WO2020120096A1 - Elektrodenstapel für eine galvanische zelle - Google Patents

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Michael BUTZIN
Benedikt RODE
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Robert Bosch Gmbh
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Definitions

  • the present invention relates to an electrode stack for a galvanic cell and a manufacturing method for an electrode stack for a galvanic cell.
  • DE 10 2016 203918 A1 discloses a method for producing an electrode stack (10) for a battery cell.
  • An electrode stack for a galvanic cell having layers, the layer sequence comprising at least one layer with cathode support material (cathode support layer) and a cathode coating and / or at least one layer with anode support material (anode support layer) and an anode coating .
  • the electrode stack is processed in such a way that a chamfered surface or chamfer is created, so that the application of separator layers on the chamfered surface or chamfer is simplified, in particular that during application separator layers on a surface of the electrode stack, the inclined surface or chamfer can also be coated.
  • the electrode stack has on at least one side at least one chamfered surface with an angle of at least 95 degrees to the interfaces between the layers of the electrode stack.
  • the angle is between 105 degrees and 150 degrees.
  • the coating of the beveled surface with separator layers is particularly simplified, without the beveling having too great negative effects on the other structure of the electrode stack.
  • the anode and cathode can advantageously have the same lateral extension since the formation of electrical short circuits is avoided. Alignment requirements are reduced because the anode does not necessarily have to be larger.
  • the space utilization can be optimized, since in the area of the cathode flag no additional separator protrusion has to be provided for the insulation.
  • a bevel starting from the lower surface and a bevel starting from the surface of the electrode stack are applied, each forming an angle greater than 95 degrees or preferably an angle between 105 and 150 degrees to interfaces between the layers of the electrode composite. This can cause an application the separator layers from two sides and thus the application process can be improved.
  • the electrode stack described and the methods described for the manufacture of an electrode stack are used in preferred configurations for an accumulator. In alternative configurations, they can be used for a fuel cell.
  • FIG. 1 schematically shows an exemplary electrode stack and a cut surface
  • FIG. 2 schematically shows an exemplary electrode stack with separator layers and a cut surface
  • FIG. 3 schematically shows an exemplary section from an exemplary Galvanic cell
  • FIG. 5 schematically shows an exemplary electrode stack after a cut along an oblique cut surface
  • FIG. 6 schematically shows an exemplary electrode stack after a cut along an oblique cut surface and with an applied separator layer
  • FIG. 7 schematically shows an exemplary electrode stack after two cuts along oblique cut surfaces and with an applied separator layer
  • 8 schematically shows an exemplary electrode stack with separator layers applied to the surface and lower surface after a cut along an oblique cut surface
  • 8 schematically shows an exemplary electrode stack with separator layers applied to the surface and lower surface after a cut along an oblique cut surface and with a separator layer applied to the cut surface
  • FIG. 9 schematically shows an exemplary electrode stack with separator layers applied to the surface and lower surface after two cuts along oblique cut surfaces and with separator layers applied to the cut surfaces.
  • the electrode assembly in galvanic cells in particular accumulators such as PLIT cells, is usually an electrode stack. It consists of a continuous sequence of anode, separator and cathode layers.
  • the anode and cathode sheets can be cut out of a continuous band, for example by means of a laser process.
  • the angle between the cut surface or cut edge and the interfaces between the layers (or the electrode surface) is usually approximately 90 degrees. Only the conical shape of the cutting edge through the laser process can lead to a slight deviation.
  • a cathode composite 1 is shown as an electrode stack with a cathode support material 12 and cathode coatings 11 and 13.
  • the electrode stack was cut off along a cut surface 100.
  • cathode assembly 2 shows a cathode assembly 2 as an electrode stack. This emerges from the cathode assembly in FIG. 1 by separator layer 25 on the Layer 13 and separator layer 24 was applied to layer 11. Along the cut surface 200, the cathode composite 2 remains without a separator layer.
  • the cathode should therefore be smaller than the anode and separator to avoid dendrite formation and direct electrical short circuits.
  • the free-standing edge of the larger electrode usually the anode
  • This must be taken into account in particular at the position at which the cathode flag emerges from the electrode assembly.
  • Electrode stacks from other processes in which e.g. the separator layers are applied to one of the electrode sheets before cutting the electrode sheets, have the same problem with the insulation of the electrode assembly.
  • FIG. 3 shows an electrode stack 3 which has a cathode carrier material 12 with a cathode flag 121, a cathode coating 11, a cathode coating 13, a separator layer 34, an anode carrier material 32, an anode coating 31 and an anode coating 33.
  • the cathode flag 121 emerges from the electrode stack and is close to that which is exposed at the cut surface, i.e. there is no separator layer having anode carrier material 32, there is an increased risk of short circuit.
  • Fig. 4 shows an electrode stack 4, which corresponds to the stack of electrodes in Fig. 1 in the layer sequence.
  • Various electrode compositions can be used as the material of the cathode coatings, for example NCA, NCM811, NCM11, LFP or sulfur, plus binder and conductive carbon black.
  • the material for the anode coatings can be, for example, metallic lithium or lithium alloyed with indium or other compositions such as carbon or silicon and carbon, plus binder and conductive carbon black are used.
  • a conductive support structure such as a metal foil, an expanded metal or a conductive fabric, can be used as carrier materials.
  • a beveled cut surface 400 is now hen.
  • FIG. 5 shows the electrode stack from FIG. 4 after section along the sectional surface 400.
  • a bevel or beveled surface 400 is created by the cut along the beveled cut surface. Between the bevelled surface 400 and the interfaces between the layers 13 and 12 or
  • the contour cutting of the electrode sheets, on which the separator is later to be brought up, is carried out by changing the beam position in FIG. 4 in comparison to FIG. 1 so that a circumferential chamfer is produced.
  • the circumferential chamfer has in particular angles between 30 degrees and 75 degrees to one surface (correspondingly between 105 degrees and 150 degrees to the other surface).
  • the electrode stack from FIG. 6 corresponds to the electrode stack from FIG. 5, after a separator layer 60 has been applied to the surfaces formed by the outer surfaces of the coatings 11 and 13 and to the chamfered surface or chamfer.
  • the coating process can be carried out step by step or in parallel for the top and bottom of the electrode stack.
  • the special procedure is only used for one of the electrode types cathode or anode, in this case then preferably for the cathode. In an alternative embodiment, it can also be used for the cathode and anode.
  • the chamfer can also be attached on both sides.
  • a stack of cathodes 7 with a cathode support material 12 and cathode coatings 11 and 13 is shown as the electrode stack. Starting from the two surfaces formed by the outer surfaces of the cathode coatings 11 and 13, the electrode stack was chamfered by two cut surfaces on the side. The one cut surface starts from the underside (here formed by the outer surface of the coating 11) and the other cut surface from the upper side (here formed by the outer surface of the coating 13).
  • a separator layer 70 can now be applied from above and below (one after the other or in parallel) in such a way that the chamfered surfaces on the side of the electrode stack are also insulated.
  • the contour cutting of the electrode sheets takes place after the application of the separator to the surfaces of the electrode stack.
  • 8 shows as the electrode stack 8 a cathode composite with a cathode carrier material 12, cathode coatings 11 and 13 and layers 84 (on layer 11) and 85 (on coating 13) already applied before the cut along the cutting surface 800.
  • the beveled surface or chamfer along the cutting surface 800 corresponds to that of FIGS.
  • the electrode stack in FIG. 9 corresponds to the electrode stack in FIG. 8 after a separator layer 96 has been applied to the chamfered surface or chamfer.
  • a cathode composite 100 is shown with a cathode layer 12, cathode coatings 11 and 13 and separator layers 104 (on coating 11) and 105 (also coating 13) applied before cutting. Comparable to that described in FIG. 7, two chamfered surfaces can also be provided here as chamfer, onto which the separator layer 110 can then be applied.
  • Various processes can be used to apply the separator layers, for example aerosol deposition, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, sputtering, spray processes, screen printing. Possible materials for the separator layers include ceramic insulators such as aluminum oxide or titanium oxide and plastic insulators such as PP or PE.

Abstract

Vorgestellt wird ein Elektrodenstapel für eine Galvanische Zelle, wobei der Elektrodenstapel Schichten mit einem Kathoden-Trägermaterial oder einem Anoden-Trägermaterial aufweist. Dabei weist der Elektrodenstapel an mindestens einer Seite mindestens eine abgeschrägte Fläche mit einem Winkel von mindestens (95) Grad zu den Grenzflächen zwischen den Schichten des Elektrodenstapels auf.

Description

Beschreibung
Titel
Elektrodenstapel für eine galvanische Zelle
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Elektrodenstapel für eine Galvanische Zelle sowie ein Herstellungsverfahren für einen Elektrodenstapel für eine Galva nische Zelle.
Stand der Technik
Ein wichtiger Erfolgsfaktor für elektrifizierte Antriebe und viele weitere Anwen dungen sind effiziente und robuste Speichersysteme. Neben der bereits weit verbreiteten Lithiumionen-Technologie nehmen auch sogenannte PLIT-Systeme an Bedeutung zu (PLIT = post Li-ion technologies).
Aus der DE 10 2016 203918 Al ist ein Verfahren zur Herstellung eines Elektro denstapels (10) für eine Batteriezelle bekannt.
Offenbarung der Erfindung
Vorgestellt wird ein Elektrodenstapel für eine Galvanische Zelle, wobei der Elekt rodenstapel Schichten aufweist, wobei die Schichtenfolge mindestens eine Schicht mit Kathoden-Trägermaterial (Kathodenträgerschicht) sowie eine Katho denbeschichtung und / oder mindestens eine Schicht mit Anoden-Trägermaterial (Anodenträgerschicht) sowie eine Anodenbeschichtung umfasst.
Der Elektrodenstapel wird derart bearbeitet, dass eine abgeschrägte Fläche bzw. Fase entsteht, so dass die Auftragung von Separatorschichten auf der abge schrägten Fläche bzw. Fase vereinfacht wird, insbesondere, dass bei Auftragung von Separatorschichten auf einer Oberfläche des Elektrodenstapels auch die schräge Fläche bzw. Fase mitbeschichtet werden kann.
Dazu weist der Elektrodenstapel an mindestens einer Seite mindestens eine ab geschrägte Fläche mit einem Winkel von mindestens 95 Grad zu den Grenzflä chen zwischen den Schichten des Elektrodenstapels auf. In einer besonders be vorzugten Ausgestaltung beträgt der Winkel zwischen 105 Grad und 150 Grad. Für diesen Winkelbereich wird die Beschichtung der abgeschrägten Fläche mit Separatorschichten besonders vereinfacht, ohne dass die Abschrägung zu große negative Auswirkungen auf die sonstige Struktur des Elektrodenstapels hat.
Hierdurch wird eine umschließende Einhüllung einer Elektrode mit Ausnahme der Fähnchen durch nicht elektronisch leitende Materialien ermöglicht, welche die Konzipierung der elektrischen Isolation der Galvanischen Zelle deutlich verein facht bzw. zu einer Reduktion der benötigten Bauteile führen kann. Die jeweils realisierten Vorteile können davon abhängen, welche Elektrode bzw. ob beide Elektroden mit Separatorschichten beschichtet werden.
Vorteilhafterweise können Anode und Kathode lateral die gleiche Ausdehnung haben, da die Bildung von elektrischen Kurzschlüssen vermieden wird. Anforde rungen an die Ausrichtung werden geringer, da die Anode nicht unbedingt größer sein muss.
Zudem kann die Bauraumausnutzung optimiert werden, da im Bereich des Ka thodenfähnchens kein zusätzlicher Separatorüberstand für die Isolation vorgese hen werden muss.
Auch das Ausbrechen von Grafitspänen, die zu einem Kurzschluss in der Zelle führen könnten, kann vermieden werden.
In einer bevorzugten Ausgestaltung wird eine Abschrägung ausgehend von der Unterfläche und eine Abschrägung ausgehend von der Oberfläche des Elektro denstapels angesetzt, die jeweils einen Winkel größer 95 Grad bzw. bevorzug terweise einen Winkel zwischen 105 und 150 Grad zu Grenzflächen zwischen den Schichten des Elektrodenverbunds bilden. Hierdurch kann ein Aufbringen der Separatorschichten von zwei Seite aus erfolgen und somit der Aufbringpro zess verbessert werden.
Der beschriebene Elektrodenstapel bzw. die beschriebenen Verfahren zur Her stellung eines Elektrodenstapels werden in bevorzugten Ausgestaltungen für ei nen Akkumulator eingesetzt. In alternativen Ausgestaltungen können sie für eine Brennstoffzelle eingesetzt werden.
Zeichnung
Nachfolgend ist die Erfindung unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnun gen und anhand von Ausführungsbeispielen näher beschrieben. Dabei zeigen
Fig. 1 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel und eine Schnittfläche,
Fig. 2 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel mit Separatorschichten und eine Schnittfläche,
Fig. 3 schematisch einen beispielhaften Ausschnitt aus einer beispielhaften Gal vanischen Zelle,
Fig. 4 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel mit einer schrägen Schnittfläche,
Fig. 5 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel nach einem Schnitt ent lang einer schrägen Schnittfläche,
Fig. 6 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel nach einem Schnitt ent lang einer schrägen Schnittfläche und mit aufgebrachter Separatorschicht,
Fig. 7 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel nach zwei Schnitten entlang schrägen Schnittflächen und mit aufgebrachter Separatorschicht,
Fig. 8 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel mit auf Oberfläche und Unterfläche aufgebrachten Separatorschichten nach einem Schnitt entlang einer schrägen Schnittfläche, Fig. 8 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel mit auf Oberfläche und Unterfläche aufgebrachten Separatorschichten nach einem Schnitt entlang einer schrägen Schnittfläche und mit auf der Schnittfläche aufgebrachter Separator schicht und
Fig. 9 schematisch einen beispielhaften Elektrodenstapel mit auf Oberfläche und Unterfläche aufgebrachten Separatorschichten nach zwei Schnitten entlang schrägen Schnittflächen und mit auf den Schnittflächen aufgebrachten Separa torschichten.
Beschreibung der Ausführungsbeispiele
Der Elektrodenverbund in Galvanischen Zellen, insbesondere Akkumulatoren wie PLIT-Zellen ist üblicherweise ein Elektrodenstapel (Stack). Er besteht aus einer kontinuierlichen Abfolge von Anoden-, Separator- und Kathodenschichten.
Die Anoden- und Kathodenblätter können hierfür beispielsweise mittels Laser prozess aus einem kontinuierlichen Band herausgeschnitten werden. Üblicher weise beträgt der Winkel zwischen der Schnittfläche oder Schnittkante und den Grenzflächen zwischen den Schichten (bzw. der Elektrodenoberfläche) ungefähr 90 Grad. Lediglich die kegelförmige Ausbildung der Schnittkante durch den La serprozess kann zu einer geringfügigen Abweichung führen.
In Fig. 1 ist als Elektrodenstapel ein Kathodenverbund 1 gezeigt mit einem Ka- thoden-Trägermaterial 12 sowie Kathodenbeschichtungen 11 und 13. Der Elekt rodenstapel wurde entlang einer Schnittfläche 100 abgeschnitten.
Bringt man nun im Nachhinein eine Separatorschicht (wie zum Beispiel einen Festkörperionenleiter) mittels eines herkömmlichen Dünn- oder Dickschichtver fahrens auf, so bleibt die Schnittfläche bzw. Schnittkante unbeschichtet.
In Fig. 2 ist als Elektrodenstapel ein Kathodenverbund 2 gezeigt. Dieser geht aus dem Kathodenverbund in Fig. 1 hervor, indem Separatorschicht 25 auf die Schicht 13 sowie Separatorschicht 24 auf die Schicht 11 aufgebracht wurde. Ent lang der Schnittfläche 200 bleibt der Kathodenverbund 2 ohne Separatorschicht.
Dies führt zum einen zu einem erhöhten Aufwand für das Trennen von positivem und negativem Potential innerhalb des Elektrodenstapels. Die Kathode sollte deswegen kleiner sein als Anode und Separator, um Dendritenbildung und direk te elektrische Kurzschlüsse zu vermeiden. Zum anderen geht von der freistehen den Kante der größeren Elektrode (üblicherweise der Anode) eine erhöhte Ge fahr eines Kurzschlusses mit der Umgebung aus. Insbesondere an der Position, an der das Kathodenfähnchen aus dem Elektrodenverbund heraustritt, ist dies zu berücksichtigen.
Elektrodenstapel aus andere Prozessabläufen, bei denen z.B. die Separator schichten vor dem Zuschneiden der Elektrodenblätter auf eine der Elektroden bahnen aufgebracht werden, haben bei der Isolation des Elektrodenverbundes das gleiche Problem.
In Fig. 3 ist ein Elektrodenstapel 3 gezeigt, welcher ein Kathodenträgermaterial 12 mit einem Kathodenfähnchen 121, eine Kathodenbeschichtung 11, eine Ka thodenbeschichtung 13, eine Separatorschicht 34, ein Anodenträgermaterial 32, eine Anodenbeschichtung 31 und eine Anodenbeschichtung 33 aufweist. Insbe sondere dort, wo das Kathodenfähnchen 121 aus dem Elektrodenstapel heraus tritt und sich in der Nähe des an der Schnittfläche freiliegenden, d.h. keine Sepa ratorschicht aufweisenden Anoden-Trägermaterials 32 befindet, besteht eine er höhte Kurzschlussgefahr.
Fig. 4 zeigt einen Elektrodenstapel 4, der in der Schichtabfolge dem Elektroden stapel in Fig. 1 entspricht.
Als Material der Kathodenbeschichtungen können verschiedene Elektrodenzu sammensetzungen eingesetzt werden, z.B. NCA, NCM811, NCM11, LFP oder Schwefel, plus Binder und Leitruß. Bei einem entsprechenden Anodenverbund als Elektrodenstapel können als Material für die Anodenbeschichtungen bei spielsweise metallisches Lithium bzw. mit Indium legiertes Lithium oder andere Zusammensetzungen wie Kohlenstoff oder Silizium und Kohlenstoff, plus Binder und Leitruß eingesetzt werden. Als Trägermaterialien kann eine leitfähige Trä gerstruktur wie z.B. eine Metallfolie, ein Streckmetall oder ein leitfähiges Gewebe eingesetzt werden.
Für den Elektrodenstapel ist nun eine abgeschrägte Schnittfläche 400 vorgese hen.
In Fig. 5 ist der Elektrodenstapel aus Fig. 4 nach Schnitt entlang der Schnittflä che 400 gezeigt. Durch den Schnitt entlang der abgeschrägten Schnittfläche ist eine Fase bzw. abgeschrägte Fläche 400 entstanden. Zwischen der abgeschräg ten Fläche 400 und den Grenzflächen zwischen den Schichten 13 und 12 bzw.
11 und 12 (bzw. zu mindestens einer Oberfläche des Elektrodenstapels, welcher durch die Außenflächen der Beschichtungen 11 und 13 gebildet wird) soll dabei ein Winkel 401 größer 95 Grad, insbesondere zwischen 105 Grad und 150 Grad entstehen.
Das Konturschneiden der Elektrodenblätter, auf die später der Separator aufge bracht werden soll, wird durch eine Änderung der Strahlstellung in Fig. 4 im Ver gleich zu Fig. 1 so ausgeführt, dass eine umlaufende Fase entsteht. Die umlau fende Fase weist dabei insbesondere Winkel zwischen 30 Grad und 75 Grad zu einer Oberfläche auf (entsprechend zwischen 105 Grad und 150 Grad zur ande ren Oberfläche).
Hierdurch wird es deutlich erleichtert, auf die entsprechenden Elektrodenblätter die Separatorbeschichtung so aufzubringen, dass auch die Schnittfläche bzw. Schnittkante isoliert ist.
Der Elektrodenstapel aus Fig. 6 entspricht dem Elektrodenstapel aus Fig. 5, nachdem auf dessen Oberflächen gebildet durch die Außenflächen der Beschich tungen 11 und 13 sowie auf die abgeschrägte Fläche bzw. Fase eine Separator schicht 60 aufgetragen wurde.
Das Beschichtungsverfahren kann dabei schrittweise nacheinander oder auch parallel für die Oberseite und Unterseite des Elektrodenstapels durchgeführt werden. In einer bevorzugten Ausgestaltung wird das spezielle Vorgehen nur für einen der Elektrodentypen Kathode bzw. Anode angewendet, in diesem Fall dann vor zugsweise für die Kathode. In einer alternativen Ausgestaltung kann es auch für Kathode und Anode angewendet werden.
Die Anbringung der Fase kann auch beidseitig erfolgen. In Fig. 7 ist als Elektro denstapel ein Kathodenverbund 7 mit einem Kathoden-Trägermaterial 12 sowie Kathodenbeschichtungen 11 und 13 gezeigt. Von den beiden Oberflächen gebil det durch die Außenflächen der Kathodenbeschichtungen 11 und 13 ausgehend wurde der Elektrodenstapel durch zwei Schnittflächen an der Seite abgeschrägt. Dabei geht die eine Schnittfläche von der Unterseite aus (hier gebildet durch die Außenfläche Beschichtung 11) und die andere Schnittfläche von der Oberseite (hier gebildet durch die Außenfläche der Beschichtung 13). Wie zu Fig. 6 be schrieben kann nun eine Separatorschicht 70 von oben und unten (nacheinander oder parallel) derart aufgebracht werden, dass auch die abgeschrägten Flächen an der Seite des Elektrodenstapels isoliert werden.
In einer alternativen Ausgestaltung erfolgt das Konturschneiden der Elektroden blätter nach dem Aufbringen des Separators auf den Oberflächen des Elektro denstapels. In Fig. 8 ist als Elektrodenstapel 8 ein Kathodenverbund gezeigt mit einem Kathoden-Trägermaterial 12, Kathodenbeschichtungen 11 und 13 sowie bereits vor dem Schnitt entlang der Schnittfläche 800 aufgebrachten Separator schichten 84 (auf Schicht 11) und 85 (auf Beschichtung 13). Die abgeschrägte Fläche bzw. Fase entlang der Schnittfläche 800 entspricht dabei der zu den Fig.
4 und 5 beschriebenen. Der Elektrodenstapel in Fig. 9 entspricht dem Elektro denstapel in Fig. 8, nachdem auf die abgeschrägte Fläche bzw. Fase eine Sepa ratorschicht 96 aufgebracht wurde. In Fig. 10 ist als Elektrodenstapel ein Katho denverbund 100 gezeigt mit einem Kathodenschicht 12, Kathodenbeschichtun gen 11 und 13 sowie bereits vor dem Schneiden aufgebrachten Separatorschich ten 104 (auf Beschichtung 11) und 105 (auch Beschichtung 13). Vergleichbar wie zu Fig. 7 beschrieben können auch hier als Fase zwei abgeschrägte Flächen vorgesehen werden, auf welche dann die Separatorschicht 110 aufgetragen wer den kann. Für das Aufbringen der Separatorschichten kommen jeweils verschiedene Pro zesse in Frage, z.B. Aerosol Deposition, Physical Vapor Deposition, Chemical Vapor Deposition, Sputtern, Spray-Verfahren, Siebdruck. Mögliche Materialien für die Separatorschichten umfassen keramische Isolatoren wie zum Beispiel Aluminiumoxid oder Titanoxid sowie Kunststoffisolatoren wie zum Beispiel PP oder PE.

Claims

Ansprüche
1. Elektrodenstapel (5, 6, 7) für eine Galvanische Zelle, wobei der Elektroden stapel (5, 6, 7) Schichten (11, 12, 13) mit einem Kathoden-Trägermaterial (12) oder einem Anoden-Trägermaterial aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrodenstapel (5, 6, 7) an mindestens einer Seite mindestens ei ne abgeschrägte Fläche (400) mit einem Winkel (401) von mindestens 95 Grad zu den Grenzflächen zwischen den Schichten (11, 12, 13) des Elektro denstapels (5, 6, 7) aufweist.
2. Elektrodenstapel (5, 6, 7) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Winkel (401) zwischen der abgeschrägten Fläche (400) und den Grenz flächen zwischen 105 und 150 Grad beträgt.
3. Elektrodenstapel (5, 6, 7) nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Seite zwei abgeschrägte Flächen aufweist.
4. Elektrodenstapel (5, 6, 7) nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass auf die abgeschrägte Fläche eine Separator schicht (60, 70) aufgebracht ist.
5. Elektrodenstapel (5, 6, 7) nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Galvanische Zelle einen Akkumulator bil det.
6. Elektrodenstapel (5, 6, 7) nach einem Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekenn zeichnet, dass die Galvanische Zelle eine Brennstoffzelle bildet.
7. Verfahren zur Herstellung eines Elektrodenstapels (5) für eine Galvanische Zelle, wobei der Elektrodenstapel (5) Schichten (11, 12, 13) mit einem Katho den-Trägermaterial (12) oder einem Anoden-Trägermaterial aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrodenstapel (5, 6) an mindestens ei- ner Seite in einem Winkel (401) von mindestens 95 Grad zu den Grenzflä chen zwischen den Schichten des Elektrodenstapels abgeschrägt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Winkel (401) zwischen der abschrägten Fläche (400) und den Grenzflächen zwischen 105 und 150 Grad beträgt.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Abschrägen durch ein Schneidverfahren, insbesondere ein Laserschneiden erfolgt.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass auf die abgeschrägte Fläche (400) eine Separatorschicht aufgetragen wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Separator schicht keramische Isolatoren, insbesondere Aluminiumoxid oder Titanoxid aufweist.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Aufträgen der Separatorschicht mittels Aerosol Deposition, Physical Vapor Deposition, Chemical Vapor Deposition, Sputtern, Spray-Verfahren oder Siebdruck erfolgt.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrodenstapel (5) an der mindestens einen Seite mit zwei Flä chen abgeschrägt wird.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Galvanische Zelle einen Akkumulator bildet.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Galvanische Zelle eine Brennstoffzelle bildet.
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