WO2018194403A1 - Light transmittance control film and light transmittance control film composition - Google Patents

Light transmittance control film and light transmittance control film composition Download PDF

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WO2018194403A1
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light transmittance
formula
branched alkyl
linear
carbon atoms
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박승구
윤성률
경기욱
최미정
박봉제
박선택
남세광
문성철
신은진
임정묵
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한국전자통신연구원
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/20Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/42Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
    • C08G77/442Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing vinyl polymer sequences
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/02Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the intensity of light

Definitions

  • the present invention relates to a light transmittance adjusting film composition and a light transmittance adjusting film.
  • the present invention discloses a liquid crystal or electrochromic molecule that improves the disadvantages of a film type light transmission control module based on liquid crystals or polarized particles, and a light transmission control film based on no dispersion particles.
  • the light amount control method using low-molecular liquid crystals has a disadvantage in that the power consumption according to the light consumption increases because of the use of polarization in principle, and uses such components as polarizing plates and expensive liquid crystal materials.
  • the amount of light control using polymer-dispersed liquid crystals (PDLCs) has caused a problem of low light blocking rate due to scattering of light even when an electric field is not applied.
  • Light absorption control method through oxidation and reduction of electrochromic material and orientation of dichroic dyes and particles dispersed and suspended in polymer, respectively, has high manufacturing cost according to materials and packaging, and changes in transmittance due to limitation of light control mechanism.
  • the disadvantage is as low as 30-50%.
  • the present invention is to provide a film for easily adjusting the light transmittance without an electric field and a light transmittance adjusting film composition for producing the same.
  • the present invention relates to a light transmittance adjusting film and a light transmittance adjusting film composition.
  • the light transmittance controlling film comprises a matrix portion comprising a copolymer and a polymer chain bonded to the copolymer; And a polymer derived from a first monomer, comprising a dispersed portion provided in the matrix portions, wherein the polymer chain can be derived from the first monomer.
  • the light transmittance adjusting film exhibits a first light transmittance while the external force is applied; When the external force is removed, the second light transmittance may be greater than the first light transmittance.
  • the second light transmittance may be about 35% to about 95% transmittance of light in a visible region.
  • voids are provided between the dispersed portion and the matrix portion, and when the external force is removed, the voids may disappear.
  • the dispersed portion may have a larger initial elastic modulus than the matrix portion.
  • the dispersed portion may have an initial elastic modulus of about 100 times to about 100,000 times that of the matrix portion.
  • the difference in refractive index between the matrix portion and the dispersed portion may be less than 5%.
  • the external force may include a tensile force.
  • the first monomer may be represented by the following formula (1).
  • A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom.
  • a halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8 and R2, R3, and R4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the matrix portion may be represented by Formula 6A below.
  • R11 is represented by the following formula (2B), and R12, R13, and R14 are each independently hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms.
  • R15 may include at least one of the materials represented by the following Chemical Formula 6B, and R16 may include at least one of the materials represented by the following Chemical Formula 6B.
  • * means a moiety bonded to Si of Formula 6A
  • B is a single bond or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group, or -S- CO-
  • R21, R22, and R23 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • * means a moiety bonded to Si in formula (6A)
  • A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S)
  • B is a single bond, carbon number Linear or branched alkyl group of 1 to 5, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group or -S-CO-
  • R1 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom
  • R 2, R 3, and R 4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms
  • R 21, R 22, and R 23 are each independently Hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms
  • m6
  • * means a moiety bonded to Si of formula (6A), A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and B is a single bond, carbon number Linear or branched alkyl group of 1 to 5, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group or -S-CO-, R1 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, or 1 to C A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8, R 2, R 3, and R 4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 21, R 22, and R 23 are each independently hydrogen , A halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m7 is an integer selected from
  • the light transmittance adjusting film composition comprises a first monomer; And a copolymer comprising a first polymer derived from the second monomer and a second polymer derived from a third monomer, wherein the molar ratio of the first polymer and the first monomer in the copolymer is from 1: 5 to 1
  • the molar ratio of the first polymer and the second polymer in the copolymer may be 1: 4 to 1: 200.
  • the first monomer may be represented by the following formula (1).
  • A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom.
  • a halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8 and R2, R3, and R4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the first polymer may include a polymerization unit represented by Formula 2A.
  • R11 is represented by formula (2B) below, R12 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, or substituted or unsubstituted phenyl group of 6 to 13 carbon atoms, m1 is 2 to 50 Is an integer between.
  • B is a single bond or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group, or -S-CO-, and R21, R22, and R23 are each independently Hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the second polymer may include a polymerization unit represented by Formula 3.
  • R13 and R14 are each independently hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m2 is an integer between 10 and 10,000.
  • the first monomer comprises t -butyl acrylate
  • the copolymer comprises a silicone copolymer represented by the formula (4B) below
  • the silicone copolymer has a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000
  • the silicone copolymer may be dissolved in the t -butyl acrylate monomer.
  • the ratio of m1 to m2 is 1: 4 to 1: 200.
  • the molar ratio of the t -butyl acrylate monomer to the total molar ratio of the vinyl group included in the copolymer may be 1: 5 to 1: 100.
  • the polymerization initiator may further include.
  • At least one of the first monomer and the copolymer may include a vinyl group, and the polymerization initiator may be 0.05 to 5 mol% based on the total of the vinyl groups.
  • the light transmittance of the film of the present invention can be adjusted.
  • the transmittance of the light transmittance adjusting film may be reduced by the stress whitening phenomenon.
  • the light transmittance adjusting film may have good elastic recovery properties. Once the external force is removed, the light transmittance adjusting film may return to its initial state before the external force is applied. Accordingly, light transmittance can be easily adjusted.
  • the light transmittance adjusting film can be simply produced by the photopolymerization reaction of the light transmittance adjusting film composition.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing a light transmittance control film composition according to embodiments of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic plan view of a light transmittance adjusting film according to the embodiments.
  • FIG. 3 schematically shows a molecular chain composition of the light transmittance adjusting film of FIG. 2.
  • FIG. 4 is a perspective view illustrating a manufacturing process of a light transmittance adjusting film according to embodiments.
  • FIG. 5 is a view for explaining a light transmittance adjusting method using the light transmittance adjusting film of FIG.
  • Figure 7a is a result showing the light transmittance according to the tensile strain (tensile strain) of the film of Experimental Example F 3-20.
  • 7B is a result of analyzing light transmittances of Experimental Examples F 2-20, Experimental Examples F 3-20, and Experimental Examples F 3-30 according to the wavelengths when a tensile strain of 0.2 was applied to the light transmittance adjusting film.
  • Example 8A is a scanning electron microscope (Scanning Electron Microscope, SEM) planar image of the Experimental Example F 2-20 film with a tensile strain of 0.2 applied to the light transmittance controlling film.
  • Example 8B is a planar image of Experimental Example F 2-20 film, with a tensile strain of 0.4 applied to the light transmittance controlling film.
  • 8C is an SEM plane image of Experimental Example F 2-20 film, with a tensile strain of 0.8 applied to the light transmittance controlling film.
  • 10A, 10B, 10C, and 10D are transmission electron microscopes of Experimental Examples F 1-20, Experimental Examples F 2-20, Experimental Examples F 3-20, and Experimental Examples F 3-30 films, respectively.
  • FIG. 11A shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film with no tensile force applied.
  • 11B shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film while tensile force is applied.
  • 11C shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film with tensile force applied thereto.
  • a film (or layer) is on another film (or layer) or substrate, it may be formed directly on another film (or layer) or substrate or a third film (between) Or layers) may be interposed.
  • first, second, third, etc. are used to describe various regions, films (or layers), etc. in various embodiments of the present specification, these regions, films should not be limited by these terms. do. These terms are only used to distinguish any given region or film (or layer) from other regions or films (or layers). Therefore, the film quality referred to as the first film quality in one embodiment may be referred to as the second film quality in other embodiments.
  • first film quality in one embodiment
  • second film quality in other embodiments.
  • Each embodiment described and illustrated herein also includes its complementary embodiment. Portions denoted by like reference numerals denote like elements throughout the specification.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing a light transmittance control film composition according to embodiments of the present invention.
  • the light transmittance adjusting film composition 10 may include a first monomer 100 and a copolymer 200.
  • the first monomers 100 may be represented by Formula 1 below.
  • A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom.
  • R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom.
  • a halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8 and R2, R3, and R4 may each independently be hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the first monomer 100 may include an acrylic monomer or a vinyl monomer.
  • the first monomer 100 is, for example, styrene, 2,3,4,5,6-pentafluoro styrene (2,3,4,5,6-pentafluoro styrene), methyl acrylate, methyl methacrylate , Ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, hexyl acrylate, hexyl methacrylate, octyl acrylate, octyl methacrylate, Octadecyl acrylate, octadecyl methacrylate, dodecyl acrylate, dodecyl methacrylate, vinyl acetate, trifluoroacetic acid allyl ester, trifluoroacetic acid vinyl
  • the copolymer 200 may include a first polymer and a second polymer.
  • the weight average molecular weight of the copolymer 200 may be 5,000 to 500,000.
  • the first polymer may comprise a polymerization unit derived from the second monomer.
  • the first polymer may include a polymerization unit represented by Formula 2A below.
  • R11 may be represented by the following Formula 2B.
  • R12 may be hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms.
  • m1 may be an integer between 2 and 50.
  • B is a single bond or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group, or -S-CO-, and R21, R22, and R23 are each independently Hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the first polymer may comprise a reactor.
  • the reactor may be a group represented by Formula 2B.
  • the second polymer may be combined with the first polymer.
  • the second polymer may include a polymerization unit represented by the formula (3).
  • the second polymer can be derived from the third monomer.
  • the third monomer may be different from the first monomer 100 and the second monomer.
  • R13 and R14 may each independently be hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms.
  • m2 is an integer between 10 and 10,000.
  • the ratio of the total number of the polymerization units of the first polymer in the copolymer 200 to the number of moles of the first monomer 100 may be 1: 5 to 1: 100.
  • the sum of the polymerization units of the first polymer may be, for example, the sum of m1 in Formula 2A.
  • the copolymer 200 may be represented by the following Chemical Formula 4A.
  • R12, R13, and R14 are each independently hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m1 is selected from 2 to 50 Integer, m2 is an integer between 10 and 10,000, m1: m2 may be 1: 4 to 1: 200.
  • R11 may be represented by Chemical Formula 2B.
  • the copolymer 200 may be prepared by a polymerization reaction of a second monomer and a third monomer as in Scheme 1 below.
  • R11, R12, R13, R14, m1, and m2 are as defined in Formula 2A, Formula 2B, and Formula 4A.
  • the light transmittance adjusting film composition 10 may further include a polymerization initiator 300.
  • the polymerization initiator 300 may include a photopolymerization initiator.
  • the polymerization initiator 300 may include, for example, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone.
  • the polymerization initiator 300 may include a thermal polymerization initiator.
  • the first monomer 100 includes t -butyl acrylate
  • the copolymer 200 includes a silicone copolymer represented by the following Chemical Formula 4B
  • the silicone copolymer has a weight of 5,000 to 500,000. It may have an average molecular weight.
  • the silicone copolymer can be dissolved in t -butyl acrylate.
  • the ratio of m1 to m2 is 1: 4 to 1: 200.
  • the molar ratio of t -butyl acrylate relative to the total molar ratio of vinyl groups included in the copolymer 200 may be 1: 5 to 1: 100. At least one of the first monomer 100 and the copolymer 200 may include a vinyl group.
  • the polymerization initiator 300 may be 0.05 mol% to 5 mol% with respect to the total of the vinyl groups.
  • semicrystalline polymers such as polyethylene, polypropylene, polyoxymethylene, polyethylene terephthalate, and polyamide
  • semicrystalline polymers have several nano size in the process of developing amorphous regions from lamellar crystals upon stretching.
  • a void is created, which grows to tens or hundreds of nanoscales that can cause light scattering when pulled to near fracture, resulting in stress-whitening due to tensile stress at break. It is known to not appear in compressive or torsional stresses.
  • the spaces at the interface between the polymer and the dispersion may be caused by the difference in tensile strain between the polymer matrix and the dispersion. These spaces can grow and grow to a size that will cause light scattering with continuous tension, causing whitening that makes the film opaque by scattering visible light passing through the film near the fracture of the film.
  • this phenomenon occurs near the fracture of the polymer film, light transmittance control due to stress whitening is irreversible to the change in film tensile stress.
  • the stress whitening mainly occurs in the polymer composite film in which the semi-crystalline polymer or the dispersion is dispersed
  • the light transmittance of the initial polymer film may be reduced by light scattering of the crystal region or the dispersion before the application of the tensile stress.
  • the light transmittance control film in the present invention is a film in which the light transmittance of the film is adjusted according to the mechanical strain or stress applied by using the stress whitening phenomenon of the polymer.
  • FIG. 2 is a schematic plan view of a light transmittance adjusting film according to the embodiments.
  • FIG. 3 schematically shows a molecular chain composition of the light transmittance adjusting film of FIG. 2.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may include a dispersed portion P1 and a matrix portion P2. Light transmittance control using the light transmittance adjusting film 1000 will be described in more detail with reference to FIG. 5.
  • the dispersed portion P1 may be provided in the matrix portion P2.
  • the dispersed portion P1 may have the shape of circles or ellipses.
  • the dispersed portion P1 may have maximum diameters of 10 nm to 500 nm.
  • the matrix portion P2 may serve as a matrix of the light transmittance adjusting film 1000.
  • the content ratio and volume of the matrix portion P2 may be smaller than the content ratio and volume of the dispersed portion P1.
  • the matrix portion P2 may comprise a polymerization unit derived from the dispersed portion P1 and other monomers.
  • the matrix portion P2 may have compatibility with the dispersed portion P1.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may have an initial elastic modulus of 50 MPa or less.
  • the dispersed portion P1 of the light transmittance adjusting film 1000 may have a larger initial elastic modulus than the matrix portion P2.
  • the dispersed portion P1 may be at least 100 times the initial modulus of elasticity of the matrix portion P2, in particular 100 to 100000 times.
  • the initial elastic modulus of the matrix portion P2 may be 0.01 MPa to 1 MPa, and the initial elastic modulus of the dispersed portion P1 may be 100 MPa or more, specifically 100 MPa to 100,000 MPa.
  • the initial elastic modulus may mean an initial elastic modulus at room temperature, for example, 25 ° C.
  • Matrix portion P2 may have a greater strain for forces of the same intensity than scattered portion P1.
  • Matrix portion P2 may have good elastic recovery characteristics.
  • Matrix portion P2 may have the same or similar refractive index as dispersed portion P1.
  • the difference between the refractive indices of the matrix portion P2 and the dispersed portions P1 may be less than 5%.
  • the refractive index of the matrix portion P2 is excessively larger than the refractive index of the dispersed portion P1 (eg, a refractive index difference of 5% or more)
  • the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may decrease.
  • the manufacturing method of the dispersed part P1 and the matrix part P2 is demonstrated.
  • the dispersed portion P1 may include homo polymers.
  • the dispersed portion P1 may comprise a polymerization unit derived from the first monomer 100.
  • the first monomer 100 may be represented by Chemical Formula 1. Accordingly, the dispersed portion P1 may include a polymer represented by Formula 5 below.
  • A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom.
  • R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom.
  • a halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8 and R2, R3, and R4 may each independently be hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • n is an integer between 2 and 5000.
  • the dispersed portion P1 may include inorganic materials.
  • Matrix portion P2 may include copolymer 200 and polymer chains 110.
  • the copolymer 200 may be random, alternating, or in block form.
  • the copolymer 200 may serve as a main chain.
  • the copolymer 200 may include a first polymer and a second polymer as described above with reference to FIG. 1.
  • the second polymer may be represented by Formula 3 above.
  • the polymer chains 110 may be formed and grafted to the copolymer 200.
  • the polymer chains 110 may be bonded to the first polymer after the light transmittance control film composition 10 is cured.
  • the polymer chains 110 may include polymerization units derived from the first monomer 100.
  • the matrix portion P2 may be represented by the following Chemical Formula 6A. In this case, the matrix portion P2 may have a weight average molecular weight of approximately 5,000 to 500,000.
  • R11 is represented by Formula 2B
  • R12, R13, and R14 are each independently hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms.
  • the sum of m3, m4, and m5 may be the same as m1 of formula 4A.
  • R15 may be represented by the following Chemical Formula 6B.
  • R16 may be represented by the following Chemical Formula 6C.
  • * means a moiety bonded to Si in formula (6A)
  • A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S)
  • B is a single bond, carbon number Linear or branched alkyl groups, carbonyl groups, ester groups, acetate groups, amide groups, or -S-CO-.
  • R 1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a halogen substituted linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms
  • R 2, R 3, and R 4 are each independently hydrogen, halogen, or 1 carbon atom; It may be a linear or branched alkyl group of 5 to 5.
  • R21, R22, and R23 may each independently be hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms.
  • m6 is an integer selected from 1 to 100.
  • * means a moiety bonded to Si of formula (6A), A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and B is a single bond, carbon number Linear or branched alkyl group of 1 to 5, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group or -S-CO-, R1 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, or 1 to C A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8, R 2, R 3, and R 4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 21, R 22, and R 23 are each independently hydrogen , A halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m7 is an integer selected from
  • the light transmittance adjusting film 1000 may be manufactured using the light transmittance adjusting film composition 10 described with reference to FIG. 1.
  • the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 may be formed by a polymerization reaction of the light transmittance adjusting film composition 10.
  • the polymerization reaction of the light transmittance adjusting film composition 10 may be initiated by light or heat.
  • Manufacturing of the light transmittance control film 1000 is to form a portion (P1) dispersed by the polymerization reaction of the first monomer (100) and graft polymerization of the first monomer (100) to the copolymer 200 Or crosslinking.
  • the polymerization reaction of the first monomer 100 and the copolymer 200 may be performed by a graft polymerization reaction.
  • the vinyl group of the first polymer may act as a reactor to bond with the polymer chains 110.
  • the light transmittance control film composition 10 may include a plurality of copolymers 200.
  • the copolymers 200 may be directly crosslinked with each other or connected to each other through at least one of the polymer chains 110.
  • the matrix portion P2 shown in FIG. 3 can be manufactured.
  • the matrix portion P2 may further comprise fourth polymerization units derived from the fourth monomer. In this case, the fourth monomer may be different from the first to third monomers.
  • the polymer chains 110 of the matrix portion P2 may be derived from the same monomer as the dispersed portion P1, for example the first monomer 100. Accordingly, the matrix portion P2 may be compatible with the dispersed portion P1.
  • the copolymers 200 have low compatibility with respect to the dispersed portion P1
  • the amount of t of the grafted polymer 110 in the matrix portion P2 is controlled to adjust the amount of t in the matrix portion ( P2) may have good compatibility with the dispersed part P1.
  • the molar ratio between the reactor of the copolymer 200 of the light transmittance control film composition 10 and the first monomer 100 is adjusted, such that the grafted polymer 110 and the dispersed portion of the light transmittance control film 1000
  • the content of P1) can be controlled.
  • the reactor of the copolymer 200 may be a reactor included in the first polymer of the copolymer 200. Accordingly, the content of the dispersed portion P1 and the size of the dispersed particles in the light transmittance adjusting film 1000 may be adjusted.
  • the size may mean the maximum size unless otherwise described.
  • the content of the grafted polymer 110 in the matrix portion P2 may be adjusted to control the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 before external force is applied.
  • the matrix portion As the compatibility between the P2) and the dispersed portion P1 is increased, the scattering particles are smaller, so that light scattering is reduced, so that the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be increased.
  • the refractive index of the matrix portion P2 is similar to the refractive index of the dispersed portion P1, the light transmittance adjusting film 1000 may have an increased light transmittance.
  • FIG. 4 is a perspective view illustrating a manufacturing process of a light transmittance adjusting film according to embodiments.
  • descriptions overlapping with those described above will be omitted.
  • a first substrate 510, a second substrate 520, a first spacer 530, and a second spacer 540 may be prepared.
  • the second substrate 520 may be vertically spaced apart from the first substrate 510.
  • the first substrate 510 and the second substrate 520 may be glass substrates.
  • the first spacer 530 and the second spacer 540 may be disposed between the first substrate 510 and the second substrate 520.
  • the second spacer 540 may be spaced apart from the first spacer 530 in a horizontal direction.
  • the first spacer 530 and the second spacer 540 may include organic materials such as polyimide.
  • the cavity 550 may be provided between the first substrate 510 and the second substrate 520 and between the first spacer 530 and the second spacer 540.
  • a light transmittance adjusting film composition (10 in FIG. 1) may be provided on the first substrate 510.
  • the light transmittance adjusting film composition 10 may fill the cavity 550.
  • the light transmittance adjusting film composition 10 may include a first monomer 100, a copolymer 200, and an initiator 300.
  • UV light may be applied on the second substrate 520.
  • the first monomer 100 homopolymerization and the graft polymerization or crosslinking reaction between the first monomer 100 and the copolymer 200 may be performed in the light transmittance adjusting film composition 10.
  • the polymerization reaction of the light transmittance control film composition 10 may be the same as described above.
  • the light transmittance adjusting film composition 10 may be UV cured. Accordingly, the light transmittance adjusting film 1000 described with reference to FIGS. 2 and 3 may be manufactured.
  • the light transmittance adjustment method using a light transmittance adjustment film is demonstrated.
  • FIG. 5 is a view for explaining a light transmittance adjusting method using the light transmittance adjusting film of FIG.
  • descriptions overlapping with those described above will be omitted.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may be in a state where no external force (eg, tensile force) is applied.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may be transparent.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may have a transmittance of 35% to 95% for visible light. Visible light may mean light having a wavelength of 400nm to 700nm.
  • the matrix portion P2 may be compatible with the dispersed portion P1.
  • a void may not be provided between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2.
  • the void may be very small.
  • Matrix portion P2 may have the same or similar refractive index as dispersed portion P1.
  • the refractive index of the matrix portion P2 is excessively different from the refractive index of the dispersed portion P1 or when the compatibility between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 is very low, the light transmittance adjusting film 1000 Light transmittance may be reduced.
  • the difference between the refractive index of the matrix portion P2 and the refractive index of the dispersed portion P1 may be less than 5%.
  • the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 show crystallinity, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may decrease.
  • the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 may be amorphous.
  • an external force may be applied to the light transmittance adjusting film 1000.
  • the external force may be a tensile force.
  • the external force may be above a certain intensity.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may have a reduced transmittance due to stress-whitening.
  • the matrix portion P2 has a relatively small initial elastic modulus and can be stretched by the external force.
  • the dotted line represents the matrix portion P2 before the tensile force is applied.
  • the initial modulus of elasticity of the matrix portion P2 may be, for example, 0.01 MPa to 1 MPa.
  • the dispersed portion P1 has a relatively large initial elastic modulus so that when external force is applied, it is less likely to be increased by the external force than the matrix portion P2.
  • the initial modulus of elasticity of the dispersed portion P1 may be 100 MPa or more, specifically 100 MPa to 100,000 MPa.
  • the elongation of the dispersed portion P1 may be very small compared to the elongation strain of the matrix portion P2.
  • voids 400 may be formed between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2.
  • the voids 400 may have a larger volume than the voids (not shown) in the state where no tensile force is applied.
  • the pores 400 may be vacuum or air may be provided in the pores 400.
  • the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 may have a large refractive index difference from the void 400. Light passing through the stretched film may be scattered or reflected by the difference in refractive index. Accordingly, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be reduced. For example, the light transmittance adjusting film 1000 may be opaque.
  • the dispersed portion P1 may have particles of maximum diameters of 10 nm to 500 nm. If the maximum diameter of the particles of the dispersed portion P1 is smaller than 10 nm, the volume of the voids 400 generated between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 may be reduced. Accordingly, even when a tensile force is applied to the light transmittance adjusting film 1000, the light transmittance change of the light transmittance adjusting film 1000 may not be large.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may be transparent. In this case, the light transmittance adjusting film 1000 may be difficult to adjust the light transmittance.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may be opaque by the dispersed particles themselves. Accordingly, even when a tensile force is applied to the light transmittance adjusting film 1000, the light transmittance change of the light transmittance adjusting film 1000 may not be large. In this case, the light transmittance adjusting film 1000 may be difficult to adjust the light transmittance.
  • the external force applied to the light transmittance adjusting film 1000 may be removed.
  • the matrix portion P2 has good elastic recovery properties and can return to its initial state before external force is applied.
  • the initial length of the matrix portion P2 can be recovered without deformation as described in FIG. 5.
  • the voids 400 may disappear between the dispersed portion P1 and the dispersed portion P1 and the matrix portion P2.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may be transparent again.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may have a transmittance of 35% to 95% for the visible light region.
  • the intensity of light passing through the light transmittance adjusting film 1000 may be adjusted according to whether an external force is applied to the light transmittance adjusting film 1000.
  • the stress whitening phenomenon of the light transmittance adjusting film 1000 may be reversibly controlled, and thus the light transmittance may be reversibly controlled.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may be simply manufactured.
  • the light transmittance adjusting film 1000 is used in the LCD (display) module, a separate polarizing plate may be omitted in the display module. In this case, the display module can be miniaturized.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may be applied to a smart window that controls an external or internal view.
  • Experimental Example PDMS 1 contains Poly (dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane).
  • the number average molecular weight of Experimental Example PDMS 2 was about 10.8 ⁇ 10 4 g / mol, the weight average molecular weight was 15.4 ⁇ 10 4 g / mol, and the molecular weight dispersion degree was 1.42.
  • Experimental Example PDMS 2 contains Poly (dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane). Considering the integral value of each of the peaks, the ratio of the polymerization unit containing dimethylsiloxane (m2 in Formula 2A) and the polymerization unit containing mvinylsiloxane (m1 in Formula 2A) in Experimental Example PDMS 2 was about 0.94 and 0.06, respectively. Was calculated. From this, it was analyzed that the molar ratio of the polymerization units of the copolymer of Experimental PDMS2 was almost identical to the feeding mole ratio of monomers.
  • the number average molecular weight of Experimental Example PDMS 3 was measured to be about 8.8 x 10 4 g / mol, the weight average molecular weight was 14.1 x 10 4 g / mol, and the molecular weight dispersion of the polymer was 1.60. .
  • Experimental Example PDMS 3 contains Poly (dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane).
  • the ratio of the polymerization unit containing dimethylsiloxane (m2 in Formula 2A) and the polymerization unit containing mvinylsiloxane (m1 in Formula 2A) in Experimental PDMS 3 was about 0.88 and 0.12, respectively.
  • the molar ratio of the polymerization units of the copolymer of Experimental PDMS2 was almost identical to the feeding mole ratio of monomers.
  • a copolymer prepared as described above and t- butyl acrylate (first monomer) are mixed as shown in Table 1 below to prepare a composition.
  • a polymerization initiator (photoinitiator) is added to the composition.
  • 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone was used as a polymerization initiator, and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone was added so as to be 0.5 mol% relative to the vinyl group equivalent in the mixed solution.
  • Experimental Example PDMS 1 Experimental Example PDMS 2
  • Experimental Example PDMS 3 exhibited excellent mixing properties with t- butyl acrylate. It was observed that the polymerization initiator was dissolved in t -butyl acrylate.
  • the copolymer and the first monomer are mixed as in Table 2 below to prepare a composition.
  • An initiator is added to the composition.
  • 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone was used as an initiator, and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone was added so as to be 0.5 mol% relative to the vinyl group equivalent in the mixed solution.
  • Sample name PDMS 2 (g) PDMS 3 (g) First monomer Usage amount of the first monomer (g) PDMS-A - 0.3611 Methyl acrylate 1.4222 PDMS-B - 0.3812 Ethyl acrylate 1.5497 PDMS-C - 0.3273 Methyl methacrylate 1.3305 PDMS-D - 0.3071 Vinyl acetate 1.2435 PDMS-E - 0.3021 Styrene 1.2016 PDMS-F - 0.3457 Butyl acrylate 1.3610 PDMS-G 0.3228 - Hexyl acrylate 1.2968 PDMS-H 0.3709 - Octyl acrylate 1.4883
  • the first spacer and the second spacer are horizontally spaced apart from the first substrate and the second substrate.
  • Glass substrates were used as the first and second substrates.
  • 100 ⁇ m thick polyimide adhesive tape was used as the first spacer and the second spacer.
  • the cavity is introduced between the first glass substrate and the second glass substrate and between the first spacer and the second spacer.
  • the composition is provided to the cavity using capillary force.
  • Ultraviolet rays are irradiated to the composition for 10 minutes under nitrogen gas flow conditions using an ultraviolet lamp to produce a UV cured film.
  • the UV lamp used a Mercury UVH lamp and the power was 1 kW.
  • the UV intensities of the lamps irradiated to the composition layers are 7.25, 8.85, 0.26 and 0.84 mW at 395-445 (UVV), 320-390 (UVA), 280-320 (UVB) and 250-260 (UVC) nm.
  • UVV 395-445
  • UVA 320-390
  • UVB 280-320
  • UVC 250-260
  • Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 are each Experimental Example PDMS 1-20. , Obtained from films obtained through photocuring using the compositions of Experimental Example PDMS 1-30, Experimental PDMS 2-20, Experimental PDMS 2-30, Experimental PDMS 3-20, and Experimental PDMS 3-30. The result is.
  • Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 films It can be confirmed that it has a high light transmittance with respect to the visible light region. As the molar ratio of the first polymer increases, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 increases.
  • the first monomer 100 may further react with the first polymer during the polymerization reaction.
  • polymerization between the first monomers 100 may be relatively reduced. Therefore, compatibility may be increased with respect to the portion P1 in which the matrix portion P2 is dispersed.
  • the homopolymers polymerized from the first monomer 100 may constitute a dispersed portion P1 in the light transmittance adjusting film 1000.
  • the diameters of the dispersed parts P1 can be reduced with increased compatibility with respect to the dispersed parts P1 where the matrix part P2 is dispersed.
  • the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be increased.
  • the weight percentage of the first monomer 100 in the light transmittance adjusting film composition 10 increases, the polymerization between the first monomers 100 may be relatively increased during the polymerization reaction.
  • compatibility with respect to the portion P1 in which the matrix portion P2 is dispersed can be reduced.
  • the homopolymers polymerized from the first monomer 100 may constitute the dispersed portion P1 of the light transmittance adjusting film 1000.
  • the diameters of the dispersed parts P1 can be increased with reduced compatibility with respect to the dispersed parts P1 where the matrix part P2 is dispersed.
  • the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be reduced.
  • FIG. 7A shows the light transmittance according to the tensile strain of Experimental Example F 3-20.
  • e500, e600, and e700 are light transmittance regression lines according to the tensile strain of the Experimental Example F3-20 film at wavelengths of 500 nm, 600 nm, and 700 nm, respectively.
  • Table 3 shows the determination coefficients r 2 calculated from the regression lines of e500, e600, and e700 in FIG. 7A, respectively.
  • the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 in the visible light region may decrease.
  • the crystal coefficient from the regression line of the light transmittance according to the tensile strain of the light transmittance adjusting film 1000 may be close to one. From this, it can be seen that the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 decreases linearly with the tensile strain.
  • the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be controlled by adjusting the intensity of the tensile force applied to the light transmittance adjusting film 1000 in the elastic region of the light transmittance adjusting film 1000. .
  • Figure 7b is a result of analyzing the light transmittance of Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 films according to the wavelength of light in the state that the tensile strain is applied to the light transmittance control film to be. At this time, a tensile strain of 0.2 was applied.
  • the light transmittance change efficiency of the light transmittance adjusting film 1000 may increase as the diameter of the dispersed portion P1 increases. According to an embodiment of the present invention, when a tensile force is applied to the light transmittance adjusting film 1000, the light transmittance change efficiency of the light transmittance adjusting film is determined by the molar ratio of the first polymer or the light transmittance adjusting film composition (10 in FIG. 1). The weight percentage of the first monomer 100 may be adjusted to adjust the weight percentage.
  • 8A is a scanning electron microscope (Scanning Electron Microscope, SEM) image of the Experimental Example F 2-20 film with a tensile strain of 0.2 applied to the light transmittance controlling film.
  • 8B is Experimental Example F 2-20 SEM image with a tensile strain of 0.4 applied to the light transmittance controlling film.
  • 8C is an SEM image of Experimental Example F 2-20 film, with a tensile strain of 0.8 applied to the light transmittance controlling film.
  • Table 4 shows the results of Experimental Example F 2-20 film observed from the SEM image, with tensile strains of 0.2, 0.4, and 0.8 applied to the light transmittance controlling film.
  • the UV cured film made of the composition of Example 2-2 did not show stress whitening due to stretching by tensile force. This is because the initial modulus of elasticity of the homopolymer of the dispersed portion P1 is lower than 100 MPa. If the difference in initial modulus of elasticity of the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 is reduced, no void is formed between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 so that the stress whitening does not appear.
  • the transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be reduced by using the stress whitening phenomenon of the light transmittance adjusting film 1000. For example, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be adjusted by adjusting the intensity of the tensile strain applied to the light transmittance adjusting film 1000.
  • Table 5 shows the initial modulus of elasticity of the films of Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 , Maximum tensile strength, yield tensile strain, and maximum tensile strain were measured.
  • s.d. in parentheses means the standard deviation.
  • the initial modulus, maximum tensile strength, yield tensile strain, and maximum tensile strain of the test examples were measured.
  • the weight percentage of the copolymer of the light transmittance control film composition 10 increases, the initial modulus of elasticity decreases, and the yield tensile strain and maximum tensile strain increase.
  • the maximum tensile strength of the light transmittance controlling film 1000 increases.
  • the maximum tensile strength of the light transmittance adjusting film 1000 may increase as the content of the reactor of the first polymer in the copolymer increases.
  • the first polymer may have a reactor. As the content of the reactor in the copolymer increases, that is, when the molar ratio of the first polymer in the copolymer increases, the content and size of the dispersed portion P1 in the prepared light transmittance control film 1000 decreases, and the matrix portion The content of the grafted polymer 110 relative to (P2) may be increased. According to the content of the portion P1 dispersed in the light transmittance adjusting film and the content of the grafted polymer 110, the physical properties of the light transmittance adjusting film 1000 may be changed.
  • the initial elastic modulus, the maximum tensile strength, the yield tensile strain, and the maximum tensile strain of the light transmittance control film 1000 are controlled. Can be.
  • Figure 9 shows the differential scanning calories of Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 films. The analysis results are shown.
  • the horizontal axis represents the temperature
  • the vertical axis represents the relative heat flow of the reaction.
  • Differential scanning calorimetry was performed using TA Instruments DSC Q20 at a temperature range of -100 ° C. to 150 ° C. at a rate of temperature rise of 10 ° C./min under a nitrogen stream of 50 mL / min.
  • Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 films A peak was observed between 45 ° C. and 50 ° C. at The glass transition temperature of the polymer chains 110 and the dispersed portion P1 (poly ( t -butyl acrylate)) may correspond to this temperature range. Peaks in the region of -55 ° C to -50 ° C were also observed in Experimental Examples F 1-20, Experimental Examples F 1-30, Experimental Examples F 2-20, and Experimental Examples F 2-30 films. The melting temperature of the matrix part P2 corresponds to this temperature range.
  • 10A, 10B, 10C, and 10D show Transmission Electron Microscopes of Experimental Examples F 1-20, Experimental Examples F 2-20, Experimental Examples F 3-20, and Experimental Examples F3-30 films.
  • TEM TEM cross-sectional images.
  • a JEM-ARM200F Cs-Corrected Scanning Transmission Electron microscope was used for the TEM measurements.
  • the dispersed portion P1 is densely distributed in the matrix portion P2.
  • an average size of 300 to 500 nm or more was observed in the long axis direction of the dispersed portion P1.
  • the average size in the short axis direction of the dispersed portion P1 is approximately 200 nm or more.
  • an average size of about 200 nm was observed in the long axis direction of the dispersed portion P1.
  • the average size in the minor axis direction of the dispersed portion P1 is approximately 100 nm.
  • the average size in the major axis direction of the dispersed portion P1 is approximately 100 nm to 150 nm.
  • the size in the short axis direction of the dispersed portion P1 is 50 nm to 100 nm. Referring to FIG. 10D, the size was observed to be approximately 100 nm in the long axis direction of the dispersed portion P1. The average size in the short axis direction of the dispersed portion P1 is 50 nm or less.
  • the vinyl group of the first polymer of the copolymer 200 in the light transmittance controlling film composition 10 may act as a reactor.
  • the first monomers to the reactor in the copolymer 200 used for the preparation of Experimental Examples F 1-20, Experimental Examples F 2-20, Experimental Examples F 3-20, and Experimental Examples F 3-30 films (eg For example, the molar ratio of t -butyl acrylate) is calculated to be 83.0, 42.4, 20.5, and 12.0, respectively.
  • the content ratio of the grafted polymer 110 eg, the grafted poly ( t -butyl acrylate) group
  • the grafted polymer chain 110 acts as a compatibilizer between the matrix portion P2 and the dispersed portion P1, the sizes of the dispersed portion P1 can be reduced.
  • the dispersed portion P1 may have elliptical shapes.
  • FIG. 11A shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film with no tensile force applied.
  • FIG. 11B shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film while tensile force is applied.
  • 11C shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film with tensile force applied thereto.
  • the light transmittance adjusting film in a state where no tensile force is applied may be transparent.
  • the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be reduced. This is because a stress whitening phenomenon occurs as a tensile force is applied to the light transmittance adjusting film 1000.
  • voids 400 occur between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2, and the voids 400 are under vacuum or air is present in the voids 400. Can be provided within.
  • the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 may have a large refractive index difference with vacuum or air. Visible light may be scattered or reflected by the difference in refractive index.
  • the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be reduced.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may be opaque. That is, the background underneath the light transmittance adjusting film 1000 was not seen. According to the drawn line of the film in the figure, the tensile strain is about 0.15 to 0.2.
  • the light transmittance of the light transmittance adjusting film may be increased again. This is because the copolymer 200 has good elastic recovery properties and the matrix portion P2 returns to its initial state before the external force is applied.
  • the light transmittance adjusting film 1000 may be transparent. The background underneath the light transmittance adjusting film 1000 was observed again.

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Abstract

Provided are a light transmittance control film composition and a light transmittance control film. According to the present invention, the light transmittance control film comprises: matrix parts comprising a copolymer and a polymer chain grafted on the copolymer; and dispersed parts comprising a polymer induced from a first monomer and provided in the matrix parts, the polymer chain being induced from the first monomer, wherein a first light transmittance can be exhibited while an external force is applied and a second light transmittance higher than the first light transmittance can be exhibited when the external force is removed.

Description

광 투과도 조절 필름 및 광 투과도 조절 필름 조성물Light transmittance control film and light transmittance control film composition
본 발명은 광 투과도 조절 필름 조성물 및 광 투과도 조절 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a light transmittance adjusting film composition and a light transmittance adjusting film.
본 발명에서는 액정 또는 분극입자를 기반으로 하는 필름형 광 투과 조절 모듈의 단점을 개선하는 액정 또는 전기변색 분자, 및 분산입자를 포함하지 않는 기반의 광 투과 조절 필름을 개시한다.The present invention discloses a liquid crystal or electrochromic molecule that improves the disadvantages of a film type light transmission control module based on liquid crystals or polarized particles, and a light transmission control film based on no dispersion particles.
저분자 액정 (Liquid Crystals, LCs) 을 사용한 광량 조절 방식은 동작 원리상 편광을 이용하므로 광 소모에 따른 전력 소모가 증가하고, 편광판 및 고가의 액정 소재와 같은 구성들을 사용하는 단점이 있다. 폴리머 액정(Polymer-Dispersed Liquid Crystals, PDLCs) 을 사용한 광량 조절 방식은 전기장이 인가되지 않아도 빛의 산란되어 빛의 차단율이 낮은 문제가 제기되었다. 전기변색물질의 산화와 환원 및 고분자에 각각 분산 및 서스펜드되어 있는 이색성 염료 및 입자의 배향을 통한 광흡수 조절 방식은 물질 및 패키징에 따른 제조비용이 높고, 광 조절 메커니즘의 제약으로 인해 투과율 변화가 30~50 %로 낮은 단점이 있다.The light amount control method using low-molecular liquid crystals (Liquid Crystals, LCs) has a disadvantage in that the power consumption according to the light consumption increases because of the use of polarization in principle, and uses such components as polarizing plates and expensive liquid crystal materials. The amount of light control using polymer-dispersed liquid crystals (PDLCs) has caused a problem of low light blocking rate due to scattering of light even when an electric field is not applied. Light absorption control method through oxidation and reduction of electrochromic material and orientation of dichroic dyes and particles dispersed and suspended in polymer, respectively, has high manufacturing cost according to materials and packaging, and changes in transmittance due to limitation of light control mechanism. The disadvantage is as low as 30-50%.
본 발명은 전기장 없이 광 투과도를 간단하게 조절하는 필름 및 이를 제조하기 위한 광 투과도 조절 필름 조성물을 제공하는 것에 있다.The present invention is to provide a film for easily adjusting the light transmittance without an electric field and a light transmittance adjusting film composition for producing the same.
본 발명은 이상에서 언급한 과제에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The present invention is not limited to the above-mentioned problems, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
본 발명은 광 투과도 조절 필름 및 광 투과도 조절 필름 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 광 투과도 조절 필름은 코폴리머 및 상기 코폴리머에 결합된 폴리머 사슬을 포함하는 매트릭스 부분; 및 제1 모노머로부터 유도된 폴리머를 포함하고, 상기 매트릭스 부분들 내에 제공된 분산된 부분을 포함하되, 상기 폴리머 사슬은 상기 제1 모노머로부터 유도될 수 있다. 상기 외력이 가해지는 동안 광 투과도 조절 필름은 제1 광 투과도를 나타내고; 상기 외력이 제거되면, 상기 제1 광 투과도보다 더 큰 제2 광 투과도를 나타낼 수 있다.The present invention relates to a light transmittance adjusting film and a light transmittance adjusting film composition. According to the present invention, the light transmittance controlling film comprises a matrix portion comprising a copolymer and a polymer chain bonded to the copolymer; And a polymer derived from a first monomer, comprising a dispersed portion provided in the matrix portions, wherein the polymer chain can be derived from the first monomer. The light transmittance adjusting film exhibits a first light transmittance while the external force is applied; When the external force is removed, the second light transmittance may be greater than the first light transmittance.
실시예들에 따르면, 상기 제2 광 투과도는 가시 영역의 빛에 대한 투과도가 35% 내지 95%일 수 있다. In example embodiments, the second light transmittance may be about 35% to about 95% transmittance of light in a visible region.
실시예들에 따르면, 상기 외력이 가해지는 동안, 상기 분산된 부분 및 상기 매트릭스 부분 사이에 여러 개의 공극들이 제공되고, 상기 외력이 제거되면, 상기 공극들이 사라질 수 있다. According to embodiments, while the external force is applied, several voids are provided between the dispersed portion and the matrix portion, and when the external force is removed, the voids may disappear.
실시예들에 따르면, 상기 분산된 부분은 상기 매트릭스 부분보다 더 큰 초기 탄성 계수를 가질 수 있다. According to embodiments, the dispersed portion may have a larger initial elastic modulus than the matrix portion.
실시예들에 따르면, 상기 분산된 부분은 상기 매트릭스 부분의 약 100 배 내지 약 100,000배의 초기 탄성 계수를 가질 수 있다. According to embodiments, the dispersed portion may have an initial elastic modulus of about 100 times to about 100,000 times that of the matrix portion.
실시예들에 따르면, 상기 매트릭스 부분의 굴절률과 상기 분산된 부분의 굴절율 차이가 5 % 미만일 수 있다. According to embodiments, the difference in refractive index between the matrix portion and the dispersed portion may be less than 5%.
실시예들에 따르면, 상기 외력은 인장력을 포함할 수 있다. According to embodiments, the external force may include a tensile force.
실시예들에 따르면, 상기 제1 모노머는 하기 화학식 1로 표시될 수 있다. According to embodiments, the first monomer may be represented by the following formula (1).
[화학식 1] [Formula 1]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000001
Figure PCTKR2018004576-appb-I000001
화학식 1에서, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이다.In Formula 1, A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom. A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8, and R2, R3, and R4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
실시예들에 따르면, 상기 매트릭스 부분은 아래의 화학식 6A로 표시될 수 있다. In example embodiments, the matrix portion may be represented by Formula 6A below.
[화학식 6A][Formula 6A]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000002
Figure PCTKR2018004576-appb-I000002
화학식 6A에서, R11은 하기 화학식 2B로 표시되고, R12, R13, 및 R14는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, R15는 아래의 화학식 6B로 표시되는 물질들 중에서 적어도 하나를 포함하고, R16은 아래의 화학식 6B로 표시되는 물질들 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. In formula (6A), R11 is represented by the following formula (2B), and R12, R13, and R14 are each independently hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms. R15 may include at least one of the materials represented by the following Chemical Formula 6B, and R16 may include at least one of the materials represented by the following Chemical Formula 6B.
[화학식 2B][Formula 2B]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000003
Figure PCTKR2018004576-appb-I000003
화학식 2B에서, *는 화학식 6A의 Si에 결합된 부분을 의미하고, B는 단일 결합 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기, 또는 -S-CO-이고, R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이다. In Formula 2B, * means a moiety bonded to Si of Formula 6A, and B is a single bond or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group, or -S- CO-, and R21, R22, and R23 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
[화학식 6B] [Formula 6B]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000004
Figure PCTKR2018004576-appb-I000004
화학식 6B에서, *는 화학식 6A의 Si에 결합된 부분을 의미하고, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, B는 단일 결합, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기, 또는 -S-CO-이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이고, R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, m6은 1 내지 100 중에서 선택된 정수이다.In formula (6B), * means a moiety bonded to Si in formula (6A), A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and B is a single bond, carbon number Linear or branched alkyl group of 1 to 5, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group or -S-CO-, R1 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8, R 2, R 3, and R 4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 21, R 22, and R 23 are each independently Hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m6 is an integer selected from 1 to 100.
[화학식 6C][Formula 6C]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000005
Figure PCTKR2018004576-appb-I000005
화학식 6C에서, *는 화학식 6A의 Si에 결합된 부분을 의미하고, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, B는 단일 결합, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기 또는 -S-CO-이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이고, R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, m7은 1 내지 100 중에서 선택된 정수이다.In formula (6C), * means a moiety bonded to Si of formula (6A), A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and B is a single bond, carbon number Linear or branched alkyl group of 1 to 5, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group or -S-CO-, R1 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, or 1 to C A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8, R 2, R 3, and R 4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 21, R 22, and R 23 are each independently hydrogen , A halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m7 is an integer selected from 1 to 100.
본 발명에 따르면, 광 투과도 조절 필름 조성물은 제1 모노머; 및 상기 제2 모노머로부터 유도된 제1 폴리머 및 제3 모노머로부터 유도된 제2 폴리머를 포함하는 코폴리머를 포함하고, 상기 코폴리머 내 제1 폴리머 및 상기 제1 모노머의 몰비는 1:5 내지 1:100 이며, 상기 코폴리머 내 상기 제1 폴리머 및 상기 제2 폴리머의 몰비는 1:4 내지 1:200 일 수 있다. According to the present invention, the light transmittance adjusting film composition comprises a first monomer; And a copolymer comprising a first polymer derived from the second monomer and a second polymer derived from a third monomer, wherein the molar ratio of the first polymer and the first monomer in the copolymer is from 1: 5 to 1 The molar ratio of the first polymer and the second polymer in the copolymer may be 1: 4 to 1: 200.
실시예들에 따르면, 상기 제1 모노머는 하기 화학식 1로 표시될 수 있다. According to embodiments, the first monomer may be represented by the following formula (1).
[화학식 1] [Formula 1]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000006
Figure PCTKR2018004576-appb-I000006
화학식 1에서, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이다.In Formula 1, A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom. A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8, and R2, R3, and R4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
실시예들에 따르면, 상기 제1 폴리머는 화학식 2A로 표시되는 중합 유닛을 포함할 수 있다. According to embodiments, the first polymer may include a polymerization unit represented by Formula 2A.
[화학식 2A] [Formula 2A]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000007
Figure PCTKR2018004576-appb-I000007
화학식 2A에서, R11은 아래의 화학식 2B로 표시되고, R12는 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, m1은 2 내지 50 사이의 정수이다.In formula (2A), R11 is represented by formula (2B) below, R12 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, or substituted or unsubstituted phenyl group of 6 to 13 carbon atoms, m1 is 2 to 50 Is an integer between.
[화학식 2B][Formula 2B]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000008
Figure PCTKR2018004576-appb-I000008
화학식 2B에서, B는 단일 결합 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기, 또는 -S-CO-이고, R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이다. In formula (2B), B is a single bond or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group, or -S-CO-, and R21, R22, and R23 are each independently Hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
실시예들에 따르면, 상기 제2 폴리머는 화학식 3으로 표시되는 중합 유닛을 포함할 수 있다. According to embodiments, the second polymer may include a polymerization unit represented by Formula 3.
[화학식 3] [Formula 3]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000009
Figure PCTKR2018004576-appb-I000009
화학식 3에서, R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, m2는 10 내지 10,000 사이의 정수이다.In formula (3), R13 and R14 are each independently hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m2 is an integer between 10 and 10,000.
실시예들에 따르면, 상기 제1 모노머는 t-butyl acrylate를 포함하고, 상기 코폴리머는 아래 화학식 4B로 표시되는 실리콘 공중합체를 포함하고, 상기 실리콘 공중합체는 5,000 내지 500,000의 중량 평균 분자량을 갖고, 상기 실리콘 공중합체는 상기 t-butyl acrylate 모노머에 용해될 수 있다. According to embodiments, the first monomer comprises t -butyl acrylate, the copolymer comprises a silicone copolymer represented by the formula (4B) below, the silicone copolymer has a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000 The silicone copolymer may be dissolved in the t -butyl acrylate monomer.
[화학식 4B][Formula 4B]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000010
Figure PCTKR2018004576-appb-I000010
화학식 4B에서, m1과 m2의 비는 1:4 내지 1:200 이다.In Formula 4B, the ratio of m1 to m2 is 1: 4 to 1: 200.
실시예들에 따르면, 상기 코폴리머 내에 포함된 비닐그룹의 총몰비에 대해 상기 t-butyl acrylate 모노머의 몰비는 1:5 내지 1:100일 수 있다. According to embodiments, the molar ratio of the t -butyl acrylate monomer to the total molar ratio of the vinyl group included in the copolymer may be 1: 5 to 1: 100.
실시예들에 따르면, 중합 개시제를 더 포함할 수 있다. According to embodiments, the polymerization initiator may further include.
실시예들에 따르면, 상기 제1 모노머 및 상기 코폴리머 중에서 적어도 하나는 비닐 그룹을 포함하고, 상기 중합개시제는 비닐그룹의 총합에 대해 0.05~5 mol% 일 수 있다. In some embodiments, at least one of the first monomer and the copolymer may include a vinyl group, and the polymerization initiator may be 0.05 to 5 mol% based on the total of the vinyl groups.
본 발명에 따르면, 외력의 인가 및 인가된 외력의 세기 따라, 본 발명의 필름의 광 투과도가 조절될 수 있다. 응력 백화 현상에 의해 광 투과도 조절 필름의 투과도가 감소될 수 있다. 광 투과도 조절 필름은 양호한 탄성 회복 특성을 가질 수 있다. 외력이 제거되면, 광 투과도 조절 필름은 외력이 가해지기 전 초기 상태로 돌아갈 수 있다. 이에 따라, 광 투과도가 용이하게 조절될 수 있다. 광 투과도 조절 필름 조성물의 광중합 반응에 의해 광 투과도 조절 필름이 간단하게 제조될 수 있다. According to the present invention, according to the application of the external force and the intensity of the applied external force, the light transmittance of the film of the present invention can be adjusted. The transmittance of the light transmittance adjusting film may be reduced by the stress whitening phenomenon. The light transmittance adjusting film may have good elastic recovery properties. Once the external force is removed, the light transmittance adjusting film may return to its initial state before the external force is applied. Accordingly, light transmittance can be easily adjusted. The light transmittance adjusting film can be simply produced by the photopolymerization reaction of the light transmittance adjusting film composition.
본 발명의 보다 완전한 이해와 도움을 위해, 참조가 아래의 설명에 첨부도면과 함께 주어져 있고 참조번호가 아래에 나타나 있다.For a more complete understanding and help of the invention, reference is given to the following description together with the accompanying drawings and reference numbers are shown below.
도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 광 투과도 조절 필름 조성물을 도시한 모식도이다. 1 is a schematic diagram showing a light transmittance control film composition according to embodiments of the present invention.
도 2는 실시예들에 따른 광 투과도 조절 필름을 도시한 모식적인 평면도이다. 2 is a schematic plan view of a light transmittance adjusting film according to the embodiments.
도 3은 도 2의 광 투과도 조절 필름의 분자 사슬 조성물을 모식적으로 나타내었다.FIG. 3 schematically shows a molecular chain composition of the light transmittance adjusting film of FIG. 2.
도 4는 실시예들에 따른 광 투과도 조절 필름의 제조 공정을 설명하기 위한 사시도이다.4 is a perspective view illustrating a manufacturing process of a light transmittance adjusting film according to embodiments.
도 5는 도 2의 광 투과도 조절 필름을 사용한 광 투과도 조절 방법을 설명하기 위한 도면이다.5 is a view for explaining a light transmittance adjusting method using the light transmittance adjusting film of FIG.
도 6은 실험예 F 1-20, 실험예 F 1-30, 실험예 F 2-20, 실험예 F 2-30, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30 필름의 파장에 따른 광 투과도를 나타낸 그래프이다. 6 is according to the wavelength of the Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 film It is a graph showing the light transmittance.
도 7a는 실험예 F 3-20의 필름의 인장 변형율(tensile strain)에 따른 광 투과도를 나타낸 결과이다.Figure 7a is a result showing the light transmittance according to the tensile strain (tensile strain) of the film of Experimental Example F 3-20.
도 7b는 0.2의 인장 변형율이 광 투과도 조절 필름에 인가된 상태에서 파장에 따른 실험예 F 2-20, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30의 광 투과도를 분석한 결과이다.7B is a result of analyzing light transmittances of Experimental Examples F 2-20, Experimental Examples F 3-20, and Experimental Examples F 3-30 according to the wavelengths when a tensile strain of 0.2 was applied to the light transmittance adjusting film.
도 8a는 0.2의 인장 변형율이 광 투과도 조절 필름에 인가된 상태에서, 실험예 F 2-20 필름의 주사 전자 현미경(Scanning Electron Microscope, SEM) 평면 이미지이다. 8A is a scanning electron microscope (Scanning Electron Microscope, SEM) planar image of the Experimental Example F 2-20 film with a tensile strain of 0.2 applied to the light transmittance controlling film.
도 8b는 0.4의 인장 변형율이 광 투과도 조절 필름에 인가된 상태에서, 실험예 F 2-20 필름의 평면 이미지이다. 8B is a planar image of Experimental Example F 2-20 film, with a tensile strain of 0.4 applied to the light transmittance controlling film.
도 8c는 0.8의 인장 변형율이 광 투과도 조절 필름에 인가된 상태에서, 실험예 F 2-20 필름의 SEM 평면 이미지이다.8C is an SEM plane image of Experimental Example F 2-20 film, with a tensile strain of 0.8 applied to the light transmittance controlling film.
도 9는 실험예 F 1-20, 실험예 F 1-30, 실험예 F 2-20, 실험예 F 2-30, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30의 필름들의 시차 주사 열량분석결과(DSC)를 나타낸다.9 is a differential scanning of films of Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30. The calorimetry result (DSC) is shown.
도 10a, 도 10b, 도 10c, 및 도 10d는 각각 실험예 F 1-20, 실험예 F 2-20, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30 필름들의 투과전자현미경(Transmission Electron Microscope, TEM)의 단면 이미지들이다. 10A, 10B, 10C, and 10D are transmission electron microscopes of Experimental Examples F 1-20, Experimental Examples F 2-20, Experimental Examples F 3-20, and Experimental Examples F 3-30 films, respectively. Cross-sectional images of a microscope (TEM).
도 11a는 인장력이 가해지지 않은 상태의 실험예 F 3-20 필름의 포토 이미지를 나타낸다. FIG. 11A shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film with no tensile force applied. FIG.
도 11b는 인장력이 가해지는 동안 실험예 F 3-20 필름의 포토 이미지를 나타낸다. 11B shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film while tensile force is applied.
도 11c는 인장력이 가해진 후 이를 제거한 상태에서 실험예 F 3-20 필름의 포토 이미지를 나타낸다. 11C shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film with tensile force applied thereto.
본 발명의 구성 및 효과를 충분히 이해하기 위하여, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예들을 설명한다. 그러나 본 발명은, 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라, 여러가지 형태로 구현될 수 있고 다양한 변경을 가할 수 있다. 단지, 본 실시예들의 설명을 통해 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다. 당해 기술분야에서 통상의 기술을 가진 자는 본 발명의 개념이 어떤 적합한 환경에서 수행될 수 있다는 것을 이해할 것이다.In order to fully understand the constitution and effects of the present invention, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be embodied in various forms and various changes may be made. Only, the description of the embodiments are provided to make the disclosure of the present invention complete, and to provide a complete scope of the invention to those skilled in the art. Those skilled in the art will understand that the concept of the present invention may be carried out in any suitable environment.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 ‘포함한다(comprises)’ 및/또는 ‘포함하는(comprising)’은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In this specification, the singular also includes the plural unless specifically stated otherwise in the phrase. As used herein, the words "comprises" and / or "comprising" refer to the presence of one or more other components, steps, operations and / or elements. Or does not exclude additions.
본 명세서에서 어떤 막(또는 층)이 다른 막(또는 층) 또는 기판 상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 막(또는 층) 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 막(또는 층)이 개재될 수도 있다. Where it is mentioned herein that a film (or layer) is on another film (or layer) or substrate, it may be formed directly on another film (or layer) or substrate or a third film (between) Or layers) may be interposed.
본 명세서의 다양한 실시 예들에서 제1, 제2, 제3 등의 용어가 다양한 영역, 막들(또는 층들) 등을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 영역, 막들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 소정 영역 또는 막(또는 층)을 다른 영역 또는 막(또는 층)과 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 따라서, 어느 한 실시 예에의 제1막질로 언급된 막질이 다른 실시 예에서는 제2막질로 언급될 수도 있다. 여기에 설명되고 예시되는 각 실시 예는 그것의 상보적인 실시예도 포함한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다 Although terms such as first, second, third, etc. are used to describe various regions, films (or layers), etc. in various embodiments of the present specification, these regions, films should not be limited by these terms. do. These terms are only used to distinguish any given region or film (or layer) from other regions or films (or layers). Therefore, the film quality referred to as the first film quality in one embodiment may be referred to as the second film quality in other embodiments. Each embodiment described and illustrated herein also includes its complementary embodiment. Portions denoted by like reference numerals denote like elements throughout the specification.
본 발명의 실시예들에서 사용된 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 통상적으로 알려진 의미로 해석될 수 있다.Unless otherwise defined, terms used in the embodiments of the present invention may be interpreted as meanings commonly known to those skilled in the art.
본 발명에 따른 필름 조성물을 설명한다. The film composition according to the present invention will be described.
도 1은 본 발명의 실시예들에 따른 광 투과도 조절 필름 조성물을 도시한 모식도이다. 1 is a schematic diagram showing a light transmittance control film composition according to embodiments of the present invention.
도 1을 참조하면, 광 투과도 조절 필름 조성물(10)은 제1 모노머(100) 및 코폴리머 (copolymer)(200)를 포함할 수 있다. 제1 모노머들(100)은 하기 화학식 1로 표시될 수 있다. Referring to FIG. 1, the light transmittance adjusting film composition 10 may include a first monomer 100 and a copolymer 200. The first monomers 100 may be represented by Formula 1 below.
[화학식 1] [Formula 1]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000011
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화학식 1에서, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기일 수 있다.In Formula 1, A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom. And a halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8, and R2, R3, and R4 may each independently be hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
일 실시예에 따르면, 제1 모노머(100)는 아크릴계 모노머 또는 비닐계 모노머를 포함할 수 있다. 제1 모노머(100)는 예를 들어, 스티렌, 2,3,4,5,6-펜타플루오로 스티렌(2,3,4,5,6-pentafluoro styrene), 메틸아크릴레이트, 메틸메타아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 부틸메타아크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타아크릴레이트, 헥실아크릴레이트, 헥실메타아크릴레이트, 옥틸아크릴레이트, 옥틸메타아크릴레이트, 옥타데실아크릴레이트, 옥타데실메타아크릴레이트, 도데실아크릴레이트, 도데실메타아크릴레이트, 비닐 아세테이트, 트리플루오로아세트산 알릴 에스테르(trifluoroacetic acid allyl ester), 트리플루오로아세트산 비닐 에스테르(trifluoroacetic acid vinyl ester), 2,2,2-트리플루오로에틸 메타크릴레이트(2,2,2-trifluoroethyl methacrylate), 아크릴산 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필 에스테르(acrylic acid 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ester), 메타크릴산 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로이소프로필 에스테르(methacrylic acid 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ester), 및 1-펜타플루오로페닐피롤-2,5-디온(1-pentafluorophenylpyRole-2,5-dione) 중에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to an embodiment, the first monomer 100 may include an acrylic monomer or a vinyl monomer. The first monomer 100 is, for example, styrene, 2,3,4,5,6-pentafluoro styrene (2,3,4,5,6-pentafluoro styrene), methyl acrylate, methyl methacrylate , Ethyl acrylate, ethyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, hexyl acrylate, hexyl methacrylate, octyl acrylate, octyl methacrylate, Octadecyl acrylate, octadecyl methacrylate, dodecyl acrylate, dodecyl methacrylate, vinyl acetate, trifluoroacetic acid allyl ester, trifluoroacetic acid vinyl ester 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, acrylic acid 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ester (acrylic acid 1,1 , 1,3,3,3-hexafluorois opropyl ester), methacrylic acid 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ester (methacrylic acid 1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl ester), and 1-pentafluoro It may include at least one selected from phenylpyrrole-2,5-dione (1-pentafluorophenylpyRole-2,5-dione).
코폴리머(200)는 제1 폴리머 및 제2 폴리머을 포함할 수 있다. 코폴리머(200)의 중량평균분자량은 5,000 내지 500,000일 수 있다. 제1 폴리머는 제2 모노머로부터 유도된 중합 유닛을 포함할 수 있다. 제1 폴리머는 아래의 화학식 2A로 표시되는 중합 유닛을 포함할 수 있다. The copolymer 200 may include a first polymer and a second polymer. The weight average molecular weight of the copolymer 200 may be 5,000 to 500,000. The first polymer may comprise a polymerization unit derived from the second monomer. The first polymer may include a polymerization unit represented by Formula 2A below.
[화학식 2A] [Formula 2A]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000012
Figure PCTKR2018004576-appb-I000012
화학식 2A에서, R11은 아래의 화학식 2B로 표시될 수 있다. R12는 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기일 수 있다. m1은 2 내지 50 사이의 정수일 수 있다. In Formula 2A, R11 may be represented by the following Formula 2B. R12 may be hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms. m1 may be an integer between 2 and 50.
[화학식 2B] [Formula 2B]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000013
Figure PCTKR2018004576-appb-I000013
화학식 2B에서, B는 단일 결합 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기, 또는 -S-CO-이고, R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기일 수 있다. In formula (2B), B is a single bond or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group, or -S-CO-, and R21, R22, and R23 are each independently Hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
제1 폴리머는 반응기를 포함할 수 있다. 반응기는 상기 화학식 2B로 표시되는 그룹일 수 있다. The first polymer may comprise a reactor. The reactor may be a group represented by Formula 2B.
제2 폴리머는 제1 폴리머와 결합할 수 있다. 제2 폴리머는 화학식 3으로 표시되는 중합 유닛을 포함하는 수 있다. 제2 폴리머는 제3 모노머로부터 유도될 수 있다. 제3 모노머는 제1 모노머(100) 및 제2 모노머와 다를 수 있다. The second polymer may be combined with the first polymer. The second polymer may include a polymerization unit represented by the formula (3). The second polymer can be derived from the third monomer. The third monomer may be different from the first monomer 100 and the second monomer.
[화학식 3][Formula 3]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000014
Figure PCTKR2018004576-appb-I000014
화학식 3에서, R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기일 수 있다. m2는 10 내지 10,000 사이의 정수이다. In Formula 3, R13 and R14 may each independently be hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms. m2 is an integer between 10 and 10,000.
광 투과도 조절 필름 조성물(10) 내에서, 코폴리머(200) 내의 제1 폴리머의 중합 유닛의 총합 대 제1 모노머(100)의 몰수의 비는 1:5 내지 1:100일 수 있다. 여기에서, 제1 폴리머의 중합 유닛의 총합은 예를 들어, 상기 화학식 2A에서 m1의 총합일 수 있다. In the light transmittance control film composition 10, the ratio of the total number of the polymerization units of the first polymer in the copolymer 200 to the number of moles of the first monomer 100 may be 1: 5 to 1: 100. Here, the sum of the polymerization units of the first polymer may be, for example, the sum of m1 in Formula 2A.
실시예에 따르면, 코폴리머(200)는 아래와 화학식 4A로 나타낼 수 있다. According to an embodiment, the copolymer 200 may be represented by the following Chemical Formula 4A.
[화학식 4A][Formula 4A]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000015
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화학식 4A에서, R12, R13, 및 R14는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, m1은 2 내지 50 사이의 정수이고, m2는 10 내지 10,000 사이의 정수이고, m1: m2는 1:4 내지 1:200일 수 있다. R11은 상기 화학식 2B로 표시될 수 있다.In formula 4A, R12, R13, and R14 are each independently hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m1 is selected from 2 to 50 Integer, m2 is an integer between 10 and 10,000, m1: m2 may be 1: 4 to 1: 200. R11 may be represented by Chemical Formula 2B.
코폴리머(200)는 아래의 반응식 1과 같이 제2 모노머 및 제3 모노머의 중합 반응에 의해 제조될 수 있다.The copolymer 200 may be prepared by a polymerization reaction of a second monomer and a third monomer as in Scheme 1 below.
[반응식 1] Scheme 1
Figure PCTKR2018004576-appb-I000016
Figure PCTKR2018004576-appb-I000016
반응식 1에서, R11, R12, R13, R14, m1, 및 m2는 상기 화학식 2A, 화학식 2B, 및 화학식 4A에서 정의한 바와 같다. In Scheme 1, R11, R12, R13, R14, m1, and m2 are as defined in Formula 2A, Formula 2B, and Formula 4A.
광 투과도 조절 필름 조성물(10)은 중합 개시제(300)를 더 포함할 수 있다. 중합 개시제(300)는 광중합 개시제를 포함할 수 있다. 중합 개시제(300)는 예를 들어, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone을 포함할 수 있다. 다른 예로, 중합 개시제(300)는 열중합 개시제를 포함할 수 있다. The light transmittance adjusting film composition 10 may further include a polymerization initiator 300. The polymerization initiator 300 may include a photopolymerization initiator. The polymerization initiator 300 may include, for example, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone. As another example, the polymerization initiator 300 may include a thermal polymerization initiator.
일 실시예에 따르면, 제1 모노머(100)는 t-butyl acrylate를 포함하고, 코폴리머(200)는 아래 화학식 4B로 표시되는 실리콘 공중합체를 포함하고, 상기 실리콘 공중합체는 5,000 내지 500,000의 중량 평균 분자량을 가질 수 있다. 실리콘 공중합체는 t-butyl acrylate에 용해될 수 있다. According to an embodiment, the first monomer 100 includes t -butyl acrylate, the copolymer 200 includes a silicone copolymer represented by the following Chemical Formula 4B, and the silicone copolymer has a weight of 5,000 to 500,000. It may have an average molecular weight. The silicone copolymer can be dissolved in t -butyl acrylate.
[화학식 4B][Formula 4B]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000017
Figure PCTKR2018004576-appb-I000017
화학식 4B에서, m1과 m2의 비는 1:4 내지 1:200 이다.In Formula 4B, the ratio of m1 to m2 is 1: 4 to 1: 200.
코폴리머(200) 내에 포함된 비닐 그룹의 총 몰비에 대해 상기 t-butyl acrylate 몰비는 1:5 내지 1:100일 수 있다. 제1 모노머(100) 및 코폴리머(200) 중에서 적어도 하나는 비닐 그룹을 포함할 수 있다. 광 투과도 조절 필름 조성물(10)은 중합 개시제(300)를 더 포함하는 경우, 중합 개시제(300)는 비닐 그룹의 총합에 대해 0.05 mol% 내지 5 mol% 일 수 있다. The molar ratio of t -butyl acrylate relative to the total molar ratio of vinyl groups included in the copolymer 200 may be 1: 5 to 1: 100. At least one of the first monomer 100 and the copolymer 200 may include a vinyl group. When the light transmittance control film composition 10 further includes a polymerization initiator 300, the polymerization initiator 300 may be 0.05 mol% to 5 mol% with respect to the total of the vinyl groups.
일반적으로, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리옥시메틸렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 및 폴리아미드 등의 반결정성 (semicrystalline) 고분자의 경우 인장시 라멜라 (lamellae) 결정들로 부터 비결정 영역이 발달하는 과정에서 수 나노 크기의 공간 (void)이 생성되고 이는 파단 부근까지의 인장시 이 공간들이 광산란을 일으킬만한 수십, 수백 나노 크기로 성장하여 파단시 인장응력 (stress)에 의한 백화현상 (stress-whitening, 응력백화)이 나타나는 것으로 알려져 있으며, 압축이나 비틀림 응력에서는 나타나지 않는다. 또는 고분자의 결정성과 무관하게 고분자 매트릭스에 이성 고분자 또는 무기물 등이 분산되어 있는 복합 필름을 인장시키는 경우 고분자 매트릭스와 분산체 간의 인장변형율 (tensile strain, )차이로 인하여 고분자와 분산체 간의 계면에 공간들이 생길 수 있고 이러한 공간들이 계속되는 인장으로 광산란을 일으킬만한 크기로 성장하여 필름의 파단 부근에서 필름을 통과하는 가시광을 산란시켜 필름을 불투명하게 만드는 백화현상을 일으킨다. 하지만, 상기의 고분자 필름의 파단 부근에서 이러한 현상이 발생하므로 응력백화에 따른 광투과도 조절은 필름 인장응력 변화에 비가역적이다. 또한 반결정성 고분자 또는 분산체가 분산되어 있는 고분자 복합 필름에서 주로 응력백화 현상이 발생하므로 인장응력 적용 전 초기 고분자 필름은 결정 영역의 또는 분산체의 광산란에 의해 광투과도가 감소할 수 있다.In general, semicrystalline polymers, such as polyethylene, polypropylene, polyoxymethylene, polyethylene terephthalate, and polyamide, have several nano size in the process of developing amorphous regions from lamellar crystals upon stretching. A void is created, which grows to tens or hundreds of nanoscales that can cause light scattering when pulled to near fracture, resulting in stress-whitening due to tensile stress at break. It is known to not appear in compressive or torsional stresses. Alternatively, when tensioning a composite film in which a heteropolymer or an inorganic material is dispersed in a polymer matrix regardless of the crystallinity of the polymer, the spaces at the interface between the polymer and the dispersion may be caused by the difference in tensile strain between the polymer matrix and the dispersion. These spaces can grow and grow to a size that will cause light scattering with continuous tension, causing whitening that makes the film opaque by scattering visible light passing through the film near the fracture of the film. However, since this phenomenon occurs near the fracture of the polymer film, light transmittance control due to stress whitening is irreversible to the change in film tensile stress. In addition, since the stress whitening mainly occurs in the polymer composite film in which the semi-crystalline polymer or the dispersion is dispersed, the light transmittance of the initial polymer film may be reduced by light scattering of the crystal region or the dispersion before the application of the tensile stress.
본 발명에서의 광 투과 조절 필름은 폴리머의 응력백화 현상을 이용한 것으로 가해지는 기계적 변형 또는 응력에 따라 필름의 광투과도가 조절되는 필름이다.The light transmittance control film in the present invention is a film in which the light transmittance of the film is adjusted according to the mechanical strain or stress applied by using the stress whitening phenomenon of the polymer.
이하, 광 투과도 조절 필름 및 그 제조 방법을 설명한다. Hereinafter, a light transmittance adjustment film and its manufacturing method are demonstrated.
도 2는 실시예들에 따른 광 투과도 조절 필름을 도시한 모식적인 평면도이다. 도 3은 도 2의 광 투과도 조절 필름의 분자 사슬 조성물을 모식적으로 나타내었다. 이하, 앞서 설명한 바와 중복되는 내용은 생략한다. 2 is a schematic plan view of a light transmittance adjusting film according to the embodiments. FIG. 3 schematically shows a molecular chain composition of the light transmittance adjusting film of FIG. 2. Hereinafter, descriptions overlapping with those described above will be omitted.
도 2를 참조하면, 광 투과도 조절 필름(1000)은 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2)을 포함할 수 있다. 광 투과도 조절 필름(1000)을 사용한 광 투과도 조절은 도 5에서 보다 상세하게 설명한다. 분산된 부분(P1)은 매트릭스 부분(P2) 내에 제공될 수 있다. 분산된 부분(P1)은 원형들 또는 타원형들의 형상을 가질 수 있다. 분산된 부분(P1)은 10nm 내지 500 nm의 최대 직경들을 가질 수 있다. Referring to FIG. 2, the light transmittance adjusting film 1000 may include a dispersed portion P1 and a matrix portion P2. Light transmittance control using the light transmittance adjusting film 1000 will be described in more detail with reference to FIG. 5. The dispersed portion P1 may be provided in the matrix portion P2. The dispersed portion P1 may have the shape of circles or ellipses. The dispersed portion P1 may have maximum diameters of 10 nm to 500 nm.
매트릭스 부분(P2)은 광 투과도 조절 필름(1000)의 매트릭스와 같은 역할을 할 수 있다. 매트릭스 부분(P2)의 함량비 및 부피는 분산된 부분(P1)의 함량비 및 부피보다 작을 수 있다. 매트릭스 부분(P2)은 분산된 부분(P1)과 다른 모노머로부터 유도된 중합 유닛을 포함할 수 있다. 매트릭스 부분(P2)은 분산된 부분(P1)에 대해 상용성(compatibility)을 가질 수 있다.The matrix portion P2 may serve as a matrix of the light transmittance adjusting film 1000. The content ratio and volume of the matrix portion P2 may be smaller than the content ratio and volume of the dispersed portion P1. The matrix portion P2 may comprise a polymerization unit derived from the dispersed portion P1 and other monomers. The matrix portion P2 may have compatibility with the dispersed portion P1.
광 투과도 조절 필름(1000)은 50 MPa 이하의 초기 탄성 계수를 가질 수 있다. 광 투과도 조절 필름(1000)의 분산된 부분(P1)은 매트릭스 부분(P2)보다 더 큰 초기 탄성 계수를 가질 수 있다. 분산된 부분(P1)은 매트릭스 부분(P2)의 초기 탄성 계수의 100배 이상, 상세하게는 100배 내지 100000배일 수 있다. 매트릭스 부분(P2)의 초기 탄성 계수는 0.01 MPa 내지 1 MPa 이고, 분산된 부분(P1)의 초기 탄성 계수는 100 MPa 이상, 상세하게는 100 MPa 내지 100,000 MPa일 수 있다. 본 명세서에서, 초기 탄성 계수는 상온 조건, 예를 들어, 25℃에서의 초기 탄성 계수를 의미할 수 있다. 매트릭스 부분(P2)은 분산된 부분(P1)보다 동일한 세기의 힘에 대해 더 큰 변형율을 가질 수 있다. 매트릭스 부분(P2)은 양호한 탄성 회복(elastic recovery) 특성을 가질 수 있다. The light transmittance adjusting film 1000 may have an initial elastic modulus of 50 MPa or less. The dispersed portion P1 of the light transmittance adjusting film 1000 may have a larger initial elastic modulus than the matrix portion P2. The dispersed portion P1 may be at least 100 times the initial modulus of elasticity of the matrix portion P2, in particular 100 to 100000 times. The initial elastic modulus of the matrix portion P2 may be 0.01 MPa to 1 MPa, and the initial elastic modulus of the dispersed portion P1 may be 100 MPa or more, specifically 100 MPa to 100,000 MPa. In the present specification, the initial elastic modulus may mean an initial elastic modulus at room temperature, for example, 25 ° C. Matrix portion P2 may have a greater strain for forces of the same intensity than scattered portion P1. Matrix portion P2 may have good elastic recovery characteristics.
매트릭스 부분(P2)은 분산된 부분(P1)과 동일 또는 유사한 굴절률을 가질 수 있다. 예를 들어, 매트릭스 부분(P2)의 굴절률과 분산된 부분(P1)의 굴절률 차이는 5 % 미만일 수 있다. 매트릭스 부분(P2)의 굴절률이 분산된 부분(P1)의 굴절률보다 과도하게 크면(예를 들어, 굴절율 차이가 5 % 이상), 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도가 감소할 수 있다. 이하, 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2)의 제조 방법에 대하여 설명한다. Matrix portion P2 may have the same or similar refractive index as dispersed portion P1. For example, the difference between the refractive indices of the matrix portion P2 and the dispersed portions P1 may be less than 5%. When the refractive index of the matrix portion P2 is excessively larger than the refractive index of the dispersed portion P1 (eg, a refractive index difference of 5% or more), the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may decrease. Hereinafter, the manufacturing method of the dispersed part P1 and the matrix part P2 is demonstrated.
도 2 및 도 3을 참조하면, 분산된 부분(P1)은 호모 폴리머들을 포함할 수 있다. 분산된 부분(P1)은 제1 모노머(100)로부터 유도된 중합 유닛을 포함할 수 있다. 제1 모노머(100)는 상기 화학식 1로 표시될 수 있다. 이에 따라, 분산된 부분(P1)은 하기 화학식 5로 표시되는 폴리머를 포함할 수 있다. 2 and 3, the dispersed portion P1 may include homo polymers. The dispersed portion P1 may comprise a polymerization unit derived from the first monomer 100. The first monomer 100 may be represented by Chemical Formula 1. Accordingly, the dispersed portion P1 may include a polymer represented by Formula 5 below.
[화학식 5] [Formula 5]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000018
Figure PCTKR2018004576-appb-I000018
화학식 5에서, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기일 수 있다. n은 2 내지 5000 사이의 정수이다. In formula (5), A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom. And a halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8, and R2, R3, and R4 may each independently be hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. n is an integer between 2 and 5000.
다른 예로, 분산된 부분(P1)은 무기물들을 포함할 수 있다. As another example, the dispersed portion P1 may include inorganic materials.
매트릭스 부분(P2)은 코폴리머(200) 및 폴리머 사슬들(110)을 포함할 수 있다. 코폴리머(200)는 랜덤, 교호, 블록 형태일 수 있다. 코폴리머(200)는 주사슬의 역할을 할 수 있다. 코폴리머(200)는 앞서 도 1에서 설명한 바와 같은 제1 폴리머 및 제2 폴리머를 포함할 수 있다. 제2 폴리머는 상기 화학식 3으로 표시될 수 있다. 도 1의 광 투과도 조절 필름 조성물(10)이 경화 후 폴리머 사슬들(110)이 형성되고, 코폴리머(200)에 그라프트(grafted)될 수 있다. 광 투과도 조절 필름 조성물(10)이 경화 후 폴리머 사슬들(110)은 제1 폴리머에 결합될 수 있다. 폴리머 사슬들(110)은 제1 모노머(100)로부터 유도된 중합 유닛들을 포함할 수 있다. 광 투과도 조절 필름 조성물(10)이 경화된 후, 매트릭스 부분(P2)은 하기 화학식 6A로 표시될 수 있다. 이 때, 매트릭스 부분(P2)는 대략 5,000~500,000의 중량평균분자량을 가질 수 있다. Matrix portion P2 may include copolymer 200 and polymer chains 110. The copolymer 200 may be random, alternating, or in block form. The copolymer 200 may serve as a main chain. The copolymer 200 may include a first polymer and a second polymer as described above with reference to FIG. 1. The second polymer may be represented by Formula 3 above. After the curing of the light transmittance control film composition 10 of FIG. 1, the polymer chains 110 may be formed and grafted to the copolymer 200. The polymer chains 110 may be bonded to the first polymer after the light transmittance control film composition 10 is cured. The polymer chains 110 may include polymerization units derived from the first monomer 100. After the light transmittance control film composition 10 is cured, the matrix portion P2 may be represented by the following Chemical Formula 6A. In this case, the matrix portion P2 may have a weight average molecular weight of approximately 5,000 to 500,000.
[화학식 6A][Formula 6A]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000019
Figure PCTKR2018004576-appb-I000019
화학식 6A에서, R11은 상기 화학식 2B로 표시되고, R12, R13, 및 R14는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기일 수 있다. m3, m4, 및 m5의 합은 화학식 4A의 m1과 동일할 수 있다. R15는 아래의 화학식 6B로 표시될 수 있다. R16은 아래의 화학식 6C로 표시될 수 있다.In Formula 6A, R11 is represented by Formula 2B, and R12, R13, and R14 are each independently hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms. Can be. The sum of m3, m4, and m5 may be the same as m1 of formula 4A. R15 may be represented by the following Chemical Formula 6B. R16 may be represented by the following Chemical Formula 6C.
[화학식 6B] [Formula 6B]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000020
Figure PCTKR2018004576-appb-I000020
화학식 6B에서, *는 화학식 6A의 Si에 결합된 부분을 의미하고, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, B는 단일 결합, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기, 또는 -S-CO-일 수 있다. R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기일 수 있다. R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기일 수 있다. m6은 1 내지 100 중에서 선택된 정수이다. In formula (6B), * means a moiety bonded to Si in formula (6A), A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and B is a single bond, carbon number Linear or branched alkyl groups, carbonyl groups, ester groups, acetate groups, amide groups, or -S-CO-. R 1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a halogen substituted linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and R 2, R 3, and R 4 are each independently hydrogen, halogen, or 1 carbon atom; It may be a linear or branched alkyl group of 5 to 5. R21, R22, and R23 may each independently be hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms. m6 is an integer selected from 1 to 100.
[화학식 6C][Formula 6C]
Figure PCTKR2018004576-appb-I000021
Figure PCTKR2018004576-appb-I000021
화학식 6C에서, *는 화학식 6A의 Si에 결합된 부분을 의미하고, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, B는 단일 결합, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기 또는 -S-CO-이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이고, R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, m7은 1 내지 100 중에서 선택된 정수이다.In formula (6C), * means a moiety bonded to Si of formula (6A), A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and B is a single bond, carbon number Linear or branched alkyl group of 1 to 5, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group or -S-CO-, R1 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, or 1 to C A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8, R 2, R 3, and R 4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 21, R 22, and R 23 are each independently hydrogen , A halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m7 is an integer selected from 1 to 100.
도 1 및 도 3을 참조하면, 광 투과도 조절 필름(1000)은 도 1에서 설명한 광 투과도 조절 필름 조성물(10)을 사용하여 제조될 수 있다. 예를 들어, 광 투과도 조절 필름 조성물(10)의 중합 반응에 의해, 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2)이 형성될 수 있다. 광 투과도 조절 필름 조성물(10)의 중합 반응은 빛 또는 열에 의해 개시될 수 있다. 광 투과도 조절 필름(1000)의 제조는 제1 모노머(100)의 중합 반응에 의해 분산된 부분(P1)을 형성하는 것 및 상기 제1 모노머(100)를 상기 코폴리머(200)에 그라프트 중합 또는 가교 반응시키는 것을 포함할 수 있다. 제1 모노머(100)와 코폴리머(200)의 중합 반응은 그라프트 중합 반응에 의해 진행될 수 있다. 이 때, 제1 폴리머의 비닐 그룹이 반응기로 작용하여, 폴리머 사슬들(110)과 결합할 수 있다.1 and 3, the light transmittance adjusting film 1000 may be manufactured using the light transmittance adjusting film composition 10 described with reference to FIG. 1. For example, the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 may be formed by a polymerization reaction of the light transmittance adjusting film composition 10. The polymerization reaction of the light transmittance adjusting film composition 10 may be initiated by light or heat. Manufacturing of the light transmittance control film 1000 is to form a portion (P1) dispersed by the polymerization reaction of the first monomer (100) and graft polymerization of the first monomer (100) to the copolymer 200 Or crosslinking. The polymerization reaction of the first monomer 100 and the copolymer 200 may be performed by a graft polymerization reaction. At this time, the vinyl group of the first polymer may act as a reactor to bond with the polymer chains 110.
광 투과도 조절 필름 조성물(10)은 복수의 코폴리머들(200)을 포함할 수 있다. 상기 중합 반응 동안, 코폴리머들(200)은 서로 직접 가교 결합하거나, 폴리머 사슬들(110) 중 적어도 하나를 통해 서로 연결될 수 있다. 이에 따라, 도 3에 도시된 매트릭스 부분(P2)이 제조될 수 있다. 다른 예로, 매트릭스 부분(P2)은 제4 모노머로부터 유도된 제4 중합 유닛들을 더 포함할 수 있다. 이 경우, 제4 모노머는 제1 내지 제3 모노머들과 다를 수 있다.The light transmittance control film composition 10 may include a plurality of copolymers 200. During the polymerization reaction, the copolymers 200 may be directly crosslinked with each other or connected to each other through at least one of the polymer chains 110. Accordingly, the matrix portion P2 shown in FIG. 3 can be manufactured. As another example, the matrix portion P2 may further comprise fourth polymerization units derived from the fourth monomer. In this case, the fourth monomer may be different from the first to third monomers.
매트릭스 부분(P2)의 폴리머 사슬들(110)은 분산된 부분(P1)과 동일한 모노머, 예를 들어, 제1 모노머(100)로부터 유도될 수 있다. 이에 따라, 매트릭스 부분(P2)은 분산된 부분(P1)에 대해 상용성을 가질 수 있다. 예를 들어, 비록 코폴리머들(200)이 분산된 부분(P1)에 대해 낮은 상용성을 갖더라도, 매트릭스 부분(P2) 내의 그라프트된 폴리머(110)의 t량을 조절하여, 매트릭스 부분(P2)이 분산된 부분(P1)에 대해 양호한 상용성을 가질 수 있다. The polymer chains 110 of the matrix portion P2 may be derived from the same monomer as the dispersed portion P1, for example the first monomer 100. Accordingly, the matrix portion P2 may be compatible with the dispersed portion P1. For example, although the copolymers 200 have low compatibility with respect to the dispersed portion P1, the amount of t of the grafted polymer 110 in the matrix portion P2 is controlled to adjust the amount of t in the matrix portion ( P2) may have good compatibility with the dispersed part P1.
광 투과도 조절 필름 조성물(10)의 코폴리머(200)의 반응기와 제1 모노머(100) 사이의 몰비가 조절되어, 광 투과도 조절 필름(1000)의 그라프트된 폴리머(110) 및 분산된 부분(P1)의 함량이 제어될 수 있다. 코폴리머(200)의 반응기는 코폴리머(200)의 제1 폴리머에 포함된 반응기일 수 있다. 이에 따라, 광 투과도 조절 필름(1000) 내의 분산된 부분(P1)의 함량 및 분산된 입자들의 크기가 조절될 수 있다. 본 명세서에서 크기는 별도의 설명이 없는 한 최대 크기를 의미할 수 있다. The molar ratio between the reactor of the copolymer 200 of the light transmittance control film composition 10 and the first monomer 100 is adjusted, such that the grafted polymer 110 and the dispersed portion of the light transmittance control film 1000 The content of P1) can be controlled. The reactor of the copolymer 200 may be a reactor included in the first polymer of the copolymer 200. Accordingly, the content of the dispersed portion P1 and the size of the dispersed particles in the light transmittance adjusting film 1000 may be adjusted. In the present specification, the size may mean the maximum size unless otherwise described.
실시예들에 따르면, 매트릭스 부분(P2) 내의 그라프트된 폴리머(110)의 함량이 조절되어, 외력이 가해지기 이전의 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도가 제어될 수 있다. 예를 들어, 도 3의 코폴리머(200)의 굴절률과 분산된 부분(P1)의 굴절률 차이가 5 % 초과하더라도, 폴리머 사슬들(110)이 코폴리머(200)에 결합됨에 따라, 매트릭스 부분(P2)과 분산된 부분(P1)의 상용성이 증가하여 분산 입자가 작아져 광산란 정도가 줄어들어 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도는 증가 될 수 있다. 매트릭스 부분(P2)의 굴절률이 분산된 부분(P1)의 굴절률과 유사할수록, 광 투과도 조절 필름(1000)이 광 투과도가 증가될 수 있다. According to embodiments, the content of the grafted polymer 110 in the matrix portion P2 may be adjusted to control the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 before external force is applied. For example, even if the refractive index difference of the copolymer 200 of FIG. 3 and the refractive index difference of the dispersed portion P1 exceeds 5%, as the polymer chains 110 are bonded to the copolymer 200, the matrix portion ( As the compatibility between the P2) and the dispersed portion P1 is increased, the scattering particles are smaller, so that light scattering is reduced, so that the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be increased. As the refractive index of the matrix portion P2 is similar to the refractive index of the dispersed portion P1, the light transmittance adjusting film 1000 may have an increased light transmittance.
도 4는 실시예들에 따른 광 투과도 조절 필름의 제조 공정을 설명하기 위한 사시도이다. 이하, 앞서 설명한 바와 중복되는 내용은 생략한다. 4 is a perspective view illustrating a manufacturing process of a light transmittance adjusting film according to embodiments. Hereinafter, descriptions overlapping with those described above will be omitted.
도 4를 참조하면, 제1 기판(510), 제2 기판(520), 제1 스페이서(530), 및 제2 스페이서(540)가 준비될 수 있다. 제2 기판(520)은 제1 기판(510)과 수직적으로 이격 배치될 수 있다. 제1 기판(510) 및 제2 기판(520)은 유리 기판들일 수 있다. 제1 스페이서(530) 및 제2 스페이서(540)가 제1 기판(510) 및 제2 기판(520) 사이에 배치될 수 있다. 제2 스페이서(540)는 제1 스페이서(530)와 수평 방향으로 이격배치될 수 있다. 제1 스페이서(530) 및 제2 스페이서(540)는 폴리이미드와 같은 유기물들을 포함할 수 있다. 캐비티(550)가 제1 기판(510)과 제2 기판(520) 사이 그리고 제1 스페이서(530)와 제2 스페이서(540) 사이에 제공될 수 있다. Referring to FIG. 4, a first substrate 510, a second substrate 520, a first spacer 530, and a second spacer 540 may be prepared. The second substrate 520 may be vertically spaced apart from the first substrate 510. The first substrate 510 and the second substrate 520 may be glass substrates. The first spacer 530 and the second spacer 540 may be disposed between the first substrate 510 and the second substrate 520. The second spacer 540 may be spaced apart from the first spacer 530 in a horizontal direction. The first spacer 530 and the second spacer 540 may include organic materials such as polyimide. The cavity 550 may be provided between the first substrate 510 and the second substrate 520 and between the first spacer 530 and the second spacer 540.
광 투과도 조절 필름 조성물(도 1에서 10)이 제1 기판(510) 상에 제공될 수 있다. 광 투과도 조절 필름 조성물(10)은 상기 캐비티(550)를 채울 수 있다. 예를 들어, 광 투과도 조절 필름 조성물(10)은 제1 모노머(100), 코폴리머(200), 및 개시제(300)를 포함할 수 있다. A light transmittance adjusting film composition (10 in FIG. 1) may be provided on the first substrate 510. The light transmittance adjusting film composition 10 may fill the cavity 550. For example, the light transmittance adjusting film composition 10 may include a first monomer 100, a copolymer 200, and an initiator 300.
자외선(UV)이 제2 기판(520) 상에 가해질 수 있다. 상기 UV 조사의 수행에 의해 광 투과도 조절 필름 조성물(10) 내에서 제1 모노머(100) 단독중합 및 제1 모노머(100)과 코폴리머(200)간의 그라프트 중합 또는 가교 반응이 진행될 수 있다. 상기 광 투과도 조절 필름 조성물(10)의 중합 반응은 앞서 설명한 바와 동일할 수 있다. 광 투과도 조절 필름 조성물(10)이 UV 경화될 수 있다. 이에 따라, 도 2 및 도 3에서 설명한 광 투과도 조절 필름(1000)이 제조될 수 있다. Ultraviolet (UV) light may be applied on the second substrate 520. By performing the UV irradiation, the first monomer 100 homopolymerization and the graft polymerization or crosslinking reaction between the first monomer 100 and the copolymer 200 may be performed in the light transmittance adjusting film composition 10. The polymerization reaction of the light transmittance control film composition 10 may be the same as described above. The light transmittance adjusting film composition 10 may be UV cured. Accordingly, the light transmittance adjusting film 1000 described with reference to FIGS. 2 and 3 may be manufactured.
광 투과도 조절 필름을 사용한 광 투과도 조절 방법에 대하여 설명한다. The light transmittance adjustment method using a light transmittance adjustment film is demonstrated.
도 5는 도 2의 광 투과도 조절 필름을 사용한 광 투과도 조절 방법을 설명하기 위한 도면이다. 이하, 앞서 설명한 바와 중복되는 내용은 생략한다. 5 is a view for explaining a light transmittance adjusting method using the light transmittance adjusting film of FIG. Hereinafter, descriptions overlapping with those described above will be omitted.
도 2를 참조하면, 광 투과도 조절 필름(1000)은 외력(예를 들어, 인장력)이 가해지지 않은 상태일 수 있다. 이 경우, 광 투과도 조절 필름(1000)은 투명할 수 있다. 예를 들어, 광 투과도 조절 필름(1000)은 가시 영역 빛에 대한 투과도가 35% 내지 95%일 수 있다. 가시광은 400nm 내지 700nm의 파장을 갖는 빛을 의미할 수 있다. 매트릭스 부분(P2)은 분산된 부분(P1)에 대해 상용성을 가질 수 있다. 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2) 사이에 공극이 제공되지 않을 수 있다. 다른 예로, 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2) 사이에 공극이 있는 경우, 상기 공극은 매우 작을 수 있다. 매트릭스 부분(P2)은 분산된 부분(P1)과 동일 또는 유사한 굴절률을 가질 수 있다. 매트릭스 부분(P2)의 굴절률이 분산된 부분(P1)의 굴절률과 과도하게 다르거나, 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2) 사이의 상용성이 매우 낮은 경우 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도가 감소할 수 있다. 실시예들에 따르면, 매트릭스 부분(P2)의 굴절률과 분산된 부분(P1)의 굴절률의 차이가 5 % 미만일 수 있다. 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2)이 결정성을 보이는 경우, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도가 감소할 수 있다. 실시예들에 따르면, 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2)은 무정형일 수 있다. Referring to FIG. 2, the light transmittance adjusting film 1000 may be in a state where no external force (eg, tensile force) is applied. In this case, the light transmittance adjusting film 1000 may be transparent. For example, the light transmittance adjusting film 1000 may have a transmittance of 35% to 95% for visible light. Visible light may mean light having a wavelength of 400nm to 700nm. The matrix portion P2 may be compatible with the dispersed portion P1. A void may not be provided between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2. As another example, if there is a void between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2, the void may be very small. Matrix portion P2 may have the same or similar refractive index as dispersed portion P1. When the refractive index of the matrix portion P2 is excessively different from the refractive index of the dispersed portion P1 or when the compatibility between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 is very low, the light transmittance adjusting film 1000 Light transmittance may be reduced. According to embodiments, the difference between the refractive index of the matrix portion P2 and the refractive index of the dispersed portion P1 may be less than 5%. When the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 show crystallinity, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may decrease. According to embodiments, the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 may be amorphous.
도 5를 참조하면, 외력이 광 투과도 조절 필름(1000)에 가해질 수 있다. 상기 외력은 인장력일 수 있다. 상기 외력은 특정 세기 이상일 수 있다. 외력이 가해질 때, 광 투과도 조절 필름(1000)이 응력 백화(stress-whitening) 현상에 의해 투과도가 감소될 수 있다. 매트릭스 부분(P2)은 비교적 작은 초기 탄성 계수를 가져, 상기 외력에 의해 늘어날 수 있다. 도 5에서 점선은 인장력이 가해지기 이전의 매트릭스 부분(P2)을 나타낸다. 매트릭스 부분(P2)의 초기 탄성 계수는 예를 들어, 0.01 MPa 내지 1 MPa 일 수 있다. 분산된 부분(P1)은 비교적 큰 초기 탄성 계수를 가져, 외력이 가해졌을 때, 매트릭스 부분(P2)보다 상기 외력에 의해 덜 늘어날 수 있다. 예를 들어, 분산된 부분(P1)의 초기 탄성 계수는 100 MPa 이상, 상세하게는 100 MPa 내지 100,000 MPa일 수 있다. 다른 예로, 분산된 부분(P1)의 연신율은 매트릭스 부분(P2)의 연신율 스트레인에 비해 매우 작을 수 있다. 이에 따라, 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2) 사이에 공극들(400)이 형성될 수 있다. 다른 예로, 인장력이 인가되었을 때, 공극들(400)은 인장력이 가해지지 않은 상태에서 공극(미도시)보다 더 큰 부피를 가질 수 있다. 상기 공극들(400)은 진공상태이거나 공기가 공극들(400) 내에 제공될 수 있다. 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2)은 공극(400)과 큰 굴절률 차이를 가질 수 있다. 상기 굴절률 차이에 의해 상기 늘어난 필름을 투과하는 빛이 산란 또는 반사될 수 있다. 이에 따라, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도가 감소될 수 있다. 일 예로, 광 투과도 조절 필름(1000)은 불투명해질 수 있다. Referring to FIG. 5, an external force may be applied to the light transmittance adjusting film 1000. The external force may be a tensile force. The external force may be above a certain intensity. When an external force is applied, the light transmittance adjusting film 1000 may have a reduced transmittance due to stress-whitening. The matrix portion P2 has a relatively small initial elastic modulus and can be stretched by the external force. In FIG. 5, the dotted line represents the matrix portion P2 before the tensile force is applied. The initial modulus of elasticity of the matrix portion P2 may be, for example, 0.01 MPa to 1 MPa. The dispersed portion P1 has a relatively large initial elastic modulus so that when external force is applied, it is less likely to be increased by the external force than the matrix portion P2. For example, the initial modulus of elasticity of the dispersed portion P1 may be 100 MPa or more, specifically 100 MPa to 100,000 MPa. As another example, the elongation of the dispersed portion P1 may be very small compared to the elongation strain of the matrix portion P2. Accordingly, voids 400 may be formed between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2. As another example, when a tensile force is applied, the voids 400 may have a larger volume than the voids (not shown) in the state where no tensile force is applied. The pores 400 may be vacuum or air may be provided in the pores 400. The dispersed portion P1 and the matrix portion P2 may have a large refractive index difference from the void 400. Light passing through the stretched film may be scattered or reflected by the difference in refractive index. Accordingly, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be reduced. For example, the light transmittance adjusting film 1000 may be opaque.
앞서 설명한 바와 같이, 분산된 부분(P1)은 10nm 내지 500nm의 최대 직경들의 입자들을 가질 수 있다. 분산된 부분(P1)의 입자들의 최대 직경이 10nm보다 작으면, 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2) 사이에 발생된 공극들(400)의 부피가 감소할 수 있다. 이에 따라, 인장력이 광 투과도 조절 필름(1000)에 가해져도, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도 변화가 크지 않을 수 있다. 예를 들어, 광 투과도 조절 필름(1000)은 투명할 수 있다. 이 경우, 광 투과도 조절 필름(1000)이 광 투과도를 조절하기 어려울 수 있다. 분산된 부분(P1) 내의 입자들의 최대 직경이 500 nm보다 크면, 분산된 입자 자체에 의해 광 투과도 조절 필름(1000)이 불투명해 질 수 있다. 이에 따라, 인장력이 광 투과도 조절 필름(1000)에 가해져도, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도 변화가 크지 않을 수 있다. 이 경우, 광 투과도 조절 필름(1000)이 광 투과도를 조절하기 어려울 수 있다.As described above, the dispersed portion P1 may have particles of maximum diameters of 10 nm to 500 nm. If the maximum diameter of the particles of the dispersed portion P1 is smaller than 10 nm, the volume of the voids 400 generated between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 may be reduced. Accordingly, even when a tensile force is applied to the light transmittance adjusting film 1000, the light transmittance change of the light transmittance adjusting film 1000 may not be large. For example, the light transmittance adjusting film 1000 may be transparent. In this case, the light transmittance adjusting film 1000 may be difficult to adjust the light transmittance. When the maximum diameter of the particles in the dispersed portion P1 is larger than 500 nm, the light transmittance adjusting film 1000 may be opaque by the dispersed particles themselves. Accordingly, even when a tensile force is applied to the light transmittance adjusting film 1000, the light transmittance change of the light transmittance adjusting film 1000 may not be large. In this case, the light transmittance adjusting film 1000 may be difficult to adjust the light transmittance.
다시 도 2를 참조하면, 광 투과도 조절 필름(1000)에 가해진 외력이 제거될 수 있다. 매트릭스 부분(P2)은 양호한 탄성 회복 특성을 가져, 외력이 가해지기 전 초기 상태로 돌아갈 수 있다. 예를 들어, 매트릭스 부분(P2)의 초기 길이는 도 5에서 설명한 바와 같이 변형 없이 회복될 수 있다. 분산된 부분(P1) 및 분산된 부분(P1)과 매트릭스 부분(P2) 사이에 공극들(400)이 사라질 수 있다. 이에 따라, 광 투과도 조절 필름(1000)은 다시 투명할 수 있다. 예를 들어, 광 투과도 조절 필름(1000)은 가시광영역에 대한 투과도가 35% 내지 95%일 수 있다. 실시예들에 따르면, 외력이 광 투과도 조절 필름(1000)에 인가되었는지 여부에 따라, 광 투과도 조절 필름(1000)을 투과하는 빛의 세기가 조절될 수 있다. 즉, 광 투과도 조절 필름(1000)의 응력 백화 현상이 가역적으로 조절되어, 광 투과도를 가역적으로 제어할 수 있다. 광 투과도 조절 필름 조성물(10)의 광중합 반응에 의해 광 투과도 조절 필름(1000)이 간소하게 제조될 수 있다. 광 투과도 조절 필름(1000)이 LCD(디스플레이) 모듈에 사용되는 경우, 디스플레이 모듈 내에 별도의 편광판이 생략될 수 있다. 이 경우, 디스플레이 모듈이 소형화될 수 있다. 광 투과도 조절 필름(1000)이 창문에 사용되는 경우, 외부 또는 내부의 시야를 조절하는 스마트 윈도우에 적용할 수 있다.Referring back to FIG. 2, the external force applied to the light transmittance adjusting film 1000 may be removed. The matrix portion P2 has good elastic recovery properties and can return to its initial state before external force is applied. For example, the initial length of the matrix portion P2 can be recovered without deformation as described in FIG. 5. The voids 400 may disappear between the dispersed portion P1 and the dispersed portion P1 and the matrix portion P2. Accordingly, the light transmittance adjusting film 1000 may be transparent again. For example, the light transmittance adjusting film 1000 may have a transmittance of 35% to 95% for the visible light region. According to embodiments, the intensity of light passing through the light transmittance adjusting film 1000 may be adjusted according to whether an external force is applied to the light transmittance adjusting film 1000. That is, the stress whitening phenomenon of the light transmittance adjusting film 1000 may be reversibly controlled, and thus the light transmittance may be reversibly controlled. By the photopolymerization reaction of the light transmittance adjusting film composition 10, the light transmittance adjusting film 1000 may be simply manufactured. When the light transmittance adjusting film 1000 is used in the LCD (display) module, a separate polarizing plate may be omitted in the display module. In this case, the display module can be miniaturized. When the light transmittance adjusting film 1000 is used in a window, the light transmittance adjusting film 1000 may be applied to a smart window that controls an external or internal view.
이하, 본 발명의 실험예들을 참조하여, 조성물 및 필름의 제조를 설명한다. Hereinafter, with reference to the experimental examples of the present invention, the production of the composition and the film will be described.
조성물의 제조Preparation of the composition
1-1. 코폴리머의 제조(실험예 PDMS 1)1-1. Preparation of Copolymer (Experimental Example PDMS 1)
질소 하에 실온 (약 25 ℃)에서 diethoxydimethylsilane 70.08g (473mmol)과 diethoxymethylvinylsilane 2.35g (14.7mmol) (공급 몰비 = 97.0 : 3.0)을 250ml의 삼구 플라스크에 넣고, 플라스크에 중합 촉매로서 증류수 7.6ml와 염산 1.9ml (37 %)를 서서히 첨가 하였다. 이어서, 반응 온도를 약 70 ℃로 상승시켰다. 70 ㎖ / 분의 질소 기류하에 약 24 시간 동안 중합 반응을 수행 한 후, 온도를 실온으로 낮춘다. 고 점성의 공중합체를 200 ml의 에틸 아세테이트 (EA)에 희석하여 용해시킨 후, 중합체 EA 용액을 700 ml의 물에 부어 촉매를 제거 하였다. 1 일 동안 물층으로부터 중합체 EA 용액 층을 분리 한 후, 잔류하는 물을 황산 마그네슘을 사용하여 중합체 EA 용액으로부터 제거 하였다. 황산 마그네슘을 여과 제거하고 실온에서 진공 증발기로 EA를 제거한 후, 투명한 무색 고 점성 중합체를 35 ℃에서 2 일 동안 진공 건조하여 실험예 PDMS 1을 얻었다.70.08 g (473 mmol) of diethoxydimethylsilane and 2.35 g (14.7 mmol) of diethoxymethylvinylsilane (feed molar ratio = 97.0: 3.0) were added to a 250 ml three-necked flask at room temperature (about 25 ° C) under nitrogen. ml (37%) was added slowly. The reaction temperature was then raised to about 70 ° C. After carrying out the polymerization reaction for about 24 hours under a nitrogen stream of 70 ml / min, the temperature is lowered to room temperature. After dissolving the high viscosity copolymer in 200 ml of ethyl acetate (EA), the polymer EA solution was poured into 700 ml of water to remove the catalyst. After separating the polymer EA solution layer from the water layer for 1 day, the remaining water was removed from the polymer EA solution using magnesium sulfate. Magnesium sulfate was filtered off and EA was removed with a vacuum evaporator at room temperature, and then the transparent colorless high viscosity polymer was vacuum dried at 35 ° C. for 2 days to obtain Experimental Example PDMS 1.
실험예 PDMS 1의 제조 확인(Poly(dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane))Experimental Example Preparation of PDMS 1 (Poly (dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane))
실험예 PDMS 1의 확인을 위해, 겔 투과 크로마토그래피(gel permeation chromatography, GPC), 적외선 분광분석(Fourier Transform Infrared spectroscopy, IR), 및 수소핵자기공명분광분석(Proton nuclear magnetic resonance spectroscopy, 이하, 1H-NMR)을 수행하고, 수율을 계산하였다. Experimental Example For identification of PDMS 1, gel permeation chromatography (GPC), Fourier Transform Infrared spectroscopy (IR), and Proton nuclear magnetic resonance spectroscopy (hereinafter, referred to as 1) H-NMR) was performed and the yield calculated.
겔 투과 크로마토그래피는 refractive index detector가 장착된 Waters 2690 Alliance gel permeation chromatograph 장치를 사용하여, tetrahydrofuran (THF) 용매를 0.6 mL/min 속도로 흘려 보내며 수행했다. 적외선 분광분석은 Nicolet 6700 FT-IR spectrometer를 사용하여 수행하였다. 수소핵자기공명분광분석은 Bruker 500 MHz NMR spectrometer를 사용하여 수행하였고 chloroform-d1 (CDCl3)를 용매로 하였다. Gel permeation chromatography was performed using a Waters 2690 Alliance gel permeation chromatograph equipped with a refractive index detector, flowing tetrahydrofuran (THF) solvent at 0.6 mL / min. Infrared spectroscopy was performed using a Nicolet 6700 FT-IR spectrometer. Hydrogen magnetic resonance spectroscopy was performed using a Bruker 500 MHz NMR spectrometer and chloroform-d 1 (CDCl 3 ) was used as a solvent.
수율: 33.0 g (91 %); Yield: 33.0 g (91%);
GPC (THF, polystyrene standard): Mn=105,832; PD=1.61. GPC (THF, polystyrene standard): M n = 105,832; PD = 1.61.
IR vmax (Liquid, NaCl)/cm-1: 3055w (=C-H str., vinyl); 2963s (C-H str., methyl); 1598w (C=C str., vinyl); 1411m (C-H benzene, methyl); 1097s (Si-O str., siloxane). 1H NMR δH (CDCl3, 500 MHz): 5.92-6.04 (2H, m, vinyl); 5.77-5.82 (H, m, vinyl); 0.07-0.10 (9H, m, methyl)IR v max (Liquid, NaCl) / cm -1 : 3055w (= CH str., Vinyl); 2963s (CH str., Methyl); 1598 w (C = C str., Vinyl); 1411 m (CH benzene, methyl); 1097 s (Si-O str., Siloxane). 1 H NMR δ H (CDCl 3 , 500 MHz): 5.92-6.04 (2H, m, vinyl); 5.77-5.82 (H, m, vinyl); 0.07-0.10 (9H, m, methyl)
실험예 PDMS 1 의 분자량 및 분자량 분포를 측정하기 위하여 GPC 분석을 실시하였다. PDMS 1 의 수평균 분자량은 약 10.6 x 104 g/mol, 중량평균 분자량은 17.1 x 104 g/mol로 측정되었다. PDMS 1 의 분자량 분산도는 1.61로 계산되었다.Experimental Example GPC analysis was performed to measure the molecular weight and molecular weight distribution of PDMS 1. The number average molecular weight of PDMS 1 was about 10.6 x 10 4 g / mol, and the weight average molecular weight was 17.1 x 10 4 g / mol. The molecular weight dispersion of PDMS 1 was calculated to be 1.61.
실험예 PDMS 1 의 1H-NMR 분석 결과, 0.1 ppm, 5.8ppm, 및 6.0ppm에서 각각 피크가 관찰되었다. 0.1 ppm 부근의 피크는 Si-CH3의 수소에, 5.8 ppm 부근은 -CH=CH2의 CH 수소에, 5.9-6.0 ppm은 -CH=CH2의 CH2 수소에 해당한다. 상대적인 피크들의 각 적분값을 고려하여 각 환경의 수소를 정량화해보면, 실험예 PDMS 1에서 dimethylsiloxane을 포함하는 중합 유닛(화학식 2A에서 m2) 및 methylvinylsiloxane을 포함하는 중합 유닛(화학식 2A에서 m1)의 비는 각각 약 0.97과 0.03으로 계산되었다. 이로부터, 실험예 PDMS1의 코폴리머의 중합 유닛들의 몰비는 모노머들의 투입 몰비(feeding mole ratio)와 거의 일치하는 것으로 분석되었다. 위 결과로부터 실험예 PDMS 1이 Poly(dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane)을 포함하는 것을 확인하였다.Experimental Example 1 H-NMR analysis of PDMS 1 showed peaks at 0.1 ppm, 5.8 ppm, and 6.0 ppm, respectively. The peak near 0.1 ppm is hydrogen of Si-CH 3 , and the vicinity of 5.8 ppm is CH of -CH = CH 2 . In hydrogen, 5.9-6.0 ppm corresponds to CH 2 hydrogen of —CH═CH 2 . When quantifying the hydrogen of each environment in consideration of the integral values of the relative peaks, the ratio of the polymerization unit containing dimethylsiloxane (m2 in Formula 2A) and the polymerization unit (m1 in Formula 2A) containing methylvinylsiloxane in Experimental Example PDMS 1 It was calculated as about 0.97 and 0.03, respectively. From this, it was analyzed that the molar ratio of the polymerization units of the copolymer of Experimental Example PDMS1 almost matched the feeding mole ratio of monomers. From the above results, it was confirmed that Experimental Example PDMS 1 contains Poly (dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane).
1-2. 코폴리머의 제조(실험예 PDMS 2)1-2. Preparation of Copolymer (Experimental Example PDMS 2)
앞서 실험예 PDMS1과 동일한 방법으로 코폴리머를 제조하였다. 다만, diethoxydimethylsilane 80.01 g (540 mmol)과 diethoxymethylvinylsilane 5.55 g (34.6 mmol) (feeding mole ratio= 94.0: 6.0)을 출발 물질로 사용하였다. 중합 촉매로 증류수 8.9 mL 및 염산 (37 %) 2.3 mL를 가하였다. Copolymers were prepared in the same manner as in Experimental Example PDMS1. However, 80.01 g (540 mmol) of diethoxydimethylsilane and 5.55 g (34.6 mmol) of diethoxymethylvinylsilane (feeding mole ratio = 94.0: 6.0) were used as starting materials. 8.9 mL of distilled water and 2.3 mL of hydrochloric acid (37%) were added as a polymerization catalyst.
실험예 PDMS 2의 제조 확인(Poly(dimethylsiloxane-Experimental Example Preparation of PDMS 2 (Poly (dimethylsiloxane- coco -methylvinylsiloxane)-methylvinylsiloxane)
실험예 PDMS 2의 수율 계산, 겔 투과 크로마토그래피(GPC) 분석, 적외선 분광 분석, 및 수소핵자기공명분광분석(1H-NMR)을 PDMS 2과 동일한 방법으로 수행하였다. Experimental Example PDMS 2 yield calculation, gel permeation chromatography (GPC) analysis, infrared spectroscopy, and hydrogen nuclear magnetic resonance spectroscopy (OneH-NMR) was performed in the same manner as PDMS 2.
수율: 39.9 g (93 %)Yield: 39.9 g (93%)
GPC (THF, polystyrene standard): Mn=108,379; PD=1.42GPC (THF, polystyrene standard): Mn = 108,379; PD = 1.42
IR vmax (Liquid, NaCl)/cm-1: 3055w (=C-H str., vinyl); 2963s (C-H str., methyl); 1598w (C=C str., vinyl); 1410m (C-H benzene, methyl); 1093s (Si-O str., siloxane). 1H NMR δH (CDCl3, 500 MHz): 5.92-6.04 (2H, m, vinyl); 5.78-5.83 (H, m, vinyl); 0.08-0.11 (9H, m, methyl).IR vmax (Liquid, NaCl) / cm -1 : 3055w (= CH str., Vinyl); 2963s (CH str., Methyl); 1598 w (C = C str., Vinyl); 1410 m (CH benzene, methyl); 1093 s (Si-O str., Siloxane). 1 H NMR δ H (CDCl 3, 500 MHz): 5.92-6.04 (2H, m, vinyl); 5.78-5.83 (H, m, vinyl); 0.08-0.11 (9H, m, methyl).
실험예 PDMS 2의 GPC 분석 결과, 실험예 PDMS 2의 수평균 분자량은 약 10.8 x 104 g/mol, 중량평균 분자량은 15.4 x 104 g/mol, 분자량 분산도는 1.42로 측정되었다. As a result of GPC analysis of Experimental Example PDMS 2, the number average molecular weight of Experimental Example PDMS 2 was about 10.8 × 10 4 g / mol, the weight average molecular weight was 15.4 × 10 4 g / mol, and the molecular weight dispersion degree was 1.42.
실험예 PDMS 2의 1H-NMR 분석 결과, 0.1 ppm, 5.8ppm, 및 5.9ppm 내지 6.0ppm에서 각각 피크가 관찰되었다. 0.1 ppm 부근의 피크는 Si-CH3의 수소에, 5.8 ppm 부근은 -CH=CH2의 CH 수소에, 5.9ppm 내지 6.0ppm은 -CH=CH2의 CH2 수소에 해당한다. Experimental Example 1 H-NMR analysis of PDMS 2 showed peaks at 0.1 ppm, 5.8 ppm, and 5.9 ppm to 6.0 ppm, respectively. The peak near 0.1 ppm is hydrogen of Si-CH 3 , and the vicinity of 5.8 ppm is CH of -CH = CH 2 . In hydrogen, 5.9ppm to 6.0ppm corresponds to hydrogen of CH 2 -CH = CH 2.
위 결과로부터 실험예 PDMS 2가 Poly(dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane)을 포함하는 것을 확인하였다. 피크들 각각의 적분값을 고려하였을 때, 실험예 PDMS 2에서 dimethylsiloxane을 포함하는 중합 유닛(화학식 2A에서 m2) 및 methylvinylsiloxane을 포함하는 중합 유닛(화학식 2A에서 m1)의 비는 각각 약 0.94과 0.06으로 계산되었다. 이로부터, 실험예 PDMS2의 코폴리머의 중합 유닛들의 몰비는 모노머들의 투입 몰비(feeding mole ratio)와 거의 일치하는 것으로 분석되었다. From the above results, it was confirmed that Experimental Example PDMS 2 contains Poly (dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane). Considering the integral value of each of the peaks, the ratio of the polymerization unit containing dimethylsiloxane (m2 in Formula 2A) and the polymerization unit containing mvinylsiloxane (m1 in Formula 2A) in Experimental Example PDMS 2 was about 0.94 and 0.06, respectively. Was calculated. From this, it was analyzed that the molar ratio of the polymerization units of the copolymer of Experimental PDMS2 was almost identical to the feeding mole ratio of monomers.
1-3. 코폴리머의 제조(실험예 PDMS 3)1-3. Preparation of Copolymer (Experimental Example PDMS 3)
앞서 실험예 PDMS 1과 동일한 방법으로 코폴리머를 제조하였다. 다만, diethoxydimethylsilane 75.01g (506 mmol)과 diethoxymethylvinylsilane 11.07g(69.1 mmol) (feeding mole ratio= 88:12)을 출발 물질로 사용하였다. 중합 촉매로 증류수 8.8 mL 및 염산 (37 %) 2.3mL를 가하였다. The copolymer was prepared in the same manner as in Experimental Example PDMS 1. However, 75.01 g (506 mmol) of diethoxydimethylsilane and 11.07 g (69.1 mmol) of diethoxymethylvinylsilane (feeding mole ratio = 88: 12) were used as starting materials. 8.8 mL of distilled water and 2.3 mL of hydrochloric acid (37%) were added as a polymerization catalyst.
실험예 PDMS 3의 제조 확인(Poly(dimethylsiloxane-Experimental Example Preparation of PDMS 3 (Poly (dimethylsiloxane- coco -methylvinylsiloxane)-methylvinylsiloxane)
실험예 PDMS 3의 수율, 겔 투과 크로마토그래피(GPC), 적외선 분광 (IR), 및 수소핵자기공명분광분석(1H-NMR)을 수행하였다. Experimental Example PDMS 3 yield, gel permeation chromatography (GPC), infrared spectroscopy (IR), and hydrogen nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) were performed.
수율: 40.2 g (93 %); GPC (THF, polystyrene standard): Mn=88,113; PD=1.60. Yield: 40.2 g (93%); GPC (THF, polystyrene standard): M n = 88,113; PD = 1.60.
IR vmax (Liquid, NaCl)/cm-1: 3055w (=C-H str., vinyl); 2963s (C-H str., methyl); 1598w (C=C str., vinyl); 1409m (C-H benzene, methyl); 1093s (Si-O str., siloxane). 1H NMR δH (CDCl3, 500 MHz): 5.92-6.04 (2H, m, vinyl); 5.78-5.85 (H, m, vinyl); 0.08-0.11 (9H, m, methyl).IR v max (Liquid, NaCl) / cm -1 : 3055w (= CH str., Vinyl); 2963s (CH str., Methyl); 1598 w (C = C str., Vinyl); 1409 m (CH benzene, methyl); 1093 s (Si-O str., Siloxane). 1 H NMR δ H (CDCl 3 , 500 MHz): 5.92-6.04 (2H, m, vinyl); 5.78-5.85 (H, m, vinyl); 0.08-0.11 (9H, m, methyl).
실험예 PDMS 3의 GPC 분석 결과, 실험예 PDMS 3의 수평균 분자량은 약 8.8 x 104 g/mol, 중량평균 분자량은 14.1 x 104 g/mol로 측정되었으며 중합체의 분자량 분산도는 1.60을 보였다. As a result of GPC analysis of Experimental Example PDMS 3, the number average molecular weight of Experimental Example PDMS 3 was measured to be about 8.8 x 10 4 g / mol, the weight average molecular weight was 14.1 x 10 4 g / mol, and the molecular weight dispersion of the polymer was 1.60. .
위 결과로부터 실험예 PDMS 3이 Poly(dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane)을 포함하는 것을 확인하였다. 피크들 각각의 적분값을 고려하였을 때, 실험예 PDMS 3에서 dimethylsiloxane을 포함하는 중합 유닛(화학식 2A에서 m2) 및 methylvinylsiloxane을 포함하는 중합 유닛(화학식 2A에서 m1)의 비는 각각 약 0.88과 0.12로 계산되었다. 이로부터, 실험예 PDMS2의 코폴리머의 중합 유닛들의 몰비는 모노머들의 투입 몰비 (feeding mole ratio)와 거의 일치하는 것으로 분석되었다.From the above results, it was confirmed that Experimental Example PDMS 3 contains Poly (dimethylsiloxane-co-methylvinylsiloxane). In consideration of the integral value of each of the peaks, the ratio of the polymerization unit containing dimethylsiloxane (m2 in Formula 2A) and the polymerization unit containing mvinylsiloxane (m1 in Formula 2A) in Experimental PDMS 3 was about 0.88 and 0.12, respectively. Was calculated. From this, it was analyzed that the molar ratio of the polymerization units of the copolymer of Experimental PDMS2 was almost identical to the feeding mole ratio of monomers.
2-1. 코폴리머에 따른 광 투과도 조절 필름 조성물의 제조2-1. Preparation of Light Transmittance Control Film Composition According to Copolymer
앞서 설명한 바와 같이 제조된 코폴리머 및 t-butyl acrylate(제1 모노머)를 하기 표 1과 같이 혼합하여, 조성물을 제조한다. A copolymer prepared as described above and t- butyl acrylate (first monomer) are mixed as shown in Table 1 below to prepare a composition.
상기 조성물에 중합 개시제(광 개시제)를 첨가한다. 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone을 중합 개시제로 사용하였고, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone 은 혼합 용액 내에 비닐 그룹 당량 대비 0.5 mol%가 되도록 첨가하였다. A polymerization initiator (photoinitiator) is added to the composition. 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone was used as a polymerization initiator, and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone was added so as to be 0.5 mol% relative to the vinyl group equivalent in the mixed solution.
실험예Experimental Example PDMS 1의 질량 (g)Mass of PDMS 1 (g) PDMS 2 의 질량 (g)Mass of PDMS 2 (g) PDMS 3의 질량 (g)Mass of PDMS 3 (g) 조성물 내 코폴리머의 중량 퍼센트(wt%)Weight percent of the copolymer in the composition (wt%) t-butyl acrylate의질량 (g)mass of t- butyl acrylate (g)
PDMS 1-20PDMS 1-20 0.57160.5716 -- -- 2020 2.07962.0796
PDMS 1-30PDMS 1-30 1.08081.0808 -- -- 3030 2.53752.5375
PDMS 2-20PDMS 2-20 -- 0.70220.7022 -- 2020 2.84682.8468
PDMS 2-30PDMS 2-30 -- 0.99490.9949 -- 3030 2.33702.3370
PDMS 3-20PDMS 3-20 -- -- 0.52080.5208 2020 2.09052.0905
PDMS 3-30PDMS 3-30 -- -- 0.98780.9878 3030 2.30902.3090
실험예 PDMS 1, 실험예 PDMS 2, 및 실험예 PDMS 3은 t-butyl acrylate와 우수한 혼합성을 나타내는 것이 관찰되었다. 중합 개시제가 t-butyl acrylate에 용해된 것을 관찰하였다. It was observed that Experimental Example PDMS 1, Experimental Example PDMS 2, and Experimental Example PDMS 3 exhibited excellent mixing properties with t- butyl acrylate. It was observed that the polymerization initiator was dissolved in t -butyl acrylate.
2-2. 제1 모노머에 따른 필름 조성물의 제조 2-2. Preparation of the Film Composition According to the First Monomer
코폴리머 및 제1 모노머를 하기 표 2와 같이 혼합하여, 조성물을 제조한다. 상기 조성물에 개시제를 첨가한다. 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone을 개시제로 사용하였고, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone은 혼합 용액 내에 비닐 그룹 당량 대비 0.5 mol%가 되도록 첨가하였다.The copolymer and the first monomer are mixed as in Table 2 below to prepare a composition. An initiator is added to the composition. 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone was used as an initiator, and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone was added so as to be 0.5 mol% relative to the vinyl group equivalent in the mixed solution.
Sample nameSample name PDMS 2(g)PDMS 2 (g) PDMS 3(g)PDMS 3 (g) 제1 모노머First monomer 제1 모노머의 사용량(g)Usage amount of the first monomer (g)
PDMS-APDMS-A -- 0.36110.3611 Methyl acrylateMethyl acrylate 1.42221.4222
PDMS-BPDMS-B -- 0.38120.3812 Ethyl acrylateEthyl acrylate 1.54971.5497
PDMS-CPDMS-C -- 0.32730.3273 Methyl methacrylateMethyl methacrylate 1.33051.3305
PDMS-DPDMS-D -- 0.30710.3071 Vinyl acetateVinyl acetate 1.24351.2435
PDMS-EPDMS-E -- 0.30210.3021 StyreneStyrene 1.20161.2016
PDMS-FPDMS-F -- 0.34570.3457 Butyl acrylateButyl acrylate 1.36101.3610
PDMS-GPDMS-G 0.32280.3228 -- Hexyl acrylateHexyl acrylate 1.29681.2968
PDMS-HPDMS-H 0.37090.3709 -- Octyl acrylateOctyl acrylate 1.48831.4883
3. 광 투과도 조절 필름의 제조 3. Preparation of Light Transmittance Control Film
제1 기판 및 제2 기판 사이에 제1 스페이서 및 제2 스페이서를 수평적으로 이격 배치한다. 유리 기판들을 제1 및 제2 기판들로 사용하였다. 100μm 두께의 폴리이미드 접착 테이프를 제1 스페이서 및 제2 스페이서로 사용하였다. 캐비티가 제1 유리 기판 및 제2 유리 기판 사이에 및 제1 스페이서 및 제2 스페이서 사이에 도입된다. 상기 조성물을 캐비티에 모세관력을 이용하여 제공한다. 자외선을 자외선 램프를 사용하여 질소 기류 조건에서 10분간 상기 조성물에 조사하여, UV 경화 필름을 제조한다. 자외선 램프는 Mercury UVH lamp를 사용하였고 전력량은 1 kW 였다. 조성물 층에 조사된 램프의 UV 강도는 395 ~ 445 (UVV), 320 ~ 390 (UVA), 280 ~ 320 (UVB) 및 250 ~ 260 (UVC) nm 에서 7.25, 8.85, 0.26 및 0.84 mW 이다. 이 후, 상기 제1 및 제2 기판들을 증류수에 24시간 침지하고, UV-경화 필름을 제1 및 제2 기판들로부터 제거한 후 상온에서 2시간 동안 진공 건조하였다. 이에 따라, 광 투과도 조절 필름을 얻었다. The first spacer and the second spacer are horizontally spaced apart from the first substrate and the second substrate. Glass substrates were used as the first and second substrates. 100 μm thick polyimide adhesive tape was used as the first spacer and the second spacer. The cavity is introduced between the first glass substrate and the second glass substrate and between the first spacer and the second spacer. The composition is provided to the cavity using capillary force. Ultraviolet rays are irradiated to the composition for 10 minutes under nitrogen gas flow conditions using an ultraviolet lamp to produce a UV cured film. The UV lamp used a Mercury UVH lamp and the power was 1 kW. The UV intensities of the lamps irradiated to the composition layers are 7.25, 8.85, 0.26 and 0.84 mW at 395-445 (UVV), 320-390 (UVA), 280-320 (UVB) and 250-260 (UVC) nm. Thereafter, the first and second substrates were immersed in distilled water for 24 hours, the UV-cured film was removed from the first and second substrates, and vacuum dried at room temperature for 2 hours. This obtained the light transmittance adjustment film.
실험예 F 1-20, 실험예 F 1-30, 실험예 F 2-20, 실험예 F 2-30, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30은 각각 실험예 PDMS 1-20, 실험예 PDMS 1-30, 실험예 PDMS 2-20, 실험예 PDMS 2-30, 실험예 PDMS 3-20, 및 실험예 PDMS 3-30의 조성물을 사용하여 광경화를 통해 얻은 필름들로부터 얻은 결과이다. Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 are each Experimental Example PDMS 1-20. , Obtained from films obtained through photocuring using the compositions of Experimental Example PDMS 1-30, Experimental PDMS 2-20, Experimental PDMS 2-30, Experimental PDMS 3-20, and Experimental PDMS 3-30. The result is.
이하, 도 6 내지 도 12c의 설명들에서 도 1, 도 2, 및 도 3을 함께 참조하여 설명한다.Hereinafter, descriptions will be given with reference to FIGS. 1, 2, and 3 in the descriptions of FIGS. 6 to 12C.
도 6은 실험예 F 1-20, 실험예 F 1-30, 실험예 F 2-20, 실험예 F 2-30, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30 필름들의 파장에 따른 광 투과도를 나타낸 그래프이다. 6 is according to the wavelength of the Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 films It is a graph showing the light transmittance.
도 6을 참조하면, 실험예 F 1-20, 실험예 F 1-30, 실험예 F 2-20, 실험예 F 2-30, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30 필름들은 가시광 영역에 대해 높은 광 투과도를 갖는 것을 확인할 수 있다. 제1 폴리머의 몰비가 증가할수록, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도가 증가한다. Referring to Figure 6, Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 films It can be confirmed that it has a high light transmittance with respect to the visible light region. As the molar ratio of the first polymer increases, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 increases.
도 6을 참조하면, 광 투과도 조절 필름 조성물(10) 내에 제1 폴리머의 몰비가 증가할수록, 중합 반응 과정에서 제1 모노머(100)는 제1 폴리머와 더 반응할 수 있다. 중합 반응 과정에서 제1 모노머(100) 사이의 중합은 상대적으로 감소할 수 있다. 따라서 매트릭스 부분(P2)이 분산된 부분(P1)에 대해 상용성은 증가할 수 있다. 제1 모노머(100)로부터 중합된 호모 폴리머들은 광 투과도 조절 필름(1000) 내의 분산된 부분(P1)을 구성할 수 있다. 매트릭스 부분(P2)이 분산된 부분(P1)에 대해 상용성 증가로 분산된 부분(P1)의 직경들이 감소될 수 있다. 분산된 부분(P1)의 직경들이 감소하면, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도는 증가될 수 있다. 광 투과도 조절 필름 조성물(10) 내에 제1 모노머(100)의 중량 퍼센트가 증가할수록, 중합 반응 과정에서 제1 모노머(100) 사이의 중합은 상대적으로 증가할 수 있다. 따라서 매트릭스 부분(P2)이 분산된 부분(P1)에 대해 상용성은 감소할 수 있다. 제1 모노머(100)로부터 중합된 호모 폴리머들은 광 투과도 조절 필름(1000)의 분산된 부분(P1)을 구성할 수 있다. 매트릭스 부분(P2)이 분산된 부분(P1)에 대해 상용성 감소로 분산된 부분(P1)의 직경들이 증가될 수 있다. 분산된 부분(P1)의 직경들이 증가하면, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도는 감소될 수 있다.Referring to FIG. 6, as the molar ratio of the first polymer in the light transmittance adjusting film composition 10 increases, the first monomer 100 may further react with the first polymer during the polymerization reaction. In the polymerization process, polymerization between the first monomers 100 may be relatively reduced. Therefore, compatibility may be increased with respect to the portion P1 in which the matrix portion P2 is dispersed. The homopolymers polymerized from the first monomer 100 may constitute a dispersed portion P1 in the light transmittance adjusting film 1000. The diameters of the dispersed parts P1 can be reduced with increased compatibility with respect to the dispersed parts P1 where the matrix part P2 is dispersed. When the diameters of the dispersed portion P1 decrease, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be increased. As the weight percentage of the first monomer 100 in the light transmittance adjusting film composition 10 increases, the polymerization between the first monomers 100 may be relatively increased during the polymerization reaction. Thus, compatibility with respect to the portion P1 in which the matrix portion P2 is dispersed can be reduced. The homopolymers polymerized from the first monomer 100 may constitute the dispersed portion P1 of the light transmittance adjusting film 1000. The diameters of the dispersed parts P1 can be increased with reduced compatibility with respect to the dispersed parts P1 where the matrix part P2 is dispersed. As the diameters of the dispersed portion P1 increase, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be reduced.
도 7a는 실험예 F 3-20의 인장 변형율에 따른 광 투과도를 나타낸 결과이다. e500, e600, 및 e700은 각각 500nm, 600nm, 및 700nm의 파장에서 실험예 F3-20 필름의 인장 변형율에 따른 광 투과도 회귀직선이다. 표 3은 도 7a 내의 e500, e600, 및 e700의 회귀직선으로부터 계산된 결정 계수(r2)를 각각 보여준다. 7A shows the light transmittance according to the tensile strain of Experimental Example F 3-20. e500, e600, and e700 are light transmittance regression lines according to the tensile strain of the Experimental Example F3-20 film at wavelengths of 500 nm, 600 nm, and 700 nm, respectively. Table 3 shows the determination coefficients r 2 calculated from the regression lines of e500, e600, and e700 in FIG. 7A, respectively.
도 7a을 참조하면, 인장 변형율이 증가할수록 가시광 영역에 대한 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도는 감소할 수 있다. 표 3을 참조하면, 광 투과도 조절 필름(1000)의 인장 변형율에 따른 광 투과도의 회귀직선으로부터 결정 계수는 1에 가까울 수 있다. 이로부터, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도는 인장 변형율에 따라 선형적으로 감소하는 것을 알 수 있다. 실시예들에 따르면, 광 투과도 조절 필름(1000)의 탄성 영역 내에서 광 투과도 조절 필름(1000)에 가해지는 인장력의 세기를 조절하여, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도가 제어될 수 있다. Referring to FIG. 7A, as the tensile strain increases, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 in the visible light region may decrease. Referring to Table 3, the crystal coefficient from the regression line of the light transmittance according to the tensile strain of the light transmittance adjusting film 1000 may be close to one. From this, it can be seen that the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 decreases linearly with the tensile strain. According to embodiments, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be controlled by adjusting the intensity of the tensile force applied to the light transmittance adjusting film 1000 in the elastic region of the light transmittance adjusting film 1000. .
e500e500 e600e600 e700e700
빛의 파장(nm)Wavelength of light (nm) 500nm500 nm 600nm600 nm 700nm700 nm
결정 계수Coefficient of determination 0.99320.9932 0.99210.9921 0.99240.9924
도 7b는 인장 변형율이 광 투과도 조절 필름에 인가된 상태에서, 빛의 파장에 따른 실험예 F 2-20, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30 필름들의 광 투과도를 분석한 결과이다. 이 때, 0.2의 인장 변형율이 가해졌다. Figure 7b is a result of analyzing the light transmittance of Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 films according to the wavelength of light in the state that the tensile strain is applied to the light transmittance control film to be. At this time, a tensile strain of 0.2 was applied.
도 7b를 도 5와 함께 참조하면, 동일 파장 및 동일한 인장 변형율의 조건에서, 광 투과도는 실험예 F 3-30, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 2-20 필름의 순서로 높다. 앞서 표 4에서 설명한 바와 같이, 광 투과도 조절 필름(1000) 내에 분산된 부분(P1)의 크기들은 실험예 F 2-20, 실험예 F3-20, 및 실험예 F 3-30 필름의 순서로 증가될 수 있다. 가해진 인장력이 일정하면, 분산된 부분(P1)의 크기들이 클수록, 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2) 사이에 형성된 공극들(400)의 부피들이 커질 수 있다. 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과율 변화 효율은 분산된 부분 (P1)의 직경이 증가함에 따라 증가할 수 있다. 본 발명의 실시예에 따르면, 광 투과도 조절 필름(1000)에 인장력이 가해질 때, 광 투과도 조절 필름의 광 투과율 변화 효율은 제1 폴리머의 몰비 또는 광 투과도 조절 필름 조성물(도 1의 10)에서의 제1 모노머(100)의 중량 퍼센트를 조절하여, 조절될 수 있다. Referring to FIG. 7B together with FIG. 5, under the conditions of the same wavelength and the same tensile strain, light transmittance is higher in the order of Experimental Examples F 3-30, Experimental Examples F 3-20, and Experimental Examples F 2-20 films. As described above in Table 4, the sizes of the portions P1 dispersed in the light transmittance adjusting film 1000 are increased in the order of Experimental Example F 2-20, Experimental Example F3-20, and Experimental Example F 3-30 film. Can be. If the applied tensile force is constant, the larger the sizes of the dispersed portion P1, the larger the volumes of the voids 400 formed between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2. The light transmittance change efficiency of the light transmittance adjusting film 1000 may increase as the diameter of the dispersed portion P1 increases. According to an embodiment of the present invention, when a tensile force is applied to the light transmittance adjusting film 1000, the light transmittance change efficiency of the light transmittance adjusting film is determined by the molar ratio of the first polymer or the light transmittance adjusting film composition (10 in FIG. 1). The weight percentage of the first monomer 100 may be adjusted to adjust the weight percentage.
도 8a는 0.2의 인장 변형율이 광 투과도 조절 필름에 인가된 상태에서, 실험예 F 2-20 필름의 주사 전자 현미경(Scanning Electron Microscope, SEM) 이미지이다. 도 8b는 0.4의 인장 변형율이 광 투과도 조절 필름에 인가된 상태에서, 실험예 F 2-20 SEM 이미지이다. 도 8c는 0.8의 인장 변형율이 광 투과도 조절 필름에 인가된 상태에서, 실험예 F 2-20 필름의 SEM 이미지이다. 표 4는 0.2, 0.4, 및 0.8의 인장 변형율이 광 투과도 조절 필름에 인가된 상태에서, SEM 이미지로부터 관찰된 실험예 F 2-20 필름의 결과이다.8A is a scanning electron microscope (Scanning Electron Microscope, SEM) image of the Experimental Example F 2-20 film with a tensile strain of 0.2 applied to the light transmittance controlling film. 8B is Experimental Example F 2-20 SEM image with a tensile strain of 0.4 applied to the light transmittance controlling film. 8C is an SEM image of Experimental Example F 2-20 film, with a tensile strain of 0.8 applied to the light transmittance controlling film. Table 4 shows the results of Experimental Example F 2-20 film observed from the SEM image, with tensile strains of 0.2, 0.4, and 0.8 applied to the light transmittance controlling film.
가해진 인장 변형율Applied tensile strain 0.20.2 0.40.4 0.80.8
분산된 부분(P1)의 부피 변화Volume change of the dispersed part P1 XX XX XX
분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분 사이에 형성된 공극들의 관찰 결과Observation result of the voids formed between the dispersed portion P1 and the matrix portion 공극들이 형성됨Voids formed 형성된 공극들이 큰 부피들을 가짐Formed voids have large volumes 형성된 공극들이 매우 큰 부피를 가짐.The pores formed have a very large volume.
도 8a, 도 8b, 도 8c, 및 표 4를 도 5와 함께 참조하면, 가해진 인장 변형율이 커질수록, 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2) 사이에 형성된 공극들(400)의 부피가 증가됨을 할 수 있다. 이 때, 인장력이 인가되어도, 분산된 부분(P1)의 부피 변화는 거의 없었다. 이 결과는 분산된 부분(P1)의 초기 탄성 계수가 크기 때문이다. 실제로 분산된 부분 (P1)인 poly(t-butyl acrylate)의 초기탄성계수는 약 1.14 GPa로 측정되어 일반적으로 1 MPa 이하로 측정되는 가교 PDMS (매트릭스 부분(P2))에 비해 1000배 이상 크다. 실시예 2-2 조성물로 제작된 UV 경화된 필름은 인장력에 의한 연신에 따른 응력 백화 현상이 나타나지 않았다. 이는 분산된 부분(P1)의 호모 폴리머의 초기탄성계수가 100 MPa 이하로 낮기 때문이다. 분산된 부분(P1)과 매트릭스 부분(P2)의 초기 탄성 계수의 차가 감소하면, 분산된 부분(P1)과 매트릭스 부분(P2) 사이에 공극이 형성되지 않아 응력 백화 현상이 나타나지 않는다. 실시예들에 따르면, 광 투과도 조절 필름(1000)의 응력 백화 현상을 이용하여, 광 투과도 조절 필름(1000)의 투과도를 감소시킬 수 있다. 예를 들어, 광 투과도 조절 필름(1000)에 가해지는 인장 변형율의 세기를 조절하여, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도를 조절할 수 있다.8A, 8B, 8C, and Table 4, together with FIG. 5, the larger the tensile strain applied, the greater the volume of voids 400 formed between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2. Can be increased. At this time, even when a tensile force was applied, there was little change in volume of the dispersed portion P1. This result is because the initial elastic modulus of the dispersed portion P1 is large. The initial modulus of elasticity of poly ( t -butyl acrylate), which is actually the dispersed part (P1), is measured at about 1.14 GPa and is more than 1000 times larger than that of cross-linked PDMS (matrix part (P2)), which is generally measured at less than 1 MPa. The UV cured film made of the composition of Example 2-2 did not show stress whitening due to stretching by tensile force. This is because the initial modulus of elasticity of the homopolymer of the dispersed portion P1 is lower than 100 MPa. If the difference in initial modulus of elasticity of the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 is reduced, no void is formed between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2 so that the stress whitening does not appear. According to embodiments, the transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be reduced by using the stress whitening phenomenon of the light transmittance adjusting film 1000. For example, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be adjusted by adjusting the intensity of the tensile strain applied to the light transmittance adjusting film 1000.
표 5는 실험예 F 1-20, 실험예 F 1-30, 실험예 F 2-20, 실험예 F 2-30, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30 필름의 초기 탄성 계수, 최대인장강도, 항복인장변형율, 및 최대인장변형율을 측정한 결과이다. 표 5에서 괄호 안의 s.d.는 표준 편차(standard deviation)를 의미한다. TA Instrument RSA-G2를 사용하여, 실험예들의 초기 탄성 계수, 최대인장강도, 항복인장변형율, 및 최대인장변형율을 측정하였다. Table 5 shows the initial modulus of elasticity of the films of Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 , Maximum tensile strength, yield tensile strain, and maximum tensile strain were measured. In Table 5, s.d. in parentheses means the standard deviation. Using TA Instrument RSA-G2, the initial modulus, maximum tensile strength, yield tensile strain, and maximum tensile strain of the test examples were measured.
실험예Experimental Example 초기 탄성 계수(MPa) (s.d.)Initial Modulus of Elasticity (MPa) (s.d.) 최대인장강도(MPa) (s.d.)Tensile strength (MPa) (s.d.) 항복인장변형율 (s.d.)Yield Tensile Strain (s.d.) 최대인장변형율 (s.d.)Tensile strain (s.d.)
F 1-20F 1-20 15.67 (1.60)15.67 (1.60) 3.49 (0.16)3.49 (0.16) 0.10 (0.01)0.10 (0.01) 1.02 (0.09)1.02 (0.09)
F 1-30F 1-30 2.31 (0.32)2.31 (0.32) 3.04 (0.23)3.04 (0.23) 0.22 (0.02)0.22 (0.02) 2.23 (0.24)2.23 (0.24)
F 2-20F 2-20 16.70 (2.28)16.70 (2.28) 9.03 (0.53)9.03 (0.53) 0.17 (0.006)0.17 (0.006) 1.29 (0.14)1.29 (0.14)
F 2-30F 2-30 6.47 (1.74)6.47 (1.74) 7.75 (0.82)7.75 (0.82) 0.26 (0.05)0.26 (0.05) 2.60 (0.17)2.60 (0.17)
F 3-20F 3-20 34.24 (5.18)34.24 (5.18) 12.95 (1.82)12.95 (1.82) 0.17 (0.02)0.17 (0.02) 1.06 (0.20)1.06 (0.20)
F 3-30F 3-30 9.24 (0.68)9.24 (0.68) 10.29 (0.27)10.29 (0.27) 0.47 (0.07)0.47 (0.07) 2.04 (0.15)2.04 (0.15)
표 5를 참조하면, 광 투과도 조절 필름 조성물(10)의 코폴리머의 중량 퍼센트가 증가하면, 초기 탄성 계수는 감소하고, 항복인장변형율 및 최대인장변형율은 증가한다. 코폴리머 내 제1 폴리머의 몰비가 증가하면, 광 투과도 조절 필름(1000)의 최대 인장 강도는 증가한다. 광 투과도 조절 필름(1000)의 최대 인장 강도는 코폴리머 내에 제1 폴리머의 반응기의 함량이 커짐에 따라 증가될 수 있다. Referring to Table 5, when the weight percentage of the copolymer of the light transmittance control film composition 10 increases, the initial modulus of elasticity decreases, and the yield tensile strain and maximum tensile strain increase. As the molar ratio of the first polymer in the copolymer increases, the maximum tensile strength of the light transmittance controlling film 1000 increases. The maximum tensile strength of the light transmittance adjusting film 1000 may increase as the content of the reactor of the first polymer in the copolymer increases.
제1 폴리머는 반응기를 가질 수 있다. 코폴리머 내 반응기의 함량이 높아지면, 다시 말해 코폴리머 내 제1 폴리머의 몰비가 증가하면, 제조된 광 투과도 조절 필름(1000) 내의 분산된 부분(P1)의 함량 및 크기가 감소하고, 매트릭스 부분(P2)에 대한 그라프트된 폴리머(110)의 함량이 증가될 수 있다. 광투과도 조절 필름 내에 분산된 부분(P1)의 함량 및 그라프트된 폴리머(110)의 함량에 따라, 광 투과도 조절 필름(1000)의 물리적 특성이 변화될 수 있다. 실시예들에 따르면, 광 투과도 조절 필름 조성물(10) 내의 제1 폴리머의 몰비를 조절하여, 광 투과도 조절 필름(1000)의 초기 탄성 계수, 최대 인장강도, 항복 인장 변형율, 및 최대 인장 변형율이 제어될 수 있다. The first polymer may have a reactor. As the content of the reactor in the copolymer increases, that is, when the molar ratio of the first polymer in the copolymer increases, the content and size of the dispersed portion P1 in the prepared light transmittance control film 1000 decreases, and the matrix portion The content of the grafted polymer 110 relative to (P2) may be increased. According to the content of the portion P1 dispersed in the light transmittance adjusting film and the content of the grafted polymer 110, the physical properties of the light transmittance adjusting film 1000 may be changed. According to embodiments, by controlling the molar ratio of the first polymer in the light transmittance control film composition 10, the initial elastic modulus, the maximum tensile strength, the yield tensile strain, and the maximum tensile strain of the light transmittance control film 1000 are controlled. Can be.
도 9는 실험예 F 1-20, 실험예 F 1-30, 실험예 F 2-20, 실험예 F 2-30, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30 필름들의 시차 주사 열량분석결과를 나타낸다. 도 9에서 가로축은 온도를 나타내고, 세로축은 반응의 열 흐름을 상대적으로 나타내었다. 시차 주사 열량 분석은 TA Instruments DSC Q20을 사용하여 50 mL/분의 질소 기류 하에서 10 ℃/분의 승온 속도로 -100℃ 내지 150℃의 온도 범위에서 수행되었다. Figure 9 shows the differential scanning calories of Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 films. The analysis results are shown. In Figure 9 the horizontal axis represents the temperature, the vertical axis represents the relative heat flow of the reaction. Differential scanning calorimetry was performed using TA Instruments DSC Q20 at a temperature range of -100 ° C. to 150 ° C. at a rate of temperature rise of 10 ° C./min under a nitrogen stream of 50 mL / min.
도 9를 참조하면, 실험예 F 1-20, 실험예 F 1-30, 실험예 F 2-20, 실험예 F 2-30, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30 필름들에서 45℃ 내지 50 ℃ 사이에 피크가 관찰되었다. 폴리머 사슬들(110) 및 분산된 부분(P1) (poly(t-butyl acrylate))의 유리 전이 온도가 이 온도 영역에 해당할 수 있다. 실험예 F 1-20, 실험예 F 1-30, 실험예 F 2-20, 및 실험예 F 2-30 필름들에서 -55℃ 내지 -50 ℃ 영역의 피크들이 또한 관찰되었다. 매트릭스 부분 (P2)의 용융 온도가 이 온도 영역에 해당한다. 광 투과도 조절 필름(1000) 내의 분산된 부분(P1)의 함량 또는 제1 폴리머의 함량이 증가함에 따라, 광 투과도 조절 필름(1000) 내의 용융열(heat of fusion)이 감소함을 알 수 있다. 실험예 3-20 및 실험예 3-30 필름들의 경우, -100℃ 이상에서 매트릭스 부분(P2)의 용융 온도에 해당하는 피크가 관찰되지 않았다. 실험예 F 1-20, 실험예 F 1-30, 실험예 F 2-20, 실험예 F 2-30, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30 필름들은 상온(25℃)에서 무정형을 나타냄을 알 수 있다.Referring to Figure 9, Experimental Example F 1-20, Experimental Example F 1-30, Experimental Example F 2-20, Experimental Example F 2-30, Experimental Example F 3-20, and Experimental Example F 3-30 films A peak was observed between 45 ° C. and 50 ° C. at The glass transition temperature of the polymer chains 110 and the dispersed portion P1 (poly ( t -butyl acrylate)) may correspond to this temperature range. Peaks in the region of -55 ° C to -50 ° C were also observed in Experimental Examples F 1-20, Experimental Examples F 1-30, Experimental Examples F 2-20, and Experimental Examples F 2-30 films. The melting temperature of the matrix part P2 corresponds to this temperature range. As the content of the dispersed portion P1 or the content of the first polymer in the light transmittance adjusting film 1000 is increased, it can be seen that heat of fusion in the light transmittance adjusting film 1000 decreases. For the Experimental Examples 3-20 and Experimental Examples 3-30 films, no peak corresponding to the melting temperature of the matrix portion P2 was observed above -100 ° C. Experimental Examples F 1-20, Experimental Examples F 1-30, Experimental Examples F 2-20, Experimental Examples F 2-30, Experimental Examples F 3-20, and Experimental Examples F 3-30 films were obtained at room temperature (25 ° C) It can be seen that the amorphous form.
도 10a, 도 10b, 도 10c, 및 도 10d는 실험예 F 1-20, 실험예 F 2-20, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F3-30 필름들의 투과전자현미경(Transmission Electron Microscope, TEM) 단면 이미지들이다. JEM-ARM200F Cs-Corrected Scanning Transmission Electron microscope가 TEM 측정에 사용되었다.10A, 10B, 10C, and 10D show Transmission Electron Microscopes of Experimental Examples F 1-20, Experimental Examples F 2-20, Experimental Examples F 3-20, and Experimental Examples F3-30 films. TEM) cross-sectional images. A JEM-ARM200F Cs-Corrected Scanning Transmission Electron microscope was used for the TEM measurements.
도 10a, 도 10b, 도 10c, 및 도 10d를 참조하면, 분산된 부분(P1)이 매트릭스 부분(P2) 내에 조밀하게 분포되어 있다. 도 10a을 참조하면, 분산된 부분(P1)의 장축 방향에서 평균 크기는 300~500 nm 이상으로 관찰되었다. 분산된 부분(P1)의 단축 방향에서 평균 크기는 대략 200nm 이상이다. 도 10b을 참조하면, 분산된 부분(P1)의 장축 방향에서 평균 크기는 대략 200 nm 정도로 관찰되었다. 분산된 부분(P1)의 단축 방향에서 평균 크기는 대략 100nm이다. 도 10c을 참조하면, 분산된 부분(P1)의 장축 방향에서 평균 크기는 대략 100nm 내지 150nm이다. 분산된 부분(P1)의 단축 방향에서 크기는 50nm 내지 100nm 이다. 도 10d을 참조하면, 분산된 부분(P1)의 장축 방향에서 크기는 대략 100 nm로 관찰되었다. 분산된 부분(P1)의 단축 방향에서 평균 크기는 50nm 이하 이다. 10A, 10B, 10C, and 10D, the dispersed portion P1 is densely distributed in the matrix portion P2. Referring to FIG. 10A, an average size of 300 to 500 nm or more was observed in the long axis direction of the dispersed portion P1. The average size in the short axis direction of the dispersed portion P1 is approximately 200 nm or more. Referring to FIG. 10B, an average size of about 200 nm was observed in the long axis direction of the dispersed portion P1. The average size in the minor axis direction of the dispersed portion P1 is approximately 100 nm. Referring to FIG. 10C, the average size in the major axis direction of the dispersed portion P1 is approximately 100 nm to 150 nm. The size in the short axis direction of the dispersed portion P1 is 50 nm to 100 nm. Referring to FIG. 10D, the size was observed to be approximately 100 nm in the long axis direction of the dispersed portion P1. The average size in the short axis direction of the dispersed portion P1 is 50 nm or less.
광 투과도 조절 필름 조성물(10) 내의 코폴리머(200)의 제1 폴리머의 비닐 그룹이 반응기로 작용할 수 있다. 실험예 F 1-20, 실험예 F 2-20, 실험예 F 3-20, 및 실험예 F 3-30 필름들의 제조에 사용된 코폴리머(200) 내의 반응기에 대한 제1 모노머들(예를 들어, t-butyl acrylate) 의 몰비는 각각 83.0, 42.4, 20.5, 및 12.0로 계산된다. 제1 모노머 반응기의 함량이 증가될수록, 광 투과도 조절 필름(1000)에서 그라프트된 폴리머(110)(예를 들어, 그라프트된 poly(t-butyl acrylate) 그룹)의 함량비가 증가될 수 있다. 그라프트된 폴리머 사슬(110)은 매트릭스 부분(P2) 및 분산된 부분(P1) 사이의 상용화제로 작용하므로, 분산된 부분(P1)의 크기들이 감소될 수 있다. 분산된 부분(P1)은 타원형의 형상들을 가질 수 있다. The vinyl group of the first polymer of the copolymer 200 in the light transmittance controlling film composition 10 may act as a reactor. The first monomers to the reactor in the copolymer 200 used for the preparation of Experimental Examples F 1-20, Experimental Examples F 2-20, Experimental Examples F 3-20, and Experimental Examples F 3-30 films (eg For example, the molar ratio of t -butyl acrylate) is calculated to be 83.0, 42.4, 20.5, and 12.0, respectively. As the content of the first monomer reactor increases, the content ratio of the grafted polymer 110 (eg, the grafted poly ( t -butyl acrylate) group) in the light transmittance controlling film 1000 may increase. Since the grafted polymer chain 110 acts as a compatibilizer between the matrix portion P2 and the dispersed portion P1, the sizes of the dispersed portion P1 can be reduced. The dispersed portion P1 may have elliptical shapes.
도 11a는 인장력이 가해지지 않은 상태의 실험예 F 3-20 필름의 포토 이미지를 나타낸다. 도 11b는 인장력이 가해지는 동안 실험예 F 3-20 필름의 포토 이미지를 나타낸다. 도 11c는 인장력이 가해진 후 이를 제거한 상태에서 실험예 F 3-20 필름의 포토 이미지를 나타낸다. FIG. 11A shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film with no tensile force applied. FIG. 11B shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film while tensile force is applied. 11C shows a photo image of Experimental Example F 3-20 film with tensile force applied thereto.
도 11a를 참조하면, 인장력이 가해지지 않은 상태의 광 투과도 조절 필름은 투명할 수 있다. Referring to FIG. 11A, the light transmittance adjusting film in a state where no tensile force is applied may be transparent.
도 11b를 참조하면, 인장력이 가해지면, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도가 감소될 수 있다. 이는 광 투과도 조절 필름(1000)에 인장력이 가해짐에 따라, 응력 백화 현상이 발생하기 때문이다. 앞서 도 5, 및 표 4에서 설명한 바와 같이 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2) 사이의 공극들(400)이 발생하고, 공극들(400)은 진공 아래 이거나 공기가 공극들(400) 내에 제공될 수 있다. 분산된 부분(P1) 및 매트릭스 부분(P2)은 진공 또는 공기와 큰 굴절률 차이를 가질 수 있다. 상기 굴절률 차이에 의해 가시광이 산란 또는 반사될 수 있다. 이에 따라, 광 투과도 조절 필름(1000)의 광 투과도가 감소될 수 있다. 예를 들어, 광 투과도 조절 필름(1000)은 불투명해질 수 있다. 즉, 광 투과도 조절 필름(1000)의 아래의 배경이 보이지 않았다. 도면 내의 필름의 그어진 선에 의하면 인장 변형율은 약 0.15~0.2 정도 이다.Referring to FIG. 11B, when a tensile force is applied, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be reduced. This is because a stress whitening phenomenon occurs as a tensile force is applied to the light transmittance adjusting film 1000. As previously described with reference to FIG. 5 and Table 4, voids 400 occur between the dispersed portion P1 and the matrix portion P2, and the voids 400 are under vacuum or air is present in the voids 400. Can be provided within. The dispersed portion P1 and the matrix portion P2 may have a large refractive index difference with vacuum or air. Visible light may be scattered or reflected by the difference in refractive index. Accordingly, the light transmittance of the light transmittance adjusting film 1000 may be reduced. For example, the light transmittance adjusting film 1000 may be opaque. That is, the background underneath the light transmittance adjusting film 1000 was not seen. According to the drawn line of the film in the figure, the tensile strain is about 0.15 to 0.2.
도 11c를 참조하면, 인장력이 제거되면, 광 투과도 조절 필름의 광 투과도가 다시 증가될 수 있다. 이는 코폴리머(200)가 양호한 탄성 회복 특성을 가져, 매트릭스 부분(P2)이 외력이 가해지기 전 초기 상태로 돌아가기 때문이다. 예를 들어, 광 투과도 조절 필름(1000)은 투명해질 수 있다. 광 투과도 조절 필름(1000)의 아래의 배경이 다시 관찰되었다. Referring to FIG. 11C, when the tensile force is removed, the light transmittance of the light transmittance adjusting film may be increased again. This is because the copolymer 200 has good elastic recovery properties and the matrix portion P2 returns to its initial state before the external force is applied. For example, the light transmittance adjusting film 1000 may be transparent. The background underneath the light transmittance adjusting film 1000 was observed again.
이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니며, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 할 것이다.The foregoing detailed description is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments, and may be used in various other combinations, modifications, and environments without departing from the spirit of the invention. The appended claims should be construed to include other embodiments.

Claims (17)

  1. 코폴리머 및 상기 코폴리머에 그라프트된 폴리머 사슬을 포함하는 매트릭스 부분; 및 A matrix portion comprising a copolymer and a polymer chain grafted to the copolymer; And
    제1 모노머로부터 유도된 폴리머를 포함하고, 상기 매트릭스 부분들 내에 제공된 분산된 부분을 포함하되, 상기 폴리머 사슬은 상기 제1 모노머로부터 유도되고, A polymer derived from a first monomer and comprising a dispersed moiety provided in the matrix portions, wherein the polymer chain is derived from the first monomer,
    상기 외력이 가해지는 동안 제1 광 투과도를 나타내고; 및 Exhibit a first light transmittance while the external force is applied; And
    상기 외력이 제거되면, 상기 제1 광 투과도보다 더 큰 제2 광 투과도를 나타내는 광 투과도 조절 필름. The light transmittance adjusting film which, when the external force is removed, exhibits a second light transmittance greater than the first light transmittance.
  2. 제 1항에 있어서, The method of claim 1,
    상기 제2 광 투과도는 가시 영역의 빛에 대한 투과도가 35% 내지 95%인 광 투과도 조절 필름. The second light transmittance is a light transmittance control film having a transmittance of 35% to 95% of light in the visible region.
  3. 제 1항에 있어서, The method of claim 1,
    상기 외력이 가해지는 동안, 상기 분산된 부분 및 상기 매트릭스 부분 사이에 공극들이 제공되고, While the external force is applied, voids are provided between the dispersed portion and the matrix portion,
    상기 외력이 제거되면, 상기 공극들이 사라지는 광 투과도 조절 필름.When the external force is removed, the voids are light transmittance control film.
  4. 제 1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 분산된 부분은 상기 매트릭스 부분보다 더 큰 초기 탄성 계수를 갖는 광 투과도 조절 필름. Wherein said dispersed portion has an initial modulus of elasticity greater than said matrix portion.
  5. 제 4항에 있어서, The method of claim 4, wherein
    상기 분산된 부분은 상기 매트릭스 부분의 100 배 내지 100,000배의 초기 탄성 계수를 갖는 광 투과도 조절 필름.Wherein said dispersed portion has an initial modulus of elasticity of 100 to 100,000 times that of said matrix portion.
  6. 제 1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 매트릭스 부분의 굴절률과 상기 분산된 부분의 굴절율 차이가 5 % 미만인 광 투과도 조절 필름.And a refractive index difference between the refractive index of the matrix portion and the dispersed portion is less than 5%.
  7. 제 1항에 있어서, The method of claim 1,
    상기 외력은 인장력을 포함하는 광 투과도 조절 필름.The external force is a light transmittance control film comprising a tensile force.
  8. 제 1항에 있어서 The method of claim 1
    상기 제1 모노머는 하기 화학식 1로 표시되는 광 투과도 조절 필름. The first monomer is a light transmittance control film represented by the following formula (1).
    [화학식 1] [Formula 1]
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000022
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000022
    화학식 1에서, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이다.In Formula 1, A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom. A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8, and R2, R3, and R4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  9. 제 8항에 있어서 The method of claim 8
    상기 매트릭스 부분은 아래의 화학식 6A로 표시되는 광 투과도 조절 필름.The matrix portion is a light transmittance control film represented by the following formula (6A).
    [화학식 6A][Formula 6A]
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000023
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000023
    화학식 6A에서, R11은 하기 화학식 2B로 표시되고, R12, R13, 및 R14는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, R15는 아래의 화학식 6B로 표시될 수 있다. R16은 아래의 화학식 6C로 표시될 수 있다. In formula (6A), R11 is represented by the following formula (2B), and R12, R13, and R14 are each independently hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms. R15 may be represented by the following Chemical Formula 6B. R16 may be represented by the following Chemical Formula 6C.
    [화학식 2B][Formula 2B]
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000024
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000024
    화학식 2B에서, *는 화학식 6A의 Si에 결합된 부분을 의미하고, B는 단일 결합 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기, 또는 -S-CO-이고, R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이다. In Formula 2B, * means a moiety bonded to Si of Formula 6A, and B is a single bond or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group, or -S- CO-, and R21, R22, and R23 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
    [화학식 6B] [Formula 6B]
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000025
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000025
    화학식 6B에서, *는 화학식 6A의 Si에 결합된 부분을 의미하고, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, B는 단일 결합, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기, 또는 -S-CO-이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이고, R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, m6은 1 내지 100 중에서 선택된 정수이다.In formula (6B), * means a moiety bonded to Si in formula (6A), A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and B is a single bond, carbon number Linear or branched alkyl group of 1 to 5, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group or -S-CO-, R1 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8, R 2, R 3, and R 4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 21, R 22, and R 23 are each independently Hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m6 is an integer selected from 1 to 100.
    [화학식 6C][Formula 6C]
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000026
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000026
    화학식 6C에서, *는 화학식 6A의 Si에 결합된 부분을 의미하고, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, B는 단일 결합, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기 또는 -S-CO-이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이고, R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, m7은 1 내지 100 중에서 선택된 정수이다.In formula (6C), * means a moiety bonded to Si of formula (6A), A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and B is a single bond, carbon number Linear or branched alkyl group of 1 to 5, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group or -S-CO-, R1 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 8 carbon atoms, or 1 to C A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8, R 2, R 3, and R 4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 21, R 22, and R 23 are each independently hydrogen , A halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m7 is an integer selected from 1 to 100.
  10. 제1 모노머; 및 A first monomer; And
    상기 제2 모노머로부터 유도된 제1 폴리머 및 제3 모노머로부터 유도된 제2 폴리머를 포함하는 코폴리머를 포함하고, A copolymer comprising a first polymer derived from the second monomer and a second polymer derived from a third monomer,
    상기 코폴리머 내 제1 폴리머 및 상기 제1 모노머의 몰비는 1:5 내지 1:100 이며,The molar ratio of the first polymer and the first monomer in the copolymer is 1: 5 to 1: 100,
    상기 코폴리머 내 상기 제1 폴리머 및 상기 제2 폴리머의 몰비는 1:4 내지 1:200 인 광 투과도 조절 필름 조성물. And a molar ratio of the first polymer and the second polymer in the copolymer is 1: 4 to 1: 200.
  11. 제 10항에 있어서, The method of claim 10,
    상기 제1 모노머는 하기 화학식 1로 표시되는 광 투과도 조절 필름 조성물.The first monomer is a light transmittance control film composition represented by the formula (1).
    [화학식 1] [Formula 1]
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000027
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000027
    화학식 1에서, A1 및 A2는 각각 독립적으로 단일 결합, 산소(O), -NH-, 또는 황(S)이고, R1은 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 8의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 8의 할로겐 치환된 선형 또는 가지 달린 알킬기이고, R2, R3, 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이다.In Formula 1, A1 and A2 are each independently a single bond, oxygen (O), -NH-, or sulfur (S), and R1 is hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom. A halogen substituted linear or branched alkyl group of 8 to 8, and R2, R3, and R4 are each independently hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  12. 제 11항에 있어서, The method of claim 11,
    상기 제1 폴리머는 화학식 2A로 표시되는 중합 유닛을 포함하는 광 투과도 조절 필름 조성물. The first polymer is a light transmittance control film composition comprising a polymerization unit represented by the formula (2A).
    [화학식 2A] [Formula 2A]
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000028
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000028
    화학식 2A에서, R11은 아래의 화학식 2B로 표시되고, R12는 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, m1은 2 내지 50 사이의 정수이다.In formula (2A), R11 is represented by formula (2B) below, R12 is hydrogen, halogen, linear or branched alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, or substituted or unsubstituted phenyl group of 6 to 13 carbon atoms, m1 is 2 to 50 Is an integer between.
    [화학식 2B][Formula 2B]
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000029
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000029
    화학식 2B에서, B는 단일 결합 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 카보닐기, 에스테르기, 아세테이트기, 아미드기, 또는 -S-CO-이고, R21, R22, 및 R23은 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 또는 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기이다. In formula (2B), B is a single bond or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, carbonyl group, ester group, acetate group, amide group, or -S-CO-, and R21, R22, and R23 are each independently Hydrogen, halogen, or a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  13. 제 12항에 있어서, The method of claim 12,
    상기 제2 폴리머는 화학식 3으로 표시되는 중합 유닛을 포함하는 광 투과도 조절 필름 조성물. The second polymer is a light transmittance control film composition comprising a polymerization unit represented by the formula (3).
    [화학식 3] [Formula 3]
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000030
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000030
    화학식 3에서, R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 5의 선형 또는 가지달린 알킬기, 또는 탄소수 6 내지 13의 치환 또는 비치환된 페닐기이고, m2는 10 내지 10,000 사이의 정수이다.In formula (3), R13 and R14 are each independently hydrogen, halogen, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted phenyl group having 6 to 13 carbon atoms, and m2 is an integer between 10 and 10,000.
  14. 제 10항에 있어서, The method of claim 10,
    상기 제1 모노머는 t-butyl acrylate를 포함하고, The first monomer comprises t -butyl acrylate,
    상기 코폴리머는 아래 화학식 4B로 표시되는 실리콘 공중합체를 포함하고, 상기 실리콘 공중합체는 5,000 내지 500,000의 중량 평균 분자량을 갖고, The copolymer includes a silicone copolymer represented by Formula 4B below, wherein the silicone copolymer has a weight average molecular weight of 5,000 to 500,000,
    상기 실리콘 공중합체는 상기 t-butyl acrylate 모노머에 용해된 광 투과도 조절 필름 조성물. The silicone copolymer is a light transmittance control film composition dissolved in the t -butyl acrylate monomer.
    [화학식 4B][Formula 4B]
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000031
    Figure PCTKR2018004576-appb-I000031
    화학식 4B에서, m1과 m2의 비는 1:4 내지 1:200 이다.In Formula 4B, the ratio of m1 to m2 is 1: 4 to 1: 200.
  15. 제 14항에 있어서, The method of claim 14,
    상기 코폴리머 내에 포함된 비닐그룹의 총몰비에 대해 상기 t-butyl acrylate 모노머의 몰비는 1:5 내지 1:100인 광 투과도 조절 필름 조성물.The light transmittance control film composition of claim 1, wherein the molar ratio of the t -butyl acrylate monomer to the total molar ratio of the vinyl group contained in the copolymer is 1: 5 to 1: 100.
  16. 제 10항에 있어서, The method of claim 10,
    중합 개시제를 더 포함하는 광 투과도 조절 필름 조성물.A light transmittance adjusting film composition further comprising a polymerization initiator.
  17. 제 16항에 있어서, The method of claim 16,
    상기 제1 모노머 및 상기 코폴리머 중에서 적어도 하나는 비닐 그룹을 포함하고, At least one of the first monomer and the copolymer comprises a vinyl group,
    상기 중합개시제는 비닐그룹의 총합에 대해 0.05~5 mol% 인 광 투과도 조절 필름 조성물.The polymerization initiator is a light transmittance control film composition of 0.05 to 5 mol% based on the total of the vinyl group.
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