WO2017178467A1 - Light-emitting component - Google Patents

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WO2017178467A1
WO2017178467A1 PCT/EP2017/058640 EP2017058640W WO2017178467A1 WO 2017178467 A1 WO2017178467 A1 WO 2017178467A1 EP 2017058640 W EP2017058640 W EP 2017058640W WO 2017178467 A1 WO2017178467 A1 WO 2017178467A1
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light
carrier
layer
component according
component
Prior art date
Application number
PCT/EP2017/058640
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German (de)
French (fr)
Inventor
David Racz
Ulrich Streppel
Original Assignee
Osram Opto Semiconductors Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Osram Opto Semiconductors Gmbh filed Critical Osram Opto Semiconductors Gmbh
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50Wavelength conversion elements
    • H01L33/505Wavelength conversion elements characterised by the shape, e.g. plate or foil
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/44Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
    • H01L33/46Reflective coating, e.g. dielectric Bragg reflector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements
    • H01L33/60Reflective elements

Definitions

  • the invention relates to a light-emitting element ge ⁇ Frankfurtss claim. 1
  • the object of the invention is to provide an improved light emitting device.
  • a light-emitting component with a carrier wherein a light-emitting semiconductor chip is arranged on the carrier. Opposite the semi-conductor chip ⁇ , the support has a reflective layer that is re-directed light emitted by the semiconductor chip light incident via the carrier to the reflecting layer, at least partially stabilized back into the carrier. Furthermore, a conversion layer is provided at least at a partial area of the side surface of the carrier. The conversion layer is formed to the laterally emitted light from the semiconductor chip at least partially ben in the wavelength to various ⁇ . Thus, a desired color mixture, in particular a white light can be generated. With the help of the proposed ⁇ nen component a low height is achieved, wherein In addition, a good lateral radiation of the light is possible.
  • the reflective layer is formed as a mirror layer.
  • the radiation is understood to mean a side surface of the component.
  • the mirror layer has the advantage that the layer thickness is very thin.
  • a particularly low overall height of the component is made ⁇ light.
  • the overall height of the component may be in the range of less than 10 mm, in particular in the range of 2 mm and smaller.
  • the reflective layer is formed as a light-scattering layer.
  • the light-scattering layer builds slightly higher than the mirror ⁇ layer, but has the advantage that a diffuse light scattering and reflection of the light back into the carrier takes place.
  • the mirror layer and / or the light-scattering layer can extend into the lateral region of the conversion layer and can also be formed on the conversion layer.
  • the semiconductor chip is formed, for example, in the form of epitaxially grown semiconductor layers. Especially for example, the semiconductor layers may be grown on the carrier.
  • the conversion layer surrounds the carrier on the entire side surface.
  • the conversion layer can at least partially or completely limit not only the side surface of the carrier, but also the side surface of the semiconductor chip. In this way, a homogeneous light is radiated from the component over the entire side surface.
  • Konversi ⁇ onstik also on the side of the semiconductor chip, a further improvement in the homogeneity of the emitted light is achieved, since also the laterally emitted from the semiconductor chip light is emitted through the conversion layer.
  • the carrier is formed with a rectangular contour.
  • the conversion layer in the proposed embodiment has an at least partially rounded outer contour. Thus, a more uniform light emission can be achieved.
  • the conversion layer surrounds the carrier completely and has a rounded rectangular outer contour or a polynomial rounded outer contour or an elliptical outer contour.
  • the shape of the outer contour may be formed in a manner to achieve a desired color mixing of the emitted light in mallli ⁇ cher direction.
  • the shape of the outer contour can be used to produce regardless of the direction of the light emission of an approximately equal wavelength of the light, ie light of the same color.
  • the component has a rectangular area, that is to say a rectangular outer contour.
  • the conversion layer completely surrounds the carrier in the lateral direction and has four rounded bulges. From ⁇ pending chosen from the embodiment, it may be advantageous to arrange the protrusions in each case centrally in relation to a Be ⁇ ten realization of the rectangular carrier. In a In another embodiment, it may be advantageous to arrange the rounded bulges respectively centrally with respect to a corner of the carrier.
  • a side surface of the component is assigned a light guide, wherein light is coupled into the light guide via the Be ⁇ ten Chemistry of the device. In this way, an improved guidance of the light in a desired direction can be achieved with the aid of the light guide.
  • the light guide is designed as a housing, wherein the component is at least partially disposed in a recess of the housing.
  • the housing can protect in the form of the light guide the Bauele ⁇ ment to damage.
  • a desired light pipe in particular a light pipe in the lateral radiation direction, can be achieved.
  • the light guide has scattering structures on a first side.
  • the scattering structures can be arranged in a uniform grid with a predetermined distance from each other.
  • the scattering structures may have the same size areas.
  • a homogeneous radiation of the light in the area of the scattering structures can be achieved.
  • Another IMPROVE ⁇ tion of the scattering structures can be achieved by the diffusing structures comprise a light diffusing material.
  • the light-scattering material may be formed, for example, in the form of a color. For example, a white color can be used that reflects 70% of the light and 30% lets through the light.
  • the scattering structure may comprise, for example, titanium oxide.
  • the recess counter to the component lying on a bottom surface, said bottom surface having a light-scattering ⁇ end or a light reflective layer at least in a partial area.
  • a further improvement of the side exhaust radiation of light can be achieved.
  • This embodiment is particularly advantageous when the device has no reflective layer, but a scattering layer or no scattering or reflective layer opposite to the semi ⁇ conductor chip.
  • the housing may have a light reflecting layer at least on a second side, which is opposite to a first side.
  • the light-reflecting layer is in particular ⁇ sondere disposed opposite to the side having the scattering structures.
  • FIG. 1 shows a schematic cross section through an embodiment of the component
  • FIG. 2 shows a schematic view of an embodiment of the component with an angular support and with a conversion layer with a round outer contour
  • FIG. 3 shows a schematic plan view of a component with an angular support with a conversion layer with an angular outer contour
  • Figure 4 is a schematic plan view of a further exporting ⁇ approximate shape of a component with a conversion layer having a rounded rectangular outer contour
  • FIG. 5 shows a schematic plan view of a further embodiment of the component with a conversion layer with a rounded free form as the outer contour
  • Figure 6 is a plan view of a further embodiment ei ⁇ nes component with a conversion layer having a rank ⁇ rounded asymmetrical outer contour
  • Figure 7 is a schematic plan view of a further exporting ⁇ approximate shape of a component with a conversion layer having an elliptical outer contour
  • FIG. 8 shows a schematic cross section through a further embodiment of the component, which is arranged in a housing ⁇ , and
  • FIG. 9 shows a schematic cross section through FIG. 8 perpendicular to the cross section of FIG. 9.
  • FIG. 1 shows, in a schematic cross section, a component 1 which has a carrier 2.
  • a semiconductor chip 3 On a lower side of the carrier 2, a semiconductor chip 3 is arranged.
  • the half ⁇ semiconductor chip 3 has a layered structure including semiconductor layers comprising an active region for generating electromagnetic radiation ⁇ shear.
  • electrical connections 4, 5 for operating the semiconductor chip 3 are provided on the underside of the semiconductor chip.
  • the electrical connections 4, 5 are, for example, designed in the form of soldering pads and connected in an electrically conductive manner to a p-side or to an n-side of the layer structure.
  • the semiconductor chip 3 may be formed in the form of epitaxially grown on the support semiconductor layers with an active zone for generating electromagnetic radiation.
  • the semiconductor chip may be formed as a sapphire flip-chip. Of the Semiconductor chip 3 may also have other forms of training.
  • the carrier 2 Opposite to the semiconductor chip 3, the carrier 2 has a reflective layer 6 on an upper side.
  • the re ⁇ inflectional layer 6 is formed to light incident from the semiconductor chip 3 by the support 2 to the reflective layer 6, at least partially to steer back to the carrier. 3 Under light becomes electromagnetic
  • the reflective layer 6 may be formed, for example, as a mirror layer or as a scattering layer.
  • the mirror layer can be formed, for example, of silver or aluminum or in the form of dielectric layers.
  • the reflective layer 6 may be formed as a scattering layer as a white light-scattering layer.
  • the diffusing layer 6 may, for example, a Sumateri ⁇ al eg silicone and scattering particles have, for example of titanium oxide and / or barium sulfate.
  • the carrier 2 is formed of a material that substantially transmits light, which is generated by the semiconductor chip 3, and absorbs it only to a small extent.
  • the carrier 2 can be made of sapphire. However, other materials such. As glass can be used.
  • the Trä ⁇ ger 2 is covered at side surfaces 7,8 with a conversion material 9.
  • the conversion material 9 can luminescent Ma ⁇ materials such. B. phosphor, the light emitted from the semiconductor chip 3 light at least partially in the
  • the Konversionsma ⁇ TERIAL 9 can be used to produce a light having a desired wavelength and a desired wavelength range.
  • the reflective layer 6 is disposed in the illustrated example exporting ⁇ approximately on an upper side of Konversionsmateri ⁇ as. 9
  • the reflective layer 6 may be arranged only on the carrier 2.
  • the conversion material 9 can cover all Be ⁇ ten vom the wearer second
  • the conversion material 9 may additionally, as shown also cover the entire soflä ⁇ surfaces of the semiconductor chip.
  • the formation of the reflective layer 6 as a mirror layer can be done by depositing metal or dielectric materials, for example by means of a sputtering method.
  • the conversion material 9 can be formed laterally on the carrier 2 and the semiconductor chip 3, for example with the aid of a mold process. In addition, for the formation of the conversion material 9 and mold method can be used.
  • the formation of the reflective layer 6 as the diffusion layer can be carried out, for example, by means of a molding process.
  • a plurality of components with the carrier and the semiconductor chip may be disposed, which are subsequently converted with conversion material 9 ⁇ ben. Thereafter, the reflective layer is placed ⁇ on the plurality of carriers, and the conversion material. 6 Subsequently, the components are separated for example by means of sawing process or by means of Laserschnei ⁇ de-method.
  • the reflective layer 6 may have a thickness in the range of 50 ym to 500 ym, depending on the chosen embodiment.
  • the carrier 2 with the semiconductor chip 3 may have a thickness in the range of 100 ym to 1000 ym, depending on the selected embodiment.
  • Figure 2 shows a schematic cross section through an embodiment of the device 1, which is constructed substantially in accordance with FIG.
  • the carrier 2 is rectangular in shape and the conversion material 9 has circular Au .kontur on.
  • the semiconductor chip 3 may cover the entire underside of the carrier 2 or only part of the underside of the carrier 2.
  • the reflective layer 6 preferably covers an entire top side of the carrier 2 and an entire top side of the conversion material 9 and thus has the outer contour of a circular disk in the exemplary embodiment shown.
  • Figure 3 shows a further embodiment of a device 1 in cross-section, substantially in accordance with FIG. Ausgebil ⁇ det 1.
  • the carrier 2 is rectangular in shape, wherein the conversion material 9 has a rectangular outer contour.
  • the reflective layer 6, which is not shown, has a rectangular, in particular square shape.
  • Figures 2 and 3 each show a component which is constructed substantially in accordance with Figure 1, but with the outer contours of the conversion material 9 differ.
  • Figure 4 shows a schematic cross section through a further embodiment of the device 1, which is constructed substantially in accordance with Figure 1, wherein the carrier 2 has a quadra ⁇ table shape.
  • the conversion material 9 has a rounded outer contour 10.
  • the outer contour 10 has a first distance A in the region of the side surfaces 7, 8, 11, 12.
  • Figure 5 shows a further embodiment of a device 1 with a schematic cross-section, wherein the device 1 is constructed substantially in accordance with Figure 1, except that the conversion material 9 has an outer contour 10 having a SYMMETRI ⁇ rule polynomial free-form.
  • the outer contour has 10 rounded bulges 14, 15, 16, 17, the center region in each case in a middle a side surface 7, 8, 11, 12 of the carrier 2 are arranged.
  • the bulges have a convex outer contour in cross section.
  • the bulges 14, 15, 16 each have a first distance A, which is the same for all bulges.
  • the outer contour 10 in the region of the corners 13 of the carrier 2 to a second distance B, which is in the range between 0.2 and 0.8 times the first distance A.
  • FIG. 6 shows a diagrammatic cross section through a further embodiment of the component 1, the component being constructed substantially in accordance with FIG. 1, wherein, however, the conversion material 9 has an outer contour 10 which has a non-symmetrical polynomial freeform.
  • the second spacing B in the areas of the corners 13 of the carrier 2 are formed to be larger than the first distances A to Be ⁇ area of the side surfaces 7, 8, 11, 12 of the carrier. 2
  • FIG. 7 shows a further embodiment of the component 1 in a schematic cross section.
  • the component 1 is constructed essentially according to FIG. 1, but the conversion material 9 has an outer contour 10 which has an elliptical shape.
  • Figure 8 shows a further embodiment of the device 1 in cross-section, the device 1 is constructed substantially in accordance with Figure 1 and is arranged in a recess 18 of a GePFu ⁇ ses 19th In this case, the recess 18 has a Bo ⁇ den configuration 20, which faces the reflective layer 6 of the component 1. Between the reflective layer 6 of the device 1 and the bottom surface 20, a free space 25 is formed.
  • a second stray or spat ⁇ terrain layer may be provided 21st
  • the housing 19 receives the device 1 at least partially.
  • the housing 19 is we ⁇ anteas partially of a light-conducting material gebil ⁇ det, which leads the light of the semiconductor chip 3 and is transparent to the light.
  • the housing 19 is a light guide.
  • a reflector layer 22 may be formed on a bottom of the housing 19.
  • the reflector layer 22 can cover the entire housing surface.
  • the re ⁇ flektor für 22 also covers the region of the recess 18th
  • the reflector layer 22 serves to reflect light which falls from the housing 19 or from the component 1 onto the reflector layer 22, back to ⁇ .
  • the reflector layer may be formed, for example, as a mirror layer or as a scattering layer.
  • the housing 19 may have scattering structures 24 on an upper side 23.
  • the scattering structures 24 serve to better decouple light from the housing 19.
  • the scattering structures 24 may have a round or angular surface in the plane of the upper side 23 of the housing 19.
  • the scattering structures 24 may be in the form of a coating or in the form of a mechanical structure of the upper side 23 of the housing 19.
  • the Streustruktu ⁇ ren 24 may be arranged a fixed grid at fixed intervals.
  • the housing 19 may be made of a light-conducting material such. As PMMA or polycarbonate Herge ⁇ provides.
  • the housing 19 may have a thickness in a Y direction perpendicular to the plane of the carrier 2 in the range of 1500 to 3000 microns.
  • FIG. 9 shows a schematic cross section through FIG. 8 in the plane of the carrier 8, wherein a part of the scattering structures 24 is shown in dashed lines. In this view, the regular arrangement of the scattering structures 24 can be detected in a grid with equal intervals. In addition, the scattering structures 24 are identical in the example chosen.
  • the scattering structures 24 are formed in the form of circular surfaces. However, any other type of surface can be used. In addition, Kings ⁇ NEN the scattering structures 24 in an irregular grid, that is, be located at different distances.
  • the scattering structures 24 may be made of silicon, for example. kon with titanium oxide on the top 23 of the housing 19 is ⁇ forms.
  • the scattering structures can be formed from highly reflective, diffuse scattering material. Thus, an off ⁇ coupling is avoided over the top of the housing 19 and the light emitted substantially over side surfaces of the housing 19. As a result, a desired lateral radiation of the light from the housing 19 is achieved. Use of the scattering structure, a desired radiation over the upper side 23 or on other side faces 26,27,28,29 of the Gezzau ⁇ ses 19 can be achieved.
  • the housing 19 may also have other shapes.
  • each semiconductor device may be formed separately ansteu ⁇ Erbar and dimmable.
  • a homogeneous ⁇ re image illumination with improved contrast and black levels can be achieved.

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Abstract

The invention relates to a light-emitting component (1) having a substrate (2), wherein a light-emitting semiconductor chip (3) is arranged on a first side of the substrate, wherein the substrate is transparent, wherein a reflecting layer (6) is provided on a second side, which is arranged to be located opposite the first side, wherein the reflecting layer (6) leads the light emitted by the semiconductor chip (3) at least partly back into the substrate (2), wherein a conversion layer (9) is provided at least on a part of a side surface of the substrate which is arranged between the first and the second side.

Description

LICHTEMITTIERENDES BAUELEMENT  LIGHT-EMITTING COMPONENT
BESCHREIBUNG DESCRIPTION
Die Erfindung betrifft ein lichtemittierendes Bauelement ge¬ mäß Patentanspruch 1. The invention relates to a light-emitting element ge ¬ Mäss claim. 1
Diese Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung DE 10 2016 106 851.9, deren Offenbarungsge¬ halt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird. This patent application claims the priority of German patent application DE 10 2016 106 851.9, which is dependent Offenbarungsge ¬ hereby incorporated by reference.
Im Stand der Technik ist es bekannt, lichtemittierende Bau¬ elemente mit einem Träger und mit einem lichtemittierenden Halbleiterchip bereitzustellen. Die lichtemittierenden Bauelemente werden beispielsweise verwendet, um eine Display- Hinterleuchtung zu ermöglichen. Dazu ist eine breitabstrahlende Sekundäroptik erforderlich. In the prior art it is known to provide light-emitting construction ¬ elements comprising a support and a light-emitting semiconductor chip. The light emitting devices are used, for example, to enable display backlighting. This requires a broad-beam secondary optics.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, ein verbessertes lichtemittierendes Bauelement bereitzustellen. The object of the invention is to provide an improved light emitting device.
Die Aufgabe der Erfindung wird durch das Bauelement gemäß Pa¬ tentanspruch 1 gelöst. Weitere vorteilhafte Ausführungsformen des Bauelementes sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben. The object of the invention is achieved by the device according to Pa ¬ tentanspruch 1. Further advantageous embodiments of the component are specified in the dependent claims.
Es wird ein lichtemittierendes Bauelement mit einem Träger vorgeschlagen, wobei ein lichtemittierender Halbleiterchip auf dem Träger angeordnet ist. Gegenüberliegend zum Halb¬ leiterchip weist der Träger eine reflektierende Schicht auf, die das vom Halbleiterchip emittierte Licht, das über den Träger auf die reflektierende Schicht fällt, wenigstens teil¬ weise wieder zurück in den Träger gelenkt wird. Weiterhin ist wenigstens an einem Teilbereich der Seitenfläche des Trägers eine Konversionsschicht vorgesehen. Die Konversionsschicht ist ausgebildet, um das vom Halbleiterchip seitlich emittierte Licht wenigstens teilweise in der Wellenlänge zu verschie¬ ben. Somit kann eine gewünschte Farbmischung, insbesondere ein weißes Licht erzeugt werden. Mit Hilfe des vorgeschlage¬ nen Bauelementes wird eine geringe Bauhöhe erreicht, wobei zudem eine gute seitliche Abstrahlung des Lichtes möglich ist . A light-emitting component with a carrier is proposed, wherein a light-emitting semiconductor chip is arranged on the carrier. Opposite the semi-conductor chip ¬, the support has a reflective layer that is re-directed light emitted by the semiconductor chip light incident via the carrier to the reflecting layer, at least partially stabilized back into the carrier. Furthermore, a conversion layer is provided at least at a partial area of the side surface of the carrier. The conversion layer is formed to the laterally emitted light from the semiconductor chip at least partially ben in the wavelength to various ¬. Thus, a desired color mixture, in particular a white light can be generated. With the help of the proposed ¬ nen component a low height is achieved, wherein In addition, a good lateral radiation of the light is possible.
In einer Ausführungsform ist die reflektierende Schicht als Spiegelschicht ausgebildet. Dadurch wird ein hoher Anteil des Lichtes, der auf die Schicht fällt, wieder zurück in den Trä¬ ger gespiegelt. Somit wird eine hohe Effizienz für eine seit¬ liche Abstrahlung des Lichtes erreicht. Unter einer seitli¬ chen Abstrahlung wird die Abstrahlung über eine Seitenfläche des Bauelementes verstanden. Zudem weist die Spiegelschicht den Vorteil auf, dass die Schichtdicke sehr dünn ist. Somit wird eine besonders geringe Bauhöhe des Bauelementes ermög¬ licht. Beispielsweise kann die Bauhöhe des Bauelementes im Bereich von kleiner als 10 mm, insbesondere im Bereich von 2 mm und kleiner liegen. In one embodiment, the reflective layer is formed as a mirror layer. Thereby, a high proportion of the light incident on the layer, reflected back into the Trä ¬ ger. Thus, a high efficiency for a ¬ since Liche emission of light is achieved. Under a seitli ¬ chen radiation, the radiation is understood to mean a side surface of the component. In addition, the mirror layer has the advantage that the layer thickness is very thin. Thus, a particularly low overall height of the component is made ¬ light. For example, the overall height of the component may be in the range of less than 10 mm, in particular in the range of 2 mm and smaller.
Zudem ist aufgrund der vorgeschlagenen Anordnung keine Sekundäroptik erforderlich, um das vom Halbleiterchip erzeugte Licht in eine gewünschte seitliche Richtung zu lenken. Da auf die Sekundäroptik verzichtet werden kann, ist kein Aufwand zum Platzieren der Linsen erforderlich. In addition, due to the proposed arrangement, no secondary optics is required to direct the light generated by the semiconductor chip in a desired lateral direction. Since the secondary optics can be dispensed with, no effort is required to place the lenses.
Zudem wird aufgrund der vorgeschlagenen Anordnung eine gute Farbhomogenität des über die Seitenfläche des Bauelementes abgegebenen Lichtes in Bezug auf einen Abstrahlwinkel er¬ reicht . In addition, due to the proposed arrangement, good color uniformity of the emitted over the side surface of the component light with respect is he ¬ reaches a beam angle.
In einer weiteren Ausführungsform ist die reflektierende Schicht als lichtstreuende Schicht ausgebildet. Die licht- streuende Schicht baut zwar etwas höher als die Spiegel¬ schicht, weist jedoch den Vorteil auf, dass eine diffuse Lichtstreuung und Reflexion des Lichtes zurück in den Träger erfolgt. Abhängig von der gewählten Ausführungsform kann sich die Spiegelschicht und/oder die lichtstreuende Schicht bis in den seitlichen Bereich der Konversionsschicht erstrecken und auch auf der Konversionsschicht ausgebildet sein. In a further embodiment, the reflective layer is formed as a light-scattering layer. Although the light-scattering layer builds slightly higher than the mirror ¬ layer, but has the advantage that a diffuse light scattering and reflection of the light back into the carrier takes place. Depending on the selected embodiment, the mirror layer and / or the light-scattering layer can extend into the lateral region of the conversion layer and can also be formed on the conversion layer.
Der Halbleiterchip ist beispielsweise in Form von epitaktisch aufgewachsenen Halbleiterschichten ausgebildet. Insbesondere können die Halbleiterschichten auf den Träger aufgewachsen sein . The semiconductor chip is formed, for example, in the form of epitaxially grown semiconductor layers. Especially For example, the semiconductor layers may be grown on the carrier.
Abhängig von der gewählten Ausführungsform umgibt die Konversionsschicht den Träger auf der gesamten Seitenfläche. Zudem kann die Konversionsschicht nicht nur die Seitenfläche des Trägers, sondern auch die Seitenfläche des Halbleiterchips wenigstens teilweise oder vollständig begrenzen. Auf diese Weise wird vom Bauelement über die gesamte Seitenfläche ein homogenes Licht abgestrahlt. Bei der Anordnung der Konversi¬ onsschicht auch auf der Seite des Halbleiterchips wird eine weitere Verbesserung der Homogenität des abgestrahlten Lichtes erreicht, da auch das vom Halbleiterchip seitlich abgestrahlte Licht durch die Konversionsschicht abgestrahlt wird. Depending on the chosen embodiment, the conversion layer surrounds the carrier on the entire side surface. In addition, the conversion layer can at least partially or completely limit not only the side surface of the carrier, but also the side surface of the semiconductor chip. In this way, a homogeneous light is radiated from the component over the entire side surface. In the arrangement of Konversi ¬ onsschicht also on the side of the semiconductor chip, a further improvement in the homogeneity of the emitted light is achieved, since also the laterally emitted from the semiconductor chip light is emitted through the conversion layer.
In einer Ausführungsform ist der Träger mit einer rechteck- förmigen Kontur ausgebildet. Im Gegensatz dazu weist die Konversionsschicht in der vorgeschlagenen Ausführungsform eine wenigstens teilweise abgerundete Außenkontur auf. Somit kann eine gleichmäßigere Lichtabstrahlung erreicht werden. In one embodiment, the carrier is formed with a rectangular contour. In contrast, the conversion layer in the proposed embodiment has an at least partially rounded outer contour. Thus, a more uniform light emission can be achieved.
In einer weiteren Ausführungsform umgibt die Konversionsschicht den Träger vollständig und weist eine abgerundete rechteckförmige Außenkontur oder eine polynomiale abgerundete Außenkontur oder eine elyptische Außenkontur auf. Die Form der Außenkontur kann in der Weise ausgebildet sein, um eine gewünschte Farbmischen des abgestrahlten Lichtes in seitli¬ cher Richtung zu erreichen. Zudem kann die Form der Außenkontur verwendet werden, um unabhängig von der Abstrahlrichtung des Lichtes eine annähernd gleiche Wellenlänge des Lichtes, d.h. Licht mit gleicher Farbe zu erzeugen. In a further embodiment, the conversion layer surrounds the carrier completely and has a rounded rectangular outer contour or a polynomial rounded outer contour or an elliptical outer contour. The shape of the outer contour may be formed in a manner to achieve a desired color mixing of the emitted light in seitli ¬ cher direction. In addition, the shape of the outer contour can be used to produce regardless of the direction of the light emission of an approximately equal wavelength of the light, ie light of the same color.
In einer Ausführungsform weist das Bauelement eine rechteckige Fläche, das heißt eine rechteckige Außenkontur auf. Die Konversionsschicht umgibt den Träger in seitlicher Richtung vollständig und weist vier abgerundete Ausbuchtungen auf. Ab¬ hängig von der gewählten Ausführungsform kann es vorteilhaft sein, die Ausbuchtungen jeweils mittig in Bezug auf eine Sei¬ tenfläche des rechteckförmigen Trägers anzuordnen. In einer weiteren Ausführungsform kann es vorteilhaft sein, die abgerundeten Ausbuchtungen jeweils mittig in Bezug auf eine Ecke des Trägers anzuordnen. In einer weiteren Ausführungsform ist einer Seitenfläche des Bauelementes ein Lichtleiter zugeordnet, wobei über die Sei¬ tenfläche des Bauelementes Licht in den Lichtleiter gekoppelt wird. Auf diese Weise kann mit Hilfe des Lichtleiters eine verbesserte Führung des Lichtes in einer gewünschten Richtung erreicht werden. In one embodiment, the component has a rectangular area, that is to say a rectangular outer contour. The conversion layer completely surrounds the carrier in the lateral direction and has four rounded bulges. From ¬ pending chosen from the embodiment, it may be advantageous to arrange the protrusions in each case centrally in relation to a Be ¬ tenfläche of the rectangular carrier. In a In another embodiment, it may be advantageous to arrange the rounded bulges respectively centrally with respect to a corner of the carrier. In another embodiment, a side surface of the component is assigned a light guide, wherein light is coupled into the light guide via the Be ¬ tenfläche of the device. In this way, an improved guidance of the light in a desired direction can be achieved with the aid of the light guide.
In einer weiteren Ausführungsform ist der Lichtleiter als Gehäuse ausgebildet, wobei das Bauelement wenigstens teilweise in einer Ausnehmung des Gehäuses angeordnet ist. Somit kann ein kompakter Aufbau des Bauelementes erreicht werden, wobei gleichzeitig eine lichtleitende Funktion des vom Bauelement abgestrahlten Lichtes mit Hilfe des Gehäuses erreicht wird. Zudem kann das Gehäuse in Form des Lichtleiters das Bauele¬ ment gegenüber Beschädigungen schützen. Weiterhin kann mit Hilfe des Gehäuses eine gewünschte Lichtleitung insbesondere eine Lichtleitung in der seitlichen Abstrahlrichtung erreicht werden . In a further embodiment, the light guide is designed as a housing, wherein the component is at least partially disposed in a recess of the housing. Thus, a compact structure of the device can be achieved, at the same time a light-conducting function of the radiated light from the component is achieved by means of the housing. In addition, the housing can protect in the form of the light guide the Bauele ¬ ment to damage. Furthermore, with the help of the housing, a desired light pipe, in particular a light pipe in the lateral radiation direction, can be achieved.
In einer weiteren Ausführungsform weist der Lichtleiter auf einer ersten Seite Streustrukturen auf. Somit kann eine verbesserte Lichtführung in einer gewünschten Auskoppelrichtung erreicht werden. In a further embodiment, the light guide has scattering structures on a first side. Thus, an improved light guide can be achieved in a desired Auskoppelrichtung.
Die Streustrukturen können in einem gleichmäßigen Raster mit einem vorgegebenen Abstand zueinander angeordnet sein. Zudem können die Streustrukturen gleich große Flächen aufweisen. Somit kann eine im Bereich der Streustrukturen homogene Ab- strahlung des Lichtes erreicht werden. Eine weitere Verbesse¬ rung der Streustrukturen kann erreicht werden, indem die Streustrukturen ein lichtstreuendes Material aufweisen. Das lichtstreuende Material kann beispielsweise in Form einer Farbe ausgebildet sein. Beispielsweise kann eine weiße Farbe verwendet werden, die 70 % des Lichtes reflektiert und 30 % des Lichtes durchlässt. Die Streustruktur kann beispielsweise Titanoxid aufweisen. The scattering structures can be arranged in a uniform grid with a predetermined distance from each other. In addition, the scattering structures may have the same size areas. Thus, a homogeneous radiation of the light in the area of the scattering structures can be achieved. Another IMPROVE ¬ tion of the scattering structures can be achieved by the diffusing structures comprise a light diffusing material. The light-scattering material may be formed, for example, in the form of a color. For example, a white color can be used that reflects 70% of the light and 30% lets through the light. The scattering structure may comprise, for example, titanium oxide.
In einer weiteren Ausführungsform weist die Ausnehmung gegen- überliegend zum Bauelement eine Bodenfläche auf, wobei die Bodenfläche wenigstens in einem Teilbereich eine lichtstreu¬ ende oder eine lichtreflektierende Schicht aufweist. Auf die¬ se Weise kann eine weitere Verbesserung der seitlichen Ab- strahlung des Lichtes erreicht werden. Diese Ausführungsform ist insbesondere dann von Vorteil, wenn das Bauelement keine spiegelnde Schicht, sondern eine streuende Schicht oder keine streuende oder spiegelnde Schicht gegenüberliegend zum Halb¬ leiterchip aufweist. Abhängig von der gewählten Ausführungsform kann das Gehäuse wenigstens auf einer zweiten Seite, die gegenüber liegend zu einer ersten Seite angeordnet ist, eine lichtreflektierende Schicht aufweisen. Die lichtreflektierende Schicht ist insbe¬ sondere gegenüberliegend zu der Seite mit den Streustrukturen angeordnet. In a further embodiment, the recess counter to the component lying on a bottom surface, said bottom surface having a light-scattering ¬ end or a light reflective layer at least in a partial area. On the ¬ se, a further improvement of the side exhaust radiation of light can be achieved. This embodiment is particularly advantageous when the device has no reflective layer, but a scattering layer or no scattering or reflective layer opposite to the semi ¬ conductor chip. Depending on the chosen embodiment, the housing may have a light reflecting layer at least on a second side, which is opposite to a first side. The light-reflecting layer is in particular ¬ sondere disposed opposite to the side having the scattering structures.
Die oben beschriebenen Eigenschaften, Merkmale und Vorteile dieser Erfindung sowie die Art und Weise, wie diese erreicht werden, werden klarer und deutlicher verständlich im Zusam- menhang mit der folgenden Beschreibung der Ausführungsbeispiele, die im Zusammenhang mit den Zeichnungen näher erläutert werden. Es zeigen The above-described characteristics, features and advantages of this invention, as well as the manner in which they are achieved, will become clearer and more clearly understood in connection with the following description of the exemplary embodiments, which will be explained in more detail in conjunction with the drawings. Show it
Figur 1 einen schematischen Querschnitt durch eine Ausfüh- rungsform des Bauelementes, FIG. 1 shows a schematic cross section through an embodiment of the component,
Figur 2 eine schematische Ansicht auf eine Ausführungsform des Bauelementes mit einem eckigen Träger und mit einer Konversionsschicht mit einer runden Außenkontur, FIG. 2 shows a schematic view of an embodiment of the component with an angular support and with a conversion layer with a round outer contour,
Figur 3 eine schematische Draufsicht auf ein Bauelement mit einem eckigen Träger mit einer Konversionsschicht mit einer eckigen Außenkontur, Figur 4 eine schematische Draufsicht auf eine weitere Ausfüh¬ rungsform eines Bauelementes mit einer Konversionsschicht mit einer rechteckförmigen abgerundeten Außenkontur, FIG. 3 shows a schematic plan view of a component with an angular support with a conversion layer with an angular outer contour, Figure 4 is a schematic plan view of a further exporting ¬ approximate shape of a component with a conversion layer having a rounded rectangular outer contour,
Figur 5 eine schematische Draufsicht auf eine weitere Ausfüh- rungsform des Bauelementes mit einer Konversionsschicht mit einer abgerundeten Freiform als Außenkontur, FIG. 5 shows a schematic plan view of a further embodiment of the component with a conversion layer with a rounded free form as the outer contour,
Figur 6 eine Draufsicht auf eine weitere Ausführungsform ei¬ nes Bauelementes mit einer Konversionsschicht mit einer abge¬ rundeten unsymmetrischen Außenkontur, Figure 6 is a plan view of a further embodiment ei ¬ nes component with a conversion layer having a abge ¬ rounded asymmetrical outer contour,
Figur 7 eine schematische Draufsicht auf eine weitere Ausfüh¬ rungsform eines Bauelementes mit einer Konversionsschicht mit einer elliptischen Außenkontur, Figure 7 is a schematic plan view of a further exporting ¬ approximate shape of a component with a conversion layer having an elliptical outer contour,
Figur 8 einen schematischen Querschnitt durch eine weitere Ausführungsform des Bauelementes, das in einem Gehäuse ange¬ ordnet ist, und 8 shows a schematic cross section through a further embodiment of the component, which is arranged in a housing ¬ , and
Figur 9 einen schematischen Querschnitt durch Figur 8 senkrecht zum Querschnitt der Figur 9. 9 shows a schematic cross section through FIG. 8 perpendicular to the cross section of FIG. 9.
Figur 1 zeigt in einem schematischen Querschnitt ein Bauelement 1, das einen Träger 2 aufweist. Auf einer Unterseite des Trägers 2 ist ein Halbleiterchip 3 angeordnet. Der Halb¬ leiterchip 3 weist eine Schichtstruktur mit Halbleiterschichten auf, die eine aktive Zone zum Erzeugen elektromagneti¬ scher Strahlung aufweisen. Zudem sind auf der Unterseite des Halbleiterchips elektrische Anschlüsse 4,5 zum Betreiben des Halbleiterchips 3 vorgesehen. Die elektrischen Anschlüsse 4,5 sind beispielsweise in Form von Lötpads ausgebildet und mit einer p-Seite bzw. mit einer n-Seite der Schichtstruktur elektrisch leitend verbunden. Der Halbleiterchip 3 kann in Form von epitaktisch auf den Träger aufgewachsenen Halbleiterschichten mit einer aktiven Zone zum Erzeugen einer elektromagnetischen Strahlung ausgebildet sein. Zudem kann der Halbleiterchip als Saphir-Flip-Chip ausgebildet sein. Der Halbleiterchip 3 kann auch andere Ausbildungsformen aufweisen . FIG. 1 shows, in a schematic cross section, a component 1 which has a carrier 2. On a lower side of the carrier 2, a semiconductor chip 3 is arranged. The half ¬ semiconductor chip 3 has a layered structure including semiconductor layers comprising an active region for generating electromagnetic radiation ¬ shear. In addition, electrical connections 4, 5 for operating the semiconductor chip 3 are provided on the underside of the semiconductor chip. The electrical connections 4, 5 are, for example, designed in the form of soldering pads and connected in an electrically conductive manner to a p-side or to an n-side of the layer structure. The semiconductor chip 3 may be formed in the form of epitaxially grown on the support semiconductor layers with an active zone for generating electromagnetic radiation. In addition, the semiconductor chip may be formed as a sapphire flip-chip. Of the Semiconductor chip 3 may also have other forms of training.
Gegenüberliegend zum Halbleiterchip 3 weist der Träger 2 auf einer Oberseite eine reflektierende Schicht 6 auf. Die re¬ flektierende Schicht 6 ist ausgebildet, um Licht, das vom Halbleiterchip 3 durch den Träger 2 auf die reflektierende Schicht 6 fällt, wenigstens teilweise wieder zurück in den Träger 3 zu lenken. Unter Licht wird elektromagnetische Opposite to the semiconductor chip 3, the carrier 2 has a reflective layer 6 on an upper side. The re ¬ inflectional layer 6 is formed to light incident from the semiconductor chip 3 by the support 2 to the reflective layer 6, at least partially to steer back to the carrier. 3 Under light becomes electromagnetic
Strahlung verstanden, wobei deren Wellenlänge auch außerhalb des sichtbaren Bereiches liegen kann. Die reflektierende Schicht 6 kann beispielsweise als Spiegelschicht oder als streuende Schicht ausgebildet sein. Die Spiegelschicht kann beispielsweise aus Silber oder Aluminium oder in Form von dielektrischen Schichten ausgebildet sein. Weiterhin kann die reflektierende Schicht 6 bei der Ausbildung als streuende Schicht als weißes Licht streuende Schicht ausgebildet sein. Die streuende Schicht 6 kann beispielsweise ein Trägermateri¬ al z.B. Silikon und streuende Partikel z.B. aus Titanoxid und/oder Bariumsulfat aufweisen. Understood radiation, wherein the wavelength can also be outside the visible range. The reflective layer 6 may be formed, for example, as a mirror layer or as a scattering layer. The mirror layer can be formed, for example, of silver or aluminum or in the form of dielectric layers. Furthermore, in the embodiment, the reflective layer 6 may be formed as a scattering layer as a white light-scattering layer. The diffusing layer 6 may, for example, a Trägermateri ¬ al eg silicone and scattering particles have, for example of titanium oxide and / or barium sulfate.
Der Träger 2 ist aus einem Material gebildet, das Licht, das vom Halbleiterchip 3 erzeugt wird, im Wesentlichen durchlässt und nur zu einem geringen Anteil absorbiert. Beispielsweise kann der Träger 2 aus Saphir bestehen. Es können jedoch auch andere Materialien wie z. B. Glas verwendet werden. Der Trä¬ ger 2 ist an Seitenflächen 7,8 mit einem Konversionsmaterial 9 bedeckt. Das Konversionsmaterial 9 kann lumineszierende Ma¬ terialien wie z. B. Phosphor aufweisen, das das vom Halb- leiterchip 3 abgegebene Licht wenigstens teilweise in derThe carrier 2 is formed of a material that substantially transmits light, which is generated by the semiconductor chip 3, and absorbs it only to a small extent. For example, the carrier 2 can be made of sapphire. However, other materials such. As glass can be used. The Trä ¬ ger 2 is covered at side surfaces 7,8 with a conversion material 9. The conversion material 9 can luminescent Ma ¬ materials such. B. phosphor, the light emitted from the semiconductor chip 3 light at least partially in the
Wellenlänge verschiebt. Insbesondere kann das Konversionsma¬ terial 9 verwendet werden, um ein Licht mit einer gewünschten Wellenlänge bzw. einen gewünschten Wellenlängenbereich zu erzeugen. Beispielsweise kann mit Hilfe eines Halbleiterchips, der blaues Licht erzeugt und einem entsprechenden Konversi¬ onsmaterial 9 insgesamt weißes Licht seitlich abgestrahlt werden . Die reflektierende Schicht 6 ist in dem dargestellten Ausfüh¬ rungsbeispiel auch auf einer Oberseite des Konversionsmateri¬ als 9 angeordnet. Zudem kann abhängig von der gewählten Ausführungsform die reflektierende Schicht 6 nur auf dem Träger 2 angeordnet sein. Das Konversionsmaterial 9 kann alle Sei¬ tenflächen des Trägers 2 bedecken. Das Konversionsmaterial 9 kann zusätzlich, wie dargestellt auch die gesamten Seitenflä¬ chen des Halbleiterchips 3 bedecken. Die Ausbildung der reflektierenden Schicht 6 als Spiegelschicht kann durch Abscheiden von Metall oder dielektrische Materialien beispielsweise mit Hilfe eines Sputter-Verfahren erfolgen. Das Konversionsmaterial 9 kann beispielsweise mit Hilfe eines Mould-Verfahrens seitlich an den Träger 2 und den Halbleiterchip 3 angeformt werden. Zudem kann zur Ausbildung des Konversionsmaterials 9 auch Form-Verfahren eingesetzt werden. Die Ausbildung der reflektierenden Schicht 6 als die Diffusionsschicht kann beispielsweise mit Hilfe eines Mold- Verfahrens durchgeführt werden. Wavelength shifts. In particular, the Konversionsma ¬ TERIAL 9 can be used to produce a light having a desired wavelength and a desired wavelength range. For example, with the aid of a semiconductor chip that generates blue light and a corresponding Konversi ¬ onsmaterial 9 total white light emitted sideways. The reflective layer 6 is disposed in the illustrated example exporting ¬ approximately on an upper side of Konversionsmateri ¬ as. 9 In addition, depending on the selected embodiment, the reflective layer 6 may be arranged only on the carrier 2. The conversion material 9 can cover all Be ¬ tenflächen the wearer second The conversion material 9 may additionally, as shown also cover the entire Seitenflä ¬ surfaces of the semiconductor chip. 3 The formation of the reflective layer 6 as a mirror layer can be done by depositing metal or dielectric materials, for example by means of a sputtering method. The conversion material 9 can be formed laterally on the carrier 2 and the semiconductor chip 3, for example with the aid of a mold process. In addition, for the formation of the conversion material 9 and mold method can be used. The formation of the reflective layer 6 as the diffusion layer can be carried out, for example, by means of a molding process.
Bei der Herstellung des Bauelementes 1 können eine Vielzahl von Bauelementen mit dem Träger und dem Halbleiterchip angeordnet sein, die anschließend mit Konversionsmaterial 9 umge¬ ben werden. Daraufhin wird die reflektierende Schicht 6 auf die Vielzahl von Trägern und das Konversionsmaterial aufge¬ bracht. Anschließend werden die Bauelemente beispielsweise mit Hilfe von Säge-Verfahren oder mit Hilfe von Laserschnei¬ de-Verfahren vereinzelt. Die reflektierende Schicht 6 kann abhängig von der gewählten Ausführungsform eine Dicke im Bereich von 50 ym bis 500 ym aufweisen. Der Träger 2 mit dem Halbleiterchip 3 kann abhängig von der gewählten Ausführungsform eine Dicke im Bereich von 100 ym bis 1000 ym aufweisen. In the preparation of the component 1, a plurality of components with the carrier and the semiconductor chip may be disposed, which are subsequently converted with conversion material 9 ¬ ben. Thereafter, the reflective layer is placed ¬ on the plurality of carriers, and the conversion material. 6 Subsequently, the components are separated for example by means of sawing process or by means of Laserschnei ¬ de-method. The reflective layer 6 may have a thickness in the range of 50 ym to 500 ym, depending on the chosen embodiment. The carrier 2 with the semiconductor chip 3 may have a thickness in the range of 100 ym to 1000 ym, depending on the selected embodiment.
Figur 2 zeigt einen schematischen Querschnitt durch eine Ausführungsform des Bauelementes 1, das im Wesentlichen gemäß Fig. 1 aufgebaut ist. Der Träger 2 ist rechteckförmig ausgebildet und das Konversionsmaterial 9 weist kreisförmige Au- ßenkontur auf. Der Halbleiterchip 3 kann abhängig von der gewissen Ausführungsform die gesamte Unterseite des Trägers 2 oder nur einen Teil der Unterseite des Trägers 2 bedecken. Die reflektierende Schicht 6 bedeckt vorzugsweise eine gesam- te Oberseite des Trägers 2 und eine gesamte Oberseite des Konversionsmaterials 9 und weist somit in dem dargestellten Ausführungsbeispiel die Außenkontur einer Kreisscheibe auf. Figure 2 shows a schematic cross section through an embodiment of the device 1, which is constructed substantially in accordance with FIG. The carrier 2 is rectangular in shape and the conversion material 9 has circular Au ßenkontur on. Depending on the particular embodiment, the semiconductor chip 3 may cover the entire underside of the carrier 2 or only part of the underside of the carrier 2. The reflective layer 6 preferably covers an entire top side of the carrier 2 and an entire top side of the conversion material 9 and thus has the outer contour of a circular disk in the exemplary embodiment shown.
Figur 3 zeigt eine weitere Ausführungsform eines Bauelementes 1 im Querschnitt, das im Wesentlichen gemäß Fig. 1 ausgebil¬ det ist. Der Träger 2 ist rechteckförmig ausgebildet, wobei das Konversionsmaterial 9 eine rechteckförmige Außenkontur aufweist. Somit weist bei dieser Ausführungsform die reflektierende Schicht 6, die nicht dargestellt ist, eine recht- eckige, insbesondere quadratische Form auf. Die Figuren 2 und 3 zeigen jeweils ein Bauelement, das im Wesentlichen gemäß Figur 1 aufgebaut ist, wobei jedoch sich die Außenkonturen des Konversionsmaterials 9 unterscheiden. Figur 4 zeigt einen schematischen Querschnitt durch eine weitere Ausführungsform des Bauelementes 1, das im Wesentlichen gemäß Figur 1 aufgebaut ist, wobei der Träger 2 eine quadra¬ tische Form aufweist. Das Konversionsmaterial 9 weist eine abgerundete Außenkontur 10 auf. Die Außenkontur 10 weist im Bereich der Seitenflächen 7, 8, 11, 12 einen ersten Abstand A auf. Im Bereich von Ecken 13 des Trägers 2 weist die Außen¬ kontur 10 einen Abstand B auf. Versuchungen haben gezeigt, dass eine homogenere Farbe des Lichtes über die gesamten Sei¬ tenflächen des Bauelementes 1 erreicht werden kann, wenn der zweite Abstand B im Bereich von 0,2 bis 0,8 mal des ersten Abstandes A liegt. Figure 3 shows a further embodiment of a device 1 in cross-section, substantially in accordance with FIG. Ausgebil ¬ det 1. The carrier 2 is rectangular in shape, wherein the conversion material 9 has a rectangular outer contour. Thus, in this embodiment, the reflective layer 6, which is not shown, has a rectangular, in particular square shape. Figures 2 and 3 each show a component which is constructed substantially in accordance with Figure 1, but with the outer contours of the conversion material 9 differ. Figure 4 shows a schematic cross section through a further embodiment of the device 1, which is constructed substantially in accordance with Figure 1, wherein the carrier 2 has a quadra ¬ table shape. The conversion material 9 has a rounded outer contour 10. The outer contour 10 has a first distance A in the region of the side surfaces 7, 8, 11, 12. In the region of corners 13 of the carrier 2, the outer ¬ contour 10 at a distance B on. Temptations have shown that a more homogeneous color of light over the entire Be ¬ tenflächen of the device 1 can be achieved when the second distance B is in the range of 0.2 to 0.8 times the first distance A.
Figur 5 zeigt eine weitere Ausführungsform eines Bauelementes 1 mit einem schematischen Querschnitt, wobei das Bauelement 1 im Wesentlichen gemäß Figur 1 aufgebaut ist, wobei jedoch das Konversionsmaterial 9 eine Außenkontur 10 mit einer symmetri¬ schen polynomialen Freiform aufweist. Bei dieser Ausbildungsform weist die Außenkontur 10 abgerundete Ausbuchtungen 14, 15, 16, 17 auf, deren Mittenbereich jeweils in einer Mitte einer Seitenfläche 7, 8, 11, 12 des Trägers 2 angeordnet sind. Die Ausbuchtungen weisen im Querschnitt eine konvexe Außenkontur auf. Die Ausbuchtungen 14, 15, 16 weisen jeweils einen ersten Abstand A auf, der für alle Ausbuchtungen gleich groß ist. Zudem weist die Außenkontur 10 im Bereich der Ecken 13 des Trägers 2 einen zweiten Abstand B auf, der im Bereich zwischen 0,2 und 0,8 mal dem ersten Abstand A ist. Figure 5 shows a further embodiment of a device 1 with a schematic cross-section, wherein the device 1 is constructed substantially in accordance with Figure 1, except that the conversion material 9 has an outer contour 10 having a SYMMETRI ¬ rule polynomial free-form. In this embodiment, the outer contour has 10 rounded bulges 14, 15, 16, 17, the center region in each case in a middle a side surface 7, 8, 11, 12 of the carrier 2 are arranged. The bulges have a convex outer contour in cross section. The bulges 14, 15, 16 each have a first distance A, which is the same for all bulges. In addition, the outer contour 10 in the region of the corners 13 of the carrier 2 to a second distance B, which is in the range between 0.2 and 0.8 times the first distance A.
Figur 6 zeigt einen schematischen Querschnitt durch eine wei- tere Ausführungsform des Bauelementes 1 wobei das Bauelement im Wesentlichen gemäß Figur 1 aufgebaut ist, wobei jedoch das Konversionsmaterial 9 eine Außenkontur 10 aufweist, die eine nichtsymmetrische polynomiale Freiform aufweist. Dabei sind die zweiten Abstände B in den Bereichen der Ecken 13 des Trä- gers 2 größer ausgebildet als die ersten Abstände A im Be¬ reich der Seitenflächen 7, 8, 11, 12 des Trägers 2. FIG. 6 shows a diagrammatic cross section through a further embodiment of the component 1, the component being constructed substantially in accordance with FIG. 1, wherein, however, the conversion material 9 has an outer contour 10 which has a non-symmetrical polynomial freeform. The second spacing B in the areas of the corners 13 of the carrier 2 are formed to be larger than the first distances A to Be ¬ area of the side surfaces 7, 8, 11, 12 of the carrier. 2
Figur 7 zeigt eine weitere Ausführungsform des Bauelementes 1 in einem schematischen Querschnitt. Das Bauelement 1 ist im wesentlich gemäß Figur 1 aufgebaut, wobei jedoch das Konversionsmaterial 9 eine Außenkontur 10 aufweist, die über eine elliptische Form verfügt. FIG. 7 shows a further embodiment of the component 1 in a schematic cross section. The component 1 is constructed essentially according to FIG. 1, but the conversion material 9 has an outer contour 10 which has an elliptical shape.
Figur 8 zeigt eine weitere Ausführungsform des Bauelementes 1 im Querschnitt, wobei das Bauelement 1 im Wesentlichen gemäß Figur 1 aufgebaut ist und in einer Ausnehmung 18 eines Gehäu¬ ses 19 angeordnet ist. Dabei weist die Ausnehmung 18 eine Bo¬ denfläche 20 aufweist, die der reflektierenden Schicht 6 des Bauelementes 1 zugewandt ist. Zwischen der reflektierenden Schicht 6 des Bauelementes 1 und der Bodenfläche 20 kann ein freier Raum 25 ausgebildet. Figure 8 shows a further embodiment of the device 1 in cross-section, the device 1 is constructed substantially in accordance with Figure 1 and is arranged in a recess 18 of a Gehäu ¬ ses 19th In this case, the recess 18 has a Bo ¬ denfläche 20, which faces the reflective layer 6 of the component 1. Between the reflective layer 6 of the device 1 and the bottom surface 20, a free space 25 is formed.
Auf der Bodenfläche 20 kann eine zweite streuende oder spie¬ gelnde Schicht 21 vorgesehen sein. Das Gehäuse 19 nimmt das Bauelement 1 wenigstens teilweise auf. Das Gehäuse 19 ist we¬ nigstens teilweise aus einem lichtleitenden Material gebil¬ det, das das Licht des Halbleiterchips 3 führt bzw. für das Licht durchlässig ist. Somit stellt das Gehäuse 19 einen Lichtleiter dar. Zudem kann abhängig von der gewählten Aus- führungsform eine Reflektorschicht 22 auf einer Unterseite des Gehäuses 19 ausgebildet sein. Die Reflektorschicht 22 kann die gesamte Gehäusefläche abdecken. Zudem deckt die Re¬ flektorschicht 22 auch den Bereich der Ausnehmung 18 ab. Die Reflektorschicht 22 dient dazu, um Licht, das vom Gehäuse 19 oder vom Bauelement 1 auf die Reflektorschicht 22 fällt, zu¬ rück zu reflektieren. Die Reflektorschicht kann z.B. als Spiegelschicht oder als streuende Schicht ausgebildet sein. Abhängig von der gewählten Ausführungsform kann das Gehäuse 19 auf einer Oberseite 23 Streustrukturen 24 aufweisen. Die Streustrukturen 24 dienen dazu, um Licht aus dem Gehäuse 19 besser auszukoppeln. Die Streustrukturen 24 können eine runde oder eckige Fläche in der Ebene der Oberseite 23 des Gehäuses 19 aufweisen. Die Streustrukturen 24 können in Form einer Be- schichtung oder in Form einer mechanischen Struktur der Oberseite 23 des Gehäuses 19 ausgebildet sein. Der Streustruktu¬ ren 24 können einen festgelegten Raster mit festgelegten Abständen angeordnet sein. Das Gehäuse 19 kann aus einem licht- leitenden Material wie z. B. PMMA oder Polycarbonat herge¬ stellt sein. Das Gehäuse 19 kann eine Dicke in einer Y- Richtung senkrecht zur Ebene des Trägers 2 im Bereich von 1500 bis 3000 Mikrometern aufweisen. Figur 9 zeigt einen schematischen Querschnitt durch Fig. 8 in der Ebene des Trägers 8, wobei ein Teil der Streustrukturen 24 gestrichelt dargestellt ist. Bei dieser Ansicht kann die regelmäßige Anordnung der Streustrukturen 24 in einem Raster mit gleich großen Abständen erkannt werden. Zudem sind die Streustrukturen 24 in dem gewählten Beispiel identisch ausgebildet . On the bottom surface 20, a second stray or spat ¬ terrain layer may be provided 21st The housing 19 receives the device 1 at least partially. The housing 19 is we ¬ nigstens partially of a light-conducting material gebil ¬ det, which leads the light of the semiconductor chip 3 and is transparent to the light. Thus, the housing 19 is a light guide. In addition, depending on the selected output Guidance form a reflector layer 22 may be formed on a bottom of the housing 19. The reflector layer 22 can cover the entire housing surface. In addition, the re ¬ flektorschicht 22 also covers the region of the recess 18th The reflector layer 22 serves to reflect light which falls from the housing 19 or from the component 1 onto the reflector layer 22, back to ¬ . The reflector layer may be formed, for example, as a mirror layer or as a scattering layer. Depending on the selected embodiment, the housing 19 may have scattering structures 24 on an upper side 23. The scattering structures 24 serve to better decouple light from the housing 19. The scattering structures 24 may have a round or angular surface in the plane of the upper side 23 of the housing 19. The scattering structures 24 may be in the form of a coating or in the form of a mechanical structure of the upper side 23 of the housing 19. The Streustruktu ¬ ren 24 may be arranged a fixed grid at fixed intervals. The housing 19 may be made of a light-conducting material such. As PMMA or polycarbonate Herge ¬ provides. The housing 19 may have a thickness in a Y direction perpendicular to the plane of the carrier 2 in the range of 1500 to 3000 microns. FIG. 9 shows a schematic cross section through FIG. 8 in the plane of the carrier 8, wherein a part of the scattering structures 24 is shown in dashed lines. In this view, the regular arrangement of the scattering structures 24 can be detected in a grid with equal intervals. In addition, the scattering structures 24 are identical in the example chosen.
In dem dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Streustrukturen 24 in Form von Kreisflächen ausgebildet. Es kann jedoch auch jede andere Art von Fläche verwendet werden. Zudem kön¬ nen die Streustrukturen 24 auch in einem unregelmäßigen Raster, das heißt mit unterschiedlichen Abständen angeordnet sein. Die Streustrukturen 24 können beispielsweise aus Sili- kon mit Titanoxid auf der Oberseite 23 des Gehäuses 19 ausge¬ bildet sein. In the illustrated embodiment, the scattering structures 24 are formed in the form of circular surfaces. However, any other type of surface can be used. In addition, Kings ¬ NEN the scattering structures 24 in an irregular grid, that is, be located at different distances. The scattering structures 24 may be made of silicon, for example. kon with titanium oxide on the top 23 of the housing 19 is ¬ forms.
Die Streustrukturen können aus hoch reflektiven, diffusen streuendem Material ausgebildet sein. Somit wird eine Aus¬ kopplung über die Oberseite des Gehäuses 19 vermieden und das Licht im Wesentlichen über Seitenflächen des Gehäuses 19 abgestrahlt. Dadurch wird eine gewünschte seitliche Abstrahlung des Lichtes aus dem Gehäuse 19 erreicht. Mithilfe der Streu- strukturen kann eine gewünschte Abstrahlung über die Oberseite 23 oder über weitere Seitenflächen 26,27,28,29 des Gehäu¬ ses 19 erreicht werden. The scattering structures can be formed from highly reflective, diffuse scattering material. Thus, an off ¬ coupling is avoided over the top of the housing 19 and the light emitted substantially over side surfaces of the housing 19. As a result, a desired lateral radiation of the light from the housing 19 is achieved. Use of the scattering structure, a desired radiation over the upper side 23 or on other side faces 26,27,28,29 of the Gehäu ¬ ses 19 can be achieved.
Abhängig von der gewählten Ausführung kann das Gehäuse 19 auch andere Formen aufweisen. Insbesondere können andere Formen von Lichtleiter an wenigstens eine Seitenfläche des Bau¬ elementes 1 gekoppelt sein. Depending on the chosen embodiment, the housing 19 may also have other shapes. In particular, other forms of light guides to be coupled to a side surface of the construction element 1 at least ¬.
Mit Hilfe des vorgeschlagenen Bauelementes 1 bzw. mithilfe des Bauelementes 1 mit Gehäuse 19 kann insbesondere eine ver¬ besserte Display-Hinterleuchtung erreicht werden, die eine hohe Lichthomogenität bereitstellt. Zudem kann mit Hilfe der vorgeschlagenen Bauelemente eine Hinterleuchtung von LCD Displays, insbesondere bei LCD Fernsehern bereitgestellt werden, wobei hinter der Displayfläche die Bauelemente verteilt sind. Insbesondere kann jedes Halbleiterbauelement separat ansteu¬ erbar und dimmbar ausgebildet sein. Somit kann eine homogene¬ re Bildausleuchtung mit verbesserten Kontrast- und Schwarzwerten erreicht werden. With the aid of the proposed component 1 or with the aid of the component 1 with the housing 19, in particular a ver ¬ improved display backlighting can be achieved, which provides a high homogeneity of light. In addition, with the aid of the proposed components, backlighting of LCD displays, in particular in LCD televisions, can be provided, the components being distributed behind the display surface. Specifically, each semiconductor device may be formed separately ansteu ¬ Erbar and dimmable. Thus, a homogeneous ¬ re image illumination with improved contrast and black levels can be achieved.
Obwohl die Erfindung im Detail durch das bevorzugte Ausführungsbeispiel näher illustriert und beschrieben wurde, so ist die Erfindung nicht durch die offenbarten Beispiele einge¬ schränkt und andere Variationen können vom Fachmann hieraus abgeleitet werden, ohne den Schutzumfang der Erfindung zu verlassen . BEZUGSZEICHENLISTE Although the invention in detail by the preferred embodiment has been illustrated and described in detail, the invention is not limited ¬ by the disclosed examples and other variations can be derived therefrom by the skilled artisan without departing from the scope of the invention. LIST OF REFERENCE NUMBERS
1 Bauelement 1 component
2 Träger  2 carriers
3 Halbleiterchip 3 semiconductor chip
4 Erster elektrische Anschluss  4 First electrical connection
5 Zweiter elektrische Anschluss  5 Second electrical connection
6 reflektierende Schicht  6 reflective layer
7 Erste Seitenfläche  7 First side surface
8 Zweite Seitenfläche 8 Second side surface
9 Konversionsmaterial  9 conversion material
10 Außenkontur  10 outer contour
11 Dritte Seitenfläche  11 Third side surface
12 Vierte Seitenfläche  12 Fourth side surface
13 Ecke 13 corner
14 Erste Ausbuchtung  14 First bulge
15 Zweite Ausbuchtung  15 Second bulge
16 Dritte Ausbuchtung  16 Third bulge
17 Vierte Ausbuchtung  17 Fourth bulge
18 Ausnehmung 18 recess
19 Gehäuse  19 housing
20 Bodenfläche  20 floor space
21 Zweite reflektierende Schicht  21 Second reflective layer
22 Reflektorschicht  22 reflector layer
23 Oberseite 23 top
24 Streustruktur  24 scattering structure
25 Freier Raum  25 free space
26 weitere erste Seitenfläche  26 more first side surface
27 weitere zweite Seitenfläche  27 more second side surface
28 weitere dritte Seitenfläche 28 more third side surface
29 weitere vierte Seitenfläche  29 more fourth side surface

Claims

PATENTA S PRÜCHE  PATENTA'S TEST
1. Lichtemittierendes Bauelement (1) mit einem Träger (2), wobei auf einer ersten Seite des Trägers (2) ein licht- emittierender Halbleiterchip (3) angeordnet ist, wobei der Träger (2) lichtdurchlässig ist, wobei auf einer zweiten Seite, die der ersten Seite gegenüber liegend angeordnet ist, eine reflektierende Schicht (6) vorgesehen ist, wobei die reflektierende Schicht (6) das vom Halb- leiterchip emittierte Licht wenigstens teilweise in den1. A light-emitting component (1) having a carrier (2), wherein a light-emitting semiconductor chip (3) is arranged on a first side of the carrier (2), wherein the carrier (2) is translucent, wherein on a second side, which is arranged opposite the first side, a reflective layer (6) is provided, wherein the reflective layer (6) the light emitted from the semiconductor chip at least partially in the
Träger (2) zurück lenkt, wobei wenigstens an einem Teil einer Seitenfläche (7, 8, 11, 12) des Trägers (2), die zwischen der ersten und der zweiten Seite angeordnet ist, eine Konversionsschicht (9) vorgesehen ist. Carrier (2) deflects, wherein at least on a part of a side surface (7, 8, 11, 12) of the carrier (2), which is arranged between the first and the second side, a conversion layer (9) is provided.
2. Bauelement nach Anspruch 1, wobei die reflektierende 2. The component according to claim 1, wherein the reflective
Schicht (6) als Spiegelschicht ausgebildet ist.  Layer (6) is formed as a mirror layer.
3. Bauelement nach Anspruch 1, wobei die reflektierende 3. The component according to claim 1, wherein the reflective
Schicht (6) als lichtstreuende Schicht ausgebildet ist.  Layer (6) is designed as a light-scattering layer.
4. Bauelement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Konversionsschicht (9) den Träger (2) auf allen Sei¬ tenflächen (7, 8, 11, 12) umgibt. 4. The component according to one of the preceding claims, wherein the conversion layer (9) surrounds the carrier (2) on all Be ¬ tenflächen (7, 8, 11, 12).
5. Bauelement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Konversionsschicht (9) den Halbleiterchip (3) auf al¬ len Seitenflächen umgibt. 6. Bauelement nach Anspruch 4 oder 5, wobei der Träger (2) eine rechteckförmige Außenkontur aufweist, und wobei die Konversionsschicht (9) eine wenigstens teilweise abgerun¬ dete Außenkontur (10) aufweist. 5. The component according to one of the preceding claims, wherein the conversion layer (9) surrounds the semiconductor chip (3) on al ¬ len side surfaces. 6. The component according to claim 4 or 5, wherein the carrier (2) has a rectangular outer contour, and wherein the conversion layer (9) has an at least partially abgerun ¬ finished outer contour (10).
Bauelement nach einem der Ansprüche 4 bis 6, wobei die Konversionsschicht (9) eine abgerundete rechteckförmige Außenkontur (10), oder eine polinomiale abgerundete Au¬ ßenkontur (10) oder eine elliptische Außenkontur aufweist. Component according to one of claims 4 to 6, wherein the conversion layer (9) has a rounded rectangular outer contour (10) or a rounded polinomiale Au ¬ ßenkontur (10) or an elliptical outer contour.
8. Bauelement nach Anspruch 7, wobei der Träger (2) eine rechteckige Außenkontur aufweist, wobei die Konversions¬ schicht (9) den Träger (2) umgibt, und wobei die Konver- sionsschicht (9) vier abgerundete Ausbuchtungen (14, 15,8. The component of claim 7, wherein the carrier (2) has a rectangular outer contour, wherein the conversion ¬ layer (9) of the support (2) surrounds, and wherein the convergence immersion layer (9) has four rounded lobes (14, 15,
16, 17) aufweist, wobei die Ausbuchtungen (14, 15, 16, 17) jeweils mittig in Bezug auf eine Länge einer Seiten¬ fläche (7, 8, 11, 12) des Trägers angeordnet sind. 9. Bauelement nach Anspruch 7, wobei der Träger (2) eine 16, 17), wherein the bulges (14, 15, 16, 17) are each arranged centrally with respect to a length of a side surface ¬ (7, 8, 11, 12) of the carrier. 9. The component according to claim 7, wherein the carrier (2) has a
rechteckige Außenkontur aufweist, wobei die Konversions¬ schicht (9) den Träger (2) umgibt, und wobei die Konver¬ sionsschicht (9) vier abgerundete Ausbuchtungen (14, 15, 16, 17) aufweist, wobei die Ausbuchtungen (14, 15, 16, 17) jeweils mittig in Bezug auf eine Ecke (13) des Trä¬ gers (2) angeordnet sind. has rectangular outer contour, wherein the conversion ¬ layer (9) surrounds the carrier (2), and wherein the Konver ¬ sion layer (9) has four rounded protrusions (14, 15, 16, 17), wherein the bulges (14, 15, 16, 17) in each case centrally with respect to a corner (13) of the Trä ¬ gers (2) are arranged.
10. Bauelement nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei einer Seitenfläche (7, 8, 11, 12) des Trägers (2) ein Lichtleiter (19) zugeordnet ist, wobei über die Seiten¬ fläche (7, 8, 11, 12) des Trägers (2) Licht in den Licht¬ leiter eingekoppelt wird. 10. The component according to one of the preceding claims, wherein a side surface (7, 8, 11, 12) of the carrier (2) is associated with a light guide (19), wherein over the side surface ¬ (7, 8, 11, 12) of the Carrier (2) light is coupled into the light ¬ conductor.
11. Bauelement nach Anspruch 10, wobei der Lichtleiter als Gehäuse (19) ausgebildet ist, wobei das Bauelement (1) in einer Ausnehmung (18) des Gehäuses (19) angeordnet ist. 11. The component according to claim 10, wherein the light guide is formed as a housing (19), wherein the component (1) in a recess (18) of the housing (19) is arranged.
12. Bauelement nach einem der Ansprüche 10 oder 11, wobei der Lichtleiter (19) auf einer Oberseite (23) Streustrukturen (24) aufweist. 12. The component according to one of claims 10 or 11, wherein the light guide (19) on a top (23) scattering structures (24).
13. Bauelement nach Anspruch 12, wobei die Streustrukturen13. The component according to claim 12, wherein the scattering structures
(24) in einem gleichmäßigen Raster mit einem vorgegebenen Abstand zueinander angeordnet sind, wobei die Streustruk- turen (24) gleiche Flächen aufweisen, und/oder wobei die(24) are arranged in a uniform grid with a predetermined distance from each other, wherein the Streustru tures (24) have the same areas, and / or wherein the
Streustrukturen ein lichtstreuendes Material aufweisen. Scattering structures have a light-scattering material.
14. Bauelement nach einem der Ansprüche 11 bis 13, wobei die Ausnehmung (18) eine Bodenfläche (20) aufweist, wobei die Bodenfläche (20) über dem Bauelement (1) angeordnet ist, und wobei die Bodenfläche ( 20) wenigstens in einem Teil- bereich eine lichtstreuende und/oder eine lichtreflektie- rende Schicht (21) aufweist 14. The component according to one of claims 11 to 13, wherein the recess (18) has a bottom surface (20), wherein the Floor surface (20) above the component (1) is arranged, and wherein the bottom surface (20) at least in a partial area a light-scattering and / or lichtreflektie- rende layer (21)
15. Bauelement nach einem der Ansprüche 10 bis 14, wobei das Gehäuse (19) auf einer zweiten Seite, die gegenüber lie¬ gend zu einer ersten Seite angeordnet ist, eine lichtre¬ flektierende Schicht (22) aufweist. 15. The component according to any one of claims 10 to 14, wherein the housing (19) on a second side which is disposed opposite to lie quietly ¬ a first side, has a lichtre ¬ inflectional layer (22).
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