WO2018181550A1 - Plating process conveyance tape base material, and plating process conveyance tape - Google Patents

Plating process conveyance tape base material, and plating process conveyance tape Download PDF

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    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material

Definitions

  • the main layer By containing fibrous potassium titanate in such a form, the main layer retains its flexibility and prevents shrinkage due to heating of the main layer (especially shrinkage in the fiber orientation direction) while preventing it from becoming hard and brittle. be able to.
  • fibrous potassium titanate for example, potassium titanate fiber (trade name: “Tismo” series) manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd. is preferable.
  • a resin laminate was obtained.

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Abstract

A base material is provided which is suitable for forming a plating process conveyance tape which is used in a process in which a flexible printed circuit board is bonded, conveyed to a plating tank and plated, and which suppresses shrinkage due to heating during the plating process and suppresses the transfer of an adhesive contained in an adhesive layer onto the flexible printed circuit board. Specifically, this base material is used in the formation of a plating process conveyance tape used in a process in which a flexible printed circuit board is bonded, conveyed to a plating tank and plated, and is characterized in that (1) the base material becomes a plating process conveyance tape by applying an adhesive layer, and (2) the base material is a nonstretch film formed from a single layer or multiple layers, and at least one layer contains polybutylene terephthalate and an inorganic filler.

Description

メッキ工程搬送用テープ基材及びメッキ工程搬送用テープPlating process transport tape substrate and plating process transport tape
 本発明は、メッキ工程搬送用テープ基材及びメッキ工程搬送用テープに関する。 The present invention relates to a plating substrate for transporting a plating process and a tape for transporting a plating process.
 フレキシブルプリント配線基板を製造する際は、アルカリ現像、エッチング、レジスト剥離、メッキ、電子部品実装等の多くの工程があり、製造過程の基板を各工程処理に搬送するために一般に基板搬送用キャリアが用いられている。近年では、可撓性材料を用いた基板のフレキシブル化と製造工程の効率化とに対応するべく、基板搬送用キャリアとしても可撓性を有する樹脂製基材と粘着層とを組み合わせたものが使用されている。 When manufacturing a flexible printed circuit board, there are many processes such as alkali development, etching, resist stripping, plating, electronic component mounting, etc. In order to transport a substrate in the manufacturing process to each process, a substrate transport carrier is generally used. It is used. In recent years, a combination of a flexible resin base material and an adhesive layer has also been used as a carrier for transporting a substrate in order to cope with the flexibility of the substrate using a flexible material and the efficiency of the manufacturing process. in use.
 例えば、特許文献1には、プリント配線基板などの被搬送物の搬送に用いられる基板搬送用キャリアであって、可撓性を有し湾曲可能なフレキシブル支持体と、前記フレキシブル支持体上に固定され、前記フレキシブル支持体が変形した際に追従変形可能で、前記基板の下面と剥離可能に密着する粘着層と、前記粘着層上に剥離可能に密着され、位置決め貫通部を有する特定の位置決めマスクとを有する基板搬送用キャリアが開示されている(請求項1など)。そして、フレキシブル支持体としては、例えば、ポリイミド(PI)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリプロピレン(PP)等の樹脂フィルムが使用できることが記載されており([0015]段落など)、粘着層としては、例えば、ウレタン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、シリコーン樹脂等が使用できることが記載されており、([0018]段落)、この基板搬送用キャリアを用いて基板を半田クリーム印刷工程、電子部品搭載工程等の工程に順次搬送することが記載されている([0045]段落)。 For example, Patent Document 1 discloses a substrate carrier used for transporting an object to be transported such as a printed wiring board, which is flexible and bendable, and is fixed on the flexible support. And a specific positioning mask that is deformable to follow when the flexible support is deformed, and that adheres to the lower surface of the substrate so as to be peelable, and that is peelably stuck on the adhesive layer and has a positioning through portion. A carrier for transporting a substrate is disclosed (claim 1 and the like). As the flexible support, for example, it is described that a resin film such as polyimide (PI), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP) can be used. It is described that, for example, urethane resin, polyvinyl alcohol resin, silicone resin and the like can be used as the adhesive layer (paragraph [0015], etc.) (paragraph [0018]) It is described that the substrate is sequentially transferred to a solder cream printing process, an electronic component mounting process, and the like (paragraph [0045]).
特開2014-72390号公報JP 2014-72390 A
 しかしながら、特許文献1に開示されるような従来の基板搬送用キャリアを用いてフレキシブルプリント配線基板をメッキ槽に搬送し、基板上の端子部(電極部)にメッキを施す工程においては幾つかの問題がある。例えば、基板搬送用キャリアの支持体として二軸延伸PETフィルム、二軸延伸PENフィルム等を用いる場合には、メッキ工程での加熱(メッキ処理前後の加熱も含み約150~200℃に達する。)によりこれらのフィルムが収縮し、フレキシブルプリント配線基板に用いられるPIフィルムとの収縮差によりカールが生じるという問題がある。また、二軸延伸PENフィルムの場合にはフィルムコストが高く使用し難いという問題もある。更に、収縮差を小さくするために基板搬送用キャリアの支持体としてPIフィルムを用いる場合には、粘着層に含まれる粘着剤がフレキシブル配線基板側に転写(糊移り)するという問題がある。 However, in the process of transporting the flexible printed wiring board to the plating tank using the conventional substrate transporting carrier as disclosed in Patent Document 1, and plating the terminal portion (electrode portion) on the substrate, There's a problem. For example, when a biaxially stretched PET film, a biaxially stretched PEN film, or the like is used as the support for the carrier for transporting the substrate, heating in the plating process (the temperature reaches about 150 to 200 ° C. including heating before and after the plating process). As a result, these films shrink, and there is a problem that curling occurs due to a shrinkage difference from the PI film used for the flexible printed wiring board. Moreover, in the case of a biaxially stretched PEN film, there is also a problem that the film cost is high and difficult to use. Furthermore, when a PI film is used as a support for a substrate carrying carrier in order to reduce the shrinkage difference, there is a problem that the adhesive contained in the adhesive layer is transferred (glue transferred) to the flexible wiring board side.
 よって、本発明は、フレキシブルプリント配線基板を貼着してメッキ槽に搬送し、当該配線基板にメッキを施す工程で用いるメッキ工程搬送用テープであって、メッキ工程での加熱による収縮が抑制されており、且つ粘着層に含まれる粘着剤のフレキシブルプリント配線基板側への転写が抑制されているメッキ工程搬送用テープの形成に適した基材を提供することを主な目的とする。また、当該基材に粘着層を付与したメッキ工程搬送用テープを提供することも目的とする。 Therefore, the present invention is a plating process transport tape used in the process of attaching a flexible printed wiring board and transporting it to a plating tank and plating the wiring board, and shrinkage due to heating in the plating process is suppressed. The main object of the present invention is to provide a base material suitable for forming a plating process transport tape in which transfer of the adhesive contained in the adhesive layer to the flexible printed wiring board side is suppressed. Another object of the present invention is to provide a plating process transport tape in which an adhesive layer is provided on the substrate.
 本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の層構成を有する樹脂積層体によれば上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that the above object can be achieved by a resin laminate having a specific layer structure, and have completed the present invention.
 即ち、本発明は、下記のメッキ工程搬送用テープ基材及びメッキ工程搬送用テープに関する。
1.フレキシブルプリント配線基板を貼着してメッキ槽に搬送し、当該配線基板にメッキを施す工程で用いるメッキ工程搬送用テープの形成に用いる基材であって、
(1)前記基材は、粘着層を付与することにより前記メッキ工程搬送用テープとなり、
(2)前記基材は、単層又は複層からなる無延伸フィルムであり、少なくとも一層はポリブチレンテレフタレート及び無機充填材を含有する、
ことを特徴とするメッキ工程搬送用テープ基材。
2.前記ポリブチレンテレフタレートを含有する層は、更にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート及びポリブチレンナフタレートからなる群から選択される少なくとも一種を含有する、上記項1に記載のメッキ工程搬送用テープ基材。
3.前記無機充填材は、繊維状チタン酸カリウムを含有する、上記項1又は2に記載のメッキ工程搬送用テープ基材。
4.前記繊維状チタン酸カリウムは、平均太さが0.1~0.8μm、平均長さが5~30μm、且つ平均アスペクト比が10~100である、上記項3に記載のメッキ工程搬送用テープ基材。
5.前記無機充填材は、テトラポッド形状の酸化亜鉛を含有する、上記項1~4のいずれかに記載のメッキ工程搬送用テープ基材。
6.前記無機充填材は、ガラス繊維を含有する、上記項1~5のいずれかに記載のメッキ工程搬送用テープ基材。
7.外層A、中間層B及び外層Cを順に有する層構成からなり、
(1)前記中間層Bは、前記ポリブチレンテレフタレート及び前記無機充填材を含有し、
(2)前記外層A及び前記外層Cは、無機充填材を含有しない、
上記項1~6のいずれかに記載のメッキ工程搬送用テープ基材。
8.前記外層A及び前記外層Cは、前記ポリブチレンテレフタレートを含有する、上記項7に記載のメッキ工程搬送用テープ基材。
9.前記外層A、前記中間層B及び前記外層Cは、いずれも更にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート及びポリブチレンナフタレートからなる群から選択される少なくとも一種を含有する、上記項8に記載のメッキ工程搬送用テープ基材。
10.引張弾性率が1500MPa超過2000MPa以下である、上記項1~9のいずれかに記載のメッキ工程搬送用テープ基材。
11.上記項1~10のいずれかに記載のメッキ工程搬送用テープ基材の表面に粘着層を有するメッキ工程搬送用テープ。
That is, the present invention relates to the following plating process transport tape substrate and plating process transport tape.
1. A flexible printed wiring board is attached to a plating tank and transported to a plating tank, and used for forming a plating process transport tape used in a process of plating the wiring board,
(1) The substrate becomes the plating process transport tape by providing an adhesive layer;
(2) The base material is an unstretched film consisting of a single layer or multiple layers, and at least one layer contains polybutylene terephthalate and an inorganic filler.
The tape base material for plating process conveyance characterized by the above-mentioned.
2. The tape substrate for transporting a plating process according to Item 1, wherein the layer containing polybutylene terephthalate further contains at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, and polybutylene naphthalate. .
3. Item 3. The tape substrate for transporting a plating process according to Item 1 or 2, wherein the inorganic filler contains fibrous potassium titanate.
4). 4. The plating process transport tape according to item 3, wherein the fibrous potassium titanate has an average thickness of 0.1 to 0.8 μm, an average length of 5 to 30 μm, and an average aspect ratio of 10 to 100. Base material.
5). Item 5. The tape substrate for transporting a plating process according to any one of Items 1 to 4, wherein the inorganic filler contains tetrapod-shaped zinc oxide.
6). Item 6. The plating base material for transporting a plating process according to any one of Items 1 to 5, wherein the inorganic filler contains glass fiber.
7). It consists of a layer structure having an outer layer A, an intermediate layer B, and an outer layer C in order,
(1) The intermediate layer B contains the polybutylene terephthalate and the inorganic filler,
(2) The outer layer A and the outer layer C do not contain an inorganic filler,
7. The tape substrate for transporting a plating process according to any one of items 1 to 6.
8). The said outer layer A and the said outer layer C are the tape base materials for a plating process conveyance of said claim | item 7 containing the said polybutylene terephthalate.
9. The outer layer A, the intermediate layer B, and the outer layer C each further contain at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, and polybutylene naphthalate. Tape substrate for process conveyance.
10. Item 10. The tape substrate for conveying a plating process according to any one of Items 1 to 9, wherein the tensile elastic modulus is more than 1500 MPa and not more than 2000 MPa.
11. 11. A plating process transport tape comprising an adhesive layer on the surface of the plating process transport tape substrate according to any one of items 1 to 10 above.
 本発明のメッキ工程搬送用テープ基材は、単層又は複層からなる無延伸フィルムであり、少なくとも一層はポリブチレンテレフタレート及び無機充填材を含有することにより、当該基材に粘着層を付与してメッキ工程搬送用テープを作製し、フレキシブルプリント配線基板を貼着してメッキ槽に搬送し、当該配線基板にメッキを施す工程で用いる場合に、メッキ工程の加熱(150~200℃程度に達する)による収縮が抑制されており、且つ粘着層に含まれる粘着剤のフレキシブルプリント配線基板側への転写が抑制されている。 The tape substrate for transporting a plating process of the present invention is an unstretched film composed of a single layer or multiple layers, and at least one layer contains polybutylene terephthalate and an inorganic filler, thereby giving an adhesive layer to the substrate. Then, a plating process transport tape is prepared, a flexible printed circuit board is attached, transported to a plating tank, and used in a process of plating the circuit board. ) And the transfer of the adhesive contained in the adhesive layer to the flexible printed wiring board side is suppressed.
本発明のメッキ工程搬送用テープ基材(a)の一例を示す断面模式図である。図1中、1は中間層B、2は外層A、及び3は外層Cを示す。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of the tape base material (a) for plating process conveyance of this invention. In FIG. 1, 1 indicates an intermediate layer B, 2 indicates an outer layer A, and 3 indicates an outer layer C. 本発明のメッキ工程搬送用テープ基材に粘着層を付与することによりメッキ工程搬送用テープを形成する手順を示す図である。4は粘着層を示す。It is a figure which shows the procedure which forms the tape for plating process conveyance by providing the adhesion layer to the tape base material for plating process conveyance of this invention. Reference numeral 4 denotes an adhesive layer. 本発明のメッキ工程搬送用テープ(b)の層構成一例を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of a layer structure of the plating process conveyance tape (b) of this invention. 本発明のメッキ工程搬送用テープにフレキシブルプリント配線基板を貼付し、搬送ロールを回転させて搬送する態様を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the aspect which affixes a flexible printed wiring board on the plating process conveyance tape of this invention, rotates a conveyance roll, and conveys.
 1.メッキ工程搬送用テープ基材
 本発明のメッキ工程搬送用テープ基材は、フレキシブルプリント配線基板を貼着してメッキ槽に搬送し、当該配線基板にメッキを施す工程で用いるメッキ工程搬送用テープの形成に用いる基材であって、
(1)前記基材は、粘着層を付与することにより前記メッキ工程搬送用テープとなり、
(2)前記基材は、単層又は複層からなる無延伸フィルムであり、少なくとも一層はポリブチレンテレフタレート(PBT)及び無機充填材を含有する、
ことを特徴とする。
1. Plating process transport tape base material The plating process transport tape base material of the present invention is a plating process transport tape used in the process of attaching a flexible printed circuit board and transporting it to a plating tank and plating the circuit board. A base material used for forming,
(1) The substrate becomes the plating process transport tape by providing an adhesive layer;
(2) The base material is an unstretched film composed of a single layer or multiple layers, and at least one layer contains polybutylene terephthalate (PBT) and an inorganic filler.
It is characterized by that.
 上記特徴を有する本発明のメッキ工程搬送用テープ基材は、単層又は複層からなる無延伸フィルムであり、少なくとも一層はPBT及び無機充填材を含有することにより、当該基材に粘着層を付与してメッキ工程搬送用テープを作製し、フレキシブルプリント配線基板を貼着してメッキ槽に搬送し、当該配線基板にメッキを施す工程で用いる場合に、メッキ工程の加熱(150~200℃程度に達する)による収縮が抑制されており、且つ粘着層に含まれる粘着剤のフレキシブルプリント配線基板側への転写が抑制されている。 The tape substrate for transporting a plating process of the present invention having the above characteristics is an unstretched film consisting of a single layer or multiple layers, and at least one layer contains PBT and an inorganic filler, whereby an adhesive layer is formed on the substrate. Applying to produce a plating process transport tape, sticking a flexible printed wiring board, transporting it to a plating tank, and using it in the process of plating the wiring board, heating the plating process (about 150-200 ° C) And the transfer of the adhesive contained in the adhesive layer to the flexible printed wiring board side is suppressed.
 本発明のメッキ工程搬送用テープ基材は、PBT及び無機充填材を含有する層(以下、当該層を「主層」ともいう)のみから構成されてもよく、主層と他の層とを含む複層から構成されていてもよい。なお、単層又は複層のいずれであっても、全体として無延伸フィルムであることが必要である。以下、主層のみから構成される態様、及び主層を含む複層から構成される態様に分けて説明する。 The tape substrate for transporting a plating process of the present invention may be composed of only a layer containing PBT and an inorganic filler (hereinafter, this layer is also referred to as “main layer”). You may be comprised from the multilayer containing. In addition, it is required that it is a non-stretched film as a whole regardless of whether it is a single layer or a multilayer. Hereinafter, the description will be divided into an embodiment composed of only the main layer and an embodiment composed of a multilayer including the main layer.
 (主層のみから構成される態様)
 主層は、PBT及び無機充填材を含有する。PBTとしては限定されず、市販品が幅広く使用できる。PBTの固有粘度(IV:Intrinsic Viscosity)は、成膜時に良好な流動性を得る観点から、1~1.6であることが好ましく、1.1~1.3であることがより好ましい。
(Mode consisting of main layer only)
The main layer contains PBT and an inorganic filler. It is not limited as PBT, A commercial item can be used widely. Intrinsic Viscosity (IV) of PBT is preferably 1 to 1.6 and more preferably 1.1 to 1.3 from the viewpoint of obtaining good fluidity during film formation.
 固有粘度がこのような範囲にある場合、PBTに適度な流動性を付与できるので、PBTを含む無延伸フィルムの成膜を容易に行うことができる。また、成膜されたPBTを含む無延伸フィルムにフィッシュアイが発生しにくくなる。本明細書におけるPBTの固有粘度(IV)は、JIS K7390:2003に従って測定した値である。 When the intrinsic viscosity is in such a range, moderate fluidity can be imparted to the PBT, so that an unstretched film containing PBT can be easily formed. Moreover, it becomes difficult to generate fish eyes in the non-stretched film containing the formed PBT. The intrinsic viscosity (IV) of PBT in this specification is a value measured according to JIS K7390: 2003.
 主層の樹脂成分としては全てPBTから構成すればよいが、他の樹脂成分(副成分)を併用する場合には、主層の樹脂成分100質量%のうち、PBTの含有量が主成分(50質量%以上)となることが好ましく、特に70質量%以上が好ましく、85質量%以上がより好ましい。 As the resin component of the main layer, all may be composed of PBT. However, when other resin components (subcomponents) are used in combination, the content of PBT is the main component (100% by mass of the resin component of the main layer). 50% by mass or more), preferably 70% by mass or more, and more preferably 85% by mass or more.
 副成分としては、PET、PEN、PC(ポリカーボネート)、PBN(ポリブチレンナフタレート)等の少なくとも一種を用いることができる。このような副成分を併用することにより、メッキ工程搬送用テープ基材のコシを向上させ、それにより搬送時のメッキ工程搬送用テープのたわみを抑制することができる。この点、当該基材のコシとしては、フレキシブルプリント配線基板の基材として用いられているPIフィルムと同程度であることが望ましく、引張弾性率が1500MPa超過2000MPa以下の範囲が好ましく、1700~2000MPaの範囲がより好ましく、1850~1950MPaの範囲が更に好ましい。なお、本明細書における引張弾性率は、JIS K 7161:2014準拠の方法により測定した値である。また、上記副成分の併用により、メッキ工程搬送用テープ基材を熱処理(例えば200℃程度)で加熱した場合における基材表面の波打ちや変形の発生も抑制することができる。 As the subcomponent, at least one of PET, PEN, PC (polycarbonate), PBN (polybutylene naphthalate) and the like can be used. By using such subcomponents together, the stiffness of the plating base material for transporting the plating process can be improved, thereby suppressing the deflection of the transporting tape for the plating process during transportation. In this respect, the stiffness of the base material is preferably about the same as the PI film used as the base material of the flexible printed wiring board, and the tensile elastic modulus is preferably in the range of more than 1500 MPa and not more than 2000 MPa, and 1700 to 2000 MPa. The range of 1850 to 1950 MPa is more preferable. In addition, the tensile elasticity modulus in this specification is the value measured by the method based on JISK7161: 2014. In addition, the combined use of the subcomponents can also suppress the occurrence of undulation and deformation of the substrate surface when the plating process transport tape substrate is heated by heat treatment (for example, about 200 ° C.).
 無延伸PBTフィルムは、二軸延伸PETや二軸延伸PENと比べて加熱による収縮が低く抑えられており、180℃程度の加熱による収縮率は0.5%程度である。なお、同条件におけるPETフィルムの収縮率は1.2%程度であり、PENフィルムの収縮率は0.6%程度である。本発明では、主層はPBTに加えて後述の無機充填材を含有することにより、無機充填材を含有しない場合よりも更に加熱による収縮を低く抑えることができ、主層の180℃程度の加熱による収縮率をppmレベル(実質的に0%)程度に抑えることができる。よって、フレキシブルプリント配線基板に用いられるPIフィルムの収縮率〔ppmレベル(実質的に0%)〕と同程度になることによりメッキ工程でのカールの発生を抑制することができる。 The unstretched PBT film has low shrinkage due to heating compared to biaxially stretched PET and biaxially stretched PEN, and the shrinkage ratio due to heating at about 180 ° C. is about 0.5%. Under the same conditions, the shrinkage rate of the PET film is about 1.2%, and the shrinkage rate of the PEN film is about 0.6%. In the present invention, the main layer contains an inorganic filler described later in addition to PBT, so that the shrinkage due to heating can be further suppressed as compared with the case of not containing the inorganic filler, and the main layer is heated to about 180 ° C. The shrinkage rate due to can be suppressed to the ppm level (substantially 0%). Therefore, the occurrence of curling in the plating process can be suppressed by having a shrinkage rate [ppm level (substantially 0%)] of the PI film used for the flexible printed wiring board.
 無機充填材としては限定されず、市販品が幅広く使用できる。なお、本発明で用いる無機充填材は、フレキシブルプリント配線基板などの加工工程での搬送に用いられるものであるため、無機充填材は加熱処理時にコンタミを発生させない材質であることが好ましく、表面処理がされていないもの(無処理のもの)が好ましい。他方、表面処理品を用いる場合にはシラン系カップリング剤のような有機系シランで表面処理されているものは加熱処理時に気化した珪素によるコンタミが懸念されるため、有機系シランカップリング剤は避けて、チタン系カップリング剤のような無機系カップリング剤により表面処理されたものを用いることが好ましい。 The inorganic filler is not limited, and a wide range of commercially available products can be used. In addition, since the inorganic filler used in the present invention is used for conveyance in a processing step such as a flexible printed circuit board, the inorganic filler is preferably a material that does not generate contamination during the heat treatment, Those that are not treated (untreated) are preferred. On the other hand, in the case of using a surface-treated product, there is a concern about contamination caused by silicon vaporized during heat treatment for those that are surface-treated with an organic silane such as a silane coupling agent. Avoiding this, it is preferable to use one that has been surface-treated with an inorganic coupling agent such as a titanium coupling agent.
 無機充填材は樹脂成分と比較して熱収縮率が1桁以上小さく、樹脂成分に混練することによる樹脂成分と無機充填材の界面接着力から、樹脂成分の収縮を低減させる効果(複合材料効果)が得られる。主層に含有することで加熱による収縮の抑制をより高めるという観点で、複合材料効果をより発揮させるためには、アスペクト比の大きな繊維状の無機充填材を用いることが好ましい。 Inorganic fillers have a thermal contraction rate that is an order of magnitude smaller than that of resin components, and the effect of reducing the shrinkage of resin components due to the interfacial adhesive force between resin components and inorganic fillers by kneading into resin components (composite material effect) ) Is obtained. In order to further enhance the effect of the composite material, it is preferable to use a fibrous inorganic filler having a large aspect ratio from the viewpoint of further increasing the suppression of shrinkage due to heating by being contained in the main layer.
 繊維状の無機充填材としては限定されないが、加熱による収縮の抑制をより高めるという観点では、比較的繊維径が小さい繊維状の無機充填材であることが好ましい。具体的には、繊維状チタン酸カリウムが好ましいものとして挙げられる。 The fibrous inorganic filler is not limited, but is preferably a fibrous inorganic filler having a relatively small fiber diameter from the viewpoint of further suppressing the shrinkage caused by heating. Specifically, fibrous potassium titanate is preferable.
 繊維状チタン酸カリウムとしては、平均太さが0.1~0.8μm、平均長さが5~30μm、且つ平均アスペクト比が10~100であるものが好ましく、平均太さが0.3~0.6μm、平均長さが10~20μm、且つ平均アスペクト比が10~70であるものがより好ましい。 The fibrous potassium titanate preferably has an average thickness of 0.1 to 0.8 μm, an average length of 5 to 30 μm, and an average aspect ratio of 10 to 100, and an average thickness of 0.3 to More preferred is 0.6 μm, an average length of 10 to 20 μm, and an average aspect ratio of 10 to 70.
 このような形態の繊維状チタン酸カリウムを含有することにより、主層の柔軟性を保持し、硬く脆くなることを防ぎながら主層の加熱による収縮(特に繊維の配向方向の収縮)を低く抑えることができる。このような繊維状チタン酸カリウムの市販品としては、例えば、大塚化学株式会社製チタン酸カリウム繊維(商品名:「ティスモ」シリーズ)が好ましいものとして挙げられる。 By containing fibrous potassium titanate in such a form, the main layer retains its flexibility and prevents shrinkage due to heating of the main layer (especially shrinkage in the fiber orientation direction) while preventing it from becoming hard and brittle. be able to. As a commercial product of such fibrous potassium titanate, for example, potassium titanate fiber (trade name: “Tismo” series) manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd. is preferable.
 また、一般に繊維状の無機充填材を樹脂に混練すると、MD方向(樹脂の流れ方向)に繊維が配向するため、MD方向の収縮抑制効果は非常に大きくなるが、金型内での樹脂の流れ方から、ある程度はTD方向(幅方向)に配向する部分も存在するものの、TD方向及び厚み方向の収縮抑制効果はMD方向に比較すると小さくなる。この観点から、無機充填材の含有による主層の特にTD方向及び厚み方向の加熱による収縮の抑制をより高めるという点では3次元方向に繊維が成長したテトラポッド形状の酸化亜鉛を用いることが好ましい。 In general, when a fibrous inorganic filler is kneaded into a resin, the fibers are oriented in the MD direction (resin flow direction), so the shrinkage suppressing effect in the MD direction becomes very large. Although there is a portion oriented in the TD direction (width direction) to some extent from the flow direction, the shrinkage suppressing effect in the TD direction and the thickness direction is smaller than that in the MD direction. From this point of view, it is preferable to use tetrapod-shaped zinc oxide in which fibers are grown in a three-dimensional direction in order to further suppress the shrinkage caused by heating in the TD direction and the thickness direction of the main layer due to the inclusion of the inorganic filler. .
 これは換言すると、テトラポッド形状のように中心から外側に放射状に針状の単結晶が成長した酸化亜鉛であり、テトラポッド形状をしていることにより、同量の繊維状チタン酸カリウムを用いる場合と比べて主層全方向の加熱による収縮の抑制がより高まる。特に、繊維状チタン酸カリウムとテトラポッド形状の酸化亜鉛を併用した場合、テトラポッド形状の酸化亜鉛により、繊維状チタン酸カリウムの配向が乱され、MD方向のみならずTD方向及び厚み方向にも配向する繊維状チタン酸カリウムの存在確率が高くなるため、より効果的に全方向の収縮抑制効果が高まる。 In other words, it is zinc oxide in which needle-like single crystals are grown radially from the center to the outside like a tetrapod shape, and the same amount of fibrous potassium titanate is used due to the tetrapod shape. In comparison with the case, the suppression of shrinkage due to heating in all directions of the main layer is further increased. In particular, when fibrous potassium titanate and tetrapod-shaped zinc oxide are used in combination, the orientation of fibrous potassium titanate is disturbed by the tetrapod-shaped zinc oxide, not only in the MD direction but also in the TD direction and the thickness direction. Since the existence probability of the oriented fibrous potassium titanate is increased, the shrinkage suppressing effect in all directions is more effectively enhanced.
 テトラポッド形状の酸化亜鉛は、放射状に伸びる単結晶の平均太さが0.5~5μm、平均長さが5~30μmであるものが好ましく、平均太さが1~3μm、平均長さが8~20μmであるものがより好ましい。このようなテトラポッド形状の酸化亜鉛の市販品としては、例えば、株式会社アムテック製酸化亜鉛単結晶体(商品名:「パナテトラ」)が好ましいものとして挙げられる。 The tetrapod-shaped zinc oxide preferably has a radially extending single crystal having an average thickness of 0.5 to 5 μm and an average length of 5 to 30 μm, an average thickness of 1 to 3 μm, and an average length of 8 More preferably, it is ˜20 μm. As a commercially available product of such tetrapod-shaped zinc oxide, for example, a zinc oxide single crystal (trade name: “Panatetra”) manufactured by Amtec Co., Ltd. is preferable.
 また、無機充填材としてガラス繊維を用いる場合には、前述の副成分と同様に、メッキ工程搬送用テープ基材のコシを向上させ、それにより搬送時のメッキ工程搬送用テープのたわみを抑制することができる。また、メッキ工程搬送用テープ基材を熱処理(例えば200℃程度)した場合における基材表面の波打ちや変形の発生も抑制することができる。 In addition, when glass fiber is used as the inorganic filler, the stiffness of the plating base material for transporting the plating process is improved, thereby suppressing the deflection of the transporting tape for the plating process at the time of transport, in the same manner as the subcomponents described above. be able to. In addition, the occurrence of undulation and deformation of the substrate surface when the plating process transport tape substrate is heat-treated (for example, about 200 ° C.) can also be suppressed.
 無機充填材の平均太さや平均長さは、一般に電子顕微鏡での観察により特定される。 The average thickness and average length of the inorganic filler are generally specified by observation with an electron microscope.
 主層に含まれる無機充填材の含有量は限定的ではないが、主層100質量%中に3~45質量%が好ましく、5~30質量%がより好ましい。かかる範囲内に設定することにより、無機充填材の効果が得られるとともに主層の柔軟性を確保し、折れシワの発生を抑制するとともに硬く脆くなり難い。 The content of the inorganic filler contained in the main layer is not limited, but is preferably 3 to 45% by mass, more preferably 5 to 30% by mass in 100% by mass of the main layer. By setting within such a range, the effect of the inorganic filler can be obtained, the flexibility of the main layer can be ensured, the occurrence of folding wrinkles can be suppressed, and hard and brittle can be prevented.
 主層の厚さは限定的ではないが、10~100μmが好ましく、20~70μmがより好ましい。 The thickness of the main layer is not limited, but is preferably 10 to 100 μm, more preferably 20 to 70 μm.
 主層の製造方法は限定されないが、例えば、PBTを主成分とする樹脂成分、及び無機充填材を含む樹脂組成物を用意し、Tダイ法又はインフレーション法により所望の厚さに押出し成形することにより簡便に製造することができる。 The method for producing the main layer is not limited. For example, a resin composition containing a PBT-based resin component and an inorganic filler is prepared, and extruded to a desired thickness by the T-die method or the inflation method. It can manufacture more simply.
 主層には本発明の効果を損なわない範囲内であれば、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、スリップ剤等の添加剤を含んでいてもよい。 The main layer may contain additives such as an antistatic agent, an antiblocking agent, and a slipping agent as long as the effects of the present invention are not impaired.
 (主層を含む複層から構成される態様)
 本発明のメッキ工程搬送用テープ基材が主層を含む複層から構成される場合には、主層に含まれる無機充填材が搬送中に主層から脱落してフレキシブルプリント配線基板に付着することを防止したり、同時押出し成膜により複層を形成する際に無機充填材による金型へのダメージを低減するだけでなく、メッキ工程搬送用テープ基材の層構成バランスの観点から、主層を中間層とし、中間層を挟むように、無機充填材を含まない外層を対称形に配置する層構成が好ましいものとして挙げられる。
(Aspect composed of multiple layers including the main layer)
When the tape substrate for transporting the plating process of the present invention is composed of multiple layers including the main layer, the inorganic filler contained in the main layer falls off the main layer during transport and adheres to the flexible printed circuit board. In addition to reducing damage to the mold by the inorganic filler when forming multiple layers by coextrusion film formation, it is mainly from the viewpoint of the balance of the layer structure of the tape base material for plating process conveyance. A layer structure in which the outer layer not containing an inorganic filler is arranged symmetrically so that the layer is an intermediate layer and the intermediate layer is sandwiched between them is preferable.
 図1は本発明のメッキ工程搬送用テープ基材の一例を示す断面模式図であり、図1の基材aのうち、1は中間層B、2は外層A、及び3は外層Cを示す。かかる層構成であれば、主層である中間層Bから無機充填材が脱落することを抑制できることに加えて、層構成バランスの観点から、成膜時又は成膜後におけるカールの発生を抑制することができる。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a tape base material for transporting a plating process of the present invention. Of the base material a in FIG. 1, 1 is an intermediate layer B, 2 is an outer layer A, and 3 is an outer layer C. . With such a layer configuration, in addition to being able to suppress the inorganic filler from falling off from the intermediate layer B which is the main layer, curling generation during or after film formation is suppressed from the viewpoint of layer structure balance. be able to.
 主層である中間層Bについては前述の通りである。 The intermediate layer B which is the main layer is as described above.
 外層A及び外層Cについては、如何なる無機充填材も含有しないことが好ましい。外層A及び外層Cの樹脂成分は限定的ではないが、中間層B、外層A及び外層Cの3層を押出し成形により同時に成膜し易くする点では外層A及び外層Cの樹脂成分は中間層Bと同様にPBTを主成分とすることが好ましい。 The outer layer A and the outer layer C preferably do not contain any inorganic filler. The resin component of the outer layer A and the outer layer C is not limited, but the resin component of the outer layer A and the outer layer C is the intermediate layer in that the three layers of the intermediate layer B, the outer layer A, and the outer layer C are easily formed by extrusion. Like B, PBT is preferably the main component.
 つまり、外層A及び外層Cの樹脂成分としては全てPBTから構成すればよいが、他の樹脂成分(副成分)を併用する場合には、外層A及び外層Cの樹脂成分100質量%のうち、PBTの含有量が主成分(50質量%以上)となることが好ましく、特に70質量%以上が好ましく、85質量%以上がより好ましい。副成分としては、PET、PEN、PC、PBN等の少なくとも一種を用いることができる。本発明では、中間層BにPBT及び前記副成分を含有する場合には、外層A及び外層Cのいずれにも、中間層Bと同様にPBT及び前記副成分を含有することが好ましく、特に層構成バランスの観点からは、無機充填材の有無は別として、中間層B、外層A及び外層Cの樹脂組成は同じであることが好ましい。 That is, all the resin components of the outer layer A and the outer layer C may be composed of PBT, but when other resin components (subcomponents) are used in combination, out of 100% by mass of the resin component of the outer layer A and the outer layer C, The PBT content is preferably the main component (50% by mass or more), particularly preferably 70% by mass or more, and more preferably 85% by mass or more. As the subcomponent, at least one of PET, PEN, PC, PBN and the like can be used. In the present invention, when the intermediate layer B contains PBT and the subcomponent, it is preferable that both the outer layer A and the outer layer C contain PBT and the subcomponent in the same manner as the intermediate layer B. From the viewpoint of the structural balance, it is preferable that the resin compositions of the intermediate layer B, the outer layer A, and the outer layer C are the same apart from the presence or absence of the inorganic filler.
 なお、外層A及び外層Cの樹脂成分としてPIは含有しないことが好ましい。PIを含有し、且つ含有量が多い場合には、フレキシブルプリント配線基板に用いられるPIフィルムと材質が同じか又は近くなるため、粘着層を付与してメッキ工程搬送用テープとして用いた場合に、粘着層に含まれる粘着剤がフレキシブルプリント配線基板側に転写(糊移り)するおそれがある。 In addition, it is preferable not to contain PI as a resin component of the outer layer A and the outer layer C. When PI is contained and the content is large, the material is the same as or close to the PI film used for the flexible printed circuit board, so when an adhesive layer is applied and used as a plating process transport tape, There is a possibility that the adhesive contained in the adhesive layer may transfer (glue transfer) to the flexible printed wiring board side.
 本発明のメッキ工程搬送用テープ基材を当該3層で構成する場合には、外層Aの厚さは限定的ではないが、3~30μmが好ましく、5~15μmがより好ましい。中間層Bの厚さは限定的ではないが、5~60μmが好ましく、10~50μmがより好ましい。また、外層Cの厚さは限定的ではないが、3~30μmが好ましく、5~15μmがより好ましい。なお、層構成バランスの点では外層Aと外層Cの厚さは同じが好ましい。 When the tape substrate for transporting a plating process of the present invention is composed of the three layers, the thickness of the outer layer A is not limited, but is preferably 3 to 30 μm, more preferably 5 to 15 μm. The thickness of the intermediate layer B is not limited, but is preferably 5 to 60 μm, more preferably 10 to 50 μm. The thickness of the outer layer C is not limited, but is preferably 3 to 30 μm, more preferably 5 to 15 μm. In addition, it is preferable that the thicknesses of the outer layer A and the outer layer C are the same in terms of the layer configuration balance.
 更に、3層構成の場合の層厚さの比は、外層A:中間層B:外層C=1:1:1~1:15:1の範囲が好ましく、1:2:1~1:8:1の範囲がより好ましい。また、3層構成の場合の全体の厚さは10~100μmが好ましく、20~70μmがより好ましい。 Further, the ratio of the layer thicknesses in the case of the three-layer structure is preferably in the range of outer layer A: intermediate layer B: outer layer C = 1: 1: 1 to 1: 15: 1, and 1: 2: 1 to 1: 8. A range of: 1 is more preferred. In the case of a three-layer structure, the total thickness is preferably 10 to 100 μm, more preferably 20 to 70 μm.
 上記樹脂積層体の製造方法は限定されないが、例えば、外層A、中間層B及び外層Cを形成するための各樹脂組成物を用意し、Tダイ法又はインフレーション法により3層を押出し成形することにより簡便に製造することができる。その他、外層A、中間層B及び外層Cの各フィルムを別々に用意した後、各フィルムを公知の接着剤を用いたドライラミネートにより貼り合わせることにより形成することもできる。いずれの製造方法によっても各層及び樹脂積層体はいずれも無延伸フィルムである。 Although the manufacturing method of the said resin laminated body is not limited, For example, each resin composition for forming the outer layer A, the intermediate | middle layer B, and the outer layer C is prepared, and three layers are extrusion-molded by the T-die method or the inflation method. It can manufacture more simply. In addition, after preparing each film of the outer layer A, the intermediate | middle layer B, and the outer layer C separately, it can also form by bonding each film by the dry lamination using a well-known adhesive agent. Both layers and the resin laminate are unstretched films by any manufacturing method.
 2.メッキ工程搬送用テープ
 前述の本発明のメッキ工程搬送用テープ基材は、例えば図2、図3に示すように粘着層4を付与することによりメッキ工程搬送用テープbとして用いることができる。具体的には、メッキ工程搬送用テープ基材の表面に粘着層を有することによりメッキ工程搬送用テープとなる。通常はメッキ工程搬送用テープ基材の片面に粘着層を形成すればよい。
2. Plating Process Transport Tape The plating process transport tape substrate of the present invention described above can be used as a plating process transport tape b by providing an adhesive layer 4 as shown in FIGS. Specifically, a plating process transport tape is obtained by having an adhesive layer on the surface of the plating process transport tape substrate. Usually, an adhesive layer may be formed on one side of the tape substrate for transporting the plating process.
 粘着層を付与する方法は限定的ではなく、メッキ工程搬送用テープ基材の表面に公知の粘着剤を塗布することにより形成することができる。 The method for applying the adhesive layer is not limited, and the adhesive layer can be formed by applying a known adhesive to the surface of the plating process transport tape substrate.
 粘着層を形成するための粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤などが挙げられ、この中でもアクリル系粘着剤が好ましい。 Examples of the pressure-sensitive adhesive for forming the pressure-sensitive adhesive layer include rubber-based pressure-sensitive adhesives, acrylic pressure-sensitive adhesives, urethane-based pressure-sensitive adhesives, and polyvinyl ether-based pressure-sensitive adhesives. Among these, acrylic pressure-sensitive adhesives are preferable.
 アクリル系粘着剤を構成しているアクリル系樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステルの重合体、(メタ)アクリル酸アルキルエステルとこれと共重合可能な単量体との共重合体などが挙げられる。なお、(メタ)アクリルは、メタクリル又はアクリルを意味する。 Examples of the acrylic resin constituting the acrylic pressure-sensitive adhesive include a polymer of (meth) acrylic acid alkyl ester and a copolymer of (meth) acrylic acid alkyl ester and a monomer copolymerizable therewith. Etc. In addition, (meth) acryl means methacryl or acryl.
 (メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソノニルなどが挙げられ、ホモポリマーのガラス転移温度が-50℃以下となる(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましい。なお、200℃近い加熱処理においても変質し難い粘着剤としては、(メタ)アクリル酸アルキルエステルの中でも(メタ)アクリル酸ブチルが好ましい。 Examples of the (meth) acrylic acid alkyl ester include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, ( (Meth) acrylic acid isononyl and the like, and a (meth) acrylic acid alkyl ester in which the homopolymer has a glass transition temperature of −50 ° C. or lower is preferable. In addition, as a pressure-sensitive adhesive that hardly changes even in a heat treatment near 200 ° C., butyl (meth) acrylate is preferable among alkyl (meth) acrylates.
 (メタ)アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシヘキシルなどの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸グリシジルエステル、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、(メタ)アクリル酸アミド、(メタ)アクリル酸N-ヒドロキシメチルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、t-ブチルアミノエチルメタクリレートなどの(メタ)アクリル酸アルキルアミノアルキルエステル、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリルなどが挙げられる。 Examples of monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid alkyl esters include (meth) acrylic acid such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, and hydroxyhexyl (meth) acrylate. Hydroxyalkyl ester, (meth) acrylic acid glycidyl ester, (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, (meth) acrylic acid amide, (meth) acrylic acid N-hydroxymethylamide, dimethylaminoethyl methacrylate, t- (Meth) acrylic acid alkylaminoalkyl esters such as butylaminoethyl methacrylate, vinyl acetate, styrene, acrylonitrile and the like.
 粘着層の厚さは限定的ではないが、1~30μmが好ましく、5~20μmがより好ましい。 The thickness of the adhesive layer is not limited, but is preferably 1 to 30 μm, and more preferably 5 to 20 μm.
 このようにして得られる本発明のメッキ工程搬送用テープは、例えば図4に示すように粘着層に製造過程のフレキシブルプリント配線基板6を貼着し、搬送ロール5を回転させてメッキ槽に搬送し、当該配線基板にメッキを施す工程を行うことができる。なお、メッキ槽への搬送だけでなく、搬送用テープの耐久性等に影響がない範囲で他の工程への搬送にも用いることもできる。 The plating process transport tape of the present invention thus obtained is attached to the adhesive layer with the flexible printed wiring board 6 in the manufacturing process as shown in FIG. 4, for example, and is transported to the plating tank by rotating the transport roll 5. And the process of plating to the said wiring board can be performed. It can be used not only for transporting to the plating tank but also for transporting to other processes as long as the durability of the transport tape is not affected.
 以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明する。但し、本発明は実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the examples.
 実施例1、3、4、9、10及び比較例1~4
 実施例1、3、4及び比較例1~4は中間層Bのみを有する。
Examples 1, 3, 4, 9, 10 and Comparative Examples 1 to 4
Examples 1, 3, and 4 and Comparative Examples 1 to 4 have only the intermediate layer B.
 押出機の押出機内に表1に記載の配合となるように樹脂成分及び無機充填材を投入し、溶融混練した。 The resin component and the inorganic filler were introduced into the extruder of the extruder so as to have the composition shown in Table 1, and melt-kneaded.
 中間層Bの厚さが40μmとなるように250℃で押出し成膜した。 Extrusion was performed at 250 ° C. so that the thickness of the intermediate layer B was 40 μm.
 中間層Bに厚さ10μmの粘着層を付与した。 An adhesive layer having a thickness of 10 μm was applied to the intermediate layer B.
 これによりメッキ工程搬送用テープ基材を得た。 Thereby, a tape base material for plating process conveyance was obtained.
 実施例2、5~8、11、12
 実施例2、5~8、11、12は外層A、中間層B及び外層Cを有する。
Examples 2, 5 to 8, 11, 12
Examples 2, 5 to 8, 11, and 12 have an outer layer A, an intermediate layer B, and an outer layer C.
 3層押出機のそれぞれの押出機内に外層A、中間層B及び外層Cの各層が表1に記載の配合となるように樹脂成分及び無機充填材を投入し、溶融混練した。 In each extruder of the three-layer extruder, the resin component and the inorganic filler were added so that each of the outer layer A, the intermediate layer B, and the outer layer C had the composition shown in Table 1, and melt-kneaded.
 外層A、中間層B及び外層Cの各層の厚さ比が外層A:中間層B:外層C=1:3:1となるように250℃のインフレーション法で3層を共押出し、厚さ40μmの樹脂積層体を得た。 The three layers were coextruded by an inflation method at 250 ° C. so that the thickness ratio of each of the outer layer A, the intermediate layer B, and the outer layer C was outer layer A: intermediate layer B: outer layer C = 1: 3: 1, and the thickness was 40 μm. A resin laminate was obtained.
 外層A側に厚さ10μmの粘着層を付与した。 A 10 μm thick adhesive layer was applied to the outer layer A side.
 これによりメッキ工程搬送用テープ基材を得た。 Thereby, a tape base material for plating process conveyance was obtained.
 各メッキ工程搬送用テープの評価
(カールの有無)
 各メッキ工程搬送用テープ基材に糊(東亞合成製アクリル系粘着剤「アロンタックS-1601」)を塗工して粘着層を形成し、フレキシブルプリント配線基板を貼り付けて加熱(約200℃×5分)した際のカールの有無を肉眼観察した。
Evaluation of each plating process transport tape (presence or absence of curling)
Adhesive layer is formed by applying glue (acrylic adhesive “Arontack S-1601” manufactured by Toagosei Co., Ltd.) to each plating process transport tape base material, and a flexible printed wiring board is attached and heated (about 200 ° C. × The presence or absence of curling at the time of 5 minutes) was visually observed.
 カールが認められないものを◎と評価し、若干のカールはあるが許容範囲であるものを○と評価し、顕著にカールが認められたものを×と評価した。
(糊移りの有無)
 各メッキ工程搬送用テープ基材に糊(東亞合成製アクリル系粘着剤「アロンタックS-1601」)を塗工して粘着層を形成し、フレキシブルプリント配線基板を貼り付けた後、剥離した際のフレキシブルプリント配線基板側への糊移りの有無を肉眼観察した。
The case where no curling was observed was evaluated as “◎”, the case where there was some curling but within the allowable range was evaluated as “◯”, and the case where remarkable curling was recognized was evaluated as “x”.
(With or without glue transfer)
Applying glue (Acrylic adhesive “Arontack S-1601” manufactured by Toagosei Co., Ltd.) to the tape base material for transporting each plating process to form an adhesive layer, and after attaching a flexible printed circuit board, The presence or absence of glue transfer to the flexible printed circuit board side was visually observed.
 糊移りが認められないものを○と評価し、糊移りが認められたものを×と評価した。
(耐熱性)
 各メッキ工程搬送用テープ基材を熱処理(200℃×5分)した後の基材表面の波打ちや変形の有無を肉眼観察した。
The case where paste transfer was not recognized was evaluated as “◯”, and the case where paste transfer was observed was evaluated as “X”.
(Heat-resistant)
The presence or absence of waving or deformation of the substrate surface after heat treatment (200 ° C. × 5 minutes) was performed on each of the plating process transport tape substrates.
 波打ちや変形が認められないものを○と評価し、これらが若干認められても実使用での許容範囲であるものを△と評価し、許容範囲を満たさないものを×と評価した。
(コシの良否)
 各メッキ工程搬送用テープ基材のコシを引張弾性率(MPa)により評価した。
A case where no waviness or deformation was observed was evaluated as “◯”, and even if some of these were recognized, a case that was within the allowable range in actual use was evaluated as “Δ”, and a case that did not satisfy the allowable range was evaluated as “X”.
(Good or bad)
The stiffness of each plating process transport tape substrate was evaluated by the tensile elastic modulus (MPa).
 引張弾性率が1500MPa超過のものを○と評価し、1500MPa以下900MPa超過のものを△と評価し、900MPa以下を×と評価した。 When the tensile elastic modulus exceeded 1500 MPa, the evaluation was ○, and when the tensile modulus was 1500 MPa or less and 900 MPa or more, Δ was evaluated, and 900 MPa or less was evaluated as ×.
 各評価結果を表1に示す。 Each evaluation result is shown in Table 1.
 表1の結果から明らかなように、所定要件を満たす実施例1~12のメッキ工程搬送用テープは、粘着層を形成後に熱処理した際のカールの発生が抑制されており、また粘着層を形成後の糊移りの発生も抑制されていた。実施例1、2、4~12については、繊維状無機充填材を使用することによりMD方向の収縮が抑制されており、TD方向の収縮も必要とされるレベルの抑制がなされている。また、実施例3~12については、テトラポット状の無機充填材を使用することによりMD方向のみならず、TD方向及び厚み方向の収縮も抑制されており、より好ましい収縮抑制がなされている。また、実施例7、8では、外層A、中間層B及び外層Cの各層において、PBTに加えてPEN及びPCを併用することによりフィルムのコシが向上しているとともに耐熱性も向上している。 As is clear from the results in Table 1, in the plating process transport tapes of Examples 1 to 12 that satisfy the predetermined requirements, the occurrence of curling when the heat treatment is performed after forming the adhesive layer is suppressed, and the adhesive layer is formed. The occurrence of subsequent glue transfer was also suppressed. In Examples 1, 2, 4 to 12, the shrinkage in the MD direction is suppressed by using the fibrous inorganic filler, and the level at which the shrinkage in the TD direction is also required is suppressed. In Examples 3 to 12, the use of a tetrapot-like inorganic filler suppresses not only the MD direction but also the TD direction and the thickness direction, and more preferable shrinkage suppression is achieved. Further, in Examples 7 and 8, in each of the outer layer A, the intermediate layer B, and the outer layer C, the stiffness of the film is improved and the heat resistance is improved by using PEN and PC in addition to PBT. .
 他方、所定要件を満たさない比較例1~4のメッキ工程搬送用テープは、カールの発生又は糊移りの発生の評価が実施例1~12に比べて劣っている。特に中間層Bに無機充填材を含有しない比較例1、2ではカールが発生し、中間層BにPBT及び無機充填材の両方を含有しない比較例3もカールが発生した。他方、中間層にPIを使用し無機充填材を含有しない比較例4はフレキシブルプリント配線基板のPIフィルムと同じ素材である点でカールの発生は抑制されているが、同じ素材である点で糊移りが認められている。 On the other hand, the plating process conveyance tapes of Comparative Examples 1 to 4 that do not satisfy the predetermined requirements are inferior to Examples 1 to 12 in evaluation of curling or glue transfer. In particular, curling occurred in Comparative Examples 1 and 2 where the intermediate layer B did not contain an inorganic filler, and curling also occurred in Comparative Example 3 where the intermediate layer B did not contain both PBT and inorganic filler. On the other hand, in Comparative Example 4 in which PI is used for the intermediate layer and no inorganic filler is contained, curling is suppressed in that it is the same material as the PI film of the flexible printed wiring board. Transition is permitted.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
PBT:三菱エンジニアリングプラスチックス社製「ノバデュラン・5050CS」
PENフィルム:帝人デュポンフィルム社製「テオネックス・Q51」
PETフィルム:帝人デュポン社製「テイジンテトロンフィルム・G2」
PIフィルム:東レ・デュポン社製「カプトン・50H」
PEN(ブレンド用):帝人デュポン社製「テオネックスTN8065S」
PC(ブレンド用):帝人デュポン社製「パンライトL-1250Y」
PBN(ブレンド用):帝人デュポン社製
PET(ブレンド用):ベルポリエステルプロダクツ社製「ベルペット・DFG1」
チタン酸カリウム:大塚化学社製「ティスモ・ティスモN(繊維径:0.3~0.6μm、繊維長:10~20μm)」
酸化亜鉛:アムテック社製「パナテトラ・WZ-0531(平均繊維長:約10μm、テトラポッド状)」
ガラス繊維:日東紡社製「PF E-100(表面処理なし)」
PBT: Mitsubishi Engineering Plastics “Novaduran 5050CS”
PEN film: “Teonex Q51” manufactured by Teijin DuPont Films
PET film: Teijin Tetron Film G2 manufactured by Teijin DuPont
PI film: "Kapton 50H" manufactured by Toray DuPont
PEN (for blend): “Teonex TN8065S” manufactured by Teijin DuPont
PC (for blend): “Panlite L-1250Y” manufactured by Teijin DuPont
PBN (for blending): Teijin DuPont PET (for blending): Bell Polyester Products "Bellpet DFG1"
Potassium titanate: “Tismo Tismo N (fiber diameter: 0.3 to 0.6 μm, fiber length: 10 to 20 μm)” manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.
Zinc oxide: “Panatetra WZ-0531 (average fiber length: about 10 μm, tetrapod shape)” manufactured by Amtec Corporation
Glass fiber: “PF E-100 (no surface treatment)” manufactured by Nittobo
a.メッキ工程搬送用テープ基材
b.メッキ工程搬送用テープ
1.中間層B
2.外層A
3.外層C
4.粘着層
5.搬送ロール
6.フレキシブルプリント配線基板
a. Tape substrate for transporting plating process b. Plate process tape 1. Middle layer B
2. Outer layer A
3. Outer layer C
4). 4. Adhesive layer 5. Transport roll Flexible printed circuit board

Claims (11)

  1.  フレキシブルプリント配線基板を貼着してメッキ槽に搬送し、当該配線基板にメッキを施す工程で用いるメッキ工程搬送用テープの形成に用いる基材であって、
    (1)前記基材は、粘着層を付与することにより前記メッキ工程搬送用テープとなり、
    (2)前記基材は、単層又は複層からなる無延伸フィルムであり、少なくとも一層はポリブチレンテレフタレート及び無機充填材を含有する、
    ことを特徴とするメッキ工程搬送用テープ基材。
    A flexible printed wiring board is attached to a plating tank and transported to a plating tank, and used for forming a plating process transport tape used in a process of plating the wiring board,
    (1) The substrate becomes the plating process transport tape by providing an adhesive layer;
    (2) The base material is an unstretched film consisting of a single layer or multiple layers, and at least one layer contains polybutylene terephthalate and an inorganic filler.
    The tape base material for plating process conveyance characterized by the above-mentioned.
  2.  前記ポリブチレンテレフタレートを含有する層は、更にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート及びポリブチレンナフタレートからなる群から選択される少なくとも一種を含有する、請求項1に記載のメッキ工程搬送用テープ基材。 2. The plating base material for transporting a plating process according to claim 1, wherein the layer containing polybutylene terephthalate further contains at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, and polybutylene naphthalate. .
  3.  前記無機充填材は、繊維状チタン酸カリウムを含有する、請求項1又は2に記載のメッキ工程搬送用テープ基材。 The said inorganic filler is a tape base material for plating process conveyance of Claim 1 or 2 containing fibrous potassium titanate.
  4.  前記繊維状チタン酸カリウムは、平均太さが0.1~0.8μm、平均長さが5~30μm、且つ平均アスペクト比が10~100である、請求項3に記載のメッキ工程搬送用テープ基材。 The plating process transport tape according to claim 3, wherein the fibrous potassium titanate has an average thickness of 0.1 to 0.8 µm, an average length of 5 to 30 µm, and an average aspect ratio of 10 to 100. Base material.
  5.  前記無機充填材は、テトラポッド形状の酸化亜鉛を含有する、請求項1~4のいずれかに記載のメッキ工程搬送用テープ基材。 The plating base material for transporting a plating process according to any one of claims 1 to 4, wherein the inorganic filler contains tetrapod-shaped zinc oxide.
  6.  前記無機充填材は、ガラス繊維を含有する、請求項1~5のいずれかに記載のメッキ工程搬送用テープ基材。 The plating base material for transporting a plating process according to any one of claims 1 to 5, wherein the inorganic filler contains glass fiber.
  7.  外層A、中間層B及び外層Cを順に有する層構成からなり、
    (1)前記中間層Bは、前記ポリブチレンテレフタレート及び前記無機充填材を含有し、
    (2)前記外層A及び前記外層Cは、無機充填材を含有しない、
    請求項1~6のいずれかに記載のメッキ工程搬送用テープ基材。
    It consists of a layer structure having an outer layer A, an intermediate layer B, and an outer layer C in order,
    (1) The intermediate layer B contains the polybutylene terephthalate and the inorganic filler,
    (2) The outer layer A and the outer layer C do not contain an inorganic filler,
    The tape substrate for transporting a plating process according to any one of claims 1 to 6.
  8.  前記外層A及び前記外層Cは、前記ポリブチレンテレフタレートを含有する、請求項7に記載のメッキ工程搬送用テープ基材。 The said outer layer A and the said outer layer C are the tape base materials for a plating process conveyance of Claim 7 containing the said polybutylene terephthalate.
  9.  前記外層A、前記中間層B及び前記外層Cは、いずれも更にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート及びポリブチレンナフタレートからなる群から選択される少なくとも一種を含有する、請求項8に記載のメッキ工程搬送用テープ基材。 9. The plating according to claim 8, wherein each of the outer layer A, the intermediate layer B, and the outer layer C further contains at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, and polybutylene naphthalate. Tape substrate for process conveyance.
  10.  引張弾性率が1500MPa超過2000MPa以下である、請求項1~9のいずれかに記載のメッキ工程搬送用テープ基材。 The tape substrate for transporting a plating process according to any one of claims 1 to 9, wherein the tensile elastic modulus is more than 1500 MPa and not more than 2000 MPa.
  11.  請求項1~10のいずれかに記載のメッキ工程搬送用テープ基材の表面に粘着層を有するメッキ工程搬送用テープ。 A plating process transport tape having an adhesive layer on the surface of the plating process transport tape substrate according to any one of claims 1 to 10.
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