WO2017069394A1 - Exhaust gas purification apparatus - Google Patents

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WO2017069394A1
WO2017069394A1 PCT/KR2016/009571 KR2016009571W WO2017069394A1 WO 2017069394 A1 WO2017069394 A1 WO 2017069394A1 KR 2016009571 W KR2016009571 W KR 2016009571W WO 2017069394 A1 WO2017069394 A1 WO 2017069394A1
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purge gas
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이중의
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메탈젠텍 주식회사
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23JREMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES 
    • F23J15/00Arrangements of devices for treating smoke or fumes
    • F23J15/02Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material

Abstract

The present invention relates to an exhaust gas purification apparatus, which may comprise: a first duct part for leading an exhaust gas in a first direction; a first foreign-substance receiving part for receiving a foreign substance contained in the exhaust gas; a second foreign-substance receiving part for receiving a foreign substance contained in the exhaust gas; a (2-1)th duct part for leading a portion of a purified gas in a second direction; a (2-2)th duct part for leading another portion of the purified gas in a third direction; a (1-1)th baffle for leading an airflow direction of a portion of the exhaust gas which flows into the first duct part, to rapidly change to the direction of the (2-1)th duct part; and a (1-2)th baffle for leading an airflow direction of another portion of the exhaust gas which flows into the first duct part, to rapidly change to the direction of the (2-2)th duct part.

Description

배출 가스 정화 장치Exhaust gas purification device
본 발명은 배출 가스 정화 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 화석연료의 사용으로 발생되는 각종 재나 부유물과 같은 이물질의 제거가 필수적인 설비에 사용할 수 있는 배출 가스 정화 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas purification apparatus, and more particularly, to an exhaust gas purification apparatus that can be used in an installation in which it is necessary to remove foreign substances such as ashes and suspended solids generated by the use of fossil fuels.
일반적으로 화력 발전소, 소각로, 산업용 보일러와 같은 연소설비에서는 석탄, 중유, 천연가스 등과 같은 화석 연료를 연소시켜서 에너지를 생성한다. 이러한 화석 연료의 연소 시에는 연소 후 발생되는 분말이나 고형물 형태의 재(ash)나 미연소된 상태의 연료 물질이나 타지 않는 불연물질이나 질소 결합물, 탄소 결합물 등 다량의 이물질이 포함된다. 이러한 이물질을 포함하는 가스가 대기 중으로 배출되는 경우에는 대기오염을 일으킬 수 있으며, 경우에 따라 연소설비와 연결되어 연소시 발생된 가스를 처리하는 설비에도 악영향을 줄 수 있다. 예를 들어, 각종 연소설비에서 발생되는 NOx, Co, Doxine 등과 같은 유해물질에 대해 촉매를 이용하여 무해하게 처리하는 배연기술인 선택적 촉매 환원 공정에서는 이러한 이물질들이 촉매층에 끼이게 되면서 촉매층의 기능 및 특성을 현저하게 열화시키게 된다. 따라서 연소로 인해 발생된 가스 내에 포함되는 이물질을 분리하여 제거시키는 기술이 필요하다.In general, combustion facilities such as thermal power plants, incinerators and industrial boilers generate energy by burning fossil fuels such as coal, heavy oil, and natural gas. In the combustion of such fossil fuels, a large amount of foreign matters such as ashes in the form of powder or solids generated after combustion, fuel materials in unburned state, non-combustible materials, nitrogen compounds, and carbon compounds are included. If the gas containing these foreign substances is discharged to the atmosphere may cause air pollution, and in some cases may be adversely affected even in the facility that is connected to the combustion facility to process the gas generated during combustion. For example, in the selective catalytic reduction process, a flue gas treatment technology that harmlessly handles harmful substances such as NOx, Co, Doxine, etc. generated in various combustion facilities, these foreign substances get stuck in the catalyst layer, thereby improving the function and characteristics of the catalyst layer. Significantly degraded. Therefore, there is a need for a technique for separating and removing foreign matter contained in the gas generated by combustion.
종래에는 화석 연료를 연소 효율을 높이고자 강제적으로 소용돌이 형태로 연소하였다. 그러나 이런 소용돌이 형태의 연소 방법은 시스템 내 유량의 치우침 현상을 야기하여 후단 덕트간 유량차가 발생되는 문제점이 있었다.Conventionally, fossil fuels were forcibly burned in a vortex form to increase combustion efficiency. However, this vortex type combustion method has a problem in that the flow rate difference between the rear end duct is generated by causing a bias of the flow rate in the system.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 다양한 형태의 배출 가스에 대응하는 차별적인 형태의 복수개의 배플들을 설치하여 덕트간 유량차이를 극복하고 배플 설치에 따른 이물질 제거 성능을 향상시키는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.The present invention is to solve the various problems including the above problems, by installing a plurality of differential baffles corresponding to various types of exhaust gas to overcome the flow difference between the ducts and foreign substances removal performance according to the baffle installation The purpose is to improve. However, these problems are exemplary, and the scope of the present invention is not limited thereby.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 배출 가스 정화 장치는, 이물질이 포함된 배출 가스를 제 1 방향으로 유도하는 제 1 덕트부; 상기 제 1 덕트부의 저면 일부분에 형성되고, 상기 배출 가스에 포함된 이물질을 수용하는 제 1 이물질 수용부; 상기 제 1 덕트부의 저면 타부분에 형성되고, 상기 배출 가스에 포함된 이물질을 수용하는 제 2 이물질 수용부; 상기 제 1 덕트부의 측면 일측에 형성되는 제 1 정화 가스 배출구와 연통되고, 이물질이 분리된 정화 가스의 일부분을 제 2 방향으로 유도하는 제 2-1 덕트부; 상기 제 1 덕트부의 측면 타측에 형성되는 제 2 정화 가스 배출구와 연통되고, 이물질이 분리된 정화 가스의 다른 일부분을 제 3 방향으로 유도하는 제 2-2 덕트부; 상기 제 1 덕트부로 유입된 상기 배출 가스 중 일부분의 기류 방향이 상기 제 2-1 덕트부 방향으로 급격하게 변화하도록 유도하는 제 1-1 배플; 및 상기 제 1 덕트부로 유입된 상기 배출 가스 중 타부분의 기류 방향이 상기 제 2-2 덕트부 방향으로 급격하게 변화하도록 유도하는 제 1-2 배플;을 포함할 수 있다.Exhaust gas purification apparatus according to the idea of the present invention for solving the above problems, the first duct unit for guiding the exhaust gas containing foreign matter in the first direction; A first foreign matter accommodating part formed on a portion of a bottom surface of the first duct part and accommodating foreign matter contained in the discharge gas; A second foreign matter accommodating part formed at the other bottom portion of the first duct part and accommodating foreign matter contained in the exhaust gas; A 2-1 duct part communicating with a first purge gas outlet formed at one side of the first duct part and guiding a part of the purge gas from which foreign substances are separated in a second direction; A second-2 duct part communicating with a second purge gas outlet formed at the other side of the first duct part, and leading another part of the purge gas from which foreign matters are separated in a third direction; A 1-1 baffle for causing a direction of air flow of a portion of the discharge gas introduced into the first duct part to change rapidly in the direction of the 2-1 duct part; And a 1-2 baffle for inducing the air flow direction of the other part of the discharge gas introduced into the first duct part to change rapidly in the direction of the 2-2 duct part.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1-1 배플은, 선단이 상기 제 1 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 제 1 길이로 볼록하게 돌출되고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며, 상기 제 1-2 배플은, 선단이 상기 제 2 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 상기 제 1 길이 보다 짧은 제 2 길이로 오목하게 돌출되고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며, 상기 제 1-1 배플 및 상기 제 1-2 배플은 일체형 판상으로 서로 연결되는 것일 수 있다.In addition, according to the present invention, the first-first baffle is protruded convexly to the first length with the tip inclined downward in the direction of the first foreign matter receiving portion, and the rear end is fixed above the first purge gas discharge port. The first and second baffles may protrude concave to a second length shorter than the first length such that the front end is inclined downward toward the second foreign matter receiving portion, and the rear end is fixed above the second purge gas outlet. The first and second baffles may be connected to each other in an integrated plate shape.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1-1 배플은, 선단이 상기 제 1 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 제 1 길이로 돌출되고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며, 상기 제 1-2 배플은, 선단이 상기 제 2 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 상기 제 1 길이 보다 짧은 제 2 길이로 돌출되고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며, 상기 제 1-1 배플 및 상기 제 1-2 배플은 일체형 평판상으로 서로 연결되는 것일 수 있다.Further, according to the present invention, the 1-1 baffle is protruded to a first length as a front end is inclined downward toward the first foreign matter receiving portion, the rear end is fixed above the first purge gas outlet, The first 1-2 baffles are protruded to a second length shorter than the first length as a whole, the front end of which is inclined downward toward the second foreign matter receiving portion, and the rear end is fixed above the second purge gas outlet. The 1-1 baffle and the 1-2 baffles may be connected to each other in an integrated flat plate.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1-1 배플은, 선단이 상기 제 1 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 제 3 길이로 돌출되고, 정면에서 볼 때, 제 1 곡률 반경을 갖도록 위로 볼록하며, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며, 상기 제 1-2 배플은, 선단이 상기 제 2 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 상기 제 3 길이로 돌출되고, 정면에서 볼 때, 제 2 곡률 반경을 갖도록 아래로 볼록하며, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며, 상기 제 1-1 배플 및 상기 제 1-2 배플은 절곡된 일체형 판상으로 서로 연결되는 것일 수 있다.Further, according to the present invention, the first-first baffle is protruded to a third length as a whole, the tip of which is inclined downward toward the first foreign matter receiving portion, and convex upward to have a first radius of curvature when viewed from the front. , The rear end is fixed above the first purge gas outlet, the first 1-2 baffles, the front end protrudes to the third length as a whole inclined downward toward the second foreign matter receiving portion, when viewed from the front, It is convex downward to have a second radius of curvature, the rear end is fixed above the second purge gas outlet, the 1-1 baffle and the 1-2 baffle may be connected to each other in a bent integral plate shape. .
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1-1 배플은, 선단이 상기 제 1 이물질 수용부 방향으로 아래로 제 1 경사각도로 경사지게 돌출되고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며, 상기 제 1-2 배플은, 선단이 상기 제 2 이물질 수용부 방향으로 아래로 상기 제 1 경사각도 보다 큰 제 2 경사각도로 경사지게 돌출되고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며, 상기 제 1-1 배플 및 상기 제 1-2 배플은 일체형 판상으로 부분 절곡된 절곡부에 의해 서로 연결되는 것일 수 있다.In addition, according to the present invention, the 1-1 baffle, the front end protrudes inclined at a first inclination angle downward toward the first foreign matter receiving portion, the rear end is fixed above the first purge gas outlet, The first 1-2 baffles are protruded inclined at a second inclination angle larger than the first inclination angle downward in the direction of the second foreign matter accommodating portion, and a rear end thereof is fixed above the second purge gas outlet. The 1-1 baffle and the 1-2 baffles may be connected to each other by a bent part partially bent into an integral plate shape.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1-1 배플은, 선단이 상기 제 1 이물질 수용부 방향으로 절곡되어 측면에서 볼 때, 제 3 곡률 반경을 갖도록 둥글게 절곡된 형상이고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며, 상기 제 1-2 배플은, 선단이 상기 제 2 이물질 수용부 방향으로 절곡되어 측면에서 볼 때, 상기 제 3 곡률 반경 보다 작은 제 4 곡률 반경을 갖도록 둥글게 절곡된 형상이고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며, 상기 제 1-1 배플 및 상기 제 1-2 배플은 일체형 판상으로 부분 절곡된 절곡부에 의해 서로 연결되는 것일 수 있다.Further, according to the present invention, the 1-1 baffle has a shape in which the tip is bent in the direction of the first foreign matter receiving portion and is bent roundly to have a third radius of curvature when viewed from the side, and the rear end is the first purification. It is fixed above the gas outlet, the first 1-2 baffles, the tip is bent in the direction of the second foreign matter receiving portion is bent in a round shape so as to have a fourth radius of curvature smaller than the third radius of curvature when viewed from the side And a rear end is fixed above the second purge gas outlet, and the 1-1 baffle and the 1-2 baffle may be connected to each other by a bent part partially bent into an integral plate shape.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1-1 배플은, 정면에서 바라 볼 때, 아래로 볼록한 제 5 곡률 반경과 위로 볼록한 제 6 곡률 반경이 파도 형태로 반복되고, 측면에서 바라 볼 때, 위로 볼록하도록 제 7 곡률 반경을 갖는 제 1 복합 파형 곡면체이고, 상기 제 1-2 배플은, 정면에서 바라 볼 때, 아래로 볼록한 제 8 곡률 반경과 위로 볼록한 제 9 곡률 반경이 파도 형태로 반복되고, 측면에서 바라 볼 때, 위로 볼록하도록 제 10 곡률 반경을 갖는 제 2 복합 파형 곡면체일 수 있다.Further, according to the present invention, the first-first baffle has a fifth convex radius of convexity and a sixth convex radius of convexity, which are convex upward when viewed from the front, and convex upward when viewed from the side. And a first complex corrugated curvature having a seventh radius of curvature, wherein the first and second baffles, when viewed from the front, are repeated in the form of waves in which the eighth radius of curvature and the nineth radius of curvature are convex, and When viewed from the can be a second complex corrugated surface having a tenth radius of curvature to convex upwards.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1 덕트부의 저면 다른 타부분에 형성되고, 상기 배출 가스에 포함된 이물질을 수용하는 제 3 이물질 수용부; 상기 제 1 덕트부의 측면 다른 타측에 형성되는 제 3 정화 가스 배출구와 연통되고, 이물질이 분리된 정화 가스의 또 다른 일부분을 제 4 방향으로 유도하는 제 2-3 덕트부; 및 상기 제 1 덕트부로 유입된 상기 배출 가스 중 다른 타부분의 기류 방향이 상기 제 2-3 덕트부 방향으로 급격하게 변화하도록 유도하는 제 1-3 배플;을 더 포함하고, 상기 제 1-1 배플의 제 1 돌출 길이와, 상기 제 1-2 배플의 제 2 돌출 길이 및 상기 제 1-3 배플의 제 3 돌출 길이는 갈수록 작아지거나 또는 갈수록 커질 수 있다.In addition, according to the present invention, the third foreign matter receiving portion is formed on the other bottom portion of the bottom of the first duct portion, and accommodates foreign matter contained in the exhaust gas; A third duct part communicating with a third purge gas outlet formed at the other side of the first duct part and leading another part of the purge gas from which foreign matters are separated in a fourth direction; And a 1-3 baffle for inducing the air flow direction of the other part of the discharge gas introduced into the first duct part to change abruptly in the direction of the 2-3 duct part. The first protruding length of the baffle, the second protruding length of the 1-2 baffles and the third protruding length of the 1-3 baffles may become smaller or larger.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 제 1-1 배플과, 상기 제 1-2 배플 및 상기 제 1-3 배플의 산 부분들 또는 골짜기 부분들이 상기 제 1 이물질 수용부의 상방, 상기 제 2 이물질 수용부의 상방 및 상기 제 3 이물질 수용부의 상방에 각각 위치될 수 있다.In addition, according to the present invention, the first or second baffle, and the mountain portions or valley portions of the first and second baffles and the first and second baffles are located above the first foreign matter receiving portion and the second foreign matter receiving portion. It may be located above and above the third foreign matter container.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시 예들에 따르면, 다양한 형태의 배출 가스에 대응하는 차별적인 형태의 복수개의 배플들을 설치하여 후단의 덕트간 유량차이를 줄여 장비 운용과 생산성, 능률을 크게 향상시킬 수 있는 효과를 갖는 것 뿐만 아니라 부수적으로 이물질의 제거능도 향상시키는 효과도 있다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.According to some embodiments of the present invention made as described above, by installing a plurality of different types of baffles corresponding to various types of exhaust gas to reduce the flow difference between the ducts in the rear stage to greatly improve the equipment operation, productivity, efficiency Not only has the effect, but also has the effect of improving the removal ability of the foreign matter. Of course, the scope of the present invention is not limited by these effects.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치가 연소 장치와 연결된 상태를 개념적으로 나타내는 사용 상태 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a state of use conceptually illustrating a state in which an exhaust gas purification device is connected to a combustion device according to some embodiments of the present disclosure.
도 2는 도 1의 배출 가스 정화 장치를 나타내는 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view illustrating the exhaust gas purification device of FIG. 1. FIG.
도 3은 도 1의 배출 가스 정화 장치의 배플을 나타내는 사시도이다.3 is a perspective view illustrating a baffle of the exhaust gas purification apparatus of FIG. 1.
도 4는 도 3의 배플의 IV-IV 절단선의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of the IV-IV cutting line of the baffle of FIG. 3.
도 5는 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치의 배플을 나타내는 사시도이다.5 is a perspective view illustrating a baffle of an exhaust gas purifying apparatus according to some other embodiments of the present invention.
도 6은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치의 배플을 나타내는 사시도이다.6 is a perspective view illustrating a baffle of an exhaust gas purifying apparatus according to some other embodiments of the present invention.
도 7은 도 6의 배플의 VII-VII 절단선의 단면도이다.7 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of the baffle of FIG. 6.
도 8은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치의 배플을 나타내는 사시도이다.8 is a perspective view illustrating a baffle of an exhaust gas purifying apparatus according to some other embodiments of the present invention.
도 9는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치의 배플을 나타내는 사시도이다.9 is a perspective view illustrating a baffle of an exhaust gas purifying apparatus according to some other embodiments of the present invention.
도 10은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치의 제 1-1 배플을 나타내는 사시도이다.10 is a perspective view illustrating a 1-1 baffle of an exhaust gas purifying apparatus according to some other embodiments of the present invention.
도 11은 도 10의 배출 가스 정화 장치의 제 1-2 배플을 나타내는 사시도이다.FIG. 11 is a perspective view illustrating a 1-2 baffle of the exhaust gas purifying apparatus of FIG. 10. FIG.
도 12는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치의 배플들을 나타내는 정면도이다.12 is a front view showing baffles of an exhaust gas purifying apparatus according to some other embodiments of the present invention.
도 13은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치의 배플들을 나타내는 정면도이다.13 is a front view illustrating baffles of an exhaust gas purifying apparatus according to some other embodiments of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, various exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.The embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following examples can be modified in various other forms, and the scope of the present invention is It is not limited to an Example. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. In addition, the thickness or size of each layer in the drawings is exaggerated for convenience and clarity of description.
명세서 전체에 걸쳐서, 막, 영역 또는 기판 등과 같은 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 상기 하나의 구성요소가 직접적으로 다른 구성요소 "상에", "연결되어", "적층되어" 또는 "커플링되어" 접촉하거나, 그 사이에 개재되는 또 다른 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 반면에, 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "직접적으로 상에", "직접 연결되어", 또는 "직접 커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 그 사이에 개재되는 다른 구성요소들이 존재하지 않는다고 해석된다. 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.Throughout the specification, when referring to one component, such as a film, region, or substrate, being positioned on, "connected", "stacked" or "coupled" to another component, said one configuration It may be interpreted that an element may be in direct contact with, or “coupled to”, “stacked” or “coupled” another component, or that there may be further components interposed therebetween. On the other hand, when one component is said to be located on another component "directly on", "directly connected", or "directly coupled", it is interpreted that there are no other components intervening therebetween. do. Like numbers refer to like elements. As used herein, the term "and / or" includes any and all combinations of one or more of the listed items.
본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various members, parts, regions, layers, and / or parts, these members, parts, regions, layers, and / or parts are defined by these terms. It is obvious that not. These terms are only used to distinguish one member, part, region, layer or portion from another region, layer or portion. Thus, the first member, part, region, layer or portion, which will be discussed below, may refer to the second member, component, region, layer or portion without departing from the teachings of the present invention.
또한, "상의" 또는 "위의" 및 "하의" 또는 "아래의"와 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면(turned over), 다른 요소들의 상부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상기 다른 요소들의 하부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "하의" 및 "상의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 소자가 다른 방향으로 향한다면(다른 방향에 대하여 90도 회전), 본 명세서에 사용되는 상대적인 설명들은 이에 따라 해석될 수 있다.Also, relative terms such as "top" or "above" and "bottom" or "bottom" may be used herein to describe the relationship of certain elements to other elements as illustrated in the figures. It may be understood that relative terms are intended to include other directions of the device in addition to the direction depicted in the figures. For example, if the device is turned over in the figures, elements depicted as present on the face of the top of the other elements are oriented on the face of the bottom of the other elements. Thus, the exemplary term "top" may include both "bottom" and "top" directions depending on the particular direction of the figure. If the device faces in the other direction (rotated 90 degrees relative to the other direction), the relative descriptions used herein can be interpreted accordingly.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular forms "a", "an" and "the" may include the plural forms as well, unless the context clearly indicates otherwise. Also, as used herein, "comprise" and / or "comprising" specifies the presence of the mentioned shapes, numbers, steps, actions, members, elements and / or groups of these. It is not intended to exclude the presence or the addition of one or more other shapes, numbers, acts, members, elements and / or groups.
이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다.Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings, which schematically illustrate ideal embodiments of the present invention. In the figures, for example, variations in the shape shown may be expected, depending on manufacturing techniques and / or tolerances. Accordingly, embodiments of the inventive concept should not be construed as limited to the specific shapes of the regions shown herein, but should include, for example, changes in shape resulting from manufacturing.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(100)가 연소 장치(BN)와 연결된 상태를 개념적으로 나타내는 사용 상태 단면도이다. 그리고, 도 2는 도 1의 배출 가스 정화 장치(100)를 나타내는 사시도이고, 도 3은 도 1의 배출 가스 정화 장치(100)의 배플(B)을 나타내는 사시도이고, 도 4는 도 3의 배플(B)의 IV-IV 절단선의 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a state of use conceptually illustrating a state in which an exhaust gas purification device 100 is connected to a combustion device BN according to some embodiments of the present disclosure. 2 is a perspective view of the exhaust gas purification apparatus 100 of FIG. 1, FIG. 3 is a perspective view of the baffle B of the exhaust gas purification apparatus 100 of FIG. 1, and FIG. 4 is a baffle of FIG. 3. It is sectional drawing of the IV-IV cutting line of (B).
먼저, 도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(100)는, 연소 장치(BN)와 연결되어 상기 연소 장치(BN)에서 발생되어 연소 덕트(BD)를 따라 외부로 배출되는 다양한 형태의 배기 가스에 적극적으로 대응될 수 있도록 설치되는 장치로서, 크게 제 1 덕트부(10)와, 제 1 이물질 수용부(30-1)와, 제 2 이물질 수용부(30-2)와, 제 2-1 덕트부(20-1)와, 제 2-2 덕트부(20-2) 및 배플(B)을 포함할 수 있다.First, as shown in FIGS. 1 to 4, the exhaust gas purification apparatus 100 according to some embodiments of the present invention is connected to a combustion apparatus BN and is generated in the combustion apparatus BN to generate a combustion duct. The apparatus is installed to actively respond to various types of exhaust gas discharged to the outside along the BD, and includes a first duct part 10, a first foreign matter accommodating part 30-1, and a second one. The foreign material accommodating part 30-2, the 2-1 duct part 20-1, the 2-2 duct part 20-2, and the baffle B may be included.
예컨대, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 덕트부(10)는, 상기 연소 덕트(BD)와 연통되는 것으로서, 연소 후 발생되는 분말이나 고형물 형태의 재(ash)나 미연소된 상태의 연료 물질이나 타지 않는 불연물질이나 질소 결합물, 탄소 결합물 등의 이물질(1)이 포함된 배출 가스(G1)를 제 1 방향(도 1의 하방)으로 유도하는 것으로서, 도시된 상기 제 1 덕트부(10)는 사각통 형상인 것이나 이외에도 원통, 파이프 형상 등 다양하게 형성될 수 있다.For example, as illustrated in FIG. 1, the first duct part 10 communicates with the combustion duct BD, and may be formed in an ash or unburned state in the form of powder or solids generated after combustion. The first duct shown as guiding the exhaust gas G1 containing the foreign matter 1 such as fuel material, incombustible non-combustible material, nitrogen compound, and carbon compound in a first direction (downward in FIG. 1). The part 10 may have a rectangular cylindrical shape, but may be variously formed, such as a cylinder and a pipe.
여기서, 상기 배출 가스(G1)은 비록 선회류는 아니지만 상기 연소 덕트(BD)에서 발생되는 선회류에 의해 한 쪽으로 치우쳐진 배출 가스(G1-1) 및 다른 한 쪽으로 치우쳐진 배출 가스(G1-2)로 나누어질 수 있고, 이러한 상기 배출 가스들(G1-1)(G1-2)은 예컨대, 좌측 기류 또는 우측 기류를 형성하여 그 유량이 서로 다를 수 있다.Here, although the exhaust gas G1 is not swirl flow, the exhaust gas G1-1 is biased to one side by the swirl flow generated in the combustion duct BD and the exhaust gas G1-2 is biased to the other side. The discharge gases G1-1 and G1-2 may form a left airflow or a right airflow, for example, so that the flow rates thereof may be different from each other.
또한, 예컨대, 상기 제 1 이물질 수용부(30-1)는, 상기 제 1 덕트부(10)의 저면 일부분에 형성되고, 상기 배출 가스(G1) 중 한 쪽으로 치우쳐진 상기 배출 가스(G1-1)에 포함된 이물질(1)을 수용하고 이를 배출하기 위한 것으로서, 상기 이물질(1)들이 하방으로 적층되도록 아래로 오목한 깔때기 형상의 호퍼(hopper)일 수 있다.For example, the first foreign matter accommodating portion 30-1 is formed on a portion of the bottom surface of the first duct portion 10, and the exhaust gas G1-1 is biased toward one of the exhaust gases G1. In order to receive and discharge the foreign matter (1) contained in the), it may be a funnel-shaped hopper (concave down) concave down so that the foreign matter (1) is laminated downward.
또한, 예컨대, 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)는, 상기 제 1 덕트부(10)의 저면 타부분에 형성되고, 상기 배출 가스(G1) 중 다른 한 쪽으로 치우쳐진 상기 배출 가스(G1-2)에 포함된 이물질(1)을 수용하고 이를 배출하기 위한 것으로서, 상기 이물질(1)들이 하방으로 적층되도록 아래로 오목한 깔때기 형상의 호퍼(hopper)일 수 있다.In addition, for example, the second foreign matter accommodating part 30-2 is formed at the other bottom portion of the first duct part 10, and the exhaust gas G1 is biased toward the other side of the exhaust gas G1. To receive and discharge the foreign matter 1 contained in -2), the foreign matter 1 may be a funnel-shaped hopper recessed downward so that the foreign matters 1 are stacked downward.
여기서, 상기 제 1 이물질 수용부(30-1)와 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)는 옆으로 나란하게 이웃하도록 설치될 수 있고, 이외에도 다수개가 더 연결되어 장비의 이물질(1) 제거 성능을 증설하는 역할을 할 수 있다.Here, the first foreign matter receiving portion 30-1 and the second foreign matter receiving portion 30-2 may be installed to be next to each other side by side, in addition to a plurality of further connected to remove the foreign matter (1) of the equipment It can play a role in increasing performance.
또한, 상기 제 2-1 덕트부(20-1)는, 상기 제 1 덕트부(10)의 측면 일측에 형성되는 제 1 정화 가스 배출구(H1)와 연통되고, 이물질(1)이 분리된 정화 가스(G2)의 일부분을 제 2 방향(도 1의 우측방향)으로 유도하는 것으로서, 도시된 상기 제 2-1 덕트부(20-1)는 사각통 형상인 것이나 이외에도 원통, 파이프 형상 등 다양하게 형성될 수 있다.In addition, the 2-1 duct portion 20-1 is in communication with the first purge gas discharge port (H1) formed on one side of the side of the first duct portion 10, purification of the foreign matter 1 is separated Inducing a part of the gas (G2) in the second direction (the right direction in FIG. 1), the 2-1 duct portion 20-1 shown is a rectangular cylindrical shape, in addition to a cylindrical, pipe shape, etc. Can be formed.
여기서, 상기 제 2 방향은 상기 제 1 덕트부(10)를 통해 유입되는 상기 배출 가스(G1) 또는 정화 가스(G2)를 최종적으로 외부로 배출하기 전에 상기 배출 가스(G1) 또는 정화 가스(G2)의 유해한 성분을 처리하기 위한 처리장치로 유입되는 방향일 수 있다. 이때 상기 처리장치는 선택적 촉매 환원 설비일 수 있으며, 상기 제 2 방향으로 유입된 상기 배출 가스(G1) 또는 상기 정화 가스(G2)는 선택적 촉매 환원 설비를 구성하는 촉매층으로 유도될 수 있다.Here, the second direction is the discharge gas (G1) or purifying gas (G2) before finally discharged to the discharge gas (G1) or purifying gas (G2) flowing through the first duct portion 10 to the outside ) May be directed to a processing device for treating harmful components of In this case, the treatment apparatus may be a selective catalytic reduction facility, and the exhaust gas G1 or the purge gas G2 introduced in the second direction may be led to a catalyst layer constituting the selective catalytic reduction facility.
또한, 예컨대, 상기 제 2-2 덕트부(20-2)는, 상기 제 1 덕트부(10)의 측면 타측에 형성되는 제 2 정화 가스 배출구(H2)와 연통되고, 이물질(1)이 분리된 정화 가스(G2)의 다른 일부분을 제 3 방향으로 유도하는 것으로서, 도시된 상기 제 2-2 덕트부(20-2)는 사각통 형상인 것이나 이외에도 원통, 파이프 형상 등 다양하게 형성될 수 있다.For example, the 2nd-2 duct part 20-2 communicates with the 2nd purification gas discharge port H2 formed in the other side surface of the 1st duct part 10, and the foreign material 1 is isolate | separated. Inducing the other part of the purified gas G2 in the third direction, the 2-2 duct portion 20-2 shown in the figure may be formed in a variety of cylinders, pipes, etc. in addition to the rectangular cylinder shape. .
여기서, 상기 제 3 방향 역시, 상기 제 1 덕트부(10)를 통해 유입되는 상기 배출 가스(G1) 또는 정화 가스(G2)를 최종적으로 외부로 배출하기 전에 상기 배출 가스(G1) 또는 정화 가스(G2)의 유해한 성분을 처리하기 위한 처리장치로 유입되는 방향일 수 있다. 이때 상기 처리장치는 선택적 촉매 환원 설비일 수 있으며, 상기 제 3 방향으로 유입된 상기 배출 가스(G1) 또는 상기 정화 가스(G2)는 선택적 촉매 환원 설비를 구성하는 촉매층으로 유도될 수 있다.Here, the third direction, before the discharge gas (G1) or purge gas (G2) flowing through the first duct portion 10 to the final discharge to the outside (purification gas (G1) or purge gas ( It may be a direction entering the processing device for treating the harmful component of G2). In this case, the treatment apparatus may be a selective catalytic reduction facility, and the exhaust gas G1 or the purge gas G2 introduced in the third direction may be led to a catalyst layer constituting the selective catalytic reduction facility.
한편, 도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 배플(B)은 상기 배출 가스(G1)에 포함된 이물질(1)들이 쉽게 분리될 수 있도록 상기 배출 가스(G1)의 기류 방향을 급격하게 변화시키는 것으로서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 배플(B)은 제 1-1 배플(B1) 및 제 1-2 배플(B2)을 포함할 수 있다.Meanwhile, as illustrated in FIGS. 1 to 4, the baffle B sharply changes the air flow direction of the exhaust gas G1 so that the foreign matters 1 included in the exhaust gas G1 can be easily separated. As shown in FIG. 2, the baffle B may include a first-first baffle B1 and a second-first baffle B2.
예컨대, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 1-1 배플(B1)은, 상기 제 1 덕트부(10)로 유입된 상기 배출 가스(G1) 중 일부분의 기류 방향이 상기 제 2-1 덕트부(20-1) 방향으로 급격하게 변화하도록 유도하는 판형상의 구조체일 수 있다.For example, as shown in FIG. 2, the air flow direction of a part of the exhaust gas G1 introduced into the first duct part 10 is in the first-1 baffle B1. It may be a plate-like structure that leads to a sharp change in the direction of the negative portion 20-1.
또한, 예컨대, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 1-2 배플(B2)은, 상기 제 1 덕트부(10)로 유입된 상기 배출 가스(G1) 중 타부분의 기류 방향이 상기 제 2-2 덕트부(20-2) 방향으로 급격하게 변화하도록 유도하는 판형상의 구조체일 수 있다.For example, as illustrated in FIG. 2, the air flow direction of the other part of the exhaust gas G1 introduced into the first duct part 10 may have the second air flow direction in the second 1-2 baffles B2. It may be a plate-like structure that leads to a rapid change in the direction of the -2 duct portion 20-2.
더욱 구체적으로 예를 들면, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제 1-1 배플(B1)은, 선단이 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 방향으로 아래로 경사지게 제 1 길이(L1)로 볼록하게 돌출되고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구(H1)의 상방에 고정되며, 상기 제 1-2 배플(B2)은, 선단이 상기 제 2 이물질 수용부(30-2) 방향으로 아래로 경사지게 상기 제 1 길이(L1) 보다 짧은 제 2 길이(L2)로 오목하게 돌출되고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구(H2)의 상방에 고정되며, 상기 제 1-1 배플(B1) 및 상기 제 1-2 배플(B2)은 일체형 판상으로 서로 연결되는 것일 수 있다.More specifically, for example, as shown in FIGS. 3 and 4, the first length of the first baffle B1 may have a first length such that the tip thereof is inclined downward in the direction of the first foreign matter receiving portion 30-1. It protrudes convexly to L1, a rear end is fixed above the said 1st purification gas discharge port H1, and the said 1-2 baffle B2 has a front-end | tip with the said 2nd foreign matter accommodating part 30-2. Inclined downward in a direction to a second length L2 shorter than the first length L1, the rear end is fixed above the second purge gas outlet H2, and the first-1 baffle ( B1) and the first and second baffles B2 may be connected to each other in an integrated plate shape.
따라서, 상기 배플(B)은 상기 제 1 덕트부(10)를 통해 제 1 방향으로 유입된 배출 가스(G1)의 방향을 상기 제 2-1 덕트부(20-1) 또는 상기 제 2-2 덕트부(20-2) 방향으로 급격하게 변화되도록 유도할 수 있다. 즉, 상기 제 1 덕트부(10)를 통해 유입된 배출 가스(G1)는 제 1 방향(도 1의 하방)으로 유입된 후 상기 배플(B)에 의해 기류의 방향이 상기 제 2-1 덕트부(20-1) 또는 상기 제 2-2 덕트부(20-2)로의 방향인 제 2 방향 및 제 3 방향으로 급격하게 전환될 수 있다. 이러한 급격한 기류의 방향 전환이 발생될 때 배출 가스(G1)에 포함되어 있는 소정의 질량을 가진 이물질(1)은 관성(혹은 원심력)에 의해 제 1 방향으로 계속 이동하려는 경향을 가지며, 이러한 급격한 기류방향의 전환에 대응하지 못하고 상기 제 1 이물질 수용부(30-1)쪽 또는 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)쪽으로 이동됨에 따라 배출 가스(G1)로부터 분리되게 된다. 그러므로, 상기 배플(B)에 의해 유도된 급격한 기류의 변화에 의해 대부분의 상기 이물질(1)은 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 또는 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)에 수용될 수 있고, 상기 제 2-1 덕트부(20-1) 또는 상기 제 2-2 덕트부(20-2)로는 상기 이물질(1)이 제거되어 정화된 정화 가스(G2)만 외부로 배출될 수 있다.Accordingly, the baffle B may be configured to change the direction of the discharge gas G1 introduced into the first direction through the first duct part 10 into the second-1 duct part 20-1 or the second-2-2. It may be induced to change rapidly in the direction of the duct portion 20-2. That is, the discharge gas G1 introduced through the first duct part 10 flows in the first direction (downward in FIG. 1), and then the direction of air flow is changed by the baffle B in the second-1 duct. It may be rapidly switched to the second direction and the third direction which is the direction to the part 20-1 or the second-2 duct part 20-2. When such a sudden change of direction of the air flow occurs, the foreign matter 1 having a predetermined mass contained in the exhaust gas G1 tends to continue to move in the first direction by inertia (or centrifugal force). It does not correspond to the change of direction and is separated from the exhaust gas G1 as it is moved toward the first foreign matter receiving portion 30-1 or the second foreign matter receiving portion 30-2. Therefore, most of the foreign matter 1 is accommodated in the first foreign matter receiving portion 30-1 or the second foreign matter receiving portion 30-2 by the sudden change of air flow induced by the baffle B. FIG. The foreign matter 1 may be removed from the 2-1 duct part 20-1 or the 2-2 duct part 20-2, and only the purified purifying gas G2 may be discharged to the outside. Can be.
이 때, 상기 배플(B)은 유량이 서로 다른 상기 배출 가스(G1-1)(G1-2)에 대응되도록 예컨대, 좌측 유량이 많은 경우, 보다 많은 양의 운동 에너지를 갖는 상기 배출 가스(G1-1)와 먼저 충돌되는 상기 제 1-1 배플(B1)의 형태가 상대적으로 더 길게 돌출되고, 그 선단이 강화된 기류를 분산할 수 있도록 볼록하게 형성될 수 있고, 보다 적은 양의 운동 에너지를 갖는 상기 배출 가스(G1-2)와 나중에 충돌되는 상기 제 1-2 배플(B2)의 형태가 상대적으로 더 짧게 돌출되고, 그 선단이 약화된 기류를 분산할 수 있도록 오목하게 형성될 수 있다. 또한, 이러한 평판 형상은 제조가 매우 간단하여 제조 비용 및 제조 시간을 절감할 수 있다.In this case, the baffle B corresponds to the discharge gas G1-1 (G1-2) having different flow rates, for example, when the left flow rate is large, the discharge gas G1 having a greater amount of kinetic energy. The shape of the first-first baffle B1, which first collides with -1), protrudes relatively longer, and its tip can be formed convex to disperse the enhanced airflow, and a smaller amount of kinetic energy The first and second baffles B2 which later collide with the discharge gas G1-2 having a shape may protrude relatively shorter, and the tip may be concave so as to disperse the weakened air flow. . In addition, such a flat plate shape is very simple to manufacture can reduce the manufacturing cost and manufacturing time.
따라서, 이러한 소용 돌이 형태에 대응되도록 배플 형상의 차별화로 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 및 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)에 수용된 이물질(1)의 양을 비슷하게 맞출 수 있고, 이를 통해서 이물질 분리 성능을 향상시키며, 후단 덕트간 유량을 균일하게 하여 장비 운용에 도움이 되고, 장비의 용량을 쉽게 증설할 수 있으며, 장비의 생산성과 능률을 크게 향상시킬 수 있다. Therefore, the amount of the foreign matter 1 accommodated in the first foreign matter receiving portion 30-1 and the second foreign matter receiving portion 30-2 can be similarly matched by differentiation of the baffle shape so as to correspond to the shape of the small stones. This improves the separation performance of foreign substances, and helps the equipment operation by uniformizing the flow rate between the rear end duct, and can easily increase the capacity of the equipment, and greatly improve the productivity and efficiency of the equipment.
그러나, 이러한 상기 배플(B)의 형상은 도면에 반드시 국한되지 않고, 유량이 서로 다른 배출 가스(G1-1)(G1-2)에 대응하기 위하여 차별적 형태로 형성되는 모든 형태의 배플들이 적용될 수 있다.However, the shape of the baffle B is not necessarily limited to the drawings, and all types of baffles formed in a different form may be applied to correspond to exhaust gases G1-1 and G1-2 having different flow rates. have.
도 5는 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(200)의 배플(B)을 나타내는 사시도이다.5 is a perspective view illustrating a baffle B of an exhaust gas purifying apparatus 200 according to some other embodiments of the present invention.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(200)의 제 1-1 배플(B1)은, 선단이 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 제 1 길이(L1)로 돌출되고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구(H1)의 상방에 고정되며, 제 1-2 배플(B2)은, 선단이 상기 제 2 이물질 수용부(30-2) 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 상기 제 1 길이(L1) 보다 짧은 제 2 길이(L2)로 돌출되고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구(H2)의 상방에 고정되며, 상기 제 1-1 배플(B1) 및 상기 제 1-2 배플(B2)은 일체형 평판상으로 서로 연결되는 것일 수 있다.As shown in FIG. 5, the first-first baffle B1 of the exhaust gas purifying apparatus 200 according to some other embodiments of the present invention has a front end facing the first foreign matter receiving portion 30-1. Protrudes to the first length L1 inclined downward, and the rear end is fixed above the first purge gas discharge port H1, and the second 1-2 baffle B2 has a front end of the second foreign matter accommodating part. Protrudes to a second length L2 shorter than the first length L1 and inclined downward in the direction of (30-2), and a rear end is fixed above the second purge gas discharge port H2, and the first The baffle B1 and the first and second baffles B2 may be connected to each other on an integrated flat plate.
따라서, 상기 배플(B)은 유량이 서로 다른 배출 가스(G1-1)(G1-2)에 대응되도록 예컨대, 보다 많은 양의 운동 에너지를 갖는 상기 배출 가스(G1-1)와 먼저 충돌되는 상기 제 1-1 배플(B1)의 형태가 상대적으로 더 길게 돌출되어 그 선단이 강화된 기류를 분산할 수 있고, 보다 적은 양의 운동 에너지를 갖는 상기 배출 가스(G1-2)와 나중에 충돌되는 상기 제 1-2 배플(B2)의 형태가 상대적으로 더 짧게 돌출되며, 그 선단이 약화된 기류를 분산할 수 있다. 또한, 이러한 평판 형상은 제조가 매우 간단하여 제조 비용 및 제조 시간을 절감할 수 있다.Accordingly, the baffle B may first collide with, for example, the exhaust gas G1-1 having a greater amount of kinetic energy so that the flow rates correspond to different exhaust gases G1-1 and G1-2. The shape of the first-first baffle B1 protrudes relatively longer so that its tip can disperse the enhanced airflow and later collides with the exhaust gas G1-2 having a smaller amount of kinetic energy. The shape of the 1-2 baffles B2 protrudes relatively shorter, and its tip can disperse the weakened air flow. In addition, such a flat plate shape is very simple to manufacture can reduce the manufacturing cost and manufacturing time.
그러므로, 이러한 소용 돌이 형태에 대응되도록 배플 형상의 차별화로 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 및 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)에 수용된 이물질(1)의 양을 비슷하게 맞출 수 있고, 이를 통해서 이물질 분리 성능을 향상시키며, 후단 덕트간 유량을 균일하게 하여 장비 운용에 도움이 되고, 장비의 용량을 쉽게 증설할 수 있으며, 장비의 생산성과 능률을 크게 향상시킬 수 있다.Therefore, the amount of the foreign matter 1 accommodated in the first foreign matter receiving portion 30-1 and the second foreign matter receiving portion 30-2 can be similarly matched by the differentiation of the baffle shape so as to correspond to the vortex stone. This improves the separation performance of foreign substances, and helps the equipment operation by uniformizing the flow rate between the rear end duct, and can easily increase the capacity of the equipment, and greatly improve the productivity and efficiency of the equipment.
도 6은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(300)의 배플(B)을 나타내는 사시도이고, 도 7은 도 6의 배플(B)의 VII-VII 절단선의 단면도이다.FIG. 6 is a perspective view illustrating the baffle B of the exhaust gas purifying apparatus 300 according to some other embodiments of the present disclosure, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of the baffle B of FIG. 6.
도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(300)의 제 1-1 배플(B1)은, 선단이 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 제 3 길이(L3)로 돌출되고, 정면에서 볼 때, 제 1 곡률 반경(R1)을 갖도록 위로 볼록하며, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구(H1)의 상방에 고정되며, 제 1-2 배플(B2)은, 선단이 상기 제 2 이물질 수용부(30-2) 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 상기 제 3 길이(L3)로 돌출되고, 정면에서 볼 때, 제 2 곡률 반경(R2)을 갖도록 아래로 볼록하며, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구(H2)의 상방에 고정되며, 상기 제 1-1 배플(B1) 및 상기 제 1-2 배플(B2)은 전체적으로 절곡된 일체형 판상으로 서로 연결되는 것일 수 있다.6 and 7, the first-first baffle B1 of the exhaust gas purification apparatus 300 according to some other embodiments of the present invention has a front end of the first foreign matter receiving portion 30. Protrudes to a third length L3 inclined downward in the -1) direction, and is convex upward to have a first radius of curvature R1 when viewed from the front, and a rear end thereof is above the first purge gas discharge port H1. Fixed to the second baffle B2, the tip protrudes to the third length L3 with the tip inclined downward in the direction of the second foreign matter receiving portion 30-2, and when viewed from the front, It is convex downward to have a 2 curvature radius (R2), the rear end is fixed above the second purge gas outlet (H2), the 1-1 baffle (B1) and the 1-2 baffle (B2) is It may be connected to each other in an integral plate shape bent entirely.
따라서, 상기 배플(B)은 보다 많은 양의 운동 에너지를 갖는 상기 배출 가스(G1-1)와 먼저 충돌되는 상기 제 1-1 배플(B1)의 형태가 상대적으로 위로 볼록하게 절곡되어 그 선단이 강화된 기류를 먼저 분산할 수 있고, 보다 적은 양의 운동 에너지를 갖는 상기 배출 가스(G1-2)와 나중에 충돌되는 상기 제 1-2 배플(B2)의 형태가 상대적으로 아래로 볼록하게 절곡되어 그 선단이 약화된 기류를 나중에 분산할 수 있다. 또한, 이러한 절곡된 곡판 형상은 제조가 매우 간단하여 제조 비용 및 제조 시간을 절감할 수 있다.Accordingly, the baffle B is relatively convexly curved in the shape of the first-first baffle B1 that first collides with the exhaust gas G1-1 having a greater amount of kinetic energy, and thus the tip thereof is bent. The shape of the first and second baffles B2, which later collides with the exhaust gas G1-2 which has a smaller amount of kinetic energy, can be dispersed first, and thus the enhanced airflow can be dissipated relatively convexly. It may later disperse the weakened air stream. In addition, this curved curved sheet shape is very simple to manufacture can reduce the manufacturing cost and manufacturing time.
그러므로, 이러한 배플 형상의 차별화로 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 및 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)에 수용된 이물질(1)의 양을 비슷하게 맞출 수 있고, 이를 통해서 이물질 분리 성능을 향상시키며, 후단 덕트간 유량을 균일하게 하여 장비 운용에 도움이 되고, 장비의 용량을 쉽게 증설할 수 있으며, 장비의 생산성과 능률을 크게 향상시킬 수 있다.Therefore, by differentiating the baffle shape, the amount of the foreign matter 1 accommodated in the first foreign matter receiving portion 30-1 and the second foreign matter receiving portion 30-2 can be similarly matched, thereby separating foreign matter. In addition, it helps to operate the equipment by uniformizing the flow rate between the rear end duct, and can easily increase the capacity of the equipment, and can greatly improve the productivity and efficiency of the equipment.
도 8은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(400)의 배플(B)을 나타내는 사시도이다.8 is a perspective view illustrating a baffle B of an exhaust gas purifying apparatus 400 according to some other embodiments of the present invention.
도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(400)의 제 1-1 배플(B1)은, 선단이 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 방향으로 아래로 제 1 경사각도(K1)로 경사지게 돌출되고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구(H1)의 상방에 고정되며, 제 1-2 배플(B2)은, 선단이 상기 제 2 이물질 수용부(30-2) 방향으로 아래로 상기 제 1 경사각도(K1) 보다 큰 제 2 경사각도(K2)로 경사지게 돌출되고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구(H2)의 상방에 고정되며, 상기 제 1-1 배플(B1) 및 상기 제 1-2 배플(B2)은 일체형 판상으로 부분 절곡된 절곡부(C)에 의해 서로 연결되는 것일 수 있다.As shown in FIG. 8, the first-first baffle B1 of the exhaust gas purifying apparatus 400 according to some other embodiments of the present invention has a front end of the first foreign matter accommodating portion 30-1. Protrudes obliquely downward at a first inclination angle K1, and a rear end is fixed above the first purge gas discharge port H1, and the first 1-2 baffles B2 have a front end to accommodate the second foreign matter. Protrudes inclined at a second inclination angle K2 larger than the first inclination angle K1 in the direction of the portion 30-2, and a rear end thereof is fixed above the second purge gas outlet H2. The first-first baffle B1 and the second-first baffle B2 may be connected to each other by the bent portion C partially bent into an integral plate shape.
따라서, 상기 배플(B)은 보다 많은 양의 운동 에너지를 갖는 상기 배출 가스(G1-1)와 먼저 충돌되는 상기 제 1-1 배플(B1)의 형태가 상대적으로 상기 제 1 경사각도(K1)가 작아서 그 선단이 강화된 기류를 먼저 분산할 수 있고, 보다 적은 양의 운동 에너지를 갖는 상기 배출 가스(G1-2)와 나중에 충돌되는 상기 제 1-2 배플(B2)의 형태가 상대적으로 상기 제 2 경사각도(K2)가 커서 그 선단이 약화된 기류를 나중에 분산할 수 있다. 또한, 이러한 절곡된 곡판 형상은 제조가 매우 간단하여 제조 비용 및 제조 시간을 절감할 수 있다.Accordingly, the baffle B has a shape of the first-first baffle B1 that first collides with the discharge gas G1-1 having a higher amount of kinetic energy. It is possible to disperse the air stream whose tip is enhanced so that the tip is small, and the shape of the first and second baffles B2, which later collides with the discharge gas G1-2 having a smaller amount of kinetic energy, is relatively Since the second inclination angle K2 is large, the airflow whose tip is weakened can be dispersed later. In addition, this curved curved sheet shape is very simple to manufacture can reduce the manufacturing cost and manufacturing time.
그러므로, 이러한 배플 형상의 차별화로 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 및 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)에 수용된 이물질(1)의 양을 비슷하게 맞출 수 있고, 이를 통해서 이물질 분리 성능을 향상시키며, 후단 덕트간 유량을 균일하게 하여 장비 운용에 도움이 되고, 장비의 용량을 쉽게 증설할 수 있으며, 장비의 생산성과 능률을 크게 향상시킬 수 있다.Therefore, by differentiating the baffle shape, the amount of the foreign matter 1 accommodated in the first foreign matter receiving portion 30-1 and the second foreign matter receiving portion 30-2 can be similarly matched, thereby separating foreign matter. In addition, it helps to operate the equipment by uniformizing the flow rate between the rear end duct, and can easily increase the capacity of the equipment, and can greatly improve the productivity and efficiency of the equipment.
도 9는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(500)의 배플(B)을 나타내는 사시도이다.9 is a perspective view illustrating a baffle B of an exhaust gas purifying apparatus 500 according to some other embodiments of the present invention.
도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(500)의 제 1-1 배플(B1)은, 선단이 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 방향으로 절곡되어 측면에서 볼 때, 제 3 곡률 반경(R3)을 갖도록 둥글게 절곡된 형상이고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구(H1)의 상방에 고정되며, 제 1-2 배플(B2)은, 선단이 상기 제 2 이물질 수용부(30-2) 방향으로 절곡되어 측면에서 볼 때, 상기 제 3 곡률 반경(R3) 보다 작은 제 4 곡률 반경(R4)을 갖도록 둥글게 절곡된 형상이고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구(H2)의 상방에 고정되며, 상기 제 1-1 배플(B1) 및 상기 제 1-2 배플(B2)은 일체형 판상으로 부분 절곡된 절곡부(C2)에 의해 서로 연결되는 것일 수 있다.As shown in FIG. 9, the first-first baffle B1 of the exhaust gas purifying apparatus 500 according to some other embodiments of the present invention has a front end of the first foreign matter accommodating portion 30-1. It is bent in a direction and is roundly bent to have a third radius of curvature R3, and the rear end is fixed above the first purge gas outlet H1, and the 1-2 baffles B2 are The tip is bent in the direction of the second foreign matter receiving portion 30-2 to have a fourth curved radius R4 that is smaller than the third radius of curvature R3 when viewed from the side. It is fixed above the second purge gas outlet H2, and the first-first baffle B1 and the first-second baffle B2 are connected to each other by a bent part C2 partially bent into an integral plate shape. It may be.
따라서, 상기 배플(B)은 보다 많은 양의 운동 에너지를 갖는 상기 배출 가스(G1-1)와 먼저 충돌되는 상기 제 1-1 배플(B1)의 형태가 상대적으로 상기 제 3 곡률 반경(R3)이 커서 그 선단이 강화된 기류를 먼저 분산할 수 있고, 보다 적은 양의 운동 에너지를 갖는 상기 배출 가스(G1-2)와 나중에 충돌되는 상기 제 1-2 배플(B2)의 형태가 상대적으로 상기 제 4 곡률 반경(R4)이 작아서 그 선단이 약화된 기류를 나중에 분산할 수 있다. 또한, 이러한 절곡된 곡판 형상은 제조가 매우 간단하여 제조 비용 및 제조 시간을 절감할 수 있다.Accordingly, the baffle B is relatively in the form of the first-first baffle B1 that first collides with the exhaust gas G1-1 having a higher amount of kinetic energy. The larger the front end can disperse the enhanced air flow first, and the shape of the first and second baffles B2 later collided with the discharge gas G1-2 having a smaller amount of kinetic energy is relatively The fourth radius of curvature R4 is so small that it is possible to disperse the air stream, whose tip is weakened later. In addition, this curved curved sheet shape is very simple to manufacture can reduce the manufacturing cost and manufacturing time.
그러므로, 이러한 소용 돌이 형태에 대응되도록 배플 형상의 차별화로 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 및 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)에 수용된 이물질(1)의 양을 비슷하게 맞출 수 있고, 이를 통해서 이물질 분리 성능을 향상시키며, 후단 덕트간 유량을 균일하게 하여 장비 운용에 도움이 되고, 장비의 용량을 쉽게 증설할 수 있으며, 장비의 생산성과 능률을 크게 향상시킬 수 있다.Therefore, the amount of the foreign matter 1 accommodated in the first foreign matter receiving portion 30-1 and the second foreign matter receiving portion 30-2 can be similarly matched by the differentiation of the baffle shape so as to correspond to the vortex stone. This improves the separation performance of foreign substances, and helps the equipment operation by uniformizing the flow rate between the rear end duct, and can easily increase the capacity of the equipment, and greatly improve the productivity and efficiency of the equipment.
도 10은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(600)의 제 1-1 배플(B1)을 나타내는 사시도이고, 도 11은 도 10의 배출 가스 정화 장치(600)의 제 1-2 배플(B2)을 나타내는 사시도이다.FIG. 10 is a perspective view illustrating the first-first baffle B1 of the exhaust gas purification apparatus 600 according to some other embodiments of the present disclosure, and FIG. 11 is a view illustrating the exhaust gas purification apparatus 600 of FIG. 10. It is a perspective view which shows 1-2 baffles B2.
도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(600)의 제 1-1 배플(B1)은, 정면에서 바라 볼 때, 아래로 볼록한 제 5 곡률 반경(R5)과 위로 볼록한 제 6 곡률 반경(R6)이 파도 형태로 반복되고, 측면에서 바라 볼 때, 위로 볼록하도록 제 7 곡률 반경(R7)을 갖는 제 1 복합 파형 곡면체일 수 있다.As shown in FIG. 10, the first-first baffle B1 of the exhaust gas purification apparatus 600 according to some other embodiments of the present invention has a fifth radius of curvature convex downward when viewed from the front. R5 and the sixth convex radius of curvature R6 are repeated in the form of waves, and when viewed from the side, may be the first composite corrugated surface having a seventh radius of curvature R7 to convex upward.
또한, 도 11에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(600)의 제 1-2 배플(B2)은, 정면에서 바라 볼 때, 아래로 볼록한 제 8 곡률 반경(R8)과 위로 볼록한 제 9 곡률 반경(R9)이 파도 형태로 반복되고, 측면에서 바라 볼 때, 위로 볼록하도록 제 10 곡률 반경(R10)을 갖는 제 2 복합 파형 곡면체일 수 있다.In addition, as shown in FIG. 11, the first 1-2 baffles B2 of the exhaust gas purifying apparatus 600 according to some other embodiments of the present invention may have an eighth convex downward when viewed from the front. The radius of curvature R8 and the convex ninth radius of curvature R9 may be repeated in the form of waves, and when viewed from the side, may be a second complex corrugated surface having a tenth radius of curvature R10 to convex upwards.
따라서, 상기 배출 가스(G1)의 유동이 매우 복잡하더라도 차등화된 복합 파형 곡면체를 이용하여 상기 제 1 이물질 수용부(30-1) 및 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)에 수용된 이물질(1)의 양을 비슷하게 맞출 수 있고, 이를 통해서 이물질 분리 성능을 향상시키며, 후단 덕트간 유량을 균일하게 하여 장비 운용에 도움이 되고, 장비의 용량을 쉽게 증설할 수 있으며, 장비의 생산성과 능률을 크게 향상시킬 수 있다.Therefore, even if the flow of the exhaust gas G1 is very complicated, the foreign matter 1 accommodated in the first foreign matter accommodating portion 30-1 and the second foreign substance accommodating portion 30-2 by using the differentiated composite waveform curved body. The amount of) can be matched similarly, and this improves the separation performance of foreign substances, and helps to operate the equipment by uniformizing the flow rate between the rear end duct, and can easily increase the capacity of the equipment, and greatly increase the productivity and efficiency of the equipment. Can be improved.
도 12는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(700)의 배플(B1)(B2)(B3)(B4)들을 나타내는 정면도이고, 도 13은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(800)의 배플(B1)(B2)(B3)(B4)들을 나타내는 정면도이다.FIG. 12 is a front view illustrating baffles B1, B2, B3, and B4 of an exhaust gas purification apparatus 700 according to some other embodiments of the present disclosure, and FIG. 13 illustrates some other embodiments of the present disclosure. A front view showing the baffles B1, B2, B3, and B4 of the exhaust gas purifying apparatus 800 according to the examples.
도 12 및 도 13에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(700) 또는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배출 가스 정화 장치(800)는, 상기 제 1 덕트부(10)의 저면 다른 타부분에 형성되고, 상기 배출 가스(G1)에 포함된 이물질(1)을 수용하는 제 3 이물질 수용부(30-3)와, 상기 제 1 덕트부(10)의 측면 다른 타측에 형성되는 제 3 정화 가스 배출구(H3)와 연통되고, 이물질(1)이 분리된 정화 가스(G2)의 또 다른 일부분을 제 4 방향으로 유도하는 제 2-3 덕트부(20-3)와, 상기 제 1 덕트부(10)로 유입된 상기 배출 가스(G1) 중 다른 타부분의 기류 방향이 상기 제 2-3 덕트부(20-3) 방향으로 급격하게 변화하도록 유도하는 제 1-3 배플(B3)와, 상기 제 1 덕트부(10)의 저면 또 다른 타부분에 형성되고, 상기 배출 가스(G1)에 포함된 이물질(1)을 수용하는 제 4 이물질 수용부(30-4)와, 상기 제 1 덕트부(10)의 측면 또 다른 타측에 형성되는 제 4 정화 가스 배출구(H4)와 연통되고, 이물질(1)이 분리된 정화 가스(G2)의 또 다른 일부분을 제 5 방향으로 유도하는 제 2-4 덕트부(20-4) 및 상기 제 1 덕트부(10)로 유입된 상기 배출 가스(G1) 중 또 다른 타부분의 기류 방향이 상기 제 2-4 덕트부(20-4) 방향으로 급격하게 변화하도록 유도하는 제 1-4 배플(B4)을 더 포함할 수 있다.12 and 13, the exhaust gas purifying apparatus 700 according to some still other embodiments of the present invention or the exhaust gas purifying apparatus 800 according to some yet other embodiments of the present invention, A third foreign matter accommodating part 30-3 formed in another bottom portion of the first duct part 10 and accommodating the foreign matter 1 contained in the exhaust gas G1, and the first duct part The second 2-3 duct which communicates with the 3rd purification gas discharge port H3 formed in the other side of the other side of 10, and guides another part of the purification gas G2 from which the foreign material 1 was isolate | separated to a 4th direction. The air flow direction of the other part of the part 20-3 and the other part of the discharge gas G1 introduced into the first duct part 10 changes rapidly in the direction of the second duct part 20-3. The first and second baffles (B3) and the other surface of the bottom of the first duct part (10) are guided to form a foreign matter (1) contained in the exhaust gas (G1) The fourth foreign matter accommodating part 30-4 to accommodate and the 4th purification gas discharge port H4 formed in the other side of the side of the said 1st duct part 10, The foreign matter 1 is purification The other part of the 2-4 duct part 20-4 which guides another part of the gas G2 in the fifth direction and the discharge gas G1 introduced into the first duct part 10. The air flow direction may further include a 1-4 baffle (B4) to induce a sudden change in the direction of the 2-4 duct portion 20-4.
여기서, 도 12 및 도 13에 도시된 바와 같이, 상기 제 1-1 배플(B1)의 제 1 돌출 길이(T1)와, 상기 제 1-2 배플(B2)의 제 2 돌출 길이(T2)와, 상기 제 1-3 배플(B3)의 제 3 돌출 길이(T3) 및 상기 제 1-4 배플(B4)의 제 4 돌출 길이(T4)는 갈수록 작아지거나 또는 갈수록 커질 수 있다.12 and 13, the first protrusion length T1 of the first-1 baffle B1, the second protrusion length T2 of the 1-2 baffles B2, and The third protrusion length T3 of the first to third baffles B3 and the fourth protrusion length T4 of the first to fourth baffles B4 may become smaller or larger.
또한, 도 12 및 도 13에 도시된 바와 같이, 상기 제 1-1 배플(B1)과, 상기 제 1-2 배플(B2)과, 상기 제 1-3 배플(B3) 및 상기 제 1-4 배플(B4)의 산 부분(M1)(M2)(M3)(M4)들 또는 골짜기 부분(V1)(V2)(V3)(V4)들이 상기 제 1 이물질 수용부(30-1)의 상방, 상기 제 2 이물질 수용부(30-2)의 상방, 상기 제 3 이물질 수용부(30-3)의 상방 및 상기 제 4 이물질 수용부(30-4)의 상방에 각각 위치될 수 있다. 여기서, 이러한 상기 배플의 개수나, 이물질 수용부의 개수는 다양한 형태의 상기 배출 가스(G1)에 능동적으로 대응될 수 있고, 이를 동해서 2개, 3개, 4개, 5개 이상 등으로 다양하게 설치하여 장비의 용량을 자유롭게 증대시킬 수 있다.12 and 13, the 1-1 baffle B1, the 1-2 baffle B2, the 1-3 baffle B3, and the 1-4. Mountain portions M1, M2, M3, M4 or valley portions V1, V2, V3, and V4 of the baffle B4 are located above the first foreign matter receiving portion 30-1. It may be located above the second foreign matter receiving portion 30-2, above the third foreign matter receiving portion 30-3, and above the fourth foreign matter receiving portion 30-4. Here, the number of the baffles or the number of the foreign matter accommodating portion may actively correspond to the discharge gas G1 of various forms, and the number of the baffles may vary in two, three, four, five or more. It can be installed to increase the capacity of the equipment freely.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, this is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시 예들에 따르면, 다양한 형태의 배출 가스에 대응하는 차별적인 형태의 복수개의 배플들을 설치하여 후단의 덕트간 유량차이를 줄여 장비 운용과 생산성, 능률을 크게 향상시킬 수 있는 효과를 갖는 것 뿐만 아니라 부수적으로 이물질의 제거 성능도 향상시키는 효과를 가짐으로써, 연소로 인해 발생된 가스 내에 포함되는 이물질을 더욱 효율적으로 분리하여 제거시킬 수 있다.According to some embodiments of the present invention made as described above, by installing a plurality of different types of baffles corresponding to various types of exhaust gas to reduce the flow difference between the ducts in the rear stage to greatly improve the equipment operation, productivity, efficiency As well as having a possible effect, as well as an incidental effect of improving the removal performance of the foreign matter, it is possible to more efficiently separate and remove the foreign matter contained in the gas generated by the combustion.

Claims (9)

  1. 이물질이 포함된 배출 가스를 제 1 방향으로 유도하는 제 1 덕트부;A first duct part for guiding a discharge gas containing foreign matter in a first direction;
    상기 제 1 덕트부의 저면 일부분에 형성되고, 상기 배출 가스에 포함된 이물질을 수용하는 제 1 이물질 수용부;A first foreign matter accommodating part formed on a portion of a bottom surface of the first duct part and accommodating foreign matter contained in the discharge gas;
    상기 제 1 덕트부의 저면 타부분에 형성되고, 상기 배출 가스에 포함된 이물질을 수용하는 제 2 이물질 수용부;A second foreign matter accommodating part formed at the other bottom portion of the first duct part and accommodating the foreign matter contained in the discharge gas;
    상기 제 1 덕트부의 측면 일측에 형성되는 제 1 정화 가스 배출구와 연통되고, 이물질이 분리된 정화 가스의 일부분을 제 2 방향으로 유도하는 제 2-1 덕트부;A 2-1 duct part communicating with a first purge gas outlet formed at one side of the first duct part and guiding a part of the purge gas from which foreign substances are separated in a second direction;
    상기 제 1 덕트부의 측면 타측에 형성되는 제 2 정화 가스 배출구와 연통되고, 이물질이 분리된 정화 가스의 다른 일부분을 제 3 방향으로 유도하는 제 2-2 덕트부;A second-2 duct part communicating with a second purge gas outlet formed at the other side of the first duct part, and leading another part of the purge gas from which foreign matters are separated in a third direction;
    상기 제 1 덕트부로 유입된 상기 배출 가스 중 일부분의 기류 방향이 상기 제 2-1 덕트부 방향으로 급격하게 변화하도록 유도하는 제 1-1 배플; 및A 1-1 baffle for causing a direction of air flow of a portion of the discharge gas introduced into the first duct part to change rapidly in the direction of the 2-1 duct part; And
    상기 제 1 덕트부로 유입된 상기 배출 가스 중 타부분의 기류 방향이 상기 제 2-2 덕트부 방향으로 급격하게 변화하도록 유도하는 제 1-2 배플;A 1-2 baffle for inducing a rapid change in the direction of air flow of another portion of the discharge gas introduced into the first duct part in the direction of the 2-2 duct part;
    을 포함하는, 배출 가스 정화 장치.Comprising, exhaust gas purification device.
  2. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 제 1-1 배플은,The 1-1 baffle,
    선단이 상기 제 1 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 제 1 길이로 볼록하게 돌출되고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며,The front end protrudes convexly to the first length inclined downward in the direction of the first foreign matter receiving portion, the rear end is fixed above the first purge gas outlet,
    상기 제 1-2 배플은,The first 1-2 baffles,
    선단이 상기 제 2 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 상기 제 1 길이 보다 짧은 제 2 길이로 오목하게 돌출되고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며,The front end is concave downward to be inclined downward in the direction of the second foreign matter accommodating portion to a second length shorter than the first length, and the rear end is fixed above the second purge gas outlet;
    상기 제 1-1 배플 및 상기 제 1-2 배플은 일체형 판상으로 서로 연결되는 것인, 배출 가스 정화 장치.And the first-first baffle and the second-first baffle are connected to each other in an integral plate shape.
  3. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 제 1-1 배플은,The 1-1 baffle,
    선단이 상기 제 1 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 제 1 길이로 돌출되고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며,The front end is projected to the first overall length inclined downward in the direction of the first foreign matter receiving portion, the rear end is fixed above the first purge gas outlet,
    상기 제 1-2 배플은,The first 1-2 baffles,
    선단이 상기 제 2 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 상기 제 1 길이 보다 짧은 제 2 길이로 돌출되고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며,The front end is inclined downward in the direction of the second foreign matter accommodating portion and protrudes to a second length shorter than the first length as a whole, and the rear end is fixed above the second purge gas outlet,
    상기 제 1-1 배플 및 상기 제 1-2 배플은 일체형 평판상으로 서로 연결되는 것인, 배출 가스 정화 장치.Wherein said 1-1 baffle and said 1-2 baffle are connected to each other in an integral flat plate.
  4. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 제 1-1 배플은,The 1-1 baffle,
    선단이 상기 제 1 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 제 3 길이로 돌출되고, 정면에서 볼 때, 제 1 곡률 반경을 갖도록 위로 볼록하며, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며,The tip protrudes to the third overall length inclined downward in the direction of the first foreign matter receiving portion, is convex upward to have a first radius of curvature when viewed from the front, and the rear end is fixed above the first purge gas outlet,
    상기 제 1-2 배플은,The first 1-2 baffles,
    선단이 상기 제 2 이물질 수용부 방향으로 아래로 경사지게 전체적으로 상기 제 3 길이로 돌출되고, 정면에서 볼 때, 제 2 곡률 반경을 갖도록 아래로 볼록하며, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며,The front end protrudes to the third length in an inclined downward direction toward the second foreign matter receiving portion, and when viewed from the front, it is convex downward to have a second radius of curvature, and the rear end is fixed above the second purge gas outlet. ,
    상기 제 1-1 배플 및 상기 제 1-2 배플은 절곡된 일체형 판상으로 서로 연결되는 것인, 배출 가스 정화 장치.Wherein said 1-1 baffle and said 1-2 baffle are connected to each other in a bent integral plate shape.
  5. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 제 1-1 배플은,The 1-1 baffle,
    선단이 상기 제 1 이물질 수용부 방향으로 아래로 제 1 경사각도로 경사지게 돌출되고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며,The front end protrudes obliquely downward at a first inclination angle toward the first foreign matter container, and the rear end is fixed above the first purge gas discharge port.
    상기 제 1-2 배플은,The first 1-2 baffles,
    선단이 상기 제 2 이물질 수용부 방향으로 아래로 상기 제 1 경사각도 보다 큰 제 2 경사각도로 경사지게 돌출되고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며,The front end protrudes inclined at a second inclination angle greater than the first inclination angle downward in the direction of the second foreign matter accommodating portion, and the rear end is fixed above the second purge gas outlet,
    상기 제 1-1 배플 및 상기 제 1-2 배플은 일체형 판상으로 부분 절곡된 절곡부에 의해 서로 연결되는 것인, 배출 가스 정화 장치.And the first-first baffle and the second-first baffle are connected to each other by a bent part partially bent into an integral plate shape.
  6. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 제 1-1 배플은,The 1-1 baffle,
    선단이 상기 제 1 이물질 수용부 방향으로 절곡되어 측면에서 볼 때, 제 3 곡률 반경을 갖도록 둥글게 절곡된 형상이고, 후단이 상기 제 1 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며,The front end is bent in the direction of the first foreign matter receiving portion and is bent in a round shape to have a third radius of curvature when viewed from the side, and the rear end is fixed above the first purge gas outlet,
    상기 제 1-2 배플은,The first 1-2 baffles,
    선단이 상기 제 2 이물질 수용부 방향으로 절곡되어 측면에서 볼 때, 상기 제 3 곡률 반경 보다 작은 제 4 곡률 반경을 갖도록 둥글게 절곡된 형상이고, 후단이 상기 제 2 정화 가스 배출구의 상방에 고정되며,The tip is bent in the direction of the second foreign matter receiving portion and is bent in a round shape so as to have a fourth radius of curvature smaller than the third radius of curvature, and the rear end is fixed above the second purge gas outlet.
    상기 제 1-1 배플 및 상기 제 1-2 배플은 일체형 판상으로 부분 절곡된 절곡부에 의해 서로 연결되는 것인, 배출 가스 정화 장치.And the first-first baffle and the second-first baffle are connected to each other by a bent part partially bent into an integral plate shape.
  7. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 제 1-1 배플은,The 1-1 baffle,
    정면에서 바라 볼 때, 아래로 볼록한 제 5 곡률 반경과 위로 볼록한 제 6 곡률 반경이 파도 형태로 반복되고, 측면에서 바라 볼 때, 위로 볼록하도록 제 7 곡률 반경을 갖는 제 1 복합 파형 곡면체이고,When viewed from the front, the fifth convex radius of convexity and the sixth convex radius of convexity are repeated in the form of waves, and when viewed from the side, the first compound waveform curvature has a seventh radius of curvature to convex upwards,
    상기 제 1-2 배플은,The first 1-2 baffles,
    정면에서 바라 볼 때, 아래로 볼록한 제 8 곡률 반경과 위로 볼록한 제 9 곡률 반경이 파도 형태로 반복되고, 측면에서 바라 볼 때, 위로 볼록하도록 제 10 곡률 반경을 갖는 제 2 복합 파형 곡면체인, 배출 가스 정화 장치.When viewed from the front, the eighth radius of curvature convex and the nineth radius of curvature convex are repeated in the form of waves, and when viewed from the side, the second compound corrugated curved surface having a tenth radius of curvature to convex upwards. Gas purification device.
  8. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 제 1 덕트부의 저면 다른 타부분에 형성되고, 상기 배출 가스에 포함된 이물질을 수용하는 제 3 이물질 수용부;A third foreign matter accommodating part formed on another bottom portion of the first duct part and accommodating foreign substances contained in the exhaust gas;
    상기 제 1 덕트부의 측면 다른 타측에 형성되는 제 3 정화 가스 배출구와 연통되고, 이물질이 분리된 정화 가스의 또 다른 일부분을 제 4 방향으로 유도하는 제 2-3 덕트부; 및A third duct part communicating with a third purge gas outlet formed at the other side of the first duct part and leading another part of the purge gas from which foreign matters are separated in a fourth direction; And
    상기 제 1 덕트부로 유입된 상기 배출 가스 중 다른 타부분의 기류 방향이 상기 제 2-3 덕트부 방향으로 급격하게 변화하도록 유도하는 제 1-3 배플;1-3 baffles for causing the air flow direction of the other part of the discharge gas introduced into the first duct part to change rapidly in the direction of the 2-3 duct part;
    을 더 포함하고,More,
    상기 제 1-1 배플의 제 1 돌출 길이와, 상기 제 1-2 배플의 제 2 돌출 길이 및 상기 제 1-3 배플의 제 3 돌출 길이는 갈수록 작아지거나 또는 갈수록 커지는, 배출 가스 정화 장치.And a first protruding length of the 1-1 baffle, a second protruding length of the 1-2 baffles, and a third protruding length of the 1-3 baffles become smaller or larger.
  9. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8,
    상기 제 1-1 배플과, 상기 제 1-2 배플 및 상기 제 1-3 배플의 산 부분들 또는 골짜기 부분들이 상기 제 1 이물질 수용부의 상방, 상기 제 2 이물질 수용부의 상방 및 상기 제 3 이물질 수용부의 상방에 각각 위치되는, 배출 가스 정화 장치.The 1-1 baffles, and the mountain portions or valley portions of the 1-2 baffles and the 1-3 baffles are located above the first foreign matter container, above the second foreign matter container, and the third foreign matter container. The exhaust gas purification apparatus located respectively above the part.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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