WO2018180785A1 - Photoelectric wiring substrate - Google Patents

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WO2018180785A1
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覚詞 淺井
松原 孝宏
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京セラ株式会社
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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    • G02F1/03Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/035Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect in an optical waveguide structure

Abstract

This photoelectric wiring substrate comprises: an insulating substrate having a first surface including a mounting area for semiconductor elements; a connection terminal arranged inside a first surface mounting area and to which semiconductor elements are connectable; optical wiring arranged upon the first surface and having an optical modulator including a first electrode arranged on the first surface, a core section comprising an electro-optical polymer material and arranged upon the first electrode, and a second electrode arranged upon part of the core section and being electrically connected to the connection terminal; and a first conductor arranged inside the insulating substrate and overlapping the optical modulator in the planar view. As a result, connection loss between an optical waveguide path and the optical modulator in the optical wiring can be reduced.

Description

光電気配線基板Opto-electric wiring board
 本発明は、光電気配線基板、特に光変調器を有する光電気配線基板に関する。 The present invention relates to an opto-electric wiring board, and more particularly to an opto-electric wiring board having an optical modulator.
 従来、電気配線と光変調器を含む光配線とが形成された光電気配線基板が知られている。例えば、特許文献1は、電気配線および光変調器を含む光配線を有する光電気配線基板と、該光電気配線基板に実装された集積回路デバイスと、レーザ光源とを備え、前記光変調器は、前記集積回路デバイスにより電気的に駆動される光システムを開示している。 Conventionally, an optoelectric wiring board on which an electric wiring and an optical wiring including an optical modulator are formed is known. For example, Patent Document 1 includes an opto-electric wiring board having an optical wiring including an electric wiring and an optical modulator, an integrated circuit device mounted on the opto-electric wiring board, and a laser light source. Discloses an optical system electrically driven by the integrated circuit device.
特開2006-262476号公報JP 2006-262476 A
 本開示の光電気配線基板は、半導体素子の実装領域を含む第1面を有した絶縁基板と、
 前記第1面の前記実装領域内に配設された、半導体素子が接続可能な少なくとも1つの接続端子と、
 前記第1面上に配設された光配線であって、前記第1面に配設された第1電極と、該第1電極上に配設された、電気光学ポリマ材料からなるコア部と、該コア部の一部上に配設された、前記接続端子と電気的に接続された第2電極とを含む光変調器を有する光配線と、
 前記絶縁基板の内部に配設された、平面視で、前記光変調器と重なる少なくとも1つの第1導体と、を備える。
An optoelectric wiring board of the present disclosure includes an insulating substrate having a first surface including a mounting region of a semiconductor element;
At least one connection terminal disposed in the mounting region of the first surface to which a semiconductor element can be connected;
An optical wiring disposed on the first surface, the first electrode disposed on the first surface; and a core portion made of an electro-optic polymer material disposed on the first electrode; An optical wiring having an optical modulator that is disposed on a part of the core portion and includes a second electrode electrically connected to the connection terminal;
And at least one first conductor disposed in the insulating substrate and overlapping the optical modulator in plan view.
 本開示の目的、特色、および利点は、下記の詳細な説明と図面とから、より明確になるであろう。
本開示の実施形態に係る光電気配線基板を模式的に示す断面図である。 本開示の実施形態に係る光電気配線基板の一部を抜粋した一例を模式的に示す断面図である。 本開示の実施形態に係る光電気配線基板の一部を抜粋した他の一例を模式的に示す断面図である。 本開示の実施形態に係る光電気配線基板の一部を抜粋したさらに他の一例を模式的に示す断面図である。 本開示の実施形態に係る光電気配線基板を模式的に示す平面図である。
Objects, features and advantages of the present disclosure will become more apparent from the following detailed description and drawings.
It is sectional drawing which shows typically the optoelectric wiring board which concerns on embodiment of this indication. It is a sectional view showing typically an example which extracted a part of optoelectric wiring board concerning an embodiment of this indication. It is sectional drawing which shows typically another example which extracted a part of optoelectric wiring board which concerns on embodiment of this indication. It is sectional drawing which shows typically another example which extracted a part of optoelectric wiring board which concerns on embodiment of this indication. It is a top view showing typically an optoelectric wiring board concerning an embodiment of this indication.
 以下に、本開示の光電気配線基板の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、光電気配線基板は、いずれの方向が上方または下方とされて使用されてもよいものであるが、本明細書では、便宜的に、直交座標系(X,Y,Z)を定義するとともに、Z軸方向の正側を上方として、上面または下面等の語を用いるものとする。 Hereinafter, embodiments of the optoelectric wiring board of the present disclosure will be described with reference to the drawings. Note that the optoelectric wiring board may be used with any direction set upward or downward, but in this specification, an orthogonal coordinate system (X, Y, Z) is defined for convenience. In addition, the term “upper surface” or “lower surface” is used with the positive side in the Z-axis direction as the upper side.
 図1~5に、本開示の実施形態に係る光電気配線基板1を示す。図1は、光電気配線基板1を模式的に示す断面図である。図2は、光電気配線基板1の一部を抜粋した一例を模式的に示す断面図である。図3は、光電気配線基板1の一部を抜粋した他の一例を模式的に示す断面図である。図4は、光電気配線基板1の一部を抜粋したさらに他の一例を模式的に示す断面図である。図5は、光電気配線基板1を模式的に示す平面図である。なお、図2~図4の断面図は、絶縁基板の第1面に平行な面による断面であり、クラッド部38の、EOポリマコア部36の上方に位置する部分については、省略して図示している。また、第2電極37については、2点鎖線で示している。また、図5の平面図では、樹脂層50、ならびに光変調器32のEOポリマコア部36、およびクラッド部38を省略して図示している。 1 to 5 show an optoelectric wiring board 1 according to an embodiment of the present disclosure. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an optoelectric wiring board 1. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a part of the photoelectric wiring board 1 extracted. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing another example in which a part of the photoelectric wiring board 1 is extracted. FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing still another example in which a part of the photoelectric wiring board 1 is extracted. FIG. 5 is a plan view schematically showing the opto-electric wiring board 1. 2 to 4 are cross sections taken along a plane parallel to the first surface of the insulating substrate, and a portion of the clad portion 38 located above the EO polymer core portion 36 is not shown. ing. The second electrode 37 is indicated by a two-dot chain line. In the plan view of FIG. 5, the resin layer 50, the EO polymer core portion 36 of the optical modulator 32, and the cladding portion 38 are omitted.
 光電気配線基板1は、絶縁基板10と、接続端子20と、光配線30と、第1導体40とを備える。 The optoelectric wiring board 1 includes an insulating substrate 10, a connection terminal 20, an optical wiring 30, and a first conductor 40.
 絶縁基板10は、第1面(上面)11を有している。絶縁基板10の第1面11は、半導体素子90の実装領域Aを有している。実装領域Aとは、光電気配線基板1に半導体素子90を実装したときに、絶縁基板10の第1面11における半導体素子90の直下の領域であり、平面視で、半導体素子90と重なる領域を指す。 The insulating substrate 10 has a first surface (upper surface) 11. The first surface 11 of the insulating substrate 10 has a mounting area A for the semiconductor element 90. The mounting area A is an area immediately below the semiconductor element 90 on the first surface 11 of the insulating substrate 10 when the semiconductor element 90 is mounted on the optoelectric wiring board 1 and overlaps the semiconductor element 90 in plan view. Point to.
 絶縁基板10は、例えば、エポキシ樹脂等の樹脂材料、またはシリカ(SiO)、アルミナ(Al)、もしくはジルコニア(ZrO)等のセラミック材料で形成されればよい。 The insulating substrate 10 may be made of, for example, a resin material such as an epoxy resin, or a ceramic material such as silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), or zirconia (ZrO 2 ).
 絶縁基板10の第1面11は、発光素子実装領域Bをさらに有している。発光素子実装領域Bとは、光電気配線基板1に発光素子100を実装したときに、絶縁基板10の第1面11における発光素子100の直下の領域であり、平面視で、発光素子100と重なる領域を指す。 The first surface 11 of the insulating substrate 10 further has a light emitting element mounting region B. The light emitting element mounting region B is a region immediately below the light emitting element 100 on the first surface 11 of the insulating substrate 10 when the light emitting element 100 is mounted on the photoelectric wiring substrate 1. Refers to the overlapping area.
 発光素子100は、例えば、第1面11にフリップチップ実装される、垂直共振器面発光レーザ(VCSEL)であってもよい。光電気配線基板1は、発光素子100に光学的に接続するために、発光素子実装領域B内に配設された接続部材(図示せず)を有している。接続部材は、例えば、発光素子100から下方(Z軸の負方向)に向かって出射される光を平面方向(XY平面方向)に反射して、光配線30に光を誘導する傾斜面である。傾斜面は、例えば、光配線30の一部を、ダイシング、レーザ加工等を使用して切り欠くことによって形成されてもよい。 The light emitting element 100 may be, for example, a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL) that is flip-chip mounted on the first surface 11. The optoelectric wiring board 1 has a connection member (not shown) disposed in the light emitting element mounting region B in order to optically connect to the light emitting element 100. The connecting member is, for example, an inclined surface that reflects light emitted downward from the light emitting element 100 (the negative direction of the Z axis) in the plane direction (XY plane direction) and guides the light to the optical wiring 30. . For example, the inclined surface may be formed by cutting out a part of the optical wiring 30 using dicing, laser processing, or the like.
 光電気配線基板1は、絶縁基板10の第2面12に配設された、少なくとも1つの金属層14と少なくとも1つの絶縁層15とを交互に積層してなる積層体13を有している。少なくとも1つの金属層14は、光電気配線基板1の配線として機能することができる。少なくとも1つの金属層14は、接地電位が与えられたグランド層16を含んでいる。少なくとも1つの金属層14は、例えば、銅またはアルミニウム等の金属材料で形成されればよい。絶縁層15は、例えば、エポキシ樹脂等の樹脂材料、またはシリカ(SiO)、アルミナ(Al)、もしくはジルコニア(ZrO)等のセラミック材料で形成されればよい。 The optoelectric wiring board 1 has a laminated body 13 that is disposed on the second surface 12 of the insulating substrate 10 and is formed by alternately laminating at least one metal layer 14 and at least one insulating layer 15. . At least one metal layer 14 can function as wiring of the optoelectric wiring board 1. At least one metal layer 14 includes a ground layer 16 to which a ground potential is applied. The at least one metal layer 14 may be formed of a metal material such as copper or aluminum, for example. The insulating layer 15 may be formed of, for example, a resin material such as an epoxy resin, or a ceramic material such as silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), or zirconia (ZrO 2 ).
 積層体13は、例えば、複数の絶縁層からなる積層構造体と、該積層構造体の上下面に配設された金属層とを有するものでもよい。また、積層体13は、例えば、1層の絶縁層と、複数の絶縁層からなる積層構造体と、複数の金属層とを混合したものでもよい。 The laminated body 13 may have, for example, a laminated structure composed of a plurality of insulating layers and metal layers disposed on the upper and lower surfaces of the laminated structure. The laminated body 13 may be, for example, a mixture of a single insulating layer, a laminated structure including a plurality of insulating layers, and a plurality of metal layers.
 半導体素子90は、例えばはんだボールである接続導体91を介して、実装領域Aにフリップチップ実装される。光電気配線基板1は、半導体素子90に電気的に接続するための、第1面11の実装領域A内に配設された、少なくとも1つの接続端子20を有している。接続端子20は、例えば、銅またはアルミニウム等の金属材料で形成されればよい。 The semiconductor element 90 is flip-chip mounted on the mounting area A via a connection conductor 91 that is, for example, a solder ball. The optoelectric wiring board 1 has at least one connection terminal 20 disposed in the mounting area A of the first surface 11 for electrical connection to the semiconductor element 90. The connection terminal 20 may be formed of a metal material such as copper or aluminum, for example.
 光配線30は、絶縁基板10の第1面11に配設されている。光配線30は、光導波路31と光変調器32とを含む。 The optical wiring 30 is disposed on the first surface 11 of the insulating substrate 10. The optical wiring 30 includes an optical waveguide 31 and an optical modulator 32.
 光導波路31は、光信号を伝送することができる。光導波路31は、発光素子100と光学的に接続するために、発光素子実装領域B内に位置している端部31aを有している。 The optical waveguide 31 can transmit an optical signal. The optical waveguide 31 has an end portion 31 a located in the light emitting element mounting region B in order to be optically connected to the light emitting element 100.
 光導波路31は、光が通過する導波路コア部33、および導波路コア部33を囲む導波路クラッド部34を含む。 The optical waveguide 31 includes a waveguide core portion 33 through which light passes, and a waveguide cladding portion 34 surrounding the waveguide core portion 33.
 導波路コア部33は、例えば、エポキシ樹脂等で形成されればよい。導波路クラッド部34は、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂またはアクリル樹脂等で形成されればよい。 The waveguide core portion 33 may be formed of, for example, an epoxy resin. The waveguide clad portion 34 may be formed of, for example, an epoxy resin, a polyimide resin, a phenol resin, an acrylic resin, or the like.
 導波路コア部33の厚みは、例えば、1μm以上5μm以下である。導波路クラッド部34は、導波路クラッド部34の下面から導波路コア部33の下面までの厚みが、例えば、5μm以上50μm以下であり、導波路コア部33の上面から導波路クラッド部34の上面までの厚みが、例えば、5μm以上50μm以下である。 The thickness of the waveguide core portion 33 is, for example, not less than 1 μm and not more than 5 μm. The thickness of the waveguide cladding 34 from the lower surface of the waveguide cladding 34 to the lower surface of the waveguide core 33 is, for example, not less than 5 μm and not more than 50 μm. The thickness up to the upper surface is, for example, 5 μm or more and 50 μm or less.
 導波路コア部33の屈折率は、例えば、1.5以上1.85以下であればよい。導波路クラッド部34の屈折率は、例えば、1.45以上1.8以下であればよい。また、導波路コア部33の屈折率は、例えば、導波路クラッド部34の屈折率に対して1%以上3%以下の範囲で大きければよい。 The refractive index of the waveguide core portion 33 may be, for example, 1.5 or more and 1.85 or less. The refractive index of the waveguide clad part 34 should just be 1.45 or more and 1.8 or less, for example. Moreover, the refractive index of the waveguide core part 33 should just be large in the range of 1% or more and 3% or less with respect to the refractive index of the waveguide clad part 34, for example.
 光変調器32は、光導波路31に挿入され、光導波路31と光学的に接続されている。 The optical modulator 32 is inserted into the optical waveguide 31 and optically connected to the optical waveguide 31.
 光変調器32は、マッハツェンダ光変調器である。光変調器32は、第1電極35と、電気光学ポリマ材料からなるコア部(以下、EOポリマコア部ともいう)36と、第2電極37と、クラッド部38とを含む。 The optical modulator 32 is a Mach-Zehnder optical modulator. The optical modulator 32 includes a first electrode 35, a core portion (hereinafter also referred to as an EO polymer core portion) 36 made of an electro-optic polymer material, a second electrode 37, and a cladding portion 38.
 第1電極35は、絶縁基板10の第1面11上に配設されている。第1電極35には、接地電位が与えられている。 The first electrode 35 is disposed on the first surface 11 of the insulating substrate 10. A ground potential is applied to the first electrode 35.
 第1電極35は、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、チタン、パラジウム、亜鉛、またはクロム等を主成分とする金属材料から形成されればよい。第1電極35の厚みは、例えば、0.1μm以上5μm以下である。 The first electrode 35 may be made of a metal material mainly composed of gold, silver, copper, aluminum, platinum, titanium, palladium, zinc, chromium, or the like. The thickness of the first electrode 35 is, for example, not less than 0.1 μm and not more than 5 μm.
 EOポリマコア部36は、例えば図2に示すように、入力された光信号を2つに分岐する分岐部36aと、分岐された光信号が伝搬する第1アーム部36bおよび第2アーム部36cと、第1アーム部36bおよび第2アーム部36cをそれぞれ伝搬した2つの光信号を合波して出力する合波部36dとを有している。EOポリマコア部36は、導波路コア部33と光学的に接続されている。本実施形態では、例えばEOポリマコア部36の端面36e,36fが、導波路コア部33の端面33a,33bにそれぞれ接触している。 For example, as shown in FIG. 2, the EO polymer core unit 36 includes a branch unit 36a that branches an input optical signal into two, a first arm unit 36b and a second arm unit 36c through which the branched optical signal propagates. And a combining unit 36d that combines and outputs two optical signals respectively propagated through the first arm unit 36b and the second arm unit 36c. The EO polymer core portion 36 is optically connected to the waveguide core portion 33. In the present embodiment, for example, end faces 36e and 36f of the EO polymer core portion 36 are in contact with end faces 33a and 33b of the waveguide core portion 33, respectively.
 EOポリマコア部36は、印加された電圧に応じて屈折率が変化する材料で形成される。EOポリマコア部36を構成する材料としては、従来周知の電気光学ポリマ材料を用いればよい。 The EO polymer core part 36 is formed of a material whose refractive index changes according to the applied voltage. As a material constituting the EO polymer core portion 36, a conventionally known electro-optic polymer material may be used.
 EOポリマコア部36の厚みは、例えば、1μm以上5μm以下である。EOポリマコア部36の幅は、例えば、1μm以上5μm以下である。EOポリマコア部36の厚みとは、EOポリマコア部36における光伝搬方向に垂直な断面の上下方向(Z軸方向)の寸法を指す。EOポリマコア部36の幅とは、EOポリマコア部36における光伝搬方向に垂直な断面の平面方向(Y軸方向)の寸法を指す。 The thickness of the EO polymer core portion 36 is, for example, 1 μm or more and 5 μm or less. The width of the EO polymer core 36 is, for example, not less than 1 μm and not more than 5 μm. The thickness of the EO polymer core 36 refers to the dimension in the vertical direction (Z-axis direction) of the cross section perpendicular to the light propagation direction in the EO polymer core 36. The width of the EO polymer core 36 refers to the dimension in the plane direction (Y-axis direction) of the cross section perpendicular to the light propagation direction in the EO polymer core 36.
 なお、EOポリマコア部36の厚みおよび幅は、一定である必要はなく、半導体素子90から発生する熱による絶縁基板10、光配線30等の反り、変形等を考慮して、光導波路31と光変調器32との光軸ずれを抑制するように、適宜設定することができる。すなわち、EOポリマコア部36は、光配線30が延びる方向に垂直な断面の厚み、および幅の少なくとも一方が異なる少なくとも2つの部位を有していてもよい。例えば、光変調器32の入射側と出射側とでEOポリマコア部36の厚みおよび幅の少なくとも一方が異なっていてもよい。このとき、入射側のEOポリマコア部36は、導波路コア部33よりも厚みおよび幅の少なくとも一方が大きくなっているとともに、出射側のEOポリマコア部36は導波路コア部33よりも厚みおよび幅の少なくとも一方が小さくなっていてもよい。 Note that the thickness and width of the EO polymer core portion 36 do not have to be constant, and the optical waveguide 31 and the optical waveguide 31 can be coupled with the optical substrate 31 in consideration of warpage, deformation, and the like of the insulating substrate 10 and the optical wiring 30 due to heat generated from the semiconductor element 90. It can be set as appropriate so as to suppress the optical axis deviation from the modulator 32. In other words, the EO polymer core portion 36 may have at least two portions that differ in at least one of the thickness and the width of the cross section perpendicular to the direction in which the optical wiring 30 extends. For example, at least one of the thickness and width of the EO polymer core portion 36 may be different between the incident side and the emission side of the optical modulator 32. At this time, the incident-side EO polymer core portion 36 has a thickness and / or width larger than that of the waveguide core portion 33, and the emission-side EO polymer core portion 36 has a thickness and width larger than that of the waveguide core portion 33. At least one of these may be small.
 第2電極37は、EOポリマコア部36の一部上に配設されている。第2電極37は、電気配線を介して、少なくとも1つの接続端子20に電気的に接続される。第2電極37には、半導体素子90から、光変調器32を駆動するための電気信号が供給される。第1電極35および第2電極37は、第2電極37に供給される電気信号に応じて、EOポリマコア部36の一部に電圧を印加する。 The second electrode 37 is disposed on a part of the EO polymer core portion 36. The second electrode 37 is electrically connected to at least one connection terminal 20 via an electrical wiring. An electrical signal for driving the optical modulator 32 is supplied from the semiconductor element 90 to the second electrode 37. The first electrode 35 and the second electrode 37 apply a voltage to a part of the EO polymer core portion 36 in accordance with an electric signal supplied to the second electrode 37.
 第2電極37は、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、チタン、パラジウム、亜鉛、またはクロム等を主成分とする金属材料から形成されればよい。第2電極37の厚みは、例えば、0.1μm以上5μm以下である。 The second electrode 37 may be formed of, for example, a metal material whose main component is gold, silver, copper, aluminum, platinum, titanium, palladium, zinc, chromium, or the like. The thickness of the second electrode 37 is, for example, not less than 0.1 μm and not more than 5 μm.
 第2電極37は、平面視で、第1アーム部36bに重なり、第2アーム部36cに重ならないように配設されている。すなわち、光変調器32は、第1アーム部36bに電圧を印加し、第1アーム部36bの屈折率を変化させ、第1アーム部36bを伝搬する光を位相変調した後、第1アーム部36bを伝搬してきた光と、第2アーム部36cを伝搬してきた光とを干渉させ、光の強度変調を行うように構成されている。 The second electrode 37 is disposed so as to overlap the first arm portion 36b and not the second arm portion 36c in plan view. That is, the optical modulator 32 applies a voltage to the first arm unit 36b, changes the refractive index of the first arm unit 36b, phase-modulates the light propagating through the first arm unit 36b, and then performs the first arm unit 36b. The light propagating through 36b and the light propagating through the second arm portion 36c are caused to interfere with each other to modulate the intensity of the light.
 クラッド部38は、EOポリマコア部36を囲んでいる。クラッド部38は、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、シリコン樹脂等で形成されればよい。クラッド部38は、絶縁基板10の第1面11からEOポリマコア部36の下面までの厚みが、例えば、5μm以上50μm以下であり、EOポリマコア部36の上面から第2電極37の下面までの厚みが、例えば、5μm以上50μm以下である。 The clad portion 38 surrounds the EO polymer core portion 36. The clad portion 38 may be formed of, for example, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a silicon resin, or the like. The cladding portion 38 has a thickness from the first surface 11 of the insulating substrate 10 to the lower surface of the EO polymer core portion 36, for example, 5 μm or more and 50 μm or less, and a thickness from the upper surface of the EO polymer core portion 36 to the lower surface of the second electrode 37. Is, for example, 5 μm or more and 50 μm or less.
 なお、本実施形態の光電気配線基板1では、光変調器32は、第1アーム部36bだけに電圧を印加するように構成されているが、光変調器32は、第1アーム部36bおよび第2アーム部36cのそれぞれに逆電圧を印加する構成であってもよい。 In the photoelectric wiring board 1 of the present embodiment, the optical modulator 32 is configured to apply a voltage only to the first arm portion 36b, but the optical modulator 32 includes the first arm portion 36b and the first arm portion 36b. The configuration may be such that a reverse voltage is applied to each of the second arm portions 36c.
 本実施形態の光電気配線基板1は、第1導体40を備えている。第1導体40は、絶縁基板10の内部に少なくとも1つ配設されている。第1導体40は、平面視したときに、光変調器32の第1電極35と重なっている。 The optoelectric wiring board 1 of the present embodiment includes a first conductor 40. At least one first conductor 40 is disposed inside the insulating substrate 10. The first conductor 40 overlaps the first electrode 35 of the light modulator 32 when viewed in plan.
 第1導体40は、例えば、銀、銅、またはタングステン等を主成分とする金属材料から形成されればよい。 The first conductor 40 may be formed of, for example, a metal material mainly composed of silver, copper, tungsten, or the like.
 第1導体40は、平面視で、光変調器32の第1電極35に重なっているので、半導体素子90から発生し、光変調器32の近傍に伝導してきた熱を、第1導体40に拡散することができる。その結果、光変調器32の近傍における温度上昇が抑制でき、導波路コア部33とEOポリマコア部36との熱膨張係数差に起因する、光導波路31と光変調器32との光軸ずれを抑制することができる。したがって、光導波路31と光変調器32との間の接続損失を低減できる。 Since the first conductor 40 overlaps the first electrode 35 of the light modulator 32 in plan view, the heat generated from the semiconductor element 90 and conducted to the vicinity of the light modulator 32 is transmitted to the first conductor 40. Can diffuse. As a result, the temperature rise in the vicinity of the optical modulator 32 can be suppressed, and the optical axis shift between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 due to the difference in thermal expansion coefficient between the waveguide core portion 33 and the EO polymer core portion 36 can be prevented. Can be suppressed. Therefore, the connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be reduced.
 ところで、従来の光電気配線基板は、集積回路デバイスから発生した熱が光変調器の近傍に伝導してくると、光導波路のコア部と光変調器のコア部との熱膨張係数の違いによって光導波路と光変調器との光軸ずれが生じ、光導波路と光変調器との間の接続損失が増加するおそれがあった。また、従来の光電気配線基板は、集積回路デバイスから発生した熱による光電気配線基板の反りや変形によっても、光導波路と光変調器との光軸ずれが生じ、光導波路と光変調器との間の接続損失が増加するおそれがあった。 By the way, in the conventional optoelectric wiring board, when the heat generated from the integrated circuit device is conducted in the vicinity of the optical modulator, the difference in thermal expansion coefficient between the core portion of the optical waveguide and the core portion of the optical modulator is caused. There is a possibility that the optical axis shift between the optical waveguide and the optical modulator occurs, and the connection loss between the optical waveguide and the optical modulator increases. In addition, in the conventional optoelectric wiring board, an optical axis shift between the optical waveguide and the optical modulator occurs due to warpage or deformation of the optoelectronic wiring board due to heat generated from the integrated circuit device. The connection loss between the two may increase.
 これに対して、前記構成の光電気配線基板1は、導波路コア部33とEOポリマコア部36との位置関係が多少ずれたとてもこれらの間の光損失を低減できる。すなわち、本実施形態の光電気配線基板1によれば、発光素子100等の半導体素子から発生し、光変調器近傍に伝導してきた熱を、第1導体40に拡散することができる。その結果、光導波路(コア部33)と光変調器32との光軸ずれを抑制し、光導波路と光変調器との間の接続損失を低減できる。 On the other hand, the optoelectric wiring board 1 having the above-described configuration can reduce the optical loss between the waveguide core portion 33 and the EO polymer core portion 36, which are slightly misaligned. That is, according to the optoelectric wiring board 1 of the present embodiment, the heat generated from the semiconductor element such as the light emitting element 100 and conducted to the vicinity of the optical modulator can be diffused to the first conductor 40. As a result, the optical axis deviation between the optical waveguide (core portion 33) and the optical modulator 32 can be suppressed, and the connection loss between the optical waveguide and the optical modulator can be reduced.
 そして、本実施形態の光電気配線基板1によれば、安価な発光素子と、光配線に挿入された、外部変調型の変調器とを用いて、高速変調を行うことができるとともに、光導波路と光変調器との間の接続損失を低減することができる。 According to the optoelectric wiring board 1 of the present embodiment, high-speed modulation can be performed using an inexpensive light emitting element and an external modulation type modulator inserted in the optical wiring, and the optical waveguide And the connection loss between the optical modulators can be reduced.
 なお、第1導体40を構成する金属材料として、例えば、高い熱伝導率を有する銅と、金属としては比較的熱膨張係数が小さいタングステンとを組み合わせて用いることにより、高い熱伝導率を有し、かつ熱膨張が抑制された第1導体40を形成することができる。これにより、高い熱伝導率を有し、かつ絶縁基板10との熱膨張係数差が低減された第1導体40を形成することができる。その結果、第1導体40の熱膨張による絶縁基板10の反り、変形等を抑制でき、ひいては光導波路31と光変調器32との間の接続損失を低減できる。また、第1導体40を、金属材料とセラミック材料との複合体により形成することによっても、第1導体40と絶縁基板10との熱膨張係数差を低減することができる。 In addition, as a metal material which comprises the 1st conductor 40, it has high thermal conductivity by using, for example, copper which has high thermal conductivity, and tungsten having a relatively small thermal expansion coefficient as a metal. And the 1st conductor 40 by which thermal expansion was suppressed can be formed. Thereby, the 1st conductor 40 which has high thermal conductivity and the thermal expansion coefficient difference with the insulating substrate 10 was reduced can be formed. As a result, warpage, deformation, and the like of the insulating substrate 10 due to the thermal expansion of the first conductor 40 can be suppressed, and as a result, connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be reduced. Moreover, the difference in thermal expansion coefficient between the first conductor 40 and the insulating substrate 10 can also be reduced by forming the first conductor 40 from a composite of a metal material and a ceramic material.
 本実施形態の第1導体40は、絶縁基板10の厚み方向(Z軸方向)に延びる柱状導体である。第1導体40は、絶縁基板10の第1面11に平行な断面で視たときの断面形状が、円形状であってもよく、楕円形状であってもよく、多角形状であってもよく、その他の形状であってもよい。第1導体40の断面形状が円形状である場合、その直径は、例えば、20μm~100μmである。第1導体40の断面形状が円形状と異なる形状である場合には、その円相当径が上記範囲内の値であればよい。 The first conductor 40 of the present embodiment is a columnar conductor extending in the thickness direction (Z-axis direction) of the insulating substrate 10. The first conductor 40 may have a circular shape, an elliptical shape, or a polygonal shape when viewed in a cross section parallel to the first surface 11 of the insulating substrate 10. Other shapes may also be used. When the cross-sectional shape of the first conductor 40 is circular, the diameter is, for example, 20 μm to 100 μm. When the cross-sectional shape of the first conductor 40 is different from the circular shape, the equivalent circle diameter may be a value within the above range.
 第1導体40が柱状であることにより、光変調器32の近傍に伝導してきた熱を、絶縁基板10の厚み方向で、広範囲に拡散させることができる。これにより、光導波路31と光変調器32との光軸ずれを効果的に抑制することができ、光導波路31と光変調器32との間の接続損失を効果的に低減できる。 Since the first conductor 40 is columnar, the heat conducted in the vicinity of the optical modulator 32 can be diffused over a wide range in the thickness direction of the insulating substrate 10. Thereby, the optical axis shift between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be effectively suppressed, and the connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be effectively reduced.
 また、本実施形態の第1導体40は、例えば図1に示すように、積層体13のグランド層16まで延び、グランド層16に接続されている。その結果、第1導体40に放散された熱を、グランド層16を介して、外部に放熱することが可能になる。これにより、光導波路31と光変調器32との光軸ずれを効果的に抑制することができ、光導波路31と光変調器32との間の接続損失を効果的に低減できる。 Further, the first conductor 40 of the present embodiment extends to the ground layer 16 of the multilayer body 13 and is connected to the ground layer 16 as shown in FIG. As a result, the heat dissipated in the first conductor 40 can be radiated to the outside through the ground layer 16. Thereby, the optical axis shift between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be effectively suppressed, and the connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be effectively reduced.
 第1導体40は、複数設けられていてもよい。その結果、1つの第1導体40が設けられている場合と比較して、光変調器32近傍の熱を効果的に拡散させることができる。 A plurality of first conductors 40 may be provided. As a result, it is possible to effectively diffuse the heat in the vicinity of the optical modulator 32 as compared with the case where one first conductor 40 is provided.
 図2は、光電気配線基板1の、光変調器32を含む一部を抜粋した一例を模式的に示す断面図である。図2では、クラッド部38の、EOポリマコア部36の上方に位置する部分については、省略して図示している。また、第2電極37については、2点鎖線で示している。なお、図2において、第1電極35の外形は、クラッド部38の外形に略等しくなっている。 FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a part of the photoelectric wiring board 1 including the optical modulator 32 extracted. In FIG. 2, a portion of the clad portion 38 located above the EO polymer core portion 36 is not shown. The second electrode 37 is indicated by a two-dot chain line. In FIG. 2, the outer shape of the first electrode 35 is substantially equal to the outer shape of the cladding portion 38.
 複数の第1導体40は、例えば図2に示すように、平面視で、光配線30が延びる方向(X軸方向)に一列に並んで、等間隔に配設されていてもよい。その結果、X軸方向の広範囲に亘って、光変調器32の近傍における絶縁基板10の反り、変形等を抑制することができる。これにより、光導波路31と光変調器32との光軸ずれを抑制することができ、光導波路31と光変調器32との間の接続損失を低減できる。 For example, as shown in FIG. 2, the plurality of first conductors 40 may be arranged at equal intervals in a line in the direction in which the optical wiring 30 extends (X-axis direction) in a plan view. As a result, warping, deformation, and the like of the insulating substrate 10 in the vicinity of the optical modulator 32 can be suppressed over a wide range in the X-axis direction. Thereby, the optical axis shift of the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be suppressed, and the connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be reduced.
 複数の第1導体40は、隣り合う第1導体40同士の間隔が必ずしも同一である必要はない。図3,図4は、複数の第1導体40の配設パターンの変形例を示す断面図である。図3,図4に示す変形例は、図2に示した例と比較して、複数の第1導体40の配設パターンにおいて異なり、その他については、同様の構成であるので、同様の構成には同じ参照符号を付して説明を省略する。 The intervals between the adjacent first conductors 40 are not necessarily the same in the plurality of first conductors 40. 3 and 4 are cross-sectional views showing modifications of the arrangement pattern of the plurality of first conductors 40. 3 and FIG. 4 differs from the example shown in FIG. 2 in the arrangement pattern of the plurality of first conductors 40, and the other configurations are the same, so the configurations are the same. Are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.
 複数の第1導体40は、例えば図3に示すように、隣り合う第1導体40同士の間隔が、X軸方向における光変調器32の中央で広く、両端で狭くなるように配設されていてもよい。その結果、光導波路31と光変調器32との接続部分の近傍に伝導してきた熱を、複数の第1導体40に効果的に拡散できるため、光導波路31と光変調器32との光軸ずれを抑制することができ、光導波路31と光変調器32との間の接続損失を低減できる。 For example, as shown in FIG. 3, the plurality of first conductors 40 are arranged such that the distance between adjacent first conductors 40 is wide at the center of the optical modulator 32 in the X-axis direction and narrows at both ends. May be. As a result, the heat conducted to the vicinity of the connection portion between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be effectively diffused to the plurality of first conductors 40, so that the optical axis between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 The shift can be suppressed, and the connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be reduced.
 また、複数の第1導体40は、例えば図4に示すように、隣り合う第1導体40同士の間隔が、光配線30が延びる方向(X軸方向)における光変調器32の中央で狭く、両端で広くなるように配設されていてもよい。その結果、光を位相変調する第1アーム部36b、および第2アーム部36cの近傍に伝導してきた熱を、複数の第1導体40に効果的に拡散できるため、光変調器32の性能劣化を抑制し、信頼性を向上させることができる。 In addition, as shown in FIG. 4, for example, the plurality of first conductors 40 are such that the distance between the adjacent first conductors 40 is narrow at the center of the optical modulator 32 in the direction (X-axis direction) in which the optical wiring 30 extends. You may arrange | position so that it may become wide at both ends. As a result, the heat conducted to the vicinity of the first arm portion 36b and the second arm portion 36c for phase-modulating the light can be effectively diffused to the plurality of first conductors 40, so that the performance of the optical modulator 32 is deteriorated. Can be suppressed and reliability can be improved.
 第1導体40の配設パターンは、図2~図4に示した例に限られない。第1導体40は、隣り合う第1導体40同士の間隔が、光変調器32の入射側で狭く、出射側で広くなっていてもよく、光変調器32の入射側で広く、出射側で狭くなっていてもよい。また、第1導体40は、例えば、複数列に並んで配設されていてもよい。複数列の配設パターンは、図2~図4に示した配設パターンを組み合わせたものでもよい。 The arrangement pattern of the first conductor 40 is not limited to the examples shown in FIGS. In the first conductor 40, the interval between the adjacent first conductors 40 may be narrow on the incident side of the optical modulator 32 and wide on the outgoing side, wide on the incident side of the optical modulator 32, and on the outgoing side. It may be narrower. Moreover, the 1st conductor 40 may be arrange | positioned along with multiple rows, for example. The arrangement pattern of the plurality of rows may be a combination of the arrangement patterns shown in FIGS.
 第1導体40と第1電極35とは、電気的に接続されていてもよい。その結果、第1導体40と第1電極35とが絶縁基板10の一部を介して離隔している場合と比較して、第1電極35から第1導体40への熱伝導を向上させることができる。これにより、半導体素子90から発生し、光変調器32の近傍に伝導してきた熱を、第1導体40に拡散することができる。その結果、光導波路31と光変調器32との光軸ずれを抑制することができ、光導波路31と光変調器32との間の接続損失を低減できる。 The first conductor 40 and the first electrode 35 may be electrically connected. As a result, the heat conduction from the first electrode 35 to the first conductor 40 is improved as compared with the case where the first conductor 40 and the first electrode 35 are separated via a part of the insulating substrate 10. Can do. Thereby, the heat generated from the semiconductor element 90 and conducted to the vicinity of the optical modulator 32 can be diffused to the first conductor 40. As a result, the optical axis shift between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be suppressed, and the connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be reduced.
 本実施形態では、第1導体40がグランド層16に接続されているため、第1導体40と第1電極35とが電気的に接続されている場合、第1導体40に蓄えられた熱を、グランド層16を介して、外部に放熱することができ、ひいては光導波路31と光変調器32との間の接続損失を一層効果的に低減することができる。また、第1電極35の接地電位を安定化させることができるため、光変調器32の信頼性を向上させることができる。 In the present embodiment, since the first conductor 40 is connected to the ground layer 16, when the first conductor 40 and the first electrode 35 are electrically connected, the heat stored in the first conductor 40 is stored. Then, heat can be radiated to the outside through the ground layer 16, and the connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be further effectively reduced. In addition, since the ground potential of the first electrode 35 can be stabilized, the reliability of the optical modulator 32 can be improved.
 なお、第1導体40と第1電極35とは、例えば図1に示すように、第1導体40の端面41が第1面11に露出し、端面41が第1電極35に直接接触することによって、電気的に接続されていてもよい。 For example, as shown in FIG. 1, the first conductor 40 and the first electrode 35 are such that the end surface 41 of the first conductor 40 is exposed to the first surface 11 and the end surface 41 is in direct contact with the first electrode 35. May be electrically connected.
 本実施形態の光電気配線基板1は、第2電極37が電気的に接続された接続端子20を、第1接続端子21としたときに、第2電極37と電気的に接続されていない第2接続端子22と、第1電極35と第2接続端子22とを電気的に接続する配線導体60とを有している。第2接続端子22には、接地電位が与えられており、半導体素子90の接地電極が接続されてもよい。配線導体60は、絶縁基板10の第1面11上に配設されている。配線導体60は、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、白金、チタン、パラジウム、亜鉛、またはクロム等を主成分とする金属材料から形成されればよい。 The opto-electric wiring board 1 according to the present embodiment is configured such that when the connection terminal 20 to which the second electrode 37 is electrically connected is the first connection terminal 21, the second electrode 37 is not electrically connected. 2 connection terminal 22, and the wiring conductor 60 which electrically connects the 1st electrode 35 and the 2nd connection terminal 22 are provided. A ground potential is applied to the second connection terminal 22, and a ground electrode of the semiconductor element 90 may be connected thereto. The wiring conductor 60 is disposed on the first surface 11 of the insulating substrate 10. The wiring conductor 60 may be formed of, for example, a metal material whose main component is gold, silver, copper, aluminum, platinum, titanium, palladium, zinc, chromium, or the like.
 第1電極35は、第1導体40を介して、グランド層16に接続されているので、上記構成の配線導体60によれば、第1電極35の接地電位を安定化することができるため、光変調器32の信頼性を向上させることができる。また、半導体素子90の接地電位を安定化することが可能になるため、光電気配線基板1の信頼性を向上させることができる。 Since the first electrode 35 is connected to the ground layer 16 via the first conductor 40, the ground potential of the first electrode 35 can be stabilized according to the wiring conductor 60 having the above configuration. The reliability of the optical modulator 32 can be improved. In addition, since the ground potential of the semiconductor element 90 can be stabilized, the reliability of the optoelectric wiring board 1 can be improved.
 本実施形態の光電気配線基板1は、例えば図1,図5に示すように、絶縁基板10の内部に配設され、平面視で、配線導体60に重なる少なくとも1つの第2導体70を有している。これにより、半導体素子90から発生し、配線導体60に伝導してきた熱を、第2導体70に拡散することができる。その結果、半導体素子90から発生し、配線導体60に伝導してきた熱が、光変調器32に伝導することを抑制できる。その結果、配線導体60を設けた場合であっても、光導波路31と光変調器32との光軸ずれを抑制することができ、光導波路31と光変調器32との間の接続損失を低減できる。第2導体70は、例えば図1に示すように、配線導体60とグランド層16とに接続されていてもよい。その結果、第1電極35および半導体素子90の接地電位を安定化させることができる。また、第2導体70に拡散された熱を、グランド層16を介して、外部に放熱することが可能になり、ひいては光導波路31と光変調器32との光軸ずれを効果的に抑制し、光導波路31と光変調器32との間の接続損失を効果的に低減できる。 The optoelectric wiring board 1 of the present embodiment has at least one second conductor 70 that is disposed inside the insulating substrate 10 and overlaps the wiring conductor 60 in plan view, for example, as shown in FIGS. is doing. Thereby, the heat generated from the semiconductor element 90 and conducted to the wiring conductor 60 can be diffused to the second conductor 70. As a result, heat generated from the semiconductor element 90 and conducted to the wiring conductor 60 can be prevented from being conducted to the optical modulator 32. As a result, even when the wiring conductor 60 is provided, the optical axis shift between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be suppressed, and the connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be reduced. Can be reduced. For example, as shown in FIG. 1, the second conductor 70 may be connected to the wiring conductor 60 and the ground layer 16. As a result, the ground potential of the first electrode 35 and the semiconductor element 90 can be stabilized. In addition, the heat diffused in the second conductor 70 can be radiated to the outside through the ground layer 16, thereby effectively suppressing the optical axis shift between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32. The connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be effectively reduced.
 第2導体70は、例えば、絶縁基板10の厚み方向(Z軸方向)に延びる柱状導体であってもよい。この場合、第2導体70は、絶縁基板10の第1面11に平行な断面で視たときの断面形状が、円形状であってもよく、楕円形状であってもよく、多角形状であってもよく、その他の形状であってもよい。第2導体70の断面形状が円形状である場合、その直径は、例えば、50μm~200μmである。第2導体70の断面形状が円形状と異なる形状である場合には、その円相当径が上記範囲内の値であればよい。 The second conductor 70 may be, for example, a columnar conductor extending in the thickness direction (Z-axis direction) of the insulating substrate 10. In this case, the second conductor 70 may have a circular cross section, an elliptical shape, or a polygonal shape when viewed in a cross section parallel to the first surface 11 of the insulating substrate 10. It may be any other shape. When the cross-sectional shape of the second conductor 70 is circular, the diameter is, for example, 50 μm to 200 μm. When the cross-sectional shape of the second conductor 70 is different from the circular shape, the equivalent circle diameter may be a value within the above range.
 第2導体70は、複数設けられていてもよい。その結果、半導体素子90から発生し、配線導体60に伝導してきた熱が、光変調器32に伝導することを効果的に抑制できる。また、隣り合う第2導体70同士の間隔は、一定である必要はなく、半導体素子90から発生する熱による絶縁基板10、光配線30等の反り、変形等を抑制するように、適宜設定することができる。 A plurality of second conductors 70 may be provided. As a result, heat generated from the semiconductor element 90 and conducted to the wiring conductor 60 can be effectively suppressed from being conducted to the optical modulator 32. The interval between the adjacent second conductors 70 does not need to be constant, and is set as appropriate so as to suppress warping, deformation, and the like of the insulating substrate 10 and the optical wiring 30 due to heat generated from the semiconductor element 90. be able to.
 第2導体70は、例えば、銀、銅、またはタングステン等を主成分とする金属材料から形成されればよい。 The second conductor 70 may be formed of, for example, a metal material whose main component is silver, copper, tungsten, or the like.
 光変調器32の第2電極37は、上面が樹脂層50で被覆されていてもよい。樹脂層50は、例えば、絶縁基板10の第1面11上に被着されたソルダーレジスト層であり、エポキシ樹脂やポリイミド樹脂等の感光性の熱硬化性樹脂を含有する電気絶縁材料から形成されればよい。第2電極37を樹脂層50で被覆することにより、第2電極37を、汚れ、損傷、静電気等から保護することができる。その結果、光変調器32の信頼性を向上させることができる。なお、樹脂層50は、例えば、光電気配線基板1の、実装領域Aおよび発光素子実装領域Bを除く全ての領域を覆っていてもよい。 The upper surface of the second electrode 37 of the light modulator 32 may be covered with the resin layer 50. The resin layer 50 is, for example, a solder resist layer deposited on the first surface 11 of the insulating substrate 10 and is formed from an electrically insulating material containing a photosensitive thermosetting resin such as an epoxy resin or a polyimide resin. Just do it. By covering the second electrode 37 with the resin layer 50, the second electrode 37 can be protected from dirt, damage, static electricity, and the like. As a result, the reliability of the optical modulator 32 can be improved. Note that the resin layer 50 may cover, for example, all areas of the optoelectric wiring board 1 except the mounting area A and the light emitting element mounting area B.
 本実施形態の光電気配線基板1は、例えば図5に示すように、実装領域A内から実装領域A外に向かって延びる導体パターン80を有している。導体パターン80は、絶縁基板10の第1面11の上方の、光電気配線基板1の上面に配設されている。 The optoelectric wiring board 1 of the present embodiment has a conductor pattern 80 extending from the mounting area A to the outside of the mounting area A, for example, as shown in FIG. The conductor pattern 80 is disposed on the upper surface of the photoelectric wiring substrate 1 above the first surface 11 of the insulating substrate 10.
 導体パターン80は、絶縁基板10の第1面11上に配設され、樹脂層50に覆われていてもよく、樹脂層50に埋設されていてもよい。導体パターン80は、例えば、銀、銅、またはタングステン等を主成分とする金属材料から形成されればよい。 The conductor pattern 80 is disposed on the first surface 11 of the insulating substrate 10 and may be covered with the resin layer 50 or embedded in the resin layer 50. The conductor pattern 80 may be formed of a metal material whose main component is, for example, silver, copper, or tungsten.
 導体パターン80を設けることにより、絶縁基板10の厚み方向(Z軸方向)において、半導体素子90から発生する熱が、光変調器32側に伝わることを抑制できるため、光導波路31と光変調器32との光軸ずれを抑制することができ、光導波路31と光変調器32との間の接続損失を低減できる。 By providing the conductor pattern 80, it is possible to suppress the heat generated from the semiconductor element 90 from being transmitted to the optical modulator 32 side in the thickness direction (Z-axis direction) of the insulating substrate 10, and therefore the optical waveguide 31 and the optical modulator The optical axis deviation with respect to 32 can be suppressed, and the connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be reduced.
 また、導体パターン80は、例えば図5に示すように、平面視で、実装領域A内から、実装領域A外の、光配線30が配設されていない側の領域に向かって延びていてもよい。その結果、平面方向(XY方向)においても、半導体素子から発生する熱が、光変調器32側に伝わることを抑制できるため、光導波路31と光変調器32との光軸ずれを抑制することができ、光導波路31と光変調器32との間の接続損失を低減できる。 For example, as shown in FIG. 5, the conductor pattern 80 may extend from the mounting area A toward the area outside the mounting area A where the optical wiring 30 is not disposed, as viewed in a plan view. Good. As a result, since heat generated from the semiconductor element can be prevented from being transmitted to the optical modulator 32 side in the planar direction (XY direction), the optical axis deviation between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 is suppressed. The connection loss between the optical waveguide 31 and the optical modulator 32 can be reduced.
 なお、図5では、導体パターン80を構成する導体80a~80eが直線状である場合を示したが、導体80a~80eは、屈曲もしくは湾曲していてもよく、互いに接続されていてもよい。また、導体80a~80eは、幅や厚み等が一定である必要はなく、半導体素子90から発生する熱による絶縁基板10の反り、変形等を考慮して、適宜調整することができる。導体80a~80eは、例えば、幅および厚みの少なくとも一方が異なる2つの部位を有していてもよい。導体パターン80は、例えば、1つまたは複数の接続端子20を囲んでいてもよい。 Although FIG. 5 shows the case where the conductors 80a to 80e constituting the conductor pattern 80 are linear, the conductors 80a to 80e may be bent or curved, or may be connected to each other. The conductors 80a to 80e do not need to have a constant width, thickness, or the like, and can be appropriately adjusted in consideration of warping, deformation, and the like of the insulating substrate 10 due to heat generated from the semiconductor element 90. The conductors 80a to 80e may have, for example, two portions that differ in at least one of width and thickness. For example, the conductor pattern 80 may surround one or a plurality of connection terminals 20.
 本発明は、その精神または主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形態で実施できる。したがって、前述の実施形態はあらゆる点で単なる例示に過ぎず、本発明の範囲は請求の範囲に示すものであって、明細書本文には何ら拘束されない。さらに、請求の範囲に属する変形や変更は全て本発明の範囲内のものである。 The present invention can be implemented in various other forms without departing from the spirit or main features thereof. Therefore, the above-described embodiment is merely an example in all points, and the scope of the present invention is shown in the scope of claims, and is not restricted by the text of the specification. Further, all modifications and changes belonging to the claims are within the scope of the present invention.
 1   光電気配線基板
 10  絶縁基板
 11  第1面
 12  第2面
 13  積層体
 14  金属層
 15  絶縁層
 16  グランド層
 20  接続端子
 21  第1接続端子
 22  第2接続端子
 30  光配線
 31  光導波路
 31a 端部
 32  光変調器
 33  導波路コア部
 33a,33b 端面
 34  導波路クラッド部
 35  第1電極
 36  EOポリマコア部
 36a 分岐部
 36b 第1アーム部
 36c 第2アーム部
 36d 合波部
 36e,36f 端面
 37  第2電極
 38  クラッド部
 40  第1導体
 41  端面
 50  樹脂層
 60  配線導体
 70  第2導体
 80  導体パターン
 80a,80b,80c,80d,80e 導体
 90  半導体素子
 91  接続導体
 100 発光素子
 A   実装領域
 B   発光素子実装領域
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Photoelectric wiring board 10 Insulating board 11 1st surface 12 2nd surface 13 Laminated body 14 Metal layer 15 Insulating layer 16 Ground layer 20 Connection terminal 21 1st connection terminal 22 2nd connection terminal 30 Optical wiring 31 Optical waveguide 31a End part 32 Optical modulator 33 Waveguide core part 33a, 33b End face 34 Waveguide clad part 35 First electrode 36 EO polymer core part 36a Branch part 36b First arm part 36c Second arm part 36d Combined part 36e, 36f End face 37 Second Electrode 38 Cladding portion 40 First conductor 41 End face 50 Resin layer 60 Wiring conductor 70 Second conductor 80 Conductor pattern 80a, 80b, 80c, 80d, 80e Conductor 90 Semiconductor element 91 Connection conductor 100 Light emitting element A Mounting area B Light emitting element mounting area

Claims (10)

  1.  半導体素子の実装領域を含む第1面を有した絶縁基板と、
     前記第1面の前記実装領域内に配設された、半導体素子が接続可能な少なくとも1つの接続端子と、
     前記第1面上に配設された光配線であって、前記第1面に配設された第1電極と、該第1電極上に配設された、電気光学ポリマ材料からなるコア部と、該コア部の一部上に配設された、前記少なくとも1つの接続端子と電気的に接続された第2電極とを含む光変調器を有する光配線と、
     前記絶縁基板の内部に配設された、平面視で、前記光変調器と重なる少なくとも1つの第1導体と、
    を備える、光電気配線基板。
    An insulating substrate having a first surface including a semiconductor element mounting region;
    At least one connection terminal disposed in the mounting region of the first surface to which a semiconductor element can be connected;
    An optical wiring disposed on the first surface, the first electrode disposed on the first surface; and a core portion made of an electro-optic polymer material disposed on the first electrode; An optical wiring having an optical modulator including a second electrode electrically connected to the at least one connection terminal disposed on a part of the core portion;
    At least one first conductor disposed in the insulating substrate and overlapping the optical modulator in plan view;
    An optoelectric wiring board comprising:
  2.  前記少なくとも1つの第1導体は、前記絶縁基板の厚み方向に延びる柱状導体である、請求項1に記載の光電気配線基板。 The optoelectric wiring board according to claim 1, wherein the at least one first conductor is a columnar conductor extending in a thickness direction of the insulating substrate.
  3.  前記少なくとも1つの第1導体は、複数設けられ、平面視で、前記光変調器の前記コア部に沿って並んでいる、請求項1または請求項2に記載の光電気配線基板。 The photoelectric circuit board according to claim 1 or 2, wherein a plurality of the at least one first conductors are provided, and are arranged along the core portion of the optical modulator in a plan view.
  4.  前記少なくとも1つの第1導体と前記第1電極とは、電気的に接続されている、請求項1~3のいずれか1項に記載の光電気配線基板。 The optoelectric wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the at least one first conductor and the first electrode are electrically connected.
  5.  前記少なくとも1つの第1導体は、前記第1面に露出する端面を有し、前記端面は、前記第1電極に直接接触している、請求項1~4のいずれか1項に記載の光電気配線基板。 The light according to any one of claims 1 to 4, wherein the at least one first conductor has an end surface exposed to the first surface, and the end surface is in direct contact with the first electrode. Electrical wiring board.
  6.  前記光変調器の前記第1電極は、接地電位に接続されている、請求項1~5のいずれか1項に記載の光電気配線基板。 6. The optoelectric wiring board according to claim 1, wherein the first electrode of the optical modulator is connected to a ground potential.
  7.  前記光変調器の前記第2電極は、樹脂層で被覆されている、請求項1~6のいずれか1項に記載の光電気配線基板。 The optoelectric wiring board according to any one of claims 1 to 6, wherein the second electrode of the optical modulator is covered with a resin layer.
  8.  前記少なくとも1つの接続端子を、第1接続端子としたときに、
     前記第2電極と電気的に接続されていない第2接続端子と、
     前記第1面に配設された、前記第1電極と前記第2接続端子とを電気的に接続する配線導体と、
     前記絶縁基板の内部に配設された、平面視で、前記配線導体と重なる少なくとも1つの第2導体と、
    を備える、請求項1~7のいずれか1項に記載の光電気配線基板。
    When the at least one connection terminal is a first connection terminal,
    A second connection terminal not electrically connected to the second electrode;
    A wiring conductor disposed on the first surface for electrically connecting the first electrode and the second connection terminal;
    At least one second conductor disposed in the insulating substrate and overlapping the wiring conductor in plan view;
    The optoelectric wiring board according to any one of claims 1 to 7, comprising:
  9.  前記光変調器の前記コア部は、該コア部における光伝搬方向に垂直な断面の厚み、および幅の少なくとも一方が異なる少なくとも2つの部位を有している、請求項1~8のいずれか1項に記載の光電気配線基板。 The core portion of the optical modulator has at least two portions that differ in at least one of thickness and width of a cross section perpendicular to the light propagation direction in the core portion. The optoelectric wiring board according to item
  10.  前記第1面の上方に、平面視で、前記実装領域内から前記実装領域外に向かって延びる導体パターンが配設されている、請求項1~9のいずれか1項に記載の光電気配線基板。 10. The photoelectric wiring according to claim 1, wherein a conductor pattern extending from the inside of the mounting area to the outside of the mounting area in a plan view is disposed above the first surface. substrate.
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