WO2025005146A1 - 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びレジストパターンの形成方法等 - Google Patents

Abstract

本開示は、以下の成分： （Ａ）アルカリ可溶性高分子、 （Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、及び （Ｃ）光重合開始剤、　を含む、感光性樹脂組成物であって、　前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分は、ともに芳香環を含有し、　前記（Ａ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００４５ｍｏｌ／ｇ以上、かつ、　前記（Ｂ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００１７ｍｏｌ／ｇ以上であり、　前記（Ａ）成分が、ヒドロキシ基を有する化合物を単量体成分として含有し、　前記（Ｃ）成分が、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を４．０質量％以上含む　感光性樹脂組成物、に関する。

Description

感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びレジストパターンの形成方法等

　本発明は、感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びレジストパターンの形成方法等に関する。

　プリント配線基板は、一般的に、フォトリソグラフィープロセスを用いて製造される。フォトリソグラフィーは、以下の工程によって、基板上に所望の配線パターンを形成する方法である。まず、感光性樹脂組成物を用いて得られる塗膜を基板上に形成し、そして露光及び現像することで、レジストパターンを形成する；次いで、エッチング又はめっき処理することで、導体パターンを基板上に形成する；その後、レジストパターンを除去することで、配線パターンを基板上に形成する。

　近年、電子機器の小型化、及び高密度化に応じて、従来よりも微細な配線の形成が求められている。このような要求を達成する配線基板の製造方法として、ＭＳＡＰ（Ｍｏｄｉｆｉｅｄ　Ｓｅｍｉ　Ａｄｄｉｔｉｖｅ　Ｐｒｏｃｅｓｓ）、及びＳＡＰ（Ｓｅｍｉ　Ａｄｄｉｔｉｖｅ　Ｐｒｏｃｅｓｓ）がある。そして、既知の感光性樹脂組成物として、例えば、特許文献１～４に記載される感光性樹脂組成物がある。

国際公開第２０２１／１９３２３２号 国際公開第２０１７／０１８０５３号 国際公開第２０１５／０９８８７０号 特開２００７－７９４７４号公報

　しかしながら、特許文献１～４をはじめ、従来の感光性樹脂組成物には、各種特性の向上を図る観点で、いまだ改良の余地があった。

　そこで、本開示の目的は、所望の特性に優れた感光性樹脂層を実現可能な、感光性樹脂組成物を提供することである。また、本開示の目的は、感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体、及びそのロールを提供すること、更には、感光性樹脂組成物の製造方法、及びレジストパターンの形成方法を提供することである。

　本発明の一態様は、以下のとおりである。
［１］
　以下の成分：
（Ａ）アルカリ可溶性高分子、
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、及び
（Ｃ）光重合開始剤、
　を含む、感光性樹脂組成物であって、
　前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分は、ともに芳香環を含有し、
　前記（Ａ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００４５ｍｏｌ／ｇ以上、かつ、
　前記（Ｂ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００１７ｍｏｌ／ｇ以上であり、
　前記（Ａ）成分が、ヒドロキシ基を有する化合物を単量体成分として含有し、
　前記（Ｃ）成分が、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を４．０質量％以上含む
　感光性樹脂組成物。
［２］
　前記（Ａ）成分は、その全単量体成分の合計質量を基準として、スチレンに由来する構成単位の割合が５１質量％以上であり、
　前記（Ｂ）成分は、前記（Ｂ）成分の総量を基準として、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物を７０質量％以上含む、項目１に記載の感光性樹脂組成物。
［３］
　前記（Ａ）成分は、その全単量体成分の合計質量を基準として、スチレンに由来する構成単位の割合が５５質量％以上である、項目１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
［４］
　前記（Ｂ）成分は、前記（Ｂ）成分の総量を基準として、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物を８０質量％以上含む、項目１～３のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
［５］
　前記（Ｃ）成分は、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を５．０質量％以上含む、項目１～４のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
［６］
　前記（Ｃ）成分は、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を６．０質量%以上含む、項目１～５のいずれか１項のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
［７］
　前記感光性樹脂組成物を用いて得られる感光性樹脂層２５μｍにおける、波長３６５ｎｍの透過率が４５％以上である、項目１～６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
［８］
　前記透過率が６０％以上である、項目７に記載の感光性樹脂組成物。
［９］
　支持フィルムと、
　項目１～８のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を含む感光性樹脂層と、
　を備える、感光性樹脂積層体。
［１０］
　前記感光性樹脂層の、厚み２５μｍにおける波長３６５ｎｍの透過率が、４５％以上である、項目９に記載の感光性樹脂積層体。
［１１］
　項目９又は１０に記載の感光性樹脂積層体を捲回して成る、ロール。
［１２］
　以下の成分：（Ａ）アルカリ可溶性高分子、
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、及び
（Ｃ）光重合開始剤、
　を含む、感光性樹脂組成物の製造方法であって、
　前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分は、ともに芳香環を含有し、
　前記（Ａ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００４５ｍｏｌ／ｇ以上である該（Ａ）成分を用い、かつ、
　前記（Ｂ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００１７ｍｏｌ／ｇ以上である該（Ｂ）成分を用いる、
　感光性樹脂組成物の製造方法。
［１３］
　項目９又は１０に記載の感光性樹脂積層体を用いる、レジストパターンの形成方法であって、
　以下の工程：
　感光性樹脂積層体を基板に積層する工程；
　積層した前記感光性樹脂積層体における、前記感光性樹脂層を露光する工程；及び
　露光後の前記感光性樹脂層を現像する工程；
　を含む、レジストパターンの形成方法。

　本発明に関連する態様は、以下のとおりである。
［１Ａ］
　以下の成分：
（Ａ）アルカリ可溶性高分子、
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、及び
（Ｃ）光重合開始剤、
　を含む、感光性樹脂組成物であって、
　前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分は、ともに芳香環を含有し、
　前記（Ａ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００４５ｍｏｌ／ｇ以上、かつ、
　前記（Ｂ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００１７ｍｏｌ／ｇ以上である、
　感光性樹脂組成物。
［２Ａ］
　前記（Ａ）成分は、その全単量体成分の合計質量を基準として、スチレンに由来する構成単位の割合が５１質量％以上であり、
　前記（Ｂ）成分は、前記（Ｂ）成分の総量を基準として、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物を７０質量％以上含み、かつ、
　前記（Ｃ）成分は、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を４．０質量％以上含む、項目１Ａに記載の感光性樹脂組成物。
［３Ａ］
　前記（Ａ）成分は、その全単量体成分の合計質量を基準として、スチレンに由来する構成単位の割合が５５質量％以上である、項目１Ａ又は２Ａに記載の感光性樹脂組成物。
［４Ａ］
　前記（Ｂ）成分は、前記（Ｂ）成分の総量を基準として、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物を８０質量％以上含む、項目１Ａ～３Ａのいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
［５Ａ］
　前記（Ｃ）成分は、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を５．０質量％以上含む、項目１Ａ～４Ａのいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
［６Ａ］
　前記感光性樹脂組成物を用いて得られる感光性樹脂層２５μｍにおける、波長３６５ｎｍの透過率が４５％以上である、項目１Ａ～５Ａのいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
［７Ａ］
　前記透過率が６０％以上である、項目６Ａに記載の感光性樹脂組成物。
［８Ａ］
　支持フィルムと、
　項目１Ａ～７Ａのいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を含む感光性樹脂層と、
　を備える、感光性樹脂積層体。
［９Ａ］
　前記感光性樹脂層の、厚み２５μｍにおける波長３６５ｎｍの透過率が、４５％以上である、項目８Ａに記載の感光性樹脂積層体。
［１０Ａ］
　項目８Ａ又は９Ａに記載の感光性樹脂積層体を捲回して成る、ロール。
［１１Ａ］
　以下の成分：（Ａ）アルカリ可溶性高分子、
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、及び
（Ｃ）光重合開始剤、
　を含む、感光性樹脂組成物の製造方法であって、
　前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分は、ともに芳香環を含有し、
　前記（Ａ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００４５ｍｏｌ／ｇ以上である該（Ａ）成分を用い、かつ、
　前記（Ｂ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００１７ｍｏｌ／ｇ以上である該（Ｂ）成分を用いる、
　感光性樹脂組成物の製造方法。
［１２Ａ］
　項目８Ａ又は９Ａに記載の感光性樹脂積層体を用いる、レジストパターンの形成方法であって、
　以下の工程：
　感光性樹脂積層体を基板に積層する工程；
　積層した前記感光性樹脂積層体における、前記感光性樹脂層を露光する工程；及び
　露光後の前記感光性樹脂層を現像する工程；
　を含む、レジストパターンの形成方法。

　本発明によれば、所望の特性に優れた感光性樹脂層を実現可能な、感光性樹脂組成物を提供することができる。また、本発明によれば、感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体、及びそのロールを提供すること、更には、感光性樹脂組成物の製造方法、及びレジストパターンの形成方法を提供することができる。

　以下、本発明の実施形態（以下、「本実施形態」と略記する。）について説明する。本発明は、本実施形態に限定されず、また、その要旨の範囲内で種々変形して実施可能である。本明細書中、各数値範囲の上限値及び下限値は、任意に組み合わせられてよく、また、実施例に記載の値に置き換わってよい。
　本願明細書中、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味し、また、「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」又は「メタクリレート」を意味する。
　本願明細書中、特に断りがない限り、各種の数値、及び特性等は、実施例に記載の手法に準じて測定されてよい。

［感光性樹脂組成物］
　本実施形態は、以下の成分：
（Ａ）アルカリ可溶性高分子、
（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、及び
（Ｃ）光重合開始剤、
　を含む、感光性樹脂組成物であって、
　前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分は、ともに芳香環を含有し、
　前記（Ａ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００４５ｍｏｌ／ｇ以上、かつ、
　前記（Ｂ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００１７ｍｏｌ／ｇ以上である、
　感光性樹脂組成物である。
　特に、本実施形態の感光性樹脂組成物は、
　前記（Ａ）成分が、ヒドロキシ基を有する化合物を単量体成分として含有し、　前記（Ｃ）成分が、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を４．０質量％以上含む。

　本発明者らは、（Ａ）成分、及び（Ｂ）成分にそれぞれ、所定の割合以上の芳香環を含有せしめることに着目した。
　ここで、感光性樹脂組成物に対する露光、及び現像を経てレジストパターンを形成するとき、得られる該レジストパターン上に、該組成物が残存する場合がある。このため、このような残存物（現像残渣）を除去する目的のもと、現像後に形成されるレジストパターンにプラズマ処理が行われる場合がある。この点、本実施形態において、（Ａ）成分、及び（Ｂ）成分にそれぞれ含まれる芳香環が、感光性樹脂層の化学的な安定性の向上に貢献し、ひいては、プラズマ耐性の向上が図られている。
　（Ａ）成分のうち、芳香環の割合は、０．００８２ｍｏｌ／ｇ以下でよく、また、（Ｂ）成分のうち、芳香環の割合は、０．００５６ｍｏｌ／ｇ以下でよい。

　特に、以下の事項：
　前記（Ａ）成分は、その全単量体成分の合計質量を基準として、スチレンに由来する構成単位の割合が５１質量％以上であり、
　前記（Ｂ）成分は、前記（Ｂ）成分の総量を基準として、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物を７０質量％以上含む、
ことを満たす感光性樹脂組成物は、本実施形態の効果を奏し易い。
　芳香環を含む化合物のなかでも、スチレン、及びビスフェノールＡ型骨格を有する化合物は、プラズマ耐性を好適に向上させ易い。また、スチレン、及びビスフェノールＡ型骨格を有する化合物を用いることで、それぞれを（Ａ）成分、及び（Ｂ）成分として感光性樹脂組成物中に好適に導入し易い。感光性樹脂組成物において、芳香環の割合が多くなると樹脂粘度が上がり易くなるので、ラジカル重合効率が低下し易くなり、この場合、ビイミダゾール系化合物を多く配合すること、すなわち、感度低下の抑止を図ることも可能になる。

　また、前記感光性樹脂組成物を露光することで得られる感光性樹脂層２５μｍにおける、波長３６５ｎｍの透過率が４５％以上であることが好ましく、前記透過率が６０％以上であることが好ましい。これによれば、良好な密着性（感光性樹脂層と基板との密着性）を実現し易い。
　増感剤と、比較的多量のビイミダゾール系化合物と、の組み合わせにより、感度の低下を防止し易い。他方、増感剤を低減させれば、透過率の向上に有利であり、また、増感剤を低減させる分、更にビイミダゾール系化合物を増量するような設計を実現し易い。本実施形態の感光性樹脂組成物は、この種の組成設計の幅が広く、すなわち、感度と、密着性と、の両立が可能である。

　（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分は、それぞれ、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用可能である。感光性樹脂組成物が、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分以外の他の成分を含む場合、かかる他の成分も、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用されてよい。

≪（Ａ）成分：アルカリ可溶性高分子≫

　（Ａ）成分は、アルカリ可溶性高分子である。
　（Ａ）成分は、カルボキシル基を有することが好ましく、アルカリ可溶性を好適に発現する観点から、５０～６００ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価を有することが好ましい。（Ａ）成分の酸価は、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上でよく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上でよく、５００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下でよく、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下でよい。

　（Ａ）成分は、後述する「第一の単量体」から選択される少なくとも１種を含む、繰り返し単位を有することが好ましく、該「第一の単量体」から選択される少なくとも１種と、後述する「第二の単量体」から選択される少なくとも１種と、をともに含む、繰り返し単位を有することがより好ましい。
　また、（Ａ）成分中の単量体成分の割合は、（Ａ）成分として１種のアルカリ可溶性高分子のみを含む場合、共重合比であり、（Ａ）成分として２種以上のアルカリ可溶性高分子が用いられる場合、各アルカリ可溶性高分子の含有比を重みとして、共重合比の加重平均値である。

　（Ａ）成分のうち、芳香環の割合は、０．００４５ｍｏｌ／ｇ以上である。芳香環の割合を０．００４５ｍｏｌ／ｇ以上にすることはプラズマ耐性を向上させる観点から好ましく、同様の観点から０．００５０ｍｏｌ／ｇ以上がより好ましく、０．００５３ｍｏｌ／ｇが更に好ましく、０．００５８ｍｏｌ／ｇ以上が特に好ましく、０．００６３ｍｏｌ／ｇ以上がさらに好ましく、０．００６７ｍｏｌ／ｇ以上が最も好ましい。また、現像性を向上させる観点から０．００８２ｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、０．００７７ｍｏｌ／ｇ以下がさらに好ましく、０．００６７ｍｏｌ／ｇ以下がより好ましい。
　芳香環は、第一の単量体に由来してもよく、第二の単量体に由来してもよく、第一の単量体、及び第二の単量体の両方に由来してもよい。ただ、所望の（Ａ）成分を実現し易いことから、芳香環の割合は、少なくとも第二の単量体に由来することが好ましい。
　（Ａ）成分中の芳香環の割合は、（Ａ）成分中の各単量体成分に含まれる芳香環の割合を、（Ａ）成分中の各単量体成分の含有量の加重平均をとることで算出できる。（Ａ）成分中の各単量体成分に含まれる芳香環の割合は、（単量体１分子中に含まれる芳香環の個数／単量体の分子量）によって算出できる。

　（Ａ）成分は、その全単量体成分の合計質量を基準として、スチレンに由来する構成単位の割合が４０質量％以上であってよい。
　ここで、前記（Ａ）成分は、その全単量体成分の合計質量を基準として、スチレンに由来する構成単位の割合が５１質量％以上であることが好ましい。これによれば、本実施形態の効果を奏し易い。同様の観点から、スチレンに由来する構成単位の割合が５２質量％以上、５５質量％以上、また、６０質量％以上であることがより好ましく、６５％以上であることがさらに好ましい。スチレンに由来する構成単位の割合は、８５質量％以下でよい。

　（Ａ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０，０００～６０，０００であることが好ましい。重量平均分子量を６０，０００以下にすることは、レジストパターンの柔軟性と解像性を両立する観点から好ましく、同様の観点から５５，０００以下にすることがより好ましく、５０，０００未満にすることが更に好ましい。
　同様の観点から、重量平均分子量を１０，０００以上にすることが好ましく、１４，０００以上にすることがより好ましく、２５，０００以上にすることが更に好ましい。

　（Ａ）成分の多分散度｛（Ａ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）／（Ａ）成分の数平均分子量（Ｍｎ）｝は、１．０～６．０であることが好ましく、１．０～５．０であることがより好ましく、１．０～４．０であることが更に好ましく、１．０～３．０であることが特に好ましい。

　（Ａ）成分として、２種以上を混合したもの使用する場合、複数の（Ａ）成分における分子量、及び多分散度は、含有比を重みとして扱った場合の加重平均値が、各種範囲に収まるように選ばれることが好ましい。

＜第一の単量体＞
　第一の単量体は、その分子中にカルボキシル基を有する。
　第一の単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、イタコン酸、４－ビニル安息香酸、マレイン酸無水物、マレイン酸半エステルが挙げられる。これらのなかでも、密着性、及び解像性が優れる観点から、（メタ）アクリル酸が好ましく、メタクリル酸がより好ましい。
　（メタ）アクリル酸について、「メタクリル酸」は、化学式Ｃ_４Ｈ_６Ｏ_２で表される化合物を意味し、また、「アクリル酸」は、化学式Ｃ_３Ｈ_４Ｏ_２で表される化合物を意味する。

　（Ａ）成分中の第一の単量体の割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、１０～５０質量％であることが好ましい。該割合を１０質量％以上にすることは、密着性、及び解像性が優れる観点から好ましく、１５質量％以上がより好ましく、１８質量％以上が更に好ましく、２１質量％以上が更により好ましく、２３質量％以上が特に好ましく、２４質量％以上が最も好ましい。該割合を５０質量％以下にすることは、密着性、及び解像性が優れる観点から好ましく、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましく、２９質量％以下が更により好ましく、２７質量％以下が特に好ましく、２６質量％以下が最も好ましい。

＜第二の単量体＞
　第二の単量体は、その分子中に重合性不飽和基を少なくとも１個有する。
　第二の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ペンタメチルピペリジル（メタ）アクリレート、テトラメチルピペリジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、（２－メチル－２－エチル－１，３－ジオキソラン－４－イル）メチル（メタ）アクリレート、環状トリメチロールプロパンホルマール（メタ）アクリレート、３，３，５－トリメチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、等の（メタ）アクリレート類；メチルスチレン、ビニルトルエン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、スチレンダイマー、及びスチレントリマー等のスチレン誘導体類；酢酸ビニル等のビニルアルコールのエステル類；並びに（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。

　第二の単量体は、芳香環を有する化合物を含むことが好ましい。（Ａ）成分中の該化合物の割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、４５～９０質量％が好ましい。該割合を４５質量％以上にすることは、密着性、及び解像性が優れる観点から好ましく、５０質量％以上がより好ましく、５５質量％以上が更に好ましく、６０質量％以上が更により好ましく、６５質量％以上が特に好ましい。該割合を９０質量％以下にすることは、現像性が優れる観点から好ましく、８０質量％以下がより好ましい。

　芳香環を有する化合物としては、例えば、スチレン、ベンジル（メタ）アクリレート、メチルスチレン、ビニルトルエン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、スチレンダイマー、及びスチレントリマー等のスチレン誘導体類、２－［３－（２Ｈ－ベンゾトリアゾール－２－イル）－４－ヒドロキシフェニル］エチル（メタ）アクリレートが挙げられる。これらのなかでも、スチレン、ベンジル（メタ）アクリレートが好ましく、スチレンがより好ましく、スチレンとベンジル（メタ）アクリレートの両方を含んでいることがさらに好ましい。

　第二の単量体は、脂環を有する化合物を含んでよい。（Ａ）成分中の該化合物の割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、１０～４０質量％でよい。

　脂環を有する化合物としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル基等の環状炭化水素基を１つ有する基、又はそれらの誘導体からなる基を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられ、また、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、アダマンチル基、及びイソボルニル基等の環状炭化水素を２以上有する基、又はそれらの誘導体からなる基を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。

　第二の単量体は、ヒドロキシ基を有する化合物を含んでよい。（Ａ）成分中の該化合物の割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、１．０～２５質量％が好ましく、１～１０質量％がより好ましく、１～６質量％が更に好ましい。該割合を上記範囲内に制御することは、密着性、及び解像性が優れる観点から好ましい。

　ヒドロキシ基を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、具体的には、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセリン系（メタ）アクリレート（例えば、グリセリンモノ（メタ）アクリレート）が挙げられる。これらは入手が比較的容易である。そして、それでいて、現像性、及び密着性を制御し易く、ゆえに、各種特性に優れたレジストパターンを実現し易い。

　第二の単量体は、上記以外の化合物、例えば、
　上記以外の（メタ）アクリル酸アルキルエステル（鎖状アルキルエステル、及び環状アルキルエステル）、上記以外の共役ジエン化合物、上記以外の極性モノマー（アミノ基含有モノマー、アミド基含有モノマー、シアノ基含有モノマー、及びエポキシ基含有モノマー等）、上記以外の架橋性モノマー、上記以外の酸無水物が挙げられる。

＜（Ａ）成分の合成＞
　（Ａ）成分の合成は、上記で説明された単数又は複数の単量体を、アセトン、メチルエチルケトン、イソプロパノール等の溶媒で希釈した溶液に、過酸化ベンゾイル、アゾイソブチロニトリル等のラジカル重合開始剤を適量添加し、加熱攪拌することにより行われることが好ましい。混合物の一部を反応液に滴下しながら合成を行う場合もあり、また、反応終了後、更に溶媒を加えて、所望の濃度に調整する場合もある。合成手段としては、溶液重合以外に、リビングラジカル重合、塊状重合、懸濁重合、又は乳化重合を用いてもよい。

　（Ａ）成分の含有量の割合は、感光性樹脂組成物の全固形分質量を基準として、１０質量％以上であってもよく、２０質量％以上であってもよく、２５質量％以上であってもよく、３０質量％以上であってもよく、３５質量％以上であってもよく、４０質量％以上であってもよく、４５質量％以上であってもよく、５０質量％以上であってもよく、５５質量％以上であってもよく、６０質量％以上であってもよい。また、９０質量％以下であってもよく、８０質量％以下であってもよく、７０質量％以下であってもよく、６０質量％以下であってもよく、５０質量％以下であってもよい。

　（Ａ）成分の含有量の割合を９０質量％以下にすることは、現像時間を制御する観点から好ましい。他方、該割合を１０質量％以上にすることは、耐エッジフューズ性を向上させる観点、つまり、フィルム端面からの感光性樹脂層の染み出しを抑制する観点から好ましい。なお、耐エッジフューズ性は、感光性樹脂積層体を捲回して成るロールに対して、特に要求される場合がある。

≪（Ｂ）成分：エチレン性不飽和結合を有する化合物≫
　（Ｂ）成分は、エチレン性不飽和結合を有する化合物である。　
　（Ｂ）成分のうち、芳香環の割合は、０．００１７ｍｏｌ／ｇ以上である。芳香環の割合を０．００１７ｍｏｌ／ｇ以上にすることはプラズマ耐性を向上させる観点から好ましく、同様の観点から０．００１９ｍｏｌ／ｇ以上がより好ましく、０．００２１ｍｏｌ／ｇが更に好ましく、０．００２２ｍｏｌ／ｇ以上が特に好ましく、０．００２５ｍｏｌ／ｇ以上がさらに好ましく、０．００３０ｍｏｌ／ｇ以上が最も好ましい。また、現像性を向上させる観点から０．００５６ｍｏｌ／ｇ以下が好ましく、０．００２５ｍｏｌ／ｇ以下がさらに好ましく、０．００２２ｍｏｌ／ｇ以下がより好ましい。
　前記（Ｂ）成分は、前記（Ｂ）成分の総量を基準として、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物を６１質量％以上含むことが好ましい。これによれば、本実施形態の効果を奏し易い。同様の観点から、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物の割合が７０質量％以上、７５質量％以上、また、８０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましく、１００質量％であることが最も好ましい。
　なお、本願明細書中、「ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物」の概念には、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物を水素化したもの、すなわち、水添ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物も含まれる。

　ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物としては、例えば、下記一般式（Ｉ）：
　一般式（Ｉ）
（式中、Ｒ^２は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基であり、Ｘ^２Ｏ及びＹ^２Ｏは、それぞれ独立に、オキシエチレン基又はオキシプロピレン基であり、ｍ３、ｍ４、ｎ２及びｎ３は、それぞれ独立に、０～４０の整数であり、ｍ３＋ｍ４は、１～４０であり、そしてｎ２＋ｎ３は、０～２０である。）
　で表される、ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレートが挙げられる。

　（Ｂ）成分は、エチレン性不飽和結合を一分子中に２個以上有する化合物を含むことが好ましい。感光性樹脂組成物は、一分子中に３個のエチレン性不飽和結合を有する化合物を更に含んでいてもよく、一分子中に４個、５個、又は６個のエチレン性不飽和結合を有する化合物を更に含んでいてもよい。

　（Ｂ）成分は、（メタ）アクリロイル基を含む化合物（以下、（メタ）アクリレート化合物）を含むことが好ましく、２官能以上の、（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましい。「２官能以上の、（メタ）アクリレート化合物」とは、一分子中に（メタ）アクリロイル基を２つ以上有する化合物を意味する。

　（Ｂ）成分が（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、レジストパターンの密着性と柔軟性の観点から、２官能の（メタ）アクリレート化合物と、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物とを含んでよく、例えば、４官能、５官能、又は６官能の、（メタ）アクリレート化合物を含んでよい。

　２官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、アルキルジ（メタ）アクリレート、１，３－ビス（メタ）アクリロイルオキシ－２－プロパノール、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化（水添）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化（水添）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコキシ化（水添）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートが挙げられる。

　２官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、例えば、ＮＫエステル（登録商標）Ａ－ＨＤ－Ｎ、同Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、同Ａ－ＤＯＤ－Ｎ、同Ａ－ＮＰＧ、同７０１Ａ、同Ａ－２００、同Ａ－４００、同Ａ－６００、同Ａ－１０００、同ＡＰＧ－２００、同ＡＰＧ－４００、同ＡＰＧ－７００、同Ａ－ＰＴＭＧ６５、同Ａ－ＤＣＰ、同ＡＢＥ－３００、同Ａ－ＢＰＥ－４、同Ａ－ＢＰＥ－１０、同Ａ－ＢＰＥ－２０、同ＨＤ－Ｎ、同ＮＯＤ－Ｎ、同ＤＯＤ－Ｎ、同ＮＰＧ、同７０１、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同９ＰＧ、同ＤＣＰ、同ＢＰＥ－８０Ｎ、同ＢＰＥ－１００、同ＢＰＥ－２００、同ＢＰＥ－５００、同ＢＰＥ－９００、同ＢＰＥ－１３００Ｎ、ＮＫオリゴ（登録商標）ＵＡ－４２００、同ＵＡ－１６０ＴＭ、同ＵＡ－２９０ＴＭ、同ＵＡ－Ｗ２Ａ、同ＵＡ－４４００、同ＵＡ－１２２Ｐ、同Ｕ－２００ＰＡ（以上、新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレート（登録商標）３ＥＧ－Ａ、同４ＥＧ－Ａ、同９ＥＧ－Ａ、同１４ＥＧ－Ａ、同ＰＴＭＧＡ－２５０、同ＮＰ－Ａ、同ＭＰＤ－Ａ、同１．６ＨＸ－Ａ、同１．９ＮＤ－Ａ、同ＤＣＰ－Ａ、同ＢＰ－４ＥＡＬ、同ＢＰ－４ＰＡ、同ＨＰＰ－Ａ、ライトエステルＧ－２０１Ｐ（以上、共栄社化学（株）製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ－１２４ＡＳ、同ＦＡ－０２３Ｍ、同ＦＡ－１２１Ｍ、同ＦＡ－１２４Ｍ、同ＦＡ－１２５Ｍ、同ＦＡ－１２９ＡＳ、同ＦＡ－１３７Ｍ、同ＦＡ－２２０Ｍ、同ＦＡ－２２２Ａ、同ＦＡ－２４０Ａ、同ＦＡ－２４０Ｍ、同ＦＡ－３２０Ｍ、同ＦＡ－３２１８Ｍ、同ＦＡ－３２１Ａ、同ＦＡ－３２１Ｍ、同ＦＡ－３２４Ａ、同ＦＡ－７３１Ａ、同ＦＡ－Ｐ２４０Ａ、同ＦＡ－Ｐ２７０Ａ、同ＦＡ－ＰＴＧ９Ａ、同ＦＡ－ＰＴＧ９Ｍ、同ＦＡ－ＰＴＧ２８Ａ、同ＦＡ－ＰＴＧ４９Ａ（以上、レゾナック（株）製）、ＤＰＧＤＡ、ＨＤＤＡ、ＴＰＧＤＡ、ＥＢＥＣＲＹＬ　１４５、ＥＢＥＣＲＹＬ　１５０、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＥＢＥＣＲＹＬ　１１、ＩＲＲ　２１４－Ｋ、ＥＢＥＣＲＹＬ　１３０、ＥＢＥＣＲＹＬ　ＰＥＧ２００ＤＭＡ（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）、ＳＲ２１２，ＳＲ２１３、ＳＲ２３０、ＳＲ２３８Ｆ、ＳＲ２５９、ＳＲ２６８，ＳＲ２７２、ＳＲ３０６Ｈ、ＳＲ３４４、ＳＲ３４９、ＳＲ５０８、ＣＤ５６０、ＣＤ５６１、ＣＤ５６４、ＳＲ６０１、ＳＲ６０２、ＳＲ６１０、ＳＲ８３３Ｓ、ＳＲ９００３、ＳＲ９０４５、ＳＲ９２０９、ＳＲ２０５、ＳＲ２０６、ＳＲ２０９、ＳＲ２１０、ＳＲ２１４、ＳＲ２３１、ＳＲ２３９、ＳＲ２４８、ＳＲ２５２、ＳＲ２９７、ＳＲ３４８、ＳＲ４８０、ＣＤ５４０、ＣＤ５４１、ＣＤ５４２、ＳＲ６０３、ＳＲ６４４、ＳＲ９０３６（以上、アルケマ（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＦＭ－４００、同Ｒ－１６７、同ＨＸ－２２０、同ＨＸ－６２０、同Ｒ－５５１、同Ｒ－７１２、同Ｒ－６０４、同Ｒ－６８４（以上、日本化薬（株）製）が挙げられる。

　３官能以上の、（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパン（テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール（テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレートが挙げられる。

　また、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパンのアルキレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、グリセリンのアルキレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシド変性イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシド変性ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、アルキレンオキシド変性ジトリメチロールプロパン（テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、アルキレンオキシド変性ジペンタエリスリトール（テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレートも挙げられる。

　３官能以上の、（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、例えば、ＮＫエステル（登録商標）Ａ－ＴＭＰＴ、同Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ、同ＡＴ－２０Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－３Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、同Ａ－９３００、同Ａ－９２００ＹＮ、同Ａ－ＴＭＭ－３、同Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、同Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、同Ａ－ＴＭＭＴ、同ＡＴＭ－３５Ｅ、同ＡＤ－ＴＭＰ、同Ａ－ＤＰＨ、同Ａ－９５５０、同Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ、同ＴＰＯＡ－５０、ＮＫオリゴ（登録商標）ＵＡ－７１００、同ＵＡ－１１００Ｈ、同Ｕ－６ＬＰＡ、同ＵＡ－３３Ｈ、同Ｕ－１０ＨＡ、同Ｕ－１０ＰＡ、同Ｕ－１５ＨＡ（以上新中村化学工業（株）製）、ライトアクリレート（登録商標）ＴＭＰ－Ａ、ｃＰＥ－３Ａ、同ＰＥ－４Ａ、同ＤＰＥ－６Ａ（以上共栄社化学（株）製）、ＦＡ－７３１Ａ（レゾナック（株）製）、ＴＭＰＴＡ、ＥＢＥＣＲＹＬ　１６０Ｓ、ＯＴＡ　４８０、ＰＥＴＩＡ、ＰＥＴＲＡ、ＥＢＥＣＲＹＬ　４０、ＰＥＴＡ、ＥＢＥＣＲＹＬ　１４０、ＥＢＥＣＲＹＬ　１１４０、ＥＢＥＣＲＹＬ　１１４２、ＤＰＨＡ、ＥＢＥＣＲＹＬ　８９５、ＥＢＥＣＲＹＬ　８９６、ＥＢＥＣＲＹＬ　ＴＭＰＴＭＡ（以上ダイセル・オルネクス（株）製）、ＳＲ３５１Ｓ、ＳＲ３６８、ＳＲ４１５、ＳＲ４４４、ＳＲ４５４、ＳＲ４９２、ＳＲ４９９、ＣＤ５０１、ＳＲ５０２、ＳＲ９０２０、Ｄ９０２１、ＳＲ９０３５、ＳＲ２９５、ＳＲ３５５、ＳＲ３９９、ＳＲ４９４、ＳＲ９０４１（以上アルケマ（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）　ＧＰＯ－３０３、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＨＥ－３３０、同ＴＰＡ－３３０、同ＰＥＴ－３０、同Ｔ－１４２０（Ｔ）、同ＲＰ－１０４０、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＥＡ－１２、同Ｄ－３１０、同ＤＰＣＡ－２０（以上日本化薬（株）製）が挙げられる。

　３官能以上の、（メタ）アクリレート化合物の含有量は、（Ｂ）成分の総量を基準として、０～５０質量％でよく、０～２５質量％でよく、１～１５質量％でよい。

　具体的に、（Ｂ）成分に含まれてよい化合物としては、
　ビスフェノールＡの両端に、それぞれ平均５ｍｏｌずつのＥＯを付加したポリエチレングリコ－ルのジメタクリレ－ト（上記「ＦＡ－３２１Ｍ」、製品名）；
　ビスフェノールＡの両端に、それぞれ平均２ｍｏｌずつのＥＯを付加したポリエチレングリコ－ルのジメタクリレート；
　ＰＯの繰り返し単位を一分子当たり平均１２個有するポリプロピレングリコールに、ＥＯを更に両端にそれぞれ平均３ｍｏｌずつ付加したポリアルキレングリコールのジメタクリレート；
が挙げられる（「ＥＯ」はエチレンオキサイドの略記であり、また、「ＰＯ」はプロピレンオキサイドの略記である）。
　上記一般式（Ｉ）で表される化合物との関係では、例えば、上記「ＦＡ－３２１Ｍ」は、Ｒ^２＝メチル基、Ｘ^２Ｏ＝オキシエチレン基、ｍ３＋ｍ４＝１０、ｎ２＝ｎ３＝０、として表される。

　（Ｂ）成分の含有量の割合は、感光性樹脂組成物の全固形分質量を基準として、感度、タック性、及び追従性の観点から３０質量％以上が好ましく、３５質量％以上が好ましい。また、耐エッジフューズ性、タック性、及び解像性の観点から５０質量％以下が好ましく、４５質量％以下が好ましく、４２質量％以下が好ましい。

　耐エッジフューズ性、タック性、及び解像性の観点から、感光性樹脂組成物に含まれる、（Ａ）成分の含有量に対する（Ｂ）成分の含有量（すなわち、（Ｂ）成分の含有量／（Ａ）成分の含有量）は、１．４以下が好ましく、１．３以下が好ましく、１．２以下が好ましく、１．１以下が好ましい。下限は０．６以上が好ましく、０．７以上が好ましく、０．８以上が好ましく、０．９以上が好ましく、１．０以上が好ましい。

　感光性樹脂組成物の、固形分１００ｇあたりのエチレン性不飽和結合の数は、０．１～０．３ｍｏｌに制御されることが好ましい。０．１ｍｏｌ以上に制御されることで、現像後の水洗工程において、硬化したレジストパターンから感光性樹脂成分が溶出すること、ひいては、水洗工程における汚染を防止し易い。０．３ｍｏｌ以下に制御することで、現像後の水洗工程において、硬化したレジストパターンが欠けて脱落すること、ひいては、水洗工程の汚染を防止し易い。

　感光性樹脂組成物の、固形分１００ｇあたりのエチレン性不飽和結合の数は、好ましくは０．１ｍｏｌ以上であり、より好ましくは０．１１ｍｏｌ以上であり、より好ましくは０．１２ｍｏｌ以上であり、より好ましくは０．１３ｍｏｌ以上である。また、好ましくは０．３ｍｏｌ以下であり、好ましくは０．２８ｍｏｌ以下であり、好ましくは０．２５ｍｏｌ以下であり、好ましくは０．２２ｍｏｌ以下であり、好ましくは０．２０ｍｏｌ以下であり、好ましくは０．１８ｍｏｌ以下であり、好ましくは０．１５ｍｏｌ以下である。

≪（Ｃ）成分：光重合開始剤≫
　（Ｃ）成分は、光重合開始剤である。光重合開始剤は、活性光線によりラジカルを発生し、これにより、エチレン性不飽和結合を有する化合物の重合を開始させ易い。
　前記（Ｃ）成分は、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を３．５質量％以上含んでよい。ここで、前記（Ｃ）成分は、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を４．０質量％以上含むことが好ましく、４．２質量％以上含むことがより好ましく、５．０質量％以上含むことがさらに好ましく、６．０％以上含むことが特に好ましく、６．２質量％以上含むことが最も好ましい。これによれば、本実施形態の効果を奏し易い。また、ビイミダゾール系化合物の含有量の割合は、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、１０質量％以下でよく、８．０質量％以下でよい。
　（Ａ）成分は、その全単量体成分の合計質量を基準として、スチレンに由来する構成単位の割合が４０質量％以上であってよい。

　（Ｃ）成分としては、例えば、ビイミダゾール系化合物、Ｎ－アリール－α－アミノ酸化合物、キノン化合物、芳香族ケトン化合物、アントラセン誘導体、アセトフェノン化合物、アシルフォスフィンオキサイド化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾインエーテル化合物、ジアルキルケタール化合物、チオキサントン化合物、ジアルキルアミノ安息香酸エステル化合物、オキシムエステル化合物、アクリジン化合物、ピラゾリン誘導体、Ｎ－アリールアミノ酸のエステル化合物、及びハロゲン化合物が挙げられる。

　ビイミダゾール系化合物は、ビイミダゾール構造を有する化合物を指し、例えば、ロフィン二量体、すなわち、２，４，５－トリアリールイミダゾールの二量体が挙げられる。
　ロフィン二量体としては、例えば、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルビイミダゾール（別名：２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール）、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ビス－（ｍ－メトキシフェニル）ビイミダゾール、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルビイミダゾール、２，２’，５－トリス－（ｏ－クロロフェニル）－４－（３，４－ジメトキシフェニル）－４’，５’－ジフェニルビイミダゾール、２，４－ビス－（ｏ－クロロフェニル）－５－（３，４－ジメトキシフェニル）－ジフェニルビイミダゾール、２，４，５－トリス－（ｏ－クロロフェニル）－ジフェニルビイミダゾール、２－（ｏ－クロロフェニル）－ビス－４，５－（３，４－ジメトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２－フルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３－ジフルオロメチルフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，４－ジフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，５－ジフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，６－ジフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３，４－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３，５－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３，６－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，４，５－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３，４，５－テトラフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、２，２’－ビス－（２，３，４，６－テトラフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾール、及び２，２’－ビス－（２，３，４，５，６－ペンタフルオロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラキス－（３－メトキシフェニル）－ビイミダゾールが挙げられる。

　高感度、解像性、及び密着性の観点から、（Ｃ）成分として、ロフィン二量体を含むことが好ましく、これらのなかでも、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体を含むことがより好ましい。

　Ｎ－アリール－α－アミノ酸化合物としては、例えば、Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルグリシン、Ｎ－エチル－Ｎ－フェニルグリシンが挙げられる。これらのなかでも、Ｎ－フェニルグリシンは、増感効果が高いため好ましい。

　キノン化合物としては、例えば、２－エチルアントラキノン、オクタエチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン、２，３－ベンズアントラキノン、２－フェニルアントラキノン、２，３－ジフェニルアントラキノン、１－クロロアントラキノン、２－クロロアントラキノン、２－メチルアントラキノン、１，４－ナフトキノン、９，１０－フェナントラキノン、２－メチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチルアントラキノン、３－クロロ－２－メチルアントラキノンが挙げられる。

　芳香族ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン［４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン］、４－メトキシ－４’－ジメチルアミノベンゾフェノンが挙げられる。芳香族ケトン化合物としては、増感効果及び密着性の観点から、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンも挙げられる。

　本願明細書中、「アントラセン誘導体」は、アントラセン、及びそれから誘導される化合物の両方を含む。
　アントラセン誘導体としては、例えば、アントラセン、９，１０－ジアルコキシアントラセン、９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、９，１０－ジフェニルアントラセン、２－エチルアントラキノン、オクタエチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン、２，３－ベンズアントラキノン、２－フェニルアントラキノン、２，３－ジフェニルアントラキノン、１－クロロアントラキノン、１０－フェニル－９－アントラセンボロン酸が挙げられる。増感効果及び密着性の観点からは、９，１０－ジブトキシアントラセン、９，１０－ジフェニルアントラセンが好ましく、特に、９，１０－ジフェニルアントラセンが好ましい。

　アセトフェノン化合物としては、例えば、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノ－プロパノン－１が挙げられる。アセトフェノン化合物の市販品としては、例えば、イルガキュアシリーズ（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製：イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、及びイルガキュア－３７９等）が挙げられる。

　アシルフォスフィンオキサイド化合物としては、例えば、２，４，６－トリメチルベンジルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フォスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフォスフィンオキサイドが挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド化合物の市販品としては、例えば、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）、及びイルガキュア－８１９（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）が挙げられる。

　ベンゾイン化合物、及びベンゾインエーテル化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾインが挙げられる。

　ジアルキルケタール化合物としては、例えば、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタールが挙げられる。
　チオキサントン化合物としては、例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン、２－クロルチオキサントンが挙げられる。
　ジアルキルアミノ安息香酸エステル化合物としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジエチルアミノ安息香酸エチル、エチル－ｐ－ジメチルアミノベンゾエート、２－エチルヘキシル－４－（ジメチルアミノ）ベンゾエートが挙げられる。

　オキシムエステル化合物としては、例えば、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－Ｏ－ベンゾイルオキシム、１－フェニル－１，２－プロパンジオン－２－（Ｏ－エトキシカルボニル）オキシム等が挙げられる。オキシムエステル化合物の市販品としては、例えば、ＣＧＩ－３２５、イルガキュア－ＯＸＥ０１、及びイルガキュア－ＯＸＥ０２（いずれもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）が挙げられる。

　アクリジン化合物としては、感度、解像性、入手性等の点で、１，７－ビス（９，９’－アクリジニル）ヘプタン又は９－フェニルアクリジンが好ましい。

　ピラゾリン誘導体としては、密着性及びレジストパターンの矩形性の観点から、１－フェニル－３－（４－ｔｅｒｔ－ブチル－スチリル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチル－フェニル）－ピラゾリン、１－フェニル－３－（４－ビフェニル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチル－フェニル）－ピラゾリン及び１－フェニル－３－（４－ビフェニル）－５－（４－ｔｅｒｔ－オクチル－フェニル）－ピラゾリン、１－フェニル－３－（４－メトキシスチリル）－５－（４－メトキシフェニル）－ピラゾリンが好ましい。

　Ｎ－アリールアミノ酸のエステル化合物としては、例えば、Ｎ－フェニルグリシンのメチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのエチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのｎ－プロピルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのイソプロピルエステル、Ｎ－フェニルグリシンの１－ブチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンの２－ブチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのｔｅｒｔブチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのペンチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのヘキシルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのペンチルエステル、Ｎ－フェニルグリシンのオクチルエステルが挙げられる。

　ハロゲン化合物としては、例えば、臭化アミル、臭化イソアミル、臭化イソブチレン、臭化エチレン、臭化ジフェニルメチル、臭化ベンジル、臭化メチレン、トリブロモメチルフェニルスルフォン、四臭化炭素、トリス（２，３－ジブロモプロピル）ホスフェート、トリクロロアセトアミド、ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、１，１，１－トリクロロ－２，２－ビス（ｐ－クロロフェニル）エタン、クロル化トリアジン化合物、ジアリルヨードニウム化合物が挙げられる。これらのなかでも、トリブロモメチルフェニルスルフォンが好ましい。

　感光性樹脂組成物は（Ｃ）成分の含有量は、感光性樹脂組成物中の全固形分質量を基準として、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。（Ｃ）成分の含有量を上記範囲内に調整することにより、十分な感度を得ることと、感光性樹脂層の底部にまで十分に光を透過させ易くなることを両立でき、ひいては、高解像を実現し易くなる。

　前記（Ｃ）成分が、ビイミダゾール系化合物を含む場合、感光性樹脂組成物におけるビイミダゾール系化合物以外の（Ｃ）成分の含有量は、感光性樹脂組成物中の全固形分質量を基準として、０．００１～２．０質量％でよく、０．０１～２．０質量％でよい。該含有量の上限は、１．０質量％でよく、０．１質量％であることが好ましく、０．０５３質量％であることがより好ましく、０．０３１質量％であることが更に好ましい。（Ｃ）成分の含有量を上記範囲内に調整することにより、十分な感度を得ることと感光性樹脂層の底部にまで十分に光を透過させ易くなることを両立でき、ひいては、高解像を実現し易くなる。

　前記（Ｃ）成分が、ビイミダゾール系化合物を含む場合、感光性樹脂組成物におけるビイミダゾール系化合物以外の（Ｃ）成分としては、Ｎ－アリール－α－アミノ酸化合物、キノン化合物、芳香族ケトン化合物、アントラセン誘導体、アセトフェノン化合物、アシルフォスフィンオキサイド化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾインエーテル化合物、ジアルキルケタール化合物、チオキサントン化合物、ジアルキルアミノ安息香酸エステル化合物、オキシムエステル化合物、アクリジン化合物、ピラゾリン誘導体、Ｎ－アリールアミノ酸のエステル化合物、及びハロゲン化合物が好ましく、それらの中でも、特に、芳香族ケトン化合物、アントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体が好ましい。
　なお、これらの化合物については、≪（Ｃ）成分：光重合開始剤≫の項目において例示した化合物が参照されてよい。

　前記（Ｃ）成分が、ビイミダゾール系化合物を十分量含む場合、例えば、ビイミダゾール系化合物を６．０質量％以上含む、又は６．２質量％以上含む場合、ビイミダゾール系化合物以外の（Ｃ）成分を含まなくてもよい。

≪他の成分≫
　感光性樹脂組成物は、所望により、酸化防止剤、安定化剤、ロイコ染料、ベース染料、増感剤、発色系染料、可塑剤、ヒンダードアミン等を含むことができる。

　酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト（例えば、ＡＤＥＫＡ製、商品名：ＴＰＰ）、トリス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ホスファイト（例えば、ＡＤＥＫＡ製、商品名：２１１２）、トリス（モノノニルフェニル）ホスファイト（例えば、ＡＤＥＫＡ製、商品名：１１７８）、ビス（モノノニルフェニル）－ジノニルフェニルホスファイト（例えば、ＡＤＥＫＡ製、商品名：３２９Ｋ）が挙げられる。

　感光性樹脂組成物における酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物中の全固形分に対し、好ましくは０．０１～０．８質量％であり、より好ましくは０．０１～０．３質量％である。酸化防止剤の含有量は、レジストパターンの色相安定性を良好に発現させ、かつ、感光性樹脂層の感度を向上させる観点から、上記の下限値以上であることが好ましい。他方、レジストパターンの発色性を抑えながら色相安定性を良好に発現させ、かつ、密着性を向上させる観点から、上記の上限値以下であることが好ましい。

　安定化剤としては、例えば、ラジカル重合禁止剤、ベンゾトリアゾール類、及びグリシジル基を有するアルキレンオキシド化合物、から成る群から選択される少なくとも１つの化合物が挙げられる。

　ラジカル重合禁止剤としては、例えば、ｐ－メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミン、４－ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、フェノチアジン、塩化第一銅、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－エチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、トリエチレングリコール－ビス［３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩（例えば、ニトロソフェニルヒドロキシルアミンが３モル付加したアルミニウム塩など）、ジフェニルニトロソアミンが挙げられる。これらのなかでも、トリエチレングリコール－ビス［３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、又はニトロソフェニルヒドロキシルアミンが３モル付加したアルミニウム塩が好ましい。

　ベンゾトリアゾール類としては、例えば、１，２，３－ベンゾトリアゾール、１－クロロ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ－２－エチルヘキシル）アミノメチレン－１，２，３－ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ－２－エチルヘキシル）アミノメチレン－１，２，３－トリルトリアゾール、ビス（Ｎ－２－ヒドロキシエチル）アミノメチレン－１，２，３－ベンゾトリアゾール等が挙げられる。

　ベンゾトリアゾール類は、カルボキシ基を有する化合物であることが好ましく、例えば、４－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、５－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシル）アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－ヒドロキシエチル）アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、及びＮ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシル）アミノエチレンカルボキシベンゾトリアゾール、１－（２－ジ－ｎ－ブチルアミノメチル）－５－カルボキシルベンゾトリアゾールと１－（２－ジ－ｎ－ブチルアミノメチル）－６－カルボキシルベンゾトリアゾールの１：１混合物等が挙げられる。これらのなかでも、４－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、５－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、１－（２－ジ－ｎ－ブチルアミノメチル）－５－カルボキシルベンゾトリアゾールと１－（２－ジ－ｎ－ブチルアミノメチル）－６－カルボキシルベンゾトリアゾールの１：１混合物が好ましい。

　グリシジル基を有するアルキレンオキシド化合物としては、例えば、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル（例えば、共栄社化学（株）製エポライト１５００ＮＰ）、ノナエチレングリコールジグリシジルエーテル（例えば、共栄社化学（株）製エポライト４００Ｅ）、ビスフェノールＡ－プロピレンオキシド２モル付加物ジグリシジルエーテル（例えば、共栄社化学（株）製エポライト３００２）、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル（例えば、共栄社化学（株）製エポライト１６００）が挙げられる。

　感光性樹脂組成物における安定化剤の合計含有量は、感光性樹脂組成物中の全固形分に対し、好ましくは０．００１～３質量％であり、より好ましくは０．０５～１質量％である。合計含有量は、感光性樹脂組成物に良好な保存安定性を付与する観点から、上記の下限値以上であることが好ましく、他方、感光性樹脂層の感度を維持する観点から、上記の上限値以下であることが好ましい。

　ベース染料としては、例えば、ダイアモンドグリーン［ＣＡＳ番号（以下、同じ）：６３３－０３－４］（例えば、Ａｉｚｅｎ　Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｇｒｅｅｎ　ＧＨ、商品名、保土谷化学工業製）、フクシン［６３２－９９－５］、メチルバイオレット［６０３－４７－４］、メチルグリーン［８２－９４－０］、ビクトリアブルーＢ［２５８０－５６－５］、ベーシックブルー７［２３９０－６０－５］（例えば、Ａｉｚｅｎ　Ｖｉｃｔｏｒｉａ　Ｐｕｒｅ　Ｂｌｕｅ　ＢＯＨ、商品名、保土谷化学工業製）、ローダミンＢ［８１－８８－９］、ローダミン６Ｇ［９８９－３８－８］、ベーシックイエロー２［２４６５－２７－２］等が挙げられる。これらのなかでも、着色性、色相安定性、及び露光コントラストを向上させる観点から、ダイアモンドグリーンが好ましい。

　感光性樹脂組成物におけるベース染料の含有量は、感光性樹脂組成物中の全固形分質量を基準として、好ましくは０．００１～３質量％であり、より好ましくは０．０１～２質量％であり、更に好ましくは０．０４～１質量％である。ベース染料の含有量は、良好な着色性を得る観点から、上記の下限値以上であることが好ましく、他方、感光性樹脂層の感度を維持する観点から、上記の上限値以下であることが好ましい。

　発色系染料としては、例えば、ロイコ染料とハロゲン化合物の組み合わせが知られている。ロイコ染料としては、例えば、トリス（４－ジメチルアミノ－２－メチルフェニル）メタン［ロイコクリスタルバイオレット］、トリス（４－ジメチルアミノ－２－メチルフェニル）メタン［ロイコマラカイトグリーン］が挙げられる。ハロゲン化合物としては、例えば、臭化アミル、臭化イソアミル、臭化イソブチレン、臭化エチレン、臭化ジフェニルメチル、臭化ベンザル、臭化メチレン、トリブロモメチルフェニルスルホン、四臭化炭素、トリス（２，３－ジブロモプロピル）ホスフェート、トリクロロアセトアミド、ヨウ化アミル、ヨウ化イソブチル、１，１，１－トリクロロ－２，２－ビス（ｐ－クロロフェニル）エタン、ヘキサクロロエタンが挙げられる。ロイコ染料として、上記ロイコクリスタルバイオレット、また、ダイアモンドグリーンとして称されるものが用いられてよい。

　可塑剤等の添加剤としては、例えば、ジエチルフタレート等のフタル酸エステル類、ｏ－トルエンスルホン酸アミド、ｐ－トルエンスルホン酸アミド、クエン酸トリブチル、クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリ－ｎ－プロピル、アセチルクエン酸トリ－ｎ－ブチル、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールアルキルエーテルが挙げられる。

　ヒンダードアミン化合物としては、例えば、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチル－１－ヒドロキシピペリジン、４－オキソ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル、４－オキソ－２，２，６，６－テトラメチル－１－オキシピペリジン、２，２，６，６－テトラメチルピペリジルメタクリレート、１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレートが挙げられる。
　架橋反応後の硬化膜の柔軟性が向上し、そして剥離性を向上させる観点で、ヒンダードアミン化合物が単官能重合性基を有することが好ましく、２，２，６，６－テトラメチルピペリジルメタクリレート、１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレートが特に好ましい。

　ヒンダードアミン化合物の、感光性樹脂組成物の全固形分質量に対する割合は、０．００１～１０質量％であることが好ましい。この割合は、剥離性が非常に優れる観点で０．００１質量％以上であることが好ましく、０．００５質量％以上であることがより好ましく、０．１質量％以上であることが更に好ましく、０．３質量％以上であることが特に好ましい。一方で、この割合は、解像性の向上の点で、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましく、２質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることが更に好ましい。
　上記ヒンダードアミン化合物は、（Ａ）成分における繰り返し単位として用いられてもよい。

≪感光性樹脂組成物の調合液≫
　感光性樹脂組成物に溶媒を添加することで、感光性樹脂組成物を作製するための調合液を作製できる。溶媒としては、例えば、アセトン及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）等のケトン類、メタノール、エタノール、及びイソプロピルアルコール等のアルコール類、が挙げられる。調合液の粘度が２５℃で５００～４０００ｍＰａ・ｓｅｃとなるように、感光性樹脂組成物に溶媒を添加することができる。

［感光性樹脂積層体］
　本実施形態の更なる一態様は、
　支持フィルムと、
　上記感光性樹脂組成物を露光することで得られる、感光性樹脂層と、
　を備える、感光性樹脂積層体である。

　感光性樹脂層の厚みは、好ましくは、３～１００μｍであり、より好ましい上限は５０μｍである。感光性樹脂層の厚みが３μｍに近づくほど、解像性は向上し易く、１００μｍに近づくほど、膜強度が向上し易いので、用途に応じて適宜選択することができる。

　本実施形態において、感光性樹脂層の膜厚２５μｍにおける、波長３６５ｎｍの透過率は、４５％以上が好ましく、５９％以上がより好ましく、６０％以上がさらに好ましく、６３％以上が特に好ましく、７８％以上が最も好ましい。
　感光性樹脂層の膜厚２５μｍにおける、波長３６５ｎｍの透過率は、例えば、光重合開始剤の含有量、及び／又は種類によって制御可能である。例えば、光重合開始剤の含有量を減らすこと、及び／又は、波長３６５ｎｍの吸光係数の低い光重合開始剤を用いることで、該透過率を高め易いる。

≪支持フィルム≫
　支持フィルムは、感光性樹脂層を支持するための層又はフィルムであること、また、活性光線を透過させる透明なものであることが好ましい。

　フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートの合成樹脂から成る、透明なフィルムが挙げられる。通常は適度な可とう性及び強度を有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましく用いられる。これらのなかでも、内部異物が少ない高品位フィルムを用いることが好ましい。具体的には、高品位フィルムとして、チタン（Ｔｉ）系触媒を用いて合成されたＰＥＴフィルム、滑剤の直径が小さく含有量の少ないＰＥＴフィルム、フィルムの片面のみ滑剤を含有するＰＥＴフィルム、薄膜ＰＥＴフィルム、少なくとも片面に平滑化処理が施されたＰＥＴフィルム、少なくとも片面にプラズマ処理等の粗化処理が施されたＰＥＴフィルム等を用いることがより好ましい。これにより、感光性樹脂積層体の解像性を向上させ易い。
　支持フィルムの少なくとも片面に、カレンダー装置等を用いた平滑化処理が施されてよい。

　支持フィルムの膜厚は、５～２５μｍが好ましく、６～２０μｍがより好ましい。支持フィルムの膜厚は薄いほど内部異物の個数が少なくなり、ゆえに解像性の低下を防止し易い。膜厚が５μｍ以上であれば、塗工・巻き取りの製造工程における、張力による巻き取り方向への伸び変形、及び微小な傷による破れを防止し易く、また、フィルムの強度を確保し易いためにラミネート時のシワを防止し易い。

　支持フィルムのヘイズは、感光性樹脂層へ照射される光線の平行度が向上し、これにより感光性樹脂積層体の露光現像後に高い解像性を得易くなる観点から、好ましくは０．０１％～１．５％、より好ましくは０．０１％～１．２％、更に好ましくは０．０１～０．９５％である。

≪保護フィルム≫
　感光性樹脂積層体は、支持フィルムと、感光性樹脂層と、に加え、保護フィルムを備えてよい。保護フィルムは、感光性樹脂層における、支持フィルムとは反対側に積層され、そして、感光性樹脂層のカバーとして機能する。

　感光性樹脂層と支持フィルムとの密着力よりも、感光性樹脂層と保護フィルムとの密着力の方が十分小さい場合、保護フィルムを、感光性樹脂層から容易に剥離し易い。保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、延伸ポリプロピレンフィルム、ポリエステルフィルム等が好ましく挙げられる。

　感光性樹脂層から保護フィルムを好適に剥がせるよう、離型層を、保護フィルムの表面に付与することができる。離型層は、例えば、シリコーン化合物と、非シリコーン化合物と、に分類される。

　シリコーン化合物としては、例えば、両末端シラノールポリジメチルシロキサンと、ポリメチル水素シロキサン又はポリメチルメトキシシロキサンと、を反応させた縮合反応型シリコーン樹脂；ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体又はジメチルシロキサン・メチルヘキセニルシロキサン共重合体と、ポリメチル水素シロキサンと、を反応させた付加反応型シリコーン樹脂；アクリルシリコーン及びエポキシ基含有シリコーン等を、紫外線又は電子線で硬化させた紫外線硬化型又は電子線硬化型シリコーン樹脂；エポキシ変性シリコーン樹脂（シリコーンエポキシ）、ポリエステル変性シリコーン樹脂（シリコーンポリエステル）、アクリル変性シリコーン樹脂（シリコーンアクリル）、フェノール変性シリコーン樹脂（シリコーンフェノール）、アルキッド変性シリコーン樹脂（シリコーンアルキッド）、メラミン変性シリコーン樹脂（シリコーンメラミン）等の変性シリコーン樹脂；が挙げられる。

　非シリコーン化合物としては、例えば、アルキド（又はアルキッドともいう）樹脂、長鎖アルキル系樹脂、アクリル系樹脂、及びポリオレフィン系樹脂が挙げられる。

　離型層の膜厚は、好ましくは０．００１～２μｍ、より好ましくは０．００５～１μｍ、更に好ましくは０．０１～０．５μｍである。膜厚が上記上限値以下であれば、塗膜外観が良好になり易く、また、塗膜を十分に硬化させ易くなる。他方、膜厚が上記下限値以上の場合、十分な離型性を確保し易くなる。

　保護フィルムの膜厚は１０～１００μｍが好ましく、１０～５０μｍがより好ましい。保護フィルムとしては、例えば、アルファン（登録商標）ＥＭ－５０１、同Ｅ－２００、同Ｅ－２０１Ｆ、同ＦＧ－２０１、同ＭＡ－４１１（以上王子エフテックス（株）製）、トレファン（登録商標）ＫＷ３７、同２５７８、同２５４８、同２５００、同ＹＭ１７Ｓ、セラピール（登録商標）ＰＪ２７１、同ＰＪ１１１、同ＨＰ２、同ＰＪ１０１、同ＷＺ、同ＭＤＡ、同ＭＦＡ、同ＴＫ０７、同ＢＫＥ、同ＢＸ８Ａ、同ＳＹ（以上東レ（株）製）、ＧＦ－１８、ＧＦ－８１８、ＧＦ－８５８（以上タマポリ（株）製）が挙げられる。

［感光性樹脂積層体の作製方法］
　本実施形態の更なる一態様は、感光性樹脂積層体の作製方法である。
　感光性樹脂積層体は、支持フィルムに、感光性樹脂層と、必要により保護フィルムと、を積層することで作製することができる。作製方法は、例えば、
　感光性樹脂組成物を、これらを溶解する溶媒と混ぜ合わせることで、感光性樹脂組成物調合液（塗工液）を得る工程、
　塗工液を、バーコーター又はロールコーターを用いて支持フィルムに塗布し、そして乾燥させることで、支持フィルム上に感光性樹脂層を形成する工程、
　必要により、感光性樹脂層に保護フィルムをラミネートする工程、
　を有することができる。

［ロール（感光性樹脂ロール）］
　本実施形態の更なる一態様は、感光性樹脂積層体を捲回して成る、感光性樹脂ロールである。
　ロールは、芯材を有しても有さなくてもよい。長尺状の感光性樹脂積層体を、芯材を中心に捲回されてもよく、芯材なしに捲回されてもよい。

［レジストパターンの形成方法］
　本実施形態の更なる一態様は、
　上記感光性樹脂積層体を用いる、レジストパターンの形成方法であって、
　以下の工程：
　感光性樹脂積層体を基板に積層する工程（積層工程）；
　積層した前記感光性樹脂積層体における、前記感光性樹脂層を露光する工程（露光工程）；及び
　露光後の前記感光性樹脂層を現像する工程（現像工程）；
　を含む、レジストパターンの形成方法である。

＜積層工程＞
　積層工程では、感光性樹脂積層体から保護フィルムを剥離した後、ラミネーターで感光性樹脂層を支持体（例えば、基板）表面に加熱圧着し、１回又は複数回ラミネートする。基板の材料としては、例えば、銅、ステンレス鋼（ＳＵＳ）、ガラス、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が挙げられる。ラミネート時の加熱温度は、例えば４０℃～１６０℃である。加熱圧着は、ロールを備えたラミネーターを使用すること、又は基板と感光性樹脂層との積層物を数回繰り返してロールに通すこと、等により行なうことができる。加熱圧着は、所望により、減圧環境下で行うことができる。

＜露光工程＞
　露光工程では、露光機を用いて、感光性樹脂層を活性光に露光する。露光は、所望により支持フィルムを剥離した後に行うことができ、また、支持フィルムを剥離せずに行うこともできる。フォトマスクを通して露光する場合、露光量は、光源照度及び露光時間により決定され、これらは光量計を用いて測定されてよい。露光工程では、ダイレクトイメージング露光を行なってもよい。ダイレクトイメージング露光においては、フォトマスクを使用せず基板上に直接描画装置によって露光する。光源としては、波長３５０～４１０ｎｍの半導体レーザー又は超高圧水銀灯が用いられる。描画パターンがコンピュータによって制御される場合、露光量は、露光光源の照度及び基板の移動速度によって決定される。

　露光工程で使用する光照射方法は、投影露光法、プロキシミティー露光法、コンタクト露光法、ダイレクトイメージング露光法、及び電子線直描法から成る群から選択される少なくとも１種の方法であることが好ましく、投影露光方法又はダイレクトイメージング露光法であることがより好ましい。

　露光工程と現像工程の間に、加熱工程を設けてもよい。加熱温度は、好ましくは約３０～約２００℃、より好ましくは３０～１５０℃、更に好ましくは３５～１２０℃である。加熱工程を実施することにより、解像性、密着性の向上が可能になり易い。加熱のための手法としては、例えば、熱風、赤外線又は遠赤外線の方式の加熱炉が挙げられ、また、恒温槽、ホットプレート、熱風乾燥機、赤外線乾燥機、ホットロール等も挙げられる。

　露光工程から加熱工程までの経過時間、例えば、露光を停止した時点から加熱を開始する時点までの経過時間は、１０～６００秒が好ましく、より好ましくは２０～３００秒である。加熱を開始してから加熱を停止する時点までの経過時間は、好ましくは１～１２０秒が好ましく、より好ましくは５～６０秒である。

＜現像工程＞
　現像工程では、露光後の感光性樹脂層における未露光部（非パターン部）を、現像装置を用いて現像液により除去する。露光後、感光性樹脂層上に支持フィルムがある場合、これを剥離する。続いて、アルカリ水溶液を含む現像液を用いて、露光部を現像（除去）し、これにより、レジスト画像（レジストパターン）を得る。

　アルカリ水溶液としては、Ｎａ_２ＣＯ_３、Ｋ_２ＣＯ_３、水酸化テトラメチルアンモニウム、等の水溶液が好ましい。アルカリ水溶液は、感光性樹脂層の特性に合わせて選択され、例えば、０．２～２質量％の濃度のＮａ_２ＣＯ_３水溶液が挙げられる。アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶媒、等を混合してよい。現像工程における現像液の温度は、２０～４０℃の範囲内で保たれることが好ましい。

　現像工程は、露光部を現像（除去）した後、レジストパターンに含まれる現像液を、水洗水により除去する工程（水洗工程）を有することが好ましい。水洗水としては、純水、工業用水、等のように、感光性樹脂層の特性に合わせて選択され、これらには、例えば、解像性、及びレジストパターンの矩形性を向上させる観点から、０．００１～１質量％のＭｇＳＯ_４等の多価金属塩が混合されてよい。水洗工程における水洗水の温度は、２０～４０℃の範囲内で保たれることが好ましい。

レジストパターンを得た後、所望により、更に６０℃～３００℃でこれを加熱する工程（加熱工程）を有してよい。この加熱工程を実施することにより、レジストパターンの耐薬品性を向上させ易い。加熱工程には、熱風、赤外線、又は遠赤外線を用いる方式の加熱炉を用いることができる。

［配線板の製造方法］
　本実施形態に係る感光性樹脂組成物を用いて、配線板を製造することも可能である。
　配線板の製造方法は、一態様において、以下の工程：
　レジストパターンが形成された基板をエッチング又はめっきして導体パターンを形成する導体パターン形成工程；及び
　レジストパターンを基板から剥離する剥離工程；
を含む。

＜導体パターン形成工程＞
　上記のとおりレジストパターンを形成した基板を、必要により、エッチング又はめっきする工程（エッチング又はめっき工程）が行われてよい。これにより、レジストパターンに対応する配線パターン（導体パターン）を基板に形成し易い。
　すなわち、本実施形態の更なる一態様は、導体パターンの製造方法である。

　導体パターンの製造方法は、例えば、基板として金属板又は金属皮膜絶縁板を用い、そして上記方法によってレジストパターンを該基板に形成した後、所望の導体パターンを製造する。露光部を現像（除去）することで露出する基板表面（例えば、銅面）に対して、エッチング又はめっき工程を行う。

　エッチング処理は、例えば、レジストパターン、及び基板表面の上からエッチング液を吹き付けることで行われる。エッチング方法としては、例えば、酸性エッチング、アルカリエッチングが挙げられる。エッチング液としては、例えば、塩酸水溶液、塩化第二鉄水溶液、又はそれらの混合物が挙げられる。

　めっき処理は、既知のめっき法に従って、露光部を現像（除去）することで露出する基板部分を、金属めっき（例えば、硫酸銅めっき液による金属めっき）、又ははんだめっきすることで行われる。

＜剥離工程＞
　上記方法により導体パターンを製造した後、現像液よりも強いアルカリ性を有する水溶液を用いて、レジストパターンを基板から剥離する工程（剥離工程）が行われてよい。これにより、所望の導体パターンを有する配線基板（例えば、プリント配線基板）を得ることができる。

　剥離用のアルカリ水溶液（以下、「剥離液」ともいう）としては、例えば、２～５質量％のＮａＯＨ若しくはＫＯＨの水溶液、又は有機アミン系剥離液が挙げられる。剥離液には、少量の水溶性溶媒が混合されてよい。水溶性溶媒としては、例えば、アルコールが挙げられる。剥離工程における剥離液の温度は、４０～７０℃の範囲内が好ましい。

　感光性樹脂積層体は、プリント配線基板の製造；ＩＣチップ搭載用リードフレーム製造；メタルマスク製造等の金属箔精密加工；ボール・グリッド・アレイ（ＢＧＡ）、チップ・サイズ・パッケージ（ＣＳＰ）等のパッケージの製造；チップ・オン・フィルム（ＣＯＦ）、テープオートメイテッドボンディング（ＴＡＢ）等のテープ基板の製造；半導体バンプの製造；及びＩＴＯ電極、アドレス電極、電磁波シールド等のフラットパネルディスプレイの隔壁の製造に利用されてよい。

　実施例、及び比較例を挙げつつ、本実施形態を説明する。本実施形態は、以下の実施例のみに限定されない。実施例、及び比較例は、以下の方法で作成し、また、実施例、及び比較例の物性は、以下の方法で測定した。

［（Ａ）成分の合成］
　メタクリル酸２８ｇ、スチレン５２ｇ、２－ヒドロキシエチルメタアクリレート２０ｇ（共重合成分）を、アゾビスイソブチロニトリル０．８ｇとともに混合し、溶液（ａ）を調製した。撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロート、及び窒素ガス導入管を備えたフラスコに、メチルエチルケトン２００ｇ、及びエタノール１００ｇを投入した後、フラスコ内に窒素ガスを吹き込みながら撹拌し、そして８０℃まで昇温させた。フラスコ内の上記混合液に、滴下速度を一定にして上記溶液（ａ）を４時間かけて滴下した後、８０℃にて２時間撹拌した。次いで、メチルエチルケトン３０ｇ、及びエタノール２０ｇの混合液５０ｇに、アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇを溶解して溶液（ｂ）を調整した。フラスコ内の溶液に、滴下速度を一定にして上記溶液（ｂ）を１０分間かけて滴下した後、フラスコ内の溶液を８０℃にて３時間撹拌した。更に、フラスコ内の溶液を３０分間かけて９０℃まで昇温させ、９０℃にて２時間保温した後、撹拌を止め、室温（２５℃）まで冷却した。これにより、アルカリ可溶高分子Ａ―１の溶液を得た。
　表４に示される配合量で各共重合成分の単量体の投入量を変更し、そして同様の操作を行うことで、アルカリ可溶性高分子Ａ－１～Ａ－１２を得た。得られたアルカリ可溶性高分子Ａ－１～Ａ－１２の重量平均分子量（Ｍｗ）を表４に示す。

　重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、そして標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより求めた。ＧＰＣの条件は、以下に示すとおりである。
（ＧＰＣ条件）
　　　ポンプ：日本分光製　ＰＵ－９８０
　　　カラム：以下の計２本
　　　Ｓｈｏｄｅｘ社製　ＫＦ－８０Ｙ／ＫＦ－８０６Ｍ
　　　溶離液：テトラヒドロフラン
　　　測定温度：４０℃
　　　流量：２．０５ｍＬ／分
　　　検出器：日本分光製　ＲＩ－１５３０
　本願明細書中「重量平均分子量（Ｍｗ）」「多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）」は、上記に従い測定される。

［評価用サンプル］
＜感光性樹脂組成物、及び感光性樹脂積層体等＞
　表に示す成分（ただし、各成分の数字は、固形分としての配合量（質量部）を示す）、及び溶媒（エタノール）を、固形分が６０質量％となるように攪拌、及び混合し、これにより、感光性樹脂組成物（実施例、及び比較例）を含む調合液を得た。なお、表１～３に記載される略号は、表４に記載される名称に対応している。

　支持フィルムとして、１６μｍ厚のポリエチレンテレフタラートフィルム（東レ（株）製、ＱＳ－６８）を用いた。該フィルムの表面に、バーコーターを用いて上記調合液を均一に塗布し、そして、９５℃の乾燥機中で３分間乾燥することで、膜厚２５μｍの感光性樹脂層を形成した。これにより、感光性樹脂積層体（実施例、及び比較例）を得た。

　次いで、感光性樹脂層における、支持フィルムを積層していない側の表面上に、保護フィルムとして、１９μｍ厚のポリエチレンフィルム（タマポリ（株）製、ＧＦ－８１８）を貼り合わせた。すなわち、保護フィルムを備えた感光性樹脂積層体を作製した。

＜感光層透過率＞
　上記感光性エレメントの保護フィルムを剥離した後、分光光度計Ｕ－３０１０（日立ハイテクノロジーズ株式会社製）を用い、１６μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム（支持フィルム、東レ（株）製、ＱＳ―６８）をリファレンスとして、感光性樹脂層の波長３６５ｎｍにおける透過率を測定した。なお、測定は、スリットを４ｎｍ、スキャン速度を６００ｎｍ／分に設定して行った。

＜評価用基板＞
　３５μｍ圧延銅箔を積層した、０．４ｍｍ厚の銅張積層板を用意した。そして、研削剤（宇治電化学工業（株）製、＃４００）を用い、かつ、スプレー圧０．２ＭＰａの条件で、基板の表面をジェットスクラブ研磨した。研磨後の基板の表面を、１０質量％Ｈ_２ＳＯ_４水溶液、水の順で洗浄した。洗浄後の基板を、評価用基板として用いた。

＜ラミネート＞
　感光性樹脂積層体から保護フィルムを剥がしながら、５０℃に予熱した評価用基板に、ホットロールラミネーター（旭化成（株）社製、ＡＬ－７００）により、ロール温度１０５℃で感光性樹脂積層体をラミネートした。エアー圧は０．３５ＭＰａ、ラミネート速度は１．５ｍ／ｍｉｎであった。

＜露光＞
　ラミネート後２時間経過した評価用基板に、直接描画露光機（（株）オーク製作所製　ＦＤｉ－３）により露光した。ここで、露光は、所定のダイレクトイメージング（ＤＩ）露光用の描画パターンを用いて行った。
　ここでは、露光後１分経過した評価用基板を、６０℃に設定した送風定温恒温器（ヤマト科学（株）製、ＤＫＭ６００）により、３０秒間加熱した。

＜現像＞
　感光性樹脂層から支持フィルムを剥離し、該感光性樹脂層を露出させた。その後、アルカリ現像機（（株）フジ機工製、ドライフィルム用現像機）を用い、３０℃の１質量％Ｎａ_２ＣＯ_３水溶液を、所定時間に亘って感光性樹脂層にスプレーし、これにより現像を行った。現像後、所定時間に亘って感光性樹脂層をスプレーにより水洗した。現像（スプレー）の時間、及び水洗（スプレー）の時間として、ともに、最短現像時間の２倍の時間を用いた。現像後にも更に水洗スプレーを行い、そして、その水洗スプレーの時間は、最短現像時間の２倍の時間とした。このとき、未露光部分の感光性樹脂層が完全に溶解するのに要する、最も短い時間を「最短現像時間」として扱った。

［評価］
＜プラズマ耐性＞
　ストーファー４１段ステップタブレットにて最高残膜段数が１５段となる露光量にて露光し、現像した感光性樹脂層に対して、プラズマエッチング装置（神港精機（株）製　ＥＸＡＭ）を用い、１０００秒間に亘り、プラズマ処理を施した。ここでの処理は、出力を１３３Ｗ、Ｏ_２ガスを４０ｃｍ^３／ｍｉｎ、ＣＦ_４ガスを４１ｃｍ^３／ｍｉｎ、圧力を５０Ｐａとして行った。

　その後、レーザー顕微鏡（オリンパス（株）製　ＬＥＸＴ　ＯＬＳ４１００）により、感光性樹脂層の表面について、算術平均粗さ（Ｒａ）を測定した。基準長さ１００μｍの範囲で、該表面について、異なる３か所の算術平均粗さ（Ｒａ）を測定し、そして、これらの平均値を算出した。得られた平均値を、プラズマ耐性の指標として扱い、そしてこれを以下の基準で評価した。プラズマ処理によって感光性樹脂層にダメージが生じると、その表面に凹凸が生じ得るため、算術平均粗さ（Ｒａ）が小さいほどプラズマ耐性が良好であることを意味する。
　評価基準：
　　Ｅ：◎（著しく良好）　算術平均粗さ（Ｒａ）が１．５μｍ未満
　　Ｇ：○（良好）　算術平均粗さ（Ｒａ）が１．５μｍ以上３．０μｍ未満
　　Ｐ：×（不良）　算術平均粗さ（Ｒａ）が３．０μｍ以上

＜感度＞
　上記＜露光＞工程において、ストーファー４１段ステップタブレットをマスクとして露光し、そして、その後に現像したときの最高残膜段数が１５段となる露光量を求めた。求めた露光量に応じて、以下の基準で評価した。露光量の値が小さいほど、感度が高いことを意味する。
　評価基準：
　　Ｅ：◎（著しく良好）　上記露光量が１６０ｍＪ／ｃｍ^２未満
　　Ｇ：○（良好）　上記露光量が１６０ｍＪ／ｃｍ^２以上２００ｍＪ／ｃｍ^２未満　　　　Ｐ：×（不良）　上記露光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２以上

＜密着性＞
　ライン／スペース（Ｌ／Ｓ）がｘ／３ｘ｛ｘ＝１～２０（１μｍ間隔で変化）、単位：μｍ｝であるマスクパターンを用いて評価を行った。すなわち、上記ラミネート後の評価用基板に対して、該マスクパターンを用いてストーファー４１段ステップタブレットにて最高残膜段数が１５段となる露光量にて露光し、露光した。その後、現像を行うことにより、レジストパターンを形成した。このレジストパターンを、光学顕微鏡にて倍率５０倍で観察することで、観察画像を得た。観察画像において、ライン部分（露光部分）が蛇行、及び欠けを生じることなく形成された最小のライン幅を求めた。該ライン幅を密着性の指標として扱い、そしてこれを以下の基準で評価した。密着性の値が小さいほど、密着性が良好であることを意味する。
　評価基準：
　　Ｅ：◎（著しく良好）　密着性が６μｍ未満
　　Ｇ：○（良好）　密着性が６μｍ以上９μｍ未満
　　Ｐ：×（不良）　密着性が９μｍ以上

　表中、
　「（Ａ）成分中の芳香環」は、（Ａ）成分のうち芳香環の割合を；
　「（Ｂ）成分中の芳香環」は、（Ｂ）成分のうち芳香環の割合を；
　「Ｓｔ／（Ａ）成分」は、（Ａ）成分の全単量体成分の合計質量を基準とした、スチレンに由来する構成単位の割合を；
　「ＢｉｓＡ／（Ｂ）成分]は、（Ｂ）成分の総量を基準とした、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物の割合を；
　「成分Ｃ－１／組成物」は、感光性樹脂組成物の固形分総量を基準とした、イミダゾール系化合物の割合を；
それぞれ意味する。

　実施例は、評価項目＜プラズマ耐性＞において、比較例に比べて良好な結果が得られることが、上記表から確かめられた。
　なお、実施例の感光性樹脂積層体は、常法により捲回が可能であった、すなわち、該積層体を用いて好適にロールを作製できた。

　本発明により、所望の特性（例えば、プラズマ耐性）に優れた感光性樹脂層を実現可能な、感光性樹脂組成物が提供される。本発明による感光性樹脂組成物によれば、プラズマ耐性が良好である、また、感度及び密着性が良好な場合がある、感光性樹脂積層体を得ることができる。本発明は、レジストパターンを形成する産業において広く利用することができる。

Claims (13)

1. 　以下の成分：
   （Ａ）アルカリ可溶性高分子、
   （Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、及び
   （Ｃ）光重合開始剤、
   　を含む、感光性樹脂組成物であって、
   　前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分は、ともに芳香環を含有し、
   　前記（Ａ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００４５ｍｏｌ／ｇ以上、かつ、
   　前記（Ｂ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００１７ｍｏｌ／ｇ以上であり、
   　前記（Ａ）成分が、ヒドロキシ基を有する化合物を単量体成分として含有し、
   　前記（Ｃ）成分が、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を４．０質量％以上含む
   　感光性樹脂組成物。
2. 　前記（Ａ）成分は、その全単量体成分の合計質量を基準として、スチレンに由来する構成単位の割合が５１質量％以上であり、
   　前記（Ｂ）成分は、前記（Ｂ）成分の総量を基準として、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物を７０質量％以上含む、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
3. 　前記（Ａ）成分は、その全単量体成分の合計質量を基準として、スチレンに由来する構成単位の割合が５５質量％以上である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
4. 　前記（Ｂ）成分は、前記（Ｂ）成分の総量を基準として、ビスフェノールＡ型骨格を有する化合物を８０質量％以上含む、請求項３に記載の感光性樹脂組成物。
5. 　前記（Ｃ）成分は、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を５．０質量％以上含む、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
6. 　前記（Ｃ）成分は、前記感光性樹脂組成物の固形分総量を基準として、ビイミダゾール系化合物を６．０質量%以上含む、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
7. 　前記感光性樹脂組成物を用いて得られる感光性樹脂層２５μｍにおける、波長３６５ｎｍの透過率が４５％以上である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
8. 　前記透過率が６０％以上である、請求項７に記載の感光性樹脂組成物。
9. 　支持フィルムと、
   　請求項１～８のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を含む感光性樹脂層と、
   　を備える、感光性樹脂積層体。
10. 　前記感光性樹脂層の、厚み２５μｍにおける波長３６５ｎｍの透過率が、４５％以上である、請求項９に記載の感光性樹脂積層体。
11. 　請求項９に記載の感光性樹脂積層体を捲回して成る、ロール。
12. 　以下の成分：（Ａ）アルカリ可溶性高分子、
    （Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、及び
    （Ｃ）光重合開始剤、
    　を含む、感光性樹脂組成物の製造方法であって、
    　前記（Ａ）成分及び前記（Ｂ）成分は、ともに芳香環を含有し、
    　前記（Ａ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００４５ｍｏｌ／ｇ以上である該（Ａ）成分を用い、かつ、
    　前記（Ｂ）成分のうち、前記芳香環の割合が０．００１７ｍｏｌ／ｇ以上である該（Ｂ）成分を用いる、
    　感光性樹脂組成物の製造方法。
13. 　請求項９に記載の感光性樹脂積層体を用いる、レジストパターンの形成方法であって、
    　以下の工程：
    　感光性樹脂積層体を基板に積層する工程；
    　積層した前記感光性樹脂積層体における、前記感光性樹脂層を露光する工程；及び
    　露光後の前記感光性樹脂層を現像する工程；
    　を含む、レジストパターンの形成方法。