WO2022128484A1 - Dispositif optoélectronique à diodes électroluminescentes tridimensionnelles de type axial - Google Patents

Dispositif optoélectronique à diodes électroluminescentes tridimensionnelles de type axial Download PDF

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WO2022128484A1
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emitting diodes
wavelength
wavelengths
leds
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Olga Kryliouk
Mehdi DAANOUNE
Jérôme NAPIERALA
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Aledia
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Definitions

  • TITLE Optoelectronic device with three-dimensional light-emitting diodes of the axial type
  • the present application relates to an optoelectronic device, in particular a display screen or an image projection device, comprising light-emitting diodes based on semiconductor materials, and their manufacturing methods.
  • a light-emitting diode based on semiconductor materials generally comprises an active zone which is the region of the light-emitting diode from which the majority of the electromagnetic radiation supplied by the light-emitting diode is emitted.
  • the structure and composition of the active area are configured to obtain electromagnetic radiation having the desired properties. In particular, it is generally desired to obtain electromagnetic radiation with a narrow spectrum, ideally substantially monochromatic.
  • Examples of three-dimensional semiconductor elements are microwires or nanowires comprising a semiconductor material mainly comprising at least one element from group III and one element from group V (for example gallium nitride GaN), subsequently called III-V compound, or comprising mainly at least one element from group II and one element from group VI (eg zinc oxide ZnO), hereinafter called compound II-VI.
  • a semiconductor material mainly comprising at least one element from group III and one element from group V (for example gallium nitride GaN), subsequently called III-V compound, or comprising mainly at least one element from group II and one element from group VI (eg zinc oxide ZnO), hereinafter called compound II-VI.
  • Such devices are, for example, described in French patent applications FR 2 995 729 and FR 2 997 558.
  • a single quantum well is produced by interposing, between two layers of a first semiconductor material, for example a III-V compound, in particular GaN, respectively doped with P and N type, a layer of a second semiconductor material, for example an alloy of the III-V compound and of a third element, in particular InGaN, whose forbidden band is different from the first semiconductor material.
  • a multiple quantum well structure comprises a stack of semiconductor layers forming an alternation of quantum wells and barrier layers.
  • the wavelength of the electromagnetic radiation emitted by the active zone of the optoelectronic device depends in particular on the forbidden band of the second material forming the quantum well.
  • the wavelength of the radiation emitted depends in particular on the atomic percentage of the third element, for example indium. In particular, the higher the atomic percentage of indium, the higher the wavelength.
  • a disadvantage is that when the atomic percentage of indium exceeds a threshold, it is observed differences in lattice parameters between the GaN and InGaN layers of the quantum well which can lead to the formation of non-radiative defects in the active area, such as dislocations, which leads to a significant decrease in the quantum efficiency of the active area of the device optoelectronics.
  • the production of light-emitting diodes in III-V or II-VI compounds emitting in the red can be difficult.
  • an object of an embodiment is to overcome at least in part the drawbacks of the optoelectronic devices with light-emitting diodes described above.
  • each light-emitting diode comprises a stack of layers of semiconductor materials based on III-V or II-VI compounds.
  • the optoelectronic device comprises light-emitting diodes configured to emit light radiation in the red without the use of photoluminescent materials.
  • Another object of an embodiment is that the three-dimensional light-emitting diodes of the axial type based on III-V or II-VI compounds, the active zone of which has an emission spectrum having the desired properties, in particular comprising a narrow band around the target transmit frequency.
  • Another object of an embodiment is that the emission frequency of light-emitting diodes can be modified after the formation of the active zones of the diodes. electroluminescent without the use of photoluminescent materials.
  • One embodiment provides an optoelectronic device comprising a matrix of axial light-emitting diodes, the light-emitting diodes each comprising an active zone configured to emit electromagnetic radiation, the emission spectrum of which comprises a maximum at a first wavelength, the matrix forming a photonic crystal configured to be able to form three resonance peaks amplifying the intensity of said electromagnetic radiation at at least second, third and fourth wavelengths.
  • each active zone is configured to emit electromagnetic radiation, the emission spectrum of which has a width at mid-height comprised between 100 nm and 180 nm.
  • the photonic crystal is a two-dimensional photonic crystal.
  • the light-emitting diodes are arranged in a network with a pitch of between 400 nm and 475 nm and each light-emitting diode is cylindrical with an average diameter of between 270 nm and 300 nm.
  • the light-emitting diodes are based on a III-V or II-VI compound.
  • the light-emitting diodes are separated by an electrically insulating material having a refractive index between 1.3 and 1.6, preferably between 1.45 and 1.56.
  • one of the second, third, and fourth wavelengths is in the range of 430 nm to 480 nm, another of the second, third, and fourth wavelengths being in the range of 510 nm to 570 nm, and yet another of the second, third, and fourth wavelengths being in the range of 600 nm to 720 nm.
  • the emission spectrum of the active zone has energy at the second wavelength.
  • the device further comprises a first optical filter covering at least a first part of said matrix of light-emitting diodes, the first optical filter being configured to block said amplified radiation over a first range of lengths of wave comprising the first, third, and fourth wavelengths and for passing said amplified radiation over a second range of wavelengths comprising the second wavelength.
  • the emission spectrum of the active zone has energy at the third wavelength.
  • the device further comprises a second optical filter covering at least a second part of said matrix of light-emitting diodes, the second optical filter being configured to block said amplified radiation over a third range of wavelengths. wave comprising the first, second and fourth wavelengths and for passing said amplified radiation over a fourth range of wavelengths comprising the third wavelength.
  • the emission spectrum of the active zone has energy at the fourth wavelength.
  • the device further comprises a third optical filter covering at least a third part of said matrix of light-emitting diodes, the third optical filter being configured to block said amplified radiation over a fifth range of wavelengths. wave comprising the first, second, and third wavelengths and for passing said amplified radiation over a sixth range of wavelengths comprising the fourth wavelength.
  • the device comprises a support on which the light-emitting diodes rest, each light-emitting diode comprising a stack of a first semiconductor portion resting on the support, of the active zone in contact with the first semiconductor portion and a second semiconductor portion in contact with the active area.
  • the second semiconductor portions of the light-emitting diodes are covered with an electrically conductive layer which is at least partly transparent to the radiation emitted by the light-emitting diodes.
  • At least one of the resonance peaks is attenuated relative to the other resonance peaks.
  • the side walls of the first and second semiconductor portions of at least part of the light-emitting diodes are covered with a sheath.
  • a first part of the electrically conductive layer covering a first group of said light-emitting diodes has a first thickness and a second part of the electrically conductive layer covering a second group of said light-emitting diodes has a second thickness, strictly less than the first thickness.
  • the light-emitting diodes of a first group of said light-emitting diodes are separated by a first electrically insulating material having a first refractive index and the light-emitting diodes of a second group of said light-emitting diodes are separated by a second electrically insulating material having a second refractive index different from the first refractive index
  • One embodiment also provides a method for manufacturing an optoelectronic device comprising a matrix of axial light-emitting diodes, the light-emitting diodes each comprising an active zone configured to emit electromagnetic radiation, the emission spectrum of which comprises a maximum at a first wavelength, the matrix forming a photonic crystal configured to be able to form three resonance peaks amplifying the intensity of said electromagnetic radiation at at least second, third and fourth wavelengths.
  • the formation of the light-emitting diodes of the matrix comprises the following steps:
  • the light-emitting diodes are distributed at least into first and second groups of light-emitting diodes.
  • the method includes forming a first optical filter on the first group and a second optical filter on the second group, the second optical filter being different from the first optical filter.
  • the method comprises the attenuation of at least one of the resonance peaks with respect to the other resonance peaks after the formation of the light-emitting diodes.
  • Figure 1 is a sectional view, partial and schematic, of an embodiment of an optoelectronic device comprising light-emitting diodes;
  • Figure 2 is a perspective view, partial and schematic, of the optoelectronic device shown in Figure 1;
  • FIG. 3 schematically represents an example of arrangement of the light-emitting diodes of the optoelectronic device represented in FIG. 1;
  • FIG. 4 schematically represents another example of arrangement of the light-emitting diodes of the optoelectronic device represented in FIG. 1;
  • FIG. 5 schematically represents curves of evolution of light intensities of the radiation emitted by the optoelectronic device of FIG. 1 illustrating a configuration with three resonances;
  • FIG. 6 illustrates a method for selecting a resonance of the radiation emitted in a configuration with three resonances
  • FIG. 7 illustrates a method for selecting another resonance of the radiation emitted in a configuration with three resonances
  • FIG. 8 illustrates a method of selecting two resonances of the radiation emitted in a configuration with three resonances
  • FIG. 9 illustrates a method for selecting a resonance of the radiation emitted in a configuration with three resonances
  • FIG. 10 schematically represents curves of evolution of light intensities of the radiation emitted by an optoelectronic device illustrating a configuration with one resonance obtained from an initial configuration with three resonances;
  • Figure 11 is a sectional view, partial and schematic, of an embodiment of an optoelectronic device having the emission spectrum of Figure 10;
  • FIG. 12 is a partial and schematic sectional view of an embodiment of an optoelectronic device having the emission spectrum of FIG. 10;
  • Figure 13 is a sectional view, partial and schematic, of an embodiment of a device optoelectronics having the emission spectrum of Figure 10;
  • FIG. 14A illustrates a step of an embodiment of a method of manufacturing the optoelectronic device shown in FIG. 1;
  • FIG. 14B illustrates another step in the manufacturing process
  • FIG. 14C illustrates another step in the manufacturing process
  • FIG. 14D illustrates another step in the manufacturing process
  • FIG. 14E illustrates another step in the manufacturing process
  • FIG. 14F illustrates another step in the manufacturing process
  • FIG. 14G illustrates another step in the manufacturing process
  • FIG. 15 illustrates a step of another embodiment of a method of manufacturing the optoelectronic device represented in FIG. 1;
  • FIG. 16 is a grayscale map of the light intensity emitted at a first wavelength by a light-emitting diode of a photonic crystal of the optoelectronic device as a function of the pitch of the photonic crystal and the diameter of the light emitting diode ;
  • FIG. 17 is a map in grayscale of the light intensity emitted at a second wavelength by a light-emitting diode of a photonic crystal of the optoelectronic device as a function of the pitch of the photonic crystal and the diameter of the light emitting diode ;
  • FIG. 18 is a map in grayscale of the light intensity emitted at a third wavelength by a light-emitting diode of a photonic crystal of the optoelectronic device as a function of the pitch of the photonic crystal and the diameter of the light emitting diode ; and
  • FIG. 19 represents a curve of evolution of the light intensity of the light-emitting diodes as a function of the wavelength measured during a test.
  • the expressions "about”, “approximately”, “substantially”, and “in the order of” means to within 10%, preferably within 5%.
  • the terms “insulating” and “conductive” are herein considered to mean “electrically insulating” and “electrically conducting”, respectively.
  • the internal transmittance of a layer corresponds to the ratio between the intensity of the radiation leaving the layer and the intensity of the radiation entering the layer.
  • the absorption of the layer is equal to the difference between 1 and the internal transmittance.
  • a layer is said to be transparent to radiation when the absorption of radiation through the layer is less than 60%.
  • a layer is said to be radiation-absorbent when the absorption of radiation in the layer is greater than 60%.
  • a radiation presents a spectrum of general "bell" shape, for example of Gaussian shape, having a maximum, one calls wavelength of the radiation, or central or main wavelength of the radiation, the wavelength at which the maximum of the spectrum is reached.
  • the refractive index of a material corresponds to the refractive index of the material for the range of wavelengths of the radiation emitted by the optoelectronic device.
  • the refractive index is considered to be substantially constant over the range of wavelengths of the useful radiation, for example equal to the average of the index of refraction over the range of wavelengths of the radiation emitted by the optoelectronic device
  • diode axial electroluminescent denotes a three-dimensional structure of elongated shape, for example cylindrical, in a preferred direction, of which at least two dimensions, called minor dimensions, are between 5 nm and 2.5 ⁇ m, preferably between 50 nm and 2, 5 p.m.
  • the third dimension, called major dimension is greater than or equal to 1 time, preferably greater than or equal to 5 times and even more preferably greater than or equal to 10 times, the largest of the minor dimensions.
  • the minor dimensions can be less than or equal to approximately 1 ⁇ m, preferably between 100 nm and 1 ⁇ m, more preferably between 100 nm and 800 nm.
  • the height of each light-emitting diode can be greater than or equal to 500 nm, preferably between 1 ⁇ m and 50 ⁇ m.
  • the average diameter of a wire is called the diameter of the wire with a circular base, the surface of which is the same as the surface of the base of the wire in question.
  • Figures 1 and 2 are respectively a side sectional view and a perspective view, partial and schematic, of an embodiment of an optoelectronic device 10 with light-emitting diodes.
  • the optoelectronic device 10 comprises, from bottom to top in FIG. 1:
  • each axial light-emitting diode comprising, from bottom to top in FIG. 1, a lower semiconductor portion 18, not shown in FIG. 2, in contact with electrode layer 14 , an active area 20, not shown in Figure 2, in contact with the semiconductor portion 18, and an upper semiconductor portion 22, not shown in Figure 2, in contact with the active area 20;
  • Each light-emitting diode LED is said to be axial insofar as the active area 20 is in the extension of the lower portion 18 and the upper portion 22 is in the extension of the active area 20, the assembly comprising the lower portion 18 , the active zone 20, and the upper portion 22 extending along an axis A, called the axis of the axial light-emitting diode.
  • the axes A of the light-emitting diodes LED are parallel and orthogonal to the face 16.
  • the support 12 can correspond to an electronic circuit.
  • the electrode layer 14 can be metallic, for example silver, copper or zinc.
  • the thickness of electrode layer 14 is sufficient for electrode layer 14 to form a mirror.
  • the electrode layer 14 has a thickness greater than 100 nm.
  • Electrode layer 14 may completely cover support 12. Alternatively, electrode layer 14 may be divided into separate portions so as to permit separate control. of light-emitting diode groups of the light-emitting diode matrix.
  • face 16 may be reflective.
  • the electrode layer 14 can then present a specular reflection.
  • the electrode layer 14 can present a Lambertian reflection. To obtain a surface having a Lambertian reflection, one possibility is to create irregularities on a conductive surface.
  • a texturing of the surface of the base can be carried out before the deposition of the metallic layer so that the face 16 of the layer metal, once deposited, has reliefs.
  • the second electrode layer 26 is conductive and transparent.
  • the electrode layer 26 is a layer of transparent and conductive oxide (TCO), such as indium tin oxide (or ITO, acronym for Indium Tin Oxide), zinc oxide doped or not with aluminum or gallium, or graphene.
  • TCO transparent and conductive oxide
  • ITO Indium Tin Oxide
  • the electrode layer 26 has a thickness comprised between 5 nm and 200 nm, preferably between 20 nm and 50 nm.
  • the insulating layer 24 can be made of an inorganic material, for example silicon oxide or silicon nitride.
  • the insulating layer 24 can be made of an organic material, for example an insulating polymer based on benzocyclobutene (BCB).
  • Coating 28 may comprise an optical filter, or optical filters arranged next to each other, as will be described in more detail below.
  • the refractive index of the material of the insulating layer 24 is between 1.3 and 1.6, preferably between 1.45 and 1.56.
  • all LED light-emitting diodes have the same height.
  • the thickness of the insulating layer 24 is for example chosen equal to the height of the light-emitting diodes LED in such a way that the upper face of the insulating layer 24 is coplanar with the upper faces of the light-emitting diodes.
  • the semiconductor portions 18 and 22 and the active areas 20 are, at least in part, made of a semiconductor material.
  • the semiconductor material is chosen from the group comprising III-V compounds, II-VI compounds, and group IV semiconductors or compounds.
  • group III elements include gallium (Ga), indium (In), or aluminum (Al).
  • group IV elements include nitrogen (N), phosphorus (P), or arsenic (As).
  • III-N compounds are GaN, AlN, InN, InGaN, AlGaN or AlInGaN.
  • group II elements include group IIA elements including beryllium (Be) and magnesium (Mg) and group IIB elements including zinc (Zn), cadmium (Cd) and mercury ( Hg).
  • group VI elements include group VIA elements, including oxygen (O) and tellurium (Te).
  • compounds II-VI are ZnO, ZnMgO, CdZnO, CdZnMgO, CdHgTe, CdTe or HgTe.
  • the elements in the compound III-V or II-VI can be combined with different mole fractions.
  • Group IV semiconductor materials are silicon (Si), carbon (G), germanium (Ge), silicon carbide alloys (SiC), silicon-germanium alloys (SiGe) or carbide alloys of germanium (GeC)
  • Semiconductor portions 18 and 22 may comprise a dopant.
  • the dopant can be chosen from the group comprising a group II P-type dopant, for example, magnesium (Mg), zinc (Zn), cadmium (Cd ) or mercury (Hg), a Group IV P-type dopant, e.g. carbon (G) or an N-type dopant of group IV, for example silicon (Si), germanium (Ge), selenium (Se), sulfur (S), terbium (Tb) or tin (Sn).
  • the semiconductor portion 18 is made of P-doped GaN and the semiconductor portion 22 is made of N-doped GaN.
  • the active area 20 may include containment means.
  • the active zone 20 can comprise a single quantum well. It then comprises a semiconductor material different from the semiconductor material forming the semiconductor portions 18 and 22 and having a band gap lower than that of the material forming the semiconductor portions 18 and 22.
  • the active zone 20 can comprise multiple quantum wells. It then comprises a stack of semiconductor layers forming an alternation of quantum wells and barrier layers.
  • each light-emitting diode LED has the shape of a cylinder with a circular base with an axis A.
  • each light-emitting diode LED can have the shape of a cylinder with an axis A with a polygonal base. , for example square, rectangular or hexagonal.
  • each light-emitting diode LED has the shape of a cylinder with a hexagonal base.
  • the height H of the light-emitting diode LED is called the sum of the height h1 of the lower portion 18, of the height h2 of the active zone 20, of the height h3 of the upper portion 22, of the thickness of the electrode layer 26, and coating thickness 28.
  • the light-emitting diodes LED are arranged to form a photonic crystal. Twelve light-emitting diodes LED are represented by way of example in figure 2. In practice, the matrix 15 can comprise between 7 and 100,000 light-emitting diodes LED.
  • the light-emitting diodes LED of the matrix 15 are arranged in rows and columns (3 rows and 4 columns being represented by way of example in FIG. 2).
  • the step 'a' of the matrix 15 is the distance between the axis of a light-emitting diode LED and the axis of a close light-emitting diode LED, of the same line or of an adjacent line.
  • the pitch a is substantially constant. More specifically, the pitch a of the matrix is chosen such that the matrix 15 forms a photonic crystal.
  • the photonic crystal formed is for example a 2D photonic crystal.
  • the properties of the photonic crystal formed by the matrix 15 are advantageously chosen so that the matrix 15 of the light-emitting diodes forms a resonant cavity in the plane perpendicular to the axis A and a resonant cavity along the axis A in particular to obtain a coupling and increase the selection effect.
  • This allows the intensity of the radiation emitted by the set of light-emitting diodes LED of the matrix 15 by the emission face 30 to be amplified for certain wavelengths compared to a set of light-emitting diodes LED which would not form a photonic crystal.
  • FIGS. 3 and 4 schematically represent examples of arrangements of the light-emitting diodes LED of the matrix 15.
  • FIG. 3 illustrates a so-called square mesh arrangement
  • FIG. 4 illustrates a so-called hexagonal mesh arrangement.
  • FIGS. 3 and 4 each represent three rows of four light-emitting diodes LED.
  • a light-emitting diode LED is located at each intersection of a row and a column, the rows being perpendicular to the columns.
  • the diodes on a line are offset by half the pitch a with respect to the light-emitting diodes on the preceding line and the following line.
  • each light emitting diode LED has a circular cross section of diameter D in a plane parallel to the face 16.
  • the diameter D can be between 0.05 ⁇ m and 2 ⁇ m.
  • the pitch a can be between 0.1 ⁇ m and 4 ⁇ m.
  • the height H of the light-emitting diode LED is chosen so that each light-emitting diode LED forms a resonant cavity along the axis A at the desired central wavelength ⁇ of the radiation emitted by the optoelectronic device 10.
  • the height H is chosen substantially proportional to k* ( ⁇ /2) *neff , neff being the effective refractive index of the light-emitting diode in the optical mode considered and k being a positive integer.
  • the effective refractive index is for example defined in the work “Semiconductor Optoelectronic Devices: Introduction to Physics and Simulation” by Joachim Piprek.
  • the height H can nevertheless be the same for all the light-emitting diodes. It can then be determined from the theoretical heights which would make it possible to obtain resonant cavities for the light-emitting diodes of each group, and is for example equal to the average of these theoretical heights.
  • the properties of the photonic crystal, formed by the matrix 15 of light-emitting diodes LED are selected to increase the light intensity emitted by the matrix 15 of light-emitting diodes LED at at least three wavelengths. targets.
  • the active zone 20 of each light-emitting diode LED has a relatively spread emission spectrum, in particular having a maximum at a first wavelength and a width at mid-height greater than 100 nm, preferably greater than 180 nm, so as to cover the three target wavelengths, that is to say that the energy of the emission spectrum of the active zone 20 at the target wavelengths is not zero.
  • the maximum of the spectrum of the radiation emitted by the active zone 20 is at a wavelength different from at least two of the target wavelengths.
  • FIG. 5 schematically represents, as a function of the wavelength ⁇ , an evolution curve C1 (solid line) of the light intensity I emitted by the active zones 20 of the light-emitting diodes LED considered separately, an evolution curve C2 (in dashed lines in FIG. 5 and in solid lines in FIGS. 6 to 10) of the amplification factor due to the coupling with the photonic crystal and an evolution curve C3 (in dotted lines) the light intensity emitted by the matrix 15 of light-emitting diodes.
  • Curve C1 has a general "bell" shape and has a peak at a central wavelength ⁇ c .
  • Curve C2 comprises three narrow resonance peaks, a first resonance peak P 1 centered on the target wavelength ⁇ T1 , a second resonance peak P 2 centered on the target wavelength ⁇ T2 , and a third peak resonance P3 centered on the target wavelength ⁇ T3 .
  • the curve C3 comprises an intensity peak P' 1 at the target wavelength ⁇ T1 , an intensity peak P' 2 at the target wavelength ⁇ T2 , an intensity peak P'3 at the target wavelength ⁇ T3 , and substantially follows curve C1 for the other wavelengths.
  • the bandwidth of curve C1 at mid-height for vertex S is greater than the bandwidth of curve C3 at mid-height for each peak P'i, P'2 and P'3, by example of a factor of 2, in particular a factor of 10.
  • the target wavelength ⁇ T1 corresponds to blue light, that is to say radiation whose wavelength is in the range from 430 nm to 480 nm.
  • the target wavelength ⁇ T2 corresponds to green light, that is to say radiation whose wavelength is in the range from 510 nm to 570 nm.
  • the target wavelength ⁇ T3 corresponds to red light, that is to say radiation whose wavelength is in the range from 600 nm to 720 nm.
  • an optoelectronic device 10 emitting narrow-spectrum light radiation at one of the target wavelengths ⁇ T1 , ⁇ T2 , or ⁇ T3 can be obtained by filtering the radiation emitted by the matrix 15 of light-emitting diodes LED to keep only the intensity peak at the desired target wavelength. This can be achieved by providing an optical filter in the coating 28.
  • Figures 6 and 7 illustrate the principle of filtering the radiation emitted by the matrix 15 of light-emitting diodes.
  • An optoelectronic device emitting narrow-spectrum light radiation centered on a target wavelength can be obtained by blocking the part undesired emission spectrum of the matrix 15 of light-emitting diodes.
  • the blocked part of the spectrum of the radiation emitted by the matrix 15 of light-emitting diodes is hatched and only one of the resonance peaks is retained, the resonance peak P 1 at the target wavelength ⁇ T1 in figure 6 and the resonance peak P 3 at the target wavelength ⁇ T3 in figure 7.
  • the height h1 of the lower portion 18 and the height h2 of the upper portion 22 can advantageously be determined so that the light intensity of the peak at the target wavelength is maximum.
  • the filtering of the radiation emitted by the matrix of light-emitting diodes can be achieved by any means.
  • the filtering is obtained by covering the light-emitting diodes with a layer of a colored material.
  • the filtering is obtained by covering the light-emitting diodes with an interference filter.
  • the light-emitting diodes of the matrix of light-emitting diodes can be divided into first and second groups of light-emitting diodes.
  • a first filtering is implemented for the light-emitting diodes of the first group to retain only a first resonance peak and a second filtering is implemented for the light-emitting diodes of the second group to retain only a second resonance peak.
  • An optoelectronic device configured for the emission of a first radiation at a first target wavelength and of a second radiation at a second target wavelength can thus be obtained while the active areas of the light-emitting diodes and the matrices light-emitting diodes of the first and second groups have the same structure.
  • the light-emitting diodes can be divided into first, second and third groups of light-emitting diodes.
  • a first filtering is implemented for the light-emitting diodes of the first group to retain only a first resonance peak.
  • a second filtering is implemented for the light-emitting diodes of the second group to retain only a second resonance peak.
  • a third filtering is implemented for the light-emitting diodes of the third group to retain only a third resonance peak.
  • An optoelectronic device configured to emit first radiation at a first target wavelength, second radiation at a second target wavelength, and third radiation at a third target wavelength can thus be obtained while the active areas of the light-emitting diodes and the matrices of the light-emitting diodes of the first, second and third groups have the same structure. This notably allows the production of display sub-pixels for a display pixel of a screen for displaying a color image.
  • the radiation after filtering of the first group of light-emitting diodes corresponds to blue light, that is to say radiation whose wavelength is in the range from 430 nm to 480 nm. n.
  • the radiation after filtering of the second group of light-emitting diodes corresponds to green light, that is to say radiation whose wavelength is in the range from 510 nm to 570 nm.
  • the radiation after filtering of the third group of light-emitting diodes corresponds to red light, i.e. radiation whose wavelength is in the range of 600 nm to 720 nm.
  • active zones 20 having the same structure and the same composition can be used to manufacture optoelectronic devices capable of emitting radiation with narrow spectra at different target wavelengths.
  • design of a new optoelectronic device can be made with the same structure, so that the initial steps of the manufacturing process at least until the manufacturing of the light-emitting diodes can be common for the manufacturing of different optoelectronic devices.
  • the active zone 20 may also be advantageous for the active zone 20 to emit radiation of maximum intensity at a central wavelength ⁇ c different from the target wavelengths ⁇ T1 , ⁇ T2 , or ⁇ T3 , or at least of two of them.
  • the central wavelength of the radiation emitted increases with the proportion of indium.
  • the central wavelength of the radiation emitted increases with the proportion of indium.
  • the central wavelength of the radiation emitted increases with the proportion of indium.
  • an emission wavelength corresponding to red it would be necessary to obtain a proportion of indium greater than 16%, which results in a drop in the quantum efficiency of the active zone.
  • the fact of using an active area 20 emitting radiation of maximum intensity at a central wavelength ⁇ c less than the target wavelength ⁇ T1 then makes it possible to use an active area 20 with improved quantum efficiency.
  • This also makes it possible to obtain radiation at the target wavelength ⁇ T1 using a active zone 20 emitting radiation of maximum intensity at the central wavelength ⁇ c , which is easier to manufacture without
  • an active area 20 emitting radiation whose spectrum is more spread than the desired spectrum for the radiation emitted by the optoelectronic device. This can make the design and manufacture of the active area 20 simpler.
  • the selection of the target wavelength of the radiation emitted by the optoelectronic device can be obtained by using an active zone whose emission spectrum, although spread, does not cover the three target wavelengths ⁇ T1 , ⁇ T2 , and ⁇ T3 . Only an intensity peak or intensity peaks are then obtained in the radiation emitted by the matrix 15 of light-emitting diodes for the target wavelengths ⁇ T1 , ⁇ T2 , or ⁇ T3 which are in the band of the radiation emitted by active areas 20.
  • FIG. 8 is a figure similar to FIG. 5, except that the evolution curve C1 of the spectrum emitted by the active zones 20 covers only two narrow resonance peaks of the curve C2 centered respectively on the lengths d target wave ⁇ T2 and ⁇ T3 .
  • the corresponding curve C3 (not shown) then includes the peak S at the central wavelength ⁇ c , an intensity peak at the target wavelength ⁇ T2 , and an intensity peak at the wavelength target ⁇ T3 .
  • FIG. 9 is a figure similar to FIG. 5, except that the evolution curve C1 of the spectrum emitted by the active zones 20 only covers a single narrow resonance peak of the curve C2 centered on the length of target wave ⁇ T3 .
  • the corresponding C3 curve (not shown) then comprises the peak S at the central wavelength ⁇ c , and an intensity peak at the target wavelength ⁇ T3 .
  • the epitaxial growth conditions of the active areas 20 can be chosen so that the spectrum emitted by the active areas 20 only alternately covers the wavelength ⁇ T1 , ⁇ T2 or ⁇ T3 without modifying the photonic crystal .
  • This can be achieved for example by modifying only the indium concentration in the active area 20 when the active areas 20 comprise InGaN quantum wells. This advantageously allows the industrial manufacture of devices emitting at three different target wavelengths with essentially identical basic manufacturing parameters except for the growth of the active areas 20.
  • the selection of the target wavelength of the radiation emitted by the optoelectronic device can be obtained by modifying the properties of the photonic crystal with respect to the reference structure previously described in relation to the figures 1 and 2 and which results in the presence of the three resonance peaks, so as to reduce the amplitude of one of the resonance peaks, preferably to cancel one of the resonance peaks, or even to reduce the amplitude by two resonance peaks, preferably to cancel two of the resonance peaks.
  • the spectrum of the radiation emitted by the matrix 15 of light-emitting diodes comprises a smaller number of intensity peaks compared with what is obtained with the reference structure.
  • the modification of the properties of the photonic crystal with respect to the reference structure is carried out after the formation of the matrix 15 of light-emitting diodes.
  • One possibility is to introduce an element, in particular a nanomaterial, around the wires to promote resonance.
  • Another possibility consists in modifying the material making up the insulating layer 24 and/or the coating 28.
  • Another possibility consists in modifying the total height H of the structure, for example by modifying the thickness of the electrode layer 26. This fact, all the light-emitting diodes can be made with the same structure, so that the initial steps of the manufacturing process at least until the manufacturing of the light-emitting diodes can be common for the manufacturing of different optoelectronic devices.
  • FIG. 10 is a figure similar to FIG. 8 except that the resonance peak P 2 of the evolution curve C2 of the amplification factor due to the photonic crystal at the target wavelength ⁇ T2 a substantially disappeared and the amplitude of the resonance peak P 3 of the evolution curve C2 at the target wavelength ⁇ T3 is reduced.
  • the radiation emitted by the matrix 15 of light-emitting diodes comprises only an intensity peak without the use of an optical filter being necessary.
  • Figures 11, 12, and 13 are sectional views, partial and schematic, of embodiments of optoelectronic devices for obtaining the curves C1 and C2 shown in Figure 10.
  • the coating 28, possibly present, n is not represented in FIGS. 11, 12, and 13.
  • the reference structure of the optoelectronic device 10 represented in FIG. 1 is kept in a first zone ZI to obtain radiation in the first zone ZI with three intensity peaks and the reference structure of the optoelectronic device 10 represented in FIG. 1 is modified in a second zone Z2 to obtain radiation in the second zone Z2 with fewer intensity peaks.
  • the height H of the diodes light-emitting LED is changed in the second zone Z2.
  • the diameter of the light-emitting diodes LED is modified in the second zone Z2.
  • the refractive indices of the materials making up the photonic sensor are modified in the second zone Z2.
  • FIG. 11 represents an optoelectronic device 32 comprising all the elements of the optoelectronic device 10 represented in FIG. 1, except that the electrode layer 26 does not have a constant thickness.
  • the thickness of the electrode layer 26 in the first zone ZI of the optoelectronic device 32 is thicker than the thickness of the electrode layer 26 in the second zone Z2 of the optoelectronic device 32.
  • the thickness of the electrode layer 26 in the first zone ZI is that determined for the reference structure which leads to the presence of three intensity peaks in the radiation supplied by the matrix 15 of light-emitting diodes LED in the first zone Zl.
  • the reduced thickness of the electrode layer 26 in the second zone Z2 leads to a modification of the properties of the photonic crystal, so that the curves C1 and C2 represented in FIG. 10 are obtained for the matrix 15 of light-emitting diodes LED in the second Z2 area.
  • FIG. 12 represents an optoelectronic device 34 comprising all the elements of the optoelectronic device 10 represented in FIG. 1, except that a sheath 35 surrounds the side walls of each light-emitting diode LED in the second zone Z2.
  • each sheath 35 is made of a material whose refractive index is close to the refractive index of the material making up the semiconductor portions 18 and 22. Everything then happens as if the diameter of the light-emitting diodes is increased in the second zone Z2 relative to the diameter of the light emitting diodes in the first zone Zl. The increased diameter in the second zone Z2 leads to a modification of the properties of the photonic crystal, so that the curves C1 and C2 represented in FIG. 10 are obtained for the matrix 15 of light-emitting diodes LED in the second zone Z2.
  • FIG. 13 represents an optoelectronic device 36 comprising all the elements of the optoelectronic device 10 represented in FIG. 1, except that the insulating layer 24 is, in the second zone Z2, made of a material with a different refractive index. with respect to the first zone Z1, which is illustrated by a limit 38 between the two zones Z1 and Z2.
  • the modification of the refractive index of the insulating layer 24 in the second zone Z2 leads to a modification of the properties of the photonic crystal, so that the curves C1 and C2 represented in FIG. 10 are obtained for the matrix 15 of light-emitting diodes LED in the second area Z2.
  • FIGS. 14A to 14G are sectional, partial and schematic views of the structures obtained at successive stages of an embodiment of a manufacturing method for the optoelectronic device 10 shown in FIG. 1.
  • FIG. 14A illustrates the structure obtained after the forming steps described below.
  • a seed layer 40 is formed on a substrate 42. Light-emitting diodes LED are then formed from the seed layer 40. More specifically, the light-emitting diodes LED are formed in such a way that the upper portions 22 are in contact with the seed layer 40.
  • the seed layer 40 is made of a material which promotes the growth of the upper portions 22. For each diode electroluminescent LED, the active area 20 is formed on the upper portion 22 and the lower portion 18 is formed on the active area 20.
  • the light-emitting diodes LED are located so as to form the matrix 15, that is to say to form rows and columns with the desired pitch of the matrix 15. Only one row is partially represented on Figures 14A to 14G.
  • a mask can be formed before the formation of the light-emitting diodes on the seed layer 40 so as to uncover only the parts of the seed layer 40 at the locations where the light-emitting diodes will be located.
  • the seed layer 40 can be etched, before the formation of the light-emitting diodes, so as to form pads located at the locations where the light-emitting diodes will be formed.
  • the process for growing light-emitting diodes LEDs can be a process of the type or a combination of processes of the chemical vapor phase deposition (CVD, English acronym for Chemical Vapor Deposition) or organometallic chemical vapor deposition (MOCVD, acronym for Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), also known as metal-organic vapor phase epitaxy (or MOVPE, acronym for Metal-Organic Vapor Phase Epitaxy).
  • MOVPE metal-organic vapor phase epitaxy
  • processes such as Molecular Beam Epitaxy (MBE), gas-source MBE (GSMBE), organometallic MBE (MOMBE), plasma-assisted MBE (PAMBE), Atomic Layer Epitaxy (ALE) or Hydride Vapor Phase Epitaxy (HVPE) can be used.
  • electrochemical processes can be used, for example, chemical bath deposition (CBD, acronym for Chemical Bath Deposition), hydrothermal processes, liquid aerosol pyrolysis or electrodeposition.
  • CBD chemical bath
  • the growth conditions of the light-emitting diodes LED are such that all the light-emitting diodes of the matrix 15 are formed sensibly at the same speed.
  • the heights of the semiconductor portions 22 and 18 and the height of the active zone 20 are substantially identical for all the light-emitting diodes of the matrix 15 .
  • the height of the semiconductor portion 22 is greater than the desired value h3. Indeed, it can be difficult to precisely control the height of the upper portion 22 in particular because of the start of growth of the upper portion 22 from the germination layer 40 . Additionally, forming the semiconductor material directly on seed layer 40 can cause crystal defects in the semiconductor material just above seed layer 40 . One may therefore want to remove part of the upper portion 22 to obtain a constant height before forming the active zone 20 .
  • FIG. 14B illustrates the structure obtained after the formation of the layer 24 of filling material, for example an electrically insulating material, for example silicon oxide.
  • Layer 24 is for example formed by depositing a layer of filling material on the structure represented in FIG. 14A, the layer having a thickness greater than the height of the light-emitting diodes LED. The layer of filling material is then partially removed so as to be planarized to uncover the upper faces of the semiconductor portions 18. The upper face of the layer 24 is then substantially coplanar with the upper face of each semiconductor portion 18.
  • the method may comprise an etching step during which the semiconductor portions 18 are partially etched.
  • the filling material is chosen in such a way that the photonic crystal formed by the matrix 15 has the desired properties, that is to say that it selectively improves in wavelength the intensity of the radiation emitted by the matrix of light-emitting diodes LED.
  • FIG. 14C illustrates the structure obtained after deposition of electrode layer 14 on the structure obtained in the previous step.
  • Figure 14D illustrates the structure obtained after the fixing to the support 12 of the layer 14, for example by metal-metal bonding, by thermocompression or by brazing with the use of a eutectic on the side of the support 12.
  • FIG. 14E illustrates the structure obtained after the removal of the substrate 42 and of the seed layer 40.
  • the layer 24 and the upper portions 22 are etched in such a way that the height of each upper portion 22 has the desired h3 value. This step makes it possible, advantageously, to control exactly the height h of the light-emitting diodes and to remove the parts of the upper portions 22 which may have crystalline defects.
  • FIG. 14F illustrates the structure obtained after deposition of electrode layer 26.
  • FIG. 14G illustrates the structure obtained after the formation of at least one optical filter on all or part of the structure represented in FIG. 14E.
  • first, second, and third optical filters F R , F G , F B placed respectively on first, second, and third groups of light-emitting diodes LED.
  • FIG. 15 illustrates a variant of the method of manufacturing the optoelectronic device represented in FIG. 1, in which a step of partial etching of the free end of each upper portion 22 of the light-emitting diodes LED is implemented before the formation of the electrode layer 26.
  • the partial etching step may include the formation of inclined flanks 44 at the free end of the upper portions 22. This makes it possible to slightly modify the properties of the photonic crystal. This therefore makes it possible to finely modify the position of the resonance peaks of the amplification due to the photonic crystal
  • the lower semiconductor portion 18 was made of p-type doped GaN.
  • the upper semiconductor portion 22 was made of n-type doped GaN.
  • upper 18 and 22 was about 2.4.
  • the active area 20 corresponded to a layer of InGaN.
  • the height h2 of the active zone 20 was equal to 40 nm.
  • Electrode layer 14 was aluminum.
  • the insulating layer 24 was made of BGB-based polymer. The refractive index of insulating layer 24 was between 1.45 and 1.56. For the simulations, a specular reflection on face 16 was considered.
  • FIGS 16, 17, and 18 are maps in gray levels of the luminous intensity of the radiation emitted in a direction inclined by 5 degrees with respect to a direction orthogonal to the emission face 30 respectively at a first , second, and third wavelength of the array 15 of light-emitting diodes LED as a function of the pitch 'a' of the photonic crystal and the diameter 'D' of each light-emitting diode.
  • the first wavelength was 450 nm (blue color)
  • the second wavelength was 530 nm (green color)
  • the third wavelength was 630 nm (red color)
  • Each of the gray level maps comprises lighter areas which correspond to resonance peaks. Such areas with resonance peaks are indicated, schematically, by contours B in solid lines in FIG. 16, by contours G in dotted lines in FIG. 17 and by contours R in dashed lines in FIG. 18.
  • the contours B of figure 16 have been superimposed on the contours G. This therefore means, by way of example, that by selecting the pitch 'a' of the photonic crystal and the diameter 'D' of the light-emitting diodes to be located in one of the regions delimited both by the contours B and G in FIG. 17, the emission spectrum of the matrix 15 of light-emitting diodes LED, obtained without filtering, exhibits at least one resonance peak to the wavelength of 450 nm and a resonance peak at the wavelength of 530 nm.
  • the contours B of figure 16 and the contours G of figure 17 have been superimposed on the contours R.
  • the emission spectrum of the matrix 15 of light-emitting diodes LED obtained without filtering, has at least one resonance peak at the wavelength of 450 nm, a resonance peak at the wavelength of 530 nm, and a resonance peak at the wavelength of 630 nm.
  • the three peaks are obtained with a height H equal to approximately 1 pm, a pitch 'a' of the photonic crystal equal to 400 nm, and the diameter of the circle circumscribed at the hexagonal base of the light-emitting diodes varying between 260 nm and 270 nm +/ - 25 nm, which corresponds to a corrected diameter varying between 280 nm and 290 nm.
  • the light-emitting diodes had a hexagonal base. Approximately, it was considered that the simulations carried out for light-emitting diodes with a circular base with a given radius are equivalent to simulations for which the light-emitting diodes would be with a hexagonal base, with a circle circumscribing the hexagonal cross-section having a radius equal to 1.1 times the given radius.
  • the semiconductor portions 18 and 22 and the active areas 20 of all the photodiodes were produced simultaneously by MOCVD.
  • FIG. 19 represents a curve of evolution CRGB of the light intensity I, in arbitrary units, of the matrix 15 of light-emitting diodes as a function of the wavelength for the test. Three resonance peaks are well obtained respectively at wavelengths of 450 nm, 590 nm, and 700 nm.
  • the coating 28 described previously can comprise additional layers other than an optical filter or optical filters.
  • the coating 28 can include an anti-reflection layer, a protective layer, etc.

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Abstract

La présente description concerne un dispositif optoélectronique (10) comprenant une matrice (15) de diodes électroluminescentes axiales (LED). Les diodes électroluminescentes comprennent chacune une zone active (20) configurée pour émettre un rayonnement électromagnétique dont le spectre d'émission comprend un maximum à une première longueur d'onde. La matrice forme un cristal photonique configuré pour pouvoir former trois pics de résonance amplifiant l'intensité dudit rayonnement électromagnétique à au moins des deuxième, troisième, et quatrième longueurs d'onde.

Description

DESCRIPTION
TITRE : Dispositif optoélectronique à diodes électroluminescentes tridimensionnelles de type axial
La présente demande de brevet revendique la priorité de la demande de brevet français FR20/13516 qui sera considérée comme faisant partie intégrante de la présente description.
Domaine technique
[0001] La présente demande concerne un dispositif optoélectronique, notamment un écran d'affichage ou un dispositif de projection d'images, comprenant des diodes électroluminescentes à base de matériaux semiconducteurs, et leurs procédés de fabrication.
Technique antérieure
[0002] Une diode électroluminescente à base de matériaux semiconducteurs comprend généralement une zone active qui est la région de la diode électroluminescente depuis laquelle est émise la majorité du rayonnement électromagnétique fourni par la diode électroluminescente. La structure et la composition de la zone active sont configurées pour obtenir un rayonnement électromagnétique ayant les propriétés souhaitées. En particulier, il est généralement recherché l'obtention d'un rayonnement électromagnétique à spectre étroit, idéalement sensiblement monochromatique.
[0003] On s'intéresse plus particulièrement ici à des dispositifs optoélectroniques à diodes électroluminescentes tridimensionnelles de type axial, c'est-à-dire des diodes électroluminescentes comprenant chacune un élément semiconducteur tridimensionnel s'étendant selon une direction privilégiée et comprenant la zone active à une extrémité axiale de l'élément semiconducteur tridimensionnel.
[0004] Des exemples d'éléments semiconducteurs tridimensionnels sont des microfils ou nanofils comprenant un matériau semiconducteur comportant majoritairement au moins un élément du groupe III et un élément du groupe V (par exemple du nitrure de gallium GaN) , appelé par la suite composé III- V, ou comportant majoritairement au moins un élément du groupe II et un élément du groupe VI (par exemple de l'oxyde de zinc ZnO) , appelé par la suite composé II-VI. De tels dispositifs sont, par exemple, décrits dans les demandes de brevet français FR 2 995 729 et FR 2 997 558.
[0005] Il est connu de réaliser une zone active comprenant des moyens de confinement, notamment un puits quantique unique ou des puits quantiques multiples. Un puits quantique unique est réalisé en interposant, entre deux couches d'un premier matériau semiconducteur, par exemple un composé III-V, notamment du GaN, respectivement dopé de type P et N, une couche d'un deuxième matériau semiconducteur, par exemple un alliage du composé III-V et d'un troisième élément, notamment le InGaN, dont la bande interdite est différente du premier matériau semiconducteur. Une structure de puits quantiques multiples comprend un empilement de couches semiconductrices formant une alternance de puits quantiques et de couches barrières .
[0006] La longueur d'onde du rayonnement électromagnétique émis par la zone active du dispositif optoélectronique dépend notamment de la bande interdite du deuxième matériau formant le puits quantique. Lorsque le deuxième matériau est un alliage du composé III-V et d'un troisième élément, par exemple le InGaN, la longueur d'onde du rayonnement émis dépend notamment du pourcentage atomique du troisième élément, par exemple l'indium. En particulier, plus le pourcentage atomique d'indium est élevé, plus la longueur d'onde est élevée .
[0007] Un inconvénient est que lorsque le pourcentage atomique d'indium dépasse un seuil, il est observé des différences de paramètres de mailles entre les couches de GaN et de InGaN du puits quantique qui peuvent entraîner la formation de défauts non radiatifs dans la zone active, tels que des dislocations, ce qui entraîne une diminution importante du rendement quantique de la zone active du dispositif optoélectronique. Il existe donc une longueur d'onde maximale du rayonnement émis par un dispositif optoélectronique dont la zone active comprend un puits quantique unique ou des puits quantiques multiples à base de composés III-V ou II-VI. En particulier, la réalisation de diodes électroluminescentes en composés III-V ou II-VI émettant dans le rouge peut être difficile.
[0008] Toutefois, l'utilisation de matériaux à base de composés III-V ou II-VI est souhaitable dans la mesure où il existe des procédés de croissance par épitaxie de tels matériaux sur des substrats de grandes dimensions et à coût réduit .
[0009] Il est connu de recouvrir une diode électroluminescente d'un matériau photoluminescent adapté à convertir le rayonnement électromagnétique émis par la zone active en un rayonnement électromagnétique à une longueur d'onde différente, notamment plus élevée. Toutefois, de tels matériaux photoluminescents peuvent présenter un coût élevé, avoir un rendement de conversion faible, et présenter des performances qui se dégradent dans le temps.
[0010] En outre, il peut être difficile de réaliser une diode électroluminescente tridimensionnelle de type axial à base de composés III-V ou II-VI dont la zone active a un spectre d'émission ayant les propriétés souhaitées, en particulier comprenant une bande étroite autour de la fréquence d'émission cible .
[0011] De plus, la mise au point industrielle du procédé de fabrication d'une zone active d'une diode électroluminescente tridimensionnelle de type axial à base de composés III-V ou II-VI est une opération délicate. Il serait donc souhaitable de former simultanément l'ensemble des zones actives des diodes électroluminescentes d'un dispositif optoélectronique avec la même structure et la même composition et de pouvoir modifier ultérieurement le spectre d'émission de groupes de diodes électroluminescentes sans utilisation de matériaux photoluminescents .
Résumé de l'invention
[0012] Ainsi, un objet d'un mode de réalisation est de pallier au moins en partie les inconvénients des dispositifs optoélectroniques à diodes électroluminescentes décrits précédemment .
[0013] Un autre objet d'un mode de réalisation est que la zone active de chaque diode électroluminescente comprend un empilement de couches de matériaux semiconducteurs à base de composés III-V ou II-VI.
[0014] Un autre objet d'un mode de réalisation est que le dispositif optoélectronique comprend des diodes électroluminescentes configurées pour émettre un rayonnement lumineux dans le rouge sans utilisation de matériaux photoluminescents .
[0015] Un autre objet d'un mode de réalisation est que les diodes électroluminescentes tridimensionnelles de type axial à base de composés III-V ou II-VI dont la zone active a un spectre d'émission ayant les propriétés souhaitées, en particulier comprenant une bande étroite autour de la fréquence d'émission cible.
[0016] Un autre objet d'un mode de réalisation est que la fréquence d'émission de diodes électroluminescentes puisse être modifiée après la formation des zones actives des diodes électroluminescentes sans utilisation de matériaux photoluminescents .
[0017] Un mode de réalisation prévoit un dispositif optoélectronique comprenant une matrice de diodes électroluminescentes axiales, les diodes électroluminescentes comprenant chacune une zone active configurée pour émettre un rayonnement électromagnétique dont le spectre d'émission comprend un maximum à une première longueur d'onde, la matrice formant un cristal photonique configuré pour pouvoir former trois pics de résonance amplifiant l'intensité dudit rayonnement électromagnétique à au moins des deuxième, troisième, et quatrième longueurs d'onde.
[0018] Selon un mode de réalisation, chaque zone active est configurée pour émettre le rayonnement électromagnétique dont le spectre d'émission a une largeur à mi-hauteur comprise entre 100 nm et 180 nm.
[0019] Selon un mode de réalisation, le cristal photonique est un cristal photonique à deux dimensions.
[0020] Selon un mode de réalisation, les diodes électroluminescentes sont agencées en réseau avec un pas compris entre 400 nm et 475 nm et chaque diode électroluminescente est cylindrique de diamètre moyen compris entre 270 nm et 300 nm.
[0021] Selon un mode de réalisation, les diodes électroluminescentes sont à base d'un composé III-V ou II-VI.
[0022] Selon un mode de réalisation, les diodes électroluminescentes sont séparées par un matériau isolant électriquement ayant un indice de réfraction compris entre 1,3 et 1, 6, de préférence entre 1,45 et 1,56.
[0023] Selon un mode de réalisation, l'une des deuxième, troisième, et quatrième longueurs d'onde est dans la plage de 430 nm à 480 nm, une autre des deuxième, troisième, et quatrième longueurs d'onde étant dans la plage de 510 nm à 570 nm, et encore une autre des deuxième, troisième, et quatrième longueurs d'onde étant dans la plage de 600 nm à 720 nm .
[0024] Selon un mode de réalisation, le spectre d'émission de la zone active présente de l'énergie à la deuxième longueur d ' onde .
[0025] Selon un mode de réalisation, le dispositif comprend en outre un premier filtre optique recouvrant au moins une première partie de ladite matrice de diodes électroluminescentes, le premier filtre optique étant configuré pour bloquer ledit rayonnement amplifié sur une première plage de longueurs d'onde comprenant les première, troisième, et quatrième longueurs d'onde et pour laisser passer ledit rayonnement amplifié sur une deuxième plage de longueurs d'onde comprenant la deuxième longueur d'onde.
[0026] Selon un mode de réalisation, le spectre d'émission de la zone active présente de l'énergie à la troisième longueur d'onde.
[0027] Selon un mode de réalisation, le dispositif comprend en outre un deuxième filtre optique recouvrant au moins une deuxième partie de ladite matrice de diodes électroluminescentes, le deuxième filtre optique étant configuré pour bloquer ledit rayonnement amplifié sur une troisième plage de longueurs d'onde comprenant les première, deuxième et quatrième longueurs d'onde et pour laisser passer ledit rayonnement amplifié sur une quatrième plage de longueurs d'onde comprenant la troisième longueur d'onde.
[0028] Selon un mode de réalisation, le spectre d'émission de la zone active présente de l'énergie à la quatrième longueur d'onde. [0029] Selon un mode de réalisation, le dispositif comprend en outre un troisième filtre optique recouvrant au moins une troisième partie de ladite matrice de diodes électroluminescentes, le troisième filtre optique étant configuré pour bloquer ledit rayonnement amplifié sur une cinquième plage de longueurs d'onde comprenant les première, deuxième, et troisième longueurs d'onde et pour laisser passer ledit rayonnement amplifié sur une sixième plage de longueurs d'onde comprenant la quatrième longueur d'onde.
[0030] Selon un mode de réalisation, le dispositif comprend un support sur lequel reposent les diodes électroluminescentes, chaque diode électroluminescente comprenant un empilement d'une première portion semiconductrice reposant sur le support, de la zone active en contact avec la première portion semiconductrice et d'une deuxième portion semiconductrice en contact avec la zone active .
[0031] Selon un mode de réalisation, les deuxièmes portions semiconductrices des diodes électroluminescentes sont recouvertes d'une couche conductrice électriquement et au moins en partie transparente au rayonnement émis par les diodes électroluminescentes.
[0032] Selon un mode de réalisation, au moins l'un des pics de résonance est atténué par rapport aux autres pics de résonance .
[0033] Selon un mode de réalisation, les parois latérales des premières et deuxièmes portions semiconductrices d'au moins une partie des diodes électroluminescentes sont recouvertes d'une gaine.
[0034] Selon un mode de réalisation, une première partie de la couche conductrice électriquement recouvrant un premier groupe desdites diodes électroluminescentes a une première épaisseur et une deuxième partie de la couche conductrice électriquement recouvrant un deuxième groupe desdites diodes électroluminescentes a une deuxième épaisseur, strictement inférieure à la première épaisseur .
[ 0035 ] Selon un mode de réalisation, les diodes électroluminescentes d ' un premier groupe desdites diodes électroluminescentes sont séparées par un premier matériau isolant électriquement ayant un premier indice de réfraction et les diodes électroluminescentes d ' un deuxième groupe desdites diodes électroluminescentes sont séparées par un deuxième matériau isolant électriquement ayant un deuxième indice de réfraction di f férent du premier indice de réfraction
[ 0036 ] Un mode de réalisation prévoit également un procédé de fabrication d ' un dispositi f optoélectronique comprenant une matrice de diodes électroluminescentes axiales , les diodes électroluminescentes comprenant chacune une zone active configurée pour émettre un rayonnement électromagnétique dont le spectre d ' émission comprend un maximum à une première longueur d ' onde , la matrice formant un cristal photonique configuré pour pouvoir former trois pics de résonance ampli fiant l ' intensité dudit rayonnement électromagnétique à au moins des deuxième , troisième , et quatrième longueurs d ' onde .
[ 0037 ] Selon un mode de réalisation, la formation des diodes électroluminescentes de la matrice comprend les étapes suivantes :
- formation de deuxièmes portions semiconductrices sur un substrat , les deuxièmes portions semiconductrices étant séparées les unes des autres du pas de la matrice ;
- formation d ' une zone active sur chaque deuxième portion semiconductrice ; et - formation d'une première portion semiconductrice sur chaque zone active.
[0038] Selon un mode de réalisation, les diodes électroluminescentes sont réparties au moins en premier et deuxième groupes de diodes électroluminescentes. Le procédé comprend la formation d'un premier filtre optique sur le premier groupe et d'un deuxième filtre optique sur le deuxième groupe, le deuxième filtre optique étant différent du premier filtre optique.
[0039] Selon un mode de réalisation, le procédé comprend l'atténuation d'au moins l'un des pics de résonance par rapport aux autres pics de résonance après la formation des diodes électroluminescentes.
Brève description des dessins
[0040] Ces caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres, seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles :
[0041] la figure 1 est une vue en coupe, partielle et schématique, d'un mode de réalisation d'un dispositif optoélectronique comprenant des diodes électroluminescentes ;
[0042] la figure 2 est une vue en perspective, partielle et schématique, du dispositif optoélectronique représenté en figure 1 ;
[0043] la figure 3 représente schématiquement un exemple d'agencement des diodes électroluminescentes du dispositif optoélectronique représenté en figure 1 ;
[0044] la figure 4 représente schématiquement un autre exemple d'agencement des diodes électroluminescentes du dispositif optoélectronique représenté en figure 1 ; [0045] la figure 5 représente, de façon schématique, des courbes d'évolution d'intensités lumineuses du rayonnement émis par le dispositif optoélectronique de la figure 1 illustrant une configuration à trois résonances ;
[0046] la figure 6 illustre un procédé de sélection d'une résonance du rayonnement émis dans une configuration à trois résonances ;
[0047] la figure 7 illustre un procédé de sélection d'une autre résonance du rayonnement émis dans une configuration à trois résonances ;
[0048] la figure 8 illustre un procédé de sélection de deux résonances du rayonnement émis dans une configuration à trois résonances ;
[0049] la figure 9 illustre un procédé de sélection d'une résonance du rayonnement émis dans une configuration à trois résonances ;
[0050] la figure 10 représente, de façon schématique, des courbes d'évolution d'intensités lumineuses du rayonnement émis par un dispositif optoélectronique illustrant une configuration à une résonance obtenue à partir d'une configuration initiale à trois résonances ;
[0051] la figure 11 est une vue en coupe, partielle et schématique, d'un mode de réalisation d'un dispositif optoélectronique ayant le spectre d'émission de la figure 10 ;
[0052] la figure 12 est une vue en coupe, partielle et schématique, d'un mode de réalisation d'un dispositif optoélectronique ayant le spectre d'émission de la figure 10 ;
[0053] la figure 13 est une vue en coupe, partielle et schématique, d'un mode de réalisation d'un dispositif optoélectronique ayant le spectre d'émission de la figure 10 ;
[0054] la figure 14A illustre une étape d'un mode de réalisation d'un procédé de fabrication du dispositif optoélectronique représenté en figure 1 ;
[0055] la figure 14B illustre une autre étape du procédé de fabrication ;
[0056] la figure 14C illustre une autre étape du procédé de fabrication ;
[0057] la figure 14D illustre une autre étape du procédé de fabrication ;
[0058] la figure 14E illustre une autre étape du procédé de fabrication ;
[0059] la figure 14F illustre une autre étape du procédé de fabrication ;
[0060] la figure 14G illustre une autre étape du procédé de fabrication ;
[0061] la figure 15 illustre une étape d'un autre mode de réalisation d'un procédé de fabrication du dispositif optoélectronique représenté en figure 1 ;
[0062] la figure 16 est une carte en niveaux de gris de l'intensité lumineuse émise à une première longueur d'onde par une diode électroluminescente d'un cristal photonique du dispositif optoélectronique en fonction du pas du cristal photonique et du diamètre de la diode électroluminescente ;
[0063] la figure 17 est une carte en niveaux de gris de l'intensité lumineuse émise à une deuxième longueur d'onde par une diode électroluminescente d'un cristal photonique du dispositif optoélectronique en fonction du pas du cristal photonique et du diamètre de la diode électroluminescente ; [0064] la figure 18 est une carte en niveaux de gris de l'intensité lumineuse émise à une troisième longueur d'onde par une diode électroluminescente d'un cristal photonique du dispositif optoélectronique en fonction du pas du cristal photonique et du diamètre de la diode électroluminescente ; et
[0065] la figure 19 représente une courbe d'évolution de l'intensité lumineuse des diodes électroluminescentes en fonction de la longueur d'onde mesurée lors d'un essai.
Description des modes de réalisation
[0066] De mêmes éléments ont été désignés par de mêmes références dans les différentes figures. En particulier, les éléments structurels et/ou fonctionnels communs aux différents modes de réalisation peuvent présenter les mêmes références et peuvent disposer de propriétés structurelles, dimensionnelles et matérielles identiques. Par souci de clarté, seuls les étapes et éléments utiles à la compréhension des modes de réalisation décrits ont été représentés et sont détaillés. En particulier, les dispositifs optoélectroniques considérés comprennent éventuellement d'autres composants qui ne seront pas détaillés.
[0067] Dans la description qui suit, lorsque l'on fait référence à des qualificatifs de position absolue, tels que les termes "avant", "arrière", "haut", "bas", "gauche", "droite", etc., ou relative, tels que les termes "dessus", "dessous", "supérieur", "inférieur", etc., ou à des qualificatifs d'orientation, tels que les termes "horizontal", "vertical", etc., il est fait référence sauf précision contraire à l'orientation des figures ou à un dispositif optoélectronique dans une position normale d'utilisation.
[0068] Sauf précision contraire, les expressions "environ", "approximativement", "sensiblement", et "de l'ordre de" signifient à 10 % près, de préférence à 5 % près. En outre, on considère ici que les termes "isolant" et "conducteur" signifient respectivement "isolant électriquement" et "conducteur électriquement".
[0069] Dans la suite de la description, la transmittance interne d'une couche correspond au rapport entre l'intensité du rayonnement sortant de la couche et l'intensité du rayonnement entrant dans la couche. L'absorption de la couche est égale à la différence entre 1 et la transmittance interne. Dans la suite de la description, une couche est dite transparente à un rayonnement lorsque l'absorption du rayonnement au travers de la couche est inférieure à 60 %. Dans la suite de la description, une couche est dite absorbante à un rayonnement lorsque l'absorption du rayonnement dans la couche est supérieure à 60 %. Lorsqu'un rayonnement présente un spectre de forme générale "en cloche", par exemple de forme gaussienne, ayant un maximum, on appelle longueur d'onde du rayonnement, ou longueur d'onde centrale ou principale du rayonnement, la longueur d'onde à laquelle le maximum du spectre est atteint. Dans la suite de la description, l'indice de réfraction d'un matériau correspond à l'indice de réfraction du matériau pour la plage de longueurs d'onde du rayonnement émis par le dispositif optoélectronique. Sauf indication contraire, l'indice de réfraction est considéré sensiblement constant sur la plage de longueurs d'onde du rayonnement utile, par exemple égal à la moyenne de l'indice de réfraction sur la plage de longueurs d'onde du rayonnement émis par le dispositif optoélectronique
[0070] En outre, on entend par "composé principalement constitué d'un matériau" ou "composé à base d'un matériau" qu'un composé comporte une proportion supérieure ou égale à 95 % dudit matériau, cette proportion étant préférentiellement supérieure à 99 %. Par diode électroluminescente axiale, on désigne une structure tridimensionnelle de forme allongée, par exemple cylindrique, selon une direction privilégiée, dont au moins deux dimensions, appelées dimensions mineures, sont comprises entre 5 nm et 2,5 pm, de préférence entre 50 nm et 2,5 pm. La troisième dimension, appelée dimension majeure, est supérieure ou égale à 1 fois, de préférence supérieure ou égale à 5 fois et encore plus préférentiellement supérieure ou égale à 10 fois, la plus grande des dimensions mineures. Dans certains modes de réalisation, les dimensions mineures peuvent être inférieures ou égales à environ 1 pm, de préférence comprises entre 100 nm et 1 pm, plus préférentiellement entre 100 nm et 800 nm. Dans certains modes de réalisation, la hauteur de chaque diode électroluminescente peut être supérieure ou égale à 500 nm, de préférence comprise entre 1 pm et 50 pm. On appelle diamètre moyen d'un fil, le diamètre du fil à base circulaire dont la surface est la même que la surface de la base du fil considéré .
[0071] Les figures 1 et 2 sont respectivement une vue en coupe latérale et une vue en perspective, partielles et schématiques, d'un mode de réalisation d'un dispositif optoélectronique 10 à diodes électroluminescentes.
[0072] Le dispositif optoélectronique 10 comprend, du bas vers le haut en figure 1 :
- un support 12 ;
- une première couche d'électrode 14 reposant sur le support 12 et ayant une face supérieure 16 ;
- une matrice 15 de diodes électroluminescentes axiales LED reposant sur la face 16, chaque diode électroluminescente axiale comprenant, de bas en haut en figure 1, une portion semiconductrice inférieure 18, non représentée en figure 2, en contact avec la couche d'électrode 14, une zone active 20, non représentée en figure 2, en contact avec la portion semiconductrice 18, et une portion semiconductrice supérieure 22, non représentée en figure 2, en contact avec la zone active 20 ;
- une couche isolante 24 s'étendant entre les diodes électroluminescentes LED, sur toute la hauteur des diodes électroluminescentes LED ;
- une deuxième couche d'électrode 26, non représentée en figure 2, recouvrant les diodes électroluminescentes LED au contact des portions supérieures 22 des diodes électroluminescentes LED ; et
- un revêtement 28, non représenté en figure 2, recouvrant la deuxième couche d'électrode 26, et délimitant une face d'émission 30 du dispositif optoélectronique 10.
[0073] Chaque diode électroluminescente LED est dite axiale dans la mesure où la zone active 20 est dans le prolongement de la portion inférieure 18 et la portion supérieure 22 est dans le prolongement de la zone active 20, l'ensemble comprenant la portion inférieure 18, la zone active 20, et la portion supérieure 22 s'étendant selon un axe A, appelé axe de la diode électroluminescente axiale. De préférence, les axes A des diodes électroluminescentes LED sont parallèles et orthogonaux à la face 16.
[0074] Le support 12 peut correspondre à un circuit électronique. La couche d'électrode 14 peut être métallique, par exemple en argent, en cuivre ou en zinc. L'épaisseur de la couche d'électrode 14 est suffisante pour que la couche d'électrode 14 forme un miroir. A titre d'exemple, la couche d'électrode 14 a une épaisseur supérieure à 100 nm. La couche d'électrode 14 peut recouvrir complètement le support 12. A titre de variante, la couche d'électrode 14 peut être divisée en parties distinctes de façon à permettre la commande séparée de groupes de diodes électroluminescentes de la matrice de diodes électroluminescentes. Selon un mode de réalisation, la face 16 peut être réfléchissante. La couche d'électrode 14 peut alors présenter une réflexion spéculaire. Selon un autre mode de réalisation, la couche d'électrode 14 peut présenter une réflexion lambertienne . Pour obtenir une surface présentant une réflexion lambertienne, une possibilité est de créer des irrégularités sur une surface conductrice. A titre d'exemple, lorsque la face 16 correspond à la face d'une couche conductrice reposant sur une base, une texturation de la surface de la base peut être réalisée avant le dépôt de la couche métallique pour que la face 16 de la couche métallique, une fois déposée, présente des reliefs.
[0075] La deuxième couche d'électrode 26 est conductrice et transparente. Selon un mode de réalisation, la couche d'électrode 26 est une couche d'oxyde transparent et conducteur (TCO) , tel que de l'oxyde d'indium-étain (ou ITO, sigle anglais pour Indium Tin Oxide) , de l'oxyde de zinc dopé ou non à l'aluminium ou au gallium, ou du graphène . A titre d'exemple, la couche d'électrode 26 a une épaisseur comprise entre 5 nm et 200 nm, de préférence entre 20 nm et 50 nm. La couche isolante 24 peut être en un matériau inorganique, par exemple en oxyde de silicium ou en nitrure de silicium. La couche isolante 24 peut être en un matériau organique, par exemple un polymère isolant à base de benzocyclobutène (BCB) . Le revêtement 28 peut comprendre un filtre optique, ou des filtres optiques disposés les uns à côté des autres, comme cela sera décrit plus en détail par la suite. Selon un mode de réalisation, l'indice de réfraction du matériau de la couche isolante 24 est compris entre 1,3 et 1, 6, de préférence entre 1,45 et 1,56.
[0076] Dans le mode de réalisation représenté sur les figures
1 et 2, toutes les diodes électroluminescentes LED ont la même hauteur. L'épaisseur de la couche isolante 24 est par exemple choisie égale à la hauteur des diodes électroluminescentes LED de telle manière que la face supérieure de la couche isolante 24 est coplanaire avec les faces supérieures des diodes électroluminescentes.
[0077] Selon un mode de réalisation, les portions semiconductrices 18 et 22 et les zones actives 20 sont, au moins en partie, en un matériau semiconducteur. Le matériau semiconducteur est choisi parmi le groupe comprenant les composés III-V, les composés II-VI, et les semiconducteurs ou composés du groupe IV. Des exemples d'éléments du groupe III comprennent le gallium (Ga) , l'indium (In) ou l'aluminium (Al) . Des exemples d'éléments du groupe IV comprennent l'azote (N) , le phosphore (P) ou l'arsenic (As) . Des exemples de composés III-N sont GaN, AIN, InN, InGaN, AlGaN ou AlInGaN. Des exemples d'éléments du groupe II comprennent des éléments du groupe IIA, notamment le béryllium (Be) et le magnésium (Mg) et des éléments du groupe IIB, notamment le zinc (Zn) , le cadmium (Cd) et le mercure (Hg) . Des exemples d'éléments du groupe VI comprennent des éléments du groupe VIA, notamment l'oxygène (O) et le tellure (Te) . Des exemples de composés II-VI sont ZnO, ZnMgO, CdZnO, CdZnMgO, CdHgTe, CdTe ou HgTe. De façon générale, les éléments dans le composé III-V ou II- VI peuvent être combinés avec différentes fractions molaires. Des exemples de matériaux semiconducteurs du groupe IV sont le silicium (Si) , le carbone (G) , le germanium (Ge) , les alliages de carbure de silicium (SiC) , les alliages silicium- germanium (SiGe) ou les alliages de carbure de germanium (GeC) Les portions semiconductrices 18 et 22 peuvent comprendre un dopant. A titre d'exemple, pour des composés III-V, le dopant peut être choisi parmi le groupe comprenant un dopant de type P du groupe II, par exemple, du magnésium (Mg) , du zinc (Zn) , du cadmium (Cd) ou du mercure (Hg) , un dopant du type P du groupe IV, par exemple du carbone (G) ou un dopant de type N du groupe IV, par exemple du silicium (Si) , du germanium (Ge) , du sélénium (Se) , du souffre (S) , du terbium (Tb) ou de l'étain (Sn) . De préférence, la portion semiconductrice 18 est en GaN dopé P et la portion semiconductrice 22 est en GaN dopé N.
[0078] Pour chaque diode électroluminescente LED, la zone active 20 peut comporter des moyens de confinement. A titre d'exemple, la zone active 20 peut comprendre un puits quantique unique. Elle comprend alors un matériau semiconducteur différent du matériau semiconducteur formant les portions semiconductrices 18 et 22 et ayant une bande interdite inférieure à celle du matériau formant les portions semiconductrices 18 et 22. La zone active 20 peut comprendre des puits quantiques multiples. Elle comprend alors un empilement de couches semiconductrices formant une alternance de puits quantiques et de couches barrières.
[0079] Sur les figures 1 et 2, chaque diode électroluminescente LED a la forme d'un cylindre à base circulaire d'axe A. Toutefois, chaque diode électroluminescente LED peut avoir la forme d'un cylindre d'axe A à base polygonale, par exemple carrée, rectangulaire ou hexagonale. De préférence, chaque diode électroluminescente LED a la forme d'un cylindre à base hexagonale .
[0080] On appelle hauteur H de la diode électroluminescente LED la somme de la hauteur hl de la portion inférieure 18, de la hauteur h2 de la zone active 20, de la hauteur h3 de la portion supérieure 22, de l'épaisseur de la couche d'électrode 26, et de l'épaisseur du revêtement 28.
[0081] Selon un mode de réalisation, les diodes électroluminescentes LED sont agencées pour former un cristal photonique. Douze diodes électroluminescentes LED sont représentées à titre d'exemple en figure 2. En pratique, la matrice 15 peut comprendre entre 7 et 100000 diodes électroluminescentes LED.
[0082] Les diodes électroluminescentes LED de la matrice 15 sont agencées en lignes et en colonnes (3 lignes et 4 colonnes étant représentées à titre d'exemple en figure 2) . Le pas 'a' de la matrice 15 est la distance entre l'axe d'une diode électroluminescente LED et l'axe d'une diode électroluminescente LED proche, de la même ligne ou d'une ligne adjacente. Le pas a est sensiblement constant. Plus précisément, le pas a de la matrice est choisi de telle manière que la matrice 15 forme un cristal photonique. Le cristal photonique formé est par exemple un cristal photonique 2D.
[0083] Les propriétés du cristal photonique formé par la matrice 15 sont choisies avantageusement pour que la matrice 15 des diodes électroluminescentes forme une cavité résonante dans le plan perpendiculaire à l'axe A et une cavité résonante selon l'axe A notamment pour obtenir un couplage et augmenter l'effet de sélection. Ceci permet que l'intensité du rayonnement émis par l'ensemble des diodes électroluminescentes LED de la matrice 15 par la face d'émission 30 soit amplifié pour certaines longueurs d'onde par rapport à un ensemble de diodes électroluminescentes LED qui ne formerait pas un cristal photonique.
[0084] Les figures 3 et 4 représentent schématiquement des exemples d'agencements des diodes électroluminescentes LED de la matrice 15. En particulier, la figure 3 illustre un agencement dit en maillage carré et la figure 4 illustre un agencement dit en maillage hexagonal. Les figures 3 et 4 représentent chacune trois lignes de quatre diodes électroluminescentes LED. Dans l'agencement illustré en figure 3, une diode électroluminescente LED est située à chaque croisement d'une ligne et d'une colonne, les lignes étant perpendiculaires aux colonnes. Dans l'agencement illustré en figure 4, les diodes sur une ligne sont décalées de la moitié du pas a par rapport aux diodes électroluminescentes sur la ligne précédente et la ligne suivante .
[0085] Dans les modes de réalisation illustrés sur les figures 3 et 4, chaque diode électroluminescente LED a une section droite circulaire de diamètre D dans un plan parallèle à la face 16. Dans le cas d'un agencement en réseau hexagonal ou d'un agencement en réseau carré, le diamètre D peut être compris entre 0,05 pm et 2 pm. Le pas a peut être compris entre 0,1 pm et 4 pm.
[0086] En outre, selon un mode de réalisation, la hauteur H de la diode électroluminescente LED est choisie pour que chaque diode électroluminescente LED forme une cavité résonante selon l'axe A à la longueur d'onde centrale λ souhaitée du rayonnement émis par le dispositif optoélectronique 10. Selon un mode de réalisation, la hauteur H est choisie sensiblement proportionnelle à k* (λ/2 ) *neff , neff étant l'indice de réfraction effectif de la diode électroluminescente dans le mode optique considéré et k étant un entier positif. L'indice de réfraction effectif est par exemple défini dans l'ouvrage "Semiconductor Optoelectronic Devices : Introduction to Physics and Simulation" de Joachim Piprek .
[0087] Dans le cas où les diodes électroluminescentes sont réparties en groupes de diodes électroluminescentes émettant à des longueurs d'onde centrales différentes, la hauteur H peut être néanmoins la même pour toutes les diodes électroluminescentes. Elle peut alors être déterminée à partir des hauteurs théoriques qui permettraient d'obtenir des cavités résonantes pour les diodes électroluminescentes de chaque groupe, et est par exemple égale à la moyenne de ces hauteurs théoriques.
[0088] Selon un mode de réalisation, les propriétés du cristal photonique, formé par la matrice 15 des diodes électroluminescentes LED, sont sélectionnées pour augmenter l'intensité lumineuse émise par la matrice 15 de diodes électroluminescentes LED à au moins trois longueurs d'onde cibles. Selon un mode de réalisation, la zone active 20 de chaque diode électroluminescente LED présente un spectre d'émission relativement étalé, en particulier présentant un maximum à une première longueur d'onde et une largeur à mi- hauteur supérieure à 100 nm, de préférence supérieure à 180 nm, de façon à recouvrir les trois longueurs d'onde cible, c'est- à-dire que l'énergie du spectre d'émission de la zone active 20 aux longueurs d'onde cible n'est pas nulle. Selon un mode de réalisation, le maximum du spectre du rayonnement émis par la zone active 20 est à une longueur d'onde différente d'au moins deux des longueurs d'onde cibles.
[0089] La figure 5 représente, de façon schématique, en fonction de la longueur d'onde λ, une courbe d'évolution C1 (en trait plein) de l'intensité lumineuse I émise par les zones actives 20 des diodes électroluminescentes LED considérées isolément, une courbe d'évolution C2 (en traits tiretés sur la figure 5 et en traits pleins sur les figures 6 à 10) du facteur d'amplification dû au couplage avec le cristal photonique et une courbe d'évolution C3 (en pointillés) de l'intensité lumineuse émise par la matrice 15 de diodes électroluminescentes. La courbe C1 a une forme générale "en cloche" et présente un sommet à une longueur d'onde centrale λc. La courbe C2 comprend trois pics de résonance étroits, un premier pic de résonance P1 centré sur la longueur d'onde cible λT1, un deuxième pic de résonance P2 centré sur la longueur d'onde cible λT2, et un troisième pic de résonance P3 centré sur la longueur d'onde cible λT3. La courbe C3 comprend un pic d'intensité P'1 à la longueur d'onde cible λT1, un pic d'intensité P'2 à la longueur d'onde cible λT2, un pic d'intensité P'3 à la longueur d'onde cible λT3, et suit sensiblement la courbe C1 pour les autres longueurs d'onde. En particulier, la largeur de bande de la courbe C1 à mi-hauteur pour le sommet S est supérieure à la largeur de bande de la courbe C3 à mi-hauteur pour chaque pic P'i, P'2 et P'3, par exemple d'un facteur 2, en particulier d'un facteur 10.
[0090] Selon un mode de réalisation, la longueur d'onde cible λT1 correspond à de la lumière bleue, c'est-à-dire un rayonnement dont la longueur d'onde est dans la plage de 430 nm à 480 nm. Selon un mode de réalisation, la longueur d'onde cible λT2 correspond à de la lumière verte, c'est-à- dire un rayonnement dont la longueur d'onde est dans la plage de 510 nm à 570 nm. Selon un mode de réalisation, la longueur d'onde cible λT3 correspond à de la lumière rouge, c'est-à- dire un rayonnement dont la longueur d'onde est dans la plage de 600 nm à 720 nm.
[0091] Selon un mode de réalisation, un dispositif optoélectronique 10 émettant un rayonnement lumineux à spectre étroit à l'une des longueurs d'onde cibles λT1, λT2, ou λT3 peut être obtenu en filtrant le rayonnement émis par la matrice 15 de diodes électroluminescentes LED pour ne conserver que le pic d'intensité à la longueur d'onde cible souhaitée. Ceci peut être obtenu en prévoyant un filtre optique dans le revêtement 28.
[0092] Les figures 6 et 7 illustrent le principe de filtrage du rayonnement émis par la matrice 15 de diodes électroluminescentes. Un dispositif optoélectronique émettant un rayonnement lumineux à spectre étroit centré sur une longueur d'onde cible peut être obtenu en bloquant la partie non souhaitée du spectre d'émission de la matrice 15 de diodes électroluminescentes. A titre d'exemple, sur les figures 6 et 7, la partie bloquée du spectre du rayonnement émis par la matrice 15 de diodes électroluminescentes est hachurée et seul l'un des pics de résonance est conservé, le pic de résonance P1 à la longueur d'onde cible λT1 en figure 6 et le pic de résonance P3 à la longueur d'onde cible λT3 en figure 7.
[0093] La hauteur hl de la portion inférieure 18 et la hauteur h2 de la portion supérieure 22 peuvent de façon avantageuse être déterminées pour que l'intensité lumineuse du pic à la longueur d'onde cible soit maximale.
[0094] Le filtrage du rayonnement émis par la matrice de diodes électroluminescentes peut être réalisé par tout moyen. Selon un mode de réalisation, le filtrage est obtenu en recouvrant les diodes électroluminescentes d'une couche d'un matériau coloré. Selon un autre mode de réalisation, le filtrage est obtenu en recouvrant les diodes électroluminescentes d'un filtre interf érentiel .
[0095] Selon un mode de réalisation, les diodes électroluminescentes de la matrice de diodes électroluminescentes peuvent être réparties en premier et deuxième groupes de diodes électroluminescentes. Un premier filtrage est mis en oeuvre pour les diodes électroluminescentes du premier groupe pour conserver seulement un premier pic de résonance et un deuxième filtrage est mis en oeuvre pour les diodes électroluminescentes du deuxième groupe pour conserver seulement un deuxième pic de résonance. Un dispositif optoélectronique configuré pour l'émission d'un premier rayonnement à une première longueur d'onde cible et d'un deuxième rayonnement à une deuxième longueur d'onde cible peut ainsi être obtenu alors que les zones actives des diodes électroluminescentes et les matrices des diodes électroluminescentes des premier et deuxième groupes ont la même structure.
[0096] Selon un mode de réalisation, les diodes électroluminescentes peuvent être réparties en premier, deuxième, et troisième groupes de diodes électroluminescentes. Un premier filtrage est mis en oeuvre pour les diodes électroluminescentes du premier groupe pour conserver seulement un premier pic de résonance. Un deuxième filtrage est mis en oeuvre pour les diodes électroluminescentes du deuxième groupe pour conserver seulement un deuxième pic de résonance. Un troisième filtrage est mis en oeuvre pour les diodes électroluminescentes du troisième groupe pour conserver seulement un troisième pic de résonance. Un dispositif optoélectronique configuré pour l'émission d'un premier rayonnement à une première longueur d'onde cible, d'un deuxième rayonnement à une deuxième longueur d'onde cible, et d'un troisième rayonnement à une troisième longueur d'onde cible peut ainsi être obtenu alors que les zones actives des diodes électroluminescentes et les matrices des diodes électroluminescentes des premier, deuxième, et troisième groupes ont la même structure. Ceci permet notamment la réalisation de sous-pixels d'affichage pour un pixel d'affichage d'un écran d'affichage d'une image couleur.
[0097] Selon un mode de réalisation, le rayonnement après filtrage du premier groupe de diodes électroluminescentes correspond à de la lumière bleue, c'est-à-dire un rayonnement dont la longueur d'onde est dans la plage de 430 nm à 480 nm. Selon un mode de réalisation, le rayonnement après filtrage du deuxième groupe de diodes électroluminescentes correspond à de la lumière verte, c'est-à-dire un rayonnement dont la longueur d'onde est dans la plage de 510 nm à 570 nm. Selon un mode de réalisation, le rayonnement après filtrage du troisième groupe de diodes électroluminescentes correspond à de la lumière rouge, c'est-à-dire un rayonnement dont la longueur d'onde est dans la plage de 600 nm à 720 nm.
[0098] De façon avantageuse, des zones actives 20 ayant la même structure et la même composition peuvent être utilisées pour fabriquer des dispositifs optoélectroniques pouvant émettre des rayonnements à spectres étroits à des longueurs d'onde cibles différentes. Ceci permet de s'affranchir, lors de la conception d'un nouveau dispositif optoélectronique, de la conception d'une nouvelle structure pour les zones actives, avec toutes les difficultés de mise au point industrielle que cela implique, et donc de simplifier le procédé de conception d'un nouveau dispositif optoélectronique. En effet, toutes les diodes électroluminescentes peuvent être réalisées avec la même structure, de sorte que les étapes initiales du procédé de fabrication au moins jusqu'à la fabrication des diodes électroluminescentes peuvent être communes pour la fabrication de différents dispositifs optoélectroniques.
[0099] Il peut en outre être avantageux que la zone active 20 émette un rayonnement d'intensité maximale à une longueur d'onde centrale λc différente des longueurs d'onde cibles λT1, λT2, ou λT3, ou au moins de deux d'entre elles. En effet, à titre d'exemple, lorsque la zone active 20 comprend une couche en InGaN, la longueur d'onde centrale du rayonnement émis augmente avec la proportion d'indium. Toutefois, pour obtenir une longueur d'onde d'émission correspondant au rouge, il faudrait obtenir une proportion d'indium supérieure à 16 %, ce qui se traduit par une chute du rendement quantique de la zone active. Le fait d'utiliser une zone active 20 émettant un rayonnement d'intensité maximale à une longueur d'onde centrale λc inférieure à la longueur d'onde cible λT1 permet alors d'utiliser une zone active 20 avec un rendement quantique amélioré. Ceci permet en outre d'obtenir un rayonnement à la longueur d'onde cible λT1 en utilisant une zone active 20 émettant un rayonnement d'intensité maximale à la longueur d'onde centrale λc, qui est plus facile à fabriquer sans devoir utiliser de matériaux photoluminescents
[0100] Il peut, en outre, être utilisé une zone active 20 émettant un rayonnement dont le spectre est plus étalé que le spectre souhaité pour le rayonnement émis par le dispositif optoélectronique. Ce peut rendre plus simple la conception et la fabrication de la zone active 20.
[0101] Selon un autre mode de réalisation, la sélection de la longueur d'onde cible du rayonnement émis par le dispositif optoélectronique peut être obtenue en utilisant une zone active dont le spectre d'émission, bien qu'étalé, ne recouvre pas les trois longueurs d'onde cibles λT1, λT2, et λT3. Seul un pic d'intensité ou des pics d'intensité sont alors obtenus dans le rayonnement émis par la matrice 15 de diodes électroluminescentes pour les longueurs d'onde cibles λT1, λT2, ou λT3 qui sont dans la bande du rayonnement émis par les zones actives 20.
[0102] La figure 8 est une figure analogue à la figure 5 à la différence que la courbe d'évolution C1 du spectre émis par les zones actives 20 ne recouvre que deux pics de résonance étroits de la courbe C2 centrés respectivement sur les longueurs d'onde cible λT2 et λT3. La courbe C3 correspondante (non représentée) comprend alors le sommet S à la longueur d'onde centrale λc, un pic d'intensité à la longueur d'onde cible λT2, et un pic d'intensité à la longueur d'onde cible λT3.
[0103] La figure 9 est une figure analogue à la figure 5 à la différence que la courbe d'évolution C1 du spectre émis par les zones actives 20 ne recouvre qu'un seul pic de résonance étroit de la courbe C2 centré sur la longueur d'onde cible λT3. La courbe C3 correspondante (non représentée) comprend alors le sommet S à la longueur d'onde centrale λc, et un pic d'intensité à la longueur d'onde cible λT3.
[0104] Plus généralement, les conditions de croissance épitaxiale des zones actives 20 peuvent être choisies pour que le spectre émis par les zones actives 20 ne recouvre alternativement que la longueur d'onde λT1, λT2 ou λT3 sans modifier le cristal photonique. Ceci peut être réalisé par exemple en modifiant uniquement la concentration en indium dans la zone active 20 lorsque les zones actives 20 comprennent des puits quantiques en InGaN. Ceci permet avantageusement la fabrication industrielle de dispositifs émettant à trois longueurs d'onde cibles différentes avec des paramètres de fabrication de base pour l'essentiel identiques sauf pour la croissance des zones actives 20.
[0105] Selon un autre mode de réalisation, la sélection de la longueur d'onde cible du rayonnement émis par le dispositif optoélectronique peut être obtenue en modifiant les propriétés du cristal photonique par rapport à la structure de référence décrite précédemment en relation avec les figures 1 et 2 et qui entraîne la présence des trois pics de résonance, de façon à diminuer l'amplitude de l'un des pics de résonance, de préférence à annuler l'un des pics de résonance, voire à diminuer l'amplitude de deux des pics de résonance, de préférence à annuler deux des pics de résonance. De ce fait, le spectre du rayonnement émis par la matrice 15 de diodes électroluminescentes comprend un nombre moins important de pics d'intensité par rapport à ce qui est obtenu avec la structure de référence. Selon un mode de réalisation, la modification des propriétés du cristal photonique par rapport à la structure de référence est réalisée après la formation de la matrice 15 de diodes électroluminescentes. Une possibilité consiste à introduire un élément, notamment un nanomatériau, autour des fils pour favoriser une résonance. Une autre possibilité consiste à modifier le matériau composant la couche isolante 24 et/ou le revêtement 28. Une autre possibilité consiste à modifier la hauteur totale H de la structure, par exemple en modifiant l'épaisseur de la couche d'électrode 26. De ce fait, toutes les diodes électroluminescentes peuvent être réalisées avec la même structure, de sorte que les étapes initiales du procédé de fabrication au moins jusqu'à la fabrication des diodes électroluminescentes peuvent être communes pour la fabrication de différents dispositifs optoélectroniques.
[0106] La figure 10 est une figure analogue à la figure 8 à la différence que le pic de résonance P2 de la courbe d'évolution C2 du facteur d'amplification dû au cristal photonique à la longueur d'onde cible λT2 a sensiblement disparu et que l'amplitude du pic de résonance P3 de la courbe d'évolution C2 à la longueur d'onde cible λT3 est diminuée. De ce fait, le rayonnement émis par la matrice 15 de diodes électroluminescentes comprend seulement un pic d'intensité sans que l'utilisation d'un filtre optique ne soit nécessaire.
[0107] Les figures 11, 12, et 13 sont des vues en coupe, partielles et schématiques, de modes de réalisation de dispositifs optoélectroniques permettant l'obtention des courbes C1 et C2 représentées en figure 10. Le revêtement 28, éventuellement présent, n'est pas représenté sur les figures 11, 12, et 13. Pour chacun de ces dispositifs optoélectroniques, la structure de référence du dispositif optoélectronique 10 représenté en figure 1 est conservée dans une première zone ZI pour obtenir un rayonnement dans la première zone ZI avec trois pics d'intensité et la structure de référence du dispositif optoélectronique 10 représenté en figure 1 est modifiée dans une deuxième zone Z2 pour obtenir un rayonnement dans la deuxième zone Z2 avec moins de pics d'intensité. En figure 11, la hauteur H des diodes électroluminescentes LED est modifiée dans la deuxième zone Z2. En figure 12, le diamètre des diodes électroluminescentes LED est modifié dans la deuxième zone Z2. En figure 13, les indices de réfraction des matériaux composant le capteur photonique sont modifiés dans la deuxième zone Z2.
[0108] La figure 11 représente un dispositif optoélectronique 32 comprenant l'ensemble des éléments du dispositif optoélectronique 10 représenté en figure 1 à la différence que la couche d'électrode 26 n'a pas une épaisseur constante. A titre d'exemple, l'épaisseur de la couche d'électrode 26 dans la première zone ZI du dispositif optoélectronique 32 est plus épaisse que l'épaisseur de la couche d'électrode 26 dans la deuxième zone Z2 du dispositif optoélectronique 32. Selon un mode de réalisation, l'épaisseur de la couche d'électrode 26 dans la première zone ZI est celle déterminée pour la structure de référence qui entraîne la présence de trois pics d'intensité dans le rayonnement fourni par la matrice 15 de diodes électroluminescentes LED dans la première zone Zl. L'épaisseur réduite de la couche d'électrode 26 dans la deuxième zone Z2 entraîne une modification des propriétés du cristal photonique, de sorte que les courbes C1 et C2 représentées en figure 10 sont obtenues pour la matrice 15 de diodes électroluminescentes LED dans la deuxième zone Z2.
[0109] La figure 12 représente un dispositif optoélectronique 34 comprenant l'ensemble des éléments du dispositif optoélectronique 10 représenté en figure 1 à la différence qu'une gaine 35 entoure les parois latérales de chaque diode électroluminescente LED dans la deuxième zone Z2. Selon un mode de réalisation, chaque gaine 35 est en un matériau dont l'indice de réfraction est proche de l'indice de réfraction du matériau composant les portions semiconductrices 18 et 22. Tout se passe alors comme si le diamètre des diodes électroluminescentes est augmenté dans la deuxième zone Z2 par rapport au diamètre des diodes électroluminescentes dans la première zone Zl. Le diamètre augmenté dans la deuxième zone Z2 entraîne une modification des propriétés du cristal photonique, de sorte que les courbes C1 et C2 représentées en figure 10 sont obtenues pour la matrice 15 de diodes électroluminescentes LED dans la deuxième zone Z2.
[0110] La figure 13 représente un dispositif optoélectronique 36 comprenant l'ensemble des éléments du dispositif optoélectronique 10 représenté en figure 1 à la différence que la couche isolante 24 est, dans la deuxième zone Z2, en un matériau d'indice de réfraction différent par rapport à la première zone Zl, ce qui est illustré par une limite 38 entre les deux zones Zl et Z2. La modification de l'indice de réfraction de la couche isolante 24 dans la deuxième zone Z2 entraîne une modification des propriétés du cristal photonique, de sorte que les courbes C1 et C2 représentées en figure 10 sont obtenues pour la matrice 15 de diodes électroluminescentes LED dans la deuxième zone Z2.
[0111] Les figures 14A à 14G sont des vues en coupe, partielles et schématiques, des structures obtenues à des étapes successives d'un mode de réalisation d'un procédé de fabrication du dispositif optoélectronique 10 représenté en figure 1.
[0112] La figure 14A illustre la structure obtenue après les étapes de formation décrites ci-après.
[0113] Une couche de germination 40 est formée sur un substrat 42. Des diodes électroluminescentes LED sont ensuite formées à partir de la couche de germination 40. Plus précisément, les diodes électroluminescentes LED sont formées de telle manière que les portions supérieures 22 soient en contact avec la couche de germination 40. La couche de germination 40 est en un matériau qui favorise la croissance des portions supérieures 22. Pour chaque diode électroluminescente LED, la zone active 20 est formée sur la portion supérieure 22 et la portion inférieure 18 est formée sur la zone active 20.
[0114] De plus, les diodes électroluminescentes LED sont situées de manière à former la matrice 15, c'est-à-dire à former des lignes et des colonnes avec le pas souhaité de la matrice 15. Seule une ligne est partiellement représentée sur les figures 14A à 14G.
[0115] Un masque non représenté peut être formé avant la formation des diodes électroluminescentes sur la couche de germination 40 de manière à découvrir uniquement les parties de la couche de germination 40 aux emplacements où seront situées les diodes électroluminescentes. A titre de variante, la couche de germination 40 peut être gravée, avant la formation des diodes électroluminescentes, de manière à former des plots situés aux emplacements où seront formées les diodes électroluminescentes.
[0116] Le procédé de croissance des diodes électroluminescentes LED peut être un procédé du type ou une combinaison de procédés du type dépôt chimique en phase vapeur (CVD, sigle anglais pour Chemical Vapor Deposition) ou dépôt chimique en phase vapeur aux organométalliques (MOCVD, acronyme anglais pour Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) , également connu sous le nom d'épitaxie organométallique en phase vapeur (ou MOVPE, acronyme anglais pour Metal-Organic Vapor Phase Epitaxy) . Toutefois, des procédés tels que l'épitaxie par jets moléculaires (MBE, acronyme anglais pour Molecular-Beam Epitaxy) , la MBE à source de gaz (GSMBE) , la MBE organométallique (MOMBE) , la MBE assistée par plasma (PAMBE) , l'épitaxie par couche atomique (ALE, acronyme anglais pour Atomic Layer Epitaxy) ou l'épitaxie en phase vapeur aux hydrures (HVPE, acronyme anglais pour Hydride Vapor Phase Epitaxy) peuvent être utilisés . Toutefois , des procédés électrochimiques peuvent être utilisés , par exemple , le dépôt en bain chimique ( CBD, sigle anglais pour Chemical Bath Deposition) , les procédés hydrothermiques , la pyrolyse d' aérosol liquide ou 1 ' électrodépôt .
[ 0117 ] Les conditions de croissance des diodes électroluminescentes LED sont telles que toutes les diodes électroluminescentes de la matrice 15 se forment sens iblement à la même vites se . Ainsi , les hauteurs des portions semiconductrices 22 et 18 et la hauteur de la zone active 20 sont sensiblement identiques pour toutes les diodes électroluminescentes de la matrice 15 .
[ 0118 ] Selon un mode de réalisation, la hauteur de la portion semiconductrice 22 est supérieure à la valeur h3 voulue . En ef fet , il peut être di f ficile de contrôler avec précision la hauteur de la portion supérieure 22 notamment en raison du début de croissance de la portion supérieure 22 depuis la couche de germination 40 . De plus , la formation du matériau semiconducteur directement sur la couche de germination 40 peut causer des défauts cristallins dans le matériau semiconducteur j uste au-dessus de la couche de germination 40 . On peut donc vouloir retirer une partie de la portion supérieure 22 pour obtenir une hauteur constante avant formation de la zone active 20 .
[ 0119 ] La figure 14B illustre la structure obtenue après la formation de la couche 24 du matériau de remplissage , par exemple un matériau isolant électriquement , par exemple de l ' oxyde de silicium . La couche 24 est par exemple formée en déposant une couche de matériau de remplissage sur la structure représentée en figure 14A, la couche ayant une épaisseur supérieure à la hauteur des diodes électroluminescentes LED . La couche de matériau de remplissage est ensuite partiellement retirée de manière à être planarisée pour découvrir les faces supérieures des portions semiconductrices 18. La face supérieure de la couche 24 est alors sensiblement coplanaire avec la face supérieure de chaque portion semiconductrice 18. A titre de variante, le procédé peut comprendre une étape de gravure au cours de laquelle les portions semiconductrices 18 sont partiellement gravées .
[0120] Le matériau de remplissage est choisi de telle manière que le cristal photonique formé par la matrice 15 ait les propriétés voulues, c'est-à-dire qu'il améliore sélectivement en longueur d'onde l'intensité du rayonnement émis par la matrice de diodes électroluminescentes LED.
[0121] La figure 14C illustre la structure obtenue après le dépôt de la couche d'électrode 14 sur la structure obtenue à l'étape précédente.
[0122] La figure 14D illustre la structure obtenue après la fixation au support 12 de la couche 14, par exemple par collage métal-métal, par thermocompression ou par brasure avec utilisation d'une eutectique du côté du support 12.
[0123] La figure 14E illustre la structure obtenue après le retrait du substrat 42 et de la couche de germination 40. De plus, la couche 24 et les portions supérieures 22 sont gravées de telle manière que la hauteur de chaque portion supérieure 22 ait la valeur h3 souhaitée. Cette étape permet, de façon avantageuse, de contrôler exactement la hauteur h des diodes électroluminescentes et de retirer les parties des portions supérieures 22 pouvant avoir des défauts cristallins.
[0124] La figure 14F illustre la structure obtenue après le dépôt de la couche d'électrode 26.
[0125] La figure 14G illustre la structure obtenue après la formation d'au moins un filtre optique sur tout ou partie de la structure représentée en figure 14E. A titre d'exemple, on a représenté des premier, deuxième, et troisième filtres optiques FR, FG, FB, placés respectivement sur des premier, deuxième, et troisième groupes de diodes électroluminescentes LED.
[0126] La figure 15 illustre une variante du procédé de fabrication du dispositif optoélectronique représenté en figure 1, dans laquelle une étape de gravure partielle de l'extrémité libre de chaque portion supérieure 22 des diodes électroluminescentes LED est mise en oeuvre avant la formation de la couche d'électrode 26. L'étape de gravure partielle peut comprendre la formation de flancs inclinés 44 à l'extrémité libre des portions supérieures 22. Ceci permet de modifier légèrement les propriétés du cristal photonique. Ceci permet donc de modifier de façon fine la position des pics de résonance de l'amplification due au cristal photonique
[0127] Des simulations et un essai ont été réalisés. Pour ces simulations et pour l'essai, pour chaque diode électroluminescente LED, la portion semiconductrice inférieure 18 était en GaN dopé de type P. La portion semiconductrice supérieure 22 était en GaN dopé de type N. L'indice de réfraction des portions inférieure et supérieure 18 et 22 était d'environ 2,4. La zone active 20 correspondait à une couche de InGaN. La hauteur h2 de la zone active 20 était égale à 40 nm. La couche d'électrode 14 était en aluminium. La couche isolante 24 était en polymère à base de BGB. L'indice de réfraction de la couche isolante 24 était compris entre 1,45 et 1,56. Pour les simulations, une réflexion spéculaire sur la face 16 a été considérée. La hauteur des portions 18 et 22 n'est pas un paramètre déterminant dans la mesure où cela ne modifie sensiblement pas la position des pics de résonance, même si cela a un impact sur l'intensité de ces pics de résonance. [0128] Les figures 16, 17, et 18 sont des cartes en niveaux de gris de l'intensité lumineuse du rayonnement émis dans une direction inclinée de 5 degrés par rapport à une direction orthogonale à la face d'émission 30 respectivement à une première, deuxième, et troisième longueur d'onde de la matrice 15 de diodes électroluminescentes LED en fonction du pas 'a' du cristal photonique et du diamètre 'D' de chaque diode électroluminescente. Pour les simulations, la première longueur d'onde était de 450 nm (couleur bleue) , la deuxième longueur d'onde était de 530 nm (couleur verte) , et la troisième longueur d'onde était de 630 nm (couleur rouge) ,
[0129] Chacune des cartes de niveaux de gris comprend des zones plus claires qui correspondent à des pics de résonance. De telles zones à pics résonance sont indiquées, de façon schématique, par des contours B en traits pleins en figure 16, par des contours G en traits pointillés en figure 17 et par des contours R en traits mixtes en figure 18.
[0130] Ceci signifie donc, à titre d'exemple, qu'en sélectionnant le pas 'a' du cristal photonique et le diamètre 'D' des diodes électroluminescentes pour se situer dans l'une des régions délimitées par les contours B en figure 16, le spectre d'émission de la matrice 15 de diodes électroluminescentes LED, obtenu sans filtrage, présente au moins un pic de résonance à la longueur d'onde de 450 nm.
[0131] En figure 17, on a superposé les contours B de la figure 16 aux contours G. Ceci signifie donc, à titre d'exemple, qu'en sélectionnant le pas 'a' du cristal photonique et le diamètre 'D' des diodes électroluminescentes pour se situer dans l'une des régions délimitées à la fois par les contours B et G en figure 17, le spectre d'émission de la matrice 15 de diodes électroluminescentes LED, obtenu sans filtrage, présente au moins un pic de résonance à la longueur d'onde de 450 nm et un pic de résonance à la longueur d'onde de 530 nm.
[0132] En figure 18, on a superposé les contours B de la figure 16 et les contours G de la figure 17 aux contours R. Ceci signifie donc, à titre d'exemple, qu'en sélectionnant le pas 'a' du cristal photonique et le diamètre 'D' des diodes électroluminescentes pour se situer dans l'une des régions délimitées à la fois par les contours B, G, et R en figure 18, le spectre d'émission de la matrice 15 de diodes électroluminescentes LED, obtenu sans filtrage, présente au moins un pic de résonance à la longueur d'onde de 450 nm, un pic de résonance à la longueur d'onde de 530 nm, et un pic de résonance à la longueur d'onde de 630 nm. Les trois pics sont obtenus avec une hauteur H égale à environ 1 pm, un pas 'a' du cristal photonique égal à 400 nm, et le diamètre du cercle circonscrit à la base hexagonale des diodes électroluminescentes variant entre 260 nm et 270 nm +/- 25 nm, ce qui correspond à un diamètre corrigé variant entre 280 nm et 290 nm .
[0133] Il est à noter qu'une optimisation peut être réalisée en faisant varier les hauteurs hl et h3.
[0134] Pour l'essai, les diodes électroluminescentes étaient à base hexagonale. De façon approximative, il a été considéré que les simulations effectuées pour des diodes électroluminescentes à base circulaire avec un rayon donné sont équivalentes à des simulations pour lesquelles les diodes électroluminescentes seraient à base hexagonale, avec un cercle circonscrit à la section droite hexagonale ayant un rayon égal à 1,1 fois le rayon donné. Les portions semiconductrices 18 et 22 et les zones actives 20 de toutes les photodiodes ont été réalisées simultanément par MOCVD.
[0135] L'essai a été réalisé avec les dimensions décrites précédemment . [0136] La figure 19 représente une courbe d'évolution CRGB de l'intensité lumineuse I, en unité arbitraire, de la matrice 15 de diodes électroluminescentes en fonction de la longueur d'onde pour l'essai. Trois pics de résonance sont bien obtenus respectivement aux longueurs d'onde de 450 nm, 590 nm, et 700 nm .
[0137] Divers modes de réalisation et variantes ont été décrits. La personne du métier comprendra que certaines caractéristiques de ces divers modes de réalisation et variantes pourraient être combinées, et d'autres variantes apparaîtront à la personne du métier. En particulier, le revêtement 28 décrit précédemment peut comprendre des couches supplémentaires autres qu'un filtre optique ou des filtres optiques. En particulier, le revêtement 28 peut comprendre une couche anti-reflet, une couche de protection, etc. Enfin, la mise en oeuvre pratique des modes de réalisation et variantes décrits est à la portée de la personne du métier à partir des indications fonctionnelles données ci-dessus.

Claims

REVENDICATIONS Dispositif optoélectronique (10 ; 32 ; 34 ; 36) comprenant une matrice (15) de diodes électroluminescentes axiales (LED) , les diodes électroluminescentes comprenant chacune une zone active (20) configurée pour émettre un rayonnement électromagnétique dont le spectre d'émission comprend un maximum à une première longueur d'onde (λc) , la matrice formant un cristal photonique configuré pour pouvoir former trois pics de résonance amplifiant l'intensité dudit rayonnement électromagnétique à au moins des deuxième, troisième, et quatrième longueurs d'onde (λT1, λT2, λT3) . Dispositif selon la revendication 1, dans lequel chaque zone active (20) est configurée pour émettre le rayonnement électromagnétique dont le spectre d'émission a une largeur à mi-hauteur comprise entre 100 nm et 180 nm. Dispositif selon la revendication 1 ou 2, dans lequel le cristal photonique est un cristal photonique à deux dimensions . Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel les diodes électroluminescentes (LED) sont agencées en réseau avec un pas compris entre 400 nm et 475 nm et dans lequel chaque diode électroluminescente est cylindrique de diamètre moyen compris entre 270 nm et 300 nm . Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel les diodes électroluminescentes (LED) sont à base d'un composé III-V ou II-VI. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel les diodes électroluminescentes (LED) sont séparées par un matériau isolant électriquement (24) ayant un indice de réfraction compris entre 1,3 et 1, 6, de préférence entre 1,45 et 1,56. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel l'une des deuxième, troisième, et quatrième longueurs d'onde (λT1, λT2, λT3) est dans la plage de 430 nm à 480 nm, dans lequel une autre des deuxième, troisième, et quatrième longueurs d'onde (λT3) est dans la plage de 510 nm à 570 nm, et dans lequel encore une autre des deuxième, troisième, et quatrième longueurs d'onde est dans la plage de 600 nm à 720 nm. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel le spectre d'émission de la zone active (20) présente de l'énergie à la deuxième longueur d'onde (λT1) . Dispositif selon la revendication 8, comprenant en outre un premier filtre optique (FR) recouvrant au moins une première partie de ladite matrice (15) de diodes électroluminescentes (LED) , le premier filtre optique étant configuré pour bloquer ledit rayonnement amplifié sur une première plage de longueurs d'onde comprenant les première, troisième, et quatrième longueurs d'onde (λc, λT2, λT3) et pour laisser passer ledit rayonnement amplifié sur une deuxième plage de longueurs d'onde comprenant la deuxième longueur d'onde (λT1) .
Dispositif selon la revendication 8 ou 9, dans lequel le spectre d'émission de la zone active (20) présente de l'énergie à la troisième longueur d'onde (λT3) Dispositif selon la revendication 10, comprenant en outre un deuxième filtre optique (FG) recouvrant au moins une deuxième partie de ladite matrice (15) de diodes électroluminescentes (LED) , le deuxième filtre optique étant configuré pour bloquer ledit rayonnement amplifié sur une troisième plage de longueurs d'onde comprenant les première, deuxième et quatrième longueurs d'onde (λc, λT1, λT3) et pour laisser passer ledit rayonnement amplifié sur une quatrième plage de longueurs d'onde comprenant la troisième longueur d'onde (λT3) . Dispositif selon la revendication 10 ou 11, dans lequel le spectre d'émission de la zone active (20) présente de l'énergie à la quatrième longueur d'onde (λT3) . Dispositif selon la revendication 12, comprenant en outre un troisième filtre optique (FB) recouvrant au moins une troisième partie de ladite matrice (15) de diodes électroluminescentes (LED) , le troisième filtre optique étant configuré pour bloquer ledit rayonnement amplifié sur une cinquième plage de longueurs d'onde comprenant les première, deuxième, et troisième longueurs d'onde (λc, λT1, λT2 ) et pour laisser passer ledit rayonnement amplifié sur une sixième plage de longueurs d'onde comprenant la quatrième longueur d'onde (λT3) . Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, comprenant un support (12) sur lequel reposent les diodes électroluminescentes (LED) , chaque diode électroluminescente comprenant un empilement d'une première portion semiconductrice (18) reposant sur le support, de la zone active (20) en contact avec la première portion semiconductrice et d'une deuxième portion semiconductrice (22) en contact avec la zone active (20) . Dispositif selon la revendication 14, dans lequel les deuxièmes portions semiconductrices (22) des diodes électroluminescentes (LED) sont recouvertes d'une couche conductrice électriquement (26) et au moins en partie transparente au rayonnement émis par les diodes électroluminescentes (LED) .
. Dispositif selon l'une quelconque des revendications
1 à 13, dans lequel au moins l'un des pics de résonance est atténué par rapport aux autres pics de résonance. . Dispositif selon la revendication 16 dans son rattachement à la revendication 14, dans lequel les parois latérales des premières et deuxièmes portions semiconductrices (18, 22) d'au moins une partie des diodes électroluminescentes (LED) sont recouvertes d'une gaine (35) . . Dispositif selon la revendication 16 dans son rattachement à la revendication 15, dans lequel une première partie de la couche conductrice électriquement (26) recouvrant un premier groupe desdites diodes électroluminescentes (LED) a une première épaisseur et une deuxième partie de la couche conductrice électriquement (26) recouvrant un deuxième groupe desdites diodes électroluminescentes a une deuxième épaisseur, strictement inférieure à la première épaisseur. . Dispositif selon la revendication 16, dans lequel les diodes électroluminescentes (LED) d'un premier groupe desdites diodes électroluminescentes sont séparées par un premier matériau isolant électriquement (24) ayant un premier indice de réfraction et les diodes électroluminescentes (LED) d'un deuxième groupe desdites diodes électroluminescentes sont séparées par un deuxième matériau isolant électriquement ayant un deuxième indice de réfraction différent du premier indice de réfraction.. Procédé de fabrication d'un dispositif optoélectronique (10 ; 32 ; 34 ; 36) comprenant une matrice (15) de diodes électroluminescentes axiales (LED) , les diodes électroluminescentes comprenant chacune une zone active (20) configurée pour émettre un rayonnement électromagnétique dont le spectre d'émission comprend un maximum à une première longueur d'onde (λc) et une largeur à mi-hauteur comprise entre 100 nm et 180 nm, la matrice formant un cristal photonique configuré pour pouvoir former trois pics de résonance amplifiant l'intensité dudit rayonnement électromagnétique à au moins des deuxième, troisième, et quatrième longueurs d'onde (λT1, λT2, λT3) .. Procédé selon la revendication 20, dans lequel chaque zone active (20) est configurée pour émettre le rayonnement électromagnétique dont le spectre d'émission a une largeur à mi-hauteur comprise entre 100 nm et 180 nm. . Procédé selon la revendication 20 ou 21, dans lequel la formation des diodes électroluminescentes (LED) de la matrice (15) comprend les étapes suivantes :
- formation de deuxièmes portions semiconductrices (22) sur un substrat (42) , les deuxièmes portions semiconductrices étant séparées les unes des autres du pas de la matrice ;
- formation d'une zone active (20) sur chaque deuxième portion semiconductrice ; et
- formation d'une première portion semiconductrice (18) sur chaque zone active. . Procédé selon l'une quelconque des revendications 20 à 22, dans lequel les diodes électroluminescentes sont réparties au moins en premier et deuxième groupes de diodes électroluminescentes, le procédé comprenant la formation d'un premier filtre optique sur le premier groupe et d'un deuxième filtre optique sur le deuxième groupe, le deuxième filtre optique étant différent du premier filtre optique.. Procédé selon l'une quelconque des revendications 20 à 23, comprenant l'atténuation d'au moins l'un des pics de résonance par rapport aux autres pics de résonance après la formation des diodes électroluminescentes .
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