WO2020067308A1 - Nitride-based nonmagnetic ceramic molding and method for producing same - Google Patents

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Abstract

Provided is a nonmagnetic ceramic molding having a roughened structure on the surface thereof, the nonmagnetic ceramic molding being a nitride-based nonmagnetic molding, the roughened structure having recesses and protrusions, and when observed using a scanning electron microscope photograph (50-400x), the cross-sectional shape in the thickness direction of the recesses and protrusions includes a shape in which the tip of the protrusion is curved and the bottom of the recess is V-shaped.

Description

窒化物系の非磁性セラミックス成形体とその製造方法Nitride-based non-magnetic ceramic molded body and method for producing the same
 本発明は、その1つの態様において、表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体とその製造方法に関する。 In one aspect, the present invention relates to a nitride-based non-magnetic ceramic molded body having a surface roughened structure and a method for producing the same.
 非磁性セラミックスは、食器、カップ、花びんなどの日用品、エンジニアリングセラミックスとして各種成形品に汎用されており、適用する用途に応じて、表面に凹凸を形成する処理をすることが知られている。 Non-magnetic ceramics are widely used in various molded products as daily necessities such as tableware, cups, vases, and engineering ceramics, and it is known to perform a process of forming irregularities on the surface according to the application to which they are applied.
 特開2002-308683号公報には、酸性エッチング液により凹凸構造が形成されたセラミックス部材が開示されている。特許第6032903号公報には、特定の凹凸構造を有する焼成用セッターの発明が記載されており(特許請求の範囲)、前記焼成用セッターの材料として、ジルコニア、アルミナ、マグネシア、スピネル、コーディライトなどが例示されている(段落番号0013)。 JP-A-2002-308683 discloses a ceramic member having a concave-convex structure formed with an acidic etching solution. Japanese Patent No. 6032903 describes an invention of a firing setter having a specific uneven structure (claims), and as a material of the firing setter, zirconia, alumina, magnesia, spinel, cordierite, etc. (Paragraph number 0013).
 WO2011/121808A1には、金属製またはセラミックス製の基材と、前記基材の摺動側の表面部に凹部を形成することによって設けられた含浸層と、前記含浸層に含浸し、前記基材の摺動側の表面を被覆している樹脂層と、を備える摺動部材であり、前記凹部は機械加工によって形成されている発明が開示されている(特許請求の範囲)。凹部は複数の直線状の溝であり、前記溝の最大深さは200~2000μmであることが記載されている(段落番号0026)。 WO2011 / 121808A1 includes a metal or ceramic base material, an impregnated layer provided by forming a concave portion on the sliding side surface of the base material, and an impregnated layer impregnated with the base material. And a resin layer covering the surface on the sliding side of the sliding member, wherein the concave portion is formed by machining (claims). It is described that the concave portion is a plurality of linear grooves, and the maximum depth of the grooves is 200 to 2000 μm (paragraph number 0026).
 前記機械加工としては、レーザー加工、ワイヤーカット加工などが例示されているが(段落番号0014)、具体的な加工条件についての記載はなく、実施例では鋼をワイヤーカット加工したことが記載されているだけであり、セラミックスについての具体的な記載はない。 Examples of the mechanical processing include laser processing and wire cut processing (paragraph number 0014), but there is no description of specific processing conditions, and in the examples, it is described that steel was wire cut. There is no specific description about ceramics.
 特開2015-109966号公報には、正方晶ジルコニアを含有する医療機器材料の特定部位にリン酸カルシウムをコーティングする、医療機器材料の製造方法であって、前記特定部位に超短パルスレーザーを照射して表面に凹凸を形成する第一工程と、前記特定部位に前記凹凸の周期に比べて小さいリン酸カルシウム微粒子を蒸着または析出させる第二工程とを含むことを特徴とする医療機器材料の製造方法が開示されている(特許請求の範囲)。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-109966 discloses a method for manufacturing a medical device material in which a specific portion of a medical device material containing tetragonal zirconia is coated with calcium phosphate, and the specific portion is irradiated with an ultrashort pulse laser. A method for manufacturing a medical device material, comprising: a first step of forming irregularities on the surface; and a second step of depositing or depositing calcium phosphate fine particles smaller than the period of the irregularities on the specific portion is disclosed. (Claims).
 特許第6111102号公報には、AlNまたはAlを主成分とするセラミックス基板の少なくとも一方の面の回路パターンと略同一の平面形状の部分に波長300~1500nmのレーザー光を照射して、そのセラミックス基板の少なくとも一方の面の回路パターンと略同一の平面形状の部分にアルミニウム膜を形成し、このアルミニウム膜上に銅板を配置してアルミニウムと銅の共晶点以上で且つ650℃以下の温度で加熱することにより、アルミニウム膜を介して銅板をセラミックス基板に接合することを特徴とする、金属-セラミックス接合基板の製造方法が開示されている。 Japanese Patent No. 6111102 discloses that a laser beam having a wavelength of 300 to 1500 nm is applied to a portion of a planar shape substantially identical to a circuit pattern on at least one surface of a ceramic substrate containing AlN or Al 2 O 3 as a main component. An aluminum film is formed on a portion of the ceramic substrate having a planar shape substantially the same as the circuit pattern on at least one surface, and a copper plate is disposed on the aluminum film to have a temperature not lower than the eutectic point of aluminum and copper and not higher than 650 ° C. A method of manufacturing a metal-ceramic bonding substrate, characterized by bonding a copper plate to a ceramic substrate via an aluminum film by heating at a temperature, is disclosed.
 特開2003-171190号公報には、純度95%以上の緻密質セラミックスからなる基材の表面が表面粗さRa3~40μmの丸みを帯びた第1の凹凸に形成され、かつ、この第1の凹凸の表面が表面粗さRa0.1~2.9μmの丸みを帯びた第2の凹凸に形成されているセラミックス部材が開示されている。第2の凹凸は第1の凹凸の全面を覆っていることが図示されている。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-171190 discloses that the surface of a substrate made of dense ceramic having a purity of 95% or more is formed with first rounded irregularities having a surface roughness Ra of 3 to 40 μm, and the first There is disclosed a ceramic member in which the surface of the unevenness is formed as a second rounded unevenness having a surface roughness Ra of 0.1 to 2.9 μm. It is shown that the second unevenness covers the entire surface of the first unevenness.
 特開2003-137677号公報、特開2004-66299号公報には、セラミックス体の表面にレーザー加工して凹凸を形成する技術が開示されている。 JP-A-2003-137677 and JP-A-2004-66299 disclose a technique for forming irregularities by laser processing the surface of a ceramic body.
 特許第5774246号公報、特許第5701414号公報には、連続波レーザーを使用して、2000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射して金属成形体の表面を粗面化する発明、金属成形体と樹脂成形体との複合成形体の製造方法の発明が開示されているが、セラミックスについての記載はない。 Japanese Patent Nos. 5,774,246 and 5,701,414 disclose a method for roughening the surface of a metal molded body by continuously irradiating a continuous wave laser with a laser beam at an irradiation speed of 2000 mm / sec or more. Although an invention of a method for producing a composite molded article of a molded article and a resin molded article is disclosed, there is no description about ceramics.
 本発明は、その1つの側面において、表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体とその製造方法を提供することを課題とする。 One object of the present invention is to provide a nitride-based nonmagnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface and a method for producing the same.
 本発明は、その1つの実施態様において、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体であって、
 前記非磁性セラミックス成形体が窒化物系の非磁性セラミックス成形体であり、
 前記粗面化構造が凹凸を有しており、走査型電子顕微鏡写真(50~400倍)により観察したときの前記凹凸の厚さ方向の断面形状が、前記凸部の先端部が曲面であるもの、または前記凹部の底部がV字形であるものを含んでいる、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体(第1実施形態)を提供する。また本発明は別の実施態様において、第1実施形態の非磁性セラミックス成形体の製造方法を提供する。
The present invention, in one embodiment thereof, is a non-magnetic ceramic molded body having a surface roughened structure,
The non-magnetic ceramic molded body is a nitride-based non-magnetic ceramic molded body,
The roughened structure has irregularities, and the cross-sectional shape in the thickness direction of the irregularities when observed by a scanning electron microscope photograph (50 to 400 times) is a curved surface at the tip of the convex portion. A non-magnetic ceramic molded body (first embodiment) having a roughened structure on its surface is provided, including one having a concave portion or a concave portion having a V-shaped bottom. In another embodiment, the present invention provides a method of manufacturing the nonmagnetic ceramic molded body according to the first embodiment.
 また本発明は、別の実施態様において、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体であって、
 前記非磁性セラミックス成形体が窒化物系の非磁性セラミックス成形体であり、
 前記粗面化構造が凹凸を有しており、走査型電子顕微鏡写真(50~400倍)により観察したときの前記凹凸の厚さ方向の断面形状が、前記凸部の先端部が曲面であるもの、または前記凹部の底部がV字形であるものを含んでおり、
 前記凸部の先端部に分散された突起からなる突起群を有しているものである、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体(第2実施形態)を提供する。また本発明は別の実施態様において、第2実施形態の非磁性セラミックス成形体の製造方法を提供する。
The present invention, in another embodiment, a non-magnetic ceramic molded body having a surface roughened structure,
The non-magnetic ceramic molded body is a nitride-based non-magnetic ceramic molded body,
The roughened structure has irregularities, and the cross-sectional shape in the thickness direction of the irregularities when observed by a scanning electron microscope photograph (50 to 400 times) is a curved surface at the tip of the convex portion. Or the bottom of the recess is V-shaped,
A non-magnetic ceramic molded body (second embodiment) having a roughened structure on the surface, having a projection group composed of projections dispersed at the tip of the projection. In another embodiment, the present invention provides a method of manufacturing the nonmagnetic ceramic molded body according to the second embodiment.
 本発明の実施態様による非磁性セラミックス成形体は表面に粗面化構造を有しており、他の材料との複合成形体を製造する中間体として使用することができる。したがって本発明は別の側面において、そのような複合成形体の製造方法、および複合成形体にも向けられている。 非 The non-magnetic ceramic molded product according to the embodiment of the present invention has a roughened structure on the surface, and can be used as an intermediate for producing a composite molded product with another material. Therefore, in another aspect, the present invention is also directed to a method for producing such a composite molded article, and a composite molded article.
 本発明の実施態様による製造方法によれば、割れにより2以上に分離することなく、本来的に硬く脆い窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面を粗面化することができる。 According to the production method according to the embodiment of the present invention, the surface of the originally hard and brittle nitride-based nonmagnetic ceramic molded body can be roughened without being separated into two or more by cracking.
本発明の1つの例による第2の製造方法を実施するときの一実施形態のレーザー光の照射状態を示す図。The figure which shows the irradiation state of the laser beam of one Embodiment when implementing the 2nd manufacturing method by one example of this invention. 本発明の1つの例による第2の製造方法を実施するときのレーザー光の照射パターンを示す図であり、(a)は同方向の照射パターン、(b)は双方向の照射パターン。It is a figure which shows the irradiation pattern of the laser beam when implementing the 2nd manufacturing method by one example of this invention, (a) is an irradiation pattern of the same direction, (b) is a bidirectional irradiation pattern. (a)は実施例1の窒化アルミニウム成形体の粗面化構造部分(平面図)のSEM写真(200倍)、(b)は(a)の厚さ方向断面のSEM写真(200倍)である。(A) is an SEM photograph (× 200) of a roughened structure portion (plan view) of the aluminum nitride molded product of Example 1, and (b) is an SEM photograph (× 200) of a cross section in the thickness direction of (a). is there. 実施例2の窒化アルミニウム成形体の粗面化構造部分(平面図)のSEM写真(400倍)である。5 is an SEM photograph (× 400) of a roughened structure portion (plan view) of the aluminum nitride molded body of Example 2. (a)は実施例3の窒化ケイ素成形体の粗面化構造部分(平面図)のSEM写真(400倍)、(b)は(a)の厚さ方向断面のSEM写真(200倍)である。(A) is a SEM photograph (magnification: 400) of the roughened structure portion (plan view) of the silicon nitride molded article of Example 3, and (b) is a SEM photograph (magnification: 200) of a cross section in the thickness direction of (a). is there. 実施例4の窒化ケイ素成形体の粗面化構造部分(平面図)のSEM写真(400倍)である。5 is an SEM photograph (× 400) of a roughened structure portion (plan view) of the silicon nitride molded body of Example 4. 実施例5の炭窒化チタンの粗面化構造部分(平面図)のSEM写真(200倍)である。It is a SEM photograph (200 times) of the roughened structure part (plan view) of titanium carbonitride of Example 5. 比較例1の窒化ケイ素成形体の粗面化構造部分(平面図)のSEM写真(100倍)である。4 is an SEM photograph (100 times) of a roughened structure portion (plan view) of the silicon nitride molded body of Comparative Example 1. 実施例で製造した窒化物セラミックス成形体の斜視図と、窒化物セラミックス成形体と樹脂成形体との複合成形体を使用した接合強度の試験を説明するための斜視図。FIG. 2 is a perspective view of the nitride ceramic molded body manufactured in the example, and a perspective view for describing a test of bonding strength using a composite molded body of the nitride ceramic molded body and the resin molded body. (a)は実施例6の窒化ケイ素成形体の粗面化構造部分の平面図のSEM写真、(b)は(a)の厚さ方向断面のSEM写真である。(A) is an SEM photograph of a plan view of a roughened structure portion of the silicon nitride molded body of Example 6, and (b) is an SEM photograph of a cross section in the thickness direction of (a). (a)は実施例7の窒化ケイ素成形体の粗面化構造部分の平面図のSEM写真、(b)は(a)の厚さ方向断面のSEM写真である。(A) is an SEM photograph of a plan view of a roughened structure portion of the silicon nitride molded product of Example 7, and (b) is an SEM photograph of a cross section in the thickness direction of (a). (a)は実施例8の窒化ケイ素成形体の粗面化構造部分の平面図のSEM写真、(b)は(a)の厚さ方向断面のSEM写真である。(A) is an SEM photograph of a plan view of a roughened structure portion of the silicon nitride molded article of Example 8, and (b) is an SEM photograph of a cross section in the thickness direction of (a).
 本発明は、その幾つかの実施態様によれば、上記した第1実施形態の非磁性セラミックス成形体とその製造方法、第2実施形態の非磁性セラミックス成形体とその製造方法を含んでいる。 According to some embodiments, the present invention includes the above-described non-magnetic ceramic molded body of the first embodiment and the method of manufacturing the same, and the non-magnetic ceramic molded body of the second embodiment and the method of manufacturing the same.
 本発明の実施態様によれば、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体は、窒化物系の非磁性セラミックスを含むものである。窒化物系の非磁性セラミックス成形体は、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化チタン、サイアロン(SiAlON)、炭窒化チタンなどの窒化物系セラミックスを含む成形体であってよいが、これらの中でも窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭窒化チタンを含む成形体であってよい。 According to the embodiment of the present invention, the non-magnetic ceramic molded body having a surface roughened structure includes a nitride-based non-magnetic ceramic. The nitride-based nonmagnetic ceramic molded body may be a molded body containing a nitride-based ceramic such as aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride, sialon (SiAlON), and titanium carbonitride. It may be a molded body containing silicon nitride or titanium carbonitride.
 窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭窒化チタンは、それぞれ単独からなるもののほか、所定の熱衝撃温度を満たす範囲内であれば、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭窒化チタンと、他の非磁性セラミックス、金属(例えば、アルミニウム、銅、マグネシウム、黄銅)、半金属(例えば、ケイ素)との複合体からなるものでもよい。前記複合体にするときは、窒化物系の非磁性セラミックスの含有割合は、本発明の好ましい一態様では50質量%以上であり、本発明の別の好ましい一態様では60質量%以上であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では70質量%以上である。 Aluminum nitride, silicon nitride, and titanium carbonitride may be used alone or in addition to aluminum nitride, silicon nitride, titanium carbonitride, and other non-magnetic ceramics, metals, as long as they satisfy a predetermined thermal shock temperature. For example, it may be composed of a composite with aluminum, copper, magnesium, brass) and a metalloid (for example, silicon). When forming the composite, the content ratio of the nitride-based nonmagnetic ceramic is 50% by mass or more in a preferred embodiment of the present invention, and 60% by mass or more in another preferred embodiment of the present invention. In still another preferred embodiment of the present invention, the content is 70% by mass or more.
 所定の熱衝撃温度(JIS R1648:2002)は、本発明の好ましい一態様では500~750℃の範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では530~700℃の範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では530~670℃の範囲である。 The predetermined thermal shock temperature (JIS @ R1648: 2002) is in the range of 500 to 750 ° C. in a preferred embodiment of the present invention, and is in the range of 530 to 700 ° C. in another preferred embodiment of the present invention. In another preferred embodiment, the temperature ranges from 530 to 670 ° C.
 窒化アルミニウム、窒化ケイ素または炭窒化チタンを含む窒化物系の非磁性セラミックス成形体は、加工時において割れることを防止するため、本発明の好ましい一態様では厚さが0.5mm以上のものであり、本発明の別の好ましい一態様では厚さが1.0mm以上であるものである。なお、本発明における「割れ」は、成形体の一部が割れて2以上に分割されることをいい、「ひび割れ」は含まれない。またレーザー光の照射による加工時には割れないが、著しく強度が低下して、その後の移動時および加工時に2以上に分割されるような場合も「割れ」に含まれる。 In a preferred embodiment of the present invention, a nitride-based nonmagnetic ceramic molded body containing aluminum nitride, silicon nitride or titanium carbonitride has a thickness of 0.5 mm or more in order to prevent cracking during processing. According to another preferred embodiment of the present invention, the thickness is 1.0 mm or more. The term “crack” in the present invention means that a part of the molded body is broken and divided into two or more, and does not include “crack”. In addition, “cracking” also includes a case where it does not crack during processing by laser beam irradiation, but has a remarkably reduced strength and is divided into two or more during subsequent movement and processing.
 本発明の幾つかの実施態様によれば、表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体(第1実施形態と第2実施形態)は、前記粗面化構造が凹凸を有しており、前記凹凸の厚さ方向の断面形状が、前記凸部の先端部が曲面であるもの、または前記凹部の底部がV字形であるものを含んでいる。例えば第1実施形態と第2実施形態の表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体は、凸部の先端部の断面形状が曲面ではないが、凹部の底部の断面形状がV字形状であるものと、凸部の先端部の断面形状が曲面であり、凹部の底部の断面形状がV字形状ではないものの一方または両方を含んでいてよい。 According to some embodiments of the present invention, in the non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface (first and second embodiments), the roughened structure has irregularities. The cross-sectional shape in the thickness direction of the unevenness includes a shape in which the tip of the protrusion is a curved surface, or a shape in which the bottom of the recess is V-shaped. For example, in the non-magnetic ceramic molded bodies having a roughened surface on the surfaces of the first embodiment and the second embodiment, the cross-sectional shape of the tip of the convex is not a curved surface, but the cross-sectional shape of the bottom of the concave is V-shaped. And the cross-sectional shape of the tip of the convex portion may be a curved surface, and the cross-sectional shape of the bottom of the concave portion may not include a V-shape or both.
 前記凸部の先端部の厚さ方向の断面形状は、部分円形状または部分楕円形状を含んでいるものであってよい。部分円形状は、半円形状、1/3円形状などの円の一部を含む形状である。部分楕円形状は、半楕円形状、1/3楕円形状などの楕円の一部を含む形状である。 断面 The cross-sectional shape in the thickness direction of the tip of the convex portion may include a partial circular shape or a partial elliptical shape. The partial circular shape is a shape including a part of a circle such as a semicircular shape and a 1/3 circular shape. The partial elliptical shape is a shape including a part of an ellipse such as a semi-elliptical shape and a 1/3 elliptical shape.
 本発明の表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体(第2実施形態)は、前記凸部の先端部(断面形状が曲面であるものと、曲面でないもの)に分散された突起からなる突起群を有していてよい。1つの例によれば、第2実施形態の非磁性セラミックス成形体の突起群は、凸部の表面に独立した突起が多数分散された形態のものであってよく、例えば凸部の形態および突起の形態に応じて、下記のような異なる形態を取ることができる。 The non-magnetic ceramic molded body having a roughened surface on its surface according to the present invention (second embodiment) is obtained by dispersing protrusions dispersed at the tips of the convex portions (the cross-sectional shape is a curved surface and the cross-sectional shape is not a curved surface). May be provided. According to one example, the projection group of the non-magnetic ceramic molded body of the second embodiment may have a form in which a large number of independent projections are dispersed on the surface of the projection. Depending on the form, the following different forms can be taken.
 第2実施形態の非磁性セラミックス成形体の凹凸が、線状の凸部と線状の凹部が一方向に交互に形成されている形態では、前記線状の凸部と前記線状の凹部(溝)のそれぞれの幅が20~500μmであるとき、本発明の好ましい一態様では、前記凸部に形成された突起群に含まれている突起の直径(円置換直径)が10~200μmのものの平均形成密度が5個/250,000μm以上であり、本発明の別の好ましい一態様では前記平均形成密度が5~200個/250,000μmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では前記平均形成密度が8~150個/250,000μmである。突起の直径(円置換直径)とは、突起の平面面積を同一面積の円に置き換えたときの直径である。 In the embodiment in which the unevenness of the nonmagnetic ceramic molded body of the second embodiment is such that linear convex portions and linear concave portions are alternately formed in one direction, the linear convex portion and the linear concave portion ( When each of the widths of the grooves is 20 to 500 μm, according to a preferred embodiment of the present invention, the diameter of the projections (circular replacement diameter) included in the projection group formed on the projections is 10 to 200 μm. The average formation density is 5 pieces / 250,000 μm 2 or more, and in another preferred embodiment of the present invention, the average formation density is 5 to 200 pieces / 250,000 μm 2 , and still another preferred embodiment of the present invention. In this case, the average formation density is 8 to 150 pieces / 250,000 μm 2 . The diameter of the projection (circular replacement diameter) is the diameter when the planar area of the projection is replaced by a circle having the same area.
 なお、前記の「一方向」は、例えば、非磁性セラミックス成形体の平面形状が長方形のときは、長辺方向、短辺方向または前記長辺方向若しくは短辺方向に斜交する方向であってよく、非磁性セラミックス成形体の平面形状が正方形のときは、いずれかの辺方向または前記いずれかの辺方向に斜交する方向であってよい。 Note that the "one direction" is, for example, a direction oblique to the long side direction, the short side direction, or the long side direction or the short side direction when the planar shape of the nonmagnetic ceramic molded body is a rectangle. When the planar shape of the nonmagnetic ceramic molded body is a square, it may be in any side direction or a direction oblique to any of the side directions.
 このように凸部の表面(曲面)に突起群が形成され、表面積が増加されていると、例えば、非磁性セラミックス成形体を他部材(例えば、樹脂成形体)と接合するときには、接合面の接触面積が増大されていることで接合強度が高められる。 As described above, when the projections are formed on the surface (curved surface) of the projection and the surface area is increased, for example, when joining a non-magnetic ceramic molded body to another member (for example, a resin molded body), The increased contact area increases the bonding strength.
 第2実施形態の非磁性セラミックス成形体の1つの例は、凹凸のうちの凹部が島状に分散して形成され、前記凹部を除いた部分が凸部である形態であってよく、前記凸部と前記凹部(溝)のそれぞれの幅が20~500μmであるとき、本発明の好ましい一態様では、前記凸部に形成された突起群に含まれている突起の直径(円置換直径)が10~200μmのものの平均形成密度が5個/250,000μm以上であり、本発明の別の好ましい一態様では前記平均形成密度が10~30個/250,000μmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では前記平均形成密度が10~25個/250,000μmである。突起の直径(円置換直径)は、突起の平面面積を同一面積の円に置き換えたときの直径である。 One example of the non-magnetic ceramic molded body of the second embodiment may be a form in which concave portions among the concave and convex portions are formed in an island shape, and portions excluding the concave portions are convex portions. In a preferred embodiment of the present invention, when the width of each of the portion and the concave portion (groove) is 20 to 500 μm, the diameter (circular replacement diameter) of the projection included in the projection group formed on the convex portion is The average formation density of 10 to 200 μm is 5 pieces / 250,000 μm 2 or more, and in another preferred embodiment of the present invention, the average formation density is 10 to 30 pieces / 250,000 μm 2. In another preferred embodiment, the average formation density is 10 to 25 particles / 250,000 μm 2 . The diameter of the projection (circular replacement diameter) is a diameter when the plane area of the projection is replaced by a circle having the same area.
 このように凸部の表面(曲面)に突起群が形成され、表面積が増加されていると、例えば、非磁性セラミックス成形体を他部材(例えば、樹脂成形体)と接合するときには、接合面の接触面積が増大されていることで接合強度が高められる。 As described above, when the projections are formed on the surface (curved surface) of the projection and the surface area is increased, for example, when joining a non-magnetic ceramic molded body to another member (for example, a resin molded body), The increased contact area increases the bonding strength.
 第1実施形態と第2実施形態の非磁性セラミックス成形体の例によれば、凹凸の表面粗さ(Ra)は、本発明の好ましい一態様では1~100μmの範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では3~90μmの範囲であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では5~85μmの範囲である。 According to the examples of the non-magnetic ceramic molded body of the first embodiment and the second embodiment, the surface roughness (Ra) of the unevenness is in the range of 1 to 100 μm in a preferred embodiment of the present invention. In one preferred embodiment of the present invention, the thickness is in the range of 3 to 90 μm, and in still another preferred embodiment of the present invention, the thickness is in the range of 5 to 85 μm.
 第1実施形態と第2実施形態の非磁性セラミックス成形体の例によれば、凹凸の凸部と凹部の高低差(Rz)は、本発明の好ましい一態様では10~500μmの範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では15~450μmの範囲であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では20~400μmの範囲である。 According to the examples of the non-magnetic ceramic molded body of the first embodiment and the second embodiment, the height difference (Rz) between the convex and concave portions of the unevenness is in the range of 10 to 500 μm in a preferred embodiment of the present invention. In another preferred embodiment of the present invention, it is in the range of 15 to 450 μm, and in still another preferred embodiment of the present invention, it is in the range of 20 to 400 μm.
 第1実施形態と第2実施形態の非磁性セラミックス成形体の例によれば、凹凸の算術平均高さ(Sa)は、本発明の好ましい一態様では3~90μmの範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では4~85μmの範囲であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では5~82μmの範囲である。 According to the examples of the non-magnetic ceramic molded body of the first embodiment and the second embodiment, the arithmetic mean height (Sa) of the unevenness is in a range of 3 to 90 μm in a preferred embodiment of the present invention. In another preferred embodiment, it is in the range of 4-85 μm, and in still another preferred embodiment of the present invention, it is in the range of 5-82 μm.
 第1実施形態と第2実施形態の非磁性セラミックス成形体の例によれば、凹凸の凸部の最大高さ(Sz)は、本発明の好ましい一態様では30~500μmの範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では35~480μmの範囲であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では40~450μmの範囲である。 According to the examples of the non-magnetic ceramic molded body of the first embodiment and the second embodiment, the maximum height (Sz) of the convex portion of the unevenness is in the range of 30 to 500 μm in a preferred embodiment of the present invention. In another preferred embodiment of the invention, it is in the range of 35 to 480 μm, and in still another preferred embodiment of the invention, it is in the range of 40 to 450 μm.
 第1実施形態と第2実施形態の非磁性セラミックス成形体の例によれば、凹凸の界面の展開面積比(Sdr)は、本発明の好ましい一態様では1~8の範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では2~7の範囲であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では2.5~6.5の範囲である。 According to the examples of the non-magnetic ceramic molded body of the first embodiment and the second embodiment, the developed area ratio (Sdr) of the interface between the irregularities is in the range of 1 to 8 in a preferred embodiment of the present invention. In another preferred embodiment of the present invention, it is in the range of 2 to 7, and in still another preferred embodiment of the present invention, it is in the range of 2.5 to 6.5.
 第1実施形態と第2実施形態の非磁性セラミックス成形体の例によれば、凹凸の二乗平均平方根傾斜(Sdq)は、本発明の好ましい一態様では2~12の範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では2.5~11の範囲であり、本発明のさらに別の好ましい一態様では3~10の範囲である。 According to the examples of the non-magnetic ceramic molded body of the first embodiment and the second embodiment, the root mean square slope (Sdq) of the unevenness is in the range of 2 to 12 in a preferred embodiment of the present invention, In another preferred embodiment, the range is 2.5 to 11, and in still another preferred embodiment of the present invention, the range is 3 to 10.
<表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体の第1の製造方法>
 次に本発明の実施態様による、表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体(第1実施形態と第2実施形態)の第1の製造方法を説明する。
<First manufacturing method of nitride-based non-magnetic ceramic molded body having surface roughened structure>
Next, a first method for producing a nitride-based nonmagnetic ceramic molded body having a roughened surface on the surface (first and second embodiments) according to an embodiment of the present invention will be described.
 第1実施形態の成形体の製造方法では、窒化物系の非磁性セラミックス成形体が窒化アルミニウムであるときは5,000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射することができ、本発明の好ましい一態様では5,000~20,000mm/secであり、本発明の別の好ましい一態様では5,000~10,000mm/secの照射速度でレーザー光を連続照射することができる。 In the method for manufacturing a molded body according to the first embodiment, when the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body is aluminum nitride, laser light can be continuously irradiated at an irradiation speed of 5,000 mm / sec or more. In a preferred embodiment of the present invention, the irradiation speed is 5,000 to 20,000 mm / sec. In another preferred embodiment of the present invention, the laser beam can be continuously irradiated at an irradiation speed of 5,000 to 10,000 mm / sec.
 第2実施形態の成形体の製造方法では、前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体が窒化アルミニウムであるときは1,000~5,000mm/secの照射速度でレーザー光を連続照射することができ、本発明の好ましい一態様では1,000~3,000mm/secの照射速度でレーザー光を連続照射することができる。 In the method for manufacturing a molded body according to the second embodiment, when the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body is aluminum nitride, the laser beam may be continuously irradiated at an irradiation speed of 1,000 to 5,000 mm / sec. According to one preferred embodiment of the present invention, continuous irradiation with laser light can be performed at an irradiation speed of 1,000 to 3,000 mm / sec.
 第2実施形態の成形体の製造方法では、前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体が窒化ケイ素であるときは1,000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射することができ、本発明の好ましい一態様では1,000~20,000mm/secであり、本発明の別の好ましい一態様では1,000~10,000mm/secの照射速度でレーザー光を連続照射することができる。 In the method for manufacturing a molded body according to the second embodiment, when the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body is silicon nitride, laser light can be continuously irradiated at an irradiation speed of 1,000 mm / sec or more. In a preferred embodiment of the present invention, the irradiation speed is 1,000 to 20,000 mm / sec. In another preferred embodiment of the present invention, the laser beam can be continuously irradiated at an irradiation speed of 1,000 to 10,000 mm / sec.
 本発明の実施態様によれば、製造方法で使用する窒化物系の非磁性セラミックス成形体の形状、大きさ、厚みなどは特に制限されるものではなく、用途に応じて選択され、必要に応じて調整されるものである。例えば、窒化物系の非磁性セラミックス成形体として、平板、丸棒、角棒(断面が多角形の棒)、管、カップ形状のもの、立方体、直方体、球または部分球(半球など)、楕円球または部分楕円球(半楕円球など)、不定形などの成形体のほか、既存の非磁性体セラミックス製品も使用することができる。 According to the embodiment of the present invention, the shape, size, thickness and the like of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body used in the manufacturing method are not particularly limited, are selected according to the application, and may be selected as needed. Is adjusted. For example, nitride-based non-magnetic ceramic molded articles include a flat plate, a round bar, a square bar (a bar having a polygonal cross section), a tube, a cup shape, a cube, a rectangular parallelepiped, a sphere or a partial sphere (such as a hemisphere), and an ellipse. In addition to molded products such as spheres or partially elliptical spheres (such as semi-elliptical spheres) and irregular shapes, existing non-magnetic ceramic products can also be used.
 前記既存の窒化物系の非磁性セラミックス製品は、窒化物系の非磁性セラミックスのみからなるもののほか、窒化物系の非磁性セラミックスと他の材料(金属、樹脂、ゴム、ガラス、木材など)の複合体からなるものでもよい。 The existing nitride-based non-magnetic ceramic products are made of only nitride-based non-magnetic ceramics, as well as nitride-based non-magnetic ceramics and other materials (metal, resin, rubber, glass, wood, etc.). It may be composed of a composite.
 1つの実施態様によれば、第1実施形態の成形体の製造方法と第2実施形態の成形体の製造方法のそれぞれにおいて、上記したレーザー光の照射速度範囲でレーザー光を連続照射するとき、同一方向または異なる方向に直線、曲線およびこれらの組み合わせからなる複数本の線が形成されるようにレーザー光を連続照射することができる。 According to one embodiment, in each of the method for manufacturing a molded article according to the first embodiment and the method for manufacturing a molded article according to the second embodiment, when continuously irradiating laser light in the above-described laser light irradiation speed range, The laser beam can be continuously irradiated so that a plurality of lines composed of straight lines, curved lines, and combinations thereof are formed in the same direction or different directions.
 また別の実施態様によれば、第1実施形態の成形体の製造方法と第2実施形態の成形体の製造方法のそれぞれにおいて、上記したレーザー光の照射速度範囲でレーザー光を連続照射するとき、同一方向または異なる方向に直線、曲線およびこれらの組み合わせからなる複数本の線が形成されるようにレーザー光を連続照射し、レーザー光を複数回連続照射して1本の直線または1本の曲線を形成することができる。 According to still another embodiment, in each of the method for manufacturing a molded body according to the first embodiment and the method for manufacturing a molded body according to the second embodiment, when the laser beam is continuously irradiated within the above-described laser light irradiation speed range. Irradiating laser light continuously so as to form a plurality of lines composed of straight lines, curves and combinations thereof in the same direction or different directions, and continuously irradiating the laser light a plurality of times to form one straight line or one line Curves can be formed.
 さらに別の実施態様によれば、第1実施形態の成形体の製造方法と第2実施形態の成形体の製造方法のそれぞれにおいて、上記したレーザー光の照射速度範囲でレーザー光を連続照射するとき、同一方向または異なる方向に直線、曲線およびこれらの組み合わせからなる複数本の線が形成されるようにレーザー光を連続照射し、前記複数本の直線または前記複数本の曲線が、等間隔または異なる間隔をおいて形成されるようにレーザー光を連続照射することができる。 According to still another embodiment, in each of the method for manufacturing a molded body according to the first embodiment and the method for manufacturing a molded body according to the second embodiment, when continuously irradiating laser light within the above-described laser light irradiation speed range. In the same direction or different directions, continuously irradiate laser light such that a plurality of lines composed of straight lines, curves and combinations thereof are formed, and the plurality of straight lines or the plurality of curves are at equal intervals or different. Laser light irradiation can be performed continuously so as to be formed at intervals.
 レーザーの出力は、本発明の好ましい一態様では50~4,000Wであり、本発明の別の好ましい一態様では100~2,000Wであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では100~1,000Wである。レーザー光の出力は、レーザー光の照射速度が上記した範囲内で遅いときは小さくして、レーザー光の照射速度が上記した範囲内で速いときは大きくすることで粗面化状態を調整することができる。 The power of the laser is 50 to 4,000 W in a preferred embodiment of the present invention, 100 to 2,000 W in another preferred embodiment of the present invention, and 100 to 2,000 W in still another preferred embodiment of the present invention. 5,000W. Adjust the surface roughening state by decreasing the laser light output when the laser light irradiation speed is low within the above range and increasing it when the laser light irradiation speed is high within the above range. Can be.
 レーザー光のスポット径は、本発明の好ましい一態様では10~100μmであり、本発明の別の好ましい一態様では10~75μmである。 ス ポ ッ ト The spot diameter of the laser beam is 10 to 100 μm in one preferred embodiment of the present invention, and 10 to 75 μm in another preferred embodiment of the present invention.
 レーザー光照射時のエネルギー密度は、本発明の好ましい一態様では3~1,500MW/cmであり、本発明の別の好ましい一態様では5~700MW/cmである。レーザー光照射時のエネルギー密度は、レーザー光の出力(W)と、レーザー光(スポット面積(cm)(π・〔スポット径/2〕)から次式:レーザー光の出力/スポット面積により求められる。 Energy density during the laser beam irradiation, in a preferred embodiment of the present invention is 3 ~ 1,500MW / cm 2, in another preferred embodiment of the present invention is 5 ~ 700MW / cm 2. The energy density at the time of laser beam irradiation is calculated by the following formula from the output (W) of the laser beam and the laser beam (spot area (cm 2 ) (π · [spot diameter / 2] 2 ): laser beam output / spot area. Desired.
 レーザー光照射時の繰り返し回数(パス回数)は、本発明の好ましい一態様では1~30回、本発明の別の好ましい一態様では3~25回、本発明のさらに別の好ましい一態様では5~20回である。レーザー光照射時の繰り返し回数は、レーザー光を線状に照射するとき、1本のライン(溝)を形成するために照射する合計回数である。 The number of repetitions (the number of passes) at the time of laser beam irradiation is 1 to 30 times in a preferred embodiment of the present invention, 3 to 25 times in another preferred embodiment of the present invention, and 5 in still another preferred embodiment of the present invention. ~ 20 times. The number of repetitions at the time of laser light irradiation is the total number of times of irradiation for forming one line (groove) when laser light is irradiated linearly.
 1本のラインに繰り返し照射するときは、双方向照射と一方向照射を選択することができる。双方向放射は、1本のライン(溝)を形成するとき、ライン(溝)の第1端部から第2端部に連続波レーザーを照射した後、第2端部から第1端部に連続波レーザーを照射して、その後は、第1端部から第2端部、第2端部から第1端部というように繰り返し連続波レーザーを照射する方法である。一方向照射は、第1端部から第2端部への一方向の連続波レーザー照射を繰り返す方法である。双方向放射または一方向照射したときは、粗面化構造部分の凹部の平面形状は、楕円形または楕円形に類似する形状をとる場合がある。 双方 向 When irradiating one line repeatedly, bidirectional irradiation and unidirectional irradiation can be selected. When forming one line (groove), bidirectional radiation irradiates a continuous wave laser from the first end to the second end of the line (groove) and then from the second end to the first end. A method of irradiating a continuous wave laser and thereafter repeatedly irradiating a continuous wave laser from a first end to a second end and from a second end to a first end. One-way irradiation is a method of repeating one-way continuous-wave laser irradiation from a first end to a second end. When bidirectional radiation or unidirectional irradiation is performed, the planar shape of the concave portion of the roughened structure portion may take an elliptical shape or a shape similar to an elliptical shape.
 楕円形に類似する形状であるときは、例えば、長軸側の対向する二辺は曲線(円弧)であるが、短軸側の対向する二辺は直線のみからなる形状のもの、直線と曲線からなる形状のもの、短軸側の対向する二辺の直線または曲線が部分的に曲がっているものが含まれる。 When the shape is similar to an ellipse, for example, the two opposite sides on the long axis side are curved lines (arcs), but the two opposite sides on the short axis side are formed only of straight lines. , And those in which a straight line or a curve on two opposite sides on the short axis side is partially bent.
 レーザー光を直線状に照射するとき、隣接する照射ライン(隣接する照射により形成された溝)の幅の中間位置同士の間隔(ライン間隔またはピッチ間隔)は、本発明の好ましい一態様では0.03~1.0mmであり、本発明の別の好ましい一態様では0.03~0.2mmである。ライン間隔は同一でもよいし、異なっていてもよい。 When irradiating the laser beam linearly, the interval (line interval or pitch interval) between the intermediate positions of the widths of the adjacent irradiation lines (grooves formed by the adjacent irradiation) is set to 0.1 in a preferred embodiment of the present invention. 03 to 1.0 mm, and in another preferred embodiment of the present invention it is 0.03 to 0.2 mm. The line intervals may be the same or different.
 レーザー光を照射するとき、上記したライン間隔をおいて双方向照射または一方向照射して複数本の溝を形成した後、さらに前記複数本の溝に直交または斜交する方向から、上記したライン間隔をおいて双方向照射または一方向照射するクロス照射を実施することもできる。 When irradiating the laser beam, after forming a plurality of grooves by bidirectional irradiation or unidirectional irradiation at the above-mentioned line interval, further from the direction orthogonal or oblique to the plurality of grooves, the above-mentioned line Cross irradiation in which bidirectional irradiation or unidirectional irradiation is performed at intervals may be performed.
 レーザー光の波長は、本発明の好ましい一態様では300~1200nmであり、本発明の別の好ましい一態様では500~1200nmである。レーザー光を照射するときの焦点はずし距離は、本発明の好ましい一態様では-5~+5mmであり、本発明の別の好ましい一態様では-1~+1mmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では-0.5~+0.1mmである。焦点はずし距離は、設定値を一定にしてレーザー照射しても良いし、焦点はずし距離を変化させながらレーザー照射しても良い。例えば、レーザー照射時に、焦点はずし距離を徐々に小さくしたり、周期的に大きくしたり小さくしたりしてもよい。 波長 The wavelength of the laser beam is 300 to 1200 nm in one preferred embodiment of the present invention, and 500 to 1200 nm in another preferred embodiment of the present invention. The defocusing distance when irradiating the laser beam is -5 to +5 mm in a preferred embodiment of the present invention, and -1 to +1 mm in another preferred embodiment of the present invention. In the embodiment, it is -0.5 to +0.1 mm. As the defocusing distance, laser irradiation may be performed with the set value kept constant, or laser irradiation may be performed while changing the defocusing distance. For example, at the time of laser irradiation, the defocus distance may be gradually reduced, or may be periodically increased or decreased.
 連続波レーザーは公知のものを使用することができ、例えば、YVOレーザー、ファイバーレーザー(好ましくはシングルモードファイバーレーザー)、エキシマレーザー、炭酸ガスレーザー、紫外線レーザー、YAGレーザー、半導体レーザー、ガラスレーザー、ルビーレーザー、He-Neレーザー、窒素レーザー、キレートレーザー、色素レーザーを使用することができる。これらの中でもエネルギー密度が高められることから、ファイバーレーザーが好ましく、特にシングルモードファイバーレーザーが好ましい。 A known continuous wave laser can be used, for example, a YVO 4 laser, a fiber laser (preferably a single mode fiber laser), an excimer laser, a carbon dioxide laser, an ultraviolet laser, a YAG laser, a semiconductor laser, a glass laser, A ruby laser, a He-Ne laser, a nitrogen laser, a chelate laser, and a dye laser can be used. Among them, a fiber laser is preferable, and a single mode fiber laser is particularly preferable, because the energy density is increased.
<表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体の第2の製造方法>
 本発明の1つの実施態様による、表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体の第2の製造方法は、上記した第1の実施形態の成形体と第2の実施形態の成形体の第1の製造方法とは、レーザー光の照射形態が異なるほかは、同じ方法である。
<Second method for producing nitride-based non-magnetic ceramic molded body having a surface roughened structure>
According to one embodiment of the present invention, a second method for manufacturing a nitride-based nonmagnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface includes the molded body of the first embodiment and the second embodiment. The method is the same as the first method for producing a molded article except that the irradiation form of the laser beam is different.
 第2の製造方法は、第1の製造方法と同様にして窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用して所定の照射速度でレーザー光を連続照射する工程において、粗面化対象となる窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対してレーザー光を照射するとき、レーザー光の照射部分と非照射部分が交互に生じるように照射する工程を有している。 The second manufacturing method is a step of continuously irradiating the surface of the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body with a laser beam at a predetermined irradiation speed using a continuous wave laser in the same manner as in the first manufacturing method. In the method, when irradiating the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body to be roughened with a laser beam, there is a step of irradiating the laser beam so that the irradiated portion and the non-irradiated portion alternately occur. ing.
 第2の製造方法では、直線、曲線または直線と曲線の組み合わせになるようにレーザー光を照射するとき、レーザー光の照射部分と非照射部分が交互に生じるように照射する。レーザー光の照射部分と非照射部分が交互に生じるように照射するとは、図1に示すように照射する実施形態を含んでいる。図1は、長さL1のレーザー光の照射部分11と隣接する長さL1のレーザー光の照射部分11の間にある長さL2のレーザー光の非照射部分12が交互に生じて、全体として点線状に形成されるように照射した状態を示している。前記点線には、一点鎖線、二点鎖線などの鎖線も含まれる。 {Circle around (2)} In the second manufacturing method, when irradiating a laser beam so as to form a straight line, a curve, or a combination of a straight line and a curve, the laser beam is irradiated so that a portion irradiated with the laser beam and a non-irradiated portion alternate. Irradiation such that laser light irradiation parts and non-irradiation parts are generated alternately includes the embodiment of irradiation as shown in FIG. FIG. 1 shows that a non-irradiated portion 12 of a laser beam having a length L2 is alternately generated between an irradiated portion 11 of a laser beam having a length L1 and an adjacent irradiated portion 11 of a laser beam having a length L1. An irradiation state is shown so as to form a dotted line. The dotted line also includes a chain line such as a one-dot chain line or a two-dot chain line.
 複数回照射するときは、レーザー光の照射部分を同じにしてもよいし、レーザー光の照射部分を異ならせる(レーザー光の照射部分をずらす)ことで、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の全体が粗面化されるようにしてもよい。レーザー光の照射部分を同じにして複数回照射したときは点線状に照射されるが、レーザー光の照射部分をずらして、即ち、最初はレーザー光の非照射部分であった部分にレーザー光の照射部分が重なるようにずらして照射することを繰り返すと、点線状に照射した場合であっても、最終的には実線状態に照射されることになる。繰り返し回数は、1~20回にすることができる。 When irradiating a plurality of times, the irradiated portion of the laser beam may be the same, or the irradiated portion of the laser beam may be made different (shifting the irradiated portion of the laser beam) to obtain a non-magnetic ceramic molded body of a nitride system. The whole may be roughened. When the laser beam is irradiated multiple times with the same part irradiated, the laser beam is irradiated in a dotted line, but the laser light irradiated part is shifted, that is, the laser light is first irradiated to the part that was not irradiated with the laser light. If the irradiation is repeated while being shifted so that the irradiation portions overlap, even when the irradiation is performed in a dotted line, the irradiation is finally performed in a solid line state. The number of repetitions can be 1 to 20 times.
 窒化物系の非磁性セラミックス成形体に対して連続的にレーザー光を照射すると、照射面の温度が上昇することから、厚さの小さい成形体では割れなどの変形が生じるおそれもある。しかし、図1に示すように点線状にレーザー照射すると、レーザー光の照射部分11とレーザー光の非照射部分12が交互に生じることになるため、レーザー光の照射を継続した場合、厚さの小さい成形体でも割れなどの変形が生じ難くなる。このとき、上記のようにレーザー光の照射部分を異ならせた(レーザー光の照射部分をずらせた)場合でも同様の効果が得られる。 (4) When laser light is continuously irradiated to the nitride-based non-magnetic ceramic molded body, the temperature of the irradiated surface rises, so that a molded article having a small thickness may be deformed such as a crack. However, when laser irradiation is performed in a dotted line as shown in FIG. 1, laser light irradiation portions 11 and laser light non-irradiation portions 12 are alternately generated. Deformation such as cracking hardly occurs even in a small compact. At this time, the same effect can be obtained even when the irradiated portion of the laser beam is changed as described above (the irradiated portion of the laser beam is shifted).
 レーザー光の照射方法は、例えば金属成形体20の表面に対して、図2(a)に示すように一方向に照射する方法、または図2(b)に示す点線のように双方向から照射する方法を使用することができる。その他、レーザー光の点線照射部分が交差するように照射する方法でもよい。照射後の各点線の間隔b1は、金属成形体の照射対象面積などに応じて調整することができるものであるが、第1の製造方法のライン間隔と同じ範囲にすることができる。 The method of irradiating the laser beam is, for example, a method of irradiating the surface of the metal molded body 20 in one direction as shown in FIG. 2A, or a method of irradiating bidirectionally as shown by a dotted line in FIG. The method can be used. In addition, a method of irradiating the laser beam so that the dotted lines irradiate with each other may be used. The interval b1 between the dotted lines after the irradiation can be adjusted according to the irradiation target area of the metal molded body or the like, but can be in the same range as the line interval in the first manufacturing method.
 図1に示すレーザー光の照射部分11の長さ(L1)とレーザー光の非照射部分12の長さ(L2)は、L1/L2=1/9~9/1の範囲(すなわち、L1/[L1+L2]が10~90%の範囲)になるように調整することができる。レーザー光の照射部分11の長さ(L1)は、本発明の好ましい一態様では複雑な多孔構造に粗面化するためには0.05mm以上であり、本発明の別の好ましい一態様では0.1~10mmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では0.3~7mmである。 The length (L1) of the laser light irradiation portion 11 and the length (L2) of the laser light non-irradiation portion 12 shown in FIG. 1 are in the range of L1 / L2 = 1/9 to 9/1 (that is, L1 / L2). [L1 + L2] is in the range of 10 to 90%). In a preferred embodiment of the present invention, the length (L1) of the irradiated portion 11 of the laser beam is 0.05 mm or more in order to roughen a complex porous structure, and in another preferred embodiment of the present invention, the length (L1) is 0 mm. 0.1 to 10 mm, and in still another preferred embodiment of the present invention 0.3 to 7 mm.
 本発明の第2の製造方法の1つの例示的な実施形態では、上記したレーザー光の照射工程は、レーザーの駆動電流を直接変換する直接変調方式の変調装置をレーザー電源に接続したファイバーレーザー装置を使用し、デューティ比(duty ratio)を調整してレーザー照射する。 In one exemplary embodiment of the second manufacturing method of the present invention, the laser light irradiation step described above is a fiber laser apparatus in which a direct modulation type modulator for directly converting a drive current of a laser is connected to a laser power supply. Is used to adjust the duty ratio (duty ratio) to perform laser irradiation.
 レーザーの励起には、パルス励起と連続励起の2種類があり、パルス励起によるパルス波レーザーは一般にノーマルパルスと呼ばれる。連続励起であってもパルス波レーザーを作り出すことが可能であり、ノーマルパルスよりパルス幅(パルスON時間)を短くして、その分ピークパワーの高いレーザーを発振させるQスイッチパルス発振方法、AOMやLN光強度変調機により時間的に光を切り出すことでパルス波レーザーを生成させる外部変調方式、機械的にチョッピングしてパルス化する方法、ガルバノミラーを操作してパルス化する方法、レーザーの駆動電流を直接変調してパルス波レーザーを生成する直接変調方式によりパルス波レーザーを作り出すことができる。ガルバノミラーを操作してパルス化する方法は、ガルバノミラーとガルバノコントローラーの組み合わせによって、ガルバノミラーを介してレーザー発振機から発振されたレーザー光を照射する方法であり、具体的には次のように実施することができる。 There are two types of laser excitation: pulse excitation and continuous excitation. A pulse wave laser by pulse excitation is generally called a normal pulse. A pulse wave laser can be produced even with continuous excitation, and a pulse width (pulse ON time) is made shorter than a normal pulse, and a Q switch pulse oscillation method for oscillating a laser having a higher peak power is used. An external modulation method in which a pulse wave laser is generated by temporally cutting out light using an LN light intensity modulator, a method of mechanically chopping and pulsing, a method of operating a galvanomirror to form a pulse, and a laser driving current A pulse wave laser can be produced by a direct modulation method in which a pulse wave laser is generated by directly modulating a pulse wave laser. The method of pulsing by operating the galvanomirror is a method of irradiating a laser beam oscillated from a laser oscillator via a galvanomirror by a combination of a galvanomirror and a galvanomirror, specifically, as follows. Can be implemented.
 ガルバノコントローラーから周期的にGate信号をON/OFF出力し、そのON/OFF信号でレーザー発振機により発振したレーザー光をON/OFFすることで、レーザー光のエネルギー密度を変化させることなくパルス化することができる。それによって、図1に示すようにレーザー光の照射部分11と隣接するレーザー光の照射部分11の間にあるレーザー光の非照射部分12が交互に生じて、全体として点線状に形成されるようにレーザー光を照射することができる。ガルバノミラーを操作してパルス化する方法は、レーザー光の発振状態自体は替えることなく、デューティ比を調整することができるため、操作が簡単である。 A gate signal is periodically output ON / OFF from a galvano controller, and the laser light oscillated by a laser oscillator is turned ON / OFF by the ON / OFF signal, thereby pulsating the laser light without changing the energy density of the laser light. be able to. As a result, as shown in FIG. 1, the laser light irradiation portions 11 and the non-laser light non-irradiation portions 12 between the adjacent laser light irradiation portions 11 are alternately formed, and are formed in a dotted line as a whole. Can be irradiated with laser light. The method of pulsing by operating the galvanometer mirror is simple in operation because the duty ratio can be adjusted without changing the oscillation state of the laser light itself.
 これらの方法の中でも、連続波レーザーのエネルギー密度を変更することなく、パルス化(照射部分と非照射部分が交互に生じるように照射する)ことが容易にできる方法であることから、機械的にチョッピングしてパルス化する方法、ガルバノミラーを操作してパルス化する方法、レーザーの駆動電流を直接変調してパルス波レーザーを生成する直接変調方式が使用されてよい。上記したような例示的な実施形態では、レーザーの駆動電流を直接変換する直接変調方式の変調装置をレーザー電源に接続したファイバーレーザー装置を使用することで、レーザーを連続励起させてパルス波レーザーを作り出してよい。 Among these methods, it is easy to pulse (irradiate so that irradiated and non-irradiated portions alternate) without changing the energy density of the continuous wave laser. A method of pulsing by chopping, a method of pulsing by operating a galvanomirror, and a direct modulation method of directly modulating a driving current of a laser to generate a pulse wave laser may be used. In the exemplary embodiment as described above, by using a fiber laser device in which a direct modulation type modulation device that directly converts the driving current of the laser is connected to a laser power supply, the laser is continuously excited to generate a pulsed laser. May be produced.
 デューティ比は、レーザー光の出力のON時間とOFF時間から次式により求められる比である。
   デューティ比(%)=ON時間/(ON時間+OFF時間)×100
 デューティ比は、図1に示すL1とL2(すなわち、L1/[L1+L2])に対応するものであるから、例えば10~90%の範囲から選択することができる。
The duty ratio is a ratio obtained from the ON time and the OFF time of the output of the laser light by the following equation.
Duty ratio (%) = ON time / (ON time + OFF time) × 100
Since the duty ratio corresponds to L1 and L2 (that is, L1 / [L1 + L2]) shown in FIG. 1, the duty ratio can be selected, for example, from the range of 10 to 90%.
 デューティ比を調整してレーザー光を照射することで、図1に示すような点線状に照射することができる。デューティ比が大きいと粗面化工程の効率は良くなるが、冷却効果は低くなり、デューティ比が小さいと冷却効果は良くなるが、粗面化効率は悪くなる。目的に応じて、デューティ比を調整することが好ましい。 レ ー ザ ー By irradiating the laser beam with the duty ratio adjusted, it is possible to irradiate in a dotted line shape as shown in FIG. When the duty ratio is large, the efficiency of the surface roughening process is improved, but the cooling effect is reduced. When the duty ratio is small, the cooling effect is improved, but the surface roughening efficiency is deteriorated. It is preferable to adjust the duty ratio according to the purpose.
<表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体の第3の製造方法>
 本発明の1つの実施態様による、第3の製造方法は、第1の製造方法と第2の製造方法とは異なり、パルス波レーザーを使用する方法である。
<Third manufacturing method of nitride-based non-magnetic ceramic molded body having surface roughened structure>
According to one embodiment of the present invention, the third manufacturing method is different from the first manufacturing method and the second manufacturing method, and is a method using a pulse wave laser.
 前記パルス波レーザー光を照射するとき、下記の要件(i)~(v)を調整することで、表面に粗面化構造を形成することができる。パルス波レーザー光を照射する方法は、通常のパルス波レーザー光を照射する方法のほか、例えば特許第5848104号公報、特許第5788836号公報、特許第5798534号公報、特許第5798535号公報、特開2016-203643号公報、特許第5889775号公報、特許第5932700号、または特許第6055529号公報に記載のパルス波レーザー光の照射方法と同様にして実施することができる。 (4) When irradiating the pulsed laser light, a roughened structure can be formed on the surface by adjusting the following requirements (i) to (v). The method of irradiating a pulsed laser beam is, for example, a method of irradiating a pulsed laser beam, for example, Japanese Patent No. 5848104, Japanese Patent No. 5788836, Japanese Patent No. 5798534, Japanese Patent No. 5798535, The method can be carried out in the same manner as the pulse wave laser beam irradiation method described in JP-A-2016-203643, Japanese Patent No. 5888975, Japanese Patent No. 5932700, or Japanese Patent No. 6055529.
<要件(i)窒化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光を照射するときの照射方向と照射角度>
 窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して本発明の好ましい一態様では15度~90度の角度、本発明の別の好ましい一態様では45~90度の角度でレーザー光を照射する。
<Requirement (i) Irradiation direction and irradiation angle when irradiating laser light to nitride-based non-magnetic ceramic molded body>
In a preferred embodiment of the present invention, the surface of the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body is irradiated with laser light at an angle of 15 to 90 degrees, and in another preferred embodiment of the present invention, an angle of 45 to 90 degrees. .
<要件(ii)窒化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光を照射するときの照射速度>
 レーザー光の照射速度は本発明の好ましい一態様では10~500mm/secであり、本発明の別の好ましい一態様では10~300mm/secであり、本発明の別の好ましい一態様では10~100mm/secであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では10~80mm/secである。
<Requirement (ii) Irradiation speed when irradiating laser light to nitride-based non-magnetic ceramic molded body>
The irradiation speed of the laser beam is 10 to 500 mm / sec in a preferred embodiment of the present invention, 10 to 300 mm / sec in another preferred embodiment of the present invention, and 10 to 100 mm / sec in another preferred embodiment of the present invention. / Sec, and in still another preferred embodiment of the present invention, it is 10 to 80 mm / sec.
<(iii)窒化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光を照射するときのエネルギー密度>
 レーザー光の照射時のエネルギー密度は、レーザー光の1パルスのエネルギー出力(W)と、レーザー光(スポット面積(cm)(π・〔スポット径/2〕)から求められる。レーザー光の照射時のエネルギー密度は本発明の好ましい一態様では0.1~50GW/cmであり、本発明の別の好ましい一態様では0.1~20GW/cmであり、本発明の別の好ましい一態様では0.5~10GW/cmであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では0.5~5GW/cmである。エネルギー密度が大きくなるほど、孔は深くかつ大きくなる。
<(Iii) Energy density when irradiating laser light to nitride-based non-magnetic ceramic molded body>
The energy density at the time of laser light irradiation is obtained from the energy output (W) of one pulse of the laser light and the laser light (spot area (cm 2 ) (π · [spot diameter / 2] 2 ). energy density during irradiation is 0.1 ~ 50GW / cm 2 in a preferred aspect of the present invention, in another preferred embodiment of the present invention is 0.1 ~ 20GW / cm 2, another preferred of the present invention in one embodiment, it is 0.5 ~ 10GW / cm 2, in yet another preferred embodiment of the present invention is 0.5 ~ 5GW / cm 2. energy density increases, the hole becomes deeper and larger.
 レーザー光の1パルスのエネルギー出力(W)は、次式から求められるものである。
   レーザー光の1パルスのエネルギー出力(W)=(レーザー光の平均出力/周波数)/パルス幅
レーザー光の平均出力は、本発明の好ましい一態様では4~400Wであり、本発明の別の好ましい一態様では5~100Wであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では10~100Wである。他のレーザー光の照射条件が同一であれば、出力が大きいほど孔は深くかつ大きくなり、出力が小さいほど孔は浅くかつ小さくなる。周波数(KHz)は、本発明の好ましい一態様では0.001~1,000kHzであり、本発明の別の好ましい一態様では0.01~500kHzであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では0.1~100kHzである。パルス幅(nsec)は、本発明の好ましい一態様では1~10,000nsecであり、本発明の別の好ましい一態様では1~1,000nsecであり、本発明のさらに別の好ましい一態様では1~100nsecである。
The energy output (W) of one pulse of laser light is obtained from the following equation.
The energy output (W) of one pulse of laser light = (average output of laser light / frequency) / average output of pulse width laser light is 4 to 400 W in one preferred embodiment of the present invention, and is another preferable embodiment of the present invention. In one embodiment, it is 5 to 100 W, and in still another preferred embodiment of the present invention, it is 10 to 100 W. If the other laser light irradiation conditions are the same, the hole becomes deeper and larger as the output becomes larger, and the hole becomes shallower and smaller as the output becomes smaller. The frequency (KHz) is 0.001 to 1,000 kHz in one preferred embodiment of the present invention, 0.01 to 500 kHz in another preferred embodiment of the present invention, and in still another preferred embodiment of the present invention. It is 0.1 to 100 kHz. The pulse width (nsec) is 1 to 10,000 nsec in a preferred embodiment of the present invention, 1 to 1,000 nsec in another preferred embodiment of the present invention, and 1 in still another preferred embodiment of the present invention. ~ 100 nsec.
 レーザー光のスポット径(μm)は、本発明の好ましい一態様では1~300μm、本発明の別の好ましい一態様では10~300μm、本発明のさらに別の好ましい一態様では20~150μm、本発明のさらに別の好ましい一態様では20~80μmである。 The spot diameter (μm) of the laser beam is 1 to 300 μm in one preferred embodiment of the present invention, 10 to 300 μm in another preferred embodiment of the present invention, and 20 to 150 μm in still another preferred embodiment of the present invention. In still another preferred embodiment, the thickness is 20 to 80 μm.
<(iv)レーザー光を照射するときの繰り返し回数>
 繰り返し回数(一つの孔を形成するための合計のレーザー光の照射回数)は本発明の好ましい一態様では1~80回であり、本発明の別の好ましい一態様では3~50回であり、本発明の別の好ましい一態様では5~30回である。同一のレーザー照射条件であれば、繰り返し回数が多いほど孔が深くかつ大きくなり、繰り返し回数が少ないほど孔が浅くかつ小さくなる。
<(Iv) Number of repetitions when irradiating laser light>
The number of repetitions (the total number of laser light irradiations for forming one hole) is 1 to 80 in a preferred embodiment of the present invention, and 3 to 50 in another preferred embodiment of the present invention. In another preferred embodiment of the present invention, the number is 5 to 30 times. Under the same laser irradiation conditions, the hole becomes deeper and larger as the number of repetitions increases, and the hole becomes shallower and smaller as the number of repetitions decreases.
<(v)前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光を照射するときのライン間隔>
 前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光をライン状に照射するとき、隣接するライン同士の間隔を広くしたり、狭くしたりすることで、孔の大きさ、孔の形状、孔の深さを調整することができる。なお、パルス波レーザー光は、点を照射して、前記点を複数繋いでラインを形成するものである。
<(V) Line spacing when irradiating laser light to the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body>
When irradiating the nitride-based non-magnetic ceramic molded body with a laser beam in a line shape, by increasing or decreasing the interval between adjacent lines, the size of the hole, the shape of the hole, The depth of the holes can be adjusted. Note that the pulsed laser light irradiates a point and connects a plurality of the points to form a line.
 ライン間隔は本発明の好ましい一態様では0.01~1mmの範囲であり、本発明の別の好ましい一態様では0.01~0.8mmの範囲、本発明の別の好ましい一態様では0.03~0.5mm、本発明のさらに別の好ましい一態様では0.05~0.5mmである。ライン間隔が狭いと、隣接するラインにも熱的影響が及ぶため、孔は大きくなり、孔の形状は複雑になり、孔の深さは深くなる傾向にあるが、熱的影響が大きくなり過ぎると複雑で深い形状の孔が形成され難くなることもある。ライン間隔が広いと、孔は小さくなり、孔の形状は複雑にはならず、孔はあまり深くならない傾向にあるが、処理速度を高めることはできる。 The line spacing is in the range of 0.01 to 1 mm in a preferred embodiment of the present invention, in the range of 0.01 to 0.8 mm in another preferred embodiment of the present invention, and 0.1 in another preferred embodiment of the present invention. 03 to 0.5 mm, and in still another preferred embodiment of the present invention 0.05 to 0.5 mm. If the line spacing is small, the thermal effect will also affect adjacent lines, so the hole will be large, the shape of the hole will be complicated, the depth of the hole will tend to be deep, but the thermal effect will be too large In some cases, it is difficult to form a complicated and deep hole. If the line spacing is large, the holes will be small, the shape of the holes will not be complicated and the holes will not be too deep, but the processing speed can be increased.
 その他の照射条件として、前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体に対してレーザー光を照射するとき、前記成形体から放熱させながら照射する照射形態も含めることができる。例えば、窒化物系の非磁性セラミックス成形体と、前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体よりも熱伝導率の大きい金属成形体を接触させた状態でレーザー光を照射する方法、前記成形体を中空に保持した状態でレーザー光を照射する方法が挙げられる。その他、パルス波レーザー光の波長は本発明の別の好ましい一態様では500~11,000nmであってよい。 照射 Other irradiation conditions may include an irradiation mode in which the nitride-based non-magnetic ceramic molded body is irradiated with laser light while radiating heat from the molded body. For example, a method of irradiating laser light in a state where a nitride-based non-magnetic ceramic molded body and a metal molded body having a higher thermal conductivity than the nitride-based non-magnetic ceramic molded body are in contact with each other. A method of irradiating a laser beam while holding it in a hollow state may be used. In addition, the wavelength of the pulsed laser light may be 500 to 11,000 nm in another preferred embodiment of the present invention.
 本発明の1つの実施態様による表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体を、他の材料(非磁性セラミックスを除いた材料)からなる成形体との複合成形体を製造するための製造中間体として使用したときの、複合成形体の製造方法の幾つかの例について説明する。これらの複合成形体の製造方法および製造された複合成形体も本発明の範囲内に含まれる。 Production for producing a composite molded article of a non-magnetic ceramic molded article having a roughened structure on the surface and a molded article made of another material (a material excluding non-magnetic ceramics) according to one embodiment of the present invention Some examples of a method for producing a composite molded article when used as an intermediate will be described. The method for producing these composite molded articles and the produced composite molded articles are also included in the scope of the present invention.
(1)粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体と樹脂成形体との複合成形体の製造方法
 第1工程では、上記した第1の製造方法、第2の製造方法または第3はの製造方法により表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体を製造する。
(1) A method for producing a composite molded article of a nitride-based non-magnetic ceramic molded article having a roughened structure and a resin molded article In the first step, the above-described first production method, second production method or second production method 3 manufactures a non-magnetic ceramics molded body having a roughened structure on the surface by the manufacturing method.
 第2工程では、第1工程において得た表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を含む部分を金型内に配置して、前記樹脂成形体となる樹脂を射出成形するか、または第2工程では、第1工程においてレーザー光が照射された非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を含む部分を金型内に配置して、少なくとも前記粗面化構造を含む部分と前記樹脂成形体となる樹脂を接触させた状態で圧縮成形する。 In the second step, a portion including the roughened structure of the nitride-based nonmagnetic ceramics molded body having a roughened structure on the surface obtained in the first step is arranged in a mold, and the resin molded body is In the second step, the portion including the roughened structure of the non-magnetic ceramics molded body irradiated with the laser beam in the first step is arranged in a mold, and at least the rough surface is formed. Compression molding in a state where the portion including the modified structure and the resin to be the resin molded body are in contact with each other.
 第2工程で使用する樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のほか、熱可塑性エラストマーも含まれる。熱可塑性樹脂は、用途に応じて公知の熱可塑性樹脂から適宜選択することができる。例えば、ポリアミド系樹脂(PA6、PA66等の脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド)、ポリスチレン、ABS樹脂、AS樹脂などのスチレン単位を含む共重合体、ポリエチレン、エチレン単位を含む共重合体、ポリプロピレン、プロピレン単位を含む共重合体、その他のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、およびポリフェニレンスルフィド系樹脂を挙げることができる。 樹脂 The resin used in the second step includes thermoplastic elastomers in addition to thermoplastic resins and thermosetting resins. The thermoplastic resin can be appropriately selected from known thermoplastic resins depending on the application. For example, copolymers containing styrene units such as polyamide resins (aliphatic polyamides and aromatic polyamides such as PA6 and PA66), polystyrene, ABS resins, AS resins, etc., polyethylene, copolymers containing ethylene units, polypropylene, propylene Examples include copolymers containing units, other polyolefins, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polycarbonate resins, acrylic resins, methacrylic resins, polyester resins, polyacetal resins, and polyphenylene sulfide resins.
 熱硬化性樹脂は、用途に応じて公知の熱硬化性樹脂から適宜選択することができる。例えば、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、レソルシノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、およびビニルウレタンを挙げることができる。熱硬化性樹脂を使用するときは、プレポリマー形態のものを使用し、後工程において加熱硬化処理をすることができる。 The thermosetting resin can be appropriately selected from known thermosetting resins depending on the application. For example, urea resin, melamine resin, phenol resin, resorcinol resin, epoxy resin, polyurethane, and vinyl urethane can be mentioned. When a thermosetting resin is used, a prepolymer form can be used, and a heat curing treatment can be performed in a later step.
 熱可塑性エラストマーは、用途に応じて公知の熱可塑性エラストマーから適宜選択することができる。例えば、スチレン系エラストマー、塩化ビニル系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ニトリル系エラストマー、およびポリアミド系エラストマーを挙げることができる。 The thermoplastic elastomer can be appropriately selected from known thermoplastic elastomers depending on the application. For example, styrene elastomers, vinyl chloride elastomers, olefin elastomers, urethane elastomers, polyester elastomers, nitrile elastomers, and polyamide elastomers can be used.
 これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、および熱可塑性エラストマーには、公知の繊維状充填材を配合することができる。公知の繊維状充填材としては、炭素繊維、無機繊維、金属繊維、有機繊維等を挙げることができる。 公 知 A known fibrous filler can be blended with these thermoplastic resins, thermosetting resins, and thermoplastic elastomers. Known fibrous fillers include carbon fibers, inorganic fibers, metal fibers, and organic fibers.
 炭素繊維は周知のものであり、PAN系、ピッチ系、レーヨン系、リグニン系等のものを用いることができる。無機繊維としては、ガラス繊維、玄武岩繊維、シリカ繊維、シリカ・アルミナ繊維、ジルコニア繊維、窒化ホウ素繊維、窒化ケイ素繊維等を挙げることができる。金属繊維としては、ステンレス、アルミニウム、銅等からなる繊維を挙げることができる。有機繊維としては、ポリアミド繊維(全芳香族ポリアミド繊維、ジアミンとジカルボン酸のいずれか一方が芳香族化合物である半芳香族ポリアミド繊維、脂肪族ポリアミド繊維)、ポリビニルアルコール繊維、アクリル繊維、ポリオレフィン繊維、ポリオキシメチレン繊維、ポリテトラフルオロエチレン繊維、ポリエステル繊維(全芳香族ポリエステル繊維を含む)、ポリフェニレンスルフィド繊維、ポリイミド繊維、液晶ポリエステル繊維などの合成繊維や天然繊維(セルロース系繊維など)や再生セルロース(レーヨン)繊維などを用いることができる。 Carbon fibers are well-known, and PAN-based, pitch-based, rayon-based, and lignin-based carbon fibers can be used. Examples of the inorganic fibers include glass fibers, basalt fibers, silica fibers, silica / alumina fibers, zirconia fibers, boron nitride fibers, and silicon nitride fibers. Examples of the metal fibers include fibers made of stainless steel, aluminum, copper, and the like. As organic fibers, polyamide fibers (wholly aromatic polyamide fibers, semi-aromatic polyamide fibers in which one of diamine and dicarboxylic acid is an aromatic compound, aliphatic polyamide fibers), polyvinyl alcohol fibers, acrylic fibers, polyolefin fibers, Synthetic fiber such as polyoxymethylene fiber, polytetrafluoroethylene fiber, polyester fiber (including wholly aromatic polyester fiber), polyphenylene sulfide fiber, polyimide fiber, liquid crystal polyester fiber, natural fiber (cellulose fiber, etc.) and regenerated cellulose ( Rayon) fiber or the like can be used.
 これらの繊維状充填材は、繊維径が3~60μmの範囲のものを使用することができるが、これらの中でも、例えば金属成形体10の接合面12が粗面化されて形成される開放孔30などの開口径より小さな繊維径のものを使用することができる。繊維径は、本発明の好ましい一態様では5~30μm、本発明の別の好ましい一態様では7~20μmである。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、または熱可塑性エラストマー100質量部に対する繊維状充填材の配合量は、本発明の好ましい一態様では5~250質量部である。本発明の別の好ましい一態様では25~200質量部、本発明のさらに別の好ましい一態様では45~150質量部である。 As these fibrous fillers, those having a fiber diameter in the range of 3 to 60 μm can be used. Among them, for example, open holes formed by roughening the bonding surface 12 of the metal molded body 10 are described. A fiber having a fiber diameter smaller than the opening diameter, such as 30, can be used. The fiber diameter is 5 to 30 μm in one preferred embodiment of the present invention, and 7 to 20 μm in another preferred embodiment of the present invention. In one preferred embodiment of the present invention, the compounding amount of the fibrous filler relative to 100 parts by mass of the thermoplastic resin, the thermosetting resin, or the thermoplastic elastomer is 5 to 250 parts by mass. In another preferred embodiment of the present invention, the amount is 25 to 200 parts by mass, and in still another preferred embodiment of the present invention, the amount is 45 to 150 parts by mass.
(2-1)粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体との複合成形体の製造方法
 第1工程では、第1の製造方法、第2の製造方法または第3の製造方法により表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体を製造する。第2工程では、第1工程において得た窒化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体をプレス成形やトランスファー成形などの公知の成形方法を適用して一体化させる。
(2-1) Method for Producing Composite Molded Body of Nitride-Based Non-magnetic Ceramics Molded Body Having Roughened Structure and Rubber Molded Body In the first step, the first production method, the second production method or the second production method A non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface is manufactured by the manufacturing method of 3. In the second step, the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body and the rubber molded body obtained in the first step are integrated by applying a known molding method such as press molding or transfer molding.
 プレス成形法を適用するときは、例えば、酸化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を含む部分を金型内に配置して、前記粗面化構造を含む部分に対して、加熱および加圧した状態で前記ゴム成形体となる未硬化ゴムをプレスした後、冷却後に取り出す。トランスファー成形法を適用するときは、例えば、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を含む部分を金型内に配置して、未硬化ゴムを金型内に射出成形し、その後、加熱および加圧して、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を含む部分とゴム成形体を一体化させ、冷却後に取り出す。 When the press molding method is applied, for example, a portion including a roughened structure of an oxide-based nonmagnetic ceramic molded body is arranged in a mold, and the portion including the roughened structure is heated. After the uncured rubber to be the rubber molded body is pressed in a pressurized state, it is taken out after cooling. When applying the transfer molding method, for example, a portion including a roughened structure of a nitride-based non-magnetic ceramic molded body is arranged in a mold, and the uncured rubber is injection-molded in the mold, and thereafter, Then, by heating and pressurizing, the portion including the roughened structure of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body and the rubber molded body are integrated, and taken out after cooling.
 なお、使用するゴムの種類によっては、主として残留モノマーを除去するため、金型から取り出した後、オーブンなどでさらに二次加熱(二次硬化)する工程を付加することができる。 Depending on the type of rubber used, a step of secondary heating (secondary curing) in an oven or the like after removal from the mold can be added in order to mainly remove residual monomers.
 この工程で使用するゴム成形体のゴムは特に制限されるものではなく、公知のゴムを使用することができるが、熱可塑性エラストマーは含まれない。公知のゴムとしては、エチレン‐プロピレンコポリマー(EPM)、エチレン‐プロピレン‐ジエンターポリマー(EPDM)、エチレン‐オクテンコポリマー(EOM)、エチレン‐ブテンコポリマー(EBM)、エチレン‐オクテンターポリマー(EODM)、エチレン‐ブテンターポリマー(EBDM)などのエチレン‐α‐オレフィンゴム;エチレン/アクリル酸ゴム(EAM)、ポリクロロプレンゴム(CR)、アクリロニトリル‐ブタジエンゴム(NBR)、水添NBR(HNBR)、スチレン‐ブタジエンゴム(SBR)、アルキル化クロロスルホン化ポリエチレン(ACSM)、エピクロルヒドリン(ECO)、ポリブタジエンゴム(BR)、天然ゴム(合成ポリイソプレンを含む)(NR)、塩素化ポリエチレン(CPE)、ブロム化ポリメチルスチレン‐ブテンコポリマー、スチレン‐ブタジエン‐スチレンおよびスチレン‐エチレン‐ブタジエン‐スチレンブロックコポリマー、アクリルゴム(ACM)、エチレン‐酢酸ビニルエラストマー(EVM)、およびシリコーンゴムなどを使用することができる。 ゴ ム The rubber of the rubber molded article used in this step is not particularly limited, and a known rubber can be used, but does not include a thermoplastic elastomer. Known rubbers include ethylene-propylene copolymer (EPM), ethylene-propylene-diene terpolymer (EPDM), ethylene-octene copolymer (EOM), ethylene-butene copolymer (EBM), ethylene-octene terpolymer (EODM), Ethylene-α-olefin rubber such as ethylene-butene terpolymer (EBDM); ethylene / acrylate rubber (EAM), polychloroprene rubber (CR), acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), hydrogenated NBR (HNBR), styrene- Butadiene rubber (SBR), alkylated chlorosulfonated polyethylene (ACSM), epichlorohydrin (ECO), polybutadiene rubber (BR), natural rubber (including synthetic polyisoprene) (NR), chlorinated polyethylene (CPE) , Brominated polymethylstyrene-butene copolymer, styrene-butadiene-styrene and styrene-ethylene-butadiene-styrene block copolymer, acrylic rubber (ACM), ethylene-vinyl acetate elastomer (EVM), and silicone rubber can be used. it can.
 ゴムには、必要によりゴムの種類に応じた硬化剤を含有させてよいが、その他、公知の各種ゴム用添加剤を配合することができる。ゴム用添加剤としては、硬化促進剤、老化防止剤、シランカップリング剤、補強剤、難燃剤、オゾン劣化防止剤、充填剤、プロセスオイル、可塑剤、粘着付与剤、および加工助剤などを使用することができる。 (4) The rubber may contain a curing agent according to the type of the rubber, if necessary. In addition, various known rubber additives can be blended. Rubber additives include curing accelerators, anti-aging agents, silane coupling agents, reinforcing agents, flame retardants, ozone deterioration inhibitors, fillers, process oils, plasticizers, tackifiers, and processing aids. Can be used.
(2-2)粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体との複合成形体(接着剤層を含む)の製造方法
 1つの実施態様によれば、窒化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体との複合成形体の製造方法では、窒化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体の接合面に接着剤層を介在させることができる。
(2-2) Method for Producing Composite Molded Body (Including Adhesive Layer) of Nitride-Based Non-Magnetic Ceramics Molded Body Having Roughened Structure and Rubber Molded Body According to one embodiment, a nitride-based molded body is provided. In the method for producing a composite molded article of a non-magnetic ceramic molded article and a rubber molded article described above, an adhesive layer can be interposed on the joint surface between the nitride-based non-magnetic ceramic molded article and the rubber molded article.
 第1工程にて、上記した方法と同様に連続波レーザーまたはパルス波レーザーを使用して第1、第2または第3の製造方法により、窒化物系の非磁性セラミックス成形体を粗面化する。第2工程にて、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造面に接着剤(接着剤溶液)を塗布して接着剤層を形成する。このとき、接着剤を圧入するようにしてもよい。接着剤を塗布することで、非磁性セラミックスの粗面化構造面と内部の孔に接着剤を存在させることができる。 In the first step, a nitride-based non-magnetic ceramic molded body is roughened by a first, second or third manufacturing method using a continuous wave laser or a pulse wave laser in the same manner as described above. . In the second step, an adhesive (adhesive solution) is applied to the roughened structure surface of the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body to form an adhesive layer. At this time, the adhesive may be press-fitted. By applying the adhesive, the adhesive can be present on the roughened surface of the non-magnetic ceramic and on the internal holes.
 接着剤は、特に制限されるものではなく、公知の熱可塑性接着剤、熱硬化性接着剤、ゴム系接着剤などを使用することができる。熱可塑性接着剤の例としては、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、アクリル系接着剤、ポリエチレン、塩素化ポリエチレン、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-ビニルアルコール共重合体、エチレン-エチルアクリレート共重合体、エチレン-アクリル酸共重合体、アイオノマー、塩素化ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、プラスチゾル、塩化ビニル-酢酸ビニル共重合体、ポリビニルエーテル、ポリビニルピロリドン、ポリアミド、ナイロン、飽和無定形ポリエステル、およびセルロース誘導体を挙げることができる。 The adhesive is not particularly limited, and a known thermoplastic adhesive, thermosetting adhesive, rubber-based adhesive, or the like can be used. Examples of the thermoplastic adhesive include polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, acrylic adhesive, polyethylene, chlorinated polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, ethylene -Ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ionomer, chlorinated polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, plastisol, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl ether, polyvinylpyrrolidone, polyamide, nylon, non-saturated Fixed polyesters and cellulose derivatives can be mentioned.
 熱硬化性接着剤の例としては、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、レソルシノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、およびビニルウレタンを挙げることができる。ゴム系接着剤の例としては、天然ゴム、合成ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ニトリルゴム、スチレン-ブタジエンゴム、スチレン-ブタジエン-ビニルピリジン三元共重合体、ポリイソブチレン-ブチルゴム、ポリスルフィドゴム、シリコーンRTV、塩化ゴム、臭化ゴム、クラフトゴム、ブロック共重合体、および液状ゴムを挙げることができる。 例 Examples of the thermosetting adhesive include urea resin, melamine resin, phenol resin, resorcinol resin, epoxy resin, polyurethane, and vinyl urethane. Examples of rubber adhesives include natural rubber, synthetic polyisoprene, polychloroprene, nitrile rubber, styrene-butadiene rubber, styrene-butadiene-vinylpyridine terpolymer, polyisobutylene-butyl rubber, polysulfide rubber, silicone RTV, Examples include chlorinated rubber, brominated rubber, kraft rubber, block copolymer, and liquid rubber.
 この製造方法の例では第3工程にて、前工程において接着剤層を形成した窒化物系の非磁性セラミックス成形体の面に対して別途成形したゴム成形体を接着する工程、または前工程において接着剤層を形成した窒化物系の非磁性セラミックス成形体の面を含む部分を金型内に配置して、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の面とゴム成形体となる未硬化ゴムを接触させた状態で加熱および加圧して一体化させる工程を実施する。この工程の場合には、主として残留モノマーを除去するため、金型から取り出した後、オーブンなどでさらに二次加熱(二次硬化)する工程を付加することができる。 In the example of this manufacturing method, in the third step, a step of bonding a separately molded rubber molded body to the surface of the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body on which the adhesive layer was formed in the previous step, or The portion including the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body on which the adhesive layer has been formed is placed in a mold, and the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body and the uncured rubber to be a rubber molded body are removed. A step of heating and pressurizing in a state of being in contact with each other to perform integration is performed. In the case of this step, a step of secondary heating (secondary curing) in an oven or the like after removal from the mold can be added to remove mainly residual monomers.
(3-1)粗面化構造を有する窒化物系のセラミックス成形体と金属成形体との複合成形体の製造方法
 第1工程では、第1の製造方法、第2の製造方法または第3の製造方法により粗面化構造を有する酸化物系の非磁性セラミックス成形体を製造する。第2工程では、金型内に粗面化した窒化物系の非磁性セラミックス成形体の多孔構造部を含む面が上になるように配置する。その後、例えば周知のダイカスト法を適用して、溶融状態の金属を金型内に流し込んだ後、冷却する。
(3-1) Method for Producing Composite Molded Body of Nitride-Based Ceramic Molded Body and Metal Molded Body Having Roughened Structure In the first step, the first production method, the second production method or the third production method An oxide-based non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure is manufactured by a manufacturing method. In the second step, the surface of the roughened nitride-based non-magnetic ceramic molded body including the porous structure is placed in the mold so that the surface including the porous structure portion faces upward. Thereafter, the metal in a molten state is poured into a mold by, for example, a known die casting method, and then cooled.
 使用する金属は、窒化物系の非磁性セラミックス成形体を構成する窒化物系の非磁性セラミックスの融点よりも低い融点のものであれば制限されない。
 例えば、鉄、アルミニウム、アルミニウム合金、金、銀、プラチナ、銅、マグネシウム、チタンまたはそれらの合金、ステンレスなどの複合成形体の用途に応じた金属を選択することができる。
The metal to be used is not limited as long as it has a melting point lower than the melting point of the nitride-based non-magnetic ceramic constituting the nitride-based non-magnetic ceramic molded body.
For example, it is possible to select a metal according to the use of the composite molded body such as iron, aluminum, an aluminum alloy, gold, silver, platinum, copper, magnesium, titanium or an alloy thereof, and stainless steel.
(3-2)粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体と金属成形体との複合成形体(接着剤層あり)の製造方法
 第1工程と第2工程は、上記した「(2-2)粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体とゴム成形体との複合成形体(接着剤層を含む)の製造方法」と同様に実施して、接着剤層を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体を製造する。
(3-2) Manufacturing Method of Composite Molded Body (with Adhesive Layer) of Nitride-Based Non-Magnetic Ceramic Molded Body Having Roughened Structure and Metal Molded Body (2-2) Method for producing composite molded body (including adhesive layer) of nitride-based non-magnetic ceramic molded body and rubber molded body having roughened structure " To produce a nitride-based non-magnetic ceramic molded body having the following.
 第3工程では、接着剤層を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体の接着剤層に金属成形体を押しつけて接着・一体化する。接着剤層が熱可塑性樹脂系接着剤からなるものであるときは、必要に応じて加熱して接着剤層を軟らかくした状態で、非金属成形体の接着面と接着させることができる。また接着剤層が熱硬化性樹脂系接着剤のプレポリマーからなるものであるときは、接着後に加熱雰囲気に放置してプレポリマーを加熱硬化させる。 (4) In the third step, the metal molded body is pressed against the adhesive layer of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body having the adhesive layer to be bonded and integrated. When the adhesive layer is made of a thermoplastic resin-based adhesive, the adhesive layer can be adhered to the adhesive surface of the non-metal molded body in a state where the adhesive layer is softened by heating as necessary. When the adhesive layer is made of a thermosetting resin-based adhesive prepolymer, the prepolymer is heated and cured by being left in a heating atmosphere after bonding.
(4)粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体とUV硬化性樹脂成形体との複合成形体の製造方法
 第1工程では、上記した第1の製造方法、第2の製造方法または第3の製造方法により表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体を製造する。
(4) Method for producing composite molded article of nitride-based nonmagnetic ceramic molded article having a roughened structure and UV-curable resin molded article In the first step, the above-mentioned first production method and second production According to the method or the third manufacturing method, a nitride-based nonmagnetic ceramic molded body having a roughened structure on the surface is manufactured.
 次の工程にて、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分を含めた部分に対して、UV硬化性樹脂層を形成するモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を接触させる(モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程)。モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程としては、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分を含めた部分に対してモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を塗布する工程を実施することができる。モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を塗布する工程は、刷毛塗り、ドクターブレードを使用した塗布、ローラー塗布、流延、ポッティングなどを単独で使用したり、組み合わせて使用したりすることができる。 In the next step, a monomer, an oligomer or a mixture thereof for forming a UV-curable resin layer is brought into contact with a portion including a roughened portion of the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body (monomer, oligomer) Or contacting a mixture thereof). As the step of contacting the monomer, the oligomer or the mixture thereof, a step of applying the monomer, the oligomer or the mixture thereof to a portion including the roughened portion of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body may be performed. it can. In the step of applying the monomer, oligomer, or mixture thereof, brush coating, application using a doctor blade, roller application, casting, potting, or the like can be used alone or in combination.
 モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程は、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分を含めた部分を型枠で包囲して、前記型枠内にモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を注入する工程を実施することができる。またモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程は、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分を上にした状態で型内部に入れた後、前記型内部にモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を注入する工程を実施することができる。 The step of contacting a monomer, an oligomer or a mixture thereof includes enclosing a portion including a roughened portion of a nitride-based non-magnetic ceramic molded body with a mold, and placing the monomer, oligomer or a mixture thereof in the mold. Can be performed. Further, the step of contacting the monomer, the oligomer or a mixture thereof includes, after putting the roughened portion of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body into the mold with the roughened portion thereof facing upward, the monomer, the oligomer or a mixture thereof in the mold. A step of injecting the mixture can be performed.
 このモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程によって、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分の多孔にモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込む。多孔にモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込む形態は、例えば、本発明の好ましい一態様では孔全体の50%以上、本発明の別の好ましい一態様では70%以上、本発明のさらに別の好ましい一態様では80%以上、本発明のさらに別の好ましい一態様では90%以上の孔にモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込む形態のほか、孔の底までモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込んだ形態、孔深さの途中の深さまでモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込んだ形態、孔の入口付近にのみモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物が入り込んだ形態が混在している形態が含まれる。 に よ っ て By the contacting step of the monomer, oligomer or mixture thereof, the monomer, oligomer or mixture thereof enters the porosity of the roughened portion of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body. The form in which the monomer, oligomer or mixture thereof enters the porosity is, for example, 50% or more of the whole pores in a preferred embodiment of the present invention, 70% or more in another preferred embodiment of the present invention, and still another preferred embodiment of the present invention. In one embodiment, 80% or more, and in still another preferred embodiment of the present invention, 90% or more of the pores contain the monomer, oligomer or mixture thereof, and the monomer, oligomer or mixture thereof enters the bottom of the pore. The form includes a form in which a monomer, an oligomer, or a mixture thereof enters into a partway depth of the pore, and a form in which a form in which a monomer, an oligomer, or a mixture thereof enters only near the entrance of the hole.
 モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物は、常温で液体のもの(低粘度のゲルも含む)や溶剤に溶解された溶液形態のものはそのまま塗布または注入することができ、固体(粉末)のものは加熱溶融させたり、溶剤に溶解させたりした後で塗布または注入することができる。 Monomers, oligomers or mixtures thereof can be applied or injected as they are in liquid form (including low-viscosity gels) at room temperature or in the form of a solution dissolved in a solvent. Solid (powder) forms can be heated. It can be applied or poured after being melted or dissolved in a solvent.
 モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物の接触工程で使用するモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物は、ラジカル重合性モノマーおよびラジカル重合性モノマーのオリゴマーから選ばれるものであるか、カチオン重合性モノマーおよび前記モノマーのカチオン重合性モノマーオリゴマー、またはそれらから選択される2種以上の混合物から選ばれるものであってよい。 The monomer, oligomer or mixture thereof used in the step of contacting the monomer, oligomer or mixture thereof is selected from a radical polymerizable monomer and an oligomer of a radical polymerizable monomer, or is a cation polymerizable monomer and a cation of the monomer. It may be one selected from polymerizable monomer oligomers or a mixture of two or more selected from them.
(ラジカル重合性モノマー)
 ラジカル重合性化合物としては、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、(メタ)アクリロイルアミノ基、ビニルエーテル基、ビニルアリール基、およびビニルオキシカルボニル基などのラジカル重合性基を一分子内に1つ以上有する化合物などが挙げられる。
(Radical polymerizable monomer)
As the radical polymerizable compound, a radical polymerizable group such as a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, a (meth) acryloylamino group, a vinyl ether group, a vinylaryl group, and a vinyloxycarbonyl group is contained in one molecule. Compounds having at least one compound are exemplified.
 (メタ)アクリロイル基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、1-ブテン-3-オン、1-ペンテン-3-オン、1-ヘキセン-3-オン、4-フェニル-1-ブテン-3-オン、5-フェニル-1-ペンテン-3-オンなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Compounds having one or more (meth) acryloyl groups in one molecule include 1-buten-3-one, 1-penten-3-one, 1-hexen-3-one, 4-phenyl-1-butene- 3-one, 5-phenyl-1-penten-3-one and the like, and derivatives thereof.
 (メタ)アクリロイルオキシ基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、n-ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、n-ラウリル(メタ)アクリレート、n-ステアリル(メタ)アクリレート、n-ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2―ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2-(メタ)アクリロイルオキシエチル-2-ヒドロキシプロピルフタレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート、デカンジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、γ-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、2-(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、1,1-ビス(アクリロイルオキシ)エチルイソシアネート、2-(2-(メタ)アクリロイルオキシエチルオキシ)エチルイソシアネート、3-(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシランなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Examples of the compound having at least one (meth) acryloyloxy group in one molecule include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and t-butyl (meth). A) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, n-lauryl (meth) acrylate, n-stearyl (meth) acrylate, n-butoxyethyl (meth) acrylate, Butoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acryl , Benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, dimethyl Aminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylsuccinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylhexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyl Oxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, glycidyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethyl Glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1 , 9-Nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, decane di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) ) Acrylate, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, γ- (meth) ) Acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 2- (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, 1,1-bis (acryloyloxy) ethyl isocyanate, 2- (2- (meth) acryloyloxyethyloxy) ethyl isocyanate, 3- (meth) ) Acryloyloxypropyltriethoxysilane and the like, and derivatives thereof.
 (メタ)アクリロイルアミノ基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、4-(メタ)アクリロイルモルホリン、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-エチル(メタ)アクリルアミド、N-プロピル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ブチル(メタ)アクリルアミド、N-n-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ヘキシル(メタ)アクリルアミド、N-オクチル(メタ)アクリルアミドなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Compounds having one or more (meth) acryloylamino groups in one molecule include 4- (meth) acryloylmorpholine, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-methyl (Meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, Nn-butoxymethyl (meth) acrylamide, N- Hexyl (meth) acrylamide, N-octyl (meth) acrylamide, and the like, and derivatives thereof are given.
 ビニルエーテル基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、例えば、3,3-ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、3-ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2-ヒドロキシプロピルビニルエーテル、2-ヒドロキシイソプロピルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、3-ヒドロキシブチルビニルエーテル、2-ヒドロキシブチルビニルエーテル、3-ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、2-ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、1-メチル-3-ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1-メチル-2-ヒドロキシプロピルビニルエーテル、1-ヒドロキシメチルプロピルビニルエーテル、4-ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル、1,6-ヘキサンジオールモノビニルエーテル、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,3-シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、1,2-シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、p-キシレングリコールモノビニルエーテル、m-キシレングリコールモノビニルエーテル、o-キシレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエチレングリコールモノビニルエーテル、オリゴエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノビニルエーテル、ジプロピレングリコールモノビニルエーテル、トリプロピレングリコールモノビニルエーテル、テトラプロピレングリコールモノビニルエーテル、ペンタプロピレングリコールモノビニルエーテル、オリゴプロピレングリコールモノビニルエーテル、ポリプロピレングリコールモノビニルエーテルなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Compounds having one or more vinyl ether groups in one molecule include, for example, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxy Isopropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxybutyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 3-hydroxyisobutyl vinyl ether, 2-hydroxyisobutyl vinyl ether, 1-methyl-3-hydroxypropyl vinyl ether, 1-methyl-2-hydroxy Propyl vinyl ether, 1-hydroxymethylpropyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, 1,6-hexanediol Novinyl ether, 1,4-cyclohexane dimethanol monovinyl ether, 1,3-cyclohexane dimethanol monovinyl ether, 1,2-cyclohexane dimethanol monovinyl ether, p-xylene glycol monovinyl ether, m-xylene glycol monovinyl ether, o-xylene Glycol monovinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol monovinyl ether, oligoethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol monovinyl ether, dipropylene glycol monovinyl ether, tripropylene glycol monovinyl ether, tetra Propylene glyco Monovinyl ether, pentapropylene glycol monovinyl ether, oligopropylene glycol monovinyl ether, polypropylene glycol monovinyl ether, and the like, and derivatives thereof.
 ビニルアリール基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、スチレン、ジビニルベンゼン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、ヒドロキシスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、酢酸4-ビニルフェニル、(4-ビニルフェニル)ジヒドロキシボラン、N-(4-ビニルフェニル)マレイミドなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Examples of the compound having one or more vinylaryl groups in one molecule include styrene, divinylbenzene, methoxystyrene, ethoxystyrene, hydroxystyrene, vinylnaphthalene, vinylanthracene, 4-vinylphenyl acetate, and (4-vinylphenyl) dihydroxyborane. , N- (4-vinylphenyl) maleimide, and derivatives thereof.
 ビニルオキシカルボニル基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、ギ酸イソプロペニル、酢酸イソプロペニル、プロピオン酸イソプロペニル、酪酸イソプロペニル、イソ酪酸イソプロペニル、カプロン酸イソプロペニル、吉草酸イソプロペニル、イソ吉草酸イソプロペニル、乳酸イソプロペニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、オクチル酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、アジピン酸ジビニル、アクリル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、安息香酸ビニル、桂皮酸ビニルなど、およびこれらの誘導体などが挙げられる。 Compounds having one or more vinyloxycarbonyl groups in one molecule include isopropenyl formate, isopropenyl acetate, isopropenyl propionate, isopropenyl butyrate, isopropenyl isobutyrate, isopropenyl caproate, isopropenyl valerate, Isopropenyl valerate, isopropenyl lactate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl caproate, vinyl caprylate, vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl palmitate, vinyl stearate, vinyl cyclohexanecarboxylate, pivalic acid Vinyl, vinyl octylate, vinyl monochloroacetate, divinyl adipate, vinyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl crotonate, vinyl sorbate, vinyl benzoate, vinyl cinnamate, and the like Body and the like.
(カチオン重合性モノマー)
 カチオン重合性モノマーとしては、エポキシ環(オキシラニル基)、ビニルエーテル基、ビニルアリール基などのオキセタニル基等の以外のカチオン重合性基を一分子内に1つ以上有する化合物などが挙げられる。
(Cationically polymerizable monomer)
Examples of the cationic polymerizable monomer include compounds having one or more cationic polymerizable groups in one molecule other than an oxetanyl group such as an epoxy ring (oxiranyl group), a vinyl ether group, and a vinyl aryl group.
 エポキシ環を一分子内に一つ以上有する化合物としては、グリシジルメチルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(3,4-エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル-5,5-スピロ-3,4-エポキシ)シクロヘキサン-メタ-ジオキサン、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシル-3’,4’-エポキシ-6’-メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4-エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ-2-エチルヘキシル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾール、ブチルフェノール又はこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類;および高級脂肪酸のグリシジルエステル類などが挙げられる。 Compounds having one or more epoxy rings in one molecule include glycidyl methyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, and brominated bisphenol F diglycidyl ether. Glycidyl ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether, epoxy novolak resin, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4 -Epoxy) cyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ', 4'-epoxy-6'-methyl Cyclohexane carboxylate, methylene bis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether of ethylene glycol, ethylene bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), epoxyhexa Dioctyl hydrophthalate, di-2-ethylhexyl epoxyhexahydrophthalate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylol Lepropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether; obtained by adding one or more alkylene oxides to aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, and glycerin. Polyglycidyl ethers of polyether polyols; diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids; monoglycidyl ethers of aliphatic higher alcohols; phenol, cresol, butylphenol or polyether alcohols obtained by adding alkylene oxide thereto Monoglycidyl ethers; and glycidyl esters of higher fatty acids.
 ビニルエーテル基を一分子内に1つ以上有する化合物、ビニルアリール基を一分子内に1つ以上有する化合物としては、ラジカル重合性化合物として例示した化合物と同様の化合物が挙げられる。 Examples of the compound having one or more vinyl ether groups in one molecule and the compound having one or more vinyl aryl groups in one molecule include the same compounds as the compounds exemplified as the radical polymerizable compound.
 オキセタニル基を一分子内に一つ以上有する化合物としては、としては、トリメチレンオキシド、3,3-ビス(ビニルオキシメチル)オキセタン、3-エチル-3-ヒドロキシメチルオキセタン、3-エチル-3-(2-エチルヘキシルオキシメチル)オキセタン、3-エチル-3-(ヒドロキシメチル)オキセタン、3-エチル-3-[(フェノキシ)メチル]オキセタン、3-エチル-3-(ヘキシルオキシメチル)オキセタン、3-エチル-3-(クロロメチル)オキセタン、3,3-ビス(クロロメチル)オキセタン、1,4-ビス[(3-エチル-3-オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、ビス{[1-エチル(3-オキセタニル)]メチル}エーテル、4,4’-ビス[(3-エチル-3-オキセタニル)メトキシメチル]ビシクロヘキシル、1,4-ビス[(3-エチル-3-オキセタニル)メトキシメチル]シクロヘキサン、および3-エチル-3{〔(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタンなどが挙げられる。 Compounds having one or more oxetanyl groups in one molecule include trimethylene oxide, 3,3-bis (vinyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (2-ethylhexyloxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3- (hydroxymethyl) oxetane, 3-ethyl-3-[(phenoxy) methyl] oxetane, 3-ethyl-3- (hexyloxymethyl) oxetane, 3- Ethyl-3- (chloromethyl) oxetane, 3,3-bis (chloromethyl) oxetane, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, bis {[1-ethyl (3- Oxetanyl)] methyl} ether, 4,4'-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] Bicyclohexyl, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] cyclohexane, and 3-ethyl-3 {[(3-ethyloxetan-3-yl) methoxy] methyl} oxetane .
 ラジカル重合性モノマーとカチオン重合性モノマーのオリゴマーは、単官能または多官能(メタ)アクリル系オリゴマーが挙げられ。1種または2種以上を組み合わせて使用できる。単官能または多官能(メタ)アクリル系オリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエーテル(メタ)アクリレートオリゴマー、およびポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーなどが挙げられる。 オ リ ゴ マ ー The oligomer of the radical polymerizable monomer and the cationic polymerizable monomer includes a monofunctional or polyfunctional (meth) acrylic oligomer. One type or a combination of two or more types can be used. Monofunctional or polyfunctional (meth) acrylic oligomers include urethane (meth) acrylate oligomers, epoxy (meth) acrylate oligomers, polyether (meth) acrylate oligomers, and polyester (meth) acrylate oligomers.
 ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーとしては、ポリカーボネート系ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル系ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル系ウレタン(メタ)アクリレート、およびカプロラクトン系ウレタン(メタ)アクリレートなどが挙げられる。ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、ポリオールとジイソシアネートとを反応させて得られるイソシアネート化合物と、水酸基を有する(メタ)アクリレートモノマーとの反応により得ることができる。前記ポリオールとしては、ポリカーボネートジオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、およびポリカプロラクトンポリオールが挙げられる。 (4) Examples of the urethane (meth) acrylate oligomer include polycarbonate-based urethane (meth) acrylate, polyester-based urethane (meth) acrylate, polyether-based urethane (meth) acrylate, and caprolactone-based urethane (meth) acrylate. The urethane (meth) acrylate oligomer can be obtained by reacting an isocyanate compound obtained by reacting a polyol with diisocyanate and a (meth) acrylate monomer having a hydroxyl group. Examples of the polyol include a polycarbonate diol, a polyester polyol, a polyether polyol, and a polycaprolactone polyol.
 エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラックエポキシ樹脂のオキシラン環とアクリル酸とのエステル化反応により得られる。ポリエーテル(メタ)アクリレートオリゴマーは、ポリオールの脱水縮合反応によって両末端に水酸基を有するポリエーテルオリゴマーを得、次いで、その両末端の水酸基をアクリル酸でエステル化することにより得られる。ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、ポリカルボン酸とポリオールの縮合によって両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーを得、次いで、その両末端の水酸基をアクリル酸でエステル化することにより得られる。 The epoxy (meth) acrylate oligomer is obtained, for example, by an esterification reaction between an oxirane ring of a low molecular weight bisphenol type epoxy resin or a novolak epoxy resin and acrylic acid. The polyether (meth) acrylate oligomer is obtained by obtaining a polyether oligomer having hydroxyl groups at both terminals by a dehydration condensation reaction of a polyol, and then esterifying the hydroxyl groups at both terminals with acrylic acid. The polyester (meth) acrylate oligomer is obtained, for example, by obtaining a polyester oligomer having hydroxyl groups at both ends by condensation of a polycarboxylic acid and a polyol, and then esterifying the hydroxyl groups at both ends with acrylic acid.
 単官能または多官能(メタ)アクリル系オリゴマーの重量平均分子量は、本発明の好ましい一態様では100,000以下であり、本発明の別の好ましい一態様では500~50,000である。 重量 The weight average molecular weight of the monofunctional or polyfunctional (meth) acrylic oligomer is 100,000 or less in a preferred embodiment of the present invention, and is 500 to 50,000 in another preferred embodiment of the present invention.
 上記したモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物を使用するときは、前記モノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物100質量部に対して0.01~10質量部の光重合開始剤を使用することができる。 When the above-mentioned monomers, oligomers or mixtures thereof are used, 0.01 to 10 parts by mass of a photopolymerization initiator can be used with respect to 100 parts by mass of the monomers, oligomers or mixture thereof.
 次の工程にて、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化部分を含む部分と接触されたモノマー、オリゴマーまたはそれらの混合物に対してUVを照射して硬化させ、硬化性樹脂層を有する複合成形体を得ることができる。 In the next step, the monomer, oligomer or mixture thereof in contact with the portion including the roughened portion of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body is cured by irradiating UV to cure the curable resin layer. A composite molded article having the same can be obtained.
(5)粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体同士の複合成形体、または粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体と、異なる種類の非磁性セラミックス成形体の複合成形体の製造方法
 粗面化構造を有する炭化物系の非磁性セラミックス成形体同士の複合成形体は、例えば、異なる形状の粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体の複数を使用し、それらの接合面に形成させた接着剤層を介して接合一体化させることで製造することができる。前記接着剤層は、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分に接着剤を塗布するなどして形成することができる。接着剤としては、上記した他の複合成形体の製造で使用したものと同じものを使用することができる。
(5) A composite molded article of a nitride-based nonmagnetic ceramic molded article having a roughened structure, or a nitride-based nonmagnetic ceramic molded article having a roughened structure, and a different type of nonmagnetic ceramic molded article The method of manufacturing a composite molded article of the present invention comprises a composite molded article of a carbide-based nonmagnetic ceramic molded article having a roughened structure, for example, a plurality of nitride-based nonmagnetic ceramic molded articles having a roughened structure having different shapes. And can be manufactured by bonding and integrating via an adhesive layer formed on the bonding surface. The adhesive layer can be formed, for example, by applying an adhesive to the roughened structure portion of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body. As the adhesive, the same adhesive as that used in the production of the other composite molded body described above can be used.
 さらに窒化物系の非磁性セラミックス成形体と異なる種類の非磁性セラミックス成形体からなる複合成形体も同様にして製造することができる。 Furthermore, a composite molded body composed of a non-magnetic ceramic molded body of a different type from a nitride-based non-magnetic ceramic molded body can be manufactured in the same manner.
 この実施形態では、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分に接着剤層を形成して、異なる種類の非磁性セラミックス成形体と接合一体化させる方法のほか、異なる種類の非磁性セラミックス成形体の表面も粗面化構造にして接着剤層を形成した後、窒化物系の非磁性セラミックス成形体の接着剤層を有する面と異なる種類の非磁性セラミックス成形体の接着剤層を有する面を接合一体化させて複合成形体を製造することができる。 In this embodiment, in addition to a method of forming an adhesive layer on a roughened structure portion of a nitride-based non-magnetic ceramic molded body and joining it to a different type of non-magnetic ceramic molded body, a different type of non-magnetic ceramic molded body is used. After forming the adhesive layer with the surface of the magnetic ceramic molded body also having a roughened structure, the adhesive layer of the non-magnetic ceramic molded body of a different type from the surface having the adhesive layer of the nitride non-magnetic ceramic molded body The composite molded body can be manufactured by bonding and integrating the surfaces having the above.
 異なる種類の非磁性セラミックスは、酸化物系、炭化物系、硼化物系、および珪化物系などである。異なる種類の非磁性セラミックス成形体の表面を粗面化する方法としては、非磁性セラミックスの種類により方法や条件が異なるが、例えば、本願発明と同様にレーザー光を照射する方法、やすり加工、ブラスト加工、エッチング加工などで粗面化する方法を適用することができる。 Different types of non-magnetic ceramics include oxides, carbides, borides, and silicides. As methods for roughening the surface of different types of non-magnetic ceramic molded bodies, the methods and conditions differ depending on the type of non-magnetic ceramics. For example, as in the present invention, a method of irradiating a laser beam, filing, blasting A method of roughening by processing, etching, or the like can be applied.
 各実施形態における各構成およびそれらの組み合わせなどは一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲で、適宜構成の付加、省略、置換およびその他の変更が可能である。本発明は、実施形態によって限定されることはなく、特許請求の範囲によってのみ限定される。 Each configuration in each embodiment and a combination thereof are merely examples, and addition, omission, substitution, and other changes of the configuration can be appropriately made without departing from the gist of the present invention. The invention is not limited by the embodiments, but only by the claims.
 <熱衝撃温度(JIS R1648:2002)>
 熱衝撃温度は、加熱された炭化物系の非磁性セラミックス成形体の試験片(4×35×厚さ3mm)を30℃の水中に浸漬したときに破壊された温度である。急激に冷却されたときに内部と表面で生じる温度差により発生する内部応力が試験片の強度を超えたときに破壊される。
<Thermal shock temperature (JIS R1648: 2002)>
The thermal shock temperature is a temperature at which a heated test piece (4 × 35 × 3 mm in thickness) of a carbide-based nonmagnetic ceramic molded body is broken when immersed in water at 30 ° C. When the internal stress generated by the temperature difference between the inside and the surface when cooled rapidly exceeds the strength of the test piece, it is destroyed.
 Ra(算術平均粗さ):窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分の面に1.5mm長さの線を11本引いて、それらのRaをワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Ra (arithmetic average roughness): Eleven lines of 1.5 mm length are drawn on the surface of the roughened structure portion of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body, and those Ra are measured by a one-shot 3D shape measuring machine ( Keyence).
 Rz(最大高さ):窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分の面に1.5mm長さの線を11本引いて、それらのRzをワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Rz (maximum height): 11 lines of 1.5 mm length are drawn on the surface of the roughened structure portion of the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body, and those Rz are measured by a one-shot 3D shape measuring instrument (Keyence Corporation). Manufactured).
 Sa(算術平均高さ):窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分の面の9×1.8mmの範囲のSaをワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Sa (arithmetic mean height): Sa in a range of 9 × 1.8 mm on the surface of the roughened structure portion of the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body was measured with a one-shot 3D shape measuring instrument (manufactured by Keyence).
 Sz(最大高さ):窒化物系の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造部分の面の9×1.8mmの範囲のSzをワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Sz (maximum height): Sz in a range of 9 × 1.8 mm of the surface of the roughened structure portion of the nitride-based nonmagnetic ceramic molded body was measured by a one-shot 3D shape measuring instrument (manufactured by Keyence).
 Sdr(界面の展開面積比):定義領域の展開面積(表面積)が、定義領域の面積に対してどれだけ増大しているかを表し、完全に平坦な面のSdrは0となる。Sdrをワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Sdr (developed area ratio of interface): Indicates how much the developed area (surface area) of the defined area is increased with respect to the area of the defined area, and Sdr of a completely flat surface is 0. Sdr was measured with a one-shot 3D shape measuring instrument (manufactured by Keyence).
 Sdq(二乗平均平方根傾斜):定義領域のすべての点における傾斜の二乗平均平方根により算出されるパラメータであり、完全に平坦な面のSdqは0となる。表面に傾斜があるとSdqは大きくなり、例えば45°の傾斜成分からなる平面では、Sdqは1になる。ワンショット3D形状測定機(キーエンス製)により測定した。 Sdq (root-mean-square slope): a parameter calculated by the root-mean-square of the slope at all points in the defined area, and Sdq of a perfectly flat surface is 0. If the surface has a slope, Sdq increases. For example, Sdq becomes 1 on a plane including a 45 ° tilt component. It was measured by a one-shot 3D shape measuring machine (manufactured by Keyence).
<突起の直径と形成密度>
 レーザー光を照射した表面についてSEM撮影を行った。倍率は50~400倍で粗面化構造が観察し易い倍率に調整すればよく、実施例1~4では200~400倍で撮影した。200μm角の視野を決め、その写真より、凸部の幅、突起の個数、突起の直径を計測し、平均形成密度を計算した。平均形成密度は、50mmの範囲からランダムに選択した合計3箇所について同様に計測して、平均値を求めた。平均値が1未満の場合は0と表示した。
<Protrusion diameter and formation density>
SEM imaging was performed on the surface irradiated with the laser light. The magnification may be adjusted to a magnification of 50 to 400 times so that the roughened structure can be easily observed. In Examples 1 to 4, photographing was performed at a magnification of 200 to 400 times. A visual field of 200 μm square was determined, and from the photograph, the width of the projections, the number of projections, and the diameter of the projections were measured, and the average formation density was calculated. The average formation density was similarly measured for a total of three places randomly selected from a range of 50 mm 2 , and an average value was obtained. When the average value was less than 1, it was displayed as 0.
実施例1~5、比較例1
 表1に示す種類の非磁性セラミックス成形体(10×50×厚さ2mmの平板)の表面に対して、下記の連続波レーザー装置を使用して、表1に示す条件でレーザー光を連続照射して粗面化した。実施例5の炭窒化チタンは、大阪工機(株)の商品名「タイアル」を使用した。
(レーザー装置)
  発振器:IPG-Ybファイバー;YLR-300-SM
  ガルバノミラー SQUIREEL(ARGES社製)
  集光系:fc=80mm/fθ=100mm
Examples 1 to 5, Comparative Example 1
The surface of a nonmagnetic ceramic molded body (10 × 50 × 2 mm thick plate) of the type shown in Table 1 was continuously irradiated with laser light under the conditions shown in Table 1 using the continuous wave laser device described below. And roughened. As the titanium carbonitride of Example 5, "Tial" (trade name of Osaka Koki Co., Ltd.) was used.
(Laser device)
Oscillator: IPG-Yb fiber; YLR-300-SM
Galvano mirror SQUIIREEL (ARGES)
Light collection system: fc = 80 mm / fθ = 100 mm
 なお、双方向照射は、以下のとおりに実施した。
双方向照射:一方向に1本の溝が形成されるように連続波レーザー光を直線状に照射した後、ピッチ間隔(ライン間隔)0.05mmをおいて反対方向に同様にして連続波レーザー光を直線状に照射することを繰り返した。双方向照射の0.05mmの間隔は、隣接する溝同士の幅の中間位置の間の距離である。
The bidirectional irradiation was performed as follows.
Bidirectional irradiation: A continuous wave laser beam is radiated linearly so that one groove is formed in one direction, and a continuous wave laser is similarly formed in the opposite direction at a pitch interval (line interval) of 0.05 mm. The irradiation of light in a straight line was repeated. The 0.05 mm spacing for bidirectional irradiation is the distance between the intermediate positions of the width of adjacent grooves.
 実施例1~5、および比較例1の非磁性セラミックス成形体の粗面化構造を有する部分のSEM写真を図3~図7、および図8に示す。 S FIGS. 3 to 7 and 8 show SEM photographs of portions having a roughened structure of the nonmagnetic ceramic molded bodies of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1.
 実施例1および実施例3で得られた粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体を使用して、樹脂成形体(ガラス繊維を30質量%含有するポリアミド6の成形体)との複合成形体(図9)を製造した。 Using the non-magnetic ceramic molded body having a roughened structure obtained in Example 1 and Example 3, a composite molded body with a resin molded body (a molded body of polyamide 6 containing 30% by mass of glass fiber). (FIG. 9) was produced.
 得られた各複合成形体を使用して、非磁性セラミックス成形体と樹脂成形体の接合強度を測定した。 接合 Using each of the obtained composite molded bodies, the bonding strength between the non-magnetic ceramic molded body and the resin molded body was measured.
 〔引張試験〕
 図9に示す複合成形体を用い、引張試験を行ってせん断接合強度(S1)を評価した。引張試験は、ISO19095に準拠し、非磁性セラミックス成形体30側の端部を固定した状態で、非磁性セラミックス成形体30と樹脂成形体31が破断するまで図9に示すX方向に引っ張った場合の接合面が破壊されるまでの最大荷重を下記の条件で測定した。結果を表1に示す。
(Tensile test)
Using the composite molded body shown in FIG. 9, a tensile test was performed to evaluate the shear bonding strength (S1). Tensile test is based on ISO19095, with the nonmagnetic ceramic molded body 30 fixed at the end, and pulled in the X direction shown in FIG. 9 until the nonmagnetic ceramic molded body 30 and the resin molded body 31 are broken. Was measured under the following conditions until the joint surface was broken. Table 1 shows the results.
<引張試験条件>
 試験機:島津製作所製AUTOGRAPH AG-X plus(50kN)
 引張速度:10mm/min
 つかみ具間距離:50mm
<Tensile test conditions>
Testing machine: AUTOGRAPH AG-X plus (50kN) manufactured by Shimadzu Corporation
Tensile speed: 10 mm / min
Distance between grips: 50mm
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 実施例1および3の窒化物系の非磁性セラミックス成形体における粗面化構造の凹凸は、先端部の厚さ方向の断面形状が曲面(部分円)形状のものであり、さらに凹部の底部がV字形であるものを含んでいた。他の実施例においても同様の形態であると考えられる。 The unevenness of the roughened structure in the nitride-based non-magnetic ceramic molded bodies of Examples 1 and 3 is such that the cross-sectional shape in the thickness direction of the tip portion is a curved surface (partial circle), and the bottom of the concave portion is V-shaped ones were included. It is considered that the same form is applied to other embodiments.
 実施例2~5(図4~図7)の窒化物系の非磁性セラミックス成形体における粗面化構造の凹凸は、先端部の厚さ方向の断面形状が曲面(部分円)形状のものであり、凸部の曲面に分散された突起からなる突起群を有していた。 The unevenness of the roughened structure in the nitride-based non-magnetic ceramic molded bodies of Examples 2 to 5 (FIGS. 4 to 7) is such that the cross-sectional shape in the thickness direction of the tip portion is a curved surface (partial circle). There was a projection group consisting of projections dispersed on the curved surface of the projection.
 比較例1は、レーザー光の照射速度が遅すぎたため、粗面化構造にばらつきが大きく、例えば樹脂などの他材料と接合させて複合成形体を製造した場合には、接合状態のばらつきも大きく、品質が安定しないことが考えられた。 In Comparative Example 1, since the irradiation speed of the laser beam was too slow, the unevenness of the roughened structure was large. For example, when the composite molded body was manufactured by bonding with another material such as a resin, the unevenness of the bonding state was large. It was thought that the quality was not stable.
 実施例1および3の窒化物系の非磁性セラミックス成形体と樹脂成形体との複合成形体は、高い接合強度を有しており、実施例2、4、5についても同程度の接合強度を有しているものと認められることから、他の材料(熱硬化性樹脂、ゴム、エラストマー、金属、UV硬化性樹脂)との複合成形体を製造した場合であっても、高い接合強度の複合成形体が得られるものと考えられる。 The composite molded body of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body and the resin molded body of Examples 1 and 3 has a high bonding strength. Since it is recognized that it has, even when a composite molded body with other materials (thermosetting resin, rubber, elastomer, metal, UV-curable resin) is manufactured, a composite with high bonding strength is produced. It is believed that a compact is obtained.
実施例6~8
 表2に示す種類の非磁性セラミックス成形体(10mm×50mm×厚さ2mmの平板)の表面に対して、表2に示す条件でパルス波レーザー光を連続照射して粗面化した。図10から図12に粗面化後のSEM写真を示す。また実施例7および8については、実施例1および3と同様にして接合強度を測定した。
 発振器:IPG-Yb-Fiber Laser;YLP-1-50-30-30-RA
 ガルバノミラー:XD30+SCANLAB社HurrySCAN10
 集光系:ビームエキスパンダ2倍/fθ=100mm
Examples 6 to 8
The surface of a nonmagnetic ceramic molded body (10 mm × 50 mm × 2 mm thick plate) of the type shown in Table 2 was continuously irradiated with pulsed laser light under the conditions shown in Table 2 to roughen the surface. 10 to 12 show SEM photographs after roughening. In Examples 7 and 8, the bonding strength was measured in the same manner as in Examples 1 and 3.
Oscillator: IPG-Yb-Fiber Laser; YLP-1-50-30-30-RA
Galvanometer mirror: XD30 + HurrySCAN10 from SCANLAB
Condensing system: Beam expander double / fθ = 100mm
 クロス(クロス照射):0.20mmの間隔をおいて10本の溝(第1群の溝)が形成されるように連続波レーザー光を照射した後、第1群の溝と直交する方向に0.20mmの間隔をおいて10本の溝(第2群の溝)が形成されるようにレーザー光を照射した。 Cross (cross irradiation): After irradiating continuous wave laser light so that ten grooves (first group of grooves) are formed at intervals of 0.20 mm, in a direction orthogonal to the first group of grooves. The laser beam was applied so that ten grooves (second group of grooves) were formed at intervals of 0.20 mm.
 双方向照射:一方向に1本の溝が形成されるようにレーザー光を直線状に照射した後、表2に示すピッチ間隔(ライン間隔)をおいて反対方向に同様にしてレーザー光を直線状に照射することを繰り返した。ピッチ間隔(ライン間隔)は、隣接する溝(ライン)同士の中間位置の間の距離である。 Bidirectional irradiation: After irradiating the laser beam linearly so that one groove is formed in one direction, the laser beam is linearly irradiated in the opposite direction with a pitch interval (line interval) shown in Table 2 Irradiation was repeated. The pitch interval (line interval) is a distance between intermediate positions of adjacent grooves (lines).
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 実施例6~8の窒化物系の非磁性セラミックス成形体における粗面化構造の凹凸は、凹部の底部がV字形であるものを含んでいた。実施例7および8の窒化物系の非磁性セラミックス成形体と樹脂成形体との複合成形体は、高い接合強度を有しており、実施例6についても同程度の接合強度を有しているものと認められることから、他の材料(熱硬化性樹脂、ゴム、エラストマー、金属、UV硬化性樹脂)との複合成形体を製造した場合であっても、高い接合強度の複合成形体が得られるものと考えられる。 凹凸 The irregularities of the roughened structure in the nitride-based nonmagnetic ceramic molded bodies of Examples 6 to 8 included those in which the bottoms of the concave portions were V-shaped. The composite molded body of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body and the resin molded body of Examples 7 and 8 has high bonding strength, and also has the same level of bonding strength in Example 6. Therefore, even when a composite molded body with another material (thermosetting resin, rubber, elastomer, metal, UV curable resin) is manufactured, a composite molded body with high bonding strength can be obtained. It is thought that it is possible.
 本発明の表面に粗面化構造を有する窒化物系の非磁性セラミックス成形体は、炭化物系の非磁性セラミックス成形体と樹脂、ゴム、エラストマー、金属などとの複合成形体の製造中間体として利用することができる。
 
The nitride-based non-magnetic ceramic molded article having a roughened structure on its surface according to the present invention is used as an intermediate for producing a composite molded article of a carbide-based non-magnetic ceramic molded article and a resin, rubber, elastomer, metal, or the like. can do.

Claims (21)

  1.  表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体であって、
     前記非磁性セラミックス成形体が窒化物系の非磁性セラミックス成形体であり、
     前記粗面化構造が凹凸を有しており、走査型電子顕微鏡写真(50~400倍)により観察したときの前記凹凸の厚さ方向の断面形状が、前記凸部の先端部が曲面であるもの、または前記凹部の底部がV字形であるものを含んでいる、非磁性セラミックス成形体。
    A non-magnetic ceramic molded body having a surface roughened structure,
    The non-magnetic ceramic molded body is a nitride-based non-magnetic ceramic molded body,
    The roughened structure has irregularities, and the cross-sectional shape in the thickness direction of the irregularities when observed by a scanning electron microscope photograph (50 to 400 times) is a curved surface at the tip of the convex portion. Or a non-magnetic ceramic molded body including a concave portion having a V-shaped bottom.
  2.  表面に粗面化構造を有する非磁性セラミックス成形体であって、
     前記非磁性セラミックス成形体が窒化物系の非磁性セラミックス成形体であり、
     前記粗面化構造が凹凸を有しており、走査型電子顕微鏡写真(50~400倍)により観察したときの前記凹凸の厚さ方向の断面形状が、前記凸部の先端部が曲面であるもの、または前記凹部の底部がV字形であるものを含んでおり、
     前記凸部の先端部に分散された突起からなる突起群を有している、非磁性セラミックス成形体。
    A non-magnetic ceramic molded body having a surface roughened structure,
    The non-magnetic ceramic molded body is a nitride-based non-magnetic ceramic molded body,
    The roughened structure has irregularities, and the cross-sectional shape in the thickness direction of the irregularities when observed by a scanning electron microscope photograph (50 to 400 times) is a curved surface at the tip of the convex portion. Or the bottom of the recess is V-shaped,
    A nonmagnetic ceramic molded body having a projection group consisting of projections dispersed at the tip of the projection.
  3.  前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体が、熱衝撃温度(JIS R1648:2002)が500~750℃の範囲で、厚さが0.5mm以上である、請求項1または2記載の非磁性セラミックス成形体。 3. The non-magnetic ceramic according to claim 1, wherein the nitride-based non-magnetic ceramic molded body has a thermal shock temperature (JIS R1648: 2002) in the range of 500 to 750 ° C. and a thickness of 0.5 mm or more. Molded body.
  4.  前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体が、窒化ケイ素、窒化アルミニウムまたは炭窒化チタンを含む、請求項3記載の非磁性セラミックス成形体。 4. The non-magnetic ceramic molded body according to claim 3, wherein the nitride-based non-magnetic ceramic molded body contains silicon nitride, aluminum nitride, or titanium carbonitride.
  5.  前記凹凸が線状の凸部と線状の凹部が一方向に交互に形成されており、
     前記線状の凸部と前記線状の凹部のそれぞれの幅が20~500μmであるとき、前記凸部に形成された突起群に含まれている突起の直径(円置換直径)が10~200μmのものの平均形成密度が5個/250,000μm以上である、請求項2~4のいずれか1項記載の非磁性セラミックス成形体。
    The unevenness is formed with a linear convex portion and a linear concave portion alternately in one direction,
    When the width of each of the linear projections and the linear recesses is 20 to 500 μm, the diameter of the projections (circular replacement diameter) included in the projection group formed on the projections is 10 to 200 μm. The non-magnetic ceramic molded body according to any one of claims 2 to 4, wherein an average formed density of the non-magnetic ceramic molded body is 5 pieces / 250,000 μm 2 or more.
  6.  前記凹凸が線状の凸部と線状の凹部が一方向に交互に形成されており、
     前記線状の凸部と前記線状の凹部のそれぞれの幅が20~500μmであるとき、前記凸部に形成された突起群に含まれている突起の直径(円置換直径)が10~200μmのものの平均形成密度が5~200個/250,000μmである、請求項2~4のいずれか1項記載の非磁性セラミックス成形体。
    The unevenness is formed with a linear convex portion and a linear concave portion alternately in one direction,
    When the width of each of the linear projections and the linear recesses is 20 to 500 μm, the diameter of the projections (circular replacement diameter) included in the projection group formed on the projections is 10 to 200 μm. The non-magnetic ceramic molded article according to any one of claims 2 to 4, wherein an average formation density of the non-magnetic ceramics article is 5 to 200 pieces / 250,000 μm 2 .
  7.  前記粗面化構造の平面形状において、前記凹凸のうちの凹部が島状に分散して形成され、前記凹部を除いた部分が凸部であり、
     前記凸部の幅が20~500μmであるとき、前記凸部に形成された突起群に含まれている突起の直径(円置換直径)が10~200μmのものの平均形成密度が5個/250,000μm以上である、請求項2~4のいずれか1項記載の非磁性セラミックス成形体。
    In the planar shape of the roughened structure, the concave portions of the irregularities are formed in an island shape, and the portion excluding the concave portions is a convex portion,
    When the width of the protrusions is 20 to 500 μm, the average formation density of the protrusions included in the protrusion group formed on the protrusions (circular replacement diameter) of 10 to 200 μm is 5/250, The non-magnetic ceramic molded product according to any one of claims 2 to 4, which has a size of 000 µm 2 or more.
  8.  前記粗面化構造の平面形状において、前記凹凸のうちの凹部が島状に分散して形成され、前記凹部を除いた部分が凸部であり、
     前記凸部の幅が20~500μmであるとき、前記凸部に形成された突起群に含まれている突起の直径(円置換直径)が10~200μmのものの平均形成密度が5~30個/250,000μmである、請求項2~4のいずれか1項記載の非磁性セラミックス成形体。
    In the planar shape of the roughened structure, the concave portions of the irregularities are formed in an island shape, and the portion excluding the concave portions is a convex portion,
    When the width of the protrusion is 20 to 500 μm, the average formation density of the protrusions (diameter of circular replacement) included in the protrusion group formed in the protrusions of 10 to 200 μm is 5 to 30 / The non-magnetic ceramic molded product according to any one of claims 2 to 4, which has a size of 250,000 μm 2 .
  9.  前記凹凸の表面粗さ(Ra)が1~100μmの範囲であり、前記凹凸の凸部と凹部の高低差(Rz)が10~500μmの範囲である、請求項1~8のいずれか1項記載の非磁性セラミックス成形体。 9. The method according to claim 1, wherein the surface roughness (Ra) of the unevenness is in a range of 1 to 100 μm, and the height difference (Rz) between the convex portion and the concave portion of the unevenness is in a range of 10 to 500 μm. The non-magnetic ceramic molded article according to the above.
  10.  前記凹凸の算術平均高さ(Sa)が3~90μmの範囲であり、前記凹凸の凸部の最大高さ(Sz)が30~500μmの範囲である、請求項1~8のいずれか1項記載の非磁性セラミックス成形体。 The method according to any one of claims 1 to 8, wherein an arithmetic average height (Sa) of the irregularities is in a range of 3 to 90 μm, and a maximum height (Sz) of the convex portions of the irregularities is in a range of 30 to 500 μm. The non-magnetic ceramic molded article according to the above.
  11.  前記凹凸の界面の展開面積比(Sdr)が1~8の範囲であり、前記凹凸の二乗平均平方根傾斜(Sdq)が2~12の範囲である、請求項1~8のいずれか1項記載の非磁性セラミックス成形体。 The method according to any one of claims 1 to 8, wherein a development area ratio (Sdr) of an interface of the unevenness is in a range of 1 to 8, and a root mean square slope (Sdq) of the unevenness is in a range of 2 to 12. Of non-magnetic ceramics.
  12.  請求項1記載の非磁性セラミックス成形体の製造方法であって、
     窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用してレーザー光を連続照射することで粗面化する工程を有しており、
     前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体が窒化アルミニウムであるときは5,000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射する、非磁性セラミックス成形体の製造方法。
    It is a manufacturing method of the non-magnetic ceramic molded body of Claim 1, Comprising:
    It has a step of roughening the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body by continuously irradiating a laser beam using a continuous wave laser,
    A method for producing a non-magnetic ceramic molded body, wherein when the nitride-based non-magnetic ceramic molded body is aluminum nitride, a laser beam is continuously irradiated at an irradiation speed of 5,000 mm / sec or more.
  13.  請求項2記載の非磁性セラミックス成形体の製造方法であって、
     窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用してレーザー光を連続照射することで粗面化する工程を有しており、
     前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体が窒化アルミニウムであるときは1,000~5,000mm/secの照射速度でレーザー光を連続照射し、
     前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体が窒化ケイ素であるときは1,000mm/sec以上の照射速度でレーザー光を連続照射する、非磁性セラミックス成形体の製造方法。
    It is a manufacturing method of the nonmagnetic ceramic molded body of Claim 2, Comprising:
    It has a step of roughening the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body by continuously irradiating a laser beam using a continuous wave laser,
    When the nitride-based non-magnetic ceramic molded body is aluminum nitride, a laser beam is continuously irradiated at an irradiation speed of 1,000 to 5,000 mm / sec,
    A method for producing a non-magnetic ceramic molded body, wherein when the nitride-based non-magnetic ceramic molded body is silicon nitride, a laser beam is continuously irradiated at an irradiation speed of 1,000 mm / sec or more.
  14.  前記レーザー光の照射工程が、粗面化対象となる金属成形体の表面に対してレーザー光を照射するとき、レーザー光の照射部分と非照射部分が交互に生じるように照射する工程である、請求項12または13記載の非磁性セラミックス成形体の製造方法。 The laser light irradiation step is a step of irradiating the surface of the metal molded body to be roughened, when irradiating the laser light, so that the irradiated part and the non-irradiated part of the laser light alternately occur. The method for producing a non-magnetic ceramic molded body according to claim 12.
  15.  前記非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用してレーザー光を連続照射するとき、
     同一方向または異なる方向に直線、曲線およびこれらの組み合わせからなる複数本の線が形成されるようにレーザー光を連続照射する、請求項12~14のいずれか1項記載の非磁性セラミックス成形体の製造方法。
    When continuously irradiating the surface of the non-magnetic ceramic molded body with laser light using a continuous wave laser,
    15. The non-magnetic ceramic molded body according to claim 12, wherein the laser light is continuously irradiated such that a plurality of lines composed of straight lines, curved lines, and combinations thereof are formed in the same direction or different directions. Production method.
  16.  前記非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用してレーザー光を連続照射するとき、
     同一方向または異なる方向に直線、曲線およびこれらの組み合わせからなる複数本の線が形成されるようにレーザー光を連続照射し、レーザー光を複数回連続照射して1本の直線または1本の曲線を形成する、請求項12~14のいずれか1項記載の非磁性セラミックス成形体の製造方法。
    When continuously irradiating the surface of the non-magnetic ceramic molded body with laser light using a continuous wave laser,
    Laser light is continuously irradiated so that a plurality of lines composed of straight lines, curves and combinations thereof are formed in the same direction or different directions, and laser light is continuously irradiated a plurality of times to form one straight line or one curved line. The method for producing a nonmagnetic ceramic molded article according to any one of claims 12 to 14, wherein
  17.  前記非磁性セラミックス成形体の表面に対して、連続波レーザーを使用してレーザー光を連続照射するとき、
     同一方向または異なる方向に直線、曲線およびこれらの組み合わせからなる複数本の線が形成されるようにレーザー光を連続照射し、
     前記複数本の直線または前記複数本の曲線が、等間隔または異なる間隔をおいて形成されるようにレーザー光を連続照射する、請求項12~14のいずれか1項記載の非磁性セラミックス成形体の製造方法。
    When continuously irradiating the surface of the non-magnetic ceramic molded body with laser light using a continuous wave laser,
    Continuously irradiate laser light such that a plurality of lines consisting of straight lines, curves and combinations thereof are formed in the same direction or different directions,
    The nonmagnetic ceramic molded body according to any one of claims 12 to 14, wherein the laser beam is continuously irradiated so that the plurality of straight lines or the plurality of curves are formed at equal or different intervals. Manufacturing method.
  18.  請求項2記載の非磁性セラミックス成形体の製造方法であって、
     窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対して、下記の要件(i)~(v)を満たすようにパルス波レーザー光を照射することで粗面化する、非磁性セラミックス成形体の製造方法。
     (i)前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対してレーザー光を照射するときの照射角度が15度~90度
     (ii)前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対してレーザー光を照射するときの照射速度が10~500mm/sec
     (iii)前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対してレーザー光を照射するときのエネルギー密度が0.1~50GW/cm
     (iv)前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対してレーザー光を照射するときの繰り返し回数が1~80回
     (v)前記窒化物系の非磁性セラミックス成形体の表面に対してレーザー光を照射するときのライン間隔が0.01~1mm
    It is a manufacturing method of the nonmagnetic ceramic molded body of Claim 2, Comprising:
    Manufacture of a non-magnetic ceramic molded body which is roughened by irradiating a pulsed laser beam on the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body so as to satisfy the following requirements (i) to (v): Method.
    (I) The irradiation angle when irradiating the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body with laser light is 15 to 90 degrees. (Ii) With respect to the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body. The irradiation speed when irradiating the laser beam with 10 to 500 mm / sec
    (Iii) The energy density when irradiating the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body with laser light is 0.1 to 50 GW / cm 2.
    (Iv) The number of repetitions of irradiating the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body with laser light is 1 to 80 times. (V) With respect to the surface of the nitride-based non-magnetic ceramic molded body. Line spacing when irradiating laser light is 0.01-1mm
  19.  前記要件(i)~(v)が下記の数値範囲である、請求項18記載の非磁性セラミックス成形体の製造方法。
     (i)15度~90度
     (ii)10~300mm/sec
     (iii)0.1~50GW/cm
     (iv)3~50回
     (v)0.01~0.8mm
    19. The method for producing a non-magnetic ceramic molded body according to claim 18, wherein the requirements (i) to (v) are in the following numerical ranges.
    (I) 15 degrees to 90 degrees (ii) 10 to 300 mm / sec
    (Iii) 0.1 to 50 GW / cm 2
    (Iv) 3 to 50 times (v) 0.01 to 0.8 mm
  20.  前記要件(i)~(v)が下記の数値範囲である、請求項18記載の非磁性セラミックス成形体の製造方法。
     (i)15度~90度
     (ii)10~100mm/sec
     (iii)0.1~20GW/cm
     (iv)5~30回
     (v)0.03~0.5mm
    19. The method for producing a non-magnetic ceramic molded body according to claim 18, wherein the requirements (i) to (v) are in the following numerical ranges.
    (I) 15 degrees to 90 degrees (ii) 10 to 100 mm / sec
    (Iii) 0.1 to 20 GW / cm 2
    (Iv) 5 to 30 times (v) 0.03 to 0.5 mm
  21.  前記要件(i)~(v)が下記の数値範囲である、請求項18記載の非磁性セラミックス成形体の製造方法。
     (i)45度~90度
     (ii)10~80mm/sec
     (iii)0.5~5GW/cm
     (iv)5~30回
     (v)0.05~0.5mm
     
     
    19. The method for producing a non-magnetic ceramic molded body according to claim 18, wherein the requirements (i) to (v) are in the following numerical ranges.
    (I) 45 degrees to 90 degrees (ii) 10 to 80 mm / sec
    (Iii) 0.5 to 5 GW / cm 2
    (Iv) 5 to 30 times (v) 0.05 to 0.5 mm

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