WO2025079639A1 - ガラス - Google Patents

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WO2025079639A1
WO2025079639A1 PCT/JP2024/036287 JP2024036287W WO2025079639A1 WO 2025079639 A1 WO2025079639 A1 WO 2025079639A1 JP 2024036287 W JP2024036287 W JP 2024036287W WO 2025079639 A1 WO2025079639 A1 WO 2025079639A1
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WO
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glass
less
mgo
content
oxide
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PCT/JP2024/036287
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English (en)
French (fr)
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力也 門
博文 ▲徳▼永
衛 礒部
悠波 小林
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass

Definitions

  • the present invention relates to glass.
  • Patent Document 1 describes a supporting glass substrate with a high Young's modulus to suppress bending.
  • the objective of the present invention is to provide glass that is easy to manufacture while suppressing deflection.
  • the glass according to the present disclosure is an alkali-free glass in which parameter A shown in formula (1) is 0.817 or less, parameter B shown in formula (2) is 0.898 or more, the ratio of the content of MgO to the total content of divalent oxide RO expressed in mole percent on an oxide basis is 0.65 or more, and the Young's modulus is 80 GPa or more.
  • the present invention makes manufacturing easier while suppressing deflection.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of the glass according to this embodiment.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of the glass according to the present embodiment.
  • the glass 10 according to the present embodiment is used as a glass substrate for manufacturing a semiconductor package, and more specifically, is a supporting glass substrate for manufacturing FOWLP and the like.
  • the use of the glass 10 is not limited to the manufacture of FOWLP and the like, and is arbitrary, and may be a glass substrate used to support a member, or may be used for purposes other than supporting a member.
  • FOWLP and the like include fan out wafer level package (FOWLP) and fan out panel level package (FOPLP).
  • FOWLP fan out wafer level package
  • FOPLP fan out panel level package
  • Glass Composition Next, a preferred composition of the glass 10 will be described.
  • the content of oxide A x O y (A is an element constituting the oxide, and x and y are any integers) contained in glass 10 in mol% notation based on oxide is represented as [A x O y ].
  • the content here refers to the ratio of the content of oxide A x O y to the entire glass 10 in mol% notation based on oxide. That is, for example, [SiO 2 ] in formula (1) refers to the ratio of the content of SiO 2 to the entire glass 10 in mol% notation based on oxide.
  • glass 10 does not have to contain all of the oxides represented by formula (1).
  • the content of oxides not contained in glass 10 is treated as 0.
  • glass 10 may contain components other than the oxides represented by formula (1).
  • the parameter A of glass 10 is preferably 0.817 or less, more preferably 0.813 or less, more preferably 0.809 or less, more preferably 0.802 or less, more preferably 0.796 or less, and more preferably 0.789 or less.
  • Parameter A is also preferably 0.781 or more, and is also preferably 0.781 or more and 0.817 or less, but is also preferably 0.783 or less, is also preferably 0.776 or less, and is also preferably 0.770 or less.
  • Glass 10 does not have to contain all of the oxides shown in formula (2).
  • the content of oxides not contained in glass 10 is treated as 0.
  • glass 10 may contain components other than the oxides shown in formula (2).
  • Parameter B of glass 10 is preferably 0.898 or greater, more preferably 0.901 or greater, more preferably 0.904 or greater, more preferably 0.907 or greater, more preferably 0.911 or greater, more preferably 0.915 or greater, more preferably 0.921 or greater, more preferably 0.926 or greater, and even more preferably 0.931 or greater.
  • Parameter B of glass 10 is also preferably 0.935 or less, and is also preferably 0.903 or greater and 0.935 or less. Having parameter B in this range prevents the temperature difference between the molding temperature and the softening temperature from becoming too small, facilitating viscosity control during molding and facilitating production.
  • the glass 10 contains SiO 2 (the content of SiO 2 is higher than 0 mol%).
  • the content of SiO 2 in the glass 10 is preferably 55.0% or more and 65.0% or less, more preferably 55% or more and 65% or less, more preferably 57% or more and 64.5% or less, more preferably 59% or more and 64% or less, more preferably 61% or more and 63.5% or less, and even more preferably 61.5% or more and 62.5% or less, expressed in mol% on an oxide basis.
  • the content of SiO 2 in this range it is possible to easily manufacture the glass while suppressing warping.
  • glass 10 contains Al 2 O 3.
  • the content of Al 2 O 3 in glass 10 is preferably 3% or more and 13.0% or less, more preferably 5% or more and 11% or less, more preferably 7% or more and 9% or less, more preferably 7.0% or more and 8.5% or less, more preferably 7.2% or more and 8.5% or less, more preferably 7.4% or more and 8% or less, and even more preferably 7.5% or more and 7.7% or less, expressed in mole % based on oxide.
  • B2O3 B 2 O 3 has the effect of suppressing devitrification due to crystallization of glass, facilitating production, and controlling Young's modulus. Therefore, it is preferable that glass 10 contains B 2 O 3.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 1.0% or more and 10.0% or less, more preferably 2% or more and 9% or less, more preferably 3% or more and 8.5% or less, more preferably 4% or more and 8% or less, more preferably 5.5% or more and 7.5% or less, more preferably 5.8% or more and 6.8% or less, and even more preferably 6% or more and 6.5% or less, in mole % on an oxide basis.
  • the ratio (MgO/RO) of the glass 10 is preferably 0.65 or more, more preferably 0.65 to 0.9, more preferably 0.68 to 0.9, more preferably 0.7 to 0.85, more preferably 0.72 to 0.8, and even more preferably 0.74 to 0.77.
  • R refers to a divalent metal
  • RO refers to an oxide of the divalent metal R
  • the content of RO refers to the total content of the divalent oxide.
  • the total content of the divalent oxides refers to the total content of those divalent oxides, and when one type of divalent oxide is contained, it refers to the content of that divalent oxide.
  • the total content of divalent oxides RO is preferably 10.0% or more and 40.0% or less, more preferably 15% or more and 35% or less, more preferably 17.5% or more and 30% or less, more preferably 20% or more and 27.5% or less, more preferably 22% or more and 26% or less, more preferably 23.5% or more and 25% or less, and even more preferably 24% or more and 24.5% or less. Having the total RO content within this range makes it possible to easily manufacture the glass while suppressing warping.
  • MgO Since MgO is a component that can increase Young's modulus without increasing density, that is, that increases the specific elastic modulus, it is preferable that the glass 10 contains MgO.
  • MgO is a component that is easy to adjust the viscosity of glass.
  • rare earth oxides are components that increase Young's modulus, but they reduce the temperature dependency of viscosity in the high temperature range, resulting in a large temperature difference between the melting temperature and the forming temperature.
  • Al2O3 is also a component that increases Young's modulus and suppresses deflection, but it has a high effect of increasing the viscosity of glass, and may impair melting characteristics and formability.
  • MgO is also a component that contributes to the viscosity of glass, but by adjusting the content, it is a component that is excellent in both suppressing deflection and ease of manufacture.
  • the glass 10 preferably has an MgO content of 10.0% to 25.0%, more preferably 12% to 22%, more preferably 14% to 22%, more preferably 16% to 22%, more preferably 16.5% to 22%, more preferably 16.5% to 20%, more preferably 16.6% to 18.6%, more preferably 16.7% to 18%, and even more preferably 17% to 17.7% in mole percent based on oxide. Having an MgO content within this range makes it possible to easily manufacture the glass while suppressing warping.
  • the glass 10 may not contain CaO (the CaO content is 0 mol%), but may contain CaO.
  • the CaO content of the glass 10 is preferably 1.0% to 10.0%, more preferably 1.1% to 7% or less, more preferably 1.5% to 4.2% or less, more preferably 1.8% to 3.7% or less, more preferably 2.2% to 3.4% or less, more preferably 2.4% to 3% or less, and even more preferably 2.5% to 2.7% or less, in terms of oxide-based mol%.
  • SrO has the effect of increasing density and controlling Young's modulus, and improves solubility.
  • Glass 10 may not contain SrO, but may contain SrO.
  • the content of SrO in glass 10 is preferably 0.1% to 5.0%, more preferably 0.1% to 3.4%, more preferably 0.5% to 3%, more preferably 0.9% to 2.6%, and even more preferably 1% to 2% in mole percent based on oxide. By having the content of SrO in this range, it is possible to easily manufacture the glass while suppressing warping.
  • (BaO) BaO has a greater effect of increasing density than SrO, and improves solubility.
  • the glass 10 may not contain BaO, but may contain BaO.
  • the glass 10 has a BaO content of 0.1% to 5.0%, more preferably 1% to 4.8%, more preferably 1.5% to 4.7%, more preferably 2% to 4.5%, more preferably 2.5% to 4.3%, more preferably 3% to 4.1%, and even more preferably 3.3% to 3.8%, in mole percent on an oxide basis.
  • the BaO content in this range makes it easy to manufacture while suppressing warping.
  • glass 10 may not contain ZnO, but may contain ZnO.
  • the content of ZnO is preferably 0.1% or more and 10% or less, more preferably 0.5% or more and 8% or less, more preferably 1% or more and 7% or less, more preferably 1.5% or more and 6% or less, more preferably 2% or more and 5% or less, more preferably 2.5% or more and 4% or less, and even more preferably 3% or more and 3.5% or less, in mole % on an oxide basis.
  • the glass 10 is preferably an alkali-free glass.
  • the alkali-free glass is glass that does not substantially contain alkali metal oxides such as Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O.
  • substantially not containing alkali metal oxides means that the glass does not contain any alkali metal oxides other than unavoidable impurities mixed in from raw materials, etc. In other words, the glass does not intentionally contain any alkali metal oxides.
  • the glass 10 preferably has a Li 2 O content of 0%, a Na 2 O content of 0%, and a K 2 O content of 0%, expressed in mole percent on an oxide basis.
  • oxides (sub-oxides) other than the oxides listed above may be included in order to adjust various mechanical properties, melting properties, and moldability.
  • the oxides listed above refer to SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , RO (divalent oxides), and alkali metal oxides.
  • the sub-oxides include metal oxides such as TiO 2 and ZrO 2 , and rare earth oxides such as Y 2 O 3 and La 2 O 3.
  • the glass 10 may contain 5% or less of sub-oxides in total, preferably 3% or less, more preferably 2% or less, more preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, more preferably 0.3% or less, more preferably 0.2% or less, and even more preferably 0.1% or less, and it is particularly preferable that the glass 10 does not substantially contain any sub-oxides.
  • PbO PbO has the effect of increasing the Young's modulus, but is an oxide that places a high burden on the environment. For this reason, it is preferable that glass 10 does not contain PbO.
  • the PbO content of glass 10 is preferably 0.1% or less, more preferably 0.05% or less, and even more preferably 0.01% or less, expressed in mole percent based on oxide. By keeping the PbO content within this range, the environmental burden can be suppressed.
  • the glass 10 does not contain Fe2O3 .
  • the content of Fe2O3 in the glass 10, expressed as mass% based on oxide, is preferably 0.1% or less, more preferably 0.001% or more and 0.05% or less, and even more preferably 0.005% or more and 0.01% or less. Such a low content of Fe2O3 can suppress a decrease in light transmittance.
  • the Fe 2 O 3 content in terms of exclusive proportion refers to the ratio of the mass of Fe 2 O 3 contained in the glass 10 to the total mass of all components of the glass 10 excluding Fe 2 O 3 , on an oxide basis.
  • glass 10 can contain, expressed as mass % on an oxide basis, the total amount of SnO2 , CeO2 , Sb2O3 , SO3 , F, and Cl in an amount, by external percentage, of 1.0 wt % or less, preferably 0.5 wt % or less, more preferably 0.3 wt % or less, and even more preferably 0.1 wt % or less.
  • the ratio of the RO content to the total content of SiO2, Al2O3 , and B2O3 , expressed in mole percent on an oxide basis is preferably 0.2 to 0.5, more preferably 0.22 to 0.48, more preferably 0.27 to 0.44, more preferably 0.29 to 0.38, more preferably 0.31 to 0.34, and even more preferably 0.32 to 0.33.
  • the total amount of SiO2, Al2O3, MgO, and CaO (SiO2 + Al2O3 + MgO + CaO), expressed as mole percent on an oxide basis, is preferably 85% or more and 98% or less, more preferably 86% or more and 95% or less, even more preferably 87% or more and 93% or less, and even more preferably 88% or more and 91% or less.
  • SiO2 + Al2O3 + MgO + CaO By having such a high lower limit for the total amount (SiO2 + Al2O3 + MgO + CaO), it is possible to control the density and Young's modulus, and by having the upper limit fall within this range, it is possible to suppress deterioration of solubility.
  • the difference (Al 2 O 3 -RO), which is the value obtained by subtracting the RO content from the Al 2 O 3 content, is preferably -30% or more and 0% or less, more preferably -28.5% or more and -5% or less, still more preferably -25% or more and -8% or less, still more preferably -22% or more and -12% or less, still more preferably -20% or more and -14% or less, and still more preferably -18% or more and -16% or less, expressed in mole % on an oxide basis.
  • (Al 2 O 3 -RO) is in this range, both Young's modulus and solubility can be achieved.
  • Glass 10 is expressed as mole percent on an oxide basis. SiO 2 :60.5% to 61.5% Al2O3 : 7.2 % to 7.7% B2O3 : 6.0 % to 7.0% MgO: 17.0% to 18.0% CaO: 3.5% to 4.5% SrO: 0.0% to 1.0% BaO: 2.5% to 3.5% It is preferred that the compound contains By ensuring that the content of each oxide falls within this range, warping can be suppressed while facilitating production. When the composition of the glass 10 is within the above range, it is preferable that the glass 10 does not contain any oxides other than those listed above, except for unavoidable impurities.
  • glass 10 does not include a sintered body.
  • glass 10 is preferably a glass that is not a sintered body.
  • a sintered body here refers to a member in which a plurality of particles are heated at a temperature lower than the melting point to bond the particles together.
  • a sintered body has a relatively high porosity because it contains pores, but glass 10 has a low porosity, usually 0%, because it is not a sintered body. However, it is acceptable for glass 10 to contain unavoidable small pores.
  • the porosity here refers to the so-called true porosity, which refers to the sum of the volumes of pores (voids) that are connected to the outside and pores (voids) that are not connected to the outside, divided by the total volume (apparent volume).
  • the porosity can be measured, for example, according to JIS R 1634:1998 "Method of measuring density and open porosity of sintered fine ceramics".
  • the glass used for glass 10 is preferably amorphous glass, i.e., an amorphous solid.
  • This glass may also be crystallized glass that contains crystals on the surface or inside, but amorphous glass is preferred from the viewpoint of density.
  • ceramics those made by sintering have low transmittance and high density, so it is preferable not to use them.
  • the glass 10 is a plate-shaped glass substrate including a surface 12 which is a main surface on one side, and a surface 14 which is a main surface on the opposite side to the surface 12.
  • the surface 14 may be parallel to the surface 12, for example.
  • the glass 10 may be a circular disk shape when viewed in a plan view, i.e., when viewed from a direction perpendicular to the surface 12, but is not limited to a disk shape and may be any shape, for example, a polygonal plate such as a rectangle.
  • the above shapes also include those having a notch or an orientation flat (orientation flat) provided on the outer periphery.
  • thickness D of glass 10, i.e., the length between surface 12 and surface 14, is preferably 0.1 mm or more and 5.0 mm or less, more preferably 0.1 mm or more and 2.0 mm or less, and even more preferably 0.1 mm or more and 0.7 mm or more.
  • thickness D 0.1 mm or more glass 10 can be prevented from becoming too thin, and damage due to bending or impact can be prevented.
  • thickness D 2.0 mm or less the glass can be prevented from becoming too heavy, and by making thickness D 0.7 mm or less, the glass can be further prevented from becoming too heavy.
  • the Young's modulus E of the glass 10 is preferably 75 GPa or more, more preferably 77 GPa to 120 GPa, more preferably 79 GPa to 100 GPa, more preferably 81 GPa to 90 GPa, more preferably 83 GPa to 87 GPa, and even more preferably 84 GPa to 86 GPa.
  • the Young's modulus E in this range deflection can be appropriately suppressed. If the Young's modulus is too high, cutting, grinding, and polishing become difficult.
  • the Young's modulus parameter Y of glass 10 calculated from the composition is preferably 0.9 or more, more preferably 0.95 to 1.15, more preferably 0.96 to 1.10, more preferably 0.97 to 1.05, more preferably 0.98 to 1.04, more preferably 0.99 to 1.03, and even more preferably 1.00 to 1.02.
  • the Young's modulus parameter Y is calculated from the following equation (3).
  • the density ⁇ of the glass 10 is preferably 2.4 g/cm 3 or more and 2.9 g/cm 3 or less, more preferably 2.45 g/cm 3 or more and 2.85 g/cm 3 or less, more preferably 2.5 g/cm 3 or more and 2.8 g/cm 3 or less, more preferably 2.55 g/cm 3 or more and 2.75 g/cm 3 or less, more preferably 2.57 g/cm 3 or more and 2.7 g/cm 3 or less, more preferably 2.59 g/cm 3 or more and 2.65 g/cm 3 or less, and even more preferably 2.6 g/cm 3 or more and 2.63 g/cm 3 or less.
  • the ratio (E/ ⁇ ) of Young's modulus E to density ⁇ of glass 10 is preferably 30 GPa ⁇ cm 3 /g or more and 40 GPa ⁇ cm 3 /g or less, more preferably 30.5 GPa ⁇ cm 3 /g or more and 38 GPa ⁇ cm 3 /g or less, more preferably 31 GPa ⁇ cm 3 /g or more and 36 GPa ⁇ cm 3 /g or less, more preferably 31.5 GPa ⁇ cm 3 /g or more and 34 GPa ⁇ cm 3 /g or less, more preferably 32 GPa ⁇ cm 3 /g or more and 33.5 GPa ⁇ cm 3 /g or less, more preferably 32.2 GPa ⁇ cm 3 /g or more and 33 GPa ⁇ cm 3 /g or less, and even more preferably 32.4 GPa ⁇ cm 3 /g or more and 32.7 GPa ⁇ cm 3 /g or less.
  • the linear thermal expansion coefficient ⁇ of glass 10 is preferably 5.8 ppm/°C or less, more preferably 3.6 ppm/°C or more and 5.6 ppm/°C or less, more preferably 3.8 ppm/°C or more and 5.2 ppm/°C or less, more preferably 4 ppm/°C or more and 5.2 ppm/°C or less, more preferably 4.2 ppm/°C or more and 4.8 ppm/°C or less, more preferably 4.3 ppm/°C or more and 4.6 ppm/°C or less, and more preferably 4.35 ppm/°C or more and 4.5 ppm/°C or less.
  • the linear thermal expansion coefficient ⁇ is the average thermal expansion coefficient in the range of 20°C to 300°C, and is a value measured in accordance with DIN-51045-1 as a standard for thermal expansion measurement.
  • a thermal expansion meter DIL 402 Expedis Supreme manufactured by NETZSCH is used as a measuring device to measure in the range of 0°C to 350°C, and the average thermal expansion coefficient in the range of 20°C to 300°C may be used as the linear thermal expansion coefficient.
  • the melting temperature T2 of the glass 10 is preferably 1400°C or more and 1650°C or less, more preferably 1410°C or more and 1620°C or less, more preferably 1440°C or more and 1590°C or less, more preferably 1470°C or more and 1560°C or less, more preferably 1480°C or more and 1550°C or less, more preferably 1490°C or more and 1540°C or less, more preferably 1500°C or more and 1530°C or less, and more preferably 1510°C or more and 1520°C or less.
  • the melting temperature T2 refers to the temperature at which the viscosity ⁇ is 10 2 dPa ⁇ s. Such a relatively low melting temperature T2 makes it easy to melt. Moreover, a relatively high melting temperature T2 can be made equivalent to the melting temperature of other general commercial glasses. This makes it easy to adjust the melting equipment when changing the base material.
  • the working temperature T3 of the glass 10 is preferably 1200°C or higher and 1400°C or lower, more preferably 1215°C or higher and 1390°C or lower, more preferably 1240°C or higher and 1380°C or lower, more preferably 1260°C or higher and 1370°C or lower, more preferably 1290°C or higher and 1360°C or lower, more preferably 1315°C or higher and 1350°C or lower, and even more preferably 1325°C or higher and 1345°C or lower.
  • the working temperature T3 refers to the temperature at which the viscosity ⁇ is 10 3 dPa ⁇ s. Such a relatively low working temperature T3 makes it easy to form the glass.
  • the forming temperature T4 of the glass 10 is preferably 1080°C or more and 1300°C or less, more preferably 1100°C or more and 1280°C or less, more preferably 1120°C or more and 1260°C or less, more preferably 1140°C or more and 1240°C or less, more preferably 1160°C or more and 1220°C or less, more preferably 1180°C or more and 1215°C or less, more preferably 1190°C or more and 1210°C or less, and more preferably 1200°C or more and 1205°C or less.
  • the forming temperature T4 refers to the temperature at which the viscosity ⁇ is 10 4 dPa ⁇ s.
  • the softening temperature T 7.65 of the glass 10 is preferably 800° C. or more and 1000° C. or less, more preferably 830° C. or more and 980° C. or less, more preferably 850° C. or more and 960° C. or less, more preferably 870° C. or more and 940° C. or less, more preferably 890° C. or more and 925° C. or less, more preferably 900° C. or more and 920° C. or less, and more preferably 905° C. or more and 915° C. or less.
  • the softening temperature T 7.65 refers to the temperature at which the viscosity ⁇ is 10 7.65 dPa ⁇ s. Such a relatively low softening temperature T 7.65 makes it easy to mold.
  • the melting temperature T2 , working temperature T3 , and forming temperature T4 can be measured by an inner cylinder rotation method, etc.
  • the softening temperature T7.65 (°C) can be measured by the method specified in JIS R 3103-1 "Viscosity and viscosity fixed points of glass - Part 1: Method for measuring softening point".
  • the glass 10 preferably has a difference (T 2 -T 4 ) between the melting temperature T 2 and the forming temperature T 4 of 280°C or more and 340°C or less.
  • the difference (T 2 -T 4 ) may be 400°C or less, 290°C or more and 375°C or less, 295°C or more and 360°C or less, 298°C or more and 340°C or less, 300°C or more and 320°C or less, 305°C or more and 315°C or less, or 307°C or more and 310°C or less. Since the difference (T 2 -T 4 ) is relatively small in this way, the temperature gradient from the melting process to the forming process is small.
  • the difference (T 4 -T 7.65 ) between the forming temperature T 4 and the softening temperature T 7.65 is preferably 290°C or more, more preferably 290°C or more and 300°C or less.
  • the difference (T 4 -T 7.65 ) may be 250°C or more, 250°C or more and 350°C or less, 260°C or more and 335°C or less, 270°C or more and 315°C or less, 280°C or more and 305°C or less, 285°C or more and 300°C or less, or 290°C or more and 295°C or less.
  • the difference (T 4 -T 7.65 ) is small, precise temperature control is required when controlling the viscosity of the glass in the forming process. It is difficult to perform precise temperature control in large-scale manufacturing equipment, and not only may it be impossible to form the glass into the shape as designed, but cracks and breakage may also occur. Since the difference (T 4 -T 7.65 ) is relatively large in this way, viscosity control during molding becomes easy, facilitating production.
  • Glass 10 may be manufactured by any method, but for example, it is manufactured by the following method. First, raw materials such as silica sand and soda ash, which are the raw materials for the compounds contained in glass 10, are heated to a predetermined temperature (for example, 1500° C. to 1600° C.) and melted. Then, the molten raw materials (glass) are clarified and then a forming step is performed in which the glass is formed into a plate shape. The formed glass has the composition range of glass 10 described above on an oxide basis. Then, glass 10 is manufactured by subjecting the glass formed in the forming step to an annealing step. The manufacturing method of the glass 10 is not limited to the above and may be any method.
  • the annealing step is not essential.
  • various methods can be adopted as the forming step in manufacturing the glass 10, and examples of the method include a melt casting method, a downdraw method (e.g., an overflow downdraw method, a slot-down method, a redraw method, etc.), a float method, a roll-out method, and a press method.
  • FOWLP manufacturing multiple semiconductor chips are bonded onto glass 10, and the semiconductor chips are covered with a sealant to form an element substrate. Then, the glass 10 and the element substrate are separated, and the side of the element substrate opposite the semiconductor chips is bonded, for example, to another piece of glass 10. Then, wiring, solder bumps, etc. are formed on the semiconductor chips, and the element substrate and glass 10 are separated again. The element substrate is then cut into individual semiconductor chips to obtain a semiconductor device.
  • glass 10 according to the first aspect of the present disclosure is an alkali-free glass in which parameter A is 0.817 or less, parameter B is 0.898 or more, the ratio of the content of MgO to the total content of divalent oxides RO (MgO/RO), expressed in mol% on an oxide basis, is 0.65 or more, and Young's modulus E is 80 GPa or more. Since the glass 10 of the present disclosure is an alkali-free glass with a Young's modulus E of 80 GPa or more, it can appropriately suppress deflection.
  • alkali-free glass with a high Young's modulus generally tends to have a large difference (T 2 -T 4 ) between the melting temperature T 2 and the forming temperature T 4 , and a small difference ( T 4 -T 7.65 ) between the forming temperature T 4 and the softening temperature T 7.65 . If the difference (T 2 -T 4 ) is large, the temperature must be significantly lowered during the transition from the melting process to the forming process, which increases energy loss. In addition, if the difference (T 4 -T 7.65 ) is small, the allowable temperature range in the forming process becomes small, making it difficult to control the viscosity and difficult to form.
  • glass 10 of the present disclosure can prevent the viscosity from becoming difficult to control while preventing an increase in energy loss in the transition from the melting step to the molding step.
  • alkali-free glass with a Young's modulus E of 80 GPa or more tends to have a large specific elastic modulus E/ ⁇ (Young's modulus/density), which may lead to cracks during processing.
  • E/ ⁇ Young's modulus/density
  • glass 10 of the present disclosure has parameters A, B, and the ratio (MgO/RO) in the above ranges, so that the specific elastic modulus E/ ⁇ can be kept within an appropriate range, and cracks during processing can be suppressed while making it easy to handle during processing.
  • Glass 10 according to a second aspect of the present disclosure is glass 10 according to the first aspect, further comprising, in mol % on an oxide basis: SiO 2 :55.0% to 65.0%, Al 2 O 3 : 3.0% to 13.0%, B 2 O 3 : 1.0% to 10.0%, RO: 10.0% to 40.0%, It is preferred that the compound contains According to the present disclosure, bending can be suppressed while facilitating manufacturing.
  • Glass 10 according to a third aspect of the present disclosure is glass 10 according to the first or second aspect, comprising, in mol % on an oxide basis: MgO: 10.0% to 25.0%, It is preferred that the compound contains According to the present disclosure, bending can be suppressed while facilitating manufacturing.
  • Glass 10 according to a fourth aspect of the present disclosure is glass 10 according to any one of the first to third aspects, comprising, in mol % on an oxide basis, CaO: 1.0% to 10.0%, It is preferred that the compound contains According to the present disclosure, bending can be suppressed while facilitating manufacturing.
  • Glass 10 according to a fifth aspect of the present disclosure is glass 10 according to any one of the first to fourth aspects, comprising, in mol % on an oxide basis, SrO: 0% to 5.0%, It is preferred that the compound contains According to the present disclosure, bending can be suppressed while facilitating manufacturing.
  • Glass 10 according to a sixth aspect of the present disclosure is glass 10 according to any one of the first to fifth aspects, comprising, in mol % on an oxide basis, BaO: 0% to 5.0%, It is preferred that the compound contains According to the present disclosure, bending can be suppressed while facilitating manufacturing.
  • the glass 10 according to the seventh aspect of the present disclosure is the glass 10 according to any one of the first to sixth aspects, and is preferably used as a substrate.
  • the glass 10 according to the present disclosure is preferably used as a substrate.
  • the glass 10 according to the eighth aspect of the present disclosure is the glass 10 according to the seventh aspect, and is preferably used in the manufacture of at least one of a fan-out wafer level package and a fan-out panel level package.
  • the glass 10 is suitable for these applications.
  • Tables 1-1 to 1-3 show the characteristics of the glass of each example. Note that the embodiment may be modified as long as the effects of the invention are achieved.
  • Example 1 glass having the composition shown in Table 1-1 was produced.
  • a raw plate having a diameter of 320 mm and a thickness of 6 mm was produced using a fusion casting method.
  • a plurality of plates having a diameter of 300 mm and a thickness of 3 mm were cut out from the center of the raw plate. Both sides of these plates were polished using cerium oxide as an abrasive to obtain glass having a thickness of 0.7 mm.
  • the parameter A was calculated using equation (1) above.
  • the parameter B was calculated using equation (2) above.
  • the density ⁇ (g/cm 3 ) was measured for the glass of Example 1.
  • the density was measured by the Archimedes method.
  • the Young's modulus E (GPa) was measured for the glass of Example 1.
  • the Young's modulus was measured by the ultrasonic pulse method specified in JIS R 1602:1995 "Testing method for elastic modulus of fine ceramics.”
  • the bulk density of the sample was measured by the Archimedes method, and the longitudinal wave velocity and shear wave velocity were measured using an ultrasonic thickness gauge 38DL PLUS manufactured by Olympus Corporation to obtain the Young's modulus value.
  • the linear thermal expansion coefficient ⁇ (ppm/°C) was measured for the glass of Example 1.
  • a thermal expansion meter (DIL 402 Expedis Supreme) manufactured by NETZSCH was used as the measuring device to measure in the range of 0°C to 350°C, and the average thermal expansion coefficient in the range of 20°C to 300°C was taken as the linear thermal expansion coefficient ⁇ .
  • the melting temperature T2 (°C), working temperature T3 (°C), and forming temperature T4 (°C) were measured as high temperature viscosity values for the glass of Example 1.
  • the melting temperature T2 , working temperature T3 , and forming temperature T4 were measured by an inner cylinder rotation method.
  • the softening temperature T 7.65 (° C.) was measured for the glass of Example 1.
  • the softening temperature T 7.65 (° C.) was measured by the method specified in JIS R 3103-1 "Viscosity and viscosity fixed points of glass - Part 1: Method for measuring softening point.” The measurement results and calculation results are shown in Table 1-1.
  • Example 2 to 60 glasses were produced in the same manner as in Example 1, except that the glass compositions were as shown in Tables 1-1 to 1-3. The measurement results and calculation results for each Example are shown in Tables 1-1 to 1-3.
  • the glasses of Examples 1 to 41 (Examples) in which the parameter A was 0.817 or less, the parameter B was 0.898 or more, and the ratio (MgO/RO) was 0.65 or more passed the manufacturability evaluation and the deflection evaluation, and it is understood that the glasses can be easily manufactured while suppressing deflection.
  • the glasses of Examples 42 to 60 (Comparative Examples) which do not satisfy at least one of the following conditions: parameter A is 0.817 or less, parameter B is 0.898 or more, and the ratio (MgO/RO) is 0.65 or more, failed at least one of the manufacturability evaluation and the deflection evaluation, and it is found that they cannot be easily manufactured while suppressing deflection.

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Abstract

式（１）に示すパラメータＡが０．８１７以下であり、式（２）に示すパラメータＢが０．８９８以上であり、酸化物基準のモル％表示における、二価の酸化物ＲＯの合計含有量に対するＭｇＯの含有量の比率が０．６５以上であり、無アルカリガラスとすることで、ヤング率が８０ＧＰａ以上であって、たわみを抑制しつつ製造が容易なガラスを提供することができる。　Ａ＝１．７４７－０．０２２×［ＳｉＯ２］＋０．００６×［Ａｌ２Ｏ３］＋０．０１８×［Ｂ２Ｏ３］＋０．０１３×［ＭｇＯ］－０．０１０×［ＣａＯ］－０．００３×［ＳｒＯ］＋０．０１２×［ＢａＯ］＋０．０１５×［ＺｎＯ］　・・・（１）　Ｂ＝１．３１５－０．０１０×［ＳｉＯ２］＋０．００５×［Ａｌ２Ｏ３］＋０．０２３×［Ｂ２Ｏ３］＋０．００４×［ＭｇＯ］－０．０１６×［ＣａＯ］－０．００７×［ＳｒＯ］＋０．０１１×［ＢａＯ］＋０．０１０×［ＺｎＯ］　・・・（２）

Description

ガラス
　本発明は、ガラスに関する。
　半導体デバイスの製造プロセス中に半導体デバイスを支持する部材として、ガラスが用いられることがある。例えば特許文献１には、たわみを抑制するために高ヤング率とした支持ガラス基板が記載されている。
特開２０２１－２０８４０号公報
　このようにたわみを抑制するために高ヤング率としたガラスは、高ヤング率とするために添加した成分によって製造に適さない粘度曲線、すなわち粘度の温度依存性を示す場合が多く、製造を容易とすることが求められている。
　本発明は、たわみを抑制しつつ製造が容易なガラスを提供することを目的とする。
　本開示に係るガラスは、式（１）に示すパラメータＡが０．８１７以下であり、式（２）に示すパラメータＢが０．８９８以上であり、酸化物基準のモル％表示における、二価の酸化物ＲＯの合計含有量に対するＭｇＯの含有量の比率が０．６５以上であり、ヤング率が８０ＧＰａ以上であり、無アルカリガラスである。
　Ａ＝１．７４７－０．０２２×［ＳｉＯ２］＋０．００６×［Ａｌ２Ｏ３］＋０．０１８×［Ｂ２Ｏ３］＋０．０１３×［ＭｇＯ］－０．０１０×［ＣａＯ］－０．００３×［ＳｒＯ］＋０．０１２×［ＢａＯ］＋０．０１５×［ＺｎＯ］　・・・（１）
　Ｂ＝１．３１５－０．０１０×［ＳｉＯ２］＋０．００５×［Ａｌ２Ｏ３］＋０．０２３×［Ｂ２Ｏ３］＋０．００４×［ＭｇＯ］－０．０１６×［ＣａＯ］－０．００７×［ＳｒＯ］＋０．０１１×［ＢａＯ］＋０．０１０×［ＺｎＯ］　・・・（２）
　本発明によれば、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
図１は、本実施形態に係るガラスの模式図である。
　以下に添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含むものである。また、数値については四捨五入の範囲が含まれる。また、「～」で表される数値範囲は、～の前後の数値を下限値及び上限値として含む数値範囲を意味し、以降でも「～」を使用する場合は、同様の意味を指す。また、数値範囲で示した上限値と下限値とは、適宜組み合わせることができる。
　（ガラス）
　図１は、本実施形態に係るガラスの模式図である。図１に示すように、本実施形態に係るガラス１０は、半導体パッケージの製造用のガラス基板として用いられるものであり、より具体的には、ＦＯＷＬＰ等の製造用の支持ガラス基板である。ただし、ガラス１０の用途は、ＦＯＷＬＰ等の製造用に限られず任意であり、部材を支持するために用いられるガラス基板であってよいし、部材の支持以外の用途に用いられてもよい。なお、ＦＯＷＬＰ等とは、ファンアウトウェハレベルパッケージ（Ｆａｎ　Ｏｕｔ　Ｗａｆｅｒ　Ｌｅｖｅｌ　Ｐａｃｋａｇｅ：ＦＯＷＬＰ）やファンアウトパネルレベルパッケージ（Ｆａｎ　Ｏｕｔ　Ｐａｎｅｌ　Ｌｅｖｅｌ　Ｐａｃｋａｇｅ：ＦＯＰＬＰ）を含むものである。
　（ガラスの組成）
　次に、ガラス１０の好ましい組成について説明する。
　（パラメータＡ）
　ガラス１０のパラメータＡを、次の式（１）に示すものとする。
　Ａ＝１．７４７－０．０２２×［ＳｉＯ２］＋０．００６×［Ａｌ２Ｏ３］＋０．０１８×［Ｂ２Ｏ３］＋０．０１３×［ＭｇＯ］－０．０１０×［ＣａＯ］－０．００３×［ＳｒＯ］＋０．０１２×［ＢａＯ］＋０．０１５×［ＺｎＯ］　・・・（１）
　なお、酸化物基準のモル％表記における、ガラス１０に含まれる酸化物ＡｘＯｙ（Ａは酸化物を構成する元素で、ｘ、ｙは任意の整数）の含有量が、［ＡｘＯｙ］で表される。ここでの含有量とは、酸化物基準のモル％表記における、ガラス１０の全体に対する、酸化物ＡｘＯｙの含有量の比率を指す。すなわち例えば、式（１）における［ＳｉＯ２］とは、酸化物基準のモル％表記における、ガラス１０の全体に対する、ＳｉＯ２の含有量の比率を指す。
　また、ガラス１０は、式（１）に示される全ての酸化物を含有していなくてもよい。式（１）においては、ガラス１０に含まれていない酸化物の含有量は、０として扱う。また、ガラス１０は、式（１）に示される酸化物以外の成分を含有していてもよい。
　ガラス１０のパラメータＡは、０．８１７以下であることが好ましく、０．８１３以下であることがより好ましく、０．８０９以下であることがより好ましく、０．８０２以下であることがより好ましく、０．７９６以下であることがより好ましく、０．７８９以下であることがより好ましい。また、パラメータＡは、０．７８１以上であることも好ましく、０．７８１以上０．８１７以下であることも好ましいが、０．７８３以下であることも好ましく、０．７７６以下であることも好ましく、０．７７０以下であることも好ましい。パラメータＡがこの範囲となることで、ガラス１０の溶解温度と成形温度との温度差が高くなることを抑制することで、溶解工程から成形工程への移行時のエネルギーロスの増加を抑制でき、製造を容易にできる。また、パラメータＡがこの範囲となることで、成形温度と軟化温度との温度差が小さくなり過ぎることを抑制して、成形時の粘度制御を容易として、製造を容易にできる。
　（パラメータＢ）
　ガラス１０のパラメータＢを、次の式（２）に示すものとする。
　Ｂ＝１．３１５－０．０１０×［ＳｉＯ２］＋０．００５×［Ａｌ２Ｏ３］＋０．０２３×［Ｂ２Ｏ３］＋０．００４×［ＭｇＯ］－０．０１６×［ＣａＯ］－０．００７×［ＳｒＯ］＋０．０１１×［ＢａＯ］＋０．０１０×［ＺｎＯ］　・・・（２）
　ガラス１０は、式（２）に示される全ての酸化物を含有していなくてもよい。式（２）においては、ガラス１０に含まれていない酸化物の含有量は、０として扱う。また、ガラス１０は、式（２）に示される酸化物以外の成分を含有していてもよい。
　ガラス１０のパラメータＢは、０．８９８以上であることが好ましく、０．９０１以上であることがより好ましく、０．９０４以上であることがより好ましく、０．９０７以上であることがより好ましく、０．９１１以上であることがより好ましく、０．９１５以上であることがより好ましく、０．９２１以上であることがより好ましく、０．９２６以上であることがより好ましく、０．９３１以上であることが更に好ましい。また、ガラス１０のパラメータＢは、０．９３５以下であることも好ましく、０．９０３以上０．９３５以下であることも好ましい。パラメータＢがこの範囲となることで、成形温度と軟化温度との温度差が小さくなり過ぎることを抑制して、成形時の粘度制御を容易として、製造を容易にできる。
　（ＳｉＯ２）
　ガラス１０は、ＳｉＯ２を含有する（ＳｉＯ２の含有量が０モル％より高い）ことが好ましい。溶解温度や液相温度の上昇を適切に抑制するために、ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２の含有量が、５５．０％以上６５．０％以下であることが好ましく、５５％以上６５％以下であることがより好ましく、５７％以上６４．５％以下であることがより好ましく、５９％以上６４％以下であることがより好ましく、６１％以上６３．５％以下であることがより好ましく、６１．５％以上６２．５％以下であることが更に好ましい。ＳｉＯ２の含有量がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　（Ａｌ２Ｏ３）
　Ａｌ２Ｏ３は、ヤング率を上げてたわみを抑制し、かつガラスの分相を抑制する効果がある。そのため、ガラス１０は、Ａｌ２Ｏ３を含有することが好ましい。ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、Ａｌ２Ｏ３の含有量が、３％以上１３．０％以下であることが好ましく、５％以上１１％以下であることがより好ましく、７％以上９％以下であることがより好ましく、７．０％以上８．５％以下であることがより好ましく、７．２％以上８．５％以下であることがより好ましく、７．４％以上８％以下であることがより好ましく、７．５％以上７．７％以下であることが更に好ましい。Ａｌ２Ｏ３の含有量がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　（Ｂ２Ｏ３）
　Ｂ２Ｏ３は、ガラスの結晶化による失透を抑制して製造を容易にし、ヤング率を制御する効果がある。そのため、ガラス１０は、Ｂ２Ｏ３を含有することが好ましい。ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、Ｂ２Ｏ３の含有量が、１．０％以上１０．０％以下であることが好ましく、２％以上９％以下であることがより好ましく、３％以上８．５％以下であることがより好ましく、４％以上８％以下であることがより好ましく、５．５％以上７．５％以下であることがより好ましく、５．８％以上６．８％以下であることがより好ましく、６％以上６．５％以下であることが更に好ましい。Ｂ２Ｏ３の含有量がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　（ＭｇＯ／ＲＯ）
　ＭｇＯは、密度を上げずにヤング率を上げるため、２族元素の中では比弾性率を高くする効果があり、ＲＯの含有量に対するＭｇＯの含有量の比率（ＭｇＯ／ＲＯ）は比弾性率を制御する上で重要である。そのため、ガラス１０は、比率（ＭｇＯ／ＲＯ）が、０．６５以上であることが好ましく、０．６５以上０．９以下であることがより好ましく、０．６８以上０．９以下であることがより好ましく、０．７以上０．８５以下であることがより好ましく、０．７２以上０．８以下であることがより好ましく、０．７４以上０．７７以下であることが更に好ましい。ここでのＲは２価の金属を指し、ＲＯとは２価の金属Ｒの酸化物を指し、ＲＯの含有量とは、二価の酸化物の合計含有量を指す。二価の酸化物の合計含有量は、二価の酸化物が複数種類含まれている場合には、それらの二価の酸化物の合計含有量を指し、二価の酸化物が１種類含まれている場合には、その二価の酸化物の含有量を指す。比率（ＭｇＯ／ＲＯ）がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　（ＲＯ）
　ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、二価の酸化物ＲＯの合計含有量が、１０．０％以上４０．０％以下であることが好ましく、１５％以上３５％以下であることがより好ましく、１７．５％以上３０％以下であることがより好ましく、２０％以上２７．５％以下であることがより好ましく、２２％以上２６％以下であることがより好ましく、２３．５％以上２５％以下であることがより好ましく、２４％以上２４．５％以下であることが更に好ましい。ＲＯの合計含有量がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　（ＭｇＯ）
　ＭｇＯは密度を上げることなくヤング率を上げることができる、すなわち比弾性率を増加させる成分であることから、ガラス１０は、ＭｇＯを含有することが好ましい。また、ヤング率を上げる成分の中でも、ＭｇＯはガラスの粘性を調整しやすい成分である。例えば希土類酸化物はヤング率を増加させる成分であるが、高温域の粘度の温度依存性を低下させ、結果として溶解温度と成形温度との温度差が大きくしてしまう。Ａｌ２Ｏ３も同様にヤング率を上げてたわみを抑制する成分であるが、ガラスの粘度を高くさせる効果が高く、溶解特性や成形性を損なうことがある。ＭｇＯもガラスの粘度に寄与する成分であるが、含有量を調整することによって、たわみの抑制と製造容易性の両立に優れた成分である。ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、ＭｇＯの含有量が、１０．０％以上２５．０％以下であることが好ましく、１２％以上２２％以下であることがより好ましく、１４％以上２２％以下であることがより好ましく、１６％以上２２％以下であることがより好ましく、１６．５％以上２２％以下であることがより好ましく、１６．５％以上２０％以下であることがより好ましく、１６．６％以上１８．６％以下であることがより好ましく、１６．７％以上１８％以下であることがより好ましく、１７％以上１７．７％以下であることが更に好ましい。ＭｇＯの含有量がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　（ＣａＯ）
　ＣａＯは、２族元素の酸化物ではＭｇＯに次いで比弾性率を高くする効果がある。そのため、ガラス１０は、ＣａＯを非含有（ＣａＯの含有量が０モル％）でもよいが、ＣａＯを含有していてもよい。ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、ＣａＯの含有量が、１．０％以上１０．０％以下であることが好ましく、１．１％以上７％以下であることがより好ましく、１．５％以上４．２％以下であることがより好ましく、１．８％以上３．７％以下であることがより好ましく、２．２％以上３．４％以下であることがより好ましく、２．４％以上３％以下であることがより好ましく、２．５％以上２．７％以下であることが更に好ましい。ＣａＯの含有量がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　（ＳｒＯ）
　ＳｒＯは、密度を上げ、ヤング率を制御する効果があり、溶解性を向上させる。ガラス１０は、ＳｒＯを非含有でもよいが、ＳｒＯを含有していてもよい。ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、ＳｒＯの含有量が、０．１％以上５．０％以下であることが好ましく、０．１％以上３．４％以下であることがより好ましく、０．５％以上３％以下であることがより好ましく、０．９％以上２．６％以下であることがより好ましく、１％以上２％以下であることが更に好ましい。ＳｒＯの含有量がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　（ＢａＯ）
　ＢａＯは、ＳｒＯよりも密度を上げる効果があり、溶解性を向上させる。ガラス１０は、ＢａＯを非含有でもよいが、ＢａＯを含有していてもよい。ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、ＢａＯの含有量が、０．１％以上５．０％以下であることが好ましく、１％以上４．８％以下であることがより好ましく、１．５％以上４．７％以下であることがより好ましく、２％以上４．５％以下であることがより好ましく、２．５％以上４．３％以下であることがより好ましく、３％以上４．１％以下であることがより好ましく、３．３％以上３．８％以下であることが更に好ましい。ＢａＯの含有量がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　（ＺｎＯ）
　ＺｎＯは、ガラスの溶解性をよくし、ヤング率を高くする効果がある。そのため、ガラス１０は、ＺｎＯを非含有でもよいが、ＺｎＯを含有していてもよい。ＺｎＯの含有量を１０％以下にすることで線熱膨張係数が高くなるのを抑制できる。ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、ＺｎＯの含有量が、０．１％以上１０％以下であることが好ましく、０．５％以上８％以下であることがより好ましく、１％以上７％以下であることがより好ましく、１．５％以上６％以下であることがより好ましく、２％以上５％以下であることがより好ましく、２．５％以上４％以下であることがより好ましく、３％以上３．５％以下であることが更に好ましい。ＺｎＯの含有量がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　（アルカリ金属酸化物）
　ガラス１０は、無アルカリガラスであることが好ましい。無アルカリガラスとは、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ等のアルカリ金属酸化物を実質的に含有しないものである。ここで、アルカリ金属酸化物を実質的に含有しないとは、原料等から混入する不可避的不純物以外にはアルカリ金属酸化物を含有しないことを意味する。すなわち、アルカリ金属酸化物を意図的に含有させないものを意味する。
　例えば、ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、Ｌｉ２Ｏの含有量が０％であることが好ましく、Ｎａ２Ｏの含有量が０％であることが好ましく、Ｋ２Ｏの含有量が０％であることが好ましい。
　上述した成分に加え、様々な機械的特性、溶融性、成形性を調整するために、以上で挙げた酸化物以外の酸化物（副酸化物）を含んでよい。なお、以上で挙げた酸化物とは、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＲＯ（２価の酸化物）、及びアルカリ金属酸化物を指す。副酸化物としては、例えば、ＴｉＯ２やＺｒＯ２などの金属酸化物や、Ｙ２Ｏ３やＬａ２Ｏ３などの希土類酸化物が挙げられる。ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、副酸化物を、総量で、５％以下含有してよく、３％以下が好ましく、２％以下がより好ましく、１％以下であることがより好ましく、０．５％以下であることがより好ましく、０．３％以下であることがより好ましく、０．２％以下であることがより好ましく、０．１％以下であることがさらに好ましく、実質的に含有しないことがとくに好ましい。
　（ＰｂＯ）
　ＰｂＯは、ヤング率を高くする効果があるが、環境負荷が高い酸化物である。そのため、ガラス１０は、ＰｂＯを含有しないことが好ましい。ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、ＰｂＯの含有量が、０．１％以下であることが好ましく、０．０５％以下であることがより好ましく、０．０１％以下であることが更に好ましい。ＰｂＯの含有量がこの範囲となることで、環境負荷を抑えることができる。
　（Ｆｅ２Ｏ３）
　ガラス１０は、Ｆｅ２Ｏ３を含有しないことが好ましい。ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、外割でのＦｅ２Ｏ３の含有量が、０．１％以下が好ましく、０．００１％以上０．０５％以下であることがより好ましく、０．００５％以上０．０１％以下であることが更に好ましい。Ｆｅ２Ｏ３の含有量がこのように低いことで、光の透過率の低下を抑制できる。
　なお、外割でのＦｅ２Ｏ３の含有量とは、酸化物基準において、Ｆｅ２Ｏ３を除いたガラス１０の全成分の質量の合計値に対する、ガラス１０に含まれるＦｅ２Ｏ３の質量の比率を指す。
　（ガラスの好ましい組成）
　以下に、ガラス１０の好ましい組成範囲についてさらに説明する。
　ガラスの清澄性を改善するため、ガラス１０は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｎＯ２、ＣｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＳＯ３、Ｆ、及びＣｌの総量が、外割で、１．０ｗｔ％以下、好ましくは０．５ｗｔ％以下、より好ましくは０．３ｗｔ％以下、さらに好ましくは０．１ｗｔ％以下含有できる。
　ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２とＡｌ２Ｏ３とＢ２Ｏ３との合計含有量に対する、ＲＯの含有量の比率（（ＲＯ）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３））が、０．２以上０．５以下であることが好ましく、０．２２以上０．４８以下であることがより好ましく、０．２７以上０．４４以下であることがより好ましく、０．２９以上０．３８以下であることがより好ましく、０．３１以上０．３４以下であることがより好ましく、０．３２以上０．３３以下であることが更に好ましい。比率（（ＲＯ）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３））がこの範囲となることで、ヤング率と溶解性を両立することができる。
　ガラス１０は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯの総量（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ）が、酸化物基準のモル％表示で、８５％以上９８％以下であることが好ましく、８６％以上９５％以下であることがより好ましく、８７％以上９３％以下であることがより好ましく、８８％以上９１％以下であることが更に好ましい。総量（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ）の下限がこのように高いことで、密度とヤング率を制御することができ、上限がこの範囲となることで、溶解性の悪化を抑制できる。
　ガラス１０は、Ａｌ２Ｏ３の含有量からＲＯの含有量を差し引いた値である差（Ａｌ２Ｏ３－ＲＯ）が、酸化物基準のモル％表示で、－３０％以上０％以下であることが好ましく、－２８．５％以上－５％以下であることがより好ましく、－２５％以上－８％以下であることがより好ましく、－２２％以上－１２％以下であることがより好ましく、－２０％以上－１４％以下であることがより好ましく、－１８％以上－１６％以下であることが更に好ましい。（Ａｌ２Ｏ３－ＲＯ）がこの範囲となることで、ヤング率と溶解性を両立することができる。
　ガラス１０は、酸化物基準のモル％表示で、
　ＳｉＯ２：６０．５％～６１．５％
　Ａｌ２Ｏ３：７．２％～７．７％
　Ｂ２Ｏ３：６．０％～７．０％
　ＭｇＯ：１７．０％～１８．０％
　ＣａＯ：３．５％～４．５％
　ＳｒＯ：０．０％～１．０％
　ＢａＯ：２．５％～３．５％
　を含有することが好ましい。
　各酸化物の含有量がこの範囲となることで、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　なお、ガラス１０の組成が上記範囲である場合、ガラス１０は、不可避的不純物を除き、上記で挙げて以外の酸化物を含まないことが好ましい。
　なお、ガラス１０は、焼結体を含まないことが好ましい。すなわち、ガラス１０は、焼結体でないガラスであることが好ましい。ここでの焼結体とは、複数の粒子を融点より低い温度で加熱して、粒子同士を結合させた部材を指す。焼結体は、空孔を含むため気孔率がある程度高くなるが、ガラス１０は、焼結体でないため、気孔率が低く、通常０％である。ただし、不可避な微量な気孔を含むことは許容される。ここでの気孔率は、いわゆる真の気孔率であり、外部に連通する気孔（空孔）及び外部に連通しない気孔（空孔）との容積の和を、全容積（見かけの容積）で除した値を指す。気孔率は、例えばＪＩＳ　Ｒ　１６３４：１９９８「ファインセラミックスの焼結体密度・開気孔率の測定方法」に従って測定できる。
　また、ガラス１０に使用されるガラスは通常非晶質のガラス、すなわち非晶質固体であることが好ましい。またこのガラスは表面や内部に結晶を含む結晶化ガラスであってもよいが、密度の観点から非晶質のガラスが好ましい。セラミックスの内、焼結法により作製されたものは透過率が低く、密度が大きくなるため使用しないことが好ましい。
　（ガラスの形状）
　次に、ガラス１０の形状について説明する。図１に示すように、ガラス１０は、一方側の主面である表面１２と、表面１２の反対側の主面である表面１４とを含む板状のガラス基板である。表面１４は、例えば、表面１２と平行であってよい。ガラス１０は、平面視で、すなわち表面１２に直交する方向から見た場合に、円形となる円板形状であってよいが、円板形状に限られず任意の形状であってよく、例えば矩形などの多角形状の板であってもよい。なお、外周にノッチやオリフラ（オリエンテーション・フラット）などの切欠きが設けられたものも上記形状には含まれる。
　また、ガラス１０の厚みＤ、すなわち表面１２と表面１４との間の長さは、０．１ｍｍ以上５．０ｍｍ以下であることが好ましく、０．１ｍｍ以上２．０ｍｍ以下であることがより好ましく、０．１ｍｍ以上０．７ｍｍ以上であることがさらに好ましい。厚みＤを０．１ｍｍ以上とすることで、ガラス１０が薄くなり過ぎることを抑えて、たわみや衝撃による破損を抑制できる。厚みＤを２．０ｍｍ以下とすることで、重くなることを抑制でき、厚みＤを０．７ｍｍ以下とすることで、重くなることをさらに好適に抑制できる。
　（ガラスの特性）
　次に、ガラス１０の特性について説明する。
　（ヤング率）
　ガラス１０のヤング率Ｅは、７５ＧＰａ以上が好ましく、７７ＧＰａ以上１２０ＧＰａ以下がより好ましく、７９ＧＰａ以上１００ＧＰａ以下がより好ましく、８１ＧＰａ以上９０ＧＰａ以下がより好ましく、８３ＧＰａ以上８７ＧＰａ以下がより好ましく、８４ＧＰａ以上８６ＧＰａ以下が更に好ましい。ヤング率Ｅをこの範囲とすることで、たわみを適切に抑制できる。ヤング率が高すぎると、切断や研削、研磨加工が困難になる。
　（ヤング率パラメータ）
　組成から算出されるガラス１０のヤング率パラメータＹは、０．９以上が好ましく、０．９５以上１．１５以下がより好ましく、０．９６以上１．１０以下がより好ましく、０．９７以上１．０５以下がより好ましく、０．９８以上１．０４以下がより好ましく、０．９９以上１．０３以下がより好ましく、１．００以上１．０２以下がさらに好ましい。ヤング率パラメータＹをこの範囲とすることで、ヤング率Ｅを上記範囲にすることができ、たわみを適切に抑制できる。
　ヤング率パラメータＹは、次の式（３）から算出される。
　Ｙ＝（６０－０．２４４［ＳｉＯ２］＋０．２７［Ａｌ２Ｏ３］－０．６０［Ｂ２Ｏ３］＋０．６３［ＭｇＯ］＋０．４８［ＣａＯ］－０．５６［ＳｒＯ］－０．２２［ＢａＯ］＋１．３７［ＺｎＯ］）／８５　・・・（３）
　（密度）
　ガラス１０の密度ρは、２．４ｇ／ｃｍ３以上２．９ｇ／ｃｍ３以下が好ましく、２．４５ｇ／ｃｍ３以上２．８５ｇ／ｃｍ３以下がより好ましく、２．５ｇ／ｃｍ３以上２．８ｇ／ｃｍ３以下がより好ましく、２．５５ｇ／ｃｍ３以上２．７５ｇ／ｃｍ３以下がより好ましく、２．５７ｇ／ｃｍ３以上２．７ｇ／ｃｍ３以下がより好ましく、２．５９ｇ／ｃｍ３以上２．６５ｇ／ｃｍ３以下がより好ましく、２．６ｇ／ｃｍ３以上２．６３ｇ／ｃｍ３以下が更に好ましい。
　（Ｅ／ρ）
　ガラス１０の密度ρに対するヤング率Ｅの比率（Ｅ／ρ）は、３０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上４０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以下が好ましく、３０．５ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上３８ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以下がより好ましく、３１ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上３６ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以下がより好ましく、３１．５ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上３４ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以下がより好ましく、３２ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上３３．５ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以下がより好ましく、３２．２ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上３３ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以下がより好ましく、３２．４ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上３２．７ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以下が更に好ましい。比率（Ｅ／ρ）の下限がこの範囲となることで、重量を抑制しつつたわみを抑制できるため、工程上でも扱いやすくなる。また、比率（Ｅ／ρ）の上限がこの範囲となることで、加工の際のクラック発生を抑制できる。
　（線熱膨張係数）
　ガラス１０の線熱膨張係数αは、５．８ｐｐｍ／℃以下が好ましく、３．６ｐｐｍ／℃以上５．６ｐｐｍ／℃以下がより好ましく、３．８ｐｐｍ／℃以上５．２ｐｐｍ／℃以下がより好ましく、４ｐｐｍ／℃以上５．２ｐｐｍ／℃以下がより好ましく、４．２ｐｐｍ／℃以上４．８ｐｐｍ／℃以下がより好ましく、４．３ｐｐｍ／℃以上４．６ｐｐｍ／℃以下がより好ましく、４．３５ｐｐｍ／℃以上４．５ｐｐｍ／℃以下がより好ましい。
　線熱膨張係数をこの範囲とすることで、たわみを適切に抑制できる。線熱膨張係数αは、２０℃～３００℃の範囲における平均熱膨張係数であり、熱膨張測定の規格としてＤＩＮ－５１０４５－１に準拠して測定した値である。例えば、測定装置としてＮＥＴＺＳＣＨ社製の熱膨張計ＤＩＬ　４０２　Ｅｘｐｅｄｉｓ　Ｓｕｐｒｅｍｅ）を用いて０℃～３５０℃の範囲で測定し、そのうち２０℃～３００℃の範囲の平均熱膨張係数を、線熱膨張係数としてよい。
　（溶解温度Ｔ２、作業温度Ｔ３、成形温度Ｔ４、軟化温度Ｔ７．６５）
　ガラス１０の溶解温度Ｔ２は、１４００℃以上１６５０℃以下であることが好ましく、１４１０℃以上１６２０℃以下であることがより好ましく、１４４０℃以上１５９０℃以下であることがより好ましく、１４７０℃以上１５６０℃以下であることがより好ましく、１４８０℃以上１５５０℃以下であることがより好ましく、１４９０℃以上１５４０℃以下であることがより好ましく、１５００℃以上１５３０℃以下であることがより好ましく、１５１０℃以上１５２０℃以下であることがより好ましい。溶解温度Ｔ２とは、粘度ηが１０２ｄＰａ・ｓとなる温度を指す。溶解温度Ｔ２がこのように比較的低いことで、溶解を容易にできる。また、溶解温度Ｔ２が比較的高いことで、他の一般的な商業用ガラスの溶解温度と同等にすることができる。これにより、素地替えにおける溶解設備の調整が容易になる。
　ガラス１０の作業温度Ｔ３は、１２００℃以上１４００℃以下であることが好ましく、１２１５℃以上１３９０℃以下であることがより好ましく、１２４０℃以上１３８０℃以下であることがより好ましく、１２６０℃以上１３７０℃以下であることがより好ましく、１２９０℃以上１３６０℃以下であることがより好ましく、１３１５℃以上１３５０℃以下であることがより好ましく、１３２５℃以上１３４５℃以下であることがさらに好ましい。作業温度Ｔ３とは、粘度ηが１０３ｄＰａ・ｓとなる温度を指す。作業温度Ｔ３がこのように比較的低いことで、成形を容易にできる。
　ガラス１０の成形温度Ｔ４は、１０８０℃以上１３００℃以下であることが好ましく、１１００℃以上１２８０℃以下であることがより好ましく、１１２０℃以上１２６０℃以下であることがより好ましく、１１４０℃以上１２４０℃以下であることがより好ましく、１１６０℃以上１２２０℃以下であることがより好ましく、１１８０℃以上１２１５℃以下であることがより好ましく、１１９０℃以上１２１０℃以下であることがより好ましく、１２００℃以上１２０５℃以下であることがより好ましい。成形温度Ｔ４とは、粘度ηが１０４ｄＰａ・ｓとなる温度を指す。成形温度Ｔ４がこのように比較的低いことで、成形を容易にできる。
　ガラス１０の軟化温度Ｔ７．６５は、８００℃以上１０００℃以下であることが好ましく、８３０℃以上９８０℃以下であることがより好ましく、８５０℃以上９６０℃以下であることがより好ましく、８７０℃以上９４０℃以下であることがより好ましく、８９０℃以上９２５℃以下であることがより好ましく、９００℃以上９２０℃以下であることがより好ましく、９０５℃以上９１５℃以下であることがより好ましい。軟化温度Ｔ７．６５とは、粘度ηが１０７．６５ｄＰａ・ｓとなる温度を指す。軟化温度Ｔ７．６５がこのように比較的低いことで、成形を容易にできる。
　なお、溶解温度Ｔ２、作業温度Ｔ３、成形温度Ｔ４は、内筒回転法等によって測定することができる。軟化温度Ｔ７．６５（℃）はＪＩＳ　Ｒ　３１０３―１「ガラスの粘性及び粘性定点―第１部：軟化点の測定方法」に規定される方法によって測定できる。
　（Ｔ２－Ｔ４）
　ガラス１０は、溶解温度Ｔ２と成形温度Ｔ４との差分（Ｔ２－Ｔ４）が、２８０℃以上３４０℃以下であることが好ましい。また、差分（Ｔ２－Ｔ４）は、４００℃以下であってもよく、２９０℃以上３７５℃以下であってもよく、２９５℃以上３６０℃以下であってもよく、２９８℃以上３４０℃以下であってもよく、３００℃以上３２０℃以下であってもよく、３０５℃以上３１５℃以下であってもよく、３０７℃以上３１０℃以下であってもよい。差分（Ｔ２－Ｔ４）がこのように比較的小さいことで、溶解工程から成形工程における温度傾斜が小さくなる。これにより、工程移行時のエネルギーロスの増加を抑制でき、製造を容易にできる。差分（Ｔ２－Ｔ４）が小さすぎると、温度に対する粘性の変化幅が大きすぎて、溶解工程から成形工程にかけての溶解及び成形温度の制御が困難になる。
　（Ｔ４－Ｔ７．６５）
　ガラス１０は、成形温度Ｔ４と軟化温度Ｔ７．６５との差分（Ｔ４－Ｔ７．６５）が、２９０℃以上であることが好ましく、２９０℃以上３００℃以下であることがより好ましい。また、差分（Ｔ４－Ｔ７．６５）は、２５０℃以上であってもよく、２５０℃以上３５０℃以下であってもよく、２６０℃以上３３５℃以下であってもよく、２７０℃以上３１５℃以下であってもよく、２８０℃以上３０５℃以下であってもよく、２８５℃以上３００℃以下であってもよく、２９０℃以上２９５℃以下であってもよい。差分（Ｔ４－Ｔ７．６５）が小さいと、成形工程においてガラスの粘度を制御する際に精密な温度制御が求められる。大規模な製造設備で精密な温度制御を行うことは困難であり、設計通りの形状に成形できない可能性があるだけでなく、クラックや割れが生じる場合もある。差分（Ｔ４－Ｔ７．６５）がこのように比較的大きいことで、成形時の粘度制御を容易として、製造を容易にできる。
　（ガラスの製造方法）
　ガラス１０は、任意の方法で製造されてよいが、例えば次の方法で製造される。最初に、ガラス１０に含まれる化合物の原料となる、珪砂やソーダ灰などの原料を所定の温度（例えば１５００℃～１６００℃）で加熱して溶融させる。そして、溶融した原料（ガラス）を清澄した後、板状に成形する成形工程を実行する。成形されたガラスは、酸化物基準で上記において説明したガラス１０の組成範囲を有するものとなる。そして、成形工程で成形したガラスに徐冷工程を実行することで、ガラス１０を製造する。
　なお、ガラス１０の製造方法は以上に限られず任意であってよい。例えば、徐冷工程は必須ではない。また、ガラス１０を製造する際の成形工程は、種々の方法を採用可能であり、例えば溶融キャスト法、ダウンドロー法（例えば、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウン法及びリドロー法など）、フロート法、ロールアウト法及びプレス法などが挙げられる。
　次に、ガラス１０を、ＦＯＷＬＰ製造に用いた場合の製造工程の一例について説明する。ＦＯＷＬＰ製造においては、ガラス１０上に、複数の半導体チップを貼り合わせて、半導体チップを封止材で覆って素子基板を形成する。そして、ガラス１０と素子基板とを分離して、素子基板の半導体チップと反対側を、例えば別のガラス１０上に貼り合わせる。そして、半導体チップ上に配線や半田バンプなどを形成して、素子基板とガラス１０とを再度分離する。そして、素子基板を半導体チップ毎に切断して個片化することで、半導体デバイスが得られる。
　（効果）
　以上説明したように、本開示の第１態様に係るガラス１０は、パラメータＡが０．８１７以下であり、パラメータＢが０．８９８以上であり、酸化物基準のモル％表示における、二価の酸化物ＲＯの合計含有量に対するＭｇＯの含有量の比率（ＭｇＯ／ＲＯ）が０．６５以上であり、ヤング率Ｅが８０ＧＰａ以上であり、無アルカリガラスである。
　本開示のガラス１０は、ヤング率Ｅが８０ＧＰａ以上の無アルカリガラスであるため、たわみを適切に抑制できる。しかしながら、高ヤング率の無アルカリガラスは、一般的に、溶解温度Ｔ２と成形温度Ｔ４との差分（Ｔ２－Ｔ４）が大きくなり、成形温度Ｔ４と軟化温度Ｔ７．６５との差分（Ｔ４－Ｔ７．６５）が小さくなる傾向にある。差分（Ｔ２－Ｔ４）が大きいと、溶解工程から成形工程への移行時に、温度を大きく下げなければならなくなり、エネルギーロスが増加してしまう。また、差分（Ｔ４－Ｔ７．６５）が小さいと、成形工程において許容できる温度範囲が小さくなってしまうため、粘度の制御がし難く成形が難しくなってしまう。
　それに対して、本発明者は、鋭意研究の結果、パラメータＡ、Ｂ、比率（ＭｇＯ／ＲＯ）を上記範囲とすることで、差分（Ｔ２－Ｔ４）が過大となることと、差分（Ｔ４－Ｔ７．６５）が過少となることとを適切に抑制できることを見出した。すなわち、本開示のガラス１０は、パラメータＡ、Ｂ、比率（ＭｇＯ／ＲＯ）が上記範囲であることで、溶解工程から成形工程への移行のエネルギーロスの増加を抑制しつつ、粘度の制御がし難くなることを抑制できる。従って、本開示によると、たわみを抑制しつつ製造が容易なガラス１０を提供できる。
　また、ヤング率Ｅが８０ＧＰａ以上の無アルカリガラスは、比弾性率Ｅ／ρ（ヤング率／密度）が大きくなる傾向にあり、加工の際にクラックが入りやすくなるおそれがある。また例えば、比弾性率Ｅ／ρが小さくなり過ぎると、割れやすくかつ重くなり過ぎるため、工程上で扱いづらくなるおそれがある。それに対して、本開示のガラス１０は、パラメータＡ、Ｂ、比率（ＭｇＯ／ＲＯ）が上記範囲であることで、比弾性率Ｅ／ρを適切な範囲に保ち、加工の際のクラックを抑制しつつ、工程上で扱いやすくできる。
　本開示の第２態様に係るガラス１０は、第１態様に係るガラス１０であって、酸化物基準のモル％表示で、
　ＳｉＯ２：５５．０％～６５．０％、
　Ａｌ２Ｏ３：３．０％～１３．０％、
　Ｂ２Ｏ３：１．０％～１０．０％、
　ＲＯ：１０．０％～４０．０％、
　を含有することが好ましい。
　本開示によると、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　本開示の第３態様に係るガラス１０は、第１態様又は第２態様に係るガラス１０であって、酸化物基準のモル％表示で、
　ＭｇＯ：１０．０％～２５．０％、
　を含有することが好ましい。
　本開示によると、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　本開示の第４態様に係るガラス１０は、第１態様から第３態様にいずれかに係るガラス１０であって、酸化物基準のモル％表示で、
　ＣａＯ：１．０％～１０．０％、
　を含有することが好ましい。
　本開示によると、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　本開示の第５態様に係るガラス１０は、第１態様から第４態様にいずれかに係るガラス１０であって、酸化物基準のモル％表示で、
　ＳｒＯ：０％～５．０％、
　を含有することが好ましい。
　本開示によると、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　本開示の第６態様に係るガラス１０は、第１態様から第５態様にいずれかに係るガラス１０であって、酸化物基準のモル％表示で、
　ＢａＯ：０％～５．０％、
　を含有することが好ましい。
　本開示によると、たわみを抑制しつつ製造を容易にできる。
　本開示の第７態様に係るガラス１０は、第１態様から第６態様のいずれかに係るガラス１０であって、基板として用いられることが好ましい。本開示のガラス１０は、基板に好適に用いられる。
　本開示の第８態様に係るガラス１０は、第７態様に係るガラス１０であって、ファンアウトウェハレベルパッケージ及びファンアウトパネルレベルパッケージの少なくとも一方の製造に用いられることが好ましい。ガラス１０は、これらの用途に好適に用いられる。
　（実施例）
　次に、実施例について説明する。表１－１から表１－３は、各例のガラスの特性を示す表である。なお、発明の効果を奏する限りにおいて実施態様を変更しても構わない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　（例１）
　例１においては、表１－１に示す組成のガラスを作製した。例１においては、溶融キャスト法を用いて、直径が３２０ｍｍで厚みが６ｍｍの素板を製造した。次に、素板の中心から直径が３００ｍｍで厚みが３ｍｍの板を、複数枚切り出した。これらの板の両面を、酸化セリウムを研磨材として用いて両面研磨を行い、厚さ０．７ｍｍのガラスを得た。
　例１のガラスについて、上述の式（１）を用いて、パラメータＡを算出した。
　例１のガラスについて、上述の式（２）を用いて、パラメータＢを算出した。
　例１のガラスについて、密度ρ（ｇ／ｃｍ３）を測定した。密度は、アルキメデス法により測定した。
　例１のガラスについて、ヤング率Ｅ（ＧＰａ）を測定した。ヤング率は、ＪＩＳ　Ｒ　１６０２:１９９５「ファインセラミックスの弾性率試験方法」に規定されている超音波パルス法により測定した。試料のかさ密度はアルキメデス法により測定し、縦波速度および横波速度はＯＬＹＭＰＵＳ社製の超音波厚さ計３８ＤＬ　ＰＬＵＳを用いて測定し、ヤング率の値を求めた。
　例１のガラスについて、線熱膨張係数α（ｐｐｍ／℃）を測定した。測定装置としてＮＥＴＺＳＣＨ社製の熱膨張計（ＤＩＬ　４０２　Ｅｘｐｅｄｉｓ　Ｓｕｐｒｅｍｅ）を用いて０℃～３５０℃の範囲で測定し、そのうち２０℃～３００℃の範囲の平均熱膨張係数を、線熱膨張係数αとした。
　例１のガラスについて、高温粘性値として溶解温度Ｔ２（℃）、作業温度Ｔ３（℃）、成形温度Ｔ４（℃）を測定した。溶解温度Ｔ２、作業温度Ｔ３、成形温度Ｔ４は内筒回転法によって測定した。
　例１のガラスについて、軟化温度Ｔ７．６５（℃）を測定した。軟化温度Ｔ７．６５（℃）はＪＩＳ　Ｒ　３１０３―１「ガラスの粘性及び粘性定点―第１部：軟化点の測定方法」に規定される方法によって測定した。
　各測定結果及び算出結果を、表１－１に示す。
　（例２～例６０）
　例２～例６０においては、ガラスの組成を表１－１から表１－３に示したものとした以外は、例１と同様の方法でガラスを製造した。各例の測定結果及び算出結果を、表１－１から表１－３に示す。
　（評価）
　各例のガラスについて、製造性の判定とたわみ評価を行った。
　製造性の判定においては、差分（Ｔ２－Ｔ４）が２８０℃以上３４０℃以下であり、かつ、差分（Ｔ４－Ｔ７．６５）が２９０℃以上である場合を合格〇、差分（Ｔ２－Ｔ４）が２８０℃以上３４０℃以下であることと差分（Ｔ４－Ｔ７．６５）が２９０℃以上であることとの少なくとも一方を満たさない場合を不合格×とした。
　たわみ評価においては、ヤング率が８０ＧＰａ以上を合格〇とし、ヤング率が８０ＧＰａ未満を不合格×とした。
　表１に示すように、パラメータＡが０．８１７以下であり、パラメータＢが０．８９８以上であり、比率（ＭｇＯ／ＲＯ）が０．６５以上である例１～４１（実施例）のガラスは、製造性評価及びたわみ評価が合格であり、たわみを抑制しつつ製造を容易にできることが分かる。
　一方、パラメータＡが０．８１７以下であること、パラメータＢが０．８９８以上であること、比率（ＭｇＯ／ＲＯ）が０．６５以上であることの少なくとも１つを満たさない例４２～６０（比較例）のガラスは、製造性評価及びたわみ評価の少なくとも一方が不合格であり、たわみを抑制しつつ製造を容易にできないことが分かる。
　以上、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態の内容により実施形態が限定されるものではない。また、前述した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のもの、いわゆる均等の範囲のものが含まれる。さらに、前述した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。さらに、前述した実施形態の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換又は変更を行うことができる。
　１０　ガラス

Claims (19)

  1. 　式（１）に示すパラメータＡが０．８１７以下であり、
    　式（２）に示すパラメータＢが０．８９８以上であり、
    　酸化物基準のモル％表示における、二価の酸化物ＲＯの合計含有量に対するＭｇＯの含有量の比率が０．６５以上であり、
    　ヤング率が８０ＧＰａ以上であり、
    　無アルカリガラスである、
    　ガラス。
    　Ａ＝＝１．７４７－０．０２２×［ＳｉＯ２］＋０．００６×［Ａｌ２Ｏ３］＋０．０１８×［Ｂ２Ｏ３］＋０．０１３×［ＭｇＯ］－０．０１０×［ＣａＯ］－０．００３×［ＳｒＯ］＋０．０１２×［ＢａＯ］＋０．０１５×［ＺｎＯ］　・・・（１）
    　Ｂ＝１．３１５－０．０１０×［ＳｉＯ２］＋０．００５×［Ａｌ２Ｏ３］＋０．０２３×［Ｂ２Ｏ３］＋０．００４×［ＭｇＯ］－０．０１６×［ＣａＯ］－０．００７×［ＳｒＯ］＋０．０１１×［ＢａＯ］＋０．０１０×［ＺｎＯ］］　・・・（２）
  2. 　酸化物基準のモル％表示で、
    　ＳｉＯ２：５５．０％～６５．０％、
    　Ａｌ２Ｏ３：３．０％～１３．０％、
    　Ｂ２Ｏ３：１．０％～１０．０％、
    　ＲＯ：１０．０％～４０．０％、
    　を含有する、請求項１に記載のガラス。
  3. 　酸化物基準のモル％表示で、
    　ＭｇＯ：１０．０％～２５．０％、
    　を含有する、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  4. 　酸化物基準のモル％表示で、
    　ＣａＯ：１．０％～１０．０％、
    　を含有する、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  5. 　酸化物基準のモル％表示で、
    　ＳｒＯ：０％～５．０％、
    　を含有する、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  6. 　酸化物基準のモル％表示で、
    　ＢａＯ：０％～５．０％、
    　を含有する、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  7. 　前記パラメータＡが０．７８１以上０．８１７以下であり、
    　前記パラメータＢが０．９０３以上０．９３５以下であり、
    　酸化物基準のモル％表示における、二価の酸化物ＲＯの合計含有量に対するＭｇＯの含有量の比率が、０．６５以上０．９以下である、
    　請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  8. 　酸化物基準のモル％表示で、
    　ＳｉＯ２：６１．０％～６３．５％、
    　Ａｌ２Ｏ３：７．０％～８．５％、
    　を含有する、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  9. 　酸化物基準のモル％表示で、
    　ＭｇＯ：１２％～２２％、
    　ＣａＯ：１．１％～７％、
    　ＳｒＯ：０．１％～５．０％、
    　ＢａＯ：０．１％～５．０％、
    　を含有する、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  10. 　アルカリ金属酸化物を実質的に含有しない請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  11. 　式（３）に示すヤング率パラメータＹが０．９以上である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
    　Ｙ＝（６０－０．２４４［ＳｉＯ２］＋０．２７［Ａｌ２Ｏ３］－０．６０［Ｂ２Ｏ３］＋０．６３［ＭｇＯ］＋０．４８［ＣａＯ］－０．５６［ＳｒＯ］－０．２２［ＢａＯ］＋１．３７［ＺｎＯ］）／８５　・・・（３）
  12. 　密度ρに対するヤング率Ｅの比率（Ｅ／ρ）が３０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上４０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以下である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  13. 　溶解温度Ｔ２と成形温度Ｔ４との差分（Ｔ２－Ｔ４）が４００℃以下である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  14. 　成形温度Ｔ４と軟化温度Ｔ７．６５との差分（Ｔ４－Ｔ７．６５）が、２５０℃以上である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  15. 　ＳｉＯ２とＡｌ２Ｏ３とＢ２Ｏ３との合計含有量に対する、ＲＯの含有量の比率（（ＲＯ）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３））が、０．２以上０．５以下である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  16. 　ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯの総量（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋ＭｇＯ＋ＣａＯ）が、酸化物基準のモル％表示で、８５％以上９８％以下である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  17. 　Ａｌ２Ｏ３の含有量からＲＯの含有量を差し引いた値である差（Ａｌ２Ｏ３－ＲＯ）が、酸化物基準のモル％表示で、－３０％以上０％以下である、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  18. 　基板として用いられる、請求項１又は請求項２に記載のガラス。
  19. 　ファンアウトウェハレベルパッケージ及びファンアウトパネルレベルパッケージの少なくとも一方の製造に用いられる、請求項１５に記載のガラス。
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