WO2019006964A1 - 电致变色器件及其制作方法、变色玻璃 - Google Patents

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万永中
陈佳龙
王锋军
张灿黎
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北汽福田汽车股份有限公司
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    • G—PHYSICS
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    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/155—Electrodes

Definitions

  • the present disclosure relates to the field of display technology, and in particular to an electrochromic device, a method of fabricating the same, and a color changing glass.
  • An electrochromic device refers to a device in which an electrochromic material undergoes redox and undergoes a reversible change in light transmission or reflection under the action of an external electric field, and exhibits a reversible color phenomenon of color in appearance.
  • the current electrochromic device is a layer of a color changing film and an electrolyte film sandwiched between two transparent conductive films.
  • electrolysis When a voltage is applied to the transparent conductive film, electrolysis generates positive and negative ions to the color changing film, and chemically reacts with the metal oxide in the color changing film to become a colored compound, thereby causing the electrochromic device to be present. colour.
  • the polarity of the electrodes When the polarity of the electrodes is opposite, the ion migration direction is reversed and the electrochromic device is restored to its original state.
  • the existing electrochromic device has a fixed light-shielding rate after pressurization, and cannot be adapted to the needs of various scenes, and the flexibility is poor.
  • Embodiments of the present disclosure provide an electrochromic device and a method of fabricating the same, and a color changing glass to at least solve the technical problem of poor flexibility due to a fixed value of an electrochromic device after applying a voltage.
  • an electrochromic device comprising: a first electrode layer and a second electrode layer disposed opposite to each other; and a first color film layer disposed inside the first electrode layer, disposed on the first a second color changing film layer on the inner side of the second electrode layer, wherein at least one hollow geometry is formed in the second color changing film layer, the hollow geometry is filled with a transparent material; and the first ionization coupling layer disposed inside the first color changing film layer a second ionization coupling layer disposed inside the second color conversion film layer; and a third electrode layer disposed between the first ionization coupling layer and the second ionization coupling layer.
  • the electrochromic device further includes: a first protective layer disposed outside the first electrode layer; and a second protective layer disposed outside the second electrode layer.
  • the electrochromic device further includes: a first extraction electrode connected to the first electrode layer; a second extraction electrode connected to the second electrode layer; and a third extraction electrode connected to the third electrode layer.
  • the shape of the hollow geometry comprises at least one of the following: a circle, an ellipse, a polygon, a sector.
  • the transparent material comprises silicon dioxide;
  • the material of the second color changing film layer in the region other than the hollow geometry comprises at least one of the following: tungsten oxide, vanadium pentoxide, nickel hydroxide, molybdenum trioxide.
  • the thickness of the second color changing film layer is in the range of 200 nm to 300 nm.
  • a color changing glass comprising the electrochromic device having the above.
  • a method of fabricating an electro-optic thin film device comprising: forming a third electrode layer on a substrate; forming a first ionization coupling layer on the third electrode layer; Forming a first color changing film layer on the ionization coupling layer; forming a first electrode layer on the first color changing film layer; peeling off the substrate, and forming a second ionization coupling layer on a side of the third electrode layer away from the first ionization coupling layer Forming a second color changing film layer on the second ionization coupling layer, wherein at least one hollow geometry is formed in the second color conversion film layer, and the hollow geometry is filled with a transparent material; forming a second electrode layer on the second color changing film layer.
  • forming a second color changing film layer on the second ionization coupling layer comprises: forming a color changing film region having at least one hollow geometry on the second ionization coupling layer using the first mask; using the second mask At least one hollow geometry is filled with a transparent material to form a second color changing film layer.
  • the method for fabricating the electrochromic device further includes: bonding a first protective layer on the outer side of the first electrode layer; and affixing the second protective layer on the outer side of the second electrode layer.
  • the electrochromic device includes a first electrode layer and a second electrode layer disposed opposite to each other; a first color film layer disposed inside the first electrode layer, and a second layer disposed inside the second electrode layer a color changing film layer, wherein at least one hollow geometry is formed in the second color film layer, the hollow geometry is filled with a transparent material; the first ionization coupling layer disposed inside the first color film layer is disposed on the second color film a second ionization coupling layer on the inner side of the layer; and a third electrode layer disposed between the first ionization coupling layer and the second ionization coupling layer.
  • the first color-changing film layer and the second color-changing film layer share a third electrode layer, and voltages are applied to different electrode layers to obtain different light-shielding rates.
  • the purpose of providing various light-shielding rates is achieved, thereby achieving the technical effect of improving the flexibility of the electrochromic device, thereby solving the technical problem of poor flexibility due to the fixed value of the electro-optic device after the voltage is applied.
  • FIG. 1 is a schematic structural view of an alternative electrochromic device according to an embodiment of the present disclosure
  • FIG. 2 is a schematic structural view of an optional second color changing film layer according to an embodiment of the present disclosure
  • FIG. 3 is a schematic structural view of another optional second color changing film layer according to an embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 4 is a schematic structural view of still another optional color changing film layer according to an embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 5 is a schematic structural view of still another optional second color changing film layer according to an embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 6 is a flow diagram of a method of fabricating an alternative electrochromic device in accordance with an embodiment of the present disclosure.
  • an embodiment of an electrochromic device is provided.
  • the electrochromic device includes: a first electrode layer 10 and a second electrode layer 11 disposed opposite to each other; and is disposed inside the first electrode layer 10 a first color-changing film layer 12, a second color-changing film layer 13 disposed on the inner side of the second electrode layer 11, wherein the second color-changing film layer 13 is formed with at least one hollow geometry, and the hollow geometry is filled with a transparent material; a first ionization coupling layer 15 disposed inside the first color film layer 12, a second ionization coupling layer 16 disposed inside the second color film layer 13 , and a first ionization coupling layer 15 and a second ionization coupling layer 16
  • the third electrode layer 17 is between.
  • the first color-changing film layer 12 and the second color-changing film layer 13 have complementary polarities, that is, the first color-changing film layer 12 and the second color-changing film layer 13 share the third electrode layer 17.
  • the second color-changing film layer 13 and the third electrode layer 17 having a hollow geometry can be added, and the first color-changing film layer 12 and the second color-changing film layer 13 share the third electrode layer 17
  • Applying voltages to different electrode layers to obtain different shading rates achieving the purpose of providing various shading rates, thereby achieving the technical effect of improving the flexibility of the electrochromic device, thereby solving the problem that the electrochromic device is applied after voltage application.
  • a blackout rate is a technical problem caused by a fixed value.
  • the electrochromic device of the embodiment further includes: a first protection layer 18 disposed outside the first electrode layer 10; and a second protection layer disposed outside the second electrode layer 11 19.
  • the first protective layer 18 and the second protective layer 19 may be inorganic transparent films, and materials with high temperature resistance and scratch resistance, such as polyester resin, organic glass, polystyrene, etc., may be used to protect the electrochromic.
  • the purpose of the device is to extend the life of the electrochromic device.
  • the thickness of the first protective layer 18 and the second protective layer 19 may range from 1 um to 3 um, for example 1 um.
  • the electrochromic device of this embodiment further includes: a first extraction electrode 20 connected to the first electrode layer 10; a second extraction electrode 21 connected to the second electrode layer 11; The third extraction electrode 22 is connected to the third electrode layer 17.
  • a voltage can be applied to the first electrode layer 10 through the first extraction electrode 20, a voltage can be applied to the second electrode layer 11 through the second extraction electrode 21, and can be applied to the third electrode layer 17 through the third extraction electrode 22. Voltage.
  • the shape of the hollow geometry 14 includes at least one of the following: a circle, an ellipse, a polygon, a sector. That is, the shape of the hollow geometry 14 may be a circle as shown in FIG. 2, an ellipse as shown in FIG. 3, a polygon as shown in FIG. 4, a fan shape as shown in FIG. 5, or both. Kind or a combination of two or more shapes.
  • the area ratio of the color-changing film region (ie, the region of the non-hollowed geometry 14) to the hollowed-out geometry 14 can be adjusted as needed, which is not limited in this embodiment.
  • the transparent material comprises silicon dioxide.
  • the materials of the first electrode layer 10, the second electrode layer 11, and the third electrode layer 17 include aluminum-doped zinc oxide or indium tin oxide.
  • the first electrode layer 10, the second electrode layer 11, and the third electrode layer 17 may be transparent electrodes.
  • the thickness of the first electrode layer 10, the second electrode layer 11, and the third electrode layer 17 may be in the range of 400 nm to 700 nm, for example, may be 500 nm.
  • the materials of the first ionization coupling layer 15 and the second ionization coupling layer 16 include poly-2-acrylamide-2 methylpropanesulfonic acid.
  • poly-2-acrylamide-2methylpropanesulfonic acid is used as an ion storage layer and an ion conductive layer.
  • the thicknesses of the first ionization coupling layer 15 and the second ionization coupling layer 16 may be In the range of 200 nm to 400 nm, for example, it may be 300 nm.
  • the material of the first color changing film layer 12 includes at least one of the following: tungsten oxide, vanadium pentoxide, nickel hydroxide, molybdenum trioxide; and the second color changing film layer 13 except the hollow geometry 14
  • the material of the region includes at least one of the following: tungsten oxide, vanadium pentoxide, nickel hydroxide, and molybdenum trioxide.
  • the color-changing film including tungsten oxide is blue.
  • the thickness of the first color-changing film layer 12 may range from 200 nm to 350 nm, for example, may be 250 nm.
  • the thickness of the second color changing film layer 13 may be in the range of 200 nm to 300 nm, for example, may be 250 nm.
  • the electrochromic device of the embodiment adopts a complementary bipolar color changing structure, has superior performance, and can adjust light transmittance in multiple layers; the film structure has discoloration, anti-glare response speed, long life, high stability, safety, non-toxicity, energy consumption low.
  • the electrochromic device can be widely applied to the lighting adjustment of integrated switch indicators of automobiles, airplanes, ships, industrial and mining enterprises, and can also be applied to the glass film of intelligent buildings or the glass film of vehicles and ships.
  • an embodiment of a method of fabricating an electro-optic thin film device is provided.
  • 6 is a method of fabricating an electro-optic thin film device according to an embodiment of the present disclosure. As shown in FIG. 6, the method of fabricating the electrochromic device includes the following steps:
  • Step S102 forming a third electrode layer on the substrate.
  • a third electrode layer is formed by sputtering deposition on a substrate.
  • the substrate can be a glass substrate.
  • Step S104 forming a first ionization coupling layer on the third electrode layer.
  • the first ionization coupling layer is formed on the third electrode layer by a sol-gel method.
  • Step S106 forming a first color changing film layer on the first ionization coupling layer.
  • a first color changing film layer is formed by sputtering deposition on the first ionization coupling layer.
  • Step S108 forming a first electrode layer on the first color-changing film layer.
  • a first electrode layer is formed by sputtering deposition on the first color-changing film layer.
  • the first protective layer is pasted on the outer side of the first electrode layer.
  • Step S110 peeling off the substrate, and forming a second ionization coupling layer on a side of the third electrode layer away from the first ionization coupling layer.
  • the substrate is peeled off, and then the second ionization coupling layer is formed by a sol-gel method on the other side of the third electrode layer (ie, the side away from the first ionization coupling layer).
  • Step S112 forming a second color changing film layer on the second ionization coupling layer.
  • At least one hollow geometry is formed in the second color changing film layer, and the hollow geometry is filled with a transparent material.
  • a second color changing film layer is formed by sputtering deposition on the second ionization coupling layer, wherein at least one hollow geometry is formed in the second color conversion film layer, and the hollow geometry is filled with a transparent material.
  • forming a second color changing film layer on the second ionization coupling layer comprises: forming a color changing film region having at least one hollow geometry on the second ionization coupling layer using the first mask; using the second mask At least one hollow geometry is filled with a transparent material to form a second color changing film layer.
  • the first mask is opposite to the pattern of the second mask, and the thickness of the transparent material in at least one hollow geometry is the same as the thickness of the color changing film region.
  • Step S114 forming a second electrode layer on the second color changing film layer.
  • a second electrode layer is formed by sputtering deposition on the second color-changing film layer.
  • the second protective layer is pasted on the outer side of the second electrode layer.
  • the first color-changing film layer and the second color-changing film layer share a third electrode layer, and voltages are applied to different electrode layers.
  • Different shading rates have achieved the purpose of providing various shading rates, thereby achieving the technical effect of improving the flexibility of the electrochromic device, thereby solving the flexibility caused by the fixed value of the electrochromic device after applying voltage. Poor technical issues.
  • a switch indicator comprising the electrochromic device having the above.
  • a color changing glass comprising the electrochromic device having the above.

Abstract

一种电致变色器件及其制作方法、变色玻璃，包括：相对设置的第一电极层（10）和第二电极层（11）；设置于第一电极层（10）内侧的第一变色薄膜层（12），设置于第二电极层（11）内侧的第二变色薄膜层（13），第二变色薄膜层（13）中形成有至少一个镂空几何结构，镂空几何结构内填充有透明材料；设置于第一变色薄膜层（12）内侧的第一电离耦合层（15），设置于第二变色薄膜层（13）内侧的第二电离耦合层（16）；以及设置于第一电离耦合层（15）与第二电离耦合层（16）之间的第三电极层（17）。

Description

电致变色器件及其制作方法、变色玻璃 技术领域
本公开涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种电致变色器件及其制作方法、变色玻璃。
背景技术
电致变色器件是指在外界电场的作用下，其中的电致变色材料发生氧化还原而对光透射或反射产生的可逆变化，在外观上表现为颜色的可逆变色现象的器件。
目前的电致变色器件，是在两层透明导电膜之间夹一层变色膜和一层电解质膜。在透明导电膜上加电压时，电解质膜中即电解生成正、负离子向变色膜迁移，并与变色膜中的金属氧化物发生化学反应，变为带色的化合物，从而使电致变色器件呈现颜色。当电极极性相反时，离子迁移方向相反，电致变色器件即恢复原状。
然而，现有的电致变色器件在加压后遮光率是固定的，无法适应多种场景的需要，灵活性较差。
针对上述的问题，目前尚未提出有效的解决方案。
发明内容
本公开实施例提供了一种电致变色器件及其制作方法、变色玻璃，以至少解决由于电致变色器件在加电压后遮光率为固定值造成的灵活性较差的技术问题。
根据本公开实施例的一个方面，提供了一种电致变色器件，包括：相对设置的第一电极层和第二电极层；设置于第一电极层内侧的第一变色薄膜层，设置于第二电极层内侧的第二变色薄膜层，其中，第二变色薄膜层中形成有至少一个镂空几何结构，镂空几何结构内填充有透明材料；设置于第一变色薄膜层内侧的第一电离耦合层，设置于第二变色薄膜层内侧的第二电离耦合层；以及设置于第一电离耦合层与第二电离耦合层之间的第三电极层。
可选地，电致变色器件还包括：设置于第一电极层外侧的第一防护层；设置于第二电极层外侧的第二防护层。
可选地，电致变色器件还包括：与第一电极层连接的第一引出电极；与第二电极层连接的第二引出电极；与第三电极层连接的第三引出电极。
可选地，镂空几何结构的形状包括以下中的至少一者：圆形、椭圆形、多边形、扇形。
可选地，透明材料包括二氧化硅；第二变色薄膜层的除镂空几何结构以外区域的材料包括以下中的至少一者：氧化钨、五氧化二钒、氢氧化镍酰、三氧化钼。
可选地，第二变色薄膜层的厚度在200nm至300nm的范围内。
根据本公开实施例的另一方面，还提供了一种变色玻璃，包括具有上述的电致变色器件。
根据本公开实施例的又一方面，还提供了一种电致薄膜器件的制作方法，包括：在基底上形成第三电极层；在第三电极层上形成第一电离耦合层；在第一电离耦合层上形成第一变色薄膜层；在第一变色薄膜层上形成第一电极层；剥离基底，并在第三电极层的远离第一电离耦合层的一侧上形成第二电离耦合层；在第二电离耦合层上形成第二变色薄膜层，其中，第二变色薄膜层中形成有至少一个镂空几何结构，镂空几何结构内填充有 透明材料；在第二变色薄膜层上形成第二电极层。
可选地，在第二电离耦合层上形成第二变色薄膜层，包括：使用第一掩模板在第二电离耦合层上形成具有至少一个镂空几何结构的变色薄膜区域；使用第二掩模板在至少一个镂空几何结构内填充透明材料，以形成第二变色薄膜层。
可选地，电致变色器件的制作方法还包括：在第一电极层外侧粘贴第一防护层；在第二电极层外侧粘贴第二防护层。
在本公开的实施例中，电致变色器件包括相对设置的第一电极层和第二电极层；设置于第一电极层内侧的第一变色薄膜层，设置于第二电极层内侧的第二变色薄膜层，其中，第二变色薄膜层中形成有至少一个镂空几何结构，镂空几何结构内填充有透明材料；设置于第一变色薄膜层内侧的第一电离耦合层，设置于第二变色薄膜层内侧的第二电离耦合层；以及，设置于第一电离耦合层与第二电离耦合层之间的第三电极层。通过增设具有镂空几何结构的第二变色薄膜层及第三电极层，第一变色薄膜层与第二变色薄膜层共用第三电极层，在不同的电极层施加电压得到不同的遮光率，达到了提供多种遮光率的目的，从而实现了提高电致变色器件灵活性的技术效果，进而解决了由于电致变色器件在加电压后遮光率为固定值造成的灵活性较差的技术问题。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本公开的进一步理解，构成本申请的一部分，本公开的示例性实施例及其说明用于解释本公开，并不构成对本公开的不当限定。在附图中：
图1是根据本公开实施例的一种可选的电致变色器件的结构示意图；
图2是根据本公开实施例的一种可选的第二变色薄膜层的结构示意图；
图3是根据本公开实施例的另一种可选的第二变色薄膜层的结构示意图；
图4是根据本公开实施例的又一种可选的第二变色薄膜层的结构示意图；
图5是根据本公开实施例的又一种可选的第二变色薄膜层的结构示意图；
图6是根据本公开实施例的一种可选的电致变色器件的制作方法的流程示意图。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本公开的方案，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本公开保护的范围。
需要说明的是，本公开的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本公开的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
需要说明的是：本公开的“上”“下”“内”“外”只是参考附图对本公开进行说明，不作为限定用语。
实施例1
根据本公开实施例，提供了一种电致变色器件的实施例。图1是根据本公开实施例的电致变色器件，如图1所示，该电致变色器件包括：相对设置的第一电极层10和第二电极层11；设置于第一电极层10内侧的第一变色薄膜层12，设置于第二电极层11内侧的第二变色薄膜层13，其中，第二变色薄膜层13中形成有至少一个镂空几何结构，镂空几何结构内填充有透明材料；设置于第一变色薄膜层12内侧的第一电离耦合层15，设置于第二变色薄膜层13内侧的第二电离耦合层16；以及设置于第一电离耦合层15与第二电离耦合层16之间的第三电极层17。
其中，第一变色薄膜层12与第二变色薄膜层13的极性互补，也就是说，第一变色薄膜层12与第二变色薄膜层13共用第三电极层17。
本实施例的电致变色器件，可以实现通过增设具有镂空几何结构的第二变色薄膜层13及第三电极层17，第一变色薄膜层12与第二变色薄膜层13共用第三电极层17，在不同的电极层施加电压得到不同的遮光率，达到了提供多种遮光率的目的，从而实现了提高电致变色器件灵活性的技术效果，进而解决了由于电致变色器件在加电压后遮光率为固定值造成的灵活性较差的技术问题。
可选地，仍如图1所示，本实施例的电致变色器件还包括：设置于第一电极层10外侧的第一防护层18；设置于第二电极层11外侧的第二防护层19。
其中，第一防护层18、第二防护层19可以为无机透明的薄膜，可以采用耐温防划硬度较高的材料，例如涤纶树脂、有机玻璃、聚苯乙烯等，以实现保护电致变色器件的目的，延长电致变色器件的使用寿命。
示例性地，第一防护层18、第二防护层19的厚度可以在1um至3um的范围内，例如可以为1um。
可选地，仍如图1所示，本实施例的电致变色器件还包括：与第一电极层10连接的第一引出电极20；与第二电极层11连接的第二引出电极21；与第三电极层17连接的第三引出电极22。
具体实施时，通过第一引出电极20可以向第一电极层10施加电压，通过第二引出电极21可以向第二电极层11施加电压，通过第三引出电极22可以向第三电极层17施加电压。
可选地，如图2至图5所示，镂空几何结构14的形状包括以下中的至少一者：圆形、椭圆形、多边形、扇形。即，镂空几何结构14的形状可以为如图2所示的圆形，也可以是如图3所示的椭圆形、如图4所示的多边形、如图5所示的扇形，或者上述两种或两种以上形状的组合。
其中，变色薄膜区域(即非镂空几何结构14的区域)与镂空几何结构14的面积比可以根据需要进行调整，本实施例对此不做限制。
需要说明的是，镂空几何结构14的面积越大，第二变色薄膜层13在工作时的遮光率越小。
可选地，透明材料包括二氧化硅。
可选地，第一电极层10、第二电极层11和第三电极层17的材料包括掺铝氧化锌或氧化铟锡。
其中，第一电极层10、第二电极层11和第三电极层17可以为透明电极。
示例性地，第一电极层10、第二电极层11和第三电极层17的厚度可以在400nm至700nm的范围内，例如可以为500nm。
可选地，第一电离耦合层15和第二电离耦合层16的材料包括聚2-丙烯酰胺-2甲基丙磺酸。
其中，聚2-丙烯酰胺-2甲基丙磺酸作为离子储存层和离子导电层。
示例性地，第一电离耦合层15和第二电离耦合层16的厚度可以在 200nm至400nm的范围内，例如可以为300nm。
可选地，第一变色薄膜层12的材料包括以下中的至少一者：氧化钨、五氧化二钒、氢氧化镍酰、三氧化钼；第二变色薄膜层13的除镂空几何结构14以外区域的材料包括以下中的至少一者：氧化钨、五氧化二钒、氢氧化镍酰、三氧化钼。
其中，包括氧化钨的变色薄膜呈蓝色。
示例性地，第一变色薄膜层12的厚度可以在200nm至350nm的范围内，例如可以为250nm。
可选地，第二变色薄膜层13的厚度可以在200nm至300nm的范围内，例如可以为250nm。
本实施例的电致变色器件，采用互补双极变色结构，性能优越，能多层次地调节光透射率；薄膜结构变色防眩响应速度快、寿命长、稳定性高、安全无毒、能耗低。该电致变色器件可以广泛应用于汽车、飞机、船舶、工矿企业的一体化开关指示器的灯光调节上，也可应用于智能建筑的玻璃贴膜或车船的玻璃贴膜上。
实施例2
根据本公开实施例，提供了一种电致薄膜器件的制作方法的实施例。图6是根据本公开实施例的电致薄膜器件的制作方法，如图6所示，该电致变色器件的制作方法包括以下步骤：
步骤S102，在基底上形成第三电极层。
本申请上述步骤S102中，在基底上溅射沉积形成第三电极层。该基底可以为玻璃基底。
步骤S104，在第三电极层上形成第一电离耦合层。
本申请上述步骤S104中，在第三电极层上用溶胶凝胶法形成第一电离耦合层。
步骤S106，在第一电离耦合层上形成第一变色薄膜层。
本申请上述步骤S106中，在第一电离耦合层上溅射沉积形成第一变色薄膜层。
步骤S108，在第一变色薄膜层上形成第一电极层。
本申请上述步骤S108中，在第一变色薄膜层上溅射沉积形成第一电极层。
可选地，在第一变色薄膜层上形成第一电极层后，在第一电极层的外侧粘贴第一防护层。
步骤S110，剥离基底，并在第三电极层的远离第一电离耦合层的一侧上形成第二电离耦合层。
本申请上述步骤S110中，将基底剥离，然后在第三电极层的另一侧(即远离第一电离耦合层的一侧)上用溶胶凝胶法形成第二电离耦合层。
步骤S112，在第二电离耦合层上形成第二变色薄膜层。
本申请上述步骤S112中，第二变色薄膜层中形成有至少一个镂空几何结构，镂空几何结构内填充有透明材料。在第二电离耦合层上溅射沉积形成第二变色薄膜层，其中，第二变色薄膜层中形成有至少一个镂空几何结构，镂空几何结构内填充有透明材料。
可选地，在第二电离耦合层上形成第二变色薄膜层，包括：使用第一掩模板在第二电离耦合层上形成具有至少一个镂空几何结构的变色薄膜区域；使用第二掩模板在至少一个镂空几何结构内填充透明材料，以形成第二变色薄膜层。其中，该第一掩模板与第二掩模板的图形相反，至少一个镂空几何结构内透明材料的厚度与变色薄膜区域的厚度相同。
步骤S114，在第二变色薄膜层上形成第二电极层。
本申请上述步骤S114中，在第二变色薄膜层上溅射沉积形成第二电极层。
可选地，在第二变色薄膜层上形成第二电极层后，在第二电极层外侧粘贴第二防护层。
在本公开实施例中，通过增设具有镂空几何结构的第二变色薄膜层及第三电极层，第一变色薄膜层与第二变色薄膜层共用第三电极层，在不同的电极层施加电压得到不同的遮光率，达到了提供多种遮光率的目的，从而实现了提高电致变色器件灵活性的技术效果，进而解决了由于电致变色器件在加电压后遮光率为固定值造成的灵活性较差的技术问题。
根据本公开实施例，还提供了一种开关指示器，包括具有上述的电致变色器件。
根据本公开实施例，还提供了一种变色玻璃，包括具有上述的电致变色器件。
上述本公开实施例序号仅仅为了描述，不代表实施例的优劣。
在本公开的上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的技术内容，可通过其它的方式实现。以上所述仅是本公开的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本公开原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本公开的保护范围。

Claims (10)

  1. 一种电致变色器件，其特征在于，包括：
    相对设置的第一电极层和第二电极层；
    设置于所述第一电极层内侧的第一变色薄膜层，设置于所述第二电极层内侧的第二变色薄膜层，其中，所述第二变色薄膜层中形成有至少一个镂空几何结构，所述镂空几何结构内填充有透明材料；
    设置于所述第一变色薄膜层内侧的第一电离耦合层，设置于所述第二变色薄膜层内侧的第二电离耦合层；以及
    设置于所述第一电离耦合层与所述第二电离耦合层之间的第三电极层。
  2. 根据权利要求1所述的电致变色器件，其特征在于，还包括：
    设置于所述第一电极层外侧的第一防护层；
    设置于所述第二电极层外侧的第二防护层。
  3. 根据权利要求1所述的电致变色器件，其特征在于，还包括：
    与所述第一电极层连接的第一引出电极；
    与所述第二电极层连接的第二引出电极；
    与所述第三电极层连接的第三引出电极。
  4. 根据权利要求1所述的电致变色器件，其特征在于，所述镂空几何结构的形状包括以下中的至少一者：圆形、椭圆形、多边形、扇形。
  5. 根据权利要求1所述的电致变色器件，其特征在于，所述透明材料包括二氧化硅；所述第二变色薄膜层的除所述镂空几何结构以外区域的材 料包括以下中的至少一者：氧化钨、五氧化二钒、氢氧化镍酰、三氧化钼。
  6. 根据权利要求1至5中任一项权利要求所述的电致变色器件，其特征在于，所述第二变色薄膜层的厚度在200nm至300nm的范围内。
  7. 一种变色玻璃，其特征在于，包括如权利要求1至6中任一项权利要求所述的电致变色器件。
  8. 一种电致变色器件的制作方法，其特征在于，包括：
    在基底上形成第三电极层；
    在所述第三电极层上形成第一电离耦合层；
    在所述第一电离耦合层上形成第一变色薄膜层；
    在所述第一变色薄膜层上形成第一电极层；
    剥离所述基底，并在所述第三电极层的远离所述第一电离耦合层的一侧上形成第二电离耦合层；
    在所述第二电离耦合层上形成第二变色薄膜层，其中，所述第二变色薄膜层中形成有至少一个镂空几何结构，所述镂空几何结构内填充有透明材料；
    在所述第二变色薄膜层上形成第二电极层。
  9. 根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述第二电离耦合层上形成第二变色薄膜层，包括：
    使用第一掩模板在所述第二电离耦合层上形成具有所述至少一个镂空几何结构的变色薄膜区域；
    使用第二掩模板在所述至少一个镂空几何结构内填充透明材料，以形成所述第二变色薄膜层。
  10. 根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，还包括：
    在所述第一电极层外侧粘贴第一防护层；
    在所述第二电极层外侧粘贴第二防护层。
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