WO2020008553A1 - Vapor deposition mask, vapor deposition mask production device and vapor deposition mask production method - Google Patents

Vapor deposition mask, vapor deposition mask production device and vapor deposition mask production method Download PDF

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謙太 中村
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source

Definitions

  • Patent Literature 1 conventional vapor deposition in which a plurality of mask sheets (also referred to as divided masks) each having a plurality of openings is fixed in a frame-shaped frame (hereinafter, referred to as a frame). There is a mask.
  • a plurality of mask sheets are fixed to the frame by welding one by one.
  • a predetermined external force (CounterceForce) is applied to the frame to correct the deformation of the frame and correct each mask sheet.
  • the seat was fixed.
  • the external force is applied while the frame is floated from the stage by air.
  • the vapor deposition mask of the present invention is a vapor deposition mask including a frame, and a plurality of mask sheets having a plurality of openings fixed to the frame, in order to solve the above problem, wherein the frame is Has a first surface on which the mask sheet is fixed, and a second surface facing the first surface, and a concave portion is provided on the second surface.
  • An apparatus for manufacturing a deposition mask according to the present invention is an apparatus for manufacturing a deposition mask including a mounting table on which the evaporation mask is mounted, in order to solve the above-described problem, wherein the evaporation mask is located at a predetermined position on the mounting table.
  • a gas for floating the vapor deposition mask is ejected toward the concave portion from a region of the mounting table that overlaps the concave portion provided on the second surface.
  • the method of manufacturing a deposition mask of the present invention is a method of manufacturing a deposition mask including a first mask sheet fixing step of fixing a first mask sheet to a frame, in order to solve the above problem.
  • a step of blowing a gas for floating the vapor deposition mask toward the concave portion of the frame to float the frame from the mounting table is performed prior to the first mask sheet fixing step.
  • Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7 and 11.
  • the grooves 10V are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 10 in order to easily float the frame 10 from a stage (not shown) at a uniform height.
  • the center of gravity CE of the frame 10 is, for example, the intersection of the center line L1 in the left-right direction of the frame 10 and the center line L2 in the up-down direction.
  • FIG. 1C is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of the frame 10 shown in FIG. 1B.
  • the cross-sectional shape of the frame 10 is formed in a V-shape (that is, a V-shaped cross-section) on a part of the second surface 10b of the frame 10.
  • a groove 10V is provided.
  • the levitation force of the air with respect to the frame 10 can be improved.
  • the frame 10 having a weight exceeding 80 kg can be easily and stably levitated from a stage (not shown). it can.
  • the fact that the frame 10 can be easily levitated means that the frame 10 is levitated using a smaller amount of gas. This means that the frame 10 is appropriately levitated so that the distance from the frame 10, that is, the gap (GAP) does not differ.
  • an external force (CF1) is applied to the frame 10 while the frame 10 is floating.
  • CF1 an external force
  • FIGS. 4 and 5B in a state where the frame 10 is lifted from the stage (STG), the vertical direction of the frame 10, that is, the longitudinal direction of the alignment sheets 1a and 1b (the vertical direction in the drawings) ), An external force (CF1UL / CF1UC / CF1UR / CF1LL / CF1LC / CF1LR) is applied.
  • the external force (CF1UL, CF1UC, CF1UR, CF1LL, CF1LC, CF1LR) at this time is, as shown in FIG. 6A, a predetermined position on the first surface 10a of the frame 10, that is, two alignment sheets.
  • the external force is adjusted such that the deformation of the frame 10 that occurs when the first mask sheet 2a is fixed (welded) to a substantially intermediate portion between 1a and 1b is corrected in advance.
  • the deformation of the frame 10 is assumed in advance, the size and weight of the frame 10 and the first mask sheet 2a are considered.
  • the first mask sheet 2a is placed on the frame 10, and in a seventh step (S7) shown in FIG. While stretching the mask sheet 2a, the alignment is adjusted using the alignment sheets 1a and 1b and the observation camera 3, and in the eighth step (S8) shown in FIG. 2, an external force (CF1UL / CF1UC / CF1UR) is applied to the frame 10.
  • the first mask sheet 2a is welded to the frame 10 in a state where (CF1LL, CF1LC, CF1LR) is added.
  • the first mask sheet 2a includes a plurality of openings 11K.
  • FIG. 5A the first mask sheet 2a includes a plurality of openings 11K.
  • the external force (CF1) is adjusted to the external force (CF2).
  • the external force (CF2) specifically, the external force (CF2UL / CF2UC / CF2UR / CF2LL / CF2LC / CF2LR) is, as shown in FIG. 6B, a predetermined position on the first surface 10a of the frame 10, that is, The deformation of the frame 10 that occurs when the first mask sheet 2a and the second mask sheet 2b are fixed (welded) to a substantially intermediate portion between the two alignment sheets 1a and 1b is assumed in advance, and this deformation is performed. The external force is adjusted to compensate. When the deformation of the frame 10 is assumed in advance, the size, weight, and the like of the frame 10, the first mask sheet 2a, and the second mask sheet 2b are considered.
  • the frame 10 is placed on the stage (STG) with the adjusted external force (CF2) applied.
  • the second mask sheet 2b is placed on the frame 10, and in the thirteenth step (S13) shown in FIG. While stretching the mask sheet 2b, the alignment is adjusted using the alignment sheets 1a and 1b and the observation camera 3, and in a fourteenth step (S14) shown in FIG. 2, an external force (CF2UL, CF2UC, CF2UR) is applied to the frame 10.
  • the second mask sheet 2b is welded to the frame 10 in a state where (CF2LL, CF2LC, CF2LR) is added.
  • the alignment is adjusted so that the second mask sheet 2b is arranged at a substantially intermediate portion between the two alignment sheets 1a and 1b shown in FIG.
  • each step relating to the third mask sheet 2 c to the eleventh mask sheet 2 k and a part of each step relating to the twelfth mask sheet 2 l is omitted, but is described above.
  • Each step for the first mask sheet 2a and the second mask sheet 2b is repeated.
  • the external force applied to the frame 10 becomes smaller as it goes to a later process.
  • the external force applied to the frame 10 when welding the second mask sheet 2b is larger than the external force applied to the frame 10 when welding the third mask sheet 2c.
  • the external force applied to the frame 10 is calculated in advance for each mask sheet, and is used that is held in a storage device (not shown).
  • the first mask sheet 2a applies an external force to the frame 10 along the direction in which each of the external forces (CF1UL, CF1UC, CF1UR, CF1LL, CF1LC, CF1LR) is applied.
  • CF1UL, CF1UC, CF1UR, CF1LL, CF1LC, CF1LR are welded to the central region in a direction orthogonal to the direction in which each of them is added.
  • the second mask sheet 2b is applied to the frame 10 along the direction in which each of the external forces (CF2UL, CF2UC, CF2UR, CF2LL, CF2LC, CF2LR) is applied.
  • the third mask sheet 2c is formed by applying the first external force (CF3UL / CF3UC / CF3UR / CF3LL / CF3LC / CF3LR) to the first sheet.
  • the second mask sheet 2b welded adjacent to the first mask sheet 2a is welded to the frame 10 so as to be adjacent to the first mask sheet 2a.
  • each of the fourth mask sheet 2d to the seventh mask sheet 2g is welded in the order of right and left on the basis of the first mask sheet 2a, as shown in FIG.
  • the first mask sheet 2a to the seventh mask sheet 2g can be welded to predetermined positions of the frame 10.
  • External force (CF7UC / CF7LC) is not shown in (d) of FIG. This is because there is no need to apply an external force (CF7UC / CF7LC) to the upper intermediate portion and the lower intermediate portion of the frame 10 to which the first mask sheet 2a to the seventh mask sheet 2g are welded.
  • ⁇ 2l may be fixed to the frame 10.
  • air air
  • nitrogen or argon may be used.
  • specific sizes and the like of the frame 10 are as follows. That is, in the frame 10, for example, the external size is 1115 mm ⁇ 940 mm, the size of the opening 10K is 884 mm ⁇ 694 mm, the thickness is 30 mm, and the weight is 80 kg.
  • the external size, the size of the opening, the thickness, and the weight are not particularly limited as long as the frame 10 can float using gas.
  • FIG. 11 is a diagram for explaining a problem in the frame 100 of the comparative example.
  • FIG. 11A illustrates a surface 100a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in a frame 100 having an opening 100K in the center
  • FIG. 11B a back surface 100b of a surface 100a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) is illustrated.
  • the surface 100a of the frame 100 for fixing a plurality of mask sheets (not shown) and the back surface 100b are both flat. Has become.
  • FIG. 11C are diagrams illustrating the reason why the frame 100 cannot be easily levitated from the stage.
  • the back surface 100b of the frame 100 is flat, air for floating the frame 100 flows in the direction shown by the dotted line in the drawing on the back surface 100b of the frame 100. . More specifically, as indicated by the dotted line in the drawing, most of the air flows along the back surface 100b, and only a part of the air bounces in a direction perpendicular to the back surface 100b.
  • the air that bounces back to the rear surface 100b in the vertical direction contributes to the floating of the frame 100, but the air that flows along the rear surface 100b does not contribute to the floating of the frame 100. Therefore, in the case of the frame 100, since the back surface 100b is a flat surface, the frame 100 cannot be easily levitated from the stage.
  • FIG. 7 is a view showing a modified example of a frame that can be used for the vapor deposition mask of the present embodiment.
  • a concave portion is formed in the entire second surface 20b which is the back surface of the first surface 20a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) as a concave portion.
  • a groove 20V formed in a shape ie, a V-shaped cross section is provided.
  • a part of a second surface 21b which is a back surface of the first surface 21a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) is formed as a recess, and the cross-sectional shape thereof is formed.
  • a groove 21R formed in a semicircular shape (that is, a semicircular cross section) is provided.
  • the entire second surface 22b which is the back surface of the first surface 22a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) is formed as a concave portion, and the cross-sectional shape thereof is arc-shaped.
  • a part of a second surface 23b which is a back surface of the first surface 23a for fixing a plurality of mask sheets (not illustrated) is formed as a recess, and its cross-sectional shape is formed.
  • a groove 23S formed in a rectangular shape (slit shape), that is, a rectangular cross section is provided.
  • the groove 20V, the groove 21R, the groove 22R, and the groove 23S are formed in a frame shape like the groove 10V illustrated in FIG.
  • the cross-sectional shape of the second surface 24b which is the back surface of the first surface 24a for fixing a plurality of mask sheets (not shown), is rectangular (slit shape).
  • a plurality of grooves 24S1, 24S2, and 24S3 are provided, and the others are as described in the first embodiment.
  • members having the same functions as those shown in the drawings of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
  • FIG. 8A shows a first surface 24a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in a frame-shaped frame 24 having an opening 24K in the center
  • FIG. Shows a second surface 24b which is a back surface of the first surface 24a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 24.
  • a first surface 24a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 24 is a flat surface, and is shown in FIG.
  • the second surface 24b which is the back surface of the first surface 24a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 24 has a frame shape as a concave portion, and the cross-sectional shape thereof is rectangular. (Slit shape) In other words, three grooves 24S1, 24S2, 24S3 formed in a rectangular cross section are provided.
  • the total length of the grooves 24S1 provided on the outer side is equal to that of the grooves 24S2 and 24S3 provided on the inner side.
  • the length of the groove 24S2 provided longer than the entire length and provided on the outside is longer than the total length of the groove 24S3 provided on the inside.
  • the grooves 24S1, 24S2, and 24S3 are formed on the frame 24 in order to easily float the frame 24 from a stage (not shown) at a uniform height.
  • a stage not shown
  • the grooves 24S1, 24S2, and 24S3 are formed on the frame 24 in order to easily float the frame 24 from a stage (not shown) at a uniform height.
  • a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
  • a plurality of islands are formed on the second surface, which is the back surface of the first surface for fixing a plurality of mask sheets (not shown).
  • the plurality of grooves are different from the first and second embodiments in that they are point-symmetric with respect to the center of gravity of the frames 25 to 29.
  • members having the same functions as the members shown in the drawings of Embodiments 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
  • FIG. 9A illustrates a first surface 25a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in a frame 25 having an opening 25K in the center
  • FIG. Shows a second surface 25b which is a back surface of the first surface 25a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 25.
  • the first surface 25a of the frame 25 for fixing a plurality of mask sheets (not shown) is flat, and is shown in FIG. 9B.
  • grooves 25S1 to S25S12 are formed as recesses in an island shape on the second surface 25b which is the back surface of the first surface 25a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 25.
  • FIG. 9C is a cross-sectional view taken along line C-C ′ of the frame 25 illustrated in FIG. 9B. As shown in FIG. 9C, twelve grooves 25S1 to S25S12 having a rectangular (slit) cross section are provided on the second surface 25b of the frame 25. .
  • FIG. 10 is a view showing a modified example of a frame that can be used for the vapor deposition mask of the present embodiment.
  • a groove 26S1 and a groove 26S2 are formed in the second surface 26b as islands in a concave shape.
  • the groove 26S1 and the groove 26S2 are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 26 in order to easily float the frame 26 from a stage (not shown) at a uniform height.
  • a groove 27S1 and a groove 27S2 are provided as recesses on the second surface 27b in an island shape.
  • the groove 27S1 and the groove 27S2 are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 27 in order to easily float the frame 27 from a stage (not shown) at a uniform height.
  • a groove 28S1, a groove 28S2, a groove 28S3, and a groove 28S4 are provided as recesses on the second surface 28b in an island shape.
  • the groove 28S1 and the groove 28S2 are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 28 so that the frame 28 can easily float at a uniform height from a stage (not shown).
  • the groove 28S4 is provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 28.
  • a frame a plurality of mask sheets having a plurality of openings fixed to the frame, a vapor deposition mask including, The frame has a first surface on which the plurality of mask sheets are fixed, and a second surface facing the first surface, An evaporation mask having a concave portion provided on the second surface.
  • a plurality of the concave portions are provided in an island shape, The vapor deposition mask according to aspect 1 or 2, wherein the plurality of recesses are point-symmetric with respect to the center of gravity of the frame.
  • An apparatus for manufacturing a vapor deposition mask including a mounting table on which the vapor deposition mask according to any one of aspects 1 to 11 is mounted, When the vapor deposition mask is placed at a predetermined position on the mounting table, from the region of the mounting table overlapping the concave portion provided on the second surface, the gas for floating the vapor deposition mask is directed toward the concave portion.
  • a method for manufacturing a deposition mask including a first mask sheet fixing step of fixing a first mask sheet to a frame, Before the first mask sheet fixing step, a method for manufacturing a vapor deposition mask, comprising performing a step of injecting a gas for floating the vapor deposition mask toward a concave portion of the frame and floating the frame from a mounting table.
  • a second mask sheet fixing step of fixing a second mask sheet to a frame to which the first mask sheet is fixed Prior to the second mask sheet fixing step, a step of using a gas to float the frame on which the first mask sheet is fixed, and a frame on which the first mask sheet is fixed. Applying the second external force to the frame to which the first mask sheet is fixed in a state where the first mask sheet is floated from the mounting table.
  • a third mask sheet fixing step of fixing a third mask sheet to the frame the third mask sheet is replaced with the second mask sheet fixed adjacent to the first mask sheet. 21.
  • the present invention can be applied to a vapor deposition mask, a vapor mask manufacturing apparatus, and a vapor mask manufacturing method.

Abstract

In this invention, a frame (10) comprises: a first surface (10a) that is a surface whereon a plurality of mask sheets are to be secured; and a second surface (10b) facing away from the first surface (10a), wherein a groove (10V) serving as a recessed portion is provided on the second surface (10b).

Description

蒸着マスク、蒸着マスクの製造装置及び蒸着マスクの製造方法Evaporation mask, evaporation mask manufacturing apparatus, and evaporation mask manufacturing method
 本発明は、蒸着マスク、蒸着マスクの製造装置及び蒸着マスクの製造方法に関する。 The present invention relates to an evaporation mask, an apparatus for manufacturing an evaporation mask, and a method for manufacturing an evaporation mask.
 近年、さまざまな表示デバイスが開発されており、特に、OLED(Organic Light Emitting Diode:有機発光ダイオード)を備えた表示デバイスや、無機発光ダイオードまたはQLED(Quantum dot Light Emitting Diode:量子ドット発光ダイオード)を備えた表示デバイスは、低消費電力化、薄型化および高画質化などを実現できる点から、高い注目を浴びている。 In recent years, various display devices have been developed. In particular, display devices having an OLED (Organic Light Emitting Diode), an inorganic light emitting diode or a QLED (Quantum dot Light Emitting Diode) have been developed. Display devices equipped with such devices have attracted a great deal of attention because they can achieve low power consumption, thinness, high image quality, and the like.
 このような表示デバイスの製造工程においては、基板上に高精細な発光層などの蒸着膜を形成するため、高精細な蒸着マスクを必要とするので、高精細な蒸着マスクへの要求が高い。 製造 In the manufacturing process of such a display device, a high-definition deposition mask is required to form a high-definition light-emitting layer or the like on a substrate. Therefore, a demand for a high-definition deposition mask is high.
 例えば、特許文献1に記載されているように、枠状のフレーム(以下、フレームと称する)に複数の開口を各々有する複数のマスクシート(ディバイデッドマスクとも称する)が固定された従来の蒸着マスクがある。 For example, as described in Patent Literature 1, conventional vapor deposition in which a plurality of mask sheets (also referred to as divided masks) each having a plurality of openings is fixed in a frame-shaped frame (hereinafter, referred to as a frame). There is a mask.
日本国公開特許公報「特開2004‐14513号」公報(2004年01月15日公開)Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2004-14513 (published Jan. 15, 2004)
 ところで、上記のような従来の蒸着マスクでは、フレームに対し、複数のマスクシートを1枚ずつ溶接して固定していた。また、従来の蒸着マスクでは、各マスクシートを適切な位置に溶接するために、フレームに対し予め求められた外力(Counter Force)を付与することにより、当該フレームの変形を是正して、各マスクシートを固定していた。また、従来の蒸着マスクでは、上記外力を適切にフレームに付与するために、当該フレームを空気によってステージから浮上させた状態として、外力を付与していた。 In the conventional evaporation mask as described above, a plurality of mask sheets are fixed to the frame by welding one by one. In addition, in the conventional vapor deposition mask, in order to weld each mask sheet to an appropriate position, a predetermined external force (CounterceForce) is applied to the frame to correct the deformation of the frame and correct each mask sheet. The seat was fixed. Further, in the conventional vapor deposition mask, in order to appropriately apply the external force to the frame, the external force is applied while the frame is floated from the stage by air.
 ところが、上記のような従来の蒸着マスクでは、フレームの形状や加工精度等のばらつきなどに起因して、外力を付与するときに、フレームを適切に浮上させることが難しいという問題点を生じることがあった。 However, in the above-described conventional vapor deposition mask, there is a problem that it is difficult to appropriately float the frame when applying an external force due to variations in the shape and processing accuracy of the frame. there were.
 本発明は、前記の問題点に鑑みてなされたものであり、適切なフレーム浮上を容易に行うことができる蒸着マスク、蒸着マスクの製造装置及び蒸着マスクの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide an evaporation mask, an apparatus for manufacturing an evaporation mask, and a method for manufacturing an evaporation mask capable of easily performing appropriate frame floating. .
 本発明の蒸着マスクは、前記の課題を解決するために、フレームと、前記フレームに固定された複数の開口を有する複数のマスクシートと、を含む蒸着マスクであって、前記フレームは、前記複数のマスクシートが固定される面である第1面と、前記第1面と対向する第2面とを有し、前記第2面には、凹部が設けられている。 The vapor deposition mask of the present invention is a vapor deposition mask including a frame, and a plurality of mask sheets having a plurality of openings fixed to the frame, in order to solve the above problem, wherein the frame is Has a first surface on which the mask sheet is fixed, and a second surface facing the first surface, and a concave portion is provided on the second surface.
 前記構成によれば、フレームの第2面に凹部が設けられているので、当該凹部に対して気体を噴出することにより、適切なフレーム浮上を容易に行うことができる。 According to the above configuration, since the concave portion is provided on the second surface of the frame, appropriate gas floating can be easily performed by ejecting gas to the concave portion.
 本発明の蒸着マスクの製造装置は、前記の課題を解決するために、前記蒸着マスクを載置する載置台を含む蒸着マスクの製造装置であって、前記蒸着マスクを前記載置台の所定位置に載置した際に、前記第2面に設けられた凹部と重畳する前記載置台の領域からは、前記蒸着マスクの浮上用気体が前記凹部に向けて噴出される。 An apparatus for manufacturing a deposition mask according to the present invention is an apparatus for manufacturing a deposition mask including a mounting table on which the evaporation mask is mounted, in order to solve the above-described problem, wherein the evaporation mask is located at a predetermined position on the mounting table. At the time of mounting, a gas for floating the vapor deposition mask is ejected toward the concave portion from a region of the mounting table that overlaps the concave portion provided on the second surface.
 前記構成によれば、第2面に設けられた凹部と重畳する載置台の領域からは、蒸着マスクの浮上用気体が前記凹部に向けて噴出されるので、適切なフレーム浮上を容易に行うことができる。 According to the configuration, the floating gas of the deposition mask is ejected toward the concave portion from the area of the mounting table that overlaps the concave portion provided on the second surface, so that appropriate frame floating can be easily performed. Can be.
 本発明の蒸着マスクの製造方法は、前記の課題を解決するために、フレームに1枚目のマスクシートを固定する1枚目のマスクシート固定工程を含む蒸着マスクの製造方法であって、前記1枚目のマスクシート固定工程の前に、前記フレームの凹部に向けて前記蒸着マスクの浮上用気体を噴出し、前記フレームを載置台から浮上させる工程を行う。 The method of manufacturing a deposition mask of the present invention is a method of manufacturing a deposition mask including a first mask sheet fixing step of fixing a first mask sheet to a frame, in order to solve the above problem. Prior to the first mask sheet fixing step, a step of blowing a gas for floating the vapor deposition mask toward the concave portion of the frame to float the frame from the mounting table is performed.
 前記方法によれば、前記1枚目のマスクシート固定工程の前に、前記フレームの凹部に向けて前記蒸着マスクの浮上用気体を噴出し、前記フレームを載置台から浮上させる工程を行うので、前記1枚目のマスクシート固定工程の前に、適切なフレーム浮上を容易に行うことができる。 According to the method, before the first mask sheet fixing step, a step of ejecting a gas for floating the vapor deposition mask toward the concave portion of the frame and performing the step of floating the frame from the mounting table is performed. Before the first mask sheet fixing step, appropriate frame floating can be easily performed.
 本発明の一態様によれば、適切なフレーム浮上を容易に行うことができる蒸着マスク、蒸着マスクの製造装置及び蒸着マスクの製造方法を提供できる。 According to one embodiment of the present invention, it is possible to provide an evaporation mask, an apparatus for manufacturing an evaporation mask, and a method for manufacturing an evaporation mask that can easily perform appropriate levitation of a frame.
図6の(f)に図示した蒸着マスクに備えられたフレームの概略構成を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a schematic configuration of a frame provided in the vapor deposition mask illustrated in FIG. 第2面に溝が設けられたフレームを含む蒸着マスクの製造方法における各工程を説明するための図である。It is a figure for explaining each process in a manufacturing method of a vapor deposition mask containing a frame provided with a groove in the 2nd surface. (a)は、フレームを蒸着マスクの製造装置におけるステージの所定位置に載置した場合を示す図であり、(b)は、フレームを蒸着マスクの製造装置におけるステージの所定位置に載置した状態で、アライメントシートを設けた場合を示す図であり、(c)は、(b)に図示したアライメントシートを設けたフレームをステージからエアーを用いて浮上させた状態を示す図である。(A) is a figure which shows the case where a frame is mounted in the predetermined position of the stage in a vapor deposition mask manufacturing apparatus, (b) is a state where the frame is mounted in the predetermined position of the stage in a vapor deposition mask manufacturing apparatus. FIG. 3C is a view showing a case where an alignment sheet is provided, and FIG. 4C is a view showing a state in which a frame provided with the alignment sheet shown in FIG. アライメントシートを設けたフレームをステージからエアーを用いて浮上させた状態で、蒸着マスクの製造装置に備えられた加圧部を用いて、フレームに外力を加える場合を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a case where an external force is applied to the frame using a pressurizing unit provided in a deposition mask manufacturing apparatus in a state where the frame provided with the alignment sheet is floated from the stage using air. (a)は、複数の開口を有するマスクシートの一例を示す図であり、(b)は、アライメントシートを設けたフレームをステージからエアーを用いて浮上させた状態で、蒸着マスクの製造装置に備えられた加圧部を用いて、フレームに外力を加える場合を示す側面図であり、(c)は、フレームに複数の開口を有する1枚目のマスクシートを固定する場合を示す図である。(A) is a figure which shows an example of the mask sheet which has a some opening, (b) is the state which floated the frame provided with the alignment sheet from the stage using air, It is a side view which shows the case where external force is applied to a flame | frame using the pressurizing part provided, (c) is a figure which shows the case where the 1st mask sheet which has a several opening is fixed to a flame | frame. . フレームの第1面に複数のマスクシートを固定し、蒸着マスクを製造する工程を説明するための図である。It is a figure for explaining a process of fixing a plurality of mask sheets to the 1st surface of a frame, and manufacturing an evaporation mask. 蒸着マスクに用いることができるフレームの変形例を示す図である。It is a figure showing the modification of the frame which can be used for an evaporation mask. (a)は、中央部に大きな開口を備えた枠状のフレームにおいて、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面を図示しており、(b)は、フレームにおいて、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面の裏面である第2面を図示しており、(c)は、(b)に図示したフレームのB-B’線の断面図である。(A) illustrates a first surface for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in a frame-shaped frame having a large opening in the center, and (b) illustrates the frame in the frame. (C) is a cross-sectional view taken along the line BB ′ of the frame shown in (b). (a)は、中央部に大きな開口を備えた枠状のフレームにおいて、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面を図示しており、(b)は、フレームにおいて、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面の裏面である第2面を図示しており、(c)は、(b)に図示したフレームのC-C’線の断面図である。(A) illustrates a first surface for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in a frame-shaped frame having a large opening in the center, and (b) illustrates the frame in the frame. (C) is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of the frame shown in (b). 蒸着マスクに用いることができるフレームの変形例を示す図である。It is a figure showing the modification of the frame which can be used for an evaporation mask. 比較例のフレームの問題点を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for describing a problem of a frame of a comparative example.
 本発明の実施の形態について図1から図11に基づいて説明すれば、次の通りである。以下、説明の便宜上、特定の実施形態にて説明した構成と同一の機能を有する構成については、同一の符号を付記し、その説明を省略する場合がある。 The following is a description of an embodiment of the present invention, with reference to FIGS. Hereinafter, for convenience of description, the same reference numerals are given to configurations having the same functions as the configurations described in the specific embodiment, and description thereof may be omitted.
 〔実施形態1〕
 以下においては、図1から図7及び図11に基づき、本発明の実施形態1について説明する。
[Embodiment 1]
Hereinafter, Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7 and 11.
 図1は、図6の(f)に図示した蒸着マスク11に備えられたフレーム10の概略構成を示す図である。 FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a frame 10 provided on the vapor deposition mask 11 shown in FIG.
 図1の(a)は、中央部に開口10Kを備えた枠状のフレーム10において、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面10aを図示しており、図1の(b)は、フレーム10において、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面10aの裏面である第2面10bを図示している。図1の(a)に図示しているように、フレーム10における、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面10aは平面となっており、図1の(b)に図示しているように、フレーム10における、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面10aの裏面である第2面10bには、凹部として、枠状であって、断面V字状に形成された溝10Vが設けられている。 FIG. 1A shows a first surface 10a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in a frame-shaped frame 10 having an opening 10K in the center, and FIG. Shows a second surface 10b which is a back surface of the first surface 10a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 10. As shown in FIG. 1A, a first surface 10a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 10 is a flat surface, and as shown in FIG. As shown in the figure, the second surface 10b which is the back surface of the first surface 10a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 10 is formed as a recess in a frame shape having a V-shaped cross section. Groove 10V is provided.
 本実施形態においては、フレーム10を、図示していないステージから均一高さで容易に浮上させるため、溝10Vは、フレーム10の重心CEに対して、点対称で設けられている。なお、フレーム10の重心CEは、例えば、フレーム10の左右方向の中心線L1と上下方向の中心線L2との交差点である。 In the present embodiment, the grooves 10V are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 10 in order to easily float the frame 10 from a stage (not shown) at a uniform height. The center of gravity CE of the frame 10 is, for example, the intersection of the center line L1 in the left-right direction of the frame 10 and the center line L2 in the up-down direction.
 図1の(c)は、図1の(b)に図示したフレーム10のA-A’線の断面図である。図1の(c)に図示しているように、フレーム10の第2面10bの一部には、フレーム10での断面の形状がV字状(つまり、断面V字状)に形成された溝10Vが設けられている。 FIG. 1C is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of the frame 10 shown in FIG. 1B. As shown in FIG. 1C, the cross-sectional shape of the frame 10 is formed in a V-shape (that is, a V-shaped cross-section) on a part of the second surface 10b of the frame 10. A groove 10V is provided.
 図1の(d)は、フレーム10を図示していないステージから容易かつ安定的に浮上させることができる理由を説明する図である。図1の(d)に図示しているように、フレーム10の第2面10bには溝10Vが設けられているので、溝10Vに向けて噴射されたフレーム10を浮上させるための気体であるエアーは、図中点線で示す方向である第2面10bの垂直方向に跳ね返る量が多い。この第2面10bに垂直方向に跳ね返るエアーはフレーム10の浮上に寄与する。 (D) of FIG. 1 is a diagram illustrating the reason why the frame 10 can be easily and stably levitated from a stage (not shown). As shown in FIG. 1D, since the groove 10V is provided on the second surface 10b of the frame 10, it is a gas for floating the frame 10 injected toward the groove 10V. A large amount of air rebounds in a direction perpendicular to the second surface 10b, which is a direction indicated by a dotted line in the drawing. The air that bounces off the second surface 10b in the vertical direction contributes to the floating of the frame 10.
 すなわち、フレーム10の第2面10bに溝10Vを設けることで、フレーム10をエアーを用いて浮上させる際に、エアーの流れを阻害している(エアーの抜けを悪くしている)。これにより、本実施形態では、フレーム10に対するエアーによる浮上力を向上させることができ、例えば、80Kgを超えるような重量を有するフレーム10を図示していないステージから容易かつ安定的に浮上させることができる。なお、ここで、容易に浮上させることができるとは、より少ない量の気体を用いてフレーム10を浮上させることを意味し、安定的に浮上させることができるとは、図示していないステージとフレーム10との間の距離、すなわち、ギャップ(GAP)が異ならないように、フレーム10を適切に浮上させることを意味する。 That is, by providing the groove 10V on the second surface 10b of the frame 10, when the frame 10 is levitated by using air, the flow of air is hindered (air is not easily removed). Thereby, in the present embodiment, the levitation force of the air with respect to the frame 10 can be improved. For example, the frame 10 having a weight exceeding 80 kg can be easily and stably levitated from a stage (not shown). it can. Here, the fact that the frame 10 can be easily levitated means that the frame 10 is levitated using a smaller amount of gas. This means that the frame 10 is appropriately levitated so that the distance from the frame 10, that is, the gap (GAP) does not differ.
 以上のように、蒸着マスクのフレーム10の第2面10bには、溝10Vが設けられているので、フレーム10を図示していないステージから容易かつ安定的に浮上させることができる。この結果、本実施形態では、フレーム10をステージから気体を用いて浮上させた状態で、後述するように、フレーム10に加える外力を適正に調整し、フレーム10の変形を補正することができる。 As described above, since the groove 10V is provided on the second surface 10b of the frame 10 of the evaporation mask, the frame 10 can be easily and stably levitated from a stage (not shown). As a result, in the present embodiment, the external force applied to the frame 10 can be appropriately adjusted and the deformation of the frame 10 can be corrected in a state where the frame 10 is levitated from the stage using the gas, as described later.
 以下、図2から図6に基づいて、第2面10bに溝10Vが設けられたフレーム10を含む蒸着マスク11の製造方法と、蒸着マスク11の製造装置について説明する。 Hereinafter, a method of manufacturing the vapor deposition mask 11 including the frame 10 in which the groove 10V is provided on the second surface 10b and a manufacturing apparatus of the vapor deposition mask 11 will be described with reference to FIGS.
 図2は、第2面10bに溝10Vが設けられたフレーム10を含む蒸着マスク11の製造方法における各工程を説明するための図である。 FIG. 2 is a view for explaining each step in the method of manufacturing the deposition mask 11 including the frame 10 in which the groove 10V is provided on the second surface 10b.
 図3の(a)は、フレーム10を、蒸着マスク11の製造装置におけるステージSTGの所定位置に載置した場合を示す図であり、図3の(b)は、フレーム10を、蒸着マスク11の製造装置におけるステージSTGの所定位置に載置した状態で、図示していないマスクシートの位置決め用のアライメントシート1a・1bを設けた場合を示す図であり、図3の(c)は、図3の(b)に図示したアライメントシート1a・1bを設けたフレーム10をステージSTGからエアーを用いて浮上させた状態を示す図である。 FIG. 3A is a diagram illustrating a case where the frame 10 is placed at a predetermined position on the stage STG in the apparatus for manufacturing the evaporation mask 11, and FIG. FIG. 3C is a view showing a case where alignment sheets 1a and 1b (not shown) for positioning a mask sheet are provided in a state where the stage is mounted on a predetermined position of a stage STG in the manufacturing apparatus of FIG. FIG. 3B is a diagram illustrating a state in which the frame 10 provided with the alignment sheets 1a and 1b illustrated in FIG. 3B is levitated from the stage STG using air.
 図4は、アライメントシート1a・1bを設けたフレーム10をステージSTGからエアーを用いて浮上させた状態で、蒸着マスク11の製造装置に備えられた加圧部15・17を用いて、フレーム10に外力(CF1UL・CF1UC・CF1UR・CF1LL・CF1LC・CF1LR)を加える場合を示す平面図である。 FIG. 4 shows a state in which the frame 10 provided with the alignment sheets 1a and 1b is levitated from the stage STG using air, and the pressurizing units 15 and 17 provided in the apparatus for manufacturing the evaporation mask 11 are used. FIG. 4 is a plan view showing a case where an external force (CF1UL / CF1UC / CF1UR / CF1LL / CF1LC / CF1LR) is applied to the motor.
 図5の(a)は、複数の開口11Kを有するマスクシート2aの一例を示す図である。図5の(b)は、アライメントシート1a・1bを設けたフレーム10をステージSTGからエアーを用いて浮上させた状態で、蒸着マスク11の製造装置に備えられた加圧部15・17を用いて、フレーム10に外力(CF1UL・CF1UC・CF1UR・CF1LL・CF1LC・CF1LR)を加える場合を示す側面図である。図5の(c)は、フレーム10に複数の開口11Kを有する1枚目のマスクシート2aを固定する場合を示す図である。 FIG. 5A is a diagram illustrating an example of a mask sheet 2a having a plurality of openings 11K. FIG. 5B shows a state in which the frame 10 provided with the alignment sheets 1 a and 1 b is floated from the stage STG using air, and the pressurizing units 15 and 17 provided in the apparatus for manufacturing the evaporation mask 11 are used. FIG. 4 is a side view showing a case where an external force (CF1UL / CF1UC / CF1UR / CF1LL / CF1LC / CF1LR) is applied to the frame 10. FIG. 5C is a diagram showing a case where the first mask sheet 2 a having the plurality of openings 11 </ b> K is fixed to the frame 10.
 図6は、フレーム10の第1面10aに複数のマスクシート2a~2lを固定し、蒸着マスク11を製造する工程を説明するための図である。 FIG. 6 is a view for explaining a process of manufacturing the vapor deposition mask 11 by fixing a plurality of mask sheets 2a to 2l to the first surface 10a of the frame 10.
 先ず、図2に図示する第1工程(S1)においては、第2面10bに溝10Vが設けられたフレーム10をステージ(STG)に載置する。この際には、図3の(a)に図示するように、フレーム10の第1面10aは上を向き、フレーム10の第2面10bはステージ(STG)と接触するように、フレーム10はステージ(STG)に載置される。 First, in the first step (S1) shown in FIG. 2, the frame 10 having the groove 10V provided on the second surface 10b is placed on the stage (STG). At this time, as shown in FIG. 3A, the frame 10 is placed such that the first surface 10a of the frame 10 faces upward and the second surface 10b of the frame 10 contacts the stage (STG). It is mounted on a stage (STG).
 次に、図2に図示する第2工程(S2)においては、マスクシートの位置決め用のアライメントシート1a・1bをフレーム10の第1面10aに固定する。図3の(b)に図示するように、2つのアライメントシート1a・1bは、フレーム10の開口10Kの対向する2つの端部のそれぞれに設けられている。すなわち、2つのアライメントシート1a・1bは、フレーム10の第1面10aにおいて、フレーム10の互いに対向する二辺にそれぞれ設けられている。 Next, in the second step (S2) shown in FIG. 2, the alignment sheets 1a and 1b for positioning the mask sheet are fixed to the first surface 10a of the frame 10. As shown in FIG. 3B, two alignment sheets 1a and 1b are provided at two opposite ends of the opening 10K of the frame 10, respectively. That is, the two alignment sheets 1a and 1b are respectively provided on two opposing sides of the frame 10 on the first surface 10a of the frame 10.
 次に、図2に図示する第3工程(S3)においては、エアーでフレーム10を浮上させる。上述したようにフレーム10の第2面10bには、溝10Vが設けられているので、図3の(c)に図示するように、フレーム10をステージ(STG)から容易かつ安定的に浮上させることができる。なお、本実施形態においては、エアーでフレーム10をステージ(STG)から50μm程度浮上させたが、これに限定されることはなく、フレーム10をステージ(STG)から浮上させる高さは適宜決定することができる。 Next, in the third step (S3) shown in FIG. 2, the frame 10 is levitated by air. Since the groove 10V is provided on the second surface 10b of the frame 10 as described above, the frame 10 is easily and stably levitated from the stage (STG) as shown in FIG. 3C. be able to. In the present embodiment, the frame 10 is levitated about 50 μm from the stage (STG) by air. However, the present invention is not limited to this, and the height at which the frame 10 levitates from the stage (STG) is appropriately determined. be able to.
 次に、図2に図示する第4工程(S4)においては、フレーム10を浮上させた状態で、外力(CF1)をフレーム10に加える。図4及び図5の(b)に図示するように、フレーム10をステージ(STG)から浮上させた状態で、フレーム10の上下方向、すなわち、アライメントシート1a・1bの長手方向(図中上下方向)に沿って外力(CF1UL・CF1UC・CF1UR・CF1LL・CF1LC・CF1LR)を加える。 Next, in a fourth step (S4) shown in FIG. 2, an external force (CF1) is applied to the frame 10 while the frame 10 is floating. As shown in FIGS. 4 and 5B, in a state where the frame 10 is lifted from the stage (STG), the vertical direction of the frame 10, that is, the longitudinal direction of the alignment sheets 1a and 1b (the vertical direction in the drawings) ), An external force (CF1UL / CF1UC / CF1UR / CF1LL / CF1LC / CF1LR) is applied.
 図4に図示するように、フレーム10の上側に配置された蒸着マスク11の製造装置に備えられた加圧部15の加圧部材16a・16b・16cを用いて、フレーム10の上左部分に加える外力CF1ULと、フレーム10の上中間部分に加える外力CF1UCと、フレーム10の上右部分に加える外力CF1URとを、それぞれ個別に制御する。同様に、フレーム10の下側に配置された蒸着マスク11の製造装置に備えられた加圧部17の加圧部材18a・18b・18cを用いて、フレーム10の下左部分に加える外力CF1LLと、フレーム10の下中間部分に加える外力CF1LCと、フレーム10の下右部分に加える外力CF1LRとを、それぞれ個別に制御する。 As shown in FIG. 4, using the pressing members 16 a, 16 b, and 16 c of the pressing unit 15 provided in the apparatus for manufacturing the evaporation mask 11 disposed on the upper side of the frame 10, The external force CF1UL to be applied, the external force CF1UC to be applied to the upper middle portion of the frame 10, and the external force CF1UR to be applied to the upper right portion of the frame 10 are individually controlled. Similarly, the external force CF1LL applied to the lower left portion of the frame 10 by using the pressing members 18a, 18b, and 18c of the pressing unit 17 provided in the apparatus for manufacturing the evaporation mask 11 disposed on the lower side of the frame 10 The external force CF1LC applied to the lower middle portion of the frame 10 and the external force CF1LR applied to the lower right portion of the frame 10 are individually controlled.
 なお、この際の外力(CF1UL・CF1UC・CF1UR・CF1LL・CF1LC・CF1LR)は、図6の(a)に図示するように、フレーム10の第1面10aの所定位置、すなわち、2つのアライメントシート1a・1bの略中間部分に1枚目のマスクシート2aが固定(溶接)された場合に生じるフレーム10の変形を予め想定して、この変形を補正するように、前記外力が調整される。また、フレーム10の変形を予め想定する際には、フレーム10及び1枚目のマスクシート2aの大きさや重さなどが考慮される。 The external force (CF1UL, CF1UC, CF1UR, CF1LL, CF1LC, CF1LR) at this time is, as shown in FIG. 6A, a predetermined position on the first surface 10a of the frame 10, that is, two alignment sheets. The external force is adjusted such that the deformation of the frame 10 that occurs when the first mask sheet 2a is fixed (welded) to a substantially intermediate portion between 1a and 1b is corrected in advance. When the deformation of the frame 10 is assumed in advance, the size and weight of the frame 10 and the first mask sheet 2a are considered.
 次に、図2に図示する第5工程(S5)においては、調整された外力(CF1)を加えた状態で、ステージ(STG)にフレーム10を載置する。すなわち、図5の(c)に図示するように、調整された外力(CF1)を加えた状態で、エアーによるフレーム10の浮上を止め、ステージ(STG)にフレーム10を載置する。このように、エアーによるフレーム10の浮上を止めると、フレーム10をステージ(STG)に載置できるのは、外力(CF1UL・CF1UC・CF1UR・CF1LL・CF1LC・CF1LR)のみが加えられた状態では、フレーム10をステージ(STG)から浮上させることはできないからである。 Next, in the fifth step (S5) shown in FIG. 2, the frame 10 is placed on the stage (STG) with the adjusted external force (CF1) applied. That is, as shown in FIG. 5C, in a state where the adjusted external force (CF1) is applied, the floating of the frame 10 by the air is stopped, and the frame 10 is placed on the stage (STG). As described above, when the lifting of the frame 10 by the air is stopped, the frame 10 can be mounted on the stage (STG) only when the external force (CF1UL / CF1UC / CF1UR / CF1LL / CF1LC / CF1LR) is applied. This is because the frame 10 cannot be lifted from the stage (STG).
 次に、図2に図示する第6工程(S6)においては、1枚目のマスクシート2aをフレーム10に載置し、図2に図示する第7工程(S7)においては、1枚目のマスクシート2aを架張しつつ、アライメントシート1a・1bと、観察カメラ3を用いてアライメント調整し、図2に図示する第8工程(S8)においては、フレーム10に外力(CF1UL・CF1UC・CF1UR・CF1LL・CF1LC・CF1LR)が加えられた状態で1枚目のマスクシート2aをフレーム10に溶接する。図5の(a)に図示するように、1枚目のマスクシート2aは、複数の開口11Kを含む。また、図5の(c)に図示しているように、1枚目のマスクシート2aは、図示していない架張部によって、外力(CF1UL・CF1UC・CF1UR・CF1LL・CF1LC・CF1LR)が加えられる方向と反対方向に架張された状態で、複数の観察カメラ3と、2つのアライメントシート1a・1bとを用いて、図6の(a)に図示する2つのアライメントシート1a・1bの略中間部分に、1枚目のマスクシート2aが配置されるようにアライメント調整された後、フレーム10に溶接される。なお、1枚目のマスクシート2aがフレーム10に溶接された状態においては、フレーム10の開口10Kと、1枚目のマスクシート2aの複数の開口11Kとは重畳する。 Next, in a sixth step (S6) shown in FIG. 2, the first mask sheet 2a is placed on the frame 10, and in a seventh step (S7) shown in FIG. While stretching the mask sheet 2a, the alignment is adjusted using the alignment sheets 1a and 1b and the observation camera 3, and in the eighth step (S8) shown in FIG. 2, an external force (CF1UL / CF1UC / CF1UR) is applied to the frame 10. The first mask sheet 2a is welded to the frame 10 in a state where (CF1LL, CF1LC, CF1LR) is added. As shown in FIG. 5A, the first mask sheet 2a includes a plurality of openings 11K. As shown in FIG. 5C, the first mask sheet 2a is subjected to an external force (CF1UL / CF1UC / CF1UR / CF1LL / CF1LC / CF1LR) by a stretching portion (not shown). 6A, a plurality of observation cameras 3 and two alignment sheets 1a and 1b are used, and the two alignment sheets 1a and 1b shown in FIG. The alignment is adjusted so that the first mask sheet 2a is arranged at the intermediate portion, and then the frame is welded to the frame 10. When the first mask sheet 2a is welded to the frame 10, the opening 10K of the frame 10 and the plurality of openings 11K of the first mask sheet 2a overlap.
 次に、図2に図示する第9工程(S9)においては、エアーでフレーム10を再び浮上する。なお、この際には、外力(CF1)は維持された状態である。 Next, in a ninth step (S9) shown in FIG. 2, the frame 10 is levitated again by air. At this time, the external force (CF1) is maintained.
 次に、図2に図示する第10工程(S10)においては、外力(CF1)を外力(CF2)に調整する。外力(CF2)、具体的に、外力(CF2UL・CF2UC・CF2UR・CF2LL・CF2LC・CF2LR)は、図6の(b)に図示するように、フレーム10の第1面10aの所定位置、すなわち、2つのアライメントシート1a・1bの略中間部分に1枚目のマスクシート2aと2枚目のマスクシート2bが固定(溶接)された場合に生じるフレーム10の変形を予め想定して、この変形を補正するように、前記外力が調整される。また、フレーム10の変形を予め想定する際には、フレーム10、1枚目のマスクシート2a及び2枚目のマスクシート2bの大きさや重さなどが考慮される。 Next, in the tenth step (S10) shown in FIG. 2, the external force (CF1) is adjusted to the external force (CF2). The external force (CF2), specifically, the external force (CF2UL / CF2UC / CF2UR / CF2LL / CF2LC / CF2LR) is, as shown in FIG. 6B, a predetermined position on the first surface 10a of the frame 10, that is, The deformation of the frame 10 that occurs when the first mask sheet 2a and the second mask sheet 2b are fixed (welded) to a substantially intermediate portion between the two alignment sheets 1a and 1b is assumed in advance, and this deformation is performed. The external force is adjusted to compensate. When the deformation of the frame 10 is assumed in advance, the size, weight, and the like of the frame 10, the first mask sheet 2a, and the second mask sheet 2b are considered.
 次に、図2に図示する第11工程(S11)においては、調整された外力(CF2)を加えた状態で、ステージ(STG)にフレーム10を載置する。 Next, in the eleventh step (S11) shown in FIG. 2, the frame 10 is placed on the stage (STG) with the adjusted external force (CF2) applied.
 次に、図2に図示する第12工程(S12)においては、2枚目のマスクシート2bをフレーム10に載置し、図2に図示する第13工程(S13)においては、2枚目のマスクシート2bを架張しつつ、アライメントシート1a・1bと、観察カメラ3を用いてアライメント調整し、図2に図示する第14工程(S14)においては、フレーム10に外力(CF2UL・CF2UC・CF2UR・CF2LL・CF2LC・CF2LR)が加えられた状態で2枚目のマスクシート2bをフレーム10に溶接する。図6の(b)に図示する2つのアライメントシート1a・1bの略中間部分に、2枚目のマスクシート2bが配置されるようにアライメント調整された後、フレーム10に溶接される。 Next, in the twelfth step (S12) shown in FIG. 2, the second mask sheet 2b is placed on the frame 10, and in the thirteenth step (S13) shown in FIG. While stretching the mask sheet 2b, the alignment is adjusted using the alignment sheets 1a and 1b and the observation camera 3, and in a fourteenth step (S14) shown in FIG. 2, an external force (CF2UL, CF2UC, CF2UR) is applied to the frame 10. The second mask sheet 2b is welded to the frame 10 in a state where (CF2LL, CF2LC, CF2LR) is added. The alignment is adjusted so that the second mask sheet 2b is arranged at a substantially intermediate portion between the two alignment sheets 1a and 1b shown in FIG.
 図6の(b)に図示する外力(CF2UL・CF2UC・CF2UR・CF2LL・CF2LC・CF2LR)の各々の大きさは、図6の(a)に図示する外力(CF1UL・CF1UC・CF1UR・CF1LL・CF1LC・CF1LR)の各々の大きさより小さい。 The magnitude of each of the external forces (CF2UL, CF2UC, CF2UR, CF2LL, CF2LC, CF2LR) illustrated in FIG. CF1LR).
 図2においては、3枚目のマスクシート2cから11枚目のマスクシート2kに関する各工程と、12枚目のマスクシート2lに関する各工程の一部との図示が省略されているが、上述した1枚目のマスクシート2aや2枚目のマスクシート2bに関する各工程が繰り替えされる。なお、フレーム10に加えられる外力は、後工程になる程、小さくなる。例えば、2枚目のマスクシート2bを溶接する際に、フレーム10に加えられる外力は、3枚目のマスクシート2cを溶接する際に、フレーム10に加えられる外力より大きい。更に、フレーム10に加えられる外力は、予めマスクシート毎に算出されて、記憶装置(図示せず)に保持されているものが用いられている。 In FIG. 2, the illustration of each step relating to the third mask sheet 2 c to the eleventh mask sheet 2 k and a part of each step relating to the twelfth mask sheet 2 l is omitted, but is described above. Each step for the first mask sheet 2a and the second mask sheet 2b is repeated. Note that the external force applied to the frame 10 becomes smaller as it goes to a later process. For example, the external force applied to the frame 10 when welding the second mask sheet 2b is larger than the external force applied to the frame 10 when welding the third mask sheet 2c. Further, the external force applied to the frame 10 is calculated in advance for each mask sheet, and is used that is held in a storage device (not shown).
 図6の(a)に図示するように、1枚目のマスクシート2aは、外力(CF1UL・CF1UC・CF1UR・CF1LL・CF1LC・CF1LR)の各々が加えられる方向に沿って、フレーム10における、外力(CF1UL・CF1UC・CF1UR・CF1LL・CF1LC・CF1LR)の各々が加えられる方向と直交する方向の中央領域に溶接されている。また、図6の(b)に図示するように、2枚目のマスクシート2bは、外力(CF2UL・CF2UC・CF2UR・CF2LL・CF2LC・CF2LR)の各々が加えられる方向に沿って、フレーム10における、外力(CF2UL・CF2UC・CF2UR・CF2LL・CF2LC・CF2LR)の各々が加えられる方向と直交する方向の中央領域であって、1枚目のマスクシート2aと隣接するように溶接されている。また、図6の(c)に図示するように、3枚目のマスクシート2cは、外力(CF3UL・CF3UC・CF3UR・CF3LL・CF3LC・CF3LR)の各々が加えられる方向に沿って、1枚目のマスクシート2aと隣接して溶接された2枚目のマスクシート2bより1枚目のマスクシート2aと隣接するように、フレーム10に溶接されている。そして、4枚目のマスクシート2dから7枚目のマスクシート2gの各々を、1枚目のマスクシート2aを基準に、右左順番に溶接し、図6の(d)に図示するように、1枚目のマスクシート2aから7枚目のマスクシート2gをフレーム10の所定位置に溶接することができる。 As shown in FIG. 6A, the first mask sheet 2a applies an external force to the frame 10 along the direction in which each of the external forces (CF1UL, CF1UC, CF1UR, CF1LL, CF1LC, CF1LR) is applied. (CF1UL, CF1UC, CF1UR, CF1LL, CF1LC, CF1LR) are welded to the central region in a direction orthogonal to the direction in which each of them is added. Also, as shown in FIG. 6B, the second mask sheet 2b is applied to the frame 10 along the direction in which each of the external forces (CF2UL, CF2UC, CF2UR, CF2LL, CF2LC, CF2LR) is applied. And a central region in a direction orthogonal to the direction in which each of the external forces (CF2UL, CF2UC, CF2UR, CF2LL, CF2LC, CF2LR) is applied, and is welded to be adjacent to the first mask sheet 2a. Further, as shown in FIG. 6C, the third mask sheet 2c is formed by applying the first external force (CF3UL / CF3UC / CF3UR / CF3LL / CF3LC / CF3LR) to the first sheet. The second mask sheet 2b welded adjacent to the first mask sheet 2a is welded to the frame 10 so as to be adjacent to the first mask sheet 2a. Then, each of the fourth mask sheet 2d to the seventh mask sheet 2g is welded in the order of right and left on the basis of the first mask sheet 2a, as shown in FIG. The first mask sheet 2a to the seventh mask sheet 2g can be welded to predetermined positions of the frame 10.
 図6の(d)には、外力(CF7UC・CF7LC)を図示していない。これは、1枚目のマスクシート2aから7枚目のマスクシート2gが溶接されたフレーム10の上中間部分及び下中間部分には、外力(CF7UC・CF7LC)を加える必要がないからである。 外 External force (CF7UC / CF7LC) is not shown in (d) of FIG. This is because there is no need to apply an external force (CF7UC / CF7LC) to the upper intermediate portion and the lower intermediate portion of the frame 10 to which the first mask sheet 2a to the seventh mask sheet 2g are welded.
 次に、図2に図示する第15工程(S15)においては、図6の(e)に図示するように、フレーム10に外力(CF12UL・CF12UR・CF12LL・CF12LR)が加えられた状態で12枚目のマスクシート2lをフレーム10に溶接する。 Next, in a fifteenth step (S15) shown in FIG. 2, as shown in FIG. 6E, 12 sheets of the frame 10 are subjected to an external force (CF12UL, CF12UR, CF12LL, CF12LR). The eye mask sheet 2l is welded to the frame 10.
 次に、図2に図示する第16工程(S16)においては、フレーム10に外力(CF12)が加えられた状態で、エアーでフレーム10を再び浮上させた後、図2に図示する第17工程(S17)において、外力(CF12)を除くことで、図6の(f)に図示する蒸着マスク11を製造することができる。 Next, in a sixteenth step (S16) shown in FIG. 2, after the frame 10 is floated again by air in a state where the external force (CF12) is applied to the frame 10, a 17th step shown in FIG. In (S17), by removing the external force (CF12), the vapor deposition mask 11 shown in FIG. 6F can be manufactured.
 以上のように、本実施形態においては、同一形状の12枚のマスクシート2a~2lをフレーム10に固定する場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、複数のマスクシートの形状はそれぞれ異なってもよく、固定するマスクシートの枚数も適宜決めればよい。 As described above, in the present embodiment, the case where the twelve mask sheets 2a to 2l having the same shape are fixed to the frame 10 has been described as an example. However, the present invention is not limited to this. The shapes of the sheets may be different from each other, and the number of mask sheets to be fixed may be appropriately determined.
 また、本実施形態においては、溶接によって、マスクシート2a~2lをフレーム10に固定する場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、溶接以外の方法で、マスクシート2a~2lがフレーム10に固定されてもよい。 Further, in the present embodiment, the case where the mask sheets 2a to 2l are fixed to the frame 10 by welding has been described as an example. However, the present invention is not limited thereto. ~ 2l may be fixed to the frame 10.
 また、本実施形態においては、気体として、エアー(空気)を用いた場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、例えば、窒素やアルゴンなどを用いてもよい。 Further, in the present embodiment, the case where air (air) is used as the gas has been described as an example. However, the present invention is not limited to this. For example, nitrogen or argon may be used.
 また、本実施形態においては、フレーム10の具体的なサイズ等は以下のとおりである。つまり、フレーム10では、例えば、外形サイズが1115mm×940mm、開口10Kのサイズが884mm×694mm、厚さが30mm、重さが80Kgである。但し、フレーム10は、気体を用いて浮上できるのであれば、外形サイズ、開口のサイズ、厚さ及び重さは特に限定されない。 In addition, in the present embodiment, specific sizes and the like of the frame 10 are as follows. That is, in the frame 10, for example, the external size is 1115 mm × 940 mm, the size of the opening 10K is 884 mm × 694 mm, the thickness is 30 mm, and the weight is 80 kg. However, the external size, the size of the opening, the thickness, and the weight are not particularly limited as long as the frame 10 can float using gas.
 (比較例)
 一方、図11は、比較例のフレーム100での問題点を説明するための図である。
(Comparative example)
On the other hand, FIG. 11 is a diagram for explaining a problem in the frame 100 of the comparative example.
 図11の(a)は、中央部に開口100Kを備えた枠状のフレーム100において、図示していない複数のマスクシートを固定する面100aを図示しており、図11の(b)は、フレーム100において、図示していない複数のマスクシートを固定する面100aの裏面100bを図示している。図11の(a)及び図11の(b)に図示しているように、フレーム100における、図示していない複数のマスクシートを固定する面100aと、その裏面100bとは、何れも平面となっている。 FIG. 11A illustrates a surface 100a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in a frame 100 having an opening 100K in the center, and FIG. In the frame 100, a back surface 100b of a surface 100a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) is illustrated. As shown in FIGS. 11A and 11B, the surface 100a of the frame 100 for fixing a plurality of mask sheets (not shown) and the back surface 100b are both flat. Has become.
 図11の(c)及び図11の(d)は、フレーム100をステージから容易に浮上させることができない理由を説明する図である。図11の(c)に図示しているように、フレーム100の裏面100bは平面であるので、フレーム100を浮上させるためのエアーは、フレーム100の裏面100bにおいて、図中点線で示す方向に流れる。具体的には、図中点線で示すように、エアーの多くは、裏面100bに沿って流れ、エアーの一部のみが、裏面100bに垂直方向に跳ね返る。裏面100bに垂直方向に跳ね返るエアーはフレーム100の浮上に寄与するが、裏面100bに沿って流れるエアーはフレーム100の浮上に寄与しない。したがって、フレーム100の場合、裏面100bが平面であるため、フレーム100をステージから容易に浮上させることができない。 (C) of FIG. 11 and (d) of FIG. 11 are diagrams illustrating the reason why the frame 100 cannot be easily levitated from the stage. As shown in FIG. 11C, since the back surface 100b of the frame 100 is flat, air for floating the frame 100 flows in the direction shown by the dotted line in the drawing on the back surface 100b of the frame 100. . More specifically, as indicated by the dotted line in the drawing, most of the air flows along the back surface 100b, and only a part of the air bounces in a direction perpendicular to the back surface 100b. The air that bounces back to the rear surface 100b in the vertical direction contributes to the floating of the frame 100, but the air that flows along the rear surface 100b does not contribute to the floating of the frame 100. Therefore, in the case of the frame 100, since the back surface 100b is a flat surface, the frame 100 cannot be easily levitated from the stage.
 また、フレーム100をステージから浮上させたとしても、安定的には浮上できないので、図11の(d)に図示しているように、容易にフレーム100が傾いてしまい、フレーム100の位置毎に、ステージSTGとフレーム100との間の距離、すなわち、ギャップ(GAP)が異なったり、フレーム100をステージSTGから浮上できない箇所などが生じてしまうので、フレーム100に加える外力を適正に調整し、フレーム100の変形を補正することは困難である。 Moreover, even if the frame 100 is lifted off the stage, it cannot be stably lifted, so that the frame 100 is easily inclined as shown in FIG. Since the distance between the stage STG and the frame 100, that is, a gap (GAP) is different or a portion where the frame 100 cannot be lifted from the stage STG occurs, the external force applied to the frame 100 is appropriately adjusted. It is difficult to correct 100 deformations.
 (変形例)
 本実施形態においては、図1の(c)及び図1の(d)に図示しているように、フレーム10の第2面10bの一部に、その断面の形状がV字状に形成された溝10Vが設けられている場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、例えば、図7に図示するようなフレームを用いてもよい。
(Modification)
In the present embodiment, as shown in FIGS. 1C and 1D, a part of the second surface 10b of the frame 10 has a V-shaped cross section. Although the case where the groove 10V is provided is described as an example, the present invention is not limited to this. For example, a frame as shown in FIG. 7 may be used.
 図7は、本実施形態の蒸着マスクに用いることができるフレームの変形例を示す図である。 FIG. 7 is a view showing a modified example of a frame that can be used for the vapor deposition mask of the present embodiment.
 図7の(a)に図示するフレーム20においては、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面20aの裏面である第2面20b全体に、凹部として、その断面の形状がV字状(つまり、断面V字状)に形成された溝20Vが設けられている。 In the frame 20 illustrated in FIG. 7A, a concave portion is formed in the entire second surface 20b which is the back surface of the first surface 20a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) as a concave portion. A groove 20V formed in a shape (ie, a V-shaped cross section) is provided.
 図7の(b)に図示するフレーム21においては、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面21aの裏面である第2面21bの一部に、凹部として、その断面の形状が半円形状(つまり、断面半円形状)に形成された溝21Rが設けられている。 In the frame 21 shown in FIG. 7B, a part of a second surface 21b which is a back surface of the first surface 21a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) is formed as a recess, and the cross-sectional shape thereof is formed. A groove 21R formed in a semicircular shape (that is, a semicircular cross section) is provided.
 図7の(c)に図示するフレーム22においては、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面22aの裏面である第2面22b全体に、凹部として、その断面の形状が円弧状(つまり、断面円弧状)に形成された溝22Rが設けられている。 In the frame 22 shown in FIG. 7 (c), the entire second surface 22b which is the back surface of the first surface 22a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) is formed as a concave portion, and the cross-sectional shape thereof is arc-shaped. The groove 22 </ b> R formed in (i.e., an arc-shaped section) is provided.
 図7の(d)に図示するフレーム23においては、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面23aの裏面である第2面23bの一部に、凹部として、その断面の形状が長方形状(スリット形状)つまり、断面長方形状に形成された溝23Sが設けられている。 In the frame 23 illustrated in FIG. 7D, a part of a second surface 23b which is a back surface of the first surface 23a for fixing a plurality of mask sheets (not illustrated) is formed as a recess, and its cross-sectional shape is formed. A groove 23S formed in a rectangular shape (slit shape), that is, a rectangular cross section is provided.
 なお、溝20V、溝21R、溝22R及び溝23Sは、図1の(b)に図示する溝10Vのように、枠状に形成されている。 The groove 20V, the groove 21R, the groove 22R, and the groove 23S are formed in a frame shape like the groove 10V illustrated in FIG.
 フレーム20~23の何れにおいても、フレーム20~23をエアーを用いて浮上させる際に、エアーの流れを阻害している(エアーの抜けを悪くしている)。これにより、フレーム20~23に対するエアーによる浮上力を向上させているので、フレーム20~23を図示していないステージから容易かつ安定的(適切)に浮上させることができる。 (4) In any of the frames 20 to 23, when the frames 20 to 23 are levitated by using air, the flow of air is hindered (air escape is deteriorated). Thereby, the levitation force of the air on the frames 20 to 23 is improved, so that the frames 20 to 23 can be easily and stably (appropriately) levitated from a stage (not shown).
 〔実施形態2〕
 次に、図8に基づき、本発明の実施形態2について説明する。本実施形態の蒸着マスクに備えられたフレーム24においては、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面24aの裏面である第2面24bに、その断面の形状が長方形状(スリット形状)に形成された溝24S1・24S2・24S3が複数個設けられている点において、実施形態1とは異なり、その他については実施形態1において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態1の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。
[Embodiment 2]
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the frame 24 provided in the vapor deposition mask of this embodiment, the cross-sectional shape of the second surface 24b, which is the back surface of the first surface 24a for fixing a plurality of mask sheets (not shown), is rectangular (slit shape). ) Is different from the first embodiment in that a plurality of grooves 24S1, 24S2, and 24S3 are provided, and the others are as described in the first embodiment. For convenience of explanation, members having the same functions as those shown in the drawings of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
 図8の(a)は、中央部に開口24Kを備えた枠状のフレーム24において、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面24aを図示しており、図8の(b)は、フレーム24において、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面24aの裏面である第2面24bを図示している。図8の(a)に図示しているように、フレーム24における、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面24aは平面となっており、図8の(b)に図示しているように、フレーム24における、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面24aの裏面である第2面24bには、凹部として、枠状であって、その断面の形状が長方形状(スリット形状)つまり、断面長方形状に形成された溝24S1・24S2・24S3が3個設けられている。 FIG. 8A shows a first surface 24a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in a frame-shaped frame 24 having an opening 24K in the center, and FIG. Shows a second surface 24b which is a back surface of the first surface 24a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 24. As shown in FIG. 8A, a first surface 24a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 24 is a flat surface, and is shown in FIG. As shown, the second surface 24b which is the back surface of the first surface 24a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 24 has a frame shape as a concave portion, and the cross-sectional shape thereof is rectangular. (Slit shape) In other words, three grooves 24S1, 24S2, 24S3 formed in a rectangular cross section are provided.
 図8の(c)は、図8の(b)に図示したフレーム24のB-B’線の断面図である。図8の(c)に図示しているように、フレーム24の第2面24bには、その断面の形状が長方形状(スリット形状)に形成された溝24S1・24S2・24S3が3個設けられている。 FIG. 8C is a cross-sectional view taken along line B-B ′ of the frame 24 shown in FIG. 8B. As shown in FIG. 8C, three grooves 24S1, 24S2, 24S3 having a rectangular (slit) cross section are provided on the second surface 24b of the frame 24. ing.
 図8の(b)に図示するように、枠状に設けられた溝24S1・24S2・24S3においては、より外側に設けられた溝24S1の全長は、より内側に設けられた溝24S2・24S3の全長より長く、より外側に設けられた溝24S2の全長は、より内側に設けられた溝24S3の全長より長い。 As illustrated in FIG. 8B, in the grooves 24S1, 24S2, and 24S3 provided in a frame shape, the total length of the grooves 24S1 provided on the outer side is equal to that of the grooves 24S2 and 24S3 provided on the inner side. The length of the groove 24S2 provided longer than the entire length and provided on the outside is longer than the total length of the groove 24S3 provided on the inside.
 また、本実施形態においては、図8の(b)に図示するように、フレーム24を、図示していないステージから均一高さで容易に浮上させるため、溝24S1・24S2・24S3は、フレーム24の重心CEに対して、点対称で設けられているが、これに限定されることはない。 In the present embodiment, as shown in FIG. 8B, the grooves 24S1, 24S2, and 24S3 are formed on the frame 24 in order to easily float the frame 24 from a stage (not shown) at a uniform height. Are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE, but are not limited to this.
 以上のように、フレーム24においては、枠状の凹部が複数個設けられているので、フレーム24をエアーを用いて浮上させる際に、エアーの流れをより阻害している(エアーの抜けをより悪くしている)。これによりフレーム24に対するエアーによる浮上力をより向上させているので、フレーム24を図示していないステージから容易かつ安定的(適切)に浮上させることができる。 As described above, since the frame 24 is provided with a plurality of frame-shaped concave portions, the air flow is more hindered when the frame 24 is levitated by using air (the air is more likely to escape). Worse). As a result, the levitation force of the air on the frame 24 is further improved, so that the frame 24 can be easily and stably (appropriately) levitated from a stage (not shown).
 〔実施形態3〕
 次に、図9及び図10に基づき、本発明の実施形態3について説明する。本実施形態の蒸着マスクに備えられたフレーム25~29においては、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面の裏面である第2面に、溝(凹部)が島状に複数個設けられており、この複数個の溝(凹部)は、フレーム25~29の重心に対して、点対称である点において、実施形態1及び2とは異なり、その他については実施形態1及び2において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態1及び2の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。
[Embodiment 3]
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the frames 25 to 29 provided in the vapor deposition mask according to the present embodiment, a plurality of islands (grooves) are formed on the second surface, which is the back surface of the first surface for fixing a plurality of mask sheets (not shown). The plurality of grooves (concave portions) are different from the first and second embodiments in that they are point-symmetric with respect to the center of gravity of the frames 25 to 29. As described. For convenience of explanation, members having the same functions as the members shown in the drawings of Embodiments 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
 図9の(a)は、中央部に開口25Kを備えた枠状のフレーム25において、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面25aを図示しており、図9の(b)は、フレーム25において、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面25aの裏面である第2面25bを図示している。図9の(a)に図示しているように、フレーム25における、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面25aは平面となっており、図9の(b)に図示しているように、フレーム25における、図示していない複数のマスクシートを固定する第1面25aの裏面である第2面25bには、凹部として、溝25S1~S25S12が島状に設けられている。 FIG. 9A illustrates a first surface 25a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in a frame 25 having an opening 25K in the center, and FIG. Shows a second surface 25b which is a back surface of the first surface 25a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 25. As shown in FIG. 9A, the first surface 25a of the frame 25 for fixing a plurality of mask sheets (not shown) is flat, and is shown in FIG. 9B. As shown in the figure, grooves 25S1 to S25S12 are formed as recesses in an island shape on the second surface 25b which is the back surface of the first surface 25a for fixing a plurality of mask sheets (not shown) in the frame 25.
 図9の(c)は、図9の(b)に図示したフレーム25のC-C’線の断面図である。図9の(c)に図示しているように、フレーム25の第2面25bには、その断面の形状が長方形状(スリット形状)に形成された溝25S1~S25S12が12個設けられている。 FIG. 9C is a cross-sectional view taken along line C-C ′ of the frame 25 illustrated in FIG. 9B. As shown in FIG. 9C, twelve grooves 25S1 to S25S12 having a rectangular (slit) cross section are provided on the second surface 25b of the frame 25. .
 また、本実施形態においては、図9の(b)に図示するように、フレーム25を、図示していないステージから均一高さで容易に浮上させるため、溝25S1~S25S3と、溝25S10~S25S12とは、フレーム25の重心CEに対して、点対称で設けられており、溝25S4~S25S6と、溝25S7~S25S9とは、フレーム25の重心CEに対して、点対称で設けられている。 In the present embodiment, as shown in FIG. 9B, the grooves 25S1 to S25S3 and the grooves 25S10 to S25S12 are used to easily float the frame 25 from a stage (not shown) at a uniform height. Are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 25, and the grooves 25S4 to S25S6 and the grooves 25S7 to S25S9 are provided with point symmetry with respect to the center of gravity CE of the frame 25.
 フレーム25においても、フレーム25をエアーを用いて浮上させる際に、エアーの流れを阻害する(エアーの抜けを悪くする)ことにより、フレーム25に対するエアーによる浮上力を向上させているので、フレーム25を図示していないステージから容易かつ安定的に浮上させることができる。 Also in the frame 25, when the frame 25 is levitated by using air, the flow of air is hindered (it is difficult to remove air), so that the levitation force of the air on the frame 25 is improved. Can easily and stably float from a stage not shown.
 図10は、本実施形態の蒸着マスクに用いることができるフレームの変形例を示す図である。 FIG. 10 is a view showing a modified example of a frame that can be used for the vapor deposition mask of the present embodiment.
 図10の(a)に図示するように、フレーム26においては、その第2面26bには、凹部として、溝26S1と溝26S2とが島状に設けられている。そして、フレーム26を、図示していないステージから均一高さで容易に浮上させるため、溝26S1と溝26S2とは、フレーム26の重心CEに対して、点対称で設けられている。 フ レ ー ム As shown in FIG. 10A, in the frame 26, a groove 26S1 and a groove 26S2 are formed in the second surface 26b as islands in a concave shape. The groove 26S1 and the groove 26S2 are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 26 in order to easily float the frame 26 from a stage (not shown) at a uniform height.
 図10の(b)に図示するように、フレーム27においては、その第2面27bには、凹部として、溝27S1と溝27S2とが島状に設けられている。そして、フレーム27を、図示していないステージから均一高さで容易に浮上させるため、溝27S1と溝27S2とは、フレーム27の重心CEに対して、点対称で設けられている。 フ レ ー ム As shown in FIG. 10B, in the frame 27, a groove 27S1 and a groove 27S2 are provided as recesses on the second surface 27b in an island shape. The groove 27S1 and the groove 27S2 are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 27 in order to easily float the frame 27 from a stage (not shown) at a uniform height.
 図10の(c)に図示するように、フレーム28においては、その第2面28bには、凹部として、溝28S1と、溝28S2と、溝28S3と、溝28S4とが島状に設けられている。そして、フレーム28を、図示していないステージから均一高さで容易に浮上させるため、溝28S1と溝28S2とは、フレーム28の重心CEに対して、点対称で設けられており、溝28S3と溝28S4とは、フレーム28の重心CEに対して、点対称で設けられている。 As shown in FIG. 10C, in the frame 28, a groove 28S1, a groove 28S2, a groove 28S3, and a groove 28S4 are provided as recesses on the second surface 28b in an island shape. I have. The groove 28S1 and the groove 28S2 are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 28 so that the frame 28 can easily float at a uniform height from a stage (not shown). The groove 28S4 is provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 28.
 図10の(d)に図示するように、フレーム29においては、その第2面29bには、凹部として、溝29S1と、溝29S2と、溝29S3と、溝29S4とが島状に設けられている。そして、フレーム29を、図示していないステージから均一高さで容易に浮上させるため、溝29S1と溝29S2とは、フレーム29の重心CEに対して、点対称で設けられており、溝29S3と溝29S4とは、フレーム29の重心CEに対して、点対称で設けられている。 As shown in FIG. 10D, in the frame 29, a groove 29S1, a groove 29S2, a groove 29S3, and a groove 29S4 are provided as recesses on the second surface 29b in an island shape. I have. The groove 29S1 and the groove 29S2 are provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 29 so that the frame 29 can easily float at a uniform height from a stage (not shown). The groove 29S4 is provided point-symmetrically with respect to the center of gravity CE of the frame 29.
 フレーム26~29においても、フレーム26~29をエアーを用いて浮上させる際に、エアーの流れを阻害している(エアーの抜けを悪くしている)。これにより、フレーム26~29に対するエアーによる浮上力を向上させているので、フレーム26~29を図示していないステージから容易かつ安定的(適切)に浮上させることができる。 も Also in the frames 26 to 29, when the frames 26 to 29 are levitated by using air, the flow of air is hindered (air escape is deteriorated). Thus, the levitation force of the frames 26 to 29 by air is improved, so that the frames 26 to 29 can be easily and stably (appropriately) levitated from a stage (not shown).
 〔まとめ〕
 〔態様1〕
 フレームと、前記フレームに固定された複数の開口を有する複数のマスクシートと、を含む蒸着マスクであって、
 前記フレームは、前記複数のマスクシートが固定される面である第1面と、前記第1面と対向する第2面とを有し、
 前記第2面には、凹部が設けられている蒸着マスク。
[Summary]
[Aspect 1]
A frame, a plurality of mask sheets having a plurality of openings fixed to the frame, a vapor deposition mask including,
The frame has a first surface on which the plurality of mask sheets are fixed, and a second surface facing the first surface,
An evaporation mask having a concave portion provided on the second surface.
 〔態様2〕
 前記凹部には、前記蒸着マスクを製造する際に、当該蒸着マスクを浮上させるための浮上用気体が噴出される態様1に記載の蒸着マスク。
[Aspect 2]
The vapor deposition mask according to mode 1, wherein a floating gas for floating the vapor deposition mask is jetted into the concave portion when the vapor deposition mask is manufactured.
 〔態様3〕
 前記凹部は、枠状に設けられている態様1または2に記載の蒸着マスク。
[Aspect 3]
The vapor deposition mask according to aspect 1 or 2, wherein the recess is provided in a frame shape.
 〔態様4〕
 前記第2面には、枠状の凹部が複数個設けられている態様3に記載の蒸着マスク。
[Aspect 4]
The vapor deposition mask according to aspect 3, wherein a plurality of frame-shaped concave portions are provided on the second surface.
 〔態様5〕
 前記凹部は、前記フレームの重心に対して、点対称である態様3または4に記載の蒸着マスク。
[Aspect 5]
The vapor deposition mask according to aspect 3 or 4, wherein the recess is point-symmetric with respect to the center of gravity of the frame.
 〔態様6〕
 前記凹部は、島状に複数個設けられており、
 前記複数個の凹部は、前記フレームの重心に対して、点対称である態様1または2に記載の蒸着マスク。
[Aspect 6]
A plurality of the concave portions are provided in an island shape,
The vapor deposition mask according to aspect 1 or 2, wherein the plurality of recesses are point-symmetric with respect to the center of gravity of the frame.
 〔態様7〕
 前記凹部は、断面V字状に形成された溝を含む態様1から6の何れかに記載の蒸着マスク。
[Aspect 7]
The vapor deposition mask according to any one of aspects 1 to 6, wherein the concave portion includes a groove formed in a V-shaped cross section.
 〔態様8〕
 前記凹部は、断面長方形状に形成された溝を含む態様1から6の何れかに記載の蒸着マスク。
[Aspect 8]
The vapor deposition mask according to any one of aspects 1 to 6, wherein the concave portion includes a groove formed in a rectangular cross section.
 〔態様9〕
 前記凹部は、断面円弧状に形成された溝を含む態様1から6の何れかに記載の蒸着マスク。
[Aspect 9]
The vapor deposition mask according to any one of aspects 1 to 6, wherein the concave portion includes a groove formed in an arc cross section.
 〔態様10〕
 前記第1面には、前記マスクシートの位置決め用のアライメントシートが設けられている態様1から9の何れかに記載の蒸着マスク。
[Aspect 10]
The vapor deposition mask according to any one of aspects 1 to 9, wherein an alignment sheet for positioning the mask sheet is provided on the first surface.
 〔態様11〕
 前記第1面には、前記フレームの互いに対向する二辺にそれぞれ二つの前記アライメントシートが設けられている態様10に記載の蒸着マスク。
[Aspect 11]
The vapor deposition mask according to aspect 10, wherein the two alignment sheets are provided on two sides of the frame on the first surface facing each other.
 〔態様12〕
 前記マスクシートは、前記アライメントシートの長手方向に架張され、前記第1面に溶接されている態様10または11に記載の蒸着マスク。
[Aspect 12]
The vapor deposition mask according to aspect 10 or 11, wherein the mask sheet is stretched in a longitudinal direction of the alignment sheet and is welded to the first surface.
 〔態様13〕
 態様1から11の何れかに記載の蒸着マスクを載置する載置台を含む蒸着マスクの製造装置であって、
 前記蒸着マスクを前記載置台の所定位置に載置した際に、前記第2面に設けられた凹部と重畳する前記載置台の領域からは、前記蒸着マスクの浮上用気体が前記凹部に向けて噴出される蒸着マスクの製造装置。
[Aspect 13]
An apparatus for manufacturing a vapor deposition mask including a mounting table on which the vapor deposition mask according to any one of aspects 1 to 11 is mounted,
When the vapor deposition mask is placed at a predetermined position on the mounting table, from the region of the mounting table overlapping the concave portion provided on the second surface, the gas for floating the vapor deposition mask is directed toward the concave portion. Equipment for manufacturing a vapor deposition mask to be ejected.
 〔態様14〕
 前記蒸着マスクのフレームに外力を加える加圧部を備えている態様13に記載の蒸着マスクの製造装置。
[Aspect 14]
The vapor deposition mask manufacturing apparatus according to aspect 13, further comprising a pressurizing unit that applies an external force to a frame of the vapor deposition mask.
 〔態様15〕
 前記マスクシートを架張する架張部と、
 前記マスクシートのアライメント調整をするためのカメラと、を備えている態様13または14に記載の蒸着マスクの製造装置。
[Aspect 15]
A stretching portion for stretching the mask sheet,
15. The vapor deposition mask manufacturing apparatus according to aspect 13 or 14, further comprising a camera for adjusting the alignment of the mask sheet.
 〔態様16〕
 フレームに1枚目のマスクシートを固定する1枚目のマスクシート固定工程を含む蒸着マスクの製造方法であって、
 前記1枚目のマスクシート固定工程の前に、前記フレームの凹部に向けて前記蒸着マスクの浮上用気体を噴出し、前記フレームを載置台から浮上させる工程を行う蒸着マスクの製造方法。
[Aspect 16]
A method for manufacturing a deposition mask including a first mask sheet fixing step of fixing a first mask sheet to a frame,
Before the first mask sheet fixing step, a method for manufacturing a vapor deposition mask, comprising performing a step of injecting a gas for floating the vapor deposition mask toward a concave portion of the frame and floating the frame from a mounting table.
 〔態様17〕
 前記1枚目のマスクシート固定工程の前に、前記フレームを載置台から浮上させる工程と、前記フレームを載置台から浮上させた状態で前記フレームに第1外力を加える工程とを行う態様16に記載の蒸着マスクの製造方法。
[Aspect 17]
Before the first mask sheet fixing step, a mode in which the step of floating the frame from the mounting table and the step of applying a first external force to the frame while the frame is floating from the mounting table is performed. The manufacturing method of the vapor deposition mask of the description.
 〔態様18〕
 前記1枚目のマスクシート固定工程においては、前記1枚目のマスクシートを、前記第1外力が加えられる方向に沿って、前記フレームにおける、前記第1外力が加えられる方向と直交する方向の中央領域に固定する態様17に記載の蒸着マスクの製造方法。
[Aspect 18]
In the first mask sheet fixing step, the first mask sheet is moved along a direction in which the first external force is applied in a direction perpendicular to a direction in which the first external force is applied in the frame. The method for manufacturing a vapor deposition mask according to aspect 17, wherein the vapor deposition mask is fixed to the central region.
 〔態様19〕
 前記1枚目のマスクシートが固定されたフレームに2枚目のマスクシートを固定する2枚目のマスクシート固定工程を含み、
 前記2枚目のマスクシート固定工程の前に、前記1枚目のマスクシートが固定されたフレームを載置台から気体を用いて浮上させる工程と、前記1枚目のマスクシートが固定されたフレームを載置台から浮上させた状態で前記1枚目のマスクシートが固定されたフレームに第2外力を加える工程とを行う態様17または18に記載の蒸着マスクの製造方法。
[Aspect 19]
A second mask sheet fixing step of fixing a second mask sheet to a frame to which the first mask sheet is fixed,
Prior to the second mask sheet fixing step, a step of using a gas to float the frame on which the first mask sheet is fixed, and a frame on which the first mask sheet is fixed. Applying the second external force to the frame to which the first mask sheet is fixed in a state where the first mask sheet is floated from the mounting table.
 〔態様20〕
 前記第2外力は、前記第1外力より小さい態様19に記載の蒸着マスクの製造方法。
[Aspect 20]
The method for manufacturing a deposition mask according to aspect 19, wherein the second external force is smaller than the first external force.
 〔態様21〕
 前記フレームに3枚目のマスクシートを固定する3枚目のマスクシート固定工程においては、前記3枚目のマスクシートを、前記1枚目のマスクシートと隣接して固定された前記2枚目のマスクシートと反対側で前記1枚目のマスクシートと隣接するように、前記フレームに固定する態様19または20に記載の蒸着マスクの製造方法。
[Aspect 21]
In a third mask sheet fixing step of fixing a third mask sheet to the frame, the third mask sheet is replaced with the second mask sheet fixed adjacent to the first mask sheet. 21. The method for manufacturing a vapor deposition mask according to aspect 19 or 20, wherein the frame is fixed to the frame so as to be adjacent to the first mask sheet on the side opposite to the mask sheet.
 〔付記事項〕
 本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
[Appendix]
The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible within the scope shown in the claims, and embodiments obtained by appropriately combining the technical means disclosed in different embodiments. Is also included in the technical scope of the present invention. Furthermore, new technical features can be formed by combining the technical means disclosed in each embodiment.
 本発明は、蒸着マスク、蒸着マスクの製造装置及び蒸着マスクの製造方法に利用することができる。 The present invention can be applied to a vapor deposition mask, a vapor mask manufacturing apparatus, and a vapor mask manufacturing method.
 1a・1b アライメントシート、2a~2l マスクシート、3 観察カメラ(カメラ)、10 フレーム、10a 第1面、10b 第2面、10K 開口、10V 溝(凹部)、11K 開口、15 加圧部、16a~16c 加圧部材、17 加圧部、18a~18c 加圧部材、20 フレーム、20a 第1面、20b 第2面、20V 溝(凹部)、21 フレーム、21a 第1面、21b 第2面、21R 溝(凹部)、22 フレーム、22a 第1面、22b 第2面、22R 溝(凹部)、23 フレーム、23a 第1面、23b 第2面、23S 溝(凹部)、24 フレーム、24a 第1面、24b 第2面、24S1~24S3 溝(凹部)、25 フレーム、25a 第1面、25b 第2面、25S1~25S12 溝(凹部)、26 フレーム、26a 第1面、26b 第2面、26S1~26S2 溝(凹部)、27 フレーム、27a 第1面、27b 第2面、27S1~27S2 溝(凹部)、28 フレーム、28a 第1面、28b 第2面、28S1~28S4 溝(凹部)、29 フレーム、29a 第1面、29b 第2面、29S1~29S4 溝(凹部)、CF1~12 外力、STG ステージ(載置台)、CE フレームの重心 1a, 1b alignment sheet, 2a to 2l mask sheet, 3 observation camera (camera), 10 frame, 10a first surface, 10b second surface, 10K opening, 10V groove (concave), 11K opening, 15K pressing unit, 16a 1616c Pressure member, 17 Pressure section, 18a ~ 18c Pressure member, 20 Frame, 20a First surface, 20b Second surface, 20V Groove (recess), 21 Frame, 21a First surface, 21b Second surface, 21R groove (recess), 22 frame, 22a first surface, 22b second surface, 22R groove (recess), 23 frame, 23a first surface, 23b second surface, 23S groove (recess), 24 frame, 24a first Surface, 24b {second surface, 24S1 to 24S3} groove (recess), 25 ° frame, 25a {first surface, 25b} second surface, 25 1 to 25S12 {groove (concave), 26} frame, 26a {first surface, 26b} second surface, 26S1 to 26S2} groove (concave), 27} frame, 27a {first surface, 27b} second surface, 27S1 to 27S2 {groove (concave), 28 frame, 28a first surface, 28b second surface, 28S1 ~ 28S4 groove (recess), 29 frame, 29a first surface, 29b second surface, 29S1 ~ 29S4 groove (recess), CF1 ~ 12 external force, STG stage ( Mounting table), center of gravity of CE frame

Claims (21)

  1.  フレームと、前記フレームに固定された複数の開口を有する複数のマスクシートと、を含む蒸着マスクであって、
     前記フレームは、前記複数のマスクシートが固定される面である第1面と、前記第1面と対向する第2面とを有し、
     前記第2面には、凹部が設けられていることを特徴とする蒸着マスク。
    A frame, a plurality of mask sheets having a plurality of openings fixed to the frame, a vapor deposition mask including,
    The frame has a first surface on which the plurality of mask sheets are fixed, and a second surface facing the first surface,
    An evaporation mask, wherein a concave portion is provided on the second surface.
  2.  前記凹部には、前記蒸着マスクを製造する際に、当該蒸着マスクを浮上させるための浮上用気体が噴出されることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。 The vapor deposition mask according to claim 1, wherein when manufacturing the vapor deposition mask, a floating gas for floating the vapor deposition mask is jetted into the concave portion.
  3.  前記凹部は、枠状に設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着マスク。 The vapor deposition mask according to claim 1 or 2, wherein the concave portion is provided in a frame shape.
  4.  前記第2面には、枠状の凹部が複数個設けられていることを特徴とする請求項3に記載の蒸着マスク。 The vapor deposition mask according to claim 3, wherein a plurality of frame-shaped concave portions are provided on the second surface.
  5.  前記凹部は、前記フレームの重心に対して、点対称であることを特徴とする請求項3または4に記載の蒸着マスク。 The vapor deposition mask according to claim 3, wherein the concave portion is point-symmetric with respect to the center of gravity of the frame.
  6.  前記凹部は、島状に複数個設けられており、
     前記複数個の凹部は、前記フレームの重心に対して、点対称であることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着マスク。
    A plurality of the concave portions are provided in an island shape,
    The vapor deposition mask according to claim 1, wherein the plurality of concave portions are point-symmetric with respect to a center of gravity of the frame.
  7.  前記凹部は、断面V字状に形成された溝を含むことを特徴とする請求項1から6の何れか1項に記載の蒸着マスク。 7. The vapor deposition mask according to claim 1, wherein the concave portion includes a groove formed in a V-shaped cross section. 8.
  8.  前記凹部は、断面長方形状に形成された溝を含むことを特徴とする請求項1から6の何れか1項に記載の蒸着マスク。 The vapor deposition mask according to any one of claims 1 to 6, wherein the concave portion includes a groove formed in a rectangular cross section.
  9.  前記凹部は、断面円弧状に形成された溝を含むことを特徴とする請求項1から6の何れか1項に記載の蒸着マスク。 The vapor deposition mask according to any one of claims 1 to 6, wherein the concave portion includes a groove formed in an arc-shaped cross section.
  10.  前記第1面には、前記マスクシートの位置決め用のアライメントシートが設けられていることを特徴とする請求項1から9の何れか1項に記載の蒸着マスク。 10. The vapor deposition mask according to claim 1, wherein an alignment sheet for positioning the mask sheet is provided on the first surface. 11.
  11.  前記第1面には、前記フレームの互いに対向する二辺にそれぞれ二つの前記アライメントシートが設けられていることを特徴とする請求項10に記載の蒸着マスク。 11. The vapor deposition mask according to claim 10, wherein two alignment sheets are provided on two sides of the frame facing each other on the first surface. 12.
  12.  前記マスクシートは、前記アライメントシートの長手方向に架張され、前記第1面に溶接されていることを特徴とする請求項10または11に記載の蒸着マスク。 12. The vapor deposition mask according to claim 10, wherein the mask sheet is stretched in a longitudinal direction of the alignment sheet and is welded to the first surface. 13.
  13.  請求項1から11の何れか1項に記載の蒸着マスクを載置する載置台を含む蒸着マスクの製造装置であって、
     前記蒸着マスクを前記載置台の所定位置に載置した際に、前記第2面に設けられた凹部と重畳する前記載置台の領域からは、前記蒸着マスクの浮上用気体が前記凹部に向けて噴出されることを特徴とする蒸着マスクの製造装置。
    It is a manufacturing apparatus of a vapor deposition mask including a mounting table for mounting the vapor deposition mask according to any one of claims 1 to 11,
    When the vapor deposition mask is placed at a predetermined position on the mounting table, from the region of the mounting table overlapping the concave portion provided on the second surface, the gas for floating the vapor deposition mask is directed toward the concave portion. An apparatus for manufacturing a deposition mask, which is ejected.
  14.  前記蒸着マスクのフレームに外力を加える加圧部を備えていることを特徴とする請求項13に記載の蒸着マスクの製造装置。 14. The apparatus for manufacturing a deposition mask according to claim 13, further comprising a pressurizing unit for applying an external force to a frame of the deposition mask.
  15.  前記マスクシートを架張する架張部と、
     前記マスクシートのアライメント調整をするためのカメラと、を備えていることを特徴とする請求項13または14に記載の蒸着マスクの製造装置。
    A stretching portion for stretching the mask sheet,
    15. The apparatus according to claim 13, further comprising a camera for adjusting the alignment of the mask sheet.
  16.  フレームに1枚目のマスクシートを固定する1枚目のマスクシート固定工程を含む蒸着マスクの製造方法であって、
     前記1枚目のマスクシート固定工程の前に、前記フレームの凹部に向けて前記蒸着マスクの浮上用気体を噴出し、前記フレームを載置台から浮上させる工程を行うことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
    A method for manufacturing a deposition mask including a first mask sheet fixing step of fixing a first mask sheet to a frame,
    Before the first mask sheet fixing step, a step of blowing a gas for floating the vapor deposition mask toward the concave portion of the frame and performing a step of floating the frame from a mounting table is performed. Production method.
  17.  前記1枚目のマスクシート固定工程の前に、前記フレームを載置台から浮上させる工程と、前記フレームを載置台から浮上させた状態で前記フレームに第1外力を加える工程とを行うことを特徴とする請求項16に記載の蒸着マスクの製造方法。 Before the first mask sheet fixing step, a step of floating the frame from the mounting table and a step of applying a first external force to the frame while the frame is floating from the mounting table are performed. The method for producing a vapor deposition mask according to claim 16.
  18.  前記1枚目のマスクシート固定工程においては、前記1枚目のマスクシートを、前記第1外力が加えられる方向に沿って、前記フレームにおける、前記第1外力が加えられる方向と直交する方向の中央領域に固定することを特徴とする請求項17に記載の蒸着マスクの製造方法。 In the first mask sheet fixing step, the first mask sheet is moved along a direction in which the first external force is applied in a direction perpendicular to a direction in which the first external force is applied in the frame. 18. The method according to claim 17, wherein the mask is fixed to a central region.
  19.  前記1枚目のマスクシートが固定されたフレームに2枚目のマスクシートを固定する2枚目のマスクシート固定工程を含み、
     前記2枚目のマスクシート固定工程の前に、前記1枚目のマスクシートが固定されたフレームを載置台から気体を用いて浮上させる工程と、前記1枚目のマスクシートが固定されたフレームを載置台から浮上させた状態で前記1枚目のマスクシートが固定されたフレームに第2外力を加える工程とを行うことを特徴とする請求項17または18に記載の蒸着マスクの製造方法。
    A second mask sheet fixing step of fixing a second mask sheet to a frame to which the first mask sheet is fixed,
    Prior to the second mask sheet fixing step, a step of using a gas to float the frame on which the first mask sheet is fixed, and a frame on which the first mask sheet is fixed. And applying a second external force to the frame to which the first mask sheet is fixed in a state where the first mask sheet is floated from the mounting table.
  20.  前記第2外力は、前記第1外力より小さいことを特徴とする請求項19に記載の蒸着マスクの製造方法。 20. The method according to claim 19, wherein the second external force is smaller than the first external force.
  21.  前記フレームに3枚目のマスクシートを固定する3枚目のマスクシート固定工程においては、前記3枚目のマスクシートを、前記1枚目のマスクシートと隣接して固定された前記2枚目のマスクシートと反対側で前記1枚目のマスクシートと隣接するように、前記フレームに固定することを特徴とする請求項19または20に記載の蒸着マスクの製造方法。 In a third mask sheet fixing step of fixing a third mask sheet to the frame, the third mask sheet is replaced with the second mask sheet fixed adjacent to the first mask sheet. 21. The method according to claim 19, wherein the frame is fixed to the frame so as to be adjacent to the first mask sheet on a side opposite to the mask sheet.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2004014513A (en) * 2002-06-03 2004-01-15 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd Mask frame assembly for thin film depositing of organic electronic light emitting device
JP2013112896A (en) * 2011-11-30 2013-06-10 Samsung Display Co Ltd Mask assembly and organic light emitting display
JP2014194062A (en) * 2013-03-29 2014-10-09 Sony Corp Mask frame unit, mask apparatus, and processing method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004014513A (en) * 2002-06-03 2004-01-15 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd Mask frame assembly for thin film depositing of organic electronic light emitting device
JP2013112896A (en) * 2011-11-30 2013-06-10 Samsung Display Co Ltd Mask assembly and organic light emitting display
JP2014194062A (en) * 2013-03-29 2014-10-09 Sony Corp Mask frame unit, mask apparatus, and processing method

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