WO2023119972A1 - レーザ加工装置 - Google Patents

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WO2023119972A1
WO2023119972A1 PCT/JP2022/042746 JP2022042746W WO2023119972A1 WO 2023119972 A1 WO2023119972 A1 WO 2023119972A1 JP 2022042746 W JP2022042746 W JP 2022042746W WO 2023119972 A1 WO2023119972 A1 WO 2023119972A1
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WO
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light
unit
laser
workpiece
distance
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Application number
PCT/JP2022/042746
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English (en)
French (fr)
Inventor
明久 松本
Original Assignee
パナソニックIpマネジメント株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam

Definitions

  • This disclosure relates to a laser processing apparatus.
  • a laser processing apparatus includes a laser light source that emits invisible laser light and a visible light source that emits visible guide light (see Patent Documents 1 and 2, for example).
  • This laser processing apparatus irradiates an object to be processed with a laser beam and processes the object by the laser beam.
  • the laser processing apparatus irradiates guide light, which is visible light, to the same position on the object to be processed as the position where the laser light for processing is irradiated. With this guide light, the operator can confirm the irradiation position of the laser beam on the object to be processed, adjust the position of the object to be processed, and the like.
  • JP 2009-208132 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-030011
  • the laser beam has the highest energy at the focal position. Therefore, in high-energy processing applications, it is necessary to position the workpiece at the focal position, that is, to position the workpiece at the focal length of the laser processing apparatus.
  • the position adjustment using the guide light is based on visual recognition by the operator, there is a possibility that the position of the object to be processed may deviate from the focal position. Therefore, more accurate position adjustment is required.
  • An object of the present disclosure is to provide a laser processing apparatus that can more accurately adjust the position of an object to be processed.
  • a laser processing apparatus of the present disclosure is a laser processing apparatus that processes an object to be processed with laser light, and includes a laser light source that emits the laser light and a guide light source that emits guide light having a wavelength in the visible region. a light combining portion for combining the laser light and the guide light; an exit window portion for transmitting the laser light and the guide light; a scanning portion for scanning the laser light and the guide light; a light projecting unit that projects detection light having a wavelength in the visible region; and a light receiving unit that receives light obtained by diffusely reflecting the detection light from the object,
  • the optical axis of the detection light is arranged to intersect with the axis at a position of a predetermined reference distance from the exit window, and the distance from the exit window to the object is determined based on the light receiving state of the light receiving unit.
  • a displacement sensor that measures a distance
  • a mode selector that selects a machining mode for machining the workpiece with the laser beam or a position adjustment mode for adjusting the position of the workpiece; and the laser beam in the machining mode.
  • controlling the scanning unit so as to process the object to be processed by using the guide light to project a reference mark for position adjustment onto the object to be processed in the position adjustment mode.
  • the position adjustment mode includes a first adjustment mode and a second adjustment mode, and the control unit projects the reference mark onto the workpiece and the detection light in the first adjustment mode. is projected toward the object to be processed, and in the second adjustment mode, at least the detection light is projected toward the object to be processed to measure the distance to the object to be processed, and the measurement result is display on the display.
  • the laser processing apparatus of the present disclosure it is possible to more accurately adjust the position of the object to be processed.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a laser processing apparatus of one embodiment.
  • FIG. 2 is a block diagram showing an electrical configuration of the laser processing apparatus of FIG. 1.
  • FIG. 3 is a plan view schematically showing the internal structure of the head unit of FIG. 1.
  • FIG. 4 is a partial schematic configuration diagram of the internal structure of the head unit of FIG. 1 as viewed from below, and is an explanatory diagram showing the relationship between the optical axes of laser light and guide light and the displacement sensor.
  • FIG. 5 is a schematic front view of the head unit of FIG. 1, and is an explanatory diagram showing the relationship between the optical axes of the laser light and the guide light and the displacement sensor.
  • FIG. 6 is a schematic side view of the head unit of FIG.
  • FIG. 7A is an explanatory diagram showing the relationship between the lens position and the focal position of the laser beam in the focus adjustment section.
  • FIG. 7B is an explanatory diagram showing the relationship between the lens position and the focal position of the laser beam in the focus adjustment section.
  • FIG. 7C is an explanatory diagram showing the relationship between the lens position and the focal position of the laser beam in the focus adjustment section.
  • FIG. 8 is an explanatory diagram showing guide marks and guide points by guide light.
  • FIG. 9 is a block diagram showing an electrical configuration of a modified laser processing apparatus.
  • the laser processing apparatus 10 has a controller unit 11, a light source unit 12, a head unit 13, and a console .
  • the light source unit 12 is connected to the head unit 13 by a first electrical cable 81 and an optical fiber cable FL.
  • the light source unit 12 is connected to the controller unit 11 by a second electric cable 82 .
  • the first electric cable 81 is composed of a first power cable SP1 and a first signal cable SL1.
  • the second electric cable 82 is composed of a second power cable SP2 and a second signal cable SL2.
  • AC power is supplied to the controller unit 11 through a power cable.
  • the laser processing apparatus 10 is operated by the supplied AC power, and processes the object W to be processed.
  • Console 14 is connected to controller unit 11 by a third electrical cable 83 .
  • a console 14 is provided for performing various settings in the laser processing apparatus 10 .
  • a console 14 is provided to display the state of the laser processing apparatus 10 and various information.
  • the controller unit 11 controls the light source unit 12 and the head unit 13.
  • the light source unit 12 generates laser light LW for processing the object W to be processed.
  • the laser light is transmitted to the head unit 13 by the optical fiber cable FL.
  • the head unit 13 emits a laser beam LW toward the object W to be processed.
  • the light source unit 12 has a light source control section 31, a storage section 32, a laser light source 33, and a fan .
  • the light source control unit 31, the storage unit 32, the laser light source 33, and the fan 34 are operated by driving power supplied through the second power cable SP2.
  • the light source control section 31 is configured to be able to communicate with the main control section 21 of the controller unit 11 via the first signal cable SL1.
  • the light source controller 31 controls the laser light source 33 .
  • the laser light source 33 emits laser light LW.
  • the laser light source 33 may be one that emits a laser beam LW, and examples thereof include a fiber laser, a YAG laser, a CO2 laser, and the like.
  • the storage unit 32 stores information on the light source unit 12 .
  • the information on the light source unit 12 includes identification information on the light source unit 12 .
  • the identification information includes model information (model) and unique information (serial number) of the light source unit 12 .
  • the fan 34 is controlled by the light source controller 31, for example. The fan 34 cools the laser light source 33 and various electronic components of the light source unit 12 .
  • the head unit 13 has a head control section 41 , a storage section 42 , a monitor section 43 , a guide light source 44 , a focus adjustment section 45 , a scanning section 46 , a displacement sensor 47 and a protective glass 48 .
  • the storage unit 42 stores information on the head unit 13 .
  • the information on the head unit 13 includes identification information on the head unit 13 .
  • the identification information includes model information (model) and unique information (serial number) of the head unit 13 .
  • the monitor unit 43 monitors the amount of laser light LW transmitted from the light source unit 12 through the optical fiber cable FL.
  • the guide light source 44 emits guide light LG having a wavelength in the visible region.
  • the focus adjustment unit 45 adjusts the focal position (focal length) of the laser beam LW.
  • the scanning unit 46 irradiates the object W to be processed with the laser beam LW. Further, the scanning unit 46 scans the processing surface Wa of the workpiece W with the laser beam LW.
  • the laser light LW reflected by the scanning section 46 is emitted to the outside of the head unit 13 through the protective glass 48 .
  • a protective glass 48 constitutes an exit window.
  • the protective glass 48 has an exit surface 48 a forming part of the outer peripheral surface of the head unit 13 .
  • the displacement sensor 47 includes a light projecting portion 47a and a light receiving portion 47b.
  • the light projecting unit 47a projects detection light LK having a wavelength in the visible region.
  • the detection light LK is emitted outside the head unit 13 through the protective glass 48 .
  • the light projecting part 47a is arranged so as to project the detection light LK toward the object W to be processed.
  • the light receiving portion 47b receives the detection light LK (reflected light KR) reflected by the object W to be processed.
  • the displacement sensor 47 outputs the amount of received light.
  • the displacement sensor 47 measures the distance based on the light receiving state of the light receiving portion 47b. This distance is the distance from the reference plane of the head unit 13 to the object reflecting the detection light LK, here the object W to be processed.
  • the reference plane is set to, for example, the exit surface 48a of the protective glass 48, the lower surface of the head unit 13, or the like.
  • the displacement sensor 47 is, for example, a sensor that measures the distance to an object by triangulation.
  • the light receiving portion 47b includes, for example, a light receiving element that detects the light receiving position of the reflected light KR on the light receiving surface.
  • a light receiving element is composed of, for example, a CMOS image sensor (CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor) image sensor), a CCD image sensor (CCD (Charge Coupled Device) image sensor), or a PSD (Position Sensitive Detector).
  • CMOS image sensor Complementary Metal-Oxide Semiconductor
  • CCD image sensor CCD image sensor
  • PSD Charge Coupled Device
  • the displacement sensor 47 of this embodiment is configured as one unit that integrally includes a light projecting portion 47a and a light receiving portion 47b.
  • the head control unit 41 controls the guide light source 44 , the focus adjustment unit 45 , the scanning unit 46 and the displacement sensor 47 .
  • the head control section 41 transmits the monitor result of the monitor section 43 to the main control section 21 of the controller unit 11 .
  • the head control section 41 transmits the measurement result of the displacement sensor 47 and the amount of received light to the main control section 21 of the controller unit 11 .
  • the controller unit 11 has a main control section 21, a storage section 22, a power supply circuit 23, and a fan 24. As shown in FIG.
  • the power supply circuit 23 supplies electric power for driving the controller unit 11 , the light source unit 12 , and the head unit 13 .
  • the power supply circuit 23 may supply power for driving the console 14 .
  • the storage unit 22 stores various information.
  • the storage unit 22 stores identification information of units (the light source unit 12 and the head unit 13) connected to the controller unit 11, for example.
  • the storage unit 22 stores processing data for processing the object W to be processed.
  • the processing data is, for example, information of processing patterns such as characters and figures to be printed on the processing surface Wa of the object W to be processed.
  • the storage unit 22 stores reference mark data.
  • the reference mark data is information of reference marks for position adjustment projected onto the processing surface Wa of the object W to be processed.
  • the reference mark is used to adjust the distance (work distance) between the workpiece W and the head unit 13 .
  • the storage unit 22 stores information on the workpiece W.
  • the information on the object W to be processed is information on the type of the object W to be processed, and includes the material, color, surface condition, reflection condition (regular reflection, diffuse reflection, amount of reflection) of the object W to be processed.
  • the storage unit 22 stores various types of distance information. Various types of distance information include work distance, focal position, reference distance, and the like.
  • the storage unit 22 stores the measurement results obtained by the displacement sensor 47.
  • the storage unit 22 also stores a first set value and a second set value for the amount of light received by the displacement sensor 47 .
  • the first set value and the second set value are set in the displacement sensor 47 as the lower limit value and the upper limit value of the light amount range suitable for distance measurement. If the amount of received light is less than the first set value, or if the amount of received light is greater than the second set value, the incident position of the reflected light KR obtained by the light receiving portion 47b of the displacement sensor 47, that is, the measurement result, has an error. may occur. Therefore, when the amount of light received by the displacement sensor 47 is greater than or equal to the first set value and less than or equal to the second set value, the measurement result of the displacement sensor 47 is valid. This makes it possible to adjust the position with higher precision.
  • the main control section 21 is configured to be able to communicate with the light source control section 31 of the light source unit 12 and the head control section 41 of the head unit 13 via the first signal cable SL1 and the second signal cable SL2.
  • the main control section 21 transmits control data to the light source control section 31 and the head control section 41 based on the processed data and the like.
  • the main control unit 21 generates control data including a plurality of scanning position data (coordinate data) corresponding to processing positions on the workpiece W and on/off data based on the processing data.
  • the main controller 21 transmits control data to the light source controller 31 and the head controller 41 .
  • the light source controller 31 controls the laser light source 33 based on the control data. For example, the light source controller 31 controls the amount of light (optical power) of the laser light LW emitted from the laser light source 33 .
  • the head control unit 41 controls the scanning unit 46 to process the workpiece W with the laser beam LW based on the control data.
  • the head controller 41 controls the guide light source 44 so that the guide light source 44 emits the guide light LG based on the control data.
  • the head control unit 41 controls the scanning unit 46 so as to project the machining pattern and the reference mark onto the workpiece W using the guide light LG.
  • a machining pattern is a shape such as a character, a symbol, or a figure to be formed on the object W to be processed.
  • the reference mark is a figure for adjusting the distance between the head unit 13 and the object W to be processed.
  • the console 14 has a display section 51 and an operation section 52 .
  • the display unit 51 is configured to be able to display various information of the laser processing apparatus 10 .
  • the operation unit 52 is configured so that the user can input data.
  • the console 14 is composed of a general-purpose terminal such as a tablet terminal, a notebook computer, a PDA (Personal Digital Assistant) or a smart phone, and dedicated application software installed therein.
  • the console 14 instructs the controller unit 11 to perform various controls and operation modes according to the operation of the operation section 52 .
  • the instructed control includes, for example, starting processing and stopping processing.
  • Operation modes include machining mode, teaching mode, and position adjustment mode.
  • the machining mode is a mode for forming a machining pattern on the workpiece W with the laser beam LW.
  • the teaching mode is a mode in which a machining pattern is projected onto the workpiece W using the guide light LG.
  • the position adjustment mode is a mode for adjusting the position of the object W to be processed.
  • the position of the workpiece W is the position of the workpiece W with respect to the laser processing device 10 (head unit 13), and is the relative position between the laser processing device 10 (head unit 13) and the workpiece W. It can be said that there is.
  • Position adjustment modes include a first adjustment mode and a second adjustment mode.
  • the first adjustment mode is a mode for adjusting the position of the workpiece W using the guide light LG and the detection light LK.
  • the second adjustment mode is a mode for adjusting the position of the workpiece W based on the measurement result of the displacement sensor 47 .
  • the console 14 displays characters and the like for selecting these operation modes.
  • the console 14 then instructs the main control section 21 of the controller unit 11 of the operation mode selected by operating the operation section 52 .
  • the console 14 functions as a mode selection section for selecting an operation mode and a processing object setting section.
  • the main control section 21 of the controller unit 11 causes the display section 51 of the console 14 to display the monitor result of the monitor section 43 of the head unit 13, the measurement result of the displacement sensor 47, and the like.
  • FIG. 3 to 6 schematically show optical elements included in the head unit 13.
  • FIG. 3 to 6 the outer shape of the head unit 13 is indicated by two-dot chain lines.
  • the optical axis of the laser beam LW etc. is indicated by a dashed line.
  • the processing surface Wa of the workpiece W is indicated by a solid line and a wavy line.
  • the head unit 13 is attached with the head connector FLa of the optical fiber cable FL.
  • the laser light LW transmitted by the optical fiber cable FL is emitted into the head unit 13 from the head connector FLa.
  • the laser light LW passes through the light combining member 49 .
  • the light combining member 49 is, for example, a dichroic mirror.
  • the light combining member 49 is provided on the optical axis of the laser beam LW, and is arranged at a predetermined angle with respect to the optical axis.
  • the light combining member 49 is formed so as to reflect part of the laser light LW on its incident surface 49a.
  • the monitor unit 43 includes a light receiving element that receives the laser beam LWa.
  • the monitor unit 43 detects the amount of received laser light LWa. Thereby, the light amount of the laser beam LW can be monitored.
  • the guide light source 44 is arranged to emit the guide light LG toward the emission surface 49 b of the light combining member 49 .
  • the light combining member 49 is formed so as to reflect the guide light LG on its exit surface 49b.
  • the guide light LG is reflected by the light combining member 49 so as to be coaxial with the laser light LW that has passed through the light combining member 49 . That is, the light combining member 49 coaxially joins the laser light LW and the guide light LG.
  • the guide light LG reflected by the light combining member 49 passes through the focus adjustment section 45, is reflected by the scanning section 46 in the same manner as the laser light LW, and is irradiated onto the workpiece W.
  • the main control unit 21 controls the scanning unit 46 based on the reference mark data. Thereby, the main controller 21 projects the reference mark onto the processing surface Wa of the workpiece W using the guide light LG.
  • the optical axis of the detection light LK intersects the vertical axis 48L of the protective glass 48 at a predetermined distance from the protective glass 48 .
  • the displacement sensor 47 is arranged so that the optical axis of the detection light LK intersects the vertical axis 48L of the protective glass 48 at a predetermined distance.
  • the predetermined distance from the protective glass 48 to the position where the optical axis of the detection light LK and the vertical axis 48L intersect is, for example, the distance from the output surface 48a of the protective glass 48 to the point of intersection. Let this predetermined distance be a reference distance.
  • the displacement sensor 47 is located on the tip side of the head unit 13 (in FIG. left). Further, the displacement sensor 47 is positioned on one side (indicated by the 4), the light projecting portion 47a and the light receiving portion 47b are positioned. Therefore, the optical axis of the detection light LK projected from the displacement sensor 47 is tilted with respect to the two axes along which the laser light LW is scanned by the scanning section 46 .
  • the focus adjustment section 45 has lenses 45a, 45b, and 45c.
  • the lens 45a is a concave lens, and the lenses 45b and 45c are convex lenses.
  • the lens 45a and the lens 45b expand the beam diameter of the incident laser light and output parallel laser light LW.
  • the lens 45c converges the parallel laser beam LW.
  • the focal position of the laser beam LW condensed by the lens 45c becomes farther from the lens 45c than the focal position shown in FIG. 7A. That is, the focal length of the laser light LW becomes longer.
  • the focal position of the laser beam LW condensed by the lens 45c becomes closer to the lens 45c than the focal position shown in FIG. 7A. That is, the focal length of the laser beam LW is shortened.
  • the head control unit 41 shown in FIG. 2 controls the position of the lens 45a of the focus adjustment unit 45. This movement of the lens 45a changes the inter-lens distance between the lenses 45a and 45b. That is, the head control section 41 controls the focus adjustment section 45 to adjust the inter-lens distance.
  • FIG. 7A shows the state when the lens 45a is moved to the reference position.
  • the reference position is the middle position of the moving range of the moving mechanism that moves the lens 45a.
  • a plane including the focal position of the laser beam LW at this time and orthogonal to the optical axis is defined as a reference plane BP.
  • the distance from the head unit 13 (the exit surface 48a of the protective glass 48) to the reference plane BP is defined as the reference focal length.
  • a plane orthogonal to the optical axis is defined by the X axis (X coordinate value) and the Y axis (Y coordinate value) (two-dimensional coordinate values).
  • the direction along the optical axis is defined by the Z axis (Z coordinate value) (one-dimensional coordinate value).
  • FIG. 7B and 7C show the focus position adjustment range by moving the lens 45a.
  • FIG. 7B shows a state in which the lens 45a at the reference position shown in FIG. 7A is closest to the lens 45b within the movement range of the lens 45a.
  • the focal position of the laser beam LW at this time is the farthest point position in the Z-axis direction
  • the farthest point plane FP includes the farthest point position and is perpendicular to the optical axis.
  • each diagonal point of the rectangular processing area (printing area) on the two-dimensional plane is the farthest point position on the processing surface Wa including the processing area.
  • the explanation is for the farthest point position in the optical axis direction (Z-axis direction) at the origin position above.
  • the distance from the head unit 13 (the exit surface 48a of the protective glass 48) to the farthest point plane FP is defined as the farthest focal length.
  • FIG. 7C shows a state in which the lens 45a at the reference position shown in FIG. 7A is farthest from the lens 45b in the movement range of the lens 45a.
  • the focal position of the laser beam LW at this time be the closest point position in the Z-axis direction, and let the plane including the closest point position and perpendicular to the optical axis be the closest point plane NP.
  • the distance from the head unit 13 (the exit surface 48a of the protective glass 48) to the closest point plane NP is defined as the closest focal length.
  • FIG. 8 shows an example of the fiducial mark 60.
  • This reference mark 60 includes a circle 61 having a predetermined radius and two straight lines 62a and 62b perpendicular to each other at the center point 61a of the circle 61.
  • a center point 61a of the circle 61 is set as an origin of XY coordinates for scanning with the laser light LW by the scanning unit 46 shown in FIGS. 3 to 6, for example.
  • the color of the reference mark 60 that is, the color of the guide light LG is green, for example.
  • a guide point 70 is shown in FIG.
  • the guide point 70 is indicated on the processing surface Wa of the workpiece W by the detection light LK projected from the light projecting portion 47 a of the displacement sensor 47 .
  • the guide points 70 are shown as circles. 8 shows three guide points 70a, 70b, and 70c as examples of the guide point 70.
  • the color of the guide points 70a to 70c that is, the color of the detection light LK is red, for example.
  • the detection light LK intersects the vertical axis 48L and the protective glass 48 at a predetermined distance (reference distance).
  • the predetermined reference distance to the intersecting position is set, for example, to the distance to the reference plane BP shown in FIG. 7A.
  • the detection light LK intersects the vertical axis 48L on the reference plane BP.
  • a reference mark 60 including a circle 61 centered on the vertical axis 48L is projected. Therefore, the guide point 70 by the detection light LK is positioned at the center of the reference mark 60.
  • FIG. That is, the guide point 70 a ( 70 ) is projected onto the center of the reference mark 60 when the processing surface Wa of the workpiece W is positioned on the reference plane BP.
  • the main control unit 21 executes processing for irradiating the object W to be processed with the laser light LW based on the processing data.
  • the main controller 21 generates control data.
  • the control data includes a plurality of scanning position data (coordinate data) corresponding to processing positions on the workpiece W based on processing data regarding characters to be printed, etc., and on/off data of the laser light LW.
  • the main controller 21 transmits control data to the light source controller 31 of the light source unit 12 and the head controller 41 of the head unit 13 .
  • the light source controller 31 of the light source unit 12 controls the laser light source 33 based on the control data to emit the laser light LW.
  • the head control section 41 of the head unit 13 controls the focus adjustment section 45 and the scanning section 46 based on the control data, and scans the workpiece W with the laser beam LW. Thereby, the laser processing apparatus 10 processes the processing surface Wa of the processing target W with the processing pattern.
  • the main control unit 21 starts the teaching process for the workpiece W when the teaching mode is selected on the console 14 and the start is instructed.
  • the main control unit 21 executes processing for irradiating the workpiece W with the guide light LG based on the processing data.
  • the main controller 21 generates control data.
  • the control data includes a plurality of scanning position data (coordinate data) corresponding to processing positions on the workpiece W based on processing data relating to characters to be printed, and ON/OFF data of the guide light LG.
  • the main controller 21 transmits control data to the head controller 41 of the head unit 13 .
  • the head control unit 41 of the head unit 13 controls the guide light source 44 based on the control data, controls the focus adjustment unit 45 and the scanning unit 46, and scans the workpiece W with the guide light LG. .
  • the laser processing apparatus 10 projects the processing pattern onto the processing surface Wa of the object W to be processed.
  • the main control unit 21 executes processing for irradiating the workpiece W with the guide light LG based on the reference mark data.
  • the main controller 21 generates control data.
  • the control data includes a plurality of scanning position data (coordinate data) corresponding to processing positions on the workpiece W based on the reference mark data, and ON/OFF data of the guide light LG.
  • the control data also includes an instruction to emit the detection light LK from the light projecting portion 47 a of the displacement sensor 47 .
  • the main controller 21 transmits control data to the head controller 41 of the head unit 13 .
  • the head control unit 41 of the head unit 13 controls the guide light source 44 based on the control data, controls the focus adjustment unit 45 and the scanning unit 46, and scans the workpiece W with the guide light LG. .
  • the laser processing apparatus 10 projects the reference mark 60 onto the processing surface Wa of the object W to be processed.
  • the head control unit 41 causes the light projecting unit 47a of the displacement sensor 47 to project the detection light LK based on the control data.
  • the laser processing apparatus 10 projects the guide point 70 onto the processing surface Wa of the object W to be processed.
  • the detection light LK is inclined with respect to the vertical axis 48L of the protective glass 48. Therefore, when the processing surface Wa is at a position closer to the head unit 13 with respect to the reference plane BP or at a position farther from the head unit 13, the guide point 70 by the detection light LK is positioned from the center of the reference mark 60. deviate. For example, when the processing surface Wa is at the farthest point position shown in FIG. 7B, the guide point 70b shown in FIG. 8 is indicated. Also, for example, when the machined surface Wa is at the closest point position shown in FIG. 7C, the guide point 70c shown in FIG. 8 is indicated. From the projected guide points 70a to 70c, it can be easily determined whether or not the processing surface Wa is positioned on the reference surface BP.
  • the detection light LK is projected from the light projecting part 47a of the displacement sensor 47 shown in FIG.
  • the displacement sensor 47 measures the distance based on the light receiving state of the light receiving portion 47b.
  • the head controller 41 shown in FIG. 2 transmits the measurement result of the displacement sensor 47 to the main controller 21 .
  • the main control unit 21 displays the distance on the display unit 51 of the console 14 based on the received measurement results. For example, the main control unit 21 displays the measured distance on the display unit 51 of the console 14 based on the measurement result.
  • the measured distance is indicated as the distance from the head unit 13 (the exit surface 48a of the protective glass 48) to the processing surface Wa of the workpiece W, for example. With this measured distance, the position of the workpiece W can be adjusted with higher accuracy.
  • the main control unit 21 causes the display unit 51 to display the workpiece distance stored in the storage unit 22 .
  • the workpiece distance is a distance set when machining a machining pattern with a desired beam diameter with respect to the machining surface Wa of the workpiece W. As shown in FIG.
  • the workpiece distance is set, for example, to the reference distance described above. Also, the workpiece distance is set so as to be changeable by operating the console 14 .
  • the workpiece distance is stored in the storage unit 22 . By shifting the focal position of the laser beam LW in the height direction (optical axis direction) with respect to the processing surface Wa, processing can be performed with a desired beam diameter.
  • the focal length of the laser beam LW is equal to the workpiece distance.
  • the main controller 21 stops projecting the reference mark 60 with the guide light LG. This prevents the guide light LG reflected by the processing surface Wa of the processing object W from entering the light receiving section 47b.
  • the main control unit 21 transmits control data indicating stop to the head control unit 41 , and the head control unit 41 causes the guide light source 44 to stop emitting the guide light LG.
  • a shutter may be provided between the light combining member 49 and the focus adjustment section 45 shown in FIG. 3 to block the guide light LG.
  • the main control unit 21 compares the amount of light received by the displacement sensor 47 included in the data received from the head control unit 41 with the first set value and the second set value stored in the storage unit 22 .
  • the main control unit 21 notifies the measurement error according to the comparison result.
  • the main control unit 21 causes the display unit 51 of the console 14 to display a measurement error when the amount of received light is less than the first set value. This makes it possible to confirm that the amount of light received by the displacement sensor 47 is insufficient. Further, the main control unit 21 causes the display unit 51 of the console 14 to display a measurement error when the amount of received light is greater than the second set value. Thereby, it can be confirmed that the amount of light received by the displacement sensor 47 is too large. Such an error display makes it possible to confirm that the distance measurement by the displacement sensor 47 is unstable.
  • the main control unit 21 may invalidate the second adjustment mode based on the information about the workpiece W stored in the storage unit 22, that is, may not execute the processing in the second adjustment mode.
  • the main control unit 21 enables the second adjustment mode in the case of the processing object W for which diffuse reflection is set as the reflection state, and displays the measurement result of the displacement sensor 47 on the console. 14 is displayed on the display unit 51 .
  • the main control unit 21 disables the second adjustment mode in the case of the processing target W for which specular reflection is set as the reflection state in the type of the processing target W.
  • the light receiving part 47b of the displacement sensor 47 is located on the same side as the light projecting part 47a of the displacement sensor 47 with respect to the plane including the vertical axis 48L of the protective glass 48. Therefore, in the workpiece W that specularly reflects the detection light LK, it is difficult for the reflected light KR from the workpiece W to enter the light projecting portion 47a, making it difficult to measure the distance. Therefore, the main control section 21 disables the second adjustment mode. That is, the main control unit 21 determines whether the second adjustment mode is valid or invalid based on the information of the workpiece W (reflection state).
  • the displacement sensor 47 is arranged so that the detection light LK intersects the vertical axis 48L of the protective glass 48 at a predetermined reference distance from the protective glass 48 .
  • the light receiving portion 47b receives the detection light LK (reflected light KR) diffusely reflected by the object W to be processed.
  • the displacement sensor 47 measures the distance from the protective glass 48 to the workpiece W based on the light receiving state of the light receiving portion 47b.
  • the main control section 21 displays the measurement result of the displacement sensor 47 on the display section 51 of the console 14 .
  • the main control unit 21 displays the measured distance on the display unit 51 of the console 14 based on the measurement results.
  • the measured distance is indicated as the distance from the head unit 13 (the exit surface 48a of the protective glass 48) to the processing surface Wa of the workpiece W, for example. With this measured distance, the position of the workpiece W can be adjusted with higher accuracy.
  • the storage unit 22 stores the measurement results obtained by the displacement sensor 47 .
  • the storage unit 22 also stores a first setting value and a second setting for the amount of light received by the displacement sensor 47 .
  • the first set value and the second set value are set in the displacement sensor 47 as the lower limit value and the upper limit value of the light amount range suitable for distance measurement. If the amount of received light is less than the first set value or greater than the second set value, an error occurs in the incident position of the reflected light KR obtained by the light receiving portion 47b of the displacement sensor 47, that is, in the measurement result. Sometimes. Therefore, when the amount of light received by the displacement sensor 47 is greater than or equal to the first set value and less than or equal to the second set value, the measurement result of the displacement sensor 47 is valid. This makes it possible to adjust the position with higher precision.
  • the monitor unit 43 includes a light receiving element that receives the laser beam LWa.
  • the monitor unit 43 detects the amount of received laser light LWa. Thereby, the light amount of the laser beam LW can be monitored.
  • the guide light source 44 is arranged to emit the guide light LG toward the emission surface 49 b of the light combining member 49 .
  • the light combining member 49 is formed so as to reflect the guide light LG on its exit surface 49b.
  • the guide light LG is reflected by the light combining member 49 so as to be coaxial with the laser light LW that has passed through the light combining member 49 .
  • the guide light LG reflected by the light combining member 49 passes through the focus adjustment section 45, is reflected by the scanning section 46 in the same manner as the laser light LW, and is irradiated onto the workpiece W.
  • FIG. Therefore, the main control section 21 controls the scanning section 46 based on the processing data in the same manner as when scanning with the laser beam LW. Thereby, the main control unit 21 projects the machining pattern onto the machining surface of the workpiece W using the guide light LG.
  • the guide light LG has a wavelength in the visible region. Therefore, the machining pattern can be confirmed by the guide light LG.
  • the detection light LK is inclined with respect to the vertical axis 48L of the protective glass 48. Therefore, when the processing surface Wa is at a position closer to the head unit 13 or at a position farther from the head unit 13 than the reference plane BP, the guide point by the detection light LK deviates from the center of the reference mark 60. .
  • the guide point 70b shown in FIG. 8 is indicated.
  • the guide point 70c shown in FIG. 8 is shown. From the projected guide points 70a to 70c, it can be easily determined whether or not the processing surface Wa is positioned on the reference surface BP.
  • the description of the embodiment is an example of a form that the laser processing apparatus related to the present disclosure can take, and is not intended to limit the form.
  • the present disclosure can take a form in which, for example, modifications of the embodiments shown below and at least two modifications not contradicting each other are combined.
  • the main control unit 21 may display the difference between the workpiece distance and the measured distance on the display unit 51 as a relative distance.
  • the display unit 51 displays the difference as a relative distance based on the measurement result with reference to the workpiece distance. By moving the workpiece W so that the displayed value is "0", adjustment can be performed more easily and with higher accuracy.
  • the display unit 51 displays a plus or minus sign along with the numerical value. Therefore, the plus or minus sign can easily indicate the direction in which the workpiece W is to be moved.
  • FIG. 9 shows a laser processing device 110 configured by connecting two units.
  • This laser processing apparatus 110 has the controller unit 111, the head unit 112, and the console 114 described above.
  • Head unit 112 is connected to controller unit 111 by a second electrical cable 82 .
  • the controller unit 111 has the same configuration as the controller unit 11 of the laser processing apparatus 10 described above. That is, the controller unit 111 has a main control section 21, a storage section 22, a power supply circuit 23, and a fan 24, like the controller unit 11 described above.
  • the head unit 112 has a head control section 121, a storage section 122, a laser light source 33, a fan 34, a monitor section 43, a guide light source 44, a focus adjustment section 45, a scanning section 46, a displacement sensor 47, and a protective glass 48.
  • the laser light source 33 and the fan 34 are configured similarly to the components of the light source unit 12 shown in FIG.
  • the monitor section 43, the guide light source 44, the focus adjustment section 45, the scanning section 46, the displacement sensor 47, and the protective glass 48 are constructed in the same manner as the constituent members of the head unit 13 shown in FIG.
  • the head controller 121 has the functions of the light source controller 31 and the head controller 41 shown in FIG.
  • Storage unit 122 also stores information stored in storage units 32 and 42 shown in FIG.
  • the console 114 has the same configuration as the console 14 of the laser processing apparatus 10 described above. That is, the console 114 has a display section 51 and an operation section 52, like the console 14 described above. In the laser processing apparatus 10 configured in this way, the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained.
  • the displacement sensor 47 integrally including the light projecting part 47a and the light receiving part 47b is used, but a displacement sensor in which the light projecting part 47a and the light receiving part 47b are provided separately may be used.
  • the laser processing apparatus may include at least one of the display section 51 and the operation section 52 in the controller unit.
  • the displacement sensor 47 may have a configuration in which a filter that cuts off the wavelength range of the guide light LG is attached to the light receiving portion 47b. In this case, distance measurement can be performed by the displacement sensor 47 while the reference mark 60 is projected by the guide light LG.
  • the head unit 13 may be configured to include a convergent lens, an f ⁇ lens, and the like.
  • the first setting value and the second setting value may be stored in the storage unit 42 of the head unit 13 .
  • the head control unit 41 compares the amount of light received by the light receiving unit 47b of the displacement sensor 47 with the first set value and the second set value to determine whether there is an error. Information indicating whether or not there is an error is transmitted from the head control unit 41 to the main control unit 21 . Thereby, the state of the amount of light received by the displacement sensor 47 can be displayed on the console 14 .
  • the head controller 41 may transmit information indicating whether or not there is an error and the amount of light received to the main controller 21 .
  • a half mirror, a beam splitter, or the like may be used as the light combining member 49 .
  • the light combining member 49 formed to transmit the laser light LW and reflect the guide light LG was used.
  • a light combining member may be used.
  • part of the laser beam LW is reflected by the light combining member 49 and enters the monitor unit 43 . It is good also as a structure which injects.
  • the displacement sensor 47 is arranged so that the detection light LK passes through the protective glass 48 serving as the exit window.
  • the displacement sensor 47 may be arranged so as to penetrate the part.
  • the direction in which the light projecting portion 47a and the light receiving portion 47b of the displacement sensor 47 are arranged may be changed as appropriate from the above embodiment.
  • the displacement sensor 47 is arranged so that the light projecting portion 47a and the light receiving portion 47b are aligned parallel to the plane LP shown in FIG. good too.
  • the displacement sensor 47 is arranged so that the light projecting portion 47a and the light receiving portion 47b are equidistant from the vertical axis 48L of the protective glass 48 when viewed from the output surface 48a side of the protective glass 48.
  • the displacement sensor 47 is arranged so that the light projecting part 47a and the light receiving part 47b are arranged along the circumferential direction of a circle centered on the vertical axis 48L.
  • the angle formed between the detection light LK emitted from the light projecting portion 47a and the vertical axis 48L is made equal to the angle formed between the reflected light KR incident on the light receiving portion 47b by the detection light LK and the vertical axis 48L. It can also be said that the displacement sensor 47 is arranged in the .

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Abstract

レーザ加工装置(10)は、レーザ光(LW)を出射するレーザ光源(33)、ガイド光(LG)を出射するガイド用光源(44)、レーザ光およびガイド光を走査する走査部(46)、レーザ光およびガイド光が透過する保護ガラス(48)を有している。変位センサ(47)は、投光部(47a)と受光部(47b)を含む。投光部は、加工対象物(W)に対して検出光(LK)を投光する。変位センサは、検出光が保護ガラスの鉛直軸と保護ガラスから所定の基準距離の位置で交差するように配置されている。受光部は、加工対象物にて拡散反射した反射光(KR)を受光する。変位センサは、受光部の受光状態に基づいて保護ガラスから加工対象物までの距離を測定する。メイン制御部(21)は、変位センサの測定結果を表示部(51)に表示する。

Description

レーザ加工装置
 本開示は、レーザ加工装置に関する。
 レーザ加工装置は、不可視光であるレーザ光を出射するレーザ光源と、可視光であるガイド光を出射する可視光源とを備える(例えば、特許文献1,2参照)。このレーザ加工装置は、加工対象物にレーザ光を照射し、そのレーザ光によって加工対象物を加工する。また、レーザ加工装置は、加工対象物に対して加工用のレーザ光が照射される位置と同一位置に可視光であるガイド光を照射する。このガイド光により、作業者は、加工対象物におけるレーザ光の照射位置の確認、加工対象物の位置の調整、等を行うことができる。
特開2009-208132号公報 特開2017-030011号公報
 レーザ光は、焦点位置にてエネルギーが最も高い。このため、高エネルギーで加工するアプリケーションでは、加工対象物を焦点位置に配置する、つまり、加工対象物をレーザ加工装置の焦点距離の位置に配置することが必要となる。しかしながら、ガイド光を用いた位置調整では、作業者の視認によるものであるため、加工対象物の位置が焦点位置からずれるおそれがある。このため、より正確な位置調整が求められる。
 一方、樹脂等の加工対象物の加工面に対して発色印字と呼ばれるアプリケーションでは、加工対象物の加工面を、焦点位置からずらした位置に配置することが必要となる場合がある。このような場合、焦点位置に対して遠距離側または近距離側に加工対象物(加工面)を配置することが必要となる。このような場合にも、正確な位置調整が求められる。
 本開示の目的は、加工対象物の位置をより正確に調整可能としたレーザ加工装置を提供することにある。
 本開示のレーザ加工装置は、レーザ光にて加工対象物を加工するレーザ加工装置であって、前記レーザ光を出射するレーザ光源と、可視領域の波長を有するガイド光を出射するガイド用光源と、前記レーザ光と前記ガイド光を合流する光合流部と、前記レーザ光および前記ガイド光が透過する出射窓部と、前記レーザ光および前記ガイド光を走査する走査部と、前記加工対象物に対して可視領域の波長を有する検出光を投光する投光部と、前記加工対象物にて前記検出光が拡散反射された光を受光する受光部と、を含み、前記出射窓部の鉛直軸に対して前記検出光の光軸が前記出射窓部から所定の基準距離の位置で交差するように配置され、前記受光部の受光状態に基づいて前記出射窓部から前記加工対象物までの距離を測定する変位センサと、前記加工対象物を前記レーザ光により加工する加工モード、または前記加工対象物の位置を調整する位置調整モードを選択するモード選択部と、前記加工モードにおいて前記レーザ光により前記加工対象物を加工するように前記走査部を制御し、前記位置調整モードにおいて前記ガイド光により前記加工対象物上に位置調整用の基準マークを投射するように前記走査部を制御する制御部と、前記位置調整モードは、第1調整モードと第2調整モードとを含み、前記制御部は、前記第1調整モードにおいて、前記加工対象物上に前記基準マークを投射するとともに前記検出光を前記加工対象物に向けて投光させ、前記第2調整モードにおいて、少なくとも前記検出光を前記加工対象物に向けて投光して前記加工対象物までの前記距離を測定させ、測定結果を表示部に表示させる。
 本開示のレーザ加工装置によれば、加工対象物の位置をより正確に調整可能となる。
図1は、一実施形態のレーザ加工装置を示す斜視図である。 図2は、図1のレーザ加工装置の電気的構成を示すブロック図である。 図3は、図1のヘッドユニットの内部構造の概略を示す平面図である。 図4は、図1のヘッドユニットの内部構造を下面から視た一部概略構成図であり、レーザ光およびガイド光の光軸と変位センサの関係を示す説明図である。 図5は、図1のヘッドユニットを正面から視た概略図であり、レーザ光およびガイド光の光軸と変位センサの関係を示す説明図である。 図6は、図1のヘッドユニットを側面から視た概略図であり、レーザ光およびガイド光の光軸と変位センサの関係を示す説明図である。 図7Aは、焦点調整部におけるレンズ位置とレーザ光の焦点位置との関係を示す説明図である。 図7Bは、焦点調整部におけるレンズ位置とレーザ光の焦点位置との関係を示す説明図である。 図7Cは、焦点調整部におけるレンズ位置とレーザ光の焦点位置との関係を示す説明図である。 図8は、ガイド光によるガイドマークおよびガイド点を示す説明図である。 図9は、変更例のレーザ加工装置の電気的構成を示すブロック図である。
 以下、レーザ加工装置の一実施形態を図面に従って説明する。
 以下に示す実施形態は、技術的思想を具体化するための構成や方法を例示するものであり、各構成部品の材質、形状、構造、配置、寸法等を下記のものに限定するものではない。なお、説明を簡単かつ明確にするために、図面に示される構成要素は必ずしも一定の縮尺で描かれていない。添付の図面は、本開示の実施形態を例示するに過ぎず、本開示を制限するものとみなされるべきではない。本開示における「第1」、「第2」、「第3」等の用語は、単に対象物を区別するために用いられており、対象物を順位づけするものではない。
 [レーザ加工装置の概要]
 図1に示すように、レーザ加工装置10は、コントローラユニット11、光源ユニット12、ヘッドユニット13、コンソール14を有している。光源ユニット12は、第1電気ケーブル81と光ファイバケーブルFLとによりヘッドユニット13に接続されている。また、光源ユニット12は、第2電気ケーブル82によりコントローラユニット11に接続されている。第1電気ケーブル81は、第1電源ケーブルSP1と第1信号ケーブルSL1とから構成されている。第2電気ケーブル82は、第2電源ケーブルSP2と第2信号ケーブルSL2とから構成されている。コントローラユニット11には、電源ケーブルによりAC電源が供給される。レーザ加工装置10は、供給されるAC電源により動作し、加工対象物Wを加工する。コンソール14は、第3電気ケーブル83によりコントローラユニット11に接続されている。コンソール14は、レーザ加工装置10における各種の設定を行うために設けられる。また、コンソール14は、レーザ加工装置10の状態、各種の情報を表示するために設けられる。
 コントローラユニット11は、光源ユニット12、ヘッドユニット13を制御する。光源ユニット12は、加工対象物Wを加工するレーザ光LWを生成する。そのレーザ光は、光ファイバケーブルFLによりヘッドユニット13に伝達される。ヘッドユニット13は、加工対象物Wに向けてレーザ光LWを出射する。
 [各ユニットの構成]
 [光源ユニット]
 図2に示すように、光源ユニット12は、光源制御部31、記憶部32、レーザ光源33、ファン34を有している。光源制御部31、記憶部32、レーザ光源33、ファン34は、第2電源ケーブルSP2により供給される駆動電源により動作する。光源制御部31は、第1信号ケーブルSL1により、コントローラユニット11のメイン制御部21と通信可能に構成されている。
 光源制御部31は、レーザ光源33を制御する。レーザ光源33は、レーザ光LWを出射する。このレーザ光源33は、レーザ光LWを出射するものであればよく、例えば、ファイバレーザ、YAGレーザ、COレーザ、等が挙げられる。
 記憶部32は、光源ユニット12の情報を記憶する。光源ユニット12の情報は、光源ユニット12の識別情報を含む。識別情報は、光源ユニット12の機種情報(型式)、固有情報(シリアル番号)を含む。ファン34は、例えば光源制御部31によって制御される。ファン34は、レーザ光源33、および光源ユニット12の各種電子部品を冷却する。
 [ヘッドユニット]
 ヘッドユニット13は、ヘッド制御部41、記憶部42、モニタ部43、ガイド用光源44、焦点調整部45、走査部46、変位センサ47、保護ガラス48を有している。
 記憶部42は、ヘッドユニット13の情報を記憶する。ヘッドユニット13の情報は、ヘッドユニット13の識別情報を含む。識別情報は、ヘッドユニット13の機種情報(型式)、固有情報(シリアル番号)を含む。
 モニタ部43は、光源ユニット12から光ファイバケーブルFLにて伝達されるレーザ光LWの光量をモニタする。
 ガイド用光源44は、可視領域の波長を有するガイド光LGを出射する。
 焦点調整部45は、レーザ光LWの焦点位置(焦点距離)を調整する。
 走査部46は、レーザ光LWを加工対象物Wに向けて照射する。また、走査部46は、加工対象物Wの加工面Waに対してレーザ光LWを走査する。走査部46にて反射されたレーザ光LWは、保護ガラス48を通してヘッドユニット13の外部へ出射される。保護ガラス48は、出射窓部を構成する。保護ガラス48は、ヘッドユニット13の外周面の一部を構成する出射面48aを有している。
 変位センサ47は、投光部47a、受光部47bを含む。投光部47aは、可視領域の波長を有する検出光LKを投光する。検出光LKは、保護ガラス48を通してヘッドユニット13の外部に出射される。投光部47aは、加工対象物Wに向けて検出光LKを投光するように配置されている。受光部47bは、加工対象物Wにて反射した検出光LK(反射光KR)を受光する。変位センサ47は、受光量を出力する。変位センサ47は、受光部47bの受光状態に基づいて距離を測定する。この距離は、ヘッドユニット13の基準面から検出光LKを反射した対象物、ここでは加工対象物Wまでの距離である。基準面は、例えば保護ガラス48の出射面48a、またはヘッドユニット13の下面、等に設定される。
 変位センサ47は、例えば対象物までの距離を三角測距法により測定するセンサである。受光部47bは、例えば受光面における反射光KRの受光位置を検出する受光素子を含む。このような受光素子は、例えば、CMOSイメージセンサ(CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)image sensor)、CCDイメージセンサ(CCD(Charge Coupled Device)image sensor)、またはPSD(Position Sensitive Detector)等により構成される。本実施形態の変位センサ47は、投光部47aと受光部47bとを一体的に有する1つのユニットとして構成されている。
 ヘッド制御部41は、ガイド用光源44、焦点調整部45、走査部46、変位センサ47を制御する。ヘッド制御部41は、モニタ部43のモニタ結果をコントローラユニット11のメイン制御部21に送信する。ヘッド制御部41は、変位センサ47の測定結果および受光量をコントローラユニット11のメイン制御部21に送信する。
 [コントローラユニット]
 図2に示すように、コントローラユニット11は、メイン制御部21、記憶部22、電源回路23、ファン24を有している。電源回路23は、コントローラユニット11、光源ユニット12、およびヘッドユニット13に駆動のための電力を供給する。なお、電源回路23は、コンソール14に対して駆動のための電力を供給するようにしてもよい。
 記憶部22は、各種の情報を記憶する。記憶部22は、例えばコントローラユニット11に接続されるユニット(光源ユニット12、ヘッドユニット13)の識別情報を記憶する。記憶部22は、加工対象物Wを加工するための加工データを記憶する。加工データは、例えば、加工対象物Wの加工面Waに対して印字すべき文字、図形、等の加工パターンの情報である。記憶部22は、基準マークデータを記憶する。基準マークデータは、加工対象物Wの加工面Waに投射する位置調整用の基準マークの情報である。基準マークは、加工対象物Wとヘッドユニット13との間の距離(ワークディスタンス)を調整するために用いられる。
 記憶部22は、加工対象物Wの情報を記憶する。加工対象物Wの情報は、加工対象物Wの種類に関する情報であり、加工対象物Wの材質、色、表面状態、反射の状態(正反射、拡散反射、反射量)、等を含む。記憶部22は、各種の距離情報を記憶する。各種の距離情報は、ワークディスタンス、焦点位置、基準距離、等を含む。
 さらに、記憶部22は、変位センサ47による測定結果を記憶する。また、記憶部22は、変位センサ47の受光量に対する第1設定値、第2設定値を記憶する。第1設定値および第2設定値は、変位センサ47において、距離の測定に適した光量の範囲の下限値および上限値として設定される。受光量が第1設定値よりも少ないの場合、または受光量が第2設定値よりも多い場合、変位センサ47の受光部47bにて得られる反射光KRの入射位置、つまり測定結果に誤差が生じる場合がある。このため、変位センサ47における受光量が第1設定値以上第2設定値以下の場合に、変位センサ47の測定結果を有効とする。これにより、より高い精度で位置を調整可能となる。
 メイン制御部21は、第1信号ケーブルSL1と第2信号ケーブルSL2とを介して、光源ユニット12の光源制御部31およびヘッドユニット13のヘッド制御部41と通信可能に構成されている。メイン制御部21は、加工データ等に基づいて、光源制御部31、ヘッド制御部41に対して制御データを送信する。例えば、メイン制御部21は、加工データに基づいて、加工対象物W上の加工位置に対応する複数の走査位置データ(座標データ)と、オンオフデータとを含む制御データを生成する。メイン制御部21は、制御データを光源制御部31、ヘッド制御部41に送信する。
 光源制御部31は、制御データに基づいてレーザ光源33を制御する。例えば、光源制御部31は、レーザ光源33から出射するレーザ光LWの光量(光パワー)を制御する。
 ヘッド制御部41は、制御データに基づいて、レーザ光LWにて加工対象物Wを加工するように走査部46を制御する。ヘッド制御部41は、制御データに基づいて、ガイド用光源44からガイド光LGを出射するようにガイド用光源44を制御する。また、ヘッド制御部41は、ガイド光LGにより、加工対象物Wに加工パターン、基準マークを投射するように走査部46を制御する。加工パターンは、加工対象物Wに形成する文字、記号、または図形等の形状である。基準マークは、ヘッドユニット13と加工対象物Wとの間の距離を調整するための図形である。
 [コンソール]
 コンソール14は、表示部51、操作部52を有している。表示部51は、レーザ加工装置10の各種情報を表示可能に構成されている。操作部52は、ユーザによるデータの入力が可能に構成されている。コンソール14は、例えば、タブレット端末、ノートパソコン、PDA(Personal Digital Assistant)やスマートフォンなどの汎用端末と、それに導入された専用のアプリケーションソフトウェアとにより構成される。
 コンソール14は、操作部52の操作に応じて、コントローラユニット11に対して、各種の制御、動作モードを指示する。指示する制御は、例えば、加工開始、加工停止、を含む。動作モードは、加工モード、教示モード、位置調整モードを含む。加工モードは、レーザ光LWにて加工対象物Wに加工パターンを形成するモードである。教示モードは、ガイド光LGにて加工対象物Wに加工パターンを投射するモードである。位置調整モードは、加工対象物Wの位置を調整するモードである。加工対象物Wの位置は、レーザ加工装置10(ヘッドユニット13)に対する加工対象物Wの位置であり、レーザ加工装置10(ヘッドユニット13)と加工対象物Wとの間の相対的な位置であるといえる。位置調整モードは、第1調整モード、第2調整モードを含む。第1調整モードは、ガイド光LGおよび検出光LKにより加工対象物Wの位置を調整するモードである。第2調整モードは、変位センサ47の測定結果により加工対象物Wの位置を調整するモードである。コンソール14は、これらの動作モードを選択するための文字等を表示する。そして、コンソール14は、操作部52の操作によって選択された動作モードをコントローラユニット11のメイン制御部21に対して指示する。コンソール14は、動作モードを選択するモード選択部、加工対象物設定部として機能する。
 コントローラユニット11のメイン制御部21は、ヘッドユニット13のモニタ部43のモニタ結果、変位センサ47の測定結果、等をコンソール14の表示部51に表示させる。
 [ヘッドユニットの構成]
 図3~図6は、ヘッドユニット13に含まれる光学素子の概略を示す。図3~図6において、ヘッドユニット13の外形を二点鎖線にて示している。図3~図6において、レーザ光LW等の光軸を一点鎖線にて示している。図5,図6において、加工対象物Wの加工面Waを実線および波線にて示している。
 図3に示すように、ヘッドユニット13には、光ファイバケーブルFLのヘッドコネクタFLaが取着される。光ファイバケーブルFLにて伝達されるレーザ光LWは、ヘッドコネクタFLaからヘッドユニット13の内部へと出射される。レーザ光LWは、光合流部材49を透過する。光合流部材49は、例えばダイクロイックミラーである。光合流部材49は、レーザ光LWの光軸上に設けられ、その光軸に対して所定の角度傾いて配置されている。光合流部材49は、その入射面49aにおいて、レーザ光LWの一部を反射するように形成されている。
 光合流部材49にて反射した一部のレーザ光LWaは、モニタ部43に入射する。モニタ部43は、レーザ光LWaを受光する受光素子を含む。モニタ部43は、受光したレーザ光LWaの受光量を検出する。これにより、レーザ光LWの光量をモニタすることができる。
 光合流部材49の後段には、焦点調整部45と走査部46とが配置されている。
 本実施形態の焦点調整部45は、3枚のレンズ45a,45b,45cを有している。レンズ45a~45cは、レーザ光LWの光軸上に配置されている。レンズ45aは、例えば凹レンズであり、レンズ45b,45cは例えば凸レンズである。焦点調整部45は、レンズ45aを支持する支持部材と、支持部材をレーザ光LWの光軸に沿って移動させる駆動部とを有している。支持部材は例えばリニアスライダ等によって構成される。駆動部は、例えばステッピングモータ等によって構成される。焦点調整部45を通過するレーザ光LWは、レンズ45a~45cの位置に応じた距離にて集光する。これによりレーザ光LWの焦点距離(焦点位置)は調整可能となる。
 走査部46は、一対のミラー46a,46bと、ミラー46a,46bのそれぞれを駆動する駆動部46c,46dを有する。駆動部46c,46dは、例えばステッピングモータ等によって構成される。ミラー46a,46bはそれぞれ、レーザ光LWを反射する。駆動部46c,46dは、ミラー46a,46bを回動する。ミラー46a,46bの回動により、ミラー46a,46bにより反射されたレーザ光LWは、加工対象物Wに対して互いに直交する2つの軸方向に沿って走査される。
 ガイド用光源44は、光合流部材49の出射面49bに向けてガイド光LGを出射するように配置されている。光合流部材49は、その出射面49bにおいて、ガイド光LGを反射するように形成されている。ガイド光LGは、光合流部材49により、光合流部材49を透過したレーザ光LWと同軸状となるように反射される。つまり、光合流部材49は、レーザ光LWとガイド光LGを同軸状に合流する。光合流部材49にて反射されたガイド光LGは、焦点調整部45を通過し、走査部46にてレーザ光LWと同様に反射され、加工対象物Wに照射される。したがって、メイン制御部21は、レーザ光LWを走査するときと同様に加工データに基づいて走査部46を制御する。これによりメイン制御部21は、ガイド光LGにて加工対象物Wの加工面Waに対して加工パターンを投射する。ガイド光LGは、可視領域の波長を有している。したがって、ガイド光LGにより、加工パターンを確認することができる。
 また、メイン制御部21は、基準マークデータに基づいて走査部46を制御する。これにより、メイン制御部21は、ガイド光LGにて加工対象物Wの加工面Waに対して基準マークを投射する。
 図4~図6に示すように、変位センサ47は、投光部47aから検出光LKを投光する。その検出光LKは、保護ガラス48の鉛直軸48Lに対して傾斜している。変位センサ47は、投光部47aから投光する検出光LKの光軸が保護ガラス48の鉛直軸48Lに対して傾斜するように配置されているといえる。保護ガラス48の鉛直軸48Lは、走査部46にて反射したレーザ光LWが保護ガラス48の出射面48aから垂直に出射するときの光軸と等しい。
 また、検出光LKの光軸は、保護ガラス48の鉛直軸48Lと保護ガラス48から所定距離の位置にて交差する。変位センサ47は、検出光LKの光軸が保護ガラス48の鉛直軸48Lと所定距離の位置にて交差するように配置されているといえる。保護ガラス48から検出光LKの光軸と鉛直軸48Lとが交差する位置までの所定距離とは、例えば保護ガラス48の出射面48aから交差する点までの距離である。この所定距離を、基準距離とする。
 図4に示すように、ヘッドユニット13を保護ガラス48の出射面48aの側から視て、変位センサ47は、保護ガラス48の鉛直軸48Lに対して、ヘッドユニット13の先端側(図4において左側)に配置されている。また、変位センサ47は、保護ガラス48の鉛直軸48Lを含み、走査部46に入射するレーザ光LWの光軸と平行な平面LP(一点鎖線にて示す)に対して、一方の側(図4において上側)に投光部47aおよび受光部47bが位置するように配置されている。したがって、変位センサ47から投光される検出光LKの光軸は、走査部46においてレーザ光LWを走査する2つの軸に対して傾いている。投光部47aおよび受光部47bは、保護ガラス48の鉛直軸48Lを含む平面において焦点調整部45から出射されるレーザ光LWと直交する平面と、検出光LKおよび反射光KRを含む平面が所定角度で交差するように配置されているといえる。図4において、ミラー46aは、レーザ光LWを図4の左右方向に走査する。この走査軸をX軸とする。同様に、ミラー46bは、レーザ光LWを図4の上下方向に走査する。この操作軸をY軸とする。上記した鉛直軸48Lは、例えばこれらX軸とY軸の交点であり、レーザ光LWを走査するX-Y座標の原点(中心)である。
 [焦点距離の調整]
 図7Aに示すように、焦点調整部45は、レンズ45a,45b,45cを有している。レンズ45aは、凹レンズであり、レンズ45bおよびレンズ45cは凸レンズである。レンズ45aとレンズ45bは、入射するレーザ光のビーム径を拡大し、平行光となるレーザ光LWを出力する。レンズ45cは、平行光であるレーザ光LWを集光する。
 図7Bに示すように、レンズ45aをレンズ45bに近づけると、レンズ45bを透過したレーザ光LWは、広がりを持つ、つまりビーム径は徐々に大きくなる。このレーザ光LWにより、レンズ45cにより集光されたレーザ光LWの焦点位置は、図7Aに示す焦点位置よりもレンズ45cから遠くなる。つまり、レーザ光LWの焦点距離が長くなる。
 図7Cに示すように、レンズ45aをレンズ45bから遠ざけると、レンズ45bを透過したレーザ光LWは、絞られる、つまりビーム径は徐々に小さくなる。このレーザ光LWにより、レンズ45cにより集光されたレーザ光LWの焦点位置は、図7Aに示す焦点位置よりもレンズ45cに近くなる。つまり、レーザ光LWの焦点距離が短くなる。
 図2に示すヘッド制御部41は、焦点調整部45のレンズ45aの位置を制御する。このレンズ45aの移動により、レンズ45a,45bの間のレンズ間距離が変更される。つまり、ヘッド制御部41は、焦点調整部45を制御し、レンズ間距離を調整する。
 図7Aは、レンズ45aを基準位置に移動させたときの状態を示す。基準位置は、レンズ45aを移動させる移動機構における移動範囲の中間位置である。このときのレーザ光LWの焦点位置を含み、光軸に対して直交する平面を基準面BPとする。ヘッドユニット13(保護ガラス48の出射面48a)から基準面BPまでの距離を基準焦点距離とする。光軸に対して直交する平面はX軸(X座標値)およびY軸(Y座標値)により規定される(2次元の座標値)。そして、光軸に沿った方向はZ軸(Z座標値)により規定される(1次元の座標値)。
 図7Bおよび図7Cは、レンズ45aの移動による焦点位置の調整範囲を示す。
 図7Bは、図7Aに示す基準位置にあるレンズ45aを、そのレンズ45aの移動範囲において最もレンズ45bに近づけた状態を示す。このときのレーザ光LWの焦点位置をZ軸方向における最遠点位置とし、最遠点位置を含み、光軸に対して直交する平面を最遠点面FPとする。なお、厳密には、二次元平面上における四角形状の加工領域(印字エリア)の各対角点が加工領域を含めた加工面Waでの最遠点位置となるが、ここでは、二次元平面上の原点位置における光軸方向(Z軸方向)での最遠点位置の説明としている。ヘッドユニット13(保護ガラス48の出射面48a)から最遠点面FPまでの距離を最遠焦点距離とする。
 図7Cは、図7Aに示す基準位置にあるレンズ45aを、そのレンズ45aの移動範囲において最もレンズ45bから離した状態を示す。このときのレーザ光LWの焦点位置をZ軸方向における最近点位置とし、最近点位置を含み、光軸に対して直交する平面を最近点面NPとする。ヘッドユニット13(保護ガラス48の出射面48a)から最近点面NPまでの距離を最近焦点距離とする。
 [ガイドマークおよびガイド点]
 図8は、基準マーク60の一例を示す。この基準マーク60は、所定の半径を有する円61と、円61の中心点61aにて互いに直交する2本の直線62a,62bとを含む。円61の中心点61aは、例えば図3~図6に示す走査部46によりレーザ光LWを走査するX-Y座標の原点に設定される。基準マーク60の色、つまりガイド光LGの色は、例えば緑色である。
 図8には、ガイド点70が示されている。ガイド点70は、変位センサ47の投光部47aから投光される検出光LKによって、加工対象物Wの加工面Waに示される。図8において、ガイド点70は、円として示されている。なお、図8には、ガイド点70の例として3つのガイド点70a,70b,70cが示されている。ガイド点70a~70cの色、つまり検出光LKの色は、例えば赤色である。
 図4~図6に示すように、検出光LKは、鉛直軸48Lと保護ガラス48から所定距離(基準距離)の位置にて交差する。この交差する位置までの所定の基準距離は、例えば図7Aに示す基準面BPまでの距離に設定される。この場合、基準面BPにおいて、検出光LKは鉛直軸48Lと交差する。この基準面BPにおいて、図8に示すように、鉛直軸48Lを中心とする円61を含む基準マーク60が投影される。したがって、検出光LKによるガイド点70は、基準マーク60の中心に位置する。つまり、加工対象物Wの加工面Waが基準面BPの位置にあるとき、基準マーク60の中心にガイド点70a(70)が投影される。
 (作用)
 次に、本実施形態のレーザ加工装置10の作用を説明する。
 [加工モード]
 メイン制御部21は、コンソール14にて加工モードが選択され、加工開始が指示されると、加工対象物Wに対する加工処理を開始する。
 メイン制御部21は、加工データに基づいて加工対象物Wにレーザ光LWを照射する処理を実行する。メイン制御部21は、制御データを生成する。制御データは、印字すべき文字等に関する加工データに基づいて加工対象物W上の加工位置に対応する複数の走査位置データ(座標データ)と、レーザ光LWのオンオフデータとを含む。メイン制御部21は、制御データを光源ユニット12の光源制御部31とヘッドユニット13のヘッド制御部41とに送信する。
 光源ユニット12の光源制御部31は、制御データに基づいてレーザ光源33を制御し、レーザ光LWを出射させる。ヘッドユニット13のヘッド制御部41は、制御データに基づいて、焦点調整部45、走査部46を制御し、レーザ光LWを加工対象物Wに向けて走査する。これにより、レーザ加工装置10は、加工対象物Wの加工面Waを、加工パターンで加工する。
 [教示モード]
 メイン制御部21は、コンソール14にて教示モードが選択され、開始が指示されると、加工対象物Wに対する教示処理を開始する。
 メイン制御部21は、加工データに基づいて加工対象物Wにガイド光LGを照射する処理を実行する。メイン制御部21は、制御データを生成する。制御データは、印字すべき文字等に関する加工データに基づいて加工対象物W上の加工位置に対応する複数の走査位置データ(座標データ)と、ガイド光LGのオンオフデータとを含む。メイン制御部21は、制御データをヘッドユニット13のヘッド制御部41に送信する。
 ヘッドユニット13のヘッド制御部41は、制御データに基づいて、ガイド用光源44を制御するとともに、焦点調整部45、走査部46を制御し、ガイド光LGを加工対象物Wに向けて走査する。これにより、レーザ加工装置10は、加工対象物Wの加工面Waに、加工パターンを投射する。
 [位置調整モード:第1調整モード]
 メイン制御部21は、コンソール14にて位置調整モードとして第1調整モードが選択され、開始が指示されると、加工対象物Wに対する第1調整モードの処理を開始する。
 メイン制御部21は、基準マークデータに基づいて、加工対象物Wにガイド光LGを照射する処理を実行する。メイン制御部21は、制御データを生成する。制御データは、基準マークデータに基づいて加工対象物W上の加工位置に対応する複数の走査位置データ(座標データ)と、ガイド光LGのオンオフデータとを含む。また、制御データは、変位センサ47の投光部47aから検出光LKを出射させる指示を含む。メイン制御部21は、制御データをヘッドユニット13のヘッド制御部41に送信する。
 ヘッドユニット13のヘッド制御部41は、制御データに基づいて、ガイド用光源44を制御するとともに、焦点調整部45、走査部46を制御し、ガイド光LGを加工対象物Wに向けて走査する。これにより、レーザ加工装置10は、加工対象物Wの加工面Waに、基準マーク60を投射する。また、ヘッド制御部41は、制御データに基づいて、変位センサ47の投光部47aから検出光LKを投光させる。これにより、レーザ加工装置10は、加工対象物Wの加工面Waに、ガイド点70を投射する。
 図4~図6に示すように、検出光LKは、保護ガラス48の鉛直軸48Lに対して傾いている。したがって、加工面Waが上記の基準面BPに対してヘッドユニット13に近い位置にある場合、またはヘッドユニット13から遠い位置にある場合、検出光LKによるガイド点70は、基準マーク60の中心からずれる。例えば加工面Waが図7Bに示す最遠点位置にあるとき、図8に示すガイド点70bが示される。また、例えば加工面Waが図7Cに示す最近点位置にあるとき、図8に示すガイド点70cが示される。このように投射されるガイド点70a~70cにより、加工面Waが基準面BPの位置にあるか否かを容易に判断できる。
 [位置調整モード:第2調整モード]
 メイン制御部21は、コンソール14にて位置調整モードとして第2調整モードが選択され、開始が指示されると、加工対象物Wに対する第2調整モードの処理を開始する。
 メイン制御部21は、変位センサ47により距離を測定する指示を含む制御データを生成する。メイン制御部21は、制御データをヘッドユニット13のヘッド制御部41に送信する。ヘッド制御部41は、制御データに基づいて、変位センサ47にて距離を測定する。ヘッド制御部41は、変位センサ47の測定結果および受光量を含むデータをメイン制御部21に送信する。メイン制御部21は、ヘッド制御部41から受信したデータに基づいて、変位センサ47による測定結果をコンソール14の表示部51に表示する。
 検出光LKは、図2に示す変位センサ47の投光部47aから投光される。変位センサ47は、受光部47bにおける受光状態により、距離を測定する。図2に示すヘッド制御部41は、変位センサ47の測定結果をメイン制御部21に送信する。メイン制御部21は、受信した測定結果に基づいてコンソール14の表示部51に距離を表示する。例えば、メイン制御部21は、測定結果に基づいて、測定距離をコンソール14の表示部51に表示する。測定距離は、例えばヘッドユニット13(保護ガラス48の出射面48a)から加工対象物Wの加工面Waまでの距離として示される。この測定距離により、加工対象物Wの位置をより高い精度にて調整することができる。
 メイン制御部21は、表示部51に、記憶部22に記憶された加工物距離を表示させる。加工物距離は、加工対象物Wの加工面Waに対して加工パターンを所望のビーム径にて加工するときに設定する距離である。加工物距離は、例えば上記の基準距離に設定される。また、加工物距離は、コンソール14の操作によって変更可能に設定される。加工物距離は、記憶部22に記憶される。レーザ光LWの焦点位置を、加工面Waに対して高さ方向(光軸方向)にずらすことで、所望のビーム径にて加工することができる。例えば、レーザ光LWを最も絞った状態(焦点位置)にて加工パターンを加工する場合、レーザ光LWの焦点距離は、加工物距離と等しい。そして、加工物距離と測定距離とを表示部51に表示することで、加工対象物Wの位置が合わせられているか否かを容易に判断することができる。そして、表示された測定距離を加工物距離に一致させるように加工対象物Wを移動させることにより、より簡単に、かつより高い精度にて調整することができる。
 この第2調整モードにおいて、メイン制御部21は、ガイド光LGによる基準マーク60の投影を停止する。これにより、加工対象物Wの加工面Waにて反射したガイド光LGが受光部47bに入射することを防止する。例えば、メイン制御部21は、ヘッド制御部41に対して停止を示す制御データを送信し、ヘッド制御部41は、ガイド用光源44によりガイド光LGの出射を停止する。なお、例えば図3に示す光合流部材49と焦点調整部45との間にシャッタを設け、シャッタによりガイド光LGを遮るようにしてもよい。
 メイン制御部21は、ヘッド制御部41から受信したデータに含まれる変位センサ47の受光量と、記憶部22に記憶された第1設定値、第2設定値とを比較する。メイン制御部21は、比較結果に応じて測定エラーを報知する。メイン制御部21は、受光量が第1設定値よりも少ない場合に、コンソール14の表示部51に測定エラーを表示させる。これにより、変位センサ47における受光量が不足していることを確認できる。また、メイン制御部21は、受光量が第2設定値よりも多い場合に、コンソール14の表示部51に測定エラーを表示させる。これにより、変位センサ47における受光量が多すぎることを確認できる。このようなエラー表示により、変位センサ47による距離測定が不安定であることを確認できる。
 なお、メイン制御部21は、記憶部22に記憶された加工対象物Wの情報によって、第2調整モードを無効化する、つまり第2調整モードにおける処理を実行しないようにしてもよい。例えば、メイン制御部21は、加工対象物Wの種類において、反射の状態として拡散反射が設定された加工対象物Wの場合に、第2調整モードを有効とし、変位センサ47による測定結果をコンソール14の表示部51に表示する。一方、メイン制御部21は、加工対象物Wの種類において、反射の状態として正反射が設定された加工対象物Wの場合に、第2調整モードを無効化する。
 図4に示すように、変位センサ47の受光部47bは、保護ガラス48の鉛直軸48Lを含む平面に対して、変位センサ47の投光部47aと同じ側に位置している。したがって、検出光LKを正反射する加工対象物Wでは、加工対象物Wによる反射光KRは投光部47aに入射し難く、距離の測定が困難になる。このため、メイン制御部21は、第2調整モードを無効化する。つまり、メイン制御部21は、加工対象物Wの情報(反射の状態)によって、第2調整モードの有効と無効とを判定する。
 なお、メイン制御部21は、他の情報によって判定してもよい。例えば、加工対象物Wの色によって判定する。例えば黒色等のように、検出光LKによる反射の光量が少ない加工対象物Wの色の場合に、第2調整モードを無効化する。なお、メイン制御部21は、第2調整モードを無効化した旨を表示部51に表示させるようにしてもよい。
 (効果)
 以上記述したように、本実施形態によれば、以下の効果を奏する。
 (1)レーザ加工装置10は、レーザ光LWを出射するレーザ光源33と、可視領域の波長を有するガイド光LGを出射するガイド用光源44と、レーザ光LWおよびガイド光LGを走査する走査部46を有する。レーザ加工装置10は、レーザ光LWおよびガイド光LGが透過する保護ガラス48を有している。また、レーザ加工装置10は、投光部47aと受光部47bを含む変位センサ47を備えている。投光部47aは、加工対象物Wに対して可視領域の波長を有する検出光LKを投光する。変位センサ47は、検出光LKが保護ガラス48の鉛直軸48Lと保護ガラス48から所定の基準距離の位置で交差するように配置されている。受光部47bは、加工対象物Wにて拡散反射した検出光LK(反射光KR)を受光する。変位センサ47は、受光部47bの受光状態に基づいて保護ガラス48から加工対象物Wまでの距離を測定する。メイン制御部21は、変位センサ47の測定結果をコンソール14の表示部51に表示する。
 例えば、メイン制御部21は、測定結果に基づいて、測定距離をコンソール14の表示部51に表示する。測定距離は、例えばヘッドユニット13(保護ガラス48の出射面48a)から加工対象物Wの加工面Waまでの距離として示される。この測定距離により、加工対象物Wの位置をより高い精度にて調整することができる。
 (2)メイン制御部21は、表示部51に、記憶部22に記憶された加工物距離を表示させる。加工物距離は、加工対象物Wの加工面Waに対して加工パターンを所望のビーム径にて加工するときに設定する距離である。加工物距離は、例えば上記の基準距離に設定される。また、加工物距離は、コンソール14の操作によって変更可能に設定される。加工物距離は、記憶部22に記憶される。レーザ光LWの焦点位置を、加工面Waに対して高さ方向(光軸方向)にずらすことで、所望のビーム径にて加工することができる。
 (3)メイン制御部21は、ヘッド制御部41から受信したデータに含まれる変位センサ47の受光量と、記憶部22に記憶された第1設定値、第2設定値とを比較する。メイン制御部21は、受光量が第1設定値よりも少ない場合に、コンソール14の表示部51にエラーを表示させる。これにより、変位センサ47における受光量が不足していることを確認できる。また、メイン制御部21は、受光量が第2設定値よりも多い場合に、コンソール14の表示部51にエラーを表示させる。これにより、変位センサ47における受光量が多すぎることを確認できる。このようなエラー表示により、変位センサ47による距離測定が不安定であることを確認できる。
 (4)記憶部22は、変位センサ47による測定結果を記憶する。また、記憶部22は、変位センサ47の受光量に対する第1設定値、第2設定を記憶する。第1設定値および第2設定値は、変位センサ47において、距離の測定に適した光量の範囲の下限値および上限値として設定される。受光量が第1設定値よりも少ない場合、または受光量が第2設定値よりも多い場合、変位センサ47の受光部47bにて得られる反射光KRの入射位置、つまり測定結果に誤差が生じる場合がある。このため、変位センサ47における受光量が第1設定値以上第2設定値以下の場合に、変位センサ47の測定結果を有効とする。これにより、より高い精度で位置を調整可能となる。
 (5)光合流部材49にて反射した一部のレーザ光LWaは、モニタ部43に入射する。モニタ部43は、レーザ光LWaを受光する受光素子を含む。モニタ部43は、受光したレーザ光LWaの受光量を検出する。これにより、レーザ光LWの光量をモニタすることができる。
 (6)ガイド用光源44は、光合流部材49の出射面49bに向けてガイド光LGを出射するように配置されている。光合流部材49は、その出射面49bにおいて、ガイド光LGを反射するように形成されている。ガイド光LGは、光合流部材49により、光合流部材49を透過したレーザ光LWと同軸状となるように反射される。光合流部材49にて反射されたガイド光LGは、焦点調整部45を通過し、走査部46にてレーザ光LWと同様に反射され、加工対象物Wに照射される。したがって、メイン制御部21は、レーザ光LWを走査するときと同様に加工データに基づいて走査部46を制御する。これによりメイン制御部21は、ガイド光LGにて加工対象物Wの加工面に対して加工パターンを投射する。ガイド光LGは、可視領域の波長を有している。したがって、ガイド光LGにより、加工パターンを確認することができる。
 (7)検出光LKは、保護ガラス48の鉛直軸48Lに対して傾いている。したがって、加工面Waが上記の基準面BPに対してヘッドユニット13に近い位置にある場合、またはヘッドユニット13から遠い位置にある場合、検出光LKによるガイド点は、基準マーク60の中心からずれる。例えば加工面Waが図7Bに示す最遠点位置にあるとき、図8に示すガイド点70bが示される。また、例えば加工面Waが図7Cに示す最近点位置にあるとき、図8に示すガイド点70cが示される。このように投射されるガイド点70a~70cにより、加工面Waが基準面BPの位置にあるか否かを容易に判断できる。
 [変更例]
 実施の形態に関する説明は、本開示に関するレーザ加工装置が取り得る形態の例示であり、その形態を制限することを意図していない。本開示は実施の形態以外に例えば以下に示される実施の形態の変更例、および、相互に矛盾しない少なくとも2つの変更例が組み合わせられた形態を取り得る。
 ・メイン制御部21は、表示部51に、加工物距離と測定距離との差を相対距離として表示してもよい。表示部51には、加工物距離を基準として、測定結果に基づいて差を相対距離として表示する。これにより表示された値を「0」とするように加工対象物Wを移動させることにより、より簡単に、かつより高い精度にて調整することができる。また、加工物距離と測定距離との差の場合、表示部51には、数値とともにプラスまたはマイナスの記号が表示される。したがって、プラスまたはマイナスの記号によって、加工対象物Wを移動させる方向を容易に示すことができる。
 ・ユニットの構成が異なるレーザ加工装置としてもよい。
 図9は、2つのユニットを接続して構成されるレーザ加工装置110を示す。このレーザ加工装置110は、上記のコントローラユニット111、ヘッドユニット112、コンソール114を有している。ヘッドユニット112は、第2電気ケーブル82によりコントローラユニット111に接続されている。コントローラユニット111は、上記したレーザ加工装置10のコントローラユニット11と同じ構成である。つまり、コントローラユニット111は、上記のコントローラユニット11と同様に、メイン制御部21、記憶部22、電源回路23、ファン24を有している。ヘッドユニット112は、ヘッド制御部121、記憶部122、レーザ光源33、ファン34、モニタ部43、ガイド用光源44、焦点調整部45、走査部46、変位センサ47、保護ガラス48を有している。レーザ光源33、およびファン34は、図2に示す光源ユニット12の構成部材と同様に構成されている。モニタ部43、ガイド用光源44、焦点調整部45、走査部46、変位センサ47、保護ガラス48は、図2に示すヘッドユニット13の構成部材と同様に構成されている。ヘッド制御部121は、図2に示す光源制御部31とヘッド制御部41の機能を有している。また、記憶部122は、図2に示す記憶部32,42に記憶される情報を記憶する。コンソール114は、上記したレーザ加工装置10のコンソール14と同じ構成である。つまり、コンソール114は、上記のコンソール14と同様に、表示部51、操作部52を有している。このように構成されるレーザ加工装置10においても、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。
 ・上記実施形態では、投光部47aと受光部47bとを一体的に有する変位センサ47を用いたが、投光部47aと受光部47bとが別々に設けられる変位センサを用いてもよい。
 ・コントローラユニットに表示部51と操作部52との少なくとも一方を備えたレーザ加工装置としてもよい。
 ・変位センサ47は、受光部47bに対して、ガイド光LGの波長域を遮断するフィルタを装着した構成としてもよい。この場合、ガイド光LGにより基準マーク60を投射した状態で、変位センサ47による距離測定を行うことができるようになる。
 ・ヘッドユニット13に、収束レンズ、fθレンズ、等を備える構成としてもよい。
 ・ヘッドユニット13の記憶部42に第1設定値、第2設定値を記憶させてもよい。ヘッド制御部41により、変位センサ47の受光部47bにおける受光量と第1設定値、第2設定値を比較し、エラーか否かを判定させる。そして、ヘッド制御部41からエラーか否かを示す情報をメイン制御部21に送信する。これにより、変位センサ47における受光量の状態をコンソール14に表示できる。なお、ヘッド制御部41は、エラーか否かを示す情報と受光量とをメイン制御部21に送信するようにしてもよい。
 ・光合流部材49として、ハーフミラーやビームスプリッタ等を用いてもよい。
 ・上記実施形態では、レーザ光LWを透過するとともにガイド光LGを反射するように形成された光合流部材49を用いたが、レーザ光LWを反射するとともにガイド光LGを透過するように構成された光合流部材を用いてもよい。
 ・上記実施形態では、光合流部材49によりレーザ光LWの一部を反射させてモニタ部43に入射したが、別の反射部材を用いてレーザ光LWの一部を反射させてモニタ部43に入射する構成としてもよい。
 ・上記実施形態では、検出光LKが出射窓部としての保護ガラス48を透過するように変位センサ47を配置したが、保護ガラス48とは別に出射窓部を設け、検出光LKがその出射窓部を透過するように変位センサ47を配置してもよい。
 ・上記実施形態に対して、変位センサ47の投光部47aと受光部47bとが並ぶ方向を適宜変更してもよい。
 方向の第1例としては、保護ガラス48の出射面48aの側から視て、図4に示す平面LPと平行に投光部47aと受光部47bとが並ぶように変位センサ47を配置してもよい。
 方向の第2例として、保護ガラス48の出射面48aの側から視て、保護ガラス48の鉛直軸48Lから投光部47aと受光部47bとが等距離となるように変位センサ47を配置してもよい。この場合、投光部47aと受光部47bは、鉛直軸48Lを中心とする円の周方向に沿って並ぶように変位センサ47を配置するということもできる。また、投光部47aから出射される検出光LKと鉛直軸48Lとがなす角度と、その検出光LKにより受光部47bに入射する反射光KRと鉛直軸48Lとがなす角度とが等しくなるように変位センサ47を配置するということもできる。
 以上の説明は単に例示である。本開示の技術を説明する目的のために列挙された構成要素および方法(製造プロセス)以外に、より多くの考えられる組み合わせおよび置換が可能であることを当業者は認識することができる。本開示は、特許請求の範囲を含む本開示の範囲内に含まれるすべての代替、変形、および変更を包含することが意図されている。
 10 レーザ加工装置
 11 コントローラユニット
 12 光源ユニット
 13 ヘッドユニット
 14 コンソール
 21 メイン制御部
 22 記憶部
 23 電源回路
 24 ファン
 31 光源制御部
 32 記憶部
 33 レーザ光源
 34 ファン
 41 ヘッド制御部
 42 記憶部
 43 モニタ部
 44 ガイド用光源
 45 焦点調整部
 45a~45c レンズ
 46 走査部
 46a,46b ミラー
 46c,46d 駆動部
 47 変位センサ
 47a 投光部
 47b 受光部
 48 保護ガラス
 48a 出射面
 48L 鉛直軸
 49 光合流部材
 49a 入射面
 49b 出射面
 51 表示部
 52 操作部
 60 基準マーク
 61 円
 61a 中心点
 62a,62b 直線
 70,70a~70c ガイド点
 81 第1電気ケーブル
 82 第2電気ケーブル
 83 第3電気ケーブル
 110 レーザ加工装置
 111 コントローラユニット
 112 ヘッドユニット
 114 コンソール
 121 ヘッド制御部
 122 記憶部
 BP 基準面
 FL 光ファイバケーブル
 FLa ヘッドコネクタ
 FP 最遠点面
 KR 反射光
 LG ガイド光
 LK 検出光
 LP 平面
 LW レーザ光
 LWa レーザ光
 NP 最近点面
 SL1 第1信号ケーブル
 SL2 第2信号ケーブル
 SP1 第1電源ケーブル
 SP2 第2電源ケーブル
 W 加工対象物
 Wa 加工面

Claims (16)

  1.  レーザ光にて加工対象物を加工するレーザ加工装置であって、
     前記レーザ光を出射するレーザ光源と、
     可視領域の波長を有するガイド光を出射するガイド用光源と、
     前記レーザ光と前記ガイド光を合流する光合流部材と、
     前記レーザ光および前記ガイド光が透過する出射窓部と、
     前記レーザ光および前記ガイド光を走査する走査部と、
     前記加工対象物に対して可視領域の波長を有する検出光を投光する投光部と、前記加工対象物にて前記検出光が拡散反射された光を受光する受光部と、を含み、前記出射窓部の鉛直軸に対して前記検出光の光軸が前記出射窓部から所定の基準距離の位置で交差するように配置され、前記受光部の受光状態に基づいて前記出射窓部から前記加工対象物までの距離を測定する変位センサと、
     前記加工対象物を前記レーザ光により加工する加工モード、または前記加工対象物の位置を調整する位置調整モードを選択するモード選択部と、
     前記加工モードにおいて前記レーザ光により前記加工対象物を加工するように前記走査部を制御し、前記位置調整モードにおいて前記ガイド光により前記加工対象物上に位置調整用の基準マークを投射するように前記走査部を制御する制御部と、
     前記位置調整モードは、第1調整モードと第2調整モードとを含み、
     前記制御部は、前記第1調整モードにおいて、前記加工対象物上に前記基準マークを投射するとともに前記検出光を前記加工対象物に向けて投光させ、前記第2調整モードにおいて、少なくとも前記検出光を前記加工対象物に向けて投光して前記加工対象物までの前記距離を測定させ、測定結果を表示部に表示させる、
     レーザ加工装置。
  2.  前記出射窓部において前記レーザ光が出射する出射面の側から視て、前記投光部および前記受光部は、前記走査部に向かう前記レーザ光の光軸に対して交差する方向に並んで配置されている、請求項1に記載のレーザ加工装置。
  3.  前記出射窓部において前記レーザ光が出射する出射面の側から視て、前記受光部は、前記走査部に向かう前記レーザ光の光軸に対して前記投光部と同じ側に配置されている、請求項1または請求項2に記載のレーザ加工装置。
  4.  前記投光部および前記受光部は、前記走査部に向かう前記レーザ光の光軸に対して直交する方向に並んで配置されている、請求項2または請求項3に記載のレーザ加工装置。
  5.  前記投光部および前記受光部は、前記鉛直軸を中心とする円の周方向に並んで配置されている、請求項2または請求項3に記載のレーザ加工装置。
  6.  前記位置調整モードにおいて、前記加工対象物までの加工物距離は変更可能に設定される、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
  7.  前記制御部は、前記測定結果の測定距離を前記表示部に表示させる、請求項6に記載のレーザ加工装置。
  8.  前記制御部は、前記加工物距離を前記表示部に表示させる、請求項7に記載のレーザ加工装置。
  9.  前記制御部は、前記測定結果の測定距離と前記加工物距離との差を相対距離とし、前記相対距離を前記表示部に表示させる、請求項6から請求項8のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
  10.  前記制御部は、前記変位センサの受光量が第1設定値より小さいの場合に測定エラーを報知する、請求項1から請求項9のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
  11.  前記加工対象物の情報を設定する加工対象物設定部を備え、
     前記加工対象物の情報は、前記加工対象物の表面における前記検出光の反射に関する情報を含み、
     前記制御部は、前記検出光が正反射する前記情報が設定された場合に、前記変位センサによる前記距離の測定を無効化する、
     請求項1から請求項10のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
  12.  前記レーザ光の焦点距離を変更する焦点調整部を備え、
     前記制御部は、前記焦点調整部を制御して、前記加工モードにおいて、前記レーザ光の焦点距離を、前記位置調整モードの前記第2調整モードにおける前記測定結果の測定距離とするように調整する、
     請求項1から請求項11のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
  13.  前記基準距離は、前記焦点調整部にて調整した基準焦点距離である、請求項12に記載のレーザ加工装置。
  14.  前記基準焦点距離は、前記焦点調整部にて調整可能な焦点距離のうち、前記出射窓部から最も遠い最遠焦点距離と、前記出射窓部に最も近い最近焦点距離との間の中間の距離である、請求項13に記載のレーザ加工装置。
  15.  前記変位センサは、前記検出光が前記出射窓部を透過するように配置されている、請求項1から請求項14のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
  16.  前記制御部は、前記第2調整モードにおいて、前記加工対象物に前記ガイド光を照射しない状態で前記変位センサによる測定を行うように制御する、請求項1から請求項15のいずれか一項に記載のレーザ加工装置。
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