单元中的所述第一子像素与所述第二子像素在第一排列方向上依次排列，所述第一子像素与所述第二子像素在第二排列方向上位于所述第三子像素的一侧，所述第一排列方向与所述第二排列方向相交。
  9. 根据权利要求8所述的显示基板，其中，所述第一子像素、所述第二子像素以及所述第三子像素中任意两个相邻子像素之间设置有一个所述第一限定结构以及一个所述第二开口，
    相邻子像素的发光区与位于相邻子像素之间的所述第二开口的距离不相等，所述第一限定结构的所述第二部分位于其第一部分与所述相邻子像素中与所述第二开口邻近的所述子像素的发光区之间。
  10. 根据权利要求8或9所述的显示基板，其中，所述第一限定结构的靠近所述子像素的第一开口的边缘的长度小于所述第二开口的靠近所述子像素的第一开口的边缘的长度，所述第二开口在其延伸方向上的两端位于与其交叠的所述第一限定结构的两端的两侧。
  11. 根据权利要求1-7任一项所述的显示基板，其中，所述多个子像素包括多个第一子像素、多个第二子像素以及多个第三子像素，所述多个子像 素排列为沿第一排列方向交替设置的多个第一子像素组和多个第二子像素组，所述第一子像素组包括沿第二排列方向交替设置的所述第一子像素和所述第二子像素，所述第二子像素组包括沿所述第二排列方向排列的所述第三子像素，所述第一排列方向与所述第二排列方向相交；
    所述第一子像素组与所述第二子像素组在所述第二排列方向上错开分布，且至少部分第一子像素中的各第一子像素被八个子像素包围，所述八个子像素包括交替设置的所述第二子像素以及所述第三子像素。
  12. 根据权利要求1-11任一项所述的显示基板，其中，所述显示基板包括：
    第一区域，被配置为进行显示，所述多个子像素中的至少部分子像位于所述第一区域；
    第二区域，所述第一区域位于所述第二区域的至少一侧；
    第三区域，位于所述第一区域与所述第二区域之间，
    其中，所述显示基板包括位于第三区域中的至少一个第二限定结构，所述第二限定结构在所述衬底基板上的正投影呈环形，并围绕所述第二区域，所述第二限定结构的材料与所述第一限定结构的材料相同，所述发光功能层中的至少一层膜层被所述第二限定结构的未与所述像素限定部交叠的边缘部分隔断。
  13. 根据权利要求12所述的显示基板，其中，所述像素限定层中的所述多个开口包括第三开口，所述第三开口位于所述第三区域，并被配置为暴露所述第二限定结构的至少部分，
    其中，所述至少一个第二限定结构包括第一子限定结构和第二子限定结构中的至少之一，所述第一子限定结构被所述第三开口完全暴露，所述第二子限定结构包括与所述像素限定部交叠的第三部分以及被所述第三开口暴露的第四部分，所述第二子限定结构的所述第四部分被配置为隔断所述发光功能层的所述至少一层。
  14. 根据权利要求12所述的显示基板，还包括：第三限定结构，所述第三限定结构位于所述第三区域，且所述第三限定结构位于所述第二限定结构与所述第二区域之间，所述像素限定部位于所述第三限定结构的远离所述第二区域的一侧，所述第三限定结构被配置为隔断所述发光功能层的至少一层 膜层。
  15. 根据权利要求14所述的显示基板，其中，所述第一限定结构、所述第二限定结构以及第三限定结构中的至少之一的远离所述衬底基板的表面边缘相对于靠近所述衬底基板的表面边缘凸出。
  16. 根据权利要求11所述的显示基板，其中，所述第一限定结构的所述第一部分被所述像素限定部覆盖，
    所述第三子像素的发光区的面积小于所述第二子像素的发光区的面积，位于所述第二子像素与所述第三子像素之间的所述第二开口与所述第三子像素的所述发光区之间的距离不小于与所述第二子像素的所述发光区之间的距离。
  17. 根据权利要求16所述的显示基板，其中，在相邻子像素的排列方向上，位于该相邻子像素之间的所述第一限定结构被一平面所截的截面的最大尺寸为第一尺寸，且该第一限定结构的所述第一部分被所述平面所截的截面的最大尺寸为第二尺寸，所述第二尺寸不小于所述第一尺寸的1/2，所述平面平行于所述相邻子像素的所述排列方向，且所述平面垂直于所述衬底基板。
  18. 根据权利要求16或17所述的显示基板，其中，所述第二开口在其延伸方向上的长度与所述第一限定结构在其延伸方向上的长度不相等。
  19. 根据权利要求16或17所述的显示基板，其中，所述第二开口在其延伸方向上的长度与所述第一限定结构在其延伸方向上的长度相等，所述第一距离与所述第二距离不相等。
  20. 根据权利要求16-19任一项所述的显示基板，其中，所述第二开口被所述平面所截的截面在所述相邻子像素的排列方向上的最大尺寸不大于10微米。
  21. 根据权利要求16-20任一项所述的显示基板，其中，所述第二开口在其延伸方向上的长度不大于50微米。
  22. 根据权利要求16-21任一项所述的显示基板，其中，所述第一限定结构与所述子像素的所述第一电极之间的距离不大于15微米。
  23. 根据权利要求16-22任一项所述的显示基板，其中，所述第一限定结构的靠近所述子像素的所述发光区的边缘的长度不大于50微米。
  24. 根据权利要求16-23任一项所述的显示基板，其中，所述多个子像 素排列为多个子像素行和多个子像素列，
    在平行于所述衬底基板的方向上，位于相邻两个所述子像素行之间的相邻第一限定结构之间的距离不大于40微米，位于相邻两个所述子像素列之间的相邻第一限定结构之间的距离不大于40微米。
  25. 一种显示面板，包括权利要求1-24任一项所述的显示基板。
  26. 一种显示装置，包括权利要求1-24任一项所述的显示基板。
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