WO2023111049A1 - Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen herstellung von reinstwasser, dessen verwendung und einrichtung zum schneiden von teilen - Google Patents

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Definitions

  • the invention relates to a method and a device for the continuous production of ultrapure water. Furthermore, the invention relates to a use of the ultrapure water and a device for cutting parts.
  • ultrapure water and ultrapure water.
  • the definition of high-purity water and ultrapure water is based on the electrical conductivity, which forms a sum parameter and represents a representative value for the purity of water in technical areas.
  • Highly pure water is water whose electrical conductivity at a temperature of 25° C. is in the range from 0.05 pS/cm to below 0.2 pS/cm.
  • Ultrapure water is water whose electrical conductivity at a temperature of 25 °C is in the range from 0.2 pS/cm to 10 pS/cm.
  • the definition of high-purity water and ultrapure water can also be based on the electrical resistance. The electrical resistance is formed from the reverse fraction of the electrical conductivity.
  • both the ultrapure water and the ultrapure water are demineralized, degassed and freed from a large part of the ions (e.g. by a membrane process).
  • the object of the invention is to provide a method and a device that enable precise enrichment of ultrapure water with carbon dioxide.
  • the method and the device should ensure that sufficient coolant is permanently available and that there can be no or only a negligible change in the electrical conductivity between production and use.
  • the device should have a structure that is as simple as possible, so that it can be provided in a cost-effective and space-saving manner.
  • the stated object is achieved according to the invention by a method for the continuous production of ultrapure water from a continuous flow of ultrapure water by adding gas to the continuous flow of water.
  • the method comprises the following steps: a) providing a continuous stream of ultrapure water; b) introducing a gas into the continuous stream of ultrapure water, the gas in a state dissolved in the water increasing the electrical conductivity of the water; then c) flowing the aerated water through a first mixer and mixing and dissolving the gas in the water as it flows through the first mixer to create a water-gas solution; d) determining an electrical conductivity and/or an electrical resistance of the water-gas solution downstream of the first mixer and upstream of a feed point for further gas into the water-gas solution; e) introducing additional gas into the continuous stream of water-gas solution at the feed point; then f) the water-gas solution mixed with further gas flowing through a second mixer and mixing and dissolving the gas in the water-gas solution as it flows through the second mixer to further increase
  • the basic idea of the invention is that through the continuous production of ultrapure water, sufficient water with a desired electrical conductivity/electrical resistance is immediately available to prevent, for example, electrostatic charges or to ensure that these charges can drain off.
  • the ultrapure water is carried in a stream to the tool and is enriched with gas along the way to become ultrapure water. The water therefore flows continuously even when the gas is applied and is not filled into a container, treated with gas there and finally routed from the container to the tool.
  • the desired electrical conductivity of the water-gas solution or the desired electrical resistance can be achieved as precisely as possible by the regulated, at least two-stage introduction of gas, based on the determined electrical conductivities/resistances.
  • the gas is at least almost completely dissolved in the ultrapure water or in the water-gas solution. In addition, an even distribution of the gas dissolved in the water is ensured.
  • Such a uniform distribution has an advantageous effect on the validity of the measurements taking place after the first and second mixer electrical conductivity and/or the electrical resistance of the water-gas solution.
  • Determining the electrical conductivity or resistivity downstream of the first mixer and upstream of the feed point for further gas makes it possible to determine whether the electrical conductivity/resistance is within a desired range, so that if the deviation is too large, the amount introduced in step e) the can compensate for undesired deviations and at the same time a correction of the introduced gas quantity in step b) takes place, so that after the adjustment of the quantity in step b) the introduced quantity of gas in step e) must also be subjected to a correction.
  • a closed control circuit is thus possible as a result of step h), so that the electrical conductivity of the water-gas solution can be adjusted as precisely as possible downstream of the second mixer.
  • the second determination of the electrical conductivity/resistance of the water-gas solution in step g) downstream of the second mixer can also be used, for example, to regulate the amount of gas introduced in step h).
  • the closed control circuit means that the electrical conductivity/resistance of the ultrapure water produced (after the system has settled) can be kept within relatively narrow tolerances.
  • the amount of gas is automatically adjusted if the ambient conditions change.
  • One aspect of the invention provides that the introduction of the gas in steps b) and e) takes place at a respective assigned feed point by a mass flow controller having the feed point.
  • the mass flow controllers can take over the control in step h) or be controlled by a central control unit.
  • the mass flow controller thus combines several functions at the same time, thereby reducing complexity because the number of components required is reduced.
  • the gas can be introduced in steps b) and e) as an alternative to a mass flow controller in each case by a valve controlled in step h). take place. This also allows the valve to be replaced individually and independently of the rest of the components. It is also possible to select the valve depending on the amount of gas to be introduced.
  • the gas introduced in steps b) and e) can be carbon dioxide.
  • carbon dioxide increases the electrical conductivity and reduces the electrical resistance of the water and has a solution behavior in water that can be easily adjusted using temperature and pressure. Furthermore, as long as it is added to ultrapure water in a small amount, it can contribute to preventing corrosion of the workpiece.
  • the water-gas solution can be brought into a laminar flow after it has flowed through the first mixer and after it has flowed through the second mixer in step e) or f).
  • This laminar flow contributes to the measurement quality when determining the electrical conductivity/resistance in steps d) and g).
  • the settling distance ie the distance between the mixer outlet and the sensor arranged downstream, which is required until the flow profile is smoothed, can be significantly reduced in this way.
  • Such an electrical conductivity of the water is sufficient to prevent the build-up of a static electrical charge when cutting workpieces or to reduce them.
  • this range of electrical conductivity/electrical resistance corresponds to a gas quantity of carbon dioxide in the water at which corrosion on the parts to be processed can typically be ruled out.
  • the conductivity/electrical resistance determined in step d) can be corrected if there is a difference from a predefined setpoint by adjusting the amount of gas supplied in step b) and/or by adjusting the amount of gas supplied in step e) using the controls in step h). .
  • the predefined target value enables an individual definition depending on the desired requirements.
  • the closed control circuit ensures that even if parameters change due to external influences, nevertheless, the desired conductivity/electrical resistance of the water-gas solution is always set by adjusting the amount of gas supplied.
  • the conductivity and/or the electrical resistance are set exclusively in the mixers, i.e. no water is mixed into this water-gas solution after the water-gas solution produced has been produced. This has the advantage that factors can no longer influence the accuracy of the conductivity or the resistance.
  • the invention also relates to a method for cutting wafers, in which coolant is continuously supplied to the wafer and the coolant is in the form of ultrapure water, which is continuously produced by a method according to the invention, with preferably exclusively coolant produced in this way being used.
  • the object mentioned at the outset is also achieved by using a continuous stream of ultrapure water generated by the method according to the invention as a coolant that is used directly during the mechanical cutting of parts, in particular wafers. This means that it is used immediately without using a storage container or similar for the ultrapure water. This ensures that the ultrapure water corresponds exactly to the specifications and that its electrical conductivity/electrical resistance does not change as a result of intermediate storage, e.g. B. dissolves the gas in the water.
  • intermediate storage e.g. B. dissolves the gas in the water.
  • ultrapure water in the form of a water-gas solution ensures that no residues of the coolant remain on the cut parts and that these parts do not corrode.
  • a device for the continuous production of ultrapure water and for carrying out the method according to the invention with a flow channel with an inlet for introducing ultrapure water, a first feed unit assigned to the inlet for feeding gas into the flow channel, a a first static mixer arranged downstream of the first feed unit in the flow channel, a first sensor downstream of the first mixer for measuring the electrical conductivity and/or the electrical resistance of a generated water-gas solution, a second feed unit arranged downstream of the first sensor for feeding additional gas into the flow channel, a second mixer provided in the flow channel downstream of the second feed unit, and a second sensor for measuring the electrical conductivity and/or the electrical resistance of the water-gas solution downstream of the second mixer and a control unit which is coupled to the first and second supply unit and the first and second sensor.
  • the first and the second feed unit can each be formed by a mass flow controller. This has the advantage that several functions are integrated in one component, so that the complexity of the device decreases, since fewer individual components have to be installed.
  • the mass flow controller can have an interface that is used for signal-related coupling to the sensors for determining the electrical conductivity and/or the electrical resistance of the water-gas solution, so that the control unit of the mass flow controller can control the gas supply based on the sensor signals.
  • control unit is part of the mass flow controller
  • the control unit is a separate unit that controls both mass flow controllers and is coupled to the sensors.
  • the first and the second supply unit can each have a regulated supply valve which supplements the supplied gas flow, the supply valves and the sensors being coupled to the control unit in terms of signals.
  • the supply valves represent inexpensive standard components which allow simple and reliable adjustment.
  • a flow rectifier for generating a laminar flow can be provided downstream of the first mixer and upstream of the first sensor and/or downstream of the second mixer and upstream of the second sensor. This represents a simple and inexpensive component that can be installed in flow channels with little effort.
  • the flow straightener serves to convert the water-gas solution emerging from the mixer into a laminar flow. No settling section is required after the mixer in order to be able to determine a meaningful measurement signal with regard to electrical conductivity and electrical resistance.
  • the area of the flow channel downstream of the mixer towards the respective sensor can be dimensioned to be shorter, as a result of which the device can be produced using less material and requires less space.
  • the flow of water and gas generated by the first mixer leads to the second feed unit without the addition of water.
  • the object mentioned at the outset is achieved by a device for cutting parts, with a mechanical saw and a device according to the invention, the cooling water line being coupled to the device in such a way that only cooling water from the device is fed into the cooling water line and the flow of continuously produced cooling water is supplied directly to the saw.
  • the water-gas solution used as cooling water is routed to the mechanical saw via the cooling water line without the intermediary of a storage container, so that less space is required.
  • the amount of coolant can be adjusted as a function of need. This means that if a large amount of coolant is required, the mass flow of the high-purity water fed into the device is increased and the amount of gas is adjusted accordingly by the supply units. If the coolant requirement is low, the mass flow of the inflowing ultrapure water is reduced accordingly and with it the quantity of gases introduced through the feed units.
  • the flow of the generated water-gas solution from the first and second mixers is directed to the saw without the admixture of water.
  • FIG. 1 shows a schematic drawing of a structure with the device according to the invention, by means of which the method according to the invention is carried out, and the device according to the invention.
  • FIG. 1 shows a structure 10 with a device 12 for producing ultrapure water, the device 12 comprising a flow channel 14 along which ultrapure water is enriched with gas from a gas source 16 .
  • the gas is selected so that when dissolved in water, it increases its electrical conductivity and reduces its electrical resistance.
  • the flow channel 14 is coupled to a water source 18 via which the device 12 obtains ultrapure water, which flows along the flow channel 14 (see arrows in FIG. 1) and is routed to a device 20 for cutting parts.
  • the water source 18 can be a tank filled with ultrapure water.
  • the water source 18 is a system in which the water is demineralized, degassed and freed from a large part of the ions in the water, for example by a membrane process, so that ultra-pure water can be provided.
  • the flow channel 14 includes an inlet 22 which serves to introduce the high-purity water from the water source 18 into the device 12 .
  • a first supply unit 24 for gas which is coupled to the gas source 16 , is assigned to the inlet 22 .
  • the first supply unit 24 can be a mass flow controller 25 .
  • the mass flow controller 25 includes a valve, an integrated controller, a mass flow meter and at least one interface via which measurement signals can be recorded.
  • a second option provides that the mass flow controller 25 is coupled with its interface to a central control unit 42 and receives control commands via this.
  • the supply unit 24 can be a supply valve 27 .
  • the flow channel 14 further comprises a first static mixer 26 arranged downstream of the inlet 22 , which is connected via the flow channel 14 to a second static mixer 28 arranged downstream.
  • a flow straightener 29 is provided at the flow outlet of the first and the second static mixer 26, 28 or directly downstream of the two mixers 26, 28, a flow straightener 29 is provided in each case, which is the case optionally.
  • a first sensor 30 is located on the section of flow channel 14 that connects the first and second static mixers 26, 28 to one another.
  • a second feed unit 32 is arranged downstream of the first sensor 30 and is coupled to the gas source 16 like the first first feed unit 24 is.
  • the second feed unit 32 can also be a mass flow controller 33 according to a first option and a feed valve 35 according to a third option.
  • the flow channel 14 Downstream of the second static mixer 28, the flow channel 14 has an outlet 34, in front of which a second sensor 36 is arranged. In addition, the outlet 34 is coupled to the device 20 for cutting parts.
  • the ultrapure water flowing out of the device 12 is made available via a cooling water line 38 assigned to the device 20 in the cutting area of a mechanical saw 40 .
  • device 12 includes a control unit 42.
  • the two mass flow controllers 25, 33 have their own integrated controller unit, which then receives data on the electrical conductivity or the electrical resistance of the water-gas solution from its associated sensor 30, 36 and regulates the supply of gas .
  • the mass flow controllers 25, 33 are controlled by the central control unit 42.
  • the first and second supply units 24, 32 are supply valves 27, 35
  • carbon dioxide is introduced into a continuous stream of ultrapure water in a controlled manner in two stages.
  • the dissolved carbon dioxide increases the electrical conductivity and lowers the electrical resistance of the water, so that the water-gas solution can prevent or reduce electrical charges that can build up when parts are mechanically cut, e.g. wafers.
  • ultrapure water flows continuously from the water source 18 into the inlet 22 of the flow channel 14 up to the saw 40.
  • Carbon dioxide is introduced into the continuous stream of ultrapure water via the first feed unit 24.
  • the first mixer 26 Upon entering the first mixer 26, there is a mixing of the carbon dioxide with the water where the gas dissolves in the water. so that there is a water-gas solution.
  • the water-gas solution flows through the flow straightener 29 downstream of the mixer, so that a laminar flow profile is created, which has a positive effect on the measurement quality of the first sensor 30 .
  • the first sensor 30 serves to determine the electrical conductivity or the electrical resistance of the water-gas solution.
  • the measured value recorded in this way is made available in the form of signals to the two control units 42 integrated in the mass flow controllers 25, 33 or to the separate, central control unit 42.
  • the second feed unit 32 introduces more carbon dioxide into the water-gas solution.
  • the gas-added water-gas solution flows through the second static mixer 28, so that the newly added gas is mixed with the water-gas solution and dissolved in it, whereby the electrical conductivity of the water-gas solution further increases or the electrical resistance decreases accordingly.
  • the water-gas solution flows through the flow straightener 29 and is again put into a laminar flow.
  • a further measurement of the electrical conductivity/electrical resistance of the water-gas solution takes place downstream of the flow straightener 29 by the second sensor 36 .
  • These measured values are also available in the form of signals at least to the control unit integrated in the mass flow controller 33 or to the control unit 42 implemented separately.
  • the integrated control units or the separately implemented control unit 42 continuously regulates/regulates the quantity of gas introduced by the first and second supply units 24, 32, based on the electrical conductivities or the electrical resistance of the water-gas solution, which is passed through the first sensor 30 and the second sensor 36 are determined.
  • predefined setpoint values that can be set are defined. In this case, the regulation can take place both as a function of the determined differences from the desired values and/or the change over time in the differences from the desired values.
  • the first feed unit should introduce a corresponding amount of carbon dioxide into the ultrapure water so that the electrical conductivity measured at the first sensor 30 corresponds approximately to a target value of 0.2 pS/cm and the electrical resistance to a corresponding reciprocal value.
  • the quantity of carbon dioxide introduced via the second feed unit 32 is regulated in such a way that the electrical conductivity detected by the second sensor 36 is in the range from 0.75 to 2 pS/cm and the electrical resistance is a corresponding reciprocal value .
  • control unit(s) 42 determines that the electrical conductivity/electrical resistance of the water-gas solution detected by the first sensor 30 deviates from a predefined setpoint value that can be set, the control unit 42 increases or decreases it as appropriate Requires the amount of carbon dioxide introduced by the first supply unit 24 .
  • control unit(s) 42 also adjusts the amount of gas introduced by the second supply unit 32 at the same time in order to correct a deviation from the predefined setpoint, so that the electrical conductivity/resistance of the water-gas solution ultimately decreases downstream of the second static mixer 28 has the desired electrical conductivity/resistance.
  • the water-gas solution is not made available to the device 20 but is drained off. This ensures that no cooling water is provided that does not meet the specifications. This is particularly useful at the beginning of the process, since the method may have to settle down until the desired electrical conductivities/resistances are present at the first and second sensors 30, 36. Thus, it may be advantageous to start the process but wait with the sawing by the device 20 until the ultrapure water used as cooling water meets the specifications.
  • the conductivity and/or the electrical resistance are set exclusively in the mixers, i.e. no water is mixed into this water-gas solution after the water-gas solution produced has been produced. This has the advantage that factors can no longer influence the accuracy of the conductivity or the resistance.
  • This water-gas solution alone (without subsequent admixing of water) is then preferably also taken to the cutting device and used there when cutting wafers.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Reinstwasser aus einem kontinuierlichen Strom von hochreinem Wasser durch Zugabe von Gas in die kontinuierliche Strömung des Wassers. Das Gas wird in zwei aufeinanderfolgenden Schritten zugemischt und nach jedem Schritt wird die elektrische Leitfähigkeit und/oder ein elektrischer Widerstand der Wasser-Gas-Lösung gemessen, um die zugeführte Gasmenge zu regeln und Zielwerte zu erreichen. Die Erfindung betrifft auch eine Verwendung eines durch das Verfahren erzeugten kontinuierlichen Stroms an Reinstwasser. Darüber hinaus betrifft die Erfindung eine Vorrichtung (12) zur kontinuierlichen Herstellung von Reinstwasser und zur Durchführung des Verfahrens. Zudem ist eine Einrichtung (20) zum Schneiden von Teilen beschrieben.

Description

Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung von Reinstwasser, dessen Verwendung und Einrichtung zum Schneiden von Teilen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung von Reinstwasser. Ferner betrifft die Erfindung eine Verwendung des Reinstwassers und eine Einrichtung zum Schneiden von Teilen.
Bei der mechanischen Bearbeitung von Teilen, insbesondere beim mechanischen Sägen, ist es notwendig, eine Kühlung mittels eines Kühlmittels vorzusehen. Werden dabei an den Prozessschritt der mechanischen Bearbeitung hohe Ansprüche hinsichtlich der Genauigkeit und der Reinheit gestellt, so muss dies auch für die Wahl des Kühlmittels bzw. der Kühlmittelzusammensetzung berücksichtigt werden. In solchen Fällen wird typischerweise auf ein Kühlmittel zurückgegriffen, welches auf speziell aufbereitetem und gereinigtem Wasser basiert. Dies trägt dazu bei, dass keine Verunreinigungen auf dem zu bearbeitenden Teil Zurückbleiben und stellt sicher, dass das Teil zumindest größtenteils frei von Korrosion bleibt.
Hierbei wird vorliegend zwischen hochreinem Wasser und Reinstwasser unterschieden. Die Definition von hochreinem Wasser und Reinstwasser erfolgt anhand der elektrischen Leitfähigkeit, die einen Summenparameter bildet und in technischen Bereichen einen repräsentativen Wert für die Reinheit von Wasser darstellt.
Als hochreines Wasser wird dabei Wasser bezeichnet, dessen elektrische Leitfähigkeit bei einer Temperatur von 25 °C im Bereich von 0,05 pS/cm bis unter 0,2 pS/cm liegt. Als Reinstwasser wird Wasser angesehen, dessen elektrische Leitfähigkeit bei einer Temperatur von 25 °C in einem Bereich von 0,2 pS/cm bis 10 pS/cm liegt. Alternativ kann die Definition von hochreinem Wasser und Reinstwasser auch anhand des elektrischen Widerstandes erfolgen. Der elektrische Widerstand bildet sich aus dem Umkehrbruch der elektrischen Leitfähigkeit.
Üblicherweise ist sowohl das hochreine Wasser als auch das Reinstwasser entmineralisiert, entgast und von einem Großteil der Ionen befreit (beispielsweise durch ein Membranverfahren).
Beim mechanischen Bearbeiten von Teilen, insbesondere beim mechanischen Sägen, kann sich eine statische Ladung durch freigesetzte Ionen aufbauen. Dies ist beispielsweise bei der Herstellung von Halbleitern und dem damit zusammenhängenden Zusägen von scheibenförmigen Wafern der Fall. Diese statische Ladung kann zur Folge haben, dass beim Sägen anfallende Späne an dem zu bearbeitenden Teil haften bleiben. Hierdurch kann die Qualität negativ beeinflusst werden und die zu bearbeitenden Teile können unter Umständen sogar beschädigt werden.
Diese hervorgerufenen statischen Ladungen können durch gereinigtes Wasser allein aufgrund der geringen elektrischen Leitfähigkeit nicht abgebaut werden. Somit muss das Kühlmittel neben der Kühlung von Werkzeug und zu bearbeitendem Teil zudem sicherstellen, dass eine elektrostatische Aufladung verhindert wird oder abgebaut werden kann.
Der Stand der Technik bietet verschiedene Lösungen, um diese elektrostatische Aufladung zu verhindern.
Eine Möglichkeit ist es, dem als Kühlmittel verwendeten gereinigten Wasser (Fest-)Stoffe hinzuzumischen, die sich im Wasser lösen und die elektrische Leitfähigkeit erhöhen. Dabei kann es jedoch dazu kommen, dass nach der mechanischen Bearbeitung Rückstände der dem Kühlwasser zugemischten Stoffe auf der Werkstückoberfläche Zurückbleiben. Dies ist unerwünscht, da diese Rückstände Verunreinigungen darstellen und Korrosionen an der Werkstückoberfläche verursachen können.
Weiter gibt es Lösungen, bei denen in gereinigtes Wasser in einen Behälter unter Druck Kohlenstoffdioxid eingebracht wird. Das Kohlenstoffdioxid löst sich dabei in dem gereinigten Wasser, sodass die elektrische Leitfähigkeit des Wassers zunimmt. Im Anschluss wird das mit Kohlenstoffdioxid versetzte Wasser aus dem Druckbehalter in einen Kuhlmittelstrom aus gereinigtem Wasser beigemischt. Nachteilig hierbei ist, dass für das Einbringen des Kohlenstoffdioxids ein Druckbehälter sowie Leitungen benötigt werden. Darüber hinaus löst sich ein gewisser Anteil des Kohlenstoffdioxids aus dem gereinigten Wasser, sobald der Behälter geöffnet wird, sodass die elektrische Leitfähigkeit nicht mehr dem eingestellten Wert entspricht. Weiter sind solche Verfahren häufig nicht ausreichend präzise und bergen eine gewisse Ungenauigkeit. Hierbei kann sich besonders eine Überdosierung von Kohlenstoffdioxid nachteilig auswirken und zu einer erhöhten Korrosion des Werkstücks führen.
Die Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Vorrichtung bereitzustellen, die eine präzise Anreicherung von hochreinem Wasser mit Kohlenstoffdioxid ermöglichen. Darüber hinaus soll durch das Verfahren und die Vorrichtung sichergestellt sein, dass dauerhaft ausreichend Kühlmittel zur Verfügung steht und dass keine oder nur eine vernachlässigbare Änderung der elektrischen Leitfähigkeit zwischen Herstellung und Verwendung stattfinden kann. Ferner soll die Vorrichtung einen möglichst einfachen Aufbau besitzen, sodass sie kostengünstig und platzsparend bereitgestellt werden kann.
Die gestellte Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren gelöst zur kontinuierlichen Herstellung von Reinstwasser aus einem kontinuierlichen Strom von hochreinem Wasser durch Zugabe von Gas in die kontinuierliche Strömung des Wassers. Das Verfahren weist die folgenden Schritte auf: a) Bereitstellen eines kontinuierlichen Stromes von hochreinem Wasser; b) Einbringen eines Gases in den kontinuierlichen Strom von hochreinem Wasser, wobei das Gas in einem im Wasser gelösten Zustand die elektrische Leitfähigkeit des Wassers erhöht; anschließend c) Durchströmen eines ersten Mischers durch das mit Gas versetzte Wasser und Mischen und Lösen des Gases im Wasser beim Durchströmen des ersten Mischers zur Schaffung einer Wasser-Gas-Lösung; d) Bestimmen einer elektrischen Leitfähigkeit und/oder eines elektrischen Widerstandes der Wasser-Gas-Lösung stromabwärts des ersten Mischers und stromaufwärts einer Zuführstelle für weiteres Gas in die Wasser-Gas-Lösung; e) Einbringen von weiterem Gas in den kontinuierlichen Strom der Wasser- Gas-Lösung an der Zuführstelle; anschließend f) Durchströmen eines zweiten Mischers durch die mit weiterem Gas versetzte Wasser-Gas-Lösung und Mischen und Lösen des Gases in der Wasser- Gas-Lösung beim Durchströmen des zweiten Mischers zur weiteren Erhöhung der elektrischen Leitfähigkeit und Reduzierung des elektrischen Widerstands; g) Bestimmen einer elektrischen Leitfähigkeit und/oder eines elektrischen Widerstandes der Wasser-Gas-Lösung stromab des zweiten Mischers; und h) Regeln der in den Schritten b) und e) einzubringenden Gasmenge abhängig von zumindest einem der in den Schritten d) und g) ermittelten Leitfähigkeit oder des Widerstands.
Der Grundgedanke der Erfindung ist es, dass durch die kontinuierliche Herstellung des Reinstwassers dauerhaft ausreichend Wasser mit einer gewünschten elektrischen Leitfähigkeit/eines elektrischen Widerstands unmittelbar zur Verfügung steht, um beispielsweise elektrostatischen Ladungen vorzubeugen oder zu gewährleisten, dass diese Ladungen abfließen können. Das hochreine Wasser wird in einem Strom bis zum Werkzeug geführt und wird auf diesem Weg mit Gas angereichert, um zum Reinstwasser zu werden. Das Wasser strömt also kontinuierlich auch während der Gasbeaufschlagung und wird nicht in einen Behälter gefüllt, dort mit Gas behandelt und schließlich aus dem Behälter zum Werkzeug geleitet.
Weiter kann durch die geregelte, zumindest zweistufige Einbringung von Gas, basierend auf den ermittelten elektrischen Leitfähigkeiten/Widerstände, möglichst exakt die gewünschte elektrische Leitfähigkeit der Wasser-Gas-Lösung oder der gewünschte elektrische Widerstand erreicht werden.
Darüber hinaus wird durch das Durchströmen der Mischer in den Schritten c) und f) erreicht, dass das Gas zumindest nahezu vollständig im Reinstwasser oder in der Wasser-Gas-Lösung gelöst wird. Darüber hinaus wird eine gleichmäßige Verteilung des im Wasser gelösten Gases sichergestellt.
Eine solche gleichmäßige Verteilung wirkt sich vorteilhaft auf die Aussagekraft der nach dem ersten und zweiten Mischer stattfindenden Messungen der elektrischen Leitfähigkeit und/oder des elektrischen Widerstandes der Wasser- Gas-Lösung aus.
Das Bestimmen der elektrischen Leitfähigkeit oder des Widerstands stromabwärts des ersten Mischers und stromaufwärts der Zuführstelle für weiteres Gas ermöglicht es, festzustellen, ob die elektrische Leitfähigkeit/der Widerstandinnerhalb eines gewünschten Bereichs liegt, sodass bei einer zu großen Abweichung die im Schritt e) eingebrachte Menge die unerwünschte Abweichung ausgleichen kann und gleichzeitig eine Korrektur der eingebrachten Gasmenge im Schritt b) stattfindet, sodass nach der Anpassung der Menge in Schritt b) die eingebrachte Menge des Gases in Schritt e) zusätzlich noch mit einer Korrektur beaufschlagt werden muss. Somit ist durch den Schritt h) ein geschlossener Regelkreis möglich, sodass die elektrische Leitfähigkeit der Wasser-Gas-Lösung stromabwärts des zweiten Mischers möglichst präzise eingestellt werden kann.
Die zweite Bestimmung der elektrischen Leitfähigkeit/des Widerstands der Wasser-Gas-Lösung in Schritt g) stromabwärts des zweiten Mischers kann beispielsweise auch zur Regelung der eingebrachten Gasmenge in Schritt h) dienen.
Durch den geschlossenen Regelkreis kann erreicht werden, dass sich die elektrische Leitfähigkeit/der Widerstand des hergestellten Reinstwassers (nach einem eventuellen Einschwingen des Systems) innerhalb verhältnismäßig enger Toleranzen bewegt. Zudem wird die Gasmenge automatisch angepasst, wenn es zu einer Änderung der Umgebungsbedingungen kommt.
Ein Aspekt der Erfindung sieht vor, dass das Einbringen des Gases in den Schritten b) und e) an einer jeweils zugeordneten Zuführstelle durch jeweils einen die Zuführstelle aufweisenden Massendurchflussregler erfolgt. Die Massendurchflussregler können das Regeln in Schritt h) übernehmen oder von einer zentralen Regelungseinheit angesteuert werden. Somit vereint der Massendurchflussregler gleich mehrere Funktionen in sich und reduziert hierdurch die Komplexität, da die Anzahl der benötigten Komponenten verringert wird.
Das Einbringen des Gases kann in den Schritten b) und e) als Alternative zu einem Massendurchflussregler jeweils durch ein in Schritt h) geregeltes Ventil erfolgen. Dies ermöglicht es auch, das Ventil einzeln und unabhängig von den restlichen Komponenten auszutauschen. Weiter ist es möglich, das Ventil in Abhängigkeit der einzubringenden Gasmenge auszuwählen.
Das in den Schritten b) und e) eingebrachte Gas kann Kohlenstoffdioxid sein. Kohlenstoffdioxid erhöht im gelösten Zustand die elektrische Leitfähigkeit und reduziert den elektrischen Widerstand des Wassers und besitzt ein Lösungsverhalten in Wasser, welches gut anhand von Temperatur und Druck eingestellt werden kann. Ferner kann es, solange es nur in geringen Mengen in hochreines Wasser eingebracht wird, dazu beitragen, dass keine Korrosion am Werkstück hervorgerufen wird.
Die Wasser-Gas-Lösung kann jeweils nach dem Durchströmen des ersten und nach dem Durchströmen des zweiten Mischers in Schritt e) bzw. f) in eine laminare Strömung versetzt werden. Diese laminare Strömung trägt zur Messgüte beim Bestimmen der elektrischen Leitfähigkeit/des Widerstands in den Schritten d) und g) bei. Weiter kann hierdurch die Beruhigungsstrecke, also die Strecke zwischen Mischerausgang und dem strömungsabwärts angeordneten Sensor, die benötigt wird, bis das Strömungsprofil geglättet ist, deutlich verringert werden.
Bevorzugt wird so viel Gas bis zur Stelle der Strömung, an der die Wasser- Gas-Lösung über Schritt g) detektiert wird, zugegeben, dass die Wasser-Gas- Lösung eine elektrische Leitfähigkeit von 0,75 - 2pS/cm oder einen entsprechenden elektrischen Widerstand hat. Eine solche elektrische Leitfähigkeit des Wassers genügt, um den Aufbau einer statischen elektrischen Ladung beim Schneiden von Werkstücken zu unterbinden oder diese abzubauen. Weiter entspricht dieser Bereich der elektrischen Leitfäh igkeit/der elektrische Widerstand einer Gasmenge an Kohlenstoffdioxid im Wasser, bei der Korrosion an den zu bearbeitenden Teilen typischerweise ausgeschlossen werden kann.
Die in dem Schritt d) ermittelte Leitfähigkeit/der elektrische Widerstand kann bei einer Differenz zu einem vordefinierten Sollwert durch Anpassen der in Schritt b) zugeführten Gasmenge und/oder durch Anpassen der in Schritt e) zugeführten Gasmenge anhand des Regelns in Schritt h) korrigiert werden. Der vordefinierte Sollwert ermöglicht dabei eine individuelle Festlegung in Abhängigkeit der gewünschten Anforderungen. Der geschlossene Regelkreis stellt sicher, dass auch dann, wenn es durch äußere Einflüsse zu einer Parameteränderung kommt, sich dennoch stets die gewünschte Leitfähigkeit/den elektrischen Widerstand der Wasser-Gas-Lösung durch Anpassen der zugeführten Gasmenge einstellt.
Die Leitfähigkeit und/oder der elektrische Widerstand werden insbesondere ausschließlich in den Mischern eingestellt, d.h. es erfolgt kein Zumischen von Wasser nach dem Erzeugen der erzeugten Wasser-Gas-Lösung in diese Wasser- Gas-Lösung. Das bringt den Vorteil, dass keine Faktoren mehr die Genauigkeit der Leitfähigkeit oder des Widerstands beeinflussen können.
Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Schneiden von Wafern, bei dem Kühlmittel kontinuierlich dem Wafer zugeführt wird und das Kühlmittel als Reinstwasser vorliegt, welches durch ein erfindungsgemäßes Verfahren kontinuierlich hergestellt wird, wobei vorzugsweise ausschließlich so hergestelltes Kühlmittel verwendet wird.
Die eingangs genannte Aufgabe wird zudem gelöst durch eine Verwendung eines durch das erfindungsgemäße Verfahren erzeugten kontinuierlichen Stroms an Reinstwasser als unmittelbar verwendetes Kühlmittel beim mechanischen Schneiden von Teilen, insbesondere Wafern. Das bedeutet, es findet eine unmittelbare Verwendung statt ohne den Einsatz eines Lagerbehälters oder ähnliches für das Reinstwasser. Hierdurch wird sichergestellt, dass das Reinstwasser genau den Spezifikationen entspricht und seine elektrische Leitfähigkeit/sein elektrischer Widerstand nicht durch eine Zwischenlagerung verändert, da sich z. B. das in dem Wasser befindliche Gas löst.
Darüber hinaus wird durch den Einsatz des Reinstwassers in Form der Wasser- Gas-Lösung gewährleistet, dass keinerlei Rückstände des Kühlmittels auf den zugeschnittenen Teilen verbleiben und auch keine Korrosion dieser Teile einsetzt.
Darüber hinaus wird die eingangs genannte Aufgabe gelöst durch eine Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung von Reinstwasser und zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens, mit einem Strömungskanal mit einem Einlass zur Einleitung von hochreinem Wasser, einer dem Einlass zugeordneten ersten Zuführeinheit zum Zuführen von Gas in den Strömungskanal, einem stromabwärts der ersten Zuführeinheit im Strömungskanal angeordneten ersten statischen Mischer, einem ersten Sensor stromabwärts des ersten Mischers zur Messung der elektrischen Leitfähigkeit und/oder des elektrischen Widerstandes einer erzeugten Wasser-Gas-Lösung, eine stromabwärts des ersten Sensors angeordnete zweite Zuführeinheit zum Zuführen von weiterem Gas in den Strömungskanal, einem stromabwärts der zweiten Zuführeinheit im Strömungskanal vorgesehenen zweiten Mischer, und einem zweiten Sensor zur Messung der elektrischen Leitfähigkeit und/oder des elektrischen Widerstandes der Wasser-Gas-Lösung stromabwärts des zweiten Mischers und einer Regelungseinheit, die mit der ersten und zweiten Zuführeinheit sowie dem ersten und zweiten Sensor gekoppelt ist.
Hinsichtlich der sich ergebenden Vorteile wird auf die obigen Erläuterungen verwiesen.
Die erste und die zweite Zuführeinheit können jeweils durch einen Massendurchflussregler gebildet werden. Dieser besitzt den Vorteil, dass mehrere Funktionen in einer Komponente integriert sind, sodass die Komplexität der Vorrichtung abnimmt, da weniger einzelne Komponenten verbaut werden müssen.
Optimal wird beispielsweise eine einzelne Regelungseinheit überflüssig, da diese Teil des Massendurchflussreglers ist, sodass der Massendurchflussregler ermittelt, welche Menge Gas dem Wasser oder der Wasser-Gas-Lösung zugeführt wird.
Weiter kann der Massendurchflussregler eine Schnittstelle aufweisen, die zur signaltechnischen Kopplung mit den Sensoren zur Ermittlung der elektrischen Leitfähigkeit und/oder den elektrischen Widerstand der Wasser-Gas-Lösung dient, sodass die Regelungseinheit des Massendurchflussregler die Gaszufuhr anhand der Sensorsignale regeln kann.
Alternativ zu dieser Lösung, in der die Regelungseinheit Teil des Massendurchflussreglers ist, ist die Regelungseinheit eine separate Einheit, die beide Massendurchflussregler ansteuert und mit den Sensoren gekoppelt ist.
Alternativ zu den Massendurchflussreglern kann die erste und die zweite Zuführeinheit jeweils ein geregeltes Zuführventil aufweisen, welches den zugeführten Gasstrom ergänzt, wobei die Zuführventile und die Sensoren mit der Regelungseinheit signaltechnisch gekoppelt sind. Die Zuführventile stellen günstige Normbauteile dar, welche eine einfache und zuverlässige Verstellung erlauben. Stromabwärts des ersten Mischers und stromaufwärts des ersten Sensors und/oder stromabwärts des zweiten Mischers und stromaufwärts des zweiten Sensors kann ein Strömungsgleichrichter zur Erzeugung einer laminaren Strömung vorgesehen sein. Dieser stellt ein einfaches und günstiges Bauteil dar, welches mit geringem Aufwand in Strömungskanälen installiert werden kann.
Der Strömungsgleichrichter dient dabei dazu, die aus dem Mischer austretende Wasser-Gas-Lösung in eine laminare Strömung zu versetzen. So wird keinerlei Beruhigungsstrecke nach dem Mischer benötigt, um ein aussagekräftiges Messsignal im Hinblick auf die elektrische Leitfähigkeit und den elektrischen Widerstand ermitteln zu können.
Hierdurch kann der Bereich des Strömungskanals stromabwärts der Mischer hin zu dem jeweiligen Sensor kürzer dimensioniert werden, wodurch die Vorrichtung materialsparender produziert werden kann und einen geringeren Platzbedarf aufweist.
Die vom ersten Mischer ausgehende Strömung erzeugten Wasser-Gas- Lösung führt ohne Zumischung von Wasser zur zweiten Zuführeinheit.
Ferner wird die eingangs genannte Aufgabe durch eine Einrichtung zum Schneiden von Teilen gelöst, mit einer mechanischen Säge und einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, wobei die Kühlwasserleitung mit der Vorrichtung so gekoppelt ist, dass ausschließlich Kühlwasser aus der Vorrichtung in die Kühlwasserleitung geleitet wird und der Strom von kontinuierlich hergestelltem Kühlwasser unmittelbar der Säge zugeführt wird.
Somit wird die als Kühlwasser verwendete Wasser-Gas-Lösung ohne Zwischenschaltung eines Lagerbehälters über die Kühlwasserleitung zur mechanischen Säge geleitet, sodass ein geringerer Platzbedarf notwendig ist.
Durch die unmittelbare Zuführung des Kühlwassers und sofortige Verwendung im Schnittbereich der Säge findet praktisch keinerlei Veränderung der Wasser- Gas-Lösung aufgrund von Entgasungsprozessen statt.
Dabei ist es weiter denkbar, dass die Menge des Kühlmittels, und damit auch die Menge des in dem Wasser gelösten Gases, in Abhängigkeit des Bedarfs eingestellt werden kann. Das bedeutet, dass wenn eine große Menge an Kühlmittel benötigt wird, der Massenstrom des in die Vorrichtung geleiteten hochreinen Wassers erhöht wird und die Menge des Gases durch die Zuführeinheiten entsprechend angepasst wird. Ist der Kühlmittelbedarf gering, so wird dementsprechend der Massenstrom des einströmenden hochreinen Wassers verringert und mit diesem auch die eingebrachte Menge an Gasen durch die Zuführeinheiten.
Die vom ersten und vom zweiten Mischer ausgehende Strömung der erzeugten Wasser-Gas-Lösung wird ohne Zumischung von Wasser zur Säge geleitet.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand einer Ausführungsform beschrieben, die in der beigefügten Zeichnung dargestellt ist. In dieser zeigt:
Figur 1 eine schematische Zeichnung eines Aufbaus mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung, mittels der das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt wird, und der erfindungsgemäßen Einrichtung.
Figur 1 zeigt einen Aufbau 10 mit einer Vorrichtung 12 zur Herstellung von Reinstwasser, wobei die Vorrichtung 12 einen Strömungskanals 14 umfasst, entlang dem hochreines Wasser mit Gas aus einer Gasquelle 16 angereichert wird. Das Gas ist so ausgewählt, dass es bei Lösung in Wasser dessen elektrische Leitfähigkeit erhöht und den elektrischen Widerstand reduziert.
Der Strömungskanal 14 ist dabei mit einer Wasserquelle 18 gekoppelt, über die die Vorrichtung 12 hochreines Wasser bezieht, welches entlang des Strömungskanals 14 strömt (siehe Pfeile Figur 1 ) und zu einer Einrichtung 20 zum Schneiden von Teilen geleitet wird.
Die Wasserquelle 18 kann ein mit hochreinem Wasser gefüllter T ank sein.
Alternativ ist es auch denkbar, dass es sich bei der Wasserquelle 18 um eine Anlage handelt, bei der Wasser entmineralisiert, entgast und beispielsweise durch ein Membranverfahren von einem Großteil der im Wasser befindlichen Ionen befreit wird, sodass hochreines Wasser bereitgestellt werden kann.
Der Strömungskanal 14 umfasst einen Einlass 22, der dazu dient, das hochreine Wasser der Wasserquelle 18 in die Vorrichtung 12 einzuleiten. Dem Einlass 22 ist eine erste Zuführeinheit 24 für Gas zugeordnet, die mit der Gasquelle 16 gekoppelt ist.
Gemäß einer Option kann es sich bei der ersten Zuführeinheit 24 um einen Massendurchflussregler 25 handeln. Der Massendurchflussregler 25 umfasst dabei ein Ventil, eine integrierte Regelung, einen Massendurchflussmesser und zumindest eine Schnittstelle, über die Messsignale aufgenommen werden können.
Eine zweite Option sieht vor, dass der Massendurchflussregler 25 mit seiner Schnittstelle an eine zentrale Regelungseinheit 42 angekoppelt ist und über diese Steuerbefehle erhält.
Gemäß einer dritten Option kann es sich bei der Zuführeinheit 24 um ein Zuführventil 27 handeln.
Weiter umfasst der Strömungskanal 14 einen stromabwärts des Einlasses 22 angeordneten ersten statischen Mischer 26, der über den Strömungskanal 14 mit einem zweiten, stromabwärts angeordneten statischen Mischer 28 verbunden ist.
Am Strömungsausgang des ersten und des zweiten statischen Mischers 26, 28 oder unmittelbar stromabwärts der beiden Mischer 26, 28 ist dabei jeweils ein Strömungsgleichrichter 29 vorgesehen, was optional der Fall ist.
Am Abschnitt des Strömungskanals 14, der den ersten und den zweiten statischen Mischer 26, 28 miteinander verbindet, sitzt ein erster Sensor 30. Stromabwärts des ersten Sensors 30 ist eine zweite Zuführeinheit 32 angeordnet, die wie die erste ersten Zuführeinheit 24 mit der Gasquelle 16 gekoppelt ist.
Analog zu der ersten Zuführeinheit 24 kann auch die zweite Zuführeinheit 32 gemäß erster Optionen ein Massendurchflussregler 33 sein und gemäß einer dritten Option ein Zuführventil 35.
Stromabwärts des zweiten statischen Mischers 28 weist der Strömungskanal 14 einen Auslass 34 auf, vor dem ein zweiter Sensor 36 angeordnet ist. Zudem ist der Auslass 34 mit der Einrichtung 20 zum Schneiden von Teilen gekoppelt.
Innerhalb der Einrichtung 20 wird das die Vorrichtung 12 ausströmende Reinstwasser über eine der Einrichtung 20 zugeordnete Kühlwasserleitung 38 im Schnittbereich einer mechanischen Säge 40 bereitgestellt. Darüber hinaus umfasst die Vorrichtung 12 eine Regelungseinheit 42.
Gemäß der oben erwähnten ersten Option haben die beiden Massendurchflussregler 25, 33 eine eigene, integrierte Reglereinheit, die dann jeweils von ihrem zugeordneten Sensor 30, 36 Daten zur elektrischen Leitfähigkeit oder dem elektrischen Widerstand der Wasser-Gas-Lösung erhält und die Zufuhr von Gas regelt.
Auch eine Kopplung der beiden integrierten Regelungseinheiten untereinander ist möglich, um eine Kommunikation und eine Abstimmung zwischen den Regelungseinheiten zu erreichen.
Gemäß der zweiten Option werden die Massendurchflussregler 25, 33 von der zentralen Regelungseinheit 42 angesteuert.
Gemäß der dritten Option, bei der es sich bei der ersten und der zweiten Zuführeinheit 24, 32 um Zuführventile 27, 35 handelt, ist ebenfalls eine separate, zentrale Regelungseinheit 42 vorhanden, die mit der ersten und der zweiten Zuführeinheit 24, 32 sowie dem ersten und dem zweiten Sensor 30, 36 gekoppelt ist (in der Zeichnung durch Strichlinien dargestellt).
Nachfolgend wird, basierend auf den obigen Ausführungen zu der Vorrichtung, das Verfahren anhand Figur 1 zur kontinuierlichen Herstellung von Reinstwasser erläutert.
Bei dem Verfahren wird kontrolliert in zwei Stufen Kohlenstoffdioxid in einen kontinuierlichen Strom von hochreinem Wasser eingebracht. Dabei erhöht das Kohlenstoffdioxid in gelöstem Zustand die elektrische Leitfähigkeit und erniedrigt den elektrischen Widerstand des Wassers, sodass die Wasser-Gas-Lösung elektrische Ladungen, welche sich beim mechanischen Schneiden von Teilen, z.B. Wafern, aufbauen können, verhindern oder abbauen kann.
Hierfür strömt hochreines Wasser kontinuierlich aus der Wasserquelle 18 in den Einlass 22 des Strömungskanals 14 bis zur Säge 40. In den kontinuierlichen Strom von hochreinem Wasser wird über die erste Zuführeinheit 24 Kohlenstoffdioxid eingebracht.
Beim Eintreten in den ersten Mischer 26 findet ein Mischen von dem Kohlenstoffdioxid mit dem Wasser statt, bei dem sich das Gas im Wasser löst, sodass eine Wasser-Gas-Lösung vorliegt. Stromabwärts des Mischers strömt die Wasser-Gas-Lösung durch den Strömungsgleichrichter 29, sodass ein laminares Strömungsprofil entsteht, welches sich positiv auf die Messgüte des ersten Sensors 30 auswirkt.
Der erste Sensor 30 dient dazu, die elektrische Leitfähigkeit oder den elektrischen Widerstand der Wasser-Gas-Lösung zu bestimmen. Der dabei erfasste Messwert wird den beiden in den Massendurchflussreglern 25, 33 integrierten Regelungseinheiten 42 bzw. der separat ausgeführten, zentralen Regelungseinheit 42 in Form von Signalen bereitgestellt.
Die zweite Zuführeinheit 32 bringt weiteres Kohlenstoffdioxid in die Wasser- Gas-Lösung ein.
Im Anschluss durchströmt die mit Gas versetzte Wasser-Gas-Lösung den zweiten statischen Mischer 28, sodass das neu hinzugegebene Gas mit der Wasser-Gas-Lösung gemischt und in dieser gelöst wird, wodurch die elektrische Leitfähigkeit der Wasser-Gas-Lösung weiter zunimmt oder der elektrische Widerstand entsprechend abnimmt.
Stromabwärts des zweiten statischen Mischers 28 durchströmt die Wasser- Gas-Lösung den Strömungsgleichrichter 29 und wird dabei abermals in eine laminare Strömung versetzt.
Stromabwärts des Strömungsgleichrichters 29 findet durch den zweiten Sensor 36 eine weitere Messung der elektrischen Leitfähigkeit/des elektrischen Widerstands der Wasser-Gas-Lösung statt. Auch diese Messwerte stehen zumindest der im Massendurchflussregler 33 integrierten Regelungseinheit bzw. der separat ausgeführten Regelungseinheit 42 in Form von Signalen zur Verfügung.
Die integrierten Regelungseinheiten bzw. die separat ausgeführte Regelungseinheit 42 regen/regelt dabei dauerhaft die durch die erste und zweite Zuführeinheit 24, 32 eingebrachte Gasmenge, basierend auf den elektrischen Leitfähigkeiten oder dem elektrischen Widerstand der Wasser-Gas-Lösung, welche durch den ersten Sensor 30 und den zweiten Sensor 36 bestimmt werden. Für die elektrischen Leitfähigkeiten oder elektrischen Widerstände, die an den Sensoren 30, 36 vorliegen sollen, werden vordefinierte Sollwerte festgelegt, die einstellbar sind. Die Regelung kann dabei sowohl in Abhängigkeit der bestimmten Differenzen zu den Sollwerten und/oder der zeitlichen Änderung der Differenzen zu den Sollwerten erfolgen.
Bei diesem Verfahren soll in der ersten Stufe durch die erste Zuführeinheit entsprechend viel Kohlenstoffdioxid in das hochreine Wasser eingebracht, sodass die gemessene elektrische Leitfähigkeit am ersten Sensor 30 in etwa einem Sollwert von 0,2 pS/cm und der elektrische Widerstand einem entsprechenden Kehrwert entspricht.
In der zweiten Stufe des Verfahrens wird durch die über die zweite Zuführeinheit 32 eingebrachte Menge an Kohlenstoffdioxid derart geregelt, dass die durch den zweiten Sensor 36 erfasste elektrische Leitfähigkeit im Bereich von 0,75 bis 2 pS/cm und der elektrische Widerstand einem entsprechenden Kehrwert liegt.
Wird dabei durch die Regelungseinheit/-en 42 festgestellt, dass die durch den ersten Sensor 30 erfasste elektrische Leitfähigkeit/der elektrische Widerstand der Wasser-Gas-Lösung von einem vordefinierten Sollwert abweicht, der einstellbar ist, so erhöht oder verringert die Regelungseinheit 42 je nach Bedarf die durch die erste Zuführeinheit 24 eingebrachte Menge an Kohlenstoffdioxid.
Darüber hinaus passen/passt die Regelungseinheit/-en 42 zugleich auch die durch die zweite Zuführeinheit 32 eingebrachte Menge an Gas an, um eine Abweichung vom vordefinierten Sollwert zu korrigieren, sodass schließlich die elektrische Leitfähigkeit/der elektrische Widerstand der Wasser-Gas-Lösung stromabwärts des zweiten statischen Mischers 28 die gewünschte elektrische Leitfähigkeit/den elektrischen Widerstand aufweist.
Weiter ist es denkbar, dass wenn die durch den zweiten Sensor 36 bestimmte elektrische Leitfähigkeit oder der elektrische Widerstand eine zu große Differenz zum vordefinierten Sollwert aufweist, die Wasser-Gas-Lösung nicht der Einrichtung 20 zur Verfügung stellt, sondern abgeleitet wird. Somit wird sichergestellt, dass keinerlei Kühlwasser bereitgestellt wird, welches nicht den Spezifikationen entspricht. Dies bietet sich vor allem zu Beginn des Verfahrens an, da sich das Verfahren unter Umständen einschwingen muss, bis die gewünschten elektrischen Leitfähigkeiten/Widerstände am ersten und am zweiten Sensor 30, 36 vorliegen. Somit kann es vorteilhaft sein, das Verfahren zu starten, aber mit dem Sägen durch die Einrichtung 20 abzuwarten, bis das als Kühlwasser verwendete Reinstwasser den Spezifikationen entspricht.
Grundsätzlich ist es auch denkbar, eine beliebige Menge an weiteren Stufen hinzuzufügen, sodass die Einbringung des Kohlenstoffdioxids über mehr als zwei Stufen erfolgt.
Die Leitfähigkeit und/oder der elektrische Widerstand werden insbesondere ausschließlich in den Mischern eingestellt, d.h. es erfolgt kein Zumischen von Wasser nach dem Erzeugen der erzeugten Wasser-Gas-Lösung in diese Wasser- Gas-Lösung. Das bringt den Vorteil, dass keine Faktoren mehr die Genauigkeit der Leitfähigkeit oder des Widerstands beeinflussen können. Diese Wasser-Gas- Lösung allein (ohne nachträgliches Zumischen von Wasser) wird vorzugsweise dann auch zur Einrichtung zum Schneidengeführt und dort beim Schneiden von Wafern genutzt.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Reinstwasser aus einem kontinuierlichen Strom von hochreinem Wasser durch Zugabe von Gas in die kontinuierliche Strömung des Wassers, mit den folgenden Schritten: a) Bereitstellen eines kontinuierlichen Stromes von hochreinem Wasser; b) Einbringen eines Gases in den kontinuierlichen Strom von hochreinem Wasser, wobei das Gas in einem im Wasser gelösten Zustand die elektrische Leitfähigkeit des Wassers erhöht und dessen elektrischen Widerstand reduziert; anschließend c) Durchströmen eines ersten Mischers (26) durch das mit Gas versetzte Wasser und Mischen und Lösen des Gases im Wasser beim Durchströmen des ersten Mischers (26) zur Schaffung einer Wasser- Gas-Lösung; d) Bestimmen einer elektrischen Leitfähigkeit und/oder eines elektrischen Widerstands der Wasser-Gas-Lösung stromabwärts des ersten Mischers (26) und stromaufwärts einer Zuführstelle für weiteres Gas in die Wasser-Gas-Lösung; e) Einbringen von weiterem Gas in den kontinuierlichen Strom der Wasser-Gas-Lösung an der Zuführstelle; anschließend f) Durchströmen eines zweiten Mischers (28) durch die mit weiterem Gas versetzte Wasser-Gas-Lösung und Mischen und Lösen des Gases in der Wasser-Gas-Lösung beim Durchströmen des zweiten Mischers (28) zur weiteren Erhöhung der elektrischen Leitfähigkeit und Reduzierung des elektrischen Widerstands; g) Bestimmen einer elektrischen Leitfähigkeit und/oder eines elektrischen Widerstands der Wasser-Gas-Lösung stromab des zweiten Mischers (28); und h) Regeln der in den Schritten b) und e) einzubringenden Gasmenge abhängig von zumindest einem der in den Schritten d) und g) ermittelten Leitfähigkeit oder des elektrischen Widerstands.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass das Einbringen des Gases in den Schritten b) und e) an einer jeweils zugeordneten Zuführstelle durch jeweils einen die Zuführstelle aufweisenden Massendurchflussregler (25, 33) erfolgt, die entweder das Regeln in Schritt h) übernehmen oder von einer zentralen Regelungseinheit (42) angesteuert werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass das Einbringen des Gases in den Schritten b) und e) jeweils durch ein in Schritt h) geregeltes Ventil erfolgt.
4. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das in den Schritten b) und e) eingebrachte Gas Kohlenstoffdioxid ist.
5. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Wasser-Gas-Lösung jeweils nach dem Durchströmen des ersten und nach dem Durchströmen des zweiten Mischers (26, 28) in Schritt c) bzw. f) in eine laminare Strömung versetzt wird.
6. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass so viel Gas bis zur Stelle der Strömung, an der die Wasser- Gas-Lösung für Schritt g) detektiert wird, zugegeben wird, dass die Wasser-Gas- Lösung eine elektrische Leitfähigkeit von 0,75 - 2pS/cm hat.
7. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die in dem Schritt d) ermittelte Leitfähigkeit/der elektrische Widerstand bei einer Differenz zu einem vordefinierten Sollwert durch Anpassen der in Schritt b) zugeführten Gasmenge und/oder durch Anpassen der in Schritt e) zugeführten Gasmenge anhand des Regelns in Schritt h) korrigiert wird.
8. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Leitfähigkeit und/oder der elektrische Widerstand ausschließlich in den Mischern (26, 28) eingestellt werden/wird.
9. Verwendung eines durch ein Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche erzeugten kontinuierlichen Stroms an Reinstwasser als unmittelbar verwendetes Kühlmittel beim mechanischen Schneiden von Teilen, insbesondere Wafern. - 18 -
10. Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung von Reinstwasser und zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 8, mit einem Strömungskanal (14) mit einem Einlass zur Einleitung von hochreinem Wasser, einer dem Einlass zugeordneten ersten Zuführeinheit (24) zum Zuführen von Gas in den Strömungskanal (14), einem stromabwärts der ersten Zuführeinheit (24) im Strömungskanal (14) angeordneten ersten statischen Mischer (26), einem ersten Sensor (30) stromabwärts des ersten Mischers (26) zur Messung der elektrischen Leitfähigkeit und/oder des elektrischen Widerstandes einer erzeugten Wasser- Gas-Lösung, eine stromabwärts des ersten Sensors (30) angeordnete zweite Zuführeinheit (32) zum Zuführen von weiterem Gas in den Strömungskanal (14), einem stromabwärts der zweiten Zuführeinheit (32) im Strömungskanal (14) vorgesehenen zweiten Mischer (28), und einem zweiten Sensor (36) zur Messung der elektrischen Leitfähigkeit und/oder des elektrischen Widerstandes der Wasser- Gas-Lösung stromabwärts des zweiten Mischers (28) und einer Regelungseinheit (42), die mit der ersten und zweiten Zuführeinheit (24, 32) sowie dem ersten und zweiten Sensor (30, 36) gekoppelt ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die erste und zweite Zuführeinheit (24, 32) jeweils durch einen Massendurchflussregler (25, 33) gebildet werden.
12. Vorrichtung nach Anspruch 10 oder 11 , dadurch gekennzeichnet, dass die erste und zweite Zuführeinheit (24, 32) jeweils ein geregeltes Zuführventil (27, 35) aufweist, welches den zugeführten Gasstrom begrenzt, wobei die Zuführventile (27, 35) und die Sensoren (30, 36) mit der Regelungseinheit (42) signaltechnisch gekoppelt sind.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass stromabwärts des ersten Mischers (26) und stromaufwärts des ersten Sensors (30) und/oder stromabwärts des zweiten Mischers (28) und stromaufwärts des zweiten Sensors (36) ein Strömungsgleichrichter (29) zur Erzeugung einer laminaren Strömung vorgesehen ist.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die vom ersten Mischer (26) ausgehende Strömung erzeugten Wasser-Gas-Lösung ohne Zumischung von Wasser zur zweiten Zuführeinheit (32) führt. - 19 -
15. Einrichtung zum Schneiden von Teilen, mit einer mechanischen Säge (40) und einer Vorrichtung (12) nach einem der Ansprüche 10 bis 14, wobei die Kühlwasserleitung (38) mit der Vorrichtung (12) so gekoppelt ist, dass ausschließlich Kühlwasser aus der Vorrichtung (12) in die Kühlwasserleitung (38) geleitet wird und der Strom von kontinuierlich hergestelltem Kühlwasser unmittelbar der Säge (40) zugeführt wird.
16. Einrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die vom ersten und vom zweiten Mischer (26, 28) ausgehende Strömung der erzeugten Wasser-Gas-Lösung ohne Zumischung von Wasser zur Säge geleitet wird.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004344821A (ja) * 2003-05-23 2004-12-09 Nomura Micro Sci Co Ltd 超純水又は純水の帯電防止方法及び帯電防止装置
KR20080086383A (ko) * 2007-03-21 2008-09-25 리션 랴오 저항조절시스템
CN201376902Y (zh) * 2009-02-27 2010-01-06 深圳市超纯环保科技有限公司 超纯水防静电装置
KR101690013B1 (ko) * 2016-06-29 2017-01-09 앵스트롬스 주식회사 초순수 비저항 조절장치 및 이의 조절방법

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10324502A (ja) 1997-05-21 1998-12-08 Dainippon Ink & Chem Inc 超純水の炭酸ガス付加装置及び付加方法
DE102015003777B3 (de) 2015-03-24 2016-03-31 Messer Belgium NV Verfahren und Vorrichtung zum geregelten Eintragen eines Gases in ein fluides Medium
EP3181521A1 (de) 2015-12-16 2017-06-21 Nestec S.A. Gereinigtes und remineralisiertes wasser

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004344821A (ja) * 2003-05-23 2004-12-09 Nomura Micro Sci Co Ltd 超純水又は純水の帯電防止方法及び帯電防止装置
KR20080086383A (ko) * 2007-03-21 2008-09-25 리션 랴오 저항조절시스템
CN201376902Y (zh) * 2009-02-27 2010-01-06 深圳市超纯环保科技有限公司 超纯水防静电装置
KR101690013B1 (ko) * 2016-06-29 2017-01-09 앵스트롬스 주식회사 초순수 비저항 조절장치 및 이의 조절방법

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