WO2023136203A1 - 樹脂組成物、膜、及び表示装置 - Google Patents
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Definitions
- the resin composition of the present invention it is possible to provide a resin composition having excellent developability, a film formed from the resin composition, and a display device containing the film.
- R b1 and R b2 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group is a hydroxy group. may be substituted.
- X b1 and X b2 are a single bond, *-R b3 -, *-R b3 -O-, *-R b3 -S- or * —R b3 —NH—.
- R b3 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms. * represents a bond with O.
- the temperature inside the flask was adjusted to 90 ⁇ 1° C. and the reaction was carried out for 6 hours.
- the reaction solution is cooled to 40° C. or less, and 0.12 parts by mass of a polymerization inhibitor, 12.4 parts by mass of 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether, 4.5 parts by mass of triphenylphosphine, and propylene glycol monomethyl are added.
- an addition reaction was carried out at an inside temperature of the flask of 110 ⁇ 1°C to obtain a binder resin solution.
- Photomasks for forming dot patterns of 30 ⁇ m, 10 ⁇ m, 5 ⁇ m, 4 ⁇ m, 3 ⁇ m, 2 ⁇ m, and 1.5 ⁇ m square were used.
- the resin composition layer after light irradiation is developed by immersion in an aqueous developer containing 0.3% tetramethylammonium hydroxide at 23°C for 30 seconds, and after washing with water, the resin composition layer is hot plated at 230°C for 5 minutes. and post-baked at , resulting in a pattern.
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Abstract
本発明は、優れた特性を有する新たな膜を形成することができる樹脂組成物を提供することを課題とする。 本発明は、樹脂（Ａ）、無機粒子（Ｂ）及び溶剤（Ｅ）を含み、前記樹脂（Ａ）は、置換基を有していてもよいカルバゾール環を有する構成単位（Ａｂ）を有する、樹脂組成物に関する。
Description
本発明は、樹脂組成物、膜、及び表示装置に関する。
近年の液晶表示装置では、オーバーコートなどの膜を形成するために、樹脂組成物が用いられる。このような樹脂組成物として、メタクリル酸及び３，４－エポキシトリシクロ［５．２．１．０２，６］デシルアクリレートを重合させた共重合体を含む樹脂組成物が知られている（特許文献１）。
本発明は、優れた特性を有する新たな膜を形成することができる樹脂組成物、当該樹脂組成物により形成された膜、及び当該膜が含まれる表示装置を提供することを目的とする。
本発明は、以下の発明を含む。
［１］ 樹脂（Ａ）、無機粒子（Ｂ）及び溶剤（Ｅ）を含み、
前記樹脂（Ａ）は、置換基を有していてもよいカルバゾール環を有する構成単位（Ａｂ）を有する、樹脂組成物。
［２］ 前記樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａｂ）と、炭素数２～４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構成単位（Ａａ）と、を有する、［１］に記載の樹脂組成物。
［３］ 前記構成単位（Ａａ）は、不飽和脂環式炭化水素がエポキシ化された構造を有する、［２］に記載の樹脂組成物。
［４］ 前記樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａａ）と、構成単位（Ａｂ）と、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物によって導かれる構成単位（Ａｃ１）と、を有する、［２］又は［３］に記載の樹脂組成物。
［５］ ［１］～［４］のいずれか１項に記載の樹脂組成物から形成された膜。
［６］ ［５］に記載の膜が含まれる表示装置。
［１］ 樹脂（Ａ）、無機粒子（Ｂ）及び溶剤（Ｅ）を含み、
前記樹脂（Ａ）は、置換基を有していてもよいカルバゾール環を有する構成単位（Ａｂ）を有する、樹脂組成物。
［２］ 前記樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａｂ）と、炭素数２～４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構成単位（Ａａ）と、を有する、［１］に記載の樹脂組成物。
［３］ 前記構成単位（Ａａ）は、不飽和脂環式炭化水素がエポキシ化された構造を有する、［２］に記載の樹脂組成物。
［４］ 前記樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａａ）と、構成単位（Ａｂ）と、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物によって導かれる構成単位（Ａｃ１）と、を有する、［２］又は［３］に記載の樹脂組成物。
［５］ ［１］～［４］のいずれか１項に記載の樹脂組成物から形成された膜。
［６］ ［５］に記載の膜が含まれる表示装置。
本発明の樹脂組成物によれば、優れた現像性を有する樹脂組成物、当該樹脂組成物により形成された膜、および当該膜が含まれる表示装置を提供することができる。
本明細書において、各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で又は複数種を組合せて使用することができる。
［樹脂組成物］
本発明の樹脂組成物は、樹脂（以下、樹脂（Ａ）と称する。）、無機粒子（Ｂ）及び溶剤（以下、溶剤（Ｅ）と称する。）を含む。樹脂（Ａ）は、置換基を有していてもよいカルバゾール環を有する構成単位（Ａｂ）（以下「構成単位（Ａｂ）」と称する。）を有する。本発明の樹脂組成物は、樹脂（Ａ）が構成単位（Ａｂ）を有することにより、樹脂組成物により得られる膜の屈折率を向上させることができる。膜の屈折率を向上させることにより、膜を介して取り出す光の取り出し効率や膜を介しての光の集光効率を向上させることができる。本発明の樹脂組成物は、無機粒子（Ｂ）を含むことにより、樹脂組成物により得られる膜の屈折率をさらに向上させることができる。また、本発明の樹脂組成物は、構成単位（Ａｂ）を有する樹脂（Ａ）と無機粒子（Ｂ）とをともに含むことにより、膜を形成する際の現像性を向上させることができ、さらには解像性をも向上させることができる。なお解像性は、５０μｍ以下であればよく、好ましくは４０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以下である。
本発明の樹脂組成物は、樹脂（以下、樹脂（Ａ）と称する。）、無機粒子（Ｂ）及び溶剤（以下、溶剤（Ｅ）と称する。）を含む。樹脂（Ａ）は、置換基を有していてもよいカルバゾール環を有する構成単位（Ａｂ）（以下「構成単位（Ａｂ）」と称する。）を有する。本発明の樹脂組成物は、樹脂（Ａ）が構成単位（Ａｂ）を有することにより、樹脂組成物により得られる膜の屈折率を向上させることができる。膜の屈折率を向上させることにより、膜を介して取り出す光の取り出し効率や膜を介しての光の集光効率を向上させることができる。本発明の樹脂組成物は、無機粒子（Ｂ）を含むことにより、樹脂組成物により得られる膜の屈折率をさらに向上させることができる。また、本発明の樹脂組成物は、構成単位（Ａｂ）を有する樹脂（Ａ）と無機粒子（Ｂ）とをともに含むことにより、膜を形成する際の現像性を向上させることができ、さらには解像性をも向上させることができる。なお解像性は、５０μｍ以下であればよく、好ましくは４０μｍ以下、さらに好ましくは３０μｍ以下である。
本発明の樹脂組成物は、重合性化合物（以下、重合性化合物（Ｃ）と称する。）を含んでいてもよい。重合性化合物（Ｃ）を含む場合には、重合開始剤（以下、重合開始剤（Ｄ）と称する。）も含むことが好ましい。また、本発明の樹脂組成物は、他の成分、例えば、重合開始助剤（以下、重合開始助剤（Ｈ）と称する。）、レベリング剤（以下、レベリング剤（Ｌ）と称する。）、酸化防止剤（以下、酸化防止剤（Ｆ）と称する。）、硬化剤（以下、硬化剤（Ｇ）と称する。）等を含んでいてもよい。硬化剤（Ｇ）としては、多価カルボン酸（以下、多価カルボン酸（Ｇ１）と称する。）、イミダゾール化合物（以下、イミダゾール化合物（Ｇ２）と称する。）等が例示される。
＜樹脂（Ａ）＞
樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａｂ）を有し、炭素数２～４の環状エーテル構造を有する構成単位（Ａａ）（以下「構成単位（Ａａ）」と称する。）をさらに有していてもよい。樹脂（Ａ）は、さらに、構成単位（Ａｂ）又は（Ａａ）と共重合可能であり、かつ、構成単位（Ａａ）及び（Ａｂ）以外の構成単位（以下、構成単位（Ａｃ）と称する。）をさらに含んでもよい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を表す。「（メタ）アクリロイル」及び「（メタ）アクリレート」等の表記も、同様の意味を有する。樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａｂ）及び構成単位（Ａａ）を、それぞれ２種以上含んでいてもよい。
樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａｂ）を有し、炭素数２～４の環状エーテル構造を有する構成単位（Ａａ）（以下「構成単位（Ａａ）」と称する。）をさらに有していてもよい。樹脂（Ａ）は、さらに、構成単位（Ａｂ）又は（Ａａ）と共重合可能であり、かつ、構成単位（Ａａ）及び（Ａｂ）以外の構成単位（以下、構成単位（Ａｃ）と称する。）をさらに含んでもよい。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を表す。「（メタ）アクリロイル」及び「（メタ）アクリレート」等の表記も、同様の意味を有する。樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａｂ）及び構成単位（Ａａ）を、それぞれ２種以上含んでいてもよい。
〔１〕 構成単位（Ａｂ）
構成単位（Ａｂ）は、置換基を有していてもよいカルバゾール環を有する不飽和化合物から導くことができる。該不飽和化合物から導かれる構成単位は、該不飽和化合物を単量体として用いて樹脂を製造することによって得ることができる。あるいは、他の構成単位（Ａｂ’）に、置換基を有していてもよいカルバゾール環を有する化合物（Ａｂ’’）を反応させることによって得ることもできる。
構成単位（Ａｂ）は、置換基を有していてもよいカルバゾール環を有する不飽和化合物から導くことができる。該不飽和化合物から導かれる構成単位は、該不飽和化合物を単量体として用いて樹脂を製造することによって得ることができる。あるいは、他の構成単位（Ａｂ’）に、置換基を有していてもよいカルバゾール環を有する化合物（Ａｂ’’）を反応させることによって得ることもできる。
構成単位（Ａｂ）を導く不飽和化合物は、好ましくは式（ＩＩＩ）で表される化合物である。
［式（ＩＩＩ）中、Ｒ１は、水素原子、メチル基、またはヒドロキシメチル基を表す。
Ｒ２～Ｒ９は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０の飽和炭化水素基又は炭素数６～２０のアリール基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、アルコキシ基又はアリール基で置換されていてもよい。
Ｘは、単結合、炭素数１以上のアルカンジイル基、もしくは直鎖状又は分枝鎖状の下記の式（Ｖ）で表される基を表す。
Ｒ２～Ｒ９は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０の飽和炭化水素基又は炭素数６～２０のアリール基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、アルコキシ基又はアリール基で置換されていてもよい。
Ｘは、単結合、炭素数１以上のアルカンジイル基、もしくは直鎖状又は分枝鎖状の下記の式（Ｖ）で表される基を表す。
（式（Ｖ）中、前記ｌは、０以上の整数を表す。ｍは、１以上の整数を表す。）］
式（ＩＩＩ）で表される化合物としては、Ｎ－ビニルカルバゾール、Ｎ－アリルカルバゾール、Ｎ－（メタ）アクリロイルカルバゾール、２－（９－カルバゾリル）エチル（メタ）アクリレート、２－（９－カルバゾリル）エトキシエチル（メタ）アクリレート、２－（９－カルバゾリル）－２－メチルエチル（メタ）アクリレート、２－（９－カルバゾリル）－１－メチルエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、Ｎ－ビニルカルバゾール、Ｎ－アリルカルバゾール、２－（９－カルバゾリル）エチル（メタ）アクリレートが好ましい。
〔２〕 構成単位（Ａａ）
構成単位（Ａａ）は、炭素数２～４の環状エーテル構造（例えば、オキシラン環、オキセタン環及びテトラヒドロフラン環からなる群から選ばれる少なくとも１種）を有する不飽和化合物から導くことができる。炭素数２～４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物から導かれる構成単位とは、該不飽和化合物を単量体として用いて共重合体を製造することによって得ることができる。あるいは、他の構成単位（以下、構成単位（Ａａ’）と称する。）に、炭素数２～４の環状エーテル構造を有する化合物を反応させることによって得ることもできる。
構成単位（Ａａ）は、炭素数２～４の環状エーテル構造（例えば、オキシラン環、オキセタン環及びテトラヒドロフラン環からなる群から選ばれる少なくとも１種）を有する不飽和化合物から導くことができる。炭素数２～４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物から導かれる構成単位とは、該不飽和化合物を単量体として用いて共重合体を製造することによって得ることができる。あるいは、他の構成単位（以下、構成単位（Ａａ’）と称する。）に、炭素数２～４の環状エーテル構造を有する化合物を反応させることによって得ることもできる。
構成単位（Ａａ）を導く、炭素数２～４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物は、例えば、オキシラニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（以下、単量体（Ａａ１）と称する。）、オキセタニル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（以下、単量体（Ａａ２）と称する。）、テトラヒドロフリル基とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（以下、単量体（Ａａ３）と称する。）が挙げられる。
単量体（Ａａ１）は、例えば、直鎖状又は分枝鎖状の不飽和脂肪族炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体（以下、単量体（Ａａ１－１）と称する。）、及び不飽和脂環式炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体（以下、単量体（Ａａ１－２）と称する。）が挙げられる。構成単位（Ａａ）を導く単量体としては、得られる膜の耐熱性、耐薬品性等の信頼性をより高くすることができる点で、単量体（Ａａ１）であることが好ましい。さらに、樹脂組成物の保存安定性が優れるという点で、単量体（Ａａ１－２）がより好ましい。
単量体（Ａａ１－１）としては、グリシジル（メタ）アクリレート、β－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β－エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、α－メチル－ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、α－メチル－ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、α－メチル－ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４，６－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン等が挙げられる。
単量体（Ａａ１－２）としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド２０００；（株）ダイセル製）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート（例えば、サイクロマーＡ４００；（株）ダイセル製）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；（株）ダイセル製）、式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物等が挙げられる。
［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、Ｒb1及びＲb2は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘb1及びＸb2は、単結合、＊－Ｒb3－、＊－Ｒb3－Ｏ－、＊－Ｒb3－Ｓ－又は＊－Ｒb3－ＮＨ－を表す。
Ｒb3は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］
Ｘb1及びＸb2は、単結合、＊－Ｒb3－、＊－Ｒb3－Ｏ－、＊－Ｒb3－Ｓ－又は＊－Ｒb3－ＮＨ－を表す。
Ｒb3は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］
炭素数１～４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。
水素原子がヒドロキシで置換されたアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、１－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシプロピル基、３－ヒドロキシプロピル基、１－ヒドロキシ－１－メチルエチル基、２－ヒドロキシ－１－メチルエチル基、１－ヒドロキシブチル基、２－ヒドロキシブチル基、３－ヒドロキシブチル基、４－ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
水素原子がヒドロキシで置換されたアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、１－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシプロピル基、３－ヒドロキシプロピル基、１－ヒドロキシ－１－メチルエチル基、２－ヒドロキシ－１－メチルエチル基、１－ヒドロキシブチル基、２－ヒドロキシブチル基、３－ヒドロキシブチル基、４－ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
Ｒb1及びＲb2としては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基及び２－ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子及びメチル基が挙げられる。
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基等が挙げられる。
Ｘb1及びＸb2としては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、＊－ＣＨ２－Ｏ－、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－が挙げられ、より好ましくは単結合、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－が挙げられる。＊はＯとの結合手を表す。
式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ－１）～式（Ｉ－１５）のいずれかで表される化合物等が挙げられ、好ましくは式（Ｉ－１）、式（Ｉ－３）、式（Ｉ－５）、式（Ｉ－７）、式（Ｉ－９）又は式（Ｉ－１１）～式（Ｉ－１５）で表される化合物が挙げられ、より好ましくは式（Ｉ－１）、式（Ｉ－７）、式（Ｉ－９）又は式（Ｉ－１５）で表される化合物が挙げられる。
式（ＩＩ）で表される化合物としては、式（ＩＩ－１）～式（ＩＩ－１５）のいずれかで表される化合物等が挙げられ、好ましくは式（ＩＩ－１）、式（ＩＩ－３）、式（ＩＩ－５）、式（ＩＩ－７）、式（ＩＩ－９）又は式（ＩＩ－１１）～式（ＩＩ－１５）で表される化合物が挙げられ、より好ましくは式（ＩＩ－１）、式（ＩＩ－７）、式（ＩＩ－９）又は式（ＩＩ－１５）で表される化合物が挙げられる。
式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物は、それぞれ単独で用いても、２種以上を併用してもよい。これらを併用する場合、これらの含有比率〔式（Ｉ）で表される化合物：式（ＩＩ）で表される化合物〕はモル基準で、好ましくは５：９５～９５：５、より好ましくは２０：８０～８０：２０である。例えば、式（Ｉ－１）で表される化合物と、式（ＩＩ－１）で表される化合物とを５０：５０で含む混合物（市販品として、商品名「Ｅ－ＤＣＰＡ」（（株）ダイセル製）がある）を用いることができる。
単量体（Ａａ２）としては、オキセタニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。単量体（Ａａ２）としては、３－メチル－３－メタクリルロイルオキシメチルオキセタン、３－メチル－３－アクリロイルオキシメチルオキセタン、３－エチル－３－メタクリロイルオキシメチルオキセタン、３－エチル－３－アクリロイルオキシメチルオキセタン、３－メチル－３－メタクリロイルオキシエチルオキセタン、３－メチル－３－アクリロイルオキシエチルオキセタン、３－エチル－３－メタクリロイルオキシエチルオキセタン、３－エチル－３－アクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。
単量体（Ａａ３）としては、テトラヒドロフリル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。単量体（Ａａ３）としては、テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、ビスコートＶ＃１５０、大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。
構成単位（Ａａ）としては、樹脂組成物の保存安定性、得られる膜の耐薬品性、耐熱性及び機械強度に優れる点で、単量体（Ａａ１－２）から導かれる構成単位であることが好ましく、式（Ａａ－１）又は式（Ａａ－２）で表される構成単位であることがより好ましい。式（Ａａ－１）で表される構成単位は式（Ｉ）で表される化合物より導かれ、式（Ａａ－２）で表される構成単位は式（ＩＩ）で表される化合物より導かれる。
［式（Ａａ－１）及び式（Ａａ－２）中、Ｒb１及びＲb２は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘb１及びＸb２は、単結合、＊－Ｒb３－、＊－Ｒb３－Ｏ－、＊－Ｒb３－Ｓ－又は＊
－Ｒb３－ＮＨ－を表す。
Ｒb３は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］
〔３〕 構成単位（Ａｃ）
構成単位（Ａｃ）としては、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物によって導かれる構成単位（以下「構成単位（Ａｃ１）」と称する。）が挙げられる。不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ｏ－、ｍ－、ｐ－ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３－ビニルフタル酸、４－ビニルフタル酸、３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１，４－シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸；
メチル－５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸、５－カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－６－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－６－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３－ビニルフタル酸無水物、４－ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン無水物等の不飽和ジカルボン酸無水物；こはく酸モノ〔２－（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２－（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル；
α－（ヒドロキシメチル）アクリル酸などの、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート等が挙げられる。
構成単位（Ａｃ）としては、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物によって導かれる構成単位（以下「構成単位（Ａｃ１）」と称する。）が挙げられる。不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ｏ－、ｍ－、ｐ－ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３－ビニルフタル酸、４－ビニルフタル酸、３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１，４－シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸；
メチル－５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸、５－カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－６－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－６－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３－ビニルフタル酸無水物、４－ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン無水物等の不飽和ジカルボン酸無水物；こはく酸モノ〔２－（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２－（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル；
α－（ヒドロキシメチル）アクリル酸などの、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート等が挙げられる。
構成単位（Ａｃ１）以外の構成単位（Ａｃ）（以下「構成単位（Ａｃ２）」と称する。）としては、例えば、次の化合物：
メチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン－８－イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート」といわれている。また、「トリシクロデシル（メタ）アクリレート」と称する。）、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デセン－８－イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート」といわれている。）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、プロパルギル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル；
２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－（２’－ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン等のビシクロ不飽和化合物；
Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドベンゾエート、Ｎ－スクシンイミジル－４－マレイミドブチレート等のジカルボニルイミド誘導体；
スチレン、α－メチルスチレン、ｏ－ビニルトルエン、ｍ－ビニルトルエン、ｐ－ビニルトルエン、ｐ－メトキシスチレン、（メタ）アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル、１，３－ブタジエン、イソプレン及び２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン等から導かれる構成単位が挙げられる。樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａｃ１）を有していることが好ましい。
メチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン－８－イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート」といわれている。また、「トリシクロデシル（メタ）アクリレート」と称する。）、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デセン－８－イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート」といわれている。）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、プロパルギル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル；
２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－（２’－ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン等のビシクロ不飽和化合物；
Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドベンゾエート、Ｎ－スクシンイミジル－４－マレイミドブチレート等のジカルボニルイミド誘導体；
スチレン、α－メチルスチレン、ｏ－ビニルトルエン、ｍ－ビニルトルエン、ｐ－ビニルトルエン、ｐ－メトキシスチレン、（メタ）アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル、１，３－ブタジエン、イソプレン及び２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン等から導かれる構成単位が挙げられる。樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａｃ１）を有していることが好ましい。
〔４〕 各構成単位の比率
樹脂（Ａ）は、例えば、以下の樹脂［Ｋ１］または［Ｋ２］である。
樹脂［Ｋ１］：構成単位（Ａａ）及び構成単位（Ａｂ）から構成される共重合体；
樹脂［Ｋ２］：構成単位（Ａａ）、構成単位（Ａｂ）及び構成単位（Ａｃ）から構成される共重合体。
樹脂（Ａ）は、樹脂［Ｋ２］であることが好ましい。さらに、樹脂［Ｋ２］の中でも、構成単位（Ａｃ）として構成単位（Ａｃ１）を含むことが好ましく、構成単位（Ａａ）と、構成単位（Ａｂ）と、構成単位（Ａｃ１）とからなる樹脂が好ましい。
樹脂（Ａ）が構成単位（Ａｃ１）を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）を構成する全構成単位に対して、１～５０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましい。
樹脂（Ａ）は、例えば、以下の樹脂［Ｋ１］または［Ｋ２］である。
樹脂［Ｋ１］：構成単位（Ａａ）及び構成単位（Ａｂ）から構成される共重合体；
樹脂［Ｋ２］：構成単位（Ａａ）、構成単位（Ａｂ）及び構成単位（Ａｃ）から構成される共重合体。
樹脂（Ａ）は、樹脂［Ｋ２］であることが好ましい。さらに、樹脂［Ｋ２］の中でも、構成単位（Ａｃ）として構成単位（Ａｃ１）を含むことが好ましく、構成単位（Ａａ）と、構成単位（Ａｂ）と、構成単位（Ａｃ１）とからなる樹脂が好ましい。
樹脂（Ａ）が構成単位（Ａｃ１）を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）を構成する全構成単位に対して、１～５０モル％が好ましく、５～４０モル％がより好ましい。
樹脂［Ｋ１］において、各構成単位の比率は、樹脂［Ｋ１］を構成する全構成単位に対して、
構成単位（Ａａ）；５～９５モル％、
構成単位（Ａｂ）；５～９５モル％、であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；１０～７０モル％、
構成単位（Ａｂ）；３０～９０モル％、であることがより好ましい。
構成単位（Ａａ）；５～９５モル％、
構成単位（Ａｂ）；５～９５モル％、であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；１０～７０モル％、
構成単位（Ａｂ）；３０～９０モル％、であることがより好ましい。
樹脂［Ｋ１］を構成する構成単位の比率が、上記の範囲内にあると、樹脂組成物の保存安定性、得られる膜の耐薬品性、耐熱性及び機械強度に優れる点で好ましい。
樹脂［Ｋ１］は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著 発行所：（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。
具体的には、構成単位（Ａａ）及び構成単位（Ａｂ）の所定量、重合開始剤及び溶剤等を反応容器中に入れて、例えば、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気にし、攪拌しながら、加熱及び保温する方法が挙げられる。なお、重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているものを使用することができる。重合開始剤としては、例えば、アゾ化合物（２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）等）や有機過酸化物（ベンゾイルペルオキシド等）が挙げられ、溶剤としては、各モノマーを溶解するものであればよく、樹脂組成物に用いられる後述の溶剤等が挙げられる。
具体的には、構成単位（Ａａ）及び構成単位（Ａｂ）の所定量、重合開始剤及び溶剤等を反応容器中に入れて、例えば、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気にし、攪拌しながら、加熱及び保温する方法が挙げられる。なお、重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているものを使用することができる。重合開始剤としては、例えば、アゾ化合物（２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）等）や有機過酸化物（ベンゾイルペルオキシド等）が挙げられ、溶剤としては、各モノマーを溶解するものであればよく、樹脂組成物に用いられる後述の溶剤等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物を調製する際、反応により得られた樹脂溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。特に、重合溶剤として、本発明の樹脂組成物に含める溶剤を使用することにより、反応後の溶液を樹脂組成物の製造にそのまま使用することができるため、樹脂組成物の製造工程を簡略化することができる。
樹脂［Ｋ２］において、各構成単位の比率は、樹脂［Ｋ２］を構成する全構成単位中、構成単位（Ａａ）；１～９０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５～９８モル％、
構成単位（Ａｃ）；１～５０モル％であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～８０モル％、
構成単位（Ａｂ）；１７～９０モル％、
構成単位（Ａｃ）；３～４０モル％、
であることがより好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～８０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ）；３～４０モル％、
であることがさらに好ましい。
構成単位（Ａｂ）；５～９８モル％、
構成単位（Ａｃ）；１～５０モル％であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～８０モル％、
構成単位（Ａｂ）；１７～９０モル％、
構成単位（Ａｃ）；３～４０モル％、
であることがより好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～８０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ）；３～４０モル％、
であることがさらに好ましい。
樹脂［Ｋ２］のうち、構成単位（Ａｃ）として構成単位（Ａｃ１）のみを含む場合、
構成単位（Ａａ）；１～７０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；１～５０モル％であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～５０モル％、
構成単位（Ａｂ）；２０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；５～４０モル％であることがより好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～５０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；５～４０モル％であることがさらに好ましい。
構成単位（Ａａ）；１～７０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；１～５０モル％であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～５０モル％、
構成単位（Ａｂ）；２０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；５～４０モル％であることがより好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～５０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；５～４０モル％であることがさらに好ましい。
樹脂［Ｋ２］のうち、構成単位（Ａｃ）として構成単位（Ａｃ２）のみを含む場合、
構成単位（Ａａ）；１～９０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５～９８モル％、
構成単位（Ａｃ２）；１～５０モル％であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～７０モル％、
構成単位（Ａｂ）；２０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ２）；３～４０モル％であることがより好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～７０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ２）；３～４０モル％であることがさらに好ましい。
構成単位（Ａａ）；１～９０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５～９８モル％、
構成単位（Ａｃ２）；１～５０モル％であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～７０モル％、
構成単位（Ａｂ）；２０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ２）；３～４０モル％であることがより好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～７０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ２）；３～４０モル％であることがさらに好ましい。
樹脂［Ｋ２］のうち、構成単位（Ａｃ）として構成単位（Ａｃ１）と構成単位（Ａｃ２）との両者を含む場合、
構成単位（Ａａ）；１～７０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；１～５０モル％、
構成単位（Ａｃ２）；１～４０モル％であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～５０モル％、
構成単位（Ａｂ）；１０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；５～３５モル％、
構成単位（Ａｃ２）；１～３０モル％であることがより好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～５０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；５～３５モル％、
構成単位（Ａｃ２）；１～３０モル％であることがより好ましい。
構成単位（Ａａ）；１～７０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；１～５０モル％、
構成単位（Ａｃ２）；１～４０モル％であることが好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～５０モル％、
構成単位（Ａｂ）；１０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；５～３５モル％、
構成単位（Ａｃ２）；１～３０モル％であることがより好ましく、
構成単位（Ａａ）；３～５０モル％、
構成単位（Ａｂ）；５０～９０モル％、
構成単位（Ａｃ１）；５～３５モル％、
構成単位（Ａｃ２）；１～３０モル％であることがより好ましい。
樹脂［Ｋ２］の構成単位の比率が、上記の範囲内にあると、樹脂組成物の保存安定性、得られる膜の耐薬品性、耐熱性及び機械強度に優れる点で好ましい。樹脂［Ｋ２］は、樹脂［Ｋ１］と同様の方法により製造することができる。
樹脂（Ａ）のポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは３，０００～１００，０００、より好ましくは５，０００～５０，０００、さらに好ましくは５，０００～２０，０００、とりわけ好ましくは５，０００～１０，０００である。樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が前記の範囲内にあると、樹脂組成物の塗布性が良好となる傾向がある。
樹脂（Ａ）の分散度［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１～６．０、より好ましくは１．２～４．０である。分散度が前記の範囲内にあると、得られる膜は耐薬品性に優れる傾向がある。
樹脂（Ａ）が構成単位（Ａｃ１）を含む場合、その酸価は、好ましくは３０ｍｇ－ＫＯＨ／ｇ以上１８０ｍｇ－ＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは４０ｍｇ－ＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇ－ＫＯＨ／ｇ以下、さらに好ましくは５０ｍｇ－ＫＯＨ／ｇ以上１３５ｍｇ－ＫＯＨ／ｇ以下である。ここで酸価は樹脂１ｇを中和するために必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。樹脂（Ａ）の酸価が前記の範囲内にあると、得られる膜は基板との密着性に優れる傾向がある。
本発明の樹脂組成物が樹脂（Ａ）、無機粒子（Ｂ）及び溶剤（Ｅ）以外の成分を含む場合、樹脂（Ａ）の含有率は、本発明の樹脂組成物の固形分に対して、好ましくは３０～９９質量％、より好ましくは３５～８０質量％、さらに好ましくは４０～７０質量％である。樹脂（Ａ）の含有率が前記の範囲内にあると、得られる膜は耐熱性に優れ、かつ基板との密着性及び耐薬品性に優れる傾向がある。ここで、樹脂組成物の固形分とは、本発明の樹脂組成物の総量から溶剤（Ｅ）の含有量を除いた量のことをいう。
＜無機粒子（Ｂ）＞
本発明に使用する無機粒子（Ｂ）としては、例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の金属塩、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物、二酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン（チタニア）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、ガラス、酸化マグネシウム、酸化亜鉛等の金属酸化物等が挙げられる。この中でも、金属酸化物が好ましい。無機粒子は表面処理が施されていてもよい。本発明では、１種類の無機粒子を用いてもよいし、２種類以上の無機粒子を用いてもよい。無機粒子としては、形状は限定されないが、光の取り出し効率や光の集光効率を制御しやすい観点から球状の無機粒子が好ましい。
本発明に使用する無機粒子（Ｂ）としては、例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の金属塩、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物、二酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン（チタニア）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、ガラス、酸化マグネシウム、酸化亜鉛等の金属酸化物等が挙げられる。この中でも、金属酸化物が好ましい。無機粒子は表面処理が施されていてもよい。本発明では、１種類の無機粒子を用いてもよいし、２種類以上の無機粒子を用いてもよい。無機粒子としては、形状は限定されないが、光の取り出し効率や光の集光効率を制御しやすい観点から球状の無機粒子が好ましい。
無機粒子の平均粒子径は、２０ｎｍ以上１６００ｎｍ以下であることが好ましく、例えば酸化ジルコニウムの場合には２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、例えば酸化チタンの場合には１２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、例えば二酸化ケイ素（シリカ）の場合には８０ｎｍ以上１６００ｎｍ以下であることが好ましい。無機粒子の平均粒子径が大きいと組成物中で沈降することがあり、上記の範囲内であることが好ましい。無機粒子の平均粒子径を上記の範囲内にすることにより、樹脂組成物を用いて膜を形成する際の現像性をより向上させることができ、また解像性をより向上させることができる。無機粒子の平均粒子径は、５μｍ未満であれば動的光散乱法で測定することができ、５μｍ以上であればレーザー回折法で測定することができる。本明細書における無機粒子の平均粒子径は、一次粒径を表す。
本発明の樹脂組成物に含まれる無機粒子の含有量は、樹脂組成物の固形分に対して、１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましく、３５質量％以上８５質量％以下であることがさらに好ましく、３５質量％以上８０質量％以下がさらにより好ましく、４５質量％以上７５質量％以下であることが一層好ましい。無機粒子の含有量を上記の範囲内にすることにより、無機粒子を添加することによる、屈折率向上、現像性向上、および解像性向上の効果をより得やすくなる。
＜重合性化合物（Ｃ）＞
重合性化合物（Ｃ）は、熱又は重合開始剤（Ｄ）の作用により反応するモノマーであり、該モノマーとして、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリル化合物が挙げられ、より好ましくはアクリロイル基及びメタクリロイル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物が挙げられる。
重合性化合物（Ｃ）は、熱又は重合開始剤（Ｄ）の作用により反応するモノマーであり、該モノマーとして、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリル化合物が挙げられ、より好ましくはアクリロイル基及びメタクリロイル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物が挙げられる。
（メタ）アクリロイル基を１つ有する（メタ）アクリル化合物としては、樹脂（Ａ）の、構成単位（Ａａ）、構成単位（Ａｂ）及び構成単位（Ａｃ）を導く単量体と同様の化合物が挙げられる。
（メタ）アクリロイル基を２つ有する（メタ）アクリル化合物としては、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオール（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ
）アクリレート、エチレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３－メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
）アクリレート、エチレンオキシド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３－メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する（メタ）アクリル化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物等が挙げられる。
（メタ）アクリル化合物としては、（メタ）アクリルロイル基を３つ以上有する（メタ）アクリル化合物が好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートがより好ましい。
本発明の樹脂組成物が重合性化合物（Ｃ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは２０～２００質量部、より好ましくは３０～１５０質量部である。重合性化合物（Ｃ）の含有量が前記の範囲内にあると、得られる膜の耐薬品性及び機械強度を良好にすることができる。
＜重合開始剤（Ｄ）＞
重合開始剤（Ｄ）は、光や熱の作用により活性ラジカル、酸等を発生し、重合性化合物（Ｃ）の重合を開始しうる化合物であれば特に限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。重合開始剤（Ｄ）としては、Ｏ－アシルオキシム化合物、アルキルフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物及びビイミダゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む重合開始剤が好ましく、Ｏ－アシルオキシム化合物を含む重合開始剤がより好ましい。これらの重合開始剤であると、高感度であり、かつ可視光領域における透過率が高くなる傾向がある。
重合開始剤（Ｄ）は、光や熱の作用により活性ラジカル、酸等を発生し、重合性化合物（Ｃ）の重合を開始しうる化合物であれば特に限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。重合開始剤（Ｄ）としては、Ｏ－アシルオキシム化合物、アルキルフェノン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物及びビイミダゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む重合開始剤が好ましく、Ｏ－アシルオキシム化合物を含む重合開始剤がより好ましい。これらの重合開始剤であると、高感度であり、かつ可視光領域における透過率が高くなる傾向がある。
Ｏ－アシルオキシム化合物は、式（Ｄ１）で表される構造を有する化合物である。
以下、＊は結合手を表す。
以下、＊は結合手を表す。
Ｏ－アシルオキシム化合物としては、例えば、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）ブタン－１－オン－２－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－３－シクロペンチルプロパン－１－オン－２－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタン－１－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－｛２－メチル－４－（３，３－ジメチル－２，４－ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタン－１－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－３－シクロペンチルプロパン－１－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－３－シクロペンチルプロパン－１－オン－２－イミンが挙げられる。イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２（以上、ＢＡＳＦ（株）製）、Ｎ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製）等の市販品を用いてもよい。
アルキルフェノン化合物は、式（Ｄ２－１）で表される構造又は式（Ｄ２－２）で表される構造を有する化合物である。これらの構造中、ベンゼン環は置換基を有していてもよい。
式（Ｄ２－１）で表される構造を有する化合物としては、例えば、２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルスルファニルフェニル）プロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－２－ベンジルブタン－１－オン、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］ブタン－１－オンが挙げられる。イルガキュア（登録商標）３６９、９０７及び３７９（以上、ＢＡＳＦ（株）製）等の市販品を用いてもよい。また、特表２００２－５４４２０５号公報に記載されている、連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤を用いてもよい。式（Ｄ２－２）で表される構造を有する化合物としては、例えば、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－（４－イソプロペニルフェニル）プロパン－１－オンのオリゴマー、α，α－ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタールが挙げられる。感度の点で、アルキルフェノン化合物としては、式（Ｄ２－１）で表される構造を有する化合物が好ましい。
トリアジン化合物としては、例えば、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－ピペロニル－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジンが挙げられる。
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ・ジャパン（株）製）等の市販品を用いてもよい。
ビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（２，３－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６－７５３７２号公報、特開平６－７５３７３号公報等参照。）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８－３８４０３号公報、特開昭６２－１７４２０４号公報等参照。）、４，４’，５，５’－位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているビイミダゾール化合物（例えば、特開平７－１０９１３号公報等参照）が挙げられる。
さらに重合開始剤（Ｄ）としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物；ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；９，１０－フェナンスレンキノン、２－エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン化合物；１０－ブチル－２－クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。これらは、後述の重合開始助剤（Ｈ）（特にアミン化合物）と組合せて用いることができる。
重合開始剤（Ｄ）としては、酸発生剤も用いることができる。酸発生剤としては、例えば、４－ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムｐ－トルエンスルホナート、４－ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－アセトキシフェニルジメチルスルホニウムｐ－トルエンスルホナート、４－アセトキシフェニル・メチル・ベンジルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムｐ－トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムｐ－トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のオニウム塩や、ニトロベンジルトシレート、ベンゾイントシレートが挙げられる。
本発明の樹脂組成物が重合性化合物（Ｃ）及び重合開始剤（Ｄ）を含む場合、重合開始剤（Ｄ）の含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１～３０質量部、より好ましくは０．５～１５質量部、さらに好ましくは１～８質量部である。重合開始剤（Ｄ）の含有量が前記の範囲内にあると、得られるパターンの可視光透過率が高い傾向がある。
＜重合開始助剤（Ｈ）＞
重合開始助剤（Ｈ）は、重合開始剤（Ｄ）とともに、重合開始剤（Ｄ）によって重合が開始された重合性化合物（Ｃ）の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤である。
重合開始助剤（Ｈ）は、重合開始剤（Ｄ）とともに、重合開始剤（Ｄ）によって重合が開始された重合性化合物（Ｃ）の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤である。
重合開始助剤（Ｈ）としては、チアゾリン化合物、アミン化合物、アルコキシアントラセン化合物、チオキサントン化合物、カルボン酸化合物等が挙げられる。
チアゾリン化合物としては、式（Ｈ１－１）～式（Ｈ１－３）で表される化合物、特開２００８－６５３１９号公報記載の化合物等が挙げられる。
アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２－ジメチルアミノエチル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ－ジメチルパラトルイジン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称ミヒラーズケトン）、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられ、中でも４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。ＥＡＢ－Ｆ（保土谷化学工業（株）製）等の市販品を用いてもよい。
アルコキシアントラセン化合物としては、９，１０－ジメトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジブトキシアントラセン等が挙げられる。
チオキサントン化合物としては、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン等が挙げられる。
カルボン酸化合物としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、Ｎ－フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ－ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物が重合性化合物（Ｃ）、重合開始剤（Ｄ）及び重合開始助剤（Ｈ）を含む場合、重合開始助剤（Ｈ）の含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１～３０質量部、より好ましくは０．２～１０質量部である。重合開始助剤（Ｈ）の量が前記の範囲内にあると、パターンを形成する際、さらに高感度になる傾向にある。
＜レベリング剤（Ｌ）＞
レベリング剤（Ｌ）としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。これらは、側鎖に重合性基を有していてもよい。
レベリング剤（Ｌ）としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及びフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。これらは、側鎖に重合性基を有していてもよい。
シリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ８４００（商品名：東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２及びＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。
前記のフッ素系界面活性剤としては、分子内にフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、フロラード（登録商標）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ５５４、同Ｒ３０、同ＲＳ－７１８－Ｋ（ＤＩＣ（株）製）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）及びＥ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）等が挙げられる。
前記のフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、メガファック（登録商標）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７及び同Ｆ４４３（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
レベリング剤（Ｌ）を含有する場合、その含有率は、樹脂組成物の総量に対して、好ましくは０．００１質量％以上０.２質量％以下であり、より好ましくは０.００２質量％以上０．１質量％以下であり、さらに好ましくは０.００５質量％以上０．０７質量％以下
である。
である。
＜酸化防止剤（Ｆ）＞
酸化防止剤（Ｆ）としては、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤が挙げられる。中でも、得られる膜の着色が少ないという点で、フェノール系酸化防止剤が好ましい。
酸化防止剤（Ｆ）としては、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤が挙げられる。中でも、得られる膜の着色が少ないという点で、フェノール系酸化防止剤が好ましい。
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２－ｔｅｒｔ－ブチル－６－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルベンジル）－４－メチルフェニルアクリレート、２－［１－（２－ヒドロキシ－３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチルフェニル）エチル］－４，６－ジ－ｔｅｒｔ－ペンチルフェニルアクリレート、３，９－ビス［２－｛３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝－１，１－ジメチルエチル］－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２，２’－メチレンビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール）、４，４’－ブチリデンビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－３－メチルフェノール）、４，４’－チオビス（２－ｔｅｒｔ－ブチル－５－メチルフェノール）、２，２’－チオビス（６－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール）、１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、３，３’，３”，５，５’，５”－ヘキサ－ｔｅｒｔ－ブチル－ａ，ａ’，ａ”－（メシチレン－２，４，６－トリイル）トリ－ｐ－クレゾール、ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェノール及び６－［３－（３－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピンが挙げられる。 前記フェノール系酸化防止剤としては、市販品を使用して
もよい。市販されているフェノール系酸化防止剤としては、例えば、スミライザー（登録商標）ＢＨＴ、ＧＭ、ＧＳ、ＧＰ（以上、全て住友化学（株）製）、イルガノックス（登録商標）１０１０、１０７６、１３３０、３１１４（以上、全てＢＡＳＦ（株）製）が挙げられる。
もよい。市販されているフェノール系酸化防止剤としては、例えば、スミライザー（登録商標）ＢＨＴ、ＧＭ、ＧＳ、ＧＰ（以上、全て住友化学（株）製）、イルガノックス（登録商標）１０１０、１０７６、１３３０、３１１４（以上、全てＢＡＳＦ（株）製）が挙げられる。
イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル３，３’－チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’－チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３－ラウリルチオプロピオネート）が挙げられる。前記イオウ系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているイオウ系酸化防止剤としては、例えば、スミライザー（登録商標）ＴＰＬ－Ｒ、ＴＰ－Ｄ（以上、全て住友化学（株）製）が挙げられる。
リン系酸化防止剤としては、例えば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）－１，１，３－トリス（２－メチル－５－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）ブタンジホスファイトが挙げられる。前記リン系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているリン系酸化防止剤としては、例えば、イルガフォス（登録商標）１６８、１２、３８（以上、全てＢＡＳＦ（株）製）、アデカスタブ３２９Ｋ、アデカスタブＰＥＰ３６（以上、全て（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
アミン系酸化防止剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ’－ジ－ｓｅｃ－ブチル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ジ－イソプロピル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ジシクロヘキシル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－ｐ－フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’－ビス（２－ナフチル）－ｐ－フェニレンジアミンが挙げられる。前記アミン系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているアミン系酸化防止剤としては、例えば、スミライザー（登録商標）ＢＰＡ、ＢＰＡ－Ｍ１、４ＭＬ（以上、全て住友化学（株）製）が挙げられる。
本発明の樹脂組成物が酸化防止剤（Ｆ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上５質量部以下、より好ましくは０．５質量部以上３質量部以下である。酸化防止剤（Ｆ）の含有量が前記の範囲内にあると、得られる膜は耐熱性及び鉛筆硬度に優れる傾向がある。
＜硬化剤（Ｇ）＞
＜多価カルボン酸（Ｇ１）＞
多価カルボン酸（Ｇ１）は、多価カルボン酸無水物及び多価カルボン酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である。多価カルボン酸とは、２つ以上のカルボキシ基を有する化合物であり、多価カルボン酸無水物とは、多価カルボン酸の無水物である。多価カルボン酸（Ｇ１）の分子量は、好ましくは３０００以下、より好ましくは１０００以下である。
＜多価カルボン酸（Ｇ１）＞
多価カルボン酸（Ｇ１）は、多価カルボン酸無水物及び多価カルボン酸からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物である。多価カルボン酸とは、２つ以上のカルボキシ基を有する化合物であり、多価カルボン酸無水物とは、多価カルボン酸の無水物である。多価カルボン酸（Ｇ１）の分子量は、好ましくは３０００以下、より好ましくは１０００以下である。
前記の多価カルボン酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、グルタル酸無水物、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、２－ドデシルコハク酸無水物、２－（２－オクタ－３－エニル）コハク酸無水物、２－（２，４，６－トリメチルノナ－３－エニル）コハク酸無水物、トリカルバリル酸無水物、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸二無水物等の鎖状多価カルボン酸無水物；３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、４－メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ノルボルネンジカルボン酸無水物、メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン－２，３－ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン－２，３－ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２．２．１］ヘプタ－５－エン－２，３－ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ－５－エン－２，３－ジカルボン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等の脂環式多価カルボン酸無水物；無水フタル酸、３－ビニルフタル酸無水物、４－ビニルフタル酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、グリセリントリス（アンヒドロトリメリテート）、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート、１，３，３ａ，４，５，９ｂ－ヘキサヒドロ－５－（テトラヒドロ－２，５－ジオキソ－３－フラニル）ナフト［１，２－ｃ］フラン－１，３－ジオン等の芳香族多価カルボン酸無水物；が挙げられる。アデカハードナ（登録商標）－ＥＨ－７００（商品名（以下同様）、（株）ＡＤＥＫＡ製）、リカシッド（登録商標）－ＨＨ、同－ＴＨ、同－ＭＨ、同ＭＨ－７００（新日本理化（株）製）、エピキニア１２６、同ＹＨ－３０６、同ＤＸ－１２６（油化シェルエポキシ（株）製）等の市販品を用いてもよい。
前記の多価カルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、酒石酸、クエン酸、鎖状多価カルボン酸無水物を導く多価カルボン酸等の鎖状多価カルボン酸；シクロヘキサンジカルボン酸、脂環式多価カルボン酸無水物を導く多価カルボン酸等の脂環式多価カルボン酸；イソフタル酸、テレフタル酸、１，４，５，８－ナフタレンテトラカルボン酸、芳香族多価カルボン酸無水物を導く多価カルボン酸等の芳香族多価カルボン酸；等が挙げられる。
中でも、得られる膜の耐熱性に優れ、特に可視光領域での透明性が低下しにくい点から、鎖状カルボン酸無水物、脂環式多価カルボン酸無水物が好ましく、脂環式多価カルボン酸無水物がより好ましい。
本発明の樹脂組成物が多価カルボン酸（Ｇ１）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは１～３０質量部、より好ましくは２～２０質量部、さらに好ましくは２～１５質量部である。多価カルボン酸（Ｇ１）の含有量が前記の範囲内にあると、得られる膜の耐熱性及び密着性に優れる。
＜イミダゾール化合物（Ｇ２）＞
イミダゾール化合物（Ｇ２）は、イミダゾール骨格を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、エポキシ硬化剤として知られている化合物が挙げられる。中でも、式（Ｇ２－１）で表される化合物が好ましい。
イミダゾール化合物（Ｇ２）は、イミダゾール骨格を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、エポキシ硬化剤として知られている化合物が挙げられる。中でも、式（Ｇ２－１）で表される化合物が好ましい。
［式（Ｇ２－１）中、Ｒ31は、炭素数１～２０のアルキル基、フェニル基、ベンジル基又は炭素数２～５のシアノアルキル基を表す。
Ｒ3２～Ｒ34は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０のアルキル
基、フェニル基、ニトロ基又は炭素数１～２０のアシル基を表し、該アルキル基及び該フェニル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。］
Ｒ3２～Ｒ34は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～２０のアルキル
基、フェニル基、ニトロ基又は炭素数１～２０のアシル基を表し、該アルキル基及び該フェニル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。］
炭素数１～２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基、ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ヘプタデシル基、ウンデシル基が挙げられる。
炭素数２～５のシアノアルキル基としては、例えば、シアノメチル基、シアノエチル基、シアノプロピル基、シアノブチル基、シアノペンチル基が挙げられる。
炭素数２～５のシアノアルキル基としては、例えば、シアノメチル基、シアノエチル基、シアノプロピル基、シアノブチル基、シアノペンチル基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
炭素数１～２０のアシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、ステアロイル基が挙げられる。
炭素数１～２０のアシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、ステアロイル基が挙げられる。
イミダゾール化合物（Ｇ２）としては、例えば、１－メチルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－ヒドロキシメチルイミダゾール、２－メチル－４－ヒドロキシメチルイミダゾール、５－ヒドロキシメチル－４－メチルイミダゾール、２－エチルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、２－ヘプタデシルイミダゾール、１，２－ジメチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、４－ヒドロキシメチル－２－フェニルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－フェニル－２－ヒドロキシメチルイミダゾール、１－ベンジル－４－メチルイミダゾール、１－ベンジル－４－フェニルイミダゾール、１－ベンジル－５－ヒドロキシメチルイミダゾール、２－（ｐ－ヒドロキシフェニル）イミダゾール、１－シアノメチル－２－メチルイミダゾール、１－（２－シアノエチル）－２－ヒドロキシメチルイミダゾール、２，４－ジフェニルイミダゾール、１－シアノメチル－２－ウンデシルイミダゾール、１－シアノメチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノメチル－２－フェニルイミダゾール、１－（２－シアノエチル）－２－エチル－４－メチルイミダゾールが挙げられる。中でも１－ベンジル－４－フェニルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－（２－シアノエチル）－２－エチル－４－メチルイミダゾールが好ましい。
本発明の樹脂組成物がイミダゾール化合物（Ｇ２）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上２５質量部以下、より好ましくは０．２質量部以上１５質量部以下、さらに好ましくは０．５質量部以上５質量部以下である。イミダゾール化合物（Ｇ２）の含有量が前記の範囲にあると、得られる膜は可視光領域における透明性に優れる傾向がある。
＜溶剤（Ｅ）＞
本発明の樹脂組成物は、溶剤（Ｅ）を含有する。溶剤（Ｅ）としては、特に限定されず、当該分野で通常使用される溶剤を挙げることができる。例えば、エステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－を含み、－Ｏ－を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に－Ｏ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－と－Ｏ－とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に－ＣＯ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、アルコール溶剤（分子内にＯＨを含み、－Ｏ－、－ＣＯ－及び－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物は、溶剤（Ｅ）を含有する。溶剤（Ｅ）としては、特に限定されず、当該分野で通常使用される溶剤を挙げることができる。例えば、エステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－を含み、－Ｏ－を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に－Ｏ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－と－Ｏ－とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に－ＣＯ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、アルコール溶剤（分子内にＯＨを含み、－Ｏ－、－ＣＯ－及び－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、２－ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテート及びγ－ブチロラクトンなどが挙げられる。
エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３－メトキシ－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４－ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトール及びメチルアニソールなどが挙げられる。
エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸プロピル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－エトキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート及びジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。
ケトン溶剤としては、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、アセトン、２－ブタノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、４－メチル－２－ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン及びイソホロンなどが挙げられる。
アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール及びグリセリンなどが挙げられる。
芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン及びメシチレンなどが挙げられる。アミド溶剤としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド及びＮ－メチルピロリドンなどが挙げられる。
上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、１ａｔｍにおける沸点が１００℃以上２００℃以下である有機溶剤が好ましい。溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールエチルメチルエーテル、シクロヘキサノン、メトキシブタノール及びメトキシブチルアセテートが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールエチルメチルエーテル、メトキシブタノール及びメトキシブチルアセテートがより好ましい。
本発明の樹脂組成物における溶剤（Ｅ）の含有率は、樹脂組成物の総量に対して、好ましくは６０～９５質量％、より好ましくは７０～９５質量％である。言い換えると、本発明の樹脂組成物の固形分は、好ましくは５～４０質量％、より好ましくは５～３０質量％である。溶剤（Ｅ）の含有率が、前記の範囲にあると、樹脂組成物を塗布して得られた膜の機械強度を向上させることができる傾向がある。
＜その他の成分＞
本発明の樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、その他の高分子化合物、紫外線吸収剤、連鎖移動剤、密着促進剤等、当該技術分野において公知の添加剤を含有していてもよい。
本発明の樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、その他の高分子化合物、紫外線吸収剤、連鎖移動剤、密着促進剤等、当該技術分野において公知の添加剤を含有していてもよい。
＜樹脂組成物の製造方法＞
本発明の樹脂組成物は、樹脂（Ａ）、無機粒子（Ｂ）、及び溶剤（Ｅ）、並びに、必要に応じて用いられる重合性化合物（Ｃ）、重合開始剤（Ｄ）、重合開始助剤（Ｈ）、レベリング剤（Ｌ）、酸化防止剤（Ｆ）、硬化剤（Ｇ）及びその他の成分を、公知の方法で混合することにより製造することができる。
本発明の樹脂組成物は、樹脂（Ａ）、無機粒子（Ｂ）、及び溶剤（Ｅ）、並びに、必要に応じて用いられる重合性化合物（Ｃ）、重合開始剤（Ｄ）、重合開始助剤（Ｈ）、レベリング剤（Ｌ）、酸化防止剤（Ｆ）、硬化剤（Ｇ）及びその他の成分を、公知の方法で混合することにより製造することができる。
＜膜の製造方法＞
膜は、本発明の樹脂組成物を基板上に塗布し、乾燥後、加熱することにより製造することができる。より具体的には、本発明の膜の製造方法は、以下の工程（１）～（５）を含む。
工程（１）：本発明の樹脂組成物を基板に塗布する工程、
工程（２）：塗布後の樹脂組成物を減圧乾燥及び／又は加熱乾燥させて、組成物層を形成する工程、
工程（３）：組成物層を、フォトマスクを介して露光する工程、
工程（４）：露光後の組成物層を現像する工程、
工程（５）：現像後の組成物層を加熱する工程。
膜は、本発明の樹脂組成物を基板上に塗布し、乾燥後、加熱することにより製造することができる。より具体的には、本発明の膜の製造方法は、以下の工程（１）～（５）を含む。
工程（１）：本発明の樹脂組成物を基板に塗布する工程、
工程（２）：塗布後の樹脂組成物を減圧乾燥及び／又は加熱乾燥させて、組成物層を形成する工程、
工程（３）：組成物層を、フォトマスクを介して露光する工程、
工程（４）：露光後の組成物層を現像する工程、
工程（５）：現像後の組成物層を加熱する工程。
工程（１）は、本発明の樹脂組成物を基板（下地基板）に塗布する工程である。基板としては、ガラス、金属、プラスチック等が挙げられ、基板上にカラーフィルタ、絶縁膜、導電膜及び／又は駆動回路等が形成されていてもよい。基板上への塗布は、スピンコーター、スリット＆スピンコーター、スリットコーター、インクジェット、ロールコータ、ディップコーター等の塗布装置を用いて行うことが好ましい。
工程（２）は、塗布後の樹脂組成物を減圧乾燥及び／又は加熱乾燥させて、組成物層を形成する工程である。該工程を行うことにより、樹脂組成物中の溶剤等の揮発成分を除去する。減圧乾燥は、５０～１５０Ｐａの圧力の下で、２０～２５℃の温度範囲で行うことが好ましい。減圧乾燥の前又は後に、加熱乾燥（プリベーク）を行ってもよい。加熱乾燥は、通常、オーブン、ホットプレート等の加熱装置を用いて行う。加熱乾燥の温度は、好ましくは３０～１２０℃、より好ましくは５０～１１０℃である。また加熱時間は、好ましくは１０秒間～６０分間、より好ましくは３０秒間～３０分間である。
工程（３）は、工程（２）により形成された組成物層を、フォトマスクを介して露光する工程である。該フォトマスクは、組成物層の除去したい部分に対応して、遮光部が形成されたものを用いる。遮光部の形状は、特に限定されず、目的とする用途に応じて選択できる。露光に用いられる光源としては、２５０～４５０ｎｍの波長の光を発生する光源が好ましい。例えば、３５０ｎｍ未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出したりしてもよい。光源としては、水銀灯、発光ダイオード、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等が挙げられる。
露光面全体に均一に平行光線を照射することや、フォトマスクと組成物層との正確な位置合わせを行うことができるため、マスクアライナ、ステッパ等の露光装置を用いることが好ましい。
露光面全体に均一に平行光線を照射することや、フォトマスクと組成物層との正確な位置合わせを行うことができるため、マスクアライナ、ステッパ等の露光装置を用いることが好ましい。
工程（４）は、露光後の組成物層を現像する工程である。露光後の組成物層を現像液に接触させて現像することにより、組成物層の未露光部が現像液に溶解して除去されて、基板上にパターンを有する組成物層が形成される。現像液としては、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ性化合物の水溶液が好ましい。これらのアルカリ性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは０．０１～１０質量％、より好ましくは０．０３～５質量％である。さらに、現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。 現像方法は、パドル法、ディッピング法及びスプレー法等
のいずれでもよい。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けてもよい。現像後は、水洗することが好ましい。
のいずれでもよい。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けてもよい。現像後は、水洗することが好ましい。
工程（５）は、現像後の組成物層を加熱する工程（ポストベーク）である。加熱は、通常、オーブン、ホットプレート等の加熱装置を用いて行う。加熱温度は、好ましくは１３０～２７０℃、より好ましくは１５０～２６０℃、さらに好ましくは２００～２５０℃である。加熱温度が、２００～２５０℃であると、膜中に不要な溶剤が残存することを防ぐことができる。加熱時間は、好ましくは１～１２０分間、より好ましくは１０～６０分間である。工程（５）により、パターンを有する組成物層が硬化して、パターンを有する膜が基板上に形成される。
＜膜の用途＞
このようにして得られる膜は、屈折率が高くかつ優れた現像性を有するため、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置や電子ペーパーにおいて用いられるカラーフィルタ基板として有用である。これにより、高品質の膜を備えた表示装置を製造することが可能となる。このようにして得られる膜は、屈折率が高くかつ優れた現像性を有するため、例えば、マイクロレンズアレイとして有用である。マイクロレンズアレイは、従来のマイクロレンズアレイと同様の用途に用いることができる。例えば、表示装置、固体撮像素子に配置して用いることができる。表示装置においては、各画素に対応するようにマイクロレンズを配置し、各画素からマイクロレンズを介して光が出射されるように構成することにより、各画素からの光取り出し効率を向上させることができる。固体撮像素子においては、複数の光電変換素子からなる光電変換素子層と、カラーフィルターと、マイクロレンズアレイと、が順に積層された構成とし、さらに各光電変換素子に対応するようにマイクロレンズを配置し、マイクロレンズを介して光電変換素子に光が入射されるように構成することにより、各光電変換素子への集光効率を向上させることができる。
このようにして得られる膜は、屈折率が高くかつ優れた現像性を有するため、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置や電子ペーパーにおいて用いられるカラーフィルタ基板として有用である。これにより、高品質の膜を備えた表示装置を製造することが可能となる。このようにして得られる膜は、屈折率が高くかつ優れた現像性を有するため、例えば、マイクロレンズアレイとして有用である。マイクロレンズアレイは、従来のマイクロレンズアレイと同様の用途に用いることができる。例えば、表示装置、固体撮像素子に配置して用いることができる。表示装置においては、各画素に対応するようにマイクロレンズを配置し、各画素からマイクロレンズを介して光が出射されるように構成することにより、各画素からの光取り出し効率を向上させることができる。固体撮像素子においては、複数の光電変換素子からなる光電変換素子層と、カラーフィルターと、マイクロレンズアレイと、が順に積層された構成とし、さらに各光電変換素子に対応するようにマイクロレンズを配置し、マイクロレンズを介して光電変換素子に光が入射されるように構成することにより、各光電変換素子への集光効率を向上させることができる。
膜の厚さは、その用途により異なるものの、好ましくは０．５μｍ以上５μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下である。
膜の好ましい屈折率は、その用途により異なるものの、５５０ｎｍにおける屈折率は、例えば１．２以上２．０以下であり、好ましくは１．５以上１．９以下、より好ましくは１．６以上１．８以下である。膜の屈折率の測定方法は後述の実施例に記載の方法による。
以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記しない限り、質量％及び質量部である。
［合成例１：樹脂（ａ１）］
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２９７重量部およびシクロペンタノン９重量部を入れ、攪拌しながら８５℃まで加熱した。次いで、３，４－エポキシトリシクロ［５．２．１．０ ２，６］デカン－８又は/及び９－イルアクリレートの混合物２８．５重量部、アクリル酸３８．５重量部、９-ビニルカルバゾール２３３重量部、シクロペンタノン２００重量部の混合溶液を５時間かけて滴下した。一方、２，２－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）４重量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１９０重量部に溶解した混合溶液を５時間かけて滴下した。滴下終了後、３時間同温度で保持した後、室温まで冷却して、B型粘度（２３℃）１００ｍＰａｓ、固形分３３．７重量％の共重合体を得た。生成した共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１５０００、分散度２．７６であった。
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２９７重量部およびシクロペンタノン９重量部を入れ、攪拌しながら８５℃まで加熱した。次いで、３，４－エポキシトリシクロ［５．２．１．０ ２，６］デカン－８又は/及び９－イルアクリレートの混合物２８．５重量部、アクリル酸３８．５重量部、９-ビニルカルバゾール２３３重量部、シクロペンタノン２００重量部の混合溶液を５時間かけて滴下した。一方、２，２－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）４重量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１９０重量部に溶解した混合溶液を５時間かけて滴下した。滴下終了後、３時間同温度で保持した後、室温まで冷却して、B型粘度（２３℃）１００ｍＰａｓ、固形分３３．７重量％の共重合体を得た。生成した共重合体の重量平均分子量Ｍｗは１５０００、分散度２．７６であった。
［合成例２：樹脂（ａ２）］
攪拌翼、還流冷却管、温度計及び滴下ロートを備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００質量部を仕込み、９０℃に加温した。ビニルカルバゾール５２．６質量部、２－（アセトアセトキシ）エチルメタクリレート６．６質量部、メタクリル酸２３．１質量部、アゾビス（イソブチロニトリル）５．０質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を混合した溶液を、滴下ロートにてフラスコ内に連続滴下を開始した。混合溶液滴下中のフラスコ内温度を９０±１℃に保ち、３時間で滴下を終了した。
滴下終了後、フラスコ内温度を９０±１℃にして６時間反応を行った。
反応後、反応液を４０℃以下になるまで冷却し、重合禁止剤０．１２質量部、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル１２．４質量部、トリフェニルホスフィン４．５質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０質量部を投入し、フラスコ内温度を１１０℃まで昇温させた後、フラスコ内温度１１０±１℃にて付加反応を行うことによりバインダー樹脂溶液を得た。
攪拌翼、還流冷却管、温度計及び滴下ロートを備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００質量部を仕込み、９０℃に加温した。ビニルカルバゾール５２．６質量部、２－（アセトアセトキシ）エチルメタクリレート６．６質量部、メタクリル酸２３．１質量部、アゾビス（イソブチロニトリル）５．０質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を混合した溶液を、滴下ロートにてフラスコ内に連続滴下を開始した。混合溶液滴下中のフラスコ内温度を９０±１℃に保ち、３時間で滴下を終了した。
滴下終了後、フラスコ内温度を９０±１℃にして６時間反応を行った。
反応後、反応液を４０℃以下になるまで冷却し、重合禁止剤０．１２質量部、４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル１２．４質量部、トリフェニルホスフィン４．５質量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０質量部を投入し、フラスコ内温度を１１０℃まで昇温させた後、フラスコ内温度１１０±１℃にて付加反応を行うことによりバインダー樹脂溶液を得た。
得られた樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）の測定は、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置：ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
カラム：ＴＳＫ－ＧＥＬＧ２０００ＨＸＬ
カラム温度：４０℃
溶媒：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
被検液固形分濃度：０．００１～０．０１質量％
注入量：５０μＬ
検出器：ＲＩ
較正用標準物質：ＴＳＫ ＳＴＡＮＤＡＲＤ ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ Ｆ－４０、Ｆ－４、Ｆ－２８８、Ａ－２５００、Ａ－５００（東ソー（株）製）
上記で得られたポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量の比（Ｍｗ／Ｍｎ）を分散度とした。
装置：ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
カラム：ＴＳＫ－ＧＥＬＧ２０００ＨＸＬ
カラム温度：４０℃
溶媒：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
被検液固形分濃度：０．００１～０．０１質量％
注入量：５０μＬ
検出器：ＲＩ
較正用標準物質：ＴＳＫ ＳＴＡＮＤＡＲＤ ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ Ｆ－４０、Ｆ－４、Ｆ－２８８、Ａ－２５００、Ａ－５００（東ソー（株）製）
上記で得られたポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量の比（Ｍｗ／Ｍｎ）を分散度とした。
［分散例１：無機粒子分散液（ｂ１）］
分散剤（固形分５０％、固形分換算の酸価１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量３，０００）１４部、酸化ジルコニウム粒子３５部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５１部、及び分散メディアとして平均粒子径が５０μｍの酸化ジルコニウムビーズ１５０部を、３００ｍＬ瓶に入れ、分散機（セイワ技研社製ロッキングシェーカーＲＳ－０５Ｗ）を用いて、６０Ｈｚにて１０時間分散させた。その後、酸化ジルコニウムビーズをろ過にて取り除くことにより、酸化ジルコニウム粒子を無機粒子として含む無機粒子分散液（ｂ１）を得た。得られた無機粒子分散液（ｂ１）中の不揮発分は、４２質量％であり、酸化ジルコニウム粒子の平均粒子径は、３０ｎｍであった。
分散剤（固形分５０％、固形分換算の酸価１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量３，０００）１４部、酸化ジルコニウム粒子３５部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５１部、及び分散メディアとして平均粒子径が５０μｍの酸化ジルコニウムビーズ１５０部を、３００ｍＬ瓶に入れ、分散機（セイワ技研社製ロッキングシェーカーＲＳ－０５Ｗ）を用いて、６０Ｈｚにて１０時間分散させた。その後、酸化ジルコニウムビーズをろ過にて取り除くことにより、酸化ジルコニウム粒子を無機粒子として含む無機粒子分散液（ｂ１）を得た。得られた無機粒子分散液（ｂ１）中の不揮発分は、４２質量％であり、酸化ジルコニウム粒子の平均粒子径は、３０ｎｍであった。
［分散例２：無機粒子分散液（ｂ３）］
酸化チタン粒子（平均粒子径３００ｎｍ）を１５．０部、酸性樹脂型顔料分散剤を２．０部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８３部を混合し、平均粒子径が０．４ｍｍの酸化ジルコニウムビーズ３００部を加え、ペイントコンディショナー（ＬＡＵ社製）を使用して１時間振盪した。その後、酸化ジルコニウムビーズをろ過により除去して酸化チタン粒子を無機粒子として含む無機粒子分散液（ｂ３）を得た。
酸化チタン粒子（平均粒子径３００ｎｍ）を１５．０部、酸性樹脂型顔料分散剤を２．０部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８３部を混合し、平均粒子径が０．４ｍｍの酸化ジルコニウムビーズ３００部を加え、ペイントコンディショナー（ＬＡＵ社製）を使用して１時間振盪した。その後、酸化ジルコニウムビーズをろ過により除去して酸化チタン粒子を無機粒子として含む無機粒子分散液（ｂ３）を得た。
［実施例１～７、比較例１］
＜樹脂組成物の調製＞
表１に示す樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｃ）、重合開始剤（Ｄ）、無機粒子（Ｂ）、レベリング剤（Ｌ）及び溶剤（Ｅ）を、表１に示す割合で混合して樹脂組成物を得た。表１において、各成分の部数は、固形分換算の質量部を表す。
＜樹脂組成物の調製＞
表１に示す樹脂（Ａ）、重合性化合物（Ｃ）、重合開始剤（Ｄ）、無機粒子（Ｂ）、レベリング剤（Ｌ）及び溶剤（Ｅ）を、表１に示す割合で混合して樹脂組成物を得た。表１において、各成分の部数は、固形分換算の質量部を表す。
表１における各成分は以下の通りである。
樹脂（Ａ）：
（ａ１）：合成例１により得られた樹脂（固形分換算）
重合性化合物（Ｃ）：
（ｃ１）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）、
重合開始剤（Ｄ）：
（ｄ１）：Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミン（イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１；ＢＡＳＦ（株）製）
無機粒子（Ｂ）：
（ｂ１）：分散例１により得られた無機粒子分散液（固形分換算（無機粒子及び分散剤の合計量））
（ｂ２）：ＫＥ－Ｅ－１５０（シーホスター（登録商標）；（株）日本触媒製）（２０％エチレングリコール液、固形分換算、平均粒子径１５００ｎｍ）
（ｂ３）：分散例２により得られた無機粒子分散液（固形分換算（無機粒子及び分散剤の合計量））
レベリング剤（Ｌ）：
（ｌ１）：ポリエーテル変性シリコーンオイル：商品名トーレシリコーンＳＨ８４００：東レダウコーニング（株）製
溶剤（Ｅ）：
（ｅ１）エチレングリコール
（ｅ２）シクロペンタノン
（ｅ３）プロピレングリコールモノメチルエーテル
（ｅ４）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
樹脂（Ａ）：
（ａ１）：合成例１により得られた樹脂（固形分換算）
重合性化合物（Ｃ）：
（ｃ１）：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）、
重合開始剤（Ｄ）：
（ｄ１）：Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミン（イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１；ＢＡＳＦ（株）製）
無機粒子（Ｂ）：
（ｂ１）：分散例１により得られた無機粒子分散液（固形分換算（無機粒子及び分散剤の合計量））
（ｂ２）：ＫＥ－Ｅ－１５０（シーホスター（登録商標）；（株）日本触媒製）（２０％エチレングリコール液、固形分換算、平均粒子径１５００ｎｍ）
（ｂ３）：分散例２により得られた無機粒子分散液（固形分換算（無機粒子及び分散剤の合計量））
レベリング剤（Ｌ）：
（ｌ１）：ポリエーテル変性シリコーンオイル：商品名トーレシリコーンＳＨ８４００：東レダウコーニング（株）製
溶剤（Ｅ）：
（ｅ１）エチレングリコール
（ｅ２）シクロペンタノン
（ｅ３）プロピレングリコールモノメチルエーテル
（ｅ４）プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
＜パターン（膜）の作製＞
４インチのシリコン基板の表面に、ＨＭＤＳ（東京化成工業（株）製；ヘキサメチルジシラザン）を蒸気蒸着し、その上に樹脂組成物をスピンコート法で塗布した後、１００℃で１分間ホットプレートでプリベークして樹脂組成物層を得た。放冷後、樹脂組成物層を形成した基板を露光機（ＮＳＲ－２２０５i１１Ｄ；ニコン（株）製）を用いて、露光量を６００Ｊ／ｍ2から２００Ｊ／ｍ2刻みで４２００Ｊ／ｍ2まで変化させて光照射した。フォトマスクとして、３０μｍ、１０μｍ、５μｍ、４μｍ、３μｍ、２μｍ、１．５μｍ角のドットパターンを形成するためのものを使用した。光照射後の樹脂組成物層を、０．３％テトラメチルアンモニウムヒドロキシドを含む水系現像液に２３℃で３０秒間浸漬現像し、水洗後の、樹脂組成物層を２３０℃で５分間ホットプレートでポストベークし、パターンを得た。
４インチのシリコン基板の表面に、ＨＭＤＳ（東京化成工業（株）製；ヘキサメチルジシラザン）を蒸気蒸着し、その上に樹脂組成物をスピンコート法で塗布した後、１００℃で１分間ホットプレートでプリベークして樹脂組成物層を得た。放冷後、樹脂組成物層を形成した基板を露光機（ＮＳＲ－２２０５i１１Ｄ；ニコン（株）製）を用いて、露光量を６００Ｊ／ｍ2から２００Ｊ／ｍ2刻みで４２００Ｊ／ｍ2まで変化させて光照射した。フォトマスクとして、３０μｍ、１０μｍ、５μｍ、４μｍ、３μｍ、２μｍ、１．５μｍ角のドットパターンを形成するためのものを使用した。光照射後の樹脂組成物層を、０．３％テトラメチルアンモニウムヒドロキシドを含む水系現像液に２３℃で３０秒間浸漬現像し、水洗後の、樹脂組成物層を２３０℃で５分間ホットプレートでポストベークし、パターンを得た。
＜現像性評価＞
得られたパターン付基板を、接触式膜厚測定装置（ＤＥＫＴＡＫ６Ｍ；（株）アルバック製）を用いて観察した。未露光部が現像され残膜が認められなければＡ、現像が不十分で残膜が認められればＢとした。結果を表２に示す。
得られたパターン付基板を、接触式膜厚測定装置（ＤＥＫＴＡＫ６Ｍ；（株）アルバック製）を用いて観察した。未露光部が現像され残膜が認められなければＡ、現像が不十分で残膜が認められればＢとした。結果を表２に示す。
＜解像性評価＞
得られたパターン付基板を、顕微鏡（倍率５００倍；ＶＦ－７５１０；（株）キーエンス製）を用いて観察し、基板上に形成されていた最小のパターンサイズを解像性能とした。結果を表３に示す。実施例１～８における解像性は、いずれも５０μｍ以下であり、良好であった。比較例１は現像性が不十分であったため、解像性の評価ができなかった。
得られたパターン付基板を、顕微鏡（倍率５００倍；ＶＦ－７５１０；（株）キーエンス製）を用いて観察し、基板上に形成されていた最小のパターンサイズを解像性能とした。結果を表３に示す。実施例１～８における解像性は、いずれも５０μｍ以下であり、良好であった。比較例１は現像性が不十分であったため、解像性の評価ができなかった。
＜屈折率測定＞
４インチのシリコン基板の表面に、ＨＭＤＳ（東京化成工業（株）製；ヘキサメチルジシラザン）を蒸気蒸着し、その上に樹脂組成物をスピンコート法で塗布した後、１００℃で１分間ホットプレートでプリベークして樹脂組成物層を得た。冷却後、得られた樹脂組成物層に露光機（ＴＭＥ－１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製、光源；超高圧水銀灯）を用いて、大気雰囲気下、露光量（３６５ｎｍ基準）５００ｍＪ／ｃｍ2を照射し、２３０℃
で５分間加熱し、得られた膜を、分光エリプソメータ（Ｍ－２２０；日本分光（株）製）を用いて、５５０ｎｍにおける屈折率を測定した。屈折率は、高いほどレンズ材として好ましい。結果を表４に示す。
４インチのシリコン基板の表面に、ＨＭＤＳ（東京化成工業（株）製；ヘキサメチルジシラザン）を蒸気蒸着し、その上に樹脂組成物をスピンコート法で塗布した後、１００℃で１分間ホットプレートでプリベークして樹脂組成物層を得た。冷却後、得られた樹脂組成物層に露光機（ＴＭＥ－１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製、光源；超高圧水銀灯）を用いて、大気雰囲気下、露光量（３６５ｎｍ基準）５００ｍＪ／ｃｍ2を照射し、２３０℃
で５分間加熱し、得られた膜を、分光エリプソメータ（Ｍ－２２０；日本分光（株）製）を用いて、５５０ｎｍにおける屈折率を測定した。屈折率は、高いほどレンズ材として好ましい。結果を表４に示す。
Claims (6)
- 樹脂（Ａ）、無機粒子（Ｂ）及び溶剤（Ｅ）を含み、
前記樹脂（Ａ）は、置換基を有していてもよいカルバゾール環を有する構成単位（Ａｂ）を有する、樹脂組成物。 - 前記樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａｂ）と、炭素数２～４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構成単位（Ａａ）と、を有する、請求項１に記載の樹脂組成物。
- 前記構成単位（Ａａ）は、不飽和脂環式炭化水素がエポキシ化された構造を有する、請求項２に記載の樹脂組成物。
- 前記樹脂（Ａ）は、構成単位（Ａａ）と、構成単位（Ａｂ）と、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群に属する化合物によって導かれる構成単位（Ａｃ１）と、を有する、請求項２又は３に記載の樹脂組成物。
- 請求項１～４のいずれか１項に記載の樹脂組成物から形成された膜。
- 請求項５に記載の膜が含まれる表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022004038 | 2022-01-14 | ||
| JP2022-004038 | 2022-01-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2023136203A1 true WO2023136203A1 (ja) | 2023-07-20 |
Family
ID=87279013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2023/000136 WO2023136203A1 (ja) | 2022-01-14 | 2023-01-06 | 樹脂組成物、膜、及び表示装置 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2023103974A (ja) |
| TW (1) | TW202328218A (ja) |
| WO (1) | WO2023136203A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117631446A (zh) * | 2023-11-02 | 2024-03-01 | 张斌 | 抗蚀剂组合物及其应用 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08262766A (ja) * | 1995-03-22 | 1996-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | 電子写真用感光物、電子写真感光体とその製造方法、及びそれを用いたカラーフィルタとその製造方法 |
| JP2008298999A (ja) * | 2007-05-30 | 2008-12-11 | Jsr Corp | 無機粉体含有樹脂組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用部材の製造方法 |
| JP2012025826A (ja) * | 2010-07-22 | 2012-02-09 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 金属顔料組成物 |
| JP2019108410A (ja) * | 2017-12-15 | 2019-07-04 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 半導体ナノ粒子、該粒子を含む分散液、半導体層、積層体の製造方法、および、電界発光素子 |
| JP2021113971A (ja) * | 2020-01-17 | 2021-08-05 | 住友化学株式会社 | 着色硬化性組成物 |
-
2023
- 2023-01-06 WO PCT/JP2023/000136 patent/WO2023136203A1/ja unknown
- 2023-01-10 JP JP2023001688A patent/JP2023103974A/ja active Pending
- 2023-01-10 TW TW112100978A patent/TW202328218A/zh unknown
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH08262766A (ja) * | 1995-03-22 | 1996-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | 電子写真用感光物、電子写真感光体とその製造方法、及びそれを用いたカラーフィルタとその製造方法 |
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| JP2019108410A (ja) * | 2017-12-15 | 2019-07-04 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 半導体ナノ粒子、該粒子を含む分散液、半導体層、積層体の製造方法、および、電界発光素子 |
| JP2021113971A (ja) * | 2020-01-17 | 2021-08-05 | 住友化学株式会社 | 着色硬化性組成物 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN117631446A (zh) * | 2023-11-02 | 2024-03-01 | 张斌 | 抗蚀剂组合物及其应用 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2023103974A (ja) | 2023-07-27 |
| TW202328218A (zh) | 2023-07-16 |
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