WO2022184440A1 - Verfahren, halterung und adapter zum behandeln von mikrochipsubstraten - Google Patents

Verfahren, halterung und adapter zum behandeln von mikrochipsubstraten Download PDF

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WO2022184440A1
WO2022184440A1 PCT/EP2022/053812 EP2022053812W WO2022184440A1 WO 2022184440 A1 WO2022184440 A1 WO 2022184440A1 EP 2022053812 W EP2022053812 W EP 2022053812W WO 2022184440 A1 WO2022184440 A1 WO 2022184440A1
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holder
microchip substrate
adapter
polymer film
electrically conductive
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PCT/EP2022/053812
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Inventor
Markus Hacksteiner
Original Assignee
Mti Gmbh
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Publication date
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    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/001—Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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    • C25D17/004—Sealing devices
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    • C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
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    • C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
    • C25D17/08—Supporting racks, i.e. not for suspending

Definitions

  • the invention relates to a method for the wet-chemical treatment of microchip substrates.
  • the invention further relates to a holder that can be used when carrying out the method according to the invention.
  • the invention also relates to an adapter with the aid of which the holder according to the invention can be coupled to an electrolytic metallization system.
  • An arrangement for making electrical contact with a microchip substrate during electrolytic metallization is known from WO 2020/169439 A1.
  • the known arrangement comprises a holder with a depression that can be subjected to negative pressure for receiving the microchip substrate and a busbar.
  • An electrical contact is provided which is arranged in the area of the outer edge of the microchip substrate and is electrically conductively connected to the front side of the microchip substrate and to the busbar.
  • the electrical contact which is designed as a ring or as a plurality of strips, is held in contact with the microchip substrate and the busbar by a layer lying on its side facing away from the microchip substrate. The layer extends beyond the edge of the microchip substrate and beyond the power rail and extends to the mount. After metallization, the layer can be detached from the microchip substrate.
  • the wet chemical treatments contemplated herein for the invention may be electrolytic plating, electrochemical etching, electrochemical cleaning, or electrochemical Conditioning of microchip substrates such as wafers or panels.
  • microchip substrates For a wet-chemical treatment, microchip substrates often have to be electrically contacted and the electrical contacts sealed. In addition, the edge of the substrate must be sealed with a wet-chemical treatment, such as when metallizing microchip substrates.
  • contacting and sealing is implemented by means of clamping devices.
  • the edge of the microchip substrate is sealed by pressing on a chemically resistant elastomer (e.g. lip seal).
  • the force required for this is about 1000N to achieve tightness.
  • the hardware components must be robust so that such high forces can be applied. This inevitably leads to a pronounced topography step at the edge of the microchip substrate as soon as it is clamped (cf. FIG. 9, upper representation).
  • a similar topography level results in the clamping device known from US 2017/0073832 A1.
  • a pronounced topography step at the edge of the microchip substrate leads to a disturbance of the flow of the liquid medium, e.g. the electrolyte used in wet chemical processing, which is disadvantageous for uniform processing, e.g. in coating, and limits the speed of coating.
  • the liquid medium e.g. the electrolyte used in wet chemical processing
  • the invention is - based on WO 2020/169439 A1 - the object of improving the reliability of sealing and to provide a method and devices, in particular a holder for a microchip substrate and an adapter for the holder, in which the technology from WO 2020/169439 A1 can be applied.
  • This object is achieved according to the invention with a method that has the features of claim 1 .
  • the invention provides, inter alia, one or more of the following advantages: improved process quality at the edge of microchip substrates, an increase in the productivity of facilities for processing microchip substrates, an improved systematic yield of microchips per microchip substrate, and improved adaptability of facilities for treating microchip substrates to the size and geometry of microchip substrates.
  • the method according to the invention differs significantly from the known methods in which, when wafers are treated in an electrolytic metallizing system, a cassette with wafers is docked to a system for electrolytic metallizing.
  • the metallizer removes the wafers from the cassette and places each individual wafer in a wafer holder.
  • the wafer holders are temporarily stored in the metallization plant. As soon as a metallization cell is free, the coating process starts. After metallization, the wafer holders are unloaded within the metallization system and the wafers are transferred to the docked cassette.
  • the method according to the invention it is possible to use holders according to the invention provided for this purpose for the microchip substrates to be treated, which are loaded in an independent system, provided with a polymer film and temporarily stored. For example, after the wet-chemical treatment, the polymer film is removed and the microchip substrate is removed from the holder.
  • the independent system parts for foiling/delaminating (application and removal of the polymer foil) are arranged and networked with one another in such a way that the loaded holders for microchip substrates are transferred directly to the wet-chemical treatment, e.g. an electrolytic metallization device can (and back again).
  • the independent foiling/defoliating devices are arranged at a distance from one another and/or from a system for wet-chemical treatment, the microchip substrates accommodated in holders are subjected to the wet-chemical treatment, e.g. to the electrolytic
  • the process uses independent foiling/defoliating systems, the timing of which is independent of the processes in the wet systems (e.g. systems for electrolytic metallization).
  • the process means that the foiling/defoliating system can be used for various wet-chemical applications, not just for electrolytic metallization.
  • the process uses a holder for the microchip substrate, which is transported back and forth between the wet system on the one hand and the independent foiling/defoliating system on the other.
  • the method includes loading the holder with a microchip substrate (e.g. wafer) in the foiling/delaminating system, foiling it in accordance with the following wet-chemical treatment and, if necessary, temporarily storing it.
  • a microchip substrate e.g. wafer
  • the loaded holder is delivered to the wet system. After the wet-chemical process, it is returned, then the microchip substrate is unwrapped and removed from the holder.
  • the method offers the possibility of a central temporary storage of loaded holders.
  • the method allows the use of lasers to introduce heat, which is necessary for lamination.
  • the process uses a laser to cut the polymer film(s) used.
  • the procedure uses a laser to defoil.
  • the process allows for vacuum lamination.
  • the method allows the film(s) to be pressed onto the microchip substrate and the holder during lamination using a stamp that is transparent to the laser light.
  • the method includes pressing the polymer film(s) with a roller.
  • the method includes suction being carried out simultaneously in at least one of the work steps in the wrapping/dewrapping system.
  • the method includes that at least one of the work steps in the foiling/delaminating system can be carried out under protective gas (inert gas).
  • the method includes that at least one of the work steps in the foiling/delaminating system can be carried out under reduced pressure.
  • the method includes cutting the polymer film(s) after (local) bonding.
  • the process includes cutting the polymer film(s) prior to (local) bonding either in the filming/defoliating line or externally.
  • the process allows for de-foiling either thermally (e.g. by laser) and/or mechanically by peeling and/or chemically by peeling.
  • the method permits the use of an adapter according to the invention, with which an existing wet system, such as a RaiderTM system (electrolytic metallizing system from Applied Materials Inc.), can be used for the method and fixture according to the invention.
  • an existing wet system such as a RaiderTM system (electrolytic metallizing system from Applied Materials Inc.)
  • the method can be carried out in a clean room.
  • the method includes using a polymer film (plastic film), which has been coated with at least one electrical conductor track, for the filming.
  • the method includes using inkjet printing or screen printing for coating the conductor track.
  • the method involves first printing a base layer made of an electrically conductive polymer for coating the conductor track and then applying a thicker metallic conductor track (e.g. made of copper) electrolytically to the printed base layer in a second step.
  • a thicker metallic conductor track e.g. made of copper
  • the process involves first printing a base layer of carbon for the coating of the conductor track and then electrolytically applying a thicker metallic conductor track (e.g. made of copper) to this base layer in a second step.
  • a thicker metallic conductor track e.g. made of copper
  • Plastic metallization of components e.g. in the car industry, is applied to a previously conditioned partial area of the polymer film (plastic film).
  • the method includes using a conductor foil as the electrical conductor, which is pressed onto the microchip substrate by the polymer foil.
  • the method allows the electrical conductor foil to be provided with an electrically conductive adhesive on at least one side.
  • the process allows a film made of dry paint (“Dry Resist Film”) to be used as the polymer film.
  • Dry Resist Film a film made of dry paint
  • the method includes locally coating a film of dry paint as described above with at least one conductive trace.
  • the method includes that a film of dry paint coated with at least one conductor track for the Foiling is used in the process of the invention.
  • the method includes that a film of dry paint (after peeling off a protective film) is laminated in one step over the entire surface of the microchip substrate and the surface of the holder surrounding the microchip substrate.
  • the method allows the foiling to be performed with a conventional roll laminator.
  • This device can be part of the wrapping/de-wrapping system, or it can be separate.
  • the method includes performing de-foiling of at least the bracket.
  • the method includes that the microchip substrate is additionally cleaned (e.g. by means of plasma or by means of a liquid) after it has been removed from the holder.
  • the method includes the holder being cleaned at least from time to time (for example by means of plasma or by means of a liquid).
  • the method includes foiling both sides of the microchip substrate.
  • the method can also be used, for example, in electrochemical research work in which, for example, rotating disk electrodes are used.
  • One embodiment of the invention provides that the polymer film is applied to the microchip substrate either leaving at least one area of the microchip substrate to be treated free or over the entire surface with subsequent removal of the polymer film from at least one area of the microchip substrate to be treated. In one embodiment of the invention it is provided that the polymer film is fixed by gluing during application.
  • the polymer film is fixed by supplying heat and applying contact pressure.
  • heat is generated by means of laser radiation.
  • One embodiment of the invention provides that the pressing force is applied by generating a pressure difference between the surfaces of the polymer film.
  • the contact pressure is applied with the aid of a stamp.
  • a stamp transparent to laser radiation is used.
  • One embodiment of the invention provides for the polymer film to be removed under protective gas and/or suction.
  • Microchip substrate is applied, in particular glued, leaving the middle region of the microchip substrate free.
  • a polymer film is used which has a conductor track.
  • a polymer film which comprises a conductor film as a conductor track, a carrier film and at least one electrically conductive layer, for example made of metal, in particular copper.
  • a conductor foil which has two electrically conductive layers between which a carrier foil is (lies) provided.
  • the holder with the inserted microchip substrate is docked to a device for carrying out the wet-chemical treatment.
  • a film of dry paint is used as the polymer film.
  • One embodiment of the invention provides that the film of dry lacquer is applied to the entire surface of the microchip substrate and that the film of dry lacquer is removed from the at least one area of the microchip substrate to be treated before the wet-chemical treatment.
  • the film of dry lacquer is structured using lithography processes in order to partially remove the film of dry lacquer.
  • a polymer film is used, which carries a ring-shaped, for example annular, conductor film as the conductor track.
  • the ring-shaped conductor foil is connected to the polymer foil by gluing.
  • One embodiment of the invention provides for the polymer film and/or the conductor film to be cut to size with a laser.
  • the polymer film is cut before or after application.
  • One embodiment of the invention provides for the polymer film to be removed using a laser.
  • One embodiment of the invention provides for the polymer film to be removed chemically or mechanically.
  • One embodiment of the invention provides that at least the edge of the microchip substrate is cleaned after the polymer film has been removed.
  • the cleaning is carried out by means of a laser.
  • One embodiment of the invention provides for the front, the back and the edge of the microchip substrate to be cleaned.
  • the holder is loaded with two microchip substrates.
  • a holder according to the invention which can be used when carrying out the method according to the invention, has the features mentioned in claim 29 by way of example.
  • the base plate is connected, in particular glued, to the frame.
  • the holder it can be provided that at least one opening is provided in the base plate, which is covered by the frame.
  • the opening in the base plate is a circumferential, annular opening arranged at a distance from the outer edge and inside the outer edge of the base plate.
  • the receiving space for the microchip substrate is delimited radially outwards by the frame.
  • the height of the receiving space for the microchip substrate is determined by the distance between the surface of the base plate facing the microchip substrate to be received or the surface of a seal facing the microchip substrate, which may rest on the base plate, and the the bottom plate facing away from the frame is determined.
  • the holder according to the invention, it can be provided that at least one opening for centering the holder is provided in the base plate.
  • three openings for the passage of pins can be provided for lifting the microchip substrate from the holder, at least two openings for centering the holder on an adapter, at least one opening for checking the tightness of the applied polymer film, at least one opening for applying negative pressure and for ventilation, with at least one selected opening is provided for at least one, preferably two or three of the aforementioned functions.
  • the frame consists of an electrically conductive material, in particular titanium or niobium, and, apart from two electrically conductive areas of the surface, has an electrically insulating coating.
  • the frame consists of an electrically insulating material, in particular ceramic or glass, and that the frame is electrically conductively coated in certain areas, in particular platinized.
  • the opening in the base plate is provided in the area of the electrically conductive coating of the frame.
  • the frame and the base plate are designed in one piece.
  • An embodiment of an adapter with which the holder according to the invention can be placed on a metallization device has the features of independent claim 41 .
  • Preferred and advantageous configurations of the adapter according to the invention are the subject matter of the subclaims dependent on claim 41 .
  • connection pins are designed to fix the adapter to a metallization system.
  • the connecting pins form an electrical contact to a contact plate, in particular an annular contact plate, provided in the adapter.
  • connection pins are hollow and can be connected to a vacuum source.
  • the base body of the adapter consists of an electrically conductive material.
  • the base body of the adapter consists of electrically insulating material and that an electrically conductive ring is provided on the adapter for electrically contacting the holder.
  • a seal is provided on the outer circumference of the base body of the adapter.
  • the adapter according to the invention provision can be made for tongues to be provided on the contact plate.
  • at least one centering projection in particular two centering projections, is/are provided on the surface of the base body of the adapter that is to face the holder.
  • the tongues of the contact plate rest on a ring made of elastic material.
  • the contact plate is electrically conductively connected to the base body of the adapter.
  • an electrical conductor track (conductor foil with or without tongues) between the polymer film and the microchip substrate on the one hand (radially inside) and the frame of the holder on the other hand (radially outside), which connects the edge of the microchip substrate with the electrically conductive surface of the bracket frame.
  • the polymer film covers the edge of the microchip substrate and the frame surrounding the microchip substrate and ensures the necessary sealing.
  • the polymer film sticks to the underlying components (frame and microchip substrate) and thus ensures a secure (chemical, because glued) seal.
  • an opening running all the way round is provided in the base plate of the holder, so that an electrical conductor can be coupled directly to the frame of the holder (contact plate). It can be provided that the opening so is arranged so that it is arranged in the area of the electrically conductive coating of the frame. This makes it possible for a contact plate to rest directly on the electrically conductive coating of the frame from below in an electrically conductive manner.
  • the invention also takes into account an embodiment of the holder for the microchip substrate which comprises a ring (without a base plate) which encloses the microchip substrate from the outside.
  • the microchip substrate is held by the (annular and bonded) polymer film.
  • the polymer film acts as a bridge. This embodiment is particularly considered for small microchip substrates.
  • the base plate and the frame of the mount are made in one piece.
  • an electrically conductive material with an electrically conductive coating on at least one partial area and an insulating coating on the remaining area
  • an electrically non-conductive material such as ceramic
  • the adapter provided within the framework of the invention serves to couple a holder according to the invention to a device for the wet-chemical treatment of microchip substrates, such as an electrolytic metallization system.
  • a device for the wet-chemical treatment of microchip substrates such as an electrolytic metallization system.
  • an electrolytic plating line may be an Applied Materials Inc. RaiderTM line.
  • the adapter according to the invention has a connector pin (or two connector pins) via which the adapter can be held and electrically contacted on the system for the wet-chemical treatment of microchip substrates.
  • the connection pin of the adapter is provided with a through hole so that it can serve as a connection point for vacuum.
  • connection pin is screwed into the base body of the adapter with an electrically conductive ring interposed, so that a good electrically conductive contact is produced.
  • the outer edge of the adapter i.e. the edge of the base body, is bordered with a seal so that on the one hand it is prevented that usually aggressive electrolytes can penetrate into the adapter and on the other hand the holder for the microchip substrate can be held in place by negative pressure.
  • a ring-shaped contact plate is provided in the adapter, which has tongues or fingers (pins) that rest on a ring made of elastic material, so that they are resiliently mounted and ensure good electrical contact with the holder fixed (sucked in) to the adapter , In particular the frame of the holder, result for the microchip substrate.
  • the electrical connection of the connector pins of the adapter to the microchip substrate can be as follows:
  • Base body / inlay (this is a ring-shaped body made of electrically conductive material provided in the base body, which is made of electrically insulating material) -> or spring -> base body / inlay ->
  • the contact path only runs over the electrically conductive coating -> electrical conductor track (e.g. conductor foil) ->
  • microchip substrate .
  • two blind holes are provided in the base plate of the holder.
  • the blind holes are used to clearly position and align the bracket on the adapter.
  • cylindrical projections provided on the adapter engage in the blind holes.
  • a further opening for ventilation purposes can be provided.
  • An opening can also be provided in the base plate of the holder. Such openings can be particularly advantageous when vacuum laminating the polymer film onto a microchip substrate placed in the holder.
  • the holder according to the invention for a microchip substrate during its wet-chemical treatment can have the features listed below as examples or combinations of at least one of these features with one further feature or several further features:
  • the fixture may include a frame surrounding the microchip substrate.
  • the frame can be made of an electrically conductive or an electrically insulating material.
  • the frame is made of an electrically insulating material consists, at least a partial surface of the frame is coated with an electrically conductive coating.
  • the frame consists of an electrically conductive material
  • at least one partial surface of the frame has an electrically conductive coating and the other partial surface of the frame has an electrically insulating coating.
  • the frame can be formed in one piece with the base plate, so that no connection (e.g. by gluing) of the frame to a base plate is required.
  • the frame and base are made in one piece (e.g. machined from a solid body or printed in one), then the piece is made of an electrically conductive material such as titanium.
  • the frame and base plate are made from one piece, at least one partial surface with an electrically conductive coating and an electrically insulating coating on the remaining surface of the piece can be provided.
  • the holder consists only of a frame (without a base plate).
  • the connection to the microchip substrate is then achieved exclusively via the functionalized polymer film.
  • the base plate can be provided with a peripheral opening so that the contact plate of the adapter can rest against the frame or an electrically conductive coating of the frame.
  • the upper surface of the frame and the surface of the holder surrounding the microchip substrate, which lies on the side of the microchip substrate to be treated wet-chemically, are aligned with the surface of the microchip substrate to be treated.
  • the frame or the component manufactured in one piece can have a rounding radially on the outside.
  • the polymer film can extend to the beginning of the rounding.
  • the base plate can have at least one bore, e.g. for ventilation or as an opening for centering projections of the adapter.
  • the adapter according to the invention can have the features listed below by way of example, or combinations of at least one of these features with one or more further features:
  • the main body of the adapter can be made of electrically conductive material.
  • a base body made of electrically conductive material can have an electrically insulating coating in certain areas.
  • the base body can be made of electrically insulating material if a further, separate part (“inset”) made of electrically conductive material, optionally with a coating, is inserted into the base body.
  • At least one connector pin has a hole so that a vacuum line can be connected.
  • the adapter is covered with a “soft” seal, at least on the side wall and radially on the outside on the side facing the holder.
  • a spring can be arranged between the connecting pin and the base body or between the connecting pin and an inserted electrically conductive component (with or without a coating).
  • the top of the adapter facing the holder is provided with at least one circumferential and at least one linear Deepening (groove) provided.
  • a circumferential contact sheet can be provided on the adapter, which protrudes beyond the surface of the "soft” seal.
  • the adapter may contain an elastomer ring.
  • the profile of the ring made of elastomer is designed in such a way that the fingers (tongues) of the contact plate are resiliently held in contact with an attached bracket.
  • the contact sheet can be attached via at least one connecting web.
  • the contact plate can be conical in regions, with the attachment of the contacting region to the base body of the adapter taking place via bores in the conical part.
  • At least one projection which protrudes beyond the contact plate, can be provided on the side of the adapter facing the holder, in order to center the holder.
  • the topography step at the edge of the microchip substrate is almost completely eliminated. This is advantageous for wet-chemical processes, since a pronounced topography significantly disturbs the flow of the electrolyte and impairs the result of the treatment, especially at the edge of the microchip substrate.
  • the known solutions for contacting the edge and sealing the edge do not offer any possibility for a further reduction of the topography level.
  • the method according to the invention described here and the holder according to the invention can, on the one hand, significantly reduce the topography level and, on the other hand, create the possibility of making the edge termination narrower than to do so far.
  • the polymer film used in the method according to the invention can consist, for example, of (PET), (PE), (PP) or (PMP).
  • the polymeric film used in the method of the invention can have a layer serving as a support, for example made of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polymethylpentene (PMP) or polytetrafluoroethylene (PTFE). exhibit.
  • the layer serving as a carrier carries a layer which has an adhesive effect.
  • the layer with an adhesive effect consists, for example, of a hot-melt adhesive based on a polyolefin (e.g. Technomelt AS 5303 from Henkel), of a hot-melt adhesive that is UV-curable, such as a dry lacquer, of ethylene vinyl acetate (EVA) or of a silicone adhesive.
  • the layer of the polymer film that has an adhesive effect can be covered by a further layer that serves as a protective film.
  • the protective film which is removed, for example peeled off, before the polymer film is used, can be a layer of polyethylene (PE), for example.
  • the layer of the polymer film serving as a carrier can be removed, for example pulled off, before the wet-chemical treatment of the microchip substrate is carried out.
  • Polymer film which includes a layer of a dry paint
  • the procedure can be as follows, for example:
  • the polymer film thus obtained which has two layers, is applied to the holder and to the entire surface of the microchip substrate, for example by lamination, the layer having the adhesive effect (dry lacquer) is cured, for example by UV radiation, the layer of the polymer film serving as the carrier is removed, for example by peeling off,
  • a conductor foil which has at least one layer, preferably two or three layers, can be used.
  • a conductor foil has a layer of PET and a layer of electrically conductive material such as copper.
  • Another embodiment of the conductor foil has a layer made of PET, which carries layers made of an electrically conductive material, e.g. copper, on both sides.
  • an electrically conductive material e.g. copper
  • a conductor foil is used as the electrical conductor in the method according to the invention, it is arranged on the side of the polymer foil that faces the microchip substrate to be treated.
  • the one used Conductor foil at least partially embedded in the polymer foil, since it is pressed into the polymer foil when it is applied to the polymer foil.
  • the conductor foil is preferably applied to the side of the polymer foil facing the microchip substrate before the polymer foil is applied to the microchip substrate and the holder in order to functionalize the polymer foil.
  • FIG. 2 in an oblique view of an embodiment of the holder according to the invention, with a
  • microchip substrate is loaded
  • FIG. 3 shows an embodiment of a conductor foil
  • FIG. 4 shows another embodiment of a conductor foil
  • FIG. 8 shows a plan view of FIG. 7
  • FIG. 9 shows a topography stage of the prior art at the top and a topography stage of the method according to the invention at the bottom
  • Fig. 10 an adapter in an oblique view
  • Fig. 11 a detail of the adapter in section
  • Fig. 12 in an oblique view of a detail of the adapter in an enlarged representation
  • FIG. 14 shows an adapter with a holder with a microchip substrate (in an oblique view and partially) arranged above it—at a distance for the sake of clarity, and
  • a shown in Figs. 2 and 6, loaded with a microchip substrate and provided with a polymer film ("foiled") holder 1 for a microchip substrate 2, such as a wafer or a panel, comprises in the embodiment shown a base plate 3, in which a for example all-round (annular) opening 4 is provided.
  • a polymer film 7 is used, which is functionalized by at least one conductor track applied to the polymer film, such as a conductor film 29.
  • a frame 5 is layered with the outer region 12 of the base plate 3 34 glued, which delimits a receiving space 6 for a microchip substrate 2 to the outside.
  • FIG. 6 shows that a polymer film 7 is arranged, namely glued, on the microchip substrate 2—covering the outer edge area of the microchip substrate 2—and on the frame 5 .
  • At least one opening for checking the tightness of the applied polymer film 7 can be provided in the base plate 3 .
  • At least one opening can be provided in the base plate 3 for the application of negative pressure in order to fix a microchip substrate 2 on the holder 1 .
  • This opening can also be used for ventilation.
  • At least three openings can be provided in the base plate, through which pins can pass in order to lift a microchip substrate 2 from the holder 1.
  • the electrically conductive layer 32 extends from the side pointing upwards in Fig. 7 over the inner edge surface 10 of the frame 5 to the side of the frame 5 pointing downwards in Fig. 7.
  • Fig. 8 shows another embodiment of the holder 1 according to the invention (not loaded), in which the frame 5 consists of electrically conductive material, with two separate surfaces, namely the surface pointing upwards towards the microchip substrate (this is the surface of the Frame 5, which is preferably at least substantially in one plane with the surface of the microchip substrate) and downwards pointing surface of the frame 5, an electrically conductive layer 32 wear. Electrically insulating layers 8 are applied to the inner edge and to the outer edge of the frame 5 .
  • a conductive foil 29 is assigned to the polymer foil 7, for example.
  • Examples of conductor foils 29 are shown in FIGS. 3 and 4.
  • the conductor foil 29 of FIG. 3 consists of a carrier foil 13 made of a plastic and an electrically conductive layer 14 (e.g. made of copper).
  • the carrier foil 13 is accommodated between two electrically conductive layers 14 .
  • the conductor foil 29 consisting of a carrier foil 13 and an electrically conductive layer 14 is pressed into the polymer foil 7, which in the example shown comprises a layer serving as a carrier 30 and a layer 31 developing an adhesive effect, after the foiling. This results from the contact pressure when applying the conductor foil 29 to the polymer foil 7.
  • the conductor foil 29 is preferably applied (laminated) to the frame 5 of the holder 1 and the microchip substrate 2 before the polymer foil is applied ("foiling"), e.g. by lamination. .
  • FIG. 9 In the upper area of FIG. 9 it is shown how the topography step is formed in the prior art and that considerable forces are required to press the edge construction for the electrical contacting and for the sealing to the microchip substrate arranged below. It also requires a large (wide) area.
  • the direction of flow of electrolyte is represented by an arrow 11 .
  • polymer film 7 is understood to mean a film made of plastic, which consists, for example, of one of the plastics mentioned above and can have the structure described above.
  • the receiving space 6 for the microchip substrate 2 which is delimited at the bottom by the base plate 3 and at the outside by the frame 5 , has a height which essentially corresponds to the thickness of the microchip substrate 2 .
  • the height is equal to the thickness of the microchip substrate 2.
  • An adapter 15 shown in FIGS. 10 to 12, with which a holder 1 according to the invention can be attached to a system for wet-chemical treatment comprises a base body 16 in which two connection pins 17 are provided.
  • ring-shaped depressions 18 are provided in the surface of the base body 16 facing the mount 1, which can be subjected to negative pressure via through-holes 19 in the connection pins 17 in order to mount a mount 1 on the adapter 15 and, if necessary, the microchip substrate on the base plate 3 of the Fix bracket 1 with negative.
  • the outer edge of the base body 16 of the adapter 15 is provided with a seal 20 so that the inner area of the adapter 15 is protected from aggressive electrolytes.
  • the adapter 15 there is a contact plate 21 running all the way around, which is attached via screws 22 and connecting webs 27 to the material which is made, for example, of an electrically conductive material Base body 16 of the adapter 15 is attached.
  • the terminal pins 17 are screwed into the base body 16 with a disc spring 23 interposed, so that they are in an electrically conductive connection with the base body 16 - and thus also with the annular contact plate 21 .
  • the contact plate 21 has tongues 24 (contact pins) which rest on a ring 25 made of elastic material (cf. Fig.
  • three projections 26 are provided in the surface of the base body 16 of the adapter 15 facing the holder 1 .
  • the projections 26 engage in openings in the bottom plate 3 of the holder 1 when the holder 1 is correctly positioned on the adapter 15 .
  • FIGS. 13 to 15 show a distance between the holder 1 loaded with a microchip substrate and the adapter 15 .
  • the holder 1 according to the invention rests against the seal 20 on the outer edge of the adapter 15 at least with the outer region 12 of its base plate 3 , ie in a region 12 outside the opening 4 .
  • 15 sealing surfaces 28 are provided in the middle area of the adapter, on which the bottom plate 3 of the holder 1 rests with its middle area.
  • Fig. 14 From the representation of Fig. 14 it can be seen that the tongues 24 of the contact plate 21 are assigned to the (annular) opening 4 of the base plate 3 of the holder 1, so that the tongues 24 reach through the opening 4 when the holder 1 is in contact with the adapter 15 and on the Frame 5 of the holder 1 electric conductive concern.
  • FIG. 5 shows by way of example how a microchip substrate 2 can be arranged on a holder 1.
  • FIG. 5 also shows that the conductor foil 29, comprising the carrier foil 13 and the electrically conductive layer 14, is arranged in such a way that an electrically conductive connection between the electrically conductive layer 35 of the microchip substrate 2 and the frame 5 of the holder 1 is provided.
  • a method for the wet-chemical treatment of microchip substrates 2 is described, the microchip substrates 2 being inserted into a holder 1 .
  • the holder 1 is docked with the aid of an adapter 15 to a system for wet-chemical treatment, such as metallization.

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Abstract

Beschrieben wird ein Verfahren zum nasschemischen Behandeln von Mikrochipsubstraten (2), wobei die Mikrochipsubstrate (2) in eine Halterung (1) eingesetzt werden. Die Halterung (1) wird mit Hilfe eines Adapters (15) an eine Anlage zum nasschemischen Behandeln, wie Metallisieren, angedockt.

Description

VERFAHREN, HALTERUNG UND ADAPTER ZUM BEHANDELN VON
MIKROCHIPSUBSTRATEN
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum nasschemischen Behandeln von Mikrochipsubstrat.
Die Erfindung betrifft weiters eine Halterung, die beim Ausführen des erfindungsgemäßen Verfahrens verwendet werden kann.
Die Erfindung betrifft weiters einen Adapter, mit dessen Hilfe die erfindungsgemäße Halterung mit einer elektrolytischen Metallisierungsanlage gekoppelt werden kann.
Aus WO 2020/169439 Al ist eine Anordnung zum elektrischen Kontaktieren eines Mikrochipsubstrates beim elektrolytischen Metallisieren bekannt. Die bekannte Anordnung umfasst eine Halterung mit einer mit Unterdrück beaufschlagbaren Vertiefung für die Aufnahme des Mikrochipsubstrates und eine Stromschiene. Es ist ein im Bereich des Außenrandes des Mikrochipsubstrates angeordneter elektrischer Kontakt vorgesehen, der mit der Vorderseite des Mikrochipsubstrates und mit der Stromschiene in elektrisch leitender Verbindung steht. Der als Ring oder als eine Mehrzahl von Streifen ausgebildete elektrische Kontakt ist durch eine an seiner vom Mikrochipsubstrat abgewandten Seite anliegende Schicht in Anlage an das Mikrochipsubstrat und die Stromschiene gehalten. Die Schicht erstreckt sich über den Rand des Mikrochipsubstrates und über die Stromschiene hinaus und reicht bis auf die Halterung. Nach dem Metallisieren kann die Schicht vom Mikrochipsubstrat abgelöst werden.
Die im Vorliegenden für die Erfindung in Betracht gezogenen nasschemischen Behandlungen können ein elektrolytisches Metallisieren, ein elektrochemisches Ätzen, ein elektrochemisches Reinigen oder ein elektrochemisches Konditionieren von Mikrochipsubstraten, wie Wafern oder Panels, sein.
Für eine nasschemische Behandlung müssen Mikrochipsubstrate oft elektrisch kontaktiert und die elektrischen Kontakte abgedichtet werden. Zusätzlich muss bei einer nasschemischen Behandlung, wie beim Metallisieren von Mikrochipsubstraten, der Rand des Substrates abgedichtet werden.
Im vor der WO 2020/169439 Al veröffentlichten Stand der Technik wird das Kontaktieren und Abdichten mittels Klemmvorrichtungen verwirklicht. Das Abdichten des Randes des Mikrochipsubstrates erfolgt durch Anpressen eines chemisch beständigen Elastomers (z.B. Lippendichtung). Die dafür erforderliche Kraft beträgt etwa 1000N, damit Dichtheit erreicht wird. Damit so hohe Kräfte aufgebracht werden können, müssen die Hardwarekomponenten robust ausgeführt sein. Dies führt unweigerlich zu einer ausgeprägten Topografiestufe am Rand des Mikrochipsubstrates, sobald dieses geklemmt ist (vgl. Fig. 9, obere Darstellung). Eine ähnliche Topografiestufe ergibt sich bei der aus US 2017/0073832 Al bekannten Klemmvorrichtung.
Eine ausgeprägte Topografiestufe am Rand des Mikrochipsubstrates führt zu einer Störung der Strömung des flüssigen Mediums, z.B. des Elektrolyten, der beim nasschemischen Behandeln verwendet wird, was für ein gleichmäßiges Behandeln, beispielsweise beim Beschichten, nachteilig ist, und die Geschwindigkeit des Beschichtens begrenzt.
Der Erfindung liegt - ausgehend von WO 2020/169439 Al - die Aufgabe zugrunde, die Zuverlässigkeit des Abdichtens zu verbessern und ein Verfahren sowie Vorrichtungen, insbesondere eine Halterung für ein Mikrochipsubstrat sowie einen Adapter für die Halterung zur Verfügung zu stellen, bei welchen die Technik von WO 2020/169439 Al angewendet werden kann. Gelöst wird diese Aufgabe erfindungsgemäß mit einem Verfahren, das die Merkmale von Anspruch 1 aufweist.
Bevorzugte und vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Verfahrens sind Gegenstand der Unteransprüche.
Da bei dem erfindungsgemäßen Verfahren auf die Halterung und das Mikrochipsubstrat eine Polymerfolie aufgebracht wird, ergibt sich ein zuverlässiges Abdichten, wobei gleichzeitig der mechanische Stress am Rand des Mikrochipsubstrats verringert wird, da weniger Kräfte aufgebracht werden müssen, um eine hinreichende Dichtheit zu erreichen.
Dies gilt insbesondere, wenn Polymerfolie auf der Halterung und auf dem Mikrochipsubstrat durch Kleben befestigt wird.
In Ausführungsformen ergibt die Erfindung unter anderem einen oder mehrere der nachstehend genannten Vorteile: eine verbesserte Prozessqualität an dem Rand von Mikrochipsubstraten, eine Steigerung der Produktivität von Anlagen zum Behandeln von Mikrochipsubstraten, eine verbesserte systematische Ausbeute an Mikrochips pro Mikrochipsubstrat, und eine verbesserte Anpassbarkeit von Anlagen zum Behandeln von Mikrochipsubstraten an die Größe und die Geometrie von Mikrochipsubstraten .
Das erfindungsgemäße Verfahren unterscheidet sich wesentlich von den bekannten Verfahren, bei welchen im Falle des Behandelns von Wafern in einer elektrolytischen Metallisieranlage eine Kassette mit Wafern an eine Anlage zum elektrolytischen Metallisieren angedockt wird. Die Metallisiervorrichtung entnimmt die Wafer aus der Kassette und gibt jeden einzelnen Wafer in eine Waferhalterung. Die Waferhalterungen werden in der Metallisieranlage zwischengelagert. Sobald eine Metallisierungszelle frei ist, wird der Beschichtungsprozess gestartet. Nach dem Metallisieren werden die Waferhalterungen innerhalb der Metallisieranlage entladen und die Wafer an die angedockte Kassette übergeben.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, dafür vorgesehene, erfindungsgemäße Halterungen für die zu behandelnden Mikrochipsubstrate zu verwenden, die in einer eigenständigen Anlage geladen, mit Polymerfolie versehen und zwischengespeichert werden. Beispielsweise nach dem nasschemischen Behandeln wird die Polymerfolie entfernt und das Mikrochipsubstrat aus der Halterung entnommen.
Dabei kann bei dem erfindungsgemäßen Verfahren vorgesehen werden, dass die eigenständigen Anlagenteile zum Folieren/Defolieren (Aufbringen und Entfernen der Polymerfolie) so angeordnet und miteinander vernetzt sind, dass die beladenen Halterungen für Mikrochipsubstrate direkt an das nasschemische Behandeln, z.B. eine elektrolytische Metallisiervorrichtung, übergeben werden können (und wieder zurück). Sofern die eigenständigen Folier-/Defoliervorrichtungen mit Abstand voneinander und/oder von einer Anlage zum nasschemischen Behandeln angeordnet sind, werden die in Halterungen aufgenommenen Mikrochipsubstrate zu der nasschemischen Behandlung, z.B. zu den elektrolytischen
Metallisiervorrichtungen, und dann wieder zurück transportiert.
Dabei besteht auch die Möglichkeit, mehrere elektrolytische (Metallisier-)Anlagen zum nasschemischen Behandeln mit mit Mikrochipsubstraten bestückten Halterungen zu versorgen. Nachstehend werden beispielhaft Merkmale des erfindungsgemäßen Verfahrens angeführt, die jedes für sich oder in Kombination mit wenigstens einem weiteren Merkmal für die Erfindung wesentlich sein können:
Das Verfahren verwendet eigenständige Folier- /Defolieranlagen, deren Taktung zeitlich losgelöst von den Vorgängen in den Nassanlagen (z.B. Anlagen zum elektrolytischen Metallisieren) ist.
Das Verfahren beinhaltet, dass die Folier-/Defolieranlage für diverse nasschemische Applikationen, nicht nur für ein elektrolytisches Metallisieren, verwendet werden kann. Nasschemische Applikationen können sein: elektrolytisches Metallisieren, nasschemisches Ätzen, galvanisches (=außenstromloses) Metallisieren, nasschemisches Reinigen. Das Verfahren verwendet eine Halterung für das Mikrochipsubstrat, die zwischen der Nassanlage einerseits und eigenständiger Folier-/Defolieranlage anderseits hin- und hertransportiert wird.
Das Verfahren ermöglicht ein vollständiges Entkoppeln der Arbeitsschritte „Beladen/Entladen der Halterung" und „elektrolytisches bzw. nasschemisches Behandeln".
Das Verfahren umfasst, dass in der Folier-/Defolieranlage die Halterung mit einem Mikrochipsubstrat (z.B. Wafer) beladen, entsprechend der folgenden nasschemischen Behandlung foliert und gegebenenfalls zwischengelagert wird. Auf Abruf durch die Software der Produktionssteuerung wird die beladene Halterung der Nassanlage zugeliefert. Nach dem nasschemischen Prozess erfolgt der Rücktransport, danach das Defolieren und Entnehmen des Mikrochipsubstrates aus der Halterung.
Das Verfahren bietet die Möglichkeit einer zentralen Zwischenspeicherung beladener Halterungen. Bei einem Folieren durch Laminieren erlaubt das Verfahren den Einsatz von Laser zum Einbringen von Wärme, welche für ein Laminieren erforderlich ist.
Das Verfahren verwendet einen Laser zum Schneiden der eingesetzten Polymerfolie(n).
Das Verfahren verwendet einen Laser zum Defolieren.
Das Verfahren erlaubt, dass vakuumlaminiert wird.
Das Verfahren erlaubt, dass die Folie(n) beim Laminieren mit einem für das Laserlicht transparenten Stempel an das Mikrochipsubstrat und die Halterung angedrückt wird/werden. Das Verfahren umfasst, dass die Polymerfolie(n) mit einer Rolle angedrückt wird/werden.
Das Verfahren umfasst, dass in der Folier-/Defolieranlage bei zumindest einem der Arbeitsschritte gleichzeitig abgesaugt wird.
Das Verfahren umfasst, dass zumindest einer der Arbeitsschritte in der Folier-/Defolieranlage unter Schutzgas (Inertgas) durchgeführt werden kann.
Das Verfahren umfasst, dass zumindest einer der Arbeitsschritte in der Folier-/Defolieranlage unter Unterdrück durchgeführt werden kann.
Das Verfahren umfasst, dass die Polymerfolie(n) nach dem (lokalen) Verkleben geschnitten werden.
Das Verfahren umfasst, dass die Polymerfolie(n) vor dem (lokalen) Verkleben entweder in der Folier-/Defolieranlage oder extern geschnitten werden.
Das Verfahren erlaubt es, dass entweder thermisch (z.B. durch Laser) und/oder mechanisch durch Abziehen und/oder chemisch durch Ablösen defoliert wird.
Das Verfahren erlaubt den Einsatz eines erfindungsgemäßen Adapters, mit welchem eine bestehende Nassanlage, wie z.B. eine RaiderTM-Anlage (elektrolytische Metallisieranlage von Applied Materials Inc.), für das erfindungsgemäße Verfahren und die erfindungsgemäße Halterung verwendet werden kann.
Das Verfahren kann in einem Reinraum ausgeführt werden. Das Verfahren umfasst, dass zum Folieren eine Polymerfolie (Kunststofffolie), welche mit zumindest einer elektrischen Leiterbahn beschichtet worden ist, verwendet wird.
Das Verfahren umfasst, dass für das Beschichten der Leiterbahn Inkjetdruck oder Siebdruck eingesetzt wird.
Das Verfahren umfasst, dass für das Beschichten der Leiterbahn zuerst eine Basisschicht aus einem elektrisch leitenden Polymer gedruckt wird und in einem zweiten Schritt auf der gedruckten Basisschicht eine dickere metallische Leiterbahn (z.B. aus Kupfer) elektrolytisch aufgebracht wird.
Das Verfahren umfasst, dass für das Beschichten der Leiterbahn zuerst eine Basisschicht aus Kohlenstoff gedruckt wird und in einem zweiten Schritt auf dieser Basisschicht eine dickere metallische Leiterbahn (z.B. aus Kupfer) elektrolytisch aufgebracht wird.
Das Verfahren umfasst, dass die Leiterbahn (z.B. aus Kupfer) galvanisch (= außenstromlos), analog der
Kunststoffmetallisierung von Bauteilen, wie dies z.B. in der Autoindustrie durchgeführt wird, auf eine zuvor konditionierte Teilfläche der Polymerfolie (Kunststofffolie) aufgebracht wird.
Das Verfahren umfasst, dass als elektrischer Leiter eine Leiterfolie verwendet wird, die durch die Polymerfolie auf das Mikrochipsubstrat niedergedrückt wird.
Das Verfahren erlaubt es, dass die elektrische Leiterfolie zumindest auf einer Seite mit einem elektrisch leitfähigen Kleber versehen ist.
Das Verfahren erlaubt es, dass als Polymerfolie ein Film aus Trockenlack („Dry Resist Film") verwendet wird.
Das Verfahren beinhaltet, dass ein Film aus Trockenlack, wie oben beschrieben, örtlich mit zumindest einer Leiterbahn beschichtet wird.
Das Verfahren umfasst, dass ein mit zumindest einer Leiterbahn beschichteter Film aus Trockenlack für das Folieren im Rahmen des erfindungsgemäßen Verfahrens verwendet wird.
Das Verfahren umfasst, dass ein Film aus Trockenlack (nach dem Abziehen einer Schutzfolie) in einem Arbeitsschritt ganzflächig auf das Mikrochipsubstrat und auf die das Mikrochipsubstrat umgebende Fläche der Halterung laminiert wird.
Das Verfahren erlaubt es, dass das Folieren mit einer herkömmlichen Rollenlaminiervorrichtung ausgeführt wird. Diese Vorrichtung kann Teil der Folier-/Defolieranlage sein, oder auch separat.
Das Verfahren umfasst, dass ein Defolieren zumindest der Halterung ausgeführt wird.
Das Verfahren umfasst, dass das Mikrochipsubstrat nach der Entnahme aus der Halterung noch zusätzlich (z.B. mittels Plasma oder mittels einer Flüssigkeit) gereinigt wird.
Das Verfahren umfasst, dass die Halterung zumindest von Zeit zu Zeit (beispielsweise mittels Plasma oder mittels einer Flüssigkeit) gereinigt wird.
Das Verfahren umfasst, dass beide Seiten des Mikrochipsubstrates foliert werden.
Das Verfahren kann z.B. auch bei elektrochemischen Forschungsarbeiten, bei denen z.B. rotierende Scheibenelektroden verwendet werden, eingesetzt werden.
Insbesondere können bei der Erfindung die nachstehend aufgelisteten Verfahrensschritte durchgeführt werden:
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Polymerfolie auf das Mikrochipsubstrat entweder unter Freilassen von wenigstens einem zu behandelnden Bereich des Mikrochipsubstrates oder vollflächig mit anschließendem Entfernen der Polymerfolie von wenigstens einem zu behandelnden Bereich des Mikrochipsubstrates aufgebracht wird. In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Polymerfolie beim Aufbringen durch Kleben festgelegt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Polymerfolie unter Zufuhr von Wärme und Aufbringen von Anpresskraft festgelegt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass Wärme mittels Laserstrahlung erzeugt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Anpresskraft durch Erzeugen eines Druckunterschiedes zwischen den Flächen der Polymerfolie aufgebracht wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Anpresskraft mit Hilfe eines Stempels aufgebracht wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass ein für Laserstrahlung durchlässiger Stempel verwendet wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass das Entfernen der Polymerfolie unter Schutzgas und/oder Absaugen ausgeführt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Polymerfolie im Bereich des äußeren Randes des
Mikrochipsubstrates unter Freilassen des mittleren Bereiches des Mikrochipsubstrates aufgebracht, insbesondere geklebt, wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass eine Polymerfolie verwendet wird, die eine Leiterbahn aufweist.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass eine Polymerfolie verwendet wird, die als Leiterbahn eine Leiterfolie umfassend eine Trägerfolie und wenigstens eine elektrisch leitende Schicht, beispielweise aus Metall, insbesondere aus Kupfer, aufweist.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass eine Leiterfolie verwendet wird, die zwei elektrisch leitende Schichten aufweist, zwischen denen eine Trägerfolie vorgesehen ist (liegt).
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Halterung mit eingesetztem Mikrochipsubstrat an eine Vorrichtung zum Ausführen der nasschemischen Behandlung angedockt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass als Polymerfolie ein Film aus Trockenlack verwendet wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass der Film aus Trockenlack auf das Mikrochipsubstrat vollflächig aufgebracht wird und dass der Film aus Trockenlack vor dem nasschemischen Behandeln von dem wenigstens einen zu behandelnden Bereich des Mikrochipsubstrates entfernt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass der Film aus Trockenlack über Lithographieprozesse strukturiert wird, um den Film aus Trockenlack teilweise zu entfernen.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass als nasschemisches Behandeln ein elektrolytisches Metallisieren, ein elektrochemisches Ätzen, ein elektrochemisches Reinigen oder ein elektrochemisches Konditionieren durchgeführt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass eine Polymerfolie verwendet wird, die als Leiterbahn eine ringförmige, beispielsweise kreisringförmige, Leiterfolie trägt.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die ringförmige Leiterfolie mit der Polymerfolie durch Kleben verbunden wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Polymerfolie und/oder die Leiterfolie mit Laser zurechtgeschnitten werden.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Polymerfolie vor oder nach dem Aufbringen geschnitten wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass das Entfernen der Polymerfolie mit Laser durchgeführt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Polymerfolie chemisch oder mechanisch entfernt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass wenigstens der Rand des Mikrochipsubstrates nach dem Entfernen der Polymerfolie gereinigt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass das Reinigen mittels Laser durchgeführt wird.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Vorderseite, die Rückseite und der Rand des Mikrochipsubstrates gereinigt werden.
In einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, dass die Halterung mit zwei Mikrochipsubstraten beladen wird.
Eine erfindungsgemäße Halterung, die beim Durchführen des Verfahrens gemäß der Erfindung eingesetzt werden kann, weist beispielhaft die in Anspruch 29 genannten Merkmale auf.
Bevorzugte und vorteilhafte Ausgestaltungen der erfindungsgemäßen Halterung sind Gegenstand der von Anspruch 29 abhängigen Unteransprüche.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, dass die Bodenplatte mit dem Rahmen verbunden, insbesondere verklebt, ist.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, dass in der Bodenplatte wenigstens eine Öffnung vorgesehen ist, die von dem Rahmen abgedeckt ist.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, dass die Öffnung in der Bodenplatte eine mit Abstand vom Außenrand und innerhalb des Außenrandes der Bodenplatte angeordnete, umlaufende, ringförmige Öffnung ist.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, dass der Aufnahmeraum für das Mikrochipsubstrat radial nach außen durch den Rahmen begrenzt ist.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, dass die Höhe des Aufnahmeraumes für das Mikrochipsubstrat durch den Abstand zwischen der dem aufzunehmenden Mikrochipsubstrat zugekehrten Fläche der Bodenplatte bzw. der dem Mikrochipsubstrat zugekehrten Fläche einer Dichtung, die gegebenenfalls auf der Bodenplatte aufliegt, und der von der Bodenplatte abgekehrten Seite des Rahmens bestimmt ist.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, dass in der Bodenplatte wenigstens eine Öffnung für das Zentrieren der Halterung vorgesehen ist.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, drei Öffnungen für den Durchtritt von Stiften zum Abheben des Mikrochipsubstrates von der Halterung, wenigstens zwei Öffnungen zum Zentrieren der Halterung an einem Adapter, wenigstens eine Öffnung zum Prüfen der Dichtheit der aufgebrachten Polymerfolie, wenigstens eine Öffnung für das Anlegen von Unterdrück und für das Belüften vorgesehen ist, wobei wenigstens eine ausgewählte Öffnung für mindestens eine, vorzugsweise zwei oder drei der vorgenannten Funktionen vorgesehen ist.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, dass der Rahmen aus elektrisch leitfähigem Werkstoff, insbesondere Titan oder Niob, besteht und, abgesehen von zwei elektrisch leitenden Bereichen der Oberfläche, elektrisch isolierend beschichtet ist.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, dass der Rahmen aus elektrisch isolierendem Werkstoff, insbesondere Keramik oder Glas, besteht, und dass der Rahmen bereichsweise elektrisch leitend beschichtet, insbesondere platiniert, ist.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, dass die Öffnung in der Bodenplatte im Bereich der elektrisch leitenden Beschichtung des Rahmens vorgesehen ist.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung kann vorgesehen sein, dass der Rahmen und die Bodenplatte einstückig ausgebildet sind.
Eine Ausführungsform eines Adapters, mit dem die erfindungsgemäße Halterung an einer Metallisierungsvorrichtung gesetzt werden kann, weist die Merkmale des unabhängigen Anspruchs 41 auf. Bevorzugte und vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Adapters sind Gegenstand der von Anspruch 41 abhängigen Unteransprüche.
Bei einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adapters kann vorgesehen sein, dass die Anschlussstifte zum Festlegen des Adapters an einer Metallisieranlage ausgebildet sind.
Bei einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adapters kann vorgesehen sein, dass durch die Anschlussstifte ein elektrischer Kontakt zu einem in dem Adapter vorgesehenen, insbesondere ringförmigem, Kontaktblech ausgebildet ist.
Bei einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adapters kann vorgesehen sein, dass die Anschlussstifte hohl ausgebildet sind und an eine Vakuumquelle anschließbar sind.
Bei einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adapters kann vorgesehen sein, dass der Grundkörper des Adapters aus elektrisch leitendem Werkstoff besteht.
Bei einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adapters kann vorgesehen sein, dass der Grundkörper des Adapters aus elektrisch isolierendem Werkstoff besteht, und dass an dem Adapter zum elektrischen Kontaktieren der Halterung ein elektrisch leitender Ring vorgesehen ist.
Bei einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adapters kann vorgesehen sein, dass am Außenumfang des Grundkörpers des Adapters eine Dichtung vorgesehen ist.
Bei einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adapters kann vorgesehen sein, dass an dem Kontaktblech Zungen vorgesehen sind. Bei einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adapters kann vorgesehen sein, dass an der der Halterung zuzukehrenden Fläche des Grundkörpers des Adapters wenigstens ein Zentriervorsprung, insbesondere zwei Zentriervorsprünge, vorgesehen ist/sind.
Bei einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adapters kann vorgesehen sein, dass die Zungen des Kontaktbleches an einem Ring aus elastischem Werkstoff aufliegen.
Bei einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Adapters kann vorgesehen sein, dass das Kontaktblech mit dem Grundkörper des Adapters in elektrisch leitender Verbindung steht.
Bei einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung befindet sich zwischen der Polymerfolie und dem Mikrochipsubstrat einerseits (radial innen) und dem Rahmen der Halterung anderseits (radial außen) eine elektrische Leiterbahn (Leiterfolie mit oder ohne Zungen), die den Rand des Mikrochipsubstrates mit der elektrisch leitenden Fläche des Rahmens der Halterung verbindet.
Die Polymerfolie bedeckt in einer Ausführungsform den Rand des Mikrochipsubstrates und den das Mikrochipsubstrat umgebenden Rahmen und stellt die erforderliche Abdichtung sicher.
Die Polymerfolie klebt in einer Ausführungsform auf den darunterliegenden Komponenten (Rahmen und Mikrochipsubstrat) und gewährleistet so eine sichere (chemische, weil geklebte) Abdichtung .
In einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung ist vorgesehen, dass in der Bodenplatte der Halterung eine ringsum laufende Öffnung vorgesehen ist, sodass ein elektrischer Leiter direkt an den Rahmen der Halterung gekoppelt werden kann (Kontaktblech). Dabei kann vorgesehen sein, dass die Öffnung so angeordnet ist, dass sie im Bereich der elektrisch leitenden Beschichtung des Rahmens angeordnet ist. Dies erlaubt es, dass ein Kontaktblech von unten direkt an die elektrisch leitende Beschichtung des Rahmens elektrisch leitend anliegen kann.
In Betracht gezogen ist bei der Erfindung auch eine Ausführungsform der Halterung für das Mikrochipsubstrat, die einen Ring (ohne Bodenplatte) umfasst, der das Mikrochipsubstrat von außen her einfasst. Bei dieser Ausführungsform wird das Mikrochipsubstrat von der (ringförmigen und angeklebten) Polymerfolie gehalten. Dabei wirkt die Polymerfolie als Brücke. Diese Ausführungsform ist insbesondere bei kleinen Mikrochipsubstraten in Betracht gezogen.
In einer anderen Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung sind die Bodenplatte und der Rahmen der Halterung aus einem Stück gefertigt. Als Werkstoff ist beispielsweise entweder ein elektrisch leitender Werkstoff (mit einer elektrisch leitenden Beschichtung zumindest einer Teilfläche und einer isolierenden Beschichtung der übrigen Fläche) oder ein elektrisch nicht leitender Werkstoff (wie Keramik) mit einer elektrisch leitfähigen Teilbeschichtung vorgesehen.
Der im Rahmen der Erfindung vorgesehene Adapter dient dazu, eine erfindungsgemäße Halterung an eine Vorrichtung zum nasschemischen Behandeln von Mikrochipsubstraten, wie eine elektrolytische Metallisieranlage, zu koppeln. Eine solche elektrolytische Metallisierungsanlage kann eine RaiderTM-Anlage von Applied Materials Inc. sein.
In einer Ausführungsform besitzt der erfindungsgemäße Adapter einen Anschlussstift (oder zwei Anschlussstifte), über welchen der Adapter an der Anlage zum nasschemischen Behandeln von Mikrochipsubstraten gehalten und elektrisch kontaktiert werden kann. In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Anschlussstift des Adapters mit einem Durchgangsloch versehen ist, sodass er als Anschlussstelle für Vakuum dienen kann.
In einer Ausführungsform ist vorgesehen, dass der Anschlussstift unter Zwischenlage eines elektrisch leitenden Ringes in den Grundkörper des Adapters eingeschraubt ist, sodass ein elektrisch gut leitender Kontakt hergestellt ist.
Der äußere Rand des Adapters, also der Rand des Grundkörpers, ist mit einer Dichtung eingefasst, sodass einerseits verhindert ist, dass für gewöhnlich aggressive Elektrolyte in den Adapter eindringen können und anderseits die Halterung für das Mikrochipsubstrat durch Unterdrück festgehalten werden kann.
In dem Adapter ist in einer Ausführungsform ein ringförmiges Kontaktblech vorgesehen, das Zungen oder Finger (Pins) aufweist, die auf einem Ring aus elastischem Werkstoff aufliegen, sodass sie federnd gelagert sind und ein gutes elektrisches Kontaktieren zu der an dem Adapter festgelegten (angesaugten) Halterung, insbesondere dem Rahmen der Halterung, für das Mikrochipsubstrat ergeben.
Im Rahmen der Erfindung kann die elektrische Verbindung der Anschlussstifte des Adapters zum Mikrochipsubstrat wie folgt verlaufen :
Anschlussstift ->
Grundkörper / Intarsie (das ist ein in dem Grundkörper, der aus elektrisch isolierendem Werkstoff besteht, vorgesehener, ringförmiger Körper aus elektrisch leitendem Werkstoff) -> bzw. Feder ->Grundkörper / Intarsie ->
Anschlussstege des Kontaktblechs; statt einer Aufteilung auf einzelne Stege könnte auch ein durchgehender konischer Blechring eingesetzt werden ->
Finger des Kontaktblechs -> elektrisch leitende Beschichtung des Rahmens der Waferhalterung
Rahmen der Waferhalterung; falls dieser aus Keramik besteht, läuft der Kontaktpfad nur über die elektrisch leitende Beschichtung -> elektrische Leiterbahn (z.B. Leiterfolie) ->
Mikrochipsubstrat .
In einer Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung sind in der Bodenplatte der Halterung zwei Sacklöcher (Vertiefungen) vorgesehen. Die Sacklöcher dienen dazu, die Halterung an dem Adapter eindeutig zu positionieren und auszurichten. Wenn die Halterung an dem Adapter richtig angesetzt ist, greifen an dem Adapter vorgesehene, zylindrische Vorsprünge in die Sacklöcher ein.
Eine weitere Öffnung für Belüftungszwecke kann vorgesehen sein. Auch in der Bodenplatte der Halterung kann eine Öffnung vorgesehen sein. Derartige Öffnungen können insbesondere beim Vakuumlaminieren der Polymerfolie auf ein in die Halterung eingelegtes Mikrochipsubstrat vorteilhaft sein.
Die erfindungsgemäße Halterung für ein Mikrochipsubstrat bei dessen nasschemischer Behandlung kann die nachstehend beispielhaft aufgeführten Merkmale oder Kombinationen von wenigstens einem dieser Merkmale mit einem weiteren Merkmal oder mehreren weiteren Merkmalen aufweisen:
Die Halterung kann einen Rahmen enthalten, der das Mikrochipsubstrat umgibt.
Der Rahmen kann aus einem elektrisch leitenden oder einem elektrisch isolierenden Material bestehen.
Wenn der Rahmen aus einem elektrisch isolierenden Material besteht, ist zumindest eine Teilfläche des Rahmens elektrisch leitend beschichtet.
Wenn der Rahmen aus einem elektrisch leitenden Material besteht, ist zumindest eine Teilfläche des Rahmens elektrisch leitend beschichtet und die andere Teilfläche des Rahmens elektrisch isolierend beschichtet.
Der Rahmen kann mit der Bodenplatte einstückig ausgebildet sein, sodass keine Verbindung (z.B. über Klebung) des Rahmens mit einer Bodenplatte erforderlich ist.
Wenn Rahmen und Bodenplatte aus einem Stück gefertigt sind (z.B. aus einem Vollkörper herausgearbeitet oder in einem gedruckt), dann ist das Stück aus elektrisch leitendem Material, wie z.B. aus Titan.
Wenn Rahmen und Bodenplatte aus einem Stück gefertigt sind, ist in der Bodenplatte keine Öffnung zum elektrischen Kontaktieren erforderlich, sondern das Kontaktblech des Adapters kann unmittelbar an die (gegebenenfalls beschichtete) Unterseite des Stücks andocken.
Wenn Rahmen und Bodenplatte aus einem Stück gefertigt sind, kann zumindest eine elektrisch leitend beschichtete Teilfläche und eine elektrisch isolierende Beschichtung der übrigen Fläche des Stücks vorgesehen sein.
In einer Ausführungsform besteht die Halterung nur aus einem Rahmen (ohne Bodenplatte). Die Verbindung zum Mikrochipsubstrat wird dann ausschließlich über die funktionalisierte Polymerfolie erzielt.
Wenn in einer Ausführungsform der Halterung eine separate Bodenplatte aus elektrisch isolierendem Material verwendet wird, kann die Bodenplatte mit einer umlaufenden Öffnung versehen sein, sodass das Kontaktblech des Adapters an den Rahmen oder eine elektrisch leitfähige Beschichtung des Rahmens anliegen kann.
Die obere Fläche des Rahmens bzw. die das Mikrochipsubstrat umgebende Fläche der Halterung, die auf der nasschemisch zu behandelnden Seite des Mikrochipsubstrates liegt, fluchten mit der zu behandelnden Fläche des Mikrochipsubstrates.
Der Rahmen bzw. das in einem Stück gefertigte Bauteil (Rahmen und Bodenplatte) kann radial außen eine Abrundung aufweisen.
Die Polymerfolie kann sich bis zum Beginn der Abrundung erstrecken.
Wenn die Bodenplatte vorgesehen ist, kann diese zumindest eine Bohrung, z.B. zum Belüften oder als Öffnung für Zentriervorsprünge des Adapters, aufweisen.
Der erfindungsgemäße Adapter kann die nachstehend beispielhaft aufgeführten Merkmale oder Kombinationen von wenigstens einem dieser Merkmale mit einem weiteren Merkmal oder mehreren weiteren Merkmalen aufweisen:
Der Grundkörper des Adapters kann aus elektrisch leitendem Material gefertigt sein.
Ein Grundkörper aus elektrisch leitendem Material kann bereichsweise elektrisch isolierend beschichtet sein.
Der Grundkörper kann aus elektrisch isolierendem Material gefertigt sein, wenn ein weiterer, gesonderter Teil („Intarsie") aus elektrisch leitfähigem Material, gegebenenfalls mit Beschichtung, in den Grundkörper eingelegt ist.
Zumindest ein Anschlussstift besitzt eine Bohrung, damit eine Vakuumleitung angeschlossen werden kann.
Der Adapter ist zumindest auf der Seitenwand und radial außen auf der Seite zur Halterung hin mit einer „weichen" Dichtung umhüllt.
Zwischen dem Anschlussstift und dem Grundkörper bzw. zwischen dem Anschlussstift und einem eingelegten elektrisch leitfähigen Bauteil (mit oder ohne Beschichtung) kann eine Feder angeordnet sein.
Die der Halterung zugekehrte Oberseite des Adapters ist mit zumindest einer umlaufenden und zumindest einer linearen Vertiefung (Nut) versehen.
An dem Adapter kann ein umlaufendes Kontaktblech vorgesehen sein, das über die Oberfläche der „weichen" Dichtung hinausragt .
Der Adapter kann einen Ring aus Elastomer enthalten.
Das Profil des Rings aus Elastomer ist so ausgeführt, dass die Finger (Zungen) des Kontaktblechs federnd in Anlage an eine angesetzte Halterung gehalten sind.
Das Kontaktblech kann über zumindest einen Anschlusssteg befestigt sein.
Das Kontaktblech kann bereichsweise konisch ausgebildet sein, wobei das Befestigen des Kontaktierbereichs an dem Grundkörper des Adapters über Bohrungen im konischen Teil erfolgt.
An der der Halterung zugewandten Seite des Adapters kann zumindest ein Vorsprung, der das Kontaktblech überragt, vorgesehen sein, um die Halterung zu zentrieren.
Durch die Verwendung einer Polymerfolie zum Abdichten des Randes des Mikrochipsubstrates, zusätzlich zum elektrischen Kontaktieren des Randes des Mikrochipsubstrates, wird die im Stand der Technik ausgeprägte Topografiestufe am Rand des Mikrochipsubstrates fast vollständig beseitigt. Dies ist für nasschemische Prozesse von Vorteil, da eine ausgeprägte Topografiestufe die Strömung des Elektrolyten erheblich stört und das Ergebnis der Behandlung, insbesondere am Rand des Mikrochipsubstrates, beeinträchtigt.
Die bekannten Lösungen für das Kontaktieren des Randes und das Abdichten des Randes (Klemmvorrichtungen) bieten keine Möglichkeit für eine weitere Verkleinerung der Topografiestufe. Durch das vorliegend beschriebene, erfindungsgemäße Verfahren und die erfindungsgemäße Halterung kann einerseits die Topografiestufe erheblich verkleinert werden und anderseits wird die Möglichkeit geschaffen, den Randabschluss schmäler als bisher zu machen.
Die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendete Polymerfolie kann beispielsweise aus (PET), (PE), (PP) oder (PMP) bestehen.
Wenn die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendete Polymerfolie zwei oder mehr als zwei Schichten aufweist, kann sie eine als Träger dienende Schicht, beispielsweise aus Polyethylenterephtalat (PET), Polyethylen (PE), Polypropylen (PP), Polymethylpenten (PMP) oder Polytetrafluorethylen (PTFE) aufweisen. Die als Träger dienende Schicht trägt im Falle einer mehrschichtigen Polymerfolie eine Schicht, die Klebewirkung hat. Die Schicht mit Klebewirkung besteht beispielsweise aus einem Schmelzklebstoff auf Basis von einem Polyolefin (z.B. Technomelt AS 5303 von Henkel), aus einem Schmelzklebstoff, der UV- aushärtbar ist, wie einem Trockenlack, aus Ethylenvinylacetat (EVA) oder aus einem Silikonklebstoff.
Die eine Klebewirkung aufweisende Schicht der Polymerfolie kann durch eine weitere Schicht, die als Schutzfolie dient, abgedeckt sein. Die Schutzfolie, die vor der Verwendung der Polymerfolie entfernt, beispielsweise abgezogen, wird, kann beispielsweise eine Schicht aus Polyethylen (PE) sein.
Im Rahmen der Erfindung ist in Betracht gezogen, dass die als Träger dienende Schicht der Polymerfolie vor dem Durchführen der nasschemischen Behandlung des Mikrochipsubstrates entfernt, beispielsweise abgezogen, werden kann.
Weiters ist im Rahmen der Erfindung in Betracht gezogen, die Polymerfolie unter Freilassen des wenigstens einen zu behandelnden Bereichs des Mikrochipsubstrates auf das Mikrochipsubstrat aufzubringen.
Wenn beim Durchführen des erfindungsgemäßen Verfahrens eine Polymerfolie verwendet wird, die eine Schicht aus einem Trockenlack umfasst, kann beispielsweise wie folgt vorgegangen werden:
Abziehen der Schutzfolie, die so erhaltene, zwei Schichten aufweisende Polymerfolie wird auf die Halterung und vollflächig auf das Mikrochipsubstrat, beispielsweise durch Laminieren, aufgebracht, die Klebewirkung aufweisende Schicht (Trockenlack) wird beispielsweise durch UV-Strahlung ausgehärtet, die als Träger dienende Schicht der Polymerfolie wird, beispielsweise durch Abziehen, entfernt,
Strukturieren des Trockenlacks über Lithographieprozesse, um den wenigstens einen zu behandelnden Bereich des Mikrochipsubstrates freizulegen, und Durchführen der nasschemischen Behandlung des Mikrochipsubstrates und der weiteren Verfahrensschritte.
Wenn bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eine Leiterfolie als elektrischer Leiter verwendet wird, kann eine Leiterfolie verwendet werden, die wenigstens eine Lage, vorzugsweise zwei oder drei Lagen, aufweist.
Beispielsweise weist eine Leiterfolie eine Lage aus PET und eine Lage aus elektrisch leitendem Werkstoff, z.B. Kupfer, auf.
Eine andere Ausführungsform der Leiterfolie weist eine Lage aus PET auf, die beidseitig Lagen aus einem elektrisch leitenden Werkstoff, z.B. Kupfer, trägt.
Wenn bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eine Leiterfolie als elektrischer Leiter verwendet wird, wird diese auf der dem zu behandelnden Mikrochipsubstrat zugewendeten Seite der Polymerfolie angeordnet. In der Regel ist die verwendete Leiterfolie wenigstens teilweise in die Polymerfolie eingebettet, da sie beim Aufbringen auf die Polymerfolie in die Polymerfolie gedrückt wird. Die Leiterfolie wird vorzugsweise vor dem Aufbringen der Polymerfolie auf das Mikrochipsubstrat und die Halterung auf die dem Mikrochipsubstrat zuzukehrende Seite der Polymerfolie aufgebracht, um die Polymerfolie zu funktionalisieren .
Weitere Einzelheiten und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der nachstehenden Beschreibung bevorzugter Durchführungs- und Ausführungsbeispiele, in welcher auf die angeschlossenen Zeichnungen Bezug genommen wird. Es zeigt:
Fig. 1 ein Fließschema mit dem beispielhaften Ablauf des erfindungsgemäßen Verfahrens,
Fig. 2 in Schrägansicht eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung, die mit einem
Mikrochipsubstrat beladen ist,
Fig. 3 eine Ausführungsform einer Leiterfolie, Fig. 4 eine andere Ausführungsform einer Leiterfolie, Fig. 5 im Schnitt die Zuordnung Polymerfolie und Leiterfolie an einer Halterung,
Fig. 6 teilweise einen Schnitt einer beladenen und folierten Halterung,
Fig. 7 in Schrägansicht eine nicht mit einem Mikrochipsubstrat beladene Halterung,
Fig. 8 eine Draufsicht zu Fig. 7, Fig. 9 oben eine Topografiestufe des Standes der Technik und unten eine Topografiestufe des erfindungsgemäßen Verfahrens,
Fig. 10 einen Adapter in Schrägansicht, Fig. 11 eine Einzelheit des Adapters im Schnitt, Fig. 12 in Schrägansicht eine Einzelheit des Adapters in vergrößerter Darstellung,
Fig. 13 einen Adapter und eine Halterung mit Mikrochipsubstrat (teilweise),
Fig. 14 einen Adapter mit - der Übersichtlichkeit wegen mit Abstand - darüber angeordneter Halterung mit Mikrochipsubstrat (in Schrägansicht und teilweise), und
Fig. 15 im Schnitt einen Adapter mit darüber angeordneter Halterung mit Mikrochipsubstrat.
Eine in den Fig. 2 und 6 gezeigte, mit einem Mikrochipsubstrat beladene und mit einer Polymerfolie versehene („folierte") Halterung 1 für ein Mikrochipsubstrat 2, wie einen Wafer oder ein Panel, umfasst im gezeigten Ausführungsbeispiel eine Bodenplatte 3, in der eine beispielsweise ringsum laufende (ringförmige) Öffnung 4 vorgesehen ist. Insbesondere wird eine Polymerfolie 7 verwendet, die durch wenigstens eine auf die Polymerfolie aufgebrachte Leiterbahn, wie eine Leiterfolie 29, funktionalisiert ist. Mit dem äußeren Bereich 12 der Bodenplatte 3 ist ein Rahmen 5 über eine Schicht 34 verklebt, der nach außen hin einen Aufnahmeraum 6 für ein Mikrochipsubstrat 2 begrenzt.
In Fig. 6 ist gezeigt, dass auf dem Mikrochipsubstrat 2 - den äußeren Randbereich des Mikrochipsubstrates 2 abdeckend - und auf dem Rahmen 5 eine Polymerfolie 7 angeordnet, nämlich angeklebt, ist.
In der Bodenplatte 3 können - abgesehen von der das elektrische Kontaktieren des Rahmens 5 erlaubenden Öffnung 4 - weitere Öffnungen vorgesehen sein. Weitere Öffnungen können zum Zentrieren der Halterung 1, zum Festlegen des Mikrochipsubstrates 2 durch Unterdrück, zum Beladen der Halterung 1 mit einem Mikrochipsubstrat, zum Entladen der Halterung 1 und zum Prüfen der Dichtheit der Folierung (aufgebrachte Polymerfolie 7) vorgesehen sein.
Dabei ist insbesondere vorgesehen, dass wenigstens zwei Öffnungen vorgesehen sind, in die Vorsprünge 26 eines Adapters 15 eingreifen, wenn die Halterung 1 an dem Adapter 15 richtig positioniert ist.
Weiters kann in der Bodenplatte 3 wenigstens eine Öffnung für das Prüfen der Dichtheit der aufgebrachten Polymerfolie 7 vorgesehen sein.
Für das Anlegen von Unterdrück, um ein Mikrochipsubstrat 2 an der Halterung 1 festzulegen, kann in der Bodenplatte 3 wenigstens eine Öffnung vorgesehen sein. Diese Öffnung kann auch zum Belüften verwendet werden.
Überdies können in der Bodenplatte wenigstens drei Öffnungen vorgesehen sein, durch die Stifte treten können, um ein Mikrochipsubstrat 2 von der Halterung 1 abzuheben.
Im Rahmen der Erfindung ist in Betracht gezogen, einzelne oder mehrere der erwähnten Öffnungen auch für zwei oder mehrere der erwähnten Funktionen heranzuziehen.
Bei der in Fig. 7 gezeigten Ausführungsform der nicht beladenen Halterung 1 besteht der Rahmen 5 aus elektrisch isolierendem Werkstoff (z.B. Keramik), wobei dessen Oberfläche 9 eine elektrisch leitende Schicht 32 trägt. Die elektrisch leitende Schicht 32 erstreckt sich von der in Fig. 7 nach oben weisenden Seite über die innere Randfläche 10 des Rahmens 5 bis auf die in Fig. 7 nach unten weisende Seite des Rahmens 5.
Fig. 8 zeigt eine andere Ausführungsform der erfindungsgemäßen Halterung 1 (nicht beladen), bei der der Rahmen 5 aus elektrisch leitendem Werkstoff besteht, wobei zwei voneinander getrennte Flächen, nämlich die nach oben, zu dem Mikrochipsubstrat hin weisende Fläche (das ist die Fläche des Rahmens 5, welche mit der Oberfläche des Mikrochipsubstrates vorzugsweise wenigstens im Wesentlichen in einer Ebene liegt), und die nach unten weisende Fläche des Rahmens 5, eine elektrisch leitende Schicht 32 tragen. Auf dem inneren Rand und auf dem äußeren Rand des Rahmens 5 sind elektrisch isolierende Schichten 8 aufgebracht.
Um eine elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Rahmen 5 der Halterung 1 und der leitenden Schicht 35 des Mikrochipsubstrates 2 herzustellen, ist beispielsweise der Polymerfolie 7 eine Leiterfolie 29 zugeordnet. Beispiele für Leiterfolien 29 sind in den Fig. 3 und 4 gezeigt. Die Leiterfolie 29 der Fig. 3 besteht aus einer Trägerfolie 13 aus einem Kunststoff und einer elektrisch leitenden Schicht 14 (z.B. aus Kupfer). Bei der
Ausführungsform der Leiterfolie gemäß Fig. 4 ist die Trägerfolie 13 zwischen zwei elektrisch leitenden Schichten 14 aufgenommen.
Fig. 5 zeigt, dass die Leiterfolie 29 aus einer Trägerfolie 13 und einer elektrisch leitenden Schicht 14 in die Polymerfolie 7, welche im gezeigten Beispiel eine als Träger 30 dienende Schicht und eine Klebewirkung entfaltende Schicht 31 umfasst, nach dem Folieren eingedrückt ist. Das resultiert aus der Anpresskraft beim Aufbringen der Leiterfolie 29 auf die Polymerfolie 7. Vorzugsweise wird die Leiterfolie 29 vor dem Aufbringen („Folieren") des Polymerfolie, z.B. durch Laminieren, auf den Rahmen 5 der Halterung 1 und das Mikrochipsubstrat 2 aufgebracht (laminiert).
In Fig. 9 ist im oberen Bereich gezeigt, wie die Topografiestufe im Stand der Technik ausgebildet ist und dass erhebliche Kräfte erforderlich sind, um die Randkonstruktion für das elektrische Kontaktieren und für das Abdichten an das unterhalb angeordnete Mikrochipsubstrat zu drücken. Auch ist dafür ein großer (breiter) Bereich erforderlich. Zusätzlich ist durch einen Pfeil 11 die Strömungsrichtung von Elektrolyt dargestellt.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ist keine Kraft erforderlich, um die Polymerfolie 7 in Anlage an den Rand des Mikrochipsubstrates 2 (Wafer) zu halten, da diese mit dem Rand des Mikrochipsubstrates verbunden, z.B. verklebt, ist. Auch genügt ein schmalerer Bereich, in dem die Polymerfolie 7 den Wafer übergreifend angeordnet ist.
Im Rahmen der Erfindung wird unter dem Begriff Polymerfolie 7 eine Folie aus Kunststoff verstanden, die beispielsweise aus einem der weiter oben genannten Kunststoffe besteht und den weiter oben beschriebenen Aufbau haben kann.
Aus der Darstellung von Fig. 6 ist ersichtlich, dass der Aufnahmeraum 6 für das Mikrochipsubstrat 2, der nach unten von der Bodenplatte 3 und nach außen von dem Rahmen 5 begrenzt wird, eine Höhe aufweist, die im Wesentlichen der Dicke des Mikrochipsubstrates 2 entspricht. Insbesondere ist die Höhe gleich der Dicke des Mikrochipsubstrates 2.
Ein in den Fig. 10 bis 12 gezeigter Adapter 15, mit dem eine erfindungsgemäße Halterung 1 an einer Anlage zum nasschemischen Behandeln angebracht werden kann, umfasst einen Grundkörper 16, in dem zwei Anschlussstifte 17 vorgesehen sind. In der der Halterung 1 zugewendeten Fläche des Grundkörpers 16 sind im gezeigten Beispiel ringförmige Vertiefungen 18 vorgesehen, die über Durchgangslöcher 19 in den Anschlussstiften 17 mit Unterdrück beaufschlagt werden können, um eine Halterung 1 an dem Adapter 15 und gegebenenfalls das Mikrochipsubstrat an der Bodenplatte 3 der Halterung 1 mit Unterdrück festzulegen.
Der Außenrand des Grundkörpers 16 des Adapters 15 ist mit einer Dichtung 20 versehen, sodass der innere Bereich des Adapters 15 vor dem Zutritt von aggressiven Elektrolyten geschützt ist.
In dem Adapter 15 ist ein ringsum laufendes Kontaktblech 21 vorgesehen, das über Schrauben 22 und Anschlussstege 27 an dem aus beispielsweise elektrisch leitendem Werkstoff bestehenden Grundkörper 16 des Adapters 15 befestigt ist.
Die Anschlussstifte 17 sind unter Zwischenlegen einer Tellerfeder 23 in den Grundkörper 16 eingeschraubt, sodass diese mit dem Grundkörper 16 - und damit auch mit dem ringförmigen Kontaktblech 21 - in elektrisch leitender Verbindung stehen.
Das Kontaktblech 21 weist Zungen 24 (Kontaktpins) auf, die auf einem Ring 25 aus elastischem Werkstoff aufliegen (vgl. Fig.
11).
In der der Halterung 1 zugekehrten Fläche des Grundkörpers 16 des Adapters 15 sind im gezeigten Ausführungsbeispiel drei Vorsprünge 26 vorgesehen. Die Vorsprünge 26 greifen in Öffnungen in der Bodenplatte 3 der Halterung 1 ein, wenn die Halterung 1 an dem Adapter 15 richtig positioniert ist.
Die gegenseitigen Zuordnungen der Halterung 1 und des erfindungsgemäßen Adapters 15 sind in den Fig. 13 bis 15 gezeigt. In den Fig. 13 bis 15 ist - der Übersichtlichkeit wegen - zwischen der mit einem Mikrochipsubstrat beladenen Halterung 1 und dem Adapter 15 ein Abstand dargestellt. In Gebrauchslage liegt die erfindungsgemäße Halterung 1 zumindest mit dem äußeren Bereich 12 ihrer Bodenplatte 3, also in einem Bereich 12 außerhalb der Öffnung 4, an der Dichtung 20 am Außenrand des Adapters 15 an. Zusätzlich sind im mittleren Bereich des Adapters 15 Dichtflächen 28 vorgesehen, auf welchen die Bodenplatte 3 der Halterung 1 mit ihrem mittleren Bereich anliegt .
Aus der Darstellung von Fig. 14 ist erkennbar, dass die Zungen 24 des Kontaktblechs 21 der (ringförmigen) Öffnung 4 der Bodenplatte 3 der Halterung 1 zugeordnet sind, sodass die Zungen 24 bei am Adapter 15 anliegender Halterung 1 die Öffnung 4 durchgreifen und an dem Rahmen 5 der Halterung 1 elektrisch leitend anliegen.
In der schematischen und nicht maßstäblichen Darstellung in Fig. 5 ist beispielhaft gezeigt, wie ein Mikrochipsubstrat 2 an einer Halterung 1 angeordnet sein kann. Fig. 5 zeigt auch, dass die Leiterfolie 29, umfassen die Trägerfolie 13 und die elektrisch leitende Schicht 14, so angeordnet ist, dass eine elektrisch leitende Verbindung zwischen der elektrisch leitenden Schicht 35 des Mikrochipsubstrates 2 und dem Rahmen 5 der Halterung 1 gegeben ist.
Zusammenfassend kann ein Beispiel der Erfindung wie folgt beschrieben werden:
Beschrieben wird ein Verfahren zum nasschemischen Behandeln von Mikrochipsubstraten 2, wobei die Mikrochipsubstrate 2 in eine Halterung 1 eingesetzt werden. Die Halterung 1 wird mit Hilfe eines Adapters 15 an eine Anlage zum nasschemischen Behandeln, wie Metallisieren, angedockt.

Claims

Ansprüche :
1. Verfahren zum nasschemischen Behandeln von Mikrochipsubstrat, wie Wafer oder Panel, umfassend die Schritte:
Beladen einer Halterung mit wenigstens einem Mikrochipsubstrat, wobei die Halterung das Mikrochipsubstrat umgibt,
Aufbringen einer Polymerfolie auf den Bereich der Halterung, welcher das Mikrochipsubstrat umgibt und auf das Mikrochipsubstrat,
Herstellen einer elektrischen Verbindung zwischen dem Mikrochipsubstrat und dem das Mikrochipsubstrat umgebenden Bereich der Halterung,
Ausführen des nasschemischen Behandelns,
Wenigstens teilweises Entfernen der Polymerfolie von dem in der Halterung angeordneten Mikrochipsubstrat und
Entnehmen des behandelten Mikrochipsubstrates aus der Halterung, wobei die Schritte Beladen der Halterung, Aufbringen der Polymerfolie, Herstellen der elektrisch leitenden Verbindung, Entfernen der Polymerfolie und Entnehmen des Mikrochipsubstrates unabhängig von dem nasschemischen Behandeln ausgeführt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Polymerfolie auf das Mikrochipsubstrat entweder unter Freilassen von wenigstens einem zu behandelnden Bereich des Mikrochipsubstrates oder vollflächig mit anschließendem Entfernen der Polymerfolie von wenigstens einem zu behandelnden Bereich des Mikrochipsubstrates aufgebracht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Polymerfolie beim Aufbringen durch Kleben festgelegt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Polymerfolie unter Zufuhr von Wärme und Aufbringen von Anpresskraft festgelegt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass Wärme mittels Laserstrahlung erzeugt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Anpresskraft durch Erzeugen eines Druckunterschiedes zwischen den Flächen der Polymerfolie aufgebracht wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Anpresskraft mit Hilfe eines Stempels aufgebracht wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass ein für Laserstrahlung durchlässiger Stempel verwendet wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufbringen und/oder das Entfernen der Polymerfolie unter Schutzgas und/oder Absaugen ausgeführt werden.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Polymerfolie im Bereich des äußeren Randes des Mikrochipsubstrates unter Freilassen des mittleren Bereiches des Mikrochipsubstrates aufgebracht, insbesondere geklebt, wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass zum Herstellen der elektrisch leitenden Verbindung eine Polymerfolie verwendet wird, die eine Leiterbahn aufweist.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass eine Polymerfolie verwendet wird, die als Leiterbahn eine Leiterfolie umfassend eine Trägerfolie und wenigstens eine elektrisch leitende Schicht, beispielweise aus Metall, insbesondere aus Kupfer, aufweist.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass als Leiterbahn eine Leiterfolie verwendet wird, die entweder eine Trägerfolie und eine elektrisch leitende Schicht oder zwei elektrisch leitende Schichten, zwischen denen eine Trägerfolie aufgenommen ist, aufweist.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Halterung mit eingesetztem Mikrochipsubstrat an eine Vorrichtung zum Ausführen der nasschemischen Behandlung angedockt wird.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass als Polymerfolie ein Film aus Trockenlack verwendet wird.
16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Film aus Trockenlack auf das Mikrochipsubstrat vollflächig aufgebracht wird und dass der Film aus Trockenlack vor dem nasschemischen Behandeln von dem wenigstens einen zu behandelnden Bereich des Mikrochipsubstrates entfernt wird.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Film aus Trockenlack mit Lithographieprozessen strukturiert wird, um den Film aus Trockenlack teilweise zu entfernen.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass als nasschemisches Behandeln ein elektrolytisches Metallisieren, ein elektrochemisches Ätzen, ein elektrochemisches Reinigen oder ein elektrochemisches Konditionieren durchgeführt wird.
19. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass eine Polymerfolie verwendet wird, die als Leiterbahn eine ringförmige, beispielsweise kreisringförmige, Leiterfolie trägt.
20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass die ringförmige Leiterfolie mit der Polymerfolie durch Kleben verbunden wird.
21. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass die Polymerfolie und/oder die Leiterfolie mit Laser zurechtgeschnitten werden.
22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass die Polymerfolie und/oder die Leiterfolie vor und/oder nach dem Aufbringen geschnitten werden.
23. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass das Entfernen der Polymerfolie mit Laser durchgeführt wird.
24. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Polymerfolie chemisch und/oder mechanisch entfernt wird.
25. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens der Rand des Mikrochipsubstrates nach dem Entfernen der Polymerfolie gereinigt wird.
26. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, dass das Reinigen mittels Laser durchgeführt wird.
27. Verfahren nach Anspruch 25 oder 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorderseite, die Rückseite und der Rand des Mikrochipsubstrates gereinigt werden.
28. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 27, dadurch gekennzeichnet, dass die Halterung mit zwei Mikrochipsubstraten beladen wird.
29. Halterung (1) zur Verwendung beim nasschemischen Behandeln von Mikrochipsubstrat, wie Wafer oder Panel, insbesondere beim Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 28, gekennzeichnet durch einen im Bereich des äußeren Randes der Halterung (1) vorgesehenen Rahmen (5), einen durch den Rahmen (5) und gegebenenfalls eine Bodenplatte (3) begrenzten Aufnahmeraum (6) für ein Mikrochipsubstrat (2), wobei der Rahmen (5) aus elektrisch leitendem Werkstoff mit zumindest einer elektrisch leitenden Beschichtung und neben dieser mit einer elektrisch isolierenden Beschichtung (8) oder aus elektrisch isolierendem Werkstoff mit einer elektrisch leitenden Beschichtung (32) besteht.
30. Halterung nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, dass die Bodenplatte (3) mit dem Rahmen (5) verbunden, insbesondere durch eine Klebewirkung aufweisende Schicht (34) verklebt, ist.
31. Halterung nach Anspruch 29 oder 30, dadurch gekennzeichnet, dass in der Bodenplatte (3) wenigstens eine Öffnung (4) vorgesehen ist, die von dem Rahmen (5) oder einem Mikrochipsubstrat (2), mit dem die Halterung
(1) beladen ist, abgedeckt ist.
32. Halterung nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, dass die Öffnung (4) in der Bodenplatte (3) eine mit Abstand vom Außenrand und innerhalb des Außenbereiches der Bodenplatte (3) angeordnete, umlaufende, ringförmige Öffnung (4) ist.
33. Halterung nach einem der Ansprüche 29 bis 32, dadurch gekennzeichnet, dass der Aufnahmeraum (6) für das Mikrochipsubstrat (2) radial nach außen durch den Rahmen
(5) begrenzt ist.
34. Halterung nach einem der Ansprüche 29 bis 33, dadurch gekennzeichnet, dass die Höhe des Aufnahmeraumes (6) für das Mikrochipsubstrat (2) durch den Abstand zwischen der dem aufzunehmenden Mikrochipsubstrat (2) zugekehrten Fläche der Bodenplatte (3) bzw. der dem Mikrochipsubstrat
(2) zugekehrten Fläche einer Dichtung (33), die gegebenenfalls auf der Bodenplatte (3) aufliegt, und der von der Bodenplatte (3) abgekehrten Seite des Rahmens (5) bestimmt ist.
35. Halterung nach einem der Ansprüche 29 bis 34, dadurch gekennzeichnet, dass in der Bodenplatte (3) wenigstens eine Öffnung für das Zentrieren der Halterung (1) vorgesehen ist.
36. Halterung nach einem der Ansprüche 29 bis 35, dadurch gekennzeichnet, dass in der Bodenplatte (3) wenigstens drei Öffnungen für den Durchtritt von Stiften zum Abheben des Mikrochipsubstrates von der Halterung, wenigstens zwei Öffnungen zum Zentrieren der Halterung an einem Adapter, wenigstens eine Öffnung zum Prüfen der Dichtheit der aufgebrachten Polymerfolie (7), wenigstens eine Öffnung für das Anlegen von Unterdrück und für das Belüften vorgesehen ist, wobei wenigstens eine ausgewählte Öffnung für mindestens eine, vorzugsweise zwei oder drei der vorgenannten Funktionen vorgesehen ist.
37. Halterung nach einem der Ansprüche 29 bis 36, dadurch gekennzeichnet, dass der Rahmen (5) aus elektrisch leitfähigem Werkstoff, insbesondere Titan oder Niob, besteht und, abgesehen von zwei elektrisch leitenden Bereichen der Oberfläche, elektrisch isolierend beschichtet ist.
38. Halterung nach einem der Ansprüche 29 bis 36, dadurch gekennzeichnet, dass der Rahmen (5) aus elektrisch isolierendem Werkstoff, insbesondere Keramik oder Glas, besteht, und dass der Rahmen bereichsweise elektrisch leitend beschichtet, insbesondere platiniert, ist.
39. Halterung nach einem der Ansprüche 31 bis 38, dadurch gekennzeichnet, dass die Öffnung (4) in der Bodenplatte (3) im Bereich der elektrisch leitenden Beschichtung des Rahmens (5) vorgesehen ist.
40. Halterung nach einem der Ansprüche 29 bis 39, dadurch gekennzeichnet, dass der Rahmen (5) und die Bodenplatte (3) einstückig ausgebildet sind.
41. Adapter (15) zum Verbinden einer Halterung nach einem der Ansprüche 29 bis 40, mit einer elektrolytischen Metallisieranlage, gekennzeichnet durch einen Grundkörper
(16) mit zwei Anschlussstiften (17), durch eine an die Halterung (1) anzulegende Dichtung (20) und durch an die Halterung (1) anzulegende Dichtflächen (28) und durch mit Unterdrück beaufschlagbare Vertiefungen (18) in der der aufzunehmenden Halterung (1) zugekehrten Fläche des Grundkörpers (16).
42. Adapter nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass die Anschlussstifte (17) zum Festlegen des Adapters (15) an einer Metallisieranlage ausgebildet sind.
43. Adapter nach Anspruch 41 oder 42, dadurch gekennzeichnet, dass durch die Anschlussstifte (17) ein elektrischer Kontakt zu einem in dem Adapter (15) vorgesehenen, insbesondere ringförmigem, Kontaktblech (21) ausgebildet ist.
44. Adapter nach einem der Ansprüche 41 bis 43, dadurch gekennzeichnet, dass die Anschlussstifte (17) hohl ausgebildet sind und an eine Vakuumquelle anschließbar sind.
45. Adapter nach einem der Ansprüche 41 bis 44, dadurch gekennzeichnet, dass der Grundkörper (16) des Adapters (15) aus elektrisch leitendem Werkstoff besteht.
46. Adapter nach einem der Ansprüche 41 bis 44, dadurch gekennzeichnet, dass der Grundkörper (16) des Adapters (15) aus elektrisch isolierendem Werkstoff besteht, und dass an dem Adapter (15) zum elektrischen Kontaktieren der Halterung (1) ein elektrisch leitender Ring vorgesehen ist.
47. Adapter nach einem der Ansprüche 41 bis 46, dadurch gekennzeichnet, dass die Dichtung (20) an dem Außenumfang des Grundkörpers (16) des Adapters (15) vorgesehen ist.
48. Adapter nach einem der Ansprüche 43 bis 47, dadurch gekennzeichnet, dass an dem Kontaktblech (21) Zungen (24) vorgesehen sind.
49. Adapter nach einem der Ansprüche 41 bis 48, dadurch gekennzeichnet, dass an der der Halterung (1) zuzukehrenden Fläche des Grundkörpers (16) des Adapters (15) wenigstens ein Vorsprung (26) zum Zentrieren der Halterung (1), insbesondere zwei Vorsprünge (26), vorgesehen ist/sind.
50. Adapter nach Anspruch 48 oder 49, dadurch gekennzeichnet, dass die Zungen (24) des Kontaktbleches (21) an einem Ring (25) aus elastischem Werkstoff aufliegen.
51. Adapter nach einem der Ansprüche 43 bis 50, dadurch gekennzeichnet, dass das Kontaktblech (21) mit dem Grundkörper (16) des Adapters (15) in elektrisch leitender Verbindung steht.
PCT/EP2022/053812 2021-03-02 2022-02-16 Verfahren, halterung und adapter zum behandeln von mikrochipsubstraten WO2022184440A1 (de)

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US20170073832A1 (en) 2015-09-11 2017-03-16 Lam Research Corporation Durable low cure temperature hydrophobic coating in electroplating cup assembly
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