WO2023140231A1 - レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び、化合物 - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a resist composition, a method of forming a resist pattern, and a compound.
  • This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2022-007875 filed in Japan on January 21, 2022, the content of which is incorporated herein.
  • Resist materials are required to have lithography properties such as sensitivity to these exposure light sources and resolution capable of reproducing patterns with fine dimensions.
  • lithography properties such as sensitivity to these exposure light sources and resolution capable of reproducing patterns with fine dimensions.
  • a resist material that satisfies such requirements conventionally, a chemically amplified resist composition containing a base component whose solubility in a developing solution is changed by the action of acid and an acid generator component that generates acid upon exposure has been used.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a resist composition capable of forming a resist pattern with high sensitivity and good roughness reduction, a resist pattern forming method using the resist composition, and a compound capable of forming the resin contained in the resist composition.
  • a first aspect of the present invention is a resist composition that generates an acid upon exposure and whose solubility in a developer changes due to the action of the acid, the resist composition containing a resin component (A1) having a structural unit (a01) derived from a compound represented by the following general formula (a0-1).
  • R 01 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • L 01 is a divalent linking group.
  • Ra 01 and Ra 02 are each independently a hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Ar 01 is an aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms, or a heteroaryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms.
  • the aryl group and heteroaryl group may have a substituent other than the iodine atom.
  • a second aspect of the present invention is a resist pattern forming method comprising the steps of forming a resist film on a support using the resist composition according to the first aspect, exposing the resist film, and developing the exposed resist film to form a resist pattern.
  • a third aspect of the present invention is a compound represented by the above general formula (a0-1).
  • a resist composition capable of forming a resist pattern with high sensitivity and good roughness reduction, a method of forming a resist pattern using the resist composition, and a compound capable of forming the resin contained in the resist composition.
  • alkyl group includes linear, branched and cyclic monovalent saturated hydrocarbon groups unless otherwise specified. The same applies to the alkyl group in the alkoxy group. Unless otherwise specified, the "alkylene group” includes straight-chain, branched-chain and cyclic divalent saturated hydrocarbon groups.
  • halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • a "structural unit” means a monomer unit (monomeric unit) that constitutes a polymer compound (resin, polymer, copolymer).
  • an “acid-decomposable group” is a group having acid-decomposability such that at least some of the bonds in the structure of the acid-decomposable group can be cleaved by the action of an acid.
  • the acid-decomposable group whose polarity is increased by the action of an acid includes, for example, a group that is decomposed by the action of an acid to form a polar group.
  • Polar groups include, for example, a carboxy group, a hydroxyl group, an amino group, and a sulfo group (--SO 3 H). More specifically, the acid-decomposable group includes a group in which the polar group is protected with an acid-labile group (for example, a group in which the hydrogen atom of the OH-containing polar group is protected with an acid-labile group).
  • acid-labile group refers to both (i) a group having acid-lability capable of cleaving the bond between the acid-labile group and an atom adjacent to the acid-labile group by the action of an acid, or (ii) a group capable of cleaving the bond between the acid-labile group and the atom adjacent to the acid-labile group as a result of further decarboxylation after some bonds are cleaved by the action of an acid.
  • the acid-labile group that constitutes the acid-labile group must have a lower polarity than the polar group generated by the dissociation of the acid-labile group, so that when the acid-labile group is dissociated by the action of an acid, a polar group having a higher polarity than the acid-labile group is generated and the polarity increases.
  • the polarity of the entire component (A1) increases.
  • the solubility in the developer relatively changes. When the developer is an alkaline developer, the solubility increases, and when the developer is an organic developer, the solubility decreases.
  • a “base material component” is an organic compound having film-forming ability.
  • the organic compounds used as the base component are roughly classified into non-polymers and polymers.
  • the non-polymer one having a molecular weight of 500 or more and less than 4000 is usually used.
  • the term "low-molecular-weight compound” refers to a non-polymer having a molecular weight of 500 or more and less than 4,000.
  • the polymer those having a molecular weight of 1000 or more are usually used.
  • “resin”, “polymer compound” or “polymer” refers to a polymer having a molecular weight of 1000 or more.
  • the molecular weight of the polymer a polystyrene-equivalent weight-average molecular weight obtained by GPC (gel permeation chromatography) is used.
  • a “derived structural unit” means a structural unit formed by cleavage of a multiple bond between carbon atoms, such as an ethylenic double bond.
  • the hydrogen atom bonded to the ⁇ -position carbon atom may be substituted with a substituent.
  • the substituent (R ⁇ x ) substituting the hydrogen atom bonded to the ⁇ -position carbon atom is an atom or group other than a hydrogen atom.
  • itaconic acid diesters in which the substituent (R ⁇ x ) is substituted with a substituent containing an ester bond, and ⁇ -hydroxy acrylic esters in which the substituent (R ⁇ x ) is substituted with a hydroxyalkyl group or a modified hydroxyl group thereof are also included.
  • the ⁇ -position carbon atom of the acrylic acid ester means the carbon atom to which the carbonyl group of acrylic acid is bonded.
  • an acrylic acid ester in which the hydrogen atom bonded to the ⁇ -position carbon atom is substituted with a substituent may be referred to as an ⁇ -substituted acrylic acid ester.
  • derivatives includes compounds in which the ⁇ -position hydrogen atom of the subject compound is substituted with other substituents such as alkyl groups and halogenated alkyl groups, as well as derivatives thereof.
  • derivatives thereof include those obtained by substituting the hydrogen atom of the hydroxyl group of the target compound, in which the hydrogen atom at the ⁇ -position may be substituted with a substituent, with an organic group; and those in which a substituent other than the hydroxyl group is bonded to the target compound, in which the hydrogen atom at the ⁇ -position may be substituted with a substituent, and the like.
  • the ⁇ -position refers to the first carbon atom adjacent to the functional group unless otherwise specified.
  • substituent that substitutes the hydrogen atom at the ⁇ -position of hydroxystyrene include those similar to R ⁇ x .
  • resist composition The resist composition of this embodiment generates acid upon exposure, and the action of the acid changes its solubility in a developer.
  • a resist composition contains a base component (A) (hereinafter also referred to as “component (A)”) whose solubility in a developer changes under the action of acid.
  • the component (A) may generate an acid upon exposure, or an additive component blended separately from the component (A) may generate an acid upon exposure.
  • the resist composition of the present embodiment may further contain (1) an acid generator component (B) that generates an acid upon exposure (hereinafter referred to as "(B) component"); (2) the component (A) may be a component that generates an acid upon exposure; and (3) the component (A) is a component that generates an acid upon exposure, and may further contain the component (B). That is, in the cases of (2) and (3) above, the component (A) is "a base component that generates an acid upon exposure and changes its solubility in a developer by the action of the acid".
  • the component (A) is a base component that generates an acid upon exposure and changes its solubility in a developer by the action of the acid
  • the component (A1) which will be described later, is preferably a resin that generates an acid upon exposure and changes its solubility in the developer by the action of the acid.
  • a resin a polymer compound having a structural unit that generates an acid upon exposure can be used.
  • a known structural unit can be used as the structural unit that generates an acid upon exposure.
  • the resist composition of the present embodiment preferably satisfies the above (1). That is, the resist composition of the present embodiment preferably contains component (A) and component (B).
  • the resist film when the resist film is developed, if the resist composition is of a positive type, the exposed portion of the resist film is dissolved and removed to form a positive resist pattern, and if the resist composition is of a negative type, the unexposed portion of the resist film is dissolved and removed to form a negative resist pattern.
  • the resist composition of this embodiment may be a positive resist composition or a negative resist composition. Further, the resist composition of the present embodiment may be for an alkali development process using an alkali developer for development treatment during resist pattern formation, or may be for a solvent development process using a developer containing an organic solvent (organic developer) for the development treatment.
  • the (A) component contains a resin component (A1) (hereinafter also referred to as “(A1) component”) whose solubility in a developer changes under the action of acid.
  • A1 component a resin component whose solubility in a developer changes under the action of acid.
  • the component (A1) the polarity of the base material component changes before and after exposure, so that good development contrast can be obtained not only in the alkali development process but also in the solvent development process.
  • component (A) other high-molecular compounds and/or low-molecular compounds may be used in combination with the component (A1).
  • the component (A) may be used singly or in combination of two or more.
  • Component (A1) is a resin component whose solubility in a developer changes under the action of an acid.
  • Component (A1) has a structural unit (a01) derived from a compound represented by general formula (a0-1) below.
  • the component (A1) may have other structural units in addition to the structural unit (a01), if necessary.
  • R 01 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • L 01 is a divalent linking group.
  • Ra 01 and Ra 02 are each independently a hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Ar 01 is an aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms, or a heteroaryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms.
  • the aryl group and heteroaryl group may have a substituent other than the iodine atom.
  • R 01 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms in R 01 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Specific examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group and the like.
  • a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is a group in which some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms have been substituted with halogen atoms.
  • a fluorine atom is particularly preferable as the halogen atom.
  • R 01 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group in terms of industrial availability.
  • examples of the divalent linking group for L 01 include a divalent hydrocarbon group which may have a substituent and a divalent linking group containing a hetero atom.
  • a divalent hydrocarbon group which may have a substituent When L 01 is a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, the hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group.
  • Aliphatic hydrocarbon group in L 01 An aliphatic hydrocarbon group means a hydrocarbon group having no aromaticity.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be saturated or unsaturated, and is usually preferably saturated.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group include linear or branched aliphatic hydrocarbon groups, and aliphatic hydrocarbon groups containing rings in their structures.
  • linear or branched aliphatic hydrocarbon group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and most preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • the straight-chain aliphatic hydrocarbon group is preferably a straight-chain alkylene group, and specific examples thereof include a methylene group [-CH 2 -], an ethylene group [-(CH 2 ) 2 -], a trimethylene group [-(CH 2 ) 3 -], a tetramethylene group [-(CH 2 ) 4 -], a pentamethylene group [-(CH 2 ) 5 -], and the like.
  • the branched chain aliphatic hydrocarbon group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 6 carbon atoms, still more preferably 3 or 4 carbon atoms, and most preferably 3 carbon atoms.
  • the linear or branched aliphatic hydrocarbon group may or may not have a substituent.
  • substituents include a fluorine atom, a fluorine-substituted fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a carbonyl group.
  • the aliphatic hydrocarbon group containing a ring in its structure includes a cyclic aliphatic hydrocarbon group which may contain a substituent containing a hetero atom in the ring structure (a group obtained by removing two hydrogen atoms from an aliphatic hydrocarbon ring), a group in which the cyclic aliphatic hydrocarbon group is bonded to the end of a linear or branched aliphatic hydrocarbon group, a group in which the cyclic aliphatic hydrocarbon group is interposed in the middle of a linear or branched aliphatic hydrocarbon group, and the like. be done.
  • the straight-chain or branched-chain aliphatic hydrocarbon group examples include those mentioned above.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 12 carbon atoms.
  • a cyclic aliphatic hydrocarbon group may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon group a group obtained by removing two hydrogen atoms from a monocycloalkane is preferable.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples include cyclopentane and cyclohexane.
  • the polycyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing two hydrogen atoms from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 12 carbon atoms, specifically adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, tetracyclododecane, and the like.
  • a cyclic aliphatic hydrocarbon group may or may not have a substituent.
  • substituents include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group and the like.
  • the alkyl group as the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group or a tert-butyl group.
  • the alkoxy group as the substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an n-butoxy group and a tert-butoxy group, and still more preferably a methoxy group and an ethoxy group.
  • a fluorine atom is preferable as the halogen atom as the substituent.
  • Examples of the halogenated alkyl group as the substituent include groups in which some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with the halogen atoms.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may also be a lactone-containing cyclic group such as groups represented by general formulas (Lr-1) to (Lr-7) below.
  • R 0 ′′ is a hydrogen atom, an alkyl group, or a lactone-containing cyclic group; 5 alkylene groups, an oxygen atom or a sulfur atom, n0' is an integer of 0 to 2, and m0' is 0 or 1.
  • * indicates a bond with the carbon atom to which R 01 in the general formula (a0-1) is bonded. ** represents a bond to the carbon atom of the carbonyl group in general formula (a0-1) above. ]
  • the alkyl group for Ra' 021 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the alkyl group is preferably linear or branched.
  • an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferable.
  • the alkoxy group is preferably linear or branched. Specific examples include groups in which the alkyl group exemplified as the alkyl group for Ra'021 and an oxygen atom (--O--) are linked.
  • a fluorine atom is preferable as the halogen atom in Ra'021 .
  • halogenated alkyl group for Ra'021 examples include groups in which some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group for Ra'021 are substituted with the above halogen atoms.
  • a fluorinated alkyl group is preferable, and a perfluoroalkyl group is particularly preferable.
  • the alkyl group for R 0 ′′ may be linear, branched or cyclic, and preferably has 1 to 15 carbon atoms.
  • R 0 ′′ is a linear or branched alkyl group, it preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group or an ethyl group.
  • R 0 ′′ is a cyclic alkyl group, it preferably has 3 to 15 carbon atoms, more preferably 4 to 12 carbon atoms, and most preferably 5 to 10 carbon atoms.
  • the lactone-containing cyclic group for R 0 ′′ includes the same groups as those represented by the general formulas (Lr-1) to (Lr-7).
  • the hydroxyalkyl group for Ra'021 preferably has 1 to 6 carbon atoms, and specific examples include groups in which at least one hydrogen atom of the alkyl group for Ra'021 is substituted with a hydroxyl group.
  • the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms in " is preferably a linear or branched alkylene group, and includes a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, and the like.
  • the alkylene group contains an oxygen atom or a sulfur atom
  • specific examples thereof include groups in which -O- or -S- is interposed between the terminals or carbon atoms of the alkylene group, for example, -O-CH 2 -, -CH 2 -O-CH 2 -, -S-CH 2 -, -CH 2 -S-CH 2 - and the like.
  • A. 0 ” is preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or —O—.
  • the aromatic hydrocarbon group is a hydrocarbon group having at least one aromatic ring.
  • This aromatic ring is not particularly limited as long as it is a cyclic conjugated system having 4n+2 ⁇ electrons, and may be monocyclic or polycyclic.
  • the aromatic ring preferably has 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms. However, the number of carbon atoms does not include the number of carbon atoms in the substituent.
  • aromatic ring examples include aromatic hydrocarbon rings such as benzene, naphthalene, anthracene, and phenanthrene; and aromatic heterocycles in which some of the carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring are substituted with heteroatoms.
  • the heteroatom in the aromatic heterocycle includes oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom and the like.
  • aromatic heterocycles include pyridine rings and thiophene rings.
  • Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include groups in which two hydrogen atoms are removed from the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring (arylene group or heteroarylene group); aromatic compounds containing two or more aromatic rings (e.g., biphenyl, fluorene, etc.).
  • the alkylene group bonded to the aryl group or heteroaryl group preferably has 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms, and particularly preferably 1 carbon atom.
  • a hydrogen atom of the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a substituent.
  • a hydrogen atom bonded to an aromatic ring in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a substituent.
  • the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, and a hydroxyl group.
  • the alkyl group as the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group or a tert-butyl group.
  • the alkoxy group, halogen atom and halogenated alkyl group as the substituent include those exemplified as the substituent for substituting the hydrogen atom of the cyclic aliphatic hydrocarbon group.
  • the H may be substituted with a substituent such as an alkyl group or an acyl group.
  • the substituent alkyl group, acyl group, etc. preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 5 carbon atoms.
  • Y 21 and Y 22 are each independently a divalent hydrocarbon group which may have a substituent.
  • the divalent hydrocarbon group the same as those described in the description of the divalent linking group in L 01 (a divalent hydrocarbon group which may have a substituent) can be mentioned.
  • Y 21 is preferably a straight-chain aliphatic hydrocarbon group, more preferably a straight-chain alkylene group, even more preferably a straight-chain alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and particularly preferably a methylene group or an ethylene group.
  • Y 22 is preferably a linear or branched aliphatic hydrocarbon group, more preferably a methylene group, an ethylene group or an alkylmethylene group.
  • the alkyl group in the alkylmethylene group is preferably a straight-chain alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a straight-chain alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and most preferably a methyl group.
  • m′′ is an integer of 0 to 3, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 1.
  • the alkylene group in the group consisting of the ester bond and the alkylene group is preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a linear alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and further preferably a methylene group or an ethylene group.
  • the alkylene group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, and a hydroxyl group.
  • the aromatic hydrocarbon group is a hydrocarbon group having at least one aromatic ring.
  • This aromatic ring is not particularly limited as long as it is a cyclic conjugated system having 4n+2 ⁇ electrons, and may be monocyclic or polycyclic.
  • the aromatic ring preferably has 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms. However, the number of carbon atoms does not include the number of carbon atoms in the substituent.
  • aromatic ring examples include aromatic hydrocarbon rings such as benzene, naphthalene, anthracene, and phenanthrene; and aromatic heterocycles in which some of the carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring are substituted with heteroatoms.
  • the heteroatom in the aromatic heterocycle includes oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom and the like.
  • aromatic heterocycles include pyridine rings and thiophene rings.
  • Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include groups in which two hydrogen atoms are removed from the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring (arylene group or heteroarylene group); aromatic compounds containing two or more aromatic rings (e.g., biphenyl, fluorene, etc.).
  • the alkylene group bonded to the aryl group or heteroaryl group preferably has 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms, and particularly preferably 1 carbon atom.
  • the aromatic hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, and a hydroxyl group.
  • the aromatic hydrocarbon group is preferably an optionally substituted arylene group, more preferably a substituted arylene group, still more preferably a hydroxyl group-containing arylene group, and particularly preferably a hydroxyl group-containing phenylene group.
  • lactone-containing cyclic group in the group consisting of an ester bond and a lactone-containing cyclic group groups represented by the above general formulas (Lr-1) to (Lr-7) are preferable, and groups represented by the above general formula (Lr-2) are more preferable.
  • L 01 is preferably a group represented by each of the following general formulas (L0-r-1) to (L0-r-5).
  • each Rx 00 is independently an alkylene group.
  • Ar 00 is an arylene group optionally having a substituent.
  • Lc 00 is a lactone-containing cyclic group represented by any one of the above general formulas (Lr-1) to (Lr-7). * indicates a bond with the carbon atom to which R 01 in the general formula (a0-1) is bonded. ** represents a bond to the carbon atom of the carbonyl group in general formula (a0-1) above. ]
  • Rx 00 is preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Ar 00 is preferably an optionally substituted arylene group, more preferably an arylene group having a hydroxyl group, even more preferably a phenylene group having a hydroxyl group.
  • Lc 00 is a lactone-containing cyclic group represented by any one of the above general formulas (Lr-1) to (Lr-7), preferably a lactone-containing cyclic group represented by the above general formula (Lr-2).
  • L 01 is preferably a group represented by any one of the above general formulas (L0-r-3) to (L0-r-5), more preferably a group represented by the above general formula (L0-r-3).
  • examples of hydrocarbon groups for Ra 01 and Ra 02 include linear and branched hydrocarbon groups and cyclic hydrocarbon groups.
  • the linear or branched hydrocarbon group includes a linear or branched saturated hydrocarbon group (alkyl group) or a linear or branched unsaturated hydrocarbon group.
  • linear or branched alkyl group examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, and neopentyl group.
  • the linear or branched unsaturated hydrocarbon group includes an unsaturated hydrocarbon group having a double bond such as an alkenyl group, an alkadienyl group, and an alkatrienyl group; an unsaturated hydrocarbon group having a triple bond such as an alkynyl group, a group obtained by removing one hydrogen atom from dialkyne, and a group obtained by removing one hydrogen atom from trialkyne.
  • linear or branched alkenyl group examples include linear alkenyl groups such as vinyl group, propenyl group (allyl group) and 2-butenyl group; branched alkenyl groups such as 1-methylvinyl group, 2-methylvinyl group, 1-methylpropenyl group and 2-methylpropenyl group.
  • alkadienyl group examples include propadienyl group and butadienyl group.
  • alkatrienyl group examples include butatrienyl group and the like.
  • linear or branched alkynyl group examples include linear alkynyl groups such as ethynyl group, propargyl group and 3-pentynyl group; branched alkynyl groups such as 1-methylpropargyl group, and the like.
  • Specific examples of the group obtained by removing one hydrogen atom from dialkyne include groups obtained by removing one hydrogen atom from diacetylene.
  • Specific examples of the group obtained by removing one hydrogen atom from the trialkyne include a group obtained by removing one hydrogen atom from hexa-1,3,5-triyne.
  • the cyclic hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group, and may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic aliphatic hydrocarbon group a group obtained by removing one hydrogen atom from a monocycloalkane is preferable.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, specifically cyclopropane.
  • the aliphatic hydrocarbon group which is a polycyclic group, is preferably a group obtained by removing one hydrogen atom from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 12 carbon atoms, specifically adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, tetracyclododecane, and the like.
  • the aromatic hydrocarbon group includes an aryl group or a heteroaryl group, and specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, and the like.
  • substituents that the hydrocarbon group in Ra 01 and Ra 02 may have include -R P1 , -R P2 -OR P1 , -R P2 -CO-R P1 , -R P2 -CO-OR P1 , -R P2 -O-CO-R P1 , -R P2 -OH, -R P2 -CN or -R P2 -COOH (hereinafter these Substituents are also collectively referred to as "Ra x5 ".) and the like.
  • R P1 is a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a monovalent saturated aliphatic cyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.
  • R P2 is a single bond, a divalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a divalent aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.
  • some or all of the hydrogen atoms of the chain saturated hydrocarbon groups, aliphatic cyclic saturated hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups of R P1 and R P2 may be substituted with fluorine atoms.
  • the aliphatic cyclic hydrocarbon group may have one or more of the above substituents, or may have one or more of each of a plurality of the above substituents.
  • Examples of monovalent chain saturated hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group and decyl group.
  • Examples of monovalent aliphatic cyclic saturated hydrocarbon groups having 3 to 20 carbon atoms include monocyclic aliphatic saturated hydrocarbon groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclodecyl, and cyclododecyl; ]decanyl group, tetracyclo[6.2.1.13,6.02,7]dodecanyl group, and polycyclic aliphatic saturated hydrocarbon groups such as adamantyl group.
  • Examples of monovalent aromatic hydrocarbon groups having 6 to 30 carbon atoms include groups obtained by removing one hydrogen atom from aromatic hydrocarbon rings such as benzene, biphenyl, fluorene, naphthalene, anthracene, and phenanthrene.
  • both Ra 01 and Ra 02 are a methyl group or an ethyl group, or that Ra 01 is a methyl group or an ethyl group and Ra 02 is an ethynyl group or a vinyl group.
  • Ar 01 is an aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms, or a heteroaryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms.
  • Examples of the aryl group for Ar 01 include groups obtained by removing one hydrogen atom from an aromatic ring.
  • the aromatic ring includes benzene, naphthalene, anthracene, phenanthrene and the like.
  • the aryl group for Ar 01 is preferably a phenyl group.
  • the heteroaryl group for Ar 01 includes a group obtained by removing one hydrogen atom from an aromatic heterocyclic ring.
  • a pyridine ring, a thiophene ring, etc. are mentioned as this aromatic heterocyclic ring.
  • the heteroaryl group for Ar 01 is preferably a thiophenyl group.
  • Some or all of the hydrogen atoms of the aryl group and heteroaryl group in Ar 01 are substituted with iodine atoms.
  • the number of iodine atoms is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, still more preferably 2 or 3, and particularly preferably 3.
  • the aryl group and heteroaryl group in Ar 01 may have a substituent other than the iodine atom.
  • substituents include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, and a hydroxyl group.
  • Ar 01 is preferably an aryl group having 1 to 3 iodine atoms or a heteroaryl group having 1 to 3 iodine atoms, more preferably an aryl group having 1 to 3 iodine atoms, and even more preferably a phenyl group having 1 to 3 iodine atoms.
  • the structural unit (a01) is preferably a structural unit (a011) derived from a compound represented by the following general formula (a0-1-1).
  • R 01 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • L 001 is a divalent linking group having an ester bond, an aromatic hydrocarbon group, a lactone-containing cyclic group, or a group consisting of a combination thereof.
  • Ra 01 and Ra 02 are each independently a hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Ar 01 is an aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms, or a heteroaryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms. The aryl group and heteroaryl group may have a substituent other than the iodine atom.
  • R 01 , Ra 01 , Ra 02 and Ar 01 are the same as R 01 , Ra 01 , Ra 02 and Ar 01 in general formula (a0-1) above.
  • L 001 is a divalent linking group having an ester bond, an aromatic hydrocarbon group, a lactone-containing cyclic group, or a combination thereof.
  • the divalent linking group include the same divalent linking groups having an ester bond, an aromatic hydrocarbon group, a lactone-containing cyclic group, or a group consisting of a combination thereof in L 01 in the general formula (a0-1) described above.
  • L 001 is preferably any of the groups represented by general formulas (L0-r-1) to (L0-r-5), more preferably any of the groups represented by general formulas (L0-r-3) to (L0-r-5), and more preferably a group represented by general formula (L0-r-3).
  • the structural unit (a01) in the resist composition of the present embodiment is preferably a structural unit derived from a compound represented by any one of the chemical formulas (a01-01-1) to (a01-01-17), more preferably a structural unit derived from a compound represented by any one of the chemical formulas (a01-01-2) to (a01-01-9), and the chemical formula (a01-01-6),
  • a structural unit derived from a compound represented by (a01-01-8) or (a01-01-9) is more preferable, and a structural unit derived from a compound represented by the chemical formula (a01-01-8) or (a01-01-9) is particularly preferable.
  • the proportion of the structural unit (a01) in component (A1) is preferably 20 to 80 mol%, more preferably 30 to 70 mol%, and even more preferably 40 to 60 mol%, relative to the total (100 mol%) of all structural units constituting component (A1).
  • the proportion of the structural unit (a01) is preferably 20 to 80 mol%, more preferably 30 to 70 mol%, and even more preferably 40 to 60 mol%, relative to the total (100 mol%) of all structural units constituting component (A1).
  • the component (A1) may have other structural units as necessary.
  • Other structural units include, for example, a structural unit (a1) containing an acid-decomposable group whose polarity is increased by the action of an acid; a structural unit (a10) represented by general formula (a10-1) described later; a structural unit (a2) containing a lactone-containing cyclic group; and a structural unit (a8) derived from a compound represented by general formula (a8-1) described later.
  • those corresponding to the structural unit (a01) described above are excluded.
  • the structural unit (a1) is a structural unit containing an acid-decomposable group whose polarity increases under the action of acid. However, those corresponding to the structural unit (a01) described above are excluded.
  • acid-dissociable groups include those that have hitherto been proposed as acid-dissociable groups for base resins for chemically amplified resist compositions.
  • Specific examples of acid-dissociable groups proposed for base resins for chemically amplified resist compositions include "acetal-type acid-dissociable groups", “tertiary alkyl ester-type acid-dissociable groups”, “tertiary alkyloxycarbonyl acid-dissociable groups”, and "secondary alkyl ester-type acid-dissociable groups", which will be described below.
  • Acetal-type acid-labile group Among the polar groups, the acid-dissociable group that protects the carboxy group or hydroxyl group includes, for example, an acid-dissociable group represented by the following general formula (a1-r-1) (hereinafter sometimes referred to as "acetal-type acid-dissociable group").
  • Ra' 1 and Ra' 2 are a hydrogen atom or an alkyl group.
  • Ra' 3 is a hydrocarbon group, and Ra' 3 may combine with either Ra' 1 or Ra' 2 to form a ring.
  • At least one of Ra' 1 and Ra' 2 is preferably a hydrogen atom, more preferably both are hydrogen atoms.
  • Ra' 1 or Ra' 2 is an alkyl group
  • examples of the alkyl group include the same alkyl groups as the substituents that may be bonded to the carbon atom at the ⁇ -position in the description of the ⁇ -substituted acrylic acid ester, and alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms are preferred. Specifically, linear or branched alkyl groups are preferred.
  • More specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, etc.
  • a methyl group or an ethyl group is more preferred, and a methyl group is particularly preferred.
  • examples of the hydrocarbon group for Ra' 3 include linear or branched alkyl groups and cyclic hydrocarbon groups.
  • the linear alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and even more preferably 1 or 2 carbon atoms.
  • Specific examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group and the like. Among these, a methyl group, an ethyl group or an n-butyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • the branched-chain alkyl group preferably has 3 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 5 carbon atoms. Specific examples include an isopropyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a 1,1-diethylpropyl group and a 2,2-dimethylbutyl group, with an isopropyl group being preferred.
  • the hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group, and may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic aliphatic hydrocarbon group a group obtained by removing one hydrogen atom from a monocycloalkane is preferable.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples include cyclopentane and cyclohexane.
  • the aliphatic hydrocarbon group which is a polycyclic group, is preferably a group obtained by removing one hydrogen atom from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 12 carbon atoms, specifically adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, tetracyclododecane, and the like.
  • the aromatic hydrocarbon group for Ra' 3 is an aromatic hydrocarbon group
  • the aromatic hydrocarbon group is a hydrocarbon group having at least one aromatic ring.
  • This aromatic ring is not particularly limited as long as it is a cyclic conjugated system having 4n+2 ⁇ electrons, and may be monocyclic or polycyclic.
  • the aromatic ring preferably has 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • aromatic ring examples include aromatic hydrocarbon rings such as benzene, naphthalene, anthracene, and phenanthrene; and aromatic heterocycles in which some of the carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring are substituted with heteroatoms.
  • the heteroatom in the aromatic heterocycle includes oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom and the like.
  • aromatic heterocycles include pyridine rings and thiophene rings.
  • Specific examples of the aromatic hydrocarbon group for Ra' 3 include groups obtained by removing one hydrogen atom from the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring (aryl group or heteroaryl group); aromatic compounds containing two or more aromatic rings (e.g., biphenyl, fluorene, etc.).
  • arylalkyl groups such as naphthylmethyl group, 1-naphthylethyl group, 2-naphthylethyl group, etc.).
  • the number of carbon atoms in the alkylene group bonded to the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2 carbon atoms, and particularly preferably 1 carbon atom.
  • the cyclic hydrocarbon group in Ra' 3 may have a substituent.
  • this substituent include Ra x5 described above.
  • the cyclic group is preferably a 4- to 7-membered ring, more preferably a 4- to 6-membered ring.
  • Specific examples of the cyclic group include a tetrahydropyranyl group and a tetrahydrofuranyl group.
  • the acid-dissociable group protecting the carboxy group includes, for example, an acid-dissociable group represented by the following general formula (a1-r-2).
  • an acid-dissociable group represented by the following general formula (a1-r-2) those composed of alkyl groups may be hereinafter referred to as "tertiary alkyl ester-type acid-dissociable groups" for convenience.
  • each of Ra' 4 to Ra' 6 is a hydrocarbon group, and Ra' 5 and Ra' 6 may combine with each other to form a ring.
  • the hydrocarbon group for Ra'4 includes a linear or branched alkyl group, a chain or cyclic alkenyl group, or a cyclic hydrocarbon group.
  • the linear or branched alkyl group and cyclic hydrocarbon group (monocyclic aliphatic hydrocarbon group, polycyclic aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group) for Ra'4 are the same as those for Ra'3 .
  • the chain or cyclic alkenyl group for Ra'4 is preferably an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms. Examples of hydrocarbon groups for Ra' 5 and Ra' 6 include the same groups as those for Ra' 3 above.
  • Ra' 10 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be partially substituted with a halogen atom or a heteroatom-containing group.
  • Ra' 11 represents a group that forms an aliphatic cyclic group together with the carbon atom to which Ra' 10 is attached.
  • Ya is a carbon atom.
  • Xa is a group that forms a cyclic hydrocarbon group together with Ya.
  • Ra 101 to Ra 103 are each independently a hydrogen atom, a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a monovalent aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms. Some or all of the hydrogen atoms in this chain saturated hydrocarbon group and aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group may be substituted. Two or more of Ra 101 to Ra 103 may combine with each other to form a cyclic structure.
  • Yaa is a carbon atom.
  • Xaa is a group that forms an aliphatic cyclic group together with Yaa.
  • Ra 104 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Ra' 12 and Ra' 13 are each independently a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Some or all of the hydrogen atoms of this chain saturated hydrocarbon group may be substituted.
  • Ra' 14 is a hydrocarbon group optionally having a substituent. * indicates a bond (same below). ]
  • Ra' 10 is a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be partially substituted with a halogen atom or a heteroatom-containing group.
  • the linear alkyl group for Ra' 10 has 1 to 12 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 5 carbon atoms.
  • Examples of the branched chain alkyl group for Ra' 10 include those similar to those for Ra' 3 above.
  • Some of the alkyl groups in Ra' 10 may be substituted with halogen atoms or heteroatom-containing groups.
  • some of the hydrogen atoms constituting the alkyl group may be substituted with halogen atoms or heteroatom-containing groups.
  • some of the carbon atoms (methylene group, etc.) constituting the alkyl group may be substituted with a heteroatom-containing group.
  • the heteroatom as used herein includes an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.
  • Ra' 11 (the aliphatic cyclic group formed with the carbon atom to which Ra' 10 is bonded) is preferably a group exemplified as the aliphatic hydrocarbon group (alicyclic hydrocarbon group) which is a monocyclic group or polycyclic group for Ra' 3 in formula (a1-r-1).
  • aliphatic hydrocarbon group alicyclic hydrocarbon group
  • a monocyclic alicyclic hydrocarbon group is preferable, and specifically, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group are more preferable.
  • the cyclic hydrocarbon group formed by Xa together with Ya includes a group obtained by further removing one or more hydrogen atoms from the cyclic monovalent hydrocarbon group (aliphatic hydrocarbon group) represented by Ra' 3 in formula (a1-r-1).
  • the cyclic hydrocarbon group formed by Xa together with Ya may have a substituent. Examples of this substituent include those similar to the substituents that the cyclic hydrocarbon group in the above Ra' 3 may have.
  • the monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in Ra 101 to Ra 103 includes, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group and a decyl group.
  • Ra 101 to Ra 103 are preferably a hydrogen atom or a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.
  • Examples of the substituents possessed by the chain saturated hydrocarbon groups or aliphatic cyclic saturated hydrocarbon groups represented by Ra 101 to Ra 103 include the same groups as the aforementioned Ra x5 .
  • Examples of the group containing a carbon-carbon double bond produced by forming a cyclic structure by bonding two or more of Ra 101 to Ra 103 include a cyclopentenyl group, a cyclohexenyl group, a methylcyclopentenyl group, a methylcyclohexenyl group, a cyclopentylideneethenyl group, and a cyclohexylideneethenyl group.
  • a cyclopentenyl group, a cyclohexenyl group, and a cyclopentylideneethenyl group are preferable from the viewpoint of ease of synthesis.
  • the aliphatic cyclic group formed by Xaa together with Yaa is preferably the group exemplified as the monocyclic or polycyclic aliphatic hydrocarbon group for Ra' 3 in formula (a1-r-1).
  • examples of the aromatic hydrocarbon group for Ra 104 include groups obtained by removing one or more hydrogen atoms from an aromatic hydrocarbon ring having 5 to 30 carbon atoms.
  • RA 104 is preferably a group of carbon atom hydrocarbons, excluding 1 or more hydrogen atoms, and one or more hydrogen atoms from benzene, naphthalene, antholsen or fenant long, and one hydrogen atom from benzene, naphthalene or anthracen.
  • the group excluding the above is even more preferable, a group that excludes one or more hydrogen atoms from the benzene or naphthalene, and is the most preferably a group excluding one or more hydrogen atoms from benzene.
  • Examples of the substituent that Ra 104 in formula (a1-r2-3) may have include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.), an alkyloxycarbonyl group, and the like.
  • Ra' 12 and Ra' 13 are each independently a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms for Ra' 12 and Ra' 13 include the same monovalent chain saturated hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms for Ra 101 to Ra 103 above. Some or all of the hydrogen atoms of this chain saturated hydrocarbon group may be substituted.
  • Ra' 12 and Ra' 13 are preferably alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, more preferably alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, further preferably methyl and ethyl groups, and particularly preferably methyl groups.
  • examples of the substituents include groups similar to the above Ra x5 .
  • Ra' 14 is a hydrocarbon group which may have a substituent.
  • the hydrocarbon group for Ra' 14 includes linear or branched alkyl groups and cyclic hydrocarbon groups.
  • the linear alkyl group for Ra' 14 preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and still more preferably 1 or 2 carbon atoms.
  • Specific examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group and the like.
  • a methyl group, an ethyl group or an n-butyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • the branched-chain alkyl group for Ra' 14 preferably has 3 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 5 carbon atoms. Specific examples include an isopropyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a 1,1-diethylpropyl group and a 2,2-dimethylbutyl group, with an isopropyl group being preferred.
  • the hydrocarbon group may be an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group, and may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic aliphatic hydrocarbon group a group obtained by removing one hydrogen atom from a monocycloalkane is preferable.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples include cyclopentane and cyclohexane.
  • the aliphatic hydrocarbon group which is a polycyclic group, is preferably a group obtained by removing one hydrogen atom from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 12 carbon atoms, specifically adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, tetracyclododecane, and the like.
  • Examples of the aromatic hydrocarbon group for Ra'14 include those similar to the aromatic hydrocarbon group for Ra104 .
  • Ra' 14 is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 15 carbon atoms, more preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from benzene, naphthalene, anthracene or phenanthrene, more preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from benzene, naphthalene or anthracene, particularly preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from naphthalene or anthracene, and a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from naphthalene. is most preferred.
  • Examples of the substituent that Ra' 14 may have include the same substituents that Ra 104 may have.
  • Ra' 14 in formula (a1-r2-4) is a naphthyl group
  • the position of bonding to the tertiary carbon atom in formula (a1-r2-4) may be either 1-position or 2-position of the naphthyl group.
  • the position of bonding to the tertiary carbon atom in the formula (a1-r2-4) may be the 1-, 2- or 9-position of the anthryl group.
  • the acid-dissociable group that protects the hydroxyl group includes, for example, an acid-dissociable group represented by the following general formula (a1-r-3) (hereinafter sometimes referred to as a "tertiary alkyloxycarbonyl acid-dissociable group" for convenience).
  • each of Ra' 7 to Ra' 9 is an alkyl group.
  • each of Ra' 7 to Ra' 9 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
  • the total number of carbon atoms in each alkyl group is preferably 3-7, more preferably 3-5, and most preferably 3-4.
  • the acid-dissociable group protecting the carboxy group includes, for example, an acid-dissociable group represented by the following general formula (a1-r-4).
  • Ra' 10 is a hydrocarbon group.
  • Ra' 11a and Ra' 11b are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group.
  • Ra' 12 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group.
  • Ra' 10 and Ra' 11a or Ra' 11b may combine with each other to form a ring.
  • Ra' 11a or Ra' 11b and Ra' 12 may combine with each other to form a ring.
  • examples of the hydrocarbon group for Ra' 10 and Ra' 12 include the same groups as those for Ra' 3 above.
  • examples of the alkyl group for Ra' 11a and Ra' 11b include the same alkyl groups as those for Ra' 1 above.
  • the hydrocarbon groups in Ra' 10 and Ra' 12 and the alkyl groups in Ra' 11a and Ra' 11b may have substituents. Examples of this substituent include Ra x5 described above.
  • Ra' 10 and Ra' 11a or Ra' 11b may combine with each other to form a ring.
  • the ring may be polycyclic or monocyclic, and may be an alicyclic or aromatic ring.
  • the alicyclic and aromatic rings may contain heteroatoms.
  • the ring formed by combining Ra' 10 and Ra' 11a or Ra' 11b with each other is preferably a monocycloalkene, a ring in which some of the carbon atoms of the monocycloalkene are substituted with a hetero atom (an oxygen atom, a sulfur atom, etc.), or a monocycloalkadiene, preferably a cycloalkene having 3 to 6 carbon atoms, and preferably cyclopentene or cyclohexene.
  • the ring formed by combining Ra' 10 and Ra' 11a or Ra' 11b may be a condensed ring.
  • Specific examples of the condensed ring include indane and the like.
  • the ring formed by combining Ra' 10 and Ra' 11a or Ra' 11b may have a substituent.
  • this substituent include Ra x5 described above.
  • Ra' 11a or Ra' 11b and Ra' 12 may combine with each other to form a ring, and examples of the ring include the same rings as those formed by combining Ra' 10 and Ra' 11a or Ra' 11b with each other.
  • R ⁇ represents a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
  • the structural unit (a1) contained in the component (A1) may be one type or two or more types.
  • the ratio of the structural unit (a1) in the component (A1) is preferably 50 mol% or less, more preferably 0 to 30 mol%, relative to the total (100 mol%) of all structural units constituting the component (A1).
  • the structural unit (a10) is a structural unit represented by general formula (a10-1) below. However, those corresponding to the structural unit (a01) described above are excluded.
  • R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Ya x1 is a single bond or a divalent linking group.
  • Wa x1 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
  • n ax1 is an integer of 1 or more.
  • R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • R is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and from the viewpoint of industrial availability, a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group is more preferable, a hydrogen atom or a methyl group is more preferable, and a hydrogen atom is particularly preferable.
  • Ya x1 is a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group for Ya x1 is not particularly limited, but preferably includes a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, a divalent linking group containing a hetero atom, and the like.
  • Wa x1 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
  • the aromatic hydrocarbon group for Wa x1 includes a group obtained by removing (n ax1 +1) hydrogen atoms from an optionally substituted aromatic ring.
  • the aromatic ring here is not particularly limited as long as it is a cyclic conjugated system having 4n+2 ⁇ electrons.
  • the aromatic ring preferably has 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • aromatic ring examples include aromatic hydrocarbon rings such as benzene, naphthalene, anthracene, and phenanthrene; and aromatic heterocycles in which some of the carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring are substituted with heteroatoms.
  • the heteroatom in the aromatic heterocycle includes oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom and the like.
  • aromatic heterocycles include pyridine rings and thiophene rings.
  • the aromatic hydrocarbon group in Wa x1 also includes groups obtained by removing (n ax1 +1) hydrogen atoms from an aromatic compound (e.g., biphenyl, fluorene, etc.) containing an aromatic ring optionally having two or more substituents.
  • Wa x1 is preferably a group obtained by removing (n ax1 +1) hydrogen atoms from benzene, naphthalene, anthracene or biphenyl, more preferably a group obtained by removing (n ax1 +1) hydrogen atoms from benzene or naphthalene, and still more preferably a group obtained by removing (n ax1 +1) hydrogen atoms from benzene.
  • the aromatic hydrocarbon group in Wa x1 may or may not have a substituent.
  • substituents include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, and a halogenated alkyl group.
  • alkyl group, the alkoxy group, the halogen atom, and the halogenated alkyl group as the substituent include the same as those listed as the substituent of the cyclic aliphatic hydrocarbon group in Ya x1 .
  • the substituent is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a methyl group, and particularly preferably a methyl group.
  • the aromatic hydrocarbon group in Wa x1 preferably has no substituent.
  • n ax1 is an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 10, more preferably an integer of 1 to 5, more preferably 1, 2 or 3, and particularly preferably 1 or 2.
  • R ⁇ represents a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
  • the structural unit (a10) contained in component (A1) may be of one type or two or more types.
  • the proportion of the structural unit (a10) in the component (A1) is preferably 20 to 80 mol%, more preferably 30 to 70 mol%, and even more preferably 30 to 60 mol%, relative to the total (100 mol%) of all structural units constituting the component (A1).
  • the component (A1) may further have a structural unit (a2) containing a lactone-containing cyclic group (excluding structural units (a01) and (a1)).
  • the lactone-containing cyclic group of the structural unit (a2) is effective in enhancing the adhesion of the resist film to the substrate when the component (A1) is used to form the resist film.
  • the structural unit (a2) by having the structural unit (a2), the lithography properties and the like are improved due to the effects of, for example, appropriately adjusting the acid diffusion length, enhancing the adhesion of the resist film to the substrate, and appropriately adjusting the solubility during development.
  • a lactone ring is counted as the first ring, and a group containing only a lactone ring is called a monocyclic group, and a group containing other ring structures is called a polycyclic group regardless of the structure.
  • a lactone-containing cyclic group may be a monocyclic group or a polycyclic group. Any lactone-containing cyclic group in the structural unit (a2) can be used without particular limitation. Specific examples include groups represented by the following general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7).
  • R'' is a hydrogen atom, an alkyl group, or a lactone-containing cyclic group;
  • n' is an integer of 0 to 2
  • m' is 0 or 1; * indicates a bond (same below).
  • the alkyl group for Ra' 21 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the alkyl group is preferably linear or branched. Specific examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group and hexyl group. Among these, a methyl group or an ethyl group is preferred, and a methyl group is particularly preferred.
  • an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferable.
  • the alkoxy group is preferably linear or branched. Specific examples include groups in which the alkyl group exemplified as the alkyl group for Ra' 21 and an oxygen atom (--O--) are linked.
  • a fluorine atom is preferable as the halogen atom for Ra' 21 .
  • Examples of the halogenated alkyl group for Ra' 21 include groups in which some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group for Ra' 21 are substituted with the above halogen atoms.
  • a fluorinated alkyl group is preferable, and a perfluoroalkyl group is particularly preferable.
  • R'' is both a hydrogen atom, an alkyl group, or a lactone-containing cyclic group.
  • the alkyl group for R′′ may be linear, branched or cyclic, and preferably has 1 to 15 carbon atoms.
  • R′′ is a linear or branched alkyl group, it preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group or an ethyl group.
  • R′′ is a cyclic alkyl group, it preferably has 3 to 15 carbon atoms, more preferably 4 to 12 carbon atoms, and most preferably 5 to 10 carbon atoms.
  • Specific examples include groups obtained by removing one or more hydrogen atoms from monocycloalkanes that may or may not be substituted with fluorine atoms or fluorinated alkyl groups; groups obtained by removing one or more hydrogen atoms from polycycloalkanes such as bicycloalkanes, tricycloalkanes and tetracycloalkanes More specifically, a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from monocycloalkane such as cyclopentane and cyclohexane;
  • the lactone-containing cyclic group for R′′ includes the same groups as those represented by the general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7).
  • the hydroxyalkyl group for Ra' 21 preferably has 1 to 6 carbon atoms, and specific examples include groups in which at least one hydrogen atom of the alkyl group for Ra' 21 is substituted with a hydroxyl group.
  • Ra' 21 is preferably independently a hydrogen atom or a cyano group.
  • the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms in A'' is preferably a linear or branched alkylene group, and includes a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, and the like.
  • the alkylene group contains an oxygen atom or a sulfur atom, specific examples thereof include groups in which -O- or -S- is interposed at the end of the alkylene group or between the carbon atoms.
  • A′′ is preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or —O—, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and most preferably a methylene group.
  • a structural unit derived from an acrylic ester in which the hydrogen atom bonded to the ⁇ -position carbon atom may be substituted with a substituent is particularly preferred.
  • Such a structural unit (a2) is preferably a structural unit represented by general formula (a2-1) below.
  • R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Ya 21 is a single bond or a divalent linking group.
  • La 21 is -O-, -COO-, -CON(R')-, -OCO-, -CONHCO- or -CONHCS-, and R' represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • Ra 21 is a lactone-containing cyclic group.
  • R is the same as above.
  • R is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and is particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group in terms of industrial availability.
  • the divalent linking group for Ya 21 is not particularly limited, but preferably includes a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, a divalent linking group containing a hetero atom, and the like.
  • Ya 21 is preferably a single bond, and La 21 is -COO- or -OCO-.
  • Ra 21 is a lactone-containing cyclic group.
  • the lactone-containing cyclic group for Ra 21 include the groups represented by the general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7) described above. Among them, the groups represented by the general formulas (a2-r-1), (a2-r-2), and (a2-r-6) are preferable, and the groups represented by the general formulas (a2-r-1) and (a2-r-2) are more preferable.
  • the chemical formula (R -LC -1-1) to (R -LC -1-7), (R -LC -2-1) to (R -LC -2-18), and (R -LC -6-1) are preferably represented by the chemical formula, (R -LC -6-1), and (R -LC -1-1), (R -LC -2-1) or (R -LC -2-1).
  • the structural unit (a2) contained in the component (A1) may be one type or two or more types.
  • the ratio of the structural unit (a2) is preferably 5 to 80 mol%, more preferably 5 to 70 mol%, and even more preferably 5 to 60 mol%, relative to the total (100 mol%) of all the structural units constituting the component (A1).
  • the proportion of the structural unit (a2) is at least the preferred lower limit, the above-described effects of containing the structural unit (a2) can be sufficiently obtained.
  • the structural unit (a8) is a structural unit derived from a compound represented by general formula (a8-1) below. However, those corresponding to the structural unit (a0) are excluded.
  • W 2 is a polymerizable group-containing group.
  • Ya x2 is a single bond or a (n ax2 +1)-valent linking group. Ya x2 and W2 may form a condensed ring.
  • R 1 is a fluorinated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 2 is an organic group having 1 to 12 carbon atoms which may have a fluorine atom or a hydrogen atom.
  • R 2 and Ya x2 may be bonded to each other to form a ring structure.
  • n ax2 is an integer of 1-3.
  • the “polymerizable group” in the polymerizable group-containing group of W2 is a group that enables a compound having a polymerizable group to polymerize by radical polymerization or the like, and refers to a group containing a multiple bond between carbon atoms such as an ethylenic double bond.
  • the polymerizable group-containing group may be a group composed only of a polymerizable group, or a group composed of a polymerizable group and a group other than the polymerizable group.
  • Groups other than the polymerizable group include a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, a divalent linking group containing a hetero atom, and the like.
  • R X11 , R X12 and R X13 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and Ya x0 is a single bond or a divalent linking group.
  • Examples of the condensed ring formed by Yax2 and W2 include a condensed ring formed by the polymerizable group at the W2 site and Yax2 , and a condensed ring formed by a group other than the polymerizable group at the W2 site and Yax2 .
  • the condensed ring formed by Ya x2 and W2 may have a substituent.
  • R ⁇ represents a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
  • the structural unit (a8) is preferably at least one selected from the group consisting of the structural units represented by chemical formulas (a8-1-01) to (a8-1-04), (a8-1-06), (a8-1-08), (a8-1-09), and (a8-1-10), respectively, and chemical formulas (a8-1-01) to (a8-1-04), (a8- At least one selected from the group consisting of structural units represented by 1-09) is more preferred.
  • the structural unit (a8) contained in component (A1) may be of one type or two or more types.
  • the ratio of the structural unit (a8) in the component (A1) is preferably 50 mol% or less, more preferably 0 to 30 mol%, relative to the total (100 mol%) of all structural units constituting the component (A1).
  • the component (A1) contained in the resist composition may be used alone or in combination of two or more.
  • the (A1) component includes a polymer compound having a repeating structure of the structural unit (a01).
  • a polymer compound containing a repeating structure of the structural unit (a01) and the structural unit (a10) is preferably used.
  • the (A1) component preferably includes a polymer compound containing a repeating structure of the structural unit (a01) and the structural unit (a10); a polymer compound containing a repeating structure of the structural unit (a01) and the structural unit (a2); and a polymer compound containing a repeating structure of the structural unit (a01), the structural unit (a10), and the structural unit (a2).
  • the ratio of the structural unit (a01) is preferably 10 to 90 mol%, more preferably 20 to 80 mol%, further preferably 30 to 70 mol%, particularly preferably 40 to 60 mol%, based on the total (100 mol%) of all structural units constituting the polymer compound.
  • the proportion of the structural unit (a10) in the polymer compound is preferably 10 to 90 mol%, more preferably 20 to 80 mol%, still more preferably 30 to 70 mol%, and particularly preferably 40 to 60 mol%, relative to the total (100 mol%) of all structural units constituting the polymer compound.
  • the ratio of the structural unit (a01) is preferably 10 to 90 mol%, more preferably 20 to 80 mol%, further preferably 30 to 70 mol%, particularly preferably 40 to 60 mol%, based on the total (100 mol%) of all structural units constituting the polymer compound.
  • the proportion of the structural unit (a2) in the polymer compound is preferably 10 to 90 mol%, more preferably 20 to 80 mol%, still more preferably 30 to 70 mol%, and particularly preferably 40 to 60 mol%, relative to the total (100 mol%) of all structural units constituting the polymer compound.
  • the proportion of the structural unit (a01) is preferably 10 to 90 mol%, more preferably 20 to 80 mol%, more preferably 30 to 70 mol%, and particularly preferably 40 to 60 mol%, relative to the total (100 mol%) of all structural units constituting the polymer compound.
  • the ratio of the structural unit (a10) in the polymer compound is preferably 5 to 80 mol%, more preferably 10 to 70 mol%, still more preferably 20 to 60 mol%, and particularly preferably 30 to 50 mol%, relative to the total (100 mol%) of all structural units constituting the polymer compound.
  • the ratio of the structural unit (a2) in the polymer compound is preferably 1 to 30 mol%, more preferably 3 to 20 mol%, more preferably 5 to 20 mol%, and particularly preferably 5 to 15 mol%, relative to the total (100 mol%) of all structural units constituting the polymer compound.
  • Such component (A1) can be produced by dissolving a monomer that derives each structural unit in a polymerization solvent, and adding a radical polymerization initiator such as azobisisobutyronitrile (AIBN) or dimethyl azobisisobutyrate (e.g., V-601, etc.) to polymerize.
  • a radical polymerization initiator such as azobisisobutyronitrile (AIBN) or dimethyl azobisisobutyrate (e.g., V-601, etc.)
  • the component (A1) can be produced by dissolving a monomer that induces the structural unit (a01) and, if necessary, a monomer that induces a structural unit (for example, the structural unit (a10)) other than the structural unit (a01) in a polymerization solvent, adding a radical polymerization initiator as described above to polymerize, and then performing a deprotection reaction.
  • a chain transfer agent such as HS--CH 2 --CH 2 --CH 2 --C(CF 3 ) 2 --OH may be used in combination to introduce a --C(CF 3 ) 2 --OH group at the terminal.
  • a copolymer into which a hydroxyalkyl group in which some of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with fluorine atoms is effective in reducing development defects and LER (line edge roughness: non-uniform unevenness on the side wall of a line).
  • the weight average molecular weight (Mw) of the component (A1) is not particularly limited, but is preferably 1000 to 50000, more preferably 2000 to 30000, and even more preferably 3000 to 20000.
  • Mw of the component (A1) is less than the preferable upper limit of this range, it has sufficient solubility in a resist solvent to be used as a resist, and when it is more than the preferable lower limit of this range, the dry etching resistance and resist pattern cross-sectional shape are good.
  • the dispersity (Mw/Mn) of component (A1) is not particularly limited, but is preferably 1.0 to 4.0, more preferably 1.0 to 3.0, and particularly preferably 1.0 to 2.0.
  • Mn shows a number average molecular weight.
  • component (A2) in the resist composition of the present embodiment, a base component (hereinafter referred to as "(A2) component") which does not correspond to the component (A1) and whose solubility in a developer changes due to the action of an acid may be used.
  • the (A2) component is not particularly limited, and may be used by arbitrarily selecting from many conventionally known base components for chemically amplified resist compositions.
  • the component (A2) one type of high-molecular compound or low-molecular compound may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • the ratio of component (A1) in component (A) is preferably 25% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, still more preferably 75% by mass or more, and may be 100% by mass with respect to the total mass of component (A).
  • the proportion is 25% by mass or more, a resist pattern having excellent various lithography properties such as high sensitivity, resolution, and improvement in roughness can be easily formed.
  • the content of component (A) in the resist composition of the present embodiment may be adjusted according to the resist film thickness to be formed.
  • the resist composition of this embodiment may further contain other components in addition to the component (A) described above.
  • Other components include, for example, the following components (B), (D), (E), (F), and (S).
  • the resist composition of the present embodiment preferably further contains an acid generator component (B) that generates acid upon exposure.
  • the component (B) is not particularly limited, and those hitherto proposed as acid generators for chemically amplified resist compositions can be used.
  • Such acid generators include onium salt-based acid generators such as iodonium salts and sulfonium salts, oxime sulfonate-based acid generators; diazomethane-based acid generators such as bisalkyl or bisarylsulfonyl diazomethanes and poly(bissulfonyl) diazomethanes; nitrobenzylsulfonate-based acid generators, iminosulfonate-based acid generators, and disulfone-based acid generators.
  • onium salt-based acid generators such as iodonium salts and sulfonium salts, oxime sulfonate-based acid generators
  • diazomethane-based acid generators such as bisalkyl or bisarylsulfonyl diazomethanes and poly(bissulfonyl) diazomethanes
  • nitrobenzylsulfonate-based acid generators iminosulfonate-
  • onium salt-based acid generators include compounds represented by the following general formula (b-1) (hereinafter also referred to as "(b-1) component”), compounds represented by general formula (b-2) (hereinafter also referred to as “(b-2) component”), and compounds represented by general formula (b-3) (hereinafter also referred to as "(b-3) component").
  • onium salt-based acid generators include compounds represented by the following general formula (b-1) (hereinafter also referred to as "(b-1) component”), compounds represented by general formula (b-2) (hereinafter also referred to as “(b-2) component”), and compounds represented by general formula (b-3) (hereinafter also referred to as "(b-3) component").
  • R 101 and R 104 to R 108 are each independently an optionally substituted cyclic group, an optionally substituted chain alkyl group, or an optionally substituted chain alkenyl group.
  • R 104 and R 105 may combine with each other to form a ring structure.
  • R 102 is a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a fluorine atom.
  • Y 101 is a divalent linking group or single bond containing an oxygen atom.
  • V 101 to V 103 are each independently a single bond, an alkylene group or a fluorinated alkylene group.
  • L 101 to L 102 are each independently a single bond or an oxygen atom.
  • L 103 to L 105 are each independently a single bond, -CO- or -SO 2 -.
  • m is an integer of 1 or more, and M'm+ is an m-valent onium cation.
  • R 101 is an optionally substituted cyclic group, an optionally substituted chain alkyl group, or an optionally substituted chain alkenyl group.
  • the cyclic group is preferably a cyclic hydrocarbon group, and the cyclic hydrocarbon group may be an aromatic hydrocarbon group or an aliphatic hydrocarbon group.
  • An aliphatic hydrocarbon group means a hydrocarbon group without aromaticity.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be saturated or unsaturated, and is usually preferably saturated.
  • the aromatic hydrocarbon group for R 101 is a hydrocarbon group having an aromatic ring.
  • the aromatic hydrocarbon group preferably has 3 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 30 carbon atoms, still more preferably 5 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 15 carbon atoms, and most preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • the number of carbon atoms does not include the number of carbon atoms in the substituent.
  • Specific examples of the aromatic ring of the aromatic hydrocarbon group for R 101 include benzene, fluorene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, biphenyl, and aromatic heterocycles in which some of the carbon atoms constituting these aromatic rings are substituted with heteroatoms.
  • the heteroatom in the aromatic heterocycle includes oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom and the like.
  • the aromatic hydrocarbon group for R 101 include a group obtained by removing one hydrogen atom from the aromatic ring (aryl group: e.g., phenyl group, naphthyl group, etc.), a group in which one hydrogen atom of the aromatic ring is substituted with an alkylene group (e.g., an arylalkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group, a 1-naphthylmethyl group, a 2-naphthylmethyl group, a 1-naphthylethyl group, a 2-naphthylethyl group, etc.).
  • the alkylene group (alkyl chain in the arylalkyl group) preferably has 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms, and particularly preferably 1 carbon atom.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R 101 includes an aliphatic hydrocarbon group containing a ring in its structure.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group containing a ring in this structure include an alicyclic hydrocarbon group (a group obtained by removing one hydrogen atom from the aliphatic hydrocarbon ring), a group in which the alicyclic hydrocarbon group is a straight-chain or branched-chain aliphatic hydrocarbon group, a group in which the alicyclic hydrocarbon group is interposed in the middle of the straight-chain or branched-chain aliphatic hydrocarbon group, and the like.
  • the alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 12 carbon atoms.
  • the alicyclic hydrocarbon group may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a monocycloalkane.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples include cyclopentane and cyclohexane.
  • the polycyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 30 carbon atoms.
  • polycycloalkanes having a bridged ring system polycyclic skeleton such as adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, and tetracyclododecane
  • polycycloalkanes having a condensed ring system polycyclic skeleton such as a cyclic group having a steroid skeleton.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R 101 is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a monocycloalkane or polycycloalkane, more preferably a group obtained by removing one hydrogen atom from a polycycloalkane, more preferably an adamantyl group or a norbornyl group, and particularly preferably an adamantyl group.
  • the linear aliphatic hydrocarbon group which may be bonded to the alicyclic hydrocarbon group, preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and most preferably 1 to 3.
  • the straight-chain aliphatic hydrocarbon group is preferably a straight-chain alkylene group, and specific examples thereof include a methylene group [ --CH.sub.2-- ], an ethylene group [--( CH.sub.2 ) .sub.2-- ], a trimethylene group [--- ( CH.sub.2) .sub.3-- ], a tetramethylene group [--( CH.sub.2 ) .sub.4-- ], and a pentamethylene group [--( CH.sub.2 ) .sub.5-- ].
  • the branched aliphatic hydrocarbon group which may be bonded to the alicyclic hydrocarbon group, preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 6 carbon atoms, still more preferably 3 or 4, and most preferably 3. ⁇ -CH(CH 3 )- ⁇ -CH(CH 2 CH 3 )- ⁇ -C(CH 3 ) 2 - ⁇ -C(CH 3 )(CH 2 CH 3 )- ⁇ -C(CH 3 )(CH 2 CH 2 CH 3 )- ⁇ -C(CH 2 CH 3 ) 2 - ⁇ ;-CH(CH 3 )CH 2 - ⁇ -CH(CH 3 )CH(CH 3 )- ⁇ -C(CH 3 ) 2 CH 2 - ⁇ -CH(CH 2 CH 3 )CH 2 - ⁇ -C(CH 2 CH 3 ) 2 -CH 2 - ⁇ ;-CH(CH 3 )CH 2 CH 2 - ⁇ -CH 2 CH(CH 3 )CH 2 - ⁇ ;-CH(CH 3 )CH 2 CH 2 -
  • the cyclic hydrocarbon group for R 101 may contain a heteroatom such as a heterocyclic ring.
  • a heteroatom such as a heterocyclic ring.
  • Specific examples include lactone-containing cyclic groups represented by general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7) above, —SO 2 -containing cyclic groups represented by general formulas (b5-r-1) to (b5-r-4) below, and heterocyclic groups represented by chemical formulas (r-hr-1) to (r-hr-16) below.
  • * represents a bond that bonds to Y 101 in formula (b-1).
  • Rb′ 51 is each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, —COOR′′, —OC( ⁇ O)R′′, a hydroxyalkyl group, or a cyano group;
  • R′′ is a hydrogen atom, an alkyl group, a lactone-containing cyclic group, or a —SO 2 -containing cyclic group;
  • n' is an integer of 0-2. * indicates a bond.
  • B′′ is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • B′′ is preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or —O—, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and even more preferably a methylene group.
  • substituents on the cyclic group of R 101 include alkyl groups, alkoxy groups, halogen atoms, halogenated alkyl groups, hydroxyl groups, carbonyl groups, nitro groups and the like.
  • the alkyl group as a substituent is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, most preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group and a tert-butyl group.
  • the alkoxy group as a substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an n-butoxy group and a tert-butoxy group, and most preferably a methoxy group and an ethoxy group.
  • a halogen atom as a substituent includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like, and a fluorine atom is preferable.
  • halogenated alkyl group as a substituent examples include alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, n-butyl and tert-butyl groups, in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with the above halogen atoms.
  • a carbonyl group as a substituent is a group that substitutes a methylene group ( --CH.sub.2-- ) constituting a cyclic hydrocarbon group.
  • the cyclic hydrocarbon group for R 101 may be a condensed cyclic group containing a condensed ring in which an aliphatic hydrocarbon ring and an aromatic ring are condensed.
  • the condensed ring include a polycycloalkane having a polycyclic skeleton of a bridged ring system condensed with one or more aromatic rings.
  • Specific examples of the bridged ring system polycycloalkanes include bicycloalkanes such as bicyclo[2.2.1]heptane (norbornane) and bicyclo[2.2.2]octane.
  • the condensed ring is preferably a group containing a condensed ring in which two or three aromatic rings are condensed to a bicycloalkane, and more preferably a group containing a condensed ring in which two or three aromatic rings are condensed to bicyclo[2.2.2]octane.
  • Specific examples of the condensed cyclic group for R 101 include those represented by the following formulas (r-br-1) to (r-br-2). In the formula, * represents a bond that bonds to Y 101 in formula (b-1).
  • Examples of the substituent that the condensed cyclic group in R 101 may have include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, a nitro group, an aromatic hydrocarbon group, and an alicyclic hydrocarbon group.
  • Examples of the alkyl group, alkoxy group, halogen atom, and halogenated alkyl group as the substituent of the condensed cyclic group are the same as those exemplified as the substituent of the cyclic group for R 101 above.
  • aromatic hydrocarbon group as a substituent of the condensed cyclic group
  • aryl group e.g., phenyl group, naphthyl group, etc.
  • alkylene group e.g., arylalkyl group such as benzyl group, phenethyl group, 1-naphthylmethyl group, 2-naphthylmethyl group, 1-naphthylethyl group, 2-naphthylethyl group, etc.
  • arylalkyl group such as benzyl group, phenethyl group, 1-naphthylmethyl group, 2-naphthylmethyl group, 1-naphthylethyl group, 2-naphthylethyl group, etc.
  • Heterocyclic groups each represented by ⁇ (r-hr-6) and the like can be mentioned. ⁇ 1 ⁇ ; ⁇ 1 ⁇ ; ⁇ (a2-r-1) ⁇ (a2-r-7) ⁇ ; ⁇ (b5-r-1) ⁇ (b5-r-4) ⁇ -SO 2 - ⁇ ; ⁇ (r-hr-7) ⁇ (r-hr-16) ⁇
  • a chain alkyl group which may have a substituent may be linear or branched.
  • the linear alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and most preferably 1 to 10 carbon atoms.
  • the branched-chain alkyl group preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 15 carbon atoms, and most preferably 3 to 10 carbon atoms.
  • Specific examples include 1-methylethyl group, 1-methylpropyl group, 2-methylpropyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group and the like.
  • a chain alkenyl group which may have a substituent may be linear or branched and preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 5 carbon atoms, still more preferably 2 to 4 carbon atoms, and particularly preferably 3 carbon atoms.
  • linear alkenyl groups include vinyl groups, propenyl groups (allyl groups), and butynyl groups.
  • Examples of branched alkenyl groups include 1-methylvinyl group, 2-methylvinyl group, 1-methylpropenyl group, 2-methylpropenyl group and the like.
  • the chain alkenyl group is preferably a linear alkenyl group, more preferably a vinyl group or a propenyl group, and particularly preferably a vinyl group.
  • substituents on the chain alkyl or alkenyl group for R 101 include alkoxy groups, halogen atoms, halogenated alkyl groups, hydroxyl groups, carbonyl groups, nitro groups, amino groups, and cyclic groups for R 101 above.
  • R 101 is preferably an optionally substituted cyclic group, more preferably an optionally substituted cyclic hydrocarbon group.
  • the cyclic hydrocarbon group is preferably a phenyl group, a naphthyl group, or a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a polycycloalkane; a lactone-containing cyclic group represented by each of the general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7); and a —SO 2 -containing cyclic group represented by each of the general formulas (b5-r-1) to (b5-r-4), and more preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a polycycloalkane.
  • an adamantyl group are more preferred.
  • Y 101 is a divalent linking group containing a single bond or an oxygen atom.
  • Y 101 may contain an atom other than an oxygen atom.
  • Atoms other than an oxygen atom include, for example, a carbon atom, a hydrogen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and the like.
  • a sulfonyl group ( --SO.sub.2-- ) may be further linked to this combination.
  • Such a divalent linking group containing an oxygen atom includes, for example, linking groups represented by the following general formulas (y-al-1) to (y-al-7).
  • linking groups represented by the following general formulas (y-al-1) to (y-al-7) include, for example, linking groups represented by the following general formulas (y-al-1) to (y-al-7).
  • V′ 101 is a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms
  • V′ 102 is a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the divalent saturated hydrocarbon group for V' 102 is preferably an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and even more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the alkylene group for V' 101 and V' 102 may be a straight-chain alkylene group or a branched alkylene group, and a straight-chain alkylene group is preferred.
  • V' 101 ⁇ V' 102 ⁇ [-CH 2 -];-CH(CH 3 )- ⁇ -CH(CH 2 CH 3 )- ⁇ -C(CH 3 ) 2 - ⁇ -C(CH 3 )(CH 2 CH 3 )- ⁇ -C(CH 3 )(CH 2 CH 2 CH 3 )- ⁇ -C(CH 2 CH 3 ) 2 - ⁇ ; ⁇ [-CH 2 CH 2 -];-CH(CH 3 )CH 2 - ⁇ -CH(CH 3 )CH(CH 3 )- ⁇ -C(CH 3 ) 2 CH 2 - ⁇ -CH(CH 2 CH 3 )CH 2 - ⁇ ; ⁇ (n- ⁇ )[-CH 2 CH 2 CH 2 -];-CH(CH 3 )CH 2 CH 2 - ⁇ -CH 2 CH(CH 3
  • the aliphatic cyclic group is preferably a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from the cyclic aliphatic hydrocarbon group (monocyclic aliphatic hydrocarbon group, polycyclic aliphatic hydrocarbon group) of Ra' 3 in the formula (a1-r-1), more preferably a cyclohexylene group, a 1,5-adamantylene group or a 2,6-adamantylene group.
  • Y 101 is preferably a divalent linking group containing an ester bond or a divalent linking group containing an ether bond, and more preferably a linking group represented by each of the above formulas (y-al-1) to (y-al-5).
  • V 101 is a single bond, an alkylene group or a fluorinated alkylene group.
  • the alkylene group and fluorinated alkylene group for V 101 preferably have 1 to 4 carbon atoms.
  • the fluorinated alkylene group for V 101 include groups in which some or all of the hydrogen atoms in the alkylene group for V 101 are substituted with fluorine atoms.
  • V 101 is preferably a single bond or a fluorinated alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a single bond or a linear fluorinated alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 102 is a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • R 102 is preferably a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a fluorine atom.
  • anion moiety represented by the formula (b-1) include, for example, fluorinated alkylsulfonate anions such as trifluoromethanesulfonate anions and perfluorobutanesulfonate anions when Y 101 is a single bond; and anions represented by any of the following formulas (an-1) to (an-3) when Y 101 is a divalent linking group containing an oxygen atom.
  • R′′ 103 is an optionally substituted aromatic cyclic group, an optionally substituted aliphatic cyclic group, or an optionally substituted chain alkenyl group.
  • V′′ 101 is a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, or a fluorinated alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 102 is a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Each v′′ is independently an integer of 0 to 3
  • each q′′ is independently an integer of 0 to 20, and n′′ is 0 or 1.
  • the optionally substituted aliphatic cyclic group of R′′ 101 , R′′ 102 and R′′ 103 is preferably a group exemplified as the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R 101 in the formula (b-1).
  • substituents include the same substituents as the substituents that may substitute the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R 101 in the formula (b-1).
  • the optionally substituted aromatic cyclic group for R′′ 103 is preferably a group exemplified as the aromatic hydrocarbon group for the cyclic hydrocarbon group for R 101 in the formula (b-1).
  • substituents include the same substituents that may substitute the aromatic hydrocarbon group for R 101 in the formula (b-1).
  • the optionally substituted chain alkyl group for R′′ 101 is preferably a group exemplified as the chain alkyl group for R 101 in the formula (b-1).
  • the optionally substituted chain alkenyl group for R′′ 103 is preferably a group exemplified as the chain alkenyl group for R 101 in the formula (b-1).
  • R 104 and R 105 are each independently an optionally substituted cyclic group, an optionally substituted chain alkyl group, or an optionally substituted chain alkenyl group, each of which is the same as R 101 in formula (b-1). However, R 104 and R 105 may combine with each other to form a ring.
  • R 104 and R 105 are preferably an optionally substituted chain alkyl group, more preferably a linear or branched alkyl group, or a linear or branched fluorinated alkyl group.
  • the chain alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 7 carbon atoms, still more preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • the number of carbon atoms in the chain alkyl groups of R 104 and R 105 is preferably as small as possible within the above range of the number of carbon atoms, for reasons such as good solubility in resist solvents.
  • the greater the number of hydrogen atoms substituted with fluorine atoms the stronger the acid strength and the higher the transparency to high-energy light and electron beams of 250 nm or less.
  • the proportion of fluorine atoms in the chain alkyl group is preferably 70 to 100%, more preferably 90 to 100%, and most preferably a perfluoroalkyl group in which all hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms.
  • V 102 and V 103 each independently represent a single bond, an alkylene group, or a fluorinated alkylene group, and include the same groups as V 101 in formula (b-1).
  • L 101 and L 102 are each independently a single bond or an oxygen atom.
  • R 106 to R 108 are each independently an optionally substituted cyclic group, an optionally substituted chain alkyl group, or an optionally substituted chain alkenyl group, each of which is the same as R 101 in formula (b-1).
  • L 103 to L 105 are each independently a single bond, -CO- or -SO 2 -.
  • component (b-1) is preferable as the anion portion of component (B).
  • M′ m+ represents an m-valent onium cation.
  • sulfonium cations and iodonium cations are preferred.
  • m is an integer of 1 or more.
  • Preferred cation moieties include organic cations represented by general formulas (ca-1) to (ca-3) below.
  • R 201 to R 207 each independently represent an optionally substituted aryl group, alkyl group or alkenyl group.
  • R 201 to R 203 and R 206 to R 207 may combine with each other to form a ring together with the sulfur atom in the formula.
  • R 208 to R 209 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • R 210 is an optionally substituted aryl group, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, or an optionally substituted —SO 2 —containing cyclic group.
  • Examples of the aryl group for R 201 to R 207 in the general formulas (ca-1) to (ca-3) include unsubstituted aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, preferably phenyl group and naphthyl group.
  • the alkyl group for R 201 to R 207 is preferably a chain or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the alkenyl group for R 201 to R 207 preferably has 2 to 10 carbon atoms.
  • R 201 to R 207 and R 210 may have include alkyl groups, halogen atoms, halogenated alkyl groups, carbonyl groups, cyano groups, amino groups, aryl groups, and groups represented by general formulas (ca-r-1) to (ca-r-7) below.
  • each R′ 201 is independently a hydrogen atom, an optionally substituted cyclic group, an optionally substituted chain alkyl group, or an optionally substituted chain alkenyl group.
  • the cyclic group is preferably a cyclic hydrocarbon group, and the cyclic hydrocarbon group may be an aromatic hydrocarbon group or an aliphatic hydrocarbon group.
  • An aliphatic hydrocarbon group means a hydrocarbon group without aromaticity.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be saturated or unsaturated, and is usually preferably saturated.
  • the aromatic hydrocarbon group for R' 201 is a hydrocarbon group having an aromatic ring.
  • the aromatic hydrocarbon group preferably has 3 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 30 carbon atoms, still more preferably 5 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 15 carbon atoms, and most preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • the number of carbon atoms does not include the number of carbon atoms in the substituent.
  • Specific examples of the aromatic ring of the aromatic hydrocarbon group in R' 201 include benzene, fluorene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, biphenyl, and aromatic heterocycles in which some of the carbon atoms constituting these aromatic rings are substituted with hetero atoms.
  • the heteroatom in the aromatic heterocycle includes oxygen atom, sulfur atom, nitrogen atom and the like.
  • Specific examples of the aromatic hydrocarbon group for R′ 201 include groups obtained by removing one hydrogen atom from the aromatic ring (aryl group: e.g., phenyl group, naphthyl group, etc.), groups in which one of the hydrogen atoms in the aromatic ring is substituted with an alkylene group (e.g., arylalkyl groups such as a benzyl group, a phenethyl group, a 1-naphthylmethyl group, a 2-naphthylmethyl group, a 1-naphthylethyl group, a 2-naphthylethyl group, etc.).
  • the alkylene group (alkyl chain in the arylalkyl group) preferably has 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms, and particularly preferably 1 carbon atom.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R' 201 includes an aliphatic hydrocarbon group containing a ring in its structure.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group containing a ring in this structure include an alicyclic hydrocarbon group (a group obtained by removing one hydrogen atom from the aliphatic hydrocarbon ring), a group in which the alicyclic hydrocarbon group is a straight-chain or branched-chain aliphatic hydrocarbon group, a group in which the alicyclic hydrocarbon group is interposed in the middle of the straight-chain or branched-chain aliphatic hydrocarbon group, and the like.
  • the alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 12 carbon atoms.
  • the alicyclic hydrocarbon group may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a monocycloalkane.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples include cyclopentane and cyclohexane.
  • the polycyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 30 carbon atoms.
  • polycycloalkanes having a bridged ring system polycyclic skeleton such as adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, and tetracyclododecane
  • polycycloalkanes having a condensed ring system polycyclic skeleton such as a cyclic group having a steroid skeleton.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R' 201 is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a monocycloalkane or polycycloalkane, more preferably a group obtained by removing one hydrogen atom from a polycycloalkane, particularly preferably an adamantyl group or a norbornyl group, most preferably an adamantyl group.
  • the linear or branched aliphatic hydrocarbon group which may be bonded to the alicyclic hydrocarbon group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • the straight-chain aliphatic hydrocarbon group is preferably a straight-chain alkylene group, and specific examples thereof include a methylene group [-CH 2 -], an ethylene group [-(CH 2 ) 2 -], a trimethylene group [-(CH 2 ) 3 -], a tetramethylene group [-(CH 2 ) 4 -], a pentamethylene group [-(CH 2 ) 5 -], and the like.
  • the cyclic hydrocarbon group for R' 201 may contain a heteroatom such as a heterocyclic ring.
  • a heteroatom such as a heterocyclic ring.
  • Specific examples include lactone-containing cyclic groups represented by general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7), —SO 2 -containing cyclic groups represented by general formulas (b5-r-1) to (b5-r-4), and heterocyclic groups represented by chemical formulas (r-hr-1) to (r-hr-16) above.
  • substituents on the cyclic group of R' 201 include alkyl groups, alkoxy groups, halogen atoms, halogenated alkyl groups, hydroxyl groups, carbonyl groups, nitro groups and the like.
  • the alkyl group as a substituent is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, most preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group and a tert-butyl group.
  • the alkoxy group as a substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an n-butoxy group and a tert-butoxy group, and most preferably a methoxy group and an ethoxy group.
  • a fluorine atom is preferable as a halogen atom as a substituent.
  • halogenated alkyl group as a substituent examples include alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group, tert-butyl group, etc., in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with the aforementioned halogen atoms.
  • a carbonyl group as a substituent is a group that substitutes a methylene group ( --CH.sub.2-- ) constituting a cyclic hydrocarbon group.
  • a chain alkyl group which may have a substituent may be linear or branched.
  • the linear alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and most preferably 1 to 10 carbon atoms.
  • the branched-chain alkyl group preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 15 carbon atoms, and most preferably 3 to 10 carbon atoms.
  • Specific examples include 1-methylethyl group, 1-methylpropyl group, 2-methylpropyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group and the like.
  • a chain alkenyl group which may have a substituent may be linear or branched, and preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 5 carbon atoms, more preferably 2 to 4 carbon atoms, and particularly preferably 3 carbon atoms.
  • linear alkenyl groups include vinyl groups, propenyl groups (allyl groups), and butynyl groups.
  • Examples of branched alkenyl groups include 1-methylvinyl group, 2-methylvinyl group, 1-methylpropenyl group, 2-methylpropenyl group and the like.
  • the chain alkenyl group is preferably a linear alkenyl group, more preferably a vinyl group or a propenyl group, and particularly preferably a vinyl group.
  • substituents on the linear alkyl group or alkenyl group of R'201 include an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, a nitro group, an amino group, and a cyclic group for R'201 .
  • the cyclic group optionally having substituent(s), the chain alkyl group optionally having substituent(s), or the chain alkenyl group optionally having substituent(s) for R' 201 are those mentioned above.
  • the cyclic group optionally having substituent(s) or the chain alkyl group optionally having substituent(s) may be the same as the acid dissociable group represented by the above formula (a1-r-2).
  • R′ 201 is preferably an optionally substituted cyclic group, more preferably an optionally substituted cyclic hydrocarbon group. More specifically, for example, a phenyl group, a naphthyl group, a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a polycycloalkane; a lactone-containing cyclic group represented by the general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7); and a —SO 2 -containing cyclic group represented by the general formulas (b5-r-1) to (b5-r-4).
  • the ring to be formed is preferably a 3- to 10-membered ring, particularly preferably a 5- to 7-membered ring including a sulfur atom, in the ring structure of which a sulfur atom in the formula is included.
  • Specific examples of the ring formed include a thiophene ring, a thiazole ring, a benzothiophene ring, a dibenzothiophene ring, a 9H-thioxanthene ring, a thioxanthone ring, a thianthrene ring, a phenoxathiin ring, a tetrahydrothiophenium ring, and a tetrahydrothiopyranium ring.
  • R 208 to R 209 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
  • R 210 is an optionally substituted aryl group, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, or an optionally substituted —SO 2 —containing cyclic group.
  • the aryl group for R 210 includes an unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, preferably a phenyl group or a naphthyl group.
  • the alkyl group for R 210 is preferably a chain or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the alkenyl group for R 210 preferably has 2 to 10 carbon atoms.
  • the —SO 2 -containing cyclic group optionally having a substituent for R 210 is preferably a “—SO 2 -containing polycyclic group”, more preferably a group represented by the general formula (b5-r-1).
  • Suitable cations represented by the formula (ca-1) include cations represented by the following chemical formulas (ca-1-1) to (ca-1-70).
  • g1, g2 and g3 represent the number of repetitions, g1 is an integer of 1-5, g2 is an integer of 0-20, and g3 is an integer of 0-20. ]
  • R′′ 201 is a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is the same as those exemplified as the substituents that R 201 to R 207 and R 210 to R 212 may have.
  • the component (B) may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of component (B) in the resist composition is preferably less than 50 parts by mass, more preferably 10 to 40 parts by mass, more preferably 20 to 40 parts by mass, relative to 100 parts by mass of component (A).
  • the pattern formation is sufficiently performed.
  • each component of the resist composition is dissolved in an organic solvent, a uniform solution can be easily obtained, and the storage stability of the resist composition can be improved, which is preferable.
  • the resist composition of the present embodiment preferably contains a base component (hereinafter also referred to as "(D) component”) that traps acid generated by exposure (i.e., controls acid diffusion).
  • Component (D) acts as a quencher (acid diffusion control agent) that traps acid generated by exposure in the resist composition.
  • Examples of the component (D) include photodegradable bases (D1) (hereinafter referred to as “component (D1)”) that decompose upon exposure to lose acid diffusion controllability, nitrogen-containing organic compounds (D2) that do not fall under the component (D1) (hereinafter referred to as “component (D2)”), and the like.
  • the photodegradable base (component (D1)) is preferable because it tends to enhance the roughness reduction property.
  • component (D1) it becomes easier to improve both the characteristics of increasing the sensitivity and suppressing the occurrence of coating defects.
  • the component (D1) is not particularly limited as long as it is decomposed by exposure to light and loses the acid diffusion controllability, and is preferably one or more compounds selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (d1-1) (hereinafter referred to as "(d1-1) component”), a compound represented by the following general formula (d1-2) (hereinafter referred to as "(d1-2) component”), and a compound represented by the following general formula (d1-3) (hereinafter referred to as "(d1-3) component”).
  • Components (d1-1) to (d1-3) do not act as quenchers in the exposed portions of the resist film because they decompose and lose acid diffusion controllability (basicity), but act as quenchers in the unexposed portions of the resist film.
  • Rd 1 to Rd 4 are an optionally substituted cyclic group, an optionally substituted chain alkyl group, or an optionally substituted chain alkenyl group. However, it is assumed that no fluorine atom is bonded to the carbon atom adjacent to the S atom in Rd 2 in formula (d1-2).
  • Yd 1 is a single bond or a divalent linking group.
  • m is an integer of 1 or more, and each M m+ is independently an m-valent organic cation.
  • Rd 1 is a cyclic group optionally having a substituent, a chain alkyl group optionally having a substituent, or a chain alkenyl group optionally having a substituent, and examples thereof are the same as those described above for R′ 201 .
  • Rd 1 is preferably an optionally substituted aromatic hydrocarbon group, an optionally substituted aliphatic cyclic group, or an optionally substituted chain alkyl group.
  • substituents that these groups may have include a hydroxyl group, an oxo group, an alkyl group, an aryl group, a fluorine atom, a fluorinated alkyl group, lactone-containing cyclic groups represented by the general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7), ether bonds, ester bonds, and combinations thereof.
  • a2-r-1 to (a2-r-7) lactone-containing cyclic groups represented by the general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7), ether bonds, ester bonds, and combinations thereof.
  • the substituent in this case is preferably a linking group represented by each of the above formulas (y-al-1) to (y-al-5).
  • the aromatic hydrocarbon group, the aliphatic cyclic group, or the chain alkyl group in Rd 1 has, as a substituent, a linking group represented by each of the above general formulas (y-al-1) to (y-al-7), in the above general formulas (y-al-1) to (y-al-7), the carbon atom constituting the aromatic hydrocarbon group, the aliphatic cyclic group, or the chain alkyl group in Rd 1 in the formula (d3-1) is bound to It is V' 101 in the above general formulas (y-al-1) to (y-al-7).
  • the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, and a polycyclic structure containing a bicyclooctane skeleton (a polycyclic structure consisting of a bicyclooctane skeleton and a ring structure other than this). More preferably, the aliphatic cyclic group is a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a polycycloalkane such as adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, and tetracyclododecane.
  • the chain alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms.
  • linear alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, and decyl group;
  • branched chain alkyl groups such as -methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group and 4-methylpentyl group;
  • the chain alkyl group is a fluorinated alkyl group having a fluorine atom or a fluorinated alkyl group as a substituent
  • the number of carbon atoms in the fluorinated alkyl group is preferably 1 to 11, more preferably 1 to 8, and even more preferably 1 to 4.
  • the fluorinated alkyl group may contain atoms other than fluorine atoms. Atoms other than a fluorine atom include, for example, an oxygen atom, a sulfur atom, a nitrogen atom, and the like.
  • M m+ is an m-valent organic cation.
  • the same cations as the cations represented by the general formulas (ca-1) to (ca-3) are preferably mentioned, the cations represented by the general formula (ca-1) are more preferable, and the cations represented by the formulas (ca-1-1) to (ca-1-113) are more preferable.
  • Component (d1-1) may be used alone or in combination of two or more.
  • Rd 2 is a cyclic group optionally having substituent(s), a chain alkyl group optionally having substituent(s), or a chain alkenyl group optionally having substituent( s ).
  • the carbon atom adjacent to the S atom in Rd 2 is not bonded to a fluorine atom (not fluorine-substituted).
  • Rd 2 is preferably an optionally substituted chain alkyl group or an optionally substituted aliphatic cyclic group, more preferably an optionally substituted aliphatic cyclic group.
  • the chain alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 10 carbon atoms.
  • the aliphatic cyclic group is preferably a group (which may have a substituent) in which one or more hydrogen atoms are removed from adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, tetracyclododecane, or the like; and a group in which one or more hydrogen atoms are removed from camphor.
  • the hydrocarbon group of Rd 2 may have a substituent, and examples of the substituent include the same substituents that the hydrocarbon group (aromatic hydrocarbon group, aliphatic cyclic group, chain alkyl group) of Rd 1 of the above formula (d1-1) may have.
  • M m+ is an m-valent organic cation, which is the same as M m+ in formula (d1-1).
  • Component (d1-2) may be used alone or in combination of two or more.
  • Rd 3 is a cyclic group optionally having a substituent, a chain alkyl group optionally having a substituent, or a chain alkenyl group optionally having a substituent.
  • a fluorinated alkyl group is preferred, and the same fluorinated alkyl group as Rd 1 is more preferred.
  • Rd 4 is a cyclic group optionally having substituent(s), a chain alkyl group optionally having substituent(s), or a chain alkenyl group optionally having substituent( s ).
  • an alkyl group, an alkoxy group, an alkenyl group, and a cyclic group which may have a substituent are preferable.
  • the alkyl group for Rd 4 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, and a neopentyl group.
  • a portion of the hydrogen atoms of the alkyl group of Rd4 may be substituted with a hydroxyl group, a cyano group, or the like.
  • the alkoxy group for Rd 4 is preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and specific examples of the alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an n-butoxy group, and a tert-butoxy group. Among them, a methoxy group and an ethoxy group are preferable.
  • alkenyl group for Rd 4 examples include the same alkenyl groups as the alkenyl groups for R' 201 , preferably vinyl group, propenyl group (allyl group), 1-methylpropenyl group, and 2-methylpropenyl group. These groups may further have an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms as a substituent.
  • the cyclic group for Rd 4 includes the same cyclic group as the cyclic group for R' 201 , and is preferably an alicyclic group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a cycloalkane such as cyclopentane, cyclohexane, adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, tetracyclododecane, or an aromatic group such as a phenyl group or a naphthyl group.
  • a cycloalkane such as cyclopentane, cyclohexane, adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, tetracyclododecane, or an aromatic group such as a phenyl group or a naphthyl group.
  • Rd 4 is an alicyclic group
  • the resist composition dissolves well in organic solvents, resulting in good lith
  • Yd 1 is a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group in Yd 1 is not particularly limited, but includes a divalent hydrocarbon group (aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group) optionally having a substituent, a divalent linking group containing a hetero atom, and the like. Each of these includes the same divalent hydrocarbon group optionally having a substituent and divalent linking group containing a heteroatom as exemplified in the description of the divalent linking group for Ya 21 in the above formula (a2-1).
  • Yd 1 is preferably a carbonyl group, an ester bond, an amide bond, an alkylene group, or a combination thereof.
  • the alkylene group is more preferably a linear or branched alkylene group, more preferably a methylene group or an ethylene group.
  • M m+ is an m-valent organic cation and is the same as M m+ in formula (d1-1).
  • Component (d1-3) may be used alone or in combination of two or more.
  • any one of the above components (d1-1) to (d1-3) may be used alone, or two or more of them may be used in combination.
  • the content of component (D1) in the resist composition is preferably 0.5 to 25 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass, and even more preferably 3 to 15 parts by mass, relative to 100 parts by mass of component (A1).
  • the content of the component (D1) is at least the preferred lower limit, particularly good lithography properties and resist pattern shape are likely to be obtained.
  • the sensitivity can be maintained well, and the throughput is also excellent.
  • the (D1) component preferably contains the above (d1-1) component.
  • the content of the component (d1-1) is preferably 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more, and the component (D) may consist only of the compound (d1-1) component.
  • (D1) Component manufacturing method The method for producing the components (d1-1) and (d1-2) is not particularly limited, and they can be produced by known methods. In addition, the method for producing component (d1-3) is not particularly limited, and for example, it is produced in the same manner as the method described in US2012-0149916.
  • Component (D2) may contain a nitrogen-containing organic compound component (hereinafter referred to as "component (D2)") that does not correspond to component (D1) above.
  • Component (D2) is not particularly limited as long as it acts as an acid diffusion control agent and does not correspond to component (D1), and any known component may be used.
  • aliphatic amines are preferable, and among these, secondary aliphatic amines and tertiary aliphatic amines are more preferable.
  • Aliphatic amines are amines having one or more aliphatic groups, which preferably have from 1 to 12 carbon atoms.
  • Aliphatic amines include amines (alkylamines or alkylalcohol amines) in which at least one hydrogen atom of ammonia NH3 is substituted with an alkyl or hydroxyalkyl group having 12 or less carbon atoms, or cyclic amines.
  • alkylamines and alkylalcoholamines include monoalkylamines such as n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine and n-decylamine; dialkylamines such as diethylamine, di-n-propylamine, di-n-heptylamine, di-n-octylamine and dicyclohexylamine; Trialkylamines such as tri-n-hexylamine, tri-n-heptylamine, tri-n-octylamine, tri-n-nonylamine, tri-n-decylamine and tri-n-dodecylamine; Among these, trialkylamines having 6 to 30 carbon atoms are more preferable, and tri-n-pentylamine or tri-n-octylamine is particularly preferable.
  • Cyclic amines include, for example, heterocyclic compounds containing a nitrogen atom as a heteroatom.
  • the heterocyclic compound may be monocyclic (aliphatic monocyclic amine) or polycyclic (aliphatic polycyclic amine). Specific examples of aliphatic monocyclic amines include piperidine and piperazine.
  • the aliphatic polycyclic amine preferably has 6 to 10 carbon atoms, and specific examples include 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-5-nonene, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene, hexamethylenetetramine, 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane and the like.
  • aliphatic amines include tris(2-methoxymethoxyethyl)amine, tris ⁇ 2-(2-methoxyethoxy)ethyl ⁇ amine, tris ⁇ 2-(2-methoxyethoxymethoxy)ethyl ⁇ amine, tris ⁇ 2-(1-methoxyethoxy)ethyl ⁇ amine, tris ⁇ 2-(1-ethoxyethoxy)ethyl ⁇ amine, tris ⁇ 2-(1-ethoxypropoxy)ethyl ⁇ amine, tris[2- ⁇ 2-(2- Hydroxyethoxy)ethoxy ⁇ ethyl]amine, triethanolamine triacetate, etc., and triethanolamine triacetate is preferred.
  • Aromatic amines include 4-dimethylaminopyridine, pyrrole, indole, pyrazole, imidazole or derivatives thereof, tribenzylamine, 2,6-diisopropylaniline, N-tert-butoxycarbonylpyrrolidine, 2,6-di-tert-butylpyridine and the like.
  • the (D2) component is preferably an alkylamine, more preferably a trialkylamine having 6 to 30 carbon atoms.
  • (D2) component may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
  • the content of component (D2) in the resist composition is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, and even more preferably 0.5 to 5 parts by mass, relative to 100 parts by mass of component (A1).
  • the content of the component (D2) is at least the preferred lower limit, particularly good lithography properties and resist pattern shape are likely to be obtained.
  • the sensitivity can be maintained well, and the throughput is also excellent.
  • the resist composition of the present embodiment may contain, as an optional component, at least one compound (E) selected from the group consisting of organic carboxylic acids, phosphorus oxoacids, and derivatives thereof (hereinafter referred to as "(E) component") for the purpose of preventing deterioration in sensitivity and improving resist pattern shape, storage stability over time, and the like.
  • organic carboxylic acids include acetic acid, malonic acid, citric acid, malic acid, succinic acid, benzoic acid, salicylic acid and the like, with salicylic acid being preferred.
  • Phosphorus oxoacids include phosphoric acid, phosphonic acid, phosphinic acid, etc. Among these, phosphonic acid is particularly preferred.
  • the component (E) may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of component (E) is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.05 to 3 parts by mass, per 100 parts by mass of component (A).
  • the resist composition of the present embodiment may contain a fluorine additive component (hereinafter referred to as "(F) component") as a hydrophobic resin.
  • Component (F) is used to impart water repellency to the resist film, and can improve lithography properties by being used as a resin separate from component (A).
  • component (F) for example, fluorine-containing polymer compounds described in JP-A-2010-002870, JP-A-2010-032994, JP-A-2010-277043, JP-A-2011-13569 and JP-A-2011-128226 can be used.
  • component (F) include polymers having a structural unit (f1) represented by the following general formula (f1-1).
  • the polymer is preferably a polymer (homopolymer) consisting only of a structural unit (f1) represented by the following formula (f1-1); a copolymer of the structural unit (f1) and the structural unit (a1); a copolymer of the structural unit (f1), a structural unit derived from acrylic acid or methacrylic acid, and the structural unit (a1); and more preferably a copolymer of the structural unit (f1) and the structural unit (a1).
  • the structural unit (a1) to be copolymerized with the structural unit (f1) is preferably a structural unit derived from 1-ethyl-1-cyclooctyl(meth)acrylate or a structural unit derived from 1-methyl-1-adamantyl(meth)acrylate, more preferably a structural unit derived from 1-ethyl-1-cyclooctyl(meth)acrylate.
  • R is the same as defined above, Rf 102 and Rf 103 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and Rf 102 and Rf 103 may be the same or different.
  • nf 1 is an integer of 0 to 5
  • Rf 101 is an organic group containing a fluorine atom.
  • R bonded to the ⁇ -position carbon atom is the same as described above.
  • R is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • a fluorine atom is preferable as the halogen atom for Rf102 and Rf103 .
  • Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms for Rf 102 and Rf 103 include the same alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms as the above R, and a methyl group or an ethyl group is preferable.
  • halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms examples include groups in which some or all of the hydrogen atoms in the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms are substituted with halogen atoms.
  • a fluorine atom is preferable as the halogen atom.
  • Rf 102 and Rf 103 are preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, or an ethyl group, and still more preferably a hydrogen atom.
  • nf 1 is an integer of 0 to 5, preferably an integer of 0 to 3, more preferably 1 or 2.
  • Rf 101 is an organic group containing a fluorine atom, preferably a hydrocarbon group containing a fluorine atom.
  • the hydrocarbon group containing a fluorine atom may be linear, branched or cyclic, and preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 10 carbon atoms.
  • 25% or more of the hydrogen atoms in the hydrocarbon group are preferably fluorinated, more preferably 50% or more are fluorinated, and 60% or more are particularly preferably fluorinated because the hydrophobicity of the resist film during immersion exposure increases.
  • Rf 101 is more preferably a fluorinated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a trifluoromethyl group, -CH 2 -CF 3 , -CH 2 -CF 2 -CF 3 , -CH(CF 3 ) 2 , -CH 2 -CH 2 -CF 3 , -CH 2 -CH 2 -CF 2 -CF 2 -CF 3 .
  • the weight-average molecular weight (Mw) of component (F) is preferably 1,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 40,000, and most preferably 10,000 to 30,000. When it is at most the upper limit of this range, it has sufficient solubility in a resist solvent for use as a resist, and when it is at least the lower limit of this range, the resist film has good water repellency.
  • the dispersity (Mw/Mn) of component (F) is preferably 1.0 to 5.0, more preferably 1.0 to 3.0, and most preferably 1.0 to 2.5.
  • the component (F) may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of component (F) is preferably 0.5 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of component (A).
  • the resist composition of the present embodiment can be produced by dissolving a resist material in an organic solvent component (hereinafter referred to as "(S) component").
  • (S) component any one that can dissolve each component to be used and form a uniform solution can be used, and an arbitrary one can be appropriately selected and used from conventionally known solvents for chemically amplified resist compositions.
  • component (S) examples include lactones such as ⁇ -butyrolactone; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl-n-pentyl ketone, methyl isopentyl ketone and 2-heptanone; polyhydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol and dipropylene glycol; , derivatives of polyhydric alcohols such as monomethyl ether, monoethyl ether, monopropyl ether, monobutyl ether, and other monoalkyl ethers of compounds having an ester bond, or compounds having an ether bond, such as monophenyl ether [among these, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and propylene glycol monomethyl ether (PGME) are preferable]; Esters such as ethyl acetate, methyl methoxypropionate, and ethyl ethoxypropionat
  • the (S) component may be used singly or as a mixed solvent of two or more.
  • PGMEA, PGME, ⁇ -butyrolactone, EL, and cyclohexanone are preferred.
  • a mixed solvent obtained by mixing PGMEA and a polar solvent is also preferable as the component (S).
  • the blending ratio may be appropriately determined in consideration of the compatibility between PGMEA and the polar solvent, etc., preferably in the range of 1:9 to 9:1, more preferably in the range of 2:8 to 8:2. More specifically, when EL or cyclohexanone is blended as the polar solvent, the mass ratio of PGMEA:EL or cyclohexanone is preferably 1:9 to 9:1, more preferably 2:8 to 8:2.
  • the mass ratio of PGMEA:PGME is preferably 1:9-9:1, more preferably 2:8-8:2, still more preferably 3:7-7:3. Further, a mixed solvent of PGMEA, PGME and cyclohexanone is also preferred. Further, as the component (S), a mixed solvent of at least one selected from PGMEA and EL and ⁇ -butyrolactone is also preferable. In this case, as a mixing ratio, the mass ratio of the former to the latter is preferably 70:30 to 95:5.
  • the amount of the component (S) to be used is not particularly limited, and is appropriately set according to the coating film thickness at a concentration that can be applied to the substrate or the like.
  • the component (S) is generally used so that the resist composition has a solid content concentration of 0.1 to 20 mass %, preferably 0.2 to 15 mass %.
  • the resist composition of the present embodiment after dissolving the resist material in the (S) component, impurities and the like may be removed using a polyimide porous film, a polyamideimide porous film, or the like.
  • the resist composition may be filtered using a filter composed of a polyimide porous membrane, a filter composed of a polyamideimide porous membrane, a filter composed of a polyimide porous membrane and a polyamideimide porous membrane, or the like.
  • the polyimide porous film and the polyamideimide porous film include those described in JP-A-2016-155121.
  • the resist composition of this embodiment described above contains the resin component (A1) having the structural unit (a01) described above.
  • Structural unit (a01) has an aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms, or a heteroaryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms. Since the structural unit (a01) has an iodine atom, it has high EUV (extreme ultraviolet) and EB (electron beam) absorption efficiency. Further, the structural unit (a01) has a divalent linking group on its side chain.
  • the resin component (A1) having the structural unit (a01) has a different three-dimensional structure than a resin component having a structural unit that does not have a divalent linking group in its side chain, and has enhanced solubility in a developer. Therefore, it is presumed that the resist composition of the present embodiment containing the resin component (A1) can achieve high sensitivity and can form a resist pattern with good roughness reduction properties.
  • a resist pattern forming method is a method comprising the steps of forming a resist film on a support using the resist composition according to the first aspect of the present invention, exposing the resist film, and developing the resist film after exposure to form a resist pattern.
  • a resist pattern forming method includes, for example, a resist pattern forming method performed as follows.
  • the resist composition of the above-described embodiment is applied onto a support using a spinner or the like, and a bake (post-apply bake (PAB)) treatment is performed, for example, at a temperature of 80 to 150° C. for 40 to 120 seconds, preferably 60 to 90 seconds to form a resist film.
  • PAB post-apply bake
  • the resist film is exposed through a mask having a predetermined pattern (mask pattern) using an exposure device such as an electron beam lithography device or an ArF exposure device, or by direct irradiation of an electron beam without a mask pattern.
  • the resist film is developed.
  • the developing process is performed using an alkaline developer in the case of the alkali development process, and using a developer containing an organic solvent (organic developer) in the case of the solvent development process.
  • Rinsing treatment is preferably performed after the development treatment.
  • the rinsing treatment water rinsing using pure water is preferable in the case of the alkali developing process, and a rinsing solution containing an organic solvent is preferably used in the case of the solvent developing process.
  • a processing for removing the developer or the rinsing liquid adhering to the pattern with a supercritical fluid may be performed.
  • drying is performed.
  • baking treatment post-baking
  • a resist pattern can be formed.
  • the support is not particularly limited, and conventionally known ones can be used. Examples thereof include substrates for electronic components and substrates on which a predetermined wiring pattern is formed. More specifically, silicon wafers, metal substrates such as copper, chromium, iron, and aluminum substrates, glass substrates, and the like can be used. As a material for the wiring pattern, for example, copper, aluminum, nickel, gold, or the like can be used.
  • the wavelength used for exposure is not particularly limited, and radiation such as ArF excimer laser, KrF excimer laser, F2 excimer laser, EUV (extreme ultraviolet), VUV (vacuum ultraviolet), EB (electron beam), X-rays, and soft X-rays can be used.
  • the resist composition is highly useful for KrF excimer laser, ArF excimer laser, EB or EUV, more highly useful for ArF excimer laser, EB or EUV, and particularly highly useful for EB or EUV. That is, the resist pattern forming method of the present embodiment is particularly useful when the step of exposing the resist film includes exposing the resist film to EUV (extreme ultraviolet) or EB (electron beam).
  • the exposure method of the resist film may be normal exposure (dry exposure) performed in air or an inert gas such as nitrogen, or may be liquid immersion lithography.
  • Immersion exposure is an exposure method in which a solvent (immersion medium) having a refractive index greater than that of air is filled in advance between the resist film and the lowest lens of the exposure device, and exposure is performed in this state (immersion exposure).
  • the immersion medium is preferably a solvent having a refractive index higher than that of air and lower than that of the resist film to be exposed. Examples thereof include water, fluorine-based inert liquids, silicon-based solvents, and hydrocarbon-based solvents. Water is preferably used as the immersion medium.
  • Examples of the alkaline developer used for development processing in the alkaline development process include a 0.1 to 10% by mass tetramethylammonium hydroxide (TMAH) aqueous solution.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • the organic solvent contained in the organic developer used for development in the solvent development process may be any one capable of dissolving the component (A) (component (A) before exposure), and can be appropriately selected from known organic solvents. Specific examples include polar solvents such as ketone-based solvents, ester-based solvents, alcohol-based solvents, nitrile-based solvents, amide-based solvents, ether-based solvents, and hydrocarbon-based solvents.
  • ester solvents include methyl acetate, butyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, pentyl acetate, isopentyl acetate, amyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, ethyl-3-ethoxypropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, methyl formate, ethyl formate, and formic acid.
  • nitrile-based solvents examples include acetonitrile, propionitrile, valeronitrile, and butyronitrile.
  • additives can be added to the organic developer as needed.
  • additives include surfactants.
  • the surfactant is not particularly limited, for example, ionic or nonionic fluorine-based and/or silicon-based surfactants can be used.
  • a nonionic surfactant is preferable, and a nonionic fluorine-based surfactant or a nonionic silicon-based surfactant is more preferable.
  • a surfactant When a surfactant is blended, its blending amount is usually 0.001 to 5% by mass, preferably 0.005 to 2% by mass, more preferably 0.01 to 0.5% by mass, relative to the total amount of the organic developer.
  • the development can be carried out by a known developing method.
  • Examples include a method in which the support is immersed in the developer for a certain period of time (dip method), a method in which the developer is piled up on the surface of the support by surface tension and left stationary for a certain period of time (paddle method), a method in which the developer is sprayed onto the surface of the support (spray method), and a method in which the developer is continuously applied while the developer application nozzle is scanned at a constant speed onto the support rotating at a constant speed (dynamic dispensing method).
  • the organic solvent contained in the rinsing solution used for the rinsing treatment after the development treatment in the solvent development process for example, among the organic solvents exemplified as the organic solvents used for the organic developer, those that hardly dissolve the resist pattern can be appropriately selected and used.
  • at least one solvent selected from hydrocarbon solvents, ketone solvents, ester solvents, alcohol solvents, amide solvents and ether solvents is used.
  • at least one selected from hydrocarbon-based solvents, ketone-based solvents, ester-based solvents, alcohol-based solvents and amide-based solvents is preferable, at least one selected from alcohol-based solvents and ester-based solvents is more preferable, and alcohol-based solvents are particularly preferable.
  • the alcohol-based solvent used in the rinse liquid is preferably a monohydric alcohol having 6 to 8 carbon atoms, and the monohydric alcohol may be linear, branched or cyclic.
  • Specific examples include 1-hexanol, 1-heptanol, 1-octanol, 2-hexanol, 2-heptanol, 2-octanol, 3-hexanol, 3-heptanol, 3-octanol, 4-octanol, and benzyl alcohol.
  • 1-hexanol, 2-heptanol and 2-hexanol are preferred, and 1-hexanol and 2-hexanol are more preferred.
  • any one of these organic solvents may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Moreover, you may mix with organic solvents and water other than the above, and you may use it. However, considering development characteristics, the amount of water in the rinse solution is preferably 30% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, even more preferably 5% by mass or less, and particularly preferably 3% by mass or less, relative to the total amount of the rinse solution.
  • Known additives can be added to the rinse solution as needed. Examples of such additives include surfactants. Examples of surfactants include those mentioned above, preferably nonionic surfactants, more preferably nonionic fluorine-based surfactants or nonionic silicon-based surfactants. When a surfactant is blended, its blending amount is usually 0.001 to 5% by mass, preferably 0.005 to 2% by mass, more preferably 0.01 to 0.5% by mass, relative to the total amount of the rinse liquid.
  • the rinsing treatment (cleaning treatment) using the rinsing liquid can be performed by a known rinsing method.
  • the rinsing method include a method of continuously applying the rinse solution onto the support rotating at a constant speed (rotation coating method), a method of immersing the support in the rinse solution for a given period of time (dip method), and a method of spraying the rinse solution onto the surface of the support (spray method).
  • the resist pattern forming method of the present embodiment described above since the resist composition described above is used, it is possible to achieve high sensitivity and form a resist pattern with good roughness reduction properties.
  • the resist composition of the above embodiment and the various materials used in the pattern forming method of the above embodiment preferably do not contain impurities such as metals, metal salts containing halogens, acids, alkalis, components containing sulfur atoms or phosphorus atoms.
  • impurities containing metal atoms include Na, K, Ca, Fe, Cu, Mn, Mg, Al, Cr, Ni, Zn, Ag, Sn, Pb, Li, salts thereof, and the like.
  • the content of impurities contained in these materials is preferably 200 ppb or less, more preferably 1 ppb or less, still more preferably 100 ppt (parts per trillion) or less, particularly preferably 10 ppt or less, and most preferably substantially free (below the detection limit of the measuring device).
  • a compound according to the third aspect of the present invention is a compound represented by the following general formula (a0-1).
  • R 01 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • L 01 is a divalent linking group.
  • Ra 01 and Ra 02 are each independently a hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Ar 01 is an aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms, or a heteroaryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms.
  • the aryl group and heteroaryl group may have a substituent other than the iodine atom.
  • the compound represented by general formula (a0-1) in this embodiment is the same as the compound represented by general formula (a0-1) in the resist composition according to the first aspect of the present invention.
  • the compound of this embodiment is preferably a compound represented by the following general formula (a0-1-1).
  • R 01 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • L 001 is a divalent linking group having an ester bond, an aromatic hydrocarbon group, a lactone-containing cyclic group, or a group consisting of a combination thereof.
  • Ra 01 and Ra 02 are each independently a hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Ar 01 is an aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms, or a heteroaryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms. The aryl group and heteroaryl group may have a substituent other than the iodine atom.
  • the compound represented by general formula (a0-1-1) in this embodiment is the same as the compound represented by general formula (a0-1-1) in the resist composition according to the first aspect of the present invention.
  • the compound of the present embodiment can be produced, for example, by an esterification reaction between a compound represented by general formula (C0-1) below and a compound represented by general formula (AL0-1) below.
  • R 01 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • L 01 is a divalent linking group.
  • Ra 01 and Ra 02 are each independently a hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Ar 01 is an aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms, or a heteroaryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms.
  • the aryl group and heteroaryl group may have a substituent other than the iodine atom.
  • the temperature conditions for the esterification reaction are not particularly limited, and are, for example, about -10 to 120°C.
  • the reaction time of the esterification reaction is not particularly limited, and is, for example, about 1 to 72 hours.
  • reaction solvent used in the esterification reaction examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, tetrahydrofuran, N,N-dimethylformamide, acetonitrile, propionitrile, N,N'-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide and the like.
  • condensing agent and a basic catalyst may be used.
  • condensing agents include N,N'-dicyclohexylcarbodiimide, N,N'-diisopropylcarbodiimide, 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride, and carbonyldiimidazole (CDI).
  • basic catalysts include tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine and tributylamine, aromatic amines such as pyridine, dimethylaminopyridine (DMAP) and pyrrolidinopyridine, diazabicyclononene (DBN), and diazabicycloundecene (DBU).
  • tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine and tributylamine
  • aromatic amines such as pyridine, dimethylaminopyridine (DMAP) and pyrrolidinopyridine, diazabicyclononene (DBN), and diazabicycloundecene (DBU).
  • the compound represented by the above general formula (C0-1) may be a carboxylic acid chloride in order to improve electrophilicity and enhance reactivity. That is, the hydroxyl group in the compound represented by general formula (C0-1) may be substituted with a chlorine atom.
  • the compound represented by general formula (a0-1) in the reaction solution may be isolated and purified.
  • conventionally known methods can be used, for example, concentration, solvent extraction, distillation, crystallization, recrystallization, chromatography, etc. can be used alone, or two or more of these can be used in combination.
  • the structure of the compound obtained as described above can be confirmed by general organic analysis methods such as 1 H-nuclear magnetic resonance (NMR) spectroscopy, 13 C-NMR spectroscopy, 19 F-NMR spectroscopy, infrared absorption (IR) spectroscopy, mass spectrometry (MS), elemental analysis, and X-ray crystal diffraction.
  • NMR 1 H-nuclear magnetic resonance
  • IR infrared absorption
  • MS mass spectrometry
  • elemental analysis X-ray crystal diffraction.
  • ⁇ Synthesis of compound represented by general formula (AL0-1)> The compound represented by formula (AL0-1) above may be a commercially available product or may be synthesized.
  • a compound represented by the above formula (AL0-1) may be synthesized by a Grignard reaction of reacting a ketone represented by the following general formula (AL0-1pre) with an organomagnesium halide represented by Ra 02 MgBr.
  • Ra 01 and Ra 02 are each independently a hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Ar 01 is an aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms, or a heteroaryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms.
  • the aryl group and heteroaryl group may have a substituent other than the iodine atom.
  • reaction solvent used in the Grignard reaction examples include those similar to those used in the esterification reaction.
  • the temperature conditions for the Grignard reaction are not particularly limited, and are, for example, about -10 to 120°C.
  • the reaction time of the Grignard reaction is not particularly limited, and is, for example, about 1 to 72 hours.
  • the compound represented by the above formula (AL0-1) may be synthesized by a nucleophilic addition reaction between an aromatic compound having an iodine atom and a ketone in the presence of a strong base (such as potassium hexamethyldisilazide (KHMDS)).
  • KHMDS potassium hexamethyldisilazide
  • the compound represented by the above formula (AL0-1) may be reacted with another compound to synthesize a different compound represented by the above formula (AL0-1).
  • the compound represented by the above formula (AL0-1) and 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride may be reacted to synthesize a compound represented by the following general formula (AL0-1').
  • Ra 01 and Ra 02 are each independently a hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Ar 01 is an aryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms, or a heteroaryl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with iodine atoms.
  • the aryl group and heteroaryl group may have a substituent other than the iodine atom.
  • the compound of the present embodiment described above is useful for producing a resin according to the fourth aspect described later.
  • a fourth aspect of the present invention is a resin having a structural unit derived from the compound represented by the above general formula (a0-1).
  • the resin according to the fourth aspect of the present invention is the same as the component (A1) described above.
  • a resin according to the fourth aspect of the present invention is a resin useful for a resist composition.
  • the resulting concentrate was dissolved in 300 g of ethyl acetate, acetone (35 g), sodium hydrogencarbonate (19 g) and oxone (90 g) were added and stirred for 8 hours.
  • 300 g of pure water was added to the reaction solution to stop the reaction, 120 g of ethyl acetate was added for extraction, and the solvent was distilled off.
  • Intermediate AL-6 was obtained by purifying the obtained concentrate by silica gel column chromatography.
  • the reaction solution was stirred at 85°C for 1 hour. The reaction was then cooled to room temperature. After completion of the reaction, the resulting reaction solution was precipitated in 2600 g of heptane and washed. The obtained white solid matter was filtered and dried under reduced pressure overnight to obtain the target polymer compound (A1-1).
  • Polymer compounds (A1-2) to (A1-15) were synthesized using the compounds (a0-01-1) to (a0-01-9) shown above, the compounds (m-a10-1pre) to (m-a10-3pre) shown below, and (m-a2-1) to (m-a2-3) in the same manner as in Polymer Compound Synthesis Example 1.
  • the weight-average molecular weight (Mw) and the molecular weight distribution (Mw/Mn) of each polymer compound obtained were determined by GPC measurement (converted to standard polystyrene).
  • the copolymer composition ratio (ratio (molar ratio) of each structural unit in the structural formula) of each polymer compound obtained was determined by carbon-13 nuclear magnetic resonance spectroscopy (600 MHz — 13 C-NMR).
  • Polymer compound (A1-6): weight average molecular weight (Mw) 7500, molecular weight dispersity (Mw/Mn) 1.65, l/m 50/50.
  • Polymer compound (A1-12): weight average molecular weight (Mw) 7500, molecular weight dispersity (Mw/Mn) 1.66, l/m/n 50/40/10.
  • Polymer compound (A1-13): weight average molecular weight (Mw) 7500, molecular weight dispersity (Mw/Mn) 1.66, l/m/n 50/40/10.
  • Polymer compound (A1-14): weight average molecular weight (Mw) 7500, molecular weight dispersity (Mw/Mn) 1.67, l/m/n 50/40/10.
  • Polymer compound (A1-15): weight average molecular weight (Mw) 7400, molecular weight dispersity (Mw/Mn) 1.66, l/m/n 50/40/10.
  • (A1)-1 to (A1)-15 the polymer compounds (A1-1) to (A1-15) described above.
  • (A2)-1 A polymer compound represented by the following chemical formula (A2-1).
  • the polymer compound (A2)-1 had a weight average molecular weight (Mw) converted to standard polystyrene of 7500 and a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.64 as determined by GPC measurement.
  • (A2)-2 A polymer compound represented by the following chemical formula (A2-2).
  • the polymer compound (A2)-2 has a weight average molecular weight (Mw) of 7400 in terms of standard polystyrene and a molecular weight distribution (Mw/Mn) of 1.65 as determined by GPC measurement.
  • (A2)-3 A polymer compound represented by the following chemical formula (A2-3).
  • the polymer compound (A2)-3 had a weight average molecular weight (Mw) of 7600 in terms of standard polystyrene and a molecular weight dispersity (Mw/Mn) of 1.68 as determined by GPC measurement.
  • (A2)-4 A polymer compound represented by the following chemical formula (A2-4).
  • the polymer compound (A2)-4 had a weight average molecular weight (Mw) of 7400 in terms of standard polystyrene and a molecular weight dispersity (Mw/Mn) of 1.67 as determined by GPC measurement.
  • the copolymer composition ratio (ratio (molar ratio) of each structural unit in the structural formula) determined by 13 C-NMR was 1/m 50/50.
  • (B)-1 Acid generator comprising the following compound (B-1).
  • (B)-2 Acid generator comprising the following compound (B-2).
  • (D)-1 Acid diffusion control agent consisting of the following compound (D-1.
  • ⁇ Formation of resist pattern> The resist composition of each example was applied using a spinner onto an 8-inch silicon substrate treated with hexamethyldisilazane (HMDS), prebaked (PAB) on a hot plate at a temperature of 110° C. for 60 seconds, and dried to form a resist film having a thickness of 70 nm.
  • HMDS hexamethyldisilazane
  • PAB prebaked
  • the resist film was subjected to drawing (exposure) using an electron beam drawing apparatus JEOL-JBX-9300FS (manufactured by JEOL Ltd.) at an accelerating voltage of 100 kV with a target size of 1:1 line and space pattern (hereinafter referred to as LS pattern) with a line width of 50 nm, followed by post-exposure baking (PEB) treatment at 100 ° C. for 60 seconds.
  • PEB post-exposure baking
  • alkaline development was performed at 23° C. for 60 seconds using a 2.38 mass % tetramethylammonium hydroxide (TMAH) aqueous solution “NMD-3” (trade name, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.). After that, water rinsing was performed for 15 seconds using pure water. As a result, a 1:1 LS pattern with a line width of 50 nm was formed.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide

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Abstract

一般式（ａ０－１）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する、レジスト組成物。式中、Ｒ０１は、水素原子等である。Ｌ０１は、２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基等である。前記アリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。

Description

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び、化合物
　本発明は、レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び、化合物に関する。
　本願は、２０２２年１月２１日に日本に出願された、特願２０２２－００７８７５号に基づき優先権主張し、その内容をここに援用する。
　近年、半導体素子や液晶表示素子の製造においては、リソグラフィー技術の進歩により急速にパターンの微細化が進んでいる。微細化の手法としては、一般に、露光光源の短波長化（高エネルギー化）が行われている。
　レジスト材料には、これらの露光光源に対する感度、微細な寸法のパターンを再現できる解像性等のリソグラフィー特性が求められる。
　このような要求を満たすレジスト材料として、従来、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、露光により酸を発生する酸発生剤成分と、を含有する化学増幅型レジスト組成物が用いられている。
　化学増幅型レジスト組成物においては、一般的に、リソグラフィー特性等の向上のために、複数の構成単位を有する樹脂が用いられている。
　例えば、特許文献１には、特定の酸解離性基を有する構成単位（ａ０１）と、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－が環骨格の一部を形成する環式基（ただし、架橋構造を形成しているものを除く）を含む構成単位（ａ０２）と、ヒドロキシ基を有する特定の構成単位（ａ０３）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有するレジスト組成物が開示されている。このレジスト組成物は、酸の拡散を制御し、現像液に対する親和性を向上させ、感度、ラフネスの低減性、及び解像性にも優れると開示されている。
特開２０２０－０８５９１６号公報
　リソグラフィー技術のさらなる進歩、応用分野の拡大等が進み、急速にパターンの微細化が進んでいる。そして、これに伴い、半導体素子等を製造する際には、微細なパターンを良好な形状で形成できる技術が求められる。
　しかしながら、かかる要求に対して、特許文献１に記載された従来のレジスト組成物では、レジストパターン形成における感度、及び、ラフネスの低減性の両立が必ずしも十分でなく、より高いレベルでの両立が必要である。
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、高感度化が図れ、ラフネスの低減性が良好なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、及び、当該レジスト組成物が含有する樹脂を作成することのできる化合物を提供することを課題とする。
　上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を採用した。
　すなわち、本発明の第１の態様は、露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、下記一般式（ａ０－１）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する、レジスト組成物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 ［式中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。Ｌ０１は、２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
　本発明の第２の態様は、支持体上に、前記第１の態様に係るレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記露光後のレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を有するレジストパターン形成方法である。
　本発明の第３の態様は、上記一般式（ａ０－１）で表される、化合物である。
　本発明によれば、高感度化が図れ、ラフネスの低減性が良好なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、及び、当該レジスト組成物が含有する樹脂を作成することのできる化合物を提供することができる。
　本明細書及び本特許請求の範囲において、「脂肪族」とは、芳香族に対する相対的な概念であって、芳香族性を持たない基、化合物等を意味するものと定義する。
　「アルキル基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の１価の飽和炭化水素基を包含するものとする。アルコキシ基中のアルキル基も同様である。
　「アルキレン基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の２価の飽和炭化水素基を包含するものとする。
　「ハロゲン原子」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　「構成単位」とは、高分子化合物（樹脂、重合体、共重合体）を構成するモノマー単位（単量体単位）を意味する。
　「置換基を有してもよい」と記載する場合、水素原子（－Ｈ）を１価の基で置換する場合と、メチレン基（－ＣＨ２－）を２価の基で置換する場合との両方を含む。
　「露光」は、放射線の照射全般を含む概念とする。
　「酸分解性基」は、酸の作用により、当該酸分解性基の構造中の少なくとも一部の結合が開裂し得る酸分解性を有する基である。
　酸の作用により極性が増大する酸分解性基としては、例えば、酸の作用により分解して極性基を生じる基が挙げられる。
　極性基としては、例えばカルボキシ基、水酸基、アミノ基、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）等が挙げられる。
　酸分解性基としてより具体的には、前記極性基が酸解離性基で保護された基（例えばＯＨ含有極性基の水素原子を、酸解離性基で保護した基）が挙げられる。
　「酸解離性基」とは、（ｉ）酸の作用により、当該酸解離性基と該酸解離性基に隣接する原子との間の結合が開裂し得る酸解離性を有する基、又は、（ｉｉ）酸の作用により一部の結合が開裂した後、さらに脱炭酸反応が生じることにより、当該酸解離性基と該酸解離性基に隣接する原子との間の結合が開裂し得る基、の双方をいう。
　酸分解性基を構成する酸解離性基は、当該酸解離性基の解離により生成する極性基よりも極性の低い基であることが必要で、これにより、酸の作用により該酸解離性基が解離した際に、該酸解離性基よりも極性の高い極性基が生じて極性が増大する。その結果、（Ａ１）成分全体の極性が増大する。極性が増大することにより、相対的に、現像液に対する溶解性が変化し、現像液がアルカリ現像液の場合には溶解性が増大し、現像液が有機系現像液の場合には溶解性が減少する。
　「基材成分」とは、膜形成能を有する有機化合物である。基材成分として用いられる有機化合物は、非重合体と重合体とに大別される。非重合体としては、通常、分子量が５００以上４０００未満のものが用いられる。以下「低分子化合物」という場合は、分子量が５００以上４０００未満の非重合体を示す。重合体としては、通常、分子量が１０００以上のものが用いられる。以下「樹脂」、「高分子化合物」又は「ポリマー」という場合は、分子量が１０００以上の重合体を示す。重合体の分子量としては、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算の重量平均分子量を用いるものとする。
　「誘導される構成単位」とは、炭素原子間の多重結合、例えば、エチレン性二重結合が開裂して構成される構成単位を意味する。
　「アクリル酸エステル」は、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。該α位の炭素原子に結合した水素原子を置換する置換基（Ｒαｘ）は、水素原子以外の原子又は基である。また、置換基（Ｒαｘ）がエステル結合を含む置換基で置換されたイタコン酸ジエステルや、置換基（Ｒαｘ）がヒドロキシアルキル基やその水酸基を修飾した基で置換されたαヒドロキシアクリルエステルも含むものとする。なお、アクリル酸エステルのα位の炭素原子とは、特に断りがない限り、アクリル酸のカルボニル基が結合している炭素原子のことである。
　以下、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されたアクリル酸エステルを、α置換アクリル酸エステルということがある。
　「誘導体」とは、対象化合物のα位の水素原子がアルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換されたもの、並びにそれらの誘導体を含む概念とする。それらの誘導体としては、α位の水素原子が置換基に置換されていてもよい対象化合物の水酸基の水素原子を有機基で置換したもの；α位の水素原子が置換基に置換されていてもよい対象化合物に、水酸基以外の置換基が結合したもの等が挙げられる。なお、α位とは、特に断りがない限り、官能基と隣接した1番目の炭素原子のことをいう。
　ヒドロキシスチレンのα位の水素原子を置換する置換基としては、Ｒαｘと同様のものが挙げられる。
　本明細書及び本特許請求の範囲において、化学式で表される構造によっては、不斉炭素が存在し、エナンチオ異性体（ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ）やジアステレオ異性体（ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ）が存在し得るものがある。その場合は一つの化学式でそれら異性体を代表して表す。それらの異性体は単独で用いてもよいし、混合物として用いてもよい。
　（レジスト組成物）
　本実施形態のレジスト組成物は、露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するものである。
　かかるレジスト組成物は、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）（以下「（Ａ）成分」ともいう）を含有する。
　本実施形態のレジスト組成物においては、（Ａ）成分が露光により酸を発生してもよいし、（Ａ）成分とは別に配合された添加剤成分が露光により酸を発生してもよい。
　本実施形態のレジスト組成物は、具体的には、（１）露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）（以下「（Ｂ）成分」という）をさらに含有するものであってもよく；（２）（Ａ）成分が露光により酸を発生する成分であってもよく；（３）（Ａ）成分が露光により酸を発生する成分であり、かつ、さらに（Ｂ）成分を含有するものであってもよい。
　すなわち、上記（２）及び（３）の場合、（Ａ）成分は、「露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分」となる。（Ａ）成分が露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分である場合、後述する（Ａ１）成分が、露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂であることが好ましい。このような樹脂としては、露光により酸を発生する構成単位を有する高分子化合物を用いることができる。露光により酸を発生する構成単位としては、公知のものを用いることができる。
　本実施形態のレジスト組成物は、上記の中でも、上記（１）の場合であるものが好ましい。すなわち、本実施形態のレジスト組成物は、（Ａ）成分と、（Ｂ）成分とを含有するものであることが好ましい。
　本実施形態のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成し、該レジスト膜に対して選択的露光を行うと、該レジスト膜の露光部では、例えば、（Ｂ）成分から酸が発生し、該酸の作用により（Ａ）成分の現像液に対する溶解性が変化する一方で、該レジスト膜の未露光部では（Ａ）成分の現像液に対する溶解性が変化しないため、露光部と未露光部との間で現像液に対する溶解性の差が生じる。そのため、該レジスト膜を現像すると、該レジスト組成物がポジ型の場合はレジスト膜露光部が溶解除去されてポジ型のレジストパターンが形成され、該レジスト組成物がネガ型の場合はレジスト膜未露光部が溶解除去されてネガ型のレジストパターンが形成される。
　本実施形態のレジスト組成物は、ポジ型レジスト組成物であってもよく、ネガ型レジスト組成物であってもよい。また、本実施形態のレジスト組成物は、レジストパターン形成時の現像処理にアルカリ現像液を用いるアルカリ現像プロセス用であってもよく、該現像処理に有機溶剤を含む現像液（有機系現像液）を用いる溶剤現像プロセス用であってもよい。
　＜（Ａ）成分＞
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ａ）成分は、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ１）（以下「（Ａ１）成分」ともいう）を含む。
　（Ａ１）成分を用いることにより、露光前後で基材成分の極性が変化するため、アルカリ現像プロセスだけでなく、溶剤現像プロセスにおいても、良好な現像コントラストを得ることができる。
　（Ａ）成分としては、該（Ａ１）成分とともに他の高分子化合物及び／又は低分子化合物を併用してもよい。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ａ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　・（Ａ１）成分について
　（Ａ１）成分は、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分である。
　（Ａ１）成分は、下記一般式（ａ０－１）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０１）を有する。
　（Ａ１）成分は、構成単位（ａ０１）に加え、必要に応じてその他構成単位を有するものでもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 ［式中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。Ｌ０１は、２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
　上記一般式（ａ０－１）中、Ｒ０１は、水素原子、炭素原子数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。
　Ｒ０１における炭素原子数１～１０のアルキル基は、炭素原子数１～１０の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～５の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基がより好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。
　炭素原子数１～１０のハロゲン化アルキル基は、前記炭素原子数１～１０のアルキル基の水素原子の一部または全部がハロゲン原子で置換された基である。該ハロゲン原子としては、特にフッ素原子が好ましい。
　Ｒ０１としては、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子又はメチル基がより好ましい。
　上記一般式（ａ０－１）中、Ｌ０１は、２価の連結基としては、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基が挙げられる。
　・置換基を有してもよい２価の炭化水素基：
　Ｌ０１が置換基を有してもよい２価の炭化水素基である場合、該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でもよいし、芳香族炭化水素基でもよい。
　・・Ｌ０１における脂肪族炭化水素基
　脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。該脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
　前記脂肪族炭化水素基としては、直鎖状若しくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、又は構造中に環を含む脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
　・・・直鎖状若しくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基
　該直鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が１～１０であることが好ましく、炭素数１～６がより好ましく、炭素数１～４がさらに好ましく、炭素数１～３が最も好ましい。
　直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］等が挙げられる。
　該分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が２～１０であることが好ましく、炭素数３～６がより好ましく、炭素数３又は４がさらに好ましく、炭素数３が最も好ましい。
　分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。
　前記直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、置換基を有していてもよく、有していなくてもよい。該置換基としては、フッ素原子、フッ素原子で置換された炭素数１～５のフッ素化アルキル基、カルボニル基等が挙げられる。
　・・・構造中に環を含む脂肪族炭化水素基
　該構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、環構造中にヘテロ原子を含む置換基を含んでもよい環状の脂肪族炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を２個除いた基）、前記環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、前記環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。前記直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては前記と同様のものが挙げられる。
　環状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が３～２０であることが好ましく、炭素数３～１２であることがより好ましい。
　環状の脂肪族炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
　環状の脂肪族炭化水素基は、置換基を有してもよいし、有していなくてもよい。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基等が挙げられる。
　前記置換基としてのアルキル基としては、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であることがより好ましい。
　前記置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基がさらに好ましい。
　前記置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
　前記置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
　環状の脂肪族炭化水素基は、その環構造を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよい。該ヘテロ原子を含む置換基としては、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－が好ましい。
　また、環状の脂肪族炭化水素基は、下記一般式（Ｌ－ｒ－１）～（Ｌ－ｒ－７）でそれぞれ表される基のようなラクトン含有環式基であってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 ［式中、Ｒａ’０２１はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、－ＣＯＯＲ０”、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ０”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり；Ｒ０”は水素原子、アルキル基、又は、ラクトン含有環式基であり；Ａ０”は酸素原子（－Ｏ－）もしくは硫黄原子（－Ｓ－）を含んでいてもよい炭素原子数１～５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ｎ０’は０～２の整数であり、ｍ０’は０または１である。＊は、上記一般式（ａ０－１）中のＲ０１が結合している炭素原子との結合手を示す。＊＊は、上記一般式（ａ０－１）中のカルボニル基の炭素原子との結合手を示す。］
　前記一般式（Ｌ－ｒ－１）～（Ｌ－ｒ－７）中、Ｒａ’０２１におけるアルキル基としては、炭素原子数１～６のアルキル基が好ましい。該アルキル基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。
　Ｒａ’０２１におけるアルコキシ基としては、炭素原子数１～６のアルコキシ基が好ましい。該アルコキシ基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。具体的には、前記Ｒａ’０２１におけるアルキル基として挙げたアルキル基と酸素原子（－Ｏ－）とが連結した基が挙げられる。
　Ｒａ’０２１におけるハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
　Ｒａ’０２１におけるハロゲン化アルキル基としては、前記Ｒａ’０２１におけるアルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。該ハロゲン化アルキル基としては、フッ素化アルキル基が好ましく、特にパーフルオロアルキル基が好ましい。
　Ｒａ’０２１における－ＣＯＯＲ０”、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ０”において、Ｒ０”はいずれも水素原子、アルキル基、ラクトン含有環式基である。
　Ｒ０”におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、炭素原子数は１～１５が好ましい。
　Ｒ０”が直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基の場合は、炭素原子数１～１０であることが好ましく、炭素原子数１～５であることがさらに好ましく、メチル基またはエチル基であることが特に好ましい。
　Ｒ０”が環状のアルキル基の場合は、炭素原子数３～１５であることが好ましく、炭素原子数４～１２であることがさらに好ましく、炭素原子数５～１０が最も好ましい。
　Ｒ０”におけるラクトン含有環式基としては、前記一般式（Ｌ－ｒ－１）～（Ｌ－ｒ－７）でそれぞれ表される基と同様のものが挙げられる。
　Ｒａ’０２１におけるヒドロキシアルキル基としては、炭素原子数が１～６であるものが好ましく、具体的には、前記Ｒａ’０２１におけるアルキル基の水素原子の少なくとも１つが水酸基で置換された基が挙げられる。
　前記一般式（Ｌ－ｒ－２）、（Ｌ－ｒ－３）、（Ｌ－ｒ－５）中、Ａ０”における炭素原子数１～５のアルキレン基としては、直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基等が挙げられる。該アルキレン基が酸素原子または硫黄原子を含む場合、その具体例としては、前記アルキレン基の末端または炭素原子間に－Ｏ－または－Ｓ－が介在する基が挙げられ、例えば、－Ｏ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－、－Ｓ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２－等が挙げられる。Ａ０”としては、炭素原子数１～５のアルキレン基または－Ｏ－が好ましい。
　・・Ｌ０１における芳香族炭化水素基
　該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
　この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でもよいし、多環式でもよい。芳香環の炭素数は５～３０であることが好ましく、炭素数５～２０がより好ましく、炭素数６～１５がさらに好ましく、炭素数６～１２が特に好ましい。ただし、該炭素数には、置換基における炭素数を含まないものとする。
　芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
　芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を２つ除いた基（アリーレン基またはヘテロアリーレン基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を２つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基におけるアリール基から水素原子をさらに１つ除いた基）等が挙げられる。前記アリール基またはヘテロアリール基に結合するアルキレン基の炭素数は、１～４であることが好ましく、炭素数１～２であることがより好ましく、炭素数１であることが特に好ましい。
　前記芳香族炭化水素基は、当該芳香族炭化水素基が有する水素原子が置換基で置換されていてもよい。例えば当該芳香族炭化水素基中の芳香環に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基等が挙げられる。
　前記置換基としてのアルキル基としては、炭素数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であることがより好ましい。
　前記置換基としてのアルコキシ基、ハロゲン原子およびハロゲン化アルキル基としては、前記環状の脂肪族炭化水素基が有する水素原子を置換する置換基として例示したものが挙げられる。
　・ヘテロ原子を含む２価の連結基：
　Ｌ０１がヘテロ原子を含む２価の連結基である場合、該連結基として好ましいものとしては、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－（Ｈはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。）、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－、一般式－Ｙ２１－Ｏ－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－、－Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ２１－、－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｙ２２－または－Ｙ２１－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－Ｙ２２－で表される基［式中、Ｙ２１およびＹ２２はそれぞれ独立して置換基を有してもよい２価の炭化水素基であり、Ｏは酸素原子であり、ｍ”は０～３の整数である。］等が挙げられる。
　前記へテロ原子を含む２価の連結基が－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝ＮＨ）－の場合、そのＨはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。該置換基（アルキル基、アシル基等）は、炭素数が１～１０であることが好ましく、１～８であることがさらに好ましく、１～５であることが特に好ましい。
　一般式－Ｙ２１－Ｏ－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－、－Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ２１－、－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－、－Ｙ２１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｙ２２－または－Ｙ２１－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－Ｙ２２－中、Ｙ２１およびＹ２２は、それぞれ独立して、置換基を有してもよい２価の炭化水素基である。該２価の炭化水素基としては、前記Ｌ０１における２価の連結基としての説明で挙げた（置換基を有してもよい２価の炭化水素基）と同様のものが挙げられる。
　Ｙ２１としては、直鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖状のアルキレン基がより好ましく、炭素数１～５の直鎖状のアルキレン基がさらに好ましく、メチレン基またはエチレン基が特に好ましい。
　Ｙ２２としては、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、メチレン基、エチレン基またはアルキルメチレン基がより好ましい。該アルキルメチレン基におけるアルキル基は、炭素数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１～３の直鎖状のアルキル基がより好ましく、メチル基が最も好ましい。
　式－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－で表される基において、ｍ”は０～３の整数であり、０～２の整数であることが好ましく、０または１がより好ましく、１が特に好ましい。つまり、式－［Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ］ｍ”－Ｙ２２－で表される基としては、式－Ｙ２１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ｙ２２－で表される基が特に好ましい。なかでも、式－（ＣＨ２）ａ’－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（ＣＨ２）ｂ’－で表される基が好ましい。該式中、ａ’は、１～１０の整数であり、１～８の整数が好ましく、１～５の整数がより好ましく、１または２がさらに好ましく、１が最も好ましい。ｂ’は、１～１０の整数であり、１～８の整数が好ましく、１～５の整数がより好ましく、１または２がさらに好ましく、１が最も好ましい。
　上記の中でも、Ｌ０１としては、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－］、芳香族炭化水素基、ラクトン含有環式基、又は、これらの組み合わせからなる基を有する２価の連結基であることが好ましい。
　より具体的には、Ｌ０１は、エステル結合とアルキレン基とからなる基、芳香族炭化水素基、又は、エステル結合とラクトン含有環式基とからなる基であることが好ましい。
　該エステル結合とアルキレン基とからなる基におけるアルキレン基としては、炭素原子数１～５の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキレン基であることがより好ましく、メチレン基又はエチレン基であることがさらに好ましい。
　また、該アルキレン基は、置換基を有してもよい。該置換基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基等が挙げられる。
　該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
　この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でもよいし、多環式でもよい。芳香環の炭素数は５～３０であることが好ましく、炭素数５～２０がより好ましく、炭素数６～１５がさらに好ましく、炭素数６～１２が特に好ましい。ただし、該炭素数には、置換基における炭素数を含まないものとする。
　芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
　芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を２つ除いた基（アリーレン基またはヘテロアリーレン基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を２つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基におけるアリール基から水素原子をさらに１つ除いた基）等が挙げられる。前記アリール基またはヘテロアリール基に結合するアルキレン基の炭素数は、１～４であることが好ましく、炭素数１～２であることがより好ましく、炭素数１であることが特に好ましい。
　また、芳香族炭化水素基は、置換基を有してもよい。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基等が挙げられる。
　該芳香族炭化水素基は、上記の中でも、置換基を有してもよいアリーレン基であることが好ましく、置換基を有するアリーレン基であることがより好ましく、水酸基を有するアリーレン基であることがさらに好ましく、水酸基を有するフェニレン基であることが特に好ましい。
　エステル結合とラクトン含有環式基からなる基におけるラクトン含有環式基としては、上記一般式（Ｌ－ｒ－１）～（Ｌ－ｒ－７）でそれぞれ表される基が好ましく、上記一般式（Ｌ－ｒ－２）で表される基がより好ましい。
　上記の中でも、Ｌ０１としては、下記一般式（Ｌ０－ｒ－１）～（Ｌ０－ｒ－５）でそれぞれ表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 ［式中、Ｒｘ００は、それぞれ独立に、アルキレン基である。Ａｒ００は、置換基を有してもよいアリーレン基である。Ｌｃ００は、上記一般式（Ｌ－ｒ－１）～（Ｌ－ｒ－７）のいずれかで表されるラクトン含有環式基である。＊は、上記一般式（ａ０－１）中のＲ０１が結合している炭素原子との結合手を示す。＊＊は、上記一般式（ａ０－１）中のカルボニル基の炭素原子との結合手を示す。］
　Ｒｘ００は、炭素原子数１～５のアルキレン基であることが好ましい。
　Ａｒ００は、置換基を有してもよいアリーレン基であることが好ましく、水酸基を有するアリーレン基であることがより好ましく、水酸基を有するフェニレン基であることがさらに好ましい。
　Ｌｃ００は、上記一般式（Ｌ－ｒ－１）～（Ｌ－ｒ－７）のいずれかで表されるラクトン含有環式基であり、上記一般式（Ｌ－ｒ－２）で表されるラクトン含有環式基であることが好ましい。
　上記の中でも、Ｌ０１としては、上記一般式（Ｌ０－ｒ－３）～（Ｌ０－ｒ－５）のいずれかで表される基であることが好ましく、上記一般式（Ｌ０－ｒ－３）で表される基であることがより好ましい。
　上記一般式（ａ０－１）中、Ｒａ０１及びＲａ０２における炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状の炭化水素基、環状の炭化水素基が挙げられる。
　直鎖状、分岐鎖状の炭化水素基としては、直鎖状若しくは分岐鎖状の飽和炭化水素基（アルキル基）、又は、直鎖状若しくは分岐鎖状の不飽和炭化水素基が挙げられる。
　該直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。
　該直鎖状又は分岐鎖状の不飽和炭化水素基として、より具体的には、アルケニル基、アルカジエニル基、アルカトリエニル基等の２重結合を有する不飽和炭化水素基；アルキニル基、ジアルキンから水素原子を１つ除いた基、トリアルキンから水素原子を１つ除いた基等の３重結合を有する不飽和炭化水素基が挙げられる。
　該直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基の具体例としては、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、２－ブテニル基などの直鎖状アルケニル基；１－メチルビニル基、２－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、２－メチルプロペニル基などの分岐鎖状アルケニル基等が挙げられる。
　該アルカジエニル基の具体例としては、プロパジエニル基及びブタジエニル基等が挙げられる。
　該アルカトリエニル基の具体例としては、ブタトリエニル基等が挙げられる。
　該直鎖状又は分岐鎖状のアルキニル基の具体例としては、エチニル基、プロパルギル基、３－ペンチニル基などの直鎖状のアルキニル基；１－メチルプロパルギル基などの分岐鎖状のアルキニル基等が挙げられる。
　該ジアルキンから水素原子を１つ除いた基の具体例としては、ジアセチレンから水素原子を１つ除いた基等が挙げられる。
　該トリアルキンから水素原子を１つ除いた基の具体例としては、ヘキサ－１，３，５－トリインから水素原子を１つ除いた基等が挙げられる。
　該環状の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよく、また、多環式基でも単環式基でもよい。
　単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロプロパンが挙げられる。
　多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
　該芳香族炭化水素基としては、アリール基またはヘテロアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
　Ｒａ０１及びＲａ０２における炭化水素基が有してもよい置換基としては、例えば、－ＲＰ１、－ＲＰ２－Ｏ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＣＯ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＣＯ－ＯＲＰ１、－ＲＰ２－Ｏ－ＣＯ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＯＨ、－ＲＰ２－ＣＮ又は－ＲＰ２－ＣＯＯＨ（以下これらの置換基をまとめて「Ｒａｘ５」ともいう。）等が挙げられる。
　ここで、ＲＰ１は、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基、炭素原子数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基又は炭素原子数６～３０の１価の芳香族炭化水素基である。また、ＲＰ２は、単結合、炭素原子数１～１０の２価の鎖状飽和炭化水素基、炭素原子数３～２０の２価の脂肪族環状飽和炭化水素基又は炭素原子数６～３０の２価の芳香族炭化水素基である。但し、ＲＰ１及びＲＰ２の鎖状飽和炭化水素基、脂肪族環状飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基の有する水素原子の一部又は全部はフッ素原子で置換されていてもよい。上記脂肪族環状炭化水素基は、上記置換基を１種単独で１つ以上有していてもよいし、上記置換基のうち複数種を各１つ以上有していてもよい。
　炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
　炭素原子数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式脂肪族飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、アダマンチル基等の多環式脂肪族飽和炭化水素基が挙げられる。
　炭素原子数６～３０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン、ビフェニル、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環から水素原子１個を除いた基が挙げられる。
　上記一般式（ａ０－１）中、Ｒａ０１及びＲａ０２としては、上記の中でも、それぞれ独立に、直鎖状若しくは分岐鎖状の飽和炭化水素基、又は、直鎖状若しくは分岐鎖状の不飽和炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状の飽和炭化水素基、又は、炭素原子数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状の不飽和炭化水素基であることがより好ましく、炭素原子数１～５の直鎖状の飽和炭化水素基、又は、炭素原子数１～５の直鎖状の不飽和炭化水素基がさらに好ましく、メチル基、エチル基、エチニル基、又は、ビニル基であることが特に好ましい。
　より具体的には、Ｒａ０１及びＲａ０２がいずれもメチル基、又は、エチル基であるか、Ｒａ０１は、メチル基、又は、エチル基であり、Ｒａ０２は、エチニル基、又は、ビニル基であることが好ましい。
　上記一般式（ａ０－１）中、Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。
　Ａｒ０１におけるアリール基としては、芳香族環から水素原子を１つ除いた基が挙げられる。該芳香族環としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等が挙げられる。
　Ａｒ０１におけるアリール基として、具体的には、フェニル基が好ましい。
　Ａｒ０１におけるヘテロアリール基としては、芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基が挙げられる。該芳香族複素環としては、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
　Ａｒ０１におけるヘテロアリール基として、具体的には、チオフェニル基が好ましい。
　Ａｒ０１におけるアリール基及びヘテロアリール基の水素原子の一部又は全部はヨウ素原子で置換されている。
　該ヨウ素原子の数は、１～５であることが好ましく、１～３であることがより好ましく、２又は３であることがさらに好ましく、３であることが特に好ましい。
　Ａｒ０１におけるアリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基等が挙げられる。
　上記一般式（ａ０－１）中、Ａｒ０１は、上記の中でも、１～３つのヨウ素原子を有するアリール基、又は、１～３つのヨウ素原子を有するヘテロアリール基であることが好ましく、１～３つのヨウ素原子を有するアリール基であることがより好ましく、１～３つのヨウ素原子を有するフェニル基であることがさらに好ましい。
　上記の中でも、前記構成単位（ａ０１）は、下記一般式（ａ０－１－１）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０１１）であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 ［式中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。Ｌ００１は、エステル結合、芳香族炭化水素基、ラクトン含有環式基、又は、これらの組み合わせからなる基を有する２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
　上記一般式（ａ０－１－１）中、Ｒ０１、Ｒａ０１、Ｒａ０２及びＡｒ０１は、上述した一般式（ａ０－１）中のＲ０１、Ｒａ０１、Ｒａ０２及びＡｒ０１とそれぞれ同一である。
　上記一般式（ａ０－１－１）中、Ｌ００１は、エステル結合、芳香族炭化水素基、ラクトン含有環式基、又は、これらの組み合わせからなる基を有する２価の連結基である。該２価の連結基としては、上述した一般式（ａ０－１）中のＬ０１におけるエステル結合、芳香族炭化水素基、ラクトン含有環式基、又は、これらの組み合わせからなる基を有する２価の連結基と同様のものが挙げられる。
　上記一般式（ａ０－１－１）中、Ｌ００１は、上記一般式（Ｌ０－ｒ－１）～（Ｌ０－ｒ－５）でそれぞれ表される基のいずれかであることが好ましく、上記一般式（Ｌ０－ｒ－３）～（Ｌ０－ｒ－５）でそれぞれ表される基のいずれかであることがより好ましく、上記一般式（Ｌ０－ｒ－３）で表される基であることがより好ましい。
　一般式（ａ０－１）で表される化合物の具体例を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　本実施形態のレジスト組成物における構成単位（ａ０１）としては、上記の中でも、上記化学式（ａ０１－０１－１）～（ａ０１－０１－１７）のいずれかで表される化合物から誘導される構成単位であることが好ましく、上記化学式（ａ０１－０１－２）～（ａ０１－０１－９）のいずれかで表される化合物から誘導される構成単位であることがより好ましく、上記化学式（ａ０１－０１－６）、（ａ０１－０１－８）、又は、（ａ０１－０１－９）で表される化合物から誘導される構成単位であることがさらに好ましく、上記化学式（ａ０１－０１－８）、又は、（ａ０１－０１－９）で表される化合物から誘導される構成単位であることが特に好ましい。
　（Ａ１）成分中の構成単位（ａ０１）の割合は、該（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、２０～８０モル％が好ましく、３０～７０モル％がより好ましく、４０～６０モル％がさらに好ましい。
　構成単位（ａ０１）の割合を、前記の好ましい範囲の下限値以上とすることによって、感度及びラフネスの低減性がより向上する。一方、前記の好ましい範囲の上限値以下である場合、すなわち、（Ａ１）成分が構成単位（ａ０１）以外の他の構成単位を有する場合は、後述する他の構成単位とのバランスによりさらにリソグラフィー特性を向上させることができる。
　≪その他構成単位≫
　（Ａ１）成分は、上述した構成単位（ａ０１）に加え、必要に応じてその他構成単位を有するものでもよい。
　その他構成単位としては、例えば、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）；後述の一般式（ａ１０－１）で表される構成単位（ａ１０）；ラクトン含有環式基を含む構成単位（ａ２）；後述の一般式（ａ８－１）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ８）などが挙げられる。
　なお、その他構成単位において、上述した構成単位（ａ０１）に該当するものは除かれる。
　≪構成単位（ａ１）≫
　構成単位（ａ１）は、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位である。
　但し、上述した構成単位（ａ０１）に該当するものは除かれる。
　酸解離性基としては、これまで、化学増幅型レジスト組成物用のベース樹脂の酸解離性基として提案されているものが挙げられる。
　化学増幅型レジスト組成物用のベース樹脂の酸解離性基として提案されているものとして具体的には、以下に説明する「アセタール型酸解離性基」、「第３級アルキルエステル型酸解離性基」、「第３級アルキルオキシカルボニル酸解離性基」、「第２級アルキルエステル型酸解離性基」が挙げられる。
　アセタール型酸解離性基：
　前記極性基のうちカルボキシ基または水酸基を保護する酸解離性基としては、例えば、下記一般式（ａ１－ｒ－１）で表される酸解離性基（以下「アセタール型酸解離性基」ということがある。）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 ［式中、Ｒａ’１、Ｒａ’２は水素原子またはアルキル基である。Ｒａ’３は炭化水素基であって、Ｒａ’３は、Ｒａ’１、Ｒａ’２のいずれかと結合して環を形成してもよい。］
　式（ａ１－ｒ－１）中、Ｒａ’１及びＲａ’２のうち、少なくとも一方が水素原子であることが好ましく、両方が水素原子であることがより好ましい。
　Ｒａ’１又はＲａ’２がアルキル基である場合、該アルキル基としては、上記α置換アクリル酸エステルについての説明で、α位の炭素原子に結合してもよい置換基として挙げたアルキル基と同様のものが挙げられ、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましい。具体的には、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく挙げられる。より具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基などが挙げられ、メチル基またはエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
　式（ａ１－ｒ－１）中、Ｒａ’３の炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は環状の炭化水素基が挙げられる。
　該直鎖状のアルキル基は、炭素原子数が１～５であることが好ましく、炭素原子数が１～４がより好ましく、炭素原子数１または２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基またはｎ－ブチル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
　該分岐鎖状のアルキル基は、炭素原子数が３～１０であることが好ましく、炭素原子数３～５がより好ましい。具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、２，２－ジメチルブチル基等が挙げられ、イソプロピル基であることが好ましい。
　Ｒａ’３が環状の炭化水素基となる場合、該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよく、また、多環式基でも単環式基でもよい。
　単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
　多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
　Ｒａ’３の環状の炭化水素基が芳香族炭化水素基となる場合、該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
　この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素原子数は５～３０であることが好ましく、炭素原子数５～２０がより好ましく、炭素原子数６～１５がさらに好ましく、炭素原子数６～１２が特に好ましい。
　芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
　Ｒａ’３における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を１つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環に結合するアルキレン基の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、炭素原子数１～２であることがより好ましく、炭素原子数１であることが特に好ましい。
　Ｒａ’３における環状の炭化水素基は、置換基を有してもよい。この置換基としては、例えば、上述したＲａｘ５等が挙げられる。
　Ｒａ’３が、Ｒａ’１、Ｒａ’２のいずれかと結合して環を形成する場合、該環式基としては、４～７員環が好ましく、４～６員環がより好ましい。該環式基の具体例としては、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基等が挙げられる。
　第３級アルキルエステル型酸解離性基：
　上記極性基のうち、カルボキシ基を保護する酸解離性基としては、例えば、下記一般式（ａ１－ｒ－２）で表される酸解離性基が挙げられる。
　なお、下記式（ａ１－ｒ－２）で表される酸解離性基のうち、アルキル基により構成されるものを、以下、便宜上「第３級アルキルエステル型酸解離性基」ということがある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 ［式中、Ｒａ’４～Ｒａ’６はそれぞれ炭化水素基であって、Ｒａ’５、Ｒａ’６は互いに結合して環を形成してもよい。］
　Ｒａ’４の炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、鎖状もしくは環状のアルケニル基、又は、環状の炭化水素基が挙げられる。
　Ｒａ’４における直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、環状の炭化水素基（単環式基である脂肪族炭化水素基、多環式基である脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基）は、前記Ｒａ’３と同様のものが挙げられる。
　Ｒａ’４における鎖状もしくは環状のアルケニル基は、炭素原子数２～１０のアルケニル基が好ましい。
　Ｒａ’５、Ｒａ’６の炭化水素基としては、前記Ｒａ’３と同様のものが挙げられる。
　Ｒａ’５とＲａ’６とが互いに結合して環を形成する場合、下記一般式（ａ１－ｒ２－１）で表される基、下記一般式（ａ１－ｒ２－２）で表される基、下記一般式（ａ１－ｒ２－３）で表される基が好適に挙げられる。
　一方、Ｒａ’４～Ｒａ’６が互いに結合せず、独立した炭化水素基である場合、下記一般式（ａ１－ｒ２－４）で表される基が好適に挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 ［式（ａ１－ｒ２－１）中、Ｒａ’１０は、一部がハロゲン原子又はヘテロ原子含有基で置換されていてもよい直鎖状又は分岐鎖状の炭素原子数１～１２のアルキル基を示す。Ｒａ’１１はＲａ’１０が結合した炭素原子と共に脂肪族環式基を形成する基を示す。式（ａ１－ｒ２－２）中、Ｙａは炭素原子である。Ｘａは、Ｙａと共に環状の炭化水素基を形成する基である。この環状の炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ｒａ１０１～Ｒａ１０３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基又は炭素原子数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基である。この鎖状飽和炭化水素基及び脂肪族環状飽和炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ｒａ１０１～Ｒａ１０３の２つ以上が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。式（ａ１－ｒ２－３）中、Ｙａａは炭素原子である。Ｘａａは、Ｙａａと共に脂肪族環式基を形成する基である。Ｒａ１０４は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。式（ａ１－ｒ２－４）中、Ｒａ’１２及びＲａ’１３は、それぞれ独立に、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基である。この鎖状飽和炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ｒａ’１４は、置換基を有してもよい炭化水素基である。＊は結合手を示す（以下、同様）。］
　上記の式（ａ１－ｒ２－１）中、Ｒａ’１０は、一部がハロゲン原子もしくはヘテロ原子含有基で置換されていてもよい直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素原子数１～１２のアルキル基である。
　Ｒａ’１０における、直鎖状のアルキル基としては、炭素原子数１～１２であり、炭素原子数１～１０が好ましく、炭素原子数１～５が特に好ましい。
　Ｒａ’１０における、分岐鎖状のアルキル基としては、前記Ｒａ’３と同様のものが挙げられる。
　Ｒａ’１０におけるアルキル基は、一部がハロゲン原子もしくはヘテロ原子含有基で置換されていてもよい。例えば、アルキル基を構成する水素原子の一部が、ハロゲン原子又はヘテロ原子含有基で置換されていてもよい。また、アルキル基を構成する炭素原子（メチレン基など）の一部が、ヘテロ原子含有基で置換されていてもよい。
　ここでいうヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子が挙げられる。ヘテロ原子含有基としては、（－Ｏ－）、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－等が挙げられる。
　式（ａ１－ｒ２－１）中、Ｒａ’１１（Ｒａ’１０が結合した炭素原子と共に形成する脂肪族環式基）は、式（ａ１－ｒ－１）におけるＲａ’３の単環式基又は多環式基である脂肪族炭化水素基（脂環式炭化水素基）として挙げた基が好ましい。その中でも、単環式の脂環式炭化水素基が好ましく、具体的には、シクロペンチル基、シクロヘキシル基がより好ましい。
　式（ａ１－ｒ２－２）中、ＸａがＹａと共に形成する環状の炭化水素基としては、前記式（ａ１－ｒ－１）中のＲａ’３における環状の１価の炭化水素基（脂肪族炭化水素基）から水素原子１個以上をさらに除いた基が挙げられる。
　ＸａがＹａと共に形成する環状の炭化水素基は、置換基を有してもよい。この置換基としては、上記Ｒａ’３における環状の炭化水素基が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
　式（ａ１－ｒ２－２）中、Ｒａ１０１～Ｒａ１０３における、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
　Ｒａ１０１～Ｒａ１０３における、炭素原子数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式脂肪族飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、アダマンチル基等の多環式脂肪族飽和炭化水素基等が挙げられる。
　Ｒａ１０１～Ｒａ１０３は、中でも、合成容易性の観点から、水素原子、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基が好ましく、その中でも、水素原子、メチル基、エチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。
　上記Ｒａ１０１～Ｒａ１０３で表される鎖状飽和炭化水素基、又は脂肪族環状飽和炭化水素基が有する置換基としては、例えば、上述のＲａｘ５と同様の基が挙げられる。
　Ｒａ１０１～Ｒａ１０３の２つ以上が互いに結合して環状構造を形成することにより生じる炭素－炭素二重結合を含む基としては、例えば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、メチルシクロペンテニル基、メチルシクロヘキセニル基、シクロペンチリデンエテニル基、シクロへキシリデンエテニル基等が挙げられる。これらの中でも、合成容易性の観点から、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロペンチリデンエテニル基が好ましい。
　式（ａ１－ｒ２－３）中、ＸａａがＹａａと共に形成する脂肪族環式基は、式（ａ１－ｒ－１）におけるＲａ’３の単環式基又は多環式基である脂肪族炭化水素基として挙げた基が好ましい。
　式（ａ１－ｒ２－３）中、Ｒａ１０４における芳香族炭化水素基としては、炭素原子数５～３０の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が挙げられる。中でも、Ｒａ１０４は、炭素原子数６～１５の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が好ましく、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン又はフェナントレンから水素原子１個以上を除いた基がより好ましく、ベンゼン、ナフタレン又はアントラセンから水素原子１個以上を除いた基がさらに好ましく、ベンゼン又はナフタレンから水素原子１個以上を除いた基が特に好ましく、ベンゼンから水素原子１個以上を除いた基が最も好ましい。
　式（ａ１－ｒ２－３）中のＲａ１０４が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等）、アルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。
　式（ａ１－ｒ２－４）中、Ｒａ’１２及びＲａ’１３は、それぞれ独立に、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基である。Ｒａ’１２及びＲａ’１３における、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、上記のＲａ１０１～Ｒａ１０３における、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。この鎖状飽和炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。
　Ｒａ’１２及びＲａ’１３は、中でも、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～５のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。
　上記Ｒａ’１２及びＲａ’１３で表される鎖状飽和炭化水素基が置換されている場合、その置換基としては、例えば、上述のＲａｘ５と同様の基が挙げられる。
　式（ａ１－ｒ２－４）中、Ｒａ’１４は、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ｒａ’１４における炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は環状の炭化水素基が挙げられる。
　Ｒａ’１４における直鎖状のアルキル基は、炭素原子数が１～５であることが好ましく、１～４がより好ましく、１又は２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基又はｎ－ブチル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
　Ｒａ’１４における分岐鎖状のアルキル基は、炭素原子数が３～１０であることが好ましく、３～５がより好ましい。具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、２，２－ジメチルブチル基等が挙げられ、イソプロピル基であることが好ましい。
　Ｒａ’１４が環状の炭化水素基となる場合、該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよく、また、多環式基でも単環式基でもよい。
単環式基である脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式基である脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
　Ｒａ’１４における芳香族炭化水素基としては、Ｒａ１０４における芳香族炭化水素基と同様のものが挙げられる。中でも、Ｒａ’１４は、炭素原子数６～１５の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が好ましく、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン又はフェナントレンから水素原子１個以上を除いた基がより好ましく、ベンゼン、ナフタレン又はアントラセンから水素原子１個以上を除いた基がさらに好ましく、ナフタレン又はアントラセンから水素原子１個以上を除いた基が特に好ましく、ナフタレンから水素原子１個以上を除いた基が最も好ましい。
　Ｒａ’１４が有していてもよい置換基としては、Ｒａ１０４が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
　式（ａ１－ｒ２－４）中のＲａ’１４がナフチル基である場合、前記式（ａ１－ｒ２－４）における第３級炭素原子と結合する位置は、ナフチル基の１位又は２位のいずれであってもよい。
　式（ａ１－ｒ２－４）中のＲａ’１４がアントリル基である場合、前記式（ａ１－ｒ２－４）における第３級炭素原子と結合する位置は、アントリル基の１位、２位又は９位のいずれであってもよい。
　前記式（ａ１－ｒ２－１）で表される基の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　前記式（ａ１－ｒ２－２）で表される基の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　前記式（ａ１－ｒ２－３）で表される基の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　前記式（ａ１－ｒ２－４）で表される基の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　第３級アルキルオキシカルボニル酸解離性基：
　前記極性基のうち水酸基を保護する酸解離性基としては、例えば、下記一般式（ａ１－ｒ－３）で表される酸解離性基（以下便宜上「第３級アルキルオキシカルボニル酸解離性基」ということがある）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 ［式中、Ｒａ’７～Ｒａ’９はそれぞれアルキル基である。］
　式（ａ１－ｒ－３）中、Ｒａ’７～Ｒａ’９は、それぞれ炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～３のアルキル基がより好ましい。
　また、各アルキル基の合計の炭素原子数は、３～７であることが好ましく、炭素原子数３～５であることがより好ましく、炭素原子数３～４であることが最も好ましい。
　構成単位（ａ１）としては、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位、アクリルアミドから誘導される構成単位、ヒドロキシスチレン若しくはヒドロキシスチレン誘導体から誘導される構成単位の水酸基における水素原子の少なくとも一部が前記酸分解性基を含む置換基により保護された構成単位、ビニル安息香酸若しくはビニル安息香酸誘導体から誘導される構成単位の－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＨにおける水素原子の少なくとも一部が前記酸分解性基を含む置換基により保護された構成単位等が挙げられる。
　第２級アルキルエステル型酸解離性基：
　上記極性基のうち、カルボキシ基を保護する酸解離性基としては、例えば、下記一般式（ａ１－ｒ－４）で表される酸解離性基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 ［式中、Ｒａ’１０は、炭化水素基である。Ｒａ’１１ａ及びＲａ’１１ｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基である。Ｒａ’１２は、水素原子又は炭化水素基である。Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとは、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂと、Ｒａ’１２とは、互いに結合して環を形成してもよい。］
　式中、Ｒａ’１０及びＲａ’１２における炭化水素基としては、前記Ｒａ’３と同様のものが挙げられる。
　式中、Ｒａ’１１ａ及びＲａ’１１ｂにおけるアルキル基としては、前記Ｒａ’１におけるアルキル基と同様のものが挙げられる。
　式中、Ｒａ’１０及びＲａ’１２における炭化水素基、並びに、Ｒａ’１１ａ及びＲａ’１１ｂにおけるアルキル基は置換基を有してもよい。この置換基としては、例えば、上述したＲａｘ５等が挙げられる。
　Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとは、互いに結合して環を形成してもよい。該環は、多環であっても、単環であってもよく、脂環であっても、芳香環であってもよい。
　該脂環及び芳香環は、ヘテロ原子を含むものでもよい。
　Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとが、互いに結合して形成する環としては、上記の中でも、モノシクロアルケン、モノシクロアルケンの炭素原子の一部がヘテロ原子（酸素原子、硫黄原子等）で置換された環、モノシクロアルカジエンが好ましく、炭素数３～６のシクロアルケンが好ましく、シクロペンテン又はシクロヘキセンが好ましい。
　Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとが、互いに結合して形成する環は、縮合環であってもよい。該縮合環として、具体的には、インダン等が挙げられる。
　Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとが、互いに結合して形成する環は、置換基を有してもよい。この置換基としては、例えば、上述したＲａｘ５等が挙げられる。
　Ｒａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂと、Ｒａ’１２とは、互いに結合して環を形成してもよく、該環としては、Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとが、互いに結合して形成する環と同様のものが挙げられる。
　前記式（ａ１－ｒ－４）で表される基の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　以下に構成単位（ａ１）の具体例を示す。以下の各式中、Ｒαは、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　（Ａ１）成分が有する構成単位（ａ１）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　（Ａ１）成分中の構成単位（ａ１）の割合は、該（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、５０モル％以下が好ましく、０～３０モル％がより好ましい。
　構成単位（ａ１０）について：
　構成単位（ａ１０）は、下記一般式（ａ１０－１）で表される構成単位である。
　但し、上述した構成単位（ａ０１）に該当するものは除かれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 ［式中、Ｒは、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基である。Ｙａｘ１は、単結合又は２価の連結基である。Ｗａｘ１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。ｎａｘ１は、１以上の整数である。］
　前記式（ａ１０－１）中、Ｒは、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基である。
　Ｒとしては、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましく、水素原子が特に好ましい。
　前記式（ａ１０－１）中、Ｙａｘ１は、単結合又は２価の連結基である。
　前記の化学式中、Ｙａｘ１における２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が好適なものとして挙げられる。
　Ｙａｘ１としては、単結合、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－］、エーテル結合（－Ｏ－）、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又はこれらの組合せであることが好ましく、単結合、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－］がより好ましい。
　前記式（ａ１０－１）中、Ｗａｘ１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。
　Ｗａｘ１における芳香族炭化水素基としては、置換基を有してもよい芳香環から（ｎａｘ１＋１）個の水素原子を除いた基が挙げられる。ここでの芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されない。芳香環の炭素原子数は５～３０であることが好ましく、炭素原子数５～２０がより好ましく、炭素原子数６～１５がさらに好ましく、炭素原子数６～１２が特に好ましい。該芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
　また、Ｗａｘ１における芳香族炭化水素基としては、２以上の置換基を有してもよい芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から（ｎａｘ１＋１）個の水素原子を除いた基も挙げられる。
　上記の中でも、Ｗａｘ１としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセンまたはビフェニルから（ｎａｘ１＋１）個の水素原子を除いた基が好ましく、ベンゼン又はナフタレンから（ｎａｘ１＋１）個の水素原子を除いた基がより好ましく、ベンゼンから（ｎａｘ１＋１）個の水素原子を除いた基がさらに好ましい。
　Ｗａｘ１における芳香族炭化水素基は、置換基を有してもよく、有していなくてもよい。前記置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基等が挙げられる。前記置換基としてのアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基としては、Ｙａｘ１における環状の脂肪族炭化水素基の置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。前記置換基は、炭素原子数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、エチル基又はメチル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。Ｗａｘ１における芳香族炭化水素基は、置換基を有していないことが好ましい。
　前記式（ａ１０－１）中、ｎａｘ１は、１以上の整数であり、１～１０の整数が好ましく、１～５の整数がより好ましく、１、２又は３がさらに好ましく、１又は２が特に好ましい。
　以下に、前記式（ａ１０－１）で表される構成単位（ａ１０）の具体例を示す。
　以下の各式中、Ｒαは、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
　（Ａ１）成分が有する構成単位（ａ１０）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　（Ａ１）成分が構成単位（ａ１０）を有する場合、（Ａ１）成分中の構成単位（ａ１０）の割合は、（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、２０～８０モル％が好ましく、３０～７０モル％がより好ましく、３０～６０モル％がさらに好ましい。
　構成単位（ａ１０）の割合を下限値以上とすることにより、感度がより高められやすくなる。一方、上限値以下とすることにより、他の構成単位とのバランスをとりやすくなる。
　構成単位（ａ２）について：
　（Ａ１）成分は、さらに、ラクトン含有環式基を含む構成単位（ａ２）（但し、構成単位（ａ０１）及び（ａ１）に該当するものを除く）を有するものでもよい。
　構成単位（ａ２）のラクトン含有環式基は、（Ａ１）成分をレジスト膜の形成に用いた場合に、レジスト膜の基板への密着性を高める上で有効なものである。また、構成単位（ａ２）を有することで、例えば酸拡散長を適切に調整する、レジスト膜の基板への密着性を高める、現像時の溶解性を適切に調整する等の効果により、リソグラフィー特性等が良好となる。
　「ラクトン含有環式基」とは、その環骨格中に－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環（ラクトン環）を含有する環式基を示す。ラクトン環をひとつ目の環として数え、ラクトン環のみの場合は単環式基、さらに他の環構造を有する場合は、その構造に関わらず多環式基と称する。ラクトン含有環式基は、単環式基であってもよく、多環式基であってもよい。
　構成単位（ａ２）におけるラクトン含有環式基としては、特に限定されることなく任意のものが使用可能である。具体的には、下記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 ［式中、Ｒａ’２１はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、－ＣＯＯＲ”、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり；Ｒ”は水素原子、アルキル基、又は、ラクトン含有環式基であり；Ａ”は酸素原子（－Ｏ－）もしくは硫黄原子（－Ｓ－）を含んでいてもよい炭素原子数１～５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ｎ’は０～２の整数であり、ｍ’は０または１である。＊は結合手を示す（以下、同様）。］
　前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）中、Ｒａ’２１におけるアルキル基としては、炭素原子数１～６のアルキル基が好ましい。該アルキル基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基またはエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
　Ｒａ’２１におけるアルコキシ基としては、炭素原子数１～６のアルコキシ基が好ましい。該アルコキシ基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。具体的には、前記Ｒａ’２１におけるアルキル基として挙げたアルキル基と酸素原子（－Ｏ－）とが連結した基が挙げられる。
　Ｒａ’２１におけるハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
　Ｒａ’２１におけるハロゲン化アルキル基としては、前記Ｒａ’２１におけるアルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。該ハロゲン化アルキル基としては、フッ素化アルキル基が好ましく、特にパーフルオロアルキル基が好ましい。
　Ｒａ’２１における－ＣＯＯＲ”、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”において、Ｒ”はいずれも水素原子、アルキル基、又は、ラクトン含有環式基である。
　Ｒ”におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、炭素原子数は１～１５が好ましい。
　Ｒ”が直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基の場合は、炭素原子数１～１０であることが好ましく、炭素原子数１～５であることがさらに好ましく、メチル基またはエチル基であることが特に好ましい。
　Ｒ”が環状のアルキル基の場合は、炭素原子数３～１５であることが好ましく、炭素原子数４～１２であることがさらに好ましく、炭素原子数５～１０が最も好ましい。具体的には、フッ素原子またはフッ素化アルキル基で置換されていてもよいし、されていなくてもよいモノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基；ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカンなどのポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基などを例示できる。より具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン等のモノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基；アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカンなどのポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基などが挙げられる。
　Ｒ”におけるラクトン含有環式基としては、前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表される基と同様のものが挙げられる。
　Ｒａ’２１におけるヒドロキシアルキル基としては、炭素原子数が１～６であるものが好ましく、具体的には、前記Ｒａ’２１におけるアルキル基の水素原子の少なくとも１つが水酸基で置換された基が挙げられる。
　Ｒａ’２１としては、上記の中でも、それぞれ独立に水素原子又はシアノ基であることが好ましい。
　前記一般式（ａ２－ｒ－２）、（ａ２－ｒ－３）、（ａ２－ｒ－５）中、Ａ”における炭素原子数１～５のアルキレン基としては、直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基等が挙げられる。該アルキレン基が酸素原子または硫黄原子を含む場合、その具体例としては、前記アルキレン基の末端または炭素原子間に－Ｏ－または－Ｓ－が介在する基が挙げられ、例えば、－Ｏ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－、－Ｓ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２－等が挙げられる。Ａ”としては、炭素原子数１～５のアルキレン基または－Ｏ－が好ましく、炭素原子数１～５のアルキレン基がより好ましく、メチレン基が最も好ましい。
　下記に一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表される基の具体例を挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
　構成単位（ａ２）としては、なかでも、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位が好ましい。
　かかる構成単位（ａ２）は、下記一般式（ａ２－１）で表される構成単位であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 ［式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基である。Ｙａ２１は単結合または２価の連結基である。Ｌａ２１は－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮ（Ｒ’）－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨＣＯ－又は－ＣＯＮＨＣＳ－であり、Ｒ’は水素原子またはメチル基を示す。ただしＬａ２１が－Ｏ－の場合、Ｙａ２１は－ＣＯ－にはならない。Ｒａ２１はラクトン含有環式基である。］
　前記式（ａ２－１）中、Ｒは前記と同じである。Ｒとしては、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
　前記式（ａ２－１）中、Ｙａ２１における２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が好適に挙げられる。
　Ｙａ２１としては、単結合、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－］、エーテル結合（－Ｏ－）、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又はこれらの組合せであることが好ましい。
　前記式（ａ２－１）中、Ｙａ２１は、単結合であり、Ｌａ２１は、－ＣＯＯ－、又は、－ＯＣＯ－、であることが好ましい。
　前記式（ａ２－１）中、Ｒａ２１はラクトン含有環式基である。
　Ｒａ２１におけるラクトン含有環式基としてはそれぞれ、前述した一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表される基が好適に挙げられる。
　中でも、前記一般式（ａ２－ｒ－１）、（ａ２－ｒ－２）、又は（ａ２－ｒ－６）でそれぞれ表される基が好ましく、前記一般式（ａ２－ｒ－１）、又は、（ａ２－ｒ－２）で表される基がより好ましい。具体的には、前記化学式（ｒ－ｌｃ－１－１）～（ｒ－ｌｃ－１－７）、（ｒ－ｌｃ－２－１）～（ｒ－ｌｃ－２－１８）、（ｒ－ｌｃ－６－１）でそれぞれ表される、いずれかの基が好ましく、前記化学式（ｒ－ｌｃ－１－１）、（ｒ－ｌｃ－２－１）又は（ｒ－ｌｃ－２－７）でそれぞれ表される、いずれかの基がさらに好ましい。
　（Ａ１）成分が有する構成単位（ａ２）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　（Ａ１）成分が構成単位（ａ２）を有する場合、構成単位（ａ２）の割合は、当該（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、５～８０モル％であることが好ましく、５～７０モル％であることがより好ましく、５～６０モル％であることがさらに好ましい。
　構成単位（ａ２）の割合を好ましい下限値以上とすると、前述した効果によって、構成単位（ａ２）を含有させることによる効果が充分に得られ、上限値以下であると、他の構成単位とのバランスを取ることができ、種々のリソグラフィー特性が良好となる。
　構成単位（ａ８）について：
　構成単位（ａ８）は、下記一般式（ａ８－１）で表される化合物から誘導される構成単位である。
　但し、構成単位（ａ０）に該当するものは除かれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 ［式中、Ｗ２は、重合性基含有基である。Ｙａｘ２は、単結合又は（ｎａｘ２＋１）価の連結基である。Ｙａｘ２とＷ２とは縮合環を形成していてもよい。Ｒ１は炭素数１～１２のフッ素化アルキル基である。Ｒ２はフッ素原子を有してもよい炭素数１～１２の有機基又は水素原子である。Ｒ２及びＹａｘ２は、相互に結合して相互に結合して環構造を形成していてもよい。ｎａｘ２は、１～３の整数である。］
　Ｗ２の重合性基含有基における「重合性基」とは、重合性基を有する化合物がラジカル重合等により重合することを可能とする基であり、例えばエチレン性二重結合などの炭素原子間の多重結合を含む基をいう。
　重合性基含有基としては、重合性基のみから構成される基でもよいし、重合性基と該重合性基以外の他の基とから構成される基でもよい。該重合性基以外の他の基としては、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が挙げられる。
　重合性基含有基としては、例えば、化学式：Ｃ（ＲＸ１１）（ＲＸ１２）＝Ｃ（ＲＸ１３）－Ｙａｘ０－で表される基が好適に挙げられる。
　この化学式中、ＲＸ１１、ＲＸ１２及びＲＸ１３は、それぞれ、水素原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のハロゲン化アルキル基であり、Ｙａｘ０は、単結合または２価の連結基である。
　Ｙａｘ２とＷ２とが形成する縮合環としては、Ｗ２部位の重合性基とＹａｘ２とが形成する縮合環、Ｗ２部位の重合性基以外の他の基とＹａｘ２とが形成する縮合環が挙げられる。
　Ｙａｘ２とＷ２とが形成する縮合環は、置換基を有してもよい。
　以下に、構成単位（ａ８）の具体例を示す。
　下記の式中、Ｒαは、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
　上記例示の中でも、構成単位（ａ８）は、化学式（ａ８－１－０１）～（ａ８－１－０４）、(ａ８－１－０６)、(ａ８－１－０８)、(ａ８－１－０９)、及び、(ａ８－１－１０)でそれぞれ表される構成単位からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、化学式（ａ８－１－０１）～（ａ８－１－０４）、(ａ８－１－０９)でそれぞれ表される構成単位からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましい。
　（Ａ１）成分が有する構成単位（ａ８）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　（Ａ１）成分における構成単位（ａ８）の割合は、当該（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、５０モル％以下であることが好ましく、０～３０モル％であることがより好ましい。
　レジスト組成物が含有する（Ａ１）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ａ１）成分は、構成単位（ａ０１）の繰り返し構造を有する高分子化合物が挙げられる。
　（Ａ１）成分としては、上記の中でも、構成単位（ａ０１）と構成単位（ａ１０）との繰り返し構造を含む高分子化合物が好適に挙げられる。
　より具体的には、（Ａ１）成分としては、構成単位（ａ０１）と構成単位（ａ１０）との繰り返し構造を含む高分子化合物；構成単位（ａ０１）と構成単位（ａ２）との繰り返し構造を含む高分子化合物；構成単位（ａ０１）と構成単位（ａ１０）と構成単位（ａ２）との繰り返し構造を含む高分子化合物が好適に挙げられる。
　構成単位（ａ０１）と構成単位（ａ１０）との繰り返し構造を有する高分子化合物において、構成単位（ａ０１）の割合は、該高分子化合物を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、１０～９０モル％が好ましく、２０～８０モル％がより好ましく、３０～７０モル％がさらに好ましく、４０～６０モル％が特に好ましい。
　また、該高分子化合物中の構成単位（ａ１０）の割合は、該高分子化合物を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、１０～９０モル％が好ましく、２０～８０モル％がより好ましく、３０～７０モル％がさらに好ましく、４０～６０モル％が特に好ましい。
　構成単位（ａ０１）と構成単位（ａ２）との繰り返し構造を有する高分子化合物において、構成単位（ａ０１）の割合は、該高分子化合物を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、１０～９０モル％が好ましく、２０～８０モル％がより好ましく、３０～７０モル％がさらに好ましく、４０～６０モル％が特に好ましい。
　また、該高分子化合物中の構成単位（ａ２）の割合は、該高分子化合物を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、１０～９０モル％が好ましく、２０～８０モル％がより好ましく、３０～７０モル％がさらに好ましく、４０～６０モル％が特に好ましい。
　構成単位（ａ０１）と構成単位（ａ１０）と構成単位（ａ２）との繰り返し構造を有する高分子化合物において、構成単位（ａ０１）の割合は、該高分子化合物を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、１０～９０モル％が好ましく、２０～８０モル％がより好ましく、３０～７０モル％がさらに好ましく、４０～６０モル％が特に好ましい。
　また、該高分子化合物中の構成単位（ａ１０）の割合は、該高分子化合物を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、５～８０モル％が好ましく、１０～７０モル％がより好ましく、２０～６０モル％がさらに好ましく、３０～５０モル％が特に好ましい。
　また、該高分子化合物中の構成単位（ａ２）の割合は、該高分子化合物を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、１～３０モル％が好ましく、３～２０モル％がより好ましく、５～２０モル％がさらに好ましく、５～１５モル％が特に好ましい。
　かかる（Ａ１）成分は、各構成単位を誘導するモノマーを重合溶媒に溶解し、ここに、例えばアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスイソ酪酸ジメチル（例えばＶ－６０１など）等のラジカル重合開始剤を加えて重合することにより製造することができる。
　あるいは、かかる（Ａ１）成分は、構成単位（ａ０１）を誘導するモノマーと、必要に応じて構成単位（ａ０１）以外の構成単位（例えば、構成単位（ａ１０））を誘導するモノマーと、を重合溶媒に溶解し、ここに、上記のようなラジカル重合開始剤を加えて重合し、その後、脱保護反応を行うことにより製造することができる。
　なお、重合の際に、例えば、ＨＳ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｃ（ＣＦ３）２－ＯＨのような連鎖移動剤を併用して用いることにより、末端に－Ｃ（ＣＦ３）２－ＯＨ基を導入してもよい。このように、アルキル基の水素原子の一部がフッ素原子で置換されたヒドロキシアルキル基が導入された共重合体は、現像欠陥の低減やＬＥＲ（ラインエッジラフネス：ライン側壁の不均一な凹凸）の低減に有効である。
　（Ａ１）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算基準）は、特に限定されるものではなく、１０００～５００００が好ましく、２０００～３００００がより好ましく、３０００～２００００がさらに好ましい。
　（Ａ１）成分のＭｗがこの範囲の好ましい上限値以下であると、レジストとして用いるのに充分なレジスト溶剤への溶解性があり、この範囲の好ましい下限値以上であると、耐ドライエッチング性やレジストパターン断面形状が良好である。
　（Ａ１）成分の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、特に限定されず、１．０～４．０が好ましく、１．０～３．０がより好ましく、１．０～２．０が特に好ましい。なお、Ｍｎは数平均分子量を示す。
　・（Ａ２）成分について
　本実施形態のレジスト組成物は、（Ａ）成分として、前記（Ａ１）成分に該当しない、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（以下「（Ａ２）成分」という。）を併用してもよい。
　（Ａ２）成分としては、特に限定されず、化学増幅型レジスト組成物用の基材成分として従来から知られている多数のものから任意に選択して用いればよい。
　（Ａ２）成分は、高分子化合物又は低分子化合物の１種を単独で用いてもよく２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　（Ａ）成分中の（Ａ１）成分の割合は、（Ａ）成分の総質量に対し、２５質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、７５質量％以上がさらに好ましく、１００質量％であってもよい。該割合が２５質量％以上であると、高感度化や解像性、ラフネス改善などの種々のリソグラフィー特性に優れたレジストパターンが形成されやすくなる。
　本実施形態のレジスト組成物中、（Ａ）成分の含有量は、形成しようとするレジスト膜厚等に応じて調整すればよい。
　＜その他成分＞
　本実施形態のレジスト組成物は、上述した（Ａ）成分に加え、その他成分をさらに含有してもよい。その他成分としては、例えば以下に示す（Ｂ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、（Ｓ）成分などが挙げられる。
　≪酸発生剤成分（Ｂ）≫
　本実施形態のレジスト組成物は、さらに、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有することが好ましい。
　（Ｂ）成分としては、特に限定されず、これまで化学増幅型レジスト組成物用の酸発生剤として提案されているものを用いることができる。
　このような酸発生剤としては、ヨードニウム塩やスルホニウム塩などのオニウム塩系酸発生剤、オキシムスルホネート系酸発生剤；ビスアルキル又はビスアリールスルホニルジアゾメタン類、ポリ（ビススルホニル）ジアゾメタン類などのジアゾメタン系酸発生剤；ニトロベンジルスルホネート系酸発生剤、イミノスルホネート系酸発生剤、ジスルホン系酸発生剤など多種のものが挙げられる。
　オニウム塩系酸発生剤としては、例えば、下記の一般式（ｂ－１）で表される化合物（以下「（ｂ－１）成分」ともいう）、一般式（ｂ－２）で表される化合物（以下「（ｂ－２）成分」ともいう）又は一般式（ｂ－３）で表される化合物（以下「（ｂ－３）成分」ともいう）が挙げられる。
　オニウム塩系酸発生剤としては、例えば、下記の一般式（ｂ－１）で表される化合物（以下「（ｂ－１）成分」ともいう）、一般式（ｂ－２）で表される化合物（以下「（ｂ－２）成分」ともいう）又は一般式（ｂ－３）で表される化合物（以下「（ｂ－３）成分」ともいう）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 ［式中、Ｒ１０１及びＲ１０４～Ｒ１０８は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい環式基、置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。Ｒ１０４とＲ１０５とは相互に結合して環構造を形成していてもよい。Ｒ１０２は、炭素数１～５のフッ素化アルキル基又はフッ素原子である。Ｙ１０１は、酸素原子を含む２価の連結基又は単結合である。Ｖ１０１～Ｖ１０３は、それぞれ独立に、単結合、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。Ｌ１０１～Ｌ１０２は、それぞれ独立に、単結合又は酸素原子である。Ｌ１０３～Ｌ１０５は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－である。ｍは１以上の整数であって、Ｍ’ｍ＋はｍ価のオニウムカチオンである。］
　｛アニオン部｝
　・（ｂ－１）成分におけるアニオン
　式（ｂ－１）中、Ｒ１０１は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基である。
　置換基を有してもよい環式基：
　該環式基は、環状の炭化水素基であることが好ましく、該環状の炭化水素基は、芳香族炭化水素基であってもよく、脂肪族炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。また、脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
　Ｒ１０１における芳香族炭化水素基は、芳香環を有する炭化水素基である。該芳香族炭化水素基の炭素原子数は３～３０であることが好ましく、５～３０であることがより好ましく、５～２０がさらに好ましく、６～１５が特に好ましく、６～１０が最も好ましい。但し、該炭素原子数には、置換基における炭素原子数を含まないものとする。
　Ｒ１０１における芳香族炭化水素基が有する芳香環として具体的には、ベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビフェニル、又はこれらの芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環などが挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
　Ｒ１０１における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香環から水素原子を１つ除いた基（アリール基：例えば、フェニル基、ナフチル基など）、前記芳香環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記アルキレン基（アリールアルキル基中のアルキル鎖）の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
　Ｒ１０１における環状の脂肪族炭化水素基は、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基が挙げられる。
　この構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を１個除いた基）、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。
　前記脂環式炭化水素基は、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、３～１２であることがより好ましい。
　前記脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～３０のものが好ましい。中でも、該ポリシクロアルカンとしては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンがより好ましい。
　なかでも、Ｒ１０１における環状の脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンまたはポリシクロアルカンから水素原子を１つ以上除いた基が好ましく、ポリシクロアルカンから水素原子を１つ除いた基がより好ましく、アダマンチル基、ノルボルニル基がさらに好ましく、アダマンチル基が特に好ましい。
　脂環式炭化水素基に結合してもよい、直鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、１～６がより好ましく、１～４がさらに好ましく、１～３が最も好ましい。直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］等が挙げられる。
　脂環式炭化水素基に結合してもよい、分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が２～１０であることが好ましく、３～６がより好ましく、３又は４がさらに好ましく、３が最も好ましい。分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。
　また、Ｒ１０１における環状の炭化水素基は、複素環等のようにヘテロ原子を含んでもよい。具体的には、前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基、下記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される－ＳＯ２－含有環式基、その他下記化学式（ｒ－ｈｒ－１）～（ｒ－ｈｒ－１６）でそれぞれ表される複素環式基が挙げられる。式中＊は、式（ｂ－１）中のＹ１０１に結合する結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 ［式中、Ｒｂ’５１はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、－ＣＯＯＲ”、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり；Ｒ”は水素原子、アルキル基、ラクトン含有環式基、又は、－ＳＯ２－含有環式基であり；Ｂ”は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素原子数１～５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ｎ’は０～２の整数である。＊は結合手を示す。］
　前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－２）中、Ｂ”は、酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素原子数１～５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子である。
Ｂ”としては、炭素原子数１～５のアルキレン基または－Ｏ－が好ましく、炭素原子数１～５のアルキレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。
　前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）中、Ｒｂ’５１はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、－ＣＯＯＲ”、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり、その中でも、それぞれ独立に水素原子又はシアノ基であることが好ましい。
　下記に一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される基の具体例を挙げる。式中の「Ａｃ」は、アセチル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
　Ｒ１０１の環式基における置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。
　置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基が最も好ましい。
　置換基としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
　置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
　置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
　置換基としてのカルボニル基は、環状の炭化水素基を構成するメチレン基（－ＣＨ２－）を置換する基である。
　Ｒ１０１における環状の炭化水素基は、脂肪族炭化水素環と芳香環とが縮合した縮合環を含む縮合環式基であってもよい。前記縮合環としては、例えば、架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンに、１個以上の芳香環が縮合したもの等が挙げられる。前記架橋環系ポリシクロアルカンの具体例としては、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン（ノルボルナン）、ビシクロ［２．２．２］オクタン等のビシクロアルカンが挙げられる。前記縮合環式としては、ビシクロアルカンに２個又は３個の芳香環が縮合した縮合環を含む基が好ましく、ビシクロ［２．２．２］オクタンに２個又は３個の芳香環が縮合した縮合環を含む基がより好ましい。Ｒ１０１における縮合環式基の具体例としては、下記式（ｒ－ｂｒ－１）～（ｒ－ｂｒ－２）で表されるが挙げられる。式中＊は、式（ｂ－１）中のＹ１０１に結合する結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
　Ｒ１０１における縮合環式基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基等が挙げられる。
　前記縮合環式基の置換基としてのアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基は、上記Ｒ１０１における環式基の置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。
　前記縮合環式基の置換基としての芳香族炭化水素基としては、芳香環から水素原子を１つ除いた基（アリール基：例えば、フェニル基、ナフチル基など）、前記芳香環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）、上記式（ｒ－ｈｒ－１）～（ｒ－ｈｒ－６）でそれぞれ表される複素環式基等が挙げられる。
　前記縮合環式基の置換基としての脂環式炭化水素基としては、シクロペンタン、シクロヘキサン等のモノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基；アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基；前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基；前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される－ＳＯ２－含有環式基；前記式（ｒ－ｈｒ－７）～（ｒ－ｈｒ－１６）でそれぞれ表される複素環式基等が挙げられる。
　置換基を有してもよい鎖状のアルキル基：
　Ｒ１０１の鎖状のアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
直鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が１～２０であることが好ましく、１～１５であることがより好ましく、１～１０が最も好ましい。
　分岐鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、３～１５であることがより好ましく、３～１０が最も好ましい。具体的には、例えば、１－メチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基などが挙げられる。
　置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基：
　Ｒ１０１の鎖状のアルケニル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、炭素原子数が２～１０であることが好ましく、２～５がより好ましく、２～４がさらに好ましく、３が特に好ましい。直鎖状のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、ブチニル基などが挙げられる。分岐鎖状のアルケニル基としては、例えば、１－メチルビニル基、２－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、２－メチルプロペニル基などが挙げられる。
　鎖状のアルケニル基としては、上記の中でも、直鎖状のアルケニル基が好ましく、ビニル基、プロペニル基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。
　Ｒ１０１の鎖状のアルキル基またはアルケニル基における置換基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、上記Ｒ１０１における環式基等が挙げられる。
　上記の中でも、Ｒ１０１は、置換基を有してもよい環式基が好ましく、置換基を有してもよい環状の炭化水素基であることがより好ましい。
　環状の炭化水素基として、より具体的には、フェニル基、ナフチル基、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基；前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基；前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される－ＳＯ２－含有環式基が好ましく、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基がより好ましく、アダマンチル基がさらに好ましい。
　式（ｂ－１）中、Ｙ１０１は、単結合または酸素原子を含む２価の連結基である。
　Ｙ１０１が酸素原子を含む２価の連結基である場合、該Ｙ１０１は、酸素原子以外の原子を含有してもよい。酸素原子以外の原子としては、例えば炭素原子、水素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
　酸素原子を含む２価の連結基としては、例えば、酸素原子（エーテル結合：－Ｏ－）、エステル結合（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－）、オキシカルボニル基（－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－）、アミド結合（－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、カーボネート結合（－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－）等の非炭化水素系の酸素原子含有連結基；該非炭化水素系の酸素原子含有連結基とアルキレン基との組み合わせ等が挙げられる。この組み合わせに、さらにスルホニル基（－ＳＯ２－）が連結されていてもよい。かかる酸素原子を含む２価の連結基としては、例えば下記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－７）でそれぞれ表される連結基が挙げられる。なお、下記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－７）において、上記式（ｂ－１）中のＲ１０１と結合するのが、下記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－７）中のＶ’１０１である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 ［式中、Ｖ’１０１は単結合または炭素原子数１～５のアルキレン基であり、Ｖ’１０２は炭素原子数１～３０の２価の飽和炭化水素基である。］
　Ｖ’１０２における２価の飽和炭化水素基は、炭素原子数１～３０のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数１～１０のアルキレン基であることがより好ましく、炭素原子数１～５のアルキレン基であることがさらに好ましい。
　Ｖ’１０１およびＶ’１０２におけるアルキレン基としては、直鎖状のアルキレン基でもよく分岐鎖状のアルキレン基でもよく、直鎖状のアルキレン基が好ましい。
　Ｖ’１０１およびＶ’１０２におけるアルキレン基として、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］；－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；エチレン基［－ＣＨ２ＣＨ２－］；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；トリメチレン基（ｎ－プロピレン基）［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－］；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；テトラメチレン基［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－］；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基；ペンタメチレン基［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－］等が挙げられる。
　また、Ｖ’１０１又はＶ’１０２における前記アルキレン基における一部のメチレン基が、炭素原子数５～１０の２価の脂肪族環式基で置換されていてもよい。当該脂肪族環式基は、前記式（ａ１－ｒ－１）中のＲａ’３の環状の脂肪族炭化水素基（単環式の脂肪族炭化水素基、多環式の脂肪族炭化水素基）から水素原子をさらに１つ除いた２価の基が好ましく、シクロへキシレン基、１，５－アダマンチレン基または２，６－アダマンチレン基がより好ましい。
　Ｙ１０１としては、エステル結合を含む２価の連結基、またはエーテル結合を含む２価の連結基が好ましく、上記式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－５）でそれぞれ表される連結基がより好ましい。
　式（ｂ－１）中、Ｖ１０１は、単結合、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。Ｖ１０１におけるアルキレン基、フッ素化アルキレン基は、炭素原子数１～４であることが好ましい。Ｖ１０１におけるフッ素化アルキレン基としては、Ｖ１０１におけるアルキレン基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された基が挙げられる。なかでも、Ｖ１０１は、単結合、又は炭素原子数１～４のフッ素化アルキレン基であることが好ましく、単結合、又は炭素原子数１～４の直鎖状のフッ素化アルキレン基であることがより好ましい。
　式（ｂ－１）中、Ｒ１０２は、フッ素原子又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基である。Ｒ１０２は、フッ素原子または炭素原子数１～５のパーフルオロアルキル基であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　前記式（ｂ－１）で表されるアニオン部の具体例としては、例えば、Ｙ１０１が単結合となる場合、トリフルオロメタンスルホネートアニオンやパーフルオロブタンスルホネートアニオン等のフッ素化アルキルスルホネートアニオンが挙げられ；Ｙ１０１が酸素原子を含む２価の連結基である場合、下記式（ａｎ－１）～（ａｎ－３）のいずれかで表されるアニオンが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 ［式中、Ｒ”１０１は、置換基を有してもよい脂肪族環式基、上記の化学式（ｒ－ｈｒ－１）～（ｒ－ｈｒ－６）でそれぞれ表される１価の複素環式基、前記式（ｒ－ｂｒ－１）又（ｒ－ｂｒ－２）で表される縮合環式基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルキル基である。Ｒ”１０２は、置換基を有してもよい脂肪族環式基、前記式（ｒ－ｂｒ－１）又（ｒ－ｂｒ－２）で表される縮合環式基、前記一般式（ａ２－ｒ－１）、（ａ２－ｒ－３）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基、又は前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される－ＳＯ２－含有環式基である。Ｒ”１０３は、置換基を有してもよい芳香族環式基、置換基を有してもよい脂肪族環式基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基である。Ｖ”１０１は、単結合、炭素原子数１～４のアルキレン基、又は炭素原子数１～４のフッ素化アルキレン基である。Ｒ１０２は、フッ素原子又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基である。ｖ”はそれぞれ独立に０～３の整数であり、ｑ”はそれぞれ独立に０～２０の整数であり、ｎ”は０または１である。］
　Ｒ”１０１、Ｒ”１０２およびＲ”１０３の置換基を有してもよい脂肪族環式基は、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における環状の脂肪族炭化水素基として例示した基であることが好ましい。前記置換基としては、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における環状の脂肪族炭化水素基を置換してもよい置換基と同様のものが挙げられる。
　Ｒ”１０３における置換基を有してもよい芳香族環式基は、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における環状の炭化水素基における芳香族炭化水素基として例示した基であることが好ましい。前記置換基としては、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における該芳香族炭化水素基を置換してもよい置換基と同様のものが挙げられる。
　Ｒ”１０１における置換基を有してもよい鎖状のアルキル基は、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における鎖状のアルキル基として例示した基であることが好ましい。
　Ｒ”１０３における置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基は、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における鎖状のアルケニル基として例示した基であることが好ましい。
　・（ｂ－２）成分におけるアニオン
　式（ｂ－２）中、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、または置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、それぞれ、式（ｂ－１）中のＲ１０１と同様のものが挙げられる。ただし、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、相互に結合して環を形成していてもよい。
　Ｒ１０４、Ｒ１０５は、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基が好ましく、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のフッ素化アルキル基であることがより好ましい。
　該鎖状のアルキル基の炭素原子数は、１～１０であることが好ましく、より好ましくは炭素原子数１～７、さらに好ましくは炭素原子数１～３である。Ｒ１０４、Ｒ１０５の鎖状のアルキル基の炭素原子数は、上記炭素原子数の範囲内において、レジスト用溶剤への溶解性も良好である等の理由により、小さいほど好ましい。また、Ｒ１０４、Ｒ１０５の鎖状のアルキル基においては、フッ素原子で置換されている水素原子の数が多いほど、酸の強度が強くなり、また、２５０ｎｍ以下の高エネルギー光や電子線に対する透明性が向上するため好ましい。前記鎖状のアルキル基中のフッ素原子の割合、すなわちフッ素化率は、好ましくは７０～１００％、さらに好ましくは９０～１００％であり、最も好ましくは、全ての水素原子がフッ素原子で置換されたパーフルオロアルキル基である。
　式（ｂ－２）中、Ｖ１０２、Ｖ１０３は、それぞれ独立に、単結合、アルキレン基、またはフッ素化アルキレン基であり、それぞれ、式（ｂ－１）中のＶ１０１と同様のものが挙げられる。
　式（ｂ－２）中、Ｌ１０１、Ｌ１０２は、それぞれ独立に単結合又は酸素原子である。
　・（ｂ－３）成分におけるアニオン
　式（ｂ－３）中、Ｒ１０６～Ｒ１０８は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、それぞれ、式（ｂ－１）中のＲ１０１と同様のものが挙げられる。
　式（ｂ－３）中、Ｌ１０３～Ｌ１０５は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－である。
　上記の中でも、（Ｂ）成分のアニオン部としては、（ｂ－１）成分におけるアニオンが好ましい。
　｛カチオン部｝
　前記の式（ｂ－１）、式（ｂ－２）、式（ｂ－３）中、Ｍ’ｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンを表す。この中でも、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオンが好ましい。
　ｍは、１以上の整数である。
　好ましいカチオン部（（Ｍ’ｍ＋）１／ｍ）としては、下記の一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－３）でそれぞれ表される有機カチオンが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 ［式中、Ｒ２０１～Ｒ２０７は、それぞれ独立に置換基を有してもよいアリール基、アルキル基またはアルケニル基を表す。Ｒ２０１～Ｒ２０３、Ｒ２０６～Ｒ２０７は、相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Ｒ２０８～Ｒ２０９は、それぞれ独立に水素原子または炭素原子数１～５のアルキル基を表す。Ｒ２１０は、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、又は置換基を有してもよい－ＳＯ２－含有環式基である。Ｌ２０１は、－Ｃ（＝Ｏ）－または－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－を表す。］
　上記の一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－３）中、Ｒ２０１～Ｒ２０７におけるアリール基としては、炭素原子数６～２０の無置換のアリール基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
　Ｒ２０１～Ｒ２０７におけるアルキル基としては、鎖状又は環状のアルキル基であって、炭素原子数１～３０のものが好ましい。
　Ｒ２０１～Ｒ２０７におけるアルケニル基としては、炭素原子数が２～１０であることが好ましい。
　Ｒ２０１～Ｒ２０７、およびＲ２１０が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アミノ基、アリール基、下記の一般式（ｃａ－ｒ－１）～（ｃａ－ｒ－７）でそれぞれ表される基等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 ［式中、Ｒ’２０１は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基である。］
　置換基を有してもよい環式基：
　該環式基は、環状の炭化水素基であることが好ましく、該環状の炭化水素基は、芳香族炭化水素基であってもよく、脂肪族炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。また、脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
　Ｒ’２０１における芳香族炭化水素基は、芳香環を有する炭化水素基である。該芳香族炭化水素基の炭素原子数は３～３０であることが好ましく、炭素原子数５～３０がより好ましく、炭素原子数５～２０がさらに好ましく、炭素原子数６～１５が特に好ましく、炭素原子数６～１０が最も好ましい。ただし、該炭素原子数には、置換基における炭素原子数を含まないものとする。
　Ｒ’２０１における芳香族炭化水素基が有する芳香環として具体的には、ベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビフェニル、又はこれらの芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環などが挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
　Ｒ’２０１における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香環から水素原子を１つ除いた基（アリール基：例えばフェニル基、ナフチル基など）、前記芳香環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えばベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記アルキレン基（アリールアルキル基中のアルキル鎖）の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、炭素原子数１～２がより好ましく、炭素原子数１が特に好ましい。
　Ｒ’２０１における環状の脂肪族炭化水素基は、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基が挙げられる。
　この構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を１個除いた基）、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。
　前記脂環式炭化水素基は、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、３～１２であることがより好ましい。
　前記脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～３０のものが好ましい。中でも、該ポリシクロアルカンとしては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンがより好ましい。
　なかでも、Ｒ’２０１における環状の脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンまたはポリシクロアルカンから水素原子を１つ以上除いた基が好ましく、ポリシクロアルカンから水素原子を１つ除いた基がより好ましく、アダマンチル基、ノルボルニル基が特に好ましく、アダマンチル基が最も好ましい。
　脂環式炭化水素基に結合してもよい、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、炭素原子数１～６がより好ましく、炭素原子数１～４がさらに好ましく、炭素原子数１～３が特に好ましい。
　直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］等が挙げられる。
　分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。
　また、Ｒ’２０１における環状の炭化水素基は、複素環等のようにヘテロ原子を含んでもよい。具体的には、前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基、前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される－ＳＯ２－含有環式基、その他上記の化学式（ｒ－ｈｒ－１）～（ｒ－ｈｒ－１６）でそれぞれ表される複素環式基が挙げられる。
　Ｒ’２０１の環式基における置換基としては、たとえば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。
　置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基が最も好ましい。
　置換基としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
　置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
　置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
　置換基としてのカルボニル基は、環状の炭化水素基を構成するメチレン基（－ＣＨ２－）を置換する基である。
　置換基を有してもよい鎖状のアルキル基：
　Ｒ’２０１の鎖状のアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
　直鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が１～２０であることが好ましく、炭素原子数１～１５であることがより好ましく、炭素原子数１～１０が最も好ましい。
　分岐鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、炭素原子数３～１５であることがより好ましく、炭素原子数３～１０が最も好ましい。具体的には、例えば、１－メチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基などが挙げられる。
　置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基：
　Ｒ’２０１の鎖状のアルケニル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、炭素原子数が２～１０であることが好ましく、炭素原子数２～５がより好ましく、炭素原子数２～４がさらに好ましく、炭素原子数３が特に好ましい。直鎖状のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、ブチニル基などが挙げられる。分岐鎖状のアルケニル基としては、例えば、１－メチルビニル基、２－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、２－メチルプロペニル基などが挙げられる。
　鎖状のアルケニル基としては、上記の中でも、直鎖状のアルケニル基が好ましく、ビニル基、プロペニル基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。
　Ｒ’２０１の鎖状のアルキル基またはアルケニル基における置換基としては、たとえば、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、上記Ｒ’２０１における環式基等が挙げられる。
　Ｒ’２０１の置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基は、上述したものの他、置換基を有してもよい環式基又は置換基を有してもよい鎖状のアルキル基として、上述の式（ａ１－ｒ－２）で表される酸解離性基と同様のものも挙げられる。
　なかでも、Ｒ’２０１は、置換基を有してもよい環式基が好ましく、置換基を有してもよい環状の炭化水素基であることがより好ましい。より具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基；前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基；前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される－ＳＯ２－含有環式基などが好ましい。
　上記の一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－３）中、Ｒ２０１～Ｒ２０３、Ｒ２０６～Ｒ２０７は、相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成する場合、硫黄原子、酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子や、カルボニル基、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＳＯ３－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－または－Ｎ（ＲＮ）－（該ＲＮは炭素原子数１～５のアルキル基である。）等の官能基を介して結合してもよい。形成される環としては、式中のイオウ原子をその環骨格に含む１つの環が、イオウ原子を含めて、３～１０員環であることが好ましく、５～７員環であることが特に好ましい。形成される環の具体例としては、例えばチオフェン環、チアゾール環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾチオフェン環、９Ｈ－チオキサンテン環、チオキサントン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、テトラヒドロチオフェニウム環、テトラヒドロチオピラニウム環等が挙げられる。
　Ｒ２０８～Ｒ２０９は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数１～５のアルキル基を表し、水素原子又は炭素原子数１～３のアルキル基が好ましく、アルキル基となる場合、相互に結合して環を形成してもよい。
　Ｒ２１０は、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、又は置換基を有してもよい－ＳＯ２－含有環式基である。
　Ｒ２１０におけるアリール基としては、炭素原子数６～２０の無置換のアリール基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
　Ｒ２１０におけるアルキル基としては、鎖状又は環状のアルキル基であって、炭素原子数１～３０のものが好ましい。
　Ｒ２１０におけるアルケニル基としては、炭素原子数が２～１０であることが好ましい。
　Ｒ２１０における、置換基を有してもよい－ＳＯ２－含有環式基としては、「－ＳＯ２－含有多環式基」が好ましく、上記一般式（ｂ５－ｒ－１）で表される基がより好ましい。
　前記式（ｃａ－１）で表される好適なカチオンとして具体的には、下記の化学式（ｃａ－１－１）～（ｃａ－１－７０）でそれぞれ表されるカチオンが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 ［式中、ｇ１、ｇ２、ｇ３は繰返し数を示し、ｇ１は１～５の整数であり、ｇ２は０～２０の整数であり、ｇ３は０～２０の整数である。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
 ［式中、Ｒ”２０１は水素原子又は置換基であって、該置換基としては前記Ｒ２０１～Ｒ２０７、およびＲ２１０～Ｒ２１２が有していてもよい置換基として挙げたものと同様である。］
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ｂ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　レジスト組成物が（Ｂ）成分を含有する場合、レジスト組成物中、（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、５０質量部未満が好ましく、１０～４０質量部がより好ましく、２０～４０質量部がさらに好ましい。
　（Ｂ）成分の含有量を、前記の好ましい範囲とすることで、パターン形成が十分に行われる。また、レジスト組成物の各成分を有機溶剤に溶解した際、均一な溶液が得られやすく、レジスト組成物としての保存安定性が良好となるため好ましい。
　≪塩基成分（Ｄ）≫
　本実施形態のレジスト組成物は、（Ａ）成分に加えて、さらに、露光により発生する酸をトラップ（すなわち、酸の拡散を制御）する塩基成分（以下「（Ｄ）成分」ともいう）を含有することが好ましい。（Ｄ）成分は、レジスト組成物において露光により発生する酸をトラップするクエンチャー（酸拡散制御剤）として作用するものである。
　（Ｄ）成分としては、例えば、露光により分解して酸拡散制御性を失う光崩壊性塩基（Ｄ１）（以下「（Ｄ１）成分」という。）、該（Ｄ１）成分に該当しない含窒素有機化合物（Ｄ２）（以下「（Ｄ２）成分」という。）等が挙げられる。これらの中でも、ラフネス低減性を高められやすいことから、光崩壊性塩基（（Ｄ１）成分）が好ましい。また、（Ｄ１）成分を含有させることで、高感度化、塗布欠陥の発生の抑制の特性をいずれも高めやすくなる。
　・（Ｄ１）成分について
　（Ｄ１）成分を含有するレジスト組成物とすることで、レジストパターンを形成する際に、レジスト膜の露光部と未露光部とのコントラストをより向上させることができる。
　（Ｄ１）成分としては、露光により分解して酸拡散制御性を失うものであれば特に限定されず、下記一般式（ｄ１－１）で表される化合物（以下「（ｄ１－１）成分」という。）、下記一般式（ｄ１－２）で表される化合物（以下「（ｄ１－２）成分」という。）及び下記一般式（ｄ１－３）で表される化合物（以下「（ｄ１－３）成分」という。）からなる群より選ばれる１種以上の化合物が好ましい。
　（ｄ１－１）～（ｄ１－３）成分は、レジスト膜の露光部においては分解して酸拡散制御性（塩基性）を失うためクエンチャーとして作用せず、レジスト膜の未露光部においてクエンチャーとして作用する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
 ［式中、Ｒｄ１～Ｒｄ４は置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基である。但し、式（ｄ１－２）中のＲｄ２における、Ｓ原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子は結合していないものとする。Ｙｄ１は単結合又は２価の連結基である。ｍは１以上の整数であって、Ｍｍ＋はそれぞれ独立にｍ価の有機カチオンである。］
　｛（ｄ１－１）成分｝
　・・アニオン部
　式（ｄ１－１）中、Ｒｄ１は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、それぞれ前記Ｒ’２０１と同様のものが挙げられる。
　これらのなかでも、Ｒｄ１としては、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、置換基を有してもよい脂肪族環式基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルキル基が好ましい。これらの基が有していてもよい置換基としては、水酸基、オキソ基、アルキル基、アリール基、フッ素原子、フッ素化アルキル基、上記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基、エーテル結合、エステル結合、またはこれらの組み合わせが挙げられる。エーテル結合やエステル結合を置換基として含む場合、アルキレン基を介していてもよく、この場合の置換基としては、上記式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－５）でそれぞれ表される連結基が好ましい。なお、Ｒｄ１における芳香族炭化水素基、脂肪族環式基、又は鎖状のアルキル基が、置換基として、上記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－７）でそれぞれ表される連結基を有する場合、上記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－７）において、式（ｄ３－１）中のＲｄ１における芳香族炭化水素基、脂肪族環式基、又は鎖状のアルキル基を構成する炭素原子に結合するのが、上記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－７）中のＶ’１０１である。
　前記芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビシクロオクタン骨格を含む多環構造（ビシクロオクタン骨格とこれ以外の環構造とからなる多環構造）が好適に挙げられる。
　前記脂肪族環式基としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基であることがより好ましい。
　前記鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の直鎖状のアルキル基；１－メチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基等の分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。
　前記鎖状のアルキル基が置換基としてフッ素原子又はフッ素化アルキル基を有するフッ素化アルキル基である場合、フッ素化アルキル基の炭素原子数は、１～１１が好ましく、１～８がより好ましく、１～４がさらに好ましい。該フッ素化アルキル基は、フッ素原子以外の原子を含有してもよい。フッ素原子以外の原子としては、例えば酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
　以下に（ｄ１－１）成分のアニオン部の好ましい具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
　・・カチオン部
　式（ｄ１－１）中、Ｍｍ＋は、ｍ価の有機カチオンである。
　Ｍｍ＋の有機カチオンとしては、前記一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－３）でそれぞれ表されるカチオンと同様のものが好適に挙げられ、前記一般式（ｃａ－１）で表されるカチオンがより好ましく、前記式（ｃａ－１－１）～（ｃａ－１－１１３）でそれぞれ表されるカチオンがさらに好ましい。
　（ｄ１－１）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　｛（ｄ１－２）成分｝
　・・アニオン部
　式（ｄ１－２）中、Ｒｄ２は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、前記Ｒ’２０１と同様のものが挙げられる。
　但し、Ｒｄ２における、Ｓ原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子は結合していない（フッ素置換されていない）ものとする。これにより、（ｄ１－２）成分のアニオンが適度な弱酸アニオンとなり、（Ｄ）成分としてのクエンチング能が向上する。
　Ｒｄ２としては、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい脂肪族環式基であることが好ましく、置換基を有してもよい脂肪族環式基であることがより好ましい。
　該鎖状のアルキル基としては、炭素原子数１～１０であることが好ましく、３～１０であることがより好ましい。
　該脂肪族環式基としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等から１個以上の水素原子を除いた基（置換基を有してもよい）；カンファーから１個以上の水素原子を除いた基であることがより好ましい。
　Ｒｄ２の炭化水素基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記式（ｄ１－１）のＲｄ１における炭化水素基（芳香族炭化水素基、脂肪族環式基、鎖状のアルキル基）が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
　以下に（ｄ１－２）成分のアニオン部の好ましい具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
　・・カチオン部
　式（ｄ１－２）中、Ｍｍ＋は、ｍ価の有機カチオンであり、前記式（ｄ１－１）中のＭｍ＋と同様である。
　（ｄ１－２）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　｛（ｄ１－３）成分｝
　・・アニオン部
　式（ｄ１－３）中、Ｒｄ３は置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、前記Ｒ’２０１と同様のものが挙げられ、フッ素原子を含む環式基、鎖状のアルキル基、又は鎖状のアルケニル基であることが好ましい。中でも、フッ素化アルキル基が好ましく、前記Ｒｄ１のフッ素化アルキル基と同様のものがより好ましい。
　式（ｄ１－３）中、Ｒｄ４は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、前記Ｒ’２０１と同様のものが挙げられる。
　なかでも、置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、環式基であることが好ましい。
　Ｒｄ４におけるアルキル基は、炭素原子数１～５の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。Ｒｄ４のアルキル基の水素原子の一部が水酸基、シアノ基等で置換されていてもよい。
　Ｒｄ４におけるアルコキシ基は、炭素原子数１～５のアルコキシ基が好ましく、炭素原子数１～５のアルコキシ基として具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基が挙げられる。なかでも、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
　Ｒｄ４におけるアルケニル基は、前記Ｒ’２０１におけるアルケニル基と同様のものが挙げられ、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、１－メチルプロペニル基、２－メチルプロペニル基が好ましい。これらの基はさらに置換基として、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基を有していてもよい。
　Ｒｄ４における環式基は、前記Ｒ’２０１における環式基と同様のものが挙げられ、シクロペンタン、シクロヘキサン、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた脂環式基、又は、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基が好ましい。Ｒｄ４が脂環式基である場合、レジスト組成物が有機溶剤に良好に溶解することにより、リソグラフィー特性が良好となる。また、Ｒｄ４が芳香族基である場合、ＥＵＶ等を露光光源とするリソグラフィーにおいて、該レジスト組成物が光吸収効率に優れ、感度やリソグラフィー特性が良好となる。
　式（ｄ１－３）中、Ｙｄ１は、単結合または２価の連結基である。
　Ｙｄ１における２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有してもよい２価の炭化水素基（脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基）、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が挙げられる。これらはそれぞれ、上記式（ａ２－１）中のＹａ２１における２価の連結基についての説明のなかで挙げた、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基と同様のものが挙げられる。
　Ｙｄ１としては、カルボニル基、エステル結合、アミド結合、アルキレン基又はこれらの組み合わせであることが好ましい。アルキレン基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることがより好ましく、メチレン基又はエチレン基であることがさらに好ましい。
　以下に（ｄ１－３）成分のアニオン部の好ましい具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
　・・カチオン部
　式（ｄ１－３）中、Ｍｍ＋は、ｍ価の有機カチオンであり、前記式（ｄ１－１）中のＭｍ＋と同様である。
　（ｄ１－３）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　（Ｄ１）成分は、上記（ｄ１－１）～（ｄ１－３）成分のいずれか１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　レジスト組成物が（Ｄ１）成分を含有する場合、レジスト組成物中、（Ｄ１）成分の含有量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、０．５～２５質量部が好ましく、１～２０質量部がより好ましく、３～１５質量部がさらに好ましい。
　（Ｄ１）成分の含有量が好ましい下限値以上であると、特に良好なリソグラフィー特性及びレジストパターン形状が得られやすい。一方、上限値以下であると、感度を良好に維持でき、スループットにも優れる。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ｄ１）成分は、上記（ｄ１－１）成分を含むことが好ましい。
　本実施形態のレジスト組成物が含有する（Ｄ）成分全体のうち、（ｄ１－１）成分の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましく、（Ｄ）成分は化合物（ｄ１－１）成分のみからなるものであってもよい。
　（Ｄ１）成分の製造方法：
　前記の（ｄ１－１）成分、（ｄ１－２）成分の製造方法は、特に限定されず、公知の方法により製造することができる。
　また、（ｄ１－３）成分の製造方法は、特に限定されず、例えば、ＵＳ２０１２－０１４９９１６号公報に記載の方法と同様にして製造される。
　・（Ｄ２）成分について
　（Ｄ）成分としては、上記の（Ｄ１）成分に該当しない含窒素有機化合物成分（以下「（Ｄ２）成分」という。）を含有してもよい。
　（Ｄ２）成分としては、酸拡散制御剤として作用するもので、かつ、（Ｄ１）成分に該当しないものであれば特に限定されず、公知のものから任意に用いればよい。なかでも、脂肪族アミンが好ましく、この中でも特に第２級脂肪族アミンや第３級脂肪族アミンがより好ましい。
　脂肪族アミンとは、１つ以上の脂肪族基を有するアミンであり、該脂肪族基は炭素原子数が１～１２であることが好ましい。
　脂肪族アミンとしては、アンモニアＮＨ３の水素原子の少なくとも１つを、炭素原子数１２以下のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基で置換したアミン（アルキルアミンもしくはアルキルアルコールアミン）又は環式アミンが挙げられる。
　アルキルアミンおよびアルキルアルコールアミンの具体例としては、ｎ－ヘキシルアミン、ｎ－ヘプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、ｎ－ノニルアミン、ｎ－デシルアミン等のモノアルキルアミン；ジエチルアミン、ジ－ｎ－プロピルアミン、ジ－ｎ－ヘプチルアミン、ジ－ｎ－オクチルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジアルキルアミン；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ－ｎ－プロピルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、トリ－ｎ－ペンチルアミン、トリ－ｎ－ヘキシルアミン、トリ－ｎ－ヘプチルアミン、トリ－ｎ－オクチルアミン、トリ－ｎ－ノニルアミン、トリ－ｎ－デシルアミン、トリ－ｎ－ドデシルアミン等のトリアルキルアミン；ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ジ－ｎ－オクタノールアミン、トリ－ｎ－オクタノールアミン等のアルキルアルコールアミンが挙げられる。これらの中でも、炭素原子数６～３０のトリアルキルアミンがさらに好ましく、トリ－ｎ－ペンチルアミン又はトリ－ｎ－オクチルアミンが特に好ましい。
　環式アミンとしては、例えば、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環化合物が挙げられる。該複素環化合物としては、単環式のもの（脂肪族単環式アミン）であっても多環式のもの（脂肪族多環式アミン）であってもよい。
　脂肪族単環式アミンとして、具体的には、ピペリジン、ピペラジン等が挙げられる。
　脂肪族多環式アミンとしては、炭素原子数が６～１０のものが好ましく、具体的には、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、ヘキサメチレンテトラミン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等が挙げられる。
　その他の脂肪族アミンとしては、トリス（２－メトキシメトキシエチル）アミン、トリス｛２－（２－メトキシエトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（２－メトキシエトキシメトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（１－メトキシエトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（１－エトキシエトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（１－エトキシプロポキシ）エチル｝アミン、トリス［２－｛２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル］アミン、トリエタノールアミントリアセテート等が挙げられ、トリエタノールアミントリアセテートが好ましい。
　また、（Ｄ２）成分としては、芳香族アミンを用いてもよい。
　芳香族アミンとしては、４－ジメチルアミノピリジン、ピロール、インドール、ピラゾール、イミダゾールまたはこれらの誘導体、トリベンジルアミン、２，６－ジイソプロピルアニリン、Ｎ－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルピロリジン、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン等が挙げられる。
　上記の中でも、（Ｄ２）成分は、アルキルアミンであることが好ましく、炭素原子数６～３０のトリアルキルアミンがより好ましい。
　（Ｄ２）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　レジスト組成物が（Ｄ２）成分を含有する場合、レジスト組成物中、（Ｄ２）成分の含有量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、０．０１～５質量部が好ましく、０．１～５質量部がより好ましく、０．５～５質量部がさらに好ましい。
　（Ｄ２）成分の含有量が好ましい下限値以上であると、特に良好なリソグラフィー特性及びレジストパターン形状が得られやすい。一方、上限値以下であると、感度を良好に維持でき、スループットにも優れる。
　≪有機カルボン酸、並びにリンのオキソ酸及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ｅ）≫
　本実施形態のレジスト組成物には、感度劣化の防止や、レジストパターン形状、引き置き経時安定性等の向上の目的で、任意の成分として、有機カルボン酸、並びにリンのオキソ酸及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ｅ）（以下「（Ｅ）成分」という）を含有させることができる。
　有機カルボン酸として、具体的には、酢酸、マロン酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、サリチル酸等が挙げられ、その中でも、サリチル酸が好ましい。
　リンのオキソ酸としては、リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸等が挙げられ、これらの中でも特にホスホン酸が好ましい。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ｅ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　レジスト組成物が（Ｅ）成分を含有する場合、（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．０１～５質量部が好ましく、０．０５～３質量部がより好ましい。上記範囲とすることにより、リソグラフィー特性がより向上する。
　≪フッ素添加剤成分（Ｆ）≫
　本実施形態のレジスト組成物は、疎水性樹脂としてフッ素添加剤成分（以下「（Ｆ）成分」という）を含有してもよい。（Ｆ）成分は、レジスト膜に撥水性を付与するために使用され、（Ａ）成分とは別の樹脂として用いられることでリソグラフィー特性を向上させることができる。　（Ｆ）成分としては、例えば、特開２０１０－００２８７０号公報、特開２０１０－０３２９９４号公報、特開２０１０－２７７０４３号公報、特開２０１１－１３５６９号公報、特開２０１１－１２８２２６号公報に記載の含フッ素高分子化合物を用いることができる。
　（Ｆ）成分としてより具体的には、下記一般式（ｆ１－１）で表される構成単位（ｆ１）を有する重合体が挙げられる。この重合体としては、下記式（ｆ１－１）で表される構成単位（ｆ１）のみからなる重合体（ホモポリマー）；該構成単位（ｆ１）と前記構成単位（ａ１）との共重合体；該構成単位（ｆ１）とアクリル酸又はメタクリル酸から誘導される構成単位と前記構成単位（ａ１）との共重合体であることが好ましく、該構成単位（ｆ１）と前記構成単位（ａ１）との共重合体であることがより好ましい。ここで、該構成単位（ｆ１）と共重合される前記構成単位（ａ１）としては、１－エチル－１－シクロオクチル（メタ）アクリレートから誘導される構成単位、１－メチル－１－アダマンチル（メタ）アクリレートから誘導される構成単位が好ましく、１－エチル－１－シクロオクチル（メタ）アクリレートから誘導される構成単位がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 ［式中、Ｒは前記と同様であり、Ｒｆ１０２およびＲｆ１０３はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基を表し、Ｒｆ１０２およびＲｆ１０３は同じであっても異なっていてもよい。ｎｆ１は０～５の整数であり、Ｒｆ１０１はフッ素原子を含む有機基である。］
　式（ｆ１－１）中、α位の炭素原子に結合したＲは、前記と同様である。Ｒとしては、水素原子またはメチル基が好ましい。
　式（ｆ１－１）中、Ｒｆ１０２およびＲｆ１０３のハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。Ｒｆ１０２およびＲｆ１０３の炭素原子数１～５のアルキル基としては、上記Ｒの炭素原子数１～５のアルキル基と同様のものが挙げられ、メチル基またはエチル基が好ましい。Ｒｆ１０２およびＲｆ１０３の炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基として、具体的には、炭素原子数１～５のアルキル基の水素原子の一部または全部が、ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。該ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。なかでもＲｆ１０２およびＲｆ１０３としては、水素原子、フッ素原子、又は炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、水素原子、フッ素原子、メチル基、またはエチル基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
　式（ｆ１－１）中、ｎｆ１は０～５の整数であり、０～３の整数が好ましく、１又は２であることがより好ましい。
　式（ｆ１－１）中、Ｒｆ１０１は、フッ素原子を含む有機基であり、フッ素原子を含む炭化水素基であることが好ましい。
　フッ素原子を含む炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状または環状のいずれであってもよく、炭素原子数は１～２０であることが好ましく、炭素原子数１～１５であることがより好ましく、炭素原子数１～１０が特に好ましい。
　また、フッ素原子を含む炭化水素基は、当該炭化水素基における水素原子の２５％以上がフッ素化されていることが好ましく、５０％以上がフッ素化されていることがより好ましく、６０％以上がフッ素化されていることが、浸漬露光時のレジスト膜の疎水性が高まることから特に好ましい。
　なかでも、Ｒｆ１０１としては、炭素原子数１～６のフッ素化炭化水素基がより好ましく、トリフルオロメチル基、－ＣＨ２－ＣＦ３、－ＣＨ２－ＣＦ２－ＣＦ３、－ＣＨ（ＣＦ３）２、－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＦ３、－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＦ２－ＣＦ２－ＣＦ２－ＣＦ３が特に好ましい。
　（Ｆ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算基準）は、１０００～５００００が好ましく、５０００～４００００がより好ましく、１００００～３００００が最も好ましい。この範囲の上限値以下であると、レジストとして用いるのにレジスト用溶剤への充分な溶解性があり、この範囲の下限値以上であると、レジスト膜の撥水性が良好である。
　（Ｆ）成分の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．０～５．０が好ましく、１．０～３．０がより好ましく、１．０～２．５が最も好ましい。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ｆ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　レジスト組成物が（Ｆ）成分を含有する場合、（Ｆ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．５～１０質量部であることが好ましく、１～１０質量部であることがより好ましい。
　≪有機溶剤成分（Ｓ）≫
　本実施形態のレジスト組成物は、レジスト材料を有機溶剤成分（以下「（Ｓ）成分」という）に溶解させて製造することができる。
　（Ｓ）成分としては、使用する各成分を溶解し、均一な溶液とすることができるものであればよく、従来、化学増幅型レジスト組成物の溶剤として公知のものの中から任意のものを適宜選択して用いることができる。
　（Ｓ）成分としては、例えば、γ－ブチロラクトン等のラクトン類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチル－ｎ－ペンチルケトン、メチルイソペンチルケトン、２－ヘプタノンなどのケトン類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールなどの多価アルコール類；エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、またはジプロピレングリコールモノアセテート等のエステル結合を有する化合物、前記多価アルコール類または前記エステル結合を有する化合物のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル等のモノアルキルエーテルまたはモノフェニルエーテル等のエーテル結合を有する化合物等の多価アルコール類の誘導体［これらの中では、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）が好ましい］；ジオキサンのような環式エーテル類や、乳酸メチル、乳酸エチル（ＥＬ）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチルなどのエステル類；アニソール、エチルベンジルエーテル、クレジルメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ペンチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、トルエン、キシレン、シメン、メシチレン等の芳香族系有機溶剤、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等が挙げられる。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ｓ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上の混合溶剤として用いてもよい。なかでも、ＰＧＭＥＡ、ＰＧＭＥ、γ－ブチロラクトン、ＥＬ、シクロヘキサノンが好ましい。
　また、（Ｓ）成分としては、ＰＧＭＥＡと極性溶剤とを混合した混合溶剤も好ましい。その配合比（質量比）は、ＰＧＭＥＡと極性溶剤との相溶性等を考慮して適宜決定すればよいが、好ましくは１：９～９：１、より好ましくは２：８～８：２の範囲内とすることが好ましい。
　より具体的には、極性溶剤としてＥＬ又はシクロヘキサノンを配合する場合は、ＰＧＭＥＡ：ＥＬ又はシクロヘキサノンの質量比は、好ましくは１：９～９：１、より好ましくは２：８～８：２である。また、極性溶剤としてＰＧＭＥを配合する場合は、ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥの質量比は、好ましくは１：９～９：１、より好ましくは２：８～８：２、さらに好ましくは３：７～７：３である。さらに、ＰＧＭＥＡとＰＧＭＥとシクロヘキサノンとの混合溶剤も好ましい。
　また、（Ｓ）成分として、その他には、ＰＧＭＥＡ及びＥＬの中から選ばれる少なくとも１種とγ－ブチロラクトンとの混合溶剤も好ましい。この場合、混合割合としては、前者と後者との質量比が、好ましくは７０：３０～９５：５とされる。
　（Ｓ）成分の使用量は、特に限定されず、基板等に塗布可能な濃度で、塗布膜厚に応じて適宜設定される。一般的にはレジスト組成物の固形分濃度が０．１～２０質量％、好ましくは０．２～１５質量％の範囲内となるように（Ｓ）成分は用いられる。
　本実施形態のレジスト組成物は、上記レジスト材料を（Ｓ）成分に溶解させた後、ポリイミド多孔質膜、ポリアミドイミド多孔質膜等を用いて、不純物等の除去を行ってもよい。例えば、ポリイミド多孔質膜からなるフィルター、ポリアミドイミド多孔質膜からなるフィルター、ポリイミド多孔質膜及びポリアミドイミド多孔質膜からなるフィルター等を用いて、レジスト組成物の濾過を行ってもよい。前記ポリイミド多孔質膜及び前記ポリアミドイミド多孔質膜としては、例えば、特開２０１６－１５５１２１号公報に記載のもの等が例示される。
　以上説明した本実施形態のレジスト組成物は、上述した構成単位（ａ０１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する。
　構成単位（ａ０１）は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基を有する。構成単位（ａ０１）は、ヨウ素原子を有するため、ＥＵＶ（極端紫外線）及びＥＢ（電子線）の吸収効率が高い。
　さらに、構成単位（ａ０１）は、側鎖に２価の連結基を有する。そのため、該構成単位（ａ０１）を有する樹脂成分（Ａ１）は、側鎖に２価の連結基を有さない構成単位を有する樹脂成分と比較して、樹脂成分の３次元構造が異なり、現像液の溶解性が高められている。
　したがって、樹脂成分（Ａ１）を含有する本実施形態のレジスト組成物は、高感度化が図れ、ラフネスの低減性が良好なレジストパターンを形成することができると推測される。
　（レジストパターン形成方法）
　本発明の第２の態様に係るレジストパターン形成方法は、支持体上に、上述した本発明の第１の態様に係るレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記露光後のレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を有する方法である。
　かかるレジストパターン形成方法の一実施形態としては、例えば以下のようにして行うレジストパターン形成方法が挙げられる。
　まず、上述した実施形態のレジスト組成物を、支持体上にスピンナー等で塗布し、ベーク（ポストアプライベーク（ＰＡＢ））処理を、例えば８０～１５０℃の温度条件にて４０～１２０秒間、好ましくは６０～９０秒間施してレジスト膜を形成する。
　次に、該レジスト膜に対し、例えば電子線描画装置、ＡｒＦ露光装置等の露光装置を用いて、所定のパターンが形成されたマスク（マスクパターン）を介した露光またはマスクパターンを介さない電子線の直接照射による描画等による選択的露光を行った後、ベーク（ポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ））処理を、例えば８０～１５０℃の温度条件にて４０～１２０秒間、好ましくは６０～９０秒間施す。
　次に、前記レジスト膜を現像処理する。現像処理は、アルカリ現像プロセスの場合は、アルカリ現像液を用い、溶剤現像プロセスの場合は、有機溶剤を含有する現像液（有機系現像液）を用いて行う。
　現像処理後、好ましくはリンス処理を行う。リンス処理は、アルカリ現像プロセスの場合は、純水を用いた水リンスが好ましく、溶剤現像プロセスの場合は、有機溶剤を含有するリンス液を用いることが好ましい。
　溶剤現像プロセスの場合、前記現像処理またはリンス処理の後に、パターン上に付着している現像液またはリンス液を、超臨界流体により除去する処理を行ってもよい。
　現像処理後またはリンス処理後、乾燥を行う。また、場合によっては、上記現像処理後にベーク処理（ポストベーク）を行ってもよい。
　このようにして、レジストパターンを形成することができる。
　支持体としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えば、電子部品用の基板や、これに所定の配線パターンが形成されたもの等が挙げられる。より具体的には、シリコンウェーハ、銅、クロム、鉄、アルミニウム等の金属製の基板や、ガラス基板等が挙げられる。配線パターンの材料としては、例えば銅、アルミニウム、ニッケル、金等が使用可能である。
　露光に用いる波長は、特に限定されず、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、Ｆ２エキシマレーザー、ＥＵＶ（極端紫外線）、ＶＵＶ（真空紫外線）、ＥＢ（電子線）、Ｘ線、軟Ｘ線等の放射線を用いて行うことができる。前記レジスト組成物は、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＢまたはＥＵＶ用としての有用性が高く、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＢまたはＥＵＶ用としての有用性がより高く、ＥＢまたはＥＵＶ用としての有用性が特に高い。すなわち、本実施形態のレジストパターン形成方法は、レジスト膜を露光する工程が、前記レジスト膜に、ＥＵＶ（極端紫外線）又はＥＢ（電子線）を露光する操作を含む場合に特に有用な方法である。
　レジスト膜の露光方法は、空気や窒素等の不活性ガス中で行う通常の露光（ドライ露光）であってもよく、液浸露光（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）であってもよい。
　液浸露光は、予めレジスト膜と露光装置の最下位置のレンズ間を、空気の屈折率よりも大きい屈折率を有する溶媒（液浸媒体）で満たし、その状態で露光（浸漬露光）を行う露光方法である。
　液浸媒体としては、空気の屈折率よりも大きく、かつ、露光されるレジスト膜の屈折率よりも小さい屈折率を有する溶媒が好ましく、例えば、水、フッ素系不活性液体、シリコン系溶剤、炭化水素系溶剤等が挙げられる。
　液浸媒体としては、水が好ましく用いられる。
　アルカリ現像プロセスで現像処理に用いるアルカリ現像液としては、例えば０．１～１０質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液が挙げられる。
　溶剤現像プロセスで現像処理に用いる有機系現像液が含有する有機溶剤としては、（Ａ）成分（露光前の（Ａ）成分）を溶解し得るものであればよく、公知の有機溶剤の中から適宜選択できる。具体的には、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、ニトリル系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤等の極性溶剤、炭化水素系溶剤等が挙げられる。
　エステル系溶剤としては、例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、酢酸アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチル－３－エトキシプロピオネート、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸ブチル、蟻酸プロピル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸プロピル、ブタン酸ブチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、酢酸イソアミル、イソ酪酸イソブチル、及び、プロピオン酸ブチルが挙げられる。
　ニトリル系溶剤としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、バレロニトリル、ブチロニトリル等が挙げられる。
　有機系現像液には、必要に応じて公知の添加剤を配合できる。該添加剤としては、例えば界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、特に限定されないが、例えばイオン性や非イオン性のフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤等を用いることができる。界面活性剤としては、非イオン性の界面活性剤が好ましく、非イオン性のフッ素系界面活性剤、又は非イオン性のシリコン系界面活性剤がより好ましい。
　界面活性剤を配合する場合、その配合量は、有機系現像液の全量に対して、通常０．００１～５質量％であり、０．００５～２質量％が好ましく、０．０１～０．５質量％がより好ましい。
　現像処理は、公知の現像方法により実施することが可能であり、例えば現像液中に支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、支持体表面に現像液を表面張力によって盛り上げて一定時間静止する方法（パドル法）、支持体表面に現像液を噴霧する方法（スプレー法）、一定速度で回転している支持体上に一定速度で現像液塗出ノズルをスキャンしながら現像液を塗出し続ける方法（ダイナミックディスペンス法）等が挙げられる。
　溶剤現像プロセスで現像処理後のリンス処理に用いるリンス液が含有する有機溶剤としては、例えば前記有機系現像液に用いる有機溶剤として挙げた有機溶剤のうち、レジストパターンを溶解しにくいものを適宜選択して使用できる。通常、炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤およびエーテル系溶剤から選択される少なくとも１種類の溶剤を使用する。これらのなかでも、炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤及びアミド系溶剤から選択される少なくとも１種類が好ましく、アルコール系溶剤およびエステル系溶剤から選択される少なくとも１種類がより好ましく、アルコール系溶剤が特に好ましい。
　リンス液に用いるアルコール系溶剤は、炭素原子数６～８の１価アルコールが好ましく、該１価アルコールは直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよい。具体的には、１－ヘキサノール、１－ヘプタノール、１－オクタノール、２－ヘキサノール、２－ヘプタノール、２－オクタノール、３－ヘキサノール、３－ヘプタノール、３－オクタノール、４－オクタノール、ベンジルアルコール等が挙げられる。これらのなかでも、１－ヘキサノール、２－ヘプタノール、２－ヘキサノールが好ましく、１－ヘキサノール、２－ヘキサノールがより好ましい。
　これらの有機溶剤は、いずれか１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、上記以外の有機溶剤や水と混合して用いてもよい。但し、現像特性を考慮すると、リンス液中の水の配合量は、リンス液の全量に対し、３０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下がさらに好ましく、３質量％以下が特に好ましい。
　リンス液には、必要に応じて公知の添加剤を配合できる。該添加剤としては、例えば界面活性剤が挙げられる。界面活性剤は、前記と同様のものが挙げられ、非イオン性の界面活性剤が好ましく、非イオン性のフッ素系界面活性剤、又は非イオン性のシリコン系界面活性剤がより好ましい。
　界面活性剤を配合する場合、その配合量は、リンス液の全量に対して、通常０．００１～５質量％であり、０．００５～２質量％が好ましく、０．０１～０．５質量％がより好ましい。
　リンス液を用いたリンス処理（洗浄処理）は、公知のリンス方法により実施できる。該リンス処理の方法としては、例えば一定速度で回転している支持体上にリンス液を塗出し続ける方法（回転塗布法）、リンス液中に支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、支持体表面にリンス液を噴霧する方法（スプレー法）等が挙げられる。
　以上説明した本実施形態のレジストパターン形成方法によれば、上述したレジスト組成物が用いられているため、高感度化が図れ、ラフネスの低減性が良好なレジストパターンを形成することができる。
　上述した実施形態のレジスト組成物、及び、上述した実施形態のパターン形成方法において使用される各種材料（例えば、レジスト溶剤、現像液、リンス液、反射防止膜形成用組成物、トップコート形成用組成物など）は、金属、ハロゲンを含む金属塩、酸、アルカリ、硫黄原子又はリン原子を含む成分等の不純物を含まないことが好ましい。ここで、金属原子を含む不純物としては、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｌｉ、またはこれらの塩などを挙げることができる。これら材料に含まれる不純物の含有量としては、２００ｐｐｂ以下が好ましく、１ｐｐｂ以下がより好ましく、１００ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）以下が更に好ましく、１０ｐｐｔ以下が特に好ましく、実質的に含まないこと（測定装置の検出限界以下であること）が最も好ましい。
　（化合物）
　本発明の第３の態様に係る化合物は、下記一般式（ａ０－１）で表される、化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 ［式中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。Ｌ０１は、２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
　本実施形態の一般式（ａ０－１）で表される化合物は、本発明の第１の態様に係るレジスト組成物における一般式（ａ０－１）で表される化合物と同一である。
　本実施形態の化合物は、下記一般式（ａ０－１－１）で表される、化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 ［式中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。Ｌ００１は、エステル結合、芳香族炭化水素基、ラクトン含有環式基、又は、これらの組み合わせからなる基を有する２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
　本実施形態の一般式（ａ０－１－１）で表される化合物は、本発明の第１の態様に係るレジスト組成物における一般式（ａ０－１－１）で表される化合物と同一である。
　（化合物の製造方法）
　本実施形態の化合物は、例えば、下記一般式（Ｃ０－１）で表される化合物と、下記一般式（ＡＬ０－１）で表される化合物とのエステル化反応で製造することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
 ［式中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。Ｌ０１は、２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
　上記エステル化反応の温度条件は、特に限定されず、例えば－１０～１２０℃程度である。
　上記エステル化反応の反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
　上記エステル化反応で用いる反応溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、プロピオニトリル、Ｎ，Ｎ’－ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
　また、上記エステル化反応では、縮合剤及び塩基性触媒を用いてもよい。
　縮合剤として、具体的には、Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’－ジイソプロピルカルボジイミド、１－エチル－３－（３－ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）等が挙げられる。
　塩基性触媒としては、具体的には、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどの三級アミン類、ピリジン、ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、ピロリジノピリジンなどの芳香族アミン類、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）等が挙げられる。
　上記一般式（Ｃ０－１）で表される化合物は、求電子性を向上させ、反応性を高めるために、カルボン酸塩化物であってもよい。すなわち、上記一般式（Ｃ０－１）で表される化合物における水酸基が塩素原子で置換されていてもよい。
　反応終了後、反応液中の一般式（ａ０－１）で表される化合物を単離、精製してもよい。
　単離、精製には、従来公知の方法が利用でき、例えば濃縮、溶媒抽出、蒸留、結晶化、再結晶、クロマトグラフィー等をいずれか単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて用いることができる。
　上記のようにして得られた化合物の構造は、１Ｈ－核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトル法、１３Ｃ－ＮＭＲスペクトル法、１９Ｆ－ＮＭＲスペクトル法、赤外線吸収（ＩＲ）スペクトル法、質量分析（ＭＳ）法、元素分析法、Ｘ線結晶回折法等の一般的な有機分析法により確認できる。
　＜一般式（ＡＬ０－１）で表される化合物の合成＞
　上記式（ＡＬ０－１）で表される化合物は、市販品を用いてもよいし、合成してもよい。
　例えば、以下に示すように、下記一般式（ＡＬ０－１ｐｒｅ）で表されるケトンと、Ｒａ０２ＭｇＢｒで表されるような有機マグネシウムハロゲン化物とを反応させるグリニャール反応により、上記式（ＡＬ０－１）で表される化合物を合成してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 ［式中、Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
　上記グリニャール反応で用いる反応溶媒としては、上記エステル化反応で用いる反応溶媒と同様のものが挙げられる。
　上記グリニャール反応の温度条件は、特に限定されず、例えば－１０～１２０℃程度である。
　上記グリニャール反応の反応時間は、特に限定されず、例えば１～７２時間程度である。
　また、上記式（ＡＬ０－１）で表される化合物は、強塩基（カリウムヘキサメチルジシラジド（ＫＨＭＤＳ）等）の存在下で、ヨウ素原子を有する芳香族化合物と、ケトンとの求核付加反応により合成してもよい。
　また、上記式（ＡＬ０－１）で表される化合物と他の化合物とを反応させて、該化合物とは異なる上記式（ＡＬ０－１）で表される化合物を合成してもよい。
　例えば、上記式（ＡＬ０－１）で表される化合物と５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸無水物とを反応させて、下記一般式（ＡＬ０－１’）で表される化合物を合成してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
 ［式中、Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
　以上説明した本実施形態の化合物は、後述する第４の態様に係る樹脂を製造するために有用である。
　本発明の第４の態様は、上記一般式（ａ０－１）で表される化合物から誘導される構成単位を有する、樹脂である。
　本発明の第４の態様に係る樹脂は、上述した（Ａ１）成分と同一である。
　本発明の第４の態様に係る樹脂は、レジスト組成物に有用な樹脂である。
　以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
　＜化合物の合成例＞
　［中間体の合成例］
　・中間体ＡＬ－１の合成
　４－ヨードアセトフェノン（ＡＣ－１）２０ｇをＴＨＦ８０ｇに溶解させ、メチルマグネシウムブロミド（ＴＨＦ溶液、１．０ｍｏｌ／Ｌ）２００ｍＬに対し、０℃以下で滴下し、２時間撹拌した。その後、飽和塩化アンモニウム１００ｇを加えて反応を停止し、酢酸エチル２００ｇで抽出した。得られた有機層の溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することで中間体ＡＬ－１を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
　・中間体ＡＬ－２の合成
　メチルマグネシウムブロミド溶液を、等モルのエチニルマグネシウムブロミド溶液に変更したこと以外は、中間体ＡＬ－１と同様の製造方法で中間体ＡＬ－２を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
　・中間体ＡＬ－３の合成
　フラスコに２－ヨードチオフェン（ＡＣ－２）２５ｇを加え、ＴＨＦ１５０ｇに溶解させた後、０．６Ｍ　ＫＨＭＤＳトルエン溶液（２４０．７ｇ）を－３０℃以下で滴下し、０℃以下で３０分撹拌した。その後、アセトン（１０．０ｇ）を０℃以下で滴下し、３時間撹拌した。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液１００ｇを滴下し、反応を停止し、酢酸エチル（２００ｇ）で抽出した。その後、溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することで中間体ＡＬ－３を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
　・中間体ＡＬ－４の合成
　２，４，６－トリヨードアセトフェノン（ＡＣ－３）２０ｇをＴＨＦ１２０ｇに溶解させ、メチルマグネシウムブロミド（ＴＨＦ溶液、１．０ｍｏｌ／Ｌ）８０ｍＬに対し、０℃以下で滴下し、２時間撹拌した。その後、飽和塩化アンモニウム１００ｇを加えて反応を停止し、酢酸エチル２００ｇで抽出した。得られた有機層の溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することで中間体ＡＬ－４を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
　・中間体ＡＬ－５の合成
　メチルマグネシウムブロミド溶液を、等モルのビニルマグネシウムブロミド溶液に変更したこと以外は、ＡＬ－４と同様の製造方法でＡＬ－５を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
　・中間体ＡＬ－６の合成
　５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸無水物（２０ｇ）を三口フラスコに入れ、ＴＨＦ（２００ｇ）を加え、溶解させた。次に、ＡＬ－１（３５ｇ）およびＮａＨ（３．５ｇ）を加え、室温で４時間撹拌した。次に、飽和塩化アンモニウム水溶液（２００ｇ）を加えて、反応を終了させた。次に、酢酸エチル４００ｇで抽出し、有機溶媒を留去した。得られた濃縮物を酢酸エチル３００ｇに溶解させ、アセトン（３５ｇ）、炭酸水素ナトリウム（１９ｇ）、オキソン（９０ｇ）を加え、８時間撹拌した。反応液に純水３００ｇを入れて反応を停止させ、酢酸エチル１２０ｇを加えて抽出し、溶媒を留去した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで中間体ＡＬ－６を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
　・中間体ＡＬ－７の合成
　５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸無水物を、等モルのｅｘｏ－３，６－エポキシ－１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物に変更したこと以外は、ＡＬ－６と同様の製造方法でＡＬ－７を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
　［化合物（ａ０－０１－１）の合成例］
　中間体ＡＬ－１（２５ｇ）をフラスコに加え、ジクロロメタン（２５０ｇ）に溶解させた。次いで、グリコール酸メタクリレート（１９ｇ）、トリエチルアミン（１８ｇ）、ＤＭＡＰ（６５０ｍｇ）を添加した後、ジイソプロピルカルボジイミド（２１ｇ）を滴下し、４時間撹拌した。反応液を濾過し、濾液を１％塩酸および純水で洗浄した後、有機溶剤を留去し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することで、化合物（ａ０－０１－１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
　得られた化合物（ａ０－０１－１）はＮＭＲ測定（ＣＤＣｌ３）を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　δ（ｐｐｍ）＝７．６６（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．１１（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），６．４０－６．５０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ２，２Ｈ），５．０９（ｓ，ＣＨ２，２Ｈ），２．０１（ｓ，ＣＨ３，３Ｈ），１．５８（ｓ，ＣＨ３，ＣＨ３，６Ｈ）。
　［化合物（ａ０－０１－２）の合成例］
　グリコール酸メタクリレートを、等モルの４－ビニル安息香酸に変更したこと以外は、化合物（ａ０－０１－１）と同様の製造方法で、化合物（ａ０－０１－２）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
　得られた化合物（ａ０－０１－２）はＮＭＲ測定（ＣＤＣｌ３）を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　δ（ｐｐｍ）＝７．７０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．５９（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．４５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．０８（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），６．７２（ｄｄ，Ｃ＝ＣＨ，１Ｈ），５．５０－５．７５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ２，２Ｈ），１．５８（ｓ，ＣＨ３，ＣＨ３，６Ｈ）。
　［化合物（ａ０－０１－３）の合成例］
　中間体ＡＬ－６（２５ｇ）をＴＨＦ２５０ｇに溶解させ、０℃に冷却し、トリエチルアミン（９ｇ）とメタクリル酸クロリド（８ｇ）を滴下した。室温に戻し、５時間撹拌した後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｇ）を加えて反応を停止し、ｔ－ブチルメチルエーテル（１５０ｇ）で抽出した。得られた有機層の溶媒を留去し、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することで、化合物（ａ０－０１－３）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
　得られた化合物（ａ０－０１－３）はＮＭＲ測定（ＣＤＣｌ３）を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　δ（ｐｐｍ）＝７．７０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．１０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），６．２０－６．４０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ２，２Ｈ），５．０５－５．１０（ｍ，Ｃ－ＣＨ，Ｃ－ＣＨ，２Ｈ），２．７０－３．００（ｍ，Ｃ－ＣＨ，Ｃ－ＣＨ，２Ｈ）２．５０－２．７０（ｍ，Ｃ－Ｈ，Ｃ－Ｈ，２Ｈ），２．００－２．３０（ｍ，ＣＨ２，２Ｈ），１．９５（ｓ，ＣＨ３，３Ｈ），１．５８（ｓ，ＣＨ３，ＣＨ３，６Ｈ）。
　［化合物（ａ０－０１－４）の合成例］
　中間体ＡＬ－１を、等モルの中間体ＡＬ－２に変更したこと以外は、化合物（ａ０－０１－２）と同様の製造方法で、化合物（ａ０－０１－４）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
　得られた化合物（ａ０－０１－４）はＮＭＲ測定（ＣＤＣｌ３）を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　δ（ｐｐｍ）＝７．７０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．５９（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．４５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．０８（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），６．７２（ｄｄ，Ｃ＝ＣＨ，１Ｈ），５．５０－５．７５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ２，２Ｈ），３．６５（ｓ，Ｃ≡ＣＨ，１Ｈ），１．６０（ｓ，ＣＨ３，３Ｈ）。
　［化合物（ａ０－０１－５）の合成例］
　中間体ＡＬ－１を、等モルの中間体ＡＬ－３に変更したこと以外は、化合物（ａ０－０１－２）と同様の製造方法で、化合物（ａ０－０１－５）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
　得られた化合物（ａ０－０１－５）はＮＭＲ測定（ＣＤＣｌ３）を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　δ（ｐｐｍ）＝７．７０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．４７（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．４５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｃ＝ＣＨ，１Ｈ），６．６０－６．７５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），５．７５（ｄｄ，Ｃ＝ＣＨ，１Ｈ），５．２３（ｄｄ，Ｃ＝ＣＨ，１Ｈ）１．６０（ｓ，ＣＨ３，ＣＨ３，６Ｈ）。
　［化合物（ａ０－０１－６）の合成例］
　ＡＬ－１（２５ｇ）をフラスコに加え、ジクロロメタン（２５０ｇ）で溶解させた後、５－ビニルサリチル酸（１５ｇ）、ＣＤＩ（１７ｇ）、ＤＢＵ（１３ｇ）を加え、６時間撹拌した。続いて、反応液に１％クエン酸（２００ｇ）加えて、反応を停止し、有機層を抽出した後、純水で洗浄した。有機溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで化合物（ａ０－０１－６）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
　得られた化合物（ａ０－０１－６）はＮＭＲ測定（ＣＤＣｌ３）を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　δ（ｐｐｍ）＝８．８０（ｓ，－ＯＨ，１Ｈ），７．６５－７．５５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，３Ｈ），７．２０－６．６０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，５Ｈ），５．３０－５．８５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ２，２Ｈ），１．６１（ｓ，ＣＨ３，ＣＨ３，６Ｈ）。
　［化合物（ａ０－０１－７）の合成例］
　中間体ＡＬ－６を、等モルの中間体ＡＬ－７に変更したこと以外は、化合物（ａ０－０１－３）と同様の製造方法で、化合物（ａ０－０１－７）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
　得られた化合物（ａ０－０１－７）はＮＭＲ測定（ＣＤＣｌ３）を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　δ（ｐｐｍ）＝７．７０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），７．１０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），６．２０－６．５０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ２，２Ｈ），５．１５－５．４０（ｍ，Ｃ－ＣＨ，Ｃ－ＣＨ，２Ｈ），４．４０－４．７０（ｍ，Ｃ－ＣＨ，Ｃ－ＣＨ，２Ｈ）３．００－３．２０（ｍ，Ｃ－Ｈ，Ｃ－Ｈ，２Ｈ），２．０５（ｓ，ＣＨ３，３Ｈ），１．６６（ｓ，ＣＨ３，ＣＨ３，６Ｈ）。
　［化合物（ａ０－０１－８）の合成例］
　中間体ＡＬ－１を、等モルの中間体ＡＬ－４に変更したこと以外は、化合物（ａ０－０１－６）と同様の製造方法で、化合物（ａ０－０１－８）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
　得られた化合物（ａ０－０１－８）はＮＭＲ測定（ＣＤＣｌ３）を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　δ（ｐｐｍ）＝８．２０（ｓ，－ＯＨ，１Ｈ），７．７５－７．５０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，３Ｈ），７．２０（ｓ，Ｃ＝ＣＨ，１Ｈ），６．６０－６．９０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），５．３０－５．８５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ２，２Ｈ），１．６８（ｓ，ＣＨ３，ＣＨ３，６Ｈ）。
　［化合物（ａ０－０１－９）の合成例］
　中間体ＡＬ－１を、等モルの中間体ＡＬ－５に変更したこと以外は、化合物（ａ０－０１－６）と同様の製造方法で、化合物（ａ０－０１－９）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
　得られた化合物（ａ０－０１－９）はＮＭＲ測定（ＣＤＣｌ３）を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　δ（ｐｐｍ）＝８．２０（ｓ，－ＯＨ，１Ｈ），７．７５－７．５０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，３Ｈ），７．２０（ｓ，Ｃ＝ＣＨ，１Ｈ），６．６０－６．９０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，Ｃ＝ＣＨ，２Ｈ），５．３０－５．８５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ２，２Ｈ），５．１０－５．３０（ｍ，Ｃ＝ＣＨ２，２Ｈ）、４．８０－４．９５（ｍ，Ｃ＝ＣＨ，１Ｈ）１．６８（ｓ，ＣＨ３，３Ｈ）。
　＜高分子化合物の合成例１＞
　［高分子化合物（Ａ１－１）の合成例］
　化合物（ａ０－０１－１）３２．４ｇ、化合物（ｍ－ａ１０－１ｐｒｅ）１０．０ｇ、重合開始剤としてアゾビス（イソ酪酸）ジメチル（Ｖ－６０１）２．３８ｇを、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）２０．３ｇに溶解させた滴下溶液を調製した。温度計、還流管及び窒素導入管を繋いだ三口フラスコに３３．７ｇのＭＥＫを加え、窒素雰囲気下で８５℃に加熱し、前記の滴下溶液を４時間かけて滴下した。滴下終了後、８５℃にて反応液を１時間撹拌した。その後、反応液を室温まで冷却した。反応終了後、得られた反応液をヘプタン２６００ｇに沈殿させ、洗浄した。得られた白色固形物をろ過し、一晩減圧乾燥することで、目的物である高分子化合物（Ａ１－１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
　＜高分子化合物の合成例２～１５＞
　高分子化合物の合成例１と同様の方法で、上記に示す化合物（ａ０－０１－１）～（ａ０－０１－９）、下記に示す化合物（ｍ－ａ１０－１ｐｒｅ）～（ｍ－ａ１０－３ｐｒｅ）、及び、（ｍ－ａ２－１）～（ｍ－ａ２－３）を用い高分子化合物（Ａ１－２）～（Ａ１－１５）を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
　得られた各高分子化合物について、それぞれ、重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を、ＧＰＣ測定（標準ポリスチレン換算）により求めた。
　また、得られた各高分子化合物について、共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））を、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１３Ｃ－ＮＭＲ）により求めた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
　高分子化合物（Ａ１－１）：重量平均分子量（Ｍｗ）７５００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６５、ｌ／ｍ＝５０／５０。
　高分子化合物（Ａ１－２）：重量平均分子量（Ｍｗ）７４００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６７、ｌ／ｍ＝５０／５０。
　高分子化合物（Ａ１－３）：重量平均分子量（Ｍｗ）７５００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６４、ｌ／ｍ＝５０／５０。
　高分子化合物（Ａ１－４）：重量平均分子量（Ｍｗ）７６００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６５、ｌ／ｍ＝５０／５０。
　高分子化合物（Ａ１－５）：重量平均分子量（Ｍｗ）７４００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６３、ｌ／ｍ＝５０／５０。
　高分子化合物（Ａ１－６）：重量平均分子量（Ｍｗ）７５００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６５、ｌ／ｍ＝５０／５０。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
　高分子化合物（Ａ１－７）：重量平均分子量（Ｍｗ）７５００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６４、ｌ／ｍ＝５０／５０。
　高分子化合物（Ａ１－８）：重量平均分子量（Ｍｗ）７６００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６７、ｌ／ｍ＝５０／５０。
　高分子化合物（Ａ１－９）：重量平均分子量（Ｍｗ）７４００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６６、ｌ／ｍ＝５０／５０。
　高分子化合物（Ａ１－１０）：重量平均分子量（Ｍｗ）７４００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６７、ｌ／ｍ＝５０／５０。
　高分子化合物（Ａ１－１１）：重量平均分子量（Ｍｗ）７６００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６３、ｌ／ｍ／ｎ＝５０／４０／１０。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
　高分子化合物（Ａ１－１２）：重量平均分子量（Ｍｗ）７５００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６６、ｌ／ｍ／ｎ＝５０／４０／１０。
　高分子化合物（Ａ１－１３）：重量平均分子量（Ｍｗ）７５００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６６、ｌ／ｍ／ｎ＝５０／４０／１０。
　高分子化合物（Ａ１－１４）：重量平均分子量（Ｍｗ）７５００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６７、ｌ／ｍ／ｎ＝５０／４０／１０。
　高分子化合物（Ａ１－１５）：重量平均分子量（Ｍｗ）７４００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６６、ｌ／ｍ／ｎ＝５０／４０／１０。
　＜レジスト組成物の調製＞
（実施例１～１７、比較例１～４）
　表１～３に示す各成分を混合して溶解し、各例のレジスト組成物をそれぞれ調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000093
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000094
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000095
　表１～３中、各略号はそれぞれ以下の意味を有する。［　］内の数値は配合量（質量部）である。
　（Ａ１）－１～（Ａ１）－１５：上述した高分子化合物（Ａ１－１）～（Ａ１－１５）。
　（Ａ２）－１：下記の化学式（Ａ２－１）で表される高分子化合物。この高分子化合物（Ａ２）－１について、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は７５００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．６４。１３Ｃ－ＮＭＲにより求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０。
　（Ａ２）－２：下記の化学式（Ａ２－２）で表される高分子化合物。この高分子化合物（Ａ２）－２について、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は７４００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．６５。１３Ｃ－ＮＭＲにより求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０。
　（Ａ２）－３：下記の化学式（Ａ２－３）で表される高分子化合物。この高分子化合物（Ａ２）－３について、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は７６００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．６８。１３Ｃ－ＮＭＲにより求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３８／４６／１１／５。
　（Ａ２）－４：下記の化学式（Ａ２－４）で表される高分子化合物。この高分子化合物（Ａ２）－４について、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は７４００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．６７。１３Ｃ－ＮＭＲにより求められた共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））はｌ／ｍ＝５０／５０。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
　（Ｂ）－１：下記の化合物（Ｂ－１）からなる酸発生剤。
　（Ｂ）－２：下記の化合物（Ｂ－２）からなる酸発生剤。
　（Ｄ）－１：下記の化合物（Ｄ－１からなる酸拡散制御剤。
　（Ｓ）－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／プロピレングリコールモノメチルエーテル＝６０／４０（質量比）の混合溶剤。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
　＜レジストパターンの形成＞
　ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）処理を施した８インチシリコン基板上に、各例のレジスト組成物をそれぞれ、スピンナーを用いて塗布し、ホットプレート上で、温度１１０℃で６０秒間のプレベーク（ＰＡＢ）処理を行い、乾燥することにより、膜厚７０ｎｍのレジスト膜を形成した。
　次に、前記レジスト膜に対し、電子線描画装置ＪＥＯＬ－ＪＢＸ－９３００ＦＳ（日本電子株式会社製）を用い、加速電圧１００ｋＶにて、ターゲットサイズが、ライン幅５０ｎｍの１：１ラインアンドスペースパターン（以下ＬＳパターンと表記）とする描画（露光）を行った後、１００℃で６０秒間の露光後加熱（ＰＥＢ）処理を行った。
　次いで、２３℃にて、２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液「ＮＭＤ－３」（商品名、東京応化工業株式会社製）を用いて、６０秒間のアルカリ現像を行った。
　その後、純水を用いて１５秒間水リンスを行った。
　その結果、ライン幅５０ｎｍの１：１　ＬＳパターンが形成された。
　［最適露光量（Ｅｏｐ）の評価］
　上記＜レジストパターンの形成＞によってターゲットサイズのパターンが形成される最適露光量Ｅｏｐ（μＣ／ｃｍ２）を求めた。これを「Ｅｏｐ（μＣ／ｃｍ２）」として表４及び５に示した。
　［ＬＷＲの評価］
　上記＜レジストパターンの形成＞で形成したＬＳパターンについて、ＬＷＲを示す尺度である３σを求めた。これを「ＬＷＲ（ｎｍ）」として表４及び５に示した。
　「３σ」は、走査型電子顕微鏡（加速電圧８００Ｖ、商品名：Ｓ－９３８０、日立ハイテク社製）により、ラインの長手方向にラインポジションを４００箇所測定し、その測定結果から求めた標準偏差（σ）の３倍値（３σ）を「ＬＷＲ」（単位：ｎｍ）を示す。該３σの値が小さいほど、ライン側壁のラフネスが小さく、より均一な幅のＬＳパターンが得られたことを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000098
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000099
　表４及び５に示す通り、実施例のレジスト組成物は、比較例のレジスト組成物に比べ、レジストパターン形成における感度が高く、かつ、ＬＷＲが良好であることが確認できた。
　以上、本発明の好ましい実施例を説明したが、本発明はこれら実施例に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。本発明は前述した説明によって限定されることはなく、添付のクレームの範囲によってのみ限定される。

Claims (7)

  1. 　露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、
    　下記一般式（ａ０－１）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する、レジスト組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     ［式中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。Ｌ０１は、２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
  2. 　前記樹脂成分（Ａ１）中の前記構成単位（ａ０１）の割合は、前記樹脂成分（Ａ１）を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、２０～８０モル％である、請求項１に記載のレジスト組成物。
  3. 　前記構成単位（ａ０１）は、下記一般式（ａ０－１－１）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０１１）である、請求項１又は２に記載のレジスト組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     ［式中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。Ｌ００１は、エステル結合、芳香族炭化水素基、ラクトン含有環式基、又は、これらの組み合わせからなる基を有する２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
  4. 　支持体上に、請求項１又は２に記載のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記露光後のレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を有する、レジストパターン形成方法。
  5. 　前記のレジスト膜を露光する工程において、前記レジスト膜に、ＥＵＶ（極端紫外線）又はＥＢ（電子線）を露光する、請求項４に記載のレジストパターン形成方法。
  6. 　下記一般式（ａ０－１）で表される、化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     ［式中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。Ｌ０１は、２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
  7. 　下記一般式（ａ０－１－１）で表される、化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     ［式中、Ｒ０１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基又は炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基である。Ｌ００１は、エステル結合、芳香族炭化水素基、ラクトン含有環式基、又は、これらの組み合わせからなる基を有する２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ａｒ０１は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているアリール基、又は、水素原子の一部又は全部がヨウ素原子で置換されているヘテロアリール基である。前記アリール基及びヘテロアリール基は、ヨウ素原子以外の置換基を有してもよい。］
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