WO2021132585A1 - Black light shielding member - Google Patents

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ひのき 坂村
坂爪 直樹
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ソマール株式会社
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Abstract

The present invention provides a black light shielding member which has high blackness, while having an antireflection effect due to excellently low gloss. The present invention produces a black light shielding member which is provided with: a base material film; a resin light shielding layer that is formed on at least one surface of the base material film, while having a relief pattern; and a blackening layer that is formed on the resin light shielding layer. A degree of blackness having an L value of 12 or less is achieved by adjusting so that the arithmetic mean roughness Ra of the surface, on which the light shielding layer and the blackening layer are formed, is not less than 0.25 μm and the maximum thickness of the blackening layer is less than the above-mentioned Ra value.

Description

黒色遮光部材Black shading member
 本発明は黒色遮光部材に関し、さらに詳しくは、スマートフォンを含む携帯電話等のカメラユニット等光学機器に好適に用いることができる黒色遮光部材に関する。 The present invention relates to a black shading member, and more particularly to a black shading member that can be suitably used for optical devices such as camera units of mobile phones including smartphones.
 通常、カメラのレンズ絞り、シャッターおよびレンズスペーサーには、遮光部材が用いられている。
 このような遮光部材としては、カーボンブラック等を含有する黒色ポリエステル基材等の表面に所定の凹凸形状を形成した黒色フィルムが知られている。上記凹凸を形成する方法としては、基材表面にマット剤を含む遮光層を被覆する方法や基材表面をサンドブラスト等の手法により粗面化処理する方法が挙げられる。
Usually, a light-shielding member is used for the lens diaphragm, shutter and lens spacer of a camera.
As such a light-shielding member, a black film having a predetermined uneven shape formed on the surface of a black polyester base material containing carbon black or the like is known. Examples of the method for forming the unevenness include a method of coating the surface of the base material with a light-shielding layer containing a matting agent and a method of roughening the surface of the base material by a method such as sandblasting.
 特許文献1には、上記方法等を用いて、表面のJIS B0601:2001における算術平均粗さRaが0.5μm以上で、かつ最大山高さRpと最大谷深さRvとの差(RpーRv)が3未満である遮光部材を作製できることが記載されている。特許文献1の遮光部材は、薄型化しても優れた反射防止性能を有し、高硬度で、遮光層とフィルム基材との密着性も優れるため、長期にわたり優れた反射防止性能を維持できることが示されている。 In Patent Document 1, the above method or the like is used, and the arithmetic mean roughness Ra of the surface in JIS B0601: 2001 is 0.5 μm or more, and the difference between the maximum peak height Rp and the maximum valley depth Rv (Rp-Rv). ) Is less than 3, it is described that a light-shielding member can be produced. The light-shielding member of Patent Document 1 has excellent antireflection performance even if it is made thinner, has high hardness, and has excellent adhesion between the light-shielding layer and the film base material, so that excellent antireflection performance can be maintained for a long period of time. It is shown.
国際公開WO2018/052044号公報International Publication WO2018 / 052044 Gazette
 近年、デザイン性の向上を目的に、光学機器用遮光部材の黒さを際立たせたものが求められている。しかしながら、未だ満足のいくものが得られていない。
 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、優れた低光沢性による反射防止効果と高い黒色性を有する遮光部材を提供することを目的とする。
In recent years, for the purpose of improving design, there has been a demand for a light-shielding member for an optical device that emphasizes the blackness. However, we have not yet obtained a satisfactory one.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a light-shielding member having an antireflection effect due to excellent low glossiness and high blackness.
 上記課題に鑑み鋭意研究の結果、本発明者らは、基材フィルム、および基材フィルムの少なくとも一方の面に形成された、凹凸形状を有する樹脂製遮光層を有する黒色遮光部材において、上記凹凸形状の上に黒色化層を形成して、遮光部材表面の凹凸形状をさらに制御することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明に想到した。すなわち、本発明の黒色遮光部材は、基材フィルム、および上記基材フィルムの少なくとも一方の面に形成された、凹凸形状を有する樹脂製遮光層と、上記樹脂製遮光層上に形成された黒色化層を備える黒色遮光部材であって、上記遮光層と黒色化層が形成された面の表面の算術平均粗さRaは0.25μm以上で、かつL値は12以下であり、上記黒色化層の最大厚さは、上記Raより小さいことを特徴とする。
 ここで、樹脂製遮光層とは、少なくとも黒色化層を形成する表面の凹凸部が樹脂製であることをいう。例えば、後で述べるように凹凸形状を形成した金属製基材フィルム表面にマット剤を含む遮光層および/またはマット剤を含まない遮光層を形成した構成も本発明の樹脂製遮光層に含まれる。
 なお、本発明でいう算術平均粗さRaは、JIS B0601:2001に基づいて算定したものであり、L値は、JIS Z8781-4に基づいて算定したL*a*b*色空間のうち明度を表すL*値のことである。
As a result of diligent research in view of the above problems, the present inventors have made the above-mentioned unevenness in the base film and the black light-shielding member having a resin-made light-shielding layer having an uneven shape formed on at least one surface of the base film. We have found that the above problems can be solved by forming a blackening layer on the shape and further controlling the uneven shape of the surface of the light-shielding member, and have arrived at the present invention. That is, the black light-shielding member of the present invention includes a base film, a resin light-shielding layer having an uneven shape formed on at least one surface of the base film, and a black color formed on the resin light-shielding layer. A black light-shielding member provided with a blackened layer, wherein the arithmetic mean roughness Ra of the surface on which the light-shielding layer and the blackened layer are formed is 0.25 μm or more and the L value is 12 or less, and the blackening is performed. The maximum thickness of the layer is smaller than that of Ra.
Here, the resin light-shielding layer means that at least the uneven portion of the surface forming the blackening layer is made of resin. For example, as will be described later, the resin light-shielding layer of the present invention also includes a structure in which a light-shielding layer containing a matting agent and / or a light-shielding layer not containing a matting agent is formed on the surface of a metal base film having an uneven shape. ..
The arithmetic mean roughness Ra referred to in the present invention is calculated based on JIS B0601: 2001, and the L value is the brightness of the L * a * b * color space calculated based on JIS Z8781-4. It is an L * value that represents.
 上記樹脂製遮光層は、マット剤および樹脂成分を含有する樹脂層を有することが好ましい。
 また、上記樹脂製遮光層は、基材フィルム表面に形成された粗面化部を含んでもよい。
 一方、上記黒色化層は、無機系材料を含有することが好ましい。
 上記黒色化層は、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、酸化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化ケイ素から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。
 また、上記黒色化層は、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着(CVD)法から選択されるいずれかの方法で形成されることが好ましい。
 さらに、上記黒色化層の最大厚さは、上記表面の算術平均粗さRaの1/2の値より小さいことが好ましい。
The resin light-shielding layer preferably has a resin layer containing a matting agent and a resin component.
Further, the resin light-shielding layer may include a roughened portion formed on the surface of the base film.
On the other hand, the blackening layer preferably contains an inorganic material.
The blackening layer preferably contains at least one selected from magnesium fluoride, calcium fluoride, lithium fluoride, aluminum oxide, gallium oxide, and silicon oxide.
Further, the blackening layer is preferably formed by any method selected from a sputtering method, a vapor deposition method, an ion plating method, and a chemical vapor deposition (CVD) method.
Further, the maximum thickness of the blackening layer is preferably smaller than the value of 1/2 of the arithmetic mean roughness Ra of the surface.
 本発明の黒色遮光部材は、優れた低光沢性による反射防止効果を有するのみならず、黒色性が高く黒さが際立っているため、デザイン性にも優れる。このため、スマートフォン等の携帯電話のカメラユニットとしても好適に利用することができる。 The black light-shielding member of the present invention not only has an antireflection effect due to its excellent low glossiness, but also has a high blackness and outstanding blackness, so that it is also excellent in design. Therefore, it can be suitably used as a camera unit of a mobile phone such as a smartphone.
本発明の一実施形態における遮光部材の構成を示す断面模式図である(黒色化層形成前(a)、黒色化層形成後(b))。It is sectional drawing which shows the structure of the light-shielding member in one Embodiment of this invention (before blackening layer formation (a), after blackening layer formation (b)). 本発明の他の実施形態における遮光部材の構成を示す断面模式図である(黒色化層形成前(a)、黒色化層形成後(b))。It is sectional drawing which shows the structure of the light-shielding member in another embodiment of this invention (before blackening layer formation (a), after blackening layer formation (b)).
 以下に本発明の実施の形態について詳細に説明する。
 なお、本明細書中、数値範囲を表す「~」は、その上限値および下限値としてそれぞれ記載されている数値を含む範囲を表す。また、数値範囲において上限値のみ単位が記載されている場合は、下限値も上限値と同じ単位であることを意味する。
 本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値または下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値または下限値に置き換えてもよい。
 また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値または下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
 本明細書において組成物中の各成分の含有率または含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率または含有量を意味する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
In addition, in this specification, "~" which represents a numerical value range represents the range including the numerical value described as the upper limit value and the lower limit value, respectively. Further, when the unit is described only for the upper limit value in the numerical range, it means that the lower limit value is also the same unit as the upper limit value.
In the numerical range described stepwise in the present specification, the upper limit value or the lower limit value described in one numerical range may be replaced with the upper limit value or the lower limit value of another numerical range described stepwise.
Further, in the numerical range described in the present specification, the upper limit value or the lower limit value described in a certain numerical range may be replaced with the value shown in the examples.
In the present specification, the content or content of each component in the composition refers to the content of each component in the composition when a plurality of substances corresponding to each component are present in the composition, unless otherwise specified. Means the total content or content of a substance.
 以下に本発明の実施の形態について詳細に説明する。
 本発明の黒色遮光部材は、基材フィルム、および上記基材フィルムの少なくとも一方の面に形成された、凹凸形状を有する樹脂製遮光層と、上記樹脂製遮光層上に形成された黒色化層を備える黒色遮光部材であって、
 上記遮光層と黒色化層が形成された面の表面の算術平均粗さRaは0.25μm以上で、かつ黒色度(L値)は12以下であり、上記黒色化層の最大厚さは、上記Raより小さいことを特徴とする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The black light-shielding member of the present invention includes a base film, a resin light-shielding layer having an uneven shape formed on at least one surface of the base film, and a blackening layer formed on the resin light-shielding layer. It is a black shading member equipped with
The arithmetic average roughness Ra of the surface on which the light-shielding layer and the blackening layer are formed is 0.25 μm or more, and the blackness (L value) is 12 or less, and the maximum thickness of the blackening layer is It is characterized in that it is smaller than the above Ra.
 初めに、本発明の樹脂製遮光層の凹凸形状について、図を参照して、説明する。
 樹脂製遮光層の凹凸形状の形成方法としては、以下の(A)、(B)および(C)の方法が挙げられる。
 (A)の方法では、図1(a)に示すように、平坦な基材フィルム2の表面にマット剤31とマトリックス部32を含有する遮光層3を被覆する。遮光層3の表面には、マット剤31により凹凸が形成される。ここで、遮光部材1表面のRaは、マット剤31の粒径、粒度分布、含有量および遮光層3の膜厚等を調整することにより制御することができる。また、塗布液作製の際の溶剤の種類や固形分濃度、基材フィルムへの塗布量を調整することにより、制御することもできる。さらに、塗布液の塗布方法や乾燥温度、時間および乾燥時の風量等の塗膜製造条件によっても、制御することができる。
First, the uneven shape of the resin light-shielding layer of the present invention will be described with reference to the drawings.
Examples of the method for forming the uneven shape of the resin light-shielding layer include the following methods (A), (B) and (C).
In the method (A), as shown in FIG. 1 (a), the surface of the flat base film 2 is coated with the light-shielding layer 3 containing the matting agent 31 and the matrix portion 32. The surface of the light-shielding layer 3 is formed with irregularities by the matting agent 31. Here, Ra on the surface of the light-shielding member 1 can be controlled by adjusting the particle size, particle size distribution, content, film thickness of the light-shielding layer 3 and the like of the matting agent 31. Further, it can be controlled by adjusting the type of solvent, the solid content concentration, and the coating amount on the base film at the time of preparing the coating liquid. Further, it can be controlled by the coating film production conditions such as the coating method of the coating liquid, the drying temperature, the time, and the air volume at the time of drying.
 (B)の方法では、図2(a)に示すように、基材フィルム2表面に凹凸を形成する。基材フィルムが樹脂製フィルムの場合、凹凸を形成するためには、例えば、サンドブラスト法を適用することができる。ここで、用いる研磨剤の粒径や噴射圧等を制御することにより、Raを制御することができる。また、例えば、基材フィルムの原料にマット剤を含有させ、マット剤を含む基材フィルムを作製することもできる。マット剤としては後述する遮光層と同じ種類のものを好ましく使用することができる。マット剤の粒径、粒度分布、含有量と基材フィルムの厚さを制御することにより、基材フィルム表面のRaを制御することができる。
 さらに、凹凸を形成した基材フィルム2上に塗布液等を被覆して、遮光部材1表面に、基材フィルム2表面の凹凸形状にならった樹脂製薄膜4を形成することもできる。ここでは、遮光部材表面の樹脂製薄膜4は、例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素系樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、イミド樹脂等の樹脂成分からなる。樹脂製薄膜4はマット剤を含有せず、遮光部材1表面のRa等は、樹脂製基材フィルム2の凹凸形状および樹脂製薄膜4の膜厚等により調製することができる。
 なお、上記樹脂製薄膜4と後述する黒色化層とでは、材料および膜厚が異なる。すなわち、樹脂製薄膜4は樹脂成分から形成され、膜厚は、1~50μm程度、好ましくは2~10μm程度である。一方、後述する黒色化層は、無機材料またはサブミクロンオーダーの樹脂粒子およびバインダー樹脂成分等から形成され、膜厚は、10nm~200nm程度である。
 上記相違により、黒色化層を形成した本発明の黒色遮光部材では、L値が12以下の黒色度が実現される。
In the method (B), as shown in FIG. 2A, unevenness is formed on the surface of the base film 2. When the base film is a resin film, for example, a sandblasting method can be applied to form irregularities. Here, Ra can be controlled by controlling the particle size, injection pressure, and the like of the abrasive used. Further, for example, a base film containing a matting agent can be produced by adding a matting agent to the raw material of the base film. As the matting agent, the same type as the light-shielding layer described later can be preferably used. Ra on the surface of the base film can be controlled by controlling the particle size, particle size distribution, content and thickness of the base film of the matting agent.
Further, it is also possible to coat the base film 2 on which the unevenness is formed with a coating liquid or the like to form a resin thin film 4 having the uneven shape of the surface of the base film 2 on the surface of the light-shielding member 1. Here, the resin thin film 4 on the surface of the light-shielding member is made of, for example, a resin component such as an acrylic resin, a polyester resin, an epoxy resin, a urethane resin, a urea-based resin, a melamine resin, a fluororesin, or an imide resin. The resin thin film 4 does not contain a matting agent, and Ra and the like on the surface of the light-shielding member 1 can be prepared by the uneven shape of the resin base film 2 and the film thickness of the resin thin film 4.
The material and film thickness of the resin thin film 4 and the blackening layer described later are different. That is, the resin thin film 4 is formed from the resin component, and the film thickness is about 1 to 50 μm, preferably about 2 to 10 μm. On the other hand, the blackening layer described later is formed of an inorganic material, resin particles on the order of submicrons, a binder resin component, or the like, and has a film thickness of about 10 nm to 200 nm.
Due to the above difference, in the black shading member of the present invention in which the blackening layer is formed, a blackness having an L value of 12 or less is realized.
 (C)の方法では、(B)のように基材フィルム表面に凹凸を形成し、かつ(A)のように遮光部材表面にマット剤を含有する遮光層を被覆する。この構成において、遮光部材表面のRaは、基材フィルム2表面の凹凸形状、遮光層の膜厚、遮光層中のマット剤の粒径、粒度分布、含有量、遮光層の製造条件等により、制御することができる。 In the method (C), irregularities are formed on the surface of the base film as in (B), and a light-shielding layer containing a matting agent is coated on the surface of the light-shielding member as in (A). In this configuration, Ra on the surface of the light-shielding member depends on the uneven shape of the surface of the base film 2, the film thickness of the light-shielding layer, the particle size of the matting agent in the light-shielding layer, the particle size distribution, the content, the manufacturing conditions of the light-shielding layer, and the like. Can be controlled.
 本発明の黒色遮光部材は、基材フィルムの少なくとも一方の面に遮光層が形成された構成であることが好ましい。なお、以下の説明では、(B)の方法で形成される、基材フィルム表面に形成される凹凸形状(粗面化部)およびその表面に被覆するマット剤を含有しない樹脂製薄膜も遮光層に含めることとする。
 以下に本発明の黒色遮光部材の具体的な材料構成について述べる。
The black light-shielding member of the present invention preferably has a structure in which a light-shielding layer is formed on at least one surface of the base film. In the following description, the uneven shape (roughened portion) formed on the surface of the base film and the resin thin film that does not contain the matting agent that covers the surface, which is formed by the method (B), is also a light-shielding layer. Will be included in.
The specific material composition of the black light-shielding member of the present invention will be described below.
(1)基材フィルム
 本発明に用いられる基材フィルムは、特に限定されず、透明なものでも不透明なものでもよい。また、本発明の基材フィルムは、樹脂製であっても金属製であってもよい。
 樹脂製基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン‐プロピレン共重合体、エチレンと炭素数4以上のα‐オレフィンとの共重合体等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ナイロン等のポリアミド、エチレン―酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等のその他の汎用プラスチックフィルムや、ポリカーボネート、ポリイミド等のエンジニアリングプラスチックフィルムが挙げられる。
 また、金属製基材フィルムとしては、金、銀、銅、アルミニウム、チタン、亜鉛、ベリリウム、ニッケル、スズ等の金属を用いた金属シートや、リン青銅、銅ニッケル、銅ベリリウム、ステンレス、真鍮、ジュラルミン等の合金を用いた合金シートが挙げられる。
 これらの素材の中でも比較的強度が高く、経済性や汎用性が高いという観点からは、二軸延伸したポリエチレンテレフタレート、耐熱性を有するという観点からは、ポリイミドフィルム、さらに高い耐熱性を有するという観点からは、銅からなる金属シートを用いることが好ましい。樹脂製基材フィルムの場合には、あらかじめカーボンブラックやアニリンブラックのような黒色着色剤を練り込んで光学濃度2以上、好ましくは4以上の高遮光性とすることにより、より優れた遮光効果を得ることができる。
 基材フィルムの厚さは、特に限定されないが、樹脂製基材フィルムを用いる場合は、4~250μmであることが好ましく、12~100μmであることがより好ましい。厚さを上記範囲とすることにより、小型や薄型の光学部品にも好適に用いることができる。また、携帯電話等のカメラユニット等の光学機器に用いられる場合は、4~20μmとすることが好ましい。
 金属製基材フィルムを用いる場合は、厚さは、6~40μmが好ましく、特に、携帯電話等のカメラユニット等の光学機器に用いられる場合は、10~20μmとすることが好ましい。
(1) Base film The base film used in the present invention is not particularly limited and may be transparent or opaque. Further, the base film of the present invention may be made of resin or metal.
Examples of the resin base film include polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, polyolefin such as a copolymer of ethylene and α-olefin having 4 or more carbon atoms, polyester such as polyethylene terephthalate, and polyamide such as nylon. , Other general-purpose plastic films such as ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl chloride and polyvinyl acetate, and engineering plastic films such as polycarbonate and polyimide.
Examples of the metal base film include metal sheets using metals such as gold, silver, copper, aluminum, titanium, zinc, beryllium, nickel, and tin, phosphorus bronze, copper nickel, copper beryllium, stainless steel, and brass. An alloy sheet using an alloy such as duralmin can be mentioned.
Among these materials, from the viewpoint of relatively high strength, economy and versatility, biaxially stretched polyethylene terephthalate, from the viewpoint of having heat resistance, polyimide film, from the viewpoint of having even higher heat resistance. Therefore, it is preferable to use a metal sheet made of copper. In the case of a resin base film, a black colorant such as carbon black or aniline black is kneaded in advance to obtain a high light-shielding property with an optical density of 2 or more, preferably 4 or more, thereby achieving a better light-shielding effect. Obtainable.
The thickness of the base film is not particularly limited, but when a resin base film is used, it is preferably 4 to 250 μm, more preferably 12 to 100 μm. By setting the thickness within the above range, it can be suitably used for small and thin optical components. Further, when it is used for an optical device such as a camera unit such as a mobile phone, it is preferably 4 to 20 μm.
When a metal base film is used, the thickness is preferably 6 to 40 μm, and particularly preferably 10 to 20 μm when used in an optical device such as a camera unit such as a mobile phone.
 上記(B)および(C)の方法を用いる場合には、基材フィルム表面に、マット加工を施し、凹凸(粗面化部)を形成する。マット加工法は、特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、基材フィルムが樹脂製基材フィルムの場合は、化学的エッチング法、ブラスト法、エンボス法、カレンダー法、コロナ放電法、プラズマ放電法、樹脂と粗面化形成剤によるケミカルマット法などを用いることができる。また、基材フィルムに直接マット剤を含有させ、樹脂製基材フィルムの表面に凹凸を形成することもできる。上記加工法の中でも、形状コントロールのしやすさや経済性、取扱い性などの観点から、ブラスト法、特にサンドブラスト法を用いるのが好ましい。
 サンドブラスト法では、用いる研磨剤の粒径や噴射圧等により、表面のRa等を制御することができる。また、エンボス法では、エンボスロール形状や圧を調整することにより、表面のRa等を制御することができる。
 一方、基材フィルムが金属製基材フィルムの場合は、黒化処理、ブラスト処理、エッチング処理等により、表面に凹凸を形成することができる。なお、基材フィルムが金属製基材フィルムの場合には、表面の凹凸(粗面化部)に、後述するマット剤を含有する遮光層またはマット剤を含有しない遮光層の少なくとも一方を形成する必要がある。
When the above methods (B) and (C) are used, the surface of the base film is matted to form irregularities (roughened portions). The mat processing method is not particularly limited, and a known method can be used. For example, when the base film is a resin base film, a chemical etching method, a blast method, an embossing method, a calender method, a corona discharge method, a plasma discharge method, a chemical mat method using a resin and a roughening forming agent, etc. Can be used. Further, it is also possible to directly contain the matting agent in the base film to form irregularities on the surface of the resin base film. Among the above processing methods, it is preferable to use the blasting method, particularly the sandblasting method, from the viewpoint of ease of shape control, economy, and handleability.
In the sandblasting method, Ra and the like on the surface can be controlled by the particle size and injection pressure of the abrasive used. Further, in the embossing method, Ra and the like on the surface can be controlled by adjusting the embossing roll shape and pressure.
On the other hand, when the base film is a metal base film, irregularities can be formed on the surface by a blackening treatment, a blast treatment, an etching treatment, or the like. When the base film is a metal base film, at least one of a light-shielding layer containing a matting agent and a light-shielding layer not containing a matting agent, which will be described later, is formed on the uneven surface (roughened portion). There is a need.
(2)アンカー層
 上記基材フィルムの少なくとも一方の面に遮光層を設ける前に、基材フィルムと遮光層との接着性を向上させるために、アンカー層を設けることもできる。アンカー層としては、尿素系樹脂層、メラミン系樹脂層、ウレタン系樹脂層、ポリエステル系樹脂等を適用することができる。例えばウレタン系樹脂層は、ポリイソシアネートとジアミン、ジオール等の活性水素含有化合物を含有する溶液を基材フィルム表面に塗布して、硬化させることにより得られる。また、尿素系樹脂、メラミン系樹脂の場合は、水溶性尿素系樹脂または水溶性メラミン系樹脂を含有する溶液を基材表面に塗布し、硬化させることにより得られる。ポリエステル系樹脂は、有機溶剤(メチルエチルケトン、トルエン等)にて溶解または希釈した溶液を基材表面に塗布し、乾燥させることにより得られる。
(2) Anchor layer An anchor layer may be provided in order to improve the adhesiveness between the base film and the light-shielding layer before providing the light-shielding layer on at least one surface of the base film. As the anchor layer, a urea-based resin layer, a melamine-based resin layer, a urethane-based resin layer, a polyester-based resin, or the like can be applied. For example, the urethane resin layer can be obtained by applying a solution containing polyisocyanate and an active hydrogen-containing compound such as diamine or diol to the surface of the base film and curing it. Further, in the case of a urea-based resin or a melamine-based resin, it is obtained by applying a solution containing the water-soluble urea-based resin or the water-soluble melamine-based resin to the surface of the base material and curing it. The polyester resin can be obtained by applying a solution dissolved or diluted with an organic solvent (methyl ethyl ketone, toluene, etc.) to the surface of the base material and drying it.
(3)遮光層
 上述したように(B)の方法で、樹脂製基材フィルム表面に形成した凹凸部のみを遮光層とする遮光部材以外では、基材フィルムの少なくとも一方の面に、遮光層を被覆する。上記遮光層には、上記(A)および(C)の方法で用いるマット剤を含有する遮光層と(B)の方法で用いるマット剤を有しない遮光層(高硬度層、薄膜)がある。
(3) Light-shielding layer As described above, except for the light-shielding member having only the uneven portion formed on the surface of the resin base film as the light-shielding layer by the method (B), a light-shielding layer is formed on at least one surface of the base film. Cover. The light-shielding layer includes a light-shielding layer containing the matting agent used in the methods (A) and (C) and a light-shielding layer (high hardness layer, thin film) having no matting agent used in the method (B).
 以下に、それぞれの遮光層の構成について説明する。
i)マット剤を含有する遮光層
 遮光層の構成成分としては、樹脂成分、マット剤および着色・導電剤が含まれる。
 樹脂成分は、マット剤および着色・導電剤のバインダーとなる。樹脂成分の材料は特に限定されず、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂のいずれを用いることもできる。具体的な熱硬化性樹脂としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、アルキド系樹脂等が挙げられる。また、熱可塑性樹脂としては、ポリアクリルエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ブチラール樹脂、スチレン―ブタジエン共重合体樹脂等が挙げられる。耐熱性、耐湿性、耐溶剤性および表面硬度の観点からは、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。熱硬化性樹脂としては、柔軟性および被膜の強靭さを考慮すると、アクリル樹脂が特に好ましい。
The configuration of each light-shielding layer will be described below.
i) Light-shielding layer containing a matting agent The constituent components of the light-shielding layer include a resin component, a matting agent, and a coloring / conductive agent.
The resin component serves as a binder for the matting agent and the coloring / conductive agent. The material of the resin component is not particularly limited, and either a thermoplastic resin or a thermosetting resin can be used. Specific thermosetting resins include acrylic resins, urethane resins, phenol resins, melamine resins, urea resins, diallyl phthalate resins, unsaturated polyester resins, epoxy resins, alkyd resins and the like. Can be mentioned. Examples of the thermoplastic resin include a polyacrylic ester resin, a polyvinyl chloride resin, a butyral resin, and a styrene-butadiene copolymer resin. From the viewpoint of heat resistance, moisture resistance, solvent resistance and surface hardness, it is preferable to use a thermosetting resin. As the thermosetting resin, an acrylic resin is particularly preferable in consideration of flexibility and toughness of the coating film.
 遮光層の構成成分として硬化剤を添加することにより、樹脂成分の架橋を促進させることができる。硬化剤としては、官能基をもつ尿素化合物、メラミン化合物、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物等を用いることができる。これらの中でも、特にイソシアネート化合物が好ましい。硬化剤の配合割合は、樹脂成分100質量%に対して、10~50質量%とすることが好ましい。上記範囲で硬化剤を添加することにより、より好適な硬度の遮光層が得られ、他部材と摺動する場合であっても、長期にわたり遮光層のRaが維持され、優れた反射防止効果が持続される。 By adding a curing agent as a constituent component of the light-shielding layer, cross-linking of the resin component can be promoted. As the curing agent, a urea compound having a functional group, a melamine compound, an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, an oxazoline compound and the like can be used. Among these, isocyanate compounds are particularly preferable. The mixing ratio of the curing agent is preferably 10 to 50% by mass with respect to 100% by mass of the resin component. By adding a curing agent in the above range, a light-shielding layer having a more suitable hardness can be obtained, Ra of the light-shielding layer can be maintained for a long period of time even when sliding with other members, and an excellent antireflection effect can be obtained. Sustained.
 硬化剤を用いる場合は、その反応を促進するために、反応触媒を併用することもできる。反応触媒としては、アンモニアや塩化アンモニウム等が挙げられる。反応触媒の配合割合は、硬化剤100質量%に対し0.1~10質量%の範囲であることが好ましい。 When a curing agent is used, a reaction catalyst can also be used in combination to promote the reaction. Examples of the reaction catalyst include ammonia and ammonium chloride. The compounding ratio of the reaction catalyst is preferably in the range of 0.1 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the curing agent.
 マット剤としては、樹脂系粒子を用いることも無機系粒子を用いることもできる。樹脂系粒子としては、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ベンゾグアナミン/メラミン/ホルマリン縮合物、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、スチレン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。一方、無機系粒子としては、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン等が挙げられる。これらは単独で用いることもできるし、2種以上を組み合わせて用いることもできる。
 マット剤の平均粒径、粒度分布および含有量は、設定する遮光層の膜厚や基材フィルムの表面の凹凸形状の度合いによって異なってくるものであり、遮光部材の表面が所望のRa等を得られるように調整する。(A)の方法の場合、例えば、表面が平滑な基材フィルム上に膜厚2~35μmの遮光層を形成する場合は、通常、マット剤の平均粒径は、1~40μmが好ましい。また、遮光層の膜厚を4~25μmとした場合は、マット剤の平均粒径は、5~20μmであることが好ましい。
As the matting agent, resin-based particles or inorganic particles can be used. Examples of the resin-based particles include melamine resin, benzoguanamine resin, benzoguanamine / melamine / formalin condensate, acrylic resin, urethane resin, styrene resin, fluororesin, silicone resin and the like. On the other hand, examples of the inorganic particles include silica, alumina, calcium carbonate, barium sulfate, titanium oxide and the like. These can be used alone or in combination of two or more.
The average particle size, particle size distribution, and content of the matting agent vary depending on the film thickness of the light-shielding layer to be set and the degree of unevenness on the surface of the base film. Adjust to obtain. In the case of the method (A), for example, when a light-shielding layer having a film thickness of 2 to 35 μm is formed on a base film having a smooth surface, the average particle size of the matting agent is usually preferably 1 to 40 μm. When the film thickness of the light-shielding layer is 4 to 25 μm, the average particle size of the matting agent is preferably 5 to 20 μm.
 (C)の方法の場合、例えば、凹凸形状を有する基材フィルム上に膜厚1~35μmの遮光層を形成する場合は、マット剤の平均粒径は2~15μmが好ましい。また、遮光層の膜厚を2~7μmとした場合は、マット剤の平均粒径は2~10μmであることが好ましい。
 マット剤の粒度分布は、遮光層の膜厚と選択したマット剤の大きさの組み合わせによって異なってくるものであり、一概に言えないが、できる限りシャープであることが好ましい。また、平均粒径および粒度分布の異なる複数のマット剤を用いて、Ra等を調整することもできる。
 マット剤の添加量は、マット剤の平均粒径、粒度分布および遮光層の膜厚にもよるが、(A)の方法の場合、遮光層全体を100質量%として、20質量%~80質量%であることが好ましい。また、(C)の方法の場合、1質量%~40質量%であることが好ましい。
 樹脂製基材フィルムの表面形状ならびにマット剤の平均粒径、粒度分布および含有量、さらには、遮光層の膜厚等を制御して、遮光層表面のRa等を調整することにより、薄くても優れた遮光特性を発揮する。
In the case of the method (C), for example, when a light-shielding layer having a film thickness of 1 to 35 μm is formed on a base film having an uneven shape, the average particle size of the matting agent is preferably 2 to 15 μm. When the film thickness of the light-shielding layer is 2 to 7 μm, the average particle size of the matting agent is preferably 2 to 10 μm.
The particle size distribution of the matting agent varies depending on the combination of the film thickness of the light-shielding layer and the size of the selected matting agent, and although it cannot be said unconditionally, it is preferably as sharp as possible. Further, Ra and the like can be adjusted by using a plurality of matting agents having different average particle sizes and particle size distributions.
The amount of the matting agent added depends on the average particle size of the matting agent, the particle size distribution, and the film thickness of the light-shielding layer, but in the case of the method (A), the entire light-shielding layer is taken as 100% by mass, and 20% by mass to 80% by mass. It is preferably%. Further, in the case of the method (C), it is preferably 1% by mass to 40% by mass.
By controlling the surface shape of the resin base film, the average particle size, particle size distribution and content of the matting agent, the film thickness of the light-shielding layer, etc., and adjusting Ra, etc. on the surface of the light-shielding layer, the film can be made thin. Also exhibits excellent light-shielding characteristics.
 マット剤の形状については特に限定されないが、塗布液の流動特性や塗布性、得られる遮光層の摺動特性等を考慮すると、真球状のマット剤を用いることが好ましい。さらに、光の反射を抑制するために、有機系又は無機系着色剤によりマット剤を黒色に着色することもできる。具体的な着色剤としては、カーボンブラック、アニリンブラック、カーボンナノチューブ等が挙げられる。カーボンブラックで着色したマット剤を用いて、さらに、着色・導電剤としてカーボンブラック等を遮光層中に添加することにより、より優れた遮光特性を得ることができる。 The shape of the matting agent is not particularly limited, but it is preferable to use a spherical matting agent in consideration of the flow characteristics and coating properties of the coating liquid, the sliding characteristics of the obtained light-shielding layer, and the like. Further, in order to suppress the reflection of light, the matte agent can be colored black with an organic or inorganic colorant. Specific examples of the colorant include carbon black, aniline black, carbon nanotubes and the like. By using a matting agent colored with carbon black and further adding carbon black or the like as a coloring / conductive agent to the light-shielding layer, more excellent light-shielding characteristics can be obtained.
 着色・導電剤としては、通常、カーボンブラック等を用いる。着色・導電剤を添加することにより、遮光層が着色するため、反射防止効果が向上し、かつ良好な帯電防止効果が得られる。
 着色・導電剤の平均粒径は、1nm~1000nmであることが好ましく、5nm~500nmであることがより好ましい。着色・導電剤の粒径を上記範囲とすることにより、より優れた遮光特性を得ることができる。
 また、着色・導電剤の含有量は、遮光層全体を100質量%として、9質量%~38質量%であることが好ましい。着色・導電剤の含有量を上記範囲とすることにより、より優れた遮光特性を得ることができる。
As the coloring / conductive agent, carbon black or the like is usually used. By adding a coloring / conductive agent, the light-shielding layer is colored, so that the antireflection effect is improved and a good antistatic effect can be obtained.
The average particle size of the coloring / conductive agent is preferably 1 nm to 1000 nm, and more preferably 5 nm to 500 nm. By setting the particle size of the coloring / conductive agent within the above range, more excellent light-shielding characteristics can be obtained.
The content of the coloring / conductive agent is preferably 9% by mass to 38% by mass, with the entire light-shielding layer as 100% by mass. By setting the content of the coloring / conductive agent in the above range, more excellent light-shielding characteristics can be obtained.
 本発明においては、遮光層の構成成分として、必要に応じて、さらに、レベリング剤、増粘剤、pH調整剤、潤滑剤、分散剤、消泡剤等を添加することができる。
 潤滑剤としては、固体潤滑剤であるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)粒子の他、ポリエチレン系ワックス、シリコーン粒子等を用いることができる。
In the present invention, a leveling agent, a thickener, a pH adjuster, a lubricant, a dispersant, a defoaming agent and the like can be further added as constituent components of the light-shielding layer, if necessary.
As the lubricant, in addition to polytetrafluoroethylene (PTFE) particles which are solid lubricants, polyethylene wax, silicone particles and the like can be used.
 有機溶剤または水中に、上記構成成分を添加して、混合攪拌することにより、均一な塗布液を調製する。有機溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸ブチル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどを用いることができる。
 得られた塗布液を、基材フィルム表面に直接、または予め形成したアンカー層の上に塗布し、乾燥することにより遮光層が形成される。塗布方法は特に限定されないが、ロールコーター法やドクターブレード法等が用いられる。
 本発明における遮光層の厚さは、1μm~35μmであることが好ましい。特に、マット剤を含有する場合、(A)の方法の場合は、遮光層の厚さは、2μm~30μmであることが好ましく、4μm~25μmであることがより好ましい。また(C)方法の場合は、遮光層の厚さは、1μm~10μmであることが好ましく、2μm~7μmであることがより好ましい。
 遮光層の厚さを上記範囲とすることにより、所望の反射防止効果および摺動性が得られる。なお、マット剤を含有する遮光層の厚さは、フィルム基材表面から遮光層のマット剤により突出していないマトリックス部までの高さのことである。上記遮光層の厚さは、JIS K7130に基づいて測定することができる。
A uniform coating liquid is prepared by adding the above components to an organic solvent or water and mixing and stirring. As the organic solvent, for example, methyl ethyl ketone, toluene, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol and the like can be used.
A light-shielding layer is formed by applying the obtained coating liquid directly to the surface of the base film or on an anchor layer formed in advance and drying it. The coating method is not particularly limited, but a roll coater method, a doctor blade method, or the like is used.
The thickness of the light-shielding layer in the present invention is preferably 1 μm to 35 μm. In particular, when a matting agent is contained, in the case of the method (A), the thickness of the light-shielding layer is preferably 2 μm to 30 μm, and more preferably 4 μm to 25 μm. Further, in the case of the method (C), the thickness of the light-shielding layer is preferably 1 μm to 10 μm, and more preferably 2 μm to 7 μm.
By setting the thickness of the light-shielding layer within the above range, a desired antireflection effect and slidability can be obtained. The thickness of the light-shielding layer containing the matting agent is the height from the surface of the film substrate to the matrix portion not protruding by the matting agent of the light-shielding layer. The thickness of the light-shielding layer can be measured based on JIS K7130.
ii)マット剤を含有しない遮光層
 次に、上記(B)の方法で用いるマット剤を含有しない遮光層について説明する。この構成では、前述のとおり、遮光部材の遮光特性は、基材フィルムの凹凸形状により、制御されるので、基材フィルム表面に被覆される遮光層は基材フィルム表面の凹凸形状を維持できるように薄い層とする必要がある。このような構成では、遮光層は、導電層および摺動層として機能する。
 上記遮光層の構成成分としては、樹脂成分および着色・導電剤が含まれる。
 樹脂成分は、マット剤を含有する遮光層と同様の材料を用いることができる。
ii) Light-shielding layer containing no matting agent Next, the light-shielding layer containing no matting agent used in the method (B) above will be described. In this configuration, as described above, the light-shielding property of the light-shielding member is controlled by the uneven shape of the base film, so that the light-shielding layer coated on the surface of the base film can maintain the uneven shape of the base film surface. Must be a thin layer. In such a configuration, the light-shielding layer functions as a conductive layer and a sliding layer.
The constituent components of the light-shielding layer include a resin component and a coloring / conductive agent.
As the resin component, the same material as the light-shielding layer containing the matting agent can be used.
 着色・導電剤は、マット剤を含有する遮光層で用いられる材料と同様の材料を用いることができる。 As the coloring / conductive agent, the same material as the material used for the light-shielding layer containing the matting agent can be used.
 本構成の遮光層においても、必要に応じて、さらに、レベリング剤、増粘剤、pH調整剤、分散剤、消泡剤等を添加することができる。
 水、アルコールまたは有機溶剤中に、上記構成成分を添加して、混合攪拌することにより、均一な塗布液を調製する。
 得られた塗布液を、予めマット加工して、凹凸形状を形成した基材フィルム表面に直接、または予め形成したアンカー層を介して塗布して、乾燥することにより遮光層が形成される。塗布方法は特に限定されないが、ロールコーター法やドクターブレード法等が用いられる。
 本構成のように、マット剤を含有しない場合、遮光層の厚さは、1μm~15μmであることが好ましく、2μm~10μmであることが好ましい。遮光層の厚さを上記範囲とすることにより、基材フィルムの凹凸形状を阻害することがなく、導電性、摺動性等を付与することができる。なお、マット剤を含有しない遮光層の厚さは、フィルム基材表面のうねりを消去した遮光層自体の厚さである。
In the light-shielding layer having this structure, a leveling agent, a thickener, a pH adjuster, a dispersant, an antifoaming agent and the like can be further added, if necessary.
The above components are added to water, alcohol or an organic solvent, and the mixture is mixed and stirred to prepare a uniform coating liquid.
A light-shielding layer is formed by applying the obtained coating liquid directly to the surface of a base film having a concavo-convex shape by matting it in advance or by applying it directly through an anchor layer formed in advance and drying it. The coating method is not particularly limited, but a roll coater method, a doctor blade method, or the like is used.
When the matting agent is not contained as in this configuration, the thickness of the light-shielding layer is preferably 1 μm to 15 μm, and preferably 2 μm to 10 μm. By setting the thickness of the light-shielding layer within the above range, it is possible to impart conductivity, slidability, etc. without disturbing the uneven shape of the base film. The thickness of the light-shielding layer containing no matting agent is the thickness of the light-shielding layer itself in which the waviness on the surface of the film substrate is eliminated.
(4)黒色化層
 本発明の黒色遮光部材は、(3)で述べた樹脂製遮光層の凹凸の上に黒色化層が形成されることを特徴とする。
 図1(b)および図2(b)に、黒色化層5を形成した本発明の黒色遮光部材10の断面模式図を示す。本発明の黒色遮光部材10の黒色化層5は薄く、樹脂製遮光層3上に微細層(微細粒)が不均一に存在した構造を有するものと考えられる。そして、このような構成の黒色化層表面において生じる(黒色)光の乱反射により、本発明の黒色遮光部材では、優れた低光沢性による反射防止効果および黒色度を有するものと推察される。
 すなわち、本発明は、凹凸形状を有する樹脂製遮光層上に、薄い黒色化層を形成して、表面の算術平均粗さRaを0.25μm以上になるように調整することにより、優れた低光沢性による反射防止効果とL値が12以下の黒色度を実現できることを見出し完成されたものである。黒色化層の最大厚さは、Raより小さければ特に限定されないが、10nm~200nmであることが好ましく、50~150nmであることがより好ましく、さらには70~110nmであることが最も好ましい。
 なお、黒色化層の最大厚さは、顕微鏡観察写真等から算定することができる。
(4) Blackening Layer The black light-shielding member of the present invention is characterized in that a blackening layer is formed on the unevenness of the resin light-shielding layer described in (3).
1 (b) and 2 (b) show a schematic cross-sectional view of the black light-shielding member 10 of the present invention in which the blackening layer 5 is formed. It is considered that the blackening layer 5 of the black light-shielding member 10 of the present invention is thin and has a structure in which fine layers (fine grains) are unevenly present on the resin light-shielding layer 3. Due to the diffused reflection of (black) light generated on the surface of the blackened layer having such a structure, it is presumed that the black light-shielding member of the present invention has an antireflection effect and a blackness due to excellent low gloss.
That is, the present invention is excellent in low by forming a thin blackening layer on a resin light-shielding layer having an uneven shape and adjusting the arithmetic mean roughness Ra of the surface to be 0.25 μm or more. It was completed by finding that the antireflection effect due to the glossiness and the blackness with an L value of 12 or less can be realized. The maximum thickness of the blackening layer is not particularly limited as long as it is smaller than Ra, but is preferably 10 nm to 200 nm, more preferably 50 to 150 nm, and even more preferably 70 to 110 nm.
The maximum thickness of the blackened layer can be calculated from microscopic observation photographs and the like.
 黒色化層は、上記条件を満たせば、無機系材料であっても有機系材料であってもよく、有機系材料と無機系材料の混合材料または複合材料であってもよい。無機系材料としては、例えば、金、銀、銅、白金、コバルト、スズ、亜鉛、鉛、パラジウム、ルテニウム、ネオジウム、サマリウム、アルミニウム、マグネシウム、インジウム、ガリウム、ビスマスおよびこれらの合金等の金属、酸化アルミニウム、酸化ケイ素(二酸化ケイ素等)、酸化チタン(一酸化チタン、五酸化チタン、二酸化チタン等)、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化クロム(Cr2O3等)、酸化ガリウム、酸化ハフニウム、酸化ニッケル、酸化マグネシウム、酸化ニオブ(五酸化ニオブ等)、酸化タンタル(五酸化タンタル等)、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム等の金属酸化物およびこれらの複合物、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化セリウム、フッ化ランタン、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化ネオジウム、フッ化サマリウム、フッ化イッテルビウム、フッ化イットリウム等のフッ化物、窒化チタン、窒化クロム、炭窒化チタン、窒化チタンアルミニウム、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化炭素、窒化ホウ素炭素等の窒化物、炭素(アモルファスカーボン、ダイヤモンド、ダイヤモンドライクカーボン、グラファイト等)、炭化チタン、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化タングステン等の炭化物が挙げられる。
 また、有機系材料としては、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等のサブミクロン粒子が挙げられる。さらに、上記金属酸化物と有機分子が複合化した有機無機ハイブリッド材料(有機無機ナノ複合材料)を用いることもできる。
The blackening layer may be an inorganic material or an organic material, and may be a mixed material of an organic material and an inorganic material or a composite material as long as the above conditions are satisfied. Examples of inorganic materials include metals such as gold, silver, copper, platinum, cobalt, tin, zinc, lead, palladium, ruthenium, neodium, samarium, aluminum, magnesium, indium, gallium, bismuth and alloys thereof, and oxidation. Aluminum, silicon oxide (silicon dioxide, etc.), titanium oxide (titanium monoxide, titanium pentoxide, titanium dioxide, etc.), indium tin oxide (ITO), cerium oxide, zinc oxide, chromium oxide (Cr 2 O 3, etc.), oxidation Metal oxides such as gallium, hafnium oxide, nickel oxide, magnesium oxide, niobide oxide (niobium pentoxide, etc.), tantalum oxide (tantal pentoxide, etc.), yttrium oxide, zirconium oxide and their composites, magnesium fluoride, foot Aluminum oxide, calcium fluoride, cerium fluoride, lanthanum fluoride, lithium fluoride, sodium fluoride, neodium fluoride, samarium fluoride, itterbium fluoride, ittium fluoride and other fluorides, titanium nitride, chromium nitride, charcoal Oxides such as titanium nitride, titanium aluminum nitride, boron nitride, aluminum nitride, carbon nitride, carbon nitride, carbon (amorphous carbon, diamond, diamond-like carbon, graphite, etc.), titanium carbide, silicon carbide, boron carbide, tungsten carbide Such as carbides can be mentioned.
Examples of the organic material include submicron particles such as an acrylic resin, a styrene resin, a silicone resin, and a fluororesin. Further, an organic-inorganic hybrid material (organic-inorganic nanocomposite material) in which the above metal oxide and an organic molecule are composited can also be used.
 黒色化層の形成方法については、特に限定されないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着(CVD)法等のドライ法(乾式法)ならびにゾル-ゲル法を用いた塗布法、および上記黒色化層の材料をゾル溶液や、溶媒およびバインダー成分に分散・混合した分散液を塗布する塗布法等のウエット法(湿式法)が用いられる。
 なかでも、より優れた黒色化効果が得られることからドライ法が好ましい。ドライ法により黒色化層を形成する過程では、ナノメータレベルの粒子が遮光層の凹凸形状の凸部、凹部および傾斜面に付着し、さらに複雑で、不均一な凹凸形状が形成されるものと考えられる。このような表面形状を有する遮光部材では、入射光は黒色化層表面で複雑に反射しながら吸収されるため、より優れた低光沢性による反射防止効果および黒色度が実現されると推察される。
 また、ドライ法では、ウエット法と異なり、凹部に塗布液が溜まることに起因する表面粗さの低下が生じない点からも好ましい。さらに、溶媒を用いないことから環境への悪影響が少なく、設備も比較的小さくて済む点でも好ましい。
 ドライ法のなかでも遮光層との密着性や耐擦傷性、厚さの調整しやすさ等に優れている点で、スパッタリング法が好ましい。
The method for forming the blackened layer is not particularly limited, but is a dry method (dry method) such as a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, an ion plating method, a chemical vapor deposition (CVD) method, and a coating method using a sol-gel method. , And a wet method (wet method) such as a coating method in which a sol solution or a dispersion liquid obtained by dispersing and mixing the material of the blackening layer with a solvent and a binder component is applied is used.
Of these, the dry method is preferable because a more excellent blackening effect can be obtained. In the process of forming the blackening layer by the dry method, it is considered that nanometer-level particles adhere to the uneven convex parts, concave parts and inclined surfaces of the light-shielding layer to form a more complicated and uneven uneven shape. Be done. In the light-shielding member having such a surface shape, the incident light is absorbed while being reflected in a complicated manner on the surface of the blackening layer, so that it is presumed that the antireflection effect and the blackness due to the better low glossiness are realized. ..
Further, unlike the wet method, the dry method is also preferable in that the surface roughness does not decrease due to the accumulation of the coating liquid in the recesses. Further, since no solvent is used, there is little adverse effect on the environment, and the equipment is relatively small, which is also preferable.
Among the dry methods, the sputtering method is preferable because it is excellent in adhesion to the light-shielding layer, scratch resistance, and ease of adjusting the thickness.
 一方、ウエット法は、経済性、作業性および歩留まり等に優れているため、費用対効果の観点から、好ましく用いられる。ウエット法においては、ゾル溶液や分散液が遮光層の凹凸形状の凸部、凹部および傾斜面に塗布され、乾燥する過程で、溶媒が蒸発する際に下から上への対流が生じるため、凹凸を有する遮光層表面に、さらに複雑で、不均一な凹凸形状が形成されるものと考えられる。このような表面形状を有する遮光部材では、入射光は黒色化層表面で複雑に反射しながら吸収されるため、より優れた低光沢性による反射防止効果および黒色度が実現されると推察される。
 黒色化層の材料や形成方法、層の厚さ等は、遮光部材に求められる特性やコスト等を考慮して、適宜設定することができる。
On the other hand, the wet method is preferably used from the viewpoint of cost effectiveness because it is excellent in economy, workability, yield and the like. In the wet method, the sol solution or dispersion is applied to the convex, concave and inclined surfaces of the light-shielding layer, and during the drying process, convection occurs from bottom to top when the solvent evaporates, resulting in unevenness. It is considered that a more complicated and non-uniform uneven shape is formed on the surface of the light-shielding layer having the above. In the light-shielding member having such a surface shape, the incident light is absorbed while being reflected in a complicated manner on the surface of the blackening layer, so that it is presumed that the antireflection effect and the blackness due to the better low glossiness are realized. ..
The material and forming method of the blackening layer, the thickness of the layer, and the like can be appropriately set in consideration of the characteristics and cost required for the light-shielding member.
 以下の実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これら実施例によって限定されるものではない。なお、実施例中、特に記載がない場合には、「%」および「部」は質量%および質量部を示す。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, unless otherwise specified, "%" and "part" indicate mass% and parts by mass.
 〈黒色遮光部材の構成〉
(1)基材フィルム
 (1-1)ポリイミドフィルム:カプトン50MBC(厚さ12μm)、東レ・デュポン社製
 (1-2)銅箔フィルム:NC-WS(厚さ12μm)、古河電工社製
 (1-3)ポリエチレンテレフタレートフィルム:ルミラーX30(厚さ50μm、東レ株式会社製)の両面をサンドブラスト加工して、表面に凹凸を形成したフィルム。
(2)遮光層
(a)樹脂
 (a1)アクリル樹脂:アクリディックA814、DIC株式会社製
(b)硬化剤
 (b1)TDI系ポリイソシアネート:コロネートL、東ソー株式会社製
(c)着色・導電剤
 (c1)カーボンブラック;NX-592ブラック、大日精化工業株式会社製
(d)マット剤
 (d1)アクリルフィラー:MX-200(平均粒径:2μm)、綜研化学株式会社製
 (d2)アクリルフィラー:MX-300(平均粒径:3μm)、綜研化学株式会社製
 (d3)アクリルフィラー:MX-500(平均粒径:5μm)、綜研化学株式会社製
<Structure of black shading member>
(1) Base film (1-1) Polyimide film: Capton 50MBC (thickness 12 μm), manufactured by Toray DuPont (1-2) Copper foil film: NC-WS (thickness 12 μm), manufactured by Furukawa Denko Co., Ltd. (1) 1-3) Polyethylene terephthalate film: A film in which both sides of Lumirror X30 (thickness 50 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) are sandblasted to form irregularities on the surface.
(2) Light-shielding layer (a) Resin (a1) Acrylic resin: Acrydic A814, manufactured by DIC Co., Ltd. (b) Hardener (b1) TDI-based polyisocyanate: Coronate L, manufactured by Toso Co., Ltd. (c) Coloring / conductive agent (C1) Carbon black; NX-592 black, manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd. (d) Matte agent (d1) Acrylic filler: MX-200 (average particle size: 2 μm), manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd. (d2) Acrylic filler : MX-300 (average particle size: 3 μm), manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd. (d3) Acrylic filler: MX-500 (average particle size: 5 μm), manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd.
(3)黒色化層
 (3-1)スパッタリング法による形成
 芝浦エレテック株式会社製スパッタリング装置(型式:CFS-4ES)を用いて、フッ化マグネシウム(MgF)をターゲットとし、アルゴン中でスパッタリング法によりフッ化マグネシウム層を形成した。ここで、到達圧力は、3×10-3Pa、スパッタ圧力は、7.6×10-3Pa、Ar流量は、11sccmとした。なお、予め平坦な基板上に所定の条件(200W)でフッ化マグネシウム層を形成し、そのときのスパッタ時間と層の厚さとの関係を求めた。層の厚さがそれぞれ80nm,100nmおよび120nmとなる条件で形成したフッ化マグネシウムのスパッタ形成膜をそれぞれ薄膜、中膜、厚膜とする。
(3) Blackening layer (3-1) Formation by sputtering method Using a sputtering device (model: CFS-4ES) manufactured by Shibaura Eletech Co., Ltd. , targeting magnesium fluoride (MgF 2 ), by sputtering method in argon. A magnesium fluoride layer was formed. Here, the ultimate pressure was 3 × 10 -3 Pa, the sputtering pressure was 7.6 × 10 -3 Pa, and the Ar flow rate was 11 sccm. A magnesium fluoride layer was formed in advance on a flat substrate under predetermined conditions (200 W), and the relationship between the sputtering time at that time and the thickness of the layer was determined. The magnesium fluoride sputter-forming films formed under the conditions that the layer thicknesses are 80 nm, 100 nm and 120 nm, respectively, are defined as a thin film, a middle film and a thick film, respectively.
 (3-2)分散液の塗布による形成
 (3-2-1)バインダー成分:ポリエステル樹脂
 フッ化マグネシウム粒子分散液(9076MF、一次粒子径39nm、固形分26%:株式会社トクシキ製)1部と、ポリエステル樹脂(バイロン200:東洋紡社製))の濃度が10質量%となるようにメチルエチルケトンに溶解した樹脂液2部、およびメチルエチルケトン87部を混合して塗布液を調製した。得られた塗布液を、バーコート法により塗布し、加熱乾燥して厚さ約100nmの黒色化層を形成した。
 (3-2-2)バインダー成分:二酸化ケイ素
 (3-2-1)で用いたフッ化マグネシウム粒子分散液1部と、シリカゾル液(コルコートN-103X (固形分2%)、コルコート社製)をn-ブタノールで20%に希釈した液10部、およびプロピレングリコールモノメチルエーテル90部を混合して塗布液を調製した。得られた塗布液を、バーコート法により塗布し、加熱乾燥して厚さ約100nmの黒色化層を形成した。
 (3-3)ゾル-ゲル法による形成
 シリカゾル液(コルコートN-103X (固形分2%)、コルコート社製)25部と、水:イソプロピルアルコールの質量比が1:2の溶媒75部を混合して塗布液を調製した。得られた塗布液を、バーコート法により塗布し、加熱乾燥して厚さ約100nmの黒色化層を形成した。
(3-2) Formation by application of dispersion liquid (3-2-1) Binder component: Polyester resin Magnesium fluoride particle dispersion (9076MF, primary particle diameter 39 nm, solid content 26%: manufactured by Tokushiki Co., Ltd.) , 2 parts of a resin solution dissolved in methyl ethyl ketone and 87 parts of methyl ethyl ketone were mixed so that the concentration of the polyester resin (Byron 200: manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.) was 10% by mass to prepare a coating liquid. The obtained coating liquid was applied by a bar coating method and dried by heating to form a blackening layer having a thickness of about 100 nm.
(3-2-2) Binder component: 1 part of magnesium fluoride particle dispersion used in silicon dioxide (3-2-1) and silica sol solution (Colcoat N-103X (solid content 2%), manufactured by Corcote). Was diluted to 20% with n-butanol, and 90 parts of propylene glycol monomethyl ether were mixed to prepare a coating liquid. The obtained coating liquid was applied by a bar coating method and dried by heating to form a blackening layer having a thickness of about 100 nm.
(3-3) Formation by sol-gel method 25 parts of silica sol liquid (Colcoat N-103X (solid content 2%), manufactured by Corcote) and 75 parts of a solvent having a mass ratio of water: isopropyl alcohol of 1: 2 are mixed. To prepare a coating solution. The obtained coating liquid was applied by a bar coating method and dried by heating to form a blackening layer having a thickness of about 100 nm.
(実施例1~12、比較例1~9)
 表1~3に示す配合比(質量)で上記(2)遮光層の各成分を溶媒中に入れ、攪拌混合して塗布液を得た。ここで、溶媒としては、メチルエチルケトンとトルエンを用いた。
 表1~3に示す基材フィルムを用いて、一方の面に表1~3の組成の塗布液を塗布した後、100℃で2分乾燥して、遮光層を形成した。
 得られた遮光層上に、表1~3に示す黒色化層を上記(3)で述べた方法で形成した。遮光層の平均膜厚、黒色化層の平均膜厚、遮光部材のRa、60°の入射角度の入射光に対する光沢度およびL値を測定した結果を表1~3に示す。遮光部材の算術平均粗さRaは、JIS B0601:2001に基づいて算定し、L値は、JIS Z8781-4に基づいて算定した。また、60°の入射角度の入射光に対する光沢度の測定はJIS Z8741に従い、入射角60°に対する鏡面光沢度を測定した。
 また、遮光層の平均膜厚は、JIS K7130に基づいて測定した。マット剤を含有する遮光層の厚さは、フィルム基材表面から遮光層のマット剤により突出していないマトリックス部までの高さとした。一方、マット剤を含有しない遮光層の厚さは、フィルム基材表面のうねりを消去した遮光層自体の厚さとした。
 表中に記載のスパッタリング法によるフッ化マグネシウム黒色化層の平均膜厚は、実測値ではなく、遮光層に形成するときと同条件で平坦基板にスパッタリング法でフッ化マグネシウム層を形成したときの平均膜厚である。また、表3に記載の分散液塗布法およびゾルーゲル法による黒色化層の平均膜厚は、スパッタリング法による黒色化層の形成と同様に実測値ではなく、遮光層に形成するときと同条件で平坦基板に分散液塗布法およびゾルーゲル法によってそれぞれの黒色化層を形成したときの平均膜厚である。
(Examples 1 to 12, Comparative Examples 1 to 9)
Each component of the above (2) light-shielding layer was put into a solvent at the compounding ratio (mass) shown in Tables 1 to 3 and mixed by stirring to obtain a coating liquid. Here, as a solvent, methyl ethyl ketone and toluene were used.
Using the base film shown in Tables 1 to 3, the coating liquid having the composition of Tables 1 to 3 was applied to one surface, and then dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a light-shielding layer.
On the obtained light-shielding layer, the blackening layer shown in Tables 1 to 3 was formed by the method described in (3) above. Tables 1 to 3 show the results of measuring the average film thickness of the light-shielding layer, the average film thickness of the blackening layer, Ra of the light-shielding member, the glossiness with respect to the incident light at an incident angle of 60 °, and the L value. The arithmetic mean roughness Ra of the light-shielding member was calculated based on JIS B0601: 2001, and the L value was calculated based on JIS Z8781-4. Further, the glossiness for the incident light at the incident angle of 60 ° was measured according to JIS Z8741, and the mirror glossiness for the incident angle of 60 ° was measured.
The average film thickness of the light-shielding layer was measured based on JIS K7130. The thickness of the light-shielding layer containing the matting agent was set to the height from the surface of the film substrate to the matrix portion not protruding by the matting agent of the light-shielding layer. On the other hand, the thickness of the light-shielding layer containing no matting agent was the thickness of the light-shielding layer itself in which the waviness on the surface of the film substrate was eliminated.
The average film thickness of the magnesium fluoride blackening layer by the sputtering method described in the table is not an actual measurement value, but is the case where the magnesium fluoride layer is formed on a flat substrate by the sputtering method under the same conditions as when it is formed on the light-shielding layer. Average film thickness. Further, the average film thickness of the blackened layer by the dispersion coating method and the sol-gel method shown in Table 3 is not an actually measured value as in the case of forming the blackened layer by the sputtering method, but under the same conditions as when the blackened layer is formed in the light-shielding layer. It is the average film thickness when each blackening layer is formed on a flat substrate by a dispersion coating method and a sol-gel method.
 表1に示すように、フラットなポリイミドフィルムである参考例1では、Raは、0.2μmと低く、入射角60°での光沢度は35.4%で、L値は28.3であり、低光沢性による反射防止効果および黒色度ともに低いことわかった。これに対して、マット剤を含有する遮光層を設けた比較例1では、Raが0.48μmに上昇し、表面が粗面化され、低光沢性による反射防止効果および黒色度とも改善されたが、黒色度は十分とはいえなかった。
 一方、遮光層上にさらに、フッ化マグネシウムのスパッタリング形成膜である黒色化層を設けた実施例1~3では、入射角60°での光沢度およびL値とも大幅に低下して、優れた低光沢性による光反射防止効果と黒色度を有することが確認された。特に、中膜および薄膜の黒色化層を形成した実施例1および実施例2の黒色遮光部材は、黒色化層を有さない比較例1の黒色遮光部材と比べると、Raは0.48μmから、それぞれ1.28μmおよび1.32μmと大幅に上昇した。また、厚膜の黒色化層を形成した実施例3の黒色遮光部材のRaは0.49μmであり、実施例1、2と比べるとRaの上昇率が低かった。このことから、黒色化層の膜厚は、厚くなりすぎず、適切な範囲とすることにより、さらに効果的に黒色遮光部材表面の凹凸がより複雑な形状となり、優れた低光沢性による反射防止効果とより高い黒色性を有する遮光部材を得られることがわかった。
 なお、フラットなポリイミドフィルムに中膜の黒色化層の形成した参考例2では、入射角60°での光沢度およびL値とも参考例1とほとんど変化しないことがわかった。このことから、凹凸形状を有する遮光層表面に黒色化層を形成した本発明の効果が確認された。
As shown in Table 1, in Reference Example 1, which is a flat polyimide film, Ra is as low as 0.2 μm, the glossiness at an incident angle of 60 ° is 35.4%, and the L value is 28.3. It was found that both the antireflection effect and the blackness due to the low glossiness were low. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the light-shielding layer containing the matting agent was provided, Ra increased to 0.48 μm, the surface was roughened, and the antireflection effect and the blackness due to the low glossiness were improved. However, the blackness was not sufficient.
On the other hand, in Examples 1 to 3 in which a blackening layer which is a sputtering forming film of magnesium fluoride was further provided on the light-shielding layer, both the glossiness and the L value at an incident angle of 60 ° were significantly reduced, which was excellent. It was confirmed that it has an antireflection effect due to its low gloss and a blackness. In particular, the black shading members of Examples 1 and 2 in which the blackening layers of the media and the thin film were formed had a Ra of 0.48 μm or more as compared with the black shading member of Comparative Example 1 having no blackening layer. , 1.28 μm and 1.32 μm, respectively. Further, the Ra of the black light-shielding member of Example 3 in which the blackened layer of the thick film was formed was 0.49 μm, and the rate of increase of Ra was lower than that of Examples 1 and 2. From this, the film thickness of the blackening layer does not become too thick, and by setting it within an appropriate range, the unevenness of the surface of the black light-shielding member becomes more complicated, and antireflection due to excellent low glossiness. It was found that a light-shielding member having an effect and a higher blackness can be obtained.
It was found that in Reference Example 2 in which the blackening layer of the middle film was formed on the flat polyimide film, the glossiness and the L value at the incident angle of 60 ° were almost the same as those in Reference Example 1. From this, the effect of the present invention in which the blackening layer was formed on the surface of the light-shielding layer having an uneven shape was confirmed.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表2には、粒径の異なるマット剤を用いて、表面粗さを変えた遮光層の表面に、中膜の黒色化層を形成したときの遮光部材表面のRa、入射角60°での光沢度とL値を比較した結果を示す。比較例1、4および5に示されるように、遮光層に添加するマット剤の粒径を変えることにより、表面のRaが変化するが、いずれの比較例においてもL値が20を超え、十分な黒色度が得られないことがわかった。これに対して、スパッタリング法で、中膜のフッ化マグネシウムの黒色化層を形成した実施例1、4および5では、いずれも入射角60°における光沢度およびL値とも大幅に低下し、優れた低光沢性による反射防止効果および高い黒色性を有することが確認された。 Table 2 shows Ra of the surface of the light-shielding member when a blackening layer of the middle film is formed on the surface of the light-shielding layer whose surface roughness is changed by using matting agents having different particle sizes, at an incident angle of 60 °. The result of comparing the glossiness and the L value is shown. As shown in Comparative Examples 1, 4 and 5, the surface Ra changes by changing the particle size of the matting agent added to the light-shielding layer, but the L value exceeds 20 in all the comparative examples, which is sufficient. It turned out that a good blackness could not be obtained. On the other hand, in Examples 1, 4 and 5 in which the blackened layer of magnesium fluoride in the middle film was formed by the sputtering method, both the glossiness and the L value at the incident angle of 60 ° were significantly reduced, which was excellent. It was confirmed that it has an antireflection effect due to its low glossiness and a high blackness.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表3の実施例6では、基材フィルムとして、銅箔フィルムを用いた他は、実施例1と同様に遮光層および黒色化層を形成した試料を評価した結果を示す。実施例6では、黒色化層を形成していない比較例6と比べて、Raが増加し、入射角60°での光沢度およびL値とも大幅に低下した。このことから、基材フィルムとして、金属製基材フィルムを用いても本発明の効果が得られることが確認された。 In Example 6 of Table 3, the results of evaluating the sample having the light-shielding layer and the blackening layer formed in the same manner as in Example 1 except that the copper foil film was used as the base film are shown. In Example 6, Ra increased and both the glossiness and the L value at an incident angle of 60 ° decreased significantly as compared with Comparative Example 6 in which the blackening layer was not formed. From this, it was confirmed that the effect of the present invention can be obtained even if a metal base film is used as the base film.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 また、ポリエチレンテレフタレートフィルムを基材フィルムとして用い、ブラスト処理した表面に直接黒色化層を形成した実施例7、ブラスト処理した表面にマット剤を含有する遮光層を形成後、黒色化層を形成した実施例8およびブラスト処理した表面にマット剤を含有しない遮光層を形成後、黒色化層を形成した実施例9についても同様に評価を行った。いずれの遮光部材も黒色化層を形成していない比較例7、8および9より、Raが増加し、入射角60°での光沢度およびL値とも大幅に低下した。このことから、遮光層の凹凸形成方法にかかわらず本発明の効果が得られることがわかった。 Further, in Example 7 in which a polyethylene terephthalate film was used as a base film and a blackening layer was directly formed on the blasted surface, a blackening layer was formed after forming a light-shielding layer containing a matting agent on the blasted surface. The same evaluation was performed for Example 8 and Example 9 in which a blackening layer was formed after forming a light-shielding layer containing no matting agent on the blasted surface. Compared to Comparative Examples 7, 8 and 9 in which none of the light-shielding members formed the blackening layer, Ra increased, and the glossiness and L value at an incident angle of 60 ° were significantly reduced. From this, it was found that the effect of the present invention can be obtained regardless of the method of forming the unevenness of the light-shielding layer.
 実施例10では、黒色化層をスパッタリング層に代えて、分散液塗布法で形成したフッ化マグネシウム/ポリエステル樹脂層とした他は、実施例1と同様に黒色遮光部材を作製して評価した。実施例10でも比較例1に比べ、Raが増加し、入射角60°における光沢度が低下し、L値が大幅に減少した。このことから、ウエット法で形成した黒色化層でも本発明の効果が得られることが確認された。
 また、実施例11では、黒色化層をスパッタリング層に代えて、フッ化マグネシウム/酸化ケイ素層とし、実施例12では、酸化ケイ素層とした他は、実施例1と同様に黒色遮光部材を作製して評価した。実施例11および実施例12のいずれでも比較例1に比べ、Raが増加し、入射角60°における光沢度が低下し、L値が大幅に減少した。このことから、黒色化層の形成方法や材料にかかわらず、樹脂製遮光層上に薄くて不均一な黒色化層を形成した構成では、本発明の効果が得られることが確認された。
In Example 10, a black light-shielding member was produced and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the blackening layer was replaced with a sputtering layer and a magnesium fluoride / polyester resin layer formed by a dispersion coating method was used. In Example 10, as compared with Comparative Example 1, Ra increased, the glossiness at an incident angle of 60 ° decreased, and the L value decreased significantly. From this, it was confirmed that the effect of the present invention can be obtained even with the blackened layer formed by the wet method.
Further, in Example 11, instead of the sputtering layer, a magnesium fluoride / silicon oxide layer was used, and in Example 12, a black light-shielding member was produced in the same manner as in Example 1, except that the silicon oxide layer was used. And evaluated. In both Example 11 and Example 12, Ra increased, the glossiness at an incident angle of 60 ° decreased, and the L value decreased significantly as compared with Comparative Example 1. From this, it was confirmed that the effect of the present invention can be obtained in a configuration in which a thin and non-uniform blackening layer is formed on the resin light-shielding layer regardless of the method and material for forming the blackening layer.
  1     遮光部材(黒色化層形成前)
  10    遮光部材(黒色化層形成後)
  2     基材フィルム
  3     遮光層
  31    マット剤
  32    マトリックス部
  4     遮光層(樹脂製薄膜)
  5     黒色化層

 
1 Light-shielding member (before forming the blackening layer)
10 Light-shielding member (after forming the blackening layer)
2 Base film 3 Light-shielding layer 31 Matting agent 32 Matrix part 4 Light-shielding layer (resin thin film)
5 Blackening layer

Claims (7)

  1.  基材フィルム、および前記基材フィルムの少なくとも一方の面に形成された、凹凸形状を有する樹脂製遮光層と、前記樹脂製遮光層上に形成された黒色化層を備える黒色遮光部材であって、
     前記遮光層と黒色化層が形成された面の表面の算術平均粗さRaは0.25μm以上で、かつL値は12以下であり、前記黒色化層の最大厚さは、前記Raより小さいことを特徴とする黒色遮光部材。
    A black light-shielding member including a base film, a resin light-shielding layer having an uneven shape formed on at least one surface of the base film, and a blackening layer formed on the resin light-shielding layer. ,
    The arithmetic mean roughness Ra of the surface on which the light-shielding layer and the blackening layer are formed is 0.25 μm or more and the L value is 12 or less, and the maximum thickness of the blackening layer is smaller than Ra. A black shading member characterized by this.
  2.  前記樹脂製遮光層は、マット剤および樹脂成分を含有する樹脂層を有することを特徴とする請求項1に記載の黒色遮光部材。 The black light-shielding member according to claim 1, wherein the resin light-shielding layer has a resin layer containing a matting agent and a resin component.
  3.  前記樹脂製遮光層は、基材フィルム表面に形成された粗面化部を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の黒色遮光部材。 The black light-shielding member according to claim 1 or 2, wherein the resin light-shielding layer includes a roughened portion formed on the surface of the base film.
  4.  前記黒色化層は、無機系材料を含有することを特徴とする請求項1~3のいずれかに記載の黒色遮光部材。 The black light-shielding member according to any one of claims 1 to 3, wherein the blackening layer contains an inorganic material.
  5.  前記黒色化層は、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、酸化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化ケイ素から選択される少なくとも1種を含むことを特徴とする請求項4に記載の黒色遮光部材。 The black light-shielding member according to claim 4, wherein the blackening layer contains at least one selected from magnesium fluoride, calcium fluoride, lithium fluoride, aluminum oxide, gallium oxide, and silicon oxide.
  6.  前記黒色化層は、スパッタリング法、蒸着法、イオンプレーティング法、化学蒸着(CVD)法から選択されるいずれかの方法で形成されることを特徴とする請求項4または5に記載の黒色遮光部材。 The black shading layer according to claim 4 or 5, wherein the blackening layer is formed by any method selected from a sputtering method, a vapor deposition method, an ion plating method, and a chemical vapor deposition (CVD) method. Element.
  7.  前記黒色化層の最大厚さは、前記表面の算術平均粗さRaの1/2の値より小さいことを特徴とする請求項1~6のいずれかに記載の黒色遮光部材。

     
     
     
    The black shading member according to any one of claims 1 to 6, wherein the maximum thickness of the blackening layer is smaller than a value of 1/2 of the arithmetic mean roughness Ra of the surface.



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