WO2019167399A1 - Uv transmitting glass and method for producing same - Google Patents
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Abstract
This UV transmitting glass is characterized in that T200 ≥ 75, taking T200 to be the transmittance (%) at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 200 nm. In addition, this method for producing UV transmitting glass is characterized by using synthetic silica as at least part of the glass raw material.
Description
本発明は、紫外線透過ガラス及びその製造方法に関する。
The present invention relates to an ultraviolet transmissive glass and a method for producing the same.
現在、深紫外域（例えば、波長域２００～３５０ｎｍ）において高い出力を有する光源が開発されており、紫外線ランプや磁気記録媒体への書き込み装置等に用いられている。このような光源やこれを用いた装置では、深紫外線の透過率の良い紫外線透過ガラス（例えば、特許文献１）が用いられている。
At present, a light source having a high output in the deep ultraviolet region (for example, a wavelength region of 200 to 350 nm) has been developed and used for a writing device for an ultraviolet lamp or a magnetic recording medium. In such a light source and an apparatus using the same, ultraviolet transmissive glass (for example, Patent Document 1) having a high deep ultraviolet transmittance is used.
紫外線透過ガラスの深紫外域の透過率が高い程、上述のような深紫外域において高い出力を有する光源やこれを用いた装置の性能を向上し得る。例えば、殺菌用途の紫外線ランプでは、より透過率の高い紫外線透過ガラスを外筒として用いることによって、より高い殺菌力を得られる。しかし、従来の紫外線透過ガラスには、その透過率、特に、波長２００～２５０ｎｍの深波長域の透過率が未だ不十分であり、改良の余地が残されていた。
As the transmittance in the deep ultraviolet region of the ultraviolet transmissive glass is higher, the performance of the light source having a higher output in the deep ultraviolet region as described above and the apparatus using the same can be improved. For example, in an ultraviolet lamp for sterilization, higher sterilization power can be obtained by using an ultraviolet transmissive glass having a higher transmittance as an outer cylinder. However, the transmittance of conventional ultraviolet transmissive glass, particularly the transmittance in the deep wavelength range of 200 to 250 nm, is still insufficient, and there remains room for improvement.
本発明の紫外線透過ガラスは、厚み０．５ｍｍ、波長２００ｎｍにおける透過率（％）をＴ200とした場合、Ｔ200≧７５であることを特徴とする。ここで、「波長２００ｎｍにおける透過率」は、市販の分光光度計（例えば、日立製作所製ＵＶ―３１００）で測定可能である。
The ultraviolet transmissive glass of the present invention is characterized in that T 200 ≧ 75 when the transmittance (%) at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 200 nm is T 200 . Here, the “transmittance at a wavelength of 200 nm” can be measured with a commercially available spectrophotometer (for example, UV-3100 manufactured by Hitachi, Ltd.).
本発明の紫外線透過ガラスは、厚み０．５ｍｍ、波長２５０ｎｍにおける透過率（％）をＴ250とした場合、Ｔ200／Ｔ250≧０．７５以上であることが好ましい。
The ultraviolet transmissive glass of the present invention preferably has T 200 / T 250 ≧ 0.75 or more when the transmittance (%) at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 250 nm is T 250 .
本発明の紫外線透過ガラスは、厚み０．５ｍｍ、波長２２０ｎｍにおける透過率（％）をＴ220とした場合、Ｔ220≧８０であることが好ましい。
The ultraviolet transmissive glass of the present invention preferably has T 220 ≧ 80 when the transmittance (%) at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 220 nm is T 220 .
本発明の紫外線透過ガラスは、厚みが０．１～３．０ｍｍの板状または管状であることが好ましい。
The ultraviolet transmissive glass of the present invention is preferably a plate or tube having a thickness of 0.1 to 3.0 mm.
本発明の紫外線透過ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ2 ５５～７５％、Ａｌ2Ｏ3 １～１０％、Ｂ2Ｏ3 １０～３０％、ＣａＯ ０～５ ％、 ＢａＯ ０～５％、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ １．０～１５％、ＴｉＯ2 ０～０．００１％、Ｆｅ2Ｏ3 ０～０．００１％、を含有することが好ましい。
The ultraviolet ray transmitting glass of the present invention has a glass composition in terms of mass% of SiO 2 55 to 75%, Al 2 O 3 1 to 10%, B 2 O 3 10 to 30%, CaO 0 to 5%, BaO 0 to 5%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 1.0 to 15%, TiO 2 0 to 0.001%, Fe 2 O 3 0 to 0.001% are preferably contained.
本発明の紫外線透過ガラスの製造方法は、上記何れかに記載の紫外線透過ガラスの製造方法であって、ガラス原料の少なくとも一部として合成シリカを用いることを特徴とする。
The method for producing an ultraviolet transmissive glass of the present invention is a method for producing an ultraviolet transmissive glass as described above, wherein synthetic silica is used as at least a part of the glass raw material.
本発明の紫外線透過ガラスの製造方法は、合成シリカが気相反応法または液相反応法により精製された粒体シリカであることが好ましい。
In the method for producing the ultraviolet light transmitting glass of the present invention, it is preferable that the synthetic silica is granular silica purified by a gas phase reaction method or a liquid phase reaction method.
本発明の紫外線透過ガラスの製造方法は、前記合成シリカの平均粒径が１００μｍ以下であり、前記ガラス原料の全シリカ源に占める前記合成シリカの割合が９０～１００質量％であることが好ましい。
In the method for producing an ultraviolet light transmitting glass of the present invention, the synthetic silica preferably has an average particle size of 100 μm or less, and the proportion of the synthetic silica in the total silica source of the glass raw material is 90 to 100% by mass.
本発明の紫外線透過ガラスおよびその製造方法によれば、深紫外波長域において従来品よりも高い透過率を有するガラスを得ることができる。
According to the ultraviolet transmissive glass and the method for producing the same of the present invention, it is possible to obtain a glass having a higher transmittance than the conventional product in the deep ultraviolet wavelength region.
本発明の紫外線透過ガラスにおいて、厚み０．５ｍｍ、波長２００ｎｍにおける透過率（％）をＴ200とした場合、Ｔ200≧７５、好ましくはＴ200≧８０、Ｔ200≧８３である。厚み０．５ｍｍ、波長２００ｎｍにおける透過率が低過ぎると、紫外光が透過し難くなり、搭載される光源やデバイスの性能が低下し易くなる。
In the ultraviolet transmissive glass of the present invention, when T 200 is the transmittance (%) at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 200 nm, T 200 ≧ 75, preferably T 200 ≧ 80, and T 200 ≧ 83. If the transmittance at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 200 nm is too low, it is difficult for ultraviolet light to pass through, and the performance of the mounted light source or device tends to be reduced.
本発明の紫外線透過ガラスにおいて、厚み０．５ｍｍ、波長２２０ｎｍにおける透過率（％）をＴ220とした場合、好ましくはＴ220≧８０であり、より好ましくはＴ220≧８５、Ｔ220≧８７である。厚み０．５ｍｍ、波長２２０ｎｍにおける透過率が低過ぎると、紫外光が透過し難くなり、搭載される光源やデバイスの性能が低下し易くなる。
In the ultraviolet ray transmitting glass of the present invention, when T 220 is the transmittance (%) at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 220 nm, T 220 ≧ 80, and more preferably T 220 ≧ 85 and T 220 ≧ 87. is there. If the transmittance at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 220 nm is too low, it is difficult for ultraviolet light to pass through, and the performance of the mounted light source or device is likely to deteriorate.
本発明の紫外線透過ガラスにおいて、厚み０．５ｍｍ、波長２５０ｎｍにおける透過率（％）をＴ250とした場合、好ましくはＴ250≧８８であり、より好ましくはＴ250≧８９、Ｔ250≧８９．５である。厚み０．５ｍｍ、波長２５０ｎｍにおける透過率が低過ぎると、紫外光が透過し難くなり、搭載される光源やデバイスの性能が低下し易くなる。
In the ultraviolet transmitting glass of the present invention, when the thickness 0.5 mm, the transmittance at a wavelength of 250nm (%) was the T 250, preferably T 250 ≧ 88, more preferably T 250 ≧ 89, T 250 ≧ 89. 5. If the transmittance at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 250 nm is too low, it is difficult for ultraviolet light to pass through, and the performance of the mounted light source or device tends to deteriorate.
また、Ｔ200／Ｔ250の値は、好ましくは０．７５以上、０．８０以上、０．８５以上、０．９０以上、０．９２以上である。Ｔ200／Ｔ250の値が小さ過ぎると、紫外光が透過し難くなり、搭載される光源やデバイスの性能が低下し易くなる。
Further, the value of T 200 / T 250 is preferably 0.75 or more, 0.80 or more, 0.85 or more, 0.90 or more, or 0.92 or more. When the value of T 200 / T 250 is too small, it is difficult to transmit ultraviolet light, and the performance of the mounted light source or device is likely to deteriorate.
本発明の紫外線透過ガラスの歪点は、好ましくは４００℃以上、４１０℃以上、４１５℃以上である。紫外線透過ガラスの歪点が低過ぎる場合、例えば、表面に機能性膜を成膜する際に、高温の成膜工程においてガラスに意図しない変形が生じ易くなる。
The strain point of the ultraviolet transmissive glass of the present invention is preferably 400 ° C. or higher, 410 ° C. or higher, and 415 ° C. or higher. When the strain point of the ultraviolet transmissive glass is too low, for example, when a functional film is formed on the surface, unintended deformation is likely to occur in the glass in a high-temperature film forming process.
本発明の紫外線透過ガラスの軟化点は、好ましくは８５０℃以下、８００℃以下、７５０℃以下、特に７００℃以下である。軟化点が高過ぎると、ガラス溶融窯への負荷が大きくなり、ガラスの製造コストが高騰し易くなる。
The softening point of the ultraviolet transmitting glass of the present invention is preferably 850 ° C. or lower, 800 ° C. or lower, 750 ° C. or lower, particularly 700 ° C. or lower. If the softening point is too high, the load on the glass melting furnace becomes large, and the manufacturing cost of the glass tends to increase.
本発明の紫外線透過ガラスの粘度１０2.5ｄＰａ・ｓにおける温度は、１５４０℃以下、１５２０℃以下、１５００℃以下、特に１４８０℃以下である。１０2.5ｄＰａ・ｓにおける温度が高過ぎると、溶融性が低下して、ガラスの製造コストが高騰し易くなる。ここで、「１０2.5ｄＰａ・ｓにおける温度」は、白金球引き上げ法で測定可能である。
The temperature at a viscosity of 10 2.5 dPa · s of the ultraviolet transmissive glass of the present invention is 1540 ° C. or lower, 1520 ° C. or lower, 1500 ° C. or lower, particularly 1480 ° C. or lower. If the temperature at 10 2.5 dPa · s is too high, the meltability is lowered, and the production cost of the glass tends to increase. Here, “temperature at 10 2.5 dPa · s” can be measured by a platinum ball pulling method.
本発明の紫外線透過ガラスの３０～３８０℃の温度範囲における平均線熱膨張係数は、好ましくは３０×１０-7／℃以上、特に３５×１０-7／℃以上であり、また９５×１０-7／℃以下、特に８０×１０-7／℃以下である。平均線熱膨張係数が低過ぎると、各種部材、特にガラスフリットの熱膨張係数に整合させ難くなる。結果として、ガラスフリットの低融点化が困難になるため、デバイスの工程温度の上昇を招き、デバイスの性能が劣化し易くなる。一方、平均線熱膨張係数が高過ぎると、熱衝撃により、ガラスが破損し易くなる。
The average linear thermal expansion coefficient in the temperature range of 30 to 380 ° C. of the ultraviolet transmissive glass of the present invention is preferably 30 × 10 −7 / ° C. or more, particularly 35 × 10 −7 / ° C. or more, and 95 × 10 − 7 / ° C. or less, particularly 80 × 10 −7 / ° C. or less. If the average linear thermal expansion coefficient is too low, it becomes difficult to match the thermal expansion coefficient of various members, particularly glass frit. As a result, since it is difficult to lower the melting point of the glass frit, the process temperature of the device is increased, and the performance of the device is easily deteriorated. On the other hand, if the average linear thermal expansion coefficient is too high, the glass tends to break due to thermal shock.
本発明の紫外線透過ガラスの液相温度は、好ましくは１１２０℃以下、１１００℃以下、１０８０℃以下、１０５０℃以下、１０００℃以下、９５０℃以下、９００℃以下、特に８５０℃以下である。液相温度における粘度は、好ましくは１０4.0ｄＰａ・ｓ以上、１０4.3ｄＰａ・ｓ以上、１０4.5ｄＰａ・ｓ以上、１０4.8ｄＰａ・ｓ以上、１０5.1ｄＰａ・ｓ以上、１０5.3ｄＰａ・ｓ以上、特に１０5.5ｄＰａ・ｓ以上である。このようにすれば、耐失透性が向上し、ダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法で成形し易くなるため、所望の形状のガラスを作製し易くなる。
The liquidus temperature of the ultraviolet transmissive glass of the present invention is preferably 1120 ° C. or lower, 1100 ° C. or lower, 1080 ° C. or lower, 1050 ° C. or lower, 1000 ° C. or lower, 950 ° C. or lower, 900 ° C. or lower, particularly 850 ° C. or lower. The viscosity at the liquidus temperature is preferably 10 4.0 dPa · s or more, 10 4.3 dPa · s or more, 10 4.5 dPa · s or more, 10 4.8 dPa · s or more, 10 5.1 dPa · s or more, 10 5.3 dPa · s or more. In particular, it is 10 5.5 dPa · s or more. If it does in this way, devitrification resistance will improve and it will become easy to shape | mold by a downdraw method, especially an overflow downdraw method, Therefore It becomes easy to produce glass of a desired shape.
本発明の紫外線透過ガラスのヤング率は、好ましくは４０ＧＰａ以上、特に４５ＧＰａ以上である。ヤング率が低過ぎると、デバイスの製造工程における搬送ラインでガラスが剛性を維持し難くなり、ガラスの変形、反り、破損が発生し易くなる。
The Young's modulus of the ultraviolet transmissive glass of the present invention is preferably 40 GPa or more, particularly 45 GPa or more. If the Young's modulus is too low, it is difficult to maintain the rigidity of the glass in the conveying line in the device manufacturing process, and the glass is likely to be deformed, warped, or broken.
本発明の紫外線透過ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ2 ５５～７５％、Ａｌ2Ｏ3 １～１０％、Ｂ2Ｏ3 １０～３０％、ＣａＯ ０～５ ％、 ＢａＯ ０～５％、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ １．０～１５％、ＴｉＯ2 ０～０．００１％、Ｆｅ2Ｏ3 ０～０．００１％、Ｆ ０．５～２．０％を含有することが好ましい。
The ultraviolet ray transmitting glass of the present invention has a glass composition in terms of mass% of SiO 2 55 to 75%, Al 2 O 3 1 to 10%, B 2 O 3 10 to 30%, CaO 0 to 5%, BaO 0 to 5%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 1.0-15%, TiO 2 0-0.001%, Fe 2 O 3 0-0.001%, F 0.5-2.0% Is preferred.
上記のように各成分の含有量を限定した理由を以下に示す。なお、各成分の含有量の説明において、％表示は、特に断りがある場合を除き、質量％を表す。
The reasons for limiting the content of each component as described above are shown below. In addition, in description of content of each component,% display represents the mass% unless there is particular notice.
ＳｉＯ2は、ガラスの骨格を形成する主成分である。ＳｉＯ2の含有量は、好ましくは５０～８０％、５５～７５％、５８～７０％、特に６５～６９％である。ＳｉＯ2の含有量が少な過ぎると、ヤング率、耐酸性が低下し易くなる。一方、ＳｉＯ2の含有量が多過ぎると、高温粘度が高くなり、溶融性が低下し易くなることに加えて、クリストバライト等の失透結晶が析出し易くなって、液相温度が上昇し易くなる。
SiO 2 is a main component forming a glass skeleton. The content of SiO 2 is preferably 50 to 80%, 55 to 75%, 58 to 70%, in particular 65 to 69%. When the content of SiO 2 is too small, the Young's modulus, acid resistance tends to decrease. On the other hand, if the content of SiO 2 is too large, the high-temperature viscosity becomes high and the meltability tends to decrease, and devitrifying crystals such as cristobalite are likely to precipitate, and the liquidus temperature is likely to rise. Become.
Ａｌ2Ｏ3とＢ2Ｏ3は、耐失透性を高める成分である。Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3の含有量は、好ましくは２～４０％、５～３５％、１０～３０％、特に２０～２８％である。Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3の含有量が少な過ぎると、ガラスが失透し易くなる。一方、Ａｌ2Ｏ3＋Ｂ2Ｏ3の含有量が多過ぎると、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、逆にガラスが失透し易くなる。
Al 2 O 3 and B 2 O 3 are components that enhance devitrification resistance. The content of Al 2 O 3 + B 2 O 3 is preferably 2 to 40%, 5 to 35%, 10 to 30%, in particular 20 to 28%. When the content of Al 2 O 3 + B 2 O 3 is too small, easily glass devitrified. On the other hand, when the content of Al 2 O 3 + B 2 O 3 is too large, is impaired balance of components glass composition, the glass is liable to devitrify reversed.
Ａｌ2Ｏ3は、ヤング率を高める成分であると共に、分相、失透を抑制する成分である。Ａｌ2Ｏ3の含有量は、好ましくは１～２０％、２～１５％、特に３～１０％である。Ａｌ2Ｏ3の含有量が少な過ぎると、ヤング率が低下し易くなり、またガラスが分相、失透し易くなる。一方、Ａｌ2Ｏ3の含有量が多過ぎると、高温粘度が高くなり、溶融性が低下し易くなる。
Al 2 O 3 is a component that increases the Young's modulus and suppresses phase separation and devitrification. The content of Al 2 O 3 is preferably 1 to 20%, 2 to 15%, in particular 3 to 10%. If the content of Al 2 O 3 is too small, the Young's modulus tends to decrease, and the glass tends to undergo phase separation and devitrification. On the other hand, when the content of Al 2 O 3 is too large, the higher the viscosity at high temperature melting property she tends to decrease.
Ｂ2Ｏ3は、溶融性、耐失透性を高める成分であり、また傷の付き易さを改善して、強度を高める成分である。Ｂ2Ｏ3の含有量は、好ましくは１０～２５％、１３～２８％、１５～２５％、である。Ｂ2Ｏ3の含有量が少な過ぎると、溶融性、耐失透性が低下し易くなり、またフッ酸系の薬液に対する耐性が低下し易くなる。一方、Ｂ2Ｏ3の含有量が多過ぎると、ヤング率、耐酸性が低下し易くなる。
B 2 O 3 is a component that enhances meltability and devitrification resistance, and is a component that improves the ease of scratching and increases strength. The content of B 2 O 3 is preferably 10 to 25%, 13 to 28%, 15 to 25%. When the content of B 2 O 3 is too small, the meltability and devitrification resistance are likely to be lowered, and the resistance to hydrofluoric acid chemicals is likely to be lowered. On the other hand, when the content of B 2 O 3 is too large, the Young's modulus, acid resistance tends to decrease.
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ及びＫ2Ｏは、高温粘性を下げて、溶融性を顕著に高めると共に、ガラス原料の初期の溶融に寄与するアルカリ金属酸化物成分である。Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏの含有量は、好ましくは１．５～１５％、２～１０％、特に３～６％である。Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏの含有量が少な過ぎると、溶融性が低下し易くなる。一方、アルカリ金属酸化物の含有量が多過ぎると、熱膨張係数が不当に高くなる虞がある。
Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are alkali metal oxide components that contribute to the initial melting of the glass raw material while lowering the high-temperature viscosity to significantly increase the meltability. The content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is preferably 1.5 to 15%, 2 to 10%, in particular 3 to 6%. When li 2 O + content of Na 2 O + K 2 O is too small, the melting property tends to decrease. On the other hand, if the content of the alkali metal oxide is too large, the thermal expansion coefficient may be unduly high.
Ｌｉ2Ｏは、高温粘性を下げて、溶融性を顕著に高めると共に、ガラス原料の初期の溶融に寄与する成分である。Ｌｉ2Ｏの含有量は、好ましくは０～５％、０～３％、特に０～１．２％、である。Ｌｉ2Ｏの含有量が少な過ぎると、溶融性が低下し易くなることに加えて、熱膨張係数が不当に低くなる虞がある。一方、Ｌｉ2Ｏの含有量が多過ぎると、ガラスが分相し易くなる。
Li 2 O is a component that contributes to the initial melting of the glass raw material while lowering the high-temperature viscosity to significantly increase the meltability. The content of Li 2 O is preferably 0-5%, 0-3%, especially 0-1.2%. If the content of Li 2 O is too small, the meltability tends to decrease, and the thermal expansion coefficient may be unduly lowered. On the other hand, when the content of Li 2 O is too large, the glass is likely to undergo phase separation.
Ｎａ2Ｏは、高温粘性を下げて、溶融性を顕著に高めると共に、ガラス原料の初期の溶融に寄与する成分である。また熱膨張係数を調整するための成分である。Ｎａ2Ｏの含有量は、好ましくは０～１０％、０～８％、１～５％、特に１～３％である。Ｎａ2Ｏの含有量が少な過ぎると、溶融性が低下し易くなることに加えて、熱膨張係数が不当に低くなる虞がある。一方、Ｎａ2Ｏの含有量が多過ぎると、熱膨張係数が不当に高くなる虞がある。
Na 2 O is a component that contributes to the initial melting of the glass raw material while lowering the high-temperature viscosity to significantly increase the meltability. It is a component for adjusting the thermal expansion coefficient. The content of Na 2 O is preferably 0 to 10%, 0 to 8%, 1 to 5%, particularly 1 to 3%. If the content of Na 2 O is too small, the meltability tends to be lowered, and the thermal expansion coefficient may be unduly lowered. On the other hand, if the content of Na 2 O is too large, the thermal expansion coefficient may be unduly high.
Ｋ2Ｏは、高温粘性を下げて、溶融性を顕著に高めると共に、ガラス原料の初期の溶融に寄与する成分である。また熱膨張係数を調整するための成分である。Ｋ2Ｏの含有量は、好ましくは０．１～１０％、０．５～５％、特に１～３％である。Ｋ2Ｏの含有量が多過ぎると、熱膨張係数が不当に高くなる虞がある。
K 2 O is a component that contributes to the initial melting of the glass raw material while lowering the high-temperature viscosity to significantly increase the meltability. It is a component for adjusting the thermal expansion coefficient. The content of K 2 O is preferably 0.1 to 10%, 0.5 to 5%, particularly 1 to 3%. When the content of K 2 O is too large, there is a concern that the thermal expansion coefficient becomes unduly high.
ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯは、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分である。ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量は、好ましくは０～８％、０．１～５％である。ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量が多過ぎると、ガラスが失透し易くなる。
CaO, SrO, and BaO are components that lower the high-temperature viscosity and increase the meltability. The content of CaO + SrO + BaO is preferably 0-8% and 0.1-5%. When there is too much content of CaO + SrO + BaO, it will become easy to devitrify glass.
ＣａＯは、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分である。またアルカリ土類金属酸化物の中では、導入原料が比較的安価であるため、原料コストを低廉化する成分である。ＣａＯの含有量は、好ましくは０～８％、０～５％、０．０１～１％、０．１～０．８％である。ＣａＯの含有量が多過ぎると、ガラスが失透し易くなる。なお、ＣａＯの含有量が少な過ぎると、上記効果を享受し難くなる。
CaO is a component that lowers the high temperature viscosity and increases the meltability. Further, among the alkaline earth metal oxides, since the introduced raw material is relatively inexpensive, it is a component that lowers the raw material cost. The CaO content is preferably 0-8%, 0-5%, 0.01-1%, 0.1-0.8%. When there is too much content of CaO, it will become easy to devitrify glass. In addition, when there is too little content of CaO, it will become difficult to receive the said effect.
ＳｒＯは、耐失透性を高める成分である。ＳｒＯの含有量は、好ましくは０～７％、０～５％、０～３％、特に０～１％である。ＳｒＯの含有量が多過ぎると、ガラスが失透し易くなる。
SrO is a component that increases devitrification resistance. The SrO content is preferably 0-7%, 0-5%, 0-3%, especially 0-1%. When there is too much content of SrO, it will become easy to devitrify glass.
ＢａＯは、耐失透性を高める成分である。ＢａＯの含有量は、好ましくは０～７％、０.1～５％、０．５～３％、１～１．５％である。ＢａＯの含有量が多過ぎると、ガラスが失透し易くなる。
BaO is a component that increases devitrification resistance. The content of BaO is preferably 0 to 7%, 0.1 to 5%, 0.5 to 3%, and 1 to 1.5%. When there is too much content of BaO, it will become easy to devitrify glass.
上記成分以外にも、２５０ｎｍ以下の波長帯における透過率を低下させない範囲において、任意の他の成分を導入してもよい。なお、上記成分以外の他の成分の含有量は、本発明の効果を的確に享受する観点から、合量で１０％以下、５％以下、特に３％以下が好ましい。
In addition to the above components, any other component may be introduced within a range in which the transmittance in a wavelength band of 250 nm or less is not lowered. In addition, the content of other components other than the above components is preferably 10% or less, 5% or less, particularly 3% or less as a combined amount from the viewpoint of accurately enjoying the effects of the present invention.
ＺｒＯ2は、耐酸性を高める成分であるが、ガラス組成中に多量に含有させると、ガラスが失透し易くなる。よって、ＺｒＯ2の含有量は、好ましくは０．１％以下、より好ましくは０．００１～０．０２％、特に０．０００１～０．０１％である。
ZrO 2 is a component that enhances acid resistance, but if it is contained in a large amount in the glass composition, the glass tends to devitrify. Therefore, the content of ZrO 2 is preferably 0.1% or less, more preferably 0.001 to 0.02%, particularly 0.0001 to 0.01%.
Ｆｅ2Ｏ3とＴｉＯ2は、深紫外域での透過率を低下させる成分である。Ｆｅ2Ｏ3＋ＴｉＯ2の含有量は、好ましくは０．００１０％（１０ｐｐｍ）以下、０．００００１～０．０００７％（０．１～７ｐｐｍ）である。Ｆｅ2Ｏ3＋ＴｉＯ2の含有量が多過ぎると、ガラスが着色して、深紫外域での透過率が低下し易くなる。
Fe 2 O 3 and TiO 2 are components that reduce the transmittance in the deep ultraviolet region. The content of Fe 2 O 3 + TiO 2 is preferably 0.0010% (10 ppm) or less and 0.00001 to 0.0007% (0.1 to 7 ppm). When the content of Fe 2 O 3 + TiO 2 is too large, the glass is colored, the transmittance in the deep ultraviolet region is likely to decrease.
Ｆｅ2Ｏ3は、深紫外域での透過率を低下させる成分である。Ｆｅ2Ｏ3の含有量は、好ましくは０．００１０％（１０ｐｐｍ）以下、０．００００１～０．０００９％（０．１～９ｐｐｍ）、０．００００１～０．０００７％（０．１～７ｐｐｍ）である。Ｆｅ2Ｏ3の含有量が多過ぎると、ガラスが着色して、深紫外域での透過率が低下し易くなる。
Fe 2 O 3 is a component that decreases the transmittance in the deep ultraviolet region. The content of Fe 2 O 3 is preferably 0.0010% (10 ppm) or less, 0.00001 to 0.0009% (0.1 to 9 ppm), 0.00001 to 0.0007% (0.1 to 7 ppm) ). When the content of Fe 2 O 3 is too large, the glass is colored, the transmittance in the deep ultraviolet region is likely to decrease.
酸化鉄中のＦｅイオンは、Ｆｅ2+又はＦｅ3+の状態で存在する。Ｆｅ2+の割合が少な過ぎると、深紫外線での透過率が低下し易くなる。よって、本発明の紫外線透過ガラスに含まれる酸化鉄中のＦｅ2+／（Ｆｅ2+＋Ｆｅ3+）の質量割合は、好ましくは０．１以上、０．２以上、０．３以上、０．４以上、特に０．５以上である。
Fe ions in iron oxide exist in the state of Fe 2+ or Fe 3+ . When the proportion of Fe 2+ is too small, the transmittance in deep ultraviolet rays tends to decrease. Therefore, the mass ratio of Fe 2+ / (Fe 2+ + Fe 3+ ) in the iron oxide contained in the ultraviolet ray transmitting glass of the present invention is preferably 0.1 or more, 0.2 or more, 0.3 or more, 0 .4 or more, particularly 0.5 or more.
ＴｉＯ2は、深紫外域での透過率を低下させる成分である。ＴｉＯ2の含有量は、好ましくは０．００１０％（１０ｐｐｍ）以下、０．０００３０％（３ｐｐｍ）以下、０．００００１～０．０００１５％（０．１～１．５ｐｐｍ）である。ＴｉＯ2の含有量が多過ぎると、ガラスが着色して、深紫外域での透過率が低下し易くなる。
TiO 2 is a component that lowers the transmittance in the deep ultraviolet region. The content of TiO 2 is preferably 0.0010% (10 ppm) or less, 0.00030% (3 ppm) or less, and 0.00001 to 0.00015% (0.1 to 1.5 ppm). When the content of TiO 2 is too large, the glass is colored, the transmittance in the deep ultraviolet region is likely to decrease.
Ｆは、粘性を下げて溶融性を高める成分である。Ｆの含有量は、好ましくは０～２％、０．１～１．５％、０．５～１．５％であることが好ましい。
F is a component that lowers viscosity and increases meltability. The content of F is preferably 0 to 2%, 0.1 to 1.5%, and 0.5 to 1.5%.
清澄剤としては、他にもＣｌを２０００ｐｐｍ以下、好ましくは１０００ｐｐｍ添加して良い。
As a fining agent, Cl may be added to 2000 ppm or less, preferably 1000 ppm.
本発明の紫外線透過ガラスの形状は任意に設定可能である。本発明の紫外線透過ガラスの形状は、例えば、平板状、曲板状、直管状、曲管状、棒状、球状、容器状、ブロック状とすることができる。
The shape of the ultraviolet transmissive glass of the present invention can be arbitrarily set. The shape of the ultraviolet ray transmitting glass of the present invention can be, for example, a flat plate shape, a curved plate shape, a straight tubular shape, a curved tubular shape, a rod shape, a spherical shape, a container shape, or a block shape.
本発明の紫外線透過ガラスを平板状とする場合、例えば、主平面寸法は１００ｍｍ×１００ｍｍ以上、２００ｍｍ×２００ｍｍ以上、４００ｍｍ×４００ｍｍ以上、１０００ｍｍ×１０００ｍｍ以上、特に２０００ｍｍ×２０００ｍｍ以上とすることが好ましい。
When the ultraviolet transmissive glass of the present invention is formed into a flat plate shape, for example, the main plane dimensions are preferably 100 mm × 100 mm or more, 200 mm × 200 mm or more, 400 mm × 400 mm or more, 1000 mm × 1000 mm or more, particularly 2000 mm × 2000 mm or more.
また、本発明の紫外線透過ガラスの厚みは、例えば、０．１～３．０ｍｍが好ましい。このような厚みであれば、紫外線ランプや磁気記録媒体への書き込み装置等に好適に用いることができる。
特に、精密機器用途においては、本発明の紫外線透過ガラスの厚みは０．２～１．０ｍｍ、０．３～０．６ｍｍとすることがより好ましい。一方、大型装置の用途においては、本発明の紫外線透過ガラスの厚みを０．５ｍｍ以上、より好ましくは０．５～２．０ｍｍとすることが強度剛性を担保する観点から好ましい。なお、一般的に紫外線透過率はガラスの厚みが厚いほど低下するが、本発明の紫外線透過ガラスは２５０ｎｍ以下の波長領域において高い透過率を有するために、従来品に比べ厚みを増加させても同波長域において高い透過率を維持可能である。 In addition, the thickness of the ultraviolet light transmitting glass of the present invention is preferably 0.1 to 3.0 mm, for example. With such a thickness, it can be suitably used for an ultraviolet lamp, a writing device for a magnetic recording medium, or the like.
In particular, in precision instrument applications, the thickness of the ultraviolet transmissive glass of the present invention is more preferably 0.2 to 1.0 mm, and 0.3 to 0.6 mm. On the other hand, in the use of a large apparatus, the thickness of the ultraviolet light transmitting glass of the present invention is preferably 0.5 mm or more, more preferably 0.5 to 2.0 mm, from the viewpoint of ensuring strength rigidity. In general, the ultraviolet transmittance decreases as the glass thickness increases. However, since the ultraviolet transmitting glass of the present invention has a high transmittance in a wavelength region of 250 nm or less, even if the thickness is increased compared to the conventional product. High transmittance can be maintained in the same wavelength region.
特に、精密機器用途においては、本発明の紫外線透過ガラスの厚みは０．２～１．０ｍｍ、０．３～０．６ｍｍとすることがより好ましい。一方、大型装置の用途においては、本発明の紫外線透過ガラスの厚みを０．５ｍｍ以上、より好ましくは０．５～２．０ｍｍとすることが強度剛性を担保する観点から好ましい。なお、一般的に紫外線透過率はガラスの厚みが厚いほど低下するが、本発明の紫外線透過ガラスは２５０ｎｍ以下の波長領域において高い透過率を有するために、従来品に比べ厚みを増加させても同波長域において高い透過率を維持可能である。 In addition, the thickness of the ultraviolet light transmitting glass of the present invention is preferably 0.1 to 3.0 mm, for example. With such a thickness, it can be suitably used for an ultraviolet lamp, a writing device for a magnetic recording medium, or the like.
In particular, in precision instrument applications, the thickness of the ultraviolet transmissive glass of the present invention is more preferably 0.2 to 1.0 mm, and 0.3 to 0.6 mm. On the other hand, in the use of a large apparatus, the thickness of the ultraviolet light transmitting glass of the present invention is preferably 0.5 mm or more, more preferably 0.5 to 2.0 mm, from the viewpoint of ensuring strength rigidity. In general, the ultraviolet transmittance decreases as the glass thickness increases. However, since the ultraviolet transmitting glass of the present invention has a high transmittance in a wavelength region of 250 nm or less, even if the thickness is increased compared to the conventional product. High transmittance can be maintained in the same wavelength region.
本発明の紫外線透過ガラスの表面の表面粗さＲａは好ましくは１０ｎｍ以下、９ｎｍ以下、８ｎｍ以下、７ｎｍ以下、６ｎｍ以下、５ｎｍ以下、４ｎｍ以下、３ｎｍ以下、２ｎｍ以下、特に１ｎｍ以下である。表面の表面粗さＲａが大き過ぎると、深紫外線での透過率が減少する傾向がある。
The surface roughness Ra of the surface of the ultraviolet transmitting glass of the present invention is preferably 10 nm or less, 9 nm or less, 8 nm or less, 7 nm or less, 6 nm or less, 5 nm or less, 4 nm or less, 3 nm or less, 2 nm or less, particularly 1 nm or less. If the surface roughness Ra of the surface is too large, the transmittance at deep ultraviolet rays tends to decrease.
本発明の紫外線透過ガラスは、例えば、各種ガラス原料を調合して、ガラスバッチを得た上で、このガラスバッチを溶融し、得られた溶融ガラスを清澄、均質化し、所定形状に成形することで作製することができる。
The ultraviolet transmissive glass of the present invention is prepared by, for example, preparing various glass raw materials to obtain a glass batch, melting the glass batch, clarifying and homogenizing the obtained molten glass, and molding the glass into a predetermined shape. Can be produced.
本発明の紫外線透過ガラスの製造方法では、ガラス原料の少なくとも一部として合成シリカを用いることを特徴とする。特に、気相反応法または液相反応法により生成された粒状合成シリカを用いることが好ましい。また、合成シリカの平均粒径は、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは５～９０μｍである。合成シリカは、例えば、不定形シリカや、球形シリカ、或いはこれらの混合である。また、ガラス原料の全シリカ源に占める上記合成シリカの割合は９０～１００質量％であることが好ましい。このような原料を用いることにより、ガラスの紫外線透過率を向上できる。
The method for producing an ultraviolet light transmitting glass of the present invention is characterized in that synthetic silica is used as at least a part of the glass raw material. In particular, it is preferable to use granular synthetic silica produced by a gas phase reaction method or a liquid phase reaction method. The average particle size of the synthetic silica is preferably 100 μm or less, more preferably 5 to 90 μm. The synthetic silica is, for example, amorphous silica, spherical silica, or a mixture thereof. The proportion of the synthetic silica in the total silica source of the glass raw material is preferably 90 to 100% by mass. By using such a raw material, the ultraviolet transmittance of the glass can be improved.
本発明の紫外線透過ガラスの製造方法において、ガラス原料の一部として、還元剤を用いることが好ましい。このようにすれば、ガラス中に含まれるＦｅ3+が還元されて、深紫外線での透過率が向上する。還元剤として、木粉、カーボン粉末、金属アルミニウム、金属シリコン、フッ化アルミニウム等の材料が使用可能であるが、その中でも金属シリコン、フッ化アルミニウムが好ましい。
In the method for producing an ultraviolet transmitting glass of the present invention, it is preferable to use a reducing agent as a part of the glass raw material. If it does in this way, Fe3 + contained in glass will be reduced and the transmittance in deep ultraviolet rays will improve. As the reducing agent, materials such as wood powder, carbon powder, metallic aluminum, metallic silicon, and aluminum fluoride can be used, among which metallic silicon and aluminum fluoride are preferable.
本発明の紫外線透過ガラスの製造方法において、ガラス原料の一部として、金属シリコンを用いることが好ましく、その添加量は、ガラスバッチの全質量に対して０．００１～３質量％、０．００５～２質量％、０．０１～１質量％、特に０．０３～０．１質量％が好ましい。金属シリコンの添加量が少な過ぎると、ガラス中に含まれるＦｅ3+が還元されず、深紫外線での透過率が低下し易くなる。一方、金属シリコンの添加量が多過ぎると、ガラスが茶色に着色する傾向がある。
In the method for producing an ultraviolet transmitting glass of the present invention, it is preferable to use metallic silicon as a part of the glass raw material, and the addition amount is 0.001 to 3 mass%, 0.005 based on the total mass of the glass batch. ˜2 mass%, 0.01˜1 mass%, particularly 0.03˜0.1 mass% are preferred. If the amount of metallic silicon added is too small, Fe 3+ contained in the glass is not reduced, and the transmittance at deep ultraviolet rays tends to decrease. On the other hand, when there is too much addition amount of metal silicon, there exists a tendency for glass to color brown.
ガラス原料の一部として、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ3）を用いることも好ましく、その添加量は、ガラスバッチの全質量に対して、Ｆ換算で０．０１～２質量％、０．０５～１．５質量％、０．３～１．５質量％が好ましい。一方、フッ化アルミニウムの添加量が多過ぎると、Ｆガスがガラス中に泡として残存する虞がある。フッ化アルミニウムの添加量が少な過ぎると、ガラス中に含まれるＦｅ3+が還元されず、深紫外線での透過率が低下し易くなる。
It is also preferable to use aluminum fluoride (AlF 3 ) as a part of the glass raw material, and the addition amount is 0.01 to 2% by mass, 0.05 to 1 in terms of F with respect to the total mass of the glass batch. 0.5% by mass, preferably 0.3 to 1.5% by mass. On the other hand, when there is too much addition amount of aluminum fluoride, there exists a possibility that F gas may remain as a bubble in glass. If the amount of aluminum fluoride added is too small, Fe 3+ contained in the glass is not reduced, and the transmittance at deep ultraviolet rays tends to decrease.
本発明の紫外線透過ガラスの製造方法において、紫外線透過ガラスを平板形状に成形する場合は、ダウンドロー法や、オーバーフローダウンドロー法を用いて成形することが好ましい。オーバーフローダウンドロー法は、耐熱性の樋状構造物の両側から溶融ガラスを溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下頂端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を成形する方法である。オーバーフローダウンドロー法では、ガラス板の表面となるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形される。このため、薄型のガラス板を作製し易くなると共に、表面を研磨しなくても、板厚ばらつきを低減することができる。結果として、ガラス板の製造コストを低廉化することができる。なお、樋状構造物の構造や材質は、所望の寸法や表面精度を実現できるものであれば、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行う際に、力を印加する方法も特に限定されない。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールをガラスに接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールをガラスの端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。
In the method for producing an ultraviolet light transmitting glass of the present invention, when the ultraviolet light transmitting glass is formed into a flat plate shape, it is preferably formed using a down draw method or an overflow down draw method. In the overflow down draw method, molten glass overflows from both sides of the heat-resistant bowl-shaped structure, and the overflowed molten glass is merged at the lower top end of the bowl-like structure, and then stretched downward to form a glass plate. It is a method to do. In the overflow down draw method, the surface to be the surface of the glass plate is not in contact with the bowl-shaped refractory and is molded in a free surface state. For this reason, it becomes easy to produce a thin glass plate, and variation in plate thickness can be reduced without polishing the surface. As a result, the manufacturing cost of the glass plate can be reduced. In addition, the structure and material of a bowl-shaped structure will not be specifically limited if a desired dimension and surface accuracy are realizable. In addition, the method of applying a force when performing downward stretch molding is not particularly limited. For example, a method may be adopted in which a heat-resistant roll having a sufficiently large width is rotated and stretched in contact with glass, or a plurality of pairs of heat-resistant rolls are contacted only near the end face of the glass. It is also possible to adopt a method of stretching by stretching.
本発明の紫外線透過ガラスの製造方法において、紫外線透過ガラスを管状に成形する場合は、ダウンドロー法や、ベロー法、ダンナー法等を用いて成形することが好ましい。ダンナー法は、傾斜配置された耐熱性のスリーブ状構造物の上方端側に溶融ガラスを流下して巻き付け、下方端側へ流下した溶融ガラスを延伸成形してガラス管を成形する方法である。
In the method for producing an ultraviolet transmissive glass of the present invention, when the ultraviolet transmissive glass is formed into a tubular shape, it is preferably formed using a downdraw method, a bellow method, a Dunner method, or the like. The Danner method is a method of forming a glass tube by flowing and winding molten glass around the upper end side of a heat-resistant sleeve-like structure arranged in an inclined manner, and drawing the molten glass flowing down to the lower end side.
成形方法として、上記以外にも、例えば、スロットダウン法、リドロー法、フロート法等を採択することもできる。
As the molding method, in addition to the above, for example, a slot down method, a redraw method, a float method, etc. can be adopted.
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。なお、以下の実施例は単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。
Hereinafter, the present invention will be described based on examples. The following examples are merely illustrative. The present invention is not limited to the following examples.
表１は、本発明の実施例（試料Ｎｏ．１～２）と比較例（試料Ｎｏ．３～４）を示している。
Table 1 shows examples of the present invention (samples Nos. 1 and 2) and comparative examples (samples Nos. 3 to 4).
まず、表中のガラス組成となるように、表に示すガラス原料を調合したガラスバッチを白金坩堝に入れ、１５５０℃で４時間溶融した。なお、合成シリカとしては気相反応法により生成された平均粒径３０μｍの合成シリカを用い、天然原料としてはガラス製造用途として一般的な精製済みの平均粒径１００～１２０μｍの天然シリカ原料を用いた。
First, a glass batch prepared by mixing the glass raw materials shown in the table so as to have the glass composition in the table was put in a platinum crucible and melted at 1550 ° C. for 4 hours. As synthetic silica, synthetic silica having an average particle diameter of 30 μm produced by a gas phase reaction method is used. As natural raw materials, natural silica raw materials having an average particle diameter of 100 to 120 μm, which have been purified and are generally used for glass production, are used. It was.
得られた溶融ガラスについて、白金スターラーを用いて攪拌し、均質化を行った。次いで、溶融ガラスをカーボン板上に流し出し、平板形状に成形した後、徐冷点より２０℃程度高い温度から室温まで３℃／分の速度で徐冷した。
The obtained molten glass was stirred using a platinum stirrer and homogenized. Next, the molten glass was poured onto a carbon plate and formed into a flat plate shape, and then slowly cooled from a temperature about 20 ° C. higher than the annealing point to room temperature at a rate of 3 ° C./min.
得られた各試料について透過率を測定した。透過率は、ダブルビーム型分光光度計を用いて、厚み方向の分光透過率を測定した値である。測定試料としては、表１に記載の厚みで両面を光学研磨面（鏡面）に研磨したものを使用した。なお、ＡＦＭにより、これらの測定試料の表面の表面粗さＲａを測定したところ、測定領域１０μｍ×１０μｍで０．５～１．０ｎｍであった。
The transmittance of each sample obtained was measured. The transmittance is a value obtained by measuring the spectral transmittance in the thickness direction using a double beam spectrophotometer. As a measurement sample, one having both thicknesses shown in Table 1 polished to an optically polished surface (mirror surface) was used. When the surface roughness Ra of the surface of these measurement samples was measured by AFM, it was 0.5 to 1.0 nm in a measurement region of 10 μm × 10 μm.
図１は、波長２００～４００ｎｍにおける厚さ０．５ｍｍの試料Ｎｏ．１～３の透過率曲線である。表１および図１から明らかなように、実施例のガラスは２５０ｎｍ以下の波長域における紫外線透過率が比較例のガラスに比べて高かった。
1 shows a sample No. 5 having a thickness of 0.5 mm at a wavelength of 200 to 400 nm. 1 is a transmission curve of 1-3. As is clear from Table 1 and FIG. 1, the glass of the example had a higher ultraviolet transmittance in the wavelength region of 250 nm or less than the glass of the comparative example.
なお、上記実施例では、溶融ガラスを流し出して平板形状に成形したが、工業的規模で生産する場合には、オーバーフローダウンドロー法等で平板形状に成形し、両表面が未研磨の状態で使用に供することが好ましい。また、管状に形成する場合は、ダウンドロー法やダンナー法等で管状に成形することが好ましい。
In the above embodiment, molten glass was poured out and formed into a flat plate shape. However, when produced on an industrial scale, it was formed into a flat plate shape by an overflow down draw method or the like, and both surfaces were unpolished. It is preferable to use. Moreover, when forming in a tubular shape, it is preferable to form the tubular shape by a downdraw method, a Dunner method, or the like.
本発明の紫外線透過ガラスは、例えば、殺菌灯や、磁気記録媒体の読み書き装置、その他紫外線を用いた装置に備えられるガラス等として好適である。
The ultraviolet transmissive glass of the present invention is suitable as, for example, a glass provided in a germicidal lamp, a magnetic recording medium read / write device, and other devices using ultraviolet light.
Claims (8)
- 厚み０．５ｍｍ、波長２００ｎｍにおける透過率（％）をＴ200とした場合、Ｔ200≧７５であることを特徴とする紫外線透過ガラス。 An ultraviolet transmissive glass characterized by T 200 ≧ 75 when the transmittance (%) at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 200 nm is T 200 .
- 厚み０．５ｍｍ、波長２５０ｎｍにおける透過率（％）をＴ250とした場合、
Ｔ200／Ｔ250≧０．７５以上である、請求項１に記載の紫外線透過ガラス。 When the thickness 0.5 mm, the transmittance at a wavelength of 250nm (%) was the T 250,
The ultraviolet transmissive glass according to claim 1, wherein T 200 / T 250 ≧ 0.75 or more. - 厚み０．５ｍｍ、波長２２０ｎｍにおける透過率（％）をＴ220とした場合、Ｔ220≧８０である、請求項１または２に記載の紫外線透過ガラス。 The ultraviolet ray transmitting glass according to claim 1, wherein T 220 ≧ 80 when the transmittance (%) at a thickness of 0.5 mm and a wavelength of 220 nm is T 220 .
- 厚みが０．１～３．０ｍｍの板状または管状である、請求項１～３の何れかに記載の紫外線透過ガラス。 The ultraviolet transmissive glass according to any one of claims 1 to 3, wherein the glass is a plate or tube having a thickness of 0.1 to 3.0 mm.
- ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ2 ５５～７５％、Ａｌ2Ｏ3 １～１０％、Ｂ2Ｏ3 １０～３０％、ＣａＯ ０～５ ％、 ＢａＯ ０～５％、Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ １．０～１５％、ＴｉＯ2 ０～０．００１％、Ｆｅ2Ｏ3 ０～０．００１％を含有する、請求項１～４の何れかに記載の紫外線透過ガラス。 As a glass composition, SiO 2 55 to 75%, Al 2 O 3 1 to 10%, B 2 O 3 10 to 30%, CaO 0 to 5%, BaO 0 to 5%, Li 2 O + Na 2 O + K by mass%. 5. The ultraviolet ray transmitting glass according to claim 1, comprising 1.0 to 15% of 2 O, 0 to 0.001% of TiO 2 and 0 to 0.001% of Fe 2 O 3 .
- 請求項１～５の何れかに記載の紫外線透過ガラスの製造方法であって、ガラス原料の少なくとも一部として合成シリカを用いることを特徴とする、紫外線透過ガラスの製造方法。 6. A method for producing an ultraviolet light transmissive glass according to claim 1, wherein synthetic silica is used as at least a part of the glass raw material.
- 前記合成シリカが、気相反応法または液相反応法により生成された粒体シリカである、請求項６に記載の紫外線透過ガラスの製造方法。 The method for producing an ultraviolet transmissive glass according to claim 6, wherein the synthetic silica is granular silica produced by a gas phase reaction method or a liquid phase reaction method.
- 前記合成シリカの平均粒径が１００μｍ以下であり、
前記ガラス原料の全シリカ源に占める前記合成シリカの割合が９０～１００質量％である、請求項６または７に記載の紫外線透過ガラスの製造方法。 The synthetic silica has an average particle size of 100 μm or less,
The method for producing an ultraviolet light transmitting glass according to claim 6 or 7, wherein a ratio of the synthetic silica to a total silica source of the glass raw material is 90 to 100% by mass.
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