WO2020122694A2 - Display device using semiconductor light-emitting diodes - Google Patents

Display device using semiconductor light-emitting diodes Download PDF

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WO2020122694A2
WO2020122694A2 PCT/KR2020/003502 KR2020003502W WO2020122694A2 WO 2020122694 A2 WO2020122694 A2 WO 2020122694A2 KR 2020003502 W KR2020003502 W KR 2020003502W WO 2020122694 A2 WO2020122694 A2 WO 2020122694A2
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semiconductor light
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display panel
electrode
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Inventor
최봉석
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엘지전자 주식회사
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission

Definitions

  • the present invention relates to a semiconductor light emitting device, in particular, a display device using a semiconductor light emitting device having a size of several to several tens of ⁇ m.
  • LCD liquid crystal display
  • OLED organic light emitting diode display
  • micro LED display are competing to realize a large area display in the display technology field.
  • a display using a semiconductor light emitting device having a diameter or cross-sectional area of 100 ⁇ m or less can provide very high efficiency because it does not absorb light using a polarizing plate or the like.
  • An object of the present invention is to provide a seamless display device in which a boundary between a plurality of display panel modules repeatedly disposed is not revealed.
  • an object of the present invention is to provide a display device including a structure for guiding the alignment of display panel modules.
  • the display device includes a substrate including a first black matrix, and a plurality of display panel modules disposed on the substrate, wherein the display panel modules include: a base portion on which a wiring electrode is formed; Light emitting bodies disposed on the base part and electrically connected to the wiring electrode; A planarization layer to planarize the base portion where the light emitters are disposed; And a second black matrix formed not to overlap the light emitters on the planarization layer, wherein the display panel modules are disposed on the substrate such that boundaries of the display panel modules overlap with the first black matrix. It is characterized by.
  • the first black matrix is characterized in that it is formed on the surface on which the display panel modules are disposed or vice versa.
  • the substrate includes a first coupling portion of an intaglio shape
  • the display panel modules include a second coupling portion of an embossed shape
  • the display panel modules include the second coupling portion of the first coupling portion It is characterized in that it is arranged on the substrate to be inserted.
  • the lengths in the x-axis, y-axis, and z-axis directions of the first coupling portion are formed to be equal to or longer than the lengths in the x-axis, y-axis, and z-axis directions of the second coupling portion.
  • the first coupling portion and the second coupling portion are formed at predetermined intervals.
  • the second coupling portion is formed to overlap the light emitters on the planarization layer.
  • the second coupling portion is characterized in that it comprises a portion overlapping with the second black matrix.
  • the first coupling portion is formed so as not to overlap with the first black matrix.
  • the display panel modules characterized in that it further comprises a transparent protective layer between the planarization layer and the second coupling portion or the second black matrix.
  • the present invention is characterized in that it further comprises a transparent bonding layer between the substrate and the display panel modules.
  • the present invention has the effect of implementing a seamless (seamless) by not revealing the boundary of the plurality of display panel modules to the outside.
  • the present invention can easily dispose the display panel modules on the substrate through the intaglio and embossed patterns, and does not require expensive devices, thereby reducing the cost.
  • FIG. 1 is a conceptual diagram showing an embodiment of a display device using a semiconductor light emitting device of the present invention.
  • FIG. 2 is a partially enlarged view of part A of the display device of FIG. 1, and FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views taken along lines B-B and C-C of FIG. 2.
  • FIG. 4 is a conceptual diagram showing the flip-chip type semiconductor light emitting device of FIG. 3.
  • 5A to 5C are conceptual views illustrating various forms of color in connection with a flip-chip type semiconductor light emitting device.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
  • FIG. 7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line D-D of FIG. 7.
  • FIG. 9 is a conceptual diagram illustrating the vertical semiconductor light emitting device of FIG. 8.
  • FIG. 10 is a conceptual diagram showing a display device according to the present invention.
  • FIG. 11 is a conceptual diagram illustrating display panel modules according to the present invention.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view of display panel modules according to the present invention.
  • FIG. 13 is a conceptual diagram showing various embodiments of a substrate according to the present invention.
  • FIG. 14 is a conceptual view showing another embodiment of a display panel module and a substrate according to the present invention.
  • FIG. 15A is a view showing a state in which the display panel module is attached to the substrate of FIG. 13A
  • FIG. 15B is a view showing a state in which the display panel module is attached to the substrate of FIG. 13B.
  • the display device described herein includes a mobile phone, a smart phone, a laptop computer, a terminal for digital broadcasting, a personal digital assistant (PDA), a portable multimedia player (PMP), navigation, and a slate PC. It may include (slate PC), tablet PC (tablet PC), ultrabook (ultrabook), digital TV (digital TV), desktop computer (desktop computer), and the like. However, the configuration according to the embodiment described in the present specification may be applied as long as a new product type developed later may include a display.
  • FIG. 1 is a conceptual diagram showing an embodiment of a display device using a semiconductor light emitting device of the present invention.
  • information processed by the control unit of the display apparatus 100 may be displayed on a flexible display.
  • Flexible displays include bendable, bendable, warpable, collapsible, and curlable displays that can be bent by external forces.
  • the flexible display may be a display fabricated on a thin, flexible substrate that can be bent, bent, folded, or rolled like paper, while maintaining the display characteristics of conventional flat panel displays.
  • the display area of the flexible display becomes a flat surface.
  • the display area may be curved in a state curved by an external force (for example, a situation having a finite radius of curvature, hereinafter referred to as a “second state”).
  • information displayed in the second state may be visual information output on a curved surface. This visual information is implemented by independently controlling the emission of sub-pixels arranged in a matrix form.
  • the unit pixel refers to a minimum unit for realizing one color.
  • the unit pixel of the flexible display may be implemented by a semiconductor light emitting device.
  • a light emitting diode LED
  • the light emitting diode is formed to have a small size, and through this, it can serve as a unit pixel even in the second state.
  • FIG. 2 is a partially enlarged view of part A of FIG. 1
  • FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views taken along lines BB and CC of FIG. 2
  • FIG. 4 is a conceptual view showing the flip-chip type semiconductor light emitting device of FIG. 3
  • 5A to 5C are conceptual views illustrating various forms of color in connection with a flip chip type semiconductor light emitting device.
  • FIG 2, 3A, and 3B illustrate a display device 100 using a passive matrix (PM) type semiconductor light emitting device as the display device 100 using a semiconductor light emitting device.
  • PM passive matrix
  • AM active matrix
  • the display device 100 includes a substrate 110, a first electrode 120, a conductive adhesive layer 130, a second electrode 140, and a plurality of semiconductor light emitting devices 150.
  • the substrate 110 may be a flexible substrate.
  • the substrate 110 may include glass or polyimide (PI) to implement flexible performance.
  • PI polyimide
  • insulating and flexible materials such as PEN (Polyethylene Naphthalate) and PET (Polyethylene Terephthalate) may be used as a component of the substrate 110.
  • the substrate 110 may be either a transparent material or an opaque material.
  • the substrate 110 may be a wiring substrate on which the first electrode 120 is disposed, and the first electrode 120 may be positioned on the substrate 110.
  • the insulating layer 160 may be formed by being stacked on the substrate 110 on which the first electrode 120 is located, and the auxiliary electrode 170 may be disposed on the insulating layer 160.
  • a state in which the insulating layer 160 is stacked on the substrate 110 may be one wiring substrate.
  • the insulating layer 160 is an insulating and flexible material such as PI, PEN, PET, and the like, and can be formed integrally with the substrate 110 to form one wiring substrate.
  • the auxiliary electrode 170 is an electrode that electrically connects the first electrode 120 and the semiconductor light emitting device 150 and is positioned on the insulating layer 160 and is disposed corresponding to the position of the first electrode 120.
  • the auxiliary electrode 170 has a dot shape and may be electrically connected to the first electrode 120 by an electrode hole 171 penetrating the insulating layer 160.
  • the electrode hole 171 may be formed by filling a via hole with a conductive material.
  • a conductive adhesive layer 130 is formed on one surface of the insulating layer 160, but the present invention is not limited thereto.
  • a layer performing a specific function may be formed between the insulating layer 160 and the conductive adhesive layer 130, and a structure in which the conductive adhesive layer 130 is disposed on the substrate without the insulating layer 160 is also possible.
  • the conductive adhesive layer 130 may serve as an insulating layer.
  • the conductive adhesive layer 130 may be a layer having adhesiveness and conductivity, and for this purpose, the conductive adhesive layer 130 may be formed by mixing a conductive material and an adhesive material. In addition, the conductive adhesive layer 130 has ductility, thereby enabling a flexible function in the display device.
  • the conductive adhesive layer 130 may be an anisotropy conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, or a solution containing conductive particles.
  • ACF anisotropy conductive film
  • the conductive adhesive layer 130 allows electrical interconnection in the z-direction through the thickness, but may be formed of a layer of electrical insulation in the horizontal x-y direction. Therefore, the conductive adhesive layer 130 may be referred to as a z-axis conductive layer (however, hereinafter referred to as a “conductive adhesive layer”).
  • the anisotropic conductive film is a film in which an anisotropic conductive medium is mixed with an insulating base member. When heat and pressure are applied, the anisotropic conductive medium has conductivity by an anisotropic conductive medium.
  • heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film, but in order to make the anisotropic conductive film have partial conductivity, other methods (for example, only one of heat and pressure is applied or by UV curing) Method).
  • the anisotropic conductive medium may be conductive balls or conductive particles.
  • the anisotropic conductive film is a film in which a conductive ball is mixed with an insulating base member, and when heat and pressure are applied, only a specific portion is conductive by the conductive ball.
  • the core of the conductive material may contain particles in a form coated with an insulating film made of a polymer material.
  • the insulating film of the particles contained in the portion to which heat and pressure is applied is destroyed, thereby conducting conductivity by the core. Have it.
  • the shape of the core is deformed to form a layer contacting each other in the thickness direction of the film. More specifically, heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film as a whole, and an electrical connection in the z-axis direction may be partially formed by a height difference of a counterpart adhered by the anisotropic conductive film.
  • the anisotropic conductive film may be a state in which the insulating core contains a plurality of particles coated with a conductive material.
  • the conductive material of the portion to which heat and pressure is applied is deformed (pressed), and thus becomes conductive in the thickness direction of the film.
  • a form in which the conductive material penetrates the insulating base member in the z-axis direction and has conductivity in the thickness direction of the film may be used. At this time, the conductive material may have a pointed end.
  • the anisotropic conductive film may be a fixed array ACF (arranged array anisotropic conductive film) composed of conductive balls inserted into one surface of an insulating base member.
  • the insulating base member is formed of an adhesive material, and the conductive balls are intensively disposed on the bottom portion of the insulating base member to deform together with the conductive balls when heat and pressure are applied from the base member to conduct conductivity in the vertical direction. Have it.
  • the anisotropic conductive film is a form in which conductive balls are randomly mixed in an insulating base member, and is composed of a plurality of layers, and a conductive ball is disposed in one layer (double-ACF ) Etc. are all possible.
  • the anisotropic conductive paste is a combination of a paste and a conductive ball, and may be a paste in which conductive balls are mixed with insulating and adhesive base materials.
  • the solution containing the conductive particles may be a solution containing a conductive particle or nanoparticles.
  • the second electrode 140 is positioned on the insulating layer 160 spaced apart from the auxiliary electrode 170. That is, the conductive adhesive layer 130 is disposed on the insulating layer 160 on which the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are located.
  • the semiconductor light emitting device 150 After forming the conductive adhesive layer 130 in the state where the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are positioned on the insulating layer 160, heat and pressure are applied to connect the semiconductor light emitting device 150 in the form of a flip chip. , The semiconductor light emitting device 150 is electrically connected to the first electrode 120 and the second electrode 140.
  • the semiconductor light emitting device 150 may be a flip chip type light emitting device as shown in FIG. 4.
  • the semiconductor light emitting device 150 includes a p-type electrode 156, a p-type semiconductor layer 155 on which the p-type electrode 156 is formed, and an active layer 154 formed on the p-type semiconductor layer 155. , An n-type semiconductor layer 153 formed on the active layer 154 and an n-type electrode 152 disposed horizontally apart from the p-type electrode 156 on the n-type semiconductor layer 153.
  • the p-type electrode 156 may be electrically connected to the auxiliary electrode 170 by the conductive adhesive layer 130, and the n-type electrode 152 may be electrically connected to the second electrode 140.
  • the auxiliary electrode 170 is formed to be long in one direction so that one auxiliary electrode 170 can be electrically connected to the plurality of semiconductor light emitting devices 150.
  • the p-type electrodes 156 of the left and right semiconductor light emitting elements 150 centering on the auxiliary electrode 170 may be electrically connected to one auxiliary electrode.
  • the semiconductor light emitting device 150 is pressed into the conductive adhesive layer 130 by heat and pressure, through which the portion between the p-type electrode 156 and the auxiliary electrode 170 of the semiconductor light emitting device 150 And, only the portion between the n-type electrode 152 and the second electrode 140 of the semiconductor light emitting device 150 has conductivity, and the rest of the semiconductor light emitting device 150 has no indentation.
  • the conductive adhesive layer 130 may not only couple the semiconductor light emitting device 150 and the auxiliary electrode 170 and the semiconductor light emitting device 150 and the second electrode 140, but also electrically connect them.
  • the plurality of semiconductor light emitting devices 150 constitute an array of light emitting devices, and a phosphor layer 180 is formed on the light emitting device array.
  • the light emitting device array may include a plurality of semiconductor light emitting devices 150 having different luminance values.
  • Each semiconductor light emitting device 150 constitutes a unit pixel and is electrically connected to the first electrode 120.
  • a plurality of first electrodes 120 may be provided, and the semiconductor light emitting devices 150 may be arranged in several rows, and the semiconductor light emitting devices 150 in each column may be connected to any one of the plurality of first electrodes 120. It can be electrically connected.
  • the semiconductor light emitting devices 150 are connected in the form of a flip chip, the semiconductor light emitting devices 150 grown on a transparent dielectric substrate can be used.
  • the semiconductor light emitting devices 150 may be nitride semiconductor light emitting devices, for example.
  • the semiconductor light emitting device 150 has excellent luminance, and thus can form individual unit pixels even in a small size.
  • a partition wall 190 may be formed between the semiconductor light emitting devices 150.
  • the partition wall 190 may serve to separate the individual unit pixels from each other, and may be integrally formed with the conductive adhesive layer 130.
  • the base member of the anisotropic conductive film may form the partition 190 by inserting the semiconductor light emitting device 150 in the anisotropic conductive film.
  • the contrast ratio can be increased while the partition 190 has reflective properties without a separate black insulator.
  • a separate reflective partition wall may be provided as the partition wall 190.
  • the partition wall 190 may include a black or white insulator depending on the purpose of the display device.
  • the partition wall 190 of the white insulator there may be an effect of increasing reflectivity, and when the partition wall of the black insulator is used, the contrast ratio may be increased while having reflective properties.
  • the phosphor layer 180 may be located on the outer surface of the semiconductor light emitting device 150.
  • the semiconductor light emitting device 150 is a blue semiconductor light emitting device that emits blue (B) light
  • the phosphor layer 180 performs a function of converting the blue (B) light into a color of a unit pixel. can do.
  • the phosphor layer 180 may be a red phosphor 181 or a green phosphor 182 constituting individual pixels.
  • a red phosphor 181 capable of converting blue (B) light into red (R) light may be stacked on the blue semiconductor light emitting device 151 at a position forming the red unit pixel, and the green unit pixel may be stacked.
  • a green phosphor 182 capable of converting blue (B) light into green (G) light may be stacked on the blue semiconductor light emitting device 151.
  • only the blue semiconductor light emitting device 151 may be used alone in a portion constituting a blue unit pixel. In this case, the red (R), green (G), and blue (B) unit pixels may form one pixel.
  • a phosphor 180 of one color may be stacked along each line of the first electrode 120, so one line of the first electrode 120 can be an electrode controlling one color.
  • one line of the first electrode 120 can be an electrode controlling one color.
  • red (R), green (G), and blue (B) may be sequentially disposed along the second electrode 140, and a unit pixel may be implemented.
  • the present invention is not necessarily limited thereto, and instead of the phosphor 180, the semiconductor light emitting device 150 and the quantum dot (QD) are combined to form red (R), green (G), and blue (B) unit pixels. You can implement them.
  • a black matrix 191 may be disposed between each phosphor layer 180 to improve contrast of contrast.
  • the present invention is not necessarily limited thereto, and other structures for implementing blue, red, and green may be applied.
  • each semiconductor light emitting device 150 mainly includes gallium nitride (GaN), and indium (In) and/or aluminum (Al) are added together to emit light of various colors including blue. It can be implemented as a light emitting device.
  • GaN gallium nitride
  • Al aluminum
  • the semiconductor light emitting device 150 may be provided as red, green, and blue semiconductor light emitting devices to form each sub-pixel.
  • red, green, and blue semiconductor light emitting devices R, G, B
  • red, green, and blue semiconductor light emitting devices allow red, green, and blue unit pixels to be one pixel.
  • the semiconductor light emitting device 150 may be a white light emitting device W in which a yellow phosphor layer is provided for each individual device.
  • a red phosphor layer 181, a green phosphor layer 182, and a blue phosphor layer 183 may be provided on the white light emitting device W to form a unit pixel.
  • a unit pixel may be formed using a color filter in which red, green, and blue are repeated on the white light emitting element W.
  • a red phosphor layer 181, a green phosphor layer 182, and a blue phosphor layer 183 may be provided on an ultraviolet light emitting device (UV).
  • UV ultraviolet light emitting device
  • the semiconductor light emitting device 150 can be used not only in the visible light region but also in the entire ultraviolet region, and can be expanded in the form of a semiconductor light emitting element in which ultraviolet ray can be used as an excitation source of the upper phosphor.
  • the semiconductor light emitting device 150 is positioned on the conductive adhesive layer 130 to constitute a unit pixel in the display device.
  • the semiconductor light emitting device 150 has excellent luminance, and thus can form individual unit pixels even with a small size.
  • the size of the individual semiconductor light emitting device 150 may be a rectangular or square device having a side length of 80 ⁇ m or less. In the case of a rectangle, the size may be 20 ⁇ 80 ⁇ m or less.
  • a square semiconductor light emitting device 150 having a side length of 10 ⁇ m is used as a unit pixel, sufficient brightness can be realized to form a display device. Accordingly, for example, when the size of the unit pixel is a rectangular pixel having one side of 600 ⁇ m and the other side of 300 ⁇ m, the distance of the semiconductor light emitting device 150 is relatively large enough to implement a flexible display device of HD image quality. .
  • the display device using the semiconductor light emitting device described above can be manufactured by a new type of manufacturing method. Hereinafter, the manufacturing method will be described with reference to FIG. 6.
  • the conductive adhesive layer 130 is formed on the insulating layer 160 on which the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are located.
  • the insulating layer 160 is stacked on the first substrate 110 to form a single substrate (or wiring substrate).
  • the wiring substrate includes a first electrode 120, an auxiliary electrode 170, and a second electrode 140. It is placed.
  • the first electrode 120 and the second electrode 150 may be arranged in mutually orthogonal directions.
  • the first substrate 110 and the insulating layer 160 may each include glass or polyimide (PI).
  • the conductive adhesive layer 130 may be implemented by an anisotropic conductive film, and for this purpose, an anisotropic conductive film may be applied to a substrate positioned on the insulating layer 160.
  • the second light emitting element 150 which corresponds to the positions of the auxiliary electrodes 170 and the second electrodes 140, and which comprises a plurality of semiconductor light emitting devices 150 constituting individual pixels, is placed in the semiconductor light emitting device 150.
  • the auxiliary electrodes 170 and the second electrode 140 are disposed to face each other.
  • the second substrate 112 is a growth substrate for growing the semiconductor light emitting device 150, and may be a sapphire substrate or a silicon substrate.
  • the semiconductor light emitting device 150 may be effectively used in a display device by having a distance and a size capable of forming a display device when formed in a wafer unit.
  • the wiring substrate and the second substrate 112 are thermocompressed.
  • the wiring substrate and the second substrate 112 may be thermocompressed by applying an ACF press head.
  • the wiring substrate and the second substrate 112 are bonded by the thermocompression bonding. Due to the properties of the anisotropic conductive film having conductivity by thermal compression, only a portion between the semiconductor light emitting device 150 and the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 has conductivity, and the electrodes are the semiconductor light emitting device 150 It can be electrically connected to. At this time, the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the anisotropic conductive film, and through this, a partition wall may be formed between the semiconductor light emitting device 150.
  • the second substrate 112 is removed.
  • the second substrate 112 may be removed using a laser lift-off method (LLO) or a chemical lift-off method (CLO).
  • LLO laser lift-off method
  • CLO chemical lift-off method
  • a transparent insulating layer (not shown) may be formed by coating the wiring substrate on which the semiconductor light emitting device 150 is coupled with silicon oxide (SiOx).
  • the semiconductor light emitting device 150 is a blue semiconductor light emitting device that emits blue (B) light, and a red phosphor or green phosphor for converting the blue (B) light into a color of a unit pixel emits the blue semiconductor.
  • a layer may be formed on one surface of the device.
  • the manufacturing method or structure of the display device using the semiconductor light emitting device described above may be implemented in various forms.
  • a vertical semiconductor light emitting device may be applied to the display device described above.
  • the vertical structure will be described with reference to FIGS. 5 and 6.
  • FIG. 7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention
  • FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG. 7
  • FIG. 9 is a vertical semiconductor light emitting device of FIG. 8 It is a conceptual diagram.
  • the display device may be a display device using a passive matrix (PM) type vertical semiconductor light emitting device.
  • PM passive matrix
  • the display device includes a substrate 210, a first electrode 220, a conductive adhesive layer 230, a second electrode 240, and a plurality of semiconductor light emitting devices 250.
  • the substrate 210 is a wiring substrate on which the first electrode 220 is disposed, and may include polyimide (PI) in order to implement a flexible display device. Any other insulating and flexible material can be used. .
  • PI polyimide
  • the first electrode 220 is positioned on the substrate 210 and may be formed as an electrode having a long bar shape in one direction.
  • the first electrode 220 may serve as a data electrode.
  • the conductive adhesive layer 230 is formed on the substrate 210 on which the first electrode 220 is located.
  • the conductive adhesive layer 230 may be an anisotropic conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, or a solution containing conductive particles.
  • ACF anisotropic conductive film
  • the present embodiment also illustrates a case in which the conductive adhesive layer 230 is implemented by the anisotropic conductive film.
  • the semiconductor light emitting device 250 is the first electrode It is electrically connected to 220. At this time, the semiconductor light emitting device 250 is preferably disposed to be positioned on the first electrode 220.
  • the electrical connection is created because heat and pressure are partially conductive in the thickness direction when anisotropic conductive film is applied as described above. Therefore, in the anisotropic conductive film, it is divided into a portion 231 having conductivity in a thickness direction and a portion 232 having no conductivity.
  • the conductive adhesive layer 230 implements mechanical connection as well as electrical connection between the semiconductor light emitting device 250 and the first electrode 220.
  • the semiconductor light emitting device 150 is positioned on the conductive adhesive layer 130 to constitute a unit pixel in the display device.
  • the semiconductor light emitting device 150 has excellent luminance, and thus can form individual unit pixels even with a small size.
  • the size of the individual semiconductor light emitting device 150 may be a rectangular or square device having a side length of 80 ⁇ m or less. In the case of a rectangle, the size may be 20 ⁇ 80 ⁇ m or less.
  • the semiconductor light emitting device 250 may have a vertical structure.
  • the vertical semiconductor light emitting device includes a p-type electrode 256, a p-type semiconductor layer 255 formed on the p-type electrode 256, and an active layer 254 formed on the p-type semiconductor layer 255. ), an n-type semiconductor layer 253 formed on the active layer 254 and an n-type electrode 252 formed on the n-type semiconductor layer 253.
  • the p-type electrode 256 located at the lower side may be electrically connected to the first electrode 220 by the conductive adhesive layer 230, and the n-type electrode 252 positioned at the upper side is the second electrode 240 to be described later.
  • the vertical type semiconductor light emitting device 250 has a great advantage of reducing the chip size because the electrodes can be arranged up and down.
  • a phosphor layer 280 may be formed on one surface of the semiconductor light emitting device 250.
  • the semiconductor light emitting device 250 is a blue semiconductor light emitting device 251 that emits blue (B) light, and the phosphor layer 280 for converting the blue (B) light into color of a unit pixel color This may be provided.
  • the phosphor layer 280 may be a red phosphor 281 and a green phosphor 282 constituting individual pixels.
  • a red phosphor 281 capable of converting blue (B) light into red (R) light may be stacked on the blue semiconductor light emitting device 251 at a position forming the red unit pixel, and the green unit pixel may be stacked.
  • the green phosphor 282 capable of converting blue (B) light into green (G) light may be stacked on the blue semiconductor light emitting device 251 at the position.
  • the blue semiconductor light emitting device 251 may be used alone in a portion constituting a blue unit pixel. In this case, the red (R), green (G), and blue (B) unit pixels may form one pixel.
  • the present invention is not necessarily limited to this, and as described above in a display device to which a flip chip type light emitting device is applied, other structures for implementing blue, red, and green may be applied.
  • the second electrode 240 is positioned between the semiconductor light emitting devices 250 and is electrically connected to the semiconductor light emitting devices 250.
  • the semiconductor light emitting devices 250 are arranged in a plurality of columns, and the second electrode 240 can be positioned between the columns of the semiconductor light emitting devices 250.
  • the second electrode 240 may be positioned between the semiconductor light emitting elements 250.
  • the second electrode 240 may be formed as an electrode having a long bar shape in one direction, and may be disposed in a direction perpendicular to the first electrode 220.
  • the second electrode 240 and the semiconductor light emitting device 250 may be electrically connected by an electrode protruding from the second electrode 240.
  • the connection electrode may be an n-type electrode 252 of the semiconductor light emitting device 250.
  • the n-type electrode 252 is formed as an ohmic electrode for ohmic contact, and the second electrode 240 covers at least a portion of the ohmic electrode by printing or deposition. Through this, the second electrode 240 and the n-type electrode 252 of the semiconductor light emitting device 250 may be electrically connected.
  • the second electrode 240 may be positioned on the conductive adhesive layer 230, and if necessary, include silicon oxide (SiOx) or the like on the substrate 210 on which the semiconductor light emitting device 250 is formed.
  • An insulating layer (not shown) may be formed.
  • the second electrode 240 is positioned after forming the transparent insulating layer, the second electrode 240 is positioned on the transparent insulating layer. Further, the second electrode 240 may be formed spaced apart from the conductive adhesive layer 230 or the transparent insulating layer.
  • the present invention has the advantage of not having to use a transparent electrode such as ITO by placing the second electrode 240 between the semiconductor light emitting device 250. Therefore, it is not limited to the selection of a transparent material, and the light extraction efficiency can be improved by using the n-type semiconductor layer 253 and a conductive material having good adhesion as a horizontal electrode.
  • a partition wall 290 may be positioned between the semiconductor light emitting devices 250.
  • a partition wall 290 may be disposed between the vertical semiconductor light emitting devices 250 to isolate the semiconductor light emitting devices 250 constituting individual pixels.
  • the partition wall 290 may serve to separate individual unit pixels from each other, and may be integrally formed with the conductive adhesive layer 230.
  • the base member of the anisotropic conductive film may form the partition wall 290 by inserting the semiconductor light emitting device 250 into the anisotropic conductive film.
  • the partition wall 290 may have reflective properties and increase contrast ratio without a separate black insulator.
  • the partition wall 290 may be provided with a reflective partition wall separately.
  • the partition wall 290 may include a black or white insulator depending on the purpose of the display device.
  • the partition wall 290 is between the vertical semiconductor light emitting device 250 and the second electrode 240.
  • individual unit pixels may be configured with a small size using the semiconductor light emitting device 250, and the distance of the semiconductor light emitting device 250 is relatively large, so that the second electrode 240 is the semiconductor light emitting device 250. It can be placed in between, there is an effect that can be a flexible display device of HD quality.
  • a black matrix 291 may be disposed between each phosphor to improve contrast of contrast.
  • the semiconductor light emitting device 250 is positioned on the conductive adhesive layer 230, thereby configuring individual pixels in the display device.
  • the semiconductor light emitting device 250 has excellent luminance, and thus can form individual unit pixels even in a small size. Accordingly, a full color display in which unit pixels of red (R), green (G), and blue (B) form one pixel may be implemented by the semiconductor light emitting device 250.
  • a large area display device is formed by repeatedly arranging a plurality of display panel modules on a substrate.
  • the display panel modules are disposed on the substrate one by one by means of a specially manufactured expensive jig.
  • the jig precisely controls the position of the display panel modules so that the gap between the display panel modules is minimized.
  • the spacing of the light emitters transferred to the display panel module may not be constant. This causes a luminance mismatch at the border portion of the display panel modules.
  • the display panel modules may have irregular border cuts or different thicknesses depending on the degree of processing. In this case, if mechanical tiling is performed, damage such as breakage or distortion may occur at the boundary of the display panel modules. That is, even if a jig is used, a tolerance may still occur in the boundary portion of the display modules in the tiling process, and the seam defect may not be completely solved.
  • a black film is sometimes attached to the boundary of the display panel modules in order to block the defects in the seams.
  • the black film covers a part of the pixel area, so that the area where light is emitted for each pixel may be different.
  • the present invention relates to a display device implemented with a seamless (seamless) that does not reveal the boundaries of a plurality of display panel modules repeatedly disposed.
  • the display device according to the present invention may be implemented in a passive matrix (PM) method or an active matrix (AM) method. In this specification, detailed description thereof will be omitted.
  • PM passive matrix
  • AM active matrix
  • FIG. 10 is a conceptual diagram showing a display device according to the present invention
  • Figure 11 is a conceptual diagram showing a display panel module according to the present invention
  • Figure 12 is a cross-sectional view of the display panel module according to the present invention
  • Figure 13 is according to the present invention
  • FIG. 14 is a conceptual diagram showing another embodiment of a display panel module and a substrate according to the present invention
  • FIG. 15A illustrates a state in which a display panel module is attached to the substrate of FIG. 13A
  • 15B is a view showing a state in which a display panel module is attached to the substrate of FIG. 13B.
  • the display apparatus 1000 includes a substrate 1100 and a plurality of display panel modules 1200 disposed on the substrate 1100.
  • the display panel modules 1200 may be repeatedly disposed on the substrate 1100.
  • the display panel modules 1200 may be disposed such that the boundary between the adjacent display panel modules 1200 and their boundaries abuts or the distance between them is minimized.
  • the display panel modules 1200 may not include a bezel at the boundary, and thus can be freely extended to realize a large area.
  • the substrate 1100 may include a first black matrix 1110.
  • the display panel modules 1200 may be disposed such that their boundaries 1201 overlap with the first black matrix 1110 when they are disposed on the substrate 1100. Therefore, the boundary 1201 of the display panel modules 1200 overlaps with the black matrix 1110 and is black-processed, so that the boundary 1201 is not exposed to the outside and seamless can be implemented.
  • the display apparatus 1000 may further include a transparent bonding layer (not shown) between the substrate 1100 and the display panel modules 1200. That is, the display panel modules 1200 may be bonded to the substrate 1100 on a transparent bonding layer.
  • a transparent adhesive composition is applied to one surface of the display panel modules 1200, and the transparent adhesive composition thus applied is the display device 1000 described above.
  • the transparent adhesive composition thus applied is the display device 1000 described above.
  • the substrate 1100 may be a glass substrate, but is not limited thereto. Further, the substrate 1100 may include the first black matrix 1100 described above to implement seamless. The first black matrix 1100 may be formed on a surface on which the display panel modules 1200 are disposed or vice versa.
  • the first black matrix 1100 may be formed by applying a black color ink or resist to the patterned glass surface. Alternatively, it may be formed by patterning a metal material on the glass surface and then applying black ink or resist on the metal material. However, it is needless to say that the present invention is not limited to this method and can be formed through other methods.
  • the display panel modules 1200 include a base portion 1210, a wiring electrode (not shown), light emitters 1050, a planarization layer 1220, and a second black matrix 1230.
  • the base portion 1210 may be formed of a flexible and insulating material including polymer.
  • the base portion 1210 may be a polyimide substrate, but is not limited thereto.
  • a wiring electrode may be formed on the base portion 1210.
  • the first wiring electrode extending in the row direction and the second wiring electrode extending in the column direction may be arranged in a plurality of lines.
  • the base portion 1210 may include various configurations for driving the light emitters 1050 to be described later in addition to the wiring electrode.
  • the light emitters 1050 may be disposed on the base part 1210, and the light emitters 1050 may be disposed in a pixel area formed in a matrix arrangement on the base part 1210.
  • one display panel module 1200 is illustrated as including pixel regions in a 3x3 matrix arrangement.
  • the light emitters 1050 may be semiconductor light emitting devices (micro LEDs) having a size of several to several tens of micrometers, and may be flip chip, horizontal or vertical semiconductor light emitting devices. In addition, it may be composed of semiconductor light emitting devices that emit the same color or may be composed of semiconductor light emitting devices that emit different colors.
  • semiconductor light emitting devices micro LEDs
  • it may be composed of semiconductor light emitting devices that emit the same color or may be composed of semiconductor light emitting devices that emit different colors.
  • the light emitters 1050 may be composed of blue semiconductor light emitting devices, and a wavelength conversion layer (or phosphor layer) and a color filter may be additionally disposed on the light emitter 1050 to implement green and red colors. have.
  • the light emitters 1050 may be provided with blue, green, and red light emitters 1050, and may implement blue, red, and green colors without the need for a color filter or the like.
  • an embodiment in which a quantum dot (QD) device, an OLED device, or the like becomes the light emitting body 1050 is not limited thereto.
  • the light emitters 1050 may be electrically connected to a wiring electrode formed on the base portion 1210.
  • the connection method with the wiring electrode may be variously applied depending on the shape of the light emitter 1050.
  • the display panel modules 1200 may include a planarization layer 1220 to planarize the base portion 1210 on which the light emitters 1050 are disposed.
  • the planarization layer 1220 may be formed to fill between the light emitters 1050, and thus the planarization layer 1220 may serve as a partition wall separating the pixel region.
  • the planarization layer 1220 may be formed of an organic insulating material, and may be formed to a thickness of several to several tens of ⁇ m.
  • the second black matrix 1230 may be formed on the planarization layer 1220.
  • the second black matrix 1230 may be formed not to overlap the light emitters 1050. That is, the second black matrix 1230 is formed in an area except for the upper portion of the pixel area in which the light emitters 1050 are disposed, and the upper part of the pixel area is in an open state to emit light output from the light emitters 1050. Can be.
  • the second black matrix 1230 may be formed by applying a black color ink or resist to the planarization layer 1220, and may be formed in other ways.
  • the second black matrix 1230 absorbs light output from the light emitter 1050 to improve the contrast ratio of the display device 1000.
  • the display apparatus 1000 may include a structure that guides the alignment of the display panel modules 1200.
  • This structure may be formed on both the substrate 1100 and the display panel modules 1200.
  • the substrate 1100 may include a first coupling portion 1120 of an intaglio shape, and the display panel modules 1200 may include a second coupling portion 1240 of an embossed shape.
  • the substrate 1100 includes an embossed second coupling portion, and the display panel modules 1200 include an engraved first coupling portion.
  • the substrate 1100 includes an intaglio-shaped first coupling portion, and the display panel modules 1200 include an embossed second coupling portion.
  • the display panel modules 1200 may be disposed on the substrate 1100 such that the second coupling portion 1240 is inserted into the first coupling portion 1120.
  • the first coupling portion 1120 and the second coupling portion 1240 may be formed at the same interval.
  • the first coupling portion 1120 and the second coupling portion 1240 may be formed at predetermined intervals.
  • the lengths of the first coupling portion 1120 in the x-axis, y-axis, and z-axis directions may be the same as or longer than the lengths of the second coupling portion 1240 in the x-axis, y-axis, and z-axis directions.
  • the z-axis direction refers to the thickness direction of the substrate 1100 and the display panel modules 1200
  • the x-axis and y-axis directions refer to the remaining directions.
  • the lengths of the first coupling portion 1120 and the second coupling portion 1240 in the x-axis, y-axis, and z-axis directions may all be several to several hundreds of ⁇ m.
  • the lengths in the x-axis, y-axis, and z-axis directions of the first coupling portion 1120 are longer than the lengths in the x-axis, y-axis, and z-axis directions of the second coupling portion 1240, as shown in FIG. 10.
  • a portion of the second black matrix 1230 around the pixel area may be exposed through the substrate 1100.
  • the second coupling portion 1240 may be formed to overlap the light emitters 1050 on the planarization layer 1220. That is, the second coupling portion 1240 may be formed to cover the upper portion of the pixel area, in this case, the second coupling portion 1240 may be formed of a light-transmitting transparent material.
  • the second coupling portion 1240 may be formed on the pixel region through a photo process.
  • the second coupling part 1240 may be formed to have the same width as the pixel area or a wider width than the pixel area.
  • the second coupling unit 1240 may be formed at the same interval as the pixel area or at a narrower interval than the pixel area.
  • the second coupling portion 1240 may include a portion overlapping the second black matrix 1230. In this case, the second coupling part 1240 may cover a portion of the second black matrix 1230 around the pixel area.
  • the first coupling part 1120 of the substrate 1100 into which the second coupling part 1240 is inserted is a first black matrix ( 1110).
  • the first black matrix 1110 is directly formed on the first coupling portion 1120 or formed on an area overlapping with the first coupling portion 1120, the light output from the light emitters 1050 is first This is because it is blocked by the black matrix 1110.
  • the pattern of the first coupling portion 1120 of the substrate 1100 may be formed through a photo process.
  • the second coupling unit 1240 of the display panel modules 1200 may be formed in a region between pixels.
  • the second coupling unit 1240 may be formed in the entire area between the pixel and the pixel or may be formed in a partial area.
  • the second coupling portion 1240 may be formed on the second black matrix 1230 in the region between the pixel or the second coupling portion 1240 may correspond to the second black matrix 1230 soon. .
  • the first coupling portion 1120 of the substrate 1100 into which the second coupling portion 1240 is inserted is output from the light emitters 1050 It may be formed to overlap the first black matrix 1110 so that light is not blocked.
  • the display panel modules 1200 is a transparent protective layer 1250 formed of a light-transmitting transparent material between the planarization layer 1220 and the second coupling portion 1240 or the second black matrix 1230 It may further include.
  • the transparent protective layer 1250 may be formed to cover one surface of the planarization layer 1220 filled between the pixel region and the upper portion of the opened pixel region.
  • the second black matrix 1230 and the second coupling portion 1240 may be sequentially formed on the transparent protective layer 1250.
  • the display panel modules 1200 may be sequentially arranged one by one on the substrate 1100. In detail, according to the present invention, aligning the display panel modules 1200 such that the second coupling portion 1240 formed in the display panel modules 1200 corresponds to the first coupling portion 1120 formed in the substrate 1100. Can be performed.
  • the display panel modules 1200 may be bonded to the substrate 1100 by inserting the second coupling portion 1240 of the display panel modules 1200 into the first coupling portion 1120 of the substrate 1100. have.
  • a step of applying a transparent adhesive composition to one surface of the display panel modules 1200 disposed to face the substrate 1100 may be preceded.
  • the bonding process according to the present invention is performed by aligning the first bonding part 1120 formed on the substrate 1100 and the second bonding part 1240 formed on the display panel modules 1200 to correspond to each other, the bonding process This is convenient and can prevent the display panel modules 1200 from being broken.
  • first coupling portion 1120 and the second coupling portion 1240 are formed with high precision so that the area of the pixel area is constant even if the spacing of the light emitters 1050 included in the display panel modules 1200 is not constant. Can be maintained.
  • areas other than the pixel area are double-black processed by the first and second black matrices 1110 and 1230, thereby improving image quality.

Abstract

The display device according to the present invention comprises a substrate comprising a first black matrix, and a plurality of display panel modules disposed on the substrate, wherein the display panel modules each comprise: a base unit having wire electrodes; luminous bodies disposed on the base unit and electrically connected to the wire electrodes; a planarization layer for planarizing the base unit having the luminous bodies disposed thereon; and a second black matrix formed on the planarization layer so as not to overlap the semiconductor light-emitting diodes, and the display panel modules are disposed on the substrate such that the boundaries of the display panel modules overlap the first black matrix.

Description

반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치Display device using semiconductor light emitting device
본 발명은 반도체 발광소자, 특히, 수 내지 수십 ㎛ 크기의 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor light emitting device, in particular, a display device using a semiconductor light emitting device having a size of several to several tens of μm.
최근에는 디스플레이 기술분야에서 대면적 디스플레이를 구현하기 위하여, 액정 디스플레이(LCD), 유기 발광소자 디스플레이(OLED), 그리고 마이크로 LED 디스플레이 등이 경쟁하고 있다.Recently, a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting diode display (OLED), and a micro LED display are competing to realize a large area display in the display technology field.
이들 중 100 ㎛ 이하의 직경 또는 단면적을 가지는 반도체 발광소자(마이크로 LED)를 이용한 디스플레이는 편광판 등을 사용하여 빛을 흡수하지 않기 때문에 매우 높은 효율을 제공할 수 있다. Among them, a display using a semiconductor light emitting device (micro LED) having a diameter or cross-sectional area of 100 µm or less can provide very high efficiency because it does not absorb light using a polarizing plate or the like.
그러나 마이크로 LED 디스플레이의 경우 대면적을 구현하기 위해서는 수백만 개의 반도체 발광소자들을 필요로 하기 때문에 다른 기술들에 비해 소자들을 전사하는 것이 어려운 문제가 있다. However, in the case of a micro LED display, it is difficult to transfer elements compared to other technologies because millions of semiconductor light emitting elements are required to realize a large area.
마이크로 LED의 전사공정으로 현재 개발되고 있는 기술은 픽앤플레이스(pick & place), 레이저 리프트 오프법(Laser Lift-Off, LLO) 또는 자가조립 등이 있다.Technologies currently being developed as a micro LED transfer process include pick & place, laser lift-off (LLO), or self-assembly.
본 발명은 반복적으로 배치된 복수의 디스플레이 패널 모듈들의 경계가 드러나지 않는 심리스(seamless)가 구현된 디스플레이 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a seamless display device in which a boundary between a plurality of display panel modules repeatedly disposed is not revealed.
또한, 본 발명은 디스플레이 패널 모듈들의 정렬을 가이드 하는 구조를 포함하는 디스플레이 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a display device including a structure for guiding the alignment of display panel modules.
본 발명에 따른 디스플레이 장치는 제1 블랙 매트릭스를 포함하는 기판과, 상기 기판에 배치되는 복수의 디스플레이 패널 모듈들을 포함하고, 상기 디스플레이 패널 모듈들은, 배선 전극이 형성된 베이스부; 상기 베이스부 상에 배치되며, 상기 배선 전극과 전기적으로 연결되는 발광체들; 상기 발광체들이 배치된 베이스부를 평탄화하는 평탄화층; 및 상기 평탄화층 상에 상기 발광체들과 오버랩 되지 않도록 형성되는 제2 블랙 매트릭스를 포함하고, 상기 디스플레이 패널 모듈들은, 상기 디스플레이 패널 모듈들의 경계가 상기 제1 블랙 매트릭스와 오버랩 되도록 상기 기판에 배치되는 것을 특징으로 한다.The display device according to the present invention includes a substrate including a first black matrix, and a plurality of display panel modules disposed on the substrate, wherein the display panel modules include: a base portion on which a wiring electrode is formed; Light emitting bodies disposed on the base part and electrically connected to the wiring electrode; A planarization layer to planarize the base portion where the light emitters are disposed; And a second black matrix formed not to overlap the light emitters on the planarization layer, wherein the display panel modules are disposed on the substrate such that boundaries of the display panel modules overlap with the first black matrix. It is characterized by.
본 발명에 따르면, 상기 제1 블랙 매트릭스는, 상기 디스플레이 패널 모듈들이 배치되는 면 또는 그 반대면에 형성되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the first black matrix is characterized in that it is formed on the surface on which the display panel modules are disposed or vice versa.
본 발명에 따르면, 상기 기판은 음각 형태의 제1 결합부를 포함하고, 상기 디스플레이 패널 모듈들은 양각 형태의 제2 결합부를 포함하며, 상기 디스플레이 패널 모듈들은, 상기 제2 결합부가 상기 제1 결합부에 삽입되도록 상기 기판에 배치되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the substrate includes a first coupling portion of an intaglio shape, the display panel modules include a second coupling portion of an embossed shape, and the display panel modules include the second coupling portion of the first coupling portion It is characterized in that it is arranged on the substrate to be inserted.
본 발명에 따르면, 상기 제1 결합부의 x축, y축 및 z축 방향의 길이는, 상기 제2 결합부의 x축, y축 및 z축 방향의 길이와 동일하거나 또는 더 길게 형성된 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the lengths in the x-axis, y-axis, and z-axis directions of the first coupling portion are formed to be equal to or longer than the lengths in the x-axis, y-axis, and z-axis directions of the second coupling portion. .
본 발명에 따르면, 상기 제1 결합부 및 제2 결합부는 미리 정해진 간격으로 형성되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the first coupling portion and the second coupling portion are formed at predetermined intervals.
본 발명에 따르면, 상기 제2 결합부는, 상기 평탄화층 상에 상기 발광체들과 오버랩 되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the second coupling portion is formed to overlap the light emitters on the planarization layer.
본 발명에 따르면, 상기 제2 결합부는, 상기 제2 블랙 매트릭스와 오버랩 되는 부분을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the second coupling portion is characterized in that it comprises a portion overlapping with the second black matrix.
본 발명에 따르면, 상기 제1 결합부는, 상기 제1 블랙 매트릭스와 오버랩 되지 않도록 형성되는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the first coupling portion is formed so as not to overlap with the first black matrix.
본 발명에 따르면, 상기 디스플레이 패널 모듈들은, 상기 평탄화층과 상기 제2 결합부 또는 상기 제2 블랙 매트릭스 사이에 투명 보호층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, the display panel modules, characterized in that it further comprises a transparent protective layer between the planarization layer and the second coupling portion or the second black matrix.
본 발명에 따르면, 상기 기판과 상기 디스플레이 패널 모듈들 사이에 투명 접합층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, it is characterized in that it further comprises a transparent bonding layer between the substrate and the display panel modules.
본 발명은 복수의 디스플레이 패널 모듈들의 경계가 외부로 드러나지 않음으로써 심리스(seamless)를 구현할 수 있는 효과가 있다.The present invention has the effect of implementing a seamless (seamless) by not revealing the boundary of the plurality of display panel modules to the outside.
또한, 본 발명은 음각 및 양각 패턴을 통해 디스플레이 패널 모듈들을 기판에 간편하게 배치할 수 있으며, 고가의 장치를 필요로 하지 않으므로 비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention can easily dispose the display panel modules on the substrate through the intaglio and embossed patterns, and does not require expensive devices, thereby reducing the cost.
도 1은 본 발명의 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치의 일 실시예를 나타내는 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing an embodiment of a display device using a semiconductor light emitting device of the present invention.
도 2는 도 1의 디스플레이 장치의 A 부분의 부분 확대도이고, 도 3a 및 도 3b는 도 2의 B-B 및 C-C를 따라 취한 단면도들이다.FIG. 2 is a partially enlarged view of part A of the display device of FIG. 1, and FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views taken along lines B-B and C-C of FIG. 2.
도 4는 도 3의 플립칩 타입 반도체 발광소자를 나타내는 개념도이다.4 is a conceptual diagram showing the flip-chip type semiconductor light emitting device of FIG. 3.
도 5a 내지 도 5c는 플립칩 타입 반도체 발광소자와 관련하여 컬러를 구현하는 여러가지 형태를 나타내는 개념도들이다.5A to 5C are conceptual views illustrating various forms of color in connection with a flip-chip type semiconductor light emitting device.
도 6은 본 발명의 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법을 나타낸 단면도들이다.6 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
도 7은 본 발명의 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치의 다른 일 실시예를 나타내는 사시도이다.7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention.
도 8은 도 7의 라인 D-D를 따라 취한 단면도이다.8 is a cross-sectional view taken along line D-D of FIG. 7.
도 9는 도 8의 수직형 반도체 발광소자를 나타내는 개념도이다.9 is a conceptual diagram illustrating the vertical semiconductor light emitting device of FIG. 8.
도 10은 본 발명에 따른 디스플레이 장치를 나타내는 개념도이다.10 is a conceptual diagram showing a display device according to the present invention.
도 11은 본 발명에 따른 디스플레이 패널 모듈들을 나타내는 개념도이다.11 is a conceptual diagram illustrating display panel modules according to the present invention.
도 12는 본 발명에 따른 디스플레이 패널 모듈들의 단면도이다.12 is a cross-sectional view of display panel modules according to the present invention.
도 13은 본 발명에 따른 기판의 다양한 실시예를 나타낸 개념도이다. 13 is a conceptual diagram showing various embodiments of a substrate according to the present invention.
도 14는 본 발명에 따른 디스플레이 패널 모듈 및 기판의 다른 실시예를 나타낸 개념도이다.14 is a conceptual view showing another embodiment of a display panel module and a substrate according to the present invention.
도 15a는 도 13(a)의 기판에 디스플레이 패널 모듈을 합착하는 모습을 나타낸 도면이고, 도 15b는 도 13(b)의 기판에 디스플레이 패널 모듈을 합착하는 모습을 나타낸 도면이다.15A is a view showing a state in which the display panel module is attached to the substrate of FIG. 13A, and FIG. 15B is a view showing a state in which the display panel module is attached to the substrate of FIG. 13B.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 “모듈” 및 “부”는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되는 것으로 해석되어서는 아니된다. 또한, 층, 영역 또는 기판과 같은 요소가 다른 구성요소 “상(on)”에 존재하는 것으로 언급될 때, 이것은 직접적으로 다른 요소 상에 존재하거나 또는 그 사이에 중간 요소가 존재할 수도 있는 것으로 이해할 수 있을 것이다. Hereinafter, exemplary embodiments disclosed herein will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the same or similar elements will be given the same reference numbers regardless of the reference numerals, and redundant descriptions thereof will be omitted. The suffixes “module” and “part” for components used in the following description are given or mixed only considering the ease of writing the specification, and do not have meanings or roles that are distinguished from each other. In addition, in the description of the embodiments disclosed herein, when it is determined that detailed descriptions of related known technologies may obscure the gist of the embodiments disclosed herein, detailed descriptions thereof will be omitted. In addition, the accompanying drawings are only for easy understanding of the embodiments disclosed in the present specification, and the technical spirit disclosed in the present specification should not be interpreted as being limited by the accompanying drawings. Also, when an element, such as a layer, region, or substrate, is referred to as being “on” another component, it is understood that there may be an intermediate element directly on or between the other elements. There will be.
본 명세서에서 설명되는 디스플레이 장치에는 휴대폰(mobile phone), 스마트폰(smart phone), 노트북 컴퓨터(laptop computer), 디지털방송용 단말기, PDA(personal digital assistant), PMP(portable multimedia player), 네비게이션, 슬레이트 PC(slate PC), 테ㄹ블릿 PC(tablet PC), 울트라북(ultrabook), 디지털 TV(digital TV), 데스크톱 컴퓨터(desktop computer) 등이 포함될 수 있다. 그러나 본 명세서에 기재된 실시예에 따른 구성은 추후 개발되는 새로운 제품형태라도 디스플레이를 포함할 수 있다면 적용될 수 있다. The display device described herein includes a mobile phone, a smart phone, a laptop computer, a terminal for digital broadcasting, a personal digital assistant (PDA), a portable multimedia player (PMP), navigation, and a slate PC. It may include (slate PC), tablet PC (tablet PC), ultrabook (ultrabook), digital TV (digital TV), desktop computer (desktop computer), and the like. However, the configuration according to the embodiment described in the present specification may be applied as long as a new product type developed later may include a display.
도 1은 본 발명의 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치의 일 실시예를 나타내는 개념도이다. 1 is a conceptual diagram showing an embodiment of a display device using a semiconductor light emitting device of the present invention.
도시에 의하면, 디스플레이 장치(100)의 제어부에서 처리되는 정보는 플렉서블 디스플레이(flexible display) 상에 표시될 수 있다. 플렉서블 디스플레이는 외력에 의하여 휘어질 수 있는, 구부러질 수 있는, 비틀어질 수 있는, 접힐 수 있는, 말려질 수 있는 디스플레이를 포함한다. 예를 들어, 플렉서블 디스플레이는 기존의 평판 디스플레이의 디스플레이 특성을 유지하면서, 종이와 같이 휘어지거나, 구부리거나, 접을 수 있거나, 말 수 있는 얇고 유연한 기판 위에 제작되는 디스플레이가 될 수 있다. According to the drawing, information processed by the control unit of the display apparatus 100 may be displayed on a flexible display. Flexible displays include bendable, bendable, warpable, collapsible, and curlable displays that can be bent by external forces. For example, the flexible display may be a display fabricated on a thin, flexible substrate that can be bent, bent, folded, or rolled like paper, while maintaining the display characteristics of conventional flat panel displays.
플렉서블 디스플레이가 휘어지지 않은 상태(예를 들어, 무한대의 곡률반경을 가지는 상태, 이하 ‘제1상태’라 한다)에서는 상기 플렉서블 디스플레이의 디스플레이 영역이 평면이 된다. 상기 제1상태에서 외력에 의하여 휘어진 상태(예를 들어, 유한의 곡률반경을 가지는 사태, 이하 ‘제2상태’라 한다)에서는 상기 디스플레이 영역이 곡면이 될 수 있다. 도시와 같이, 상기 제2상태에서 표시되는 정보는 곡면상에 출력되는 시각정보가 될 수 있다. 이러한 시각정보는 매트릭스 형태로 배치되는 단위 화소(sub-pixel)의 발광을 독자적으로 제어함으로써 구현된다. 상기 단위 화소는 하나의 색을 구현하기 위한 최소 단위를 의미한다. In a state in which the flexible display is not bent (for example, a state having an infinite radius of curvature, hereinafter referred to as a “first state”), the display area of the flexible display becomes a flat surface. In the first state, the display area may be curved in a state curved by an external force (for example, a situation having a finite radius of curvature, hereinafter referred to as a “second state”). As illustrated, information displayed in the second state may be visual information output on a curved surface. This visual information is implemented by independently controlling the emission of sub-pixels arranged in a matrix form. The unit pixel refers to a minimum unit for realizing one color.
상기 플렉서블 디스플레이의 단위 화소는 반도체 발광소자에 의하여 구현될 수 있다. 본 발명에서는 전류를 빛으로 변환시키는 반도체 발광소자의 일 종류로서 발광 다이오드(light emitting diode: LED)를 예시한다. 상기 발광 다이오드는 작은 크기로 형성되며, 이를 통하여 상기 제2상태에서도 단위 화소의 역할을 할 수 있게 된다. The unit pixel of the flexible display may be implemented by a semiconductor light emitting device. In the present invention, a light emitting diode (LED) is illustrated as a type of semiconductor light emitting device that converts current into light. The light emitting diode is formed to have a small size, and through this, it can serve as a unit pixel even in the second state.
이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 상기 발광 다이오드를 이용하여 구현된 플렉서블 디스플레이에 대하여 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, a flexible display implemented using the light emitting diode will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 도 1의 A부분의 부분 확대도이고, 도 3a 및 도 3b는 도 2의 라인 B-B 및 C-C를 따라 취한 단면도들이고, 도 4는 도 3의 플립칩 타입 반도체 발광소자를 나타내는 개념도이고, 도 5a 내지 도 5c는 플립칩 타입 반도체 발광소자와 관련하여 컬러를 구현하는 여러 가지 형태를 나타내는 개념도들이다. FIG. 2 is a partially enlarged view of part A of FIG. 1, FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views taken along lines BB and CC of FIG. 2, and FIG. 4 is a conceptual view showing the flip-chip type semiconductor light emitting device of FIG. 3, 5A to 5C are conceptual views illustrating various forms of color in connection with a flip chip type semiconductor light emitting device.
도 2, 도 3a 및 도 3b는, 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치(100)로서 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치(100)를 예시한다. 다만, 이하 예시는 액티브 매트릭스(Active Matrix, AM) 방식의 반도체 발광소자에도 적용 가능하다.2, 3A, and 3B illustrate a display device 100 using a passive matrix (PM) type semiconductor light emitting device as the display device 100 using a semiconductor light emitting device. However, the following examples are also applicable to an active matrix (AM) type semiconductor light emitting device.
상기 디스플레이 장치(100)는 기판(110), 제1전극(120), 전도성 접착층(130), 제2전극(140) 및 복수의 반도체 발광소자(150)를 포함한다.The display device 100 includes a substrate 110, a first electrode 120, a conductive adhesive layer 130, a second electrode 140, and a plurality of semiconductor light emitting devices 150.
기판(110)은 플렉서블 기판일 수 있다. 기판(110)은 플렉서블한 성능을 구현하기 위하여 유리 또는 폴리이미드(PI, Polyimide)를 포함할 수 있다. 이외에도, 기판(110)의 성분으로 PEN(Polyethylene Naphthalate), PET (Polyethylene Terephthalate) 등과 같이 절연성이 있고 유연성이 있는 재질이 사용될 수도 있다. 또한, 기판(110)은 투명한 재질 또는 불투명한 재질 중 어느 것이나 될 수 있다. The substrate 110 may be a flexible substrate. The substrate 110 may include glass or polyimide (PI) to implement flexible performance. In addition, insulating and flexible materials such as PEN (Polyethylene Naphthalate) and PET (Polyethylene Terephthalate) may be used as a component of the substrate 110. Further, the substrate 110 may be either a transparent material or an opaque material.
상기 기판(110)은 제1전극(120)이 배치되는 배선기판일 수 있으며, 제1전극(120)은 기판(110) 상에 위치할 수 있다.The substrate 110 may be a wiring substrate on which the first electrode 120 is disposed, and the first electrode 120 may be positioned on the substrate 110.
도시에 의하면, 절연층(160)은 제1전극(120)이 위치한 기판(110) 상에 적층되어 형성된 것일 수 있으며, 절연층(160)에는 보조전극(170)이 배치될 수 있다. 이 경우, 기판(110) 상에 절연층(160)이 적층되어 형성된 상태가 하나의 배선기판이 될 수 있다. 보다 구체적으로, 절연층(160)은 PI, PEN, PET 등과 같이 절연성 있고 유연성 있는 재질로서, 상기 기판 (110)과 일체로 이루어져 하나의 배선기판을 형성할 수 있다. According to the drawing, the insulating layer 160 may be formed by being stacked on the substrate 110 on which the first electrode 120 is located, and the auxiliary electrode 170 may be disposed on the insulating layer 160. In this case, a state in which the insulating layer 160 is stacked on the substrate 110 may be one wiring substrate. More specifically, the insulating layer 160 is an insulating and flexible material such as PI, PEN, PET, and the like, and can be formed integrally with the substrate 110 to form one wiring substrate.
보조전극(170)은 제1전극(120)과 반도체 발광소자(150)를 전기적으로 연결하는 전극으로서 절연층(160) 상에 위치하고 제1전극(120) 위치에 대응하여 배치된다. 예를 들어, 보조전극(170)은 닷(dot) 형태이며, 절연층(160)을 관통하는 전극홀(171)에 의하여 제1전극(120)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 전극홀(171)은 비아홀에 도전물질이 채워짐으로써 형성될 수 있다. The auxiliary electrode 170 is an electrode that electrically connects the first electrode 120 and the semiconductor light emitting device 150 and is positioned on the insulating layer 160 and is disposed corresponding to the position of the first electrode 120. For example, the auxiliary electrode 170 has a dot shape and may be electrically connected to the first electrode 120 by an electrode hole 171 penetrating the insulating layer 160. The electrode hole 171 may be formed by filling a via hole with a conductive material.
첨부된 도면에 의하면, 절연층(160)의 일면에는 전도성 접착층 (130)이 형성되나 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 절연층(160)과 전도성 접착층(130) 사이에는 특정 기능을 수행하는 레이어가 형성될 수 있으며, 절연층(160) 없이 전도성 접착층(130)이 기판 상에 배치되는 구조도 가능하다. 전도성 접착층(130)이 기판 상에 배치되는 구조에서는 전도성 접착층(130)이 절연층의 역할을 할 수 있다. According to the accompanying drawings, a conductive adhesive layer 130 is formed on one surface of the insulating layer 160, but the present invention is not limited thereto. For example, a layer performing a specific function may be formed between the insulating layer 160 and the conductive adhesive layer 130, and a structure in which the conductive adhesive layer 130 is disposed on the substrate without the insulating layer 160 is also possible. . In a structure in which the conductive adhesive layer 130 is disposed on a substrate, the conductive adhesive layer 130 may serve as an insulating layer.
상기 전도성 접착층(130)은 접착성과 전도성을 가지는 층이 될 수 있으며, 이를 위하여 전도성 접착층(130)은 전도성을 갖는 물질과 접착성을 갖는 물질이 혼합되어 형성될 수 있따. 또한, 전도성 접착층(130)은 연성을 가지며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 플랙서블 기능을 가능하게 할 수 있다. The conductive adhesive layer 130 may be a layer having adhesiveness and conductivity, and for this purpose, the conductive adhesive layer 130 may be formed by mixing a conductive material and an adhesive material. In addition, the conductive adhesive layer 130 has ductility, thereby enabling a flexible function in the display device.
일례로, 전도성 접착층(130)은 이방성 전도성 필름(anisotropy conductive film, ACF), 이방성 전도 페이스트(paste), 전도성 입자를 함유한 솔루션(solution) 등이 될 수 있다. 전도성 접착층(130)은 두께를 관통하는 z 방향으로는 전기적 상호 연결을 허용하나, 수평적인 x-y 방향으로는 전기 절연성의 레이어로 구성될 수 있다. 따라서 상기 전도성 접착층(130)은 z축 전도층으로 명명될 수 있다(다만, 이하에서는 ‘전도성 접착층’이라 한다). For example, the conductive adhesive layer 130 may be an anisotropy conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, or a solution containing conductive particles. The conductive adhesive layer 130 allows electrical interconnection in the z-direction through the thickness, but may be formed of a layer of electrical insulation in the horizontal x-y direction. Therefore, the conductive adhesive layer 130 may be referred to as a z-axis conductive layer (however, hereinafter referred to as a “conductive adhesive layer”).
상기 이방성 전도성 필름은 이방성 전도매질(anisotropic conductive medium)이 절연성 베이스 부재에 혼합된 형태의 필름으로서, 열 및 압력이 가해지면 특정 부분에 한하여 이방성 전도매질에 의한 전도성을 가지게 된다. 본 명세서에서는 상기 이방성 전도성 필름에 열 및 압력이 가해지는 것으로 설명하나, 상기 이방성 전도 필름이 부분적인 전도성을 가지게 하기 위하여 다른 방법(예를 들어, 열 및 압력 중 어느 하나만이 가해지거나 UV 경화에 의하는 방법)에 의할 수도 있다.The anisotropic conductive film is a film in which an anisotropic conductive medium is mixed with an insulating base member. When heat and pressure are applied, the anisotropic conductive medium has conductivity by an anisotropic conductive medium. In this specification, it is described that heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film, but in order to make the anisotropic conductive film have partial conductivity, other methods (for example, only one of heat and pressure is applied or by UV curing) Method).
또한, 상기 이방성 전도매질은 도전볼이나 도전성 입자일 수 있다. 도시에 의하면, 이방성 전도 필름은 도전볼이 절연성 베이스 부재에 혼합된 형태의 필름으로서, 열 및 압력이 가해지면 도전볼에 의하여 특정 부분만 전도성을 가지게 된다. 이방성 전도성 필름은 전도성 물질의 코어가 폴리머 재질의 절연막에 의하여 피복된 형태의 입자들이 함유된 상태일 수 있으며, 이 경우 열 및 압력이 가해진 부분에 함유된 입자들의 절연막이 파괴되면서 코어에 의하여 도전성을 가지게 된다. 이 때, 코어의 형태는 변형되어 필름의 두께방향으로 서로 접촉하는 층을 이룰 수 있다. 보다 구체적으로, 열 및 압력은 이방성 전도성 필름에 전체적으로 가해지며, 이방성 전도성 필름에 의하여 접착되는 상대물의 높이차에 의하여 z축 방향의 전기적 연결이 부분적으로 형성될 수 있다. Further, the anisotropic conductive medium may be conductive balls or conductive particles. According to the drawing, the anisotropic conductive film is a film in which a conductive ball is mixed with an insulating base member, and when heat and pressure are applied, only a specific portion is conductive by the conductive ball. In the anisotropic conductive film, the core of the conductive material may contain particles in a form coated with an insulating film made of a polymer material. In this case, the insulating film of the particles contained in the portion to which heat and pressure is applied is destroyed, thereby conducting conductivity by the core. Have it. At this time, the shape of the core is deformed to form a layer contacting each other in the thickness direction of the film. More specifically, heat and pressure are applied to the anisotropic conductive film as a whole, and an electrical connection in the z-axis direction may be partially formed by a height difference of a counterpart adhered by the anisotropic conductive film.
다른 예로서, 이방성 전도성 필름은 절연 코어에 전도성 물질이 피복된 복수의 입자가 함유된 상태일 수 있다. 이 경우, 열 및 압력이 가해진 부분의 전도성 물질이 변형되면서(눌러 붙음) 필름의 두께방향으로 전도성을 가지게 된다. 또 다른 예로서, 전도성 물질이 z축 방향으로 절연성 베이스 부재를 관통하여 필름의 두께방향으로 전도성을 가지는 형태도 가능하며, 이 때, 전도성 물질은 뾰족한 단부를 가질 수 있다. As another example, the anisotropic conductive film may be a state in which the insulating core contains a plurality of particles coated with a conductive material. In this case, the conductive material of the portion to which heat and pressure is applied is deformed (pressed), and thus becomes conductive in the thickness direction of the film. As another example, a form in which the conductive material penetrates the insulating base member in the z-axis direction and has conductivity in the thickness direction of the film may be used. At this time, the conductive material may have a pointed end.
도시에 의하면, 이방성 전도성 필름은 도전볼이 절연성 베이스 부재의 일면에 삽입된 형태로 구성되는 고정배열 이방성 전도필름(fixed array ACF)일 수 있다. 절연성 베이스 부재는 접착성을 가지는 물질로 형성되며, 도전볼은 상기 절연성 베이스 부재의 바닥 부분에 집중적으로 배치되어 상기 베이스 부재로부터 열 및 압력이 가해지면 상기 도전볼과 함께 변형되어 수직방향으로 전도성을 가지게 된다. According to the drawing, the anisotropic conductive film may be a fixed array ACF (arranged array anisotropic conductive film) composed of conductive balls inserted into one surface of an insulating base member. The insulating base member is formed of an adhesive material, and the conductive balls are intensively disposed on the bottom portion of the insulating base member to deform together with the conductive balls when heat and pressure are applied from the base member to conduct conductivity in the vertical direction. Have it.
다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 이방성 전도성 필름은 절연성 베이스 부재에 도전볼이 랜덤하게 혼입된 형태, 복수의 층으로 구성되며 어느 한 층에 도전볼이 배치되는 형태(double-ACF) 등이 모두 가능하다. However, the present invention is not necessarily limited to this, and the anisotropic conductive film is a form in which conductive balls are randomly mixed in an insulating base member, and is composed of a plurality of layers, and a conductive ball is disposed in one layer (double-ACF ) Etc. are all possible.
이방성 전도 페이스트는 페이스트와 도전볼의 결합형태로서, 절연성 및 접착성의 베이스 물질에 도전볼이 혼합된 페이스트가 될 수 있다. 또한, 전도성 입자를 함유한 솔루션은 전도성 입자 또는 나노 입자를 함유한 형태의 솔루션이 될 수 있다. The anisotropic conductive paste is a combination of a paste and a conductive ball, and may be a paste in which conductive balls are mixed with insulating and adhesive base materials. In addition, the solution containing the conductive particles may be a solution containing a conductive particle or nanoparticles.
첨부된 도면을 참조하면, 제2전극(140)은 보조전극(170)과 이격하여 절연층(160)에 위치한다. 즉, 상기 전도성 접착층(130)은 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 위치하는 절연층(160) 상에 배치된다. Referring to the accompanying drawings, the second electrode 140 is positioned on the insulating layer 160 spaced apart from the auxiliary electrode 170. That is, the conductive adhesive layer 130 is disposed on the insulating layer 160 on which the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are located.
절연층(160)에 보조전극(170)과 제2전극(140)이 위치된 상태에서 전도성 접착층(130)을 형성한 후에 열 및 압력을 가하여 반도체 발광소자 (150)를 플립 칩 형태로 접속시키면, 상기 반도체 발광소자(150)는 제1전극 (120) 및 제2전극(140)과 전기적으로 연결된다.After forming the conductive adhesive layer 130 in the state where the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are positioned on the insulating layer 160, heat and pressure are applied to connect the semiconductor light emitting device 150 in the form of a flip chip. , The semiconductor light emitting device 150 is electrically connected to the first electrode 120 and the second electrode 140.
반도체 발광소자(150)는 도 4와 같이 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광소자 일 수 있다. The semiconductor light emitting device 150 may be a flip chip type light emitting device as shown in FIG. 4.
예를 들어, 상기 반도체 발광소자(150)는 p형 전극(156), p형 전극 (156)이 형성되는 p형 반도체층(155), p형 반도체층(155) 상에 형성된 활성층(154), 활성층(154) 상에 형성된 n형 반도체층(153) 및 n형 반도체층 (153) 상에서 p형 전극(156)과 수평방향으로 이격 배치되는 n형 전극 (152)을 포함한다. 이 경우, p형 전극(156)은 전도성 접착층(130)에 의하여 보조전극(170)과 전기적으로 연결될 수 있고, n형 전극(152)은 제2전극 (140)과 전기적으로 연결될 수 있다. For example, the semiconductor light emitting device 150 includes a p-type electrode 156, a p-type semiconductor layer 155 on which the p-type electrode 156 is formed, and an active layer 154 formed on the p-type semiconductor layer 155. , An n-type semiconductor layer 153 formed on the active layer 154 and an n-type electrode 152 disposed horizontally apart from the p-type electrode 156 on the n-type semiconductor layer 153. In this case, the p-type electrode 156 may be electrically connected to the auxiliary electrode 170 by the conductive adhesive layer 130, and the n-type electrode 152 may be electrically connected to the second electrode 140.
도 2, 도 3a 및 도 3b를 참조하면, 보조전극(170)은 일 방향으로 길게 형성됨으로써 하나의 보조전극(170)이 복수의 반도체 발광소자(150)에 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 보조전극(170)을 중ㅇ심으로 좌우의 반도체 발광소자들(150)의 p형 전극(156)들이 하나의 보조전극에 전기적으로 연결될 수 있다.2, 3A, and 3B, the auxiliary electrode 170 is formed to be long in one direction so that one auxiliary electrode 170 can be electrically connected to the plurality of semiconductor light emitting devices 150. For example, the p-type electrodes 156 of the left and right semiconductor light emitting elements 150 centering on the auxiliary electrode 170 may be electrically connected to one auxiliary electrode.
구체적으로, 열 및 압력에 의하여 전도성 접착층(130)의 내부로 반도체 발광소자(150)가 압입되며, 이를 통해 반도체 발광소자(150)의 p형 전극(156) 및 보조전극(170) 사이의 부분과, 반도체 발광소자(150)의 n형 전극(152) 및 제2전극(140) 사이의 부분에서만 전도성을 가지게 되고, 나머지 부분에서는 반도체 발광소자(150)의 압입이 없어 전도성을 가지지 않게 된다. 이와 같이, 전도성 접착층(130)은 반도체 발광소자(150)와 보조전극(170) 사이 및 반도체 발광소자(150)와 제2전극(140) 사이를 상호 결합시켜줄 뿐만 아니라 전기적으로 연결시킬 수 있다. Specifically, the semiconductor light emitting device 150 is pressed into the conductive adhesive layer 130 by heat and pressure, through which the portion between the p-type electrode 156 and the auxiliary electrode 170 of the semiconductor light emitting device 150 And, only the portion between the n-type electrode 152 and the second electrode 140 of the semiconductor light emitting device 150 has conductivity, and the rest of the semiconductor light emitting device 150 has no indentation. As such, the conductive adhesive layer 130 may not only couple the semiconductor light emitting device 150 and the auxiliary electrode 170 and the semiconductor light emitting device 150 and the second electrode 140, but also electrically connect them.
또한, 복수의 반도체 발광소자(150)는 발광소자 어레이(array)를 구성하며, 발광소자 어레이에는 형광체층(180)이 형성된다. In addition, the plurality of semiconductor light emitting devices 150 constitute an array of light emitting devices, and a phosphor layer 180 is formed on the light emitting device array.
발광소자 어레이는 자체 휘도값이 상이한 복수의 반도체 발광소자 (150)들을 포함할 수 있다. 각각의 반도체 발광소자(150)는 단위 화소를 구성하며, 제1전극(120)에 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 제1전극 (120)은 복수 개일 수 있고, 반도체 발광소자(150)들은 수 열로 배치되며, 각 열의 반도체 발광소자(150)들은 상기 복수 개의 제1전극(120) 중 어느 하나에 전기적으로 연결될 수 있다. The light emitting device array may include a plurality of semiconductor light emitting devices 150 having different luminance values. Each semiconductor light emitting device 150 constitutes a unit pixel and is electrically connected to the first electrode 120. For example, a plurality of first electrodes 120 may be provided, and the semiconductor light emitting devices 150 may be arranged in several rows, and the semiconductor light emitting devices 150 in each column may be connected to any one of the plurality of first electrodes 120. It can be electrically connected.
또한, 반도체 발광소자(150)들이 플립 칩 형태로 접속되므로, 투명 유전체 기판에 성장시킨 반도체 발광소자(150)들을 이용할 수 있다. 상기 반도체 발광소자(150)들은 예를 들어, 질화물 반도체 발광소자일 수 있다. 반도체 발광소자(150)는 휘도가 우수하여 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다. In addition, since the semiconductor light emitting devices 150 are connected in the form of a flip chip, the semiconductor light emitting devices 150 grown on a transparent dielectric substrate can be used. The semiconductor light emitting devices 150 may be nitride semiconductor light emitting devices, for example. The semiconductor light emitting device 150 has excellent luminance, and thus can form individual unit pixels even in a small size.
도면을 참조하면, 반도체 발광소자(150)의 사이에는 격벽(190)이 형성될 수 있다. 이 경우, 격벽(190)은 개별 단위 화소를 서로 분리하는 역할을 할 수 있으며, 전도성 접착층(130)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 반도체 발광소자(150)가 삽입됨에 의하여 이방성 전도성 필름의 베이스 부재가 상기 격벽(190)을 형성할 수 있다. Referring to the drawings, a partition wall 190 may be formed between the semiconductor light emitting devices 150. In this case, the partition wall 190 may serve to separate the individual unit pixels from each other, and may be integrally formed with the conductive adhesive layer 130. For example, the base member of the anisotropic conductive film may form the partition 190 by inserting the semiconductor light emitting device 150 in the anisotropic conductive film.
또한, 상기 이방성 전도성 필름의 베이스 부재가 블랙이면, 별도의 블랙 절연체가 없어도 상기 격벽(190)이 반사 특성을 가지는 동시에 대비비 (contrast)가 증가될 수 있다.In addition, if the base member of the anisotropic conductive film is black, the contrast ratio can be increased while the partition 190 has reflective properties without a separate black insulator.
다른 예로서, 상기 격벽(190)으로 별도의 반사성 격벽이 구비될 수 있다. 이 경우, 상기 격벽(190)은 디스플레이 장치의 목적에 따라 블랙 또는 화이트 절연체를 포함할 수 있다. 화이트 절연체의 격벽(190)을 이용할 경우 반사성을 높이는 효과가 있을 수 있고, 블랙 절연체의 격벽을 이용할 경우 반사 특성을 갖는 동시에 대비비를 증가시킬 수 있다. As another example, a separate reflective partition wall may be provided as the partition wall 190. In this case, the partition wall 190 may include a black or white insulator depending on the purpose of the display device. When the partition wall 190 of the white insulator is used, there may be an effect of increasing reflectivity, and when the partition wall of the black insulator is used, the contrast ratio may be increased while having reflective properties.
형광체층(180)은 반도체 발광소자(150)의 외면에 위치할 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광소자(150)는 청색(B)광을 발광하는 청색 반도체 발광소자인 경우, 상기 형광체층(180)은 상기 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키는 기능을 수행할 수 있다. 상기 형광체층(180)은 개별 화소를 구성하는 적색 형광체(181) 또는 녹색 형광체(182)가 될 수 있다. The phosphor layer 180 may be located on the outer surface of the semiconductor light emitting device 150. For example, when the semiconductor light emitting device 150 is a blue semiconductor light emitting device that emits blue (B) light, the phosphor layer 180 performs a function of converting the blue (B) light into a color of a unit pixel. can do. The phosphor layer 180 may be a red phosphor 181 or a green phosphor 182 constituting individual pixels.
즉, 적색의 단위 화소를 이루는 위치에서, 청색 반도체 발광소자 (151) 상에는 청색(B) 광을 적색(R) 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체 (181)가 적층될 수 있고, 녹색의 단위 화소를 이루는 위치에서는, 청색 반도체 발광소자(151) 상에 청색(B) 광을 녹색(G) 광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체(182)가 적층될 수 있다. 또한, 청색의 단위 화소를 이루는 부분에는 청색 반도체 발광소자(151)만이 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이룰 수 있다. 구체적으로, 제1전극(120)의 각 라인을 따라 하나의 색상의 형광체(180)가 적층될 수 있으며, 따라서 제1전극(120)에서 하나의 라인은 하나의 색상을 제어하는 전극이 될 수 있다. 즉, 제2전극(140)을 따라서 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)이 차례로 배치될 수 있으며, 단위 화소가 구현될 수 있다. That is, a red phosphor 181 capable of converting blue (B) light into red (R) light may be stacked on the blue semiconductor light emitting device 151 at a position forming the red unit pixel, and the green unit pixel may be stacked. In a position forming, a green phosphor 182 capable of converting blue (B) light into green (G) light may be stacked on the blue semiconductor light emitting device 151. In addition, only the blue semiconductor light emitting device 151 may be used alone in a portion constituting a blue unit pixel. In this case, the red (R), green (G), and blue (B) unit pixels may form one pixel. Specifically, a phosphor 180 of one color may be stacked along each line of the first electrode 120, so one line of the first electrode 120 can be an electrode controlling one color. have. That is, red (R), green (G), and blue (B) may be sequentially disposed along the second electrode 140, and a unit pixel may be implemented.
다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 형광체(180) 대신에 반도체 발광소자(150)와 퀀텀닷(QD)이 조합되어 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들을 구현할 수 있다. However, the present invention is not necessarily limited thereto, and instead of the phosphor 180, the semiconductor light emitting device 150 and the quantum dot (QD) are combined to form red (R), green (G), and blue (B) unit pixels. You can implement them.
또한, 명암의 대조를 향상시키기 위하여 각각의 형광체층(180)들의 사이에는 블랙 매트릭스(191)가 배치될 수 있다.In addition, a black matrix 191 may be disposed between each phosphor layer 180 to improve contrast of contrast.
다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다. However, the present invention is not necessarily limited thereto, and other structures for implementing blue, red, and green may be applied.
도 5a를 참조하면, 각각의 반도체 발광소자(150)는 질화갈륨(GaN)을 주로 하여, 인듐(In) 및/또는 알루미늄(Al)이 함께 첨가되어 청색을 비롯한 다양한 색의 빛을 발광하는 고출력의 발광 소자로 구현될 수 있다. Referring to FIG. 5A, each semiconductor light emitting device 150 mainly includes gallium nitride (GaN), and indium (In) and/or aluminum (Al) are added together to emit light of various colors including blue. It can be implemented as a light emitting device.
이 경우, 반도체 발광소자(150)는 각각의 단위 화소(sub-pixel)를 이루기 위하여 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광소자로 구비될 수 있다. 예를 들어, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광소자(R, G, B)가 교대로 배치되고, 적색, 녹색 및 청색 반도체 발광소자에 의하여 적색, 녹색 및 청색의 단위 화소들이 하나의 화소(pixel)를 이루며, 이를 통해 풀 칼라 디스플레이가 구현될 수 있다. In this case, the semiconductor light emitting device 150 may be provided as red, green, and blue semiconductor light emitting devices to form each sub-pixel. For example, red, green, and blue semiconductor light emitting devices (R, G, B) are alternately arranged, and red, green, and blue semiconductor light emitting devices allow red, green, and blue unit pixels to be one pixel. , Through which a full color display can be implemented.
도 5b를 참조하면, 반도체 발광소자(150)는 황색 형광체층이 개별 소자마다 구비된 백색 발광소자(W)일 수 있다. 이 경우, 단위 화소를 이루기 위하여 백색 발광소자(W) 상에 적색 형광체층(181), 녹색 형광체층 (182), 및 청색 형광체층(183)이 구비될 수 있다. 또한, 이러한 백색 발광소자(W) 상에 적색, 녹색 및 청색이 반복되는 컬러 필터를 이용하여 단위 화소를 이룰 수 있다. Referring to FIG. 5B, the semiconductor light emitting device 150 may be a white light emitting device W in which a yellow phosphor layer is provided for each individual device. In this case, a red phosphor layer 181, a green phosphor layer 182, and a blue phosphor layer 183 may be provided on the white light emitting device W to form a unit pixel. In addition, a unit pixel may be formed using a color filter in which red, green, and blue are repeated on the white light emitting element W.
도 5c를 참조하면, 자외선 발광소자(UV) 상에 적색 형광체층(181), 녹색 형광체층(182) 및 청색 형광체층(183)이 구비될 수 있다. 이와 같이, 반도체 발광소자(150)는 가시광선 영역뿐만 아니라 자외선까지 전 영역에 사용 가능하며, 자외선이 상부 형광체의 여기원(excitation source)으로 사용 가능한 반도체 발광소자의 형태로 확장될 수 있다.Referring to FIG. 5C, a red phosphor layer 181, a green phosphor layer 182, and a blue phosphor layer 183 may be provided on an ultraviolet light emitting device (UV). As such, the semiconductor light emitting device 150 can be used not only in the visible light region but also in the entire ultraviolet region, and can be expanded in the form of a semiconductor light emitting element in which ultraviolet ray can be used as an excitation source of the upper phosphor.
본 예시를 다시 살펴보면, 반도체 발광소자(150)는 전도성 접착층 (130) 상에 위치되어 디스플레이 장치에서 단위 화소를 구성한다. 반도체 발광소자(150)는 휘도가 우수하여 작은 크기로도 개별 단위 화소를 구성할 수 있다. 이와 같은 개별 반도체 발광소자(150)의 크기는 한 변의 길이가 80㎛ 이하의 직사각형 또는 정사각형 소자일 수 있다. 직사각형인 경우에는 20×80㎛ 이하의 크기가 될 수 있다. Looking again at this example, the semiconductor light emitting device 150 is positioned on the conductive adhesive layer 130 to constitute a unit pixel in the display device. The semiconductor light emitting device 150 has excellent luminance, and thus can form individual unit pixels even with a small size. The size of the individual semiconductor light emitting device 150 may be a rectangular or square device having a side length of 80 μm or less. In the case of a rectangle, the size may be 20×80 μm or less.
또한, 한 변의 길이가 10㎛인 정사각형의 반도체 발광소자(150)를 단위 화소로 이용하여도 디스플레이 장치를 이루기 위한 충분한 밝기가 구현될 수 있다. 따라서 단위 화소의 크기가 한변이 600㎛, 나머지 한 변이 300㎛인 직사각형 화소인 경우를 예로 들면, 반도체 발광소자(150)의 거리가 상대적으로 충분히 크게되어 HD 화질의 플렉서블 디스플레이 장치를 구현할 수 있게 된다. In addition, even when a square semiconductor light emitting device 150 having a side length of 10 μm is used as a unit pixel, sufficient brightness can be realized to form a display device. Accordingly, for example, when the size of the unit pixel is a rectangular pixel having one side of 600 µm and the other side of 300 µm, the distance of the semiconductor light emitting device 150 is relatively large enough to implement a flexible display device of HD image quality. .
이상에서 설명된 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치는 새로운 형태의 제조방법에 의하여 제조될 수 있는 바, 이하에서는 도 6을 참조하여 상기 제조방법에 대하여 설명한다. The display device using the semiconductor light emitting device described above can be manufactured by a new type of manufacturing method. Hereinafter, the manufacturing method will be described with reference to FIG. 6.
도 6을 참조하면, 먼저 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 위치된 절연층(160) 상에 전도성 접착층(130)을 형성한다. 제1기판(110)에 절연층 (160)이 적층되어 하나의 기판(또는 배선기판)을 형성하며, 상기 배선기판에는 제1전극(120), 보조전극(170) 및 제2전극(140)이 배치된다. 제1전극(120)과 제2전극(150)은은 상호 직교하는 방향으로 배치될 수 있다. 또한, 플렉서블 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 제1기판(110) 및 절연층(160)은 각각 유리 또는 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 6, first, the conductive adhesive layer 130 is formed on the insulating layer 160 on which the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 are located. The insulating layer 160 is stacked on the first substrate 110 to form a single substrate (or wiring substrate). The wiring substrate includes a first electrode 120, an auxiliary electrode 170, and a second electrode 140. It is placed. The first electrode 120 and the second electrode 150 may be arranged in mutually orthogonal directions. In addition, to implement a flexible display device, the first substrate 110 and the insulating layer 160 may each include glass or polyimide (PI).
상기 전도성 접착층(130)은 이방성 전도성 필름에 의하여 구현될 수 있으며, 이를 위해 절연층(160)에 위치된 기판에 이방성 전도성 필름이 도포될 수 있다. The conductive adhesive layer 130 may be implemented by an anisotropic conductive film, and for this purpose, an anisotropic conductive film may be applied to a substrate positioned on the insulating layer 160.
다음으로, 보조전극(170) 및 제2전극(140)들의 위치에 대응하고 개별 화소를 구성하는 복수의 반도체 발광소자(150)가 위치된 제2기판(112)을 상기 반도체 발광소자(150)가 보조전극(170) 및 제2전극(140)과 대향하도록 배치한다. Next, the second light emitting element 150, which corresponds to the positions of the auxiliary electrodes 170 and the second electrodes 140, and which comprises a plurality of semiconductor light emitting devices 150 constituting individual pixels, is placed in the semiconductor light emitting device 150. The auxiliary electrodes 170 and the second electrode 140 are disposed to face each other.
이 경우 제2기판(112)은 반도체 발광소자(150)를 성장시키는 성장기판으로, 사파이어 기판 또는 실리콘 기판이 될 수 있다.In this case, the second substrate 112 is a growth substrate for growing the semiconductor light emitting device 150, and may be a sapphire substrate or a silicon substrate.
상기 반도체 발광소자(150)는 웨이퍼 단위로 형성될 때 디스플레이 장치를 이룰 수 있는 간격 및 크기를 가지도록 함으로써 디스플레이 장치에 효과적으로 이용될 수 있다. The semiconductor light emitting device 150 may be effectively used in a display device by having a distance and a size capable of forming a display device when formed in a wafer unit.
다음으로, 배선기판과 제2기판(112)을 열압착한다. 예를 들어, 배선기판과 제2기판(112)은 ACF press head를 적용하여 열압착 될 수 있다. 상기 열압착에 의하여 배선기판과 제2기판(112)은 본딩(bonding)된다. 열압착에 의하여 전도성을 갖는 이방성 전도성 필름의 특성에 의해 반도체 발광소자(150)와 보조전극(170) 및 제2전극(140) 사이의 부분만 전도성을 가지게 되며, 전극들은 반도체 발광소자(150)와 전기적으로 연결될 수 있다. 이 때, 반도체 발광소자(150)가 상기 이방성 전도성 필름의 내부로 삽입되며, 이를 통해 반도체 발광소자(150) 사이에 격벽이 형성될 수 있다. Next, the wiring substrate and the second substrate 112 are thermocompressed. For example, the wiring substrate and the second substrate 112 may be thermocompressed by applying an ACF press head. The wiring substrate and the second substrate 112 are bonded by the thermocompression bonding. Due to the properties of the anisotropic conductive film having conductivity by thermal compression, only a portion between the semiconductor light emitting device 150 and the auxiliary electrode 170 and the second electrode 140 has conductivity, and the electrodes are the semiconductor light emitting device 150 It can be electrically connected to. At this time, the semiconductor light emitting device 150 is inserted into the anisotropic conductive film, and through this, a partition wall may be formed between the semiconductor light emitting device 150.
다음으로, 상기 제2기판(112)을 제거한다. 예를 들어, 제2기판 (112)은 레이저 리프트 오프법(Laser Lift-off, LLO) 또는 화학적 리프트 오프법(Chemical Lift-off, CLO)을 이용항 제거할 수 있다. Next, the second substrate 112 is removed. For example, the second substrate 112 may be removed using a laser lift-off method (LLO) or a chemical lift-off method (CLO).
마지막으로, 상기 제2기판(112)을 제거하여 반도체 발광소자(150)를 외부로 노출시킨다. 필요에 따라 반도체 발광소자(150)가 결합된 배선기판 상을 실리콘 옥사이드(SiOx) 등으로 코팅하여 투명 절연층(미도시)을 형성할 수 있다. Finally, the second substrate 112 is removed to expose the semiconductor light emitting device 150 to the outside. If necessary, a transparent insulating layer (not shown) may be formed by coating the wiring substrate on which the semiconductor light emitting device 150 is coupled with silicon oxide (SiOx).
또한, 상기 반도체 발광소자(150)의 일면에 형광체층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광소자(150)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광소자이고, 이러한 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 변환시키기 위한 적색 형광체 또는 녹색 형광체가 상기 청색 반도체 발광소자의 일면에 레이어를 형성할 수 있다. In addition, a step of forming a phosphor layer on one surface of the semiconductor light emitting device 150 may be further included. For example, the semiconductor light emitting device 150 is a blue semiconductor light emitting device that emits blue (B) light, and a red phosphor or green phosphor for converting the blue (B) light into a color of a unit pixel emits the blue semiconductor. A layer may be formed on one surface of the device.
이상에서 설명된 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치의 제조방법이나 구조는 여러 가지 형태로 변형되어 실시될 수 있다. 그 예로, 이상에서 설명된 디스플레이 장치에는 수직형 반도체 발광소자가 적용될 수 있다. 이하, 도 5 및 도 6을 참조하여 수직형 구조에 대하여 설명한다. The manufacturing method or structure of the display device using the semiconductor light emitting device described above may be implemented in various forms. For example, a vertical semiconductor light emitting device may be applied to the display device described above. Hereinafter, the vertical structure will be described with reference to FIGS. 5 and 6.
또한, 이하에서 설명되는 변형예 도는 실시예는 앞선 예와 동일 또는 유사한 구조에 대해서는 동일, 유사한 참조번호가 부여되고, 그 설명은 처음의 설명으로 갈음된다. In addition, in the modified examples or embodiments described below, the same or similar reference numerals are assigned to the same or similar structures as the previous examples, and the description is replaced with the first description.
도 7은 본 발명의 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치의 다른 일 실시예를 나타내는 사시도이고, 도 8은 도 7의 라인 D-D를 따라 취한 단면도이고, 도 9는 도 8의 수직형 반도체 발광소자를 나타내는 개념도이다. FIG. 7 is a perspective view showing another embodiment of a display device using the semiconductor light emitting device of the present invention, FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line DD of FIG. 7, and FIG. 9 is a vertical semiconductor light emitting device of FIG. 8 It is a conceptual diagram.
본 도면들을 참조하면, 디스플레이 장치는 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식의 수직형 반도체 발광소자를 이용한 디스플레이 장치가 될 수 있다. Referring to these drawings, the display device may be a display device using a passive matrix (PM) type vertical semiconductor light emitting device.
상기 디스플레이 장치는 기판(210), 제1전극(220), 전도성 접착층 (230), 제2전극(240) 및 복수의 반도체 발광소자(250)를 포함한다. The display device includes a substrate 210, a first electrode 220, a conductive adhesive layer 230, a second electrode 240, and a plurality of semiconductor light emitting devices 250.
기판(210)은 제1전극(220)이 배치되는 배선기판으로서, 플랙서블 디스플레이 장치를 구현하기 위하여 폴리이미드(PI)를 포함할 수 있으며, 이외에도 절연성 및 유연성 있는 재질이라면 어느 것이라도 사용할 수 있다. The substrate 210 is a wiring substrate on which the first electrode 220 is disposed, and may include polyimide (PI) in order to implement a flexible display device. Any other insulating and flexible material can be used. .
제1전극(220)은 기판(210) 상에 위치하며, 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있다. 상기 제1전극(220)은 데이터 전극의 역할을 할 수 있다. The first electrode 220 is positioned on the substrate 210 and may be formed as an electrode having a long bar shape in one direction. The first electrode 220 may serve as a data electrode.
전도성 접착층(230)은 제1전극(220)이 위치하는 기판(210) 상에 형성된다. 플립 칩 타입(flip chip type)의 발광소자가 적용된 디스플레이 장치와 같이, 전도성 접착층(230)은 이방성 전도성 필름(ACF), 이방성 전도 페이스트, 전도성 입자를 함유한 솔루션 등이 될 수 있다. 다만, 본 실시예에서도 이방성 전도성 필름에 의하여 전도성 접착층(230)이 구현되는 경우를 예시한다. The conductive adhesive layer 230 is formed on the substrate 210 on which the first electrode 220 is located. Like a display device to which a flip chip type light emitting device is applied, the conductive adhesive layer 230 may be an anisotropic conductive film (ACF), an anisotropic conductive paste, or a solution containing conductive particles. However, the present embodiment also illustrates a case in which the conductive adhesive layer 230 is implemented by the anisotropic conductive film.
기판(210) 상에 제1전극(220)이 위치하는 상태에서 이방성 전도성 필름을 위치시킨 후 반도체 발광소자(250)를 열 및 압력을 가하여 접속시키면, 상기 반도체 발광소자(250)가 제1전극(220)과 전기적으로 연결된다. 이 때, 반도체 발광소자(250)는 제1전극(220) 상에 위치되도록 배치되는 것이 바람직하다.When the anisotropic conductive film is positioned in the state where the first electrode 220 is positioned on the substrate 210, and the semiconductor light emitting device 250 is connected by applying heat and pressure, the semiconductor light emitting device 250 is the first electrode It is electrically connected to 220. At this time, the semiconductor light emitting device 250 is preferably disposed to be positioned on the first electrode 220.
상기 전기적 연결은 전술한 바와 같이 이방성 전도성 필름에 열 및 압력이 가해지면 두께방향으로 부분적인 전도성을 가지기 때문에 생성된다. 따라서 이방성 전도성 필름에서는 두께방향으로 전도성을 가지는 부분 (231)과 전도성을 가지지 않는 부분(232)으로 구획된다. The electrical connection is created because heat and pressure are partially conductive in the thickness direction when anisotropic conductive film is applied as described above. Therefore, in the anisotropic conductive film, it is divided into a portion 231 having conductivity in a thickness direction and a portion 232 having no conductivity.
또한, 이방성 전도성 필름은 접착 성분을 함유하기 때문에, 전도성 접착층(230)은 반도체 발광소자(250)와 제1전극(220) 사이에서 전기적 연결 뿐만 아니라 기계적 결합까지 구현한다. In addition, since the anisotropic conductive film contains an adhesive component, the conductive adhesive layer 230 implements mechanical connection as well as electrical connection between the semiconductor light emitting device 250 and the first electrode 220.
이와 같이, 반도체 발광소자(150)는 전도성 접착층 (130) 상에 위치되어 디스플레이 장치에서 단위 화소를 구성한다. 반도체 발광소자 (150)는 휘도가 우수하여 작은 크기로도 개별 단위 화소를 구성할 수 있다. 이와 같은 개별 반도체 발광소자(150)의 크기는 한 변의 길이가 80㎛ 이하의 직사각형 또는 정사각형 소자일 수 있다. 직사각형인 경우에는 20×80㎛ 이하의 크기가 될 수 있다. As such, the semiconductor light emitting device 150 is positioned on the conductive adhesive layer 130 to constitute a unit pixel in the display device. The semiconductor light emitting device 150 has excellent luminance, and thus can form individual unit pixels even with a small size. The size of the individual semiconductor light emitting device 150 may be a rectangular or square device having a side length of 80 μm or less. In the case of a rectangle, the size may be 20×80 μm or less.
상기 반도체 발광소자(250)는 수직형 구조일 수 있다. The semiconductor light emitting device 250 may have a vertical structure.
수직형 반도체 발광소자(250)들 사이에는 제1전극(220)의 길이 방향과 교차하는 방향으로 배치되고, 수직형 반도체 발광소자(250)와 각각 전기적으로 연결되는 복수의 제2전극(240)이 위치한다. A plurality of second electrodes 240 disposed between the vertical semiconductor light emitting devices 250 in a direction crossing the longitudinal direction of the first electrode 220 and electrically connected to the vertical semiconductor light emitting devices 250, respectively It is located.
도 9를 참조하면, 이러한 수직형 반도체 발광소자는 p형 전극(256), p형 전극(256) 상에 형성된 p형 반도체층(255), p형 반도체층(255) 상에 형성된 활성층(254), 활성층(254) 상에 형성된 n형 반도체층(253) 및 n형 반도체층(253) 상에 형성된 n형 전극(252)을 포함한다. 이 경우, 하부에 위치한 p형 전극(256)은 전도성 접착층(230)에 의하여 제1전극(220)과 전기적으로 연결될 수 있고, 상부에 위치한 n형 전극(252)은 후술하는 제2전극(240)과 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 수직형 반도체 발광소자(250)는 전극을 상/하로 배치할 수 있으므로, 칩 사이즈를 줄일 수 있다는 큰 장점을 갖는다. Referring to FIG. 9, the vertical semiconductor light emitting device includes a p-type electrode 256, a p-type semiconductor layer 255 formed on the p-type electrode 256, and an active layer 254 formed on the p-type semiconductor layer 255. ), an n-type semiconductor layer 253 formed on the active layer 254 and an n-type electrode 252 formed on the n-type semiconductor layer 253. In this case, the p-type electrode 256 located at the lower side may be electrically connected to the first electrode 220 by the conductive adhesive layer 230, and the n-type electrode 252 positioned at the upper side is the second electrode 240 to be described later. ). The vertical type semiconductor light emitting device 250 has a great advantage of reducing the chip size because the electrodes can be arranged up and down.
도 8을 참조하면, 상기 반도체 발광소자(250)의 일면에는 형광체층 (280)이 형성될 수 있다. 예를 들어, 반도체 발광소자(250)는 청색(B) 광을 발광하는 청색 반도체 발광소자(251)이고, 이러한 청색(B) 광을 단위 화소의 색상으로 색상으로 변환시키기 위한 형광체층(280)이 구비될 수 있다. 이 경우, 형광체층(280)은 개별 화소를 구성하는 적색 형광체(281) 및 녹색 형광체(282) 일 수 있다. Referring to FIG. 8, a phosphor layer 280 may be formed on one surface of the semiconductor light emitting device 250. For example, the semiconductor light emitting device 250 is a blue semiconductor light emitting device 251 that emits blue (B) light, and the phosphor layer 280 for converting the blue (B) light into color of a unit pixel color This may be provided. In this case, the phosphor layer 280 may be a red phosphor 281 and a green phosphor 282 constituting individual pixels.
즉, 적색의 단위 화소를 이루는 위치에서 청색 반도체 발광소자 (251) 상에는 청색(B) 광을 적색(R) 광으로 변환시킬 수 있는 적색 형광체 (281)가 적층될 수 있고, 녹색의 단위 화소를 이루는 위치에서는 청색 반도체 발광소자(251) 상에 청색(B) 광을 녹색(G) 광으로 변환시킬 수 있는 녹색 형광체(282)가 적층될 수 있다. 또한, 청색의 단위 화소를 이루는 부분에는 청색 반도체 발광소자(251)가 단독으로 이용될 수 있다. 이 경우, 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이룰 수 있다. That is, a red phosphor 281 capable of converting blue (B) light into red (R) light may be stacked on the blue semiconductor light emitting device 251 at a position forming the red unit pixel, and the green unit pixel may be stacked. The green phosphor 282 capable of converting blue (B) light into green (G) light may be stacked on the blue semiconductor light emitting device 251 at the position. In addition, the blue semiconductor light emitting device 251 may be used alone in a portion constituting a blue unit pixel. In this case, the red (R), green (G), and blue (B) unit pixels may form one pixel.
다만, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 플립 칩 타입 (flip chip type)의 발광소자가 적용된 디스플레이 장치에서 전술한 바와 같이, 청색, 적색, 녹색을 구현하기 위한 다른 구조가 적용될 수 있다.However, the present invention is not necessarily limited to this, and as described above in a display device to which a flip chip type light emitting device is applied, other structures for implementing blue, red, and green may be applied.
본 실시예를 살펴보면, 제2전극(240)은 반도체 발광소자(250)들 사이에 위치하고, 반도체 발광소자(250)들과 전기적으로 연결된다. 예를 들어, 반도체 발광소자(250)들은 복수의 열로 배치되고, 제2전극(240)은 반도체 발광소자(250)들의 열 사이에 위치할 수 있다. Looking at the present embodiment, the second electrode 240 is positioned between the semiconductor light emitting devices 250 and is electrically connected to the semiconductor light emitting devices 250. For example, the semiconductor light emitting devices 250 are arranged in a plurality of columns, and the second electrode 240 can be positioned between the columns of the semiconductor light emitting devices 250.
개별 화소를 이루는 반도체 발광소자(250) 사이의 거리가 충분히 크기 때문에 제2전극(240)은 반도체 발광소자(250)들 사이에 위치될 수 있다. Since the distance between the semiconductor light emitting elements 250 constituting individual pixels is sufficiently large, the second electrode 240 may be positioned between the semiconductor light emitting elements 250.
제2전극(240)은 일 방향으로 긴 바(bar) 형태의 전극으로 형성될 수 있으며, 제1전극(220)과 상호 수직한 방향으로 배치될 수 있다. The second electrode 240 may be formed as an electrode having a long bar shape in one direction, and may be disposed in a direction perpendicular to the first electrode 220.
또한, 제2전극(240)과 반도체 발광소자(250)는 제2전극(240)에서 돌출된 전극에 의해 전기적으로 연결될 수 있다. 구체적으로, 상기 연결 전극이 반도체 발광소자(250)의 n형 전극(252)이 될 수 있다. 예를 들어, n형 전극(252)은 오믹 접촉을 위한 오믹 전극으로 형성되며, 상기 제2전극 (240)은 인쇄 또는 증착에 의하여 오믹 전극의 적어도 일부를 덮게 된다. 이를 통하여 제2전극(240)과 반도체 발광소자(250)의 n형 전극(252)이 전기적으로 연결될 수 있다.In addition, the second electrode 240 and the semiconductor light emitting device 250 may be electrically connected by an electrode protruding from the second electrode 240. Specifically, the connection electrode may be an n-type electrode 252 of the semiconductor light emitting device 250. For example, the n-type electrode 252 is formed as an ohmic electrode for ohmic contact, and the second electrode 240 covers at least a portion of the ohmic electrode by printing or deposition. Through this, the second electrode 240 and the n-type electrode 252 of the semiconductor light emitting device 250 may be electrically connected.
도시에 의하면, 제2전극(240)은 전도성 접착층(230) 상에 위치될 수 있으며, 필요에 따라 반도체 발광소자(250)가 형성된 기판(210) 상에 실리콘 옥사이드(SiOx) 등을 포함하는 투명 절연층(미도시)이 형성될 수 있다. 투명 절연층 형성 후 제2전극(240)을 위치시킬 경우, 상기 제2전극 (240)은 투명 절연층 상에 위치하게 된다. 또한, 제2전극(240)은 전도성 접착층(230) 또는 투명 절연층에 이격되어 형성될 수도 있다. According to the drawing, the second electrode 240 may be positioned on the conductive adhesive layer 230, and if necessary, include silicon oxide (SiOx) or the like on the substrate 210 on which the semiconductor light emitting device 250 is formed. An insulating layer (not shown) may be formed. When the second electrode 240 is positioned after forming the transparent insulating layer, the second electrode 240 is positioned on the transparent insulating layer. Further, the second electrode 240 may be formed spaced apart from the conductive adhesive layer 230 or the transparent insulating layer.
반도체 발광소자(250) 상에 제2전극(240)을 위치시킴에 있어 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 전극을 사용하는 경우, ITO 물질은 n형 반도체층(253)과는 접착성이 좋지 않은 문제가 있다. 따라서 본 발명은 반도체 발광소자(250) 사이에 제2전극(240)을 위치시킴으로써 ITO와 같은 투명 전극을 사용하지 않아도 되는 이점이 있다. 따라서 투명한 재료의 선택에 구속되지 않고, n형 반도체층(253)과 접착성이 좋은 전도성 물질을 수평전극으로 사용하여 광추출 효율을 향상시킬 수 있다. In the case of using a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) for positioning the second electrode 240 on the semiconductor light emitting device 250, the ITO material has good adhesion to the n-type semiconductor layer 253 There is a problem. Therefore, the present invention has the advantage of not having to use a transparent electrode such as ITO by placing the second electrode 240 between the semiconductor light emitting device 250. Therefore, it is not limited to the selection of a transparent material, and the light extraction efficiency can be improved by using the n-type semiconductor layer 253 and a conductive material having good adhesion as a horizontal electrode.
도면을 참조하면, 반도체 발광소자(250)의 사이에는 격벽(290)이 위치할 수 있다. 개별 화소를 이루는 반도체 발광소자(250)를 격리시키기 위하여 수직형 반도체 발광소자(250) 사이에는 격벽(290)이 배치될 수 있다. 이 경우, 격벽(290)은 개별 단위 화소를 서로 분리하는 역할을 할 수 있으며, 상기 전도성 접착층(230)과 일체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 이방성 전도성 필름에 반도체 발광소자(250)가 삽입됨에 의하여 이방성 전도성 필름의 베이스 부재가 상기 격벽(290)을 형성할 수 있다.Referring to the drawing, a partition wall 290 may be positioned between the semiconductor light emitting devices 250. A partition wall 290 may be disposed between the vertical semiconductor light emitting devices 250 to isolate the semiconductor light emitting devices 250 constituting individual pixels. In this case, the partition wall 290 may serve to separate individual unit pixels from each other, and may be integrally formed with the conductive adhesive layer 230. For example, the base member of the anisotropic conductive film may form the partition wall 290 by inserting the semiconductor light emitting device 250 into the anisotropic conductive film.
또한, 상기 이방성 전도성 필름의 베이스 부재가 블랙이면, 별도의 블랙 절연체가 없이도 격벽(290)은 반사 특성을 가지는 동시에 대비비가 증가될 수 있다. In addition, when the base member of the anisotropic conductive film is black, the partition wall 290 may have reflective properties and increase contrast ratio without a separate black insulator.
다른 예로서, 격벽(290)은 반사성 격벽이 별도로 구비될 수 있다. 격벽(290)은 디스플레이 장치의 목적에 따라 블랙 또는 화이트 절연체를 포함할 수 있다. As another example, the partition wall 290 may be provided with a reflective partition wall separately. The partition wall 290 may include a black or white insulator depending on the purpose of the display device.
만일 제2전극(240)이 반도체 발광소자(250) 사이의 전도성 접착층 (230) 상에 바로 위치된 경우, 격벽(290)은 수직형 반도체 발광소자(250) 및 제2전극(240)의 사이에 위치될 수 있다. 따라서 반도체 발광소자(250)를 이용하여 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있고, 반도체 발광소자(250)의 거리가 상대적으로 충분히 크게 되어 제2전극(240)을 반도체 발광소자(250) 사이에 위치시킬 수 있으며, HD 화질의 플렉서블 디스플레이 장치를 구혈할 수 있는 효과가 있다. If the second electrode 240 is located directly on the conductive adhesive layer 230 between the semiconductor light emitting devices 250, the partition wall 290 is between the vertical semiconductor light emitting device 250 and the second electrode 240. Can be located at Accordingly, individual unit pixels may be configured with a small size using the semiconductor light emitting device 250, and the distance of the semiconductor light emitting device 250 is relatively large, so that the second electrode 240 is the semiconductor light emitting device 250. It can be placed in between, there is an effect that can be a flexible display device of HD quality.
또한, 명암의 대조를 향상시키기 위하여 각각의 형광체 사이에는 블랙 매트릭스(291)가 배치될 수 있다. In addition, a black matrix 291 may be disposed between each phosphor to improve contrast of contrast.
설명한 것과 같이, 반도체 발광소자(250)는 전도성 접착층(230) 상에 위치되며, 이를 통하여 디스플레이 장치에서 개별 화소를 구성한다. 반도체 발광소자(250)는 휘도가 우수하여 작은 크기로도 개별 단위 픽셀을 구성할 수 있다. 따라서 반도체 발광소자(250)에 의하여 적색(R), 녹색(G) 및 청색 (B)의 단위 화소들이 하나의 화소를 이루는 풀 칼라 디스플레이가 구현될 수 있다.As described, the semiconductor light emitting device 250 is positioned on the conductive adhesive layer 230, thereby configuring individual pixels in the display device. The semiconductor light emitting device 250 has excellent luminance, and thus can form individual unit pixels even in a small size. Accordingly, a full color display in which unit pixels of red (R), green (G), and blue (B) form one pixel may be implemented by the semiconductor light emitting device 250.
한편, 대면적 디스플레이 장치는 기판에 복수의 디스플레이 패널 모듈들을 반복적으로 배치함으로써 형성된다.Meanwhile, a large area display device is formed by repeatedly arranging a plurality of display panel modules on a substrate.
고품질의 대면적 디스플레이 장치를 구현하기 위해서는 디스플레이 장치를 구성하는 디스플레이 패널 모듈들의 경계(이음새) 부분이 육안으로 확인되지 않도록 제작하는 것이 중요하며, 이는 디스플레이 패널 모듈들의 정밀한 배치와 연관된다.In order to realize a high-quality large-area display device, it is important to make a boundary (seam) portion of the display panel modules constituting the display device not to be visually identified, which is associated with precise placement of the display panel modules.
디스플레이 패널 모듈들은 특수 제작된 고가의 지그에 의해 한 장씩 기판에 배치된다. 지그는 디스플레이 패널 모듈들 사이의 간격이 최소화되도록 디스플레이 패널 모듈들의 위치를 정밀하게 제어한다. The display panel modules are disposed on the substrate one by one by means of a specially manufactured expensive jig. The jig precisely controls the position of the display panel modules so that the gap between the display panel modules is minimized.
그러나 기계적으로 작동하는 지그를 이용하여 개별적으로 제작되는 디스플레이 패널 모듈들을 완벽하게 제어하여 배치하는 것은 한계가 있다.However, it is limited to completely control and arrange individually manufactured display panel modules using a mechanically operated jig.
구체적으로, 디스플레이 패널 모듈에 전사된 발광체들은 그 간격이 일정하지 않을 수 있다. 이는 디스플레이 패널 모듈들의 경계 부분에 휘도 불일치를 야기한다. 또한, 디스플레이 패널 모듈들은 경계 부분이 불규칙하게 절단되거나 가공 정도에 따라 상이한 두께를 가질 수 있다. 이 경우 기계적인 타일링을 진행하면 디스플레이 패널 모듈들의 경계 부분에 깨짐, 틀어짐 등의 손상이 발생할 수 있다. 즉, 지그를 이용하더라도 여전히 타일링 과정에서 디스플레이 모듈들의 경계 부분에 공차가 발생할 수 있으며, 이음새 불량을 완벽하게 해결하지는 못하였다.Specifically, the spacing of the light emitters transferred to the display panel module may not be constant. This causes a luminance mismatch at the border portion of the display panel modules. In addition, the display panel modules may have irregular border cuts or different thicknesses depending on the degree of processing. In this case, if mechanical tiling is performed, damage such as breakage or distortion may occur at the boundary of the display panel modules. That is, even if a jig is used, a tolerance may still occur in the boundary portion of the display modules in the tiling process, and the seam defect may not be completely solved.
한편, 이음새 불량을 차단하기 위해 디스플레이 패널 모듈들의 경계 부분에 블랙 필름을 부착하기도 한다. 그러나 전술한 것과 같이 전사 과정에서 발광체의 얼라인 공차가 발생하는 경우에는 블랙 필름이 픽셀 영역의 일부를 덮게 되어 픽셀마다 광이 방출되는 영역이 상이해질 수 있다.Meanwhile, a black film is sometimes attached to the boundary of the display panel modules in order to block the defects in the seams. However, as described above, when alignment tolerances of the luminous body occur during the transfer process, the black film covers a part of the pixel area, so that the area where light is emitted for each pixel may be different.
본 발명은 반복적으로 배치된 복수의 디스플레이 패널 모듈들의 경계가 드러나지 않는 심리스(seamless)가 구현된 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device implemented with a seamless (seamless) that does not reveal the boundaries of a plurality of display panel modules repeatedly disposed.
본 발명에 따른 디스플레이 장치는 패시브 매트릭스(Passive Matrix, PM) 방식 또는 액티브 매트릭스(Active Matrix, AM) 방식으로 구현 가능하다. 본 명세서에서는 이에 관한 자세한 설명은 생략한다.The display device according to the present invention may be implemented in a passive matrix (PM) method or an active matrix (AM) method. In this specification, detailed description thereof will be omitted.
도 10은 본 발명에 따른 디스플레이 장치를 나타내는 개념도이고, 도 11은 본 발명에 따른 디스플레이 패널 모듈을 나타내는 개념도이고, 도 12는 본 발명에 따른 디스플레이 패널 모듈의 단면도이고, 도 13은 본 발명에 따른 기판의 다양한 실시예를 나타낸 개념도이고, 도 14는 본 발명에 따른 디스플레이 패널 모듈 및 기판의 다른 실시예를 나타낸 개념도이고, 도 15a는 도 13(a)의 기판에 디스플레이 패널 모듈을 합착하는 모습을 나타낸 도면이고, 도 15b는 도 13(b)의 기판에 디스플레이 패널 모듈을 합착하는 모습을 나타낸 도면이다. 10 is a conceptual diagram showing a display device according to the present invention, Figure 11 is a conceptual diagram showing a display panel module according to the present invention, Figure 12 is a cross-sectional view of the display panel module according to the present invention, Figure 13 is according to the present invention A conceptual diagram showing various embodiments of a substrate, FIG. 14 is a conceptual diagram showing another embodiment of a display panel module and a substrate according to the present invention, and FIG. 15A illustrates a state in which a display panel module is attached to the substrate of FIG. 13A. 15B is a view showing a state in which a display panel module is attached to the substrate of FIG. 13B.
본 발명에 따른 디스플레이 장치(1000)는 기판(1100)과 기판(1100) 상에 배치되는 복수의 디스플레이 패널 모듈들(1200)을 포함한다. The display apparatus 1000 according to the present invention includes a substrate 1100 and a plurality of display panel modules 1200 disposed on the substrate 1100.
디스플레이 패널 모듈들(1200)은 기판(1100)에 반복적으로 배치될 수 있다. 디스플레이 패널 모듈들(1200)은 인접한 디스플레이 패널 모듈들(1200)과 그 경계가 맞닿도록 또는 그 사이의 간격이 최소화되도록 배치될 수 있다.The display panel modules 1200 may be repeatedly disposed on the substrate 1100. The display panel modules 1200 may be disposed such that the boundary between the adjacent display panel modules 1200 and their boundaries abuts or the distance between them is minimized.
또한, 디스플레이 패널 모듈들(1200)은 경계 부분에 베젤을 포함하지 않을 수 있으며, 따라서 자유롭게 확장되어 대면적을 구현할 수 있다.In addition, the display panel modules 1200 may not include a bezel at the boundary, and thus can be freely extended to realize a large area.
본 발명에 따르면, 기판(1100)은 제1 블랙 매트릭스(1110)를 포함할 수 있다. 디스플레이 패널 모듈들(1200)은 기판(1100)에 배치될 때 그들의 경계(1201)가 제1 블랙 매트릭스(1110)와 오버랩 되도록 배치될 수 있다. 따라서 디스플레이 패널 모듈들(1200)의 경계(1201)는 블랙 매트릭스(11110)와 오버랩 되어 블랙 처리되므로, 외부에 그 경계(1201)가 드러나지 않게 되며 심리스(seamless)가 구현될 수 있다.According to the present invention, the substrate 1100 may include a first black matrix 1110. The display panel modules 1200 may be disposed such that their boundaries 1201 overlap with the first black matrix 1110 when they are disposed on the substrate 1100. Therefore, the boundary 1201 of the display panel modules 1200 overlaps with the black matrix 1110 and is black-processed, so that the boundary 1201 is not exposed to the outside and seamless can be implemented.
본 발명에 따르면, 디스플레이 장치(1000)는 기판(1100)과 디스플레이 패널 모듈들(1200) 사이에 투명 접합층(미도시)을 더 포함할 수 있다. 즉, 디스플레이 패널 모듈들(1200)은 투명 접합층 상에서 기판(1100)에 합착될 수 있다. According to the present invention, the display apparatus 1000 may further include a transparent bonding layer (not shown) between the substrate 1100 and the display panel modules 1200. That is, the display panel modules 1200 may be bonded to the substrate 1100 on a transparent bonding layer.
구체적으로, 디스플레이 패널 모듈들(1200)을 기판(1100)에 배치하기 전에 디스플레이 패널 모듈들(1200)의 일면에는 투명 점착 조성물이 도포되며, 이와 같이 도포된 투명 점착 조성물은 전술한 디스플레이 장치(1000)의 투명 접합층이 될 수 있다.Specifically, before placing the display panel modules 1200 on the substrate 1100, a transparent adhesive composition is applied to one surface of the display panel modules 1200, and the transparent adhesive composition thus applied is the display device 1000 described above. ) May be a transparent bonding layer.
본 발명에 따르면, 기판(1100)은 글라스(glass) 기판일 수 있으며, 이에 한정하는 것은 아니다. 또한, 기판(1100)은 심리스를 구현하기 위해 전술한 제1 블랙 매트릭스(1100)를 포함할 수 있다. 제1 블랙 매트릭스(1100)은 디스플레이 패널 모듈들(1200)이 배치되는 면 또는 그 반대면에 형성될 수 있다.According to the present invention, the substrate 1100 may be a glass substrate, but is not limited thereto. Further, the substrate 1100 may include the first black matrix 1100 described above to implement seamless. The first black matrix 1100 may be formed on a surface on which the display panel modules 1200 are disposed or vice versa.
제1 블랙 매트릭스(1100)는 패터닝 된 글라스 표면에 블랙 색상의 잉크 또는 레지스트를 도포함으로써 형성될 수 있다. 또는 글라스 표면에 금속 물질을 패터닝 한 후 금속 물질 상에 블랙 색상의 잉크 또는 레지스트를 도포함으로써 형성될 수 있다. 다만, 이와 같은 방식으로 한정하지 않고 다른 방식을 통해서도 형성될 수 있음은 물론이다.The first black matrix 1100 may be formed by applying a black color ink or resist to the patterned glass surface. Alternatively, it may be formed by patterning a metal material on the glass surface and then applying black ink or resist on the metal material. However, it is needless to say that the present invention is not limited to this method and can be formed through other methods.
디스플레이 패널 모듈들(1200)은 베이스부(1210), 배선 전극(미도시), 발광체들(1050), 평탄화층(1220) 및 제2 블랙 매트릭스(1230)를 포함한다.The display panel modules 1200 include a base portion 1210, a wiring electrode (not shown), light emitters 1050, a planarization layer 1220, and a second black matrix 1230.
베이스부(1210)는 폴리머를 포함하는 유연성 및 절연성 있는 소재로 형성될 수 있다. 예를 들어, 베이스부(1210)는 폴리이미드 재질의 기판일 수 있으며, 다만 이에 한정하지 않는다. The base portion 1210 may be formed of a flexible and insulating material including polymer. For example, the base portion 1210 may be a polyimide substrate, but is not limited thereto.
베이스부(1210)에는 배선 전극이 형성될 수 있다. 배선 전극은 행 방향으로 연장된 제1 배선 전극과 열 방향으로 연장된 제2 배선 전극이 복수의 라인으로 배치될 수 있다. 또한, 베이스부(1210)는 배선 전극 외에 후술할 발광체들(1050)을 구동하기 위한 다양한 구성들을 포함할 수 있음은 물론이다. A wiring electrode may be formed on the base portion 1210. In the wiring electrode, the first wiring electrode extending in the row direction and the second wiring electrode extending in the column direction may be arranged in a plurality of lines. In addition, of course, the base portion 1210 may include various configurations for driving the light emitters 1050 to be described later in addition to the wiring electrode.
베이스부(1210)에는 발광체들(1050)이 배치될 수 있으며, 발광체들(1050)은 베이스부(1210) 상에 매트릭스 배열로 형성된 픽셀 영역 내에 배치될 수 있다. 도면에는, 하나의 디스플레이 패널 모듈(1200)은 3x3 매트릭스 배열의 픽셀 영역들을 포함하는 것으로 도시하였다. The light emitters 1050 may be disposed on the base part 1210, and the light emitters 1050 may be disposed in a pixel area formed in a matrix arrangement on the base part 1210. In the figure, one display panel module 1200 is illustrated as including pixel regions in a 3x3 matrix arrangement.
예를 들어, 발광체들(1050)은 수 내지 수십 ㎛ 크기의 반도체 발광소자(마이크로 LED)일 수 있으며, 플립칩, 수평형 또는 수직형 반도체 발광소자일 수 있다. 또한, 동일한 색을 발광하는 반도체 발광소자들로 구성되거나 또는 서로 다른 색상을 발광하는 반도체 발광소자들로 구성될 수 있다. For example, the light emitters 1050 may be semiconductor light emitting devices (micro LEDs) having a size of several to several tens of micrometers, and may be flip chip, horizontal or vertical semiconductor light emitting devices. In addition, it may be composed of semiconductor light emitting devices that emit the same color or may be composed of semiconductor light emitting devices that emit different colors.
구체적으로, 전자의 경우 발광체들(1050)은 청색 반도체 발광소자들로 구성될 수 있으며, 발광체(1050) 상부에 파장 변환층(또는 형광체층) 및 컬러 필터가 추가적으로 배치되어 녹색 및 적색을 구현할 수 있다. 한편, 후자의 경우 발광체들(1050)은 청색, 녹색 및 적색 발광체들(1050)이 구비될 수 있으며, 컬러 필터 등이 배치될 필요없이 청색, 적색 및 녹색을 구현할 수 있다.Specifically, in the former case, the light emitters 1050 may be composed of blue semiconductor light emitting devices, and a wavelength conversion layer (or phosphor layer) and a color filter may be additionally disposed on the light emitter 1050 to implement green and red colors. have. On the other hand, in the latter case, the light emitters 1050 may be provided with blue, green, and red light emitters 1050, and may implement blue, red, and green colors without the need for a color filter or the like.
다만, 이에 한정하지 않고 퀀텀닷(QD) 소자, OLED 소자 등이 발광체(1050)가 되는 실시예도 가능하다.However, an embodiment in which a quantum dot (QD) device, an OLED device, or the like becomes the light emitting body 1050 is not limited thereto.
또한, 발광체들(1050)은 베이스부(1210)에 형성된 배선 전극과 전기적으로 연결될 수 있다. 배선 전극과의 연결 방식은 발광체(1050)의 형태에 따라 다양하게 적용될 수 있다.Also, the light emitters 1050 may be electrically connected to a wiring electrode formed on the base portion 1210. The connection method with the wiring electrode may be variously applied depending on the shape of the light emitter 1050.
본 발명에 따르면, 디스플레이 패널 모듈들(1200)은 발광체들(1050)이 배치된 베이스부(1210)를 평탄화하는 평탄화층(1220)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 평탄화층(1220)은 발광체들(1050) 사이를 충진하도록 형성될 수 있으며, 따라서 평탄화층(1220)은 픽셀 영역을 분리하는 격벽 역할을 수행할 수 있다. 예를 들어, 평탄화층(1220)은 유기 절연 물질로 형성될 수 있으며, 수 내지 수십 ㎛의 두께로 형성될 수 있다.According to the present invention, the display panel modules 1200 may include a planarization layer 1220 to planarize the base portion 1210 on which the light emitters 1050 are disposed. For example, the planarization layer 1220 may be formed to fill between the light emitters 1050, and thus the planarization layer 1220 may serve as a partition wall separating the pixel region. For example, the planarization layer 1220 may be formed of an organic insulating material, and may be formed to a thickness of several to several tens of μm.
평탄화층(1220) 상에는 제2 블랙 매트릭스(1230)가 형성될 수 있다. 제2 블랙 매트릭스(1230)는 발광체들(1050)과 오버랩 되지 않도록 형성될 수 있다. 즉, 제2 블랙 매트릭스(1230)는 발광체들(1050)이 배치되는 픽셀 영역의 상부를 제외한 영역에 형성되고, 픽셀 영역의 상부는 발광체들(1050)에서 출력되는 광이 방출되도록 개구된 상태일 수 있다. 제2 블랙 매트릭스(1230)는 평탄화층(1220)에 블랙 색상의 잉크 또는 레지스트를 도포함으로써 형성될 수 있으며, 다른 방식으로 형성되는 것도 가능하다. 제2 블랙 매트릭스(1230)는 발광체(1050)로부터 출력되는 광을 흡수하여 디스플레이 장치(1000)의 명암비를 향상시킬 수 있다.The second black matrix 1230 may be formed on the planarization layer 1220. The second black matrix 1230 may be formed not to overlap the light emitters 1050. That is, the second black matrix 1230 is formed in an area except for the upper portion of the pixel area in which the light emitters 1050 are disposed, and the upper part of the pixel area is in an open state to emit light output from the light emitters 1050. Can be. The second black matrix 1230 may be formed by applying a black color ink or resist to the planarization layer 1220, and may be formed in other ways. The second black matrix 1230 absorbs light output from the light emitter 1050 to improve the contrast ratio of the display device 1000.
한편, 본 발명에 따른 디스플레이 장치(1000)는 디스플레이 패널 모듈들(1200)의 정렬을 가이드 하는 구조를 포함할 수 있다. 이러한 구조는 기판(1100) 및 디스플레이 패널 모듈들(1200)에 모두 형성될 수 있다.Meanwhile, the display apparatus 1000 according to the present invention may include a structure that guides the alignment of the display panel modules 1200. This structure may be formed on both the substrate 1100 and the display panel modules 1200.
본 발명의 실시예에 따르면, 기판(1100)은 음각 형태의 제1 결합부(1120)를 포함하고, 디스플레이 패널 모듈들(1200)은 양각 형태의 제2 결합부(1240)를 포함할 수 있다. 이와 반대로, 기판(1100)이 양각 형태의 제2 결합부를, 디스플레이 패널 모듈들(1200)이 음각 형태의 제1 결합부를 포함하는 것도 가능하다. 다만, 본 명세서에서는 기판(1100)이 음각 형태의 제1 결합부를, 디스플레이 패널 모듈들(1200)이 양각 형태의 제2 결합부를 포함하는 실시예에 대하여 설명한다.According to an embodiment of the present invention, the substrate 1100 may include a first coupling portion 1120 of an intaglio shape, and the display panel modules 1200 may include a second coupling portion 1240 of an embossed shape. . On the contrary, it is also possible that the substrate 1100 includes an embossed second coupling portion, and the display panel modules 1200 include an engraved first coupling portion. However, in this specification, a description will be given of an embodiment in which the substrate 1100 includes an intaglio-shaped first coupling portion, and the display panel modules 1200 include an embossed second coupling portion.
본 실시예에 따르면, 디스플레이 패널 모듈들(1200)은 제2 결합부(1240)가 제 1 결합부(1120)에 삽입되도록 기판(1100)에 배치될 수 있다. 이를 위해, 제1 결합부(1120) 및 제2 결합부(1240)는 동일한 간격으로 형성될 수 있다. 제1 결합부(1120) 및 제2 결합부(1240)는 미리 정해진 간격으로 형성될 수 있다.According to this embodiment, the display panel modules 1200 may be disposed on the substrate 1100 such that the second coupling portion 1240 is inserted into the first coupling portion 1120. To this end, the first coupling portion 1120 and the second coupling portion 1240 may be formed at the same interval. The first coupling portion 1120 and the second coupling portion 1240 may be formed at predetermined intervals.
또한, 제1 결합부(1120)의 x축, y축 및 z축 방향의 길이는 제2 결합부(1240)의 x축, y축 및 z축 방향의 길이와 동일하거나 더 길게 형성될 수 있다. 여기서, z축 방향은 기판(1100) 및 디스플레이 패널 모듈들(1200)의 두께 방향을 의미하고, x축 및 y축 방향은 나머지 방향을 의미한다. 제1 결합부(1120) 및 제2 결합부(1240)의 x축, y축 및 z축 방향의 길이는 모두 수 내지 수백 ㎛로 형성될 수 있다.In addition, the lengths of the first coupling portion 1120 in the x-axis, y-axis, and z-axis directions may be the same as or longer than the lengths of the second coupling portion 1240 in the x-axis, y-axis, and z-axis directions. . Here, the z-axis direction refers to the thickness direction of the substrate 1100 and the display panel modules 1200, and the x-axis and y-axis directions refer to the remaining directions. The lengths of the first coupling portion 1120 and the second coupling portion 1240 in the x-axis, y-axis, and z-axis directions may all be several to several hundreds of μm.
제1 결합부(1120)의 x축, y축 및 z축 방향의 길이가 제2 결합부(1240)의 x축, y축 및 z축 방향의 길이보다 더 길게 형성되는 경우, 도 10과 같이 픽셀 영역 주변의 제2 블랙 매트릭스(1230) 일부는 기판(1100)을 통해 노출될 수 있다.When the lengths in the x-axis, y-axis, and z-axis directions of the first coupling portion 1120 are longer than the lengths in the x-axis, y-axis, and z-axis directions of the second coupling portion 1240, as shown in FIG. 10. A portion of the second black matrix 1230 around the pixel area may be exposed through the substrate 1100.
본 발명의 실시예에 따르면, 제2 결합부(1240)는 평탄화층(1220) 상에 발광체들(1050)과 오버랩 되도록 형성될 수 있다. 즉, 제2 결합부(1240)는 픽셀 영역의 상부를 덮도록 형성될 수 있으며, 이 경우 제2 결합부(1240)는 광투과성의 투명한 소재로 형성될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the second coupling portion 1240 may be formed to overlap the light emitters 1050 on the planarization layer 1220. That is, the second coupling portion 1240 may be formed to cover the upper portion of the pixel area, in this case, the second coupling portion 1240 may be formed of a light-transmitting transparent material.
제2 결합부(1240)는 포토 공정을 통해 픽셀 영역 상부에 형성될 수 있다. 제2 결합부(1240)는 픽셀 영역과 동일한 폭 또는 픽셀 영역보다 넓은 폭으로 형성될 수 있다. 다시 말해, 제2 결합부(1240)는 픽셀 영역과 동일한 간격 또는 픽셀 영역보다 좁은 간격으로 형성될 수 있다. 제2 결합부(1240)가 픽셀 영역보다 넓은 폭으로 형성되는 경우, 제2 결합부(1240)는 제2 블랙 매트릭스(1230)와 오버랩 되는 부분을 포함할 수 있다. 이 때, 제2 결합부(1240)는 픽셀 영역 주변의 제2 블랙 매트릭스(1230) 일부를 덮을 수 있다.The second coupling portion 1240 may be formed on the pixel region through a photo process. The second coupling part 1240 may be formed to have the same width as the pixel area or a wider width than the pixel area. In other words, the second coupling unit 1240 may be formed at the same interval as the pixel area or at a narrower interval than the pixel area. When the second coupling portion 1240 is formed to be wider than the pixel area, the second coupling portion 1240 may include a portion overlapping the second black matrix 1230. In this case, the second coupling part 1240 may cover a portion of the second black matrix 1230 around the pixel area.
한편, 제2 결합부(1240)가 발광체들(1050)과 오버랩 되도록 형성되는 경우, 제2 결합부(1240)가 삽입되는 기판(1100)의 제1 결합부(1120)는 제1 블랙 매트릭스(1110)와 오버랩 되지 않도록 형성될 수 있다. 제1 블랙 매트릭스(1110)가 제1 결합부(1120) 상에 직접 형성되거나 또는 제1 결합부(1120)와 오버랩 되는 영역 상에 형성되는 경우, 발광체들(1050)에서 출력되는 광이 제1 블랙 매트릭스(1110)에 의해 차단되기 때문이다. Meanwhile, when the second coupling part 1240 is formed to overlap the light emitters 1050, the first coupling part 1120 of the substrate 1100 into which the second coupling part 1240 is inserted is a first black matrix ( 1110). When the first black matrix 1110 is directly formed on the first coupling portion 1120 or formed on an area overlapping with the first coupling portion 1120, the light output from the light emitters 1050 is first This is because it is blocked by the black matrix 1110.
한편, 기판(1100)의 제1 결합부(1120) 패턴은 포토 공정을 통해 형성될 수 있다. Meanwhile, the pattern of the first coupling portion 1120 of the substrate 1100 may be formed through a photo process.
다른 실시예로, 디스플레이 패널 모듈들(1200)의 제2 결합부(1240)는 픽셀과 픽셀 사이의 영역에 형성될 수 있다. 이 때, 제2 결합부(1240)는 픽셀과 픽셀 사이의 전체 영역에 형성되거나 일부 영역에 형성될 수 있다. In another embodiment, the second coupling unit 1240 of the display panel modules 1200 may be formed in a region between pixels. In this case, the second coupling unit 1240 may be formed in the entire area between the pixel and the pixel or may be formed in a partial area.
또한, 제2 결합부(1240)는 픽셀과 픽셀 사이의 영역에서 제2 블랙 매트릭스(1230) 상에 형성되거나 또는 제2 결합부(1240)가 곧 제2 블랙 매트릭스(1230)에 해당할 수 있다.In addition, the second coupling portion 1240 may be formed on the second black matrix 1230 in the region between the pixel or the second coupling portion 1240 may correspond to the second black matrix 1230 soon. .
제2 결합부(1240)가 픽셀과 픽셀 사이의 영역에 형성되는 경우, 제2 결합부(1240)가 삽입되는 기판(1100)의 제1 결합부(1120)는 발광체들(1050)로부터 출력되는 광이 차단되지 않도록 제1 블랙 매트릭스(1110)와 오버랩 되도록 형성될 수 있다.When the second coupling portion 1240 is formed in the region between the pixel and the pixel, the first coupling portion 1120 of the substrate 1100 into which the second coupling portion 1240 is inserted is output from the light emitters 1050 It may be formed to overlap the first black matrix 1110 so that light is not blocked.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이 패널 모듈들(1200)은 평탄화층(1220)과 제2 결합부(1240) 또는 제2 블랙 매트릭스(1230) 사이에 광투과성의 투명한 소재로 형성된 투명 보호층(1250)을 더 포함할 수 있다. In addition, the display panel modules 1200 according to the present invention is a transparent protective layer 1250 formed of a light-transmitting transparent material between the planarization layer 1220 and the second coupling portion 1240 or the second black matrix 1230 It may further include.
투명 보호층(1250)은 개구된 픽셀 영역의 상부와 픽셀 영역 사이에 충진되는 평탄화층(1220)의 일면을 덮도록 형성될 수 있다. 제2 블랙 매트릭스(1230) 및 제2 결합부(1240)는 투명 보호층(1250) 상에 차례로 형성될 수 있다.The transparent protective layer 1250 may be formed to cover one surface of the planarization layer 1220 filled between the pixel region and the upper portion of the opened pixel region. The second black matrix 1230 and the second coupling portion 1240 may be sequentially formed on the transparent protective layer 1250.
다음으로, 기판(1100)에 디스플레이 패널 모듈들(1200)을 배치하는 공정에 대해 설명한다. Next, a process of disposing the display panel modules 1200 on the substrate 1100 will be described.
디스플레이 패널 모듈들(1200)은 기판(1100)에 한 장씩 순차적으로 배치될 수 있다. 자세하게, 본 발명에 따르면 디스플레이 패널 모듈들(1200)에 형성된 제2 결합부(1240)가 기판(1100)에 형성된 제1 결합부(1120)에 대응되도록 디스플레이 패널 모듈들(1200)을 정렬시키는 단계가 수행될 수 있다.The display panel modules 1200 may be sequentially arranged one by one on the substrate 1100. In detail, according to the present invention, aligning the display panel modules 1200 such that the second coupling portion 1240 formed in the display panel modules 1200 corresponds to the first coupling portion 1120 formed in the substrate 1100. Can be performed.
이 후, 디스플레이 패널 모듈들(1200)의 제2 결합부(1240)를 기판(1100)의 제1 결합부(1120)에 삽입시킴으로써 디스플레이 패널 모듈들(1200)을 기판(1100)에 합착시킬 수 있다. Thereafter, the display panel modules 1200 may be bonded to the substrate 1100 by inserting the second coupling portion 1240 of the display panel modules 1200 into the first coupling portion 1120 of the substrate 1100. have.
이 때, 디스플레이 패널 모듈들(1200)을 정렬시키기 전에 기판(1100)을 향하도록 배치되는 디스플레이 패널 모듈들(1200)의 일면에 투명 점착 조성물을 도포하는 단계가 선행될 수 있다.At this time, before aligning the display panel modules 1200, a step of applying a transparent adhesive composition to one surface of the display panel modules 1200 disposed to face the substrate 1100 may be preceded.
즉, 본 발명에 따른 합착 공정은 기판(1100)에 형성된 제1 결합부(1120)와 디스플레이 패널 모듈들(1200)에 형성된 제2 결합부(1240)가 서로 대응되도록 정렬시켜 수행되므로, 합착 공정이 간편하고 디스플레이 패널 모듈들(1200)의 깨짐 등을 방지할 수 있다.That is, since the bonding process according to the present invention is performed by aligning the first bonding part 1120 formed on the substrate 1100 and the second bonding part 1240 formed on the display panel modules 1200 to correspond to each other, the bonding process This is convenient and can prevent the display panel modules 1200 from being broken.
또한, 제1 결합부(1120) 및 제2 결합부(1240)는 고정밀도로 형성되어 디스플레이 패널 모듈들(1200)에 포함된 발광체들(1050)의 간격이 일정하지 않더라도 픽셀 영역의 면적을 일정하게 유지할 수 있다.In addition, the first coupling portion 1120 and the second coupling portion 1240 are formed with high precision so that the area of the pixel area is constant even if the spacing of the light emitters 1050 included in the display panel modules 1200 is not constant. Can be maintained.
또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치(1000)는 픽셀 영역 이외의 영역이 제1 및 제2 블랙 매트릭스(1110, 1230)에 의해 이중 블랙 처리되므로 화질이 향상되는 효과가 있다. In addition, in the display apparatus 1000 according to the present invention, areas other than the pixel area are double-black processed by the first and second black matrices 1110 and 1230, thereby improving image quality.

Claims (10)

  1. 제1 블랙 매트릭스를 포함하는 기판과,A substrate including a first black matrix,
    상기 기판에 배치되는 복수의 디스플레이 패널 모듈들을 포함하고,It includes a plurality of display panel modules disposed on the substrate,
    상기 디스플레이 패널 모듈들은, 배선 전극이 형성된 베이스부;The display panel modules include a base portion on which a wiring electrode is formed;
    상기 베이스부 상에 배치되며, 상기 배선 전극과 전기적으로 연결되는 발광체들; Light emitting bodies disposed on the base part and electrically connected to the wiring electrode;
    상기 발광체들이 배치된 베이스부를 평탄화하는 평탄화층; 및A planarization layer to planarize the base portion where the light emitters are disposed; And
    상기 평탄화층 상에 상기 발광체들과 오버랩 되지 않도록 형성되는 제2 블랙 매트릭스를 포함하고,A second black matrix formed on the planarization layer so as not to overlap with the light emitters,
    상기 디스플레이 패널 모듈들은, 상기 디스플레이 패널 모듈들의 경계가 상기 제1 블랙 매트릭스와 오버랩 되도록 상기 기판에 배치되는 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.The display panel modules are arranged on the substrate so that the boundary of the display panel modules overlap with the first black matrix, the display device.
  2. 제1항에 있어서,According to claim 1,
    상기 제1 블랙 매트릭스는, 상기 디스플레이 패널 모듈들이 배치되는 면 또는 그 반대면에 형성되는 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.The first black matrix is formed on the surface on which the display panel modules are disposed or vice versa.
  3. 제1항에 있어서,According to claim 1,
    상기 기판은 음각 형태의 제1 결합부를 포함하고, 상기 디스플레이 패널 모듈들은 양각 형태의 제2 결합부를 포함하며,The substrate includes an intaglio-shaped first coupling portion, and the display panel modules include an embossed second coupling portion,
    상기 디스플레이 패널 모듈들은, 상기 제2 결합부가 상기 제1 결합부에 삽입되도록 상기 기판에 배치되는 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.The display panel modules are arranged on the substrate so that the second coupling portion is inserted into the first coupling portion, the display device.
  4. 제3항에 있어서,According to claim 3,
    상기 제1 결합부의 x축, y축 및 z축 방향 길이는, 상기 제2 결합부의 x축, y축 및 z축 방향 길이와 동일하거나 또는 더 길게 형성된 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.The length of the first coupling portion in the x-axis, y-axis, and z-axis directions is equal to or longer than the length of the second coupling portion in the x-axis, y-axis, and z-axis directions.
  5. 제3항에 있어서,According to claim 3,
    상기 제1 결합부 및 제2 결합부는 미리 정해진 간격으로 형성되는 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.The first coupling portion and the second coupling portion, characterized in that formed at a predetermined interval, the display device.
  6. 제5항에 있어서,The method of claim 5,
    상기 제2 결합부는, 상기 평탄화층 상에 상기 발광체들과 오버랩 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.The second coupling portion, the display device, characterized in that formed on the flattening layer so as to overlap with the light emitters.
  7. 제6항에 있어서,The method of claim 6,
    상기 제2 결합부는, 상기 제2 블랙 매트릭스와 오버랩 되는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.The second coupling portion, characterized in that it comprises a portion overlapping the second black matrix, the display device.
  8. 제6항에 있어서,The method of claim 6,
    상기 제1 결합부는, 상기 제1 블랙 매트릭스와 오버랩 되지 않도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.The first coupling portion, characterized in that it is formed so as not to overlap with the first black matrix, the display device.
  9. 제3항에 있어서,According to claim 3,
    상기 디스플레이 패널 모듈들은, 상기 평탄화층과 상기 제2 결합부 또는 상기 제2 블랙 매트릭스 사이에 투명 보호층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.The display panel modules, characterized in that it further comprises a transparent protective layer between the planarization layer and the second coupling portion or the second black matrix, the display device.
  10. 제1항에 있어서,According to claim 1,
    상기 기판과 상기 디스플레이 패널 모듈들 사이에 투명 접합층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 디스플레이 장치.And a transparent bonding layer between the substrate and the display panel modules.
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